KR100938242B1 - Chemicals supplying system - Google Patents
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Abstract
약액 공급 시스템이 제공된다. 약액 공급 시스템은 다수개의 약액 공급부, 상기 다수개의 약액 공급부와 연결되어 상기 다수개의 약액 공급부에서 공급되는 다수개의 약액을 혼합하는 인라인 믹서(inline mixer), 상기 인라인 믹서와 연결되어 상기 인라인 믹서에서 혼합된 혼합 약액이 공급되는 혼합 약액 사용부, 상기 혼합 약액이 저장되며 상기 인라인 믹서 및 상기 혼합 약액 사용부와 연결된 혼합 탱크, 상기 혼합 약액 사용부 및 상기 혼합 탱크와 연결되어 상기 혼합 약액 사용부에서 상기 혼합 탱크로 상기 혼합 약액을 이송하는 회수 라인 및 상기 혼합 약액 사용부 및 상기 혼합 탱크와 연결되어 상기 혼합 탱크에서 상기 약액 사용부로 상기 혼합 약액을 이송하는 추가 공급 라인을 포함한다. A chemical liquid supply system is provided. The chemical liquid supply system includes a plurality of chemical liquid supply parts, an inline mixer connected to the plurality of chemical liquid supply parts to mix a plurality of chemical liquids supplied from the plurality of chemical liquid supply parts, and connected to the inline mixer and mixed in the inline mixer. A mixed chemical solution using portion supplied with a mixed chemical solution, the mixed chemical liquid is stored in the mixing tank connected to the in-line mixer and the mixed chemical liquid using portion, the mixed chemical liquid using portion and the mixing tank is connected to the mixed chemical liquid using portion A recovery line for transferring the mixed chemical liquid to a tank and an additional supply line connected to the mixed chemical liquid using portion and the mixing tank to transfer the mixed chemical liquid from the mixing tank to the chemical liquid using portion.
약액 공급 시스템 Chemical supply system
Description
본 발명은 약액 공급 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 생산성이 향상된 약액 공급 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid supply system, and more particularly to a chemical liquid supply system with improved productivity.
최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지는 디스플레이 장치로 브라운관(cathode ray tube) 모니터가 주로 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다. 평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 작으며 저전압 구동형인 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)가 널리 사용되고 있다.Recently, information processing devices have been rapidly developed to have various types of functions and faster information processing speeds. This information processing apparatus has a display device for displaying the operated information. Until now, a cathode ray tube monitor has been mainly used as a display device, but in recent years, with the rapid development of semiconductor technology, the use of a flat display device that is light and occupies a small space is rapidly increasing. There are various types of flat panel displays. Among them, liquid crystal displays, which are small in power consumption and small in volume, and low voltage driven, are widely used.
이러한 액정 디스플레이를 제조하기 위해 기판 상에는 패턴의 형성을 위해 예컨대, 식각, 세정, 또는 건조와 같은 다양한 공정이 실행되어야 한다. In order to produce such a liquid crystal display, various processes such as etching, cleaning or drying must be performed on the substrate for formation of a pattern.
일반적으로, 반도체 장치는 반도체 기판으로 사용되는 실리콘 반도체 기판 상에 소정의 막을 형성하고, 그 막을 전기적 특성을 갖는 패턴으로 형성함으로써 제조된다. 패턴은 막 형성, 포토리소그래피, 식각, 이온주입, 연마 등과 같은 단위 공정들의 순차적 또는 반복적인 수행에 의해 형성된다.Generally, a semiconductor device is manufactured by forming a predetermined film on a silicon semiconductor substrate used as a semiconductor substrate and forming the film in a pattern having electrical properties. The pattern is formed by sequential or repeated performance of unit processes such as film formation, photolithography, etching, ion implantation, polishing, and the like.
이러한, 각 공정에 있어서 약액이 사용될 때에는 별도의 약액 공급 장치를 통해 공정 장치에 약액이 공급된다. 이때, 해당 공정의 조건에 맞도록 약액이 공급되어야 한다. 조건이라 함은 약액 혼합비, 약액의 온도, 약액의 밀도, 점성 등을 말한다. When the chemical liquid is used in each of these processes, the chemical liquid is supplied to the process apparatus through a separate chemical liquid supply device. At this time, the chemical liquid must be supplied to meet the conditions of the process. The conditions refer to the mixing ratio of the chemical liquid, the temperature of the chemical liquid, the density of the chemical liquid, and viscosity.
도 1은 종래의 약액 공급 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다. 1 is a view schematically showing a conventional chemical liquid supply system.
도 1을 참조하면, 종래의 약액 공급 시스템은 두개의 혼합 탱크(10) 및 두개의 농도계(32) 및 펌프(34)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a conventional chemical liquid supply system includes two
두개의 혼합 탱크(10) 각각에는 제1 약액 공급부(22) 및 제2 약액 공급부(24)가 연결되며, 제1 약액 및 제2 약액의 양이 조절되면서 혼합 탱크(10) 내부에서 혼합되어 혼합 약액을 형성한다. 혼합 탱크(10) 내에서 혼합된 혼합 약액은 혼합 약액 사용부(40)로 공급된다. The first chemical
이 때, 하나의 혼합 탱크(10)에서 먼저 약액의 혼합 공정을 완료한다. 그러면, 하나의 혼합 탱크(10) 내의 혼합 약액이 혼합 약액 사용부(40)로 공급되는 동안, 다른 하나의 혼합 탱크(10) 내에서 약액의 혼합 공정이 진행된다. At this time, the mixing process of the chemical liquid is first completed in one
즉, 연속적으로 약액을 공급하기 위하여, 두개의 혼합 탱크(10)를 사용해야 한다. 두개의 혼합 탱크(10)를 사용하기 위해서는 각 혼합 탱크(10)의 온도 및 농도를 제어하기 위하여 각 혼합 탱크(10) 별로 하드 웨어 등의 제어 시스템을 형성하여야 한다. 따라서, 부피가 커지고 복잡해진다. 따라서, 복잡한 시스템을 제어하 기가 어려워, 혼합 약액 사용부(40)로 약액을 공급하는 배선을 따로 형성하는 번거로움이 있다. That is, in order to continuously supply the chemical liquid, two
또한, 혼합 약액 사용부(40)로 공급되는 약액의 압력은 펌프(34)에 의해 일정하게 유지되기 때문에, 약액의 사용량의 변화에 따라 압력의 변동이 심해져, 일정한 유량을 공급하지 못한다. In addition, since the pressure of the chemical liquid supplied to the mixed chemical
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 생산성이 향상된 약액 공급 시스템을 제공하는 것이다.The problem to be solved by the present invention is to provide a chemical liquid supply system with improved productivity.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 태양에 따른 약액 공급 시스템은 다수개의 약액 공급부, 상기 다수개의 약액 공급부와 연결되어 상기 다수개의 약액 공급부에서 공급되는 다수개의 약액을 혼합하는 인라인 믹서(inline mixer), 상기 인라인 믹서와 연결되어 상기 인라인 믹서에서 혼합된 혼합 약액이 공급되는 혼합 약액 사용부, 상기 혼합 약액이 저장되며 상기 인라인 믹서 및 상기 혼합 약액 사용부와 연결된 혼합 탱크, 상기 혼합 약액 사용부 및 상기 혼합 탱크와 연결되어 상기 혼합 약액 사용부에서 상기 혼합 탱크로 상기 혼합 약액을 이송하는 회수 라인 및 상기 혼합 약액 사용부 및 상기 혼합 탱크와 연결되어 상기 혼합 탱크에서 상기 약액 사용부로 상기 혼합 약액을 이송하는 추가 공급 라인을 포함한다. In accordance with one aspect of the present invention for achieving the above technical problem, a chemical solution supplying system is connected to a plurality of chemical liquid supply parts, the plurality of chemical liquid supply parts to mix a plurality of chemical liquids supplied from the plurality of chemical liquid supply (inline mixer) ), A mixed chemical liquid using portion connected to the inline mixer and supplied with the mixed chemical liquid mixed in the inline mixer, a mixing tank in which the mixed chemical liquid is stored and connected to the inline mixer and the mixed chemical liquid using portion, the mixed chemical liquid using portion, and A recovery line connected to the mixing tank to transfer the mixed chemical liquid from the mixed chemical liquid using part to the mixing tank and the mixed chemical liquid using part and the mixing tank to transfer the mixed chemical liquid from the mixing tank to the chemical using part To include an additional supply line.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 다른 태양에 따른 약액 공급 시스템은 다수개의 약액 공급부, 상기 다수개의 약액 공급부와 연결되어 상기 다수개의 약액 공급부에서 공급되는 다수개의 약액을 혼합하는 인라인 믹서(inline mixer), 상기 다수개의 약액 공급부와 상기 인라인 믹서 사이에 형성되어 상기 각 약액 공급부의 공급량을 제어하는 유량 제어부, 상기 각 약액 공급부와 상기 각 유량 제어부 사이에 형성되어 상기 약액 공급부에서 공급되는 약액의 압력을 조절하는 밸브 및 펌프, 상기 인라인 믹서와 연결되어 상기 인라인 믹서에서 혼합된 혼합 약액이 공급되는 혼합 약액 사용부, 상기 혼합 약액이 저장되며 상기 인라인 믹서 및 상기 혼합 약액 사용부와 연결된 혼합 탱크, 상기 혼합 약액 사용부 및 상기 혼합 탱크와 연결되어 상기 혼합 약액 사용부에서 상기 혼합 탱크로 상기 혼합 약액을 이송하는 회수 라인, 상기 혼합 약액 사용부 및 상기 혼합 탱크와 연결되어 상기 혼합 탱크에서 상기 약액 사용부로 상기 혼합 약액을 이송하는 추가 공급 라인, 상기 인라인 믹서와 연결되어 상기 인라인 믹서에서 혼합된 혼합 용액의 농도를 측정하는 농도계 및 상기 혼합 약액 사용부와 연결되어 상기 혼합 약액 사용부로 공급되는 약액의 온도를 제어하는 히터를 포함한다.In accordance with another aspect of the present invention for achieving the above technical problem, a chemical solution supplying system is connected to a plurality of chemical liquid supply unit, the plurality of chemical liquid supply unit to mix a plurality of chemical liquids supplied from the plurality of chemical liquid supply unit (inline mixer, a flow rate control portion formed between the plurality of chemical liquid supply portions and the in-line mixer to control the supply amount of each chemical liquid supply portion, and a pressure of the chemical liquid formed between each of the chemical liquid supply portions and the respective flow rate control portions and supplied from the chemical liquid supply portion. A valve and a pump for controlling the mixing, the mixed chemical liquid using part is connected to the in-line mixer is supplied with the mixed chemical liquid mixed in the in-line mixer, the mixed chemical liquid is stored and connected to the in-line mixer and the mixed chemical liquid using part, the Is connected to the mixed chemical using portion and the mixing tank A recovery line for transferring the mixed chemical liquid from the mixed chemical liquid using part to the mixing tank, an additional supply line connected with the mixed chemical liquid using part and the mixing tank to transfer the mixed chemical liquid from the mixing tank to the chemical liquid using part, the And a heater connected to an inline mixer to measure the concentration of the mixed solution mixed in the inline mixer, and a heater connected to the mixed chemical solution using part to control the temperature of the chemical solution supplied to the mixed chemical solution using part.
본 발명의 기타 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Other specific details of the invention are included in the detailed description and drawings.
본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 시스템에 따르면 다음과 같은 효과가 있다. According to the chemical liquid supply system according to an embodiment of the present invention has the following effects.
본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 시스템에서는 탱크에서 약액을 혼합하는 것이 아니라, 인라인 믹서에서 약액을 혼합하고 혼합 약액 사용부로 직접 공급한다. 따라서, 약액 공급 시스템이 보다 단순화된다. 또한, 약액을 저장하기 위 한 탱크만이 하나 필요하기 때문에, 다수개의 탱크를 사용하는 것보다 부피를 줄일 수 있다. 또한, 각 약액 공급부에 연결된 펌프 및 유량 제어부에서 각 약액의 유량 및 압력을 제어하며, 회수 라인 및 추가 공급 라인에서 혼합 약액 공급부로 공급되는 혼합 약액의 유량을 적절히 제어함으로써, 보다 안정적으로 혼합 약액을 공급할 수 있다. 한편, 농도계를 하나만 형성함으로써, 농도계를 다수개 설치함에 따른 비용의 증가를 막을 수 있다. In the chemical liquid supply system according to an embodiment of the present invention, the chemical liquid is not mixed in the tank, but the chemical liquid is mixed in the in-line mixer and directly supplied to the mixed chemical liquid using part. Thus, the chemical liquid supply system is more simplified. In addition, since only one tank for storing the chemical liquid is required, the volume can be reduced compared to using multiple tanks. In addition, the pump and the flow control unit connected to each chemical solution supply unit controls the flow rate and pressure of each chemical solution, and by controlling the flow rate of the mixed chemical solution supplied to the mixed chemical solution supply section in the recovery line and the additional supply line, the mixed chemical liquid more stably Can supply On the other hand, by forming only one densitometer, it is possible to prevent the increase in cost of installing a plurality of densitometers.
상기의 이유들에 의해 본 발명의 일 실시예에 따른 유량 제어 시스템에 따르면 생산성이 향상될 수 있다. For the above reasons, according to the flow control system according to the embodiment of the present invention, productivity may be improved.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.
비록 제1, 제2 등이 다양한 소자, 구성요소 및/또는 섹션들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 소자, 구성요소 및/또는 섹션들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 소자, 구성요소 또는 섹션들을 다른 소자, 구성요소 또는 섹션들과 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에 서 언급되는 제1 소자, 제1 구성요소 또는 제1 섹션은 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 소자, 제2 구성요소 또는 제2 섹션일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, etc. are used to describe various elements, components and / or sections, these elements, components and / or sections are of course not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one element, component or section from another element, component or section. Therefore, the first device, the first component, or the first section mentioned below may be a second device, a second component, or a second section within the technical spirit of the present invention.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. In this specification, the singular also includes the plural unless specifically stated otherwise in the phrase. As used herein, “comprises” and / or “comprising” refers to the presence of one or more other components, steps, operations and / or elements. Or does not exclude additions.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다. Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in the present specification may be used in a sense that can be commonly understood by those skilled in the art. In addition, the terms defined in the commonly used dictionaries are not ideally or excessively interpreted unless they are specifically defined clearly.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다. 2 is a view schematically showing a chemical liquid supply system according to an embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 약액 공급 시스템(100)은 제1 및 제2 약액 공급부(112a, 112b), 인라인 믹서(inline mixer; 120), 혼합 약액 사용부(130), 탱크(140), 회수 라인(150) 및 추가 공급 라인(160)을 포함한다. 2, in one embodiment of the present invention, the chemical
제1 및 제2 약액 공급부(112a, 112b)에서는 혼합하고자 하는 약액을 공급한다. 각 약액 공급부(112a, 112b)에서 연결되는 라인에는 압력을 유지하기 위하여 유량을 조절하는 밸브(114), 약액을 펌핑하여 유량의 변화에 따른 압력의 변화를 방지하는 펌프(116), 공급되는 각 약액의 양을 조절하는 유량 제어부(118)가 연결될 수 있다. 즉, 제1 및 제2 약액 공급부(112a, 112b)에서는 밸브(114), 펌프(116), 유량 제어부(118)에 의해 각 약액이 정해진 양만큼 소정 범위의 압력으로 공급될 수 있다. 한편, 도 2에는 제1 약액 공급부(112a) 및 제2 약액 공급부(112b)만을 도시하였지만, 약액 공급부가 셋 이상일 수 있음은 물론이다. 예를 들어, 제1 약액 공급부(112a)는 순수를 공급할 수 있으며, 제2 약액 공급부는 HF를 공급할 수 있다. The first and second chemical
제1 및 제2 약액 공급부(112a, 112b)는 인라인 믹서(120)와 연결된다. 인라인 믹서(120)는 제1 및 제2 약액 공급부(112a, 112b)와 연결되어 약액을 혼합한다. 즉, 다수의 약액은 유량 제어부(118)에서 그 양이 조절되고 인라인 믹서(120)를 통해 혼합된다. 따라서, 약액을 혼합하기 위한 혼합 탱크를 구비하지 않아도 된다. The first and second
인라인 믹서(120)에서 혼합된 혼합 약액은 혼합 약액 사용부(130)로 공급된다. 혼합 약액 사용부(130)는 예를 들어, 공정 챔버 등일 수 있으며, 혼합 약액은 노즐 등을 통해 공급될 수 있다. The mixed chemical liquid mixed in the in-
한편, 인라인 믹서(120)에서 혼합된 혼합 약액은 인라인 믹서(120)와 연결된 농도계(170)에서 농도가 측정될 수 있다. 즉, 혼합 약액의 농도는 인라인 믹서(120)와 연결된 농도계(170)에서 바로 측정이 가능하다. Meanwhile, the concentration of the mixed chemical liquid mixed in the
또한, 혼합 약액 사용부(130)로 공급되는 혼합 약액은 혼합 약액 사용부(130)로 공급되기 전에, 히터(180)를 통해 온도를 조절할 수 있다. 즉, 혼합 약액 사용부(130)와 연결된 히터(180)는 혼합 약액에 적절하게 열을 가하여 혼합 약 액의 온도를 제어한다. In addition, before the mixed chemical liquid supplied to the mixed chemical
인라인 믹서(120)에서 공급된 혼합 약액은 혼합 약액 사용부(130)로 일정 양이 공급되고, 나머지는 탱크(140)에 저장한다. 이 때, 혼합 약액 중의 일부는 배수될 수도 있다. 탱크(140)는 혼합 약액을 저장한다.The mixed chemical liquid supplied from the in-
탱크(140)와 혼합 약액 사용부(130)는 회수 라인(150) 및 추가 공급 라인(160)으로 연결된다. 회수 라인(150)은 혼합 약액 사용부(130)에서 사용되지 않은 약액을 탱크(140)로 회수하며, 추가 공급 라인(160)은 인라인 믹서(120)에서 혼합 약액 사용부(130)로 공급하는 약액이 모자랄 경우, 탱크(140)에서 추가로 공급하는 라인이다. The
한편, 탱크(140) 내에는 레벨 센서(205)가 형성되어, 탱크(140) 내의 유량을 측정한다. 레벨 센서(205)를 통해 탱크(140) 내의 유량을 측정하면, 약액의 공급 및 저장을 보다 수월하게 할 수 있다. On the other hand, the
배수부(190)는 잉여의 약액을 배수하거나 또는 압력을 조절하기 위하여 약액을 배수할 수 있다. 밸브(212, 214, 216)들은 인라인 믹서에서 공급되는 혼합 약액을 각각 혼합 약액 사용부(130), 탱크(140) 및 배수부(190)로 이동시킨다. The
본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 시스템에 따르면, 탱크(140)에서 약액을 혼합하는 것이 아니라, 인라인 믹서에서 약액을 혼합하고 혼합 약액 사용부(130)로 직접 공급한다. 따라서, 약액 공급 시스템이 보다 단순화된다. 또한, 약액을 저장하기 위한 탱크(140)만이 하나 필요하기 때문에, 다수개의 탱크를 사용하는 것보다 부피를 줄일 수 있다. According to the chemical liquid supply system according to an embodiment of the present invention, the chemical liquid is not mixed in the
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또한, 제1 및 제2 약액 공급부(112a, 112b)에 연결된 펌프(116) 및 유량 제어부(118)에서 각 약액의 유량 및 압력을 제어하며, 회수 라인(150) 및 추가 공급 라인(160)에서 혼합 약액 사용부(130)로 공급되는 혼합 약액의 유량을 적절히 제어함으로써, 보다 안정적으로 혼합 약액을 공급할 수 있다. In addition, the
한편, 농도계(170)를 하나만 형성함으로써, 농도계(170)를 다수개 설치함에 따른 비용의 증가를 막을 수 있다. On the other hand, by forming only one
상기의 이유들에 의해 본 발명의 일 실시예에 따른 유량 제어 시스템에 따르면 생산성이 향상될 수 있다. For the above reasons, according to the flow control system according to the embodiment of the present invention, productivity may be improved.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. I can understand that. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.
도 1은 종래의 약액 공급 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다. 1 is a view schematically showing a conventional chemical liquid supply system.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다. 2 is a view schematically showing a chemical liquid supply system according to an embodiment of the present invention.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명) (Explanation of symbols for the main parts of the drawing)
100: 약액 공급 시스템 112a: 제1 약액 공급부100: chemical
112b: 제2 약액 공급부 118: 유량 제어부112b: second chemical liquid supply part 118: flow rate control part
120: 인라인 믹서 130: 혼합 약액 사용부 120: in-line mixer 130: mixed chemical liquid portion
140: 탱크 150: 회수 라인140: tank 150: recovery line
160: 추가 공급 라인 170: 농도계160: additional supply line 170: densitometer
180: 히터 190: 배수부180: heater 190: drain
205: 레벨 센서205: level sensor
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080000242A KR100938242B1 (en) | 2008-01-02 | 2008-01-02 | Chemicals supplying system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080000242A KR100938242B1 (en) | 2008-01-02 | 2008-01-02 | Chemicals supplying system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090074451A KR20090074451A (en) | 2009-07-07 |
KR100938242B1 true KR100938242B1 (en) | 2010-01-22 |
Family
ID=41331736
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080000242A KR100938242B1 (en) | 2008-01-02 | 2008-01-02 | Chemicals supplying system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100938242B1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101188866B1 (en) | 2011-07-25 | 2012-10-10 | 주식회사 우남케미코 | Flow meter with pressure measurement for pu injection unit |
US10332762B2 (en) | 2015-09-01 | 2019-06-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Chemical liquid supply apparatus and semiconductor processing apparatus having the same |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103377972B (en) * | 2012-04-30 | 2016-12-28 | 细美事有限公司 | The method that substrate board treatment and supply process solution |
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KR100598913B1 (en) | 2004-09-02 | 2006-07-10 | 세메스 주식회사 | Method and apparatus for mixing and supplying chemical |
KR20070107979A (en) * | 2006-05-04 | 2007-11-08 | 세메스 주식회사 | Substrate treating facility |
KR100884337B1 (en) | 2007-12-07 | 2009-02-18 | 세메스 주식회사 | Substrate treating apparatus using ozone water |
-
2008
- 2008-01-02 KR KR1020080000242A patent/KR100938242B1/en active IP Right Grant
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US10332762B2 (en) | 2015-09-01 | 2019-06-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Chemical liquid supply apparatus and semiconductor processing apparatus having the same |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090074451A (en) | 2009-07-07 |
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