KR20230124993A - Method for manufacturing single-layer retardation film and polymer composition for forming single-layer retardation film - Google Patents

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츠카사 후지에다
히로키 야마기와
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닛산 가가쿠 가부시키가이샤
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Abstract

(I) 자외선으로 광 반응하는 광 반응성 부위를 측사슬에 갖는 중합체를 포함하는 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물을 기판 상에 도포하고, 건조시켜 도막을 형성하는 공정, (II) 상기 도막에, 제 1 편광 자외선을 조사하는 제 1 노광 공정, 및 (III) 상기 편광 자외선을 조사한 도막에, 추가로, 제 1 편광 자외선을 조사한 면과 동일 면에, 제 1 편광 자외선과 편광축 방향이 상이한 제 2 편광 자외선을 조사하는 제 2 노광 공정을 포함하는 단층 위상차막의 제조 방법을 제공한다.(I) a step of applying a polymer composition for forming a single-layer retardation film comprising a polymer having a photoreactive site that reacts with ultraviolet rays in a side chain on a substrate and drying it to form a coating film; (II) to the coating film, 1st exposure step of irradiating 1 polarization ultraviolet-ray, and (III) the 2nd polarization|polarization-axis direction different from the 1st polarization ultraviolet-ray on the same surface as the surface irradiated with the 1st polarization ultraviolet-ray to the coating film irradiated with the said polarization ultraviolet-ray A method for manufacturing a single layer retardation film including a second exposure step of irradiating ultraviolet rays is provided.

Description

단층 위상차막의 제조 방법 및 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물Method for manufacturing single-layer retardation film and polymer composition for forming single-layer retardation film

본 발명은, 단층 위상차막의 제조 방법 및 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a single-layer retardation film and a polymer composition for forming a single-layer retardation film.

액정 표시 장치나 유기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치 등의 표시 장치에는, 표시 품위의 향상 등의 요구로부터, 표시면에 있어서의 외광의 반사를 억제하기 위해서, 원 편광판을 사용하는 것이 알려져 있다.For display devices such as liquid crystal display devices and organic electroluminescence (EL) display devices, it is known to use a circular polarizing plate in order to suppress reflection of external light on the display surface due to demands such as improvement of display quality. .

이러한 원 편광판은, 위상차판과 편광자를 조합한 것이 알려져 있다. 위상차판에는, 직선 편광을 원 편광으로 변환하는 1/4 파장판이나 직선 편광의 편광 진동면을 90°변환하는 1/2 파장판 등이 있다. 이들 위상차판은, 어느 특정한 단색광에 대해서는 정확하게 광선 파장의 1/4 파장 혹은 1/2 파장의 위상차로 변환 가능한 것이다.It is known that such a circular polarizing plate is a combination of a retardation plate and a polarizer. Retardation plates include a quarter-wave plate that converts linearly polarized light into circularly polarized light, and a half-wavelength plate that converts the plane of polarization vibration of linearly polarized light by 90°. These retardation plates are capable of accurately converting a specific monochromatic light into a retardation of 1/4 wavelength or 1/2 wavelength of the light ray wavelength.

그러나, 종래의 위상차판에는, 위상차판을 통과하여 출력되는 편광이 유색의 편광으로 변환되어 버린다는 문제가 있었다. 이것은, 위상차판이, 파장이 증가할 때마다 위상차가 감소하는 정파장 분산성을 갖고, 가시광역의 광선이 혼재하는 합성파인 백색광에 대하여 파장마다의 편광 상태에 분포가 발생하기 때문에, 모든 파장 영역에 있어서 정확하게 1/4 파장의 위상차로 조정하는 것이 불가능한 것이 원인이다.However, conventional retardation plates have a problem that polarized light output through the retardation plate is converted into colored polarized light. This is because the retardation plate has positive-wavelength dispersion in which the phase difference decreases with each increase in wavelength, and a distribution occurs in the polarization state for each wavelength for white light, which is a synthesized wave in which light rays in the visible region are mixed. This is because it is impossible to precisely adjust to the phase difference of 1/4 wavelength.

이러한 문제를 해결하기 위해서, 폭넓은 파장역의 광에 대하여 균일한 위상차를 부여할 수 있는 광대역 위상차판, 이른바 역파장 분산성을 갖는 위상차판이 검토되고 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 ∼ 6).In order to solve this problem, a broadband retardation plate capable of imparting a uniform retardation to light in a wide wavelength range, a so-called retardation plate having reverse wavelength dispersion, has been studied (for example, Patent Documents 1 to 6). .

역파장 분산성을 갖는 위상차판은, 주로 필름 기재에 특수한 저분자 중합성 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 도포함으로써 제작되어 있다. 그 때문에, 역파장 분산성을 갖는 저분자 중합성 액정 화합물 또는 그것을 사용한 중합성 조성물의 개발이 많이 실시되고 있다. 그러나, 이들 저분자 중합성 액정 화합물 또는 중합성 조성물은, 매우 고가의 시약을 사용한 합성법을 구사하여, 다단계로 합성되는 것이므로, 비용면에 과제를 가지고 있었다.A retardation plate having reverse wavelength dispersion is produced mainly by applying a polymerizable composition containing a special low-molecular polymerizable compound to a film substrate. Therefore, many developments of low molecular polymerizable liquid crystal compounds having reverse wavelength dispersion or polymerizable compositions using the same have been conducted. However, since these low-molecular polymerizable liquid crystal compounds or polymerizable compositions are synthesized in multiple steps by utilizing a synthesis method using very expensive reagents, they have a problem in terms of cost.

일본 공개특허공보 평10-68816호Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-68816 일본 공개특허공보 2002-267838호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-267838 일본 공개특허공보 2005-289980호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-289980 일본 공개특허공보 2007-86105호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-86105 일본 공개특허공보 2011-42606호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-42606 일본 공개특허공보 2013-164501호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-164501

본 발명은 상기 문제를 감안하여 이루어진 것으로서, 역파장 분산성의 저분자 중합성 액정 화합물을 사용하지 않고, 저비용으로 플랫 또는 역파장 분산성을 나타내는 단층 위상차막의 제작을 가능하게 하는 제조 방법, 및 그 제조 방법에 사용하는 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems, and a manufacturing method enabling the production of a single layer retardation film exhibiting flat or reverse wavelength dispersion at low cost without using a low molecular weight polymerizable liquid crystal compound having reverse wavelength dispersion, and a manufacturing method thereof It is an object of the present invention to provide a polymer composition for forming a single-layer retardation film used for

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 다양한 검토를 거듭한 결과, 정파장 분산성을 갖는 중합체를 포함하는 조성물을 사용하여 플랫 또는 역파장 분산성을 갖는 단층 위상차막을 제작하는 데에 있어서, 상기 중합체로서 자외선으로 광 반응 (광 2 량화, 광 이성화 또는 광 프리스 전위) 하는 광 반응성 부위를 갖는 중합체를 사용하는 것, 동일 면으로부터 편광 자외선을 조사하는 프로세스를 2 회 이상 실시하는 것, 2 회째의 노광에 있어서 편광 자외선으로서 1 회째의 노광에 있어서의 편광 자외선의 편광축 방향과 상이한 것을 사용함으로써 원 위상차가 발현되는 것, 또한 정파장 분산이 억제되어, 역파장 분산을 나타내는 단층 위상차막이 얻어지는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.The inventors of the present invention, as a result of repeating various studies to solve the above problems, in producing a single-layer retardation film having flat or reverse wavelength dispersion using a composition containing a polymer having positive wavelength dispersion, the polymer As a method, using a polymer having a photoreactive site that photoreacts with ultraviolet rays (photodimerization, photoisomerization, or photofries dislocation), performing a process of irradiating polarized ultraviolet rays from the same surface twice or more, and second exposure found that by using a polarized ultraviolet ray different from the polarization axis direction of the polarized ultraviolet ray in the first exposure, the original retardation is expressed, and the forward wavelength dispersion is suppressed to obtain a single layer retardation film showing reverse wavelength dispersion, completed the present invention.

즉, 본 발명은, 하기 단층 위상차막의 제조 방법 및 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물을 제공한다.That is, the present invention provides a method for producing the following single-layer retardation film and a polymer composition for forming a single-layer retardation film.

1. (I) 자외선으로 광 반응하는 광 반응성 부위를 측사슬에 갖는 중합체를 포함하는 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물을 기판 상에 도포하고, 건조시켜 도막을 형성하는 공정,1. (I) a step of applying a polymer composition for forming a single-layer retardation film comprising a polymer having a photoreactive site that photoreacts with ultraviolet rays on a side chain on a substrate and drying it to form a coating film;

(II) 상기 도막에, 제 1 편광 자외선을 조사하는 제 1 노광 공정, 및(II) a first exposure step of irradiating the coating film with first polarized ultraviolet rays; and

(III) 상기 편광 자외선을 조사한 도막에, 추가로, 제 1 편광 자외선을 조사한 면과 동일 면에, 제 1 편광 자외선과 편광축 방향이 상이한 제 2 편광 자외선을 조사하는 제 2 노광 공정을 포함하는 단층 위상차막의 제조 방법.(III) a single layer including a second exposure step of irradiating a second polarized ultraviolet ray having a different polarization axis direction from the first polarized ultraviolet ray on the same surface as the surface irradiated with the first polarized ultraviolet ray to the coating film irradiated with the polarized ultraviolet ray; A method for manufacturing a phase contrast film.

2. 또한, (IV) 공정 (III) 에서 얻어진 도막을 가열하는 공정을 포함하는 1 의 단층 위상차막의 제조 방법.2. Further, (IV) Method of producing a single-layer phase contrast film in 1, including a step of heating the coating film obtained in step (III).

3. 공정 (II) 및 (III) 에 있어서, 편광 자외선을 도막과 공기의 계면측으로부터 조사하는 1 또는 2 의 단층 위상차막의 제조 방법.3. Steps (II) and (III) WHEREIN: 1 or 2 methods of producing a single-layer phase contrast film in which polarized ultraviolet rays are irradiated from the interface side of the coating film and air.

4. 상기 자외선으로 광 반응하는 광 반응성 부위를 갖는 측사슬이, 하기 식 (a1) ∼ (a6) 중 어느 것으로 나타내어지는 1 ∼ 3 중 어느 하나의 단층 위상차막의 제조 방법.4. The method for producing a single-layer retardation film according to any one of 1 to 3, wherein the side chain having a photoreactive site that photoreacts with the ultraviolet rays is represented by any one of the following formulas (a1) to (a6).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, n1 및 n2 는, 각각 독립적으로 0, 1, 2 또는 3 이다.(In the formula, n1 and n2 are each independently 0, 1, 2 or 3.

L 은, 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.L is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with halogen atoms.

T1 은, 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.T 1 is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with halogen atoms.

A1, A2 및 D1 은, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH- 또는 -NH-C(=O)- 이다. 단, T1 이 단결합일 때는, A2 단결합이다.A 1 , A 2 and D 1 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)- NH- or -NH-C(=O)-. However, when T 1 is a single bond, A 2 is also is a single bond

Y1 및 Y2 는, 페닐렌기 또는 나프틸렌기이고, 그 페닐렌기 및 나프틸렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다.Y 1 and Y 2 are a phenylene group or a naphthylene group, and some or all of the hydrogen atoms of the phenylene group and the naphthylene group are cyano groups, halogen atoms, alkyl groups of 1 to 5 carbon atoms, or alkyl groups of 2 to 6 carbon atoms It may be substituted with a carbonyl group or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.

P1, Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로 단결합, 페닐렌기 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 지환식 탄화수소기이고, 그 페닐렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다. Q1 의 수가 2 일 때, 각 Q1 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, Q2 의 수가 2 일 때, 각 Q2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.P 1 , Q 1 and Q 2 are each independently a single bond, a phenylene group, or a divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the phenylene group are cyano groups, halogen atoms, It may be substituted with an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. When the number of Q 1 is 2, each Q 1 may be the same or different, and when the number of Q 2 is 2, each Q 2 may be the same or different.

R 은, 수소 원자, 시아노기, 할로겐 원자, 카르복시기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기, 탄소수 3 ∼ 7 의 시클로알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기이다.R is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a carboxy group, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 7 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms.

X1 및 X2 는, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 이다. X1 의 수가 2 일 때, 각 X1 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, X2 의 수가 2 일 때, 각 X2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.X 1 and X 2 are each independently a single bond, -O-, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡ C-, -CH=CH-C(=O)-O- or -OC(=O)-CH=CH-. When the number of X 1 is 2, each X 1 may be the same or different, and when the number of X 2 is 2, each X 2 may be the same or different.

Cou 는, 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기이고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.Cou is a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and some of the hydrogen atoms bonded thereto are -NO 2 , -CN, -CH=C(CN) 2 , -CH=CH-CN, a halogen atom , a C1-C5 alkyl group or a C1-C5 alkoxy group.

E 는, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- 또는 -S-C(=O)- 이다.E is -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- or -S-C(=O)-.

G1 및 G2 는, 각각 독립적으로 N 또는 CH 이다.G 1 and G 2 are each independently N or CH.

파선은, 결합손이다.)The dashed line is the bond hand.)

5. 상기 중합체가, 또한 광 2 량화도 광 이성화도 하지 않는 측사슬을 갖는 1 ∼ 4 중 어느 하나의 단층 위상차막의 제조 방법.5. The manufacturing method of the monolayer retardation film in any one of 1-4 in which the said polymer has a side chain which neither photodimerization nor photoisomerization further.

6. 상기 광 2 량화도 광 이성화도 하지 않는 측사슬이, 또한, 하기 식 (b1) ∼ (b11) 중 어느 것으로 나타내어지는 것인 5 의 단층 위상차막의 제조 방법.6. The manufacturing method of the monolayer retardation film of 5 which is that the said side chain which neither photodimerization nor photoisomerization is further represented by any of following formula (b1) - (b11).

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 중, A3 및 A4 는, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, 또는 -NH-C(=O)- 이다.(In the formula, A 3 and A 4 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O) -NH-, or -NH-C(=O)-.

R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기이다.R 1 is -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, or 1 to 12 carbon atoms It is an alkyl group of or a C1-C12 alkoxy group.

R2 는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기이며, 이들 기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.R 2 is a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, or a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in these groups are -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms.

R3 은, 수소 원자, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬옥시기이다.R 3 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, or a carbon number It is an alkyl group of 1-12 or an alkyloxy group of 1-12 carbon atoms.

E 는, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- 또는 -S-C(=O)- 이다.E is -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- or -S-C(=O)-.

a 는, 1 ∼ 12 의 정수이다.a is an integer of 1 to 12;

k1 ∼ k5 는, 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수이지만, k1 ∼ k5 의 합계는 2 이상이다.k1-k5 are each independently an integer of 0-2, but the sum of k1-k5 is 2 or more.

k6 및 k7 은, 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수이지만, k6 및 k7 의 합계는 1 이상이다.Although k6 and k7 are each independently an integer of 0-2, the sum of k6 and k7 is 1 or more.

m1, m2 및 m3 은, 각각 독립적으로 1 ∼ 3 의 정수이다.m1, m2 and m3 are each independently an integer of 1-3.

n 은, 0 또는 1 이다.n is 0 or 1.

Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-, -CH2-O-, 또는 -CF2- 이다.Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, -C(=O)-, -CH 2 -O-, or -CF 2 -.

파선은, 결합손이다.The broken line is a bonding hand.

또, 식 중의 벤젠 고리 및 나프탈렌 고리의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다.)In addition, some or all of the hydrogen atoms of the benzene ring and naphthalene ring in the formula may be substituted with a cyano group, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. .)

7. 자외선으로 광 반응하는 광 반응성 부위를 측사슬에 갖는 중합체를 포함하는 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물로서,7. A polymer composition for forming a single-layer retardation film comprising a polymer having a photoreactive site that photoreacts with ultraviolet rays in a side chain,

(I) 상기 조성물을 기판 상에 도포하고, 건조시켜 도막을 형성하는 공정, (II) 상기 도막에, 제 1 편광 자외선을 조사하는 제 1 노광 공정, 및 (III) 상기 편광 자외선을 조사한 도막에, 추가로, 제 1 편광 자외선을 조사한 면과 동일 면에, 제 1 편광 자외선과 편광축 방향이 상이한 제 2 편광 자외선을 조사하는 제 2 노광 공정에 의해, 파장 분산이 플랫 분산 또는 역파장 분산을 나타내는 단층 위상차막을 부여하는 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물.(I) a step of applying the composition on a substrate and drying it to form a coating film, (II) a first exposure step of irradiating the coating film with first polarized ultraviolet rays, and (III) a coating film irradiated with the polarized ultraviolet rays , Further, by a second exposure step of irradiating second polarized ultraviolet light having a different polarization axis direction from the first polarized ultraviolet light on the same surface as the surface irradiated with the first polarized ultraviolet light, the wavelength dispersion exhibits flat dispersion or reverse wavelength dispersion. A polymer composition for forming a single-layer retardation film for providing a single-layer retardation film.

8. 상기 자외선으로 광 반응하는 광 반응성 부위를 갖는 측사슬이, 하기 식 (a1) ∼ (a6) 중 어느 것으로 나타내어지는 7 의 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물.8. The polymer composition for forming a single-layer retardation film according to 7, wherein the side chain having a photoreactive site that photoreacts with ultraviolet rays is represented by any one of the following formulas (a1) to (a6).

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 중, n1 및 n2 는, 각각 독립적으로 0, 1, 2 또는 3 이다.(In the formula, n1 and n2 are each independently 0, 1, 2 or 3.

L 은, 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.L is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with halogen atoms.

T1 은, 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.T 1 is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with halogen atoms.

A1, A2 및 D1 은, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH- 또는 -NH-C(=O)- 이다. 단, T1 이 단결합일 때는, A2 단결합이다.A 1 , A 2 and D 1 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)- NH- or -NH-C(=O)-. However, when T 1 is a single bond, A 2 is also is a single bond

Y1 및 Y2 는, 페닐렌기 또는 나프틸렌기이고, 그 페닐렌기 및 나프틸렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다.Y 1 and Y 2 are a phenylene group or a naphthylene group, and some or all of the hydrogen atoms of the phenylene group and the naphthylene group are cyano groups, halogen atoms, alkyl groups of 1 to 5 carbon atoms, or alkyl groups of 2 to 6 carbon atoms It may be substituted with a carbonyl group or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.

P1, Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로 단결합, 페닐렌기 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 지환식 탄화수소기이고, 그 페닐렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다. Q1 의 수가 2 일 때, 각 Q1 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, Q2 의 수가 2 일 때, 각 Q2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.P 1 , Q 1 and Q 2 are each independently a single bond, a phenylene group, or a divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the phenylene group are cyano groups, halogen atoms, It may be substituted with an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. When the number of Q 1 is 2, each Q 1 may be the same or different, and when the number of Q 2 is 2, each Q 2 may be the same or different.

R 은, 수소 원자, 시아노기, 할로겐 원자, 카르복시기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기, 탄소수 3 ∼ 7 의 시클로알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기이다.R is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a carboxy group, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 7 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms.

X1 및 X2 는, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 이다. X1 의 수가 2 일 때, 각 X1 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, X2 의 수가 2 일 때, 각 X2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.X 1 and X 2 are each independently a single bond, -O-, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡ C-, -CH=CH-C(=O)-O- or -OC(=O)-CH=CH-. When the number of X 1 is 2, each X 1 may be the same or different, and when the number of X 2 is 2, each X 2 may be the same or different.

Cou 는, 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기이고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.Cou is a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and some of the hydrogen atoms bonded thereto are -NO 2 , -CN, -CH=C(CN) 2 , -CH=CH-CN, a halogen atom , a C1-C5 alkyl group or a C1-C5 alkoxy group.

E 는, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- 또는 -S-C(=O)- 이다.E is -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- or -S-C(=O)-.

G1 및 G2 는, 각각 독립적으로 N 또는 CH 이다.G 1 and G 2 are each independently N or CH.

파선은, 결합손이다.)The dashed line is the bond hand.)

9. 상기 중합체가, 또한 광 2 량화도 광 이성화도 하지 않는 측사슬을 갖는 8 의 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물.9. The polymer composition for forming a single-layer retardation film in 8, wherein the polymer has a side chain that neither undergoes photodimerization nor photoisomerization.

10. 상기 광 2 량화도 광 이성화도 하지 않는 측사슬이, 또한, 하기 식 (b1) ∼ (b11) 중 어느 것으로 나타내어지는 것인 9 의 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물.10. The polymer composition for forming a single layer retardation film in item 9, wherein the side chain that neither photodimerization nor photoisomerization is represented by any of the following formulas (b1) to (b11).

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

(식 중, A3 및 A4 는, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, 또는 -NH-C(=O)- 이다.(In the formula, A 3 and A 4 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O) -NH-, or -NH-C(=O)-.

R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기이다.R 1 is -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, or 1 to 12 carbon atoms It is an alkyl group of or a C1-C12 alkoxy group.

R2 는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기이며, 이들 기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.R 2 is a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, or a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in these groups are -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms.

R3 은, 수소 원자, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬옥시기이다.R 3 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, or a carbon number It is an alkyl group of 1-12 or an alkyloxy group of 1-12 carbon atoms.

E 는, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- 또는 -S-C(=O)- 이다.E is -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- or -S-C(=O)-.

a 는, 1 ∼ 12 의 정수이다.a is an integer of 1 to 12;

k1 ∼ k5 는, 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수이지만, k1 ∼ k5 의 합계는 2 이상이다.k1-k5 are each independently an integer of 0-2, but the sum of k1-k5 is 2 or more.

k6 및 k7 은, 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수이지만, k6 및 k7 의 합계는 1 이상이다.Although k6 and k7 are each independently an integer of 0-2, the sum of k6 and k7 is 1 or more.

m1, m2 및 m3 은, 각각 독립적으로 1 ∼ 3 의 정수이다.m1, m2 and m3 are each independently an integer of 1-3.

n 은, 0 또는 1 이다.n is 0 or 1.

Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-, -CH2-O-, 또는 -CF2- 이다.Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, -C(=O)-, -CH 2 -O-, or -CF 2 -.

파선은, 결합손이다.The broken line is a bonding hand.

또, 식 중의 벤젠 고리 및 나프탈렌 고리의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다.)In addition, some or all of the hydrogen atoms of the benzene ring and naphthalene ring in the formula may be substituted with a cyano group, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. .)

본 발명의 제조 방법에 의하면, 정파장 분산성을 갖는 중합체를 포함하는 조성물을 이용하여, 간편하게, 저비용으로, 원 위상차가 발현되고, 플랫 또는 역파장 분산성을 나타내는 단층 위상차막을 제조할 수 있다. 상기 단층 위상차막에 의해, 직선 편광을 광대역에서 원 편광으로 변환할 수 있다.According to the production method of the present invention, a single-layer retardation film exhibiting flat or reverse wavelength dispersion can be produced conveniently and at low cost using a composition containing a polymer having positive wavelength dispersion. With the single-layer retardation film, linearly polarized light can be converted into circularly polarized light in a broadband.

도 1 은 실시예 7 에서 얻어진 위상차막이 부착된 기판의 직선 위상차 (Linear Re) 와 파장의 관계를 나타내는 그래프이다.1 is a graph showing the relationship between linear retardation (Linear Re) and wavelength of a substrate with a retardation film obtained in Example 7;

본 발명의 단층 위상차막의 제조 방법은,The manufacturing method of the single-layer retardation film of the present invention,

(I) 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물을 기판 상에 도포하고, 건조시켜 도막을 형성하는 공정,(I) a step of applying a polymer composition for forming a single-layer retardation film on a substrate and drying it to form a coating film;

(II) 상기 도막에, 제 1 편광 자외선을 조사하는 제 1 노광 공정, 및(II) a first exposure step of irradiating the coating film with first polarized ultraviolet rays; and

(III) 상기 편광 자외선을 조사한 도막에, 추가로, 제 1 편광 자외선을 조사한 면과 동일 면에, 제 1 편광 자외선과 편광축 방향이 상이한 제 2 편광 자외선을 조사하는 제 2 노광 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명에 있어서 편광축 방향이란, 편광 자외선의 진동 방향과 동일한 의미이다.(III) a second exposure step of irradiating a second polarized ultraviolet light having a different polarization axis direction from that of the first polarized ultraviolet ray on the same surface as the surface irradiated with the first polarized ultraviolet ray to the coating film irradiated with the polarized ultraviolet ray; to be characterized In the present invention, the direction of the polarization axis has the same meaning as the direction of vibration of the polarized ultraviolet rays.

[공정 (I)][Process (I)]

공정 (I) 은, 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물을 기판 상에 도포하고, 건조시켜 도막을 형성하는 공정이다. 보다 구체적으로는, 상기 중합체 조성물을 기판 (예를 들어, 실리콘/이산화실리콘 피복 기판, 실리콘나이트라이드 기판, 금속, 예를 들어, 알루미늄, 몰리브덴, 크롬 등이 피복된 기판, 유리 기판, 석영 기판, ITO 기판, 투명 필름 (트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 필름, 시클로올레핀 폴리머 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 아크릴 필름 등의 수지 필름)) 상에, 바 코트, 스핀 코트, 플로 코트, 롤 코트, 슬릿 코트, 슬릿 코트에 이어진 스핀 코트, 잉크젯법, 인쇄법 등의 방법에 의해 도포한다. 도포한 후, 자연 건조시키거나, 핫 플레이트, 열 순환형 오븐, IR (적외선) 형 오븐 등의 가열 수단에 의해 가열하거나 하여, 용매를 증발시켜 도막을 얻을 수 있다. 가열 수단에 의해 가열하는 경우, 그 온도는 특별히 한정되지 않지만, 30 ∼ 200 ℃ 가 바람직하고, 30 ∼ 150 ℃ 가 보다 바람직하다.Step (I) is a step of applying the polymer composition for forming a single-layer retardation film onto a substrate and drying it to form a coating film. More specifically, the polymer composition is applied to a substrate (e.g., a silicon/silicon dioxide-coated substrate, a silicon nitride substrate, a substrate coated with a metal such as aluminum, molybdenum, chromium, etc., a glass substrate, a quartz substrate, On an ITO substrate, a transparent film (a triacetyl cellulose (TAC) film, a cycloolefin polymer film, a polyethylene terephthalate film, a resin film such as an acrylic film)), bar coat, spin coat, flow coat, roll coat, slit coat, It is applied by a method such as spin coating followed by slit coating, an inkjet method, or a printing method. After application, the coating film can be obtained by air drying or by heating with a heating means such as a hot plate, heat circulation type oven, or IR (infrared ray) type oven to evaporate the solvent. When heating with a heating means, the temperature is not particularly limited, but is preferably 30 to 200°C and more preferably 30 to 150°C.

[단층 위상차막 형성용 중합체 조성물][Polymer composition for forming single-layer phase contrast film]

본 발명의 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물은, 자외선으로 광 반응하는 광 반응성 부위를 측사슬에 갖는 중합체를 포함하는 것이며, 구체적으로는, 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 중합체 또는 액정성 측사슬 중합체와 감광성 측사슬 중합체를 개별로 갖는 혼합 측사슬형 중합체 (이하, 간단히 측사슬형 중합체라고도 한다) 를 포함하는 것이다. 상기 조성물로부터 얻어지는 도막도, 액정성과 감광성을 포함하는 측사슬형 중합체를 갖는 막이다. 이 도막에는 러빙 처리를 실시하지 않고, 편광 조사에 의해 배향 처리를 실시한다. 그리고, 편광 조사 후, 그 측사슬형 중합체막을 가열하는 공정을 거쳐, 광학 이방성이 부여된 필름 (단층 위상차막) 이 된다. 이 때, 편광 조사에 의해 발현된 미소한 이방성이 드라이빙 포스가 되어, 측사슬형 중합체 자체가 자기 조직화에 의해 효율적으로 재배향된다. 그 결과, 단층 위상차막으로서 고효율의 배향 처리가 실현되고, 높은 광학 이방성이 부여된 단층 위상차막을 얻을 수 있다.The polymer composition for forming a single-layer retardation film of the present invention includes a polymer having a photoreactive site that photoreacts with ultraviolet rays in a side chain, specifically, a photosensitive side chain type polymer or liquid crystal capable of expressing liquid crystallinity. A mixed side chain polymer (hereinafter, simply referred to as a side chain polymer) having a sexual side chain polymer and a photosensitive side chain polymer separately is included. The coating film obtained from the said composition is also a film|membrane which has a side chain type polymer containing liquid crystalline property and photosensitivity. The coating film is not subjected to rubbing treatment, but is subjected to alignment treatment by polarized light irradiation. And after polarized light irradiation, the side chain type polymer film is subjected to a step of heating to obtain a film (single-layer retardation film) imparted with optical anisotropy. At this time, the minute anisotropy expressed by polarized light irradiation becomes a driving force, and the side chain polymer itself is efficiently reorientated by self-organization. As a result, highly efficient alignment treatment can be realized as a single-layer retardation film, and a single-layer retardation film imparted with high optical anisotropy can be obtained.

본 발명에 있어서 광 반응성이란, (A-1) 광 가교 (광 2 량화) 반응, (A-2) 광 이성화, 또는 (A-3) 광 프리스 전위 중 어느 것의 반응 ; 또는 복수의 반응 ; 을 일으키는 성질을 말한다. 상기 측사슬형 중합체는, 바람직하게는 (A-1) 광 가교 반응 또는 (A-2) 광 이성화 반응을 일으키는 측사슬을 갖는 것이 바람직하다.Photoreactivity in this invention is any reaction of (A-1) photocrosslinking (photodimerization) reaction, (A-2) photoisomerization, or (A-3) optical fleece dislocation; or multiple reactions; refers to a property that causes The side chain type polymer preferably has a side chain that causes a photocrosslinking reaction (A-1) or a photoisomerization reaction (A-2).

상기 측사슬형 중합체는, (i) 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 고분자로서, 광 반응성 측사슬을 갖는 고분자이다. 상기 측사슬형 중합체는, (ii) 200 nm ∼ 400 nm, 바람직하게는 240 nm ∼ 400 nm 의 파장 범위의 광에서 반응하고, 또한 50 ∼ 300 ℃ 의 온도 범위에서 액정성을 나타내는 것이 바람직하다. 상기 측사슬형 중합체는, (iii) 200 nm ∼ 400 nm, 바람직하게는 240 nm ∼ 400 nm 의 파장 범위의 광, 특히 편광 자외선에 반응하는 광 반응성 측사슬을 갖는 것이 바람직하다. 상기 측사슬형 중합체는, (iv) 50 ∼ 300 ℃ 의 온도 범위에서 액정성을 나타내기 때문에 메소겐기를 갖는 것이 바람직하다.The side chain type polymer is (i) a polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range, and is a polymer having photoreactive side chains. The side chain type polymer (ii) preferably reacts with light in a wavelength range of 200 nm to 400 nm, preferably 240 nm to 400 nm, and exhibits liquid crystallinity in a temperature range of 50 to 300°C. The side chain type polymer preferably has (iii) a photoreactive side chain that reacts to light in a wavelength range of 200 nm to 400 nm, preferably 240 nm to 400 nm, particularly polarized ultraviolet light. Since the said side chain polymer exhibits liquid crystallinity in the temperature range of (iv) 50-300 degreeC, it is preferable to have a mesogenic group.

상기 측사슬형 중합체는, 전술한 바와 같이, 광 반응성을 갖는 광 반응성 측사슬을 갖는다. 그 측사슬의 구조는 특별히 한정되지 않지만, 상기 (A-1), (A-2) 및/또는 (A-3) 에 나타내는 반응을 일으키는 구조를 갖고, 특히 (A-1) 광 가교 반응 및/또는 (A-2) 광 이성화 반응을 일으키는 구조를 갖는 것이 바람직하다. 또한, (A-1) 광 가교 반응을 일으키는 구조는, 그 반응 후의 구조가, 열 등의 외부 스트레스에 노출되었다고 해도 측사슬형 중합체의 배향성을 장기간 안정적으로 유지할 수 있는 점에서 바람직하다. 또, (A-2) 광 이성화 반응을 일으키는 구조는, 광 가교나 광 프리스 전이와 비교하여 저노광량에서의 배향 처리가 가능해지고, 위상차 필름 제조시의 생산 효율을 높일 수 있는 점에서 바람직하다.As described above, the side chain type polymer has a photoreactive side chain having photoreactivity. Although the structure of the side chain is not particularly limited, it has a structure that causes a reaction shown in the above (A-1), (A-2) and/or (A-3), particularly (A-1) photocrosslinking reaction and / or (A-2) What has a structure which causes a photoisomerization reaction is preferable. Moreover, the structure which causes (A-1) photocrosslinking reaction is preferable from the point which can maintain the orientation of a side chain type polymer stably for a long period of time even if the structure after the reaction is exposed to external stress, such as heat. In addition, (A-2) a structure that causes a photoisomerization reaction is preferable in that an orientation treatment at a lower exposure amount is possible compared to photocrosslinking or optical fleece transfer, and the production efficiency at the time of retardation film production can be increased.

상기 측사슬형 중합체의 측사슬의 구조는, 강직한 메소겐 성분을 갖는 쪽이, 액정의 배향이 안정되기 때문에 바람직하다. 메소겐 성분으로서, 비페닐기, 터페닐기, 페닐시클로헥실기, 페닐벤조에이트기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.As for the structure of the side chain of the said side chain type polymer, the one which has a rigid mesogen component is preferable since orientation of a liquid crystal is stable. Examples of the mesogenic component include a biphenyl group, a terphenyl group, a phenylcyclohexyl group, and a phenylbenzoate group, but are not limited thereto.

상기 중합체에 포함되는 자외선으로 광 반응하는 광 반응성 부위를 갖는 측사슬 (이하, 측사슬 a 라고도 한다) 로는, 하기 식 (a1) ∼ (a6) 중 어느 것으로 나타내는 것이 바람직하다. 또한, 용매에 대한 용해성의 관점에서, 1 개의 측사슬 a 가 갖는 벤젠 고리의 수는, 3 개 이내가 바람직하다.As a side chain (henceforth also referred to as side chain a) which has a photoreactive site which photoreacts with the ultraviolet-ray contained in the said polymer, what is represented by any of following formula (a1) - (a6) is preferable. Moreover, as for the number of benzene rings which one side chain a has, from a solubility viewpoint to a solvent, less than 3 are preferable.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

식 (a1) ∼ (a6) 중, n1 및 n2 는, 각각 독립적으로 0, 1, 2 또는 3 이다. L 은, 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. T1 은, 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. A1, A2 및 D1 은, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH- 또는 -NH-C(=O)- 이다. 단, T1 이 단결합일 때는, A2 단결합이다. Y1 및 Y2 는 페닐렌기 또는 나프틸렌기이고, 그 페닐렌기 및 나프틸렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다. P1, Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로 단결합, 페닐렌기 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 지환식 탄화수소기이고, 그 페닐렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다. Q1 의 수가 2 일 때, 각 Q1 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, Q2 의 수가 2 일 때, 각 Q2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. R 은, 수소 원자, 시아노기, 할로겐 원자, 카르복시기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기, 탄소수 3 ∼ 7 의 시클로알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기이다. X1 및 X2 는, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 이다. X1 의 수가 2 일 때, 각 X1 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, X2 의 수가 2 일 때, 각 X2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. Cou 는, 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기이고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다. E 는, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- 또는 -S-C(=O)- 이다. G1 및 G2 는, 각각 독립적으로 N 또는 CH 이다. 파선은, 결합손이다.In formulas (a1) to (a6), n1 and n2 are each independently 0, 1, 2 or 3. L is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with halogen atoms. T 1 is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with halogen atoms. A 1 , A 2 and D 1 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)- NH- or -NH-C(=O)-. However, when T 1 is a single bond, A 2 is also is a single bond Y 1 and Y 2 are a phenylene group or a naphthylene group, and some or all of the hydrogen atoms of the phenylene group and the naphthylene group are cyano groups, halogen atoms, alkyl groups of 1 to 5 carbon atoms, or alkylcarbonyl groups of 2 to 6 carbon atoms. Or you may be substituted by the C1-C5 alkoxy group. P 1 , Q 1 and Q 2 are each independently a single bond, a phenylene group, or a divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the phenylene group are cyano groups, halogen atoms, It may be substituted with an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. When the number of Q 1 is 2, each Q 1 may be the same or different, and when the number of Q 2 is 2, each Q 2 may be the same or different. R is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a carboxy group, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 7 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. X 1 and X 2 are each independently a single bond, -O-, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡ C-, -CH=CH-C(=O)-O- or -OC(=O)-CH=CH-. When the number of X 1 is 2, each X 1 may be the same or different, and when the number of X 2 is 2, each X 2 may be the same or different. Cou is a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and some of the hydrogen atoms bonded thereto are -NO 2 , -CN, -CH=C(CN) 2 , -CH=CH-CN, a halogen atom , a C1-C5 alkyl group or a C1-C5 alkoxy group. E is -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)-S- or -SC(=O)-. G 1 and G 2 are each independently N or CH. The broken line is a bonding hand.

상기 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기는, 직사슬형, 분기형, 고리형 중 어느 것이어도 되고, 그 구체예로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기 등을 들 수 있다.The alkylene group having 1 to 12 carbon atoms may be linear, branched or cyclic, and specific examples thereof include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, butane-1, 4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, A decane-1,10-diyl group etc. are mentioned.

상기 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다.As said halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc. are mentioned.

상기 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기는, 직사슬형, 분기형 중 어느 것이어도 되고, 그 구체예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기 등을 들 수 있다.The alkyl group having 1 to 5 carbon atoms may be either linear or branched, and specific examples thereof include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, tert-butyl group, An n-pentyl group etc. are mentioned.

상기 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기의 구체예로는, 메틸카르보닐(아세틸)기, 에틸카르보닐기, n-프로필카르보닐기, n-부틸카르보닐기, n-펜틸카르보닐기 등을 들 수 있다.Specific examples of the alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms include methylcarbonyl (acetyl) group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, and n-pentylcarbonyl group.

상기 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기의 구체예로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, n-펜틸옥시기 등을 들 수 있다.A methoxy group, an ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, n-pentyloxy group etc. are mentioned as a specific example of the said C1-C5 alkoxy group.

상기 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 지환식 탄화수소기의 구체예로는, 시클로펜탄디일기, 시클로헥산디일기, 시클로헵탄디일기, 시클로옥탄디일기를 들 수 있다.Specific examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms include a cyclopentanediyl group, a cyclohexanediyl group, a cycloheptanediyl group and a cyclooctanediyl group.

상기 탄소수 3 ∼ 7 의 시클로알킬기의 구체예로는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group etc. are mentioned as a specific example of the said C3-C7 cycloalkyl group.

측사슬 a 로는, 하기 식 (a1-1), (a1-2), (a2-1), (a3-1), (a4-1), (a5-1) 또는 (a6-1) 로 나타내는 것이 보다 바람직하다.As side chain a, it is represented by the following formula (a1-1), (a1-2), (a2-1), (a3-1), (a4-1), (a5-1) or (a6-1) it is more preferable

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

(식 중, L, A1, A2, Y1, Y2, P1, Q1, T1, R, X1, Cou, E, G1, G2, n1 및 파선은, 상기와 동일하다)(In the formula, L, A 1 , A 2 , Y 1 , Y 2 , P 1 , Q 1 , T 1 , R, X 1 , Cou, E, G 1 , G 2 , n1 and the broken line are the same as above. do)

식 (a1-1) 로 나타내는 측사슬로는, 하기 식 (a1-1-1) 로 나타내는 측사슬이 바람직하고, 식 (a1-2) 로 나타내는 측사슬로는, 식 (a1-2-1) 로 나타내는 측사슬이 바람직하다.As a side chain represented by a formula (a1-1), a side chain represented by the following formula (a1-1-1) is preferable, and as a side chain represented by a formula (a1-2), a formula (a1-2-1 ) The side chain represented by is preferable.

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

(식 중, L, R 및 파선은, 상기와 동일하다)(In the formula, L, R and the broken line are the same as above)

식 (a2-1) 로 나타내는 측사슬로는, 하기 식 (a2-1-1) 로 나타내는 측사슬이 바람직하다.As a side chain represented by formula (a2-1), the side chain represented by the following formula (a2-1-1) is preferable.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

(식 중, L, A2, Q1, T1, R 및 파선은, 상기와 동일하다)(In the formula, L, A 2 , Q 1 , T 1 , R and the broken line are the same as above.)

식 (a3-1) 로 나타내는 측사슬로는, 하기 식 (a3-1-1), (a3-1-2) 또는 (a3-1-3) 으로 나타내는 측사슬이 바람직하다.As a side chain represented by a formula (a3-1), a side chain represented by the following formula (a3-1-1), (a3-1-2) or (a3-1-3) is preferable.

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

(식 중, L, Cou 및 파선은, 상기와 동일하다)(In the formula, L, Cou and broken lines are the same as above)

식 (a4-1) 로 나타내는 측사슬로는, 하기 식 (a4-1-1), (a4-1-2), (a4-1-3) 또는 (a4-1-4) 로 나타내는 측사슬이 바람직하다.As a side chain represented by formula (a4-1), the side chain represented by the following formula (a4-1-1), (a4-1-2), (a4-1-3) or (a4-1-4) this is preferable

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

(식 중, L, R 및 파선은, 상기와 동일하다)(In the formula, L, R and the broken line are the same as above)

식 (a5-1) 로 나타내는 측사슬로는, 하기 식 (a5-1-1) 또는 (a5-1-2) 로 나타내는 측사슬이 바람직하다.As a side chain represented by a formula (a5-1), a side chain represented by the following formula (a5-1-1) or (a5-1-2) is preferable.

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

(식 중, L, R 및 파선은, 상기와 동일하다)(In the formula, L, R and the broken line are the same as above)

식 (a6-1) 로 나타내는 측사슬로는, 하기 식 (a6-1-1), (a6-1-2) 또는 (a6-1-3) 으로 나타내는 측사슬이 바람직하다.As a side chain represented by a formula (a6-1), a side chain represented by the following formula (a6-1-1), (a6-1-2) or (a6-1-3) is preferable.

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

(식 중, L, R 및 파선은, 상기와 동일하다)(In the formula, L, R and the broken line are the same as above)

본 발명에서 사용하는 측사슬형 중합체는, 주사슬에 감광성을 갖는 측사슬이 결합되어 있고, 파장 200 nm ∼ 400 nm 에서 선택된 최적인 광, 특히, 파장 254 nm, 313 nm 및 365 nm 의 광에 감응하여 가교 반응, 이성화 반응 또는 프리스 전위를 일으킬 수 있다. 감광성의 측사슬형 중합체의 구조는, 그러한 특성을 만족하는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 측사슬 구조에 강직한 메소겐 성분을 갖는 것이 바람직하다. 상기 측사슬형 중합체를 단층 위상차막으로 했을 때에, 안정적인 광학 이방성을 얻을 수 있다.The side chain type polymer used in the present invention has photosensitive side chains bonded to the main chain, and is suitable for optimal light selected from the wavelengths of 200 nm to 400 nm, in particular, to light with wavelengths of 254 nm, 313 nm and 365 nm. It can be sensitized to cause cross-linking reactions, isomerization reactions or fris dislocations. The structure of the photosensitive side chain type polymer is not particularly limited as long as it satisfies such characteristics, but it is preferable to have a rigid mesogen component in the side chain structure. When the side chain type polymer is used as a single layer retardation film, stable optical anisotropy can be obtained.

감광성의 측사슬형 중합체의 구조의 보다 구체적인 예로는, (메트)아크릴레이트, 이타코네이트, 푸마레이트, 말레에이트, α-메틸렌-γ-부티로락톤, 스티렌, 비닐, 말레이미드, 노르보르넨 등의 라디칼 중합성기 및 실록산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 구성된 주사슬과, 측사슬 a 를 갖는 구조가 바람직하다.More specific examples of the structure of the photosensitive side chain type polymer include (meth)acrylate, itaconate, fumarate, maleate, α-methylene-γ-butyrolactone, styrene, vinyl, maleimide, and norbornene. A structure having a main chain composed of at least one member selected from the group consisting of radical polymerizable groups such as the like and siloxane, and a side chain a is preferable.

또한, 상기 측사슬형 중합체는, 또한, 광 2 량화도 광 이성화도 하지 않는 측사슬 (이하, 측사슬 b 라고도 한다) 를 포함해도 된다. 이러한 측사슬 b 로는, 하기 식 (b1) ∼ (b11) 중 어느 것으로 나타내는 것이 바람직하지만, 이들에 한정되지 않는다. 또한, 하기 식 중, 파선은 결합손이다.Moreover, the said side chain type polymer may also contain the side chain (henceforth, also referred to as side chain b) which does neither photodimerization nor photoisomerization. As such a side chain b, those represented by any of the following formulas (b1) to (b11) are preferred, but are not limited thereto. In addition, in the following formula, a broken line is a bond.

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

식 (b1) ∼ (b11) 중, A3 및 A4 는, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, 또는 -NH-C(=O)- 이다. R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기이다. R2 는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기이며, 이들 기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다. R3 은, 수소 원자, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬옥시기이다. E 는, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- 또는 -S-C(=O)- 이다. a 는, 1 ∼ 12 의 정수이다. k1 ∼ k5 는, 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수이지만, k1 ∼ k5 의 합계는 2 이상이다. k6 및 k7 은, 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수이지만, k6 및 k7 의 합계는 1 이상이다. m1, m2 및 m3 은, 각각 독립적으로 1 ∼ 3 의 정수이다. n 은, 0 또는 1 이다. Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-, -CH2-O-, 또는 -CF2- 이다. 파선은, 결합손이다. 또, 식 중의 벤젠 고리 및 나프탈렌 고리의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다.In formulas (b1) to (b11), A 3 and A 4 each independently represent a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)-NH-, or -NH-C(=O)-. R 1 is -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, or 1 to 12 carbon atoms It is an alkyl group of or a C1-C12 alkoxy group. R 2 is a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, or a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in these groups are -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. R 3 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, or a carbon number It is an alkyl group of 1-12 or an alkyloxy group of 1-12 carbon atoms. E is -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)-S- or -SC(=O)-. a is an integer of 1 to 12; k1-k5 are each independently an integer of 0-2, but the sum of k1-k5 is 2 or more. Although k6 and k7 are each independently an integer of 0-2, the sum of k6 and k7 is 1 or more. m1, m2 and m3 are each independently an integer of 1-3. n is 0 or 1. Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, -C(=O)-, -CH 2 -O-, or -CF 2 -. The broken line is a bonding hand. In addition, some or all of the hydrogen atoms of the benzene ring and naphthalene ring in the formula may be substituted with a cyano group, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. .

상기 1 가 질소 함유 복소 고리기의 구체예로는, 피롤리디닐기, 피페리디닐기, 피페라지닐기, 피롤릴기, 피리딜기 등을 들 수 있다. 상기 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기의 구체예로는, 시클로펜틸, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. 또, 상기 알킬기 및 알콕시기로는, 식 (a1) ∼ (a6) 의 설명에 있어서 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있다.Specific examples of the monovalent nitrogen-containing heterocyclic group include a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a piperazinyl group, a pyrrolyl group, and a pyridyl group. A cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc. are mentioned as a specific example of the said C5-C8 monovalent alicyclic hydrocarbon group. Moreover, as said alkyl group and an alkoxy group, the thing same as the group illustrated in description of formula (a1) - (a6) is mentioned.

본 발명에서 사용하는 측사슬형 중합체는, 측사슬 a 를 부여하는 모노머, 필요에 따라 측사슬 b 를 부여하는 모노머를 중합하여 얻을 수 있다.The side chain type polymer used in the present invention can be obtained by polymerizing a monomer giving side chain a and, if necessary, a monomer giving side chain b.

측사슬 a 를 부여하는 모노머 (이하, 모노머 MA 라고도 한다) 로는, 하기 식 (M1-1), (M1-2), (M2), (M3), (M4), (M5) 또는 (M6) 으로 나타내는 화합물을 들 수 있다.As a monomer giving side chain a (henceforth also referred to as monomer MA), the following formula (M1-1), (M1-2), (M2), (M3), (M4), (M5) or (M6) The compound represented by is mentioned.

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

(식 중, A1, A2, D1, L, T1, Y1, Y2, P1, Q1, Q2, R, Cou, E, X1, X2, G1, G2, n1 및 n2 는, 상기와 동일하다)(In the formula, A 1 , A 2 , D 1 , L, T 1 , Y 1 , Y 2 , P 1 , Q 1 , Q 2 , R, Cou, E, X 1 , X 2 , G 1 , G 2 , n1 and n2 are the same as above)

식 (M1-1), (M1-2), (M2), (M3), (M4), (M5) 및 (M6) 중, PG 는 중합성기이고, 하기 식 (PG1) ∼ (PG8) 중 어느 것으로 나타내는 기가 바람직하다. 그 중에서도, 중합 반응의 제어가 용이하다는 점 및 중합체의 안정성의 관점에서, 식 (PG1) 로 나타내는 아크릴기 또는 메타크릴기가 바람직하다.In the formulas (M1-1), (M1-2), (M2), (M3), (M4), (M5) and (M6), PG is a polymerizable group, and in the following formulas (PG1) to (PG8) The group represented by either is preferable. Among them, an acryl group or a methacryl group represented by formula (PG1) is preferable from the viewpoint of easy control of the polymerization reaction and stability of the polymer.

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

(식 중, RA 는, 수소 원자 또는 메틸기이고, 파선은, L 과의 결합손이다)(In the formula, R A is a hydrogen atom or a methyl group, and the broken line is a bond with L)

식 (M1-1) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M1-1-1) 로 나타내는 것이 바람직하고, 식 (M1-2) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M1-2-1) 로 나타내는 것이 바람직하다.The compound represented by formula (M1-1) is preferably represented by the following formula (M1-1-1), and the compound represented by formula (M1-2) is represented by the following formula (M1-2-1) it is desirable

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

(식 중, PG, L, Y1, P1 및 R 은, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, L, Y 1 , P 1 and R are the same as above)

식 (M2) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M2-1) 로 나타내는 것이 바람직하다.As a compound represented by formula (M2), what is represented by the following formula (M2-1) is preferable.

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

(식 중, PG, A2, L, T1, Y1, P1, Q1 및 R 은, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, A 2 , L, T 1 , Y 1 , P 1 , Q 1 and R are the same as above)

식 (M3) 으로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M3-1) 로 나타내는 것이 바람직하다.As a compound represented by formula (M3), what is represented by the following formula (M3-1) is preferable.

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

(식 중, PG, A1, L, X1, Q1, Cou 및 n1 은, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, A 1 , L, X 1 , Q 1 , Cou and n1 are the same as above)

식 (M4) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M4-1) 로 나타내는 것이 바람직하다.As a compound represented by formula (M4), what is represented by the following formula (M4-1) is preferable.

[화학식 22][Formula 22]

Figure pct00022
Figure pct00022

(식 중, PG, A1, L, X1, Y1, Y2, Q1, E, R 및 n1 은, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, A 1 , L, X 1 , Y 1 , Y 2 , Q 1 , E, R and n1 are the same as above)

식 (M5) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M5-1) 로 나타내는 것이 바람직하다.As a compound represented by formula (M5), what is represented by the following formula (M5-1) is preferable.

[화학식 23][Formula 23]

Figure pct00023
Figure pct00023

(식 중, PG, A1, L, X1, Y1, Y2, Q1, R 및 n1 은, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, A 1 , L, X 1 , Y 1 , Y 2 , Q 1 , R and n1 are the same as above)

식 (M6) 으로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M6-1) 로 나타내는 것이 바람직하다.As a compound represented by formula (M6), what is represented by the following formula (M6-1) is preferable.

[화학식 24][Formula 24]

Figure pct00024
Figure pct00024

(식 중, PG, A1, L, X1, Y1, Y2, Q1, G1, G2, R 및 n1 은, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, A 1 , L, X 1 , Y 1 , Y 2 , Q 1 , G 1 , G 2 , R and n1 are the same as above)

식 (M1-1-1) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M1-1-2) 로 나타내는 것이 바람직하고, 식 (M1-2-1) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M1-2-2) 로 나타내는 것이 바람직하다.As a compound represented by formula (M1-1-1), what is represented by the following formula (M1-1-2) is preferable, and as a compound represented by formula (M1-2-1), the following formula (M1-2- 2) is preferred.

[화학식 25][Formula 25]

Figure pct00025
Figure pct00025

(식 중, PG, L 및 R 은, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, L and R are the same as above)

식 (M2-1) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M2-2) 로 나타내는 것이 바람직하다.As a compound represented by formula (M2-1), what is represented by the following formula (M2-2) is preferable.

[화학식 26][Formula 26]

Figure pct00026
Figure pct00026

(식 중, PG, A2, L, T1, Q1 및 R 은, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, A 2 , L, T 1 , Q 1 and R are the same as above.)

식 (M3-1) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M3-2), (M3-3) 또는 (M3-4) 로 나타내는 것이 바람직하다.As a compound represented by formula (M3-1), what is represented by the following formula (M3-2), (M3-3) or (M3-4) is preferable.

[화학식 27][Formula 27]

Figure pct00027
Figure pct00027

(식 중, PG, L 및 Cou 는, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, L and Cou are the same as above)

식 (M4-1) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M4-2), (M4-3), (M4-4) 또는 (M4-5) 로 나타내는 것이 바람직하다.As a compound represented by formula (M4-1), what is represented by the following formula (M4-2), (M4-3), (M4-4) or (M4-5) is preferable.

[화학식 28][Formula 28]

Figure pct00028
Figure pct00028

(식 중, PG, L 및 R 은, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, L and R are the same as above)

식 (M5-1) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M5-2) 또는 (M5-3) 으로 나타내는 것이 바람직하다.As a compound represented by formula (M5-1), what is represented by the following formula (M5-2) or (M5-3) is preferable.

[화학식 29][Formula 29]

Figure pct00029
Figure pct00029

(식 중, PG, L 및 R 은, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, L and R are the same as above)

식 (M6-1) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (M6-2), (M6-3), 또는 (M6-4) 로 나타내는 것이 바람직하다.As a compound represented by formula (M6-1), what is represented by the following formula (M6-2), (M6-3), or (M6-4) is preferable.

[화학식 30][Formula 30]

Figure pct00030
Figure pct00030

(식 중, PG, L 및 R 은, 상기와 동일하다)(In the formula, PG, L and R are the same as above)

식 (M1-1) 로 나타내는 화합물로는, 예를 들어 하기 식 (A-1-1-1) ∼ (A-1-1-13) 중 어느 것으로 나타내는 것을 들 수 있다. 하기 식 (A-1-1-1) ∼ (A-1-1-13) 중, PG 는 중합성기이고, s1 은 메틸렌기의 수를 나타내고, 2 ∼ 9 의 정수이다. R11 은, -H, -CH3, -OCH3, -C(CH3)3, -C(=O)-CH3 또는 -CN 이고, R12 는, -H, -CH3, -OCH3, -CN 또는 -F 이다.As a compound represented by a formula (M1-1), what is represented by any of the following formula (A-1-1-1) - (A-1-1-13) is mentioned, for example. In the following formulas (A-1-1-1) to (A-1-1-13), PG is a polymerizable group, s1 represents the number of methylene groups, and is an integer of 2 to 9. R 11 is -H, -CH 3 , -OCH 3 , -C(CH 3 ) 3 , -C(=O)-CH 3 or -CN, and R 12 is -H, -CH 3 , -OCH 3 , -CN or -F.

[화학식 31][Formula 31]

Figure pct00031
Figure pct00031

[화학식 32][Formula 32]

Figure pct00032
Figure pct00032

[화학식 33][Formula 33]

Figure pct00033
Figure pct00033

[화학식 34][Formula 34]

Figure pct00034
Figure pct00034

식 (M1-2) 로 나타내는 화합물로는, 예를 들어, 하기 식 (A-1-2-1) ∼ (A-1-2-4) 중 어느 것으로 나타내는 것을 들 수 있다. 하기 식 중, PG 는 중합성기이고, s1 은 상기와 동일하다.As a compound represented by a formula (M1-2), what is represented by any of the following formula (A-1-2-1) - (A-1-2-4) is mentioned, for example. In the following formula, PG is a polymerizable group, and s1 is the same as above.

[화학식 35][Formula 35]

Figure pct00035
Figure pct00035

식 (M1-2) 로 나타내는 화합물의 구체예로는, 4-(6-메타크릴옥시헥실-1-옥시)신남산, 4-(6-아크릴옥시헥실-1-옥시)신남산, 4-(3-메타크릴옥시프로필-1-옥시)신남산, 4-[4-(6-메타크릴옥시헥실-1-옥시)벤조일옥시]신남산 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound represented by formula (M1-2) include 4-(6-methacryloxyhexyl-1-oxy)cinnamic acid, 4-(6-acryloxyhexyl-1-oxy)cinnamic acid, 4- (3-methacryloxypropyl-1-oxy)cinnamic acid, 4-[4-(6-methacryloxyhexyl-1-oxy)benzoyloxy]cinnamic acid, and the like.

식 (M2) 로 나타내는 화합물로는, 예를 들어, 하기 식 (A-2-1) ∼ (A-2-9) 중 어느 것으로 나타내는 것을 들 수 있다. 하기 식 (A-2-1) ∼ (A-2-9) 중, PG 는 중합성기이고, s1 및 s2 는 메틸렌기의 수를 나타내고, 각각 독립적으로 2 ∼ 9 의 정수이다. R21 은, -CH3, -OCH3, -C(CH3)3, -C(=O)-CH3, -CN 또는 -F 이다.As a compound represented by formula (M2), what is represented by either of following formula (A-2-1) - (A-2-9) is mentioned, for example. In the following formulas (A-2-1) to (A-2-9), PG is a polymerizable group, s1 and s2 represent the number of methylene groups, and are each independently an integer of 2 to 9. R 21 is -CH 3 , -OCH 3 , -C(CH 3 ) 3 , -C(=O)-CH 3 , -CN or -F.

[화학식 36][Formula 36]

Figure pct00036
Figure pct00036

[화학식 37][Formula 37]

Figure pct00037
Figure pct00037

[화학식 38][Formula 38]

Figure pct00038
Figure pct00038

식 (M3) 으로 나타내는 화합물로는, 예를 들어, 하기 식 (A-3-1) ∼ (A-3-5) 중 어느 것으로 나타내는 것을 들 수 있다. 하기 식 중, PG 는 중합성기이고, s1 은 상기와 동일하다.As a compound represented by formula (M3), what is represented by either of following formula (A-3-1) - (A-3-5) is mentioned, for example. In the following formula, PG is a polymerizable group, and s1 is the same as above.

[화학식 39][Formula 39]

Figure pct00039
Figure pct00039

식 (M4) 로 나타내는 화합물로는, 예를 들어, 하기 식 (A-4-1) ∼ (A-4-4) 중 어느 것으로 나타내는 것을 들 수 있다. 하기 식 중, PG 는 중합성기이고, s1 은 상기와 동일하다.As a compound represented by formula (M4), what is represented by either of following formula (A-4-1) - (A-4-4) is mentioned, for example. In the following formula, PG is a polymerizable group, and s1 is the same as above.

[화학식 40][Formula 40]

Figure pct00040
Figure pct00040

식 (M5) 로 나타내는 화합물로는, 예를 들어, 하기 식 (A-5-1) ∼ (A-5-3) 중 어느 것으로 나타내는 것을 들 수 있다. 하기 식 중, PG 는 중합성기이고, s1 은 상기와 동일하다.As a compound represented by formula (M5), what is represented by either of following formula (A-5-1) - (A-5-3) is mentioned, for example. In the following formula, PG is a polymerizable group, and s1 is the same as above.

[화학식 41][Formula 41]

Figure pct00041
Figure pct00041

식 (M6) 으로 나타내는 화합물로는, 예를 들어, 하기 식 (A-6-1) ∼ (A-6-3) 중 어느 것으로 나타내는 것을 들 수 있다. 하기 식 중, PG 는 중합성기이고, s1 은 상기와 동일하다.As a compound represented by formula (M6), what is represented by either of following formula (A-6-1) - (A-6-3) is mentioned, for example. In the following formula, PG is a polymerizable group, and s1 is the same as above.

[화학식 42][Formula 42]

Figure pct00042
Figure pct00042

상기 각 모노머는, 어떤 것은 시판되고 있고, 어떤 것은 예를 들면 국제 공개 제2014/074785호 등에 기재된 방법으로 제조할 수 있다.As for each said monomer, some are commercially available, and some can be manufactured by the method described, for example in International Publication No. 2014/074785.

광 2 량화도 광 이성화도 하지 않는 측사슬 b 를 부여하는 모노머 (이하, 모노머 MB 라고도 한다) 의 일례로는, 측사슬에 메소겐기를 형성할 수 있는 모노머를 들 수 있다.As an example of the monomer (henceforth also referred to as monomer MB) which gives the side chain b which does neither photodimerization nor photoisomerization, the monomer which can form a mesogenic group in a side chain is mentioned.

상기 메소겐기로는, 비페닐이나 페닐벤조에이트 등의 단독으로 메소겐 구조가 되는 기여도 되고, 벤조산 등과 같이 측사슬끼리가 수소 결합함으로써 메소겐 구조가 되는 기여도 된다. 측사슬이 갖는 메소겐기로는, 하기의 구조가 바람직하다.The mesogenic group may be a group that forms a mesogen structure alone, such as biphenyl or phenyl benzoate, or a group that becomes a mesogen structure by hydrogen bonding of side chains to each other, such as benzoic acid. As a mesogen group which a side chain has, the following structure is preferable.

[화학식 43][Formula 43]

Figure pct00043
Figure pct00043

모노머 MB 의 구체예로는, 탄화수소, (메트)아크릴레이트, 이타코네이트, 푸마레이트, 말레에이트, α-메틸렌-γ-부티로락톤, 스티렌, 비닐, 말레이미드, 노르보르넨 등의 라디칼 중합성기 및 실록산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종에서 유래하는 중합성기와, 식 (b1) ∼ (b11) 의 적어도 1 종으로 이루어지는 구조를 갖는 구조인 것이 바람직하다. 특히, 모노머 MB 는, (메트)아크릴레이트에서 유래하는 중합성기를 갖는 것이 바람직하다.Specific examples of the monomer MB include radical polymerization of hydrocarbons, (meth)acrylate, itaconate, fumarate, maleate, α-methylene-γ-butyrolactone, styrene, vinyl, maleimide, norbornene, etc. It is preferable that it is a structure which has a structure which consists of a polymerizable group derived from at least 1 sort(s) selected from the group which consists of a sexual group and a siloxane, and at least 1 sort(s) of formula (b1) - (b11). In particular, monomer MB preferably has a polymerizable group derived from (meth)acrylate.

모노머 MB 의 바람직한 예로는, 하기 식 (MB-1) ∼ (MB-8) 로 나타내는 것을 들 수 있다. 또한, 하기 식 중, PG 는 중합성기이고, p 는 메틸렌기의 수를 나타내고, 2 ∼ 9 의 정수이다.As a preferable example of monomer MB, what is represented by the following formula (MB-1) - (MB-8) is mentioned. In addition, in the following formula, PG is a polymerizable group, p represents the number of methylene groups, and is an integer of 2-9.

[화학식 44][Formula 44]

Figure pct00044
Figure pct00044

또, 광 반응성 및/또는 액정성의 발현능을 저해하지 않는 범위에서, 그 밖의 모노머를 공중합할 수 있다. 상기 그 밖의 모노머로는, 예를 들어 공업적으로 입수할 수 있는 라디칼 중합 반응 가능한 모노머를 들 수 있다. 상기 그 밖의 모노머의 구체예로는, 불포화 카르복실산, 아크릴산에스테르 화합물, 메타크릴산에스테르 화합물, 말레이미드 화합물, 아크릴로니트릴, 말레산 무수물, 스티렌 화합물, 비닐 화합물 등을 들 수 있다.In addition, other monomers can be copolymerized within a range that does not impair photoreactivity and/or liquid crystalline expression ability. As said other monomer, the monomer which can obtain industrially available radical polymerization reaction is mentioned, for example. Specific examples of the other monomers include unsaturated carboxylic acids, acrylic acid ester compounds, methacrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds, and vinyl compounds.

상기 불포화 카르복실산의 구체예로는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산 등을 들 수 있다.Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, and fumaric acid.

상기 아크릴산에스테르 화합물의 구체예로는, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 나프틸아크릴레이트, 안트릴아크릴레이트, 안트릴메틸아크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸아크릴레이트, tert-부틸아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-에톡시에틸아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴아크릴레이트, 3-메톡시부틸아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸아크릴레이트, 2-프로필-2-아다만틸아크릴레이트, 8-메틸-8-트리시클로[5.2.1.0(2,6)]데실아크릴레이트, 8-에틸-8-트리시클로[5.2.1.0(2,6)]데실아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the acrylic acid ester compound include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, 2,2 ,2-trifluoroethyl acrylate, tert-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate , tetrahydrofurfuryl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2-propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclo[5.2 .1.0(2,6)]decyl acrylate, 8-ethyl-8-tricyclo[5.2.1.0(2,6)]decyl acrylate, etc. are mentioned.

상기 메타크릴산에스테르 화합물의 구체예로는, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 나프틸메타크릴레이트, 안트릴메타크릴레이트, 안트릴메틸메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸메타크릴레이트, tert-부틸메타크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 2-에톡시에틸메타크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴메타크릴레이트, 3-메톡시부틸메타크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸메타크릴레이트, 2-프로필-2-아다만틸메타크릴레이트, 8-메틸-8-트리시클로[5.2.1.0(2,6)]데실메타크릴레이트, 8-에틸-8-트리시클로[5.2.1.0(2,6)]데실메타크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the methacrylic acid ester compound include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, and anthryl methyl methacrylate. rate, phenyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, Methoxytriethylene glycol methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-methyl-2-adamantyl methacrylate, 2- Propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclo[5.2.1.0(2,6)]decyl methacrylate, 8-ethyl-8-tricyclo[5.2.1.0(2,6) )] decyl methacrylate and the like.

상기 비닐 화합물의 구체예로는, 비닐에테르, 메틸비닐에테르, 벤질비닐에테르, 2-하이드록시에틸비닐에테르, 페닐비닐에테르, 프로필비닐에테르 등을 들 수 있다.Vinyl ether, methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, propyl vinyl ether etc. are mentioned as a specific example of the said vinyl compound.

상기 스티렌 화합물의 구체예로는, 스티렌, 4-메틸스티렌, 4-클로로스티렌, 4-브로모스티렌 등을 들 수 있다.Styrene, 4-methylstyrene, 4-chlorostyrene, 4-bromostyrene, etc. are mentioned as a specific example of the said styrene compound.

상기 말레이미드 화합물의 구체예로는, 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등을 들 수 있다.Maleimide, N-methyl maleimide, N-phenyl maleimide, N-cyclohexyl maleimide, etc. are mentioned as a specific example of the said maleimide compound.

상기 측사슬형 중합체에 있어서, 측사슬 a 및 측사슬 b 의 함유량은 특별히 한정되지 않는다. 측사슬 a 가 100 몰% 의 호모폴리머여도 되고, 측사슬 a 를 2 종류 이상 사용해도 된다. 측사슬 a 와 측사슬 b 의 코폴리머로 하는 경우, 측사슬 a 는, 광 반응성의 점에서 5 ∼ 99.9 몰% 가 바람직하고, 5 ∼ 95 몰% 가 보다 바람직하고, 광 안정성의 관점에서 5 ∼ 50 몰% 가 보다 더 바람직하다. 또한, 측사슬 b 는, 광 반응성의 관점에서, 95 몰% 이하가 바람직하고, 5 ∼ 95 몰% 가 보다 바람직하고, 광 안정성의 관점에서 50 몰% 이상이 보다 더 바람직하다. 코폴리머의 경우에도, 측사슬 a 나 측사슬 b 를 2 종류 이상 사용해도 된다.In the above side chain type polymer, the content of side chain a and side chain b is not particularly limited. The side chain a may be a 100 mol% homopolymer, or two or more types of side chain a may be used. When setting it as a copolymer of side chain a and side chain b, from a photoreactive point, 5-99.9 mol% is preferable, 5-95 mol% is more preferable, and, as for side chain a, from a viewpoint of light stability, 5-99.9 mol% is preferable. 50 mol% is more preferable. Moreover, from a viewpoint of photoreactivity, 95 mol% or less of side chain b is preferable, 5-95 mol% is more preferable, and 50 mol% or more is still more preferable from a viewpoint of light stability. Also in the case of a copolymer, you may use two or more types of side chain a and side chain b.

본 발명에서 사용하는 측사슬형 중합체는, 그 밖의 측사슬을 포함하고 있어도 된다. 그 밖의 측사슬의 함유량은, 측사슬 a 및 측사슬 b 의 함유량의 합계가 100 몰% 에 못 미치는 경우에, 그 나머지 부분이다.The side chain type polymer used in the present invention may contain other side chains. The content of the other side chains is the remainder when the sum of the contents of the side chains a and the side chains b is less than 100 mol%.

상기 측사슬형 중합체의 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 공업적으로 다루어지고 있는 범용의 방법을 이용할 수 있다. 구체적으로는, 모노머 MA, 필요에 따라 모노머 MB 및 그 밖의 모노머의 비닐기를 이용한 라디칼 중합, 카티온 중합 또는 아니온 중합에 의해 제조할 수 있다. 이들 중에서는, 반응 제어의 용이성 등의 관점에서 라디칼 중합이 특히 바람직하다.The method for producing the side chain type polymer is not particularly limited, and a general-purpose method handled industrially can be used. Specifically, it can be produced by monomer MA, if necessary, by radical polymerization, cationic polymerization, or anionic polymerization using monomer MB and vinyl groups of other monomers. Among these, radical polymerization is particularly preferred from the viewpoint of ease of reaction control and the like.

라디칼 중합의 중합 개시제로는, 라디칼 중합 개시제 (라디칼 열 중합 개시제, 라디칼 광 중합 개시제) 나, 가역적 부가-개열형 연쇄 이동 (RAFT) 중합 시약 등의 공지된 화합물을 사용할 수 있다.As the polymerization initiator for radical polymerization, known compounds such as radical polymerization initiators (radical thermal polymerization initiators, radical photopolymerization initiators) and reversible addition-cleavage type chain transfer (RAFT) polymerization reagents can be used.

라디칼 열 중합 개시제는, 분해 온도 이상으로 가열함으로써, 라디칼을 발생시키는 화합물이다. 이와 같은 라디칼 열 중합 개시제로는, 예를 들어, 케톤퍼옥사이드류 (메틸에틸케톤퍼옥사이드, 시클로헥사논퍼옥사이드 등), 디아실퍼옥사이드류 (아세틸퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드 등), 하이드로퍼옥사이드류 (과산화수소, tert-부틸하이드로퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드 등), 디알킬퍼옥사이드류 (디-tert-부틸퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 디라우로일퍼옥사이드 등), 퍼옥시케탈류 (디부틸퍼옥시시클로헥산 등), 알킬퍼에스테르류 (퍼옥시네오데칸산-tert-부틸에스테르, 퍼옥시피발산-tert-부틸에스테르, 퍼옥시2-에틸시클로헥산산-tert-아밀에스테르 등), 과황산염류 (과황산칼륨, 과황산나트륨, 과황산암모늄 등), 아조계 화합물 (아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-디(2-하이드록시에틸)아조비스이소부티로니트릴 등) 등을 들 수 있다. 라디칼 열 중합 개시제는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.A radical thermal polymerization initiator is a compound that generates radicals when heated to a decomposition temperature or higher. As such a radical thermal polymerization initiator, for example, ketone peroxides (methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, etc.), diacyl peroxides (acetyl peroxide, benzoyl peroxide, etc.), hydroperoxides (hydrogen peroxide, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, etc.), dialkyl peroxides (di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, dilauroyl peroxide, etc.), peroxyketals (dibutyl peroxycyclohexane, etc.), alkyl peresters (peroxyneodecanoic acid-tert-butyl ester, peroxypivalic acid-tert-butyl ester, peroxy2-ethylcyclohexanoic acid-tert-amyl ester, etc.), and Sulfates (potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium persulfate, etc.), azo compounds (azobisisobutyronitrile, 2,2'-di(2-hydroxyethyl)azobisisobutyronitrile, etc.) can be heard A radical thermal polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

라디칼 광 중합 개시제는, 라디칼 중합을 광 조사에 의해 개시하는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 라디칼 광 중합 개시제로는, 벤조페논, 미힐러케톤, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 크산톤, 티오크산톤, 이소프로필크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-에틸안트라퀴논, 아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논, 2-하이드록시-2-메틸-4'-이소프로필프로피오페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 이소프로필벤조인에테르, 이소부틸벤조인에테르, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 캄퍼퀴논, 벤즈안트론, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4,4'-디(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,4,4'-트리(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2-(4'-메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(2',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(2'-메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-펜틸옥시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2'-클로로페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(4'-메톡시페닐)-s-트리아진, 2-(p-디메틸아미노스티릴)벤즈옥사졸, 2-(p-디메틸아미노스티릴)벤즈티아졸, 2-메르캅토벤조티아졸, 3,3'-카르보닐비스(7-디에틸아미노쿠마린), 2-(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 3-(2-메틸-2-디메틸아미노프로피오닐)카르바졸, 3,6-비스(2-메틸-2-모르폴리노프로피오닐)-9-n-도데실카르바졸, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 비스(5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라(tert-헥실퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3'-디(메톡시카르보닐)-4,4'-디(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,4'-디(메톡시카르보닐)-4,3'-디(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 4,4'-디(메톡시카르보닐)-3,3'-디(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2-(3-메틸-3H-벤조티아졸-2-일리덴)-1-나프탈렌-2-일-에타논, 2-(3-메틸-1,3-벤조티아졸-2(3H)-일리덴)-1-(2-벤조일)에타논 등을 들 수 있다. 라디칼 광 중합 개시제는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.The radical photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that initiates radical polymerization by light irradiation. Examples of such radical photopolymerization initiators include benzophenone, Michler's ketone, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, xanthone, thioxanthone, isopropylxanthone, and 2,4-diethylthioxanthone. , 2-ethylanthraquinone, acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-hydroxy-2-methyl-4'-isopropylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, iso Propylbenzoin ether, isobutylbenzoin ether, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, camphorquinone, benzanthrone, 2-methyl-1-[4-( Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 4-dimethylaminobenzoate ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 4,4'-di(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,4,4'-tri(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 2,4 ,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-(4'-methoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(3',4'-dimethoxy Styryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2', 4'-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine , 2- (2'-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-pentyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) )-s-triazine, 4-[p-N,N-di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl]-2,6-di(trichloromethyl)-s-triazine, 1,3-bis(trichloro) Methyl) -5- (2'-chlorophenyl) -s-triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (4'-methoxyphenyl) -s-triazine, 2- (p- Dimethylaminostyryl) benzoxazole, 2- (p-dimethylaminostyryl) benzthiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 3,3'-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin), 2- (o-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5 '-tetrakis(4-ethoxycarbonylphenyl)-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2,4-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2,4-dibromophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2 ,2'-bis(2,4,6-trichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 3-(2-methyl-2-dimethylamino Propionyl)carbazole, 3,6-bis(2-methyl-2-morpholinopropionyl)-9-n-dodecylcarbazole, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, bis(5-2,4 -Cyclopentadien-1-yl)-bis(2,6-difluoro-3-(1H-pyrrol-1-yl)-phenyl)titanium, 3,3',4,4'-tetra (tert- Butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3',4,4'-tetra(tert-hexylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3'-di(methoxycarbonyl)-4,4'- Di(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,4'-di(methoxycarbonyl)-4,3'-di(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 4,4'-di (methoxycarbonyl)-3,3'-di(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 2-(3-methyl-3H-benzothiazol-2-ylidene)-1-naphthalene-2- yl-ethanone, 2-(3-methyl-1,3-benzothiazol-2(3H)-ylidene)-1-(2-benzoyl)ethanone, etc. are mentioned. A radical photoinitiator may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.

라디칼 중합법으로는, 특별히 한정되지 않고, 유화 중합법, 현탁 중합법, 분산 중합법, 침전 중합법, 괴상 중합법, 용액 중합법 등을 사용할 수 있다.The radical polymerization method is not particularly limited, and an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a dispersion polymerization method, a precipitation polymerization method, a block polymerization method, a solution polymerization method, or the like can be used.

중합 반응에 사용하는 유기 용매로는, 생성된 폴리머가 용해되는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예로는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸-2-피롤리돈, N-메틸-ε-카프로락탐, 디메틸술폭시드, 테트라메틸우레아, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸인산트리아미드, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, 이소프로필알코올, 메톡시메틸펜탄올, 디펜텐, 에틸아밀케톤, 메틸노닐케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸카르비톨, 에틸카르비톨, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜-tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노프로필에테르, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 디이소프로필에테르, 에틸이소부틸에테르, 디이소부틸렌, 아밀아세테이트, 부틸부티레이트, 부틸에테르, 디이소부틸케톤, 메틸시클로헥센, 프로필에테르, 디헥실에테르, 1,4-디옥산, n-헥산, n-펜탄, n-옥탄, 디에틸에테르, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 락트산메틸, 락트산에틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산프로필렌글리콜모노에틸에테르, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 디글라임, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-에톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-부톡시-N,N-디메틸프로판아미드 등을 들 수 있다. 이들 유기 용매는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.The organic solvent used for the polymerization reaction is not particularly limited as long as the produced polymer dissolves therein. Specific examples thereof include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, and N-methyl-ε-caprolactam. , dimethylsulfoxide, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphate triamide, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, isopropyl alcohol, methoxymethylpentanol, dipentene, ethyl amyl ketone, methyl Nonyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl isoamyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl carbitol, ethyl carbitol, ethylene glycol , ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene Glycol, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol mono Propyl ether, dipropylene glycol monoacetate monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tripropylene glycol methyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, diisopropyl ether, ethyl isobutyl ether, di Isobutylene, amyl acetate, butyl butyrate, butyl ether, diisobutyl ketone, methylcyclohexene, propyl ether, dihexyl ether, 1,4-dioxane, n-hexane, n-pentane, n-octane, diethyl Ether, cyclohexanone, cyclopentanone, ethylene carbonate, propylene carbonate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, propylene glycol monoethyl ether, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, 3-methoxy Methyl propionate, 3-ethoxyethylpropionate, 3-methoxyethylpropionate, 3-ethoxypropionate, 3-methoxypropionate, 3-methoxypropylpropionate, 3-methoxybutylpropionate, diglyme, 4-hydroxy -4-methyl-2-pentanone, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-ethoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N,N-dimethylpropanamide, etc. can be heard These organic solvents may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.

또한, 생성되는 폴리머를 용해시키지 않는 용매라도, 생성된 폴리머가 석출되지 않는 범위에서, 전술한 유기 용매에 혼합하여 사용해도 된다.In addition, even a solvent that does not dissolve the produced polymer may be mixed with the organic solvent described above to the extent that the produced polymer does not precipitate.

또, 라디칼 중합에 있어서 유기 용매 중의 산소는 중합 반응을 저해하는 원인이 되므로, 유기 용매는 가능한 정도로 탈기된 것을 사용하는 것이 바람직하다.Further, in radical polymerization, since oxygen in the organic solvent causes inhibition of the polymerization reaction, it is preferable to use an organic solvent degassed to the extent possible.

라디칼 중합시의 중합 온도는, 20 ∼ 150 ℃ 의 범위의 임의의 온도를 선택할 수 있지만, 바람직하게는 30 ∼ 100 ℃ 의 범위이다. 또, 반응은 임의의 농도로 실시할 수 있지만, 농도가 지나치게 낮으면 고분자량의 중합체를 얻는 것이 어려워지고, 농도가 지나치게 높으면 반응액의 점성이 지나치게 높아져 균일한 교반이 곤란해지므로, 모노머 농도는, 바람직하게는 1 ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 5 ∼ 35 질량% 이다. 반응 초기는 고농도로 실시하고, 그 후, 유기 용매를 추가할 수 있다.The polymerization temperature at the time of radical polymerization can be selected from any temperature in the range of 20 to 150°C, but is preferably in the range of 30 to 100°C. In addition, although the reaction can be carried out at any concentration, if the concentration is too low, it becomes difficult to obtain a high molecular weight polymer, and if the concentration is too high, the viscosity of the reaction solution becomes too high and uniform stirring becomes difficult, so the monomer concentration is , Preferably it is 1-50 mass %, More preferably, it is 5-35 mass %. The initial stage of the reaction can be performed at a high concentration, and then an organic solvent can be added.

전술한 라디칼 중합 반응에 있어서는, 라디칼 중합 개시제의 비율이 모노머에 대해 많으면 얻어지는 고분자의 분자량이 작아지고, 적으면 얻어지는 고분자의 분자량이 커지므로, 라디칼 개시제의 비율은 중합시키는 모노머에 대해 0.1 ∼ 15 몰% 인 것이 바람직하다. 또 중합시에는 각종 모노머 성분이나 용매, 개시제 등을 추가할 수도 있다.In the above-mentioned radical polymerization reaction, the molecular weight of the obtained polymer decreases when the ratio of the radical polymerization initiator to the monomer is large, and when the ratio of the radical polymerization initiator is small, the molecular weight of the obtained polymer increases. It is preferable that it is %. Also, various monomer components, solvents, initiators, and the like may be added during polymerization.

상기 반응에 의해 얻어진 반응 용액으로부터 생성된 폴리머는, 반응 용액을 빈용매에 투입하여 침전시켜 회수할 수 있지만, 이 재침전 처리는 필수는 아니다. 침전에 사용하는 빈용매로는, 메탄올, 아세톤, 헥산, 헵탄, 부틸셀로솔브, 헵탄, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 에탄올, 톨루엔, 벤젠, 디에틸에테르, 메틸에틸에테르, 물 등을 들 수 있다. 빈용매에 투입하여 침전시킨 중합체는, 여과하여 회수한 후, 상압 혹은 감압하에서, 상온 혹은 가열하여 건조시킬 수 있다. 또, 회수한 중합체를 유기 용매에 재용해시키고, 재침전 회수하는 조작을 2 ∼ 10 회 반복하면, 중합체 중의 불순물을 줄일 수 있다. 이 때의 빈용매로서, 예를 들어, 알코올류, 케톤류, 탄화수소 등을 들 수 있고, 이들 중에서 선택되는 3 종 이상의 빈용매를 사용하면, 한층 더 정제의 효율이 오르기 때문에 바람직하다.The polymer produced from the reaction solution obtained by the above reaction can be recovered by pouring the reaction solution into a poor solvent to precipitate it, but this reprecipitation treatment is not essential. As the poor solvent used for precipitation, methanol, acetone, hexane, heptane, butyl cellosolve, heptane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethanol, toluene, benzene, diethyl ether, methyl ethyl ether, water, etc. can be heard The polymer precipitated by being injected into a poor solvent can be collected by filtration and then dried at normal temperature or under reduced pressure by heating. In addition, if the recovered polymer is redissolved in an organic solvent and the operation of reprecipitation and recovery is repeated 2 to 10 times, impurities in the polymer can be reduced. Examples of the poor solvent at this time include alcohols, ketones, hydrocarbons, and the like, and it is preferable to use three or more types of poor solvents selected from among these because the efficiency of purification is further increased.

본 발명에서 사용하는 측사슬형 중합체의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 얻어지는 도막의 강도, 도막 형성시의 작업성 및 도막의 균일성을 고려하면,, 2,000 ∼ 2,000,000 이 바람직하고, 2,000 ∼ 1,000,000 이 보다 바람직하고, 5,000 ∼ 200,000 이 보다 더 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서 Mw 는, 겔 투과 크로마토그래피 (GPC) 법에 의한 폴리스티렌 환산 측정값이다.The weight average molecular weight (Mw) of the side chain polymer used in the present invention is preferably 2,000 to 2,000,000, and preferably 2,000 to 1,000,000, considering the strength of the obtained coating film, workability during formation of the coating film, and uniformity of the coating film It is more preferable, and 5,000 to 200,000 are even more preferable. In the present invention, Mw is a value measured in terms of polystyrene by a gel permeation chromatography (GPC) method.

본 발명에서 사용하는 중합성 조성물은, 상기 측사슬형 중합체와 유기 용매 (양용매) 를 포함한다. 상기 유기 용매 (양용매) 는, 중합체 성분을 용해시키는 유기 용매이면 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예로는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-메틸-ε-카프로락탐, 2-피롤리돈, N-에틸-2-피롤리돈, N-비닐-2-피롤리돈, 디메틸술폭시드, 테트라메틸우레아, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸술폭사이드, γ-부티로락톤, 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-에톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-부톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 에틸아밀케톤, 메틸노닐케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 디글라임, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 테트라하이드로푸란, 테트라하이드로푸르푸릴알코올 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.The polymerizable composition used in the present invention contains the side chain polymer and an organic solvent (good solvent). The said organic solvent (good solvent) is not specifically limited if it is an organic solvent which dissolves a polymer component. Specific examples thereof include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methyl-ε-caprolactam, 2-pyrrolidone, and N-ethyl. -2-pyrrolidone, N-vinyl-2-pyrrolidone, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylsulfoxide, γ-butyrolactone, 3-methoxy-N,N- Dimethylpropanamide, 3-ethoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N,N-dimethylpropanamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, ethyl amyl ketone, methyl nonyl ketone , methyl ethyl ketone, methyl isoamyl ketone, methyl isopropyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, ethylene carbonate, propylene carbonate, diglyme, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, tetrahydrofuran , tetrahydrofurfuryl alcohol, etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.

또한, 상기 중합체 조성물은, 측사슬형 중합체 및 상기 유기 용매 (양용매) 이외의 성분을 포함해도 된다. 그 예로는, 중합체 조성물을 도포했을 때의 막두께 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 용매 (빈용매) 나 화합물, 위상차막과 기판의 밀착성을 향상시키는 화합물 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.Moreover, the said polymer composition may also contain components other than a side chain type polymer and the said organic solvent (good solvent). Examples thereof include, but are not limited to, solvents (poor solvents) and compounds that improve the film thickness uniformity and surface smoothness when the polymer composition is applied, and compounds that improve the adhesion between the phase contrast film and the substrate. .

상기 막두께 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 용매 (빈용매) 의 구체예로는, 이소프로필알코올, 메톡시메틸펜탄올, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸카르비톨, 에틸카르비톨, 에틸카르비톨아세테이트, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜-tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노프로필에테르, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 디이소프로필에테르, 에틸이소부틸에테르, 디이소부틸렌, 아밀아세테이트, 부틸부티레이트, 부틸에테르, 디이소부틸케톤, 메틸시클로헥센, 프로필에테르, 디헥실에테르, 1-헥산올, n-헥산, n-펜탄, n-옥탄, 디에틸에테르, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산n-프로필, 락트산n-부틸, 락트산이소아밀, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산프로필렌글리콜모노에틸에테르, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 1-메톡시-2-프로판올, 1-에톡시-2-프로판올, 1-부톡시-2-프로판올, 1-페녹시-2-프로판올, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노에틸에테르-2-아세테이트, 디프로필렌글리콜, 2-(2-에톡시프로폭시)프로판올 등의 저표면 장력을 갖는 용매를 들 수 있다.Specific examples of the solvent (poor solvent) that improves the film thickness uniformity and surface smoothness include isopropyl alcohol, methoxymethyl pentanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, and methyl cellosolve. Solve Acetate, Ethyl Cellosolve Acetate, Butyl Carbitol, Ethyl Carbitol, Ethyl Carbitol Acetate, Ethylene Glycol, Ethylene Glycol Monoacetate, Ethylene Glycol Monoisopropyl Ether, Ethylene Glycol Monobutyl Ether, Propylene Glycol, Propylene Glycol Monoacetate , Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol Monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoacetate monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tripropylene glycol Methyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, diisopropyl ether, ethyl isobutyl ether, diisobutylene, amyl acetate, butyl butyrate, butyl ether, diisobutyl ketone, methylcyclohexene, propyl ether, di Hexyl ether, 1-hexanol, n-hexane, n-pentane, n-octane, diethyl ether, methyl lactate, ethyl lactate, n-propyl lactate, n-butyl lactate, isoamyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate , n-butyl acetate, propylene glycol monoethyl ether, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-ethoxypropionate, 3-methoxy Propionic acid, 3-methoxypropylpropionate, 3-methoxybutylpropionate, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, 1-butoxy-2-propanol, 1-phenoxy-2- Propanol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol diacetate, propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, propylene glycol-1-monoethyl ether-2-acetate, dipropylene glycol, 2-(2-ethoxypro and solvents having low surface tension such as epoxy)propanol.

상기 빈용매는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 빈용매를 사용하는 경우, 그 함유량은, 중합체의 용해성을 현저하게 저하시키지 않도록, 용매 중 5 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 60 질량% 가 보다 바람직하다.The said poor solvent may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types. When using a poor solvent, the content is preferably from 5 to 80% by mass, more preferably from 10 to 60% by mass in the solvent so as not to significantly reduce the solubility of the polymer.

상기 막두께 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 화합물로는, 불소계 계면 활성제, 실리콘계 계면 활성제, 논이온계 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로는, 에프톱 (등록상표) 301, EF303, EF352 ((주) 토켐 프로덕츠 제조), 메가팍 (등록상표) F171, F173, F560, F563, R-30, R-40 (DIC 사 제조), 플루오라드 FC430, FC431 (쓰리엠사 제조), 아사히가드 (등록상표) AG710 (AGC 사 제조), 서플론 (등록상표) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 (AGC 세이미 케미컬사 제조) 등을 들 수 있다. 이들 계면 활성제의 함유량은, 측사슬형 중합체 100 질량부에 대하여, 0.01 ∼ 2 질량부가 바람직하고, 0.01 ∼ 1 질량부가 보다 바람직하다.As a compound which improves the said film thickness uniformity or surface smoothness, a fluorochemical surfactant, silicone type surfactant, a nonionic surfactant, etc. are mentioned. Specific examples thereof include Ftop (registered trademark) 301, EF303, EF352 (manufactured by Tochem Products Co., Ltd.), Megafac (registered trademark) F171, F173, F560, F563, R-30, R-40 (DIC company), Fluorad FC430, FC431 (manufactured by 3M), Asahiguard (registered trademark) AG710 (manufactured by AGC), Suplon (registered trademark) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 ( AGC Seimi Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned. The content of these surfactants is preferably from 0.01 to 2 parts by mass, more preferably from 0.01 to 1 part by mass, based on 100 parts by mass of the side chain polymer.

상기 위상차막과 기판의 밀착성을 향상시키는 화합물의 구체예로는, 관능성 실란 함유 화합물 등을 들 수 있고, 그 구체예로는, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노프로필트리메톡시실란, 2-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-우레이도프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(3-트리에톡시실릴프로필)트리에틸렌테트라민, N-(3-트리메톡시실릴프로필)트리에틸렌테트라민, 10-트리메톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 10-트리에톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 9-트리메톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, 9-트리에톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, N-벤질-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-벤질-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound that improves the adhesion between the retardation film and the substrate include functional silane-containing compounds, and specific examples thereof include 3-aminopropyltrimethoxysilane and 3-aminopropyltriethoxy. Silane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-amino Propylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3 -Aminopropyltriethoxysilane, N-(3-triethoxysilylpropyl)triethylenetetramine, N-(3-trimethoxysilylpropyl)triethylenetetramine, 10-trimethoxysilyl-1,4 ,7-triazadecane, 10-triethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, 9-triethoxysilyl-3,6 -Diazanoyl acetate, N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3 - Aminopropyl triethoxysilane etc. are mentioned.

상기 중합체 조성물은, 기판과 위상차막의 밀착성의 향상에 더하여, 편광판을 구성했을 때의 백라이트에 의한 특성의 저하 등을 방지할 목적으로, 페노플라스트계 화합물이나 에폭시기 함유 화합물을 포함해도 된다.In addition to improving the adhesion between the substrate and the retardation film, the polymer composition may contain a phenoplast-based compound or an epoxy group-containing compound for the purpose of preventing deterioration of properties due to backlight when forming a polarizing plate.

상기 페노플라스트계 화합물의 구체적인 예로는, 이하에 나타내는 것을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.Specific examples of the phenoplast-based compound include those shown below, but are not limited thereto.

[화학식 45][Formula 45]

Figure pct00045
Figure pct00045

상기 에폭시기 함유 화합물의 구체적인 예로는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 디브로모네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,3,5,6-테트라글리시딜-2,4-헥산디올, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄 등을 들 수 있다.Specific examples of the epoxy group-containing compound include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl ether. , neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3,5,6-tetra Glycidyl-2,4-hexanediol, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclo hexane, N,N,N',N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane; and the like.

기판과의 밀착성을 향상시키는 화합물을 사용하는 경우, 그 함유량은, 중합체 조성물에 포함되는 측사슬형 중합체 100 질량부에 대해, 0.1 ∼ 30 질량부가 바람직하고, 1 ∼ 20 질량부가 보다 바람직하다. 함유량이 0.1 질량부 미만이면 밀착성 향상의 효과는 기대할 수 없고, 30 질량부보다 많아지면 액정의 배향성이 나빠지는 경우가 있다.When using the compound which improves adhesiveness with a board|substrate, 0.1-30 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of side chain type polymers contained in a polymer composition, and, as for the content, 1-20 mass parts are more preferable. If the content is less than 0.1 part by mass, the effect of improving adhesion cannot be expected, and if it exceeds 30 parts by mass, the orientation of the liquid crystal may deteriorate.

첨가제로서, 광 증감제를 사용할 수도 있다. 광 증감제로는, 무색 증감제 및 삼중항 증감제가 바람직하다.As an additive, a photosensitizer can also be used. As the photosensitizer, a colorless sensitizer and a triplet sensitizer are preferable.

광 증감제로는, 방향족 니트로 화합물, 쿠마린 (7-디에틸아미노-4-메틸쿠마린, 7-하이드록시4-메틸쿠마린), 케토쿠마린, 카르보닐비스쿠마린, 방향족 2-하이드록시케톤, 방향족 2-하이드록시케톤 (2-하이드록시벤조페논, 모노- 또는 디-p-(디메틸아미노)-2-하이드록시벤조페논 등), 아세토페논, 안트라퀴논, 크산톤, 티오크산톤, 벤즈안트론, 티아졸린 (2-벤조일메틸렌-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(α-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린 등), 옥사졸린 (2-벤조일메틸렌-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(α-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린 등), 벤조티아졸, 니트로아닐린 (m- 또는 p-니트로아닐린, 2,4,6-트리니트로아닐린 등), 니트로아세나프텐 (5-니트로아세나프텐 등), 2-[(m-하이드록시-p-메톡시)스티릴]벤조티아졸, 벤조인알킬에테르, N-알킬화프탈론, 아세토페논케탈 (2,2-디메톡시페닐에타논 등), 나프탈렌 (2-나프탈렌메탄올, 2-나프탈렌카르복실산 등), 안트라센 (9-안트라센메탄올, 9-안트라센카르복실산 등), 벤조피란, 아조인돌리진, 메로쿠마린 등을 들 수 있다. 이들 중, 바람직하게는, 방향족 2-하이드록시케톤 (벤조페논), 쿠마린, 케토쿠마린, 카르보닐비스쿠마린, 아세토페논, 안트라퀴논, 크산톤, 티오크산톤 및 아세토페논케탈이다.Examples of photosensitizers include aromatic nitro compounds, coumarins (7-diethylamino-4-methylcoumarin and 7-hydroxy 4-methylcoumarin), ketocoumarins, carbonylbiscoumarins, aromatic 2-hydroxyketones, and aromatic 2-hydroxyketones. -Hydroxyketone (2-hydroxybenzophenone, mono- or di-p-(dimethylamino)-2-hydroxybenzophenone, etc.), acetophenone, anthraquinone, xanthone, thioxanthone, benzanthrone, Thiazoline (2-benzoylmethylene-3-methyl-β-naphthothiazoline, 2-(β-naphthoylmethylene)-3-methylbenzothiazoline, 2-(α-naphthoylmethylene)-3-methylbenzothia Zoline, 2-(4-biphenoylmethylene)-3-methylbenzothiazoline, 2-(β-naphthoylmethylene)-3-methyl-β-naphthothiazoline, 2-(4-biphenoylmethylene)-3 -Methyl-β-naphthothiazoline, 2-(p-fluorobenzoylmethylene)-3-methyl-β-naphthothiazoline, etc.), oxazoline (2-benzoylmethylene-3-methyl-β-naphthoxazoline , 2-(β-naphthoylmethylene)-3-methylbenzooxazoline, 2-(α-naphthoylmethylene)-3-methylbenzooxazoline, 2-(4-biphenoylmethylene)-3-methylbenzoxa Zoline, 2-(β-naphthoylmethylene)-3-methyl-β-naphthoxazoline, 2-(4-biphenoylmethylene)-3-methyl-β-naphthoxazoline, 2-(p-fluoro robenzoylmethylene)-3-methyl-β-naphthoxazoline, etc.), benzothiazole, nitroaniline (m- or p-nitroaniline, 2,4,6-trinitroaniline, etc.), nitroacenaphthene (5-nitro acenaphthene, etc.), 2-[(m-hydroxy-p-methoxy)styryl] benzothiazole, benzoin alkyl ether, N-alkylated phthalone, acetophenone ketal (2,2-dimethoxyphenylethanone, etc. ), naphthalene (2-naphthalenemethanol, 2-naphthalenecarboxylic acid, etc.), anthracene (9-anthracenemethanol, 9-anthracenecarboxylic acid, etc.), benzopyran, azoindolizine, merocumarin, and the like. Among these, aromatic 2-hydroxyketones (benzophenones), coumarins, ketocoumarins, carbonylbiscoumarins, acetophenones, anthraquinones, xanthones, thioxanthones and acetophenoneketals are preferred.

상기 중합체 조성물에는, 전술한 것 외에, 본 발명의 효과가 손상되지 않는 범위이면, 위상차막의 유전율이나 도전성 등의 전기 특성을 변화시킬 목적에서, 유전체나 도전 물질, 나아가서는, 위상차막으로 했을 때의 막의 경도나 치밀도를 높일 목적에서, 가교성 화합물을 첨가해도 된다.In addition to the above-mentioned polymer composition, in the range where the effect of the present invention is not impaired, for the purpose of changing electrical properties such as dielectric constant and conductivity of the retardation film, dielectrics and conductive materials, and furthermore, when used as a retardation film A crosslinkable compound may be added for the purpose of increasing the hardness and density of the film.

상기 중합체 조성물은, 단층 위상차막의 형성에 적합해지도록 도포액으로서 조제되는 것이 바람직하다. 즉, 본 발명에 사용되는 중합체 조성물은, 측사슬형 중합체 및 전술한 막두께 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 화합물, 기판과의 밀착성을 향상시키는 화합물 등이, 유기 용매 (양용매) 에 용해된 용액으로서 조제되는 것이 바람직하다.The polymer composition is preferably prepared as a coating liquid so as to be suitable for formation of a single-layer retardation film. That is, the polymer composition used in the present invention is obtained by dissolving a side chain polymer, a compound improving film thickness uniformity or surface smoothness, a compound improving adhesion to a substrate, and the like dissolved in an organic solvent (good solvent). It is preferably prepared as a solution.

상기 중합체 조성물 중, 상기 측사슬형 중합체의 함유량은 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 3 ∼ 25 질량% 가 보다 바람직하다.In the said polymer composition, 1-30 mass % is preferable and, as for content of the said side chain type polymer, 3-25 mass % is more preferable.

또한, 상기 중합체 조성물은, 상기 측사슬형 중합체 이외에, 액정 발현능 및 감광 성능을 저해하지 않는 범위에서 그 밖의 중합체를 포함해도 된다. 상기 그 밖의 중합체로는, 예를 들어, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리아믹산, 폴리이미드 등의, 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 중합체가 아닌 중합체 등을 들 수 있다. 상기 그 밖의 중합체를 포함하는 경우, 그 함유량은, 전체 중합체 성분 중, 0.5 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 1 ∼ 50 질량% 가 보다 바람직하다.Moreover, the said polymer composition may also contain other polymers other than the said side chain type polymer in the range which does not impair liquid-crystal expressing ability and photosensitivity performance. As said other polymer, the polymer etc. which are not photosensitive side chain type polymers which can express liquid crystal, such as poly(meth)acrylate, a polyamic acid, and a polyimide, are mentioned, for example. As for the content, when the said other polymer is included, 0.5-80 mass % is preferable in all polymer components, and 1-50 mass % is more preferable.

[공정 (II)][Process (II)]

공정 (II) 는, 상기 도막에 제 1 편광 자외선을 조사하는 공정 (제 1 노광 공정) 이다. 상기 도막의 막면에 편광 자외선을 조사하는 경우, 기판에 대해 일정한 방향으로부터 편광판을 개재하여 편광 자외선을 조사한다.Step (II) is a step of irradiating the coating film with first polarized ultraviolet rays (first exposure step). When irradiating polarized ultraviolet rays to the film surface of the said coating film, polarized ultraviolet rays are irradiated through a polarizing plate from a certain direction with respect to a board|substrate.

상기 자외선으로는, 파장 200 ∼ 400 ㎚ 의 범위의 자외선을 사용할 수 있다. 바람직하게는, 사용하는 도막의 종류에 따라 필터 등을 개재하여 최적의 파장을 선택한다. 그리고, 예를 들어, 선택적으로 광 가교 반응을 유기할 수 있도록, 파장 240 ∼ 400 ㎚ 의 범위의 자외선을 선택하여 사용할 수 있다. 자외선으로는, 예를 들어, 고압 수은등으로부터 방사되는 광을 사용할 수 있다.As said ultraviolet-ray, the ultraviolet-ray of the range of 200-400 nm of wavelength can be used. Preferably, an optimal wavelength is selected through a filter or the like according to the type of coating film to be used. And, for example, it is possible to select and use ultraviolet rays within a wavelength range of 240 to 400 nm so that a photocrosslinking reaction can be selectively induced. As the ultraviolet light, for example, light emitted from a high-pressure mercury lamp can be used.

편광 자외선의 조사량은, 사용하는 도막에 의존한다. 즉, 조사량은, 도막에 있어서의, 편광 자외선의 편광축 방향과 평행한 방향의 자외선 흡광도와 수직인 방향의 자외선 흡광도의 차인 ΔA 의 최대값을 실현하는 편광 자외선의 양의 1 ∼ 70 % 의 범위 내로 하는 것이 바람직하고, 1 ∼ 50 % 의 범위 내로 하는 것이 보다 바람직하다.The irradiation amount of polarized light ultraviolet rays depends on the coating film to be used. That is, the irradiation amount is within the range of 1 to 70% of the amount of polarized ultraviolet rays that achieves the maximum value of ΔA, which is the difference between the ultraviolet absorbance in the direction parallel to the direction of the polarization axis of the polarized ultraviolet rays in the coating film and the absorbance of ultraviolet rays in the direction perpendicular to the direction. It is preferable to do it, and it is more preferable to set it in the range of 1 to 50%.

공정 (II) 에 있어서, 편광 자외선은, 도막과 공기의 계면측 (이하, 공기측이라고도 한다) 으로부터 조사해도 되고, 투명 기판을 사용하는 경우에는, 도막과 기판의 계면측 (이하, 기판측이라고도 한다) 으로부터 조사해도 된다.In step (II), the polarized ultraviolet rays may be irradiated from the interface side of the coating film and the air (hereinafter also referred to as the air side), or in the case of using a transparent substrate, the interface side of the coating film and the substrate (hereinafter also referred to as the substrate side). ) may be investigated.

[공정 (III)][Process (III)]

공정 (III) 은, 상기 편광 자외선을 조사한 도막에, 추가로 제 1 편광 자외선과 편광축 방향이 상이한 제 2 편광 자외선을 조사하는 공정 (제 2 노광 공정) 이다. 제 2 편광 자외선은, 그 편광축 방향과 제 1 편광 자외선의 편광축 방향이 이루는 각도가, 10 ∼ 80°또는 100 ∼ 170°가 되는 것이 바람직하고, 20 ∼ 70°또는 110 ∼ 160°가 되는 것이 보다 바람직하며, 40 ∼ 70°또는 110 ∼ 140°가 되는 것이 더 바람직하다.Step (III) is a step (second exposure step) of further irradiating the coating film to which the polarized ultraviolet rays have been irradiated with second polarized ultraviolet rays having a different polarization axis direction from the first polarized ultraviolet rays. In the second polarized ultraviolet rays, the angle between the direction of the polarization axis and the direction of the polarization axis of the first polarization ultraviolet rays is preferably 10 to 80° or 100 to 170°, more preferably 20 to 70° or 110 to 160° It is preferable, and it is more preferable to be 40-70 degrees or 110-140 degrees.

공정 (III) 에 있어서, 상기 자외선의 종류 및 그 조사량은, 공정 (II) 와 동일한 것 또는 상이한 것을 채용할 수 있다.In the step (III), the type of the ultraviolet rays and the irradiation amount thereof may be the same as or different from those of the step (II).

공정 (III) 에 있어서, 편광 자외선은, 공정 (II) 에 있어서 제 1 편광 자외선을 조사한 면과 동일한 면에 조사한다. 즉, 공정 (II) 에 있어서 편광 자외선을 공기측으로부터 조사한 경우에는, 공정 (III) 에 있어서 편광 자외선은 공기측으로부터 조사하고, 공정 (II) 에 있어서 편광 자외선을 기판측으로부터 조사한 경우에는, 공정 (III) 에 있어서 편광 자외선은 기판측으로부터 조사한다. 공정 (II) 및 (III) 에 있어서, 편광 자외선은 공기측으로부터 조사하는 것이 바람직하다.In step (III), the polarized ultraviolet rays are irradiated on the same surface as the surface to which the first polarized ultraviolet rays are irradiated in step (II). That is, when polarized ultraviolet rays are irradiated from the air side in step (II), polarized ultraviolet rays are irradiated from the air side in step (III), and polarized ultraviolet rays are irradiated from the substrate side in step (II), step In (III), polarized ultraviolet light is irradiated from the substrate side. In steps (II) and (III), it is preferable to irradiate the polarized ultraviolet rays from the air side.

제 1 편광 자외선과 편광축 방향이 상이한 제 2 편광 자외선을 조사하는 방법으로는, 제 1 노광 공정에 있어서의 편광판과는 편광축의 방향이 소정의 각도만큼 상이한 편광판을 이용하여 제 2 편광 자외선을 조사하는 방법, 편광판을 소정의 각도만큼 수평 회전시키고 나서 제 2 편광 자외선을 조사하는 방법, 기판을 소정의 각도만큼 수평 회전시키고 나서 제 2 편광 자외선을 조사하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of irradiating second polarized ultraviolet light having a different polarization axis direction from the first polarized ultraviolet light, a polarizing plate having a polarization axis direction different from that of the polarizing plate in the first exposure step by a predetermined angle is used to irradiate second polarized ultraviolet rays. method, a method of irradiating second polarized ultraviolet rays after horizontally rotating the polarizing plate by a predetermined angle, a method of irradiating second polarized ultraviolet rays after horizontally rotating the substrate by a predetermined angle, and the like.

또한, 공정 (II) 에서 조사하는 자외선과 공정 (III) 에서 조사하는 자외선은, 파장이 상이한 것이 바람직하다. 예컨대, 공정 (II) 에서 파장 313 nm 부근의 자외선을 조사하고 공정 (III) 에서 365 nm 부근의 자외선을 조사하거나, 또는 공정 (II) 에서 파장 365 nm 부근의 자외선을 조사하고 공정 (III) 에서 파장 313 nm 부근의 자외선을 조사하는 것 등이 바람직하다. 또한, 공정 (II) 에서는 254 nm 부근의 자외선으로 공정 (III) 에서는 313 nm 부근의 자외선, 또는 공정 (II) 에서는 313 nm 부근의 자외선으로 공정 (III) 에서는 254 nm 부근의 자외선 등이 바람직하다.Further, it is preferable that the wavelengths of the ultraviolet rays irradiated in step (II) and the ultraviolet rays irradiated in step (III) are different. For example, in step (II), ultraviolet rays with a wavelength of around 313 nm are irradiated and in step (III), ultraviolet rays in the vicinity of 365 nm are irradiated, or in step (II), ultraviolet rays in the vicinity of 365 nm are irradiated and in step (III) It is preferable to irradiate ultraviolet rays of the wavelength of 313 nm vicinity. In addition, ultraviolet rays around 254 nm in step (II), ultraviolet rays around 313 nm in step (III), ultraviolet rays around 313 nm in step (II), and ultraviolet rays around 254 nm in step (III) are preferable. .

이와 같이, 공정 (II) 와 공정 (III) 에서 상이한 파장의 편광 자외선을 조사함으로써, 단층 위상차막의 공기측과 기판측에서 광 반응 상태를 변화시키고, 또한 공정 (II) 와 공정 (III) 에서 상이한 편광축 방향의 편광 자외선을 조사함으로써, 공기측과 기판측에서 배향축이 상이한 단층 위상차막을 얻을 수 있다.In this way, by irradiating polarized ultraviolet rays of different wavelengths in step (II) and step (III), the photoreaction state is changed on the air side and the substrate side of the single-layer retardation film, and also different in step (II) and step (III) By irradiating polarized ultraviolet rays in the direction of the polarization axis, a single-layer retardation film having different orientation axes on the air side and the substrate side can be obtained.

배향성 및 정파장 분산 억제 효과의 관점에서, 공정 (II) 와 공정 (III) 사이에 가열 공정을 두는 것은 바람직하지 않다.It is not preferable to place a heating step between steps (II) and steps (III) from the viewpoints of orientation properties and positive-wavelength dispersion suppression effect.

[공정 (IV)][Process (IV)]

본 발명의 단층 위상차막의 제조 방법은, 공정 (III) 에서 얻어진 도막을 가열하는 공정 (IV) 를 구비하고 있어도 된다. 가열에 의해, 도막에 배향 제어능을 부여할 수 있다.The method for producing a single-layer retardation film of the present invention may include a step (IV) of heating the coating film obtained in step (III). By heating, orientation control ability can be provided to a coating film.

가열 수단으로는, 핫 플레이트, 열 순환형 오븐, IR (적외선) 형 오븐 등을 사용할 수 있다.As a heating means, a hot plate, a heat circulation type oven, an IR (infrared ray) type oven, etc. can be used.

가열 온도는, 사용하는 도막의 액정성을 발현시키는 온도를 고려하여 결정할 수 있고, 사용하는 중합성 조성물에 포함되는 측사슬형 중합체가 액정성을 발현하는 온도 (이하, 액정 발현 온도라고 한다) 의 온도 범위 내인 것이 바람직하다. 도막과 같은 박막 표면의 경우, 도막 표면의 액정 발현 온도는, 측사슬형 중합체를 벌크로 관찰한 경우의 액정 발현 온도보다 낮을 것이 예상된다. 이 때문에, 가열 온도는, 도막 표면의 액정 발현 온도의 온도 범위 내가 보다 바람직하다. 즉, 편광 자외선 조사 후의 가열 온도의 온도 범위는, 측사슬형 중합체의 액정 발현 온도의 온도 범위의 하한보다 10 ℃ 낮은 온도를 하한으로 하고, 그 액정 온도 범위의 상한보다 10 ℃ 낮은 온도를 상한으로 하는 범위의 온도가 바람직하다. 가열 온도가, 상기 온도 범위보다 낮으면, 도막에 있어서의 열에 의한 이방성의 증폭 효과가 불충분해지는 경향이 있고, 또 가열 온도가, 상기 온도 범위보다 지나치게 높으면, 도막의 상태가 등방성의 액체 상태 (등방상) 에 가까워지는 경향이 있고, 이 경우, 자기 조직화에 의해 일 방향으로 재배향하는 것이 곤란해지는 경우가 있다.The heating temperature can be determined in consideration of the temperature at which the coating film to be used expresses liquid crystallinity, and the temperature at which the side chain type polymer contained in the polymerizable composition to be used expresses liquid crystallinity (hereinafter referred to as liquid crystal expression temperature) It is preferably within the temperature range. In the case of a thin film surface such as a coating film, the liquid crystal expression temperature on the surface of the coating film is expected to be lower than the liquid crystal expression temperature when the side chain type polymer is observed in bulk. For this reason, the heating temperature is more preferably within the temperature range of the liquid crystal expression temperature on the surface of the coating film. That is, the temperature range of the heating temperature after irradiation with polarized light ultraviolet ray, the lower limit is the temperature 10 ° C. lower than the lower limit of the temperature range of the liquid crystal expression temperature of the side chain type polymer, and the upper limit is the temperature 10 ° C. lower than the upper limit of the liquid crystal temperature range. A temperature in the range of If the heating temperature is lower than the above temperature range, the amplifying effect of heat-induced anisotropy in the coating film tends to be insufficient, and if the heating temperature is excessively higher than the above temperature range, the state of the coating film is in an isotropic liquid state (isotropic phase), and in this case, it is sometimes difficult to reorient in one direction by self-organization.

또한, 액정 발현 온도는, 중합체 또는 도막 표면이 고체상에서 액정상으로 상 전이가 일어나는 액정 전이 온도 이상으로서, 액정상에서 아이소트로픽상 (등방상) 으로 상 전이를 일으키는 아이소트로픽상 전이 온도 (Tiso) 이하의 온도를 말한다. 예를 들어, 130 ℃ 이하에서 액정성을 발현한다란, 고체상에서 액정상으로 상 전이가 일어나는 액정 전이 온도가 130 ℃ 이하인 것을 의미한다.In addition, the liquid crystal expression temperature is higher than the liquid crystal transition temperature at which the surface of the polymer or coating film undergoes phase transition from the solid phase to the liquid crystal phase, and isotropic phase transition temperature at which phase transition occurs from the liquid crystal phase to the isotropic phase (isotropic phase) (T iso ) temperature below For example, expressing liquid crystal at 130 ° C. or lower means that the liquid crystal transition temperature at which a phase transition from a solid phase to a liquid crystal phase occurs is 130 ° C. or lower.

본 발명의 제조 방법으로 제작되는 단층 위상차막의 두께는, 사용하는 기판의 단차나 광학적, 전기적 성질을 고려하여 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 1.0 ∼ 10 ㎛ 가 바람직하다.The thickness of the single-layer retardation film produced by the production method of the present invention can be appropriately selected in consideration of the level difference and optical and electrical properties of the substrate used, and is preferably 1.0 to 10 μm, for example.

이상 설명한 제법으로 얻어진 단층 위상차막은, 표시 장치나 기록 재료 등의 용도에 바람직한 광학 특성을 갖는 재료이며, 특히 유기 EL 용이나 액정 디스플레이용의 편광판 및 위상차판 등의 광학 보상 필름으로서 바람직하다.The single-layer retardation film obtained by the manufacturing method described above is a material having optical properties suitable for applications such as display devices and recording materials, and is particularly suitable as an optical compensation film such as a polarizing plate and retardation plate for organic EL or liquid crystal displays.

실시예Example

이하, 합성예, 조제예, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of synthesis examples, preparation examples, examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

실시예에서 사용한 광 반응성기를 가지는 모노머 MA1, MA2 및 MA3 및 액정성을 가지는 모노머 MB1 을 이하에 나타낸다. MA1 은, 국제 공개 제2011/084546호에 기재된 합성법에 따라 합성하였다. MA2 는, 일본 공개특허공보 2010-18807호에 기재된 합성법에 따라 합성하였다. MA3 은, 일본 공개특허공보 2012-27354호에 기재된 합성법에 따라 합성하였다. MB1 은, 일본 공개특허공보 평9-118717호에 기재된 합성법에 따라 합성하였다. MC1 은, 도쿄 화성 공업 (주) 로부터 구입하였다. 또한, MA1, MA2 및 MA3 에서 유래하는 측사슬은 측사슬 a 에 해당하고, MB1 에서 유래하는 측사슬은 측사슬 b 에 해당한다. MC1 은 그 밖의 측사슬에 해당한다.Monomers MA1, MA2 and MA3 having photoreactive groups used in Examples and monomer MB1 having liquid crystallinity are shown below. MA1 was synthesized according to the synthesis method described in International Publication No. 2011/084546. MA2 was synthesized according to the synthesis method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-18807. MA3 was synthesized according to the synthesis method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-27354. MB1 was synthesized according to the synthesis method described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-118717. MC1 was purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. In addition, side chains derived from MA1, MA2 and MA3 correspond to side chain a, and side chains derived from MB1 correspond to side chain b. MC1 corresponds to other side chains.

[화학식 46][Formula 46]

Figure pct00046
Figure pct00046

그 밖에, 본 실시예에서 사용한 시약의 약호를 이하에 나타낸다.In addition, the symbol of the reagent used in this Example is shown below.

(유기 용매)(organic solvent)

NMP : N-메틸-2-피롤리돈NMP: N-methyl-2-pyrrolidone

BCS : 부틸셀로솔브BCS: butyl cellosolve

(중합 개시제)(Polymerization initiator)

AIBN : 2,2'-아조비스이소부티로니트릴AIBN: 2,2'-azobisisobutyronitrile

(계면 활성제)(Surfactants)

R40 : 메가팍 R-40 (DIC 사)R40: Megapack R-40 (DIC)

[1] 폴리머의 합성[1] Synthesis of polymers

[합성예 1][Synthesis Example 1]

NMP (336 g) 중에, MA1 (36.6 g, 0.11 mol), MB1 (191 g, 0.62 mol) 및 AIBN (12.1 g, 0.073 mol) 을 용해시켜, 모노머 혼합 용액을 조제하였다. 질소 분위기하, 60 ℃ 에서, NMP (224 g) 중에 모노머 혼합 용액을 2 시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 후, 60 ℃ 에서 8 시간 반응시켜, 폴리머 용액 P1 을 얻었다.In NMP (336 g), MA1 (36.6 g, 0.11 mol), MB1 (191 g, 0.62 mol) and AIBN (12.1 g, 0.073 mol) were dissolved to prepare a monomer mixture solution. The monomer mixed solution was added dropwise over 2 hours in NMP (224 g) at 60°C under a nitrogen atmosphere. After dripping, it was made to react at 60 degreeC for 8 hours, and the polymer fluid P1 was obtained.

[합성예 2][Synthesis Example 2]

NMP (30.7 g) 중에, MA2 (2.60 g, 7.5 mmol), MB1 (13.0 g, 42.4 mmol) 및 AIBN (0.821 g, 5.00 mmol) 을 용해시켜, 모노머 혼합 용액을 조제하였다. 질소 분위기하, 60 ℃ 에서, NMP (7.67 g) 중에 모노머 혼합 용액을 2 시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 후, 60 ℃ 에서 20 시간 반응시켜, 폴리머 용액 P2 를 얻었다.In NMP (30.7 g), MA2 (2.60 g, 7.5 mmol), MB1 (13.0 g, 42.4 mmol) and AIBN (0.821 g, 5.00 mmol) were dissolved to prepare a monomer mixture solution. The monomer mixed solution was added dropwise over 2 hours in NMP (7.67 g) at 60°C under a nitrogen atmosphere. After dripping, it was made to react at 60 degreeC for 20 hours, and polymer fluid P2 was obtained.

[합성예 3][Synthesis Example 3]

NMP (32.0 g) 중에, MA3 (3.29 g, 7.5 mmol), MB1 (13.0 g, 42.4 mmol) 및 AIBN (0.821 g, 5.00 mmol) 을 용해시켜, 모노머 혼합 용액을 조제하였다. 질소 분위기하, 60 ℃ 에서, NMP (7.99 g) 중에 모노머 혼합 용액을 2 시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 후, 60 ℃ 에서 20 시간 반응시켜, 폴리머 용액 P3 을 얻었다.In NMP (32.0 g), MA3 (3.29 g, 7.5 mmol), MB1 (13.0 g, 42.4 mmol) and AIBN (0.821 g, 5.00 mmol) were dissolved to prepare a monomer mixture solution. The monomer mixed solution was added dropwise over 2 hours in NMP (7.99 g) at 60°C under a nitrogen atmosphere. After dripping, it was made to react at 60 degreeC for 20 hours, and polymer fluid P3 was obtained.

[합성예 4][Synthesis Example 4]

NMP (11.8 g) 중에, MA1 (0.997 g, 3.0 mmol), MB1 (4.60 g, 15.0 mmol), MC1 (0.376 g, 2.0 mmol) 및 AIBN (0.328 g, 2.00 mmol) 을 용해시켜, 모노머 혼합 용액을 조제하였다. 질소 분위기하, 60 ℃ 에서, NMP (2.94 g) 중에 모노머 혼합 용액을 2 시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 후, 60 ℃ 에서 20 시간 반응시켜, 폴리머 용액 P4 를 얻었다.In NMP (11.8 g), MA1 (0.997 g, 3.0 mmol), MB1 (4.60 g, 15.0 mmol), MC1 (0.376 g, 2.0 mmol) and AIBN (0.328 g, 2.00 mmol) were dissolved to obtain a monomer mixture solution. prepared. The monomer mixed solution was added dropwise over 2 hours in NMP (2.94 g) at 60°C under a nitrogen atmosphere. After dripping, it was made to react at 60 degreeC for 20 hours, and polymer fluid P4 was obtained.

[2] 폴리머 용액의 조제[2] Preparation of polymer solution

[조제예 1][Preparation Example 1]

폴리머 용액 P1 (208 g) 에, NMP (4.47 g), BCS (37.5 g) 및 R40 (0.031 g) 을 첨가하여 교반함으로써, 폴리머 용액 T1 을 얻었다. 이 폴리머 용액 T1 은, 그대로 위상차막을 형성하기 위한 재료로 하였다.Polymer fluid T1 was obtained by adding and stirring NMP (4.47g), BCS (37.5g), and R40 (0.031g) to polymer fluid P1 (208g). This polymer solution T1 was used as a material for forming a phase contrast film as it was.

[조제예 2][Preparation Example 2]

폴리머 용액 P2 (48.5 g) 에, NMP (0.97 g), BCS (8.73 g) 및 R40 (7.3 mg) 을 첨가하여 교반함으로써, 폴리머 용액 T2 를 얻었다. 이 폴리머 용액 T2 는, 그대로 위상차막을 형성하기 위한 재료로 하였다.Polymer fluid T2 was obtained by adding and stirring NMP (0.97 g), BCS (8.73 g), and R40 (7.3 mg) to polymer fluid P2 (48.5 g). This polymer solution T2 was used as a material for forming a phase contrast film as it was.

[조제예 3][Preparation Example 3]

폴리머 용액 P3 (51.2 g) 에, NMP (1.03 g), BCS (9.22 g) 및 R40 (7.7 mg) 을 첨가하여 교반함으로써, 폴리머 용액 T3 을 얻었다. 이 폴리머 용액 T3 은, 그대로 위상차막을 형성하기 위한 재료로 하였다.Polymer fluid T3 was obtained by adding and stirring NMP (1.03 g), BCS (9.22 g) and R40 (7.7 mg) to polymer fluid P3 (51.2 g). This polymer solution T3 was used as a material for forming a phase contrast film as it was.

[조제예 4][Preparation Example 4]

폴리머 용액 P4 (20.0 g) 에, NMP (0.40 g), BCS (3.60 g) 및 R40 (3.0 mg) 을 첨가하여 교반함으로써, 폴리머 용액 T4 를 얻었다. 이 폴리머 용액 T4 는, 그대로 위상차막을 형성하기 위한 재료로 하였다.Polymer fluid T4 was obtained by adding and stirring NMP (0.40 g), BCS (3.60 g) and R40 (3.0 mg) to polymer fluid P4 (20.0 g). This polymer solution T4 was used as a material for forming a phase contrast film as it was.

[3] 단층 위상차막의 제조[3] Manufacture of single-layer retardation film

[실시예 1][Example 1]

폴리머 용액 T1 을 공경 5.0 ㎛ 의 필터로 여과한 후, 무알칼리 유리 기판 상에 스핀 코트하고, 60 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 4 분간 건조시켜, 막두께 5.0 ㎛ 의 위상차막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 313 nm 의 자외선 (313 nm 밴드 패스 필터) 을 20 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 1 회째의 편광 자외선의 편광축 방향을 0°로 하고, 그에 대하여 기판을 수평으로 50°회전시켰다. 그리고, 편광판을 개재하여 공기측으로부터 파장 365 nm (365 nm 밴드 패스 필터) 의 자외선을 100 mJ/cm2 조사하였다 (1 회째의 편광축 방향과 2 회째의 편광축 방향이 이루는 각도 = 50°). 2 회의 편광 자외선 조사 후, 140 ℃ 의 순환식 오븐에서 20 분간 가열하여, 위상차막이 부착된 기판 S1 을 제작하였다.After filtering the polymer solution T1 with a filter having a pore diameter of 5.0 μm, it was spin-coated on an alkali-free glass substrate and dried on a hot plate at 60° C. for 4 minutes to form a retardation film with a film thickness of 5.0 μm. Next, the coating film surface was irradiated with an ultraviolet ray (313 nm band pass filter) having a wavelength of 313 nm at 20 mJ/cm 2 through a polarizing plate from the air side. Subsequently, the direction of the polarization axis of the first polarized ultraviolet light was set to 0°, and the substrate was rotated horizontally by 50° with respect thereto. And 100 mJ/cm 2 of ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm (365 nm band pass filter) was irradiated from the air side through a polarizing plate (angle formed by the first polarization axis direction and the second polarization axis direction = 50°). After irradiation with polarized light ultraviolet rays twice, it was heated in a circulation oven at 140°C for 20 minutes to prepare substrate S1 with a retardation film.

[실시예 2 ∼ 11][Examples 2 to 11]

1 회째 또는 2 회째의 노광 조건을 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 기판 S2 ∼ S11 을 제작하였다. 상세한 조건은, 표 1 에 정리하였다. 표 1 의 노광 조건에 있어서, 313BPF 는 313 nm 밴드 패스 필터, 365BPF 는 365 nm 밴드 패스 필터이다.Substrates S2 to S11 with a retardation film were produced in the same manner as in Example 1 except that the exposure conditions for the first or second time were changed. Detailed conditions are put together in Table 1. In the exposure conditions of Table 1, 313BPF is a 313 nm band pass filter and 365 BPF is a 365 nm band pass filter.

[실시예 12][Example 12]

폴리머 용액 T2 를 공경 5.0 ㎛ 의 필터로 여과한 후, 무알칼리 유리 기판 상에 스핀 코트하고, 80 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 2 분간 건조시켜, 막두께 5.0 ㎛ 의 위상차막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 313 nm 의 자외선 (313 nm 밴드 패스 필터) 을 20 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 1 회째의 편광 자외선의 편광축 방향을 0°로 하고, 그에 대하여 기판을 수평으로 60°회전시켰다. 그리고, 편광판을 개재하여 공기측으로부터 파장 365 nm (365 nm 밴드 패스 필터) 의 자외선을 400 mJ/cm2 조사하였다 (1 회째의 편광축 방향과 2 회째의 편광축 방향이 이루는 각도 = 60°). 2 회의 편광 자외선 조사 후, 110 ℃ 의 순환식 오븐에서 20 분간 가열하여, 위상차막이 부착된 기판 S12 를 제작하였다.After filtering the polymer solution T2 with a filter having a pore diameter of 5.0 μm, it was spin-coated on an alkali-free glass substrate and dried on a hot plate at 80° C. for 2 minutes to form a retardation film with a film thickness of 5.0 μm. Next, the coating film surface was irradiated with an ultraviolet ray (313 nm band pass filter) having a wavelength of 313 nm at 20 mJ/cm 2 through a polarizing plate from the air side. Subsequently, the direction of the polarization axis of the first polarized ultraviolet light was set to 0°, and the substrate was rotated horizontally by 60° with respect to this direction. Then, 400 mJ/cm 2 of ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm (365 nm band pass filter) was irradiated from the air side through a polarizing plate (angle formed by the first polarization axis direction and the second polarization axis direction = 60°). After irradiation with polarized light ultraviolet rays twice, it was heated in a circulating oven at 110°C for 20 minutes to prepare a substrate S12 with a retardation film.

[실시예 13][Example 13]

1 회째의 노광 조건을 변경한 것 이외에는, 실시예 12 와 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 기판 S13 을 제작하였다. 상세한 조건은, 표 1 에 정리하였다.Substrate S13 with a retardation film was produced in the same manner as in Example 12 except that the first exposure conditions were changed. Detailed conditions are put together in Table 1.

[실시예 14][Example 14]

폴리머 용액 T3 을 공경 5.0 ㎛ 의 필터로 여과한 후, 무알칼리 유리 기판 상에 스핀 코트하고, 80 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 2 분간 건조시켜, 막두께 5.0 ㎛ 의 위상차막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 313 nm 의 자외선 (313 nm 밴드 패스 필터) 을 50 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 1 회째의 편광 자외선의 편광축 방향을 0°로 하고, 그에 대하여 기판을 수평으로 60°회전시켰다. 그리고, 편광판을 개재하여 공기측으로부터 파장 365 nm (365 nm 밴드 패스 필터) 의 자외선을 50 mJ/cm2 조사하였다 (1 회째의 편광축 방향과 2 회째의 편광축 방향이 이루는 각도 = 60°). 2 회의 편광 자외선 조사 후, 130 ℃ 의 순환식 오븐에서 20 분간 가열하여, 위상차막이 부착된 기판 S14 를 제작하였다.After filtering the polymer solution T3 with a filter having a pore diameter of 5.0 μm, it was spin-coated on an alkali-free glass substrate and dried on a hot plate at 80° C. for 2 minutes to form a retardation film with a film thickness of 5.0 μm. Subsequently, the coating film surface was irradiated with an ultraviolet ray (313 nm band pass filter) having a wavelength of 313 nm at 50 mJ/cm 2 through a polarizing plate from the air side. Subsequently, the direction of the polarization axis of the first polarized ultraviolet light was set to 0°, and the substrate was rotated horizontally by 60° with respect to this direction. Then, ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm (365 nm band pass filter) were irradiated at 50 mJ/cm 2 from the air side through a polarizing plate (angle formed by the first polarization axis direction and the second polarization axis direction = 60°). After irradiation with polarized light ultraviolet rays twice, it was heated in a circulation oven at 130°C for 20 minutes to prepare a substrate S14 with a retardation film.

[실시예 15 ∼ 16][Examples 15 to 16]

2 회째의 노광 조건을 변경한 것 이외에는, 실시예 14 와 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 기판 S15 ∼ S16 을 제작하였다. 상세한 조건은, 표 1 에 정리하였다.Substrates S15 to S16 with a retardation film were produced in the same manner as in Example 14 except for changing the exposure conditions for the second time. Detailed conditions are put together in Table 1.

[실시예 17][Example 17]

폴리머 용액 T4 를 공경 5.0 ㎛ 의 필터로 여과한 후, 무알칼리 유리 기판 상에 스핀 코트하고, 80 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 2 분간 건조시켜, 막두께 6.0 ㎛ 의 위상차막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 313 nm 의 자외선 (313 nm 밴드 패스 필터) 을 70 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 1 회째의 편광 자외선의 편광축 방향을 0°로 하고, 그에 대하여 기판을 수평으로 50°회전시켰다. 그리고, 편광판을 개재하여 공기측으로부터 파장 365 nm (365 nm 밴드 패스 필터) 의 자외선을 50 mJ/cm2 조사하였다 (1 회째의 편광축 방향과 2 회째의 편광축 방향이 이루는 각도 = 50°). 2 회의 편광 자외선 조사 후, 120 ℃ 의 IR (적외선) 형 오븐에서 20 분간 가열하여, 위상차막이 부착된 기판 S17 을 제작하였다.After filtering the polymer solution T4 with a filter having a pore diameter of 5.0 μm, it was spin-coated on an alkali-free glass substrate and dried on a hot plate at 80° C. for 2 minutes to form a retardation film with a film thickness of 6.0 μm. Next, the coating film surface was irradiated with an ultraviolet ray (313 nm band pass filter) having a wavelength of 313 nm at 70 mJ/cm 2 through a polarizing plate from the air side. Subsequently, the direction of the polarization axis of the first polarized ultraviolet light was set to 0°, and the substrate was rotated horizontally by 50° with respect to this direction. Then, ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm (365 nm band pass filter) were irradiated at 50 mJ/cm 2 from the air side through a polarizing plate (angle formed by the first polarization axis direction and the second polarization axis direction = 50°). After irradiation with polarized light ultraviolet rays twice, it was heated for 20 minutes in a 120°C IR (infrared ray) type oven to prepare substrate S17 with a retardation film.

[실시예 18, 19][Example 18, 19]

1 회째 또는 2 회째의 노광 조건을 변경한 것 이외에는, 실시예 17 과 동일한 방법으로, 위상차막이 부착된 기판 S18, S19 를 제작하였다. 상세한 조건은, 표 1 에 정리하였다.Substrates S18 and S19 with a retardation film were produced in the same manner as in Example 17, except that the exposure conditions for the first or second time were changed. Detailed conditions are put together in Table 1.

[실시예 20][Example 20]

폴리머 용액 T1 을 공경 5.0 ㎛ 의 필터로 여과한 후, 유리 기판에 양면 테이프를 개재하여 첩부한 시클로올레핀 폴리머 (COP) 필름 (닛폰 제온 (주) 제조) 상에 스핀 코트하고, 60 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 4 분간 건조시켜, 막두께 5.0 ㎛ 의 위상차막을 형성하였다. 가건조 후, COP 필름을 양면 테이프로부터 벗겨, 폴리머 도포된 COP 필름을 얻었다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 313 nm 의 자외선 (313 nm 밴드 패스 필터) 을 50 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 1 회째의 편광 자외선의 편광축 방향을 0°로 하고, 그에 대하여 기판을 수평으로 60°회전시켰다. 그리고, 편광판을 개재하여 공기측으로부터 파장 365 nm (365 nm 밴드 패스 필터) 의 자외선을 100 mJ/cm2 조사하였다 (1 회째의 편광축 방향과 2 회째의 편광축 방향이 이루는 각도 = 60°). 2 회의 편광 자외선 조사 후, 140 ℃ 의 순환식 오븐에서 20 분간 가열하여, 위상차막이 부착된 COP 필름 S20 을 제작하였다.After filtering the polymer solution T1 with a filter having a pore diameter of 5.0 μm, spin-coating on a cycloolefin polymer (COP) film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) attached to a glass substrate through a double-sided tape, followed by a hot plate at 60 ° C. It was made to dry for 4 minutes on top, and the retardation film of 5.0 micrometers in thickness was formed. After pre-drying, the COP film was peeled off from the double-sided tape to obtain a polymer-coated COP film. Subsequently, the coating film surface was irradiated with an ultraviolet ray (313 nm band pass filter) having a wavelength of 313 nm at 50 mJ/cm 2 through a polarizing plate from the air side. Subsequently, the direction of the polarization axis of the first polarized ultraviolet light was set to 0°, and the substrate was rotated horizontally by 60° with respect to this direction. Then, 100 mJ/cm 2 of ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm (365 nm band pass filter) was irradiated from the air side through a polarizing plate (angle formed by the first polarization axis direction and the second polarization axis direction = 60°). After irradiation with polarized light ultraviolet rays twice, it was heated in a circulation oven at 140°C for 20 minutes to produce a COP film S20 with a retardation film.

[비교예 1][Comparative Example 1]

폴리머 용액 T1 을 공경 5.0 ㎛ 의 필터로 여과한 후, 무알칼리 유리 기판 상에 스핀 코트하고, 60 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 4 분간 건조시켜, 막두께 5.0 ㎛ 의 위상차막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 313 nm 의 자외선 (313 nm 밴드 패스 필터) 을 20 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 1 회째의 편광 자외선의 편광축 방향과 2 회째의 편광축 방향이 일치하도록 기판 각도를 조정하였다. 그리고, 편광판을 개재하여 공기측으로부터 파장 365 nm (365 nm 밴드 패스 필터) 의 자외선을 100 mJ/cm2 조사하였다. 2 회의 편광 자외선 조사 후, 140 ℃ 의 순환식 오븐에서 20 분간 가열하여, 위상차막이 부착된 기판 R1 을 제작하였다.After filtering the polymer solution T1 with a filter having a pore diameter of 5.0 μm, it was spin-coated on an alkali-free glass substrate and dried on a hot plate at 60° C. for 4 minutes to form a retardation film with a film thickness of 5.0 μm. Next, the coating film surface was irradiated with an ultraviolet ray (313 nm band pass filter) having a wavelength of 313 nm at 20 mJ/cm 2 through a polarizing plate from the air side. Subsequently, the angle of the substrate was adjusted so that the direction of the polarization axis of the first polarized ultraviolet light coincided with the direction of the polarization axis of the second time. Then, 100 mJ/cm 2 of ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm (365 nm band pass filter) was irradiated from the air side through a polarizing plate. After irradiation with polarized light ultraviolet rays twice, it was heated in a circulation oven at 140°C for 20 minutes to prepare substrate R1 with a retardation film.

[비교예 2][Comparative Example 2]

폴리머 용액 T2 를 공경 5.0 ㎛ 의 필터로 여과한 후, 무알칼리 유리 기판 상에 스핀 코트하고, 80 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 2 분간 건조시켜, 막두께 5.0 ㎛ 의 위상차막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 313 nm 의 자외선 (313 nm 밴드 패스 필터) 을 20 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 1 회째의 편광 자외선의 편광축 방향과 2 회째의 편광축 방향이 일치하도록 기판 각도를 조정하였다. 그리고, 편광판을 개재하여 공기측으로부터 파장 365 nm (365 nm 밴드 패스 필터) 의 자외선을 400 mJ/cm2 조사하였다. 2 회의 편광 자외선 조사 후, 110 ℃ 의 순환식 오븐에서 20 분간 가열하여, 위상차막이 부착된 기판 R2 를 제작하였다.After filtering the polymer solution T2 with a filter having a pore diameter of 5.0 μm, it was spin-coated on an alkali-free glass substrate and dried on a hot plate at 80° C. for 2 minutes to form a retardation film with a film thickness of 5.0 μm. Next, the coating film surface was irradiated with an ultraviolet ray (313 nm band pass filter) having a wavelength of 313 nm at 20 mJ/cm 2 through a polarizing plate from the air side. Subsequently, the angle of the substrate was adjusted so that the direction of the polarization axis of the first polarized ultraviolet light coincided with the direction of the polarization axis of the second time. Then, 400 mJ/cm 2 of ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm (365 nm band pass filter) was irradiated from the air side through a polarizing plate. After irradiation with polarized light ultraviolet rays twice, it was heated in a circulating oven at 110°C for 20 minutes to prepare a substrate R2 with a retardation film.

[비교예 3][Comparative Example 3]

폴리머 용액 T3 을 공경 5.0 ㎛ 의 필터로 여과한 후, 무알칼리 유리 기판 상에 스핀 코트하고, 80 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 2 분간 건조시켜, 막두께 5.0 ㎛ 의 위상차막을 형성하였다. 이어서, 편광판을 개재하여 파장 313 nm 의 자외선 (313 nm 밴드 패스 필터) 을 50 mJ/cm2 로 도막면에 공기측으로부터 조사하였다. 계속해서, 1 회째의 편광 자외선의 편광축 방향과 2 회째의 편광축 방향이 일치하도록 기판 각도를 조정하였다. 그리고, 편광판을 개재하여 공기측으로부터 파장 365 nm (365 nm 밴드 패스 필터) 의 자외선을 50 mJ/cm2 조사하였다. 2 회의 편광 자외선 조사 후, 130 ℃ 의 순환식 오븐에서 20 분간 가열하여, 위상차막이 부착된 기판 R3 을 제작하였다.After filtering the polymer solution T3 with a filter having a pore diameter of 5.0 μm, it was spin-coated on an alkali-free glass substrate and dried on a hot plate at 80° C. for 2 minutes to form a retardation film with a film thickness of 5.0 μm. Subsequently, the coating film surface was irradiated with an ultraviolet ray (313 nm band pass filter) having a wavelength of 313 nm at 50 mJ/cm 2 through a polarizing plate from the air side. Subsequently, the angle of the substrate was adjusted so that the direction of the polarization axis of the first polarized ultraviolet light coincided with the direction of the polarization axis of the second time. Then, 50 mJ/cm 2 of ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm (365 nm band pass filter) was irradiated from the air side through a polarizing plate. After irradiation with polarized light ultraviolet rays twice, it was heated in a circulation oven at 130°C for 20 minutes to prepare substrate R3 with a retardation film.

Figure pct00047
Figure pct00047

실시예에서 제작한 기판 S1 ∼ S20 및 비교예에서 제작한 기판 R1 ∼ R3 에 대하여, 위상차값 및 파장 분산에 대하여, 하기 방법에 의해 평가하였다.With respect to substrates S1 to S20 prepared in Examples and substrates R1 to R3 prepared in Comparative Examples, retardation values and wavelength dispersion were evaluated by the following methods.

(1) 위상차 평가(1) Phase difference evaluation

Axometrics 사 제조의 Axo Scan 을 사용하여, 파장 550 nm 에 있어서의 직선 위상차 (Linear Re) 와 원 위상차 (Circular Re) 를 평가하였다. 또, 측정 파장 450 nm 에 있어서의 직선 위상차 (Linear Re) 를 측정하고, 하기 식에 의해 파장 분산성을 평가하였다. 이 값이 작을수록 정분산이 억제되어 있고, 1.00 미만이면 역파장 분산성을 나타내고 있다.A linear phase difference (Linear Re) and circular phase difference (Circular Re) at a wavelength of 550 nm were evaluated using AxoScan manufactured by Axometrics. Moreover, the linear retardation (Linear Re) in a measurement wavelength of 450 nm was measured, and wavelength dispersion was evaluated by the following formula. Normal dispersion is suppressed, so that this value is small, and reverse wavelength dispersion is shown when it is less than 1.00.

 파장 분산 = Re[450]/Re[550]Wavelength dispersion = Re[450]/Re[550]

(Re[450] 은 파장 450 nm 에 있어서의 직선 위상차를 나타내고, Re[550] 은 파장 550 nm 에 있어서의 직선 위상차를 나타낸다)(Re[450] represents the linear phase difference at a wavelength of 450 nm, and Re[550] represents the linear phase difference at a wavelength of 550 nm)

하기 표 2 에 위상차 평가의 결과를 정리하여 나타낸다. 또, 실시예 7 에서 얻어진 위상차막이 부착된 기판의 직선 위상차 (Linear Re) 와 파장의 관계를 도 1 에 나타낸다.Table 2 below summarizes the results of phase difference evaluation and shows them. In addition, Fig. 1 shows the relationship between the linear phase difference (Linear Re) and the wavelength of the substrate with a retardation film obtained in Example 7.

Figure pct00048
Figure pct00048

비교예 1 ∼ 3 의 2 회 노광하고 있지만 편광축 방향이 동일한 위상차막에 있어서는, 원 위상차가 전혀 발현되지 않았다. 한편, 기판을 수평 회전시켜 2 회째의 편광축 방향을 1 회째의 편광축 방향으로부터 어긋나게 한 위상차막을 사용한 실시예 1 ∼ 20 에 있어서는, 원 위상차가 발현되었다. 또한, 실시예 1 ∼ 20 의 직선 위상차의 파장 분산은, 비교예 1 ∼ 3 에 비하여 정분산이 억제되었다. 실시예 4 ∼ 9, 17 ∼ 20 은, 역파장 분산을 나타내었다.Although exposure was carried out twice in Comparative Examples 1 to 3, in the retardation film having the same polarization axis direction, no original retardation was developed. On the other hand, in Examples 1 to 20 using the retardation film in which the substrate was rotated horizontally and the direction of the second polarization axis shifted from the direction of the first polarization axis, original retardation was developed. In addition, as for the wavelength dispersion of the linear retardation of Examples 1-20, normal dispersion was suppressed compared with Comparative Examples 1-3. Examples 4 to 9 and 17 to 20 showed reverse wavelength dispersion.

실시예 5 와 실시예 11 을 비교하면, 실시예 5 는 역파장 분산을 나타내었지만, 실시예 11 은 정분산이었다. 따라서, 기판측으로부터 2 회 노광하는 것보다 공기측으로부터 2 회 노광하는 쪽이, 정분산 억제 효과가 큰 것이 시사되었다.Comparing Example 5 and Example 11, Example 5 showed reverse wavelength dispersion, but Example 11 had normal dispersion. Therefore, it was suggested that exposure twice from the air side had a larger normal dispersion suppression effect than exposure twice from the substrate side.

(2) 반사색의 평가(2) Evaluation of reflected color

반사판 (크롬판) 상에 위상차막이 부착된 기판을 도막면이 반사판측이 되도록 적층하고, 그 위에 직선 편광판을 적층하여, 육안에 의한 반사색을 관찰하였다. 그 결과, 비교예 1 의 기판으로부터의 반사색은 청색을 나타낸 데에 반해, 실시예 7 의 기판으로부터의 반사색은 흑색에 가까운 반사색을 나타내었다. 따라서, 본 프로세스에 의해 제작한 위상차막은, 유기 EL 표시 소자 등의 반사 방지 용도용 위상차막으로서 응용할 수 있다.A substrate with a retardation film was laminated on a reflector (chrome plate) so that the coated film surface was on the reflector side, and a linear polarizing plate was laminated thereon, and the reflected color was observed with the naked eye. As a result, the reflected color from the substrate of Comparative Example 1 showed a blue color, whereas the reflected color from the substrate of Example 7 showed a reflected color close to black. Therefore, the retardation film produced by this process can be applied as a retardation film for antireflection applications such as organic EL display elements.

Claims (10)

(I) 자외선으로 광 반응하는 광 반응성 부위를 측사슬에 갖는 중합체를 포함하는 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물을 기판 상에 도포하고, 건조시켜 도막을 형성하는 공정,
(II) 상기 도막에, 제 1 편광 자외선을 조사하는 제 1 노광 공정, 및
(III) 상기 편광 자외선을 조사한 도막에, 추가로, 제 1 편광 자외선을 조사한 면과 동일 면에, 제 1 편광 자외선과 편광축 방향이 상이한 제 2 편광 자외선을 조사하는 제 2 노광 공정을 포함하는 단층 위상차막의 제조 방법.
(I) a step of applying a polymer composition for forming a single-layer retardation film comprising a polymer having a photoreactive site that photoreacts with ultraviolet rays in a side chain on a substrate and drying it to form a coating film;
(II) a first exposure step of irradiating the coating film with first polarized ultraviolet rays; and
(III) a single layer including a second exposure step of irradiating a second polarized ultraviolet ray having a different polarization axis direction from the first polarized ultraviolet ray on the same surface as the surface irradiated with the first polarized ultraviolet ray to the coating film irradiated with the polarized ultraviolet ray; A method for manufacturing a phase contrast film.
제 1 항에 있어서,
또한, (IV) 공정 (III) 에서 얻어진 도막을 가열하는 공정을 포함하는 단층 위상차막의 제조 방법.
According to claim 1,
Further, (IV) a method for producing a single layer retardation film including a step of heating the coating film obtained in step (III).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
공정 (II) 및 (III) 에 있어서, 편광 자외선을 도막과 공기의 계면측으로부터 조사하는 단층 위상차막의 제조 방법.
According to claim 1 or 2,
In steps (II) and (III), a method for producing a single-layer phase contrast film in which polarized ultraviolet rays are irradiated from the interface side of the coating film and air.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 자외선으로 광 반응하는 광 반응성 부위를 갖는 측사슬이, 하기 식 (a1) ∼ (a6) 중 어느 것으로 나타내어지는 단층 위상차막의 제조 방법.
Figure pct00049

(식 중, n1 및 n2 는, 각각 독립적으로 0, 1, 2 또는 3 이다.
L 은, 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.
T1 은, 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.
A1, A2 및 D1 은, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH- 또는 -NH-C(=O)- 이다. 단, T1 이 단결합일 때는, A2 단결합이다.
Y1 및 Y2 는, 페닐렌기 또는 나프틸렌기이고, 그 페닐렌기 및 나프틸렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다.
P1, Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로 단결합, 페닐렌기 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 지환식 탄화수소기이고, 그 페닐렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다. Q1 의 수가 2 일 때, 각 Q1 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, Q2 의 수가 2 일 때, 각 Q2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.
R 은, 수소 원자, 시아노기, 할로겐 원자, 카르복시기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기, 탄소수 3 ∼ 7 의 시클로알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기이다.
X1 및 X2 는, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 이다. X1 의 수가 2 일 때, 각 X1 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, X2 의 수가 2 일 때, 각 X2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.
Cou 는, 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기이고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.
E 는, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- 또는 -S-C(=O)- 이다.
G1 및 G2 는, 각각 독립적으로 N 또는 CH 이다.
파선은, 결합손이다.)
According to any one of claims 1 to 3,
A method for producing a single-layer retardation film in which a side chain having a photoreactive site that photoreacts with the ultraviolet rays is represented by any one of the following formulas (a1) to (a6).
Figure pct00049

(In the formula, n1 and n2 are each independently 0, 1, 2 or 3.
L is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with halogen atoms.
T 1 is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with halogen atoms.
A 1 , A 2 and D 1 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)- NH- or -NH-C(=O)-. However, when T 1 is a single bond, A 2 is also is a single bond
Y 1 and Y 2 are a phenylene group or a naphthylene group, and some or all of the hydrogen atoms of the phenylene group and the naphthylene group are cyano groups, halogen atoms, alkyl groups of 1 to 5 carbon atoms, or alkyl groups of 2 to 6 carbon atoms It may be substituted with a carbonyl group or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.
P 1 , Q 1 and Q 2 are each independently a single bond, a phenylene group, or a divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the phenylene group are cyano groups, halogen atoms, It may be substituted with an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. When the number of Q 1 is 2, each Q 1 may be the same or different, and when the number of Q 2 is 2, each Q 2 may be the same or different.
R is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a carboxy group, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 7 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms.
X 1 and X 2 are each independently a single bond, -O-, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡ C-, -CH=CH-C(=O)-O- or -OC(=O)-CH=CH-. When the number of X 1 is 2, each X 1 may be the same or different, and when the number of X 2 is 2, each X 2 may be the same or different.
Cou is a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and some of the hydrogen atoms bonded thereto are -NO 2 , -CN, -CH=C(CN) 2 , -CH=CH-CN, a halogen atom , a C1-C5 alkyl group or a C1-C5 alkoxy group.
E is -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)-S- or -SC(=O)-.
G 1 and G 2 are each independently N or CH.
The dashed line is the bond hand.)
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 중합체가, 또한 광 2 량화도 광 이성화도 하지 않는 측사슬을 갖는 단층 위상차막의 제조 방법.
According to any one of claims 1 to 4,
The manufacturing method of the single-layer phase contrast film in which the said polymer has a side chain which does neither photodimerization nor photoisomerization.
제 5 항에 있어서,
상기 광 2 량화도 광 이성화도 하지 않는 측사슬이, 또한, 하기 식 (b1) ∼ (b11) 중 어느 것으로 나타내어지는 것인 단층 위상차막의 제조 방법.
Figure pct00050

Figure pct00051

(식 중, A3 및 A4 는, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, 또는 -NH-C(=O)- 이다.
R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기이다.
R2 는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기이며, 이들 기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.
R3 은, 수소 원자, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬옥시기이다.
E 는, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- 또는 -S-C(=O)- 이다.
a 는, 1 ∼ 12 의 정수이다.
k1 ∼ k5 는, 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수이지만, k1 ∼ k5 의 합계는 2 이상이다.
k6 및 k7 은, 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수이지만, k6 및 k7 의 합계는 1 이상이다.
m1, m2 및 m3 은, 각각 독립적으로 1 ∼ 3 의 정수이다.
n 은, 0 또는 1 이다.
Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-, -CH2-O-, 또는 -CF2- 이다.
파선은, 결합손이다.
또, 식 중의 벤젠 고리 및 나프탈렌 고리의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다.)
According to claim 5,
The method for producing a single-layer retardation film in which the side chain that neither undergoes photodimerization nor photoisomerization is further represented by any of the following formulas (b1) to (b11).
Figure pct00050

Figure pct00051

(In the formula, A 3 and A 4 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O) -NH-, or -NH-C(=O)-.
R 1 is -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, or 1 to 12 carbon atoms It is an alkyl group of or a C1-C12 alkoxy group.
R 2 is a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, or a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in these groups are -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms.
R 3 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, or a carbon number It is an alkyl group of 1-12 or an alkyloxy group of 1-12 carbon atoms.
E is -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)-S- or -SC(=O)-.
a is an integer of 1 to 12;
k1-k5 are each independently an integer of 0-2, but the sum of k1-k5 is 2 or more.
Although k6 and k7 are each independently an integer of 0-2, the sum of k6 and k7 is 1 or more.
m1, m2 and m3 are each independently an integer of 1-3.
n is 0 or 1.
Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, -C(=O)-, -CH 2 -O-, or -CF 2 -.
The broken line is a bonding hand.
In addition, some or all of the hydrogen atoms of the benzene ring and naphthalene ring in the formula may be substituted with a cyano group, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. .)
자외선으로 광 반응하는 광 반응성 부위를 측사슬에 갖는 중합체를 포함하는 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물로서,
(I) 상기 조성물을 기판 상에 도포하고, 건조시켜 도막을 형성하는 공정, (II) 상기 도막에, 제 1 편광 자외선을 조사하는 제 1 노광 공정, 및 (III) 상기 편광 자외선을 조사한 도막에, 추가로, 제 1 편광 자외선을 조사한 면과 동일 면에, 제 1 편광 자외선과 편광축 방향이 상이한 제 2 편광 자외선을 조사하는 제 2 노광 공정에 의해, 파장 분산이 플랫 분산 또는 역파장 분산을 나타내는 단층 위상차막을 부여하는 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물.
A polymer composition for forming a single-layer retardation film comprising a polymer having a photoreactive site photoreactive with ultraviolet rays in a side chain,
(I) a step of applying the composition on a substrate and drying it to form a coating film, (II) a first exposure step of irradiating the coating film with first polarized ultraviolet rays, and (III) a coating film irradiated with the polarized ultraviolet rays , Further, by a second exposure step of irradiating second polarized ultraviolet light having a different polarization axis direction from the first polarized ultraviolet light on the same surface as the surface irradiated with the first polarized ultraviolet light, the wavelength dispersion exhibits flat dispersion or reverse wavelength dispersion. A polymer composition for forming a single-layer retardation film for providing a single-layer retardation film.
제 7 항에 있어서,
상기 자외선으로 광 반응하는 광 반응성 부위를 갖는 측사슬이, 하기 식 (a1) ∼ (a6) 중 어느 것으로 나타내어지는 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물.
Figure pct00052

(식 중, n1 및 n2 는, 각각 독립적으로 0, 1, 2 또는 3 이다.
L 은, 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.
T1 은, 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.
A1, A2 및 D1 은, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH- 또는 -NH-C(=O)- 이다. 단, T1 이 단결합일 때는, A2 단결합이다.
Y1 및 Y2 는, 페닐렌기 또는 나프틸렌기이고, 그 페닐렌기 및 나프틸렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다.
P1, Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로 단결합, 페닐렌기 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 2 가의 지환식 탄화수소기이고, 그 페닐렌기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다. Q1 의 수가 2 일 때, 각 Q1 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, Q2 의 수가 2 일 때, 각 Q2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.
R 은, 수소 원자, 시아노기, 할로겐 원자, 카르복시기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기, 탄소수 3 ∼ 7 의 시클로알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기이다.
X1 및 X2 는, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 이다. X1 의 수가 2 일 때, 각 X1 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되며, X2 의 수가 2 일 때, 각 X2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.
Cou 는, 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기이고, 이들에 결합하는 수소 원자의 일부가 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.
E 는, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- 또는 -S-C(=O)- 이다.
G1 및 G2 는, 각각 독립적으로 N 또는 CH 이다.
파선은, 결합손이다.)
According to claim 7,
The polymer composition for forming a single-layer retardation film, wherein the side chain having a photoreactive site that photoreacts with the ultraviolet rays is represented by any one of the following formulas (a1) to (a6).
Figure pct00052

(In the formula, n1 and n2 are each independently 0, 1, 2 or 3.
L is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with halogen atoms.
T 1 is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with halogen atoms.
A 1 , A 2 and D 1 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)- NH- or -NH-C(=O)-. However, when T 1 is a single bond, A 2 is also is a single bond
Y 1 and Y 2 are a phenylene group or a naphthylene group, and some or all of the hydrogen atoms of the phenylene group and the naphthylene group are cyano groups, halogen atoms, alkyl groups of 1 to 5 carbon atoms, or alkyl groups of 2 to 6 carbon atoms It may be substituted with a carbonyl group or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.
P 1 , Q 1 and Q 2 are each independently a single bond, a phenylene group, or a divalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in the phenylene group are cyano groups, halogen atoms, It may be substituted with an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. When the number of Q 1 is 2, each Q 1 may be the same or different, and when the number of Q 2 is 2, each Q 2 may be the same or different.
R is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a carboxy group, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 7 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms.
X 1 and X 2 are each independently a single bond, -O-, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡ C-, -CH=CH-C(=O)-O- or -OC(=O)-CH=CH-. When the number of X 1 is 2, each X 1 may be the same or different, and when the number of X 2 is 2, each X 2 may be the same or different.
Cou is a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and some of the hydrogen atoms bonded thereto are -NO 2 , -CN, -CH=C(CN) 2 , -CH=CH-CN, a halogen atom , a C1-C5 alkyl group or a C1-C5 alkoxy group.
E is -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)-S- or -SC(=O)-.
G 1 and G 2 are each independently N or CH.
The dashed line is the bond hand.)
제 8 항에 있어서,
상기 중합체가, 또한 광 2 량화도 광 이성화도 하지 않는 측사슬을 갖는 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물.
According to claim 8,
The polymer composition for forming a single-layer retardation film in which the above-mentioned polymer has a side chain that neither undergoes photodimerization nor photoisomerization.
제 9 항에 있어서,
상기 광 2 량화도 광 이성화도 하지 않는 측사슬이, 또한, 하기 식 (b1) ∼ (b11) 중 어느 것으로 나타내어지는 것인 단층 위상차막 형성용 중합체 조성물.
Figure pct00053

Figure pct00054

(식 중, A3 및 A4 는, 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, 또는 -NH-C(=O)- 이다.
R1 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기이다.
R2 는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기 또는 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기이며, 이들 기의 수소 원자의 일부 또는 전부가, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.
R3 은, 수소 원자, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬옥시기이다.
E 는, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-S- 또는 -S-C(=O)- 이다.
a 는, 1 ∼ 12 의 정수이다.
k1 ∼ k5 는, 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수이지만, k1 ∼ k5 의 합계는 2 이상이다.
k6 및 k7 은, 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수이지만, k6 및 k7 의 합계는 1 이상이다.
m1, m2 및 m3 은, 각각 독립적으로 1 ∼ 3 의 정수이다.
n 은, 0 또는 1 이다.
Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-, -CH2-O-, 또는 -CF2- 이다.
파선은, 결합손이다.
또, 식 중의 벤젠 고리 및 나프탈렌 고리의 수소 원자의 일부 또는 전부가, 시아노기, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알킬카르보닐기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어 있어도 된다.)
According to claim 9,
The polymer composition for forming a single-layer retardation film, wherein the side chain that is neither photodimerized nor photoisomerized is represented by any of the following formulas (b1) to (b11).
Figure pct00053

Figure pct00054

(In the formula, A 3 and A 4 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O) -NH-, or -NH-C(=O)-.
R 1 is -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, or 1 to 12 carbon atoms It is an alkyl group of or a C1-C12 alkoxy group.
R 2 is a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, or a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms in these groups are -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms.
R 3 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group of 5 to 8 carbon atoms, or a carbon number It is an alkyl group of 1-12 or an alkyloxy group of 1-12 carbon atoms.
E is -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)-S- or -SC(=O)-.
a is an integer of 1 to 12;
k1-k5 are each independently an integer of 0-2, but the sum of k1-k5 is 2 or more.
Although k6 and k7 are each independently an integer of 0-2, the sum of k6 and k7 is 1 or more.
m1, m2 and m3 are each independently an integer of 1-3.
n is 0 or 1.
Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, -C(=O)-, -CH 2 -O-, or -CF 2 -.
The broken line is a bonding hand.
In addition, some or all of the hydrogen atoms of the benzene ring and naphthalene ring in the formula may be substituted with a cyano group, a halogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group of 2 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms. .)
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