KR20230121826A - 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실에스테르의 제조 방법 - Google Patents
2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실에스테르의 제조 방법 Download PDFInfo
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- FDATWRLUYRHCJE-UHFFFAOYSA-N diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1O FDATWRLUYRHCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 66
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 42
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 19
- UUGLJVMIFJNVFH-UHFFFAOYSA-N Hexyl benzoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 UUGLJVMIFJNVFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- FQNKTJPBXAZUGC-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(diethylamino)-2-hydroxybenzoyl]benzoic acid Chemical compound OC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O FQNKTJPBXAZUGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 claims abstract description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 63
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 18
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 17
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 16
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims description 16
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 15
- WAVOOWVINKGEHS-UHFFFAOYSA-N 3-(diethylamino)phenol Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC(O)=C1 WAVOOWVINKGEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid group Chemical group S(O)(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 8
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 8
- -1 hydroxybenzoyl Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 8
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 7
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 7
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 claims description 7
- 230000032050 esterification Effects 0.000 claims description 6
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 5
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 claims description 5
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 4
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 29
- 239000000047 product Substances 0.000 description 17
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 15
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 13
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004904 UV filter Substances 0.000 description 9
- AKNXMRHLLPIDLY-UHFFFAOYSA-N diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC(N(CC)CC)=C1O AKNXMRHLLPIDLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 9
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 8
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 6
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 6
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 6
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 4
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 4
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 4
- 239000006210 lotion Substances 0.000 description 4
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 4
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 230000004224 protection Effects 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 3
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000037072 sun protection Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229940025703 topical product Drugs 0.000 description 3
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003974 emollient agent Substances 0.000 description 2
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000002324 mouth wash Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 2
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 2
- 241000282472 Canis lupus familiaris Species 0.000 description 1
- 241000282412 Homo Species 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002266 Pluriol® Polymers 0.000 description 1
- 208000000453 Skin Neoplasms Diseases 0.000 description 1
- 206010042496 Sunburn Diseases 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000002882 anti-plaque Effects 0.000 description 1
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000004534 cecum Anatomy 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- FBHBPOILPLAOMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene;cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1.ClC1=CC=CC=C1 FBHBPOILPLAOMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000000001 dental powder Substances 0.000 description 1
- 239000000551 dentifrice Substances 0.000 description 1
- 230000002951 depilatory effect Effects 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000834 fixative Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000000118 hair dye Substances 0.000 description 1
- 239000008266 hair spray Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 239000005556 hormone Substances 0.000 description 1
- 229940088597 hormone Drugs 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000002674 ointment Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000006072 paste Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 231100000760 phototoxic Toxicity 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002453 shampoo Substances 0.000 description 1
- 238000000526 short-path distillation Methods 0.000 description 1
- 230000009759 skin aging Effects 0.000 description 1
- 201000000849 skin cancer Diseases 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000606 toothpaste Substances 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 235000013311 vegetables Nutrition 0.000 description 1
- 239000011782 vitamin Substances 0.000 description 1
- 229940088594 vitamin Drugs 0.000 description 1
- 229930003231 vitamin Natural products 0.000 description 1
- 235000013343 vitamin Nutrition 0.000 description 1
- 150000003722 vitamin derivatives Chemical class 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C227/00—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C227/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C227/40—Separation; Purification
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C227/00—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C227/04—Formation of amino groups in compounds containing carboxyl groups
- C07C227/10—Formation of amino groups in compounds containing carboxyl groups with simultaneously increasing the number of carbon atoms in the carbon skeleton
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C227/00—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C227/14—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton from compounds containing already amino and carboxyl groups or derivatives thereof
- C07C227/18—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton from compounds containing already amino and carboxyl groups or derivatives thereof by reactions involving amino or carboxyl groups, e.g. hydrolysis of esters or amides, by formation of halides, salts or esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C227/00—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C227/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C227/40—Separation; Purification
- C07C227/42—Crystallisation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C229/52—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B2200/00—Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
- C07B2200/13—Crystalline forms, e.g. polymorphs
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
본 발명은 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산을 n-헥산올과 반응시켜 수득된 반응 혼합물을 7 초과의 pH로 조정한 다음 수성 상으로 적어도 한 번 추출하고 용해된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 적어도 2종의 상이한 흡착제 상에 흡착시키는 것을 포함하는 8.2 이하의 가드너 값을 갖는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 제조 방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 낮은 가드너(Gardner) 값을 갖는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 제조 방법에 관한 것이다.
UV 방사선은 사람의 피부에 유해한 영향을 미친다. 피부의 일광화상의 심각한 영향 이외에, UV 방사선은 또한 피부 암의 위험을 증가시키는 것으로 알려져 있다. 또한, UV-A 및 UV-B 광에 장시간 노출은 피부에 광독성 및 광알레르기성 반응을 일으킬 수 있고 피부 노화를 촉진시킬 수 있다.
UV 방사선으로부터 사람의 피부를 보호하기 위해, UV-A 필터, UV-B 필터, 및 광대역 필터를 포함하여 다양한 일광 차단 UV 필터 (또한 UV 흡수제로 지칭됨)가 존재한다. 이러한 필터는 선스크린 또는 화장품 조성물에 첨가된다. UV 필터는 유기 또는 무기, 미립자 또는 비-미립자 화합물이며, 이들은 모두 UV-광 범위에서 높은 흡수 효능을 갖는다. 일반적으로, UV 광은 UV-A 방사선 (320 - 400 nm) 및 UV-B 방사선 (280 - 320 nm)으로 나눌 수 있다. 흡수 최대치의 위치에 따라, UV 필터는 UV-A 및 UV-B 필터로 나뉜다. UV 필터가 UV-A 및 UV-B 광 둘 다를 흡수하는 경우, 이는 광대역 흡수제로 지칭된다.
2006년부터, EU 위원회는 모든 선스크린 또는 화장품 조성물이 라벨 표시된 자외선 차단 지수 (SPF)의 적어도 3분의 1인, UV-A 차단 지수를 가져야 한다고 권고하였고, 여기서 자외선 차단 지수는 주로 UV-B 차단을 의미한다.
2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 효과적인 UV-A 필터이고 UV 방사선으로부터 피부를 보호하기 위해 사용된다 (예를 들어 선스크린에서). 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 하기에 도시되어 있고, 이하에서 또한 DHHB 또는 화학식 (I)의 화합물로서 지칭될 것이다.
2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 제조 방법은 예를 들어 DE 10011317, EP2155660, 및 WO 2003097578에 공지되어 있다. 이와 관련하여, 몇 가지 문제가 관찰되었다.
2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 공정의 합성 동안 로다민(Rhodamine) B 유형 염료(예를 들어 [9-(2-카르복시페닐)-6-디에틸아미노-3-크산텐일리덴]-디에틸암모늄 염) 및 상응하는 에스테르가 불순물로서 형성되고, 이것은 최종 생성물의 바람직하지 않은 변색을 초래한다. 최종 생성물 (5 ppm 미만의 로다민 B 유형 염료)을 정제하기 위해 추가적인 정제 단계가 필요하다. 지금까지, 정제 단계는 비극성 용매에 오염된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 용해, 흡착제 상의 흡착 및 층 통과 후 용매의 증발을 포함한다.
증류에 의해 용매를 분리함으로써 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 후속 단리 후 깨끗한 최종 생성물을 용융물로서 병에 담고 임의적으로 EP2155660에 따라 추가로 응고시킨다.
따라서, 특히 감소된 유색 불순물을 갖는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 신속하고 효율적인 제조 방법이 지속적으로 필요하다. 특히 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 바람직하지 않은 불그스름하고 갈색을 띠는 변색을 초래하는, 유색 불순물을 감소시키는 것이 목적이었다. 또한, 본 발명의 목적은 결정질 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 단리하는 효율적이고, 경제적으로 개선된 방법을 제공하는 것이었다.
놀랍게도 상기 목적 중 적어도 하나는 본 발명에 따른 방법에 의해 달성될 수 있다는 것이 밝혀졌다. 본 발명의 방법은 낮은 로다민 함량 (5 ppm 미만, 특히 1 ppm 미만) 및 낮은 함량의 잠재적인 추가의 불그스름하지 않은 색상의 불순물을 갖는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 제공한다.
특히, 본 발명의 발명자들은 화학식 (I)의 화합물을 효과적으로 제조하는 방법을 발견하였다.
따라서 본 발명은 제1 측면에서
a) 프탈산 무수물을 3-N,N-디에틸아미노페놀과 반응시켜 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산을 수득하는 단계;
b) 단계 a)에서 수득된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산을 n-헥산올과 반응시켜 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 수득하는 단계;
c) 단계 b)에서 수득된 반응 혼합물을 7 초과의 pH로 조정한 다음 수성 상으로 적어도 한 번 추출하는 단계; 및
d) 용해된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 적어도 2종의 상이한 흡착제 상에 흡착시키는 단계
를 포함하는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 제조 방법에 관한 것이다.
이하에서, 제1 측면의 방법의 바람직한 실시양태를 더욱 상세히 설명한다. 각각의 바람직한 실시양태는 그 자체로 뿐만 아니라 다른 바람직한 실시양태와의 조합으로 관련된다는 것을 이해해야 한다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A1에서, 단계 a)에서 적용되는 3-N,N-디에틸아미노페놀은 프탈산 무수물과의 반응 전에 증류되고/거나 20 이하의 가드너 값, 80 이하의 황색도 지수(Yellowness Index), 및/또는 350 이하의 헤스-아이브스(Hess-Ives)를 갖는다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A2에서, 추출 단계 c)에서 반응 혼합물의 pH는 알칼리성 수용액으로 조정된다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A3에서, 추출 단계 c)에서 반응 혼합물의 pH는 8 내지 14, 바람직하게는 9 내지 13, 특히 10.5 내지 12.5이다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A4에서, 단계 c)에서, 단계 b)에서 수득된 반응 혼합물은 단계 b)에서 수득된 반응 혼합물에 염기를 첨가하여 7 초과의 pH로 조정된다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A5에서, 방법은
cII) 추출 단계 c)에서 수득된 유기 상으로부터 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 결정화하는 단계
를 추가로 포함한다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A6에서, 결정화 단계 cII)에서, 흡착 단계 d) 전에 결정화된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 유기 용매에 용해시키며, 바람직하게는 여기서 결정화된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 비극성 용매, 보다 바람직하게는 톨루엔에 용해시킨다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A7에서, 적어도 2종의 상이한 흡착제는 활성탄, 산화알루미늄, 제올라이트, 및 실리카 겔, 바람직하게는 활성탄 및 실리카 겔로 이루어진 군으로부터 선택된다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A8에서, 흡착 단계 d)에서 용해된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 먼저 실리카 겔 상에 흡착시킨 다음 활성탄 상에 흡착시킨다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A9에서, 흡착 단계 d)의 용액은 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 흡착 단계 d)의 용액의 총 중량을 기준으로 10 내지 80 중량%, 바람직하게는 20 내지 60 중량%, 특히 25 내지 40 중량%로 포함한다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A10에서, 에스테르화 단계 b)는 산성 촉매의 존재 하에 수행되며, 바람직하게는 여기서 산성 촉매는 황산이다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A11에서, 방법은
e) 용매를 제거하는 단계로서, 바람직하게는 여기서 용매가 증류에 의해 제거되는 것인 단계
를 추가로 포함한다.
제1 측면의 바람직한 실시양태 A12에서, 제조된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 8.2 이하의 가드너 값, 89 미만의 황색도 지수, 19 미만의 헤스-아이브스를 갖고/거나, 5 ppm 미만, 바람직하게는 2 ppm 미만, 특히 1 ppm 미만의 로다민 및 그의 에스테르를 포함한다.
제2 측면에서, 본 발명은 8.2 이하, 바람직하게는 7.9 미만, 특히 7.5 미만의 가드너 값을 갖고, 5 ppm 미만, 바람직하게는 2 ppm 미만, 특히 1 ppm 미만의 로다민 및 그의 에스테르를 포함하는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르에 관한 것이며, 바람직하게는 여기서 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 제1 측면에 따른 방법에 의해 수득된다.
제2 측면의 바람직한 실시양태 B1에서, 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 89 미만, 바람직하게는 86 미만의 황색도 지수 및/또는 19 미만, 바람직하게는 17 미만의 헤스-아이브스를 추가로 갖는다.
상세한 설명
본 발명의 예시적인 실시양태를 상세히 설명하기 전에, 본 발명을 이해하는데 중요한 정의가 주어진다.
본 명세서 및 첨부된 청구범위에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥에서 달리 분명하게 지시하지 않는 한 각각의 복수형을 또한 포함한다. 본 발명의 맥락에서, 용어 "약" 및 "대략"은 해당 특징의 기술적 효과를 여전히 보장하기 위해 통상의 기술자가 이해할 정확도의 간격을 나타낸다. 용어는 일반적으로 ±20%, 바람직하게는 ±15%, 보다 바람직하게는 ±10%, 훨씬 더 바람직하게는 ±5%의 표시된 수치 값으로부터의 편차를 나타낸다. 용어 "포함하는"은 제한적인 것이 아님을 이해해야 한다. 본 발명의 목적을 위해 용어 "로 이루어진"은 용어 "를 포함하는"의 바람직한 실시양태인 것으로 간주된다. 이하에서 군이 적어도 특정 수의 실시양태를 포함하는 것으로 정의되는 경우, 이것은 바람직하게는 이들 실시양태로만 이루어진 군을 또한 포함하는 것을 의미한다. 또한, 명세서 및 청구범위에서 용어 "제1", "제2", "제3" 또는 "(a)", "(b)", "(c)", "(d)" 등은 유사한 요소를 구별하기 위해 사용되며 반드시 순차적 또는 연대적 순서를 설명하기 위해 사용된 것은 아니다. 이렇게 사용된 용어는 적절한 상황에서 상호교환 가능하며 본원에서 기술된 본 발명의 실시양태는 본원에서 기술된 또는 예시된 것과 다른 순서로 작동할 수 있다는 것을 이해해야 한다. 용어 "제1", "제2", "제3" 또는 "(a)", "(b)", "(c)", "(d)", "i", "ii" 등이 방법 또는 사용 또는 검정의 단계와 관련이 있는 경우 단계 사이에 시간 또는 시간 간격 일관성이 없고, 즉 상기 또는 하기 본원에서 제시된 바와 같이 적용에서 달리 나타내지 않는 한, 단계는 동시에 수행될 수도 있고 또는 그러한 단계 사이에 초, 분, 시간, 일, 주, 개월 또는 심지어 년의 시간 간격이 있을 수도 있다. 본 발명은 본원에 기술된 특정 방법론, 프로토콜, 시약 등이 달라질 수 있으므로 이들로 제한되지 않음을 이해해야 한다. 본원에서 사용된 용어는 단지 특정 실시양태를 설명하기 위한 것이며, 첨부된 청구범위에 의해서만 제한될 본 발명의 범주를 제한하려는 의도가 아님을 또한 이해해야 한다. 달리 정의되지 않는 한, 본원에서 사용된 모든 기술 및 과학 용어는 통상의 기술자가 일반적으로 이해하는 것과 동일한 의미를 갖는다.
용어 "본 발명에 따른 화합물" 또는 "화학식 (I)의 화합물"은 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 지칭한다.
용어 "할로겐"은 각 경우에 플루오린, 브로민, 염소, 또는 아이오딘, 특히 플루오린, 염소, 또는 브로민을 나타낸다.
용어 "바디-케어 제품"은 인체에 적용하기에 적합한 임의의 제품, 예를 들어 선스크린 조성물, 바스 및 샤워 제품, 향료 및 향기로운 물질을 함유하는 제제, 헤어-케어 제품, 치분, 장식용 제제, 및 활성 성분을 함유하는 화장품 제제를 의미한다. 바람직한 것은 선스크린 조성물이다.
용어 "선스크린 조성물" 또는 "선스크린" 또는 "스킨-케어 제품"은 UV 방사선의 특정 부분을 반사 및/또는 흡수하는, 임의의 국소 제품을 지칭한다. 따라서, 용어 "선스크린 조성물"은 선스크린 조성물뿐만 아니라, UV 차단을 제공하는 임의의 화장품 조성물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 용어 "국소 제품"은 피부에 적용되는 제품을 지칭하며, 예를 들어, 스프레이, 로션, 크림, 오일, 폼, 파우더, 또는 젤을 지칭할 수 있다. 본 발명에 따르면 선스크린 조성물은 하나 이상의 활성제, 예를 들어, 유기 UV 필터, 뿐만 아니라 다른 성분 또는 첨가제, 예를 들어, 유화제, 연화제, 점도 조절제, 안정화제, 방부제, 또는 향료를 포함할 수 있다.
용어 "데일리 케어 조성물"은 UV 방사선의 특정 부분을 반사 또는 흡수하고 인체, 예를 들어, 얼굴, 신체 또는 모발을 위한 일상 케어 제품으로서 사용되는 임의의 국소 제품을 지칭한다. 데일리 케어 조성물은 하나 이상의 활성제, 예를 들어, 유기 또는 무기 UV 필터, 뿐만 아니라 다른 성분 또는 첨가제, 예를 들어, 유화제, 연화제, 점도 조절제, 안정화제, 방부제, 또는 향료를 포함할 수 있다.
적합한 바스 및 샤워 첨가제는, 예를 들어, 샤워 젤, 바스-솔트, 버블 바스 및 비누이다.
향료 및 향기로운 물질을 함유하는 적합한 제제는 특히 방향제, 향수, 화장수 및 면도 로션 (애프터쉐이브 제제)이다.
적합한 헤어-케어 제품은, 예를 들어, 인간 및 동물, 특히 개를 위한 샴푸, 헤어 컨디셔너, 헤어 스타일링 및 트리트먼트용 제품, 파마제, 헤어 스프레이 및 래커, 헤어 젤, 헤어 고정제 및 헤어 염색제 또는 탈색제이다.
적합한 치분은, 예를 들어, 투쓰 크림, 치약, 구강-청결제, 구강 헹굼제, 플라그-방지 제제 및 의치용 세정제이다.
적합한 장식용 제제는, 예를 들어, 립스틱, 네일 바니시, 아이 섀도우, 마스카라, 건식 및 수분 메이크-업, 루즈, 파우더, 제모제 및 선탠 로션이다.
활성 성분을 함유하는 적합한 화장품 제제는, 예를 들어, 호르몬 제제, 비타민 제제, 채소 추출물 제제 및 항균 제제이다.
언급된 바디-케어 제품은 크림, 연고, 페이스트, 폼, 젤, 로션, 파우더, 메이크-업, 스프레이, 스틱 또는 에어로졸의 형태일 수 있다. 이로써, 화학식 (I)의 화합물은 광 안정화제로서 작용할 수 있다.
용어 "임계 파장"은 UV 차단 곡선 아래의 면적 (% 차단 대 파장)이 UV 영역 (280-400 nm)의 곡선 아래의 총 면적의 90%를 나타내는 파장으로서 정의된다. 예를 들어, 370 nm의 임계 파장은 선스크린 조성물의 차단이 UV-B의 파장, 즉 280-320 nm의 파장에 제한되지 않고, UV 영역의 차단 곡선 아래의 총 면적의 90%가 370 nm에서 도달하게 되는 방식으로 370 nm까지 연장되는 것을 나타낸다.
본원에서 사용된 바와 같은 용어 "자외선 필터" 또는 "UV 필터"는 일광에 의해 야기되는 UV 방사선을 흡수 및/또는 반사할 수 있는 유기 또는 무기 화합물을 지칭한다. UV 필터는 그들의 UV 차단 곡선을 기반으로 UV-A, UV-B 또는 광대역 필터로서 분류될 수 있다. 본 출원의 맥락에서, 광대역 필터는 UV-A 차단도 제공하기 때문에, UV-A 필터로서 기재될 수 있다. 다시 말해서, 바람직한 UV-A 필터는 또한 광대역 필터를 포함한다.
"광대역" 차단 (광역-스펙트럼 또는 광역 차단으로 또한 지칭됨)의 정의는 "임계 파장"을 기반으로 한다. 광대역 커버리지를 위해, UV-B 및 UV-A 차단이 제공되어야 한다. US 요구사항에 따르면, 광역 스펙트럼 차단을 달성하기 위해 적어도 370 nm의 임계 파장이 필요하다. 또한, 모든 선스크린 또는 화장품 조성물은 라벨 표시된 자외선 차단 지수 (SPF)의 적어도 3분의 1인, UVA 차단 지수를 가져야 한다고 유럽 위원회에 의해 권고되었고, 예를 들어 선스크린 조성물이 30의 SPF를 갖는 경우 UVA 차단 지수는 적어도 10이어야 한다.
본 발명에 따른 방법에 관한 바람직한 실시양태를 이하에서 설명한다. 본 발명의 바람직한 실시양태는 단독으로 또는 서로와의 조합으로 바람직하다는 것을 이해해야 한다.
상기 나타낸 바와 같이, 본 발명은 한 실시양태에서
a) 프탈산 무수물을 3-N,N-디에틸아미노페놀과 반응시켜 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산을 수득하는 단계;
b) 단계 a)에서 수득된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산을 n-헥산올과 반응시켜 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 수득하는 단계;
c) 단계 b)에서 수득된 반응 혼합물을 7 초과의 pH로 조정한 다음 수성 상으로 적어도 한 번 추출하는 단계; 및
d) 용해된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 적어도 2종의 상이한 흡착제 상에 흡착시키는 단계
를 포함하는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 제조 방법에 관한 것이다.
방법에 관한 바람직한 실시양태를 이하에서 정의한다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 단계 a)에서 적용되는 3-N,N-디에틸아미노페놀은 프탈산 무수물과의 반응 전에 증류된다. 증류는 관련 기술분야에 공지된 임의의 방법에 의해 달성될 수 있다.
바람직하게는, 단계 a)에서 적용되는 3-N,N-디에틸아미노페놀의 증류는 단계 a)에 따른 반응 전 72 시간 이내, 보다 바람직하게는 48 시간 이내, 훨씬 더 바람직하게는 24 시간 이내, 특히 12 시간 이내에 수행된다. 특히 바람직한 실시양태에서, 단계 a)에서 적용되는 3-N,N-디에틸아미노페놀의 증류는 단계 a)에 따른 반응 전 6 시간 이내, 보다 바람직하게는 3 시간 이내, 훨씬 더 바람직하게는 1 시간 이내, 더욱 더 바람직하게는 30 분 이내, 특히 5 분 이내에 수행된다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 단계 a)에서 적용되는 적용된 3-N,N-디에틸아미노페놀은 20 이하, 보다 바람직하게는 18 이하, 훨씬 더 바람직하게는 15 이하, 더욱 더 바람직하게는 10 이하, 특히 7 이하의 가드너 값 (ASTM D1544-04에 따라 결정됨)을 갖는다.
본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 단계 a)에서 적용되는 적용된 3-N,N-디에틸아미노페놀은 80 이하, 보다 바람직하게는 70 이하, 훨씬 더 바람직하게는 60 이하, 더욱 더 바람직하게는 50 이하, 특히 40 이하의 황색도 지수 (CIE XYZ-삼자극 값, 표준 광원 C 및 2° 표준 관측자를 기준으로 ASTM D 5386-93b에 따라 결정됨)를 갖는다.
본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 단계 a)에서 적용되는 적용된 3-N,N-디에틸아미노페놀은 350 이하, 보다 바람직하게는 280 이하, 훨씬 더 바람직하게는 150 이하, 더욱 더 바람직하게는 50 이하, 특히 20 이하의 헤스-아이브스-값 (DGK 방법 번호 F 050.2에 따라 결정됨)을 갖는다.
바람직하게는, 단계 a)에서 적용되는 적용된 3-N,N-디에틸아미노페놀은 20 이하의 가드너 값 (ASTM D1544-04에 따라 결정됨), 80 이하의 황색도 지수 (CIE XYZ-삼자극 값, 표준 광원 C 및 2° 표준 관측자를 기준으로 ASTM D 5386-93b에 따라 결정됨), 및 350 이하의 헤스-아이브스-값 (DGK 방법 번호 F 050.2에 따라 결정됨)을 갖는다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 에스테르화 단계 b)는 산성 촉매의 존재 하에 수행된다. 적합한 산 촉매는, 예를 들어, 염화수소, 황산, 질산, 인산, 술폰산, 예컨대 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산, 메탄술폰산 또는 이들 산의 혼합물 뿐만 아니라 술폰산 기-함유 이온 교환체, 예컨대, 예를 들어, 레바티트(Lewatit) S100 (바이엘(Bayer))이다. 바람직한 산성 촉매는 염화수소, 황산, 메탄술폰산, 및 p-톨루엔술폰산, 특히 황산이다.
바람직하게는, 단계 a) 및 b)에 따른 반응은 용매에서 수행된다. 용매는 벤젠, 톨루엔, 및 크실렌(들)과 같은 방향족 탄화수소; 옥탄, 석유 에테르, 이소옥탄, 및 데칸과 같은 지방족 C5-C12-탄화수소; 디에틸 에테르, 디부틸 에테르, 및 테트라히드로푸란과 같은 에테르; 아세톤 및 아세토페논과 같은 케톤; 에틸 아세테이트 및 이소프로필 아세테이트와 같은 에스테르; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 및 헥산올과 같은 알콜; 퍼클로로에틸렌 및 클로로벤젠과 같은 염소화 탄화수소; 시클로헥산; 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 특히 바람직한 용매는 단계 a)의 경우 톨루엔 및 크실렌(들)이고, 단계 b)의 경우 헥산올이다.
단계 c)에서, pH는 관련 기술분야에 공지된 임의의 적합한 염기로 조정될 수 있다. 바람직하게는, pH는 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 수산화물, 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 산화물, 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 탄산염, 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 탄산수소염, 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 알콜레이트, 및 3급 아민, 피리딘, 및 비시클릭 아민을 포함하는 질소 함유 염기로부터 유도된 알칼리성 용액으로 조정된다. 특히, pH는 알칼리성 수용액으로 조정된다.
적합한 알칼리성 수용액은 알칼리 금속 및 알칼리 토금속으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 금속의 적어도 하나의 수산화물을 포함하는 알칼리성 수용액일 수 있다. 수산화나트륨 수용액 및 수산화칼륨 수용액이 바람직하다. 바람직하게는, 알칼리성 수용액은 0.5 내지 5%, 보다 바람직하게는 1 내지 4%, 특히 2 내지 3%의 수산화나트륨 수용액이다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 추출 단계 c)에서 반응 혼합물의 pH는 7.5 초과, 바람직하게는 8 초과, 보다 바람직하게는 8.5 초과, 특히 9 초과이다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 추출 단계 c)에서 반응 혼합물의 pH는 8 내지 14, 보다 바람직하게는 9 내지 13, 특히 10.5 내지 12.5이다. 대안적으로는, 단계 b)에서 수득된 반응 혼합물에 물을 첨가하고 더 높은 농도의 염기, 예를 들어 25% 수산화나트륨 수용액 또는 25% 수산화칼륨 수용액을 첨가하여 pH를 조정한다. 이와 관련하여, 7 초과, 바람직하게는 8 내지 14, 보다 바람직하게는 9 내지 13, 특히 10.5 내지 12.5의 pH에 도달했을 때 더 높은 농도의 염기의 첨가를 중단한다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 단계 c)에서, 단계 b)에서 수득된 반응 혼합물에 염기를 첨가하여 단계 b)에서 수득된 반응 혼합물을 7 초과의 pH로 조정한다. 이와 관련하여 단계 b)에서 수득된 반응 혼합물은 pH를 7 초과의 pH로 조정하기 전에 유기 용매로 추가로 희석하지 않다는 것을 이해해야 한다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 방법은
cII) 추출 단계 c)에서 수득된 유기 상으로부터 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 결정화하는 단계
를 추가로 포함한다.
바람직하게는, 결정화 단계 cII)에서 결정화된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 흡착 단계 d) 전에 유기 용매에 용해시킨다.
결정화된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 용해시키기 위해 단계 cII)에서 적용되는 적합한 유기 용매는 케톤; 에테르; 에틸 아세테이트 및 이소프로필 아세테이트와 같은 에스테르; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 및 n-헥산올과 같은 알콜; 톨루엔, 크실렌(들), 시클로헥산, 및 석유 에테르와 같은 비극성 지방족 및 방향족 탄화수소; 및 그의 혼합물이다.
바람직하게는, 결정화된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 비극성 용매에 용해시킨다.
비극성 용매는 15 미만의 유전 상수 (ε)를 갖는다는 것을 이해해야 한다. 비극성은 대안적으로 또는 추가적으로 0 내지 2의 쌍극자 모멘트 (μ)에 의해 표현될 수 있다. 이와 관련하여 비극성 용매가 석유 에테르, 리그로인, n-헥산, 시클로헥산, 헵탄, 디-n-부틸 에테르, 크실렌, 톨루엔, 벤젠, 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 경우 특히 바람직하다.
본 발명의 특히 바람직한 실시양태에 따르면, 결정화된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 톨루엔에 용해시킨다.
흡착 단계 d)에서, 용해된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 바람직하게는 유기 용매에 용해시킨다. 유기 용매는 바람직하게는 케톤; 에테르; 에틸 아세테이트 및 이소프로필 아세테이트와 같은 에스테르; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 및 n-헥산올과 같은 알콜; 톨루엔, 크실렌(들), 시클로헥산, 및 석유 에테르와 같은 비극성 지방족 및 방향족 탄화수소; 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 보다 바람직하게는, 용해된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 비극성 용매에 용해시킨다. 특히, 흡착 단계 d)에서 용매는 톨루엔, 크실렌(들), 및 그의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 적어도 2종의 상이한 흡착제는 활성탄, 산화알루미늄, 제올라이트, 및 실리카 겔, 바람직하게는 활성탄 및 실리카 겔로 이루어진 군으로부터 선택된다. 본 발명의 보다 바람직한 실시양태에서, 적어도 2종의 상이한 흡착제는 화학적 조성이 상이하며, 즉 제1 흡착제가 활성탄인 경우, 제2 흡착제는 산화알루미늄, 제올라이트, 및 실리카 겔, 바람직하게는 활성탄 및 실리카 겔로 이루어진 군으로부터 선택된다.
적어도 2종의 흡착제로서 활성탄 및 실리카 겔을 사용하는 경우, 이들은 임의의 비로 적용될 수 있다. 바람직하게는 이들은 0.001 내지 2, 보다 바람직하게는 0.005 내지 1.5, 보다 더 바람직하게는 0.01 내지 1.0, 특히 0.02 내지 0.5의, 실리카 겔에 대한 활성탄의 중량비로 적용된다.
흡착제로서 적합한 실리카 겔은, 특히, 문헌(CD Rompp Chemie Lexikon-Version 1.0, keyword: silica gels, Stuttgart/New York: Georg Thieme Verlag 1995) 및 그 안에 인용된 문헌에 기재되어 있다. 바람직한 실리카 겔은 다름슈타트 소재 머크(Merck)로부터의 실리카 겔 60 및 그레이스(Grace)로부터의 실리카 겔 123이다.
활성탄은 분말 형태, 과립 형태 또는 원통형으로 형성된 입자로 사용될 수 있다. 이와 관련하여, 활성탄은 고정- 또는 유동-층 필터에서 과립 형태 (과립형 활성탄)로 유리하게 사용된다. 바람직한 탄소의 예는 켐비론 카본(Chemviron Carbon)으로부터의 활성탄 CPG(R) LF, CAL(R) 및 APC(R) 또는 캐보트(Cabot)로부터의 노릿(Norit) C 그란(Gran) 및 노릿 GAC 1240 플러스 또는 세카(Ceca)로부터의 악티카르본(Acticarbone) BGE이다.
사용된 활성탄의 특성 및 등급에 대한 추가 세부사항은 문헌 (Ullmann's Encyclopedia, Sixth Edition, 2000 Electronic Release, Chapter 5)에 제공되어 있다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 흡착 단계 d)에서 용해된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 먼저 실리카 겔 상에 흡착시킨 다음 활성탄 상에 흡착시킨다.
본 발명의 더 바람직한 실시양태에서, 흡착 단계 d)에서 용해된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 먼저 실리카 겔 상에 흡착시킨 다음, 활성탄 상에 흡착시키고 이어서 실리카 겔 상에 다시 흡착시킨다.
본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태에서, 흡착 단계 d)에서 용해된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 먼저 활성탄 상에 흡착시킨 다음 실리카 겔 상에 흡착시키고, 바람직하게는 이어서 활성탄 상에 추가로 흡착시킨다.
바람직하게는, 흡착 단계 d)는 15 내지 80 ℃, 보다 바람직하게는 18 내지 70 ℃, 훨씬 더 바람직하게는 19 내지 60 ℃, 더욱 더 바람직하게는 20 내지 50 ℃, 특히 20 내지 25 ℃의 범위의 온도에서 수행된다.
바람직하게는, 흡착 단계 d)의 용액은 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 흡착 단계 d)의 용액의 총 중량을 기준으로 10 내지 80 중량%, 보다 바람직하게는 20 내지 60 중량%, 훨씬 더 바람직하게는 22 내지 50 중량%, 특히 25 내지 40 중량%로 포함한다.
바람직하게는, 흡착은 고정 층 (칼럼)에서 연속적으로 수행된다. 그러나, 용매, 바람직하게는 상기 기술된 바와 같은 유기 용매 중 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 용액에 흡착제의 첨가에 이어, 교반 및 흡착제의 여과에 의해 불연속적으로 또한 수행될 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 방법은
e) 용매를 제거하는 단계로서, 바람직하게는 여기서 용매가 증류에 의해 제거되는 것인 단계
를 추가로 포함한다.
단계 e)는 흡착 단계 d) 후에 수행되는 것으로 이해해야 한다. 단계 e) 후에 잠재적으로 남아 있는 용매를 제거하기 위해, 추가적인 스트리핑 단계를 수행하는 것이 바람직하다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 제조된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 8.2 이하, 바람직하게는 7.9 미만, 보다 바람직하게는 7.6 미만, 특히 7.5 미만의 가드너 값, 89 미만, 바람직하게는 86 미만, 보다 바람직하게는 84 미만, 특히 82 미만의 황색도 지수, 19 미만, 바람직하게는 17 미만, 보다 바람직하게는 16 미만, 특히 15 미만의 헤스-아이브스를 갖고/거나, 5 ppm 미만, 바람직하게는 2 ppm 미만, 특히 1 ppm 미만의 로다민 및 그의 에스테르를 포함한다.
일반적으로, 가드너 값은 갈색을 띠는 유색 불순물을 표현하는데 특히 적합하여 낮은 가드너 값은 적은 갈색을 띠는 변색을 나타내는 것으로 추정된다. 최종 생성물 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 바람직하지 않은 불그스름한 유색 불순물은 바람직하게는 헤스-아이브스를 사용하여 표현되어 낮은 헤스-아이브스는 적은 불그스름한 변색을 나타낸다.
제2 측면에서, 본 발명은 8.2 이하, 바람직하게는 7.9 미만, 보다 바람직하게는 7.6 미만, 특히 7.5 미만의 가드너 값을 갖고 5 ppm 미만, 바람직하게는 2 ppm 미만, 특히 1 ppm 미만의 로다민 및 그의 에스테르를 포함하는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르에 관한 것이다.
바람직하게는, 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 89 미만, 바람직하게는 86 미만, 보다 바람직하게는 84 미만, 특히 82 미만의 황색도 지수 및/또는 19 미만, 바람직하게는 17 미만, 보다 바람직하게는 16 미만, 특히 15 미만의 헤스-아이브스를 추가로 갖는다.
바람직하게는, 본 발명은 8.2 이하, 바람직하게는 7.9 미만, 보다 바람직하게는 7.6 미만, 특히 7.5 미만의 가드너 값, 89 미만, 바람직하게는 86 미만, 보다 바람직하게는 84 미만, 특히 82 미만의 황색도 지수, 19 미만, 바람직하게는 17 미만, 보다 바람직하게는 16 미만, 특히 15 미만의 헤스-아이브스를 갖고, 5 ppm 미만, 바람직하게는 2 ppm 미만, 특히 1 ppm 미만의 로다민 및 그의 에스테르를 포함하는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르에 관한 것이다.
바람직한 실시양태에서, 8.2 이하, 바람직하게는 7.9 미만, 보다 바람직하게는 7.6 미만, 특히 7.5 미만의 가드너 값을 갖고 5 ppm 미만, 바람직하게는 2 ppm 미만, 특히 1 ppm 미만의 로다민 및 그의 에스테르를 포함하는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 제1 측면에 따른 방법에 의해 수득된다. 바람직하게는, 제1 측면에 따른 방법에 의해 수득된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 89 미만, 바람직하게는 86 미만, 보다 바람직하게는 84 미만, 특히 82 미만의 황색도 지수 및/또는 19 미만, 바람직하게는 17 미만, 보다 바람직하게는 16 미만, 특히 15 미만의 헤스-아이브스를 추가로 갖는다.
특히 바람직한 실시양태에서, 8.2 이하, 바람직하게는 7.9 미만, 보다 바람직하게는 7.6 미만, 특히 7.5 미만의 가드너 값, 89 미만, 바람직하게는 86 미만, 보다 바람직하게는 84 미만, 특히 82 미만의 황색도 지수, 19 미만, 바람직하게는 17 미만, 보다 바람직하게는 16 미만, 특히 15 미만의 헤스-아이브스를 갖고, 5 ppm 미만, 바람직하게는 2 ppm 미만, 특히 1 ppm 미만의 로다민 및 그의 에스테르를 포함하는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 제1 측면에 따른 방법에 의해 수득된다.
청구된 방법에 따라 수득된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 바디-케어 제품 또는 데일리 케어 조성물에 포함될 수 있다. 특히, 청구된 방법에 따라 수득된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 선스크린 조성물에 포함될 수 있다.
청구된 방법에 따라 수득된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르는 바디-케어 제품 또는 데일리 케어 조성물에서, 특히 선스크린 조성물에서 UV 필터로서 사용될 수 있다.
본 발명은 하기 실시예에 의해 추가로 설명된다.
실험 부분
방법
2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 및 로다민 유형 불순물의 측정을 위한 HPLC 방법
DAD/UV-검출기가 있는 HPLC 크로마토그래프 (애질런트(Agilent) 1100 또는 유사품). HPLC-크로마토그래피 칼럼: 대칭 C18 5 ㎛ 250 x 4.6 mm 워터스(Waters)
용매 A: 물 + 0.1% v/v o-인산 85%, 용매 B: 아세토니트릴. 유속 1.2 ml/분. 주입 부피 5 μL, T=20℃.
구배: t=0 분 80% A, 20% B / t=20 분, 0% A, 100% B / t=30 분, 0% A, 100% B / t=32 분, 80% A, 20% B.
로다민 B: RT = 8.8 분 (558 nm), 로다민-헥실에스테르: RT = 11.9 분 (558 nm), 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르: RT = 21.7 분 (360 nm).
외부 표준: 로다민 B, 로다민-헥실에스테르, 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르.
색 평가
색가는 11 mm 원형 큐벳을 사용하여 리코(Lico) 690 비색계 (Hach-Lange)에 의해 결정되었다. 샘플은 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 65℃로 가열하고, 균질화하고 큐벳으로 옮겨 준비하였다. 5-7 분의 냉각 후 색가를 측정하였다.
가드너 값은 ASTM D1544-04에 따라 결정하였다.
황색도 지수는 CIE XYZ-삼자극 값, 표준 광원 C 및 2° 표준 관측자를 기준으로 ASTM D 5386-93b에 따라 결정하였다.
헤스-아이브스-값은 DGK 방법 번호 F 050.2에 따라 결정하였다.
교정을 위한 분석 표준은 최신 표준 방법에 의해 수행하였다.
실리카 흡착제로서 실리카 123 (그레이스)을 사용하였다.
활성탄 흡착제로서 노릿 C 그란 (캐보트 노릿)을 사용하였다.
실시예
일반 절차
WO 03097578 (실시예 1 및 2)에 기술된 방법에 기초하여 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (DHHB)를 합성하였다. 일부 파라미터 (표 2)가 변경되었다; 즉 i) 3-N,N-디에틸아미노페놀 (DEMAP)은 사용 전에 증류되었고/증류되지 않았고/거나 ii) 추출 동안 pH는 7의 pH 또는 대략 11.5의 pH로 설정되었다. 방법은 다음의 일반 단계를 포함한다:
일반 단계 1: 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산의 합성
3-N,N-디에틸아미노페놀 (DEMAP)을 환류하에 톨루엔에서 프탈산 무수물과 반응시킨 다음 여과에 의해 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산을 단리하고 필터 케이크를 헥산올로 세척하였다. 습윤 필터 케이크를 두 번째 단계에 사용하였다.
일반 단계 2: 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 합성
산성 촉매, 바람직하게는 황산의 존재 하에 물의 공비 제거와 함께 환류하에 헥산올에서 산의 에스테르화를 수행하여, 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)-벤조산 헥실 에스테르를 얻었다. 반응 후, 반응 혼합물의 pH를 2.3% 수성 수산화나트륨을 사용하여 하기 실시예에 주어진 pH로 조정하였다. 유기 상을 물로 한 번 더 세척하고 추출 후 유기 상으로부터 에스테르를 결정화하였다. 필터 케이크를 헥산올로 세척하고 습윤 필터 케이크를 흡착에 사용하였다.
DEMAP 증류
증류는 일반적인 증류 장비, 예를 들어 증류 브리지 또는 단경로 증류 (박막 증발기)를 사용하여 저압에서 수행되었다. 증류 칼럼이 또한 적합하다.
증류 (브리지):
450 g DEMAP (암갈색, HPLC에 의해 97.1 중량%)를 클라이젠(Claisen) 브리지 상에서 160-170 ℃ (가열 재킷) / 0.7 mbar에서 증류하였다. 4개의 분획을 취했다: 1) 92.1 g; 2) 18.4 g; 3) 7.7 g 및 4) 330.6 g. 분획 1-3은 밝은 황색이었고, 분획 4는 황색이었다. 99.1 중량% (HPLC)의 DEMAP 함량을 갖는 네 번째 분획을 DHHB의 합성에 사용하였다.
박막 증발에 대한 실시예:
353.5 g DEMAP (HPLC에 의해 94.2 중량%)를 80 ℃에서 용융시키고 21.2 g 폴리프로필렌 글리콜 (플루리올(Pluriol) P 600)을 첨가하였다. 대략 310 g의 혼합물을 5 mbar 및 156 ℃ (재킷 온도)에서 박막 증발 (0.016 ㎡, 450 U/분)에 의해 증류하였다. 혼합물을 펌프를 통해 첨가하였다 (250 g/h). 생성물 수집을 제외하고 응축기를 포함하여 DEMAP와 접촉하는 모든 부품을 80 ℃로 가열하였다. 증류 후 281.8 g DEMAP (97.7 중량%, HPLC)를 황색 용융물로서 수득하였다 (섬프: 24.6 g).
일반 단계 3: 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (DHHB)의 정제
3.6 cm의 직경을 갖는 칼럼을 사용하여 흡착을 수행하였다. 흡착제 (실리카, 활성탄 (또한 목탄으로 지칭됨) 또는 둘 다)의 부피는 항상 동일하게 유지하였다 (흡착제의 높이 ∼10 cm). 칼럼을 톨루엔 중 흡착제의 슬러리 또는 흡착제로 패킹한 다음 흡착의 시작 전에 톨루엔으로 플러싱하였다.
일반 단계 2에 따라 제조된 결정질 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 (헥산올-습윤, ∼15% 헥산올)을 톨루엔에 용해시키고 실리카 및/또는 활성탄 상에 흡착시켜 정제하였다. 용액의 농도는 30% DHHB (cal. 100%)였다. 톨루엔 (및 잔류 헥산올) 중 용액으로서 총 100 g DHHB (cal. 100%)를 분량으로 33.4 g (10 g DHHB cal. 100%. ∼38 ml의 용액)씩 칼럼에 첨가하였다. 생성물을 분획으로 수집하였다. 새로운 분량이 시작될 때마다 새로운 분획이 시작되었고, 처음 2개의 분획만 함께 수집되었다. 총 9개의 분획이 수집되었다. 한 분획의 첨가 시간은 ∼40 분이었다. 각 분획을 4 mbar의 압력까지 50 ℃에서 농축하고 < 1 mbar (RT)에서 30 분 동안 추가로 건조시켰다. 합성에 사용된 상이한 파라미터의 평가를 위해, 비교가능한 분획의 색수를 결정하였다 (기준: 흡착 후 총 g 에스테르 cal. 100%).
흡착에 대한 실시예 (일반 단계 3의 구체적 절차)
IE1: (표 2, No. 1): 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르 정제
칼럼 ( 3.6 cm)을 1) 1 cm 모래, 2) 5.4 g 실리카 123 (그레이스), 5.2 g 노릿 C 그란 (캐보트 노릿), 3) 37 g 실리카 123, 및 4) 1 cm 모래 (각 층 사이의 여과지)로 패킹하였다. 칼럼을 100 g 톨루엔으로 플러싱하였다 (처리).
단계 2에서 제조된 에스테르 125.4 g을 톨루엔 226 g에 용해시켜 톨루엔과 잔류 헥산올의 혼합물 중 ∼30 중량%의 에스테르의 용액을 얻었다. 용액을 10회 분량으로 33.4 g씩 칼럼에 연속 첨가하였다 (40 분 / 분량). 새로운 분량이 시작될 때마다, 첫 번째 분획이 칼럼을 로딩하는데 필요하기 때문에 함께 수집되는 처음 2개의 분획만 제외하고, 새로운 분획이 수집되었다. 4 mbar의 압력 (멤브레인 펌프)에 도달할 때까지 각 생성물 분획을 50 ℃에서 농축하고 < 1 mbar에서 30 분 동안 추가로 건조시켰다.
추가 실험
일반 단계 1-3에 기술된 일반 방법에 기초하여, 일부 파라미터가 변경되었다: i) DEMAP 증류, ii) 추출 동안 pH, 및 iii) 흡착제. 흡착제의 총 부피는 IE1에 기술된 바와 같이 항상 유지되었다 (흡착제(들)의 총 높이 ∼10 cm; = 3.6 cm).
실시예 IE 2, C3, 및 C4를 모두 일반 단계 1 내지 3에 따라 합성하였고 변경된 파라미터만 기재되어 있다 (표 2).
IE 2 및 C3, 및 C4: DEMAP의 사전 증류 없이 일반 단계 1 및 2에 따라 DHHB의 샘플을 합성하였다.
IE2의 경우, 일반 단계 2에서 에스테르화 후 추출시 pH는 pH = 11.5로 설정하였다. 결정화 후 122.4 g (83.7 중량%)의 결정질 생성물을 219 g 톨루엔에 용해시키고 1) 1 cm 모래, 2) 5.4 g 실리카 123 (그레이스), 5.2 g 노릿 C 그란 (캐보트 노릿), 3) 37 g 실리카 123 및 4) 1 cm 모래로 채워진 칼럼 (각 층 사이의 여과지, 100 g 톨루엔으로 플러싱된 칼럼)을 통해 여과하였다. IE1 (표 1)에 기술된 바와 같이 분획을 수집하고 농축하였다.
C3 및 C4의 경우, 일반 단계 2에서 에스테르화 후 추출시 pH는 pH = 7로 설정하였다. 결정화 후 133 g (76.0 중량%)의 결정질 생성물을 204 g 톨루엔에 용해시키고 1) 1 cm 모래, 2) 19 g 노릿 C 그란 (캐보트 노릿; 실험 C3의 경우) 또는 61.0 g 실리카 123 (그레이스; 실험 C4의 경우), 및 3) 1 cm 모래로 채워진 칼럼 (각 층 사이의 여과지, 100 g 톨루엔으로 플러싱된 칼럼)을 통해 여과하였다. IE1 (표 1)에 기술된 바와 같이 분획을 수집하고 농축하였다.
표 1. IE1, IE2, C3, 및 C4로부터 얻은 수집된 분획
표 2. IE1, IE2, C3, 및 C4의 분획 9의 색수; Rh.는 로다민을 나타내고, Rh. 에스테르는 로다민 에스테르를 나타내고, G.는 가드너 값을 나타내고, H.-I.는 헤스-아이브스를 나타내고, YI는 황색도 지수를 나타낸다.
표 2에 의해 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 방법은 감소된 양의 유색 불순물을 갖는 DHHB를 제공한다.
Claims (15)
- a) 프탈산 무수물을 3-N,N-디에틸아미노페놀과 반응시켜 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산을 수득하는 단계;
b) 단계 a)에서 수득된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산을 n-헥산올과 반응시켜 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 수득하는 단계;
c) 단계 b)에서 수득된 반응 혼합물을 7 초과의 pH로 조정한 다음 수성 상으로 적어도 한 번 추출하는 단계; 및
d) 용해된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 적어도 2종의 상이한 흡착제 상에 흡착시키는 단계
를 포함하는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
단계 a)에서 적용되는 3-N,N-디에틸아미노페놀이 프탈산 무수물과의 반응 전에 증류되고/거나,
20 이하의 가드너(Gardner) 값, 80 이하의 황색도 지수(Yellowness Index), 및/또는 350 이하의 헤스-아이브스(Hess-Ives)를 갖는 것인
제조 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서, 추출 단계 c)에서 반응 혼합물의 pH를 알칼리성 수용액으로 조정하는 것인 제조 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 추출 단계 c)에서 반응 혼합물의 pH가 8 내지 14, 바람직하게는 9 내지 13, 특히 10.5 내지 12.5인 제조 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 c)에서, 단계 b)에서 수득된 반응 혼합물에 염기를 첨가하여 단계 b)에서 수득된 반응 혼합물을 7 초과의 pH로 조정하는 것인 제조 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
cII) 추출 단계 c)에서 수득된 유기 상으로부터 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 결정화하는 단계
를 추가로 포함하는 제조 방법. - 제6항에 있어서, 결정화 단계 cII)에서, 결정화된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 흡착 단계 d) 전에 유기 용매에 용해시키고, 바람직하게는 결정화된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 비극성 용매, 보다 바람직하게는 톨루엔에 용해시키는 것인 제조 방법.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 2종의 상이한 흡착제가 활성탄, 산화알루미늄, 제올라이트, 및 실리카 겔, 바람직하게는 활성탄 및 실리카 겔로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 제조 방법.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 흡착 단계 d)에서, 용해된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 먼저 실리카 겔 상에 흡착시킨 다음 활성탄 상에 흡착시키는 것인 제조 방법.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 흡착 단계 d)의 용액이 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르를 흡착 단계 d)의 용액의 총 중량을 기준으로 10 내지 80 중량%, 바람직하게는 20 내지 60 중량%, 특히 25 내지 40 중량%로 포함하는 것인 제조 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 에스테르화 단계 b)를 산성 촉매의 존재 하에 수행하고, 바람직하게는 여기서 산성 촉매가 황산인 제조 방법.
- 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
e) 용매를 제거하는 단계로서, 바람직하게는 여기서 용매가 증류에 의해 제거되는 것인 단계
를 추가로 포함하는 제조 방법. - 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 제조된 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르가 8.2 이하의 가드너 값, 89 미만의 황색도 지수, 19 미만의 헤스-아이브스를 갖고/거나, 5 ppm 미만, 바람직하게는 2 ppm 미만, 특히 1 ppm 미만의 로다민 및 그의 에스테르를 포함하는 것인 제조 방법.
- 8.2 이하, 바람직하게는 7.9 미만, 특히 7.5 미만의 가드너 값을 갖고, 5 ppm 미만, 바람직하게는 2 ppm 미만, 특히 1 ppm 미만의 로다민 및 그의 에스테르를 포함하는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르로서, 바람직하게는 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 수득되는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르.
- 제14항에 있어서, 89 미만, 바람직하게는 86 미만의 황색도 지수 및/또는 19 미만, 바람직하게는 17 미만의 헤스-아이브스를 추가로 갖는 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실 에스테르.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP20215315.1A EP4015500A1 (en) | 2020-12-18 | 2020-12-18 | Process of manufacturing 2-(4 -diethylamino-2 -hydroxybenzoyl)benzoic acid hexyl ester |
| EP20215315.1 | 2020-12-18 | ||
| PCT/EP2021/086334 WO2022129431A1 (en) | 2020-12-18 | 2021-12-16 | Process of manufacturing 2-(4'-diethylamino-2'-hydroxybenzoyl)benzoic acid hexyl ester |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230121826A true KR20230121826A (ko) | 2023-08-21 |
Family
ID=73855690
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020237023876A KR20230121826A (ko) | 2020-12-18 | 2021-12-16 | 2-(4'-디에틸아미노-2'-히드록시벤조일)벤조산 헥실에스테르의 제조 방법 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240109838A1 (ko) |
| EP (2) | EP4015500A1 (ko) |
| JP (1) | JP2024503206A (ko) |
| KR (1) | KR20230121826A (ko) |
| CN (1) | CN116249688A (ko) |
| TW (1) | TW202241842A (ko) |
| WO (1) | WO2022129431A1 (ko) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115010615B (zh) * | 2022-07-14 | 2023-12-08 | 四川沃肯精细化工有限公司 | 一种二乙氨基羟苯甲酰基苯甲酸正己酯的制备方法 |
| KR102633630B1 (ko) * | 2023-05-22 | 2024-02-05 | 주식회사 디제이씨 | n-헥실-2-(4-N,N-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조에이트의 제조 방법 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10011317A1 (de) | 2000-03-10 | 2001-09-13 | Basf Ag | Verwendung von aminosubstituierten Hydroxybenzophenonen als Lichtschutzmittel und Stabilisatoren für nicht lenbendes organisches Material |
| DE10221805A1 (de) | 2002-05-15 | 2003-11-27 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von 2-(4-N,N-Dialkylamino-2-hydroxybenzoyl)benzoesäureestern |
| BRPI0810872B1 (pt) | 2007-05-02 | 2022-07-19 | Basf Se | Processos para a cristalização de um composto, e para a produção de partículas escoáveis ou desepjáveis de um composto, particula escoável ou despejável de um composto, e, uso das partículas escoáveis ou despejáveis de um composto |
-
2020
- 2020-12-18 EP EP20215315.1A patent/EP4015500A1/en not_active Ceased
-
2021
- 2021-12-16 WO PCT/EP2021/086334 patent/WO2022129431A1/en active Application Filing
- 2021-12-16 KR KR1020237023876A patent/KR20230121826A/ko unknown
- 2021-12-16 CN CN202180062179.1A patent/CN116249688A/zh active Pending
- 2021-12-16 US US18/265,999 patent/US20240109838A1/en active Pending
- 2021-12-16 TW TW110147091A patent/TW202241842A/zh unknown
- 2021-12-16 JP JP2023536384A patent/JP2024503206A/ja active Pending
- 2021-12-16 EP EP21836195.4A patent/EP4263489A1/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202241842A (zh) | 2022-11-01 |
| CN116249688A (zh) | 2023-06-09 |
| WO2022129431A1 (en) | 2022-06-23 |
| EP4015500A1 (en) | 2022-06-22 |
| EP4263489A1 (en) | 2023-10-25 |
| JP2024503206A (ja) | 2024-01-25 |
| US20240109838A1 (en) | 2024-04-04 |
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