KR20230165615A - 생체 이식용 의료기기의 표면 처리 장치 및 처리 방법 - Google Patents

생체 이식용 의료기기의 표면 처리 장치 및 처리 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 생체 이식용 의료기기의 표면 이물을 제거하기 위한 표면 처리 장치 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 플라즈마를 이용해 생체 이식용 의료기기의 살균 또는 멸균 후 잔존하는 바이러스 및 균의 흔적을 제거하고, 표면의 탄화층을 제거하는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치 및 처리 방법에 관한 것이다.

Description

생체 이식용 의료기기의 표면 처리 장치 및 처리 방법{SURFACE TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR BIOTRANSPLANTATION MEDICAL DEVICE}
본 발명은 생체 이식용 의료기기의 표면 이물을 제거하기 위한 표면 처리 장치 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 플라즈마를 이용해 생체 이식용 의료기기의 살균 또는 멸균 후 잔존하는 바이러스 및 균의 흔적을 제거하고, 표면의 탄화층을 포함한 기타 유기물을 제거하는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치 및 처리 방법에 관한 것이다.
플라즈마 상태의 높은 에너지 입자는 다양한 물질의 표면에 충돌하면서, 재료 표면에 에너지를 전달하며, 이러한 플라즈마는 물질 표면과 상호작용 시 다양한 물리/화학적 반응이 발생하기 때문에 다양한 표면처리가 가능한 특징을 갖는다.
일예로 각종 오염물질이 표면에 부착되지 않게 하거나 또는 쉽게 제거할 수 있는 방오 기능의 자가 정화 표면 처리기술, 임플란트와 골조직의 결합력을 높이는 표면 처리기술, 바이오 센서류나 전도성 잉크의 반도체 표면 패턴을 소형화하는 마이크로 패터닝 기술, 고분자 필름의 지문 방지 표면처리 기술 등 다양한 곳에서 플라즈마 표면처리 기술이 활용되고 있다.
특히 픽스쳐와 같은 생체 이식용 의료기기은, 인체에 이식 시 골 융합에 오랜 시간이 소요되기 때문에 생산단계에서 플라즈마 처리 공정을 통해 표면의 불순물을 제거하여 생체 안정화 시간을 줄이거나 치료속도를 빠르게 한 기술이 공지된 바 있다.
그러나 생산, 운송, 유통, 보관 과정에서 시간이 지날수록 생체 이식용 의료기기의 표면에 불순물이 형성 등의 이유로 표면이 소수성으로 경시변화하기 때문에 생체 친화성을 유지함에 어려움이 있다.
이를 해결하기 위해 임플란트 시술 전에 픽스쳐의 표면처리를 시도하여 생체 친화성을 확보하려는 기술이 개발되고 있다. 플라즈마 표면처리나, 자외선을 조사하여 친수성 및 골 융합 효율을 향상시킬 수 있는 기술이 대표적이다.
그러나 인체에 삽입되는 의료기기의 경우 무균성에 대한 보증이 요구되나, 플라즈마 표면처리나 자외선 조사 등을 위해 픽스쳐의 무균 포장을 제거하고, 외부에서 처리 또는 픽스쳐를 포장에서 분리하여 처리하는 방법의 경우 무균성 보증이 불가하고, 픽스쳐가 오염될 수 있는 문제가 추가적으로 발생한다.
다른 예로 자외선 투과율이 높은 석영유리를 케이스로 사용하여 포장을 제거하지 않고 자외선을 조사하는 기술도 공지된 바 있으나, 석영유리로 인해 비용이 증가하는 문제가 발생한다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서 본 발명의 목적은, 플라즈마 표면 처리를 통해 생체 이식용 의료기기의 살균 또는 멸균 후 잔존하는 바이러스 및 균의 흔적(죽은 상태의 바이러스나, 균)을 제거하고, 표면의 탄화층을 포함한 기타 유기물을 제거하는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치 및 처리 방법을 제공함에 있다.
또한, 의료기기의 표면보호를 위해 제품이 내포장된 상태에서 플라즈마 표면 처리가 가능하도록 한 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치 및 처리 방법을 제공함에 있다.
또한, 전극의 위치 가변 또는 외부 자기장 발생 수단과 제어 수단을 통해 자기장의 위치 제어 또는 두가지 공정을 병행하여 원하는 위치에 원하는 강도로 플라즈마 표면처리가 가능하도록 한 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치 및 처리 방법을 제공함에 있다.
본 발명의 일실시 예에 따른 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치는, 플라즈마 표면 처리를 위한 의료기기가 수용되는 케이스; 상기 케이스가 수용되는 챔버부; 전원 인가를 통해 상기 챔버부 내부를 대전시키 위해 상기 챔버부에 구비되는 전극부; 상기 케이스 내부에 진공을 형성하기 위해 상기 케이스에 형성된 진공유로와, 상기 챔버에 구비되되 일단이 진공압 형성 수단에 연결되고, 타단이 상기 진공유로에 연통되는 진공라인; 및 상기 케이스 내부에 프로세스 개스를 주입하기 위해 상기 케이스에 형성된 가스유로와, 상기 챔버에 구비되되 일단이 가스 공급 수단에 연결되고, 타단이 상기 가스유로에 연통되는 가스라인을 포함한다.
또한, 상기 챔버부는, 상기 내포장 용기(100)이 수용되도록 내부에 공간이 형성되고, 상측과 하측이 개방 형성된 챔버실린더(210); 상기 챔버실린더(210)의 일측을 밀폐하며 챔버실린더(210) 내부의 진공 형성을 위한 진공라인(225)이 구비된 제1 커버(220); 및 상기 챔버실린더(210)의 타측을 밀폐하며, 챔버실린더(210) 내부로 프로세스 개스를 공급하기 위한 가스라인(235)이 구비된 제2 커버(230)를 포함한다.
또한, 제1 커버(220)는 챔버실린더(210)에 결합 시 하단을 통해 내포장 용기(100)의 상측을 고정 및 지지하도록 구성되며, 제2 커버(230)는 챔버실린더(210)에 결합 시 상단을 통해 내포장 용기(100)의 하측을 고정 및 지지하도록 구성된다.
또한, 상기 전극부는, 링 형으로 상기 제1 커버의 둘레를 따라 구비되는 제1 전극, 또는, 링 형으로 상기 챔버실린더(210)의 원주 방향 둘레를 따라 구비되는 제2 전극, 또는 상기 제1 전극과 제2 전극을 모두 포함한다.
또한, 상기 제2 전극은, 복수 개가 상기 챔버실린더(210)의 상하 길이 방향을 따라 이격 배치되고, 각각의 제2 전극(320)은 개별적으로 전원 온오프 스위칭이 가능하도록 구성된다.
또한, 상기 케이스는, 상기 의료기기(S)이 수용 및 고정되도록 내부에 공간이 형성되고, 상측과 하측이 개방 형성된 케이스실린더(110); 상기 케이스실린더(110)의 일측을 밀폐하며 케이스실린더(110) 내부의 진공 형성을 위한 진공유로(125)가 형성된 제1 케이스커버(120); 상기 케이스실린더(110)의 타측을 밀폐하며, 케이스실린더(110) 내부로 프로세스 개스를 공급하기 위한 가스유로(135)가 형성된 제2 케이스커버(130)를 포함하고, 상기 진공유로(125)는 상기 제1 커버(220)의 하단이 내포장 용기(100) 상측에 밀착되어 내포장 용기(100)의 상측 고정 시 진공라인(225)과 연통되고, 상기 가스유로(135)는 상기 제2 커버(220)의 하단이 내포장 용기(100) 하측에 밀착되어 내포장 용기(100)의 하측 고정 시 가스라인(235)과 연통된다.
또한, 상기 표면 처리 장치는, 상기 챔버(200)의 주변에 자기장을 발생시키고, 챔버(200) 주변의 자속을 제어하여 챔버(200) 내부 특정 위치에서 플라즈마 밀도를 가변시키기 위한 자기장발생부(500)를 포함한다.
또한, 상기 자기장발생부(500)는, 소정의 두께를 갖는 링 형으로 이루어지며, 내경이 챔버(200)의 외경보다 크게 형성되어 챔버(200)와 자기장발생부(500) 사이에 반경 방향을 따라 이격 공간이 형성되도록 구성되되, 상기 자기장발생부(500)는, 상기 챔버(200)의 길이 방향을 따라 이동 가능하도록 제1 이동수단을 구비하여 내포장 용기(100)의 상하 방향 플라즈마 밀도를 가변시킬 수 있도록 구성된다.
또한, 상기 자기장발생부(500)는, 상기 챔버(200)의 중심을 기준으로 원주 방향을 따라 회전하는 제2 이동수단을 통해 회전하도록 구성되되, 상기 자기장발생부(500)의 중심과, 상기 제2 이동수단의 중심이 이격되도록 구성되어 상기 자기장발생부(500)가 편심 회전하도록 구성된다.
본 발명의 일실시 예에 따른 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치를 이용한 표면 처리 방법은, 의료기기(S)이 포장된 내포장 용기(100)을 챔버(200)에 설치하는 의료기기 설치단계(S10); 상기 챔버(200)를 제1 또는 제2 커버(220, 230)를 통해 밀폐하고, 진공라인(225) 및 진공유로(125)를 통해 챔버(200) 및 내포장 용기(100) 내부에 진공을 형성하는 진공 형성 단계(S20); 가스라인(235) 및 가스유로(135)를 통해 챔버(200) 및 내포장 용기(100) 내부에 프로세스 개스를 주입하는 가스 주입 단계(S30); 제1 전극 및 제2 전극에 전원을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 표면 처리 단계(S40); 전원을 오프 하여 플라즈마 발생을 중지시키는 단계(S50); 챔버(200) 내부의 진공을 해제하는 단계(S60); 및 챔버부(200)를 개방하여 내포장 용기(100)에 수용된 의료기기(S)을 회수하는 단계(S70)를 포함한다.
아울러, 상기 표면 처리 단계(S40)는, 챔버(400) 내부의 진공도 가변, 프로세스 가스의 투입량 조절을 통해 공정 압력이나 종류를 변경하고, 플라즈마 발생을 위한 전원 전압 조절, 전원 주파수 및 전극의 형상을 조절하고, 챔버(400) 주변의 자속 가변 등을 통해 플라즈마 밀도를 제어하는 플라즈마 밀도 가변 단계(S45)를 더 포함한다.
상기와 같은 구성에 의한 본 발명의 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치 및 처리 방법은, 생체 이식용 의료기기의 플라즈마 처리에 따라 의료기기의 생체 이식 시 생체 안정화 시간을 줄이고, 치료 속도를 빠르게 한 효과가 있다.
또한, 제품이 내포장된 상태에서 플라즈마 표면 처리가 가능하여 외부오염에 직접적으로 접촉하거나, 특수 표면 처리된 임플란트 표면이 손상되는 것을 방지한 효과가 있다.
또한, 의료기기의 전처리, 멸균공정에서 표면에 잔존하는 바이러스나 균의 사체 또는 과정에서 발생한 엔토톡신 및 기타 유기물을 제거하여 의료기기의 생체 이식 시 피부, 혈액 또는 골조직의 염증을 방지한 효과가 있다.
또한, 제품의 원하는 위치에 원하는 강도로 플라즈마 표면 처리가 가능하여 다양한 형상을 갖는 제품의 표면 처리 균일도가 향상됨에 따라 표면 처리 품질을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치의 정면도
도 2는 본 발명의 일실시 예에 따른 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치의 투영 단면도
도 3은 본 발명의 일실시 예에 따른 전극의 전원 연결도
도 4는 본 발명의 일실시 예에 따른 포장용 케이스의 단면도
도 5는 본 발명의 일실시 예에 따른 자기장발생부의 평면도
도 6 및 도 7은 본 발명의 일실시 예에 따른 자기장발생부의 작동원리를 나타낸 평면 개략도
이하, 상기와 같은 본 발명의 일실시예에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1에는 본 발명의 일실시 예에 따른 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치(1000)(이하 '처리 장치')의 정면도가 도시되어 있다. 도시된 바와 같이 처리 장치(1000)는 플라즈마 처리를 위한 의료기기가 수용되며 의료기기의 운송, 유통 및 보관 시 의료기기의 외부 오염이나, 표면 손상을 방지하기 위한 내포장 용기(100)와, 내포장 용기(100)가 수용되며 내포장 용기(100) 내부에 진공을 형성하거나, 프로세스 가스를 공급하고, 내포장 용기(100) 내부를 대전시켜 플라즈마를 발생시키기 위한 챔버부(200)와, 챔버부(200)의 외측에 구비되며 자기장을 발생시켜 자속 제어에 의해 플라즈마 밀도를 조절하는 자기장발생부(500)를 포함한다. 내포장 용기(100)는, 프로세스 가스가 투입되고, 플라즈마 상태에서 유기물 및 의료기기 표면의 불순물을 분리하여 배기 또는 진공라인으로 배출가능하도록 양단에 통기구가 형성될 수 있다.
도 2에는 본 발명의 일실시 예에 따른 처리 장치(1000)의 투영 단면도가 도시되어 있다. 도시된 바와 같이 챔버부(200)는 내포장 용기(100)이 수용되도록 내부에 공간이 형성되고, 상측과 하측이 개방 형성된 챔버실린더(210)와, 챔버실린더(210)의 일측을 밀폐하며 챔버실린더(210) 내부의 진공 형성을 위한 진공라인(225)이 구비된 제1 커버(220)와, 챔버실린더(210)의 타측을 밀폐하며, 챔버실린더(210) 내부로 프로세스 가스를 공급하기 위한 가스라인(235)이 구비된 제2 커버(230)를 포함하여 구성된다. 도면상에는 진공라인(225)이 제1 커버(220)에 구비되고, 가스라인(235)이 제2 커버(230)에 구비되는 것으로 도시되어 있으나, 진공라인(225)이 제2 커버(230)에 구비되고, 가스라인(235)이 제2 커버(230)에 구비될 수도 있다. 제1 커버(220)는 챔버실린더(210)에 결합 시 하단을 통해 내포장 용기(100)의 상측을 고정 및 지지하도록 구성되며, 제2 커버(230)는 챔버실린더(210)에 결합 시 상단을 통해 내포장 용기(100)의 하측을 고정 및 지지하도록 구성된다.
또한, 처리 장치(1000)는 내포장 용기(100) 내부를 대전시키기 위해 제1 커버(220)의 둘레를 따라 구비되는 제1 전극(310)과, 챔버실린더(210)의 둘레를 따라 형성된 제2 전극(320)을 포함한다. 이때 제2 전극(320)은 챔버실린더(210)의 원주 방향 둘레를 감싸는 형태의 링 형으로 이루어지며, 복수 개가 챔버실린더(210)의 상하 길이 방향을 따라 이격 배치될 수 있다. 또한 각각의 제2 전극(320)은 개별적으로 전원 온오프 스위칭이 가능하도록 구성되어 의료기기의 크기나 형상에 따라 플라즈마 표면 처리 범위를 결정할 수 있도록 구성된다.
도 3에는, 본 발명의 일실시 예에 따른 복수 개의 제2 전극(321, 322, 323, 324)의 전원 연결도가 도시되어 있다.
도시된 바와 같이 복수 개의 제2 전극(321, 322, 323, 324)은 병렬로 연결되며, 제2 전극(321, 322, 323, 324) 각각에는 스위치(S1, S2, S3, S4)가 각각 구비될 수 있다. 따라서 각각의 스위치(S1, S2, S3, S4)의 온오프를 독립적으로 제어하여 의료기기의 크기나 형상에 따라 플라즈마 표면 처리 범위를 결정할 수 있도록 구성된다.
도 4에는, 본 발명의 일실시 예에 따른 포장용 내포장 용기(100)의 단면도가 도시되어 있다. 도시된 바와 같이 내포장 용기(100)은 의료기기(S)이 수용 및 고정되도록 내부에 공간이 형성되고, 상측과 하측이 개방 형성된 케이스실린더(110)와, 케이스실린더(110)의 일측을 밀폐하며 케이스실린더(110) 내부의 진공 형성을 위한 진공유로(125)가 형성된 제1 케이스커버(120)와, 케이스실린더(110)의 타측을 밀폐하며, 케이스실린더(110) 내부로 프로세스 가스를 공급하기 위한 가스유로(135)가 형성된 제2 케이스커버(130)를 포함하여 구성된다. 도면상에는 진공유로(125)가 제1 케이스커버(120)에 구비되고, 가스유로(135)가 제2 케이스커버(130)에 구비되는 것으로 도시되어 있으나, 진공라인(225) 및 가스라인(235)의 배치에 따라 진공유로(125)가 제2 케이스커버(130)에 구비되고, 가스유로(135)가 제2 케이스커버(130)에 구비될 수도 있다. 진공유로(125)는 제1 커버(220)의 하단이 내포장 용기(100) 상측에 밀착되어 내포장 용기(100)의 상측 고정 시 진공라인(225)과 연통되고, 가스유로(135)는 제2 커버(220)의 하단이 내포장 용기(100) 하측에 밀착되어 내포장 용기(100)의 하측 고정 시 가스라인(235)과 연통되도록 구성된다.
제1 케이스커버(120)는 케이스실린더(110)에 결합 시 하단을 통해 의료기기(S)의 상측을 고정 및 지지하도록 구성되며, 제2 케이스커버(130)는 케이스실린더(110)에 결합 시 상단을 통해 의료기기(S)의 하측을 고정 및 지지하도록 구성된다.
도 5에는, 본 발명의 일실시 예에 따른 자기장발생부(500)의 평면도가 도시되어 있고, 도 6 및 도 7에는 본 발명의 일실시 예에 따른 자기장발생부(500)의 작동원리를 나타낸 평면 개략도가 도시되어 있다.
자기장발생부(500)는 챔버(200)의 주변에 자기장을 발생시키고, 챔버(200) 주변의 자속을 제어하여 챔버(200) 내부 특정 위치에서 플라즈마 밀도를 가변시키기 위해 구비된다. 따라서 자기장발생부(500)는 마그넷 또는 솔레노이드 일 수 있다. 또한 자기장발생부(500)는 소정의 두께를 갖는 링 형으로 이루어지며, 내경이 챔버(200)의 외경보다 크게 형성되어 챔버(200)와 자기장발생부(500) 사이에 반경 방향을 따라 이격 공간이 형성되도록 구성된다. 또한, 자기장발생부(500)는 챔버(200)의 길이 방향을 따라 이동 가능하도록 제1 이동수단(미도시)을 구비하여 내포장 용기(100)의 상하 방향 플라즈마 밀도를 가변시킬 수 있도록 구성된다. 또한 자기장발생부(500)는 챔버(200)의 중심을 기준으로 원주 방향을 따라 회전가능하도록 제2 이동수단(550)을 통해 회전하도록 구성된다.
이때 제2 이동수단(550)은 링 형으로 이루어지며, 중앙에 챔버(200)가 수용되고, 챔버(200)의 중심과 동일한 중심(X1)을 축으로 하여 회전 가능하도록 구성된다. 자기장발생부(500)는 제2 이동수단(550)에 고정되되, 중심(X2)이 제2 이동수단(550)의 중심(X1)과 소정거리 이격되어 배치될 수 있다.
즉 자기장발생부(500)의 중심(X2)과, 제2 이동수단(550)의 중심(X1)이 이격되도록 구성되어 자기장발생부(500)가 편심 회전하도록 구성된다. 이에 따라 자기장발생부(500)의 편심 회전 시 자기장발생부(500)의 내경과 챔버(200)의 외경이 가장 가까운 지점이 챔버(200)의 원주 방향을 따라 가변되도록 구성된다. 즉 도 6에 도시된 바와 같이 자기장발생부(500)의 편심 회전에 의해 챔버(200)의 A 지점이 자기장발생부(500)와 근접하여 A 지점의 플라즈마 밀도를 증가시키고, 도 7에 도시된 바와 같이 챔버(200)의 B 지점이 자기장발생부(500)와 근접되도록 하여 B 지점의 플라즈마 밀도를 증가시키도록 구성될 수 있다.
상기와 같은 자기장발생부(500)와 제1 및 제2 이동수단을 통해 내포장 용기(100) 내부 특정 위치의 플라즈마 밀도를 증가시킬 수 있도록 구성됨에 따라 다양한 형상을 갖는 의료기기의 표면 처리 균일도가 향상되고, 나아가 의료기기의 플라즈마 표면 처리 품질을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
이하에서는 상기와 같이 구성된 본 발명의 일실시 예에 따른 처리 장치(1000)를 이용한 생체 이식용 의료기기 표면 처리 방법에 대하여 설명한다.
우선 의료기기(S)이 포장된 내포장 용기(100)을 챔버(200)에 설치하는 의료기기 설치단계(S10)를 수행한다.
다음으로 챔버(200)를 제1 또는 제2 커버(220, 230)를 통해 밀폐하고, 진공라인(225) 및 진공유로(125)를 통해 챔버(200) 및 내포장 용기(100) 내부에 진공을 형성하는 진공 형성 단계(S20)를 수행한다.
다음으로 설정된 진공도에 도달하는 지 확인 후 가스라인(235) 및 가스유로(135)를 통해 챔버(200) 및 내포장 용기(100) 내부에 프로세스 개스를 주입하는 가스 주입 단계(S30)를 수행한다.
다음으로 프로세스 가스 진공도를 유지한 상태에서 제1 전극 및 제2 전극에 전원을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 표면 처리 단계(S40)를 수행한다. 표면 처리 단계(S40)에서는 의료기기 표면의 탄화수소 및 기타 유기물 등의 불순물을 제거하는 공정, 생체 이식 시 골 접합이 빠르게 진행될 수 있도록 표면을 세정하여 의료기기 표면이 친수성을 갖도록 하는 공정 및 생체 이식 시 발열반응을 일으킬 수 있는 엔토톡신을 제거하는 공정이 수행될 수 있다.
표면 처리 단계(S40) 중에는 챔버(400) 내부의 진공도 가변, 프로세스 가스의 투입량 조절을 통해 공정 압력이나 종류를 변경하고, 플라즈마 발생을 위한 전원 전압 조절, 전원 주파수 및 전극의 형상을 조절하고, 챔버(400) 주변의 자속 가변 등을 통해 플라즈마 밀도를 제어하는 플라즈마 밀도 가변 단계(S45)가 수행될 수 있다.
다음으로 전원을 오프 하여 플라즈마 발생을 중지시키는 단계(S50), 챔버(200) 내부의 진공을 해제하는 단계(S60) 및 챔버부(200)를 개방하는 단계(70)를 통해 내포장 용기(100)에 수용된 의료기기(S)을 회수하여 공정을 마무리 한다.
본 발명의 상기한 실시 예에 한정하여 기술적 사상을 해석해서는 안 된다. 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당업자의 수준에서 다양한 변형 실시가 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 당업자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 된다.
1000 : 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치
100 : 케이스
110 : 케이스 실린더
120 : 제1 케이스커버
125 : 진공유로
130 : 제2 케이스커버
135 : 가스유로
200 : 챔버부
210 : 챔버실린더
220 : 제1 커버
225 : 진공라인
230 : 제2 커버
235 : 가스라인
310 : 제1 전극
320 : 제2 전극
500 : 자기장발생부
S : 의료기기

Claims (11)

  1. 플라즈마 표면 처리를 위한 의료기기가 수용되는 케이스;
    상기 케이스가 수용되는 챔버부;
    전원 인가를 통해 상기 챔버부 내부를 대전시키 위해 상기 챔버부에 구비되는 전극부;
    상기 케이스 내부에 진공을 형성하기 위해 상기 케이스에 형성된 진공유로와, 상기 챔버에 구비되되 일단이 진공압 형성 수단에 연결되고, 타단이 상기 진공유로에 연통되는 진공라인; 및
    상기 케이스 내부에 프로세스 개스를 주입하기 위해 상기 케이스에 형성된 가스유로와, 상기 챔버에 구비되되 일단이 가스 공급 수단에 연결되고, 타단이 상기 가스유로에 연통되는 가스라인;
    을 포함하는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 챔버부는,
    상기 내포장 용기(100)이 수용되도록 내부에 공간이 형성되고, 상측과 하측이 개방 형성된 챔버실린더(210);
    상기 챔버실린더(210)의 일측을 밀폐하며 챔버실린더(210) 내부의 진공 형성을 위한 진공라인(225)이 구비된 제1 커버(220); 및
    상기 챔버실린더(210)의 타측을 밀폐하며, 챔버실린더(210) 내부로 프로세스 개스를 공급하기 위한 가스라인(235)이 구비된 제2 커버(230);
    를 포함하는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    제1 커버(220)는 챔버실린더(210)에 결합 시 하단을 통해 내포장 용기(100)의 상측을 고정 및 지지하도록 구성되며, 제2 커버(230)는 챔버실린더(210)에 결합 시 상단을 통해 내포장 용기(100)의 하측을 고정 및 지지하도록 구성되는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 전극부는,
    링 형으로 상기 제1 커버의 둘레를 따라 구비되는 제1 전극,
    또는, 링 형으로 상기 챔버실린더(210)의 원주 방향 둘레를 따라 구비되는 제2 전극,
    또는 상기 제1 전극과 제2 전극을 모두 포함하는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 제2 전극은,
    복수 개가 상기 챔버실린더(210)의 상하 길이 방향을 따라 이격 배치되고,
    각각의 제2 전극(320)은 개별적으로 전원 온오프 스위칭이 가능하도록 구성되는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치.
  6. 제 2항에 있어서,
    상기 케이스는,
    상기 의료기기(S)이 수용 및 고정되도록 내부에 공간이 형성되고, 상측과 하측이 개방 형성된 케이스실린더(110);
    상기 케이스실린더(110)의 일측을 밀폐하며 케이스실린더(110) 내부의 진공 형성을 위한 진공유로(125)가 형성된 제1 케이스커버(120);
    상기 케이스실린더(110)의 타측을 밀폐하며, 케이스실린더(110) 내부로 프로세스 개스를 공급하기 위한 가스유로(135)가 형성된 제2 케이스커버(130)를 포함하고,
    상기 진공유로(125)는 상기 제1 커버(220)의 하단이 내포장 용기(100) 상측에 밀착되어 내포장 용기(100)의 상측 고정 시 진공라인(225)과 연통되고, 상기 가스유로(135)는 상기 제2 커버(220)의 하단이 내포장 용기(100) 하측에 밀착되어 내포장 용기(100)의 하측 고정 시 가스라인(235)과 연통되는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 표면 처리 장치는,
    상기 챔버(200)의 주변에 자기장을 발생시키고, 챔버(200) 주변의 자속을 제어하여 챔버(200) 내부 특정 위치에서 플라즈마 밀도를 가변시키기 위한 자기장발생부(500)를 포함하는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 자기장발생부(500)는,
    소정의 두께를 갖는 링 형으로 이루어지며, 내경이 챔버(200)의 외경보다 크게 형성되어 챔버(200)와 자기장발생부(500) 사이에 반경 방향을 따라 이격 공간이 형성되도록 구성되되,
    상기 자기장발생부(500)는,
    상기 챔버(200)의 길이 방향을 따라 이동 가능하도록 제1 이동수단을 구비하여 내포장 용기(100)의 상하 방향 플라즈마 밀도를 가변시킬 수 있도록 구성되는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 자기장발생부(500)는,
    상기 챔버(200)의 중심을 기준으로 원주 방향을 따라 회전하는 제2 이동수단을 통해 회전하도록 구성되되, 상기 자기장발생부(500)의 중심과, 상기 제2 이동수단의 중심이 이격되도록 구성되어 상기 자기장발생부(500)가 편심 회전하도록 구성되는, 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치.
  10. 제 1항 내지 제 9항의 생체 이식용 의료기기 표면 처리 장치를 이용한 표면 처리 방법에 있어서,
    의료기기(S)이 포장된 내포장 용기(100)을 챔버(200)에 설치하는 의료기기 설치단계(S10);
    상기 챔버(200)를 제1 또는 제2 커버(220, 230)를 통해 밀폐하고, 진공라인(225) 및 진공유로(125)를 통해 챔버(200) 및 내포장 용기(100) 내부에 진공을 형성하는 진공 형성 단계(S20);
    가스라인(235) 및 가스유로(135)를 통해 챔버(200) 및 내포장 용기(100) 내부에 프로세스 개스를 주입하는 가스 주입 단계(S30);
    제1 전극 및 제2 전극에 전원을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 표면 처리 단계(S40);
    전원을 오프 하여 플라즈마 발생을 중지시키는 단계(S50);
    챔버(200) 내부의 진공을 해제하는 단계(S60); 및
    챔버부(200)를 개방하여 내포장 용기(100)에 수용된 의료기기(S)을 회수하는 단계(S70);
    를 포함하는, 표면 처리 방법.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 표면 처리 단계(S40)는,
    챔버(400) 내부의 진공도 가변, 프로세스 가스의 투입량 조절을 통해 공정 압력이나 종류를 변경하고, 플라즈마 발생을 위한 전원 전압 조절, 전원 주파수 및 전극의 형상을 조절하고, 챔버(400) 주변의 자속 가변 등을 통해 플라즈마 밀도를 제어하는 플라즈마 밀도 가변 단계(S45)를 더 포함하는, 표면 처리 방법.
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