KR20230143285A - 스택 공정 기반의 3차원 플래시 메모리의 제조 방법 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 82
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 125
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 67
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 22
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 11
- 102100030851 Cortistatin Human genes 0.000 description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- 101100058970 Arabidopsis thaliana CALS11 gene Proteins 0.000 description 5
- 101100341076 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) IPK1 gene Proteins 0.000 description 5
- 101100058964 Arabidopsis thaliana CALS5 gene Proteins 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005689 Fowler Nordheim tunneling Effects 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 102100025961 Glutaminase liver isoform, mitochondrial Human genes 0.000 description 1
- 101000856993 Homo sapiens Glutaminase liver isoform, mitochondrial Proteins 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007667 ZnOx Inorganic materials 0.000 description 1
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- -1 etc.) Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002784 hot electron Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000026676 system process Effects 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B43/00—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators
- H10B43/30—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the memory core region
- H10B43/35—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the memory core region with cell select transistors, e.g. NAND
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B43/00—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators
- H10B43/10—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the top-view layout
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B43/00—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators
- H10B43/20—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels
- H10B43/23—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels with source and drain on different levels, e.g. with sloping channels
- H10B43/27—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels with source and drain on different levels, e.g. with sloping channels the channels comprising vertical portions, e.g. U-shaped channels
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Abstract
스택 공정 기반의 3차원 플래시 메모리의 제조 방법이 개시된다. 일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 게이트 전극들을 각각 포함하는 스택 구조체들을 준비하는 단계; 상기 스택 구조체들 중 적어도 하나의 스택 구조체에 채널 홀들 및 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 형성하는 단계; 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상부에 나머지 스택 구조체를 적층하는 단계; 상기 나머지 스택 구조체에 채널 홀들을 형성하는 동시에 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상기 캡핑막을 제거하는 단계; 및 상기 적어도 하나의 스택 구조체 및 상기 나머지 스택 구조체가 적층된 반도체 구조체의 채널 홀들에 각각 수직 채널 구조체들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
Description
아래의 실시예들은 3차원 플래시 메모리 및 그 제조 방법에 관한 기술로, 보다 상세하게는, 스택 공정 기반의 제조 기술에 대한 것이다.
플래시 메모리 소자는 F-N 터널링(Fowler-Nordheimtunneling) 또는 열전자 주입(Hot electron injection)에 의해 전기적으로 데이터의 입출력을 제어하여 전기적으로 프로그램 및 소거가 가능한 판독 전용 메모리(Electrically Erasable Programmable Read Only Memory; EEPROM)로서, 컴퓨터, 디지털 카메라, MP3 플레이어, 게임 시스템, 메모리 스틱(Memory stick) 등에 공통적으로 이용될 수 있다.
이러한 플래시 메모리 소자에서는 소비자가 요구하는 우수한 성능 및 저렴한 가격을 충족시키기 위해 집적도를 증가시키는 것이 요구된 바, 메모리 셀 트랜지스터들이 수직 방향으로 배열되어 셀 스트링을 구성하는 3차원 구조가 제안되었다.
이와 같은 3차원 구조의 플래시 메모리를 제조하기 위해서는, 스택 구조체들을 수직 방향을 따라 적층하는 스택 공정이 이용된다.
일례로, 기존의 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위한 도 1a 내지 1e를 참조하면, 제조 시스템은 도 1a에 도시된 바와 같이 제1 스택 구조체(SS1)에 채널 홀(CH)을 형성하고 도 1b에 도시된 바와 같이 채널 홀(CH) 내에 필링막(F)을 생성하며, 도 1c에 도시된 바와 같이 제1 스택 구조체(SS1)의 상부에 필링막(F)을 포함하는 제2 스택 구조체(SS2)을 적층하고 도 1d에 도시된 바와 같이 제2 스택 구조체(SS2)의 상부에 제3 스택 구조체(SS3)를 적층하며 제3 스택 구조체(SS3)에 채널 홀(CH)을 형성한 뒤, 도 1e에 도시된 바와 같이 제3 스택 구조체(SS3)의 채널 홀(CH)을 통해 제1 스택 구조체(SS1)의 필링막(F)과 제2 스택 구조체(SS2)의 필링막(F)을 제거함으로써, 스택 구조체들(SS1, SS2, SS3)이 적층된 반도체 구조체(SEMI-STR)에 채널 홀(CH)의 형성을 완료할 수 있다. 이에, 별도의 도면으로 도시되지는 않았으나, 제조 시스템은 반도체 구조체(SEMI-STSR)의 채널 홀(CH) 내에 수직 채널 구조체(VS)를 형성함으로써, 3차원 플래시 메모리를 제조할 수 있다.
그러나 수직 방향을 따라 적층되는 스택 구조체들(SSs)의 개수가 늘어날 경우, 상부에 위치하는 스택 구조체의 채널 홀(CH)을 통해 하부에 위치하는 스택 구조체들 각각의 필링막(F)을 일괄적으로 제거하는 공정의 난이도가 높아지는 단점이 발생된다.
따라서, 기존의 3차원 플래시 메모리의 제조 방법이 갖는 단점을 해결하기 위한 기술이 제안될 필요가 있다.
일 실시예들은 상부에 위치하는 스택 구조체의 채널 홀(CH)을 통해 하부에 위치하는 스택 구조체들 각각의 필링막(F)을 일괄적으로 제거하는 공정의 난이도가 높아지는 단점을 해결하고자, 채널 홀의 평면 상 크기보다 작은 크기로 형성되는 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 이용하는 제조 방법을 제안한다.
또한, 일 실시예들은 채널 홀의 평면 상 크기보다 작은 크기로 형성되는 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 이용함으로써, 스택 구조체들 각각의 수직 채널 구조체들의 식각 프로파일(Profile)을 균일하게 유지되도록 스택 구조체들 각각의 수직 채널 구조체들을 서로 연결시키는 제조 방법을 제안한다.
다만, 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제들은 상기 과제로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 게이트 전극들을 각각 포함하는 스택 구조체들을 준비하는 단계; 상기 스택 구조체들 중 적어도 하나의 스택 구조체에 채널 홀들 및 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 형성하는 단계; 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상부에 나머지 스택 구조체를 적층하는 단계; 상기 나머지 스택 구조체에 채널 홀들을 형성하는 동시에 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상기 캡핑막을 제거하는 단계; 및 상기 적어도 하나의 스택 구조체 및 상기 나머지 스택 구조체가 적층된 반도체 구조체의 채널 홀들에 각각 수직 채널 구조체들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 측면에 따르면, 상기 캡핑막은, 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기로 상기 캡핑층에 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.
다른 일 측면에 따르면, 상기 적어도 하나의 스택 구조체에 채널 홀들 및 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 형성하는 단계는, 상기 적어도 하나의 스택 구조체에 상기 채널 홀들을 형성하는 단계; 상기 채널 홀들에 필링막을 형성하는 단계; 상기 필링막이 형성된 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상부에 캡핑층을 형성하는 단계; 상기 캡핑층 중 일부 영역-상기 일부 영역은 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 가짐-을 식각하는 단계; 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간을 통해 상기 필링막을 제거하는 단계; 및 상기 캡핑막이 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖도록 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간에 캡핑막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또 다른 일 측면에 따르면, 상기 캡핑층 중 일부 영역을 식각하는 단계는, 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간이 네거티브 프로파일(Negative profile), 포지티브 프로파일(Positive profile) 또는 균일한 프로파일을 갖도록 상기 일부 영역을 식각하는 단계인 것을 특징으로 할 수 있다.
또 다른 일 측면에 따르면, 상기 필링막을 형성하는 단계는, 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖는 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간을 통해 제거 가능한 물질로 상기 필링막을 형성하는 단계인 것을 특징으로 할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 희생층들을 각각 포함하는 스택 구조체들을 준비하는 단계; 상기 스택 구조체들 중 적어도 하나의 스택 구조체에 채널 홀들 및 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 형성하는 단계; 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상부에 나머지 스택 구조체를 적층하는 단계; 상기 나머지 스택 구조체에 채널 홀들을 형성하는 동시에 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상기 캡핑막을 제거하는 단계; 상기 적어도 하나의 스택 구조체 및 상기 나머지 스택 구조체가 적층된 반도체 구조체에서 상기 희생층들을 제거하는 단계; 상기 희생층들이 제거된 공간들에 게이트 전극들을 형성하는 단계; 및 상기 반도체 구조체의 채널 홀들에 각각 수직 채널 구조체들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 측면에 따르면, 상기 캡핑막은, 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기로 상기 캡핑층에 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.
다른 일 측면에 따르면, 상기 적어도 하나의 스택 구조체에 채널 홀들 및 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 형성하는 단계는, 상기 적어도 하나의 스택 구조체에 상기 채널 홀들을 형성하는 단계; 상기 채널 홀들에 필링막을 형성하는 단계; 상기 필링막이 형성된 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상부에 캡핑층을 형성하는 단계; 상기 캡핑층 중 일부 영역-상기 일부 영역은 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 가짐-을 식각하는 단계; 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간을 통해 상기 필링막을 제거하는 단계; 및 상기 캡핑막이 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖도록 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간에 캡핑막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또 다른 일 측면에 따르면, 상기 캡핑층 중 일부 영역을 식각하는 단계는, 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간이 네거티브 프로파일(Negative profile), 포지티브 프로파일(Positive profile) 또는 균일한 프로파일을 갖도록 상기 일부 영역을 식각하는 단계인 것을 특징으로 할 수 있다.
또 다른 일 측면에 따르면, 상기 필링막을 형성하는 단계는, 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖는 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간을 통해 제거 가능한 물질로 상기 필링막을 형성하는 단계인 것을 특징으로 할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리는, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 게이트 전극들과, 상기 층간 절연막들 및 상기 게이트 전극들을 관통하며 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 수직 채널 구조체들을 각각 포함하는 스택 구조체들-상기 스택 구조체들은 상기 수직 방향으로 적층됨-; 및 상기 스택 구조체들의 사이에 배치된 채, 상기 스택 구조체들 각각의 수직 채널 구조체들의 식각 프로파일(Profile)이 균일하게 유지되도록 상기 스택 구조체들 각각의 수직 채널 구조체들을 서로 연결시키는 캡핑층을 포함할 수 있다.
일 측면에 따르면, 상기 캡핑층은, 상기 스택 구조체들 각각에 포함되는 채널 홀들 각각이 평면 상 갖는 크기보다 작은 크기를 갖는 캡핑막을 포함한 채, 상기 캡핑막이 상기 채널 홀들의 식각 과정에서 제거되어 상기 채널 홀들을 서로 연결시킴으로써, 상기 수직 채널 구조체들의 식각 프로파일을 균일하게 유지하며 상기 수직 채널 구조체들을 서로 연결시키는 것을 특징으로 할 수 있다.
일 실시예들은 채널 홀의 평면 상 크기보다 작은 크기로 형성되는 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 이용하는 제조 방법을 제안함으로써, 하부에 위치하는 스택 구조체들 각각의 필링막(F)을 일괄적으로 제거하는 공정을 생략하는 기술적 효과를 달성할 수 있다.
또한, 일 실시예들은 채널 홀의 평면 상 크기보다 작은 크기로 형성되는 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 이용함으로써, 스택 구조체들 각각의 수직 채널 구조체들의 식각 프로파일(Profile)을 균일하게 유지되도록 스택 구조체들 각각의 수직 채널 구조체들을 서로 연결시키는 제조 방법을 제안할 수 있다.
따라서, 일 실시예들을 통해서는, 스택 구조체들 각각의 수직 채널 구조체들을 서로 연결됨에 따라, 3차원 플래시 메모리의 신뢰성 및 성능이 향상되는 기술적 효과가 기대될 수 있다.
다만, 본 발명의 효과는 상기 효과들로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있다.
도 1a 내지 1e는 기존의 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위해 기존의 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도이다.
도 2는 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 어레이를 도시한 간략 회로도이다.
도 3은 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 평면도이다.
도 4는 도 3에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 3을 A-A'선으로 자른 단면에 해당된다.
도 5는 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 게이트 퍼스트 방식을 적용한 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.
도 6a 내지 6j는 도 5에 도시된 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위해 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도이다.
도 7은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 워드 라인 리플레이스먼트 방식을 적용한 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.
도 8a 내지 8l은 도 7에 도시된 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위해 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도이다.
도 2는 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 어레이를 도시한 간략 회로도이다.
도 3은 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 평면도이다.
도 4는 도 3에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 3을 A-A'선으로 자른 단면에 해당된다.
도 5는 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 게이트 퍼스트 방식을 적용한 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.
도 6a 내지 6j는 도 5에 도시된 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위해 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도이다.
도 7은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 워드 라인 리플레이스먼트 방식을 적용한 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.
도 8a 내지 8l은 도 7에 도시된 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위해 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.
또한, 본 명세서에서 사용되는 용어(Terminology)들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 시청자, 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다. 예컨대, 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 또한, 본 명세서에서 제1, 제2 등의 용어가 다양한 영역, 방향, 형상 등을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 영역, 방향, 형상이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이들 용어들은 단지 어느 소정 영역, 방향 또는 형상을 다른 영역, 방향 또는 형상과 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 따라서, 어느 한 실시예에서 제1 부분으로 언급된 부분이 다른 실시예에서는 제2 부분으로 언급될 수도 있다.
또한, 본 발명의 다양한 실시 예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시 예로 구현될 수 있다. 또한, 제시된 각각의 실시예 범주에서 개별 구성요소의 위치, 배치, 또는 구성은 본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다.
이하, 도면들을 참조하여 실시예들에 따른 3차원 플래시 메모리 및 이의 제조 방법에 대하여 상세히 설명한다.
도 2는 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 어레이를 도시한 간략 회로도이다.
도 2를 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 어레이는 공통 소스 라인(CSL), 복수의 비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 및 공통 소스 라인(CSL)과 비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 사이에 배치되는 복수의 셀 스트링들(CSTR)을 포함할 수 있다.
비트 라인들(BL0, BL1, BL2)은 제2 방향(D2)으로 연장 형성된 채 제1 방향(D1)을 따라 서로 이격되며 2차원적으로 배열될 수 있다. 여기서, 제1 방향(D1), 제2 방향(D2) 및 제3 방향(D3) 각각은 서로 직교하며 X, Y, Z축으로 정의되는 직각 좌표계를 형성할 수 있다.
비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 각각에는 복수의 셀 스트링들(CSTR)이 병렬로 연결될 수 있다. 셀 스트링들(CSTR)은 비트 라인들(BL0, BL1, BL2)과 하나의 공통 소스 라인(CSL) 사이에 제공된 채 공통 소스 라인(CSL)에 공통으로 연결될 수 있다. 이 때, 공통 소스 라인(CSL)은 복수 개로 제공될 수 있으며, 복수의 공통 소스 라인들(CSL)은 제1 방향(D1)으로 연장 형성된 채 제2 방향(D2)을 따라 서로 이격되며 2차원적으로 배열될 수 있다. 복수의 공통 소스 라인들(CSL)에는 전기적으로 동일한 전압이 인가될 수 있으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 복수의 공통 소스 라인들(CSL) 각각이 전기적으로 독립적으로 제어됨으로써 서로 다른 전압이 인가될 수도 있다.
셀 스트링들(CSTR)은 제3 방향(D3)으로 연장 형성된 채 비트 라인별로 제2 방향(D2)을 따라 서로 이격되며 배열될 수 있다. 실시예에 따르면, 셀 스트링들(CSTR) 각각은 공통 소스 라인(CSL)에 접속하는 접지 선택 트랜지스터(GST), 비트 라인들(BL0, BL1, BL2)에 접속하며 직렬 연결된 제1 및 제2 스트링 선택 트랜지스터들(SST1, SST2), 접지 선택 트랜지스터(GST)와 제1 및 제2 스트링 선택 트랜지스터들(SST1, SST2) 사이에 배치된 채 직렬 연결된 메모리 셀 트랜지스터들(MCT) 및 소거 제어 트랜지스터(ECT)로 구성될 수 있다. 또한, 메모리 셀 트랜지스터들(MCT) 각각은 데이터 저장 요소(Data storage element)를 포함할 수 있다.
일 예로, 각각의 셀 스트링들(CSTR)은 직렬 연결된 제1 및 제2 스트링 선택 트랜지스터들(SST1, SST2)을 포함할 수 있으며, 제2 스트링 선택 트랜지스터(SST2)는 비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 중 하나에 접속될 수 있다. 그러나 이에 제한되거나 한정되지 않고, 각각의 셀 스트링들(CSTR)은 하나의 스트링 선택 트랜지스터를 포함할 수도 있다. 다른 예로, 각각의 셀 스트링들(CSTR)에서 접지 선택 트랜지스터(GST)는, 제1 및 제2 스트링 선택 트랜지스터들(SST1, SST2)와 유사하게, 직렬 연결된 복수 개의 모스 트랜지스터들로 구성될 수도 있다.
하나의 셀 스트링(CSTR)은 공통 소스 라인들(CSL)로부터의 거리가 서로 다른 복수 개의 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)로 구성될 수 있다. 즉, 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)은 제1 스트링 선택 트랜지스터(SST1)와 접지 선택 트랜지스터(GST) 사이에서 제3 방향(D3)을 따라 배치된 채 직렬 연결될 수 있다. 소거 제어 트랜지스터(ECT)는 접지 선택 트랜지스터(GST)와 공통 소스 라인들(CSL) 사이에 연결될 수 있다. 셀 스트링들(CSTR) 각각은 제1 스트링 선택 트랜지스터(SST1)와 메모리 셀 트랜지스터들(MCT) 중 최상위의 것 사이 및 접지 선택 트랜지스터(GST)와 메모리 셀 트랜지스터들(MCT) 중 최하위의 것 사이에 각각 연결된 더미 셀 트랜지스터들(DMC)을 더 포함할 수 있다.
실시예에 따르면, 제1 스트링 선택 트랜지스터(SST1)는 제1 스트링 선택 라인들(SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3)에 의해 제어될 수 있으며, 제2 스트링 선택 트랜지스터(SST2)는 제2 스트링 선택 라인들(SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3)에 의해 제어될 수 있다. 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)은 복수의 워드 라인들(WL0-WLn)에 의해 각각 제어될 수 있으며, 더미 셀 트랜지스터들(DMC)은 더미 워드 라인(DWL)에 의해 각각 제어될 수 있다. 접지 선택 트랜지스터(GST)는 접지 선택 라인들(GSL0, GSL1, GSL2)에 의해 제어될 수 있으며, 소거 제어 트랜지스터(ECT)는 소거 제어 라인(ECL)에 의해 제어될 수 있다. 소거 제어 트랜지스터(ECT)는 복수 개로 제공될 수 있다. 공통 소스 라인들(CSL)은 소거 제어 트랜지스터들(ECT)의 소스들에 공통으로 연결될 수 있다.
공통 소스 라인들(CSL)로부터 실질적으로 동일한 거리에 제공되는, 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)의 게이트 전극들은 워드 라인들(WL0-WLn, DWL) 중의 하나에 공통으로 연결되어 등전위 상태에 있을 수 있다. 그러나 이에 제한되거나 한정되지 않고, 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)의 게이트 전극들이 공통 소스 라인들(CSL)로부터 실질적으로 동일한 레벨에 제공되더라도, 서로 다른 행 또는 열에 제공되는 게이트 전극들이 독립적으로 제어될 수도 있다.
접지 선택 라인들(GSL0, GSL1, GSL2), 제1 스트링 선택 라인들(SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3) 및 제2 스트링 선택 라인들(SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3)은 제1 방향(D1)을 따라 연장되며, 제2 방향(D2)으로 서로 이격되며 2차원적으로 배열될 수 있다. 공통 소스라인들(CSL)로부터 실질적으로 동일한 레벨에 제공되는 접지 선택 라인들(GSL0, GSL1, GSL2), 제1 스트링 선택 라인들(SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3) 및 제2 스트링 선택 라인들(SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3)은 전기적으로 서로 분리될 수 있다. 또한, 서로 다른 셀 스트링들(CSTR)의 소거 제어 트랜지스터들(ECT)은 공통의 소거 제어 라인(ECL)에 의해 제어될 수 있다. 소거 제어 트랜지스터들(ECT)은 메모리 셀 어레이의 소거 동작 시 게이트 유도 드레인 누설(Gate Induced Drain Leakage; 이하 GIDL)을 발생시킬 수 있다. 일부 실시예들에서, 메모리 셀 어레이의 소거 동작시 비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 및/또는 공통 소스 라인들(CSL)에 소거 전압이 인가될 수 있으며, 스트링 선택 트랜지스터(SST) 및/또는 소거 제어 트랜지스터들(ECT)에서 게이트 유도 누설 전류가 발생될 수 있다.
이상 설명된 스트링 선택 라인(SSL)은 상부 선택 라인(USL)으로 표현될 수 있으며, 접지 선택 라인(GSL)은 하부 선택 라인으로 표현될 수도 있다.
도 3은 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 평면도이고, 도 4는 도 3에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 3을 A-A'선으로 자른 단면에 해당된다.
도 3 내지 도 4를 참조하면, 기판(SUB)은 실리콘 기판, 실리콘-게르마늄 기판, 게르마늄 기판 또는 단결정(Monocrystalline) 실리콘 기판에 성장된 단결정 에피택시얼 층(Epitaxial layer) 등의 반도체 기판일 수 있다. 기판(SUB)에는 제1 도전형 불순물(예컨대, P형의 불순물)이 도핑될 수 있다.
기판(SUB) 상에는 적층 구조체들(ST)이 배치될 수 있다. 적층 구조체들(ST)은 제1 방향(D1)으로 연장 형성된 채 제2 방향(D2)을 따라 2차원적으로 배치될 수 있다. 또한, 적층 구조체들(ST)은 제2 방향(D2)으로 서로 이격될 수 있다.
적층 구조체들(ST) 각각은 기판(SUB)의 상면에 수직한 수직 방향(예컨대 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3), 층간 절연막들(ILD)을 포함할 수 있다. 적층 구조체들(ST)은 실질적으로 평탄한 상면을 가질 수 있다. 즉, 적층 구조체들(ST)의 상면은 기판(SUB)의 상면과 평행할 수 있다. 이하, 수직 방향은 제3 방향(D3) 또는 제3 방향(D3)의 역방향을 의미한다.
다시 도 2를 참조하면, 각각의 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3)은 기판(SUB) 상에 차례로 적층된 소거 제어 라인(ECL), 접지 선택 라인들(GSL0, GSL1, GSL2), 워드 라인들(WL0-WLn, DWL), 제1 스트링 선택 라인들(SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3) 및 제2 스트링 선택 라인들(SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3) 중 하나일 수 있다.
게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 각각은 제1 방향(D1)으로 연장 형성된 채 실질적으로 동일한 제3 방향(D3)으로의 두께를 가질 수 있다. 이하에서, 두께는 제3 방향(D3)으로의 두께를 의미한다. 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 각각은, 도전성 물질로 형성될 수 있다. 예컨대, 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 각각은 도핑된 반도체(ex, 도핑된 실리콘 등), 금속(ex, W(텅스텐), Cu(구리), Al(알루미늄), Ti(티타늄), Ta(탄탈륨), Mo(몰리브덴), Ru(루테늄), Au(금) 등) 또는 도전성 금속질화물(ex, 질화티타늄, 질화탄탈늄 등) 등에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 각각은 설명된 금속 물질 이외에도 ALD로 형성 가능한 모든 금속 물질 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
보다 구체적으로, 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3)은 최하부의 제1 게이트 전극(EL1), 최상부의 제3 게이트 전극(EL3) 및 제1 게이트 전극(EL1)과 제3 게이트 전극(EL3) 사이의 복수의 제2 게이트 전극들(EL2)을 포함할 수 있다. 제1 게이트 전극(EL1) 및 제3 게이트 전극(EL3)은 각각 단수로 도시 및 설명되었으나, 이는 예시적인 것으로 이에 제한되지 않으며, 필요에 따라 제1 게이트 전극(EL1) 및 제3 게이트 전극(EL3)은 복수로 제공될 수도 있다. 제1 게이트 전극(EL1)은 도 2에 도시된 접지 선택 라인들(GSL0, GSL1, GLS2) 중 어느 하나에 해당될 수 있다. 제2 게이트 전극(EL2)은 도 2에 도시된 워드 라인들(WL0-WLn, DWL) 중 어느 하나에 해당될 수 있다. 제3 게이트 전극(EL3)은 도 2에 도시된 제1 스트링 선택 라인들(SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3) 중 어느 하나 또는 제2 스트링 선택 라인들(SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3) 중 어느 하나에 해당될 수 있다.
도시되지 않았으나, 적층 구조체들(ST) 각각의 단부는 제1 방향(D1)을 따라 계단 구조(Stepwise structure)를 가질 수 있다. 보다 구체적으로, 적층 구조체들(ST)의 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3)은 기판(SUB)으로부터 멀어질수록 제1 방향(D1)으로의 길이가 감소할 수 있다. 제3 게이트 전극(EL3)은 제1 방향(D1)으로의 길이가 가장 작을 수 있고, 기판(SUB)과 제3 방향(D3)으로 이격되는 거리가 가장 클 수 있다. 제1 게이트 전극(EL1)은 제1 방향(D1)으로의 길이가 가장 클 수 있고, 기판(SUB)과 제3 방향(D3)으로 이격되는 거리가 가장 작을 수 있다. 계단식 구조에 의해, 적층 구조체들(ST) 각각은 후술하는 수직 채널 구조체들(VS) 중 최외각의 것(Outer-most one)으로부터 멀어질수록 두께가 감소할 수 있고, 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3)의 측벽들은, 평면적 관점에서, 제1 방향(D1)을 따라 일정 간격으로 이격될 수 있다.
층간 절연막들(ILD) 각각은 서로 다른 두께를 가질 수 있다. 일 예로, 층간 절연막들(ILD) 중 최하부의 것 및 최상부의 것은 다른 층간 절연막들(ILD)보다 작은 두께를 가질 수 있다. 다만, 이는 예시적인 것으로 이에 제한되지 않으며, 층간 절연막들(ILD) 각각의 두께는 반도체 장치의 특성에 따라 서로 다른 두께를 갖거나, 모두 동일하게 설정될 수도 있다. 층간 절연막들(ILD)으로는 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 사이의 절연을 위해 절연 물질로 형성될 수 있다. 일 예로, 층간 절연막들(ILD)은 실리콘 산화물로 형성될 수 있다.
적층 구조체들(ST) 및 기판(SUB)의 일부를 관통하는 복수 개의 채널 홀들(CH)이 제공될 수 있다. 채널 홀들(CH) 내에는 수직 채널 구조체들(VS)이 제공될 수 있다. 수직 채널 구조체들(VS)은 도 2에 도시된 복수의 셀 스트링들(CSTR)로서, 기판(SUB)과 연결된 채 제3 방향(D3)으로 연장 형성될 수 있다. 수직 채널 구조체들(VS)이 기판(SUB)과 연결되는 것은, 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 일부가 하면이 기판(SUB)의 상면과 맞닿음으로써 이루어질 수 있으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 기판(SUB) 내부에 매립되어 이루어질 수도 있다. 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 일부가 기판(SUB) 내부에 매립되는 경우, 수직 채널 구조체들(VS)의 하면은 기판(SUB)의 상면보다 낮은 레벨에 위치할 수 있다.
적층 구조체들(ST) 중 어느 하나를 관통하는 수직 채널 구조체들(VS)의 열들은 복수로 제공될 수 있다. 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 3개의 수직 채널 구조체들(VS)의 열들이 적층 구조체들(ST) 중 하나를 관통할 수 있다. 그러나 이에 제한되거나 한정되지 않고, 2개의 수직 채널 구조체들(VS)의 열들이 적층 구조체들(ST) 중 하나를 관통하거나, 4개 이상의 수직 채널 구조체들(VS)의 열들이 적층 구조체들(ST) 중 하나를 관통할 수 있다. 인접한 한 쌍의 열들에 있어서, 하나의 열에 해당하는 수직 채널 구조체들(VS)은 이에 인접한 다른 하나의 열에 해당하는 수직 채널 구조체들(VS)로부터 제1 방향(D1)으로 시프트(shift)될 수 있다. 평면적 관점에서, 수직 채널 구조체들(VS)은 제1 방향(D1)을 따라서 지그재그 형태로 배열될 수 있다. 그러나 이에 제한되거나 한정되지 않고, 수직 채널 구조체들(VS)은 로우(Row) 및 컬럼(Column)으로 나란히 배치되는 배열을 형성할 수도 있다.
수직 채널 구조체들(VS) 각각은 기판(SUB)으로부터 제3 방향(D3)으로 연장 형성될 수 있다. 도면에는 수직 채널 구조체들(VS) 각각이 상단과 하단의 너비가 동일한 기둥 형상을 갖는 것으로 도시되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 제3 방향(D3)으로 갈수록 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)으로의 폭이 증가되는 형상을 가질 수 있다. 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 상면은 원 형상, 타원 형상, 사각 형상 또는 바(Bar) 형상을 가질 수 있다.
수직 채널 구조체들(VS) 각각은 데이터 저장 패턴(DSP), 수직 채널 패턴(VCP), 수직 반도체 패턴(VSP) 및 도전 패드(PAD)를 포함할 수 있다. 수직 채널 구조체들(VS) 각각에서 데이터 저장 패턴(DSP)은 하단이 오픈된(Opened) 파이프 형태 또는 마카로니 형태를 가질 수 있고, 수직 채널 패턴(VCP)은 하단이 닫힌(Closed) 파이프 형태 또는 마카로니 형태를 가질 수 있다. 수직 반도체 패턴(VSP)은 수직 채널 패턴(VCP) 및 도전 패드(PAD)로 둘러싸인 공간을 채울 수 있다.
데이터 저장 패턴(DSP)은 채널 홀들(CH) 각각의 내측벽을 덮은 채, 내측으로는 수직 채널 패턴(VCP)의 외측벽을 둘러싸며 외측으로는 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3)의 측벽들과 접촉할 수 있다. 이에, 데이터 저장 패턴(DSP) 중 제2 게이트 전극들(EL2)에 대응하는 영역들은 수직 채널 패턴(VCP) 중 제2 게이트 전극들(EL2)에 대응하는 영역들과 함께, 제2 게이트 전극들(EL2)을 통해 인가되는 전압에 의해 메모리 동작(프로그램 동작, 판독 동작 또는 소거 동작)이 수행되는 메모리 셀들을 구성할 수 있다. 메모리 셀들은 도 2에 도시된 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)에 해당된다. 즉, 데이터 저장 패턴(DSP)은 제2 게이트 전극들(EL2)을 통해 인가되는 전압에 의한 전하 또는 홀을 트랩하거나, 전하들의 상태(예컨대, 전하들의 분극 상태)를 유지함으로써 3차원 플래시 메모리에서 데이터 저장소의 역할을 할 수 있다. 예를 들어, 데이터 저장 패턴(DSP)으로는 ONO(터널 산화막(Oxide)-전하 저장막(Nitride)-블로킹 산화막(Oxide))층 또는 강유전체층이 사용될 수 있다. 이와 같은 데이터 저장 패턴(DSP)은 트랩된 전하 또는 홀의 변화로 이진 데이터 값 또는 다치화된 데이터 값을 나타내거나, 전하들의 상태 변화로 이진 데이터 값 또는 다치화된 데이터 값을 나타낼 수 있다.
수직 채널 패턴(VCP)은 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽을 덮을 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)은 제1 부분(VCP1) 및 제1 부분(VCP1) 상의 제2 부분(VCP2)을 포함할 수 있다.
수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)은 채널 홀들(CH) 각각의 하부에 제공될 수 있고, 기판(SUB)과 접촉할 수 있다. 이러한 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)은 수직 채널 구조체들(VS) 각각에서의 누설 전류를 차단, 억제 또는 최소화하는 용도 및/또는 에피택시얼 패턴의 용도로 사용될 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 두께는, 예를 들어, 제1 게이트 전극(EL1)의 두께보다 클 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 측벽은 데이터 저장 패턴(DSP)으로 둘러싸일 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 상면은 제1 게이트 전극(EL1)의 상면보다 높은 레벨에 위치할 수 있다. 보다 구체적으로, 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 상면은 제1 게이트 전극(EL1)의 상면과 제2 게이트 전극들(EL2) 중 최하부의 것의 하면 사이에 위치할 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 하면은 기판(SUB)의 최상면(즉, 층간 절연막들(ILD) 중 최하부의 것의 하면)보다 낮은 레벨에 위치할 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 일부는 제1 게이트 전극(EL1)과 수평 방향으로 중첩될 수 있다. 이하에서, 수평 방향은 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)과 나란한 평면 상에서 연장되는 임의의 방향을 의미한다.
수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)은 제1 부분(VCP1)의 상면으로부터 제3 방향(D3)으로 연장될 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)은 데이터 저장 패턴(DSP)과 수직 반도체 패턴(VSP) 사이에 제공될 수 있으며, 제2 게이트 전극들(EL2)에 대응될 수 있다. 이에, 수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)은 전술된 바와 같이 데이터 저장 패턴(DSP) 중 제2 게이트 전극들(EL2)에 대응하는 영역들과 함께, 메모리 셀들을 구성할 수 있다.
수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)의 상면은 수직 반도체 패턴(VSP)의 상면과 실질적으로 공면을 이룰 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)의 상면은 제2 게이트 전극들(EL2) 중 최상부의 것의 상면보다 높은 레벨에 위치할 수 있다. 보다 구체적으로, 수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)의 상면은 제3 게이트 전극(EL3)의 상면과 하면 사이에 위치할 수 있다.
수직 채널 패턴(VCP)은 데이터 저장 패턴(DSP)으로 전하 또는 홀을 전달하는 구성요소로서, 인가되는 전압에 의해 채널을 형성하거나 부스팅되도록 단결정질의 실리콘 또는 폴리 실리콘으로 형성될 수 있다. 그러나 이에 제한되거나 한정되지 않고 수직 채널 패턴(VCP)은 누설 전류를 차단, 억제 또는 최소화할 수 있는 산화물 반도체 물질로 형성될 수 있다. 예컨대, 수직 채널 패턴(VCP)은 누설 전류 특성이 우수한 In, Zn 또는 Ga 중 적어도 어느 하나를 포함하는 산화물 반도체 물질 또는 4족 반도체 물질 등으로 형성될 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)은, 예를 들어, AZO, ZTO, IZO, ITO, IGZO 또는 Ag-ZnO 등을 포함하는 ZnOx 계열의 물질로 형성될 수 있다. 따라서, 수직 채널 패턴(VCP)은 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 또는 기판(SUB)으로의 누설 전류를 차단, 억제 또는 최소화할 수 있고, 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 중 적어도 어느 하나의 트랜지스터 특성(예를 들어, 문턱 전압 산포 및 프로그램/판독 동작의 속도)을 개선할 수 있어, 결과적으로 3차원 플래시 메모리의 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.
수직 반도체 패턴(VSP)은 수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)으로 둘러싸일 수 있다. 수직 반도체 패턴(VSP)의 상면은 도전 패드(PAD)와 접촉할 수 있고, 수직 반도체 패턴(VSP)의 하면은 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)과 접촉할 수 있다. 수직 반도체 패턴(VSP)은 기판(SUB)과 제3 방향(D3)으로 이격될 수 있다. 다시 말하면, 수직 반도체 패턴(VSP)은 기판(SUB)으로부터 전기적으로 플로팅될 수 있다.
수직 반도체 패턴(VSP)은 수직 채널 패턴(VCP)에서의 전하 또는 홀의 확산을 돕는 물질로 형성될 수 있다. 보다 상세하게, 수직 반도체 패턴(VSP)은 전하, 홀 이동도(Hole mobility)가 우수한 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 수직 반도체 패턴(VSP)은 불순물이 도핑된 반도체 물질, 불순물이 도핑되지 않은 상태의 진성 반도체(Intrinsic semiconductor) 물질 또는 다결정(Polycrystalline) 반도체 물질로 형성될 수 있다. 보다 구체적인 예를 들면, 수직 반도체 패턴(VSP)은 기판(SUB)과 동일한 제1 도전형 불순물(예컨대, P형의 불순물)이 도핑된 폴리 실리콘으로 형성될 수 있다. 즉, 수직 반도체 패턴(VSP)은 3차원 플래시 메모리의 전기적 특성을 개선시켜 메모리 동작의 속도를 향상시킬 수 있다.
다시 도 2를 참조하면, 수직 채널 구조체들(VS)은 소거 제어 트랜지스터(ECT), 제1 및 제2 스트링 선택 트랜지스터들(SST1, SST2) 및 접지 선택 트랜지스터(GST) 및 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)의 채널들에 해당할 수 있다.
수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)의 상면 및 수직 반도체 패턴(VSP)의 상면 상에 도전 패드(PAD)가 제공될 수 있다. 도전 패드(PAD)는 수직 채널 패턴(VCP)의 상부 및 수직 반도체 패턴(VSP)의 상부와 연결될 수 있다. 도전 패드(PAD)의 측벽은 데이터 저장 패턴(DSP)으로 둘러싸일 수 있다. 도전 패드(PAD)의 상면은 적층 구조체들(ST) 각각의 상면(즉, 층간 절연막들(ILD) 중 최상부의 것의 상면)과 실질적으로 공면을 이룰 수 있다. 도전 패드(PAD)의 하면은 제3 게이트 전극(EL3)의 상면보다 낮은 레벨에 위치할 수 있다. 보다 구체적으로, 도전 패드(PAD)의 하면은 제3 게이트 전극(EL3)의 상면과 하면 사이에 위치할 수 있다. 즉, 도전 패드(PAD)의 적어도 일부는 제3 게이트 전극(EL3)과 수평 방향으로 중첩될 수 있다.
도전 패드(PAD)는 불순물이 도핑된 반도체 또는 도전성 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도전 패드(PAD)는 수직 반도체 패턴(VSP)과 다른 불순물(보다 정확하게 제1 도전형(예컨대, P형)과 다른 제2 도전형(예컨대, N형)의 불순물)이 도핑된 반도체 물질로 형성될 수 있다.
도전 패드(PAD)는 후술하는 비트 라인(BL)과 수직 채널 패턴(VCP)(또는 수직 반도체 패턴(VSP)) 사이의 접촉 저항을 줄일 수 있다.
이상, 수직 채널 구조체들(VS)이 도전 패드(PAD)를 포함하는 구조인 것으로 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 도전 패드(PAD)를 생략한 구조를 가질 수도 있다. 이러한 경우, 수직 채널 구조체들(VS)에서 도전 패드(PAD)가 생략됨에 따라, 수직 채널 패턴(VCP) 및 수직 반도체 패턴(VSP) 각각의 상면이 적층 구조체들(ST) 각각의 상면(즉, 층간 절연막들(ILD) 중 최상부의 것의 상면)과 실질적으로 공면을 이루도록 수직 채널 패턴(VCP) 및 수직 반도체 패턴(VSP) 각각이 제3 방향(D3)으로 연장 형성될 수 있다. 또한, 이러한 경우, 후술되는 비트 라인 콘택 플러그(BLPG)는, 도전 패드(PAD)를 통해 수직 채널 패턴(VCP)과 간접적으로 전기적으로 연결되는 대신에, 수직 채널 패턴(VCP)과 직접적으로 접촉하며 전기적으로 연결될 수 있다.
또한, 이상 수직 채널 구조체들(VS)에 수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 것으로 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 수직 반도체 패턴(VSP)이 생략될 수도 있다.
또한, 이상 수직 채널 패턴(VCP)가 제1 부분(VCP1) 및 제2 부분(VCP2)을 포함하는 구조인 것으로 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 제1 부분(VCP1)이 배제된 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 수직 채널 패턴(VCP)은 기판(SUB)까지 연장 형성된 수직 반도체 패턴(VSP) 및 데이터 저장 패턴(DSP) 사이에 제공되며 기판(SUB)과 접촉하도록 기판(SUB)까지 연장 형성될 수 있다. 이러한 경우 수직 채널 패턴(VCP)의 하면은 기판(SUB)의 최상면(층간 절연막들(ILD) 중 최하부의 것의 하면)보다 낮은 레벨에 위치할 수 있으며, 수직 채널 패턴(VCP)의 상면은 수직 반도체 패턴(VSP)의 상면과 실질적으로 공면을 이룰 수 있다.
도면에는 도시되지 않았지만, 서로 인접한 적층 구조체들(ST) 사이에는 제1 방향(D1)으로 연장되는 분리 트렌치(TR)가 제공될 수 있다. 분리 트렌치(TR)는 적층 구조체들(ST) 각각을 분리 및 격리시켜 하나의 블록으로 구성할 수 있다.
공통 소스 영역(CSR)은 분리 트렌치(TR)에 의해 노출되는 기판(SUB) 내부에 제공될 수 있다. 공통 소스 영역(CSR)은 기판(SUB) 내에서 제1 방향(D1)으로 연장될 수 있다. 공통 소스 영역(CSR)은, 제2 도전형의 불순물(예컨대, N형의 불순물)이 도핑된 반도체 물질로 형성될 수 있다. 공통 소스 영역(CSR)은 도 2의 공통 소스 라인(CSL)에 해당할 수 있다.
공통 소스 플러그(CSP)는 분리 트렌치(TR) 내에 제공될 수 있다. 공통 소스 플러그(CSP)는 공통 소스 영역(CSR)과 연결될 수 있다. 공통 소스 플러그(CSP)의 상면은 적층 구조체들(ST) 각각의 상면(즉, 층간 절연막들(ILD) 중 최상부의 것의 상면)과 실질적으로 공면을 이룰 수 있다. 공통 소스 플러그(CSP)는 제1 방향(D1) 및 제3 방향(D3)으로 연장되는 플레이트(Plate) 형상을 가질 수 있다. 이 때 공통 소스 플러그(CSP)는, 제3 방향(D3)으로 갈수록 제2 방향(D2)으로의 폭이 증가되는 형상을 가질 수 있다.
공통 소스 플러그(CSP)와 적층 구조체들(ST) 사이에는 절연 스페이서들(SP)이 개재될 수 있다. 절연 스페이서들(SP)은 서로 인접하는 적층 구조체들(ST) 사이에서 서로 대향하며 제공될 수 있다. 예를 들어 절연 스페이서들(SP)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물 또는 낮은 유전 상수를 갖는 low-k 물질로 형성될 수 있다.
적층 구조체들(ST), 수직 채널 구조체들(VS) 및 공통 소스 플러그(CSP) 상에 캡핑 절연막(CAP)이 제공될 수 있다. 캡핑 절연막(CAP)은 층간 절연막들(ILD) 중 최상부의 것의 상면, 도전 패드(PAD)의 상면 및 공통 소스 플러그(CSP)의 상면을 덮을 수 있다. 캡핑 절연막(CAP)은, 층간 절연막들(ILD)과 다른 절연 물질로 형성될 수 있다. 캡핑 절연막(CAP) 내부에 도전 패드(PAD)와 전기적으로 연결되는 비트 라인 콘택 플러그(BLPG)가 제공될 수 있다. 비트 라인 콘택 플러그(BLPG)는, 제3 방향(D3)으로 갈수록 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)으로의 폭이 증가되는 형상을 가질 수 있다.
캡핑 절연막(CAP) 및 비트 라인 콘택 플러그(BLPG) 상에 비트 라인(BL)이 제공될 수 있다. 비트 라인(BL)은 도 2에 도시된 복수의 비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 중 어느 하나에 해당되는 것으로, 제2 방향(D2)을 따라 도전성 물질로 연장 형성될 수 있다. 비트 라인(BL)을 구성하는 도전성 물질은 전술된 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 각각을 형성하는 도전성 물질과 동일한 물질일 수 있다.
비트 라인(BL)은 비트 라인 콘택 플러그(BLPG)를 통해 수직 채널 구조체들(VS)과 전기적으로 연결될 수 있다. 여기서 비트 라인(BL)이 수직 채널 구조체들(VS)과 연결된다는 것은, 수직 채널 구조체들(VS)에 포함되는 수직 채널 패턴(VCP)과 연결되는 것을 의미할 수 있다.
이와 같은 구조의 3차원 플래시 메모리는, 셀 스트링들(CSTR) 각각에 인가되는 전압, 스트링 선택 라인(SSL)에 인가되는 전압, 워드 라인들(WL0-WLn) 각각에 인가되는 전압, 접지 선택 라인(GSL)에 인가되는 전압 및 공통 소스 라인(CSL)에 인가되는 전압을 기초로, 프로그램 동작, 판독 동작 및 소거 동작을 수행할 수 있다. 예컨대, 3차원 플래시 메모리는, 셀 스트링들(CSTR) 각각에 인가되는 전압, 스트링 선택 라인(SSL)에 인가되는 전압, 워드 라인들(WL0-WLn) 각각에 인가되는 전압, 접지 선택 라인(GSL)에 인가되는 전압 및 공통 소스 라인(CSL)에 인가되는 전압을 기초로, 수직 채널 패턴(VCP)에 채널을 형성하여 전하 또는 홀을 대상 메모리 셀의 데이터 저장 패턴(DSP)으로 전달함으로써 프로그램 동작을 수행할 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리는 설명된 구조로 제한되거나 한정되지 않고, 구현 예시에 따라 수직 채널 패턴(VCP), 데이터 저장 패턴(DSP), 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3), 비트 라인(BL), 공통 소스 라인(CSL)을 포함하는 것을 전제로 다양한 구조로 구현될 수 있다.
일례로, 3차원 플래시 메모리는 수직 채널 패턴(VCP)의 내측벽에 접촉하는 수직 반도체 패턴(VSP) 대신에, 백 게이트(BG)를 포함하는 구조로 구현될 수 있다. 이러한 경우, 백 게이트(BG)는 메모리 동작을 위한 전압을 수직 채널 패턴(VCP)으로 인가하도록 수직 채널 패턴(VCP)에 의해 적어도 일부분이 감싸진 채 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))을 따라 도핑된 반도체(ex, 도핑된 실리콘 등), 금속(ex, W(텅스텐), Cu(구리), Al(알루미늄), Ti(티타늄), Ta(탄탈륨), Mo(몰리브덴), Ru(루테늄), Au(금) 등) 또는 도전성 금속질화물(ex, 질화티타늄, 질화탄탈늄 등) 등에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 도전성 물질로 연장 형성될 수 있다.
이와 같은 구조의 3차원 플래시 메모리가 스택 적층 공정을 통해 제조됨에 따라, 적층 구조체들(ST) 각각은 상부 스택 구조체(USS) 및 하부 스택 구조체(LSS)를 포함할 수 있다. 하부 스택 구조체(LSS)는 기판(SUB) 상에 배치되며 수직 방향으로 교대로 적층된 게이트 전극들(EL1, EL2의 일부), 층간 절연막들(ILD)을 포함할 수 있다. 상부 스택 구조체(USS)는 하부 스택 구조체(LSS) 상에 적층되며 수직 방향으로 교대로 적층된 게이트 전극들(EL2의 일부, EL3), 층간 절연막(ILD)을 포함할 수 있다.
하부 스택 구조체(LSS) 및 상부 스택 구조체(USS)가 적층될 시 하부 스택 구조체(LSS)에 포함되는 수직 채널 구조체들(VS)의 식각 프로파일(Profile)과 상부 스택 구조체(USS)에 포함되는 수직 채널 구조체들(VS)의 식각 프로파일(Profile)이 균일하게 유지되지 못해 하부 스택 구조체(LSS)에 포함되는 수직 채널 구조체들(VS)과 상부 스택 구조체(USS)에 포함되는 수직 채널 구조체들(VS)이 서로 연결되지 않을 수 있다. 이는 메모리의 신뢰성 및 성능이 저하되는 문제를 야기할 수 있다. 일례로, 하부 스택 구조체(LSS)의 수직 채널 패턴들(VCP)과 상부 스택 구조체(USS)의 수직 채널 패턴들(VCP)이 서로 연결되지 못하는 경우, 채널 전류 특성이 저하되는 문제가 발생될 수 있다.
따라서, 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 적층 구조체들(ST) 각각은, 스택 구조체들(USS, LSS) 사이에 배치된 채, 스택 구조체들(USS, LSS) 각각의 수직 채널 구조체들(VS)의 식각 프로파일이 균일하게 유지되도록 스택 구조체들(USS, LSS) 각각의 수직 채널 구조체들(VS)을 서로 연결시키는 캡핑층(CL)을 포함할 수 있다.
이러한 캡핑층(CL)은, 스택 구조체들(USS, LSS)의 채널 홀들(CH) 각각이 평면 상 갖는 크기보다 작은 크기를 갖는 캡핑막(미도시)이 채널 홀들(CH)의 식각 과정에서 제거되어 채널 홀들(CH)을 서로 연결시킴으로써, 수직 채널 구조체들(VS)의 식각 프로파일을 균일하게 유지하며 수직 채널 구조체들(VS)을 서로 연결시킬 수 있다.
설명된 바와 같이 3차원 플래시 메모리는 캡핑층(CL)을 포함함으로써 스택 구조체들(USS, LSS) 각각의 수직 채널 구조체들(VS)의 식각 프로파일을 균일하게 유지하며 수직 채널 구조체들(VS)을 서로 연결시켜 메모리의 신뢰성 및 성능이 저하되는 문제를 해결할 수 있다.
이상, 3차원 플래시 메모리가 상부 스택 구조체(USS) 및 하부 스택 구조체(LSS)와 같이 2개의 스택 구조체들을 포함하는 것으로 설명되었으나, 스택 적층 공정에서 적층되는 스택 구조체들의 개수가 조절되어 세 개 이상의 스택 구조체들(예컨대 상부 스택 구조체들(USS), 중부 스택 구조체들(MSS) 및 하부 스택 구조체들(LSS))을 포함할 수도 있다. 스택 구조체들 사이에는 스택 구조체들 각각의 수직 채널 구조체들(VS)을 연결시키는 캡핑층(CL)이 배치될 수 있으며, 스택 구조체들이 3개 이상 적층되기 때문에, 캡핑층(CL) 역시 복수 개 구비될 수 있다. 복수의 캡핑층들(CL)은 제3 방향(D3)으로 이격되며 스택 구조체들의 연결 부위에 배치될 수 있다.
도 5는 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 게이트 퍼스트 방식을 적용한 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 도시한 플로우 차트이고, 도 6a 내지 6j는 도 5에 도시된 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위해 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도이다.
이하, 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은 게이트 퍼스트 방식을 적용하여 도 2 내지 4를 참조하여 설명된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하기 위한 것으로, 자동화 및 기계화된 제조 시스템에 의해 수행됨을 전제로 한다.
또한, 이하, 제조 방법은 설명의 편의를 위해 층간 절연막들(ILD), 워드 라인들(WL0-WLn), 수직 채널 구조체들(VS) 및 캡핑층(CL)을 포함하는 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하는 것으로 기재된다. 3차원 플래시 메모리의 각 구성부를 구성하는 구성 물질은, 도 2 내지 4를 참조하여 설명되었으므로, 그 상세한 설명은 생략한다.
도 5를 참조하면, 단계(S510)에서 제조 시스템은, 도 6a에 도시된 바와 같이 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 층간 절연막들(ILD) 및 게이트 전극들(EL1-3)을 각각 포함하는 스택 구조체들(USS, MSS, LSS)을 준비할 수 있다.
단계(S520)에서 제조 시스템은, 도 6b 내지 6g에 도시된 바와 같이 스택 구조체들(USS, MSS, LSS) 중 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 채널 홀들(CH) 및 캡핑막(C)을 포함하는 캡핑층(CL)을 형성할 수 있다.
보다 상세하게, 제조 시스템은 도 6b에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 채널 홀들(CH)을 형성하고, 도 6c에 도시된 바와 같이 채널 홀들(CH)에 필링막(F)을 형성하며, 도 6d에 도시된 바와 같이 필링막(F)이 형성된 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)의 상부에 캡핑층(CL)을 형성한 뒤, 도 6e에 도시된 바와 같이 캡핑층(CL) 중 일부 영역(610)을 식각하고, 도 6f에 도시된 바와 같이 캡핑층(CL) 중 일부 영역(610)이 식각된 공간(620)을 통해 필링막(F)을 제거함으로써, 도 6g에 도시된 바와 같이 캡핑층(CL)의 일부 영역(610)이 식각된 공간(620)에 캡핑막(C)을 형성할 수 있다.
이 때, 캡핑층(CL) 중 식각되는 일부 영역(610)이 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 포함되는 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖기 때문에, 캡핑층(CL)의 일부 영역(610)이 식각된 공간(620)에 형성되는 캡핑막(C) 역시 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 포함되는 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖게 될 수 있다. 즉, 도 6g에 도시된 바와 같이 캡핑층(CL)의 일부 영역(610)이 식각된 공간(620)에 캡핑막(C)을 형성하는 것은, 캡핑막(C)이 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 포함되는 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖도록 캡핑막(C)을 형성하는 것을 의미할 수 있다.
이처럼, 캡핑막(C)은 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 포함되는 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기로 캡핑층(CL)에 형성됨으로써, 나머지 스택 구조체(USS)에서의 채널 홀들(CH)의 식각 과정에서 제거되며 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)의 채널 홀들(CH)에 나머지 스택 구조체(USS)의 채널 홀들(CH)을 연결시킬 수 있다
여기서, 캡핑층(CL) 중 일부 영역(610)이 식각되는 과정은, 캡핑층(CL) 중 일부 영역(610)이 식각된 공간(620)의 프로파일이 다양하도록 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제조 시스템은 도 6e에 도시된 바와 같이 캡핑층(CL) 중 일부 영역(610)이 식각된 공간(620)이 수직 방향을 따라 균일한 프로파일을 갖도록 캡핑층(CL) 중 일부 영역(610)에 대한 식각 공정을 수행할 수 있다. 다른 예를 들면, 제조 시스템은 캡핑층(CL) 중 일부 영역(610)이 식각된 공간(620)이 수직 방향을 따라 네거티브 프로파일(Negative profile) 또는 포지티브 프로파일(Positive profile)을 갖도록 캡핑층(CL) 중 일부 영역(610)에 대한 식각 공정을 수행할 수도 있다.
또한, 도 6c에 도시된 바와 같이 채널 홀들(CH)에 형성되는 필링막(F)은 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 포함되는 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖는 캡핑층(CL)의 일부 영역(610)이 제거된 공간(620)을 통해 제거 가능한 물질로 구성될 수 있다.
또한, 제조 시스템은 적어도 하나의 스택 구조체(MSS)에 대해서도 설명된 단계(S520)를 수행할 수 있다.
이상, 제조 시스템은 3개의 스택 구조체들(LSS, MSS, USS)을 적층하여 3차원 플래시 메모리를 제조하는 경우에 대해 설명되었기 때문에, 2개의 스택 구조체들(LSS, MSS)에 대해 단계(S520)를 수행했으나, 4개 이상의 스택 구조체들을 적층하여 3차원 플래시 메모리를 제조하는 경우에는 한 개의 나머지 스택 구조체만을 제외한 나머지 모든 스택 구조체들에 대해 단계(S520)를 수행할 수 있다.
단계(S530)에서 제조 시스템은, 도 6h에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 상부에 나머지 스택 구조체(USS)를 적층할 수 있다. 별도의 도면으로 도시되지는 않았으나, 제조 시스템은 단계(S530) 이전에, 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS) 각각의 캡핑층(CL)의 상면을 평탄화함으로써, 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 상부에 다른 스택 구조체가 원활히 적층되도록 할 수 있다.
단계(S540)에서 제조 시스템은, 도 6i에 도시된 바와 같이 나머지 스택 구조체(USS)에 채널 홀들(CH)을 형성하는 동시에 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 캡핑막(C)을 제거할 수 있다. 보다 상세하게, 제조 시스템은 나머지 스택 구조체(USS)에 채널 홀들(CH)을 식각하여 형성하는 동시에 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 캡핑막(C)까지 함께 식각함으로써, 나머지 스택 구조체(USS)의 채널 홀들(CH)과 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 채널 홀들(CH)을 서로 연결시킬 수 있다.
이처럼 나머지 스택 구조체(USS)의 채널 홀들(CH)을 형성하는 과정에서, 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖는 캡핑막(C)이 제거되며 나머지 스택 구조체(USS)의 채널 홀들(CH)과 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 채널 홀들(CH)이 서로 연결되기 때문에, 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 채널 홀들(CH)의 식각 프로파일과 나머지 스택 구조체(USS)의 채널 홀들(CH)의 식각 프로파일이 균일하게 유지될 수 있다.
단계(S550)에서 제조 시스템은, 도 6j에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS) 및 나머지 스택 구조체(USS)가 적층된 반도체 구조체(SEMI-STR)의 채널 홀들(CH)에 각각 수직 채널 구조체들(VS)을 형성할 수 있다. 구체적으로, 단계(S550)는 채널 홀들(CH)의 내측벽에 데이터 저장 패턴(DSP)을 형성하는 제1 단계 및 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽에 수직 채널 패턴(VCP)을 형성하는 제2 단계를 포함할 수 있다(수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 경우 수직 채널 패턴(VCP)과 함께 수직 반도체 패턴(VSP)도 형성).
도 7은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 워드 라인 리플레이스먼트 방식을 적용한 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 도시한 플로우 차트이고, 도 8a 내지 8l은 도 7에 도시된 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위해 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도이다.
이하, 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은 워드 라인 리플레이스먼트 방식을 적용하여 도 2 내지 4를 참조하여 설명된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하기 위한 것으로, 자동화 및 기계화된 제조 시스템에 의해 수행됨을 전제로 한다.
또한, 이하, 제조 방법은 설명의 편의를 위해 층간 절연막들(ILD), 워드 라인들(WL0-WLn), 수직 채널 구조체들(VS) 및 캡핑층(CL)을 포함하는 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하는 것으로 기재된다. 3차원 플래시 메모리의 각 구성부를 구성하는 구성 물질은, 도 2 내지 4를 참조하여 설명되었으므로, 그 상세한 설명은 생략한다.
도 7을 참조하면, 단계(S710)에서 제조 시스템은, 도 8a에 도시된 바와 같이 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 층간 절연막들(ILD) 및 희생층들(SAC)을 각각 포함하는 스택 구조체들(USS, MSS, LSS)을 준비할 수 있다.
단계(S720)에서 제조 시스템은, 도 8b 내지 8g에 도시된 바와 같이 스택 구조체들(USS, MSS, LSS) 중 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 채널 홀들(CH) 및 캡핑막(C)을 포함하는 캡핑층(CL)을 형성할 수 있다.
보다 상세하게, 제조 시스템은 도 8b에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 채널 홀들(CH)을 형성하고, 도 8c에 도시된 바와 같이 채널 홀들(CH)에 필링막(F)을 형성하며, 도 8d에 도시된 바와 같이 필링막(F)이 형성된 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)의 상부에 캡핑층(CL)을 형성한 뒤, 도 8e에 도시된 바와 같이 캡핑층(CL) 중 일부 영역(810)을 식각하고, 도 8f에 도시된 바와 같이 캡핑층(CL) 중 일부 영역(810)이 식각된 공간(820)을 통해 필링막(F)을 제거함으로써, 도 8g에 도시된 바와 같이 캡핑층(CL)의 일부 영역(810)이 식각된 공간(820)에 캡핑막(C)을 형성할 수 있다.
이 때, 캡핑층(CL) 중 식각되는 일부 영역(810)이 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 포함되는 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖기 때문에, 캡핑층(CL)의 일부 영역(810)이 식각된 공간(820)에 형성되는 캡핑막(C) 역시 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 포함되는 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖게 될 수 있다. 즉, 도 8g에 도시된 바와 같이 캡핑층(CL)의 일부 영역(810)이 식각된 공간(820)에 캡핑막(C)을 형성하는 것은, 캡핑막(C)이 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 포함되는 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖도록 캡핑막(C)을 형성하는 것을 의미할 수 있다.
이처럼, 캡핑막(C)은 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 포함되는 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기로 캡핑층(CL)에 형성됨으로써, 나머지 스택 구조체(USS)에서의 채널 홀들(CH)의 식각 과정에서 제거되며 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)의 채널 홀들(CH)에 나머지 스택 구조체(USS)의 채널 홀들(CH)을 연결시킬 수 있다
여기서, 캡핑층(CL) 중 일부 영역(810)이 식각되는 과정은, 캡핑층(CL) 중 일부 영역(810)이 식각된 공간(820)의 프로파일이 다양하도록 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제조 시스템은 도 8e에 도시된 바와 같이 캡핑층(CL) 중 일부 영역(810)이 식각된 공간(820)이 수직 방향을 따라 균일한 프로파일을 갖도록 캡핑층(CL) 중 일부 영역(810)에 대한 식각 공정을 수행할 수 있다. 다른 예를 들면, 제조 시스템은 캡핑층(CL) 중 일부 영역(810)이 식각된 공간(820)이 수직 방향을 따라 네거티브 프로파일(Negative profile) 또는 포지티브 프로파일(Positive profile)을 갖도록 캡핑층(CL) 중 일부 영역(810)에 대한 식각 공정을 수행할 수도 있다.
또한, 도 8c에 도시된 바와 같이 채널 홀들(CH)에 형성되는 필링막(F)은 적어도 하나의 스택 구조체(LSS)에 포함되는 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖는 캡핑층(CL)의 일부 영역(810)이 제거된 공간(820)을 통해 제거 가능한 물질로 구성될 수 있다.
또한, 제조 시스템은 적어도 하나의 스택 구조체(MSS)에 대해서도 설명된 단계(S720)를 수행할 수 있다.
이상, 제조 시스템은 3개의 스택 구조체들(LSS, MSS, USS)을 적층하여 3차원 플래시 메모리를 제조하는 경우에 대해 설명되었기 때문에, 2개의 스택 구조체들(LSS, MSS)에 대해 단계(S720)를 수행했으나, 4개 이상의 스택 구조체들을 적층하여 3차원 플래시 메모리를 제조하는 경우에는 한 개의 나머지 스택 구조체만을 제외한 나머지 모든 스택 구조체들에 대해 단계(S720)를 수행할 수 있다.
단계(S730)에서 제조 시스템은, 도 8h에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 상부에 나머지 스택 구조체(USS)를 적층할 수 있다. 별도의 도면으로 도시되지는 않았으나, 제조 시스템은 단계(S730) 이전에, 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS) 각각의 캡핑층(CL)의 상면을 평탄화함으로써, 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 상부에 다른 스택 구조체가 원활히 적층되도록 할 수 있다.
단계(S740)에서 제조 시스템은, 도 8i에 도시된 바와 같이 나머지 스택 구조체(USS)에 채널 홀들(CH)을 형성하는 동시에 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 캡핑막(C)을 제거할 수 있다. 보다 상세하게, 제조 시스템은 나머지 스택 구조체(USS)에 채널 홀들(CH)을 식각하여 형성하는 동시에 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 캡핑막(C)까지 함께 식각함으로써, 나머지 스택 구조체(USS)의 채널 홀들(CH)과 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 채널 홀들(CH)을 서로 연결시킬 수 있다.
이처럼 나머지 스택 구조체(USS)의 채널 홀들(CH)을 형성하는 과정에서, 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 채널 홀들(CH) 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖는 캡핑막(C)이 제거되며 나머지 스택 구조체(USS)의 채널 홀들(CH)과 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 채널 홀들(CH)이 서로 연결되기 때문에, 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS)의 채널 홀들(CH)의 식각 프로파일과 나머지 스택 구조체(USS)의 채널 홀들(CH)의 식각 프로파일이 균일하게 유지될 수 있다.
단계(S750)에서 제조 시스템은, 도 8j에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 스택 구조체(LSS, MSS) 및 나머지 스택 구조체(USS)가 적층된 반도체 구조체(SEMI-STR)에서 희생층들(SAC)을 제거할 수 있다. 이 때, 희생층(SAC)이 제거되는 통로로는, 반도체 구조체(SEMI-STR)의 채널 홀들(CH)이 이용될 수 있으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 반도체 구조체(SEMI-STR)에 형성된 별도의 트렌치(미도시)가 이용될 수 있다.
단계(S760)에서 제조 시스템은, 도 8k에 도시된 바와 같이 희생층들(SAC)이 제거된 공간들(830)에 게이트 전극들(EL1-3)을 형성할 수 있다.
단계(S770)에서 제조 시스템은, 도 8l에 도시된 바와 같이 반도체 구조체(SEMI-STR)의 채널 홀들(CH)에 각각 수직 채널 구조체들(VS)을 형성할 수 있다. 구체적으로, 단계(S770)는 채널 홀들(CH)의 내측벽에 데이터 저장 패턴(DSP)을 형성하는 제1 단계 및 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽에 수직 채널 패턴(VCP)을 형성하는 제2 단계를 포함할 수 있다(수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 경우 수직 채널 패턴(VCP)과 함께 수직 반도체 패턴(VSP)도 형성).
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.
Claims (12)
- 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 게이트 전극들을 각각 포함하는 스택 구조체들을 준비하는 단계;
상기 스택 구조체들 중 적어도 하나의 스택 구조체에 채널 홀들 및 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 형성하는 단계;
상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상부에 나머지 스택 구조체를 적층하는 단계;
상기 나머지 스택 구조체에 채널 홀들을 형성하는 동시에 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상기 캡핑막을 제거하는 단계; 및
상기 적어도 하나의 스택 구조체 및 상기 나머지 스택 구조체가 적층된 반도체 구조체의 채널 홀들에 각각 수직 채널 구조체들을 형성하는 단계
를 포함하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 캡핑막은,
상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기로 상기 캡핑층에 형성되는 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법. - 제2항에 있어서,
상기 적어도 하나의 스택 구조체에 채널 홀들 및 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 형성하는 단계는,
상기 적어도 하나의 스택 구조체에 상기 채널 홀들을 형성하는 단계;
상기 채널 홀들에 필링막을 형성하는 단계;
상기 필링막이 형성된 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상부에 캡핑층을 형성하는 단계;
상기 캡핑층 중 일부 영역-상기 일부 영역은 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 가짐-을 식각하는 단계;
상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간을 통해 상기 필링막을 제거하는 단계; 및
상기 캡핑막이 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖도록 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간에 캡핑막을 형성하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법. - 제3항에 있어서,
상기 캡핑층 중 일부 영역을 식각하는 단계는,
상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간이 네거티브 프로파일(Negative profile), 포지티브 프로파일(Positive profile) 또는 균일한 프로파일을 갖도록 상기 일부 영역을 식각하는 단계인 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법. - 제3항에 있어서,
상기 필링막을 형성하는 단계는,
상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖는 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간을 통해 제거 가능한 물질로 상기 필링막을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법. - 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 희생층들을 각각 포함하는 스택 구조체들을 준비하는 단계;
상기 스택 구조체들 중 적어도 하나의 스택 구조체에 채널 홀들 및 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 형성하는 단계;
상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상부에 나머지 스택 구조체를 적층하는 단계;
상기 나머지 스택 구조체에 채널 홀들을 형성하는 동시에 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상기 캡핑막을 제거하는 단계;
상기 적어도 하나의 스택 구조체 및 상기 나머지 스택 구조체가 적층된 반도체 구조체에서 상기 희생층들을 제거하는 단계;
상기 희생층들이 제거된 공간들에 게이트 전극들을 형성하는 단계; 및
상기 반도체 구조체의 채널 홀들에 각각 수직 채널 구조체들을 형성하는 단계
를 포함하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법. - 제6항에 있어서,
상기 캡핑막은,
상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기로 상기 캡핑층에 형성되는 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법. - 제7항에 있어서,
상기 적어도 하나의 스택 구조체에 채널 홀들 및 캡핑막을 포함하는 캡핑층을 형성하는 단계는,
상기 적어도 하나의 스택 구조체에 상기 채널 홀들을 형성하는 단계;
상기 채널 홀들에 필링막을 형성하는 단계;
상기 필링막이 형성된 상기 적어도 하나의 스택 구조체의 상부에 캡핑층을 형성하는 단계;
상기 캡핑층 중 일부 영역-상기 일부 영역은 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 가짐-을 식각하는 단계;
상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간을 통해 상기 필링막을 제거하는 단계; 및
상기 캡핑막이 상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖도록 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간에 캡핑막을 형성하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법. - 제8항에 있어서,
상기 캡핑층 중 일부 영역을 식각하는 단계는,
상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간이 네거티브 프로파일(Negative profile), 포지티브 프로파일(Positive profile) 또는 균일한 프로파일을 갖도록 상기 일부 영역을 식각하는 단계인 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법. - 제8항에 있어서,
상기 필링막을 형성하는 단계는,
상기 채널 홀들 각각의 평면 상 크기보다 작은 크기를 갖는 상기 캡핑층의 일부 영역이 식각된 공간을 통해 제거 가능한 물질로 상기 필링막을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법. - 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 게이트 전극들과, 상기 층간 절연막들 및 상기 게이트 전극들을 관통하며 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 수직 채널 구조체들을 각각 포함하는 스택 구조체들-상기 스택 구조체들은 상기 수직 방향으로 적층됨-; 및
상기 스택 구조체들의 사이에 배치된 채, 상기 스택 구조체들 각각의 수직 채널 구조체들의 식각 프로파일(Profile)이 균일하게 유지되도록 상기 스택 구조체들 각각의 수직 채널 구조체들을 서로 연결시키는 캡핑층
을 포함하는 3차원 플래시 메모리. - 제11항에 있어서,
상기 캡핑층은,
상기 스택 구조체들 각각에 포함되는 채널 홀들 각각이 평면 상 갖는 크기보다 작은 크기를 갖는 캡핑막을 포함한 채, 상기 캡핑막이 상기 채널 홀들의 식각 과정에서 제거되어 상기 채널 홀들을 서로 연결시킴으로써, 상기 수직 채널 구조체들의 식각 프로파일을 균일하게 유지하며 상기 수직 채널 구조체들을 서로 연결시키는 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1020220041978A KR102720925B1 (ko) | 2022-04-05 | 스택 공정 기반의 3차원 플래시 메모리의 제조 방법 | |
| PCT/KR2023/004335 WO2023195688A1 (ko) | 2022-04-05 | 2023-03-31 | 스택 공정 기반의 3차원 플래시 메모리의 제조 방법 |
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Publications (2)
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|---|---|
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