KR20230144233A - 고분자 가공안정성 예측 방법 및 예측 장치 - Google Patents

고분자 가공안정성 예측 방법 및 예측 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 고분자 가공안정성 예측 방법 및 예측 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 레오미터의 시간 스윕(Time Sweep) 방법을 이용하여 고분자 시료에 열과 전단 응력을 동시에 부여하여 저장탄성률을 구함으로써, 보다 적합한 가공안정성 예측을 수행할 수 있다.

Description

고분자 가공안정성 예측 방법 및 예측 장치{Prediction method of polymer processing stability and the device thereof}
본 발명은 고분자 가공안정성 예측 방법 및 예측 장치에 관한 것이다.
고분자는 일상생활에서 다양한 용도로 사용되고 있으며, 대부분의 고분자는 보다 유용한 형태로 만들기 위하여 다른 부재료와 혼합하거나 특정 형태로 성형하는 가공 공정을 거치게 된다. 특히, 고온 하에서의 스크류의 전단 응력을 받아 사용자가 원하는 형태로 성형하는 가공 공정을 거치게 되는데, 고분자는 고온 하에서 전단응력을 받기 때문에 쉽게 열화 또는 산화될 수 있으며, 이를 방지하기 위해 여러 가지 첨가제(산화방지제, 중화제, HALs 등)가 사용된다.
고분자의 가공안정성을 평가하기 위하여 고분자의 열화나 산화를 측정하는 방법인 산화유도시간(OIT) 등이 이용되었지만 고분자가 가공 중에 영향 받는 열과 전단 응력을 동시에 반영하기 어려웠다. 또한, 가공안정성 평가를 위해 재압출 평가를 진행하여 물성의 변화 정도를 확인할 수 있었으나, 이는 많은 양의 샘플이 필요하고 재압출 후 별도의 물성 평가 단계가 필요하여 시간과 비용이 많이 소요된다는 문제가 있었다. 이에 고분가 가공 시 고분자에 부여되는 열과 전단응력을 모두 고려할 수 있으며 소요되는 비용과 시간을 줄일 수 있는 고분자 가공안정성 예측 방법이 필요한 실정이다.
특허문헌 1. 한국등록특허 제10-2070572호
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 레오미터의 시간 스윕(Time Sweep) 방법을 이용하여 고분자 시료에 열과 전단 응력을 동시에 부여하여 저장탄성률을 구함으로써, 보다 정확한 고분자의 가공안정성을 예측을 수행할 수 있는 고분자 가공안정성 예측 방법 및 예측 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면은 (ⅰ) 레오미터(rheometer)를 이용하여 고분자 시료의 시간에 따른 저장탄성률을 측정하여 상기 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 도출하는 단계; 및 (ⅱ) 상기 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 이용하여 상기 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)을 예측하는 단계;를 포함하는 고분자 가공안정성 예측 방법을 제공한다.
본 발명의 다른 측면은 레오미터(rheometer)를 이용하여 고분자 시료의 시간에 따른 저장탄성률을 측정하여 상기 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 도출하는 측정부; 및 상기 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 이용하여 상기 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)을 예측하는 연산부;를 포함하는 고분자 가공안정성 예측 장치를 제공한다.
본 발명의 고분자 가공안정성 예측 방법 및 예측 장치는 레오미터 시간 스윕(Time Sweep) 방법을 이용하면 열과 전단 응력을 동시에 부여함으로써 보다 적합한 가공안정성 예측을 수행할 수 있고, 이에 소요되는 시간 및 비용을 절감시킬 수 있다. 또한, 이를 고분자에 사용되는 가공안정제 함량 결정에 활용할 수 있으며, 고분자 간의 상호 비교를 통하여 재활용에 더욱 적합한 고분자를 선별할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예 1에서 측정된 시간에 따른 저장탄성률 그래프를 나타낸 것이다.
도 2는 상기 실시예 1 내지 4에서 측정된 저장탄성률이 초기에 비해 80%가 되는 시간에 대한 재압출 5회 전후 본성 점도의 변화율(%)의 그래프를 나타낸 것이다.
이하 본 발명을 첨부된 도면 및 실시예와 함께 더욱 구체적으로 설명하도록 한다.
앞서 설명한 바와 같이 종래의 고분자의 가공안정성을 평가하기 위한 방법들은 고분자가 가공 중에 영향 받는 열과 전단 응력을 반영하지 않았거나, 많은 양의 샘플이 필요하고 재압출 후 별도의 물성 평가 단계가 필요하여 시간과 비용이 많이 소요된다는 문제가 있었다.
이에 본 발명에서는 고분자 시료에 열과 전단응력을 가하여 저장탄성률을 측정하고 이를 이용하여 고분자 가공 전후 본성 점도의 변화율을 예측하여 고분자의 가공안정성을 예측할 수 있는 방법을 제공한다.
보다 구체적으로, 본 발명은 (ⅰ) 레오미터(rheometer)를 이용하여 고분자 시료의 시간에 따른 저장탄성률을 측정하여 상기 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 도출하는 단계; 및 (ⅱ) 상기 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 이용하여 상기 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)을 예측하는 단계;를 포함하는 고분자 가공안정성 예측 방법을 제공한다.
상기 고분자 시료의 본성 점도 변화율(%)은 하기 수학식 1로 표현되는 것일 수 있다.
[수학식 1]
Figure pat00001
(상기 수학식 1에서 IVi는 고분자 시료의 가공 전 본성 점도이고, IVf는 고분자 시료의 가공 후 본성 점도이다.)
본성 점도는 고분자의 분자량과 상호 비례 관계에 있는 물리량이며, Mark-Houwink 식에 의해 본성 점도=x중량평균분자량y로 표현이 가능하여, 본성 점도 변화량을 통해 가공 후 고분자 시료의 중량평균분자량을 계산할 수 있다.
상기 고분자 시료는 호모 폴리프로필렌, 임팩트 폴리프로필렌 또는 에틸렌-프로필렌 고무일 수 있다. 상기 고분자 시료가 프로필렌을 포함할 때 선형 고분자로 타 고분자에 비해 단순한 구조를 가져 열과 전단응력에 대한 반응성이 큰 특성을 바탕으로 고분자 시료 가공 전후 본성 점도에 대한 정확한 예측 효과를 기대할 수 있다. 특히, 상기 고분자 시료가 임팩트 폴리프로필렌일 때, 에틸렌-프로필렌 고무 부분은 폴리프로필렌 매트릭스에 비해 열과 전단응력에 의한 열화가 상대적으로 덜 일어나기 때문에 호모 폴리프로필렌에서 효과를 더욱 기대할 수 있으나 임팩트 폴리프로필렌 측정에서도 현저한 차이를 확인할 수 있다.
상기 고분자 시료의 저장탄성률은 1 내지 10% 변형률(strain) 및 10 내지 300 rad/s 각 진동수 범위에서, 바람직하게는 3 내지 8% 변형률(strain) 및 50 내지 150 rad/s 각 진동수 범위에서 측정되는 것일 수 있다. 고분자 시료의 저장탄성률 측정 시 변형률과 각 진동수 중 어느 하나 이상이 상기 범위를 벗어나면, 상기 고분자 시료의 저장탄성률의 정확도가 감소하고 측정된 저장탄성률 값에서 노이즈가 발생하여 오차가 생기므로 상기 범위를 만족하는 것이 바람직하다.
상기 고분자 시료의 저장탄성률은 180 내지 300 ℃, 바람직하게는 200 내지 290 ℃, 더욱 바람직하게는 230 내지 280 ℃에서 측정되는 것일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 온도에서 고분자 시료의 저장탄성률을 측정할 때 저장탄성률의 측정 정확도가 높아져 이를 이용하여 고분자 가공 전후 고분자 본성 점도 변화율(%)의 예측 정확도가 향상될 수 있다는 점에서 바람직하다. 만약, 온도가 상기 하한치 미만에서 고분자 시료의 저장탄성률이 측정되면, 고분자가 용융되지 않아 레오미터를 이용한 측정이 불가능할 수 있고, 반대로 상기 상한치 초과에서 측정되면 고분자 시료의 물성이 변성되거나 분해 현상이 급격하게 나타나 상호 간의 비교가 어려울 수 있어 바람직하지 않다.
상기 고분자 시료의 가공 전후 고분자 시료의 본성 점도 변화율(%)은 하기 수학식 2에 의해 예측되는 것일 수 있다.
[수학식 2]
Y=aX+b
(상기 수학식 2에서, Y는 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)이고, X는 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간(초)이고, a는 -0.02 내지 -0.005의 실수이고, b는 14 내지 18의 실수이다.)
바람직하게는 상기 수학식 2에서 a는 -0.0104이고, b는 16.332이다.
상기 고분자 시료의 가공은 사출 성형, 압출 성형 또는 열 성형일 수 있으나, 압출 성형인 것이 바람직하다. 본 발명의 고분자 가공안정성 예측 방법은 고분자에 가공 중 가해지는 열과 전단 응력을 모두 반영하므로 압출 성형시 고분자 시료의 가공안정성을 정확도 높게 예측할 수 있다. 상기 압출 성형은 고분자 수지를 압출기에 투입하여 스크류 회전에 의해 수지를 압착, 용융시켜 다이쪽으로 밀어내어 일정 형태의 성형품을 만든 후, 이것을 냉각, 고화시켜 연속적으로 제품을 성형하는 고분자 성형 방법을 의미할 수 있다. 더욱 바람직하게는 상기 고분자 시료의 가공은 상기 고분자 시료를 150 내지 300 ℃에서 100 내지 300 rpm 스크류 속도, 가장 바람직하게는 200 내지 250 ℃에서 150 내지 250 rpm 스크류 속도로 압출 성형하는 것일 수 있다.
특히, 하기 실시예에는 명시적으로 기재하지 않았지만, 본 발명에 따른 고분자 가공안정성 예측 방법에 있어서, 다양한 종류의 고분자, 저장탄성률 측정 조건, 측정된 저장탄성률이 초기에 비해 80%가 되는 시간 값을 이용한 예측 방법 등의 조건을 변화시켜, 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도를 예측하였다.
그 결과, 다른 조건 및 다른 수치범위에서와는 달리, 아래 조건이 모두 만족하였을 때 저장탄성률이 초기에 비해 80%가 되는 시간에 대한 고분자 가공 전후 본성 점도 변화율(%)의 선형 근사에서 도출한 일차함수 결정계수(R2)가 0.9 이상의 값을 가졌으며, 실제 고분자 가공 전후 본성 점도 변화율 사이에 오차가 거의 발생하지 않았다.
상기 고분자 시료는 임팩트 폴리프로필렌이고,
상기 고분자 시료의 저장탄성률은 230 내지 280 ℃, 3 내지 8% 변형률(strain) 및 50 내지 150 rad/s 각 진동수 범위에서 측정되는 것이고,
상기 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)은 하기 수학식 2에 의해 예측되는 것이고,
상기 고분자 시료의 가공은 200 내지 250 ℃에서 150 내지 250 rpm 스크류 속도로 압출 성형하는 것일 수 있다.
[수학식 2]
Y=aX+b
(상기 수학식 2에서, Y는 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)이고, X는 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간(초)이고, a는 -0.02 내지 -0.005의 실수이고, b는 14 내지 18의 실수이다.)
다만, 상기 조건 중 어느 하나라도 만족하지 않으면 저장탄성률이 초기에 비해 80%가 되는 시간과 고분자 가공 전후 본성 점도 변화율(%) 간의 상관도가 현저하게 감소하였으며, 일차함수 결정계수(R2)가 0.8 미만으로 급격히 감소하여 예측된 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 값의 정확도가 떨어지는 것을 확인하였다.
한편, 본 발명은 레오미터(rheometer)를 이용하여 고분자 시료의 시간에 따른 저장탄성률을 측정하여 상기 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 도출하는 측정부; 및 상기 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 이용하여 상기 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)을 예측하는 연산부;를 포함하는 고분자 가공안정성 예측 장치를 제공한다.
상기 고분자 시료는 호모 폴리프로필렌, 임팩트 폴리프로필렌 또는 에틸렌-프로필렌 고무일 수 있다.
상기 고분자 시료의 저장탄성률은 1 내지 10% 변형률(strain) 및 10 내지 300 rad/s 각 진동수 범위에서, 바람직하게는 3 내지 8% 변형률(strain) 및 50 내지 150 rad/s 각 진동수 범위에서 측정되는 것일 수 있다.
상기 고분자 시료의 저장탄성률은 180 내지 300 ℃, 바람직하게는 200 내지 290 ℃, 더욱 바람직하게는 230 내지 280 ℃에서 측정되는 것일 수 있다.
상기 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)은 하기 수학식 2에 의해 예측되는 것일 수 있다.
[수학식 2]
Y=aX+b
(상기 수학식 2에서, Y는 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)이고, X는 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간(초)이고, a는 -0.02 내지 -0.005의 실수이고, b는 14 내지 18의 실수이다.)
바람직하게는 상기 수학식 2에서 a는 -0.0104이고, b는 16.332이다.
상기 고분자 시료의 가공은 사출 성형, 압출 성형 또는 열 성형일 수 있고, 바람직하게는, 압출 성형일 수 있다. 상기 압출 성형은 바람직하게는 상기 고분자 시료를 150 내지 300 ℃에서 100 내지 300 rpm 스크류 속도, 바람직하게는 200 내지 250 ℃에서 150 내지 250 rpm 스크류 속도로 압출 성형하는 것일 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예에 의거하여 더욱 상세하게 설명하겠는 바, 본 발명이 다음 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
TA Instruments사의 레오미터(ARES-G2)를 이용하여 분석 온도 260 ℃, 각 진동수 100 rad/s, 변형률(strain) 5% 조건 하에서 8 시간 동안 A사의 폴리프로필렌 수지의 시간 스윕(Time Sweep) 분석을 진행하여 초기 저장탄성률(0초에서의 저장탄성률)과 초기 저장탄성률 대비 80%가 되는 시간을 측정하고 하기 수학식 2를 이용하여 가공 전후 본성 점도 변화율(%)을 구하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다. 상기 실시예 1에서 측정된 시간에 따른 저장탄성률 그래프는 도 1에 도시하였다.
[수학식 2]
Y=aX+b
(상기 수학식 2에서, Y는 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)이고, X는 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간(초)이고, a는 -0.0104이고, b는 16.332이다.)
실시예 2
프로필렌 수지를 B 사의 프로필렌 수지를 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일하게 초기 저장탄성률, 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 측정하고 가공 전후 본성 점도 변화율(%)을 구하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
실시예 3
프로필렌 수지를 C 사의 프로필렌 수지를 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일하게 초기 저장탄성률, 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 측정하고 가공 전후 본성 점도 변화율(%)을 구하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
실시예 4
프로필렌 수지를 D 사의 프로필렌 수지를 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일하게 초기 저장탄성률, 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 측정하고 가공 전후 본성 점도 변화율(%)을 구하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
구분 초기 저장탄성률
(MPa)		 저장탄성률이 80%가 되는 시간(sec) 저장탄성률을 이용해 계산된 본성 점도 변화율(%)
실시예 1 8040 275 13.47
실시예 2 8855 902 6.95
실시예 3 5556 729 8.75
실시예 4 18519 1143 4.44
실험예 1. 압출 성형 전후 본성 점도 변화율(%)과 상관관계 비교
상기 실시예 1 내지 4에서 저장탄성률 측정에 사용된 각 폴리프로필렌 수지를 이축압출기(Tosoh 사의 HLC-8321GPC/HT)를 이용하여 230 ℃, 200 rpm 하에서 5회 재압출 하였다. Ubbelohde Type의 Auto Viscometer를 이용하여 135 ℃에서 상기 폴리프로필렌 수지의 5회 재압출 전후 본성 점도(IV)를 측정하고 변화율을 계산하였다. 그리고 이를 상기 실시예 1 내지 4에서 예측된 가공 전후 본성 점도의 변화율(%)과 비교하여 하기 표 2에 나타내었다. 또한, 상기 실시예 1 내지 4에서 측정된 저장탄성률이 80%가 되는 시간과 압출 5회 전후 본성 점도 변화율(%)의 선형 관계를 나타낸 그래프를 도 2에 나타내었다.
도 2는 상기 실시예 1 내지 4에서 측정된 저장탄성률이 초기에 비해 80%가 되는 시간에 대한 재압출 5회 전후 본성 점도의 변화율(%)의 그래프를 나타낸 것이다.
구분 저장탄성률이 80%가 되는 시간(sec) 재압출 5회 전후 본성 점도 변화율(%) 저장탄성률을 이용해 계산된 본성 점도 변화율(%)
실시예 1 275 14.12 13.47
실시예 2 902 6.36 6.95
실시예 3 729 7.71 8.75
실시예 4 1143 5.38 4.44
상기 도 2 및 표 2에 나타낸 바와 같이, 상기 실시예 1 내지 4에 의하여 측정된 저장탄성률이 80%가 되는 시간과 재압출 5회 전후 본성 점도를 비교하였을 때 이들의 수치는 선형관계를 가져 이로부터 선형적인 관계를 도출할 수 있음을 확인하였다. 이를 통해 본 발명의 고분자 가공안정성 예측 방법은 고분자를 실제로 가공하지 않더라도, 미리 고분자의 본성 점도 변화율을 예측하여 고분자의 가공성, 예를 들면 고분자의 가공 이후 물성(본성 점도)을 쉽고 간단한 방법으로 파악할 수 있고, 측정 정확도가 매우 높음을 확인하였다.
한편, 산화유도시간을 이용한 고분자의 가공안정성 예측 방법과의 비교를 위하여 TA Instruments 사의 시차주사열량계(DSC) 장비를 이용하여 200 ℃, 질소 분위기 하에서 18.5 분간 유지하여 상기 실시예 1 내지 4에서 사용된 것과 동일한 프로필렌 수지의 산화유도시간을 측정하고 이를 앞서 구한 재압출 5회 전후 본성 점도 변화율(%)과 비교하여 하기 표 3에 나타내었다.
산화유도시간(min) 재압출 5회 전후 본성 점도 변화율(%)
실시예 1 7.8 14.12
실시예 2 7.3 6.36
실시예 3 20 7.71
실시예 4 9.1 5.38
상기 표 3에 나타낸 바와 같이, 고분자 시료의 산화유도시간과 재압출 이후 고분자의 본성 점도 사이의 어떠한 경향성도 찾아볼 수 없었다. 즉, 산화유도시간을 이용한 고분자 가공안정성 예측 방법은 고분자의 가공 중에 고분자에 부여되는 전단응력과 열 모두를 고려할 수 없어 정확한 분석이 불가능함을 확인하였다.

Claims (13)

  1. (ⅰ) 레오미터(rheometer)를 이용하여 고분자 시료의 시간에 따른 저장탄성률을 측정하여 상기 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 도출하는 단계; 및
    (ⅱ) 상기 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 이용하여 상기 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)을 예측하는 단계;를 포함하는 고분자 가공안정성 예측 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 고분자 시료는 호모 폴리프로필렌, 임팩트 폴리프로필렌 또는 에틸렌-프로필렌 고무인 것을 특징으로 하는 고분자 가공안정성 예측 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 고분자 시료의 저장탄성률은 1 내지 10% 변형률(strain) 및 10 내지 300 rad/s 각 진동수 범위에서 측정되는 것을 특징으로 하는 고분자 가공안정성 예측 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 고분자 시료의 저장탄성률은 180 내지 300 ℃에서 측정되는 것을 특징으로 하는 고분자 가공안정성 예측 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)은 하기 수학식 2에 의해 예측되는 것을 특징으로 하는 고분자 가공안정성 예측 방법.
    [수학식 2]
    Y=aX+b
    (상기 수학식 2에서, Y는 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)이고, X는 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간(초)이고, a는 -0.02 내지 -0.005의 실수이고, b는 14 내지 18의 실수이다.)
  6. 제1항에 있어서, 상기 고분자 시료의 가공은 압출 성형인 것을 특징으로 하는 고분자 가공안정성 예측 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 고분자 시료는 임팩트 폴리프로필렌이고,
    상기 고분자 시료의 저장탄성률은 230 내지 280 ℃, 3 내지 8% 변형률(strain) 및 50 내지 150 rad/s 각 진동수 범위에서 측정되는 것이고,
    상기 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)은 하기 수학식 2에 의해 예측되는 것이고,
    상기 고분자 시료의 가공은 200 내지 250 ℃에서 150 내지 250 rpm 스크류 속도로 압출 성형하는 것을 특징으로 하는 고분자 가공안정성 예측 방법.
    [수학식 2]
    Y=aX+b
    (상기 수학식 2에서, Y는 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)이고, X는 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간(초)이고, a는 -0.02 내지 -0.005의 실수이고, b는 14 내지 18의 실수이다.)
  8. 레오미터(rheometer)를 이용하여 고분자 시료의 시간에 따른 저장탄성률을 측정하여 상기 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 도출하는 측정부; 및
    상기 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간을 이용하여 상기 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)을 예측하는 연산부;를 포함하는 고분자 가공안정성 예측 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 고분자 시료는 호모 폴리프로필렌, 임팩트 폴리프로필렌 또는 에틸렌-프로필렌 고무인 것을 특징으로 하는 고분자 가공안정성 예측 장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 고분자 시료의 저장탄성률은 1 내지 10% 변형률(strain) 및 10 내지 300 rad/s 각 진동수 범위에서 측정되는 것을 특징으로 하는 고분자 가공안정성 예측 장치.
  11. 제8항에 있어서, 상기 고분자 시료의 저장탄성률은 180 내지 300 ℃에서 측정되는 것을 특징으로 하는 고분자 가공안정성 예측 장치.
  12. 제8항에 있어서, 상기 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)은 하기 수학식 2에 의해 예측되는 것을 특징으로 하는 고분자 가공안정성 예측 장치.
    [수학식 2]
    Y=aX+b
    (상기 수학식 2에서, Y는 고분자 시료의 가공 전후 본성 점도 변화율(%)이고, X는 고분자 시료의 저장탄성률이 초기 저장탄성률의 80%가 되는 시간(초)이고, a는 -0.02 내지 -0.005의 실수이고, b는 14 내지 18의 실수이다.)
  13. 제8항에 있어서, 상기 고분자 시료의 가공은 압출 성형인 것을 특징으로 하는 고분자 가공안정성 예측 장치.
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