KR20230104496A - Chemical supply supplying for contaminated sample preparation - Google Patents
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Abstract
본 발명의 실시예는 약액 공급 장치를 제공한다. 약액 공급 장치는 스핀 유닛에 안착된 기판으로 파티클이 포함된 원액과 순수의 혼합액인 오염액을 공급하는 약액 공급 유닛; 오염액에 포함되는 파티클을 계측하여, 상기 약액의 농도를 측정할 수 있는 계측 부재; 및 상기 계측 부재로부터 제공받은 측정값에 따라 상기 원액 및 순수의 추가 공급을 제어하는 제어부를 포함할 수 있다.An embodiment of the present invention provides a chemical liquid supply device. The chemical solution supply device includes a chemical solution supply unit that supplies a contaminated solution, which is a mixture of an undiluted solution containing particles and pure water, to a substrate seated on a spin unit; a measuring member capable of measuring the concentration of the chemical liquid by measuring particles included in the polluted liquid; and a control unit controlling the additional supply of the undiluted solution and pure water according to the measurement value provided from the measurement member.
Description
본 발명은 오염 시료에 필요한 약액을 공급하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a device for supplying a chemical solution required for a contaminated sample.
반도체 소자 또는 액정 디스플레이를 제조하는 공정에서는, 반도체 웨이퍼나 액정표시장치용 유리 기판 등의 기판으로부터 파티클 등의 이물을 제거하는 세정 공정이 기판처리장치에 의해서 행해진다. 기판처리장치의 세정 능력은 예를 들어, 미리 오염된 평가용 샘플을 세정함으로써 평가될 수 있다. 즉, 세정 공정에서 세정액의 세정 효과를 테스트하는 PRE (Particle Removal Efficiency) 공정 평가를 진행하기 위하여 일정 수준의 파티클이 도포된 기판(이하 오염시료)를 제작해야 한다.In a process of manufacturing a semiconductor element or liquid crystal display, a cleaning process of removing foreign matter such as particles from a substrate such as a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal display device is performed by a substrate processing apparatus. The cleaning ability of the substrate processing apparatus can be evaluated by, for example, cleaning previously contaminated samples for evaluation. That is, in order to evaluate a Particle Removal Efficiency (PRE) process for testing the cleaning effect of a cleaning liquid in a cleaning process, a substrate coated with a certain level of particles (hereinafter referred to as a contaminated sample) must be manufactured.
오염시료의 제작은, 보틀에 SiO2 수용액을 제작 후 피펫을 이용하여 공급 장치의 탱크에 투입하고, 탱크에 저장된 용액을 기판에 도포하는 과정을 통해 제작되며, 이때 용액 내에 SiO2 농도 수준을 파악할 수 있는 수단이 없어서, 오염 시료 제작에 인적 요소가 많이 반영되고 있다.The production of the contaminated sample is made through the process of preparing an SiO2 aqueous solution in a bottle, putting it into the tank of the supply device using a pipette, and applying the solution stored in the tank to the substrate. At this time, the SiO2 concentration level in the solution can be grasped Since there is no means, a lot of human factors are reflected in the production of contaminated samples.
본 발명은 오염 시료 제작에 필요한 오염액을 공급하는 오염시료 제작용 약액 공급 장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a chemical solution supply device for preparing a contaminated sample for supplying a contaminated solution necessary for preparing a contaminated sample.
본 발명은 균일한 농도를 갖는 오염액 공급이 가능한 오염시료 제작용 약액 공급 장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a chemical solution supply device for preparing a contamination sample capable of supplying a contamination solution having a uniform concentration.
본 발명은 원하는 오염입자 농도 조절이 용이한 오염시료 제작용 약액 공급 장치를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a chemical liquid supply device for preparing a contaminated sample, which can easily control the desired concentration of contaminant particles.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급된 과제로 제한되지 않는다. 언급되지 않은 다른 기술적 과제들은 이하의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problem to be solved by the present invention is not limited to the problem mentioned above. Other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
본 발명의 일 측면에 따르면, 기판을 지지하는 지지 유닛; 기판에 특정 입자가 포함된 오염 약액을 공급하는 약액 공급 유닛; 및 오염액에 포함된 특정 입자를 계측하여, 오염액의 농도를 측정할 수 있는 계측 부재를 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치가 제공될 수 있다. According to one aspect of the invention, a support unit for supporting a substrate; a chemical solution supply unit supplying a chemical solution containing specific particles to the substrate; and a measuring member capable of measuring the concentration of the contaminant solution by measuring specific particles included in the contaminant solution.
또한, 상기 약액 공급 유닛은, 특정 입자와 순수를 혼합한 원액을 제공하는 1차 믹싱부; 상기 1차 믹싱부로부터 제공받은 원액과 순수를 혼합하여 일정 농도의 오염액을 생성하는 2차 믹싱부; 상기 2차 믹싱부로부터 제공받은 오염액을 기판으로 토출하는 공급 노즐; 상기 1차 믹싱부와 상기 2차 믹싱부 각각으로 순수를 공급하는 순수 공급라인; 및 상기 계측 부재가 상기 2차 믹싱부에서 생성된 오염액의 농도를 계측하여 상기 2차 믹싱부로 원액 및 순수의 추가 공급을 제어하는 제어부를 포함할 수 있다.In addition, the chemical solution supply unit may include a primary mixing unit for providing a stock solution obtained by mixing specific particles and pure water; a secondary mixing unit for mixing the undiluted solution provided from the primary mixing unit and pure water to produce a contaminant solution having a certain concentration; a supply nozzle discharging the contaminant solution supplied from the secondary mixing unit to a substrate; pure water supply lines supplying pure water to each of the primary mixing unit and the secondary mixing unit; and a control unit configured to measure the concentration of the contaminant solution generated by the second mixing unit by the measuring member and control additional supply of the undiluted solution and pure water to the second mixing unit.
또한, 상기 1차 믹싱부는 특정 입자와 순수가 공급되는 프리 탱크; 상기 프리 탱크 내의 특정 입자와 순수가 혼합되도록 상기 프리 탱크에 연결되는 제1순환라인; 상기 순환라인으로부터 분기되고 상기 프리 탱크에서 생성된 원액을 상기 2차 믹싱부로 공급하는 원액 공급라인; 및 상기 공급 라인 상에 제공되는 정량 제어 펌프를 포함할 수 있다.In addition, the primary mixing unit pre-tank to which specific particles and pure water are supplied; a first circulation line connected to the pre-tank so that specific particles in the pre-tank and pure water are mixed; an undiluted solution supply line branching off from the circulation line and supplying the undiluted solution generated in the pre-tank to the secondary mixing unit; and a quantitative control pump provided on the supply line.
또한, 상기 2차 믹싱부는 상기 순수 공급라인과 상기 1차 믹싱부로부터 제공받은 원액과 순수가 저장되는 메인 탱크; 상기 메인 탱크 내의 원액과 순수가 혼합되도록 상기 메인 탱크에 연결되는 제2순환라인; 및 상기 제2순환라인으로부터 분기되어 상기 공급 노즐과 연결되는 오염액 공급라인을 포함할 수 있다.In addition, the secondary mixing unit includes a main tank in which the pure water supply line and the undiluted solution and pure water provided from the primary mixing unit are stored; a second circulation line connected to the main tank so that the undiluted solution and pure water in the main tank are mixed; and a polluted solution supply line branched off from the second circulation line and connected to the supply nozzle.
또한, 상기 계측 부재는 상기 제2순환라인에 제공될 수 있다.Also, the measurement member may be provided in the second circulation line.
또한, 상기 제어부는 상기 계측 부재로부터 제공받은 오염액의 농도가 기설정값 이하이면 상기 메인 탱크에 원액을 추가 공급하도록 상기 정량 제어 펌프를 제어하고, 상기 계측 부재로부터 제공받은 오염액의 농도가 기설정값 이상이면 상기 메인 탱크에 순수를 추가 공급하도록 상기 순수 공급 라인 상의 개폐 밸브를 제어할 수 있다.In addition, the control unit controls the quantitative control pump to additionally supply an undiluted solution to the main tank when the concentration of the contaminant solution provided from the measuring member is equal to or less than a preset value, and the concentration of the contaminant solution provided from the measuring member is set to a predetermined value. If the value exceeds the set value, an opening/closing valve on the pure water supply line may be controlled to additionally supply pure water to the main tank.
또한, 상기 특정 입자는 SiO2를 포함할 수 있다.In addition, the specific particle may include SiO2.
또한, 상기 계측 부재는 LPC(Liquid Particle Counter)를 포함할 수 있다.In addition, the measurement member may include a Liquid Particle Counter (LPC).
본 발명의 다른 측면에 따르면, 스핀 유닛에 안착된 기판으로 파티클이 포함된 원액과 순수의 혼합액인 오염액을 공급하는 약액 공급 유닛; 오염액에 포함되는 파티클을 계측하여, 상기 약액의 농도를 측정할 수 있는 계측 부재; 및 상기 계측 부재로부터 제공받은 측정값에 따라 상기 원액 및 순수의 추가 공급을 제어하는 제어부를 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치가 제공될 수 있다.According to another aspect of the present invention, a chemical solution supply unit for supplying a contaminated solution, which is a mixture of an undiluted solution containing particles and pure water, to a substrate seated on a spin unit; a measuring member capable of measuring the concentration of the chemical liquid by measuring particles included in the polluted liquid; and a controller for controlling the additional supply of the undiluted solution and pure water according to the measurement value provided from the measurement member.
또한, 상기 약액 공급 유닛은 상기 기판에 오염액을 토출하는 공급 노즐; 상기 공급 노즐에 연결되어 오염액이 저장되는 메인 탱크; 상기 메인 탱크에 연결되고, 파티클과 순수를 혼합하여 원액을 생성하는 프리 탱크; 및 상기 프리 탱크와 상기 메인 탱크를 연결하는 원액 공급라인; 상기 메인 탱크와 상기 프리 탱크에 각각 순수를 공급하는 순수 공급라인을 포함하고, 상기 원액 공급라인에는 상기 메인 탱크로의 원액 공급 유량을 조절하는 정량 제어 펌프가 설치될 수 있다.In addition, the chemical solution supply unit may include a supply nozzle for discharging a contaminant solution to the substrate; a main tank connected to the supply nozzle to store the polluted liquid; a pre-tank connected to the main tank and generating an undiluted solution by mixing particles and pure water; and an undiluted solution supply line connecting the pre-tank and the main tank. A deionized water supply line for supplying pure water to the main tank and the pre-tank, respectively, may be installed in the undiluted solution supply line with a quantitative control pump for adjusting the flow rate of the undiluted solution supplied to the main tank.
또한, 상기 약액 공급 유닛은 상기 메인 탱크에 저장된 상기 프리 탱크로부터 제공받은 원액과 상기 순수 공급라인을 통해 제공받은 순수가 혼합되도록 상기 메인 탱크에 연결되는 제2순환라인을 더 포함하고, 상기 계측 부재는 상기 제2순환라인 상에 제공될 수 있다.In addition, the chemical solution supply unit further includes a second circulation line connected to the main tank to mix the undiluted solution provided from the pre-tank stored in the main tank and the pure water provided through the pure water supply line, and the measuring member May be provided on the second circulation line.
또한, 상기 특정 입자는 SiO2를 포함할 수 있다.In addition, the specific particle may include SiO2.
또한, 상기 계측 부재는 LPC(Liquid Particle Counter)를 포함할 수 있다.In addition, the measurement member may include a Liquid Particle Counter (LPC).
본 발명의 다른 측면에 따르면, 특정 입자와 순수를 혼합한 원액을 생성하는 1차 믹싱부; 상기 1차 믹싱부로부터 제공받은 원액과 순수를 혼합하여 일정 농도의 오염액을 생성하는 2차 믹싱부; 상기 2차 믹싱부로부터 제공받은 오염액을 스핀 유닛 상의 기판으로 토출하는 공급 노즐; 상기 1차 믹싱부와 상기 2차 믹싱부 각각으로 순수를 공급하는 순수 공급라인; 오염액에 포함된 특정 입자를 계측하여, 오염액의 농도를 측정할 수 있는 계측 부재; 및 상기 계측 부재가 상기 2차 믹싱부에서 생성된 오염액의 농도를 계측하여 상기 2차 믹싱부로 원액 및 순수의 추가 공급을 제어하는 제어부를 포함하며, 상기 1차 믹싱부는 특정 입자와 순수가 공급되는 프리 탱크; 상기 프리 탱크 내의 특정 입자와 순수가 혼합되도록 상기 프리 탱크에 연결되는 제1순환라인; 상기 순환라인으로부터 분기되고 상기 프리 탱크에서 생성된 원액을 상기 2차 믹싱부로 공급하는 원액 공급라인; 및 상기 공급 라인 상에 제공되는 정량 제어 펌프를 포함하고, 상기 2차 믹싱부는 상기 순수 공급라인과 상기 1차 믹싱부로부터 제공받은 원액과 순수가 저장되는 메인 탱크; 상기 메인 탱크 내의 원액과 순수가 혼합되도록 상기 메인 탱크에 연결되는 제2순환라인; 및 상기 제2순환라인으로부터 분기되어 상기 공급 노즐과 연결되는 오염액 공급라인을 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치가 제공될 수 있다.According to another aspect of the present invention, the primary mixing unit for generating a stock solution by mixing specific particles and pure water; a secondary mixing unit for mixing the undiluted solution provided from the primary mixing unit and pure water to produce a contaminant solution having a certain concentration; a supply nozzle for discharging the contaminant solution supplied from the secondary mixing unit to a substrate on a spin unit; pure water supply lines supplying pure water to each of the primary mixing unit and the secondary mixing unit; a measuring member capable of measuring the concentration of the polluted liquid by measuring specific particles included in the polluted liquid; and a control unit for controlling additional supply of the undiluted solution and pure water to the secondary mixing unit by measuring the concentration of the contaminant solution generated by the measurement member in the secondary mixing unit, wherein the primary mixing unit supplies specific particles and pure water. being a free tank; a first circulation line connected to the pre-tank so that specific particles in the pre-tank and pure water are mixed; an undiluted solution supply line branching off from the circulation line and supplying the undiluted solution generated in the pre-tank to the secondary mixing unit; and a quantitative control pump provided on the supply line, wherein the secondary mixing unit includes a main tank in which raw water and pure water provided from the pure water supply line and the primary mixing unit are stored; a second circulation line connected to the main tank so that the undiluted solution and pure water in the main tank are mixed; and a contamination solution supply line branched off from the second circulation line and connected to the supply nozzle.
본 발명의 실시예에 의하면, 오염 시료 제작에 필요한 오염액을 용이하게 공급할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to easily supply a contaminant solution necessary for preparing a contaminant sample.
본 발명의 실시예에 의하면, 균일한 농도를 갖는 오염액 공급이 가능하다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to supply a pollutant solution having a uniform concentration.
본 발명의 실시예에 의하면, 원하는 오염입자 농도 조절이 용이하다.According to an embodiment of the present invention, it is easy to control the desired concentration of contaminant particles.
본 발명의 효과는 상술한 효과들로 제한되지 않는다. 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects described above. Effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from this specification and the accompanying drawings.
도 1은 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치를 설명하기 위한 구성도이다.
도 2는 메인 탱크에 원액 보충을 보여주는 도면이다.
도 3은 메인 탱크에 순수 보충을 보여주는 도면이다.
도 4 및 도 5는 계측 부재의 계측값과 오염 시료의 특정 입자 상관 관계를 보여주는 그래프들이다. 1 is a configuration diagram for explaining a chemical solution supply device for preparing a contaminated sample.
Figure 2 is a view showing the stock solution replenishment in the main tank.
Figure 3 is a diagram showing pure water replenishment to the main tank.
4 and 5 are graphs showing a correlation between a measurement value of a measuring member and a specific particle of a contaminated sample.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. However, the present invention may be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In addition, in describing preferred embodiments of the present invention in detail, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, the same reference numerals are used throughout the drawings for parts having similar functions and actions.
어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 'Including' a certain component means that other components may be further included, rather than excluding other components unless otherwise stated. Specifically, terms such as "comprise" or "having" are intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features or It should be understood that the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof is not precluded.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In addition, shapes and sizes of elements in the drawings may be exaggerated for clearer description.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다.Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms may be used for the purpose of distinguishing one component from another. For example, a first element may be termed a second element, and similarly, the second element may also be termed a first element, without departing from the scope of the present invention.
어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.It is understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, but other elements may exist in the middle. It should be. On the other hand, when a component is referred to as “directly connected” or “directly connected” to another component, it should be understood that no other component exists in the middle. Other expressions describing the relationship between components, such as "between" and "directly between" or "adjacent to" and "directly adjacent to", etc., should be interpreted similarly.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미이다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미인 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and unless explicitly defined in this application, they are not interpreted in an ideal or excessively formal meaning. .
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The above detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the foregoing is intended to illustrate and describe preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications are possible within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, within the scope equivalent to the written disclosure and / or within the scope of skill or knowledge in the art. The written embodiment describes the best state for implementing the technical idea of the present invention, and various changes required in the specific application field and use of the present invention are also possible. Therefore, the above detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to cover other embodiments as well.
이하 도 1 내지 도 5를 통해 본 발명의 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치를 설명한다.Hereinafter, the chemical solution supply device for preparing a contaminated sample according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5.
도 1은 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치를 설명하기 위한 구성도이다.1 is a configuration diagram for explaining a chemical solution supply device for preparing a contaminated sample.
도 1을 참조하면, 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치(10)는 지지 유닛(900)과 약액 공급 유닛(100), 계측 부재(300) 그리고 제어부(400)를 포함할 수 있다. 본 발명에서 오염 시료는 특정 입자가 포함된 오염액을 기판 표면으로 토출한 후 기판을 회전시켜 오염액을 기판 표면상에 확산시키는 스핀코팅 방식으로 제공될 수 있다. 참고로, 특정 입자는 SiO2를 포함하는 분말일 수 있다.Referring to FIG. 1 , the chemical
지지 유닛(900)은 오염 시료인 기판(W)이 안착되는 스핀 유닛 형태로 제공될 수 있다. 지지 유닛(900)은 기판(W)의 저면을 진공으로 흡착 고정할 수 있으며, 약액 공급 유닛(100)으로부터 오염액이 공급될 때 기판을 회전시킬 수 있다. The
약액 공급 유닛(100)은 기판에 특정 입자(파티클)가 포함된 오염 약액(오염액)을 공급할 수 있다. 여기서 오염액은 순수에 특정 입자들이 소정 농도로 혼합된 약액일 수 있다. The chemical
계측 부재(300)는 오염액에 포함된 특정 입자를 계측하여 오염액의 농도를 측정할 수 있다. 여기서 농도는 오염액 내의 특정 입자 농도일 수 있다.The measuring
약액 공급 유닛(100)은 1차 믹싱부(110), 2차 믹싱부(130), 공급 노즐(190), 순수 공급라인(182,184)을 포함할 수 있다. The chemical
1차 믹싱부(110)에서는 2차 믹싱부(130)에 공급할 원액이 만들어 진다. 원액은 순숭테 특정 입자가 고농도로 혼합된 것으로, 기판으로 공급되는 오염액에 비대 상대적으로 특정입자가 고농도 포함된 혼합액일 수 있다. 일 예에 따르면, 1차 믹싱부(110)는 프리 탱크(112), 제1순환 라인(114), 원액 공급라인(116) 그리고 정량 제어 펌프(120)를 포함할 수 있다.In the
프리 탱크(112)는 2차 믹싱부(130)의 메인 탱크(132)보다 상대적으로 적은 용량을 갖는다. 프리 탱크(112)에는 특정 입자와 순수가 공급된다. 특정 입자는 프리 탱크(112)의 상면에 형성된 투입구를 통해 작업자가 직접 투입할 수 있다. 순수는 프리 탱크(112)의 상단에 연결된 순수 공급 라인(182)을 통해 공급될 수 있다. 프리 탱크(112)로 공급된 특정 입자들과 순수는 제1순환라인(114)을 따라 순환되면서 혼합된다. 제1순환라인(114)에는 순환펌프(115)가 제공된다. The pre-tank 112 has a relatively smaller capacity than the
원액 공급라인(116)은 제1순환라인(114)으로부터 분기되어 메인 탱크(132)에 연결된다. 프리 탱크(112)에서 혼합이 완료된 원액은 원액 공급라인(116)을 통해 2차 믹싱부(130)의 메인 탱크(132)로 공급된다. 메인 탱크(132)로 공급되는 원액은 원액 공급 라인(116)상에 설치된 정량 제어 펌프(120)에 의해 소량씩 공급된다. The undiluted
2차 믹싱부(130)에서는 1차 믹싱부(110)로부터 제공받은 원액과 순수 공급라인(184)을 통해 공급받은 순수를 혼합하여 기판에 공급될 오염액을 생성한다. 일 예에 따르면, 2차 믹싱부(130)는 메인 탱크(132), 제2순환 라인(134) 그리고, 오염액 공급라인(136)을 포함할 수 있다.The
저장 탱크(132)는 1차 믹싱부(110)의 프리 탱크(112)보다 상대적으로 큰 용량을 갖는다. 저장 탱크(132)에는 원액과 순수가 공급된다. 원액은 원액 공급 라인을 통해 공급된다. 순수는 메인 탱크(132)의 상단에 연결된 순수 공급 라인(184)을 통해 공급될 수 있다. 메인 탱크(132)로 공급된 원액과 순수는 제2순환라인(134)을 따라 순환되면서 혼합된다. 제2순환라인(134)에는 순환펌프(135)가 제공된다. The
오염액 공급라인(136)은 제2순환라인(134)으로부터 분기되어 공급 노즐(190)에 연결된다. 메인 탱크(132)에서 혼합이 완료된 오염액은 오염액 공급라인(136)을 통해 공급 노즐로 공급되어 기판으로 토출된다. The polluted
계측 부재(300)는 오염액에 포함된 특정 입자를 계측하여, 오염액의 농도를 측정한다. 계측 부재(300)는 제2순환라인(134) 상에 제공된다. 계측 부재(300)는 제2순환라인(134)을 통해 순환되는 오염액의 농도를 실시간으로 계측한다. 계측 부재(300)는 LPC(Liquid Particle Counter)를 포함할 수 있다. The measuring
제어부(400)는 계측 부재(300)로부터 제공받은 계측값을 토대로 2차 믹싱부(130)로 원액 및 순수의 추가 공급을 제어한다. 일 예로, 도 2에서와 같이 제어부(400)는 계측 부재(300)로부터 제공받은 오염액의 농도가 기설정값 이하이면 메인 탱크(132)에 원액을 추가 공급하도록 정량 제어 펌프(200)를 제어한다. 또한, 도 3에서와 같이, 제어부(400)는 계측 부재(300)로부터 제공받은 오염액의 농도가 기설정값 이상이면 메인 탱크(132)에 저장된 오염액의 일부를 드레인한 후, 메인 탱크(132)에 순수를 추가 공급하도록 순수 공급 라인(184) 상의 개폐 밸브를 제어한다.The
계측 부재에서 계측되는 오염액의 농도가 기설정값 내에 들어오면, 오염액 공급라인을 통해 공급 노즐로 오염액을 공급하여 오염 시료를 제작한다. When the concentration of the contaminant solution measured by the measuring member is within a preset value, the contaminant solution is supplied to the supply nozzle through the contaminant solution supply line to prepare a contamination sample.
도 4 및 도 5는 계측 부재의 계측값과 오염 시료의 특정 입자 상관 관계를 보여주는 그래프들로, 계측 부재의 계측값과 오염 시료 상의 특정 입자 계측값이 높은 상관관계를 보이며, 동일한 조건으로 오염 시료를 제작한다면 실제 기판에서 계측되는 특정 입자(파티틀) 수준도 유사할 수 있다.4 and 5 are graphs showing the correlation between the measurement value of the measurement member and specific particles of the contaminated sample, showing a high correlation between the measurement value of the measurement member and the specific particle measurement value of the contaminated sample, and the contamination sample under the same conditions. , the specific particle (particle) level measured on the actual substrate may be similar.
상기와 같이, 본 발명은 계측 부재와 정량 제어 펌프를 적용하여 기판 마다 일정 수준의 특정 입자가 도포될 수 있는 오염액을 공급할 수 있다.As described above, the present invention can supply a contaminant solution capable of applying a certain level of specific particles to each substrate by applying a metering member and a quantitative control pump.
또한, 본 발명은 원액 투입을 자동화하고, 오염액 내의 특정 입자 수준을 미리 파악하여 조절할 수 있다. In addition, the present invention can automate the input of the stock solution and determine and adjust the specific particle level in the contaminant solution in advance.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely an example of the technical idea of the present invention, and various modifications and variations can be made to those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be construed according to the claims below, and all technical ideas within the equivalent range should be construed as being included in the scope of the present invention.
100 : 약액 공급 유닛
300 : 계측 부재
400 : 제어부
110 : 1차 믹싱부
130 : 2차 믹싱부100: chemical supply unit 300: measurement member
400: control unit
110: primary mixing unit 130: secondary mixing unit
Claims (14)
기판을 지지하는 지지 유닛;
기판에 특정 입자가 포함된 오염 약액을 공급하는 약액 공급 유닛; 및
오염액에 포함된 특정 입자를 계측하여, 오염액의 농도를 측정할 수 있는 계측 부재를 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.In the device for supplying a chemical solution to produce a contaminated sample,
a support unit supporting the substrate;
a chemical solution supply unit supplying a chemical solution containing specific particles to the substrate; and
A chemical solution supply device for preparing a contaminated sample, comprising a measurement member capable of measuring the concentration of the contaminated solution by measuring specific particles included in the contaminated solution.
상기 약액 공급 유닛은,
특정 입자와 순수를 혼합한 원액을 제공하는 1차 믹싱부;
상기 1차 믹싱부로부터 제공받은 원액과 순수를 혼합하여 일정 농도의 오염액을 생성하는 2차 믹싱부;
상기 2차 믹싱부로부터 제공받은 오염액을 기판으로 토출하는 공급 노즐;
상기 1차 믹싱부와 상기 2차 믹싱부 각각으로 순수를 공급하는 순수 공급라인; 및
상기 계측 부재가 상기 2차 믹싱부에서 생성된 오염액의 농도를 계측하여 상기 2차 믹싱부로 원액 및 순수의 추가 공급을 제어하는 제어부를 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.According to claim 1,
The chemical solution supply unit,
A primary mixing unit for providing an undiluted mixture of specific particles and pure water;
a secondary mixing unit for mixing the undiluted solution provided from the primary mixing unit and pure water to produce a contaminant solution having a certain concentration;
a supply nozzle discharging the contaminant solution supplied from the secondary mixing unit to a substrate;
pure water supply lines supplying pure water to each of the primary mixing unit and the secondary mixing unit; and
The chemical solution supply device for producing a contaminated sample comprising a control unit for controlling the additional supply of the raw solution and pure water to the secondary mixing unit by measuring the concentration of the contaminated liquid generated in the secondary mixing unit by the measuring member.
상기 1차 믹싱부는
특정 입자와 순수가 공급되는 프리 탱크;
상기 프리 탱크 내의 특정 입자와 순수가 혼합되도록 상기 프리 탱크에 연결되는 제1순환라인;
상기 순환라인으로부터 분기되고 상기 프리 탱크에서 생성된 원액을 상기 2차 믹싱부로 공급하는 원액 공급라인; 및
상기 공급 라인 상에 제공되는 정량 제어 펌프를 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.According to claim 2,
The primary mixing unit
a pre-tank supplied with specific particles and pure water;
a first circulation line connected to the pre-tank so that specific particles in the pre-tank and pure water are mixed;
an undiluted solution supply line branching off from the circulation line and supplying the undiluted solution generated in the pre-tank to the secondary mixing unit; and
A chemical solution supply device for preparing a contaminated sample comprising a quantitative control pump provided on the supply line.
상기 2차 믹싱부는
상기 순수 공급라인과 상기 1차 믹싱부로부터 제공받은 원액과 순수가 저장되는 메인 탱크;
상기 메인 탱크 내의 원액과 순수가 혼합되도록 상기 메인 탱크에 연결되는 제2순환라인; 및
상기 제2순환라인으로부터 분기되어 상기 공급 노즐과 연결되는 오염액 공급라인을 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.According to claim 2,
The secondary mixing unit
a main tank for storing the pure water and the undiluted solution supplied from the pure water supply line and the primary mixing unit;
a second circulation line connected to the main tank so that the undiluted solution and pure water in the main tank are mixed; and
A chemical solution supply device for preparing a contaminated sample comprising a contamination solution supply line branched from the second circulation line and connected to the supply nozzle.
상기 계측 부재는 상기 제2순환라인에 제공되는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.According to claim 4,
The measuring member is a chemical solution supply device for preparing a contaminated sample provided in the second circulation line.
상기 제어부는
상기 계측 부재로부터 제공받은 오염액의 농도가 기설정값 이하이면 상기 메인 탱크에 원액을 추가 공급하도록 상기 정량 제어 펌프를 제어하고, 상기 계측 부재로부터 제공받은 오염액의 농도가 기설정값 이상이면 상기 메인 탱크에 순수를 추가 공급하도록 상기 순수 공급 라인 상의 개폐 밸브를 제어하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.According to claim 4,
The control unit
If the concentration of the contaminant solution provided from the measuring member is less than or equal to a preset value, the quantitative control pump is controlled to additionally supply the undiluted solution to the main tank, and if the concentration of the contaminant solution provided from the measurement member is greater than or equal to the preset value, the A chemical solution supply device for preparing a contaminated sample for controlling an on-off valve on the pure water supply line to additionally supply pure water to the main tank.
상기 특정 입자는 SiO2를 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.According to claim 4,
The specific particle is a chemical solution supply device for producing a contaminated sample containing SiO2.
상기 계측 부재는 LPC(Liquid Particle Counter)를 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.According to claim 4,
The measuring member is a chemical supply device for producing a contaminated sample including a liquid particle counter (LPC).
스핀 유닛에 안착된 기판으로 파티클이 포함된 원액과 순수의 혼합액인 오염액을 공급하는 약액 공급 유닛;
오염액에 포함되는 파티클을 계측하여, 상기 약액의 농도를 측정할 수 있는 계측 부재; 및
상기 계측 부재로부터 제공받은 측정값에 따라 상기 원액 및 순수의 추가 공급을 제어하는 제어부를 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.In the device for supplying a chemical solution to produce a contaminated sample,
a chemical solution supply unit that supplies a contaminated solution, which is a mixture of an undiluted solution containing particles and pure water, to the substrate seated on the spin unit;
a measuring member capable of measuring the concentration of the chemical liquid by measuring particles included in the polluted liquid; and
A chemical solution supply device for producing a contaminated sample comprising a control unit controlling the additional supply of the undiluted solution and pure water according to the measured value provided from the measuring member.
상기 약액 공급 유닛은
상기 기판에 오염액을 토출하는 공급 노즐;
상기 공급 노즐에 연결되어 오염액이 저장되는 메인 탱크;
상기 메인 탱크에 연결되고, 파티클과 순수를 혼합하여 원액을 생성하는 프리 탱크; 및
상기 프리 탱크와 상기 메인 탱크를 연결하는 원액 공급라인;
상기 메인 탱크와 상기 프리 탱크에 각각 순수를 공급하는 순수 공급라인을 포함하고,
상기 원액 공급라인에는 상기 메인 탱크로의 원액 공급 유량을 조절하는 정량 제어 펌프가 설치되는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.According to claim 9,
The chemical supply unit
a supply nozzle discharging a contaminant solution to the substrate;
a main tank connected to the supply nozzle to store the polluted liquid;
a pre-tank connected to the main tank and generating an undiluted solution by mixing particles and pure water; and
an undiluted solution supply line connecting the pre-tank and the main tank;
A pure water supply line for supplying pure water to the main tank and the pre-tank, respectively;
A chemical solution supply device for producing a contaminated sample in which a quantitative control pump is installed in the stock solution supply line to adjust the supply flow rate of the stock solution to the main tank.
상기 약액 공급 유닛은
상기 메인 탱크에 저장된 상기 프리 탱크로부터 제공받은 원액과 상기 순수 공급라인을 통해 제공받은 순수가 혼합되도록 상기 메인 탱크에 연결되는 제2순환라인을 더 포함하고,
상기 계측 부재는 상기 제2순환라인 상에 제공되는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.According to claim 10,
The chemical supply unit
Further comprising a second circulation line connected to the main tank to mix the undiluted solution provided from the pre-tank stored in the main tank and the pure water provided through the pure water supply line,
The measuring member is a chemical solution supply device for producing a contaminated sample provided on the second circulation line.
상기 특정 입자는 SiO2를 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.According to claim 10,
The specific particle is a chemical solution supply device for producing a contaminated sample containing SiO2.
상기 계측 부재는 LPC(Liquid Particle Counter)를 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.According to claim 10,
The measuring member is a chemical supply device for producing a contaminated sample including a liquid particle counter (LPC).
특정 입자와 순수를 혼합한 원액을 생성하는 1차 믹싱부;
상기 1차 믹싱부로부터 제공받은 원액과 순수를 혼합하여 일정 농도의 오염액을 생성하는 2차 믹싱부;
상기 2차 믹싱부로부터 제공받은 오염액을 스핀 유닛 상의 기판으로 토출하는 공급 노즐;
상기 1차 믹싱부와 상기 2차 믹싱부 각각으로 순수를 공급하는 순수 공급라인;
오염액에 포함된 특정 입자를 계측하여, 오염액의 농도를 측정할 수 있는 계측 부재; 및
상기 계측 부재가 상기 2차 믹싱부에서 생성된 오염액의 농도를 계측하여 상기 2차 믹싱부로 원액 및 순수의 추가 공급을 제어하는 제어부를 포함하며,
상기 1차 믹싱부는
특정 입자와 순수가 공급되는 프리 탱크;
상기 프리 탱크 내의 특정 입자와 순수가 혼합되도록 상기 프리 탱크에 연결되는 제1순환라인;
상기 순환라인으로부터 분기되고 상기 프리 탱크에서 생성된 원액을 상기 2차 믹싱부로 공급하는 원액 공급라인; 및
상기 공급 라인 상에 제공되는 정량 제어 펌프를 포함하고,
상기 2차 믹싱부는
상기 순수 공급라인과 상기 1차 믹싱부로부터 제공받은 원액과 순수가 저장되는 메인 탱크;
상기 메인 탱크 내의 원액과 순수가 혼합되도록 상기 메인 탱크에 연결되는 제2순환라인; 및
상기 제2순환라인으로부터 분기되어 상기 공급 노즐과 연결되는 오염액 공급라인을 포함하는 오염 시료 제작을 위한 약액 공급 장치.In the device for supplying a chemical solution to produce a contaminated sample,
A primary mixing unit for generating an undiluted mixture of specific particles and pure water;
a secondary mixing unit for mixing the undiluted solution provided from the primary mixing unit and pure water to produce a contaminant solution having a certain concentration;
a supply nozzle for discharging the contaminant solution supplied from the secondary mixing unit to a substrate on a spin unit;
pure water supply lines supplying pure water to each of the primary mixing unit and the secondary mixing unit;
a measuring member capable of measuring the concentration of the polluted liquid by measuring specific particles included in the polluted liquid; and
The measuring member includes a control unit for measuring the concentration of the contaminant solution generated in the secondary mixing unit and controlling the additional supply of the undiluted solution and pure water to the secondary mixing unit,
The primary mixing unit
a pre-tank supplied with specific particles and pure water;
a first circulation line connected to the pre-tank so that specific particles in the pre-tank and pure water are mixed;
an undiluted solution supply line branching off from the circulation line and supplying the undiluted solution generated in the pre-tank to the secondary mixing unit; and
a metering control pump provided on the supply line;
The secondary mixing unit
a main tank for storing the pure water and the undiluted solution supplied from the pure water supply line and the primary mixing unit;
a second circulation line connected to the main tank so that the undiluted solution and pure water in the main tank are mixed; and
A chemical solution supply device for preparing a contaminated sample comprising a contamination solution supply line branched from the second circulation line and connected to the supply nozzle.
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