KR20230056803A - 유기 화합물 및 이를 포함하는 유기전계발광소자 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 신규한 유기 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는 낮은 구동 전압, 소자 효율 특성 및 수명을 현저히 개선한 유기전계발광소자를 제공한다.
Description
본 발명은 유기 화합물 및 이를 포함하는 유기전계발광 소자에 관한 것이다.
유기전계발광 소자는 기존 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 및 전계 방출 디스플레이(FED)등의 타 평판 표시 소자에 비해 구조가 간단하고, 제조 공정상 다양한 장점이 있으며 높은 휘도 및 시야각 특성이 우수하며, 응답속도가 빠르고 구동전압이 낮아 벽걸이 TV등의 평판 디스플레이 또는 디스플레이의 배면광, 조명, 광고판 등의 광원으로서 사용되도록 활발하게 개발이 진행되고 있다.
유기전계발광 소자는 일반적으로 전압을 인가하였을 때 양극으로부터 주입된 정공과 음극으로부터 주입된 전자가 재결합하여 전자-정공 쌍인 엑시톤을 형성하며 이 엑시톤의 에너지를 발광 재료에 전달함에 의해 빛으로 변환된다.
유기전계발광 소자의 효율과 안정성을 높이기 위해 이스트만 코닥사의 탕(C. W. Tang) 등에 의해 두 개의 반대 전극 사이에 적층형 유기물 박막을 구성한 저전압 구동 유기 전기발광 소자가 보고(C. W. Tang, S. A.Vanslyke, Applied Physics Letters, 51권 913페이지, 1987년)된 이래, 다층 박막 구조형 유기전계발광 소자용 유기 재료에 대한 연구가 활발히 진행되어 왔다.
일반적으로, 유기전계발광 소자는 음극(전자주입전극)과 양극(정공주입전극), 및 상기 두 전극 사이에 하나 이상의 유기층을 포함하는 구조를 갖는다. 이때, 유기전계발광 소자는 양극으로부터 정공주입층(HIL, hole injection layer), 정공수송층(HTL, hole transport layer), 발광층(EML, light emitting layer), 전자수송층 (ETL, electron transport layer) 또는 전자주입층(EIL, electron injection layer)의 순서로 적층되며, 발광층의 효율을 높이기 위하여 전자차단층(EBL, electron blocking layer) 또는 정공차단층(HBL, hole blocking layer)을 각각 발광층의 앞뒤에 추가로 포함할 수 있다.
이렇게 유기전계발광소자를 다층 박막 구조로 제작하는 이유는, 전극과 유기물 사이의 계면 안정화를 위함이며, 발광 효율을 높일 수 있기 때문이다.
특히, 다층 박막에 재료로 사용되는 유기화합물의 경우, 각각의 특성에 따라 정공과 전자의 이동 속도 차이가 크므로 적절한 화합물을 함유하는 정공수송층과 전자수송층을 사용하여야만 정공과 전자를 발광층으로 효과적으로 전달되고, 정공과 전자의 밀도가 균형을 이루어 발광 효율을 우수하게 높일 수 있다.
이로 인해, 유기 박막층의 각층에 포함되는 유기화합물 성분들의 특성은 소자의 구동 전압, 발광 효율, 휘도, 및 소자의 수명에 큰 영향을 미칠 뿐 아니라, 최종적으로 생산된 디스플레이의 효율이나 수명에도 영향을 끼치므로, 유기전계발광소자에서 다층 구조에 적절한 특정 유기물질을 사용하는 것이 중요하게 여겨지고 있다. 따라서, 상기 유기 박막층의 각층에 포함되는 성분들에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.
본 발명의 목적은 신규 유기 화합물을 포함하여 구동 전압이 낮고, 소자 효율 특성 및 수명 특성이 우수한 유기전계발광 소자를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 1 로 표시되는 화합물에 관한 것일 수 있다:
[화학식 1]
여기서,
n 및 m은 0 내지 4의 정수이며,
X1은 O, N(R7), C(R8)(R9) 및 S로 이루어진 군으로부터 선택되며,
L1 및 L2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30개의 아릴렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30개의 헤테로아릴렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 10개의 알킬렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 10개의 시클로알킬렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 알케닐렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 10개의 시클로알케닐렌기 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 10개의 헤테로알킬렌기, 치 환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 헤테로시클로알킬렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 헤테로알케닐렌기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 헤테로시클로알케닐렌기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
Ar1은 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30개의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30개의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소 수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30개의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 20개의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
R1 내지 R9는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 시아노기, 니트로기, 할로겐기, 히드록시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 60의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 24의 헤테로 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴실릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되고, 인접하는 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성할 수 있고,
R1 내지 R4 중 어느 하나 이상은 인접하는 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성할 수 있다.
또한, 본 발명은 제1전극; 상기 제1전극에 대향된 제2전극; 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이에 개재된 하나 이상의 유기물층을 포함하며, 상기 하나 이상의 유기물층은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 유기 전계 발광 소자에 관한 것이다.
본 발명에서 “수소”는 특별히 한정하지 않는 한, 수소, 경수소, 중수소 또는 삼중수소이다.
본 발명에서 “할로겐기”는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드이다.
본 발명에서 “알킬”은 탄소수 1 내지 40개의 직쇄 또는 측쇄의 포화 탄화수소에서 유래되는 1가의 치환기를 의미한다. 이의 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소부틸, sec-부틸, 펜틸, iso-아밀, 헥실 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “알케닐(alkenyl)”은 탄소-탄소 이중 결합을 1개 이상 가진 탄소수 2 내지 40개의 직쇄 또는 측쇄의 불포화 탄화수소에서 유래되는 1가의 치환기를 의미한다. 이의 예로는 비닐(vinyl), 알릴(allyl), 이소프로펜일(isopropenyl), 2-부텐일(2-butenyl) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “알키닐(alkynyl)”은 탄소-탄소 삼중 결합을 1개 이상 가진 탄소수 2 내지 40개의 직쇄 또는 측쇄의 불포화 탄화수소에서 유래되는 1가의 치환기를 의미한다. 이의 예로는 에티닐(ethynyl), 2-프로파닐(2-propynyl) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 "알킬티오"는 황 연결(-S-)을 통해 결합된 상기 기재된 알킬기를 의미한다.
본 발명에서 “아릴”은 단독 고리 또는 2이상의 고리가 조합된 탄소수 6 내지 60개의 방향족 탄화수소로부터 유래된 1가의 치환기를 의미한다. 또한, 2 이상의 고리가 서로 단순 부착(pendant)되거나 축합된 형태도 포함될 수 있으며, 구체적으로 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트릴기, 트리페닐기, 파이레닐기, 페날레닐기, 페릴레닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 플루오레닐기는 치환될 수 있으며, 인접한 기들이 서로 결합하여 고리를 형성할 수 있다.
본 발명에서 “헤테로아릴”은 탄소수 6 내지 30개의 모노헤테로사이클릭 또는 폴리헤테로사이클릭 방향족 탄화수소로부터 유래된 1가의 치환기를 의미한다. 이때, 고리 중 하나 이상의 탄소, 바람직하게는 1 내지 3개의 탄소가 N, O, S 또는 Se와 같은 헤테로원자로 치환된다. 또한, 2 이상의 고리가 서로 단순 부착(pendant)되거나 축합된 형태도 포함될 수 있고, 나아가 아릴기와의 축합된 형태도 포함될 수 있다. 이러한 헤테로아릴의 예로는 피리딜, 피라지닐, 피리미디닐, 피리다지닐, 트리아지닐과 같은 6-원 모노사이클릭 고리, 페녹사티에닐(phenoxathienyl), 인돌리지닐(indolizinyl), 인돌릴(indolyl), 퓨리닐(purinyl), 퀴놀릴(quinolyl), 벤조티아졸(benzothiazole), 카바졸릴(carbazolyl)과 같은 폴리사이클릭 고리 및 2-퓨라닐, N-이미다졸릴, 2-이속사졸릴, 2-피리디닐, 2-피리미디닐 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “아릴옥시”는 RO-로 표시되는 1가의 치환기로, 상기 R은 탄소수 6 내지 60개의 아릴을 의미한다. 이러한 아릴옥시의 예로는 페닐옥시, 나프틸옥시, 디페닐옥시 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “알킬옥시”는 R'O-로 표시되는 1가의 치환기로, 상기 R'는 탄소수 1 내지 40개의 알킬을 의미하며, 직쇄(linear), 측쇄(branched) 또는 사이클릭(cyclic) 구조를 포함할 수 있다. 알킬옥시의 예로는 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 1-프로폭시, t-부톡시, n-부톡시, 펜톡시 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “알콕시”는 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄일 수 있다. 알콕시의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 20인 것이 바람직하다. 구체적으로, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, i-프로필옥시, n-부톡시, 이소부톡시, tert-부톡시, sec-부톡시, n-펜틸옥시, 네오펜틸옥시, 이소펜틸옥시, n-헥실옥시, 3,3-디메틸부틸옥시, 2-에틸부틸옥시, n-옥틸옥시, n-노닐옥시, n-데실옥시, 벤질옥시, p-메틸벤질옥시 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명에서 "아르알킬"은, 아릴 및 알킬이 상기한 바와 같은 아릴-알킬 그룹을 의미한다. 바람직한 아르알킬은 저급 알킬 그룹을 포함한다. 적합한 아르알킬 그룹의 비제한적인 예는 벤질, 2-펜에틸 및 나프탈레닐메틸을 포함한다. 모 잔기에 대한 결합은 알킬을 통해 이루어진다.
본 발명에서 “아릴아미노기”는 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 치환된 아민을 의미한다.
본 발명에서 “알킬아미노기”는 탄소수 1 내지 30의 알킬기로 치환된 아민을 의미한다.
본 발명에서 “아르알킬아미노기”는 탄소수 6 내지 30의 아릴-알킬기로 치환된 아민을 의미한다.
본 발명에서 “헤테로아릴아미노기”는 탄소수 6 내지 30의 아릴기 및 헤테로고리기로 치환된 아민기를 의미한다.
본 발명에서 “헤테로아르알킬기”는 헤테로고리기로 치환된 아릴-알킬 그룹을 의미한다.
본 발명에서 “시클로알킬”은 탄소수 3 내지 40개의 모노사이클릭 또는 폴리사이클릭 비-방향족 탄화수소로부터 유래된 1가의 치환기를 의미한다. 이러한 사이클로알킬의 예로는 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 노르보닐(norbornyl), 아다만틴(adamantine) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “헤테로시클로알킬”은 탄소수 3 내지 40개의 비-방향족 탄화수소로부터 유래된 1가의 치환기를 의미하며, 고리 중 하나 이상의 탄소, 바람직하게는 1 내지 3개의 탄소가 N, O, S 또는 Se와 같은 헤테로 원자로 치환된다. 이러한 헤테로시클로알킬의 예로는 모르폴린, 피페라진 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “알킬실릴”은 탄소수 1 내지 40개의 알킬로 치환된 실릴이고, “아릴실릴”은 탄소수 6 내지 60개의 아릴로 치환된 실릴을 의미한다.
본 발명에서 “축합고리”는 축합 지방족 고리, 축합 방향족 고리, 축합 헤테로지방족 고리, 축합 헤테로방향족 고리 또는 이들의 조합된 형태를 의미한다.
본 발명에서 "인접하는 기와 서로 결합하여 고리를 형성한다"는 것은 인접하는 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 탄화수소고리; 치환 또는 비치환된 방향족 탄화수소고리; 치환 또는 비치환된 지방족 헤테로고리; 치환 또는 비치환된 방향족 헤테로고리; 또는 이들의 축합고리를 형성하는 것을 의미한다.
본 발명에서 “방향족 탄화수소고리”의 예로는 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등이 있으나 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에서 “지방족 헤테로고리”란 헤테로원자 중 1개 이상을 포함하는 지방족고리를 의미한다.
본 발명에서 “방향족 헤테로고리”란 헤테로원자 중 1개 이상을 포함하는 방향족고리를 의미한다.
본 발명에서 "치환"은 화합물의 탄소 원자에 결합된 수소 원자가 다른 치환기로 바뀌는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치 즉, 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정하지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다. 상기 치환기는 수소, 시아노기, 니트로기, 할로겐기, 히드록시기, 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 탄소수 1 내지 30의 알킬아미노기, 탄소수 6 내지 30의 아릴아미노기, 탄소수 6 내지 30의 아르알킬아미노기, 탄소수 2 내지 24의 헤테로 아릴아미노기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬실릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아릴실릴기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아릴옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환될 수 있으나, 상기 예시에 국한되지 않는다.
본 발명은 신규 유기 화합물로, 유기전계발광소자 재료로 사용 시, 인접한 층과의 계면 특성이 우수하고, 우수한 화학적 안정성을 가질 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 신규 유기 화합물을 포함하여 구동 전압이 낮고, 소자 효율 특성 및 수명 특성이 우수한 유기전계발광 소자를 제공할 수 있다.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
본 발명에 따른 신규한 유기 화합물은 인접한 층과의 계면 특성이 우수하고, 우수한 화학적 안정성을 가질 수 있고, 특히 정공수송이 용이한 HOMO 에너지 레벨을 가져 발광층으로의 정공수송 특성이 우수한 유기전계발광소자의 정공수송보조층 재료로 사용될 수 있다.
구체적으로 하기 화학식 1로 표시되는 화합물은 다음과 같다:
[화학식 1]
여기서,
n 및 m은 0 내지 4의 정수이며,
X1은 O, N(R7), C(R8)(R9) 및 S로 이루어진 군으로부터 선택되며,
L1 및 L2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30개의 아릴렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30개의 헤테로아릴렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 10개의 알킬렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 10개의 시클로알킬렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 알케닐렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 10개의 시클로알케닐렌기 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 10개의 헤테로알킬렌기, 치 환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 헤테로시클로알킬렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 헤테로알케닐렌기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 헤테로시클로알케닐렌기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
Ar1은 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30개의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30개의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소 수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30개의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 20개의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
R1 내지 R9는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 시아노기, 니트로기, 할로겐기, 히드록시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 60의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 24의 헤테로 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴실릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되고, 인접하는 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성할 수 있고,
R1 내지 R4 중 어느 하나 이상은 인접하는 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성할 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 2 내지 7로 표시되는 화합물일 수 있다:
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 5]
[화학식 6]
[화학식 7]
여기서,
n, m, L1, L2, Ar1, X1, R1 내지 R6은 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같다.
상기 L1 및 L2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 단일결합 또는 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30개의 아릴렌기일 수 있다.
상기 X는 O 또는 S일 수 있다.
상기 Ar1은 하기 화학식 8 내지 12로 이루어진 군에서 선택될 수 있다:
[화학식 8]
[화학식 9]
[화학식 10]
[화학식 11]
[화학식 12]
여기서,
*는 결합되는 부분이며,
o는 0 내지 5의 정수이며,
p는 0 내지 7의 정수이며,
q는 0 내지 6의 정수이며,
r, s, t 및 u는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이며,
X2는 O, N(R17), C(R18)(R19) 및 S로 이루어진 군으로부터 선택되며,
R10 내지 R19는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 시아노기, 니트로기, 할로겐기, 히드록시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 60의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 24의 헤테로 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴실릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되고, 인접하는 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성할 수 있다.
본 발명에 따른 화학식 1 로 표시되는 화합물은 하기 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되며, 이에 한정되는 것은 아니다:
본 발명의 상기 화학식 1의 화합물은 정공수송보조층 물질로 유용하게 사용될 수 있다.
상기 유기화합물을 유기전계발광소자의 재료로 이용 시, 발광효율, 수명 등 대부분의 소자 특성에서 동등 또는 우수한 특성을 나타낼 수 있다.
본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 유기 전계 발광 소자를 제공한다.
본 발명의 유기화합물은 정공수송보조층용 재료로 유용하게 사용될 수 있다.
또한, 본 발명은 음극과 양극 사이에 적어도 발광층을 포함하는 일층 또는 복수층으로 이루어지는 유기 박막층이 적층되어 있는 유기전계발광소자에 있어서, 상기 유기 박막층은 상기 제1전극 및 발광층 사이의 정공수송층 및/또는 정공수송보조층이다.
상기 정공수송층 및/또는 정공수송보조층은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이다.
상기 정공수송보조층은 정공수송층과 발광층 사이의 HOMO 에너지 레벨 차이를 줄임으로써 정공의 주입 특성을 조절하여 정공수송보조층과 발광층의 계면에서 정공이 축적되는 것을 감소시켜 계면에서 폴라론(polaron)에 의한 엑시톤이 소멸되는 소광 현상(quenching)을 줄일 수 있다. 이에 따라 소자의 열화현상이 감소하고 소자가 안정화되어 효율 및 수명을 개선할 수 있다.
상기 유기전계발광소자는 양극, 정공주입층, 정공수송층, 정공수송보조층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층 및 음극이 적층된 구조를 가질 수 있으며, 필요에 따라 전자수송보조층이 추가로 더 적층될 수 있다.
이하에서, 본 발명의 유기전계발광소자에 대하여 예를 들어 설명한다. 그러나, 하기에 예시된 내용이 본 발명의 유기전계발광소자를 한정하는 것은 아니다.
본 발명의 유기전계발광소자는 양극(정공주입전극), 정공주입층(HIL), 정공수송층(HTL), 정공수송보조층, 발광층(EML) 및 음극(전자주입전극)이 순차적으로 적층된 구조를 가질 수 있으며, 바람직하게는, 양극과 발광층 사이에 정공수송보조층을, 그리고 음극과 발광층 사이에 전자수송층(ETL), 전자주입층(EIL)을 추가로 포함할 수 있다. 또한 음극과 발광층 사이에 전자수송보조층을 더 포함할 수도 있다.
본 발명에 따른 유기전계발광소자의 제조방법으로는, 먼저 기판 표면에 양극용 물질을 통상적인 방법으로 코팅하여 양극을 형성한다. 이때, 사용되는 기판은 투명성, 표면 평활성, 취급 용이성 및 방수성이 우수한 유리기판 또는 투명 플라스틱 기판이 바람직하다. 또한, 양극용 물질로는 투명하고 전도성이 우수한 산화인듐주석(ITO), 산화인듐아연(IZO), 산화주석(SnO2), 산화아연(ZnO) 등이 사용될 수 있다.
다음으로, 상기 양극 표면에 정공주입층(HIL) 물질을 통상적인 방법으로 진공 열증착 또는 스핀 코팅하여 정공주입층을 형성한다. 이러한 정공주입층 물질로는 구리프탈로시아닌(CuPc), 4,4',4"-트리스(3-메틸페닐아미노)트리페닐아민(m-MTDATA), 4,4',4"-트리스(3-메틸페닐아미노)페녹시벤젠(m-MTDAPB), 스타버스트(starburst)형 아민류인 4,4',4"-트리(N-카바졸릴)트리페닐아민(TCTA), 4,4',4"-트리스(N-(2-나프틸)-N-페닐아미노)-트리페닐아민(2-TNATA) 또는 이데미츠사(Idemitsu)에서 구입가능한 IDE406을 예로 들 수 있다.
상기 정공주입층 표면에 정공수송층 물질을 통상적인 방법으로 진공 열증착 또는 스핀 코팅하여 정공수송층을 형성한다. 상기 정공수송층 물질은 일반적으로 사용되는 정공수송층 물질을 사용할 수도 있다.
상기 정공수송층 표면에 본 발명에 따른 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 진공 열증착 또는 스핀 코팅하여 정공수송보조층을 형성할 수 있다. 상기 정공수송보조층은, 앞서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 화합물을 정공수송보조층 물질로 이용할 수 있으며, 통상적으로 사용되는 정공수송보조층 물질을 사용하여, 정공수송보조층을 형성할 수 있다.
상기 정공수송보조층 표면에 발광층(EML) 물질을 통상적인 방법으로 진공 열증착 또는 스핀 코팅하여 발광층을 형성한다. 이때, 사용되는 발광층 물질 중 단독 발광물질 또는 발광 호스트 물질은 녹색의 경우 트리스(8-하이드록시퀴놀리놀라토)알루미늄(Alq3) 등이 사용될 수 있으며, 청색의 경우 Alq3, CBP(4,4'-N,N'-dicabazole-biphenyl, 4,4'-N,N'-디카바졸 -비페닐), PVK(poly(n-vinylcabazole), 폴리 (n-비닐카바졸)), ADN(9,10-di(naphthalene-2-yl)anthracene, 9,10-디(나프탈렌-2-일)안트라센), TCTA, TPBI(1,3,5-tris(N-phenylbenzimidazole-2-yl)benzene, 1,3,5-트리스(N-페닐벤즈이미다졸-2-일) 벤젠), TBADN(3-tert-butyl-9,10-di(naphth-2-yl) anthracene, 3-터트-부틸-9,10-디(나프트-2일) 안트라센), E3, DSA(distyrylarylene, 디스티릴아릴렌) 또는 이들의 2 이상의 혼합물을 사용할 수 있으나, 이에 국한되는 것은 아니다.
발광층 물질 중 발광 호스트와 함께 사용될 수 있는 도펀트(Dopant)(dopant)의 경우, 이데미츠사(Idemitsu)에서 구입 가능한 IDE102, IDE105, 인광 도펀트(Dopant)로는 트리스(2-페닐피리딘)이리듐(III)(Ir(ppy)3), 이리듐(III)비스[(4,6-다이플루오로페닐)피리디나토-N,C-2']피콜린산염(FIrpic) (참조문헌[Chihaya Adachi et al., Appl. Phys. Lett., 2001, 79, 3082-3084]), 플라티늄(II)옥타에틸포르피린(PtOEP), TBE002(코비온사) 등이 사용될 수 있다.
상기 발광층 표면에 전자수송층(ETL) 물질을 통상적인 방법으로 진공 열증착 또는 스핀 코팅하여 전자수송층을 형성한다. 이때, 사용되는 전자수송층 물질의 경우 특별히 제한되지 않으며, 바람직하게는 트리스(8-하이드록시퀴놀리놀라토)알루미늄(Alq3)을 사용할 수 있다.
선택적으로는, 발광층과 전자수송층 사이에 정공차단층(HBL)을 추가로 형성하고 발광층에 인광 도펀트(Dopant)를 함께 사용함으로써, 삼중항 여기자 또는 정공이 전자수송층으로 확산되는 현상을 방지할 수 있다.
정공차단층의 형성은 정공차단층 물질을 통상적인 방법으로 진공 열증착 및 스핀 코팅하여 실시할 수 있으며, 정공차단층 물질의 경우 특별히 제한되지는 않으나, 바람직하게는 (8-하이드록시퀴놀리놀라토)리튬(Liq), 비스(8-하이드록시-2-메틸퀴놀리놀나토)-알루미늄비페녹사이드(BAlq), 바쏘쿠프로인 (bathocuproine, BCP) 및 LiF 등을 사용할 수 있다.
상기 전자수송층 표면에 전자주입층(EIL) 물질을 통상적인 방법으로 진공 열증착 또는 스핀 코팅하여 전자주입층을 형성한다. 이때, 사용되는 전자주입층 물질로는 LiF, Liq, Li2O, BaO, NaCl, CsF 등의 물질이 사용될 수 있다.
상기 전자주입층 표면에 음극용 물질을 통상적인 방법으로 진공 열증착하여 음극을 형성한다.
이때, 사용되는 음극용 물질로는 리튬(Li), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘(Mg), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag) 등이 사용될 수 있다. 또한, 전면 발광 유기전계발광소자의 경우 산화인듐주석(ITO) 또는 산화인듐아연(IZO)를 사용하여 빛이 투과할 수 있는 투명한 음극을 형성할 수도 있다.
상기 음극의 표면에는 캡핑층 형성용 조성물에 의해 캡핑층(CPL)이 형성될 수 있다.
이하에서, 상기 화합물들의 합성 방법을 대표적인 예를 들어 하기에 설명한다. 그러나, 본 발명의 화합물들의 합성 방법이 하기 예시된 방법으로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 화합물들은 하기에 예시된 방법과 이 분야의 공지의 방법에 의해 제조될 수 있다.
[합성예]
중간체 그룹 C의 합성
질소 기류 하에서 둥근바닥플라스크에 반응물A(28.7g, 100 mmol), 반응물B(18.9g, 110 mmol), Pd(PPh3)4 (2.31 g, 2.0 mmol), K2CO3 (27.6 g, 200 mmol)와 톨루엔(150 mL), 물(80 mL), 에탄올(50 mL)을 넣은 후에 100℃에서 교반 하며 반응을 진행하였다. 반응이 완료되면 유기 층 분리 후 수분제거 하여 필터 한 뒤 실리카겔 컬럼(silica gel column) 및 재결정 방법으로 정제하여 중간체 그룹 C을 제조하였다.
결과는 하기 표 1과 같다.
중간체 그룹 F의 합성
질소 기류 하에서 둥근바닥플라스크에 반응물D(17.2g, 110 mmol), 반응물E(29.7g, 100 mmol), Pd(PPh3)4 (2.31 g, 2.0 mmol), K2CO3 (27.6 g, 200 mmol)와 톨루엔(150 mL), 물(80 mL), 에탄올(50 mL)을 넣은 후에 100℃에서 교반 하며 반응을 진행하였다. 반응이 완료되면 유기 층 분리 후 수분제거 하여 필터 한 뒤 실리카겔 컬럼(silica gel column) 및 재결정 방법으로 정제하여 중간체 그룹 F을 제조하였다.
결과는 하기 표 2와 같다.
구분 | 반응물D | 반응물E | 중간체 그룹F | 수득양 (g) |
수율 (%) |
순도 (%) |
F-1 | D-1 | E-1 |
F-1 |
25.9 | 79 | 99.1 |
F-2 | E-2 |
F-2 |
24.7 | 75 | 99.2 | |
F-3 | E-3 |
F-3 |
26.6 | 81 | 99.1 | |
F-4 | E-4 |
F-4 |
23.3 | 71 | 98.9 | |
F-5 | E-5 |
F-5 |
25.223.8 | 73 | 98.7 | |
F-6 | E-6 |
F-6 |
23.8 | 69 | 98.6 | |
F-7 | E-7 |
F-7 |
24.8 | 72 | 99.1 | |
F-8 | E-8 |
F-8 |
23.4 | 68 | 98.5 | |
F-9 | D-2 | E-1 |
F-9 |
24.7 | 75 | 97.8 |
F-10 | E-2 |
F-10 |
20.7 | 63 | 99.3 | |
F-11 | E-3 | F-11 |
22.7 | 69 | 97.9 | |
F-12 | E-4 | F-12 |
26.0 | 79 | 98.2 | |
F-13 | E-5 | F-13 |
21.4 | 62 | 98.4 | |
F-14 | E-6 | F-14 |
23.4 | 68 | 98.0 | |
F-15 | E-7 | F-15 |
22.8 | 66 | 97.8 | |
F-16 | E-8 | F-16 |
20.3 | 59 | 99.0 | |
F-17 | D-3 |
E-1 |
F-17 |
18.4 | 56 | 97.6 |
F-18 | E-2 |
F-18 |
18.1 | 55 | 98.4 | |
F-19 | E-3 | F-19 |
19.1 | 58 | 99.1 | |
F-20 | E-4 | F-20 |
17.1 | 52 | 97.8 | |
F-21 | E-5 | F-21 |
20.3 | 59 | 97.9 | |
F-22 | E-6 | F-22 |
17.6 | 51 | 98.1 | |
F-23 | E-7 | F-23 |
19.3 | 56 | 98.3 | |
F-24 | E-8 | F-24 |
18.3 | 53 | 98.6 | |
F-25 | D-4 | E-9 |
F-25 |
19.5 | 59 | 98.5 |
F-26 | E-10 |
F-26 |
19.8 | 62 | 97.9 | |
F-27 | E-11 | F-27 |
17.8 | 52 | 98.5 |
중간체 그룹 G의 합성
질소 기류 하에서 둥근바닥플라스크에 중간체 C (33.4 g, 100 mmol), 4-브로모바이페닐 (4-bromobiphenyl, 25.6 g, 110 mmol), Pd2(dba)3 (1.83 g, 2.0 mmol), t-BuONa (19.2 g, 200 mmol), SPhos (1.64 g, 4.0 mmol)와 톨루엔 (480 mL)을 넣은 후에 100℃에서 교반하며 반응을 진행하였다. 반응이 완료되면 메탄올에 넣어 침전시킨 후 침전물을 필터 한 뒤 실리카겔 컬럼(silicagel column) 및 재결정 방법으로 정제하여 중간체 그룹 G를 제조하였다.
결과는 하기 표 3과 같다.
화합물 그룹H의 합성
질소 기류 하에서 둥근바닥플라스크에 중간체 G (4.86 g, 10 mmol), 중간체 E(혹은 F) (11 mmol), Pd2(dba)3 (0.183 g, 0.2 mmol), t-BuONa (1.92 g, 20 mmol), SPhos (0.164 g, 0.4 mmol)와 톨루엔 (60 mL)을 넣은 후에 100℃에서 교반하며 반응을 진행하였다. 반응이 완료되면 메탄올에 넣어 침전시킨 후 침전물을 필터 한 뒤 실리카겔 컬럼(silicagel column) 및 재결정 방법으로 정제하여 화합물 그룹H를 제조하였다.
결과는 하기 표 4와 같다.
구분 | 중간체 G | 중간체 그룹 E, F | 화합물 그룹H | 수득양(g) | 수율(%) | 순도(%) | MS[M+H]+ |
화합물 1-97 |
G-1 |
E-1 |
4.56 | 65 | 99.96 | 703.27 | |
화합물 1-103 |
E-2 |
4.77 | 68 | 99.95 | 703.27 | ||
화합물 1-109 |
E-3 |
4.14 | 59 | 99.93 | 703.28 | ||
화합물 1-115 |
E-4 |
4.84 | 69 | 99.94 | 703.27 | ||
화합물 1-809 |
E-5 |
5.17 | 72 | 99.92 | 719.25 | ||
화합물 1-815 |
E-6 |
5.02 | 70 | 99.97 | 719.24 | ||
화합물 1-121 |
F-1 |
5.84 | 75 | 99.91 | 779.30 | ||
화합물 1-127 |
F-2 |
5.60 | 72 | 99.95 | 779.30 | ||
화합물 1-133 |
F-3 | 5.37 | 69 | 99.92 | 779.29 | ||
화합물 1-139 |
G-1 |
F-4 |
4.51 | 58 | 99.94 | 779.30 | |
화합물 1-821 |
F-5 |
6.20 | 78 | 99.98 | 795.27 | ||
화합물 1-827 |
F-6 |
5.88 | 74 | 99.96 | 795.28 | ||
화합물 1-145 |
F-9 |
4.98 | 64 | 99.92 | 779.30 | ||
화합물 1-151 |
F-10 |
5.14 | 66 | 99.98 | 779.29 | ||
화합물 1-157 |
F-11 | 4.51 | 58 | 99.97 | 779.30 | ||
화합물 1-163 |
F-12 |
4.05 | 52 | 99.90 | 779.30 | ||
화합물 1-169 |
F-17 |
4.36 | 56 | 99.93 | 779.31 | ||
화합물 1-175 |
F-18 |
4.20 | 54 | 99.92 | 779.30 | ||
화합물 1-181 |
G-1 |
F-19 |
4.51 | 58 | 99.90 | 779.30 | |
화합물 1-187 |
F-20 |
3.81 | 49 | 99.94 | 779.31 | ||
화합물 2-25 |
G-2 |
F-1 |
5.45 | 70 | 99.98 | 779.30 | |
화합물 2-37 |
F-2 |
5.84 | 75 | 99.95 | 779.30 | ||
화합물 2-31 |
F-5 |
6.20 | 78 | 99.97 | 795.28 | ||
화합물 2-43 |
F-6 |
5.72 | 72 | 99.96 | 795.27 |
중간체 그룹 J의 합성
질소 기류 하에서 둥근바닥플라스크에 중간체 C (33.4 g, 100 mmol), 중간체 F (36.2g, 110 mmol), Pd2(dba)3 (1.83 g, 2.0 mmol), t-BuONa (19.2 g, 200 mmol), SPhos (1.64 g, 4.0 mmol)와 톨루엔 (560 mL)을 넣은 후에 100℃에서 교반하며 반응을 진행하였다. 반응이 완료되면 메탄올에 넣어 침전시킨 후 침전물을 필터 한 뒤 실리카겔 컬럼(silicagel column) 및 재결정 방법으로 정제하여 중간체 그룹 J를 제조하였다.
결과는 하기 표 5와 같다.
구분 | 중간체 그룹C | 중간체 그룹 F | 중간체 그룹J | 수득양(g) | 수율(%) | 순도(%) |
J-1 | C-1 |
F-1 |
J-1 |
40.0 | 64 | 99.3 |
J-2 | F-2 |
J-2 |
44.4 | 71 | 99.2 | |
J-3 | F-3 | J-3 |
36.9 | 59 | 99.1 | |
J-4 | F-4 | J-4 |
45.0 | 72 | 99.3 | |
J-5 | F-5 | J-5 |
43.65 | 68 | 99.5 | |
J-6 | F-6 | J-6 |
39.1 | 61 | 99.2 | |
J-7 | F-7 | J-7 |
38.5 | 60 | 99.0 | |
J-8 | F-8 | J-8 |
46.8 | 73 | 99.5 | |
J-9 | F-9 | J-9 |
36.9 | 59 | 99.4 | |
J-10 | F-10 | J-10 |
39.4 | 63 | 99.2 | |
J-11 | C-1 |
F-11 | J-11 |
41.3 | 66 | 99.6 |
J-12 | F-12 | J-12 |
42.5 | 68 | 99.4 | |
J-13 | F-13 | J-13 |
40.4 | 63 | 99.0 | |
J-14 | F-14 | J-14 |
41.0 | 64 | 99.3 | |
J-15 | F-15 | J-15 |
43.6 | 68 | 99.1 | |
J-16 | F-16 | J-16 |
45.5 | 71 | 99.4 | |
J-17 | F-17 | J-17 |
43.8 | 70 | 99.0 | |
J-18 | F-18 | J-18 |
36.9 | 59 | 99.1 | |
J-19 | F-19 | J-19 |
40.7 | 65 | 99.0 | |
J-20 | F-20 | J-20 |
38.2 | 61 | 99.3 | |
J-21 | C-1 |
F-21 | J-21 |
38.5 | 60 | 99.5 |
J-22 | F-22 | J-22 |
37.2 | 58 | 99.4 | |
J-23 | F-23 | J-23 |
35.9 | 56 | 99.3 | |
J-24 | F-24 | J-24 |
38.5 | 60 | 99.0 | |
J-25 |
C-2 |
F-1 |
J-25 |
45.7 | 73 | 99.2 |
J-26 | F-2 |
J-26 |
43.2 | 69 | 99.5 | |
J-27 | F-3 | J-27 |
42.6 | 68 | 99.2 | |
J-28 | F-4 | J-28 |
41.3 | 66 | 99.0 | |
J-29 | F-5 | J-29 |
48.8 | 76 | 99.3 | |
J-30 | F-6 | J-30 |
44.9 | 70 | 99.1 | |
J-31 | F-7 | J-31 |
43.6 | 68 | 99.3 | |
J-32 | F-8 | J-32 |
37.8 | 59 | 99.4 | |
J-33 | C-1 | F-25 |
J-33 |
43.5 | 68 | 98.5 |
J-34 | F-26 |
J-34 | 37.7 | 59 | 98.7 | |
J-35 | F-27 | J-35 |
45.9 | 70 | 99.0 | |
J-36 |
C-2 |
F-25 |
J-36 |
40.9 | 64 | 97.8 |
J-37 | F-26 |
J-37 |
44.1 | 69 | 98.4 | |
J-38 | F-27 | J-38 |
38.7 | 59 | 98.9 |
화합물 그룹L의 합성
질소 기류 하에서 둥근바닥플라스크에 반응물 K (11 mmol), 중간체 J(10 mmol), Pd2(dba)3 (0.183 g, 0.2 mmol), t-BuONa (1.92 g, 20 mmol), SPhos (0.164 g, 0.4 mmol)와 톨루엔 (60 mL)을 넣은 후에 100℃에서 교반하며 반응을 진행하였다. 반응이 완료되면 메탄올에 넣어 침전시킨 후 침전물을 필터 한 뒤 실리카겔 컬럼(silicagel column) 및 재결정 방법으로 정제하여 화합물 그룹L을 제조하였다.
결과는 하기 표 6과 같다.
구분 | 반응물K | 중간체 그룹J | 화합물 그룹L | 수득양 (g) |
수율(%) | 순도(%) | MS [M+H]+ |
화합물 1-1 |
J-1 |
3.65 | 52 | 99.95 | 703.27 | ||
화합물 1-121 |
3.89 | 50 | 99.93 | 779.30 | |||
화합물1-152 | 3.98 | 48 | 99.92 | 829.32 | |||
화합물1-153 | 4.64 | 56 | 99.95 | 829.33 | |||
화합물1-160 | 5.27 | 60 | 99.90 | 879.33 | |||
화합물1-313 | 4.12 | 53 | 99.96 | 779.30 | |||
화합물1-314 | 4.64 | 56 | 99.95 | 829.32 | |||
화합물1-321 | 4.47 | 54 | 99.90 | 829.32 | |||
화합물1-217 | 4.19 | 49 | 99.94 | 855.33 | |||
화합물1-409 | 4.36 | 56 | 99.95 | 779.31 | |||
화합물1-285 | J-1 |
5.25 | 58 | 99.96 | 905.35 | ||
화합물1-505 | 4.87 | 57 | 99.98 | 905.36 | |||
화합물1-701 | 4.78 | 56 | 99.92 | 905.35 | |||
화합물1-702 | 4.66 | 57 | 99.92 | 819.33 | |||
화합물1-703 | 5.24 | 64 | 99.90 | 819.33 | |||
화합물1-704 | 5.47 | 58 | 99.97 | 943.36 | |||
화합물1-705 | 5.65 | 60 | 99.98 | 943.36 | |||
화합물1-706 | 5.56 | 59 | 99.90 | 941.35 | |||
화합물1-707 | 5.75 | 61 | 99.92 | 941.35 | |||
화합물1-981 | J-1 |
5.35 | 68 | 99.94 | 788.36 | ||
화합물1-982 | 4.20 | 50 | 99.94 | 840.39 | |||
화합물 1-31 |
J-2 |
4.07 | 58 | 99.92 | 703.27 | ||
화합물 1-127 |
4.75 | 61 | 99.94 | 779.30 | |||
화합물1-128 | 5.55 | 67 | 99.97 | 829.32 | |||
화합물1-129 | 4.89 | 59 | 99.96 | 829.32 | |||
화합물1-130 | 4.65 | 53 | 99.95 | 879.33 | |||
화합물1-319 | 4.83 | 62 | 99.90 | 779.30 | |||
화합물1-320 | 4.97 | 60 | 99.94 | 829.31 | |||
화합물1-321 | 5.05 | 61 | 99.95 | 829.32 | |||
화합물1-223 | J-2 |
4.61 | 54 | 99.96 | 855.33 | ||
화합물1-415 | 4.12 | 53 | 99.90 | 779.30 | |||
화합물1-225 | 4.97 | 55 | 99.93 | 905.35 | |||
화합물1-487 | 5.13 | 60 | 99.95 | 855.32 | |||
화합물1-708 | 5.21 | 61 | 99.94 | 855.32 | |||
화합물1-709 | 5.32 | 65 | 99.98 | 819.33 | |||
화합물1-710 | 5.24 | 64 | 99.97 | 819.33 | |||
화합물1-711 | 6.03 | 64 | 99.96 | 943.36 | |||
화합물1-712 | J-2 |
5.65 | 60 | 99.95 | 943.37 | ||
화합물1-713 | 5.39 | 58 | 99.93 | 941.35 | |||
화합물1-714 | 5.09 | 54 | 99.91 | 941.35 | |||
화합물1-983 | 4.65 | 59 | 99.92 | 788.36 | |||
화합물1-984 | 5.04 | 60 | 99.96 | 840.39 | |||
화합물 1-135 |
J-3 |
5.63 | 68 | 99.95 | 829.32 | ||
화합물 1-301 |
4.51 | 58 | 99.90 | 829.32 | |||
화합물1-229 | 4.70 | 55 | 99.95 | 855.33 | |||
화합물1-517 | 4.61 | 54 | 99.94 | 855.32 | |||
화합물1-706 | 5.56 | 59 | 99.95 | 941.35 | |||
화합물1-707 | 5.47 | 58 | 99.96 | 941.35 | |||
화합물1-985 | 4.09 | 52 | 99.97 | 788.35 | |||
화합물1-986 | 5.04 | 60 | 99.91 | 840.39 | |||
화합물 1-414 |
J-4 |
5.05 | 61 | 99.94 | 829.32 | ||
화합물 1-727 |
6.03 | 64 | 99.93 | 941.35 | |||
화합물1-728 | 5.56 | 59 | 99.90 | 941.35 | |||
화합물 1-797 |
J-5 |
3.52 | 49 | 99.94 | 719.25 | ||
화합물 1-821 |
4.61 | 58 | 99.95 | 795.28 | |||
화합물1-822 | 4.73 | 56 | 99.91 | 845.29 | |||
화합물1-823 | 4.56 | 54 | 99.96 | 845.29 | |||
화합물1-824 | 5.81 | 65 | 99.92 | 895.31 | |||
화합물1-869 | 4.85 | 61 | 99.93 | 795.28 | |||
화합물1-864 | 4.30 | 51 | 99.95 | 845.29 | |||
화합물1-865 | 4.47 | 53 | 99.96 | 845.30 | |||
화합물1-845 | 5.05 | 58 | 99.94 | 871.31 | |||
화합물1-893 | 4.37 | 55 | 99.96 | 795.28 | |||
화합물1-847 | J-5 |
5.15 | 56 | 99.98 | 921.33 | ||
화합물1-917 | 4.87 | 56 | 99.95 | 871.31 | |||
화합물1-967 | 4.52 | 52 | 99.91 | 871.32 | |||
화합물1-968 | 4.17 | 50 | 99.98 | 835.31 | |||
화합물1-969 | 4.50 | 54 | 99.97 | 835.31 | |||
화합물1-970 | 4.69 | 49 | 99.94 | 959.34 | |||
화합물1-971 | 6.52 | 68 | 99.96 | 959.34 | |||
화합물1-972 | 5.56 | 58 | 99.95 | 957.33 | |||
화합물1-973 | 5.56 | 58 | 99.97 | 957.33 | |||
화합물1-987 | J-5 |
4.58 | 57 | 99.92 | 804.34 | ||
화합물1-988 | 5.22 | 61 | 99.95 | 856.36 | |||
화합물 1-147 |
J-9 |
4.97 | 60 | 99.94 | 829.32 | ||
화합물 1-732 |
4.90 | 52 | 99.96 | 941.35 | |||
화합물1-733 | 5.56 | 59 | 99.93 | 941.36 | |||
화합물1-989 | 4.49 | 57 | 99.95 | 788.37 | |||
화합물 1-829 |
J-14 |
5.07 | 60 | 99.93 | 845.29 | ||
화합물 2-1 |
J-25 |
3.72 | 53 | 99.96 | 703.27 | ||
화합물 2-25 |
4.44 | 57 | 99.95 | 779.30 | |||
화합물2-26 | 4.47 | 54 | 99.94 | 829.32 | |||
화합물2-27 | 4.14 | 50 | 99.90 | 829.31 | |||
화합물2-28 | 5.09 | 58 | 99.96 | 879.33 | |||
화합물2-145 | 4.05 | 52 | 99.96 | 779.30 | |||
화합물2-146 | 4.80 | 58 | 99.94 | 829.32 | |||
화합물2-147 | 5.38 | 65 | 99.96 | 829.33 | |||
화합물2-49 | 5.47 | 64 | 99.97 | 855.33 | |||
화합물2-97 | 4.67 | 60 | 99.92 | 779.31 | |||
화합물2-51 | J-25 |
4.70 | 52 | 99.93 | 905.35 | ||
화합물2-121 | 4.96 | 58 | 99.90 | 855.33 | |||
화합물2-169 | 4.53 | 53 | 99.98 | 855.33 | |||
화합물2-170 | 4.91 | 60 | 99.93 | 819.33 | |||
화합물2-171 | 5.24 | 64 | 99.94 | 819.33 | |||
화합물2-172 | 5.84 | 62 | 99.90 | 943.35 | |||
화합물2-173 | 6.41 | 68 | 99.92 | 943.36 | |||
화합물2-174 | 5.47 | 58 | 99.95 | 941.35 | |||
화합물2-181 | 5.09 | 54 | 99.97 | 941.35 | |||
화합물 2-37 |
J-26 |
5.06 | 65 | 99.94 | 779.31 | ||
화합물 2-38 |
5.30 | 64 | 99.96 | 829.33 | |||
화합물2-45 | 4.31 | 52 | 99.92 | 829.32 | |||
화합물2-85 | 4.36 | 56 | 99.91 | 779.30 | |||
화합물2-86 | 4.47 | 54 | 99.97 | 829.32 | |||
화합물2-87 | 4.80 | 58 | 99.93 | 829.32 | |||
화합물2-61 | 5.04 | 59 | 99.90 | 855.33 | |||
화합물2-109 | 4.36 | 56 | 99.93 | 779.30 | |||
화합물2-133 | 4.95 | 58 | 99.90 | 855.33 | |||
화합물2-182 | 4.44 | 52 | 99.91 | 855.34 | |||
화합물2-193 | J-26 |
5.37 | 57 | 99.95 | 941.36 | ||
화합물2-194 | 5.75 | 61 | 99.91 | 941.35 | |||
화합물2-197 | 4.87 | 58 | 99.95 | 840.39 | |||
화합물 2-31 |
J-29 |
4.77 | 60 | 99.94 | 795.28 | ||
화합물 2-32 |
5.24 | 62 | 99.95 | 845.30 | |||
화합물2-22 | 5.40 | 64 | 99.96 | 845.29 | |||
화합물2-79 | 4.61 | 58 | 99.96 | 795.28 | |||
화합물2-55 | 4.53 | 52 | 99.95 | 871.31 | |||
화합물2-198 | 4.10 | 51 | 99.92 | 804.34 | |||
화합물2-199 | 4.28 | 50 | 99.98 | 856.37 | |||
화합물 1-1005 |
J-33 |
4.00 | 56 | 99.95 | 716.35 | ||
화합물 1-1006 |
4.67 | 59 | 99.94 | 792.38 | |||
화합물1-1007 | 4.04 | 48 | 99.90 | 842.40 | |||
화합물1-993 | 4.37 | 52 | 99.94 | 842.41 | |||
화합물1-994 | 4.19 | 47 | 99.96 | 892.41 | |||
화합물1-995 | 3.96 | 50 | 99.98 | 792.38 | |||
화합물1-996 | 4.43 | 56 | 99.97 | 792.37 | |||
화합물1-997 | 5.03 | 58 | 99.99 | 868.41 | |||
화합물1-998 | 4.51 | 52 | 99.99 | 868.41 | |||
화합물1-999 | J-33 |
4.25 | 49 | 99.96 | 868.41 | ||
화합물1-1000 | 4.40 | 53 | 99.97 | 832.41 | |||
화합물1-1001 | 4.99 | 60 | 99.97 | 832.41 | |||
화합물1-1002 | 4.39 | 61 | 99.95 | 721.38 | |||
화합물1-1003 | 4.64 | 58 | 99.97 | 801.44 | |||
화합물1-1004 | 4.69 | 55 | 99.91 | 853.47 | |||
화합물 2-200 |
J-36 |
3.57 | 50 | 99.89 | 716.35 | ||
화합물 2-201 |
4.67 | 59 | 99.92 | 792.37 | |||
화합물2-202 | 4.54 | 54 | 99.91 | 842.41 | |||
화합물2-203 | 4.71 | 56 | 99.90 | 842.40 | |||
화합물2-204 | 5.08 | 57 | 99.91 | 892.41 | |||
화합물2-205 | 4.67 | 59 | 99.90 | 792.38 | |||
화합물2-206 | 4.91 | 62 | 99.92 | 792.38 | |||
화합물2-207 | 5.20 | 60 | 99.95 | 868.41 | |||
화합물2-208 | 5.03 | 58 | 99.96 | 868.41 | |||
화합물2-209 | J-36 |
4.77 | 55 | 99.94 | 868.42 | ||
화합물2-210 | 4.32 | 52 | 99.95 | 832.41 | |||
화합물2-211 | 4.40 | 53 | 99.86 | 832.41 | |||
화합물2-212 | 3.52 | 49 | 99.89 | 721.38 | |||
화합물2-213 | 4.80 | 60 | 99.90 | 801.44 | |||
화합물2-214 | 5.29 | 62 | 99.95 | 853.47 |
중간체 그룹 N의 합성
질소 기류하에서 둥근바닥플라스크에 반응물D(17.2g, 110 mmol), 반응물M(100 mmol), Pd(PPh3)4 (2.31 g, 2.0 mmol), K2CO3 (27.6 g, 200 mmol)와 톨루엔(150 mL), 물(80 mL), 에탄올(50 mL)을 넣은 후에 100℃에서 교반 하며 반응을 진행하였다. 반응이 완료되면 유기 층 분리 후 수분제거 하여 필터 한 뒤 실리카겔 컬럼(silica gel column) 및 재결정 방법으로 정제하여 중간체 그룹 N을 제조하였다.
결과는 하기 표 7과 같다.
구분 | 반응물D | 반응물M | 중간체 그룹N | 수득양 (g) |
수율 (%) |
순도 (%) |
N-1 | D-1 | M-1 |
N-1 |
27.9 | 79 | 99.1 |
N-2 | M-2 |
N-2 |
26.5 | 75 | 99.2 | |
N-3 | M-3 |
N-3 |
28.6 | 81 | 99.1 | |
N-4 | M-4 |
N-4 |
25.1 | 71 | 98.9 | |
N-5 | M-5 | N-5 |
23.7 | 67 | 98.2 | |
N-6 | M-6 |
N-6 |
27.0 | 73 | 98.7 | |
N-7 | M-7 |
N-7 |
25.5 | 69 | 98.6 | |
N-8 | M-8 | N-8 |
20.3 | 55 | 97.5 | |
F-9 | D-4 | F-9 |
N-9 |
21.7 | 59 | 98.5 |
F-10 | F-10 |
N-10 |
22.8 | 62 | 97.9 | |
F-11 | F-11 | N-11 |
20.0 | 52 | 98.5 |
화합물 그룹O의 합성
질소 기류 하에서 둥근바닥플라스크에 중간체 G (4.86 g, 10 mmol), 중간체 M(혹은 N) (11 mmol), Pd2(dba)3 (0.183 g, 0.2 mmol), t-BuONa (1.92 g, 20 mmol), SPhos (0.164 g, 0.4 mmol)와 톨루엔 (60 mL)을 넣은 후에 100℃에서 교반하며 반응을 진행하였다. 반응이 완료되면 메탄올에 넣어 침전시킨 후 침전물을 필터 한 뒤 실리카겔 컬럼(silicagel column) 및 재결정 방법으로 정제하여 화합물 그룹O를 제조하였다.
결과는 하기 표 8과 같다.
구분 | 중간체 G | 중간체 그룹 M, N | 화합물 그룹O | 수득양(g) | 수율(%) | 순도(%) | MS[M+H]+ |
화합물 1-1008 |
G-1 |
M-1 |
4.73 | 65 | 99.94 | 729.29 | |
화합물 1-1009 |
M-2 |
4.95 | 68 | 99.97 | 729.29 | ||
화합물1-1010 | M-6 |
4.39 | 59 | 99.93 | 745.26 | ||
화합물1-1011 | M-7 |
5.13 | 69 | 99.94 | 745.27 | ||
화합물1-1012 | N-1 |
5.79 | 72 | 99.95 | 805.32 | ||
화합물1-1013 | N-2 |
5.63 | 70 | 99.93 | 805.32 | ||
화합물1-1014 | N-6 |
5.25 | 64 | 99.92 | 821.29 | ||
화합물1-1015 | N-7 |
4.84 | 59 | 99.91 | 821.29 | ||
화합물1-1016 | N-9 |
5.74 | 70 | 99.96 | 820.41 | ||
화합물1-1017 | G-1 |
N-10 |
4.26 | 52 | 99.95 | 820.41 | |
화합물1-1018 | N-11 |
5.43 | 65 | 99.90 | 836.39 | ||
화합물 2-215 |
G-2 |
M-1 |
5.46 | 75 | 99.95 | 729.29 | |
화합물 2-216 |
M-2 |
5.54 | 76 | 99.96 | 729.28 | ||
화합물2-217 | M-6 |
4.54 | 61 | 99.93 | 745.27 | ||
화합물2-218 | M-7 |
5.80 | 78 | 99.97 | 745.26 | ||
화합물2-219 | N-1 |
5.79 | 72 | 99.96 | 805.32 | ||
화합물2-220 | N-2 |
5.23 | 65 | 99.93 | 805.32 | ||
화합물2-221 | N-6 |
5.00 | 61 | 99.91 | 821.29 | ||
화합물2-222 | N-7 |
4.93 | 60 | 99.94 | 821.30 | ||
화합물2-223 | G-2 |
N-9 |
5.65 | 69 | 99.96 | 820.42 | |
화합물2-224 | N-10 |
5.41 | 66 | 99.92 | 820.41 | ||
화합물2-225 | N-11 |
5.68 | 68 | 99.90 | 836.39 |
중간체 그룹 P의 합성
질소 기류 하에서 둥근바닥플라스크에 중간체 C (33.4 g, 100 mmol), 중간체 M(혹은 N) (110 mmol), Pd2(dba)3 (1.83 g, 2.0 mmol), t-BuONa (19.2 g, 200 mmol), SPhos (1.64 g, 4.0 mmol)와 톨루엔 (560 mL)을 넣은 후에 100℃에서 교반하며 반응을 진행하였다. 반응이 완료되면 메탄올에 넣어 침전시킨 후 침전물을 필터 한 뒤 실리카겔 컬럼(silicagel column) 및 재결정 방법으로 정제하여 중간체 그룹 P를 제조하였다.
결과는 하기 표 9와 같다.
구분 | 중간체 그룹C | 중간체 그룹 M,N | 중간체 그룹P | 수득양(g) | 수율(%) | 순도(%) |
P-1 | C-1 |
N-1 |
P-1 |
41.7 | 64 | 98.3 |
P-2 | N-2 |
P-2 |
46.2 | 71 | 98.2 | |
P-3 | N-9 | P-3 |
39.3 | 59 | 98.8 | |
P-4 | N-10 | P-4 |
48.0 | 72 | 98.4 | |
P-5 |
C-2 |
N-1 |
P-5 |
47.5 | 73 | 99.2 |
P-6 | N-2 |
P-6 |
44.9 | 69 | 98.5 | |
P-7 | N-9 | P-7 |
45.3 | 68 | 98.2 | |
P-8 | N-10 | P-8 |
44.0 | 66 | 99.0 |
화합물 그룹Q의 합성
질소 기류 하에서 둥근바닥플라스크에 반응물 K (11 mmol), 중간체 P(10 mmol), Pd2(dba)3 (0.183 g, 0.2 mmol), t-BuONa (1.92 g, 20 mmol), SPhos (0.164 g, 0.4 mmol)와 톨루엔 (60 mL)을 넣은 후에 100℃에서 교반하며 반응을 진행하였다. 반응이 완료되면 메탄올에 넣어 침전시킨 후 침전물을 필터 한 뒤 실리카겔 컬럼(silicagel column) 및 재결정 방법으로 정제하여 화합물 그룹Q를 제조하였다.
결과는 하기 표 10과 같다.
구분 | 반응물K | 중간체 그룹P | 화합물 그룹Q | 수득양 (g) |
수율 (%) |
순도 (%) |
MS[M+H]+ |
화합물 1-1019 |
P-1 |
3.78 | 52 | 99.95 | 729.29 | ||
화합물 1-1023 |
4.10 | 48 | 99.92 | 855.32 | |||
화합물1-1024 | 4.78 | 56 | 99.95 | 855.33 | |||
화합물1-1033 | 5.43 | 60 | 99.90 | 905.36 | |||
화합물1-1025 | 4.26 | 53 | 99.96 | 805.32 | |||
화합물1-1026 | 4.78 | 56 | 99.95 | 855.33 | |||
화합물1-1027 | 4.61 | 54 | 99.90 | 855.33 | |||
화합물1-1029 | 4.31 | 49 | 99.94 | 881.35 | |||
화합물1-1028 | 4.50 | 56 | 99.95 | 805.32 | |||
화합물1-1030 | P-1 |
5.39 | 58 | 99.96 | 931.36 | ||
화합물1-1031 | 5.02 | 57 | 99.98 | 881.35 | |||
화합물1-1032 | 4.93 | 56 | 99.92 | 881.36 | |||
화합물1-1034 | 4.81 | 57 | 99.92 | 845.35 | |||
화합물1-1035 | 5.40 | 64 | 99.90 | 845.35 | |||
화합물1-1036 | 5.53 | 68 | 99.94 | 814.37 | |||
화합물1-1037 | 4.33 | 50 | 99.94 | 866.40 | |||
화합물 1-1038 |
P-3 |
4.31 | 58 | 99.92 | 744.38 | ||
화합물 1-1039 |
5.82 | 67 | 99.97 | 870.43 | |||
화합물1-1040 | 5.13 | 59 | 99.96 | 870.43 | |||
화합물1-1041 | 4.87 | 53 | 99.95 | 920.44 | |||
화합물1-1042 | 5.08 | 62 | 99.90 | 820.40 | |||
화합물1-1043 | 4.83 | 54 | 99.96 | 896.44 | |||
화합물1-1044 | 4.34 | 53 | 99.90 | 820.41 | |||
화합물1-1045 | 5.20 | 55 | 99.93 | 946.46 | |||
화합물1-1046 | P-3 |
5.37 | 60 | 99.95 | 896.44 | ||
화합물1-1047 | 5.46 | 61 | 99.94 | 896.45 | |||
화합물1-1048 | 5.59 | 65 | 99.98 | 860.44 | |||
화합물1-1049 | 5.50 | 64 | 99.97 | 860.44 | |||
화합물1-1050 | 4.89 | 59 | 99.92 | 829.47 | |||
화합물1-1051 | 5.28 | 60 | 99.96 | 881.50 | |||
화합물 2-226 |
P-5 |
4.22 | 58 | 99.92 | 729.30 | ||
화합물 2-231 |
5.81 | 68 | 99.95 | 855.33 | |||
화합물2-232 | 4.66 | 58 | 99.90 | 805.32 | |||
화합물2-236 | 4.84 | 55 | 99.95 | 881.35 | |||
화합물2-238 | 4.75 | 54 | 99.94 | 881.35 | |||
화합물2-243 | 4.23 | 52 | 99.97 | 814.37 | |||
화합물2-244 | 5.19 | 60 | 99.91 | 866.41 | |||
화합물 2-245 |
P-7 |
3.64 | 49 | 99.94 | 744.38 | ||
화합물 2-246 |
4.87 | 56 | 99.91 | 870.43 | |||
화합물2-247 | 4.69 | 54 | 99.96 | 870.44 | |||
화합물2-248 | 5.98 | 65 | 99.92 | 920.44 | |||
화합물2-249 | 5.00 | 61 | 99.93 | 820.41 | |||
화합물2-253 | 5.01 | 56 | 99.95 | 896.44 | |||
화합물2-254 | 4.65 | 52 | 99.91 | 896.44 | |||
화합물2-255 | 4.30 | 50 | 99.98 | 860.45 | |||
화합물2-257 | P-7 |
4.72 | 57 | 99.92 | 829.47 | ||
화합물2-258 | 5.37 | 61 | 99.95 | 881.50 |
[실시예 1: 유기전계발광소자 제조 1]
반사층이 형성된 기판 위에 ITO로 양극을 형성하고, N2 플라즈마 또는 UV-오존으로 표면처리 하였다. 그 위에 정공주입층(HIL)으로 HAT-CN을 10nm의 두께로 증착시켰다. 이어서 N4,N4,N4',N4'-테트라([1,1'-비페닐]-4-일)-[1,1'-비페닐]-4,4'-디아민을 110nm 두께로 증착시켜 정공수송층(HTL)을 형성하였다.
상기 정공수송층 상부에 화합물 1-97을 15nm두께로 진공 증착하여 정공수송보조층을 형성하고, 상기 정공수송보조층 상부에 발광층(EML)으로 blue EML을 형성할 수 있는 9,10-비스(2-나프틸)안트라센(9,10-Bis(2-naphthyl)anthracene, ADN)을 25nm 증착 시키면서 도펀트(dopant)로 N1,N1,N6,N6-테트라키스(4-(1-실릴)페닐)파이렌-1,6-디아민을 약 3wt%정도 도핑하였다.
그 위에 안트라센 유도체와 LiQ를 질량비 1:1로 혼합하여 30nm의 두께로 전자수송층(ETL)을 증착하였으며, 그 위에 전자주입층(EIL)으로 LiQ를 1nm 두께로 증착시켰다. 그 후, 음극으로 마그네슘과 은(Ag)을 9:1로 혼합한 혼합물을 15nm의 두께로 증착시켰으며, 상기 음극 위에 캡핑 층(capping layer)로 N4,N4'-비스[4-[비스(3-메틸페닐)아미노]페닐]-N4,N4'-디페닐-[1,1'-바이페닐]-4,4'-디아민(DNTPD)을 60nm 두께로 증착시켰다. 그 위에 UV 경화형 접착제로 흡습제가 함유된 씰 캡(seal cap)을 합착하여 대기중의 O2나 수분으로부터 유기전계발광소자를 보호할 수 있게 하여 유기전계발광소자를 제조하였다.
[실시예 2 내지 37]
상기 실시예 1에서 정공수송보조층 화합물 1-97 대신에 하기 표 11에 기재된 화합물들을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제조하였다.
[비교예 1 내지 4]
상기 실시예 1에서 정공수송보조층으로 화합물 1-97 대신에 화합물 A 내지 화합물 D를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제조하였다.
[화합물 A]
[화합물 B]
[화합물 C]
[화합물 D]
[실험예 1: 소자 성능 분석]
상기에서 실시예 및 비교예에서 제조한 유기전계발광소자에 대해 정전류 10mA/cm2의 조건에서 소자의 전광특성을 분석하고 20mA/cm2의 구동조건에서 수명을 측정하였다.
실험 결과는 하기 표 11과 같다.
구분 | 정공수송 보조층 |
구동전압 (V) | 효율 | 색 | 수명 | ||
Cd/A | EQE | CIEx | CIEy | T95(hrs) | |||
실시예 1 | 화합물 1-97 | 3.51 | 8.1 | 17.1 | 0.138 | 0.046 | 360 |
실시예 2 | 화합물 1-121 | 3.51 | 8.2 | 17.0 | 0.138 | 0.046 | 320 |
실시예 3 | 화합물 1-827 | 3.55 | 8.6 | 18.2 | 0.138 | 0.045 | 330 |
실시예 4 | 화합물 1-153 | 3.52 | 8.4 | 17.6 | 0.138 | 0.046 | 290 |
실시예 5 | 화합물 1-313 | 3.54 | 8.3 | 17.5 | 0.138 | 0.046 | 360 |
실시예 6 | 화합물 1-217 | 3.58 | 8.2 | 17.2 | 0.138 | 0.046 | 310 |
실시예 7 | 화합물 1-505 | 3.68 | 9.5 | 19.0 | 0.136 | 0.049 | 350 |
실시예 8 | 화합물 1-701 | 3.70 | 9.1 | 18.1 | 0.136 | 0.049 | 290 |
실시예 9 | 화합물 1-702 | 3.68 | 9.0 | 18.2 | 0.136 | 0.049 | 350 |
실시예 10 | 화합물 1-703 | 3.56 | 9.1 | 18.6 | 0.137 | 0.048 | 360 |
실시예 11 | 화합물 1-704 | 3.78 | 8.8 | 18.0 | 0.137 | 0.048 | 350 |
실시예 12 | 화합물 1-705 | 3.68 | 8.8 | 17.9 | 0.136 | 0.048 | 350 |
실시예 13 | 화합물 1-706 | 3.72 | 8.0 | 17.3 | 0.140 | 0.044 | 390 |
실시예 14 | 화합물 1-707 | 3.71 | 9.1 | 18.3 | 0.136 | 0.049 | 400 |
실시예 15 | 화합물 1-823 | 3.54 | 9.0 | 18.1 | 0.137 | 0.049 | 350 |
실시예 16 | 화합물 1-845 | 3.73 | 8.1 | 17.3 | 0.139 | 0.044 | 380 |
실시예 17 | 화합물 1-917 | 3.69 | 9.0 | 17.5 | 0.135 | 0.051 | 375 |
실시예 18 | 화합물 1-973 | 3.58 | 8.9 | 17.8 | 0.137 | 0.049 | 365 |
실시예 19 | 화합물 1-1003 | 3.64 | 9.3 | 19.1 | 0.137 | 0.048 | 405 |
실시예 20 | 화합물 1-127 | 3.55 | 8.4 | 17.6 | 0.138 | 0.046 | 340 |
실시예 21 | 화합물 1-129 | 3.51 | 8.9 | 17.9 | 0.137 | 0.047 | 320 |
실시예22 | 화합물 1-487 | 3.51 | 8.8 | 17.8 | 0.136 | 0.049 | 310 |
실시예23 | 화합물 1-709 | 3.53 | 8.0 | 17.1 | 0.138 | 0.045 | 330 |
실시예24 | 화합물 1-712 | 3.57 | 9.1 | 18.4 | 0.137 | 0.049 | 355 |
실시예25 | 화합물 1-714 | 3.61 | 9.7 | 18.5 | 0.134 | 0.053 | 325 |
실시예26 | 화합물 1-135 | 3.59 | 9.3 | 18.7 | 0.137 | 0.049 | 345 |
실시예27 | 화합물 1-229 | 3.58 | 9.3 | 18.2 | 0.135 | 0.051 | 330 |
실시예28 | 화합물 1-414 | 3.59 | 8.6 | 17.9 | 0.137 | 0.047 | 315 |
실시예29 | 화합물 1-147 | 3.59 | 8.7 | 18.0 | 0.138 | 0.047 | 325 |
실시예30 | 화합물 1-169 | 3.60 | 8.7 | 18.3 | 0.138 | 0.046 | 335 |
실시예31 | 화합물 1-1008 | 3.59 | 9.1 | 18.6 | 0.137 | 0.048 | 350 |
실시예32 | 화합물 1-1009 | 3.56 | 8.9 | 18.3 | 0.137 | 0.048 | 360 |
실시예33 | 화합물 1-1010 | 3.59 | 8.8 | 18.1 | 0.137 | 0.047 | 355 |
실시예34 | 화합물 1-1016 | 3.45 | 9.5 | 19.2 | 0.137 | 0.049 | 395 |
실시예35 | 화합물 1-1019 | 3.57 | 8.9 | 18.0 | 0.135 | 0.049 | 328 |
실시예36 | 화합물 1-1024 | 3.51 | 8.9 | 17.9 | 0.136 | 0.049 | 343 |
실시예37 | 화합물 1-1036 | 3.50 | 9.6 | 19.0 | 0.135 | 0.050 | 392 |
비교예 1 | 화합물 A | 3.85 | 6.9 | 15.5 | 0.140 | 0.042 | 132 |
비교예 2 | 화합물 B | 3.90 | 6.4 | 14.2 | 0.141 | 0.042 | 125 |
비교예 3 | 화합물 C | 3.95 | 7.3 | 15.8 | 0.140 | 0.043 | 175 |
비교예 4 | 화합물 D | 3.80 | 6.3 | 14.1 | 0.141 | 0.042 | 197 |
상기 표 11의 실험 결과에 의하면, 비교예에 비해, 본 발명의 화합물을 유기전계발광소자의 정공수송보조층 재료로 사용하는 경우, 구동 전압은 낮으며, 우수한 소자 효율 특성 및 장수명 특성을 나타내는 것을 확인하였다.
[실시예 38: 유기전계발광소자 제조 2]
반사층이 형성된 기판 위에 ITO로 양극을 형성하고, N2 플라즈마 또는 UV-오존으로 표면처리 하였다. 그 위에 정공주입층(HIL)으로 HAT-CN을 10nm의 두께로 증착시켰다. 이어서 N4,N4,N4',N4'-테트라([1,1'-비페닐]-4-일)-[1,1'-비페닐]-4,4'-디아민을 110nm 두께로 증착시켜 정공수송층(HTL)을 형성하였다.
상기 정공수송층 상부에 화합물 2-25를 15nm두께로 진공 증착하여 정공수송보조층을 형성하고, 상기 정공수송보조층 상부에 발광층(EML)으로 blue EML을 형성할 수 있는 9,10-비스(2-나프틸)안트라센(9,10-Bis(2-naphthyl)anthracene, ADN)을 25nm 증착 시키면서 도펀트(dopant)로 N1,N1,N6,N6-테트라키스(4-(1-실릴)페닐)파이렌-1,6-디아민을 약 3wt%정도 도핑하였다.
그 위에 안트라센 유도체와 LiQ를 질량비 1:1로 혼합하여 30nm의 두께로 전자수송층(ETL)을 증착하였으며, 그 위에 전자주입층(EIL)으로 LiQ를 1nm 두께로 증착시켰다. 그 후, 음극으로 마그네슘과 은(Ag)을 9:1로 혼합한 혼합물을 15nm의 두께로 증착시켰으며, 상기 음극 위에 캡핑층(capping layer)로 N4,N4'-비스[4-[비스(3-메틸페닐)아미노]페닐]-N4,N4'-디페닐-[1,1'-바이페닐]-4,4'-디아민(DNTPD)을 60nm 두께로 증착시켰다. 그 위에 UV 경화형 접착제로 흡습제가 함유된 씰 캡(seal cap)을 합착하여 대기중의 O2나 수분으로부터 유기전계발광소자를 보호할 수 있게 하여 유기전계발광소자를 제조하였다.
[실시예 39 내지 57]
상기 실시예 38에서 정공수송보조층 화합물 2-25 대신에 하기 표 12에 기재된 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 38과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제조하였다.
[비교예 5 내지 8]
상기 실시예 38에서 정공수송보조층으로 화합물 2-25 대신에 화합물 E 내지 화합물 H를 사용한 것을 제외하고는 실시예 38과 동일한 방법으로 유기전계발광소자를 제조하였다.
[화합물 E]
[화합물 F]
[화합물 G]
[화합물 H]
[실험예 2: 소자 성능 분석]
상기에서 실시예 및 비교예에서 제조한 유기전계발광소자에 대해 정전류 10mA/cm2의 조건에서 소자의 전광특성을 분석하고 20mA/cm2의 구동조건에서 수명을 측정하였다.
실험 결과는 하기 표 12와 같다.
구분 | 정공수송 보조층 |
구동전압 (V) | 효율 | 색 | 수명 | ||
Cd/A | EQE | CIEx | CIEy | T95(hrs) | |||
실시예 38 |
화합물 2-25 | 3.51 | 10.0 | 18.5 | 0.134 | 0.055 | 290 |
실시예 39 |
화합물 2-31 | 3.48 | 9.7 | 18.4 | 0.134 | 0.054 | 315 |
실시예 40 |
화합물 2-1 | 3.55 | 8.3 | 17.5 | 0.139 | 0.045 | 380 |
실시예41 | 화합물 2-27 | 3.53 | 8.8 | 17.9 | 0.137 | 0.048 | 297 |
실시예42 | 화합물 2-49 | 3.54 | 8.8 | 17.8 | 0.137 | 0.048 | 310 |
실시예43 | 화합물 2-170 | 3.59 | 8.7 | 17.8 | 0.137 | 0.048 | 295 |
실시예44 | 화합물 2-173 | 3.65 | 8.6 | 17.5 | 0.137 | 0.048 | 323 |
실시예45 | 화합물 2-37 | 3.62 | 9.0 | 17.9 | 0.136 | 0.050 | 312 |
실시예46 | 화합물 2-61 | 3.67 | 9.2 | 18.3 | 0.136 | 0.049 | 300 |
실시예47 | 화합물 2-182 | 3.56 | 9.3 | 18.5 | 0.136 | 0.050 | 360 |
실시예48 | 화합물 2-31 | 3.51 | 8.5 | 17.5 | 0.139 | 0.044 | 298 |
실시예49 | 화합물 2-33 | 3.53 | 8.9 | 18.2 | 0.137 | 0.048 | 314 |
실시예50 | 화합물 2-55 | 3.54 | 8.8 | 18.2 | 0.137 | 0.047 | 321 |
실시예51 | 화합물 2-214 | 3.58 | 9.3 | 18.7 | 0.137 | 0.049 | 380 |
실시예52 | 화합물 2-215 | 3.55 | 9.2 | 18.0 | 0.136 | 0.051 | 375 |
실시예53 | 화합물 2-217 | 3.57 | 9.5 | 18.3 | 0.135 | 0.052 | 390 |
실시예54 | 화합물 2-223 | 3.46 | 9.2 | 18.2 | 0.138 | 0.046 | 420 |
실시예55 | 화합물 2-225 | 3.49 | 9.6 | 18.9 | 0.137 | 0.048 | 430 |
실시예56 | 화합물 2-244 | 3.50 | 10.0 | 19.1 | 0.135 | 0.053 | 425 |
실시예57 | 화합물 2-257 | 3.56 | 97 | 18.5 | 0.134 | 0.053 | 452 |
비교예 5 | 화합물 E | 3.82 | 7.4 | 16.0 | 0.139 | 0.045 | 185 |
비교예 6 | 화합물 F | 3.80 | 7.3 | 16.4 | 0.138 | 0.045 | 196 |
비교예 7 | 화합물 G | 3.89 | 7.6 | 16.5 | 0.139 | 0.045 | 187 |
비교예 8 | 화합물 H | 3.77 | 7.7 | 16.6 | 0.139 | 0.045 | 198 |
상기 표 12의 실험 결과에 의하면, 비교예에 비해, 본 발명의 화합물을 유기전계발광소자의 정공수송보조층 재료로 사용하는 경우, 구동 전압은 낮으며, 우수한 소자 효율 특성 및 장수명 특성을 나타내는 것을 확인하였다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
Claims (8)
- 하기 화학식 1 로 표시되는
화합물:
[화학식 1]
여기서,
n 및 m은 0 내지 4의 정수이며,
X1은 O, N(R7), C(R8)(R9) 및 S로 이루어진 군으로부터 선택되며,
L1 및 L2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30개의 아릴렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30개의 헤테로아릴렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 10개의 알킬렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 10개의 시클로알킬렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 알케닐렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 10개의 시클로알케닐렌기 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 10개의 헤테로알킬렌기, 치 환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 헤테로시클로알킬렌기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 헤테로알케닐렌기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 10개의 헤테로시클로알케닐렌기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
Ar1은 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30개의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30개의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소 수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30개의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 20개의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
R1 내지 R9는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 시아노기, 니트로기, 할로겐기, 히드록시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 60의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 24의 헤테로 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴실릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되고, 인접하는 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성할 수 있고,
R1 내지 R4 중 어느 하나 이상은 인접하는 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성할 수 있다. - 제1항에 있어서,
상기 L1 및 L2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 단일결합 또는 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30개의 아릴렌기인
화합물. - 제1항에 있어서,
상기 X는 O 또는 S인
화합물. - 제1항에 있어서,
상기 Ar1은 하기 화학식 8 내지 12로 이루어진 군에서 선택되는
화합물:
[화학식 8]
[화학식 9]
[화학식 10]
[화학식 11]
[화학식 12]
여기서,
*는 결합되는 부분이며,
o는 0 내지 5의 정수이며,
p는 0 내지 7의 정수이며,
q는 0 내지 6의 정수이며,
r, s, t 및 u는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이며,
X2는 O, N(R17), C(R18)(R19) 및 S로 이루어진 군으로부터 선택되며,
R10 내지 R19는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 중수소, 시아노기, 니트로기, 할로겐기, 히드록시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 60의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 24의 헤테로 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴실릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되고, 인접하는 기와 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성할 수 있다. - 제1 전극; 상기 제1 전극에 대향하여 구비된 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기전계발광소자로서,
상기 1층 이상의 유기물층 중에서 적어도 하나는 제1항에 따른 화합물을 포함하는 것인 유기전계발광소자. - 제6항에 있어서,
상기 유기물층은 정공주입층, 정공수송층, 정공수송보조층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층으로 이루어진 군으로부터 선택되는 유기 전계 발광 소자. - 제6항에 있어서,
상기 유기물층은 정공수송보조층인 유기 전계 발광 소자.
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