KR20240004226A - Laminated Optical Film - Google Patents

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KR20240004226A
KR20240004226A KR1020237027592A KR20237027592A KR20240004226A KR 20240004226 A KR20240004226 A KR 20240004226A KR 1020237027592 A KR1020237027592 A KR 1020237027592A KR 20237027592 A KR20237027592 A KR 20237027592A KR 20240004226 A KR20240004226 A KR 20240004226A
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타이스케 사사가와
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 적층 광학 필름(X)은 광학 필름(10)과, 접착제층 (20)과, 광학 필름(30)을 두께 방향(H)으로 순서대로 구비한다. 접착제층(20)은 광학 필름(10)에 접합되고 또한 광학 필름(30)에 접합된다. 광학 필름(30)은 접착제층(20)측에, 접착제층(20) 유래의 접착 원료제 성분을 함유하는 경계 영역(31)을 갖는다. 접착제층(20)의 두께 T1에 대한, 접착제층(20)과 경계 영역(31)을 합친 접착제 원료 성분 함유부(40)의 두께 T2의 비율은 1.01 이상이다.The laminated optical film (X) of the present invention includes an optical film (10), an adhesive layer (20), and an optical film (30) in that order in the thickness direction (H). The adhesive layer 20 is bonded to the optical film 10 and is also bonded to the optical film 30. The optical film 30 has a boundary region 31 on the adhesive layer 20 side containing an adhesive raw material component derived from the adhesive layer 20 . The ratio of the thickness T2 of the adhesive raw material component-containing portion 40, which combines the adhesive layer 20 and the boundary region 31, to the thickness T1 of the adhesive layer 20 is 1.01 or more.

Description

적층 광학 필름Laminated Optical Film

본 발명은 적층 광학 필름에 관한 것이다.The present invention relates to laminated optical films.

디스플레이 패널은 예를 들면, 화소 패널, 터치 패널, 표면 보호 커버 등을 포함하는 적층 구조를 갖는다. 디스플레이 패널의 적층 구조 중에는, 소정의 광학적 기능을 갖는 다양한 기능성 광학 필름도 포함된다. 기능성 광학 필름으로서는, 예를 들면, 편광자 필름 및 위상차 필름이 열거된다. 기능성 광학 필름은, 예를 들면, 보호 필름 등 다른 광학 필름과 접착제를 개재해서 접합된 상태로, 즉 적층 광학 필름의 형태로, 적층 구조 중에 포함되어 있다. 그러한 적층 광학 필름에 대해서는, 예를 들면 하기의 특허문헌 1에 기재되어 있다.The display panel has a laminated structure including, for example, a pixel panel, a touch panel, and a surface protective cover. The laminated structure of the display panel also includes various functional optical films that have certain optical functions. Examples of functional optical films include polarizer films and retardation films. The functional optical film is included in a laminated structure in a state in which it is bonded to another optical film, such as a protective film, through an adhesive, that is, in the form of a laminated optical film. Such a laminated optical film is described, for example, in Patent Document 1 below.

일본특허공개 2019-147865호 공보Japanese Patent Publication No. 2019-147865

디스플레이 패널의 박형화에 따라서, 기능성 광학 필름의 박막화가 진행되고 있다. 적층 광학 필름에 있어서의 광학 필름 간의 접착제층에도, 얇은 것이 요구된다. 그러나, 광학 필름 간의 접착제층이 얇을수록 광학 필름 간의 접합력은 저하되기 쉽다. 상기 접합력이 낮은 것은 광학 필름 간의 접합 신뢰성의 관점에서 바람직하지 않다. 반복 절곡 가능(폴더블)한 디스플레이 패널용의 적층 광학 필름에서는, 광학 필름 간의 접합력의 확보가 강하게 요구된다. 자동차의 차내 등의 고온 고습 환경 하에서 사용되는 폴더블 디스플레이 패널용의 적층 광학 필름에서는, 고온 고습으로 인한 광학 필름에 과도한 응력이 발생해서 접착 계면에 응력이 집중하기 때문에 광학 필름 간의 박리가 발생하기 쉬우므로, 광학 필름 간의 접착제층에 의한 접합력의 확보가 특히 강하게 요구된다.As display panels become thinner, functional optical films are becoming thinner. The adhesive layer between optical films in a laminated optical film is also required to be thin. However, as the adhesive layer between optical films becomes thinner, the bonding strength between optical films tends to decrease. The low bonding force is undesirable from the viewpoint of bonding reliability between optical films. In a laminated optical film for a display panel that can be repeatedly bent (foldable), there is a strong requirement to secure bonding strength between optical films. In laminated optical films for foldable display panels used in high-temperature and high-humidity environments such as inside automobiles, excessive stress is generated in the optical film due to high temperature and high humidity, and the stress is concentrated at the adhesive interface, so delamination between optical films is likely to occur. Therefore, there is a particularly strong demand for securing adhesion between optical films by means of an adhesive layer.

본 발명은 광학 필름 간에 있어서, 얇은 접착제층에 의해서도 접합력을 확보하는데 적합한, 적층 광학 필름을 제공한다.The present invention provides a laminated optical film suitable for ensuring bonding strength between optical films even with a thin adhesive layer.

본 발명 [1]은 제 1 광학 필름과, 접착제층과, 제 2 광학 필름을 두께 방향으로 순서대로 구비하는 적층 광학 필름으로, 상기 접착제층이 상기 제 1 광학 필름에 접합되고 또한 상기 제 2 광학 필름에 접합되고, 상기 제 2 광학 필름이 상기 접착제층측에, 상기 접착제층 유래의 접착제 원료 성분을 함유하는 경계 영역을 갖고, 상기 접착제층의 두께 T1에 대한, 상기 접착제층과 상기 경계 영역을 합친 접착제 원료 성분 함유부의 두께 T2의 비율이 1.01 이상인, 적층 광학 필름을 포함한다.The present invention [1] is a laminated optical film comprising a first optical film, an adhesive layer, and a second optical film in that order in the thickness direction, wherein the adhesive layer is bonded to the first optical film and the second optical film. bonded to a film, wherein the second optical film has a boundary area containing an adhesive raw material component derived from the adhesive layer on the adhesive layer side, and the adhesive layer and the boundary area are combined for a thickness T1 of the adhesive layer. It includes a laminated optical film in which the ratio of the thickness T2 of the adhesive raw material component-containing portion is 1.01 or more.

본 발명 [2]는 상기 두께 T1이 5㎛ 이하인 상기 [1]에 기재된 적층 광학 필름을 포함한다.The present invention [2] includes the laminated optical film according to [1] above, wherein the thickness T1 is 5 μm or less.

본 발명 [3]은 상기 제 1 광학 필름에 대한 상기 제 2 광학 필름의 25℃에서의 90°박리 강도가, 0.8N/15mm 이상인 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 적층 광학 필름을 포함한다.The present invention [3] includes the laminated optical film according to [1] or [2] above, wherein the 90° peel strength at 25°C of the second optical film with respect to the first optical film is 0.8 N/15 mm or more. .

본 발명 [4]은 상기 제 1 광학 필름이 편광자 필름인 상기 [1]부터 [3] 중 어느 하나에 기재된 적층 광학 필름을 포함한다.The present invention [4] includes the laminated optical film according to any one of [1] to [3] above, wherein the first optical film is a polarizer film.

본 발명의 적층 광학 필름에서는, 상기한 바와 같이, 제 2 광학 필름이 제 1 및 제 2 광학 필름 간을 접합하는 접착제층의 측에, 접착제층 유래의 접착제 원료 성분을 함유하는 경계 영역을 갖는다. 즉, 제 2 광학 필름은 접착제층측에, 접착제층으로부터의 접착제 원료 성분이 침투하고 있는 영역(상기 경계 영역)을 갖는다. 경계 영역에서는, 제 2 광학 필름의 구성 성분과 접착제 원료 성분이 혼재하고 있다. 그리고, 본 적층 광학 필름에서는, 상기한 바와 같이, 접착제층의 두께 T1에 대한 접착제 원료 성분 함유부의 두께 T2의 비율이 1.01 이상이다. 즉, 본 적층 광학 필름에서는, 접착제 원료 성분을 함유해서 접착 기능에 관여하는 부분(접착제층과 경계 영역)의 두께 T2가 접착제층 두께 T1보다 크다. 제 2 광학 필름과 접착제층의 경계 및 그 근방에 관한 이들 구성은 제 2 광학 필름과 접착제층 사이에 있어서, 강한 상호 작용을 실현해서 높은 접합력을 확보하는데 적합하다. 그리고, 제 2 광학 필름과 접착제층 간의 접합력의 확보는, 제 1 및 제 2 광학 필름 간의 접착제층에 의한 접합력의 확보에 도움이 된다. 따라서, 본 적층 광학 필름은 광학 필름 간에 있어서, 얇은 접착제층에 의해서도 접합력을 확보하는데 적합하다. 광학 필름 간의 접합력의 확보는, 상기 광학 필름 간의 박리를 억제하는데 적합하다. 또한, 이러한 본 적층 광학 필름은 고온 고습 환경 하이어도, 광학 필름 간에 있어서 얇은 접착제층에 의해 접합력을 확보하고, 광학 필름 간의 박리를 억제하는데 적합하다.In the laminated optical film of the present invention, as described above, the second optical film has a boundary region containing the adhesive raw material component derived from the adhesive layer on the side of the adhesive layer that joins the first and second optical films. That is, the second optical film has a region (the boundary region) on the adhesive layer side into which the adhesive raw material component from the adhesive layer is penetrating. In the boundary area, the components of the second optical film and the adhesive raw material components are mixed. In the present laminated optical film, as described above, the ratio of the thickness T2 of the adhesive raw material component-containing portion to the thickness T1 of the adhesive layer is 1.01 or more. That is, in the present laminated optical film, the thickness T2 of the portion (adhesive layer and boundary area) that contains the adhesive raw material component and participates in the adhesive function is greater than the adhesive layer thickness T1. These configurations regarding the boundary between the second optical film and the adhesive layer and its vicinity are suitable for realizing strong interaction between the second optical film and the adhesive layer and ensuring high bonding strength. And, securing the bonding force between the second optical film and the adhesive layer is helpful in securing the bonding force between the first and second optical films by the adhesive layer. Therefore, the present laminated optical film is suitable for ensuring bonding strength between optical films even with a thin adhesive layer. Securing bonding force between optical films is suitable for suppressing peeling between the optical films. In addition, this laminated optical film is suitable for securing bonding strength between optical films through a thin adhesive layer and suppressing peeling between optical films, even in a high temperature and high humidity environment.

도 1은 본 발명의 적층 광학 필름의 일실시형태의 단면 모식도이다.
도 2는 도 1에 나타내는 적층 광학 필름의 부분 확대 단면도이다.
도 3은 본 발명의 적층 광학 필름의 다른 실시형태의 단면 모식도다. 본 실시형태의 적층 광학 필름은 제 2 광학 필름과, 접착제층과, 제 1 광학 필름과, 접착제층과, 제 2 광학 필름을 두께 방향으로 순서대로 구비한다.
1 is a cross-sectional schematic diagram of one embodiment of the laminated optical film of the present invention.
FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of the laminated optical film shown in FIG. 1.
Figure 3 is a cross-sectional schematic diagram of another embodiment of the laminated optical film of the present invention. The laminated optical film of this embodiment includes a second optical film, an adhesive layer, a first optical film, an adhesive layer, and a second optical film in that order in the thickness direction.

본 발명의 적층 광학 필름의 일실시형태로서의 적층 광학 필름(X)은 도 1에 나타내는 바와 같이, 광학 필름(10)(제 1 광학 필름)과, 접착제층(20)과, 광학 필름(30)(제 2 광학 필름)을 두께 방향(H)으로 순서대로 구비한다. 접착제층(20)은 광학 필름(10, 30) 간을 접합하고 있다. 적층 광학 필름(X)은 소정 두께의 시트 형상을 갖고, 두께 방향(H)과 직교하는 방향(면 방향)으로 확장된다. 적층 광학 필름(X)은 디스플레이 패널의 적층 구조 중에 포함되는 복합 필름이다.As shown in FIG. 1, the laminated optical film (X) as one embodiment of the laminated optical film of the present invention includes an optical film 10 (first optical film), an adhesive layer 20, and an optical film 30. (Second optical film) is provided in order in the thickness direction (H). The adhesive layer 20 bonds the optical films 10 and 30 together. The laminated optical film (X) has a sheet shape with a predetermined thickness and extends in a direction (plane direction) perpendicular to the thickness direction (H). The laminated optical film (X) is a composite film included in the laminated structure of the display panel.

광학 필름(10)은 본 실시형태에서는, 기능성의 광학 필름이다. 기능성 광학 필름으로서는, 예를 들면, 편광자 필름 및 위상차 필름이 열거된다.In this embodiment, the optical film 10 is a functional optical film. Examples of functional optical films include polarizer films and retardation films.

편광자 필름으로서는, 예를 들면, 2색성 물질에 의한 염색 처리와 그 후의 연신 처리를 행한 친수성 고분자 필름이 열거된다. 2색성 물질로서는, 예를 들면, 요오드 및 2색성 염료가 열거된다. 친수성 고분자 필름으로서는, 예를 들면, 폴리비닐알콜(PVA) 필름, 부분 포르말화 PVA 필름, 및 에틸렌·아세트산 비닐 공중합체의 부분 비누화 필름이 열거된다. 편광자 필름으로서는, 폴리엔 배향 필름도 열거된다. 폴리엔 배향 필름의 재료로서는, 예를 들면, PVA의 탈수 처리물, 및 폴리 염화 비닐의 탈염산 처리물이 열거된다. 편광자 필름으로서는, 편광 특성 등 광학 특성이 우수한 점으로부터, 요오드에 의한 염색 처리와 그 후의 1축 연신 처리를 행한 PVA 필름이 바람직하다.Examples of the polarizer film include hydrophilic polymer films that have been dyed with a dichroic substance and subsequently subjected to stretching. Examples of dichroic substances include iodine and dichroic dyes. Examples of hydrophilic polymer films include polyvinyl alcohol (PVA) films, partially formalized PVA films, and partially saponified films of ethylene/vinyl acetate copolymer. As a polarizer film, a polyene orientation film is also listed. Examples of materials for the polyene orientation film include dehydrated PVA and dehydrochlorinated polyvinyl chloride. As a polarizer film, a PVA film that has been dyed with iodine and subsequently uniaxially stretched is preferred because it has excellent optical properties such as polarization properties.

편광자 필름으로서의 광학 필름(10)의 두께는, 박형화의 관점에서, 바람직하게는 15㎛ 이하, 보다 바람직하게는 12㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 10㎛ 이하, 특히 바람직하게는 8㎛ 이하이다. 박형의 편광자 필름은 두께 불균일이 적기 때문에 시인성이 우수하고, 또한 온도 변화에 의한 치수 변화가 작기 때문에 열충격에 대한 내구성이 우수하다. 편광자 필름으로서의 광학 필름(10)의 두께는, 강도의 관점에서, 바람직하게는 3㎛ 이상, 보다 바람직하게는 5㎛ 이상이다.From the viewpoint of thinning, the thickness of the optical film 10 as a polarizer film is preferably 15 μm or less, more preferably 12 μm or less, further preferably 10 μm or less, and particularly preferably 8 μm or less. A thin polarizer film has excellent visibility because there is little thickness unevenness, and also has excellent durability against thermal shock because dimensional changes due to temperature changes are small. The thickness of the optical film 10 as a polarizer film is preferably 3 μm or more, more preferably 5 μm or more from the viewpoint of strength.

위상차 필름으로서는, 예를 들면, λ/2 파장 필름 및 λ/4 파장 필름, 및 시야각 보상 필름이 열거된다. 위상차 필름의 재료로서는, 예를 들면, 연신 처리에 의해 복굴절화된 고분자 필름이 열거된다. 고분자 필름으로서는, 예를 들면, 셀룰로오스 필름 및 폴리에스테르 필름이 열거된다. 셀룰로오스 필름으로서는, 예를 들면 트리아세틸셀룰로오스 필름이 열거된다. 폴리에스테르 필름으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 및 폴리에틸렌나프탈레이트 필름이 열거된다. 위상차 필름으로서의 광학 필름(10)의 두께는, 예를 들면 20㎛ 이상이고, 예를 들면 150㎛ 이하이다. 또한, 위상차 필름으로서는, 셀룰로오스 필름 등의 기재와 상기 기재 상의 액정성 폴리머 등 액정 화합물의 배향층을 구비하는 필름도, 바람직하게 사용할 수 있다.Examples of retardation films include λ/2 wavelength film, λ/4 wavelength film, and viewing angle compensation film. As a material for the retardation film, for example, a polymer film birefringent through stretching treatment is listed. Examples of polymer films include cellulose films and polyester films. Examples of the cellulose film include triacetylcellulose film. Examples of the polyester film include polyethylene terephthalate film and polyethylene naphthalate film. The thickness of the optical film 10 as a retardation film is, for example, 20 μm or more, for example, 150 μm or less. Additionally, as a retardation film, a film comprising a substrate such as a cellulose film and an alignment layer of a liquid crystal compound such as a liquid crystal polymer on the substrate can also be preferably used.

접착제층(20)은 접착제 조성물의 경화물이다. 접착제층(20)은 광학 필름(10)에 대하여 직접적으로 접합하고, 또한 광학 필름(30)에 대하여 직접적으로 접합한다. 접착제 조성물은 경화성 수지를 함유한다. 접착제 조성물의 성분은 구체적으로는 후술하는 바와 같다.The adhesive layer 20 is a cured product of an adhesive composition. The adhesive layer 20 is directly bonded to the optical film 10 and also directly bonded to the optical film 30. The adhesive composition contains a curable resin. The components of the adhesive composition are specifically as described later.

접착제층(20)의 두께 T1은 광학 필름(10, 30) 간의 접합력의 관점에서, 바람직하게는 0.1㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.4㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 0.7㎛ 이상, 특히 바람직하게는 0.8㎛ 이상이다. 접착제층(20)의 두께 T1은 적층 광학 필름(X)의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 5㎛ 이하, 보다 바람직하게는 3㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 1.5㎛ 이하, 특히 바람직하게는 1㎛ 이하이다. 접착제층(20)의 두께 T1은 접착제 조성물의 경화 후 조직(경화 후의 구성 성분으로 형성된다)을 갖는 영역의 두께 방향(H)의 길이이다. 이 길이는, SEM 관찰 등의 관찰에 의해 얻은 화상에 있어서 측정할 수 있다. 접착제층(20)의 두께 T1은 구체적으로는, 실시예에 관해서 후술하는 방법에 의해 측정할 수 있다.The thickness T1 of the adhesive layer 20 is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.4 μm or more, further preferably 0.7 μm or more, particularly preferably 0.8 from the viewpoint of the bonding force between the optical films 10 and 30. It is more than ㎛. From the viewpoint of reducing the thickness of the laminated optical film It is as follows. The thickness T1 of the adhesive layer 20 is the length in the thickness direction (H) of the area having the structure (formed from the constituents after curing) after curing of the adhesive composition. This length can be measured from images obtained through observation such as SEM observation. The thickness T1 of the adhesive layer 20 can be specifically measured by the method described later in Examples.

접착제층(20)의 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25℃에서의 제 1 압입 탄성률은 바람직하게는 0.01GPa 이상, 보다 바람직하게는 0.03GPa 이상, 더욱 바람직하게는 0.05GPa 이상, 특히 바람직하게는 0.07GPa 이상이다(제 1 압입 탄성률이란 제 1 측정 조건에서의 압입 탄성률로 한다. 제 1 측정 조건은 실시예에 관해서 후술하는 바와 같고, 제 1 측정 조건에서는, 하중 인가 과정에서의 측정 시료에 대한 압자의 최대 압입 깊이가 200nm이다). 이러한 구성은 광학 필름(10, 30) 간의 접합력 확보의 관점에서 바람직하다. 또한, 제 1 압입 탄성률은, 바람직하게는 5GPa 이하, 보다 바람직하게는 3GPa 이하, 더욱 바람직하게는 1GPa 이하이다. 이러한 구성은 접착제층(20)의 굴곡성을 확보하는데 바람직하고, 따라서 적층 광학 필름(X)의 굴곡성을 확보하는데 바람직하다. 접착제층(20)의 압입 탄성률을 조정하는 방법으로서는, 예를 들면, 접착제 조성물의 조성의 조정이 열거된다. 구체적으로는, 접착제층(20)을 형성하는 접착제 조성물 중의 후술의 중합성 화합물의 관능기수의 조정, 즉, 중합성 화합물의 아크릴 당량이나 에폭시 당량의 조정이 접착제층(20)의 압입 탄성률 조정 방법으로서 효과적이다.The first indentation elastic modulus of the adhesive layer 20 at 25°C measured by the nanoindentation method is preferably 0.01 GPa or more, more preferably 0.03 GPa or more, even more preferably 0.05 GPa or more, especially preferably is 0.07 GPa or more (the first indentation elastic modulus is the indentation elastic modulus under the first measurement conditions. The first measurement conditions are as described later with respect to the examples, and in the first measurement conditions, the measurement sample in the load application process The maximum indentation depth of the indenter is 200 nm). This configuration is desirable from the viewpoint of securing adhesion between the optical films 10 and 30. Additionally, the first indentation elastic modulus is preferably 5 GPa or less, more preferably 3 GPa or less, and even more preferably 1 GPa or less. This configuration is preferable for ensuring the flexibility of the adhesive layer 20 and, therefore, for ensuring the flexibility of the laminated optical film (X). Examples of methods for adjusting the press-fit elastic modulus of the adhesive layer 20 include adjusting the composition of the adhesive composition. Specifically, adjustment of the number of functional groups of the polymerizable compound described later in the adhesive composition forming the adhesive layer 20, that is, adjustment of the acrylic equivalent or epoxy equivalent of the polymerizable compound is a method of adjusting the indentation elastic modulus of the adhesive layer 20. It is effective as

나노인덴테이션법이란, 시료의 모든 물성을 나노미터 스케일로 측정하는 기술이다. 본 실시형태에 있어서, 나노인덴테이션법은 ISO14577에 준거해서 실시된다. 나노인덴테이션법에서는, 스테이지 상에 세트된 시료에 압자를 압입하는 과정(하중 인가 과정)과, 그것보다 후에 시료로부터 압자를 인발하는 과정(제하 과정)이 실시되고, 일련의 과정 중, 압자-시료 간에 작용하는 하중과 시료에 대한 압자의 상대 변위가 측정된다(하중-변위 측정). 이것에 의해, 하중-변위 곡선을 얻는 것이 가능하다. 이 하중-변위 곡선으로부터, 측정 시료에 대해서, 나노미터 스케일 측정에 근거하는 모든 물성을 구하는 것이 가능하다. 나노인덴테이션법에 의한 접착제층 단면의 하중-변위 측정에는, 예를 들면, 나노 인덴터(상품명 「Triboindenter」, Hysitron사 제작)을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 실시예에 관해서 후술하는 바와 같다.Nanoindentation is a technology that measures all physical properties of a sample on a nanometer scale. In this embodiment, the nanoindentation method is performed based on ISO14577. In the nanoindentation method, a process of indenting an indenter into a sample set on a stage (load application process) and later a process of pulling the indenter from the sample (unloading process) are performed. Among the series of processes, the indenter -The load acting between the samples and the relative displacement of the indenter with respect to the sample are measured (load-displacement measurement). By this, it is possible to obtain a load-displacement curve. From this load-displacement curve, it is possible to obtain, for the measurement sample, all physical properties based on nanometer scale measurements. For load-displacement measurement of the cross section of the adhesive layer by the nanoindentation method, for example, a nano indenter (trade name "Triboindenter", manufactured by Hysitron) can be used. Specifically, examples will be described later.

접착제층(20)의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25℃에서의 제 2 압입 탄성률은 바람직하게는 0.5GPa 이상, 보다 바람직하게는 1GPa 이상, 더욱 바람직하게는 1.5GPa 이상, 특히 바람직하게는 2GPa 이상이다(제 2 압입 탄성률이란 제 2 측정 조건에서의 압입 탄성률로 한다. 제 2 측정 조건은 실시예에 관해서 후술하는 바와 같고, 제 2 측정 조건에서는, 하중 인가 과정에서의 측정 시료에 대한 압자의 최대 압입 깊이가 50nm이다). 이러한 구성은 광학 필름(10, 30) 간의 접합력 확보의 관점에서 바람직하다. 또한, 제 2 압입 탄성률은, 바람직하게는 7GPa 이하, 보다 바람직하게는 5GPa 이하, 더욱 바람직하게는 3GPa 이하이다. 이러한 구성은 접착제층(20)의 굴곡성을 확보하는데 바람직하고, 따라서 적층 광학 필름(X)의 굴곡성을 확보하는데 바람직하다.The second indentation elastic modulus of the adhesive layer 20 at 25°C measured by the nanoindentation method is preferably 0.5 GPa or more, more preferably 1 GPa or more, further preferably 1.5 GPa or more, especially preferably is 2GPa or more (the second indentation elastic modulus is the indentation elasticity modulus under the second measurement condition. The second measurement condition is as described later with respect to the examples, and in the second measurement condition, the The maximum indentation depth of the indenter is 50 nm). This configuration is desirable from the viewpoint of securing adhesion between the optical films 10 and 30. Additionally, the second indentation elastic modulus is preferably 7 GPa or less, more preferably 5 GPa or less, and even more preferably 3 GPa or less. This configuration is preferable for ensuring the flexibility of the adhesive layer 20 and, therefore, for ensuring the flexibility of the laminated optical film (X).

광학 필름(30)은 본 실시형태에서는, 투명 보호 필름이다. 투명 보호 필름은 예를 들면, 가요성을 갖는 투명한 수지 필름이다. 투명 보호 필름의 재료로서는, 예를 들면, 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리염화 비닐, 폴리염화 비닐리덴, 셀룰로오스, 변성 셀룰로오스, 폴리스티렌, 및 폴리카보네이트가 열거된다. 폴리올레핀으로서는, 예를 들면, 시클로올레핀 폴리머(COP), 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·프로필렌 공중합체, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체, 및 에틸렌·비닐알콜 공중합체가 열거된다. 폴리에스테르로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 및 폴리부틸렌테레프탈레이트가 열거된다. 폴리아미드로서는, 예를 들면, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6,6, 및 부분 방향족 폴리아미드가 열거된다. 변성 셀룰로오스로서는, 예를 들면 트리아세틸 셀룰로오스가 열거된다. 이들 재료는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 투명 보호 필름의 재료로서는, 청정도의 관점에서, 바람직하게는 폴리올레핀이 사용되고, 보다 바람직하게는 COP가 사용된다.The optical film 30 is a transparent protective film in this embodiment. The transparent protective film is, for example, a flexible transparent resin film. Examples of materials for the transparent protective film include polyolefin, polyester, polyamide, polyimide, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, cellulose, modified cellulose, polystyrene, and polycarbonate. Examples of polyolefins include cycloolefin polymer (COP), polyethylene, polypropylene, ethylene/propylene copolymer, ethylene/vinyl acetate copolymer, and ethylene/vinyl alcohol copolymer. Examples of polyester include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate. Examples of polyamides include polyamide 6, polyamide 6,6, and partially aromatic polyamide. Examples of modified cellulose include triacetyl cellulose. These materials may be used individually, or two or more types may be used together. As a material for the transparent protective film, from the viewpoint of cleanliness, polyolefin is preferably used, and COP is more preferably used.

광학 필름(30)의 두께는, 적층 광학 필름(X)의 강도의 관점에서, 바람직하게는 5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 10㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 20㎛ 이상이다. 적층 광학 필름(X)의 박형화의 관점에서, 광학 필름(30)의 두께는, 바람직하게는 100㎛ 이하, 보다 바람직하게는 70㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 50㎛ 이하이다.The thickness of the optical film 30 is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and still more preferably 20 μm or more from the viewpoint of the strength of the laminated optical film (X). From the viewpoint of thinning the laminated optical film (X), the thickness of the optical film 30 is preferably 100 μm or less, more preferably 70 μm or less, and still more preferably 50 μm or less.

광학 필름(30)은 도 2에 나타내는 바와 같이, 접착제층(20)측의 경계 영역(31)과, 접착제층(20)과는 반대측의 비경계 영역(32)을 갖는다. 경계 영역(31)은 접착제층(20) 유래의 접착제 원료 성분을 함유한다. 경계 영역(31)에서는, 광학 필름(30)의 구성 성분과 접착제 원료 성분이 혼재하고 있다. 접착제 원료 성분의 검출 방법으로서는, 예를 들면, 비행시간형 2차 이온 질량분석법(TOF-SIMS: Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry)이 열거된다. 한편, 비경계 영역(32)은 접착제층(20) 유래의 접착제 원료 성분을 함유하지 않는다. 비경계 영역(32)은 광학 필름(30)의 구성 성분으로 이루어진다. 광학 필름(30)에 있어서, 상기 검출 방법에서의 검출 한계값(정·부 2차 이온 강도 0.1counts/초) 이상의 접착제 원료 성분이 검출되는 영역이 경계 영역(31)이고, 상기 검출 한계값 이상의 접착제 원료 성분이 검출되지 않는 영역이 비경계 영역(32)이다. 비경계 영역(32)의 두께에 대한 경계 영역(31)의 두께의 비율은, 예를 들면 0.01% 이상, 바람직하게는 0.05% 이상이며, 또한 예를 들면 50% 이하, 바람직하게는 20% 이하이다.As shown in FIG. 2 , the optical film 30 has a border region 31 on the adhesive layer 20 side and a non-boundary region 32 on the opposite side to the adhesive layer 20. The border area 31 contains adhesive raw material components derived from the adhesive layer 20. In the boundary area 31, the components of the optical film 30 and the adhesive raw material components are mixed. Examples of methods for detecting adhesive raw material components include time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS). On the other hand, the non-boundary area 32 does not contain adhesive raw material components derived from the adhesive layer 20. The non-boundary area 32 is made of components of the optical film 30. In the optical film 30, the area where adhesive raw material components exceeding the detection limit value (positive/negative secondary ion intensity 0.1 counts/sec) in the above detection method are detected is the border area 31, and the area where the adhesive raw material component is detected is the detection limit value or more. The area in which adhesive raw material components are not detected is the non-boundary area 32. The ratio of the thickness of the border region 31 to the thickness of the non-boundary region 32 is, for example, 0.01% or more, preferably 0.05% or more, and is for example 50% or less, preferably 20% or less. am.

경계 영역(31)의 두께는, 예를 들면 0.01㎛ 이상이고, 바람직하게는 0.05㎛ 이상이다. 경계 영역(31)의 두께는, 예를 들면 10㎛ 이하이고, 바람직하게는 5㎛ 이하이다. 경계 영역(31)의 두께의 조정 방법으로서는, 예를 들면, 접착제 조성물의 조성의 조정이 열거된다. 경계 영역(31)의 두께의 조정 방법으로서는, 적층 광학 필름(X)의 제조 과정에 있어서의 후기의 도포 공정부터 경화 공정까지의 시간의 조정이 열거된다. 상기 시간이 길수록 경계 영역(31)은 두꺼운 경향이 있다.The thickness of the border area 31 is, for example, 0.01 μm or more, and is preferably 0.05 μm or more. The thickness of the border area 31 is, for example, 10 μm or less, and is preferably 5 μm or less. Examples of methods for adjusting the thickness of the boundary region 31 include adjusting the composition of the adhesive composition. As a method of adjusting the thickness of the boundary region 31, adjustment of the time from the later application process to the curing process in the manufacturing process of the laminated optical film (X) is listed. The longer the time, the thicker the border area 31 tends to be.

적층 광학 필름(X)에 있어서, 경계 영역(31)과 상술의 접착제층(20)은 접착제 원료 성분 함유부(40)를 형성한다. 접착제층(20)의 두께 T1에 대한 접착제 원료 성분 함유부(40)의 두께 T2의 비율(T2/T1)은, 경계 영역(31)이 지나치게 적은(지나치게 얇은) 경우의 밀착성 부족을 방지하기 위해서는, 1.01 이상이고, 바람직하게는 1.05 이상, 보다 바람직하게는 1.1 이상, 더욱 바람직하게는 1.2 이상이다. 비율(T2/T1)은 접착제층(20)과 광학 필름(30) 간의 밀착성과 적층 광학 필름(X)의 생산 안정성의 양립의 관점에서, 바람직하게는 1.3 이하, 보다 바람직하게는 1.25 이하, 더욱 바람직하게는 1.2 이하이다. 접착제층(20)과 광학 필름(30) 간의 상기밀착성은 예를 들면, 접착제층(20)의 두께를 확보하고, 적층 광학 필름(X)의 절곡 시에, 접착제층(20)과 광학 필름(30)의 계면의 부하에 의한 박리가 발생하는 것을 억제함으로써, 확보할 수 있다. 접착제 원료 성분 함유부(40)의 두께 T2는 접착제층(20)의 두께보다 크고, 접착제층(20)과 광학 필름(30)의 합계 두께보다 작다. 접착제 원료 성분 함유부(40)의 두께 T2는 접착제층(20)의 두께 및 조성, 및 광학 필름(30)의 재료에 따라서, 예를 들면 0.101㎛ 이상이고, 예를 들면 6.5㎛ 이하이다. 접착제 원료 성분 함유부(40)의 두께 T2와 상술의 경계 영역(31)의 두께는, 실시예에 관해서 후술하는 방법에 의해 측정할 수 있다.In the laminated optical film (X), the boundary region 31 and the above-described adhesive layer 20 form the adhesive raw material component-containing portion 40. The ratio (T2/T1) of the thickness T2 of the adhesive raw material component-containing portion 40 to the thickness T1 of the adhesive layer 20 is to prevent insufficient adhesion when the boundary area 31 is too small (too thin). , is 1.01 or more, preferably 1.05 or more, more preferably 1.1 or more, and even more preferably 1.2 or more. The ratio (T2/T1) is preferably 1.3 or less, more preferably 1.25 or less, from the viewpoint of both adhesion between the adhesive layer 20 and the optical film 30 and production stability of the laminated optical film (X). Preferably it is 1.2 or less. The adhesion between the adhesive layer 20 and the optical film 30 ensures, for example, the thickness of the adhesive layer 20, and when bending the laminated optical film (X), the adhesive layer 20 and the optical film ( This can be ensured by suppressing the occurrence of peeling due to the load at the interface of 30). The thickness T2 of the adhesive raw material component-containing portion 40 is larger than the thickness of the adhesive layer 20 and smaller than the total thickness of the adhesive layer 20 and the optical film 30. The thickness T2 of the adhesive raw material component containing portion 40 is, for example, 0.101 μm or more, for example, 6.5 μm or less, depending on the thickness and composition of the adhesive layer 20 and the material of the optical film 30. The thickness T2 of the adhesive raw material component-containing portion 40 and the thickness of the boundary region 31 described above can be measured by the method described later in the Examples.

적층 광학 필름(X)에서는, 상술한 바와 같이, 광학 필름(30)이 동 필름의 접착제층(20)측에 경계 영역(31)을 갖는다. 경계 영역(31)에서는, 광학 필름(30)의 구성 성분과 접착제 원료 성분이 혼재하고 있다. 그리고, 적층 광학 필름(X)에서는, 접착제층(20)의 두께 T1에 대한 접착제 원료 성분 함유부(40)(접착제층(20),경계 영역(31))의 두께 T2의 비율이 1.01 이상이고, 바람직하게는 1.05 이상, 보다 바람직하게는 1.1 이상, 더욱 바람직하게는 1.2 이상이다. 즉, 적층 광학 필름(X)에서는, 접착제 원료 성분을 함유해서 접착 기능에 관여하는 부분(접착제층(20)과 경계 영역(31))의 두께 T2가 접착제층(20)의 두께 T1보다 크다. 광학 필름(30)과 접착제층(20)의 경계 및 그 근방에 관한 이들 구성은 광학 필름(30)과 접착제층(20) 간에 있어서, 강한 상호 작용을 실현해서 높은 접합력을 확보하는데 적합하다. 그리고, 광학 필름(30)과 접착제층(20) 간의 접합력의 확보는 광학 필름(10, 30) 간의 접착제층(20)에 의한 접합력의 확보에 도움이 된다. 따라서, 적층 광학 필름(X)은 광학 필름(10, 30) 간에 있어서, 얇은 접착제층(20)에 의해 접합력을 확보하는데 적합하다. 광학 필름(10, 30) 간의 접합력의 확보는, 광학 필름(10, 30)간의 박리를 억제하는데 적합하다. 또한, 이러한 적층 광학 필름(X)은 고온 고습 환경 하이어도, 광학 필름(10, 30) 간에 있어서 얇은 접착제층(20)에 의해 접합력을 확보하고, 광학 필름(10, 30) 간의 박리를 억제하는데 적합하다. 구체적으로는, 후기의 실시예 및 비교예를 들어 나타내는 바와 같다.In the laminated optical film (X), as described above, the optical film 30 has a boundary region 31 on the adhesive layer 20 side of the film. In the boundary area 31, the components of the optical film 30 and the adhesive raw material components are mixed. And, in the laminated optical film , preferably 1.05 or more, more preferably 1.1 or more, and even more preferably 1.2 or more. That is, in the laminated optical film These configurations regarding the boundary between the optical film 30 and the adhesive layer 20 and its vicinity are suitable for realizing strong interaction between the optical film 30 and the adhesive layer 20 and ensuring high bonding strength. In addition, securing the bonding force between the optical film 30 and the adhesive layer 20 is helpful in securing the bonding force between the optical films 10 and 30 by the adhesive layer 20. Therefore, the laminated optical film (X) is suitable for ensuring bonding force between the optical films (10, 30) by the thin adhesive layer (20). Securing the bonding force between the optical films 10 and 30 is suitable for suppressing peeling between the optical films 10 and 30. In addition, this laminated optical film ( Suitable. Specifically, it is as shown in the later examples and comparative examples.

적층 광학 필름(X)에 있어서, 광학 필름(10)에 대한 광학 필름(30)의 25℃에서의 90°박리 강도는, 바람직하게는 0.8N/15mm 이상, 보다 바람직하게는 1N/15mm 이상, 더욱 바람직하게는 1.2N/15mm 이상, 특히 바람직하게는 1.5N/15mm 이상이다. 이러한 구성은 광학 필름(10, 30) 간의 양호한 접합력을 실현하는데 바람직하고, 특히, 폴더블 디스플레이 패널용의 광학 필름(10, 30) 간의 접합력을 확보하는데 바람직하다. 90°박리 강도는 예를 들면, 10N/15mm 이하이다. 90°박리 강도는 실시예에 관해서 후술하는 방법에 의해 측정할 수 있다. 또한, 상기 90°박리 강도의 조정 방법으로서는, 예를 들면, 상기 비율(T2/T1)의 조정, 접착제 조성물의 조성의 조정이 열거된다.In the laminated optical film More preferably, it is 1.2N/15mm or more, and particularly preferably, is 1.5N/15mm or more. This configuration is desirable for realizing good bonding strength between the optical films 10 and 30, and is particularly desirable for ensuring good bonding strength between the optical films 10 and 30 for the foldable display panel. The 90° peel strength is, for example, 10 N/15 mm or less. The 90° peel strength can be measured by the method described later in Examples. In addition, as a method of adjusting the 90° peel strength, for example, adjustment of the ratio (T2/T1) and adjustment of the composition of the adhesive composition are listed.

상술의 제 1 압입 탄성률(GPa)에 대한 90°박리 강도(N/15mm)의 비율은 바람직하게는 5 이상, 보다 바람직하게는 10 이상, 더욱 바람직하게는 15 이상이고, 또한, 바람직하게는 30 이하, 보다 바람직하게는 25 이하이다. 이러한 구성은 적층 광학 필름(X)(특히 얇은 적층 광학 필름(X))을 반복 절곡하는 경우에 있어서, 광학 필름(10, 30) 간의 박리를 억제하는 점에서 바람직하다.The ratio of the 90° peel strength (N/15 mm) to the above-mentioned first indentation elastic modulus (GPa) is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, further preferably 15 or more, and also preferably 30. or less, more preferably 25 or less. This configuration is preferable in that it suppresses peeling between the optical films 10 and 30 when repeatedly bending the laminated optical film (X) (especially the thin laminated optical film (X)).

상술의 제 2 압입 탄성률(GPa)에 대한 90°박리 강도(N/15mm)의 비율은 바람직하게는 0.2 이상, 보다 바람직하게는 0.3 이상, 더욱 바람직하게는 0.4 이상이고, 또한 바람직하게는 5 이하, 보다 바람직하게는 3 이하, 더욱 바람직하게는 2 이하이다. 이러한 구성은 적층 광학 필름(X)(특히 얇은 적층 광학 필름(X))을 반복 절곡하는 경우에 있어서, 광학 필름(10, 30) 간의 박리를 억제하는 점에서 바람직하다.The ratio of the 90° peel strength (N/15 mm) to the above-mentioned second indentation elastic modulus (GPa) is preferably 0.2 or more, more preferably 0.3 or more, further preferably 0.4 or more, and further preferably 5 or less. , more preferably 3 or less, even more preferably 2 or less. This configuration is preferable in that it suppresses peeling between the optical films 10 and 30 when repeatedly bending the laminated optical film (X) (especially the thin laminated optical film (X)).

접착제층(20)은 예를 들면, 활성 에너지선 경화형의 경화성 수지를 함유하는 접착제 조성물(활성 에너지선 경화형 조성물)의 경화물이다. 활성 에너지선 경화형 조성물로서는, 예를 들면, 전자선 경화형 조성물, 자외선 경화형 조성물, 및 가시광선 경화형 조성물이 열거된다. 활성 에너지선 경화형 조성물은 본 실시형태에서는, 라디칼 중합형 조성물 및 양이온 중합형 조성물 중 어느 일방 또는 양방이다.The adhesive layer 20 is, for example, a cured product of an adhesive composition containing an active energy ray-curable resin (active energy ray-curable composition). Examples of the active energy ray curable composition include electron beam curable composition, ultraviolet ray curable composition, and visible ray curable composition. In the present embodiment, the active energy ray-curable composition is one or both of a radical polymerization type composition and a cation polymerization type composition.

라디칼 중합형 조성물은 라디칼 중합성 화합물을 모노머로서 함유한다. 라디칼 중합성 화합물은 라디칼 중합성의 관능기를 갖는 화합물이다. 라디칼 중합성 관능기로서는, 예를 들면 에틸렌성 불포화 결합 함유기가 열거된다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기로서는, 예를 들면, (메타)아크릴로일기, 비닐기, 및 알릴기가 열거된다. (메타)아크릴로일기는 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 의미한다. 활성 에너지선 경화형 조성물의 경화성의 관점에서, 활성 에너지선 경화형 조성물은 (메타)아크릴로일기를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 주성분으로서 함유하는 것이 바람직하다. 주성분이란 질량 비율로 가장 많은 성분을 의미한다. 활성 에너지선 경화형 조성물에 있어서의 (메타)아크릴로일기 함유 라디칼 중합성 화합물의 비율은 예를 들면, 50질량% 이상이고, 바람직하게는 70질량% 이상, 보다 바람직하게는 80질량% 이상이다. 또한, 라디칼 중합성 화합물로서는, 단관능 라디칼 중합성 화합물, 및 2관능 이상의 다관능 라디칼 중합성 화합물이 열거된다.The radically polymerizable composition contains a radically polymerizable compound as a monomer. A radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable functional group. Examples of radically polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated bond-containing groups. Examples of ethylenically unsaturated bond-containing groups include (meth)acryloyl group, vinyl group, and allyl group. (meth)acryloyl group means acryloyl group and/or methacryloyl group. From the viewpoint of curability of the active energy ray-curable composition, it is preferable that the active energy ray-curable composition contains a radically polymerizable compound having a (meth)acryloyl group as a main component. The main component refers to the component that is most abundant in terms of mass ratio. The proportion of the (meth)acryloyl group-containing radically polymerizable compound in the active energy ray-curable composition is, for example, 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more. Additionally, examples of the radically polymerizable compounds include monofunctional radically polymerizable compounds and bifunctional or more polyfunctional radically polymerizable compounds.

단관능 라디칼 중합성 화합물로서는, 예를 들면, (메타)아크릴아미드기를 갖는 (메타)아크릴아미드 유도체가 열거된다. (메타)아크릴아미드 유도체로서는, N-알킬기 함유 (메타)아크릴아미드 유도체, N-히드록시알킬기 함유 (메타)아크릴아미드 유도체, N-아미노알킬기 함유 (메타)아크릴아미드 유도체, N-알콕시기 함유 (메타)아크릴아미드 유도체 및 N-메르캅토알킬기 함유 (메타)아크릴아미드 유도체가 열거된다. N-알킬기 함유 (메타)아크릴아미드 유도체로서는, 예를 들면, N-메틸(메타)아크릴아미드, N,N-디메틸(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸(메타)아크릴아미드, N-이소프로필(메타)아크릴아미드, N-부틸(메타)아크릴아미드, 및 N-헥실(메타)아크릴아미드가 열거되고, 바람직하게는 N,N-디에틸아크릴아미드가 사용된다. N-히드록시알킬기 함유 (메타)아크릴아미드 유도체로서는, 예를 들면, N-메티롤(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드, 및 N-메티롤-N-프로판(메타)아크릴아미드가 열거되고, 바람직하게는 N-히드록시에틸아크릴아미드가 사용된다. (메타)아크릴아미드 유도체는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.Examples of monofunctional radically polymerizable compounds include (meth)acrylamide derivatives having a (meth)acrylamide group. As (meth)acrylamide derivatives, (meth)acrylamide derivatives containing an N-alkyl group, (meth)acrylamide derivatives containing an N-hydroxyalkyl group, (meth)acrylamide derivatives containing an N-aminoalkyl group, (meth)acrylamide derivatives containing an N-alkoxy group ( Meth)acrylamide derivatives and N-mercaptoalkyl group-containing (meth)acrylamide derivatives are listed. Examples of N-alkyl group-containing (meth)acrylamide derivatives include N-methyl(meth)acrylamide, N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N,N-diethyl(meth)acrylamide, and N- Isopropyl(meth)acrylamide, N-butyl(meth)acrylamide, and N-hexyl(meth)acrylamide are listed, and N,N-diethylacrylamide is preferably used. Examples of N-hydroxyalkyl group-containing (meth)acrylamide derivatives include N-methylol (meth)acrylamide, N-hydroxyethyl (meth)acrylamide, and N-methylol-N-propane (meth)acrylamide. ) Acrylamides are listed, and N-hydroxyethyl acrylamide is preferably used. The (meth)acrylamide derivative may be used individually, or two or more types may be used together.

단관능 라디칼 중합성 화합물로서는, 예를 들면, (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 (메타)아크릴산 유도체도 열거된다. 상기 (메타)아크릴산 유도체로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산 알킬에스테르 및 (메타)아크릴산 알킬에스테르 이외의 (메타)아크릴산 유도체가 열거된다. (메타)아크릴산 유도체는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.Examples of monofunctional radically polymerizable compounds include (meth)acrylic acid derivatives having a (meth)acryloyloxy group. Examples of the (meth)acrylic acid derivatives include (meth)acrylic acid alkyl esters and (meth)acrylic acid derivatives other than (meth)acrylic acid alkyl esters. The (meth)acrylic acid derivative may be used individually, or two or more types may be used together.

(메타)아크릴산 알킬에스테르류로서는 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, n-펜틸(메타)아크릴레이트, 2,2-디메틸부틸(메타)아크릴레이트, n-헥실(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필펜틸(메타)아크릴레이트, 및 n-옥타데실(메타)아크릴레이트가 열거된다.Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, and n-butyl (meth)acrylate. Rate, isobutyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, 2,2-dimethylbutyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, 2 -Ethylhexyl (meth)acrylate, 4-methyl-2-propylpentyl (meth)acrylate, and n-octadecyl (meth)acrylate are listed.

(메타)아크릴산 알킬에스테르 이외의 (메타)아크릴산 유도체로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산 시클로알킬에스테르, (메타)아크릴산 아랄킬에스테르, 수산기 함유 (메타)아크릴산 유도체, 알콕시기 함유 (메타)아크릴산 유도체, 및 페녹시기함유 (메타)아크릴산 유도체가 열거된다. (메타)아크릴산 시클로알킬에스테르로서는 예를 들면, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 및 시클로펜틸(메타)아크릴레이트가 열거된다. (메타)아크릴산 아랄킬에스테르로서는, 예를 들면, 벤질(메타)아크릴레이트 및 3-페녹시벤질(메타)아크릴레이트가 열거된다. 수산기 함유 (메타)아크릴산 유도체로서는 예를 들면, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, [4-(히드록시메틸)시클로헥실]메틸아크릴레이트, 및 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트가 열거된다. 알콕시기 함유 (메타)아크릴산 유도체로서는, 예를 들면, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 및 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트가 열거된다. 페녹시기 함유 (메타)아크릴산 유도체로서는, 예를 들면, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트 및 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트가 열거된다. (메타)아크릴산 알킬에스테르 이외의 (메타)아크릴산 유도체로서는, 바람직하게는 3-페녹시벤질아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 및 페녹시디에틸렌글리콜아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나가 사용된다.Examples of (meth)acrylic acid derivatives other than (meth)acrylic acid alkyl esters include (meth)acrylic acid cycloalkyl ester, (meth)acrylic acid aralkyl ester, hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid derivative, and alkoxy group-containing (meth)acrylic acid. Derivatives, and phenoxy group-containing (meth)acrylic acid derivatives are listed. Examples of (meth)acrylic acid cycloalkyl esters include cyclohexyl (meth)acrylate and cyclopentyl (meth)acrylate. Examples of (meth)acrylic acid aralkyl esters include benzyl (meth)acrylate and 3-phenoxybenzyl (meth)acrylate. Examples of hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid derivatives include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 2-hydroxybutyl. (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methyl acrylate, and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate are listed. do. Examples of alkoxy group-containing (meth)acrylic acid derivatives include 2-methoxyethyl (meth)acrylate, 2-ethoxyethyl (meth)acrylate, and 3-methoxybutyl (meth)acrylate. . Examples of phenoxy group-containing (meth)acrylic acid derivatives include phenoxyethyl (meth)acrylate and phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate. (meth)acrylic acid derivatives other than (meth)acrylic acid alkyl esters are preferably selected from the group consisting of 3-phenoxybenzyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, and phenoxydiethylene glycol acrylate. At least one selected is used.

단관능 라디칼 중합성 화합물로서는, 카르복실기 함유 모노머도 열거된다. 카르복실기 함유 모노머로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산, 카르복시에틸아크릴레이트, 카르복시펜틸아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸말산, 크로톤산, 및 이소 크로톤산이 열거된다.Monofunctional radically polymerizable compounds also include carboxyl group-containing monomers. Examples of carboxyl group-containing monomers include (meth)acrylic acid, carboxyethyl acrylate, carboxypentyl acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, and isocrotonic acid.

단관능 라디칼 중합성 화합물로서는, 락탐계 비닐 모노머도 열거된다. 락탐계 비닐 모노머로서는, 예를 들면, N-비닐-2-피롤리돈, N-비닐-ε-카프로락탐, 및 메틸비닐피롤리돈이 열거된다.As monofunctional radically polymerizable compounds, lactam-based vinyl monomers are also listed. Examples of lactam-based vinyl monomers include N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-ε-caprolactam, and methylvinylpyrrolidone.

단관능 라디칼 중합성 화합물로서는, 질소 함유 복소환을 갖는 비닐계 모노머도 열거된다. 상기 모노머로서는, 예를 들면, 비닐피리딘, 비닐피페리돈, 비닐피리미딘, 비닐피페라진, 비닐피라진, 비닐피롤, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸, 및 비닐모르폴린이 열거된다.Examples of monofunctional radically polymerizable compounds include vinyl monomers having a nitrogen-containing heterocycle. Examples of the monomer include vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole, vinyloxazole, and vinylmorpholine.

다관능 라디칼 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디아크릴레이트, 2-에틸-2-부틸프로판디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 환상 트리메티롤프로판포르말(메타)아크릴레이트, 디옥산글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 및 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트가 사용되고, 바람직하게는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트가 사용된다. 다관능 라디칼 중합성 화합물은 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 다관능 라디칼 중합성 화합물은 가교제로서 기능한다.Examples of the polyfunctional radically polymerizable compound include tripropylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, and 1,9-no. Nandiol di(meth)acrylate, 1,10-decanediol diacrylate, 2-ethyl-2-butylpropanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, tricyclodecane dimethanol di. (meth)acrylate, cyclic trimethylolpropane formal (meth)acrylate, dioxane glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, penta Erythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate are used, and tripropylene glycol diacrylate is preferably used. The polyfunctional radically polymerizable compound may be used individually, or two or more types may be used together. The polyfunctional radically polymerizable compound functions as a crosslinking agent.

활성 에너지선 경화형 조성물이 자외선 경화형 조성물 또는 가시광선 경화형 조성물인 경우, 활성 에너지선 경화형 조성물은 광중합 개시제를 함유한다. 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤조페논 화합물, 벤조인에테르 화합물, 및 티오크산톤 화합물이 열거된다. 벤조페논 화합물로서는, 예를 들면, 벤질, 벤조페논, 벤조일 벤조산, 및 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논이 열거된다. 벤조인에테르 화합물로서는 예를 들면, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 및 벤조인부틸에테르가 열거된다. 티오크산톤 화합물로서는 예를 들면, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤, 및 도데실티오크산톤이 열거된다.When the active energy ray-curable composition is an ultraviolet ray-curable composition or a visible ray-curable composition, the active energy ray-curable composition contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include benzophenone compounds, benzoin ether compounds, and thioxanthone compounds. Examples of benzophenone compounds include benzyl, benzophenone, benzoyl benzoic acid, and 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone. Examples of benzoin ether compounds include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin butyl ether. Examples of thioxanthone compounds include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, and 2,4-dichlorothioxanthone. , 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and dodecylthioxanthone.

활성 에너지선 경화형 조성물이 가시광선 경화형 조성물인 경우, 바람직하게는, 380nm 이상의 광에 대하여 고감도한 광중합 개시제가 사용된다. 그러한 광중합 개시제로서는, 예를 들면, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-몰포리닐)페닐]-1-부타논, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 및 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄이 열거된다.When the active energy ray-curable composition is a visible ray-curable composition, a photopolymerization initiator that is highly sensitive to light of 380 nm or more is preferably used. Such photopolymerization initiators include, for example, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholy) Nophenyl)-butanone-1,2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone, 2,4 ,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, and bis(η5-2,4-cyclopentadien-1-yl)-bis( 2,6-difluoro-3-(1H-pyrrol-1-yl)-phenyl)titanium is listed.

광중합 개시제로서는 바람직하게는, 2,4-디에틸티오크산톤 및/또는 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온이 사용된다.As a photopolymerization initiator, 2,4-diethylthioxanthone and/or 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one is preferably used.

활성 에너지선 경화형 조성물에 있어서의 광중합 개시제의 함유량은 경화성 성분(라디칼 중합성 화합물) 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.05질량부 이상, 더욱 바람직하게는 0.1질량부 이상이며, 또한, 바람직하게는 20질량부 이하, 보다 바람직하게는 10질량부 이하, 더욱 바람직하게는 5질량부 이하이다.The content of the photopolymerization initiator in the active energy ray-curable composition is preferably 0.1 part by mass or more, more preferably 0.05 part by mass or more, and still more preferably 0.1 part by mass, based on 100 parts by mass of the curable component (radically polymerizable compound). parts or more, and is preferably 20 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less, and even more preferably 5 parts by mass or less.

활성 에너지선 경화형 조성물이 양이온 중합형 조성물인 경우, 동 조성물은 양이온 중합성 화합물을 모노머로서 함유한다. 양이온 중합성 화합물은 양이온 중합성의 관능기를 갖는 화합물이고, 양이온 중합성 관능기를 1개 갖는 단관능 양이온 중합성 화합물과 양이온 중합성 관능기를 2개 이상 갖는 다관능 양이온 중합성 화합물을 포함한다. 단관능 양이온 중합성 화합물은 비교적 액점도가 낮다. 이러한 단관능 양이온 중합성 화합물을 수지 조성물에 배합함으로써, 상기 수지 조성물의 점도를 저하시킨다. 또한, 단관능 양이온 중합성 화합물은 각종 기능을 발현시키는 관능기를 갖고 있는 경우가 많다. 이러한 단관능 양이온 중합성 화합물을 수지 조성물에 배합함으로써, 상기 수지 조성물 및/또는 수지 조성물의 경화물에, 각종 기능을 발현시킨다. 한편, 다관능 양이온 중합성 화합물이 배합된 수지 조성물의 경화에 의해, 3차원 가교부를 갖는 경화물이 얻어진다(다관능 양이온 중합성 화합물은 가교제로서 기능한다). 이러한 관점에서, 다관능 양이온 중합성 화합물의 이용은 바람직하다. 단관능 양이온 중합성 화합물과 다관능 양이온 중합성 화합물을 병용하는 경우, 단관능 양이온 중합성 화합물 100질량부에 대한 다관능 양이온 중합성 화합물의 양은, 예를 들면 10질량부 이상이며, 또한 예를 들면 1000질량부 이하이다. 양이온 중합성 관능기로서는, 예를 들면, 에폭시기, 옥세타닐기, 및 비닐에테르기가 열거된다. 에폭시기를 갖는 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 에폭시 화합물, 지환식 에폭시 화합물, 및 방향족 에폭시 화합물이 열거된다. 에폭시기를 갖는 화합물로서는, 양이온 중합형 조성물의 경화성 및 접착성의 관점에서, 바람직하게는 지환식 에폭시 화합물이 사용된다. 지환식 에폭시 화합물로서는, 예를 들면, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 또는 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트의 카프로락톤 변성물, 트리메틸카프로락톤 변성물, 및 발레로락톤 변성물이 열거된다. 지환식 에폭시 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면, 셀록사이드 2021, 셀록사이드 2021A, 셀록사이드 2021P, 셀록사이드 2081, 셀록사이드 2083, 및 셀록사이드 2085(이상, Daicel Chemical Industries, Ltd. 제작)가 열거되고, 또한, 사이라큐어 UVR-6105, 사이라큐어 UVR-6107, 사이라큐어 30, 및 R-6110(이상, Dow·Chemical Japan Limited 제작)이 열거된다. 양이온 중합형 조성물의 경화성의 개선 및 점도 저하의 관점에서는, 옥세타닐기를 갖는 화합물 및/또는 비닐에테르기를 갖는 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 옥세타닐기를 갖는 화합물로서는 예를 들면, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]벤젠, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 디[(3-에틸-3-옥세타닐)메틸]에테르, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 및 페놀노볼락옥세탄이 열거된다. 옥세타닐기를 갖는 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면, 아론옥세탄 OXT-101, 아론옥세탄 OXT-121, 아론옥세탄 OXT-211, 아론옥세탄 OXT-221, 아론옥세탄 OXT-212(이상, Toagosei Co., Ltd. 제작)가 열거된다. 비닐에테르기를 갖는 화합물로서는 예를 들면, 2-히드록시에틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜모노비닐에테르, 4-히드록시부틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜모노비닐에테르, 트리에틸렌글리콜디비닐에테르, 시클로헥산디메탄올디비닐에테르, 시클로헥산디메탄올모노비닐에테르, 트리시클로데칸비닐에테르, 시클로헥실비닐에테르, 메톡시에틸비닐에테르, 에톡시에틸비닐에테르, 및 펜타에리스리톨형 테트라비닐에테르가 열거된다.When the active energy ray-curable composition is a cationically polymerizable composition, the composition contains a cationically polymerizable compound as a monomer. Cationically polymerizable compounds are compounds having a cationically polymerizable functional group, and include monofunctional cationically polymerizable compounds having one cationically polymerizable functional group and polyfunctional cationically polymerizable compounds having two or more cationically polymerizable functional groups. Monofunctional cationic polymerizable compounds have relatively low liquid viscosity. By blending such a monofunctional cationically polymerizable compound into the resin composition, the viscosity of the resin composition is reduced. In addition, monofunctional cationic polymerizable compounds often have functional groups that express various functions. By blending such a monofunctional cationically polymerizable compound into a resin composition, various functions are expressed in the resin composition and/or a cured product of the resin composition. On the other hand, by curing a resin composition containing a polyfunctional cationically polymerizable compound, a cured product having a three-dimensional crosslinked portion is obtained (the polyfunctional cationically polymerizable compound functions as a crosslinking agent). From this point of view, the use of polyfunctional cationically polymerizable compounds is desirable. When using a monofunctional cationic polymerizable compound and a polyfunctional cationic polymerizable compound together, the amount of the polyfunctional cationic polymerizable compound relative to 100 parts by mass of the monofunctional cationic polymerizable compound is, for example, 10 parts by mass or more. For example, it is 1000 parts by mass or less. Examples of cationically polymerizable functional groups include epoxy group, oxetanyl group, and vinyl ether group. Examples of compounds having an epoxy group include aliphatic epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, and aromatic epoxy compounds. As the compound having an epoxy group, an alicyclic epoxy compound is preferably used from the viewpoint of curability and adhesiveness of the cationically polymerizable composition. Examples of the alicyclic epoxy compound include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, or 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate. caprolactone denatured products, trimethylcaprolactone denatured products, and valerolactone denatured products are listed. Examples of commercially available alicyclic epoxy compounds include Celoxide 2021, Celoxide 2021A, Celoxide 2021P, Celoxide 2081, Celoxide 2083, and Celoxide 2085 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.). , Also listed are Cyracure UVR-6105, Cyracure UVR-6107, Cyracure 30, and R-6110 (manufactured by Dow Chemical Japan Limited). From the viewpoint of improving the curability and lowering the viscosity of the cationically polymerizable composition, it is preferable to use a compound having an oxetanyl group and/or a compound having a vinyl ether group. Examples of compounds having an oxetanyl group include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]benzene, and 3-ethyl- 3-(phenoxymethyl)oxetane, di[(3-ethyl-3-oxetanyl)methyl]ether, 3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl)oxetane, and phenolnovolaxoxetane. These are listed. Commercially available compounds having an oxetanyl group include, for example, Aaronoxetane OXT-101, Aaronoxetane OXT-121, Aaronoxetane OXT-211, Aaronoxetane OXT-221, and Aaronoxetane OXT-212 (above , manufactured by Toagosei Co., Ltd.) are listed. Examples of compounds having a vinyl ether group include 2-hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, and cyclohexanedi. Methanol divinyl ether, cyclohexanedimethanol monovinyl ether, tricyclodecane vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, and pentaerythritol type tetravinyl ether are listed.

활성 에너지선 경화형 조성물이 자외선 경화형 조성물 또는 가시광선 경화형 조성물인 경우, 활성 에너지선 경화형 조성물은 광 양이온 중합 개시제를 함유한다. 광 양이온 중합 개시제는, 활성 에너지선(가시광선, 자외선, X선, 전자선 등)의 조사를 받고, 양이온종 또는 루이스산을 발생하고, 양이온 중합성 관능기의 중합 반응을 개시시킨다. 광 양이온 중합 개시제로서는, 광산 발생제 및 광염기 발생제가 열거되고, 바람직하게는 광산 발생제가 사용된다. 활성 에너지선 경화형 조성물을 가시광선 경화형 조성물로 하는 경우에는, 특히 380nm 이상의 광에 대하여 고감도한 광 양이온 중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 광 양이온 중합 개시제를 사용하는 경우, 380nm보다 긴 파장의 광에 대하여 극대 흡수를 나타내는 광 증감제를 병용하는 것이 바람직하다. 광 양이온 중합 개시제는, 일반적으로 300nm 부근 또는 그것보다 짧은 파장 영역에 극대 흡수를 나타내는 화합물이기 때문, 380nm보다 긴 파장의 광에 극대 흡수를 나타내는 광 증감제를 병용함으로써 380nm보다 긴 파장의 광을 효과적으로 이용하고, 광 양이온 중합 개시제로부터의 양이온종 또는 루이스산의 발생을 촉진시킬 수 있다. 광 증감제로서는, 예를 들면, 안트라센 화합물, 피렌 화합물, 카르보닐 화합물, 유기황 화합물, 과황화물, 레독스계 화합물, 아조 화합물, 디아조 화합물, 할로겐 화합물, 및 광환원성 색소가 열거된다. 이것들은 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 특히, 안트라센 화합물은 광 증감 효과가 우수하기 때문에 바람직하다. 광 증감제로서의 안트라센 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면, 안트라큐어 UVS-1331 및 안트라큐어 UVS-1221(Kawasaki Kasei Chemicals Ltd. 제작)이 열거된다. 조성물 중의 광 증감제의 함유량은 예를 들면, 0.1∼5중량%이다.When the active energy ray curable composition is an ultraviolet ray curable composition or a visible ray curable composition, the active energy ray curable composition contains a photo cationic polymerization initiator. The photo cationic polymerization initiator is irradiated with active energy rays (visible rays, ultraviolet rays, As photocationic polymerization initiators, photoacid generators and photobase generators are listed, and photoacid generators are preferably used. When the active energy ray-curable composition is a visible ray-curable composition, it is preferable to use a photo cationic polymerization initiator that is particularly sensitive to light of 380 nm or more. Additionally, when using a photo cationic polymerization initiator, it is preferable to use together a photosensitizer that exhibits maximum absorption for light with a wavelength longer than 380 nm. Since the photo cationic polymerization initiator is generally a compound that shows maximum absorption in the vicinity of 300 nm or shorter wavelength region, it can effectively absorb light with a wavelength longer than 380 nm by using it together with a photosensitizer that shows maximum absorption in light with a wavelength longer than 380 nm. When used, the generation of cationic species or Lewis acids from a photocationic polymerization initiator can be promoted. Examples of the photosensitizer include anthracene compounds, pyrene compounds, carbonyl compounds, organic sulfur compounds, persulfides, redox compounds, azo compounds, diazo compounds, halogen compounds, and photoreducible dyes. These may be used individually, or two or more types may be used together. In particular, anthracene compounds are preferred because they have excellent light sensitization effects. Commercially available anthracene compounds as photosensitizers include, for example, Anthracure UVS-1331 and Anthracene UVS-1221 (manufactured by Kawasaki Kasei Chemicals Ltd.). The content of the photosensitizer in the composition is, for example, 0.1 to 5% by weight.

활성 에너지선 경화형 조성물은 올리고머를 함유해도 된다. 올리고머로서는, 아크릴 올리고머, 불소 올리고머, 및 실리콘 올리고머가 열거되고, 바람직하게는 아크릴 올리고머가 사용된다. 활성 에너지선 경화형 조성물에의 올리고머의 배합은 동 조성물의 점도 조정에 도움이 되고, 또한, 동 조성물의 경화 시 수축의 억제에 도움이 된다. 활성 에너지선 경화형 조성물의 경화 수축의 억제는, 형성되는 접착제층(20)과 광학 필름(10, 30) 간의 계면 응력을 저감하는데 바람직하다. 계면 응력의 억제는 광학 필름(10, 30) 간의 접합력 확보에 도움이 된다.The active energy ray-curable composition may contain an oligomer. As oligomers, acrylic oligomers, fluorine oligomers, and silicone oligomers are listed, and acrylic oligomers are preferably used. The addition of oligomers to the active energy ray-curable composition helps adjust the viscosity of the composition and also helps suppress shrinkage during curing of the composition. Suppression of curing shrinkage of the active energy ray-curable composition is desirable for reducing the interfacial stress between the formed adhesive layer 20 and the optical films 10 and 30. Suppression of interfacial stress helps secure adhesion between the optical films 10 and 30.

아크릴 올리고머를 형성하는 (메타)아크릴 모노머로서는, 예를 들면, 탄소수 1∼20의 (메타)아크릴산 알킬에스테르, 시클로알킬(메타)아크릴레이트, 아랄킬(메타)아크릴레이트, 다환식(메타)아크릴레이트, 수산기 함유 (메타)아크릴산 에스테르, 및 할로겐 함유 (메타)아크릴산 에스테르가 열거된다. (메타)아크릴산 알킬에스테르로서는, 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, 2-메틸-2-니트로프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, S-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, n-펜틸(메타)아크릴레이트, t-펜틸(메타)아크릴레이트, 3-펜틸(메타)아크릴레이트, 2,2-디메틸부틸(메타)아크릴레이트, n-헥실(메타)아크릴레이트, 세틸(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필펜틸(메타)아크릴레이트, 및 N-옥타데실(메타)아크릴레이트가 열거된다. 시클로알킬(메타)아크릴레이트로서는 예를 들면, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 및 시클로펜틸(메타)아크릴레이트가 열거된다. 아랄킬(메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 벤질(메타)아크릴레이트가 열거된다. 다환식(메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면 2-이소보르닐(메타)아크릴레이트, 2-노르보르닐메틸(메타)아크릴레이트, 5-노르보르넨-2-일-메틸(메타)아크릴레이트, 및 3-메틸-2-노르보르닐메틸(메타)아크릴레이트가 열거된다. 수산기 함유 (메타)아크릴산 에스테르로서는 예를 들면, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2, 3-디히드록시프로필메틸-부틸(메타)메타크릴레이트가 열거된다. 할로겐 함유 (메타)아크릴산 에스테르로서는 예를 들면, 2,2,2-트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸에틸(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 헥사플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트가 열거된다. 이들 (메타)아크릴레이트는 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.Examples of (meth)acrylic monomers forming acrylic oligomers include (meth)acrylic acid alkyl esters having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl (meth)acrylates, aralkyl (meth)acrylates, and polycyclic (meth)acrylates. esters, hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid esters, and halogen-containing (meth)acrylic acid esters are listed. Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, and 2-methyl-2-nitro. Propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, S-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate , t-pentyl (meth)acrylate, 3-pentyl (meth)acrylate, 2,2-dimethylbutyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, cetyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 4-methyl-2-propylpentyl (meth)acrylate, and N-octadecyl (meth)acrylate. Examples of cycloalkyl (meth)acrylate include cyclohexyl (meth)acrylate and cyclopentyl (meth)acrylate. Examples of aralkyl (meth)acrylate include benzyl (meth)acrylate. Polycyclic (meth)acrylates include, for example, 2-isobornyl (meth)acrylate, 2-norbornylmethyl (meth)acrylate, and 5-norbornen-2-yl-methyl (meth)acrylate. nitrate, and 3-methyl-2-norbornylmethyl(meth)acrylate. Examples of hydroxyl-containing (meth)acrylic acid esters include hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, and 2, 3-dihydroxypropylmethyl-butyl (meth)methacrylate. are listed. Halogen-containing (meth)acrylic acid esters include, for example, 2,2,2-trifluoroethyl (meth)acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl ethyl (meth)acrylate, and tetrafluoropropyl ( Meth)acrylate, hexafluoropropyl (meth)acrylate, octafluoropentyl (meth)acrylate, and heptadecafluorodecyl (meth)acrylate are listed. These (meth)acrylates may be used individually, or two or more types may be used together.

아크릴 올리고머의 중량 평균 분자량(Mw)은 바람직하게는 15000 이하, 보다 바람직하게는 10000 이하, 더욱 바람직하게는 5000 이하이다. 아크릴 올리고머의 Mw는, 바람직하게는 500 이상, 보다 바람직하게는 1000 이상, 더욱 바람직하게는 1500 이상이다.The weight average molecular weight (Mw) of the acrylic oligomer is preferably 15,000 or less, more preferably 10,000 or less, and even more preferably 5,000 or less. The Mw of the acrylic oligomer is preferably 500 or more, more preferably 1000 or more, and still more preferably 1500 or more.

활성 에너지선 경화형 조성물에 있어서의 아크릴 올리고머의 함유량은, 바람직하게는 2질량% 이상, 보다 바람직하게는 4질량% 이상이며, 또한 바람직하게는 20질량% 이하, 보다 바람직하게는 15질량% 이하이다.The content of acrylic oligomer in the active energy ray-curable composition is preferably 2% by mass or more, more preferably 4% by mass or more, and preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less. .

활성 에너지선 경화형 조성물은 다른 성분을 함유해도 된다. 다른 성분으로서는 실란 커플링제, 레벨링제, 계면활성제, 가소제, 및 자외선 흡수제가 열거된다. 상기 다른 성분의 배합량은 경화성 성분 100질량부에 대하여, 바람직하게는 10질량부 이하, 보다 바람직하게는 5질량부 이하, 더욱 바람직하게는 3질량부 이하이며, 또한 예를 들면 0.01질량부 이상이다.The active energy ray-curable composition may contain other components. Other ingredients include silane coupling agents, leveling agents, surfactants, plasticizers, and ultraviolet absorbers. The mixing amount of the other components is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, further preferably 3 parts by mass or less, and for example, 0.01 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the curable component. .

활성 에너지선 경화형 조성물의 25℃에서의 점도는, 후기의 도포 공정에서의 도공성의 관점에서, 바람직하게는 3mPa·s 이상, 보다 바람직하게는 5mPa·s 이상, 더욱 바람직하게는 10mPa·s 이상이며, 또한 바람직하게는 100mPa·s 이하, 보다 바람직하게는 50mPa·s 이하, 더욱 바람직하게는 30mPa·s 이하이다. 조성물의 점도는, E형 점도계(콘플레이트형 점도계)에서의 측정값이다.The viscosity of the active energy ray-curable composition at 25°C is preferably 3 mPa·s or more, more preferably 5 mPa·s or more, and still more preferably 10 mPa·s or more from the viewpoint of coatability in the later application process. , and is also preferably 100 mPa·s or less, more preferably 50 mPa·s or less, and even more preferably 30 mPa·s or less. The viscosity of the composition is a value measured with an E-type viscometer (corn plate type viscometer).

적층 광학 필름(X)은, 예를 들면 다음과 같이 해서 제조할 수 있다.The laminated optical film (X) can be manufactured, for example, as follows.

우선, 일방의 광학 필름(광학 필름(10) 또는 광학 필름(30))의 편면(접합 예정면)에 활성 에너지선 경화형 조성물을 도포하고, 동 조성물의 도막을 형성한다 (도포 공정). 이 도포 공정 전에, 광학 필름의 접합 예정면은 표면 개질 처리되어도 된다. 표면 개질 처리로서는 코로나 처리, 플라즈마 처리, 엑시머 처리, 및 프레임 처리가 열거된다. 본 공정에서의 도포 방법으로서는, 예를 들면, 리버스 코터, 그라비어 코터, 바리버스 코터, 롤 코터, 다이 코터, 바 코터, 및 로드 코터가 열거된다.First, an active energy ray-curable composition is applied to one side (the surface to be bonded) of one optical film (optical film 10 or optical film 30) to form a coating film of the composition (application process). Before this application process, the surface to be bonded to the optical film may be subjected to surface modification treatment. Surface modification treatments include corona treatment, plasma treatment, excimer treatment, and frame treatment. Examples of coating methods in this process include reverse coater, gravure coater, variverse coater, roll coater, die coater, bar coater, and rod coater.

다음에, 일방의 광학 필름에 대하여 조성물 도막을 개재해서 타방의 광학 필름(광학 필름(30) 또는 광학 필름(10))을 접합시킨다. 접합에는 예를 들면, 롤 라미네이터를 사용할 수 있다.Next, the other optical film (optical film 30 or optical film 10) is bonded to one optical film via the composition coating film. For example, a roll laminator can be used for joining.

충분한 두께의 경계 영역(31)을 형성하는 점에서는, 활성 에너지선 경화형 조성물이 광학 필름(30) 중의 수지의 SP값에 가까운 SP값을 갖는 모노머를 함유하고 있는 것이 바람직하다. 그러한 모노머를 활성 에너지선 경화형 조성물이 함유하고 있는 경우, 상기 활성 에너지선 경화형 조성물의 도포 및 경화의 과정에 있어서, 광학 필름(30) 표면과 접하는 상기 모노머가 상기 표면에 상용하고, 경계 영역(31)이 형성되기 쉬워진다.In order to form the boundary region 31 with sufficient thickness, it is preferable that the active energy ray-curable composition contains a monomer having a SP value close to the SP value of the resin in the optical film 30. When the active energy ray-curable composition contains such a monomer, in the process of application and curing of the active energy ray-curable composition, the monomer in contact with the surface of the optical film 30 is compatible with the surface, and the boundary region 31 ) becomes easier to form.

적층 광학 필름(X)의 제조 과정에 있어서는, 다음에, 광학 필름(10, 30) 간의 조성물 도막에 대하여 활성 에너지선을 조사하고, 동 도막(활성 에너지선 경화형 조성물)을 경화시킨다(경화 공정). 이것에 의해, 광학 필름(10, 30) 간에 접착제층(20)이 형성되고, 접착제층(20)을 개재해서 광학 필름(10, 30)이 접합된다(접착제층(20)은 감압성 접착제층이 아니다). 본 공정에서는, 기능성 광학 필름으로서의 광학 필름(10)의 열화 억제의 관점에서, 광학 필름(30)측으로부터 활성 에너지선을 조사하는 것이 바람직하다. 활성 에너지선으로서는 전자선, 자외선, 및 가시광선을 사용할 수 있다. 전자선 조사 수단으로서는, 예를 들면 전자선 가속기가 열거된다. 자외선 및 가시광선의 광원으로서는, 예를 들면, LED 라이트, 갈륨 봉입 메탈할라이드 램프, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 할로겐 램프, 및 갈륨 램프가 열거된다. 본 공정에서는, 광원으로부터 출사되는 자외선 및/또는 가시광선에 있어서의 일부의 파장 영역을 커팅하기 위한 파장 커트 필터를, 필요에 따라서 사용해도 된다.In the manufacturing process of the laminated optical film . As a result, the adhesive layer 20 is formed between the optical films 10 and 30, and the optical films 10 and 30 are bonded via the adhesive layer 20 (the adhesive layer 20 is a pressure-sensitive adhesive layer). not this). In this process, it is preferable to irradiate active energy rays from the optical film 30 side from the viewpoint of suppressing deterioration of the optical film 10 as a functional optical film. As active energy rays, electron beams, ultraviolet rays, and visible rays can be used. Examples of the electron beam irradiation means include electron beam accelerators. Light sources of ultraviolet rays and visible rays include, for example, LED lights, gallium-filled metal halide lamps, low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, halogen lamps, and gallium lamps. In this process, a wavelength cut filter for cutting a partial wavelength range in the ultraviolet rays and/or visible rays emitted from the light source may be used as needed.

적층 광학 필름(X)은, 도 3에 나타내는 바와 같이, 광학 필름(10)의 두께 방향(H)의 양면에, 접착제층(20)을 개재해서 광학 필름(30)이 접합되어 있어도 된다. 도 3에 나타내는 적층 광학 필름(X)(적층 광학 필름(X)')은 광학 필름(30)과, 접착제층(20)과, 광학 필름(10)과, 접착제층(20)과, 광학 필름(30)을 두께 방향(H)으로 순서대로 구비한다. 2개의 접착제층(20)을 형성하는 활성 에너지선 경화형 조성물의 조성은 동일해도 되고, 상이해도 된다. 2개의 광학 필름(30)의 재료는, 동일해도 되고, 상이해도 된다. 적층 광학 필름(X)'은 예를 들면, 도 1에 적층 광학 필름(X)에 대하여, 추가의 광학 필름(30)을 접착제층(20)을 개재해서 접합함으로써 제조할 수 있다.As shown in FIG. 3 , the laminated optical film The laminated optical film (X) (laminated optical film ( (30) are provided in order in the thickness direction (H). The compositions of the active energy ray-curable compositions forming the two adhesive layers 20 may be the same or different. Materials of the two optical films 30 may be the same or different. For example, the laminated optical film (X)' is formed by attaching an additional optical film 30 to the laminated optical film It can be manufactured by joining.

적층 광학 필름(X)'에 있어서는, 적어도 일방의 광학 필름(30)이 상술의 경계 영역(31)을 갖고, 바람직하게는, 2개의 광학 필름(30)이 경계 영역(31)을 갖는다. 적층 광학 필름(X)'에서는, 각 접착제층(20)과, 상기 접착제층(20)과 접하는 광학 필름(30)의 경계 영역(31)으로부터 형성되는 각 접착제 원료 성분 함유부(40)에 있어서, 접착제층(20)의 두께 T1에 대한 접착제 원료 성분 함유부(40)의 두께 T2의 비율(T2/T1)은 1.01 이상이고, 바람직하게는 1.05 이상, 보다 바람직하게는 1.1 이상, 더욱 바람직하게는 1.2 이상이다.In the laminated optical film (X)', at least one optical film 30 has the boundary region 31 described above, and preferably, the two optical films 30 have the boundary region 31. In the laminated optical film ( , the ratio (T2/T1) of the thickness T2 of the adhesive raw material component containing portion 40 to the thickness T1 of the adhesive layer 20 is 1.01 or more, preferably 1.05 or more, more preferably 1.1 or more, even more preferably is 1.2 or more.

실시예Example

본 발명에 대해서, 이하에 실시예를 나타내서 구체적으로 설명한다. 본 발명은 실시예에 한정되지 않는다. 또한, 이하에 기재되어 있는 배합량(함유량), 물성값, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상술의 「발명을 실시하기 위한 구체적인 내용」에 있어서 기재되어 있다, 그들에 대응하는 배합량(함유량), 물성값, 파라미터 등의 상한(「이하」 또는 「미만」으로서 정의되어 있는 수치) 또는 하한(「이상」 또는 「초과한다」로서 정의되어 있는 수치)으로 대체할 수 있다.The present invention will be described in detail below by giving examples. The present invention is not limited to the examples. In addition, specific values such as the mixing amount (content), physical property values, and parameters described below are described in the above-mentioned "Specific Details for Carrying Out the Invention". The corresponding mixing amount (content), physical property values, and parameters are described below. It can be replaced with an upper limit (a numerical value defined as “less than” or “less than”) or a lower limit (a numerical value defined as “more than” or “exceeds”).

[실시예 1][Example 1]

하기의 성분을, 표 1에 나타내는 배합량(고형분에서의 배합량)으로 25℃에서 1시간 혼합하고, 접착제 조성물을 조제했다(조제 공정). 표 1에 나타내는 배합량의 단위는 상대적인 "질량부"이다.The following components were mixed in the mixing amounts (mixing amounts in solid content) shown in Table 1 at 25°C for 1 hour to prepare an adhesive composition (preparation step). The unit of the mixing amount shown in Table 1 is a relative "part by mass."

라이트 아크릴레이트 POB-A(모노머): 3-페녹시벤질아크릴레이트, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 제작Light Acrylate POB-A (monomer): 3-phenoxybenzyl acrylate, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. produce

라이트 아크릴레이트 P2H-A(모노머): 페녹시디에틸렌글리콜아크릴레이트, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 제작Light Acrylate P2H-A (monomer): Phenoxydiethylene glycol acrylate, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. produce

아로닉스 M-5700(모노머): 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, Toagosei Co., Ltd. 제작Aronics M-5700 (monomer): 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, Toagosei Co., Ltd. produce

아로닉스 M-220(모노머): 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, Toagosei Co., Ltd. 제작Aronics M-220 (monomer): Tripropylene glycol diacrylate, Toagosei Co., Ltd. produce

HEAA(모노머): 히드록시에틸아크릴아미드, KJ Chemicals Corporation 제작HEAA (monomer): Hydroxyethylacrylamide, manufactured by KJ Chemicals Corporation

DEAA(모노머): 디에틸아크릴아미드, KJ Chemicals Corporation 제작DEAA (monomer): diethyl acrylamide, manufactured by KJ Chemicals Corporation

OMINIRAD907(광중합 개시제): 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, IGM Resins사 제작OMINIRAD907 (photopolymerization initiator): 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one, manufactured by IGM Resins.

KAYACURE DETX-S(광중합 개시제): 2,4-디에틸티오크산톤, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제작KAYACURE DETX-S (photopolymerization initiator): 2,4-diethylthioxanthone, Nippon Kayaku Co., Ltd. produce

아루폰 1190(아크릴 올리고머): 점도 6000mPa·s(25℃), Mw 1700, Tg-50℃, Toagosei Co., Ltd. 제작Arupon 1190 (acrylic oligomer): Viscosity 6000 mPa·s (25°C), Mw 1700, Tg-50°C, Toagosei Co., Ltd. produce

BYK-UV3505(레벨링제): 아크릴기를 갖는 변성 폴리디메틸 실록산, BYK사 제작BYK-UV3505 (leveling agent): modified polydimethyl siloxane with an acrylic group, manufactured by BYK

그리고, 롤 투 롤 방식에 있어서 장척의 투명 보호 필름을 소정의 라인 속도로 주행시키면서, 도포 공정과, 접합 공정과, 경화 공정을 순차적으로 실시했다. 도포 공정에서는, 투명 보호 필름으로서의 두께 23㎛의 장척의 COP 필름(품명 「제오노어 필름 ZF14」, Zeon Corporation 제작) 상에 접착제 조성물을 도공해서 두께 0.9㎛의 접착제 도막을 형성했다. 도공에는, FUJI MACHINERY Co.,Ltd 제작의 MCD 코터(셀 형상: 허니콤, 그라비아롤선수 1000개/inch, 회전 속도 140%/대 라인 속도)를 사용했다. 이어서, 접합 공정에서는, 투명 보호 필름에 대하여, 동 필름 상의 접착제 도막을 개재해서 편광자 필름(두께 5㎛)을 접합시켰다. 계속되는 경화 공정에서는, 접착제 도막에 대하여 투명 보호 필름을 개재해서 자외선을 조사함으로써, 필름 간의 접착제 도막을 경화시켰다. 자외선 조사에는 갈륨 램프를 사용했다.이것에 의해, 투명 보호 필름과 편광자 필름을 접합해서 적층 광학 필름을 얻었다.Then, the application process, bonding process, and curing process were performed sequentially while running the long transparent protective film at a predetermined line speed in a roll-to-roll method. In the application process, the adhesive composition was applied onto a 23-μm-thick long COP film (product name “Zeonor Film ZF14”, manufactured by Zeon Corporation) as a transparent protective film to form an adhesive film with a thickness of 0.9 μm. For coating, an MCD coater manufactured by FUJI MACHINERY Co., Ltd. (cell shape: honeycomb, number of gravure rolls 1000 pieces/inch, rotation speed 140%/line speed) was used. Next, in the bonding process, a polarizer film (5 μm thick) was bonded to the transparent protective film through an adhesive coating film on the film. In the subsequent curing process, the adhesive coating film between the films was cured by irradiating ultraviolet rays to the adhesive coating film through a transparent protective film. A gallium lamp was used for ultraviolet irradiation. As a result, a transparent protective film and a polarizer film were bonded to obtain a laminated optical film.

이상과 같이 해서, 실시예 1의 적층 광학 필름을 제작했다. 실시예 1의 적층 광학 필름은 편광자 필름(두께 5㎛)과, 접착제층과, 투명 보호 필름(두께 23㎛)을 두께 방향으로 이 순서로 구비한다.As described above, the laminated optical film of Example 1 was produced. The laminated optical film of Example 1 includes a polarizer film (5 μm thick), an adhesive layer, and a transparent protective film (23 μm thick) in this order in the thickness direction.

[실시예 2][Example 2]

다음의 것 이외는 실시예 1의 적층 광학 필름과 동일하게 하고, 실시예 2의 적층 광학 필름을 제작했다. 상기의 라인 속도를 소정 정도 상승시키고, 도포 공정부터 경화 공정까지의 시간을 짧게 했다. 도포 공정에 있어서 투명 보호 필름(COP 필름)상에 형성되는 도막의 두께를 두께 2.6㎛로 했다.The laminated optical film of Example 2 was produced in the same manner as the laminated optical film of Example 1 except for the following. The above line speed was increased to a certain degree, and the time from the application process to the curing process was shortened. In the application process, the thickness of the coating film formed on the transparent protective film (COP film) was set to 2.6 μm.

실시예 2의 적층 광학 필름은 편광자 필름(두께 5㎛)과, 접착제층과, 투명 보호 필름(두께 23㎛)을 두께 방향으로 이 순서로 구비한다.The laminated optical film of Example 2 includes a polarizer film (5 μm thick), an adhesive layer, and a transparent protective film (23 μm thick) in this order in the thickness direction.

[실시예 3][Example 3]

다음의 것 이외는 실시예 1의 적층 광학 필름과 동일하게 하고, 실시예 3의 적층 광학 필름을 제작했다. 상기의 라인 속도를 소정 정도 하강시키고, 도포 공정부터 경화 공정까지의 시간을 길게 했다. 도포 공정에 있어서 투명 보호 필름(COP 필름)상에 형성되는 도막의 두께를 1.2㎛로 했다.The laminated optical film of Example 3 was produced in the same manner as the laminated optical film of Example 1 except for the following. The above line speed was lowered to a certain extent, and the time from the application process to the curing process was lengthened. In the application process, the thickness of the coating film formed on the transparent protective film (COP film) was set to 1.2 μm.

실시예 3의 적층 광학 필름은 편광자 필름(두께 5㎛)과, 접착제층과, 투명 보호 필름(두께 23㎛)을 두께 방향으로 이 순서로 구비한다.The laminated optical film of Example 3 includes a polarizer film (5 μm thick), an adhesive layer, and a transparent protective film (23 μm thick) in this order in the thickness direction.

[비교예 1][Comparative Example 1]

다음의 것 이외는 실시예 1의 적층 광학 필름과 동일하게 하고, 비교예 1의 적층 광학 필름을 제작했다(도포 공정부터 경화 공정 간의 라인 속도는 실시예 1과 같다).A laminated optical film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except for the following (line speed between the application process and the curing process is the same as in Example 1).

조제 공정에 있어서, 표 1에 나타내는 조성(성분, 배합량)의 접착제 조성물을 조제했다. 모노머 중「라이트 아크릴레이트 POB-A」와 「라이트 아크릴레이트 P2H-A」 대신에, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 제작의 「라이트 아크릴레이트1.9ND-A」(1,9-노난디올디아크릴레이트) 36질량부와, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.제작의 「라이트 아크릴레이트 HPP-A」(히드록시피발산 네오펜틸글리콜아크릴산 부가물) 12. 5질량부를 사용했다.In the preparation process, an adhesive composition with the composition (components, compounding amounts) shown in Table 1 was prepared. Among the monomers, instead of "Light Acrylate POB-A" and "Light Acrylate P2H-A", Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 36 parts by mass of “Light Acrylate 1.9ND-A” (1,9-nonanediol diacrylate) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. and “Light Acrylate HPP-A” (Neohydroxypivalic acid) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. pentyl glycol acrylic acid adduct) 12.5 parts by mass were used.

도포 공정에 있어서 투명 보호 필름(COP 필름) 상에 형성되는 도막의 두께를 0.93㎛로 했다.In the application process, the thickness of the coating film formed on the transparent protective film (COP film) was set to 0.93 μm.

비교예 1의 적층 광학 필름은 편광자 필름(두께 5㎛)과, 접착제층과, 투명 보호 필름(두께 23㎛)을 두께 방향으로 이 순서로 구비한다.The laminated optical film of Comparative Example 1 includes a polarizer film (5 μm thick), an adhesive layer, and a transparent protective film (23 μm thick) in this order in the thickness direction.

<접착제층의 두께><Thickness of adhesive layer>

실시예 1∼3 및 비교예 1의 각 적층 광학 필름에 있어서의 접착제층의 두께 T1을, 다음과 같이 해서 측정했다. 우선, 적층 광학 필름으로부터, 5mm×10mm의 필름편(적층 광학 필름)을 잘라냈다. 다음에, 크라이오마이크로톰법에 의해, 적층 광학 필름을 절삭했다. 구체적으로는, 적층 광학 필름을, -30℃로 냉각한 후에 동 필름의 두께 방향으로 경질 나이프로 절삭하고, 그 후에 실온으로 되돌렸다. 다음에, 이것에 의해 절삭면이 형성된 적층 광학 필름의 절삭면에 대하여, 5nm 두께 이하의 도전 처리를 실시했다. 이것에 의해, 관찰용 시료를 얻었다. 다음에, 관찰용 시료의 SEM 관찰에 의해 접착제층의 두께를 측정했다. 구체적으로는, 주사 전자 현미경(품명「REGULUS8220」, HITACHI사 제작)을 사용하고, 관찰용 시료에 있어서의 상기 절삭면의 2차 전자상의 관찰 및 촬상을 행하고, 접착제층의 두께를 측정했다. 이 관찰에 있어서, 가속 전압은 3.0kV로 하고, 전류량은 10μA로 하고, 워킹 디스턴스는 8mm로 하고, 배율은 10만배로 하고, 검출 모드는 Upper+Lower 모드로 했다. 접착제층의 두께 T1(㎛)을 표 1에 나타낸다.The thickness T1 of the adhesive layer in each laminated optical film of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 was measured as follows. First, a 5 mm x 10 mm film piece (laminated optical film) was cut from the laminated optical film. Next, the laminated optical film was cut by the cryomicrotome method. Specifically, the laminated optical film was cooled to -30°C, cut with a hard knife in the thickness direction of the film, and then returned to room temperature. Next, conductive treatment to a thickness of 5 nm or less was performed on the cut surface of the laminated optical film on which the cut surface was formed. As a result, a sample for observation was obtained. Next, the thickness of the adhesive layer was measured by SEM observation of the observation sample. Specifically, a scanning electron microscope (product name "REGULUS8220", manufactured by HITACHI) was used to observe and image the secondary electron image of the cut surface in the observation sample, and measure the thickness of the adhesive layer. In this observation, the acceleration voltage was set to 3.0 kV, the current amount was set to 10 μA, the walking distance was set to 8 mm, the magnification was set to 100,000 times, and the detection mode was set to Upper+Lower mode. The thickness T1 (μm) of the adhesive layer is shown in Table 1.

<접착제 원료 성분 함유부의 두께><Thickness of the part containing adhesive raw material ingredients>

실시예 1∼3 및 비교예 1의 각 적층 광학 필름에 있어서의 접착제 원료 성분 함유부의 두께 T2를, 다음과 같이 해서 측정했다. 우선, 적층 광학 필름으로부터 잘라낸 필름편의 투명 보호 필름을, 상기 투명 보호 필름의 표면측으로부터 마이크로톰에 의해 소정 깊이까지 깎아서 얇게 했다. 이것에 의해, 측정 시료를 얻었다. 다음에, 측정 시료에 대해서, 투명 보호 필름측으로부터, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석법(TOF-SIMS)에 의해 분석했다. 분석에는, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석 장치(품명 「TRIFT-V nanoTOF, ULVAC-PHI, INCORPORATED 제작)를 사용했다. 본 분석에서는, 에칭용 이온 빔의 조사와, 그 후의 측정용 이온 빔(1차 이온 빔)의 조사를 교대로 반복했다. 에칭용 이온 빔의 조사에서는, Ar가스 클러스터 이온(클러스터 사이즈(중간치)는 2500)을 사용하고, 가속 전압을 20kV로 하고, 이온 빔 전류값을 10nA로 하고, 조사 범위를 1000㎛×1000㎛로 하고, 조사 시간을 5초로 했다. 측정용 이온 빔의 조사에서는, 조사 1차 이온으로서 비스무트 클러스터의 더블 차지 이온(Bi3 ++)을 사용하고, 가속 전압을 30kV로 하고, 조사 범위를 에칭용 이온 빔 조사 영역의 중앙부 200㎛×200㎛로 하고, 분석 중의 시료의 대전을 보정하는 중화 총을 사용했다. 또한, 본 분석은 실온에서 행했다. 본 분석에 의해, 2차 이온(정 이온, 부 이온) 강도의 질량 스펙트럼의 깊이 방향 프로파일(뎁스 프로파일)을 취득했다. 2차 이온 강도는, 정 이온에서는 C3H5 +의 값을 기준값 1로 하고, 부 이온에서는 C2H-의 값을 기준값 1로 했을 때의 값으로 환산했다. 다음에, 취득한 깊이 방향 프로파일에 근거하여 투명 보호 필름에 있어서 검출 한계값(정·부 2차 이온 강도0.1counts/초) 이상의 접착제 원료 성분이 검출된 영역(경계 영역)을 특정했다. 그리고, 이 경계 영역의 두께와, 접착제층의 상술의 두께 T1으로부터, 접착제 원료 성분 함유부의 두께 T2를 구했다. 그 두께 T2(㎛)를 표 1에 나타낸다. 또한, 두께 T1에 대한 두께 T2의 비율도, 표 1에 나타낸다.The thickness T2 of the adhesive raw material component-containing portion in each laminated optical film of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 was measured as follows. First, the transparent protective film of the film piece cut out from the laminated optical film was thinned by cutting to a predetermined depth from the surface side of the transparent protective film using a microtome. In this way, a measurement sample was obtained. Next, the measurement sample was analyzed from the transparent protective film side by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS). For the analysis, a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (product name “TRIFT-V nanoTOF, ULVAC-PHI, manufactured by INCORPORATED) was used. In this analysis, irradiation with the ion beam for etching and subsequent irradiation with the ion beam for measurement (primary ion beam) were alternately repeated. In the ion beam irradiation for etching, Ar gas cluster ions (cluster size (median value) is 2500) are used, the acceleration voltage is 20 kV, the ion beam current value is 10 nA, and the irradiation range is 1000 ㎛ × 1000 ㎛. And the investigation time was set to 5 seconds. In the ion beam irradiation for measurement, the double charge ion (Bi 3 ++ ) of the bismuth cluster is used as the irradiation primary ion, the acceleration voltage is set to 30 kV, and the irradiation range is 200 ㎛ × the center of the etching ion beam irradiation area. It was set at 200 μm, and a neutralizing gun was used to correct charging of the sample during analysis. Additionally, this analysis was conducted at room temperature. Through this analysis, a depth profile (depth profile) of the mass spectrum of secondary ion (positive ion, negative ion) intensity was obtained. The secondary ion intensity was converted to the value when the value of C 3 H 5 + was set as the standard value of 1 for positive ions, and the value of C 2 H was set as the standard value of 1 for negative ions. Next, based on the acquired depth direction profile, the area (boundary area) in the transparent protective film where adhesive raw material components exceeding the detection limit (positive/negative secondary ion intensity 0.1 counts/sec) was detected was specified. Then, the thickness T2 of the adhesive raw material component-containing portion was determined from the thickness of this boundary region and the above-mentioned thickness T1 of the adhesive layer. The thickness T2 (μm) is shown in Table 1. Additionally, the ratio of thickness T2 to thickness T1 is also shown in Table 1.

<박리 강도><Peel strength>

실시예 1∼3 및 비교예 1의 각 적층 광학 필름에 있어서의 투명 보호 필름과 편광자 필름 간의 박리 강도를 조사했다. 우선, 적층 광학 필름으로부터, 제 1 변 200mm×제 2 변 15mm의 사이즈의 샘플 필름을 잘라냈다. 제 1 변은 편광자 필름의 연신 방향으로 연장되는 변이다. 제 2 변은 상기 연신 방향과 직교하는 방향으로 연장되는 변이다. 다음에, 샘플 필름의 편광자 필름측을, 강점착제를 개재해서 유리판에 접합시켰다. 다음에, 텐실론 만능 시험기(품명 「RTC」, A&D Company, Limited 제작)에 의해, 편광자 필름으로부터의 투명 보호 필름의 90°박리 강도(N/15mm)를 측정했다. 본 측정에서는, 측정 온도를 25℃로 하고, 박리 각도를 90°로 하고, 박리 속도를 1000mm/분으로 했다. 측정된 90°박리 강도를, 박리 강도 F1으로서 표 1에 나타낸다.The peeling strength between the transparent protective film and the polarizer film in each laminated optical film of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 was examined. First, a sample film with a size of 200 mm on the first side and 15 mm on the second side was cut from the laminated optical film. The first side is a side extending in the stretching direction of the polarizer film. The second side is a side extending in a direction perpendicular to the stretching direction. Next, the polarizer film side of the sample film was bonded to a glass plate through a strong adhesive. Next, the 90° peel strength (N/15 mm) of the transparent protective film from the polarizer film was measured using a Tensilon universal tester (product name “RTC”, manufactured by A&D Company, Limited). In this measurement, the measurement temperature was 25°C, the peeling angle was 90°, and the peeling speed was 1000 mm/min. The measured 90° peel strength is shown in Table 1 as peel strength F 1 .

<압입 탄성률><Indentation elastic modulus>

실시예 1∼3 및 비교예 1의 각 적층 광학 필름에 있어서의 접착제층의 탄성률을, 나노인덴테이션법에 의해 조사했다. 구체적으로는, 우선, 적층 광학 필름으로부터, 5mm×10mm 사이즈의 필름편(적층 광학 필름)을 잘라냈다. 다음에, 크라이오마이크로톰법에 의해, 적층 광학 필름을 절삭했다. 구체적으로는, 적층 광학 필름을, -30℃로 냉각한 후에, 동 필름의 두께 방향으로 경질 나이프로 절삭하고, 그 후에 실온으로 되돌렸다. 이것에 의해, 측정용의 시료를 얻었다. 다음에, 나노 인덴터(품명 「TI950 Triboindenter」, Hysitron사 제작)를 사용하고, 측정 시료에 있어서의 접착제층의 노출 표면에 대한 하중-변위 측정을 JIS Z 2255:2003에 준거해서 실시하고, 하중-변위 곡선을 얻었다. 본 측정에서는, 측정 모드는 단일 압입 측정으로 하고, 측정 온도는 25℃로 하고, 사용 압자는 Berkovich(3각추)형의 다이아몬드 압자로 하고, 하중 인가 과정에서의 측정 시료에 대한 압자의 최대 압입 깊(최대 변위 hmax)는 200nm로 하고, 그 압자의 압입 속도는 10nm/초로 하고, 제하과정에서의 측정 시료로부터의 압자의 인발 속도는 10nm/초로 했다(제 1 측정 조건). 그리고, 얻어진 측정 데이터를 「TI950 Triboindenter」의 전용 해석 소프트웨어(Ver. 9.4.0.1)에 의해 처리했다. 구체적으로는, 얻어진 하중(f)-변위(h) 곡선에 근거하여 최대 하중 fmax(최대 변위 hmax에서 압자에 작용하는 하중)과, 접촉 투영 면적 S(최대 하중 시에 있어서의 압자와 시료 간의 접촉 영역의 투영 면적)과, 제하 과정 개시 시에 있어서의 하중-변위 곡선의 접선의 기울기 D를 얻었다. 그리고, 기울기 D와 접촉 투영 면적 S로부터, 접착제층의 압입 탄성률(=(π1/2D)/(2S1/2))을 산출했다. 그 값을 압입 탄성률 M1(GPa)으로서 표 1에 나타낸다(압입 탄성률 M1은 상술의 제 1 압입 탄성률이다). 또한, 압입 탄성률 M1에 대한 박리 강도 F1의 비율(F1/M1)도 표 1에 나타낸다.The elastic modulus of the adhesive layer in each laminated optical film of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 was investigated by the nanoindentation method. Specifically, first, a film piece (laminated optical film) with a size of 5 mm x 10 mm was cut from the laminated optical film. Next, the laminated optical film was cut by the cryomicrotome method. Specifically, the laminated optical film was cooled to -30°C, cut with a hard knife in the thickness direction of the film, and then returned to room temperature. As a result, a sample for measurement was obtained. Next, using a nano indenter (product name “TI950 Triboindenter”, manufactured by Hysitron), load-displacement measurement was performed on the exposed surface of the adhesive layer in the measurement sample in accordance with JIS Z 2255:2003, and the load -Displacement curve was obtained. In this measurement, the measurement mode is single indentation measurement, the measurement temperature is 25°C, the indenter used is a Berkovich (triangular pyramid) type diamond indenter, and the maximum indentation depth of the indenter to the measurement sample during the load application process is set to 25°C. (Maximum displacement hmax) was set to 200 nm, the indentation speed was set to 10 nm/sec, and the pulling speed of the indenter from the measurement sample during the unloading process was set to 10 nm/sec (first measurement condition). Then, the obtained measurement data was processed using “TI950 Triboindenter” dedicated analysis software (Ver. 9.4.0.1). Specifically, based on the obtained load (f)-displacement (h) curve, the maximum load fmax (load acting on the indenter at the maximum displacement hmax) and the contact projection area S (contact between the indenter and the sample at the maximum load) The projected area of the area) and the slope D of the tangent line of the load-displacement curve at the start of the unloading process were obtained. And from the slope D and the contact projection area S, the indentation elastic modulus of the adhesive layer (=(π 1/2 D)/(2S 1/2 )) was calculated. The value is shown in Table 1 as the indentation elastic modulus M 1 (GPa) (the indentation elastic modulus M 1 is the above-mentioned first indentation elastic modulus). Additionally, the ratio of peel strength F 1 to indentation elastic modulus M 1 (F 1 /M 1 ) is also shown in Table 1.

한편, 최대 압입 깊이를 200nm부터 50nm로 변경한 것 이외는, 제 1 측정 조건과 같은 측정 조건(제 2 측정 조건)으로, 나노 인덴터에 의한 하중-변위 측정을 실시했다. 그리고, 얻어진 측정 데이터를 「TI950 Triboindenter」의 전용 해석 소프트웨어(Ver. 9.4.0.1)에 의해 처리하고, 접착제층의 압입 탄성률을 산출했다. 그 값을 압입 탄성률 M2(GPa)로서 표 1에 나타낸다(압입 탄성률 M2는 상술의 제 2 압입 탄성률이다). 또한, 압입 탄성률 M2에 대한 박리 강도 F1의 비율(F1/M2)도 표 1에 나타낸다.Meanwhile, load-displacement measurement using a nano indenter was performed under the same measurement conditions (second measurement conditions) as the first measurement conditions, except that the maximum indentation depth was changed from 200 nm to 50 nm. Then, the obtained measurement data was processed with "TI950 Triboindenter" dedicated analysis software (Ver. 9.4.0.1), and the indentation elastic modulus of the adhesive layer was calculated. The value is shown in Table 1 as the indentation elastic modulus M 2 (GPa) (the indentation elastic modulus M 2 is the above-mentioned second indentation elastic modulus). Additionally, the ratio of the peel strength F 1 to the indentation elastic modulus M 2 (F 1 /M 2 ) is also shown in Table 1.

<고온 고습 굴곡 시험><High temperature and high humidity bending test>

실시예 1∼3 및 비교예 1의 각 적층 광학 필름에 대해서, 다음과 같이 고온 고습 굴곡 시험을 실시했다.For each laminated optical film of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, a high-temperature, high-humidity bending test was performed as follows.

우선, 평가용의 샘플을 제작했다. 구체적으로는, 우선, 적층 광학 필름의 편광자 필름의 노출면과, 편면 박리 라이너가 있는 점착제층의 점착제 표면을 접합시켰다. 이 접합에서는, 23℃의 환경 하에 있어서, 2kg의 롤러를 1왕복시키는 작업에 의해, 적층 광학 필름에 있어서의 편광자 필름 표면면과, 점착제층 표면을 압착시켰다(후기의 접합도 동일한 조건으로 실시했다). 다음에, 점착제층으로부터 박리 라이너를 박리한 후, 이것에 의해 노출된 점착 시트 노출면에, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(품명 「다이아 호일」, 두께 125㎛, Mitsubishi Chemical Corporation 제작)을 접합시켰다. 이것에 의해, 다층 필름을 얻었다. 상기 편면 박리 라이너가 있는 점착제층은 다음과 같이 제작한 것이다.First, a sample for evaluation was produced. Specifically, first, the exposed surface of the polarizer film of the laminated optical film and the adhesive surface of the adhesive layer with a single-sided release liner were bonded. In this bonding, the surface of the polarizer film in the laminated optical film and the surface of the adhesive layer were pressed together by reciprocating a 2 kg roller once in an environment of 23°C (later bonding was also performed under the same conditions. ). Next, after peeling the release liner from the adhesive layer, a polyethylene terephthalate (PET) film (product name “Diafoil”, thickness 125 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was bonded to the exposed surface of the adhesive sheet. . As a result, a multilayer film was obtained. The adhesive layer with the single-sided release liner was produced as follows.

우선, 환류 냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비하는 반응 용기 내에서, 아크릴산 n-부틸 100질량부와, 아크릴산 3질량부와, 아크릴산 2-히드록시에틸 0.1질량부와, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.3질량부와, 용매로서의 아세트산 에틸을 포함하는 혼합물을, 55℃에서 8시간, 질소 분위기하에서 교반했다(중합 반응). 이것에 의해, 아크릴베이스 폴리머를 함유하는 폴리머 용액을 얻었다. 이 폴리머 용액 중의 아크릴베이스 폴리머의 중량 평균 분자량은 약 220만이었다. 다음에, 폴리머 용액에 대하여, 아크릴베이스 폴리머 100질량부당, 가교제(품명 「코로네이트 L」, Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd. 제작) 0.5질량부와, 실란 커플링제(품명 「KMB-403」, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제작) 0.075질량부를 가해서 혼합하여 점착제 용액을 조제했다. 다음에, 점착제 용액을, 박리 라이너의 박리 처리면 상에 도포해서 도막(두께 20㎛)을 형성했다. 이 박리 라이너는 소정의 박리 처리를 실시한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께 38㎛)이다. 다음에, 박리 라이너 상의 도막을 건조해서 점착제층을 형성했다.First, in a reaction vessel equipped with a reflux cooling tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirrer, 100 parts by mass of n-butyl acrylate, 3 parts by mass of acrylic acid, 0.1 part by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, and a thermal polymerization initiator. A mixture containing 0.3 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile as a solvent and ethyl acetate as a solvent was stirred at 55°C for 8 hours in a nitrogen atmosphere (polymerization reaction). As a result, a polymer solution containing an acrylic base polymer was obtained. The weight average molecular weight of the acrylic base polymer in this polymer solution was about 2.2 million. Next, for the polymer solution, per 100 parts by mass of acrylic base polymer, 0.5 parts by mass of a crosslinking agent (product name "Coronate L", manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), and a silane coupling agent (product name "KMB-403", 0.075 parts by mass of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added and mixed to prepare an adhesive solution. Next, the adhesive solution was applied on the peel-treated surface of the release liner to form a coating film (20 μm thick). This release liner is a polyethylene terephthalate film (thickness 38 μm) that has been subjected to a predetermined release treatment. Next, the coating film on the release liner was dried to form an adhesive layer.

평가용 샘플의 제작에 있어서는, 다음에, 상술한 바와 같이 해서 준비된 다층 필름으로부터 평가용의 샘플을 잘라냈다. 구체적으로는, 잘라내는 샘플에 있어서 편광자 필름의 흡수 축방향이 장변 방향과 평행하게 되도록, 25mm×100mm의 직사각형의 샘플을, 적층 필름으로부터 잘라냈다.In producing the sample for evaluation, the sample for evaluation was cut out from the multilayer film prepared as described above. Specifically, a rectangular sample of 25 mm x 100 mm was cut out from the laminated film so that the absorption axis direction of the polarizer film was parallel to the long side direction in the cut sample.

다음에, 상기 샘플에 대해서, 면형상체 무부하 U자 신축 시험기(YUASA SYSTEM Co., Ltd. 제작)에 의해, 굴곡 시험을 실시했다. 본 시험에서는, 샘플에 있어서의 장변 방향의 양 끝부의 각각에 대하여, 샘플 끝 가장자리로부터 20mm의 범위에 굴곡 지그를 부착하고, 샘플을 시험기에 고정했다(샘플의 장변 방향의 중앙 60mm의 영역은 고정되어 있지 않은 상태에 있다). 또한, 본 시험에서는, 온도 60℃ 및 상대 습도 90% 조건의 항온 항습조 내에서, 샘플을, 편광자 필름측의 면이 내측이 되는 굴곡 형태와 비굴곡 형태 간에서, 굴곡 속도 60rpm으로 20만회, 반복 변형(굴곡)시켰다. 본 시험에서의 굴곡 형태란 구체적으로는, 샘플에 작용하는 굽힘 모멘트의 축방향과 편광자 필름의 흡수 축방향이 직교하는 형태이다. 상기 굴곡 형태에 있어서, 샘플의 굽힘 반경은 3mm로 하고 굽힘 각도는 180°로 했다. 그리고, 이러한 굴곡 시험에 있어서의 필름(투명 보호 필름, 편광자 필름) 간의 박리 억제성에 대해서, 굴곡 횟수 20만까지 필름 간에 박리가 발생하지 않은 경우를 "우수"라 평가하고, 굴곡 횟수 8만 이상 20만 미만에서 박리가 발생한 경우를 "양호"라 평가하고, 굴곡 회수 8만 미만에서 박리가 발생한 경우를 "불량"이라 평가했다. 그 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Next, a bending test was performed on the sample using a planar unloaded U-shaped stretching tester (manufactured by YUASA SYSTEM Co., Ltd.). In this test, a bending jig was attached to each of the ends of the sample in the long side direction in a range of 20 mm from the end edge of the sample, and the sample was fixed to the tester (the center 60 mm area in the long side direction of the sample was fixed). It is in a state where it is not ready). In addition, in this test, in a constant temperature and humidity chamber under the conditions of a temperature of 60°C and a relative humidity of 90%, the sample was flexed 200,000 times at a bending speed of 60 rpm between a bent form in which the surface on the polarizer film side is inside and a non-bent form. It was repeatedly deformed (bended). Specifically, the bending form in this test is a form in which the axial direction of the bending moment acting on the sample and the absorption axial direction of the polarizer film are orthogonal. In the above bending form, the bending radius of the sample was set to 3 mm and the bending angle was set to 180°. Regarding the ability to suppress peeling between films (transparent protective film, polarizer film) in this bending test, a case where no peeling occurs between films up to 200,000 bending counts is evaluated as "excellent", and a bending count of 80,000 or more is 20. Cases where delamination occurred at less than 10,000 times were evaluated as “good,” and cases where delamination occurred at less than 80,000 bending times were evaluated as “bad.” The evaluation results are shown in Table 1.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 모노머monomer 라이트 아크릴레이트 POB-ALight Acrylate POB-A 4545 4545 4545 -- 라이트 아크릴레이트 P2H-ALight Acrylate P2H-A 2525 2525 2525 -- 라이트 아크릴레이트 1.9ND-ALight Acrylate 1.9ND-A -- -- -- 3636 라이트 아크릴레이트 HPP-ALight Acrylate HPP-A -- -- -- 12.512.5 아로닉스 M-5700Aronix M-5700 1010 1010 1010 2222 아로닉스 M-220Aronix M-220 55 55 55 -- HEAAHEAA 55 55 55 12.512.5 DEAADEAA 55 55 55 66 광중합 개시제photopolymerization initiator OMINIRAD 907OMINIRAD 907 33 33 33 33 KAYACURE DETX-SKAYACURE DETX-S 33 33 33 33 올리고머oligomer 아루폰1190Arupone 1190 55 55 55 1010 레벨링제leveling agent BYK-UV 3505BYK-UV 3505 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 접착제층의 두께 T1(㎛)Thickness of adhesive layer T1 (㎛) 0.810.81 2.522.52 1.21.2 0.930.93 접착제 원료 성분 함유부의 두께 T2(㎛)Thickness T2 (㎛) of the part containing adhesive raw material ingredients 0.90.9 2.572.57 1.501.50 0.930.93 T2/T1T2/T1 1.111.11 1.021.02 1.251.25 1.001.00 박리 강도 FPeel strength F 1One (N/15mm)(N/15mm) 1.01.0 0.90.9 2.52.5 0.60.6 압입 탄성률 MIndentation modulus M 1One (GPa)(GPa) 0.0570.057 0.0570.057 0.0570.057 0.090.09 압입 탄성률 MIndentation modulus M 22 (GPa)(GPa) 2.342.34 2.342.34 2.342.34 3.213.21 FF 1One /M/M 1One 1818 1818 1818 6.76.7 FF 1One /M/M 22 0.430.43 0.430.43 0.430.43 0.190.19 고온 고습 굴곡 시험High temperature and humidity bending test 우수Great 양호Good 양호Good 불량error

본 발명의 적층 광학 필름은 예를 들면, 폴더블 디스플레이 패널 등의 디스플레이 패널의 적층 구조에 포함되는 요소로서, 사용할 수 있다.The laminated optical film of the present invention can be used, for example, as an element included in the laminated structure of a display panel such as a foldable display panel.

X 적층 광학 필름
10 광학 필름(제 1 광학 필름)
20 접착제층
30 광학 필름(제 2 광학 필름)
31 경계 영역
40 접착제 원료 성분 함유부
H 두께 방향
X Laminated Optical Film
10 Optical film (first optical film)
20 adhesive layer
30 Optical film (second optical film)
31 border area
40 Adhesive raw material ingredient content
H Thickness direction

Claims (4)

제 1 광학 필름과, 접착제층과, 제 2 광학 필름을 두께 방향으로 순서대로 구비하는 적층 광학 필름으로서,
상기 접착제층이 상기 제 1 광학 필름에 접합되고 또한 상기 제 2 광학 필름에 접합되고,
상기 제 2 광학 필름이 상기 접착제층측에, 상기 접착제층 유래의 접착제 원료 성분을 함유하는 경계 영역을 갖고,
상기 접착제층의 두께 T1에 대한, 상기 접착제층과 상기 경계 영역을 합친 접착제 원료 성분 함유부의 두께 T2의 비율이 1.01 이상인, 적층 광학 필름.
A laminated optical film comprising a first optical film, an adhesive layer, and a second optical film in that order in the thickness direction,
The adhesive layer is bonded to the first optical film and also bonded to the second optical film,
The second optical film has a border region on the adhesive layer side containing an adhesive raw material component derived from the adhesive layer,
A laminated optical film, wherein the ratio of the thickness T2 of the adhesive raw material component-containing portion combining the adhesive layer and the boundary region to the thickness T1 of the adhesive layer is 1.01 or more.
제 1 항에 있어서,
상기 두께 T1이 5㎛ 이하인, 적층 광학 필름.
According to claim 1,
A laminated optical film wherein the thickness T1 is 5 μm or less.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 광학 필름에 대한 상기 제 2 광학 필름의 25℃에서의 90°박리 강도가 0.8N/15mm 이상인, 적층 광학 필름.
According to claim 1,
A laminated optical film, wherein the 90° peel strength at 25° C. of the second optical film with respect to the first optical film is 0.8 N/15 mm or more.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 광학 필름이 편광자 필름인, 적층 광학 필름.
The method according to any one of claims 1 to 3,
A laminated optical film, wherein the first optical film is a polarizer film.
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