KR20230049564A - Colored photosensitive composition, cured product and image display device including the cured product - Google Patents

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타이키 가가
에리 요시자와
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Abstract

The purpose of the present invention is to provide a colored photosensitive composition having excellent dispersibility of colorants and the like, and also having good developing properties even at a high colorant concentration, further, a colored photosensitive composition having good heat resistance, and a cured product thereof. The colored photosensitive composition comprises: a polycarboxylic acid resin (A) containing an unsaturated group obtained by making a (meth)acrylate compound (b) having an epoxy group in one molecule and an aliphatic dicarboxylic acid anhydride, or aliphatic tricarboxylic anhydride (c) react with a polyamide imide resin (a3) having a terminal acid group or acid anhydride group obtained by making alicyclic isocyanurate type polyisocyanate (a1) react with alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2); a colorant (B); and a solvent (C).

Description

착색 감광성 조성물, 경화물, 경화물을 구비하는 화상 표시 장치{COLORED PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, CURED PRODUCT AND IMAGE DISPLAY DEVICE INCLUDING THE CURED PRODUCT}An image display device comprising a colored photosensitive composition, a cured product, and a cured product

본 발명은, 착색 감광성 조성물, 경화물, 경화물을 구비하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. 상세하게는, 차폐성 및 제판 특성이 우수한 감광성 착색 조성물과, 그의 용도에 관한 것이다.The present invention relates to an image display device comprising a colored photosensitive composition, a cured product, and a cured product. Specifically, it relates to a photosensitive coloring composition having excellent shielding properties and plate-making properties, and uses thereof.

종래의 디스플레이에는, 유기 안료를 이용한 적색, 녹색, 청색의 화소를 형성한 컬러 필터, 착색 스페이서나 블랙 매트릭스가 다용되고 있다.In conventional displays, color filters, colored spacers, and black matrices in which red, green, and blue pixels using organic pigments are formed are frequently used.

최근, 디스플레이의 저소비 전력화나 광색역화를 위해, 양자 도트 등의 발광성 나노 결정 입자를 이용하여 화소를 형성한 컬러 필터가 검토되고 있다. 구체적으로는, 적색 발광성의 나노 결정 입자를 포함하는 적색 화소, 녹색 발광성의 나노 결정 입자를 포함하는 녹색 화소, 광원으로부터의 청색광을 투과하는 청색 화소를 갖는 것이 알려져 있다.In recent years, color filters in which pixels are formed using luminescent nanocrystal particles such as quantum dots have been studied for low power consumption and wide color gamut of displays. Specifically, it is known to have red pixels containing red luminescent nanocrystal particles, green pixels containing green luminescent nanocrystal particles, and blue pixels that transmit blue light from a light source.

컬러 필터의 제조 방법으로서는, 포토리소그래피법과 잉크젯법이 있고, 후자의 쪽이 잉크 재료의 로스를 저감할 수 있는 것이 알려져 있다(특허문헌 1). As a manufacturing method of a color filter, there exist a photolithography method and an inkjet method, and it is known that the latter can reduce the loss of an ink material (patent document 1).

잉크젯법에 의해 발광성 나노 결정 입자를 포함하는 컬러 필터를 제조하는 경우, 미리 제작한 격벽에 둘러싸인 영역(화소부)에 잉크를 토출하여 화소를 형성한다. 이 격벽에는 인접하는 화소부 간에 있어서의 잉크끼리의 혼합 등을 막는 것 외에, 고정세한 패턴(미세한 패턴)이 필요해진다. 또한, 차광 효과를 갖는 것으로서 착색제를 포함하는 감광성 조성물(착색 감광성 조성물)을 이용하여 포토리소그래피법에 의해 형성하고 있는 것이 알려져 있다(특허문헌 2). When a color filter containing luminescent nanocrystal particles is manufactured by an inkjet method, a pixel is formed by ejecting ink to a region (pixel portion) surrounded by a barrier rib prepared in advance. In addition to preventing mixing of inks between adjacent pixel portions, a high-definition pattern (fine pattern) is required for this barrier rib. Moreover, what is formed by the photolithography method using the photosensitive composition (coloring photosensitive composition) containing a coloring agent as what has a light-shielding effect is known (patent document 2).

이 외에, 페놀아르알킬형 에폭시 수지를 기본 골격으로 한 산 변성 에폭시아크릴레이트에 카본 블랙 등을 분산시켜 액정 표시 패널 등에 이용되는 경화물에 응용하는 시도도 알려져 있다(특허문헌 3). In addition, an attempt to apply a cured product used in a liquid crystal display panel or the like by dispersing carbon black or the like in an acid-modified epoxy acrylate having a phenol aralkyl type epoxy resin as a basic skeleton is also known (Patent Document 3).

일본공개특허공보 2019-086745호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-086745 일본공개특허공보 2007-10795호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-10795 일본공개특허공보 2005-055814호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-055814

그러나, 특허문헌 2의 감광성 조성물을 이용하면, 포토리소그래피법에 의해 얻어지는 패턴의 현상성이 나빠, 소망하는 형상의 패턴이 얻어지지 않거나, 또는 형성할 수 없다는 문제가 있다. 또한, 차광 효과를 갖는 격벽 및, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 컬러 레지스트에 있어서, 추가적인 착색제를 함유해도 분산성이 양호한 착색 감광성 조성물이 필요시 되고 있다.However, when the photosensitive composition of Patent Document 2 is used, there is a problem that developability of a pattern obtained by a photolithography method is poor, and a pattern having a desired shape cannot be obtained or cannot be formed. Moreover, in the barrier rib which has a light-shielding effect, a black matrix, a colored spacer, and a color resist, even if it contains an additional coloring agent, the coloring photosensitive composition with favorable dispersibility is required.

본 발명은, 상기의 종래 기술의 문제점을 개선하여, 착색제 등의 분산성이 우수하고, 또한 높은 착색제 농도에서도 양호한 현상 특성을 갖는 착색 감광성 조성물, 추가로, 내열성이 양호한 착색 감광성 조성물 및, 그들의 경화물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention improves the above-described problems of the prior art, and provides a colored photosensitive composition having excellent dispersibility of a colorant and the like and having good development characteristics even at a high colorant concentration, and further, a colored photosensitive composition having good heat resistance, and their It is intended to provide cargo.

본 발명자들은, 상기의 과제를 해결하기 위해 예의 노력한 결과, 지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트 (a1)과 지환식 트리카본산 무수물 (a2)와의 반응에 의해 얻어진 말단 산기 또는 산 무수물기를 갖는 폴리아미드이미드 수지 (a3)에 1분자 중에 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 (b) 및 지방족 디카본산 무수물 (c)를 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A)와 착색제 (B), 용제 (C)를 함유하는 착색 감광성 조성물이, 착색제 등의 분산성이 우수하고, 또한 높은 착색제 농도에서도 양호한 현상 특성을 갖는 착색 감광성 조성물, 또한, 경우에 따라서는 내열성 양호한 착색 감광성 조성물 및, 그들의 경화물을 제공하는 것을 발견했다.As a result of diligent efforts to solve the above problems, the inventors of the present invention have found a polyisocyanate (a1) and an alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2) having a terminal acid group or an acid anhydride group. An unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A) obtained by reacting an amidimide resin (a3) with a (meth)acrylate compound (b) having an epoxy group in one molecule and an aliphatic dicarboxylic acid anhydride (c), and a colorant (B); The coloring photosensitive composition containing the solvent (C) is excellent in the dispersibility of the coloring agent and the like, and also has good developing characteristics even at a high coloring agent concentration, and in some cases, the coloring photosensitive composition with good heat resistance, and their I found one that provides freight.

즉, 본 발명은, 이하의 (1)∼(7)에 관한 것이다.That is, the present invention relates to the following (1) to (7).

(1) 지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트 (a1)과 지환식 트리카본산 무수물 (a2)와의 반응에 의해 얻어진 말단 산기 또는 산 무수물기를 갖는 폴리아미드이미드 수지 (a3)에 1분자 중에 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 (b) 및 지방족 디카본산 무수물 또는, 지방족 트리카본산 무수물 (c)를 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A)와 착색제 (B), 용제 (C)를 함유하는 착색 감광성 조성물이다.(1) An epoxy group in one molecule of a polyamideimide resin (a3) having a terminal acid group or an acid anhydride group obtained by reaction of an alicyclic isocyanurate type polyisocyanate (a1) with an alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2) (meth)acrylate compound (b) and an aliphatic dicarboxylic acid anhydride or an aliphatic tricarboxylic acid anhydride (c) obtained by reacting an unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A), a colorant (B), and a solvent (C) It is a coloring photosensitive composition containing.

(2) 가교제 (D)를 함유하는, (1)에 기재된 착색 감광성 조성물이다.(2) It is the coloring photosensitive composition as described in (1) containing a crosslinking agent (D).

(3) 광 중합 개시제 (E)를 함유하는, (1) 또는 (2)에 기재된 착색 감광성 조성물이다.(3) It is the coloring photosensitive composition as described in (1) or (2) containing a photoinitiator (E).

(4) 경화제 (F)를 함유하는, (1)∼(3) 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 조성물이다.(4) It is the coloring photosensitive composition as described in any one of (1)-(3) containing a hardening|curing agent (F).

(5) 상기 착색제 (B)가, 흑색 안료를 포함하는, (1)∼(4) 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 조성물이다.(5) The said coloring agent (B) is the coloring photosensitive composition as described in any one of (1)-(4) containing a black pigment.

(6) (1)∼(5) 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 조성물의 경화물이다.(6) It is a hardened|cured material of the coloring photosensitive composition in any one of (1)-(5).

(7) (6)에 기재된 경화물을 구비하는 화상 표시 장치이다.(7) It is an image display apparatus provided with the hardened|cured material of (6).

본 발명의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A), 착색제 (B), 용제 (C)를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 조성물은 감광성이 우수하고, 높은 착색제 농도에서도 분산 가능하고, 또한 양호한 현상 특성을 가질 수 있다.The colored photosensitive composition characterized by containing the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A), the colorant (B), and the solvent (C) of the present invention has excellent photosensitivity, can be dispersed even at a high colorant concentration, and has good development. may have characteristics.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Mode for implementing the invention)

≪착색 감광성 조성물≫«Colored photosensitive composition»

본 발명의 착색 감광성 조성물은, 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A), 착색제 (B), 용제 (C)를 함유한다.The colored photosensitive composition of the present invention contains an unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A), a colorant (B), and a solvent (C).

이하, 착색 감광성 조성물이 포함하는, 필수 및, 임의의 성분에 대해서 설명한다.Hereinafter, essential and optional components included in the colored photosensitive composition will be described.

착색 감광성 조성물은, 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A)를 포함한다.The colored photosensitive composition contains an unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A).

본 발명에 있어서의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A)는 지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트 (a1)과 지환식 트리카본산 무수물 (a2)와의 반응에 의해 얻어진 말단 산기 또는 산 무수물기를 갖는 폴리아미드이미드 수지 (a3)에 1분자 중에 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 (b) 및 지방족 디카본산 무수물 또는, 지방족 트리카본산 무수물 (c)를 반응시켜 얻어진다.The unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A) in the present invention has a terminal acid group or an acid anhydride group obtained by reacting an alicyclic isocyanurate type polyisocyanate (a1) with an alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2). It is obtained by making polyamideimide resin (a3) react with the (meth)acrylate compound (b) which has an epoxy group in one molecule, and an aliphatic dicarboxylic acid anhydride or an aliphatic tricarboxylic acid anhydride (c).

즉, 본 발명에 있어서의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A)는 2개의 반응 공정을 갖고 제조된다. 우선, 지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트 (a1)과 지환식 트리카본산 무수물 (a2)를 반응시켜 폴리아미드이미드 수지 (a3)을 얻는 공정이다. 본 발명에서는 이 공정을 아미드이미드화 공정으로 한다.That is, the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A) in the present invention is produced with two reaction steps. First, it is a step of obtaining a polyamide-imide resin (a3) by reacting an alicyclic isocyanurate-type polyisocyanate (a1) with an alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2). In the present invention, this step is referred to as an amide imidation step.

이어서, 얻어진 폴리아미드이미드 수지 (a3), 1분자 중에 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 (b) 및 지방족 디카본산 무수물 또는, 지방족 트리카본산 무수물 (c)를 반응시키는 공정이다. 본 발명에서는 이 공정을 카복시레이트화 공정으로 한다.Next, it is a step of reacting the obtained polyamideimide resin (a3), the (meth)acrylate compound (b) having an epoxy group in one molecule, and an aliphatic dicarboxylic acid anhydride or an aliphatic tricarboxylic acid anhydride (c). In the present invention, this step is referred to as a carboxylation step.

우선, 아미드이미드화 공정에 대해서 상술한다.First, the amidimidization step will be described in detail.

본 발명에 있어서의 폴리아미드이미드 수지 (a3)의 제조에 사용되는 지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트 (a1)은 지환식 디이소시아네이트 화합물을 함유하는 디이소시아네이트 화합물을 3량화 촉매 존재하 혹은 비존재하에 있어서 이소시아누레이트화함으로써 얻어진다.The alicyclic isocyanurate-type polyisocyanate (a1) used in the production of the polyamideimide resin (a3) in the present invention is a diisocyanate compound containing an alicyclic diisocyanate compound in the presence or absence of a trimerization catalyst. It is obtained by isocyanurate-izing under.

본 명세서에 있어서 지환식이란, 본 발명과의 관련에서는, 탄소 원자가 환 중에 배치된 화합물을 의미한다(「지방족」 및 「환상」이라는 2개의 용어를 함께 기술한 것과 동일한 점에서 이미 시사되는 바와 같음). 따라서, 지환식이란, 환상 지방족의 동의어이기도 하다. 결과적으로, 지환식 화합물은, 동소환식 화합물군에 속하고, 이 경우에는, 사이클로알칸, 사이클로알켄 및, 사이클로알킨을 포함한다. 방향족 화합물 및 복소환식 화합물, 나아가서는 복소환식 화합물의 포화 화합물 예는, 본 발명의 의미의 범위 내에서는, 지환식이라고는 간주되지 않는다.In relation to the present invention, the alicyclic in the present specification means a compound in which carbon atoms are arranged in a ring (as already suggested by the same point as the two terms "aliphatic" and "cyclic" are described together) ). Therefore, alicyclic is also a synonym for cyclic aliphatic. Consequently, alicyclic compounds belong to the group of isocyclic compounds, and in this case include cycloalkanes, cycloalkenes, and cycloalkynes. Aromatic compounds and heterocyclic compounds, and examples of saturated compounds of heterocyclic compounds are not regarded as alicyclics within the meaning of the present invention.

지환식 디이소시아네이트 화합물을 함유하는 디이소시아네이트로서 예를 들면 이소포론디이소시아네이트, 수소 첨가 톨릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 자일렌디이소시아네이트, 노르보르난디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트 등을 들 수 있다.As diisocyanate containing an alicyclic diisocyanate compound, isophorone diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, norbornane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate etc. are mentioned, for example.

3량화 촉매로서는 특별히 지정 없이 예를 들면, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 2,4-비스(디메틸아미노메틸)페놀, 2,4,6-트리스(디알킬아미노알킬)헥사하이드로-S-트리아진 등의 아민 화합물, 아세트산 칼륨, 2-에틸헥산산 칼륨, 옥틸산 칼륨과 같은 탄소수 2∼12의 카본산의 알칼리 금속염, 카본산의 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 시판품으로서는, DABCO P15(산쿄에어프로덕츠 제조), DABCO K15(산쿄에어프로덕츠 제조), PELCAT9540(펠론 제조), DABCO TMR(산쿄에어프로덕츠 제조), TOYOCAT TR20(도소 제조), U-CAT 18X(산아프로 제조) 등을 들 수 있다.As the trimerization catalyst, for example, 2,4,6-tris(dimethylaminomethyl)phenol, 2,4-bis(dimethylaminomethyl)phenol, 2,4,6-tris(dialkylaminoalkyl) is not particularly specified. amine compounds such as hexahydro-S-triazine; alkali metal salts of carbonic acids having 2 to 12 carbon atoms such as potassium acetate, potassium 2-ethylhexanoate and potassium octylate; and quaternary ammonium salts of carboxylic acids. As commercially available products, DABCO P15 (manufactured by Sankyo Air Products), DABCO K15 (manufactured by Sankyo Air Products), PELCAT9540 (manufactured by Pellon), DABCO TMR (manufactured by Sankyo Air Products), TOYOCAT TR20 (manufactured by Tosoh), U-CAT 18X (San-Apro) production), etc.

상기 지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트 (a1)로서는 예를 들면, 이소포론디이소시아네이트로부터 합성된 지환식 이소시아누레이트형 트리이소시아네이트(5량체 등의 중합체를 포함함), 수소 첨가 톨릴렌디이소시아네이트로부터 합성된 지환식 이소시아누레이트형 트리이소시아네이트(5량체 등의 중합체를 포함함), 수소 첨가 자일렌디이소시아네이트로부터 합성된 지환식 이소시아누레이트형 트리이소시아네이트(5량체 등의 중합체를 포함함), 노르보르난디이소시아네이트로부터 합성된 이소시아누레이트형 트리이소시아네이트(5량체 등의 중합체를 포함함), 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트로부터 합성된 지환식 이소시아누레이트형 트리이소시아네이트(5량체 등의 중합체를 포함함) 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 이소포론디이소시아네이트로부터 합성된 지환식 이소시아누레이트형 이소시아네이트가 바람직하다. 이소포론디이소시아네이트로부터 합성된 지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트를 이용함으로써, 택성이나 경화 수축이 우수하다.Examples of the alicyclic isocyanurate-type polyisocyanate (a1) include alicyclic isocyanurate-type triisocyanates synthesized from isophorone diisocyanate (including polymers such as pentamers), hydrogenated tolylene diisocyanate Alicyclic isocyanurate-type triisocyanate synthesized from (including polymers such as pentamers), alicyclic isocyanurate-type triisocyanates synthesized from hydrogenated xylene diisocyanate (including polymers such as pentamers) , isocyanurate-type triisocyanate synthesized from norbornane diisocyanate (including polymers such as pentamers), alicyclic isocyanurate-type triisocyanates synthesized from hydrogenated diphenylmethane diisocyanate (including pentamers, etc.) including polymers) and the like. Especially, the alicyclic isocyanurate type isocyanate synthesize|combined from isophorone diisocyanate is preferable. By using an alicyclic isocyanurate-type polyisocyanate synthesized from isophorone diisocyanate, tackiness and curing shrinkage are excellent.

본 발명에 있어서의 폴리아미드이미드 수지 (a3)의 제조에 사용되는 지환식 트리카본산 무수물 (a2)로서는 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물, 사이클로헥산-1,3,5-트리카본산-3,5-무수물, 사이클로헥산-1,2,3-트리카본산-2,3-무수물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 택성이나 경화 수축이 우수한 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물이 바람직하다.As the alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2) used in the production of the polyamideimide resin (a3) in the present invention, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride, cyclohexane-1 ,3,5-tricarboxylic acid-3,5-anhydride, cyclohexane-1,2,3-tricarboxylic acid-2,3-anhydride, and the like are exemplified. Among them, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride, which is excellent in tackiness and curing shrinkage, is preferable.

상기 지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트 (a1)과 상기 지환식 트리카본산 무수물 (a2)의 반응은, 상기 지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트 (a1)이 갖는 이소시아네이트기 1㏖에 대하여 산 무수물기와 카본산의 합계가 1.0㏖∼3.0㏖로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.2㏖∼2.8㏖, 더욱 바람직하게는 1.4㏖∼2.6㏖이다. 산 무수물기와 카본산의 합계가 1.0㏖ 이상인 경우, 이소시아네이트기의 잔존을 막아 고분자량화를 억제하여 현상성이 양호해진다. 산 무수물기와 카본산의 합계가 3.0㏖ 이하인 경우, 지환식 트리카본산 무수물의 잔존을 막아, 현상 잔사가 되는 것을 억제할 수 있다.The reaction between the alicyclic isocyanurate-type polyisocyanate (a1) and the alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2) is an acid based on 1 mol of the isocyanate group of the alicyclic isocyanurate-type polyisocyanate (a1). The total of the anhydride group and the carboxylic acid is preferably 1.0 mol to 3.0 mol, more preferably 1.2 mol to 2.8 mol, still more preferably 1.4 mol to 2.6 mol. When the total amount of the acid anhydride group and the carboxylic acid is 1.0 mol or more, the remaining isocyanate group is prevented, the high molecular weight formation is suppressed, and the developability becomes good. When the total amount of the acid anhydride group and the carboxylic acid is 3.0 mol or less, the remaining of the alicyclic tricarboxylic acid anhydride can be prevented, and it can be suppressed from becoming a development residue.

상기 아미드이미드화 공정은, 무용제 혹은 수산기를 갖지 않는 유기 용매를 이용한다. 구체적으로는 용제 (C)에도 포함되지만, 예를 들면, 아세트산 에틸, 아세트산 프로필, 아세트산 부틸, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 에틸렌글리콜디알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리에틸렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 폴리에틸렌글리콜디알킬에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 등의 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜디부틸에테르 등의 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜디부틸에테르, 트리프로필렌글리콜디메틸에테르, 트리프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리프로필렌글리콜디부틸에테르 등의 폴리프로필렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 등의 폴리프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 혹은 저분자의 에틸렌-프로필렌 공중합체와 같은 공중합 폴리에테르글리콜의 디알킬에테르나, 공중합 폴리에테르글리콜의 모노아세테이트모노알킬에테르류; 혹은 이러한 폴리에테르글리콜의 알킬에스테르류; 폴리에테르글리콜의 모노알킬에스테르모노알킬에테르류, 나아가서는 후술하는 가교제 (D) 중 수산기를 갖지 않는 가교제 (D) 등의 단독 또는 혼합 유기 용매 중에서 반응시킬 수 있다.The said amidimidation process uses the organic solvent which does not have a non-solvent or a hydroxyl group. Although specifically included in the solvent (C), for example, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethylene glycol dialkyl ethers such as diethyl ether and ethylene glycol dibutyl ether; polyethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, and triethylene glycol dibutyl ether; ethylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, and ethylene glycol monobutyl ether acetate; Polyethylene such as diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate, and triethylene glycol monobutyl ether acetate glycol monoalkyl ether acetates; propylene glycol dialkyl ethers such as propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, and propylene glycol dibutyl ether; polypropylene glycol dialkyl ethers such as dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dibutyl ether, tripropylene glycol dimethyl ether, tripropylene glycol diethyl ether, and tripropylene glycol dibutyl ether; propylene glycol monoalkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and propylene glycol monobutyl ether acetate; Polypropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monobutyl ether acetate, tripropylene glycol monomethyl ether acetate, tripropylene glycol monoethyl ether acetate, tripropylene glycol monobutyl ether acetate, etc. propylene glycol monoalkyl ether acetates; or dialkyl ethers of copolymerized polyether glycols such as low molecular weight ethylene-propylene copolymers, and monoacetate monoalkyl ethers of copolymerized polyether glycols; or alkyl esters of these polyether glycols; Monoalkyl ester monoalkyl ethers of polyether glycol, and furthermore, a crosslinking agent (D) without a hydroxyl group among the crosslinking agents (D) described later can be reacted alone or in a mixed organic solvent.

상기 아미드이미드화 반응은, 용제 중 혹은 무용제 중에서, 상기 지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트 (a1)의 1종류 이상과, 지환식 트리카본산 무수물 (a2)의 1종 이상을 혼합하고, 교반을 행하면서 승온하여 행하는 것이 바람직하다.In the amidimide reaction, at least one alicyclic isocyanurate-type polyisocyanate (a1) and at least one alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2) are mixed in a solvent or in the absence of a solvent, and stirring It is preferable to perform by raising the temperature while performing.

상기 아미드이미드화 반응의 반응 온도는, 바람직하게는 50℃∼250℃의 범위, 특히 바람직하게는 70℃∼180℃의 범위이다. 이러한 반응 온도로 함으로써, 반응 속도가 빨라지는 효과를 갖는다. 반응은, 탈탄산을 수반하면서 무수산기와 이소시아네이트기가 이미드기를 형성하고, 카본산기와 이소시아네이트가 아미드기를 형성한다. 반응 시에는 필요에 따라서, 산화 방지제, 레벨링제, 소포제, 계면 활성제 등을 사용할 수 있다.The reaction temperature of the amidimidation reaction is preferably in the range of 50°C to 250°C, particularly preferably in the range of 70°C to 180°C. By setting it as such a reaction temperature, it has the effect of accelerating the reaction rate. In the reaction, an anhydride group and an isocyanate group form an imide group, and a carboxylic acid group and an isocyanate form an amide group while accompanying decarboxylation. In the case of reaction, antioxidant, leveling agent, antifoaming agent, surfactant, etc. can be used as needed.

상기 아미드이미드화 반응의 진행은, 적외 스펙트럼이나, 산가, 겔 침투 크로마토그래피, 액체 크로마토그래피, 가스 크로마토그래피, H-NMR, C-NMR, 이소시아네이트기의 정량 등의 분석 수단에 의해 추적할 수 있다. 적외 스펙트럼에서는, 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2270㎝-1이 반응과 함께 감소하고, 추가로 1860㎝-1과 850㎝-1에 특성 흡수를 갖는 산 무수물기가 감소한다. 한편, 1780㎝-1과 1720㎝ 1에 이미드기의 흡수가 증가한다. 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2270㎝ 1이 소실될 때까지 반응을 진행시키는 것이, 반응의 제어를 하기 쉬워, 바람직하다.The progress of the amidimidation reaction can be tracked by analytical means such as infrared spectrum, acid value, gel permeation chromatography, liquid chromatography, gas chromatography, H-NMR, C-NMR, and quantification of isocyanate groups. . In the infrared spectrum, the characteristic absorption of the isocyanate group at 2270 cm −1 decreases along with the reaction, and the acid anhydride group having characteristic absorption at 1860 cm −1 and 850 cm −1 further decreases. On the other hand, absorption of the imide group increases at 1780 cm −1 and 1720 cm −1 . It is preferable to proceed the reaction until 2270 cm −1 , which is the characteristic absorption of the isocyanate group , is lost because it is easy to control the reaction.

상기 지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트 (a1)과 지환식 트리카본산 무수물 (a2)와의 반응에 의해 얻어진 말단 산기 또는 산 무수물기를 갖는 폴리아미드이미드 수지 (a3)의 바람직한 분자량 범위로서는, GPC에 있어서의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 1000 내지 20,000의 범위이고, 보다 바람직하게는 1,500 내지 15,000이고, 특히 바람직하게는 2000∼10,000이다.As a preferable molecular weight range of the polyamideimide resin (a3) having a terminal acid group or an acid anhydride group obtained by the reaction of the alicyclic isocyanurate-type polyisocyanate (a1) with the alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2), GPC The polystyrene equivalent weight average molecular weight in the range is from 1000 to 20,000, more preferably from 1,500 to 15,000, and particularly preferably from 2000 to 10,000.

이어서, 카복시레이트화 공정에 대해서 상술한다.Next, the carboxylation step will be described in detail.

상기 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A)의 제조에 사용되는 1분자 중에 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 (b)로서는, 분자 구조 중에 (메타)아크릴로일기와 에폭시기를 갖는 것이면 다른 구체적인 구조는 특별히 한정되지 않고, 다종 다양한 화합물을 이용할 수 있다. 그의 일 예로서는, 예를 들면, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트글리시딜에테르, 에폭시사이클로헥실메틸(메타)아크릴레이트 등의 글리시딜기 함유 (메타)아크릴레이트모노머; 디하이드록시벤젠디글리시딜에테르, 디하이드록시나프탈렌디글리시딜에테르, 비페놀디글리시딜에테르, 비스페놀디글리시딜에테르 등의 디글리시딜에테르 화합물의 모노(메타)아크릴레이트화물 등을 들 수 있다. 이들 에폭시기 함유 (메타)아크릴레이트 화합물은, 단독으로 이용할 수도, 2종 이상을 병용할 수도 있다. 이들 중에서도, 반응의 제어가 용이해지는 점에서, 에폭시기를 1개 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물이 바람직하고, 반응성, 경화성의 관점에서 글리시딜메타크릴레이트, 에폭시사이클로헥실메틸메타아크릴레이트가 바람직하다.As the (meth)acrylate compound (b) having an epoxy group in one molecule used in the production of the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A), other specific structures as long as they have a (meth)acryloyl group and an epoxy group in the molecular structure is not particularly limited, and a wide variety of compounds can be used. Examples thereof include glycidyl group-containing (meth)acrylates such as glycidyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate glycidyl ether, and epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate. acrylate monomer; Mono(meth)acrylates of diglycidyl ether compounds such as dihydroxybenzene diglycidyl ether, dihydroxynaphthalene diglycidyl ether, biphenol diglycidyl ether, and bisphenol diglycidyl ether etc. can be mentioned. These epoxy group-containing (meth)acrylate compounds may be used independently or may use 2 or more types together. Among these, from the viewpoint of easy control of the reaction, a (meth)acrylate compound having one epoxy group is preferable, and from the viewpoint of reactivity and curability, glycidyl methacrylate and epoxycyclohexylmethyl methacrylate are preferable. .

또한, 상기 1분자 중에 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 (b)와 상기 지환식 트리카본산 무수물 (a2)의 몰비 ((b)/(a2))가 0.8∼2.0을 충족하는 범위인 것이 경화 수축, 감도의 관점에서 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.9∼1.80이고, 1.0∼1.5인 것이 더욱 바람직하다.In addition, the molar ratio ((b)/(a2)) of the (meth)acrylate compound (b) having an epoxy group in one molecule and the alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2) is in the range of 0.8 to 2.0. It is preferable from the viewpoint of curing shrinkage and sensitivity. More preferably, it is 0.9 to 1.80, and it is still more preferable that it is 1.0 to 1.5.

상기 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A)의 제조에 사용되는 지방족 디카본산 무수물 또는, 지방족 트리카본산 무수물 (c)의 지방족 디카본산 무수물로서는 무수 숙신산, 1,2-사이클로프로판디카본산 무수물, 2,2-디메틸숙신산 무수물, 카론산 무수물, 1,2-사이클로헥산디카본산 무수물, 부틸숙신산 무수물, 4-메틸사이클로헥산-1,2-디카본산 무수물, n-옥틸숙신산 무수물, 데실숙신산 무수물, 도데실숙신산 무수물 등을 들 수 있다. 또한, 지방족 트리카본산 무수물로서는 선상(線狀) 지방족 구조를 갖는 트리카본산 무수물, 지환식 구조를 갖는 트리카본산 무수물 등을 들 수 있다. 선상 지방족 구조를 갖는 트리카본산 무수물로서는, 예를 들면, 프로판트리카본산 무수물 등을 들 수 있다. 지환식 구조를 갖는 트리카본산 무수물로서는, 예를 들면, 상기 지환식 트리카본산 무수물 (a2)에 예시한 화합물과 마찬가지의 것을 들 수 있다. 이들 중에서도, 전기 특성의 관점에서 지방족 디카본산 무수물이 바람직하다. 또한, 알칼리 수용액 현상성, 내열성, 가수분해 내성 등으로부터 지환식 구조를 갖는 트리카본산 무수물 등이 바람직하다. 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물이 더욱 바람직하다.Examples of the aliphatic dicarboxylic acid anhydride used in the production of the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A) or the aliphatic tricarboxylic acid anhydride (c) include succinic anhydride, 1,2-cyclopropanedicarboxylic acid anhydride, 2 ,2-dimethylsuccinic anhydride, charonic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, butylsuccinic anhydride, 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, n-octylsuccinic anhydride, decylsuccinic anhydride, dodecyl anhydride Silsuccinic acid anhydride etc. are mentioned. Moreover, as an aliphatic tricarboxylic acid anhydride, the tricarboxylic acid anhydride which has a linear aliphatic structure, the tricarboxylic acid anhydride which has an alicyclic structure, etc. are mentioned. As a tricarboxylic acid anhydride which has a linear aliphatic structure, propane tricarboxylic acid anhydride etc. are mentioned, for example. As a tricarboxylic acid anhydride which has an alicyclic structure, the thing similar to the compound illustrated for the said alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2) is mentioned, for example. Among these, aliphatic dicarboxylic acid anhydrides are preferable from the viewpoint of electrical properties. Further, tricarboxylic acid anhydrides having an alicyclic structure and the like are preferable from the viewpoints of aqueous alkali solution developability, heat resistance, hydrolysis resistance, and the like. Cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride is more preferred.

또한, 상기 1분자 중에 지방족 디카본산 무수물 또는, 지방족 트리카본산 무수물 (c)와 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 (b)의 몰비 ((c)/(b))가 0.05∼1.5를 충족하는 범위인 것이 현상성, 보존 안정성의 관점에서 바람직하다. 더욱 바람직하게는 0.1∼1.2이다.In addition, the molar ratio ((c)/(b)) of the aliphatic dicarboxylic acid anhydride or aliphatic tricarboxylic acid anhydride (c) and the (meth)acrylate compound (b) having an epoxy group in one molecule satisfies 0.05 to 1.5. It is preferable from a viewpoint of developability and storage stability that it is the range which does. More preferably, it is 0.1-1.2.

반응 시에는 열 중합 반응을 억제하기 위해 열 중합 금지제를 더하는 것이 바람직하고, 당해 열 중합 금지제의 사용량은, 말단 산기 또는 산 무수물기를 갖는 폴리아미드이미드 수지 (a3)에 1분자 중에 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 (b) 및 지방족 디카본산 무수물 또는, 지방족 트리카본산 무수물 (c), 용제를 더한 반응물의 총량 100질량부에 대하여 0.05∼10질량부이다. 열 중합 금지제로서는, 하이드로퀴논, 2-메틸하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 2,6-디 제3 부틸-p-크레졸 등을 들 수 있다.In the case of the reaction, it is preferable to add a thermal polymerization inhibitor in order to suppress the thermal polymerization reaction, and the amount of the thermal polymerization inhibitor used is to have an epoxy group in one molecule of the polyamideimide resin (a3) having a terminal acid group or an acid anhydride group. It is 0.05-10 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of the (meth)acrylate compound (b), the aliphatic dicarboxylic acid anhydride, or the aliphatic tricarboxylic acid anhydride (c), and the solvent added. Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, 2-methylhydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, and 2,6-ditertiary butyl-p-cresol.

또한, 반응 시에는 반응을 촉진시키기 위해 촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 당해 촉매의 사용량은, 말단 산기 또는 산 무수물기를 갖는 폴리아미드이미드 수지 (a3)에 1분자 중에 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 (b) 및 지방족 디카본산 무수물 또는, 지방족 트리카본산 무수물 (c), 용제를 더한 반응물의 총량 100질량부에 대하여 0.05∼10질량부이다. 그 때의 반응 온도는 60∼150℃이고, 또한 반응 시간은, 바람직하게는 3∼60시간이다. 이 반응에서 사용하는 촉매로서는, 예를 들면 디메틸아미노피리딘, 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리메틸암모늄아이오다이드, 트리페닐포스핀, 트리페닐스티빈, 메틸트리페닐스티빈, 2-에틸헥산산 크롬, 옥탄산 크롬, 2-에틸헥산산 아연, 옥탄산 아연, 옥탄산 지르코늄, 디메틸술피드, 디페닐술피드 등을 들 수 있다.In the case of the reaction, it is preferable to use a catalyst to promote the reaction, and the amount of the catalyst used is (meth)acrylate having an epoxy group in one molecule of the polyamideimide resin (a3) having a terminal acid group or an acid anhydride group. It is 0.05-10 mass parts with respect to 100 mass parts of the total amount of the compound (b), the aliphatic dicarboxylic acid anhydride, or the aliphatic tricarboxylic acid anhydride (c), and the total amount of the reactants adding a solvent. The reaction temperature at that time is 60 to 150°C, and the reaction time is preferably 3 to 60 hours. As a catalyst used in this reaction, for example, dimethylaminopyridine, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, Methyltriphenylstibin, 2-ethylhexanoate chromium, octanoate chromium, 2-ethylhexanoate zinc, octanoate zinc, octanoate zirconium, dimethylsulfide, diphenylsulfide, etc. are mentioned.

상기 카복시레이트화 공정은 무용제 혹은 유기 용매로 희석하여 반응시킬 수 있다. 당해 유기 용매로서는, 예를 들면, 상기 아미드이미드화 공정에 예시한 용제와 마찬가지의 것을 들 수 있다.The carboxylation process may be performed by diluting with no solvent or an organic solvent. As the said organic solvent, the thing similar to the solvent illustrated in the said amidimidization process is mentioned, for example.

상기 카복시레이트화 공정의 반응 온도는, 바람직하게는 60℃∼160℃의 범위, 특히 바람직하게는 70℃∼150℃의 범위이고, 또한 반응 시간은, 바람직하게는 3∼60시간이다.The reaction temperature in the carboxylation step is preferably in the range of 60°C to 160°C, particularly preferably in the range of 70°C to 150°C, and the reaction time is preferably 3 to 60 hours.

상기 카복시레이트화 공정의 반응은 에폭시 당량(고형분 에폭시 당량)이 10,000g/eq 이상이 될 때까지 진행시키는 것이 바람직하다. 고형분 에폭시 당량은 JIS K 7236에 준하여, 통상의 중화 적정법에 의해 측정된다. 또한, 용액 중의 당해 수지의 농도를 알 수 있으면, 용액의 에폭시 당량으로부터 고형분 에폭시 당량을 계산하여 구할 수도 있다.The reaction of the carboxylation step is preferably carried out until the epoxy equivalent (solid epoxy equivalent) becomes 10,000 g/eq or more. The solid epoxy equivalent is measured by a normal neutralization titration method according to JIS K 7236. In addition, if the concentration of the resin in the solution is known, the solid epoxy equivalent can be calculated and obtained from the epoxy equivalent of the solution.

말단 산기 또는 산 무수물기를 갖는 폴리아미드이미드 수지 (a3)에 1분자 중에 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 (b) 및 지방족 디카본산 무수물 또는, 지방족 트리카본산 무수물 (c)를 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A)의 바람직한 분자량 범위로서는, GPC에 있어서의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 1,500 내지 30,000의 범위이고, 보다 바람직하게는 2,000 내지 20,000이고, 특히 바람직하게는 2,500∼15,000이다.Unsaturated obtained by reacting a (meth)acrylate compound (b) having an epoxy group in one molecule with a polyamide-imide resin (a3) having a terminal acid group or an acid anhydride group and an aliphatic dicarboxylic acid anhydride or an aliphatic tricarboxylic acid anhydride (c) As a preferable molecular weight range of the group-containing polycarboxylic acid resin (A), the weight average molecular weight in terms of polystyrene in GPC is in the range of 1,500 to 30,000, more preferably 2,000 to 20,000, and particularly preferably 2,500 to 15,000.

본 발명의 감광성 착색 조성물에 있어서의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A)의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 전체 고형분 중에, 통상 5질량% 이상, 바람직하게는 10질량% 이상, 보다 바람직하게는 15질량% 이상이고, 또한, 통상 90질량% 이하, 바람직하게는 80질량% 이하, 보다 바람직하게는 70질량% 이하이다. 예를 들면, 5∼90질량%, 바람직하게는 10∼90질량%, 보다 바람직하게는 15∼90질량%, 더욱 바람직하게는 15∼80질량%, 특히 바람직하게는 15∼70질량%이다.The content ratio of the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A) in the photosensitive coloring composition of the present invention is not particularly limited, but is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, based on the total solid content. It is 15 mass % or more, and is usually 90 mass % or less, preferably 80 mass % or less, and more preferably 70 mass % or less. For example, it is 5 to 90% by mass, preferably 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 90% by mass, even more preferably 15 to 80% by mass, and particularly preferably 15 to 70% by mass.

상기 착색 감광성 조성물은, 차광제 등의 착색제 (B)를 포함한다.The said coloring photosensitive composition contains coloring agents (B), such as a light-shielding agent.

착색제 (B)로서는, 차광제나, 차광제 이외의 착색제를 들 수 있다.As a coloring agent (B), a light-shielding agent and coloring agents other than a light-shielding agent are mentioned.

상기 차광제로서는, 예를 들면, 락탐계 안료, 카본 블랙, 염료, 페릴렌계 안료, 은 주석(AgSn) 합금을 주성분으로 하는 미립자, 티탄 블랙, 구리, 철, 망간, 코발트, 크롬, 니켈, 아연, 칼슘, 은 등의 금속 산화물, 복합 산화물, 금속 황화물, 금속 황산염 또는 금속 탄산염 등, 유기물, 무기물을 불문하고 각종의 안료를 들 수 있다. 차광제로서는, 흑색 안료가 바람직하다.Examples of the light-shielding agent include lactam-based pigments, carbon black, dyes, perylene-based pigments, silver tin (AgSn) alloy-based fine particles, titanium black, copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, and zinc. , calcium, silver, and other metal oxides, composite oxides, metal sulfides, metal sulfates, or metal carbonates, and various pigments regardless of organic or inorganic substances. As a light-shielding agent, a black pigment is preferable.

≪카본 블랙≫≪Carbon black≫

카본 블랙으로서는, 종래부터 차광제로서 사용되고 있는 여러 가지의 카본 블랙을 이용할 수 있다. 카본 블랙으로서는, 구체적으로는, 채널 블랙, 퍼니스 블랙, 서멀 블랙, 램프 블랙 등의 공지의 카본 블랙을 이용할 수 있다. 또한, 카본 블랙은, 수지, 염료, 산성기 함유 화합물 등의 유기물로 피복 처리한 것을 이용해도 좋다. 카본 블랙은, 1종을 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다.As carbon black, various carbon blacks conventionally used as a light-shielding agent can be used. As carbon black, specifically, well-known carbon blacks, such as channel black, furnace black, thermal black, and lamp black, can be used. Further, carbon black coated with an organic material such as resin, dye, or acidic group-containing compound may be used. Carbon black may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

≪염료≫≪Dye≫

염료는 공지의 재료 중으로부터 적절히 선택하면 좋다.What is necessary is just to select a dye suitably from well-known materials.

착색 감광성 조성물에 적용 가능한 염료로서는, 예를 들면, 아조 염료, 금속 착염 아조 염료, 안트라퀴논 염료, 트리페닐메탄 염료, 잔텐 염료, 시아닌 염료, 나프토퀴논 염료, 퀴논이민 염료, 메틴 염료, 프탈로시아닌 염료 등을 들 수 있다.Examples of dyes applicable to the colored photosensitive composition include azo dyes, metal complex salt azo dyes, anthraquinone dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes, naphthoquinone dyes, quinone imine dyes, methine dyes, and phthalocyanine dyes. etc. can be mentioned.

또한, 이들 염료에 대해서는, 레이크화(조염화(造鹽化))함으로써 유기 용매 등에 분산시켜, 이를 차광제로서 이용할 수 있다.In addition, these dyes can be dispersed in an organic solvent or the like by raking (salting), and can be used as a light-shielding agent.

이들 염료 이외에도, 예를 들면, 일본공개특허공보 2013-225132호, 일본공개특허공보 2014-178477호, 일본공개특허공보 2013-137543호, 일본공개특허공보 2011-38085호, 일본공개특허공보 2014-197206호 등에 기재된 염료 등도 바람직하게 이용할 수 있다.Other than these dyes, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-225132, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-178477, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-137543, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-38085, Japanese Unexamined Patent Publication 2014- The dyes described in No. 197206 and the like can also be preferably used.

그 외의 착색제의 구체예로서는, 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는, 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 붙여져 있는 것을 들 수 있다.Specific examples of other colorants include compounds classified as pigments in the color index (C.I.; published by The Society of Dyers and Colourists), specifically, those with the following color index (C.I.) numbers attached. can hear

C.I. 피그먼트 옐로우 1(이하, 「C.I. 피그먼트 옐로우」는 동일하고, 번호만을 기재함), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180, 185; C.I. 피그먼트 오렌지 1(이하, 「C.I. 피그먼트 오렌지」는 동일하고, 번호만을 기재함), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, 73; C.I. 피그먼트 바이올렛 1(이하, 「C.I. 피그먼트 바이올렛」은 동일하고, 번호만을 기재함), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, 50; C.I. 피그먼트 레드 1(이하, 「C.I. 피그먼트 레드」는 동일하고, 번호만을 기재함), 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 53:1, 57, 57:1, 57:2, 58:2, 58:4, 60:1, 63:1, 63:2, 64:1, 81:1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202,206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 265; C.I. 피그먼트 블루 1(이하, 「C.I. 피그먼트 블루」는 동일하고, 번호만을 기재함), 2, 15, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, 66; C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 37; C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25, C.I. 피그먼트 브라운 26, C.I. 피그먼트 브라운 28; C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7.C.I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Yellow" is the same, only numbers are written), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60 , 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119 ; C.I. Pigment Orange 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Orange" is the same, only numbers are written), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51 , 55, 59, 61, 63, 64, 71, 73; C.I. Pigment Violet 1 (hereinafter "C.I. Pigment Violet" is the same and only numbers are described), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, 50; C.I. Pigment Red 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Red" is the same, only numbers are written), 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16 , 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49 :2, 50:1, 52:1, 53:1, 57, 57:1, 57:2, 58:2, 58:4, 60:1, 63:1, 63:2, 64:1, 81 :1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168 ; , 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 265; C.I. Pigment Blue 1 (hereinafter "C.I. Pigment Blue" is the same and only numbers are described), 2, 15, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, 66; C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 37; C.I. Pigment Brown 23, C.I. Pigment Brown 25, C.I. Pigment Brown 26, C.I. Pigment Brown 28; C.I. Pigment Black 1, C.I. Pigment Black 7.

양호한 차광성의 점에서, 착색제 (B)의 총 질량에 대한, 카본 블랙의 질량의 비율은, 70질량% 이상이 바람직하고, 80질량% 이상이 보다 바람직하고, 90질량% 이상이 더욱 바람직하고, 100질량%인 것이 특히 바람직하다.From the viewpoint of good light-shielding properties, the ratio of the mass of carbon black to the total mass of the coloring agent (B) is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and still more preferably 90% by mass or more. , 100% by mass is particularly preferred.

착색 감광성 조성물의 조제에 이용되는 착색제 (B)의 형태는 특별히 한정되지 않는다. 착색제 (B)는, 분체로서 사용되어도 좋고, 분산액으로서 사용되어도 좋다. 착색제 (B)는, 바람직하게는, 분산액으로서, 착색 감광성 조성물의 조제에 이용된다.The form of the coloring agent (B) used for preparation of a colored photosensitive composition is not specifically limited. The coloring agent (B) may be used as a powder or as a dispersion. A coloring agent (B) is preferably used as a dispersion liquid for preparation of a colored photosensitive composition.

분산액으로서, 2종 이상의 착색제 (B)를 포함하는 분산액을 이용해도 좋다. 또한, 각각 상이한 종류의 착색제를 포함하는, 2종 이상의 분산액을 이용해도 좋다.As a dispersion liquid, you may use the dispersion liquid containing 2 or more types of colorants (B). Moreover, you may use 2 or more types of dispersion liquids each containing different types of colorants.

분산매로서는, 예를 들면, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 셀로솔브아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메톡시프로필아세테이트, 2-메톡시에틸아세테이트 3-에톡시에틸프로피오네이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르프로피오네이트 등의 유기 용매나, 물 등을 이용할 수 있다.Examples of the dispersion medium include propylene glycol monomethyl ether acetate, cellosolve acetate, 3-methoxybutyl acetate, methoxypropyl acetate, 2-methoxyethyl acetate, 3-ethoxyethyl propionate, and propylene glycol monomethyl ether. Organic solvents, such as propionate, water, etc. can be used.

착색제 (B)의 분산액 중에서의 분산의 안정화나, 착색 감광성 조성물에 있어서의 착색제 (B)의 분산성을 양호하게 하기 위해, 착색제 (B)에, 분산제를 더해도 좋다.A dispersing agent may be added to the coloring agent (B) in order to stabilize the dispersion of the coloring agent (B) in the dispersion and improve the dispersibility of the coloring agent (B) in the colored photosensitive composition.

분산제로서는, 폴리에틸렌이민계 분산제, 우레탄계 분산제, 아크릴 수지계 분산제 등의 고분자 분산제를 이용하는 것이 바람직하다. 이들 분산제 중에서는, 현상 후의 잔사의 발생하기 어려움의 점에서, 우레탄계 분산제가 바람직하다.As the dispersing agent, it is preferable to use a polymeric dispersing agent such as a polyethyleneimine dispersing agent, a urethane dispersing agent, or an acrylic resin dispersing agent. Among these dispersants, urethane-based dispersants are preferred from the viewpoint of the difficulty in generating residues after development.

또한, 구리 화합물 등의 분산 조제를 이용해도 좋다. 구리 화합물로서는, 예를 들면 구리 프탈로시아닌을 들 수 있다.Moreover, you may use dispersion aids, such as a copper compound. As a copper compound, copper phthalocyanine is mentioned, for example.

또한, 분산제에 기인하는 부식성의 가스가 경화막으로부터 생기는 경우도 있다. 이 때문에, 착색제 (B)가, 분산제를 이용하는 일 없이 분산 처리되는 것도 바람직한 태양의 일 예이다.In addition, corrosive gas resulting from the dispersant may be generated from the cured film. For this reason, it is also an example of a preferable aspect that the colorant (B) is subjected to dispersion treatment without using a dispersant.

착색제 (B)가 분산제를 포함하는 경우의 착색제 (B)에 있어서의 분산제의 비율은, 예를 들면, 5질량% 이상 60질량% 이하이고, 10질량% 이상 50질량% 이하가 바람직하다.The ratio of the dispersant in the coloring agent (B) in case the coloring agent (B) contains the dispersant is, for example, 5 mass% or more and 60 mass% or less, and 10 mass% or more and 50 mass% or less are preferable.

착색제 (B)의 분산액의 점도는, 특별히 제한되지 않는다. 분산액의 점도는, 콘플레이트형 점도계에 의한 25℃에서의 측정값으로서, 3mPa·s 이상 200mPa·s 이하인 것이 바람직하다.The viscosity of the dispersion of the colorant (B) is not particularly limited. The viscosity of the dispersion is preferably 3 mPa·s or more and 200 mPa·s or less as a value measured at 25° C. by a cone plate viscometer.

분산액 중의 착색제 (B)의 입자경은, 분산 평균 입자경으로서 80㎚ 이상 300㎚ 이하가 바람직하다. 분산 평균 입자경은, 레이저 회절식의 입도 분포계를 이용하여 측정할 수 있다.As for the particle diameter of the coloring agent (B) in a dispersion liquid, 80 nm or more and 300 nm or less are preferable as a dispersion average particle diameter. The average dispersion particle diameter can be measured using a laser diffraction type particle size distribution analyzer.

착색 감광성 조성물의 고형분 전체의 질량에 대한 착색제 (B)의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 착색제 (B)의 함유량의 총량의 상한값은, 70질량% 이하이면 좋고, 65질량% 이하이면 좋고, 60질량% 이하이면 좋다. 하한은, 전체 고형분 중에 통상 1질량% 이상이고, 예를 들면, 10질량% 이상이고, 20질량% 이상이 바람직하고, 30질량% 이상이 보다 바람직하다.Although the content ratio of the coloring agent (B) with respect to the mass of the whole solid content of the coloring photosensitive composition is not specifically limited, The upper limit of the total amount of content of the coloring agent (B) should just be 70 mass % or less, and just 65 mass % or less, 60 It is good if it is mass % or less. The lower limit is usually 1% by mass or more in the total solid content, for example, 10% by mass or more, preferably 20% by mass or more, and more preferably 30% by mass or more.

또한, 본 명세서에 있어서는, 전술의 착색제 (B)량에 대해서, 착색제 (B)와 함께 존재하는 분산제의 양도 포함하는 값으로서 정의할 수 있다.In addition, in this specification, it can define as a value which includes the amount of the dispersing agent which exists together with a coloring agent (B) with respect to the amount of the coloring agent (B) mentioned above.

착색 감광성 조성물은, 용제 (C)를 함유한다. 용제 (C)로서는, 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A)를 합성할 때에도 예를 들었지만, 예를 들면, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라하이드로푸란 등의 다른 에테르류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온, 2-헵탄온, 3-헵탄온 등의 케톤류; 2-하이드록시프로피온산 메틸, 2-하이드록시프로피온산 에틸 등의 락트산 알킬에스테르류; 2-하이드록시-2-메틸프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에톡시아세트산 에틸, 하이드록시아세트산 에틸, 2-하이드록시-3-메틸부탄산 메틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 에틸, 아세트산 n-프로필, 아세트산 이소프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 이소부틸, 포름산 n-펜틸, 아세트산 이소펜틸, 프로피온산 n-부틸, 부티르산 에틸, 부티르산 n-프로필, 부티르산 이소프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 n-프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소부탄산 에틸 등의 다른 에스테르류; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류; N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류 등, 아세트산 벤질, 프로피온산 벤질, 부탄산 벤질 및, 펜탄산 벤질 등의 지방족 카본산의 벤질에스테르를 들 수 있다. 이들 용제는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다.The coloring photosensitive composition contains a solvent (C). Examples of the solvent (C) include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, and ethylene glycol. Mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene Glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, di (poly)alkylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, and tripropylene glycol monoethyl ether; (poly)alkylenes such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate glycol monoalkyl ether acetates; other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and tetrahydrofuran; Ketones, such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone; lactate alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; 2-Hydroxy-2-methylethylpropionate, 3-methoxymethylpropionate, 3-methoxyethylpropionate, 3-ethoxymethylpropionate, 3-ethoxyethylpropionate, ethoxyacetate ethyl, hydroxyacetate ethyl, 2 -Hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methoxybutylacetate, 3-methyl-3-methoxybutylacetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, Isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-pentyl formate, isopentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, other esters such as n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and ethyl 2-oxobutanoate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; amides such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, etc., benzyl esters of aliphatic carbon acids such as benzyl acetate, benzyl propionate, benzyl butanoate, and benzyl pentanoate can be heard These solvents may be used alone or in combination of two or more.

상기 용제 중에서도, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 사이클로헥산온, 3-메톡시부틸아세테이트는, 후에 나타내는 광 중합 개시제 (E)에 대하여 우수한 용해성을 나타내기 때문에 바람직하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트를 이용하는 것이 특히 바람직하다. 또한, 도포성 등의 점에서, 상기 바람직한 용매에 상기 지방족 카본산의 벤질에스테르를 조합하여 이용해도 좋고, 상기 지방족 카본산의 벤질에스테르를 포함하는 경우의 지방족 카본산의 벤질에스테르의 함유량은 용제 (C) 전체에 대하여 1질량% 이상 10질량% 이하인 것이 바람직하다. 용제 (C)의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 조성물의 고형분 농도가 1질량% 이상 80질량% 이하가 되는 양이 바람직하고, 5질량% 이상 70질량% 이하가 되는 양이 보다 바람직하다.Among the above solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 3- Methoxybutyl acetate is preferable since it shows excellent solubility with respect to the photoinitiator (E) shown later, and it is especially preferable to use propylene glycol monomethyl ether acetate and 3-methoxybutyl acetate. In addition, from the viewpoint of coating properties, etc., the above-mentioned preferable solvent may be used in combination with the above-mentioned benzyl ester of aliphatic carboxylic acid, and the content of the benzyl ester of aliphatic carboxylic acid in the case of containing the above-mentioned benzyl ester of aliphatic carboxylic acid is the solvent ( C) It is preferable that it is 1 mass % or more and 10 mass % or less with respect to the whole. The content of the solvent (C) is not particularly limited, but the solid content concentration of the photosensitive composition is preferably 1% by mass or more and 80% by mass or less, and more preferably 5% by mass or more and 70% by mass or less.

상기 감광성 수지 조성물은 가교제 (D)를 함유하고 있어도 좋다. 상기 감광성 수지 조성물에 이용되는 가교제 (D)로서는, 라디칼 반응형의 아크릴레이트류, 양이온 반응형의 에폭시 화합물류, 그의 쌍방에 감응하는 비닐 화합물류, 말레이미드 화합물류 등의 화합물을 들 수 있다.The said photosensitive resin composition may contain the crosslinking agent (D). Examples of the crosslinking agent (D) used in the photosensitive resin composition include compounds such as radical reactive acrylates, cation reactive epoxy compounds, vinyl compounds sensitive to both, and maleimide compounds.

라디칼 반응형의 아크릴레이트류로서는, 단관능(메타)아크릴레이트류, 다관능(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있다.Examples of radical reactive acrylates include monofunctional (meth)acrylates and polyfunctional (meth)acrylates.

당해 단관능(메타)아크릴레이트류로서는, 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트모노메틸에테르, 페닐에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴아미드, 메틸올(메타)아크릴아미드, 메톡시메틸(메타)아크릴아미드, 에톡시메틸(메타)아크릴아미드, 프로폭시메틸(메타)아크릴아미드, 부톡시메톡시메틸(메타)아크릴아미드, N-메틸올(메타)아크릴아미드, N-하이드록시메틸(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴산, 푸마르산, 말레산, 무수 말레산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 크로톤산, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, tert-부틸아크릴아미드술폰산, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-페녹시-2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시-2-하이드록시프로필프탈레이트, 글리세린모노(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 프탈산 유도체의 하프(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 단관능 모노머는, 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the monofunctional (meth)acrylates include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, and polyethylene glycol (meth)acrylate. rate, polyethylene glycol (meth) acrylate monomethyl ether, phenylethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl ( meth)acrylate, (meth)acrylamide, methylol (meth)acrylamide, methoxymethyl (meth)acrylamide, ethoxymethyl (meth)acrylamide, propoxymethyl (meth)acrylamide, butoxymethoxy Methyl (meth)acrylamide, N-methylol (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, (meth)acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, sheet Laconic acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, tert-butylacrylamidesulfonic acid, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-Hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxy-2- Hydroxypropyl phthalate, glycerin mono(meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl(meth)acrylate, N,N-dimethylaminoethyl(meth)acrylate, glycidyl(meth)acrylate, 2,2,2 -Trifluoroethyl (meth)acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth)acrylate, half (meth)acrylate of a phthalic acid derivative, etc. are mentioned. These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

당해 다관능(메타)아크릴레이트류로서는, 예를 들면, 부탄디올디(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 노난디올디(메타)아크릴레이트, 데칸디올디(메타)아크릴레이트, 도데칸디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸이소시아누레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 아디프산 에폭시디(메타)아크릴레이트, 비스페놀에틸렌옥사이드디(메타)아크릴레이트, 수소화 비스페놀에틸렌옥사이드디(메타)아크릴레이트, 비스페놀디(메타)아크릴레이트, 하이드록시피발산 네오펜틸글리콜의 ε-카프로락톤 부가물인 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨과 ε-카프로락톤의 반응물인 폴리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨폴리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리에틸올프로판트리(메타)아크릴레이트 혹은 그의 에틸렌옥사이드 부가물, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트 혹은 그의 에틸렌옥사이드 부가물, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트 혹은 그의 에틸렌옥사이드 부가물, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 혹은 그의 에틸렌옥사이드 부가물, 에톡시화 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 트리사이클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 에톡시화 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌-프로필렌)글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 에톡시화 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 프로폭시화 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 프로폭시화 에톡시화 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시폴리에톡시페닐)프로판, 2-하이드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 프탈산 디글리시딜에스테르디(메타)아크릴레이트, 글리세린트리아크릴레이트, 글리세린폴리글리시딜에테르폴리(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트(즉, 톨릴렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 또는 헥사메틸렌디이소시아네이트 등과 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트와의 반응물), 메틸렌비스(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드메틸렌에테르, 다가 알코올과 N-메틸올(메타)아크릴아미드와의 축합물, 트리아크릴포르말, 2,4,6-트리옥소헥사하이드로-1,3,5-트리아진-1,3,5-트리스에탄올트리아크릴레이트 및, 2,4,6-트리옥소헥사하이드로-1,3,5-트리아진-1,3,5-트리스에탄올디아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional (meth)acrylates include butanedioldi(meth)acrylate, hexanedioldi(meth)acrylate, neopentylglycoldi(meth)acrylate, and nonanedioldi(meth)acrylate. , Decanedioldi(meth)acrylate, dodecanedioldi(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, tris(meth)acrylate ) Acryloyloxyethyl isocyanurate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, adipic acid epoxy di(meth)acrylate, bisphenol ethylene oxide di(meth)acrylate, hydrogenated bisphenol ethylene oxide di(meth)acrylate Acrylate, bisphenol di(meth)acrylate, di(meth)acrylate which is a ε-caprolactone adduct of hydroxypivalic acid neopentyl glycol, poly(meth)acrylate which is a reaction product of dipentaerythritol and ε-caprolactone , dipentaerythritol poly(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, triethylolpropane tri(meth)acrylate or its ethylene oxide adduct, pentaerythritol tri(meth)acrylate or its Ethylene oxide adduct, pentaerythritol tetra(meth)acrylate or its ethylene oxide adduct, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate or its ethylene oxide adduct, ethoxylated hexanediol di(meth)acrylate, tri Cyclodecanedimethanol di(meth)acrylate, 2-hydroxy-3-(meth)acryloyloxypropyl(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate Rate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di(meth)acrylate, poly(ethylene-propylene) glycol di(meth)acrylate, polytetramethylene glycol di(meth)acrylate, ethoxy Hydrogenated bisphenol A di(meth)acrylate, propoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di( meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, butylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexane glycol di(meth)acrylate, trimethylol Propane tri(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, 2,2-bis(4-(meth)acryloxydiethoxyphenyl)propane, 2,2-bis(4-(meth)acryloxypolye Toxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3-(meth)acryloyloxypropyl (meth)acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di(meth)acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di( meth)acrylate, phthalic acid diglycidyl ester di(meth)acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly(meth)acrylate, urethane (meth)acrylate (i.e., tolylene diisocyanate, trimethyl Hexamethylene diisocyanate, or a reaction product of hexamethylene diisocyanate and the like with 2-hydroxyethyl (meth)acrylate), methylenebis(meth)acrylamide, (meth)acrylamidemethylene ether, polyhydric alcohol and N-methylol ( Condensate with meth)acrylamide, triacrylformal, 2,4,6-trioxohexahydro-1,3,5-triazine-1,3,5-trisethanol triacrylate and, 2,4 ,6-trioxohexahydro-1,3,5-triazine-1,3,5-trisethanol diacrylate etc. are mentioned.

양이온 반응형의 에폭시 화합물류로서는, 에폭시 화합물을 포함하여 에폭시기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜에테르, 에틸글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, 비스페놀-A 디글리시딜에테르, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산카복시레이트(유니온·카바이드사 제조 「사일러큐어 UVR-6110」 등), 3,4-에폭시사이클로헥실에틸-3,4-에폭시사이클로헥산카복시레이트, 비닐사이클로헥센디옥사이드(유니온·카바이드사 제조 「ELR-4206」 등), 리모넨디옥사이드(가부시키가이샤 다이셀 제조 「셀록사이드 3000」 등), 알릴사이클로헥센디옥사이드, 3,4-에폭시-4-메틸사이클로헥실-2-프로필렌옥사이드, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)사이클로헥산-m-디옥산, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)아디페이트(유니온·카바이드사 제조 「사일러큐어 UVR-6128」 등), 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)아디페이트, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)에테르, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)에테르, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)디에틸실록산 등을 들 수 있다.The cationic reaction type epoxy compounds are not particularly limited as long as they are compounds having an epoxy group including epoxy compounds, and examples thereof include glycidyl (meth)acrylate, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, and butyl. Glycidyl ether, bisphenol-A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexane carboxylate ("Cylacure UVR-6110" manufactured by Union Carbide, etc.), 3, 4-epoxycyclohexylethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide ("ELR-4206" manufactured by Union Carbide, etc.), limonene dioxide ("Celoxide 3000" manufactured by Daicel Co., Ltd.), etc. ), allylcyclohexene dioxide, 3,4-epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide, 2-(3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy)cyclohexane- m-dioxane, bis(3,4-epoxycyclohexyl) adipate ("Cylacure UVR-6128" manufactured by Union Carbide, etc.), bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis(3 , 4-epoxycyclohexyl) ether, bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, bis(3,4-epoxycyclohexyl)diethylsiloxane, etc. are mentioned.

당해 비닐 화합물류로서는, 비닐에테르류, 스티렌류, 그 외의 비닐 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the vinyl compounds include vinyl ethers, styrenes, and other vinyl compounds.

당해 비닐에테르류로서는, 예를 들면, 에틸비닐에테르, 프로필비닐에테르, 하이드록시에틸비닐에테르, 에틸렌글리콜디비닐에테르 등을 들 수 있다.Examples of the vinyl ethers include ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, and ethylene glycol divinyl ether.

당해 스티렌류로서는, 예를 들면, 스티렌, 메틸스티렌, 에틸스티렌 등을 들 수 있다.Examples of the styrenes include styrene, methyl styrene, and ethyl styrene.

그 외의 비닐 화합물로서는, 예를 들면, 트리알릴이소시아누레이트, 트리메탈릴이소시아누레이트 등을 들 수 있다.As other vinyl compounds, triallyl isocyanurate, trimethylyl isocyanurate, etc. are mentioned, for example.

말레이미드 화합물류로서는, 분자 중에 1개 이상의 말레이미드기를 갖는 화합물이면, 특별히 한정되지 않는다. 그의 구체예로서는, N-페닐말레이미드, N-사이클로헥실말레이미드, N-하이드록시페닐말레이미드, N-아닐리노페닐말레이미드, N-카복시페닐말레이미드, N-(4-카복시-3-하이드록시페닐)말레이미드, 6-말레이미드헥산산, 4-말레이미드부티르산, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스{4-(4-말레이미드페녹시)-페닐}프로판, 4,4-디페닐메탄비스말레이미드, 비스(3,5-디메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3,5-디에틸-4-말레이미드페닐)메탄, 페닐메탄말레이미드, o-페닐렌비스말레이미드, m-페닐렌비스말레이미드, p-페닐렌비스말레이미드, o-페닐렌비스시트라콘이미드, m-페닐렌비스시트라콘이미드, p-페닐렌비스시트라콘이미드, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)-페닐)프로판, 3,3-디메틸-5,5-디에틸-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, 4-메틸-1,3-페닐렌비스말레이미드, 1,2-비스말레이미드에탄, 1,4-비스말레이미드부탄, 1,5-비스말레이미드펜탄, 1,5-비스말레이미드-2-메틸펜탄, 1,6-비스말레이미드헥산, 1,6-비스말레이미드-(2,2,4-트리메틸)헥산, 1,8-비스말레이미드-3,6-디옥사옥탄, 1,11-비스말레이미드-3,6,9-트리옥사운데칸, 1,3-비스(말레이미드메틸)사이클로헥산, 1,4-비스(말레이미드메틸)사이클로헥산, 4,4-디페닐에테르비스말레이미드, 4,4-디페닐술폰비스말레이미드, 1,3-비스(3-말레이미드페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-말레이미드페녹시)벤젠, 4,4-디페닐메탄비스시트라콘이미드, 2,2-비스[4-(4-시트라콘이미드페녹시)페닐]프로판, 비스(3,5-디메틸-4-시트라콘이미드페닐)메탄, 비스(3-에틸-5-메틸-4-시트라콘이미드페닐)메탄, 비스(3,5-디에틸-4-시트라콘이미드페닐)메탄, 폴리페닐메탄말레이미드 등, 하기식 (1), (2) 또는 (3)으로 나타나는 말레이미드 화합물, 플루오레세인-5-말레이미드 및, 이들 말레이미드 화합물의 프리폴리머, 또는 말레이미드 화합물과 아민 화합물의 프리폴리머 등을 들 수 있다.Maleimide compounds are not particularly limited as long as they are compounds having one or more maleimide groups in the molecule. Specific examples thereof include N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-hydroxyphenylmaleimide, N-anilinophenylmaleimide, N-carboxyphenylmaleimide, N-(4-carboxy-3-hydride) oxyphenyl) maleimide, 6-maleimidehexanoic acid, 4-maleimidebutyric acid, bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis{4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl}propane, 4,4-diphenylmethanebismaleimide, bis(3,5-dimethyl-4-maleimidephenyl)methane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl)methane, bis(3,5 -Diethyl-4-maleimidephenyl)methane, phenylmethanemaleimide, o-phenylenebismaleimide, m-phenylenebismaleimide, p-phenylenebismaleimide, o-phenylenebiscitraconimide , m-phenylenebiscitraconimide, p-phenylenebiscitraconimide, 2,2-bis(4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl)propane, 3,3-dimethyl-5, 5-diethyl-4,4-diphenylmethanebismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, 1,2-bismaleimideethane, 1,4-bismaleimidebutane, 1, 5-bismaleimide pentane, 1,5-bismaleimide-2-methylpentane, 1,6-bismaleimidehexane, 1,6-bismaleimide-(2,2,4-trimethyl)hexane, 1, 8-bismaleimide-3,6-dioxaoctane, 1,11-bismaleimide-3,6,9-trioxaundecane, 1,3-bis(maleimidemethyl)cyclohexane, 1,4- Bis(maleimidemethyl)cyclohexane, 4,4-diphenyletherbismaleimide, 4,4-diphenylsulfonebismaleimide, 1,3-bis(3-maleimidephenoxy)benzene, 1,3- Bis(4-maleimidephenoxy)benzene, 4,4-diphenylmethanebiscitraconimide, 2,2-bis[4-(4-citraconimidephenoxy)phenyl]propane, bis(3, 5-dimethyl-4-citraconimidephenyl)methane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-citraconimidephenyl)methane, bis(3,5-diethyl-4-citraconimidephenyl) ) Methane, polyphenylmethane maleimide, maleimide compounds represented by the following formula (1), (2) or (3), fluorescein-5-maleimide, prepolymers of these maleimide compounds, or maleimide compounds and prepolymers of amine compounds.

하기식 (1)로 나타나는 말레이미드 화합물로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, 다이와카세이고교(주)사 제조 BMI-2300(상품명)을 들 수 있다. 식 (2)로 나타나는 말레이미드 화합물로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, 닛뽄가야쿠(주)사 제조 MIR-3000(상품명)을 들 수 있다. 식 (3)으로 나타나는 말레이미드 화합물로서는, 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, 닛뽄가야쿠(주)사 제조 MIR-5000(상품명)을 들 수 있다.As a maleimide compound represented by following formula (1), a commercial item can also be used, For example, BMI-2300 (brand name) by Daiwa Chemical Industry Co., Ltd. is mentioned. As a maleimide compound represented by Formula (2), a commercial item can also be used, For example, Nippon Kayaku Co., Ltd. product MIR-3000 (brand name) is mentioned. As a maleimide compound represented by Formula (3), a commercial item can also be used, For example, Nippon Kayaku Co., Ltd. product MIR-5000 (brand name) is mentioned.

Figure pat00001
Figure pat00001

식 (1) 중, R1은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. n1은, 1 이상의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1∼10의 정수를 나타내고, 보다 바람직하게는 1∼5의 정수를 나타낸다.In formula (1), R 1 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. n 1 represents an integer greater than or equal to 1, preferably represents an integer of 1 to 10, more preferably represents an integer of 1 to 5.

Figure pat00002
Figure pat00002

식 (2) 중, R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. l은 각각 독립적으로, 1∼3의 정수를 나타내고, n2는, 1 이상의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1∼5의 정수를 나타낸다.In Formula (2), R 2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. 1 each independently represents an integer of 1 to 3, n 2 represents an integer of 1 or greater, preferably an integer of 1 to 5.

Figure pat00003
Figure pat00003

식 (3) 중, R3은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼5의 알킬기, 또는 페닐기를 나타내고, l2는, 각각 독립적으로, 1∼3의 정수를 나타내고, n3은, 1∼10의 정수를 나타낸다.In formula (3), each R 3 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, l 2 independently represents an integer of 1 to 3, and n 3 represents 1 to 3; Represents an integer of 10.

탄소수 1∼5의 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기 및, 네오펜틸기를 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, n-pentyl, A neopentyl group is mentioned.

가교제 (D)는, 단독으로 이용할 수도 있고, 또한, 2종 이상을 혼합하여 이용해도 좋다. 가교제 (D)를 포함하는 경우의 가교제 (D)의 착색 감광성 조성물 중의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 착색 감광성 조성물의 고형분 전체의 질량에 대하여 1질량% 이상 50질량% 이하가 바람직하고, 5질량% 이상 40질량% 이하가 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 감도, 현상성, 해상성의 밸런스를 취하기 쉬운 경향이 있다.A crosslinking agent (D) may be used independently, and may mix and use 2 or more types. Although content in the coloring photosensitive composition of the crosslinking agent (D) in the case of containing a crosslinking agent (D) is not specifically limited, 1 mass % or more and 50 mass % or less are preferable with respect to the mass of the whole solid content of coloring photosensitive composition, and 5 mass % More than 40 mass % or less is more preferable. By setting it as the said range, there exists a tendency to balance sensitivity, developability, and resolution easily.

착색 감광성 조성물은, 광 중합 개시제 (E)를 포함할 수 있다.The colored photosensitive composition may contain a photopolymerization initiator (E).

광 중합 개시제 (E)로서는, 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 광 중합 개시제를 이용할 수 있다.It does not specifically limit as a photoinitiator (E), A conventionally well-known photoinitiator can be used.

광 중합 개시제 (E)로서 구체적으로는, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-〔4-(2-하이드록시에톡시)페닐〕-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 비스(4-디메틸아미노페닐)케톤, 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, O-아세틸-1-[6-(2-메틸벤조일)-9-에틸-9H-카르바졸-3-일]에탄온옥심, (9-에틸-6-니트로-9H-카르바졸-3-일)[4-(2-메톡시-1-메틸에톡시)-2-메틸페닐]메탄온 O-아세틸옥심, 2-(벤조일옥시이미노)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1-옥탄온, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 4-벤조일-4'-메틸디메틸술피드, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조산 메틸, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 부틸, 4-디메틸아미노-2-에틸헥실벤조산, 4-디메틸아미노-2-이소아밀벤조산, 벤질-β-메톡시에틸아세탈, 벤질디메틸케탈, 1-페닐-1,2-프로판디온-2-(O-에톡시카보닐)옥심, o-벤조일벤조산 메틸, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤, 티옥산텐, 2-클로로티옥산텐, 2,4-디에틸티옥산텐, 2-메틸티옥산텐, 2-이소프로필티옥산텐, 2-에틸안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1,2-벤즈안트라퀴논, 2,3-디페닐안트라퀴논, 아조비스이소부티로니트릴, 벤조일퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페닐)-이미다졸릴 2량체, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, p,p'-비스디메틸아미노벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 벤질, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인부틸에테르, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 디클로로아세토페논, 트리클로로아세토페논, p-tert-부틸아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, p-tert-부틸트리클로로아세토페논, p-tert-부틸디클로로아세토페논, α,α-디클로로-4-페녹시아세토페논, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 디벤조스베론, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스-(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스-(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스-(9-아크리디닐)프로판, p-메톡시트리아진, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진, 2-에틸안트라퀴논, 2-터셔리부틸안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 2-아밀안트라퀴논, 2,4-디에틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 4,4'-비스메틸아미노벤조페논 등의 벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 이들 광 중합 개시제는, 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Specifically as the photopolymerization initiator (E), 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy ) Phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-(4- Dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, bis(4-dimethylaminophenyl) ketone, 2- Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one , O-acetyl-1-[6-(2-methylbenzoyl)-9-ethyl-9H-carbazol-3-yl]ethanone oxime, (9-ethyl-6-nitro-9H-carbazol-3- yl)[4-(2-methoxy-1-methylethoxy)-2-methylphenyl]methanone O-acetyloxime, 2-(benzoyloxyimino)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1 -Octanone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-benzoyl-4'-methyldimethylsulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, Butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid, benzyl-β-methoxyethylacetal, benzyldimethylketal, 1-phenyl-1,2- Propanedione-2-(O-ethoxycarbonyl)oxime, methyl o-benzoylbenzoate, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, thiocyanate Oxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2- Benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercaptobenzooxazole, 2-mercaptobenzo Thiazole, 2-(o-chlorophenyl)-4,5-di(m-methoxyphenyl)-imidazolyl dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p,p'-bisdimethylaminobenzophenone , 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, Benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone , dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, α,α-dichloro- 4-phenoxyacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosberone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 1,7 -Bis-(9-acridinyl)heptane, 1,5-bis-(9-acridinyl)pentane, 1,3-bis-(9-acridinyl)propane, p-methoxytriazine, 2 ,4,6-tris(trichloromethyl)-s-triazine, 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(5-methylfuran-2- yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s -triazine, 2-[2-(4-diethylamino-2-methylphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(3,4- Dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-(4-ethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-n-butoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)- s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(3-bromo-4-methoxy)phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(2- Bromo-4-methoxy)phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(3-bromo-4-methoxy)styrylphenyl-s-triazine, 2,4 -Bis-trichloromethyl-6-(2-bromo-4-methoxy)styrylphenyl-s-triazine, 2-ethylanthraquinone, 2-tertiarybutylanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 2 -Amylanthraquinone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, acetophenonedimethylketal, benzyldimethylketal, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulphate feed, benzophenones such as 4,4'-bismethylaminobenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, and the like. can These photoinitiators can be used individually or in combination of 2 or more types.

이들 중에서도, 옥심계의 광 중합 개시제를 이용하는 것이, 감도의 면에서 특히 바람직하다. 옥심계의 광 중합 개시제 중에서, 특히 바람직한 것으로서는, O-아세틸-1-[6-(2-메틸벤조일)-9-에틸-9H-카르바졸-3-일]에탄온옥심, 에탄온,1-[9-에틸-6-(피롤-2-일카보닐)-9H-카르바졸-3-일],1-(O-아세틸옥심) 및, 2-(벤조일옥시이미노)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1-옥탄온을 들 수 있다.Among these, it is particularly preferable from the viewpoint of sensitivity to use an oxime-based photopolymerization initiator. Among the oxime photopolymerization initiators, particularly preferred are O-acetyl-1-[6-(2-methylbenzoyl)-9-ethyl-9H-carbazol-3-yl]ethanone oxime, ethanone,1 -[9-ethyl-6-(pyrrole-2-ylcarbonyl)-9H-carbazol-3-yl],1-(O-acetyloxime) and, 2-(benzoyloxyimino)-1-[4 -(phenylthio)phenyl]-1-octanone.

전술한 바와 같이, 착색 감광성 조성물은, 광 중합 개시제 (E)로서 옥심에스테르 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 옥심에스테르 화합물은, 자외선을 흡수하여 라디칼을 발생하는 능력이 우수하다. 이 때문에, 옥심에스테르 화합물은, 고감도이고, 고농도의 차광제 등의 착색제 (B)를 포함하는 경우라도, 적은 노광량으로 착색 감광성 조성물을 충분히 경화시키기 쉽다. 착색제 (B)를 많이 포함하는 착색 감광성 조성물의 경우, 착색 감광성 조성물을 형성한 막의 광학 농도가 3일 때, 심층부의 자외선 노광량은 표층부(최표면)의 자외선 노광량보다도 상당히 작지만, 옥심에스테르 화합물은, 그러한 상대적으로 적은 자외선 노광량에서도 라디칼을 발생하여, 착색 감광성 조성물을 양호하게 경화시킬 수 있다.As mentioned above, it is preferable that the colored photosensitive composition contains an oxime ester compound as a photoinitiator (E). An oxime ester compound is excellent in ability to generate radicals by absorbing ultraviolet rays. For this reason, even when an oxime ester compound is highly sensitive and contains coloring agents (B), such as a high-concentration light-shielding agent, it is easy to fully harden a coloring photosensitive composition with a small exposure amount. In the case of a coloring photosensitive composition containing a large amount of colorant (B), when the optical density of the film on which the colored photosensitive composition is formed is 3, the ultraviolet light exposure amount of the deep layer portion is considerably smaller than the ultraviolet light exposure amount of the surface layer portion (outmost surface), but the oxime ester compound, Radicals are generated even at such a relatively small amount of ultraviolet light exposure, and the colored photosensitive composition can be cured satisfactorily.

또한, 전술한 착색제 (B)를 착색 감광성 조성물에 고농도로 배합한 경우, 착색 감광성 조성물로 이루어지는 도포막 중에서, 착색제 (B)의 1차 응집체(어그리게이트)가 불가피적으로 생긴다. 그러나, 광 중합 개시제 (E)로서 옥심에스테르 화합물을 포함하는 착색 감광성 조성물을 이용하는 경우, 어그리게이트가 복잡하게 서로 겹친 근소한 극간에서도, 광 중합 개시제 (E)는 자외선 조사 시에 라디칼을 발생시킨다.In addition, when the above-mentioned coloring agent (B) is blended in a high concentration in the coloring photosensitive composition, primary aggregates (aggregates) of the coloring agent (B) inevitably occur in the coating film composed of the coloring photosensitive composition. However, when using a colored photosensitive composition containing an oxime ester compound as the photopolymerization initiator (E), the photopolymerization initiator (E) generates radicals during ultraviolet irradiation even in a slight gap where the aggregates overlap each other in a complicated manner.

이 결과, 착색 감광성 조성물의 경화물은, 상온 상습 또한 대기압의 환경하에 있어서, 기판으로의 밀착성이나 전기 저항률(절연성)이 우수할 뿐만 아니라, 경화물이 고온 고습 고압 환경에 폭로된 경우라도, 기판으로의 밀착성이나, 전기 저항률(절연성)이 저하되기 어렵다. 고온 고습 고압 환경하에서의 내구성은, 소위 PCT 시험(프레셔 쿠커 시험)에 의해 확인할 수 있다.As a result, the cured product of the colored photosensitive composition has excellent adhesion to the substrate and electrical resistivity (insulation) in an environment of normal temperature, normal humidity and atmospheric pressure, and even when the cured product is exposed to a high-temperature, high-humidity, high-pressure environment, the substrate Adhesion to furnace and electric resistivity (insulation) are hard to fall. Durability in a high-temperature, high-humidity, high-pressure environment can be confirmed by a so-called PCT test (pressure cooker test).

이 때문에, 옥심에스테르 화합물을 포함하는 착색 감광성 조성물의 경화물(착색막)은, 사용 환경이 고온이나 다습한 경우라도, 성능의 저하가 생기기 어렵다.For this reason, even if the hardened|cured material (colored film) of the coloring photosensitive composition containing an oxime ester compound is a high temperature and high humidity use environment, it is hard to produce a fall in performance.

광 중합 개시제 (E)로서는, 옥심에스테르 화합물과, 옥심에스테르 화합물 이외의 광 중합 개시제를 조합하여 사용해도 좋다. 이 경우, 광 중합 개시제 (E) 전체의 질량에 대한 옥심에스테르 화합물의 질량의 비율은, 20질량% 이상이 바람직하고, 30질량% 이상이 보다 바람직하고, 35질량% 이상이 보다 더욱 바람직하고, 40질량% 이상이 특히 바람직하다.As a photoinitiator (E), you may use combining an oxime ester compound and photoinitiators other than an oxime ester compound. In this case, the ratio of the mass of the oxime ester compound to the total mass of the photopolymerization initiator (E) is preferably 20 mass% or more, more preferably 30 mass% or more, and even more preferably 35 mass% or more, 40 mass % or more is especially preferable.

옥심에스테르 화합물 이외의 광 중합 개시제로서는, 예를 들면, 아미노알킬페논계 광 중합 개시제를 적합하게 이용할 수 있다.As photoinitiators other than an oxime ester compound, an aminoalkyl phenone type photoinitiator can be used suitably, for example.

아미노알킬페논계 화합물의 예로서는, 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(예를 들면, 치바·스페셜티·케미컬즈사 제조의 IRGACURE369), 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(예를 들면, 치바·스페셜티·케미컬즈사 제조의 IRGACURE379), 2-(4-에틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(4-이소프로필벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(4-n-부틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(4-이소부틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(4-n-도데실벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(3,4-디메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(4-메톡시벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(4-에톡시벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(4-하이드록시메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-〔4-(2-하이드록시에톡시)벤질〕-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-〔4-(2-메톡시에톡시)벤질〕-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(4-이소프로필벤질)-2-〔(n-부틸)(메틸)아미노〕-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(4-n-부틸벤질)-2-〔(n-부틸)(메틸)아미노〕-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(4-이소프로필벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)펜탄-1-온, 2-(4-이소부틸벤질)-2-〔(n-부틸)(메틸)아미노〕-1-(4-모르폴리노페닐)펜탄-1-온, 2-(4-n-부틸옥시벤질)-2-〔(n-부틸)(메틸)아미노〕-1-(4-모르폴리노페닐)펜탄-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-〔디(n-옥틸)아미노〕-1-(4-모르폴리노페닐)헥산-1-온 및, 2-(4-n-도데실벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)옥탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of aminoalkylphenone compounds include 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one (e.g., IRGACURE369 manufactured by Ciba Specialty Chemicals); 2-(4-methylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one (for example, IRGACURE379 manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2-( 4-Ethylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-(4-isopropylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4 -Morpholinophenyl)butan-1-one, 2-(4-n-butylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-(4 -Isobutylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-(4-n-dodecylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1- (4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-(3,4-dimethylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2- (4-methoxybenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-(4-ethoxybenzyl)-2-(dimethylamino)-1- (4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-(4-hydroxymethylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2- [4-(2-hydroxyethoxy)benzyl]-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-[4-(2-methoxyethoxy) Benzyl] -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2- (4-isopropylbenzyl) -2- [(n-butyl) (methyl) amino] - 1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-(4-n-butylbenzyl)-2-[(n-butyl)(methyl)amino]-1-(4-morpholinophenyl )butan-1-one, 2-(4-isopropylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)pentan-1-one, 2-(4-isobutylbenzyl)- 2-[(n-butyl)(methyl)amino]-1-(4-morpholinophenyl)pentan-1-one, 2-(4-n-butyloxybenzyl)-2-[(n-butyl) (Methyl)amino]-1-(4-morpholinophenyl)pentan-1-one, 2-(4-methylbenzyl)-2-[di(n-octyl)amino]-1-(4-morpholyl) Nophenyl)hexan-1-one, 2-(4-n-dodecylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)octan-1-one, etc. are mentioned.

그 중에서도, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온이 바람직하다.Especially, 2-(4-methylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one is preferable.

옥심에스테르 화합물과 함께, 아미노알킬페논계 광 중합 개시제를 조합하면, 착색 감광성 조성물을 이용하여 형성되는 패턴화된 착색막의 단면 형상을 제어하기 쉽다.When an aminoalkyl phenone type photoinitiator is combined with an oxime ester compound, it is easy to control the cross-sectional shape of the patterned colored film formed using a colored photosensitive composition.

이는, 아미노알킬페논계 광 중합 개시제가, 상대적으로 착색 감광성 조성물의 표층 부분(노광하는 빛에 대치하는 면과 그의 근방)에 대하여 광 중합 라디칼을 발생시키는 경향이 있고, 옥심에스테르 화합물은, 상대적으로 착색 감광성 조성물의 심층 부분에 대해서도 광 중합 라디칼을 발생시키는 경향이 있기 때문이라고 생각된다. 이 경향은 착색 감광성 조성물의 막두께가 두꺼울수록 현저하게 나타나지만, 1㎛ 이하의 얇은 막두께에서도 확인된다.This is because the aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator tends to generate photopolymerization radicals relatively to the surface layer portion (the surface facing the exposed light and its vicinity) of the colored photosensitive composition, and the oxime ester compound is relatively It is considered that this is because there is a tendency to generate photopolymerization radicals also in the deep layer portion of the colored photosensitive composition. Although this tendency appears more remarkably as the film thickness of the colored photosensitive composition is thicker, it is confirmed even in a thin film thickness of 1 µm or less.

또한, 옥심에스테르 화합물과 함께, 아미노알킬페논계 광 중합 개시제를 이용하는 부차적인 효과로서, 종합적으로 감도가 향상하여, 적은 노광량으로 착색 감광성 조성물의 경화물을 얻을 수 있다. 또한, 옥심에스테르 화합물과 함께, 아미노알킬페논계 광 중합 개시제를 이용하는 경우, 라인 엣지의 직진성과 기판에 대한 밀착성이 보다 양호하여, 패턴의 결함이 적은 패턴화된 착색막을 형성하기 쉽다. In addition, as a secondary effect of using an aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator together with an oxime ester compound, the sensitivity is improved comprehensively, and a cured product of the colored photosensitive composition can be obtained with a small exposure amount. Moreover, when using an aminoalkyl phenone type photoinitiator together with an oxime ester compound, the linearity of a line edge and the adhesiveness to a board|substrate are more favorable, and it is easy to form a patterned colored film with few pattern defects.

착색 감광성 조성물에 있어서, 광 중합 개시제 (E)가, 옥심에스테르 화합물과, 아미노알킬페논계 광 중합 개시제를 포함하는 경우, 옥심에스테르 화합물의 질량과, 아미노알킬페논계 광 중합 개시제의 질량과의 합계에 대한, 아미노알킬페논계 광 중합 개시제의 질량의 비율은, 20질량% 이상 75질량% 이하가 바람직하고, 25질량% 이상 70질량% 이하가 보다 바람직하고, 30질량% 이상 60질량% 이하가 특히 바람직하다.Colored photosensitive composition WHEREIN: When a photoinitiator (E) contains an oxime ester compound and an aminoalkyl phenone type photoinitiator, the total of the mass of the oxime ester compound and the mass of an aminoalkyl phenone type photoinitiator The mass ratio of the aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator is preferably 20% by mass or more and 75% by mass or less, more preferably 25% by mass or more and 70% by mass or less, and 30% by mass or more and 60% by mass or less. particularly preferred.

착색 감광성 조성물에 있어서의 광 중합 개시제 (E)의 함유량은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 광 중합 개시제 (E)의 함유량은, 착색 감광성 조성물의 고형분의 질량에 대하여, 0.1질량% 이상 30질량% 이하가 바람직하고, 0.3질량% 이상 20질량% 이하가 보다 바람직하고, 0.5질량% 이상 10질량%로 이하가 특히 바람직하다.Content of the photoinitiator (E) in a colored photosensitive composition is not specifically limited in the range which does not impair the objective of this invention. 0.1 mass % or more and 30 mass % or less are preferable with respect to the mass of the solid content of a colored photosensitive composition, and, as for content of a photoinitiator (E), 0.3 mass % or more and 20 mass % or less are more preferable, and 0.5 mass % or more 10 In terms of mass%, the following is particularly preferred.

본 발명의 착색 감광성 조성물에 이용되는 경화제 (F)를 사용할 수 있다. 경화제 (F)로서는, 예를 들면, 에폭시 화합물, 옥사진 화합물 등을 들 수 있다. 경화제 (F)는, 경화 처리 중, 그 후의 내열성을 양호하게 하기 위해 첨가 가능하고 착색 감광성 조성물에 포함되는 카복실기나 수산기와 가열에 의해 반응함으로써, 내열 분해성을 양호하게 하고자 하는 경우에 특히 바람직하게 이용된다.The curing agent (F) used in the colored photosensitive composition of the present invention can be used. Examples of the curing agent (F) include epoxy compounds and oxazine compounds. The curing agent (F) can be added to improve heat resistance thereafter during the curing treatment, and is particularly preferably used when thermal decomposition resistance is improved by reacting with a carboxyl group or a hydroxyl group contained in the colored photosensitive composition by heating. do.

경화제 (F)로서의 에폭시 화합물의 구체예로서는, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 트리스하이드록시페닐메탄형 에폭시 수지, 디사이클로펜타디엔페놀형 에폭시 수지, 비스페놀-A형 에폭시 수지, 비스페놀-F형 에폭시 수지, 비페놀형 에폭시 수지, 비스페놀-A 노볼락형 에폭시 수지, 글리옥살형 에폭시 수지, 나프탈렌 골격 함유 에폭시 수지, 카르도 골격 함유 에폭시 수지, 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Specific examples of the epoxy compound as the curing agent (F) include phenol novolak type epoxy resins, cresol novolak type epoxy resins, trishydroxyphenylmethane type epoxy resins, dicyclopentadiene phenol type epoxy resins, bisphenol-A type epoxy resins, Bisphenol-F type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, bisphenol-A novolak type epoxy resin, glyoxal type epoxy resin, naphthalene skeleton-containing epoxy resin, cardo skeleton-containing epoxy resin, bisphenol fluorene type epoxy resin, alicyclic An epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, etc. are mentioned.

당해 페놀노볼락형 에폭시 수지로서는, 예를 들면, 에피클론 N-770(DIC(주) 제조), D.E.N438(다우·케미컬사 제조), jER154(재팬에폭시레진(주) 제조), EPPN-201, RE-306(모두 닛뽄가야쿠(주) 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the phenol novolac type epoxy resin include Epiclon N-770 (manufactured by DIC Corporation), D.E.N438 (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.), jER154 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), and EPPN-201. , RE-306 (both manufactured by Nippon Gayaku Co., Ltd.), and the like.

당해 크레졸노볼락형 에폭시 수지로서는, 예를 들면, 에피클론 N-695(DIC(주) 제조), EOCN-102S, EOCN-103S, EOCN-104S(모두 닛뽄가야쿠(주) 제조), UVR-6650(유니온카바이드사 제조), ESCN-195(스미토모카가쿠고교(주) 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the cresol novolak type epoxy resin include Epiclon N-695 (manufactured by DIC Corporation), EOCN-102S, EOCN-103S, and EOCN-104S (both manufactured by Nippon Gayaku Co., Ltd.), UVR- 6650 (made by Union Carbide Co., Ltd.), ESCN-195 (made by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned.

당해 트리스하이드록시페닐메탄형 에폭시 수지로서는, 예를 들면, EPPN-503, EPPN-502H, EPPN-501H(모두 닛뽄가야쿠(주) 제조), TACTIX-742(다우·케미컬사 제조), jER E1032H60(재팬에폭시레진(주) 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the trishydroxyphenylmethane type epoxy resin include EPPN-503, EPPN-502H, EPPN-501H (all manufactured by Nippon Gayaku Co., Ltd.), TACTIX-742 (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.), and jER E1032H60. (Japan Epoxy Resin Co., Ltd. product) etc. are mentioned.

당해 디사이클로펜타디엔페놀형 에폭시 수지로서는, 예를 들면, 에피클론 EXA-7200(DIC(주) 제조), TACTIX-556(다우·케미컬사 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the dicyclopentadiene phenol type epoxy resin include Epiclon EXA-7200 (manufactured by DIC Corporation) and TACTIX-556 (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.).

당해 비스페놀형 에폭시 수지로서는, 예를 들면, jER828, jER1001(모두 재팬에폭시레진(주) 제조), UVR-6410(유니온카바이드사 제조), D.E.R-331(다우·케미컬사 제조), YD-8125(토토카세이(주) 제조), NER-1202, NER-1302(모두 닛뽄가야쿠(주) 제조) 등의 비스페놀-A형 에폭시 수지, UVR-6490(유니온카바이드사 제조), YDF-8170(토토카세이(주) 제조), NER-7403, NER-7604(모두 닛뽄가야쿠(주) 제조) 등의 비스페놀-F형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Examples of the bisphenol type epoxy resin include jER828, jER1001 (both manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), UVR-6410 (manufactured by Union Carbide Co., Ltd.), D.E.R-331 (manufactured by Dow Chemical Co.), YD-8125 (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) Bisphenol-A type epoxy resins such as Toto Kasei Co., Ltd.), NER-1202, NER-1302 (both manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UVR-6490 (manufactured by Union Carbide Co., Ltd.), YDF-8170 (Toto Kasei Co., Ltd.) (manufactured by Co., Ltd.), NER-7403, NER-7604 (both manufactured by Nippon Gayaku Co., Ltd.), and other bisphenol-F type epoxy resins.

당해 비페놀형 에폭시 수지로서는, 예를 들면, NC-3000, NC-3000-H, NC-3000-L(모두 닛뽄가야쿠(주) 제조) 등의 비페놀형 에폭시 수지, YX-4000(재팬에폭시레진(주) 제조)의 비자일레놀형 에폭시 수지, YL-6121(재팬에폭시레진(주) 제조) 등을 들 수 있다.As the said biphenol type epoxy resin, biphenol type epoxy resins, such as NC-3000, NC-3000-H, NC-3000-L (all Nippon Kayaku Co., Ltd. product), YX-4000 (Japan), for example Non-ylenol type epoxy resin of Epoxy Resin Co., Ltd.), YL-6121 (product of Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), etc. are mentioned.

당해 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지로서는, 예를 들면, 에피클론 N-880(DIC(주) 제조), jER E157S75(재팬에폭시레진(주) 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the bisphenol A novolac type epoxy resin include Epiclon N-880 (manufactured by DIC Corporation) and jER E157S75 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.).

당해 나프탈렌 골격 함유 에폭시 수지로서는, 예를 들면, NC-7000(닛뽄가야쿠(주) 제조), EXA-4750(DIC(주) 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the naphthalene skeleton-containing epoxy resin include NC-7000 (manufactured by Nippon Gayaku Co., Ltd.) and EXA-4750 (manufactured by DIC Corporation).

당해 카르도 골격 함유 에폭시 수지로서는, 예를 들면 PG-100, CG-500, EG-200, EG-280(오사카가스케미컬(주) 제조) 등을 들 수 있다.As the said cardo skeleton containing epoxy resin, PG-100, CG-500, EG-200, EG-280 (Osaka Gas Chemicals Co., Ltd. product) etc. are mentioned, for example.

당해 글리옥살형 에폭시 수지로서는, 예를 들면, GTR-1800(닛뽄가야쿠(주) 제조) 등을 들 수 있다.As the said glyoxal type epoxy resin, GTR-1800 (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

당해 지환식 에폭시 수지로서는, 예를 들면, EHPE-3150(가부시키가이샤 다이셀 제조) 등을 들 수 있다. 당해 복소환식 에폭시 수지로서는, 예를 들면, TEPIC(닛산카가쿠(주) 제조) 등을 들 수 있다.As the said alicyclic epoxy resin, EHPE-3150 (made by Daicel Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example. As the said heterocyclic epoxy resin, TEPIC (made by Nissan Chemical Industries, Ltd.) etc. are mentioned, for example.

경화제 (F)로서의 옥사진 화합물의 구체예로서는 예를 들면, B-m형 벤조옥사진, P-a형 벤조옥사진, B-a형 벤조옥사진(모두 시코쿠카세이고교(주) 제조)을 들 수 있다.Specific examples of the oxazine compound as the curing agent (F) include B-m type benzoxazine, P-a type benzoxazine, and B-a type benzoxazine (all manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.).

경화제 (F)는 단독으로 이용할 수도 있고, 또한, 2종 이상을 혼합하여 이용해도 좋다.The curing agent (F) may be used alone or in combination of two or more.

경화제 (F)의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 착색 감광성 조성물의 고형분의 질량에 대하여 0∼40질량%인 것이 바람직하고, 3∼30질량%인 것이 보다 바람직하다. 경화제 (F)의 함유량을 상기의 범위로 함으로써, 내열성이 높은 경화막을 형성할 수 있는 감광성 수지 조성물을 얻기 쉽다.Although content of a hardening|curing agent (F) is not specifically limited, It is preferable that it is 0-40 mass % with respect to the mass of solid content of a coloring photosensitive composition, and it is more preferable that it is 3-30 mass %. By making content of a hardening|curing agent (F) into said range, it is easy to obtain the photosensitive resin composition which can form a cured film with high heat resistance.

상기 착색 감광성 조성물은, 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A), 착색제 (B), 용제 (C)에 더하여, 가교제 (D), 광 중합 개시제 (E)를 함유하는 착색 감광성 조성물로 함으로써, 높은 감광성, 높은 착색제 농도에서도 분산 가능하고, 또한 양호한 현상 특성을 가짐과 함께, 필요한 경우는 경화제 (F)도 함유함으로써, 내열성을 양호하게 할 수 있다.The coloring photosensitive composition is a coloring photosensitive composition containing an unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A), a colorant (B), and a solvent (C), as well as a crosslinking agent (D) and a photopolymerization initiator (E). While being photosensitive and dispersible even at a high colorant concentration, and having good development characteristics, heat resistance can be improved by containing a curing agent (F) if necessary.

착색 감광성 조성물은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 그 외의 성분 (G)로서, 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A), 가교제 (D) 및, 경화제 (F) 이외의 수지나, 표면 조정제, 밀착성 향상제, 그 외 각종 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 그 외의 성분 (G)의 첨가량에 대해서, 특별히 제한되지 않는다. 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위의 양의 그 외의 성분 (G)를 이용할 수 있다.The colored photosensitive composition, as other components (G), resins other than the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A), the crosslinking agent (D), and the curing agent (F), within the range that does not impair the object of the present invention; A surface conditioner, an adhesion improver, and other various additives may be included. The addition amount of the other component (G) is not particularly limited. Other components (G) can be used in an amount within a range that does not impair the object of the present invention.

≪표면 조정제≫≪Surface conditioner≫

표면 조정제는, 착색 감광성 조성물의 표면 장력을 저하시킴으로써, 표면 결함이나, 안료 등의 착색제의 불균일 분포에 기인하는 외관 불량(안료 등의 착색제의 불균일 분포)의 발생을 억제한다. 구체적으로는, 폴리디메틸실록산, 폴리에테르 변성 폴리실록산, 폴리메틸알킬실록산, 아르알킬기나 폴리에스테르쇄에 의해 변성된 폴리실록산 등을 적합하게 이용할 수 있다.The surface conditioner suppresses surface defects and appearance defects (uneven distribution of coloring agents such as pigments) caused by uneven distribution of coloring agents such as pigments by reducing the surface tension of the colored photosensitive composition. Specifically, polydimethylsiloxane, polyether-modified polysiloxane, polymethylalkylsiloxane, polysiloxane modified with an aralkyl group or polyester chain, and the like can be suitably used.

≪밀착성 향상제≫≪Adhesion improver≫

실란 커플링제, 티타네이트 커플링제, 알루미네이트 커플링제 등 공지의 커플링제를 이용할 수 있다. 이 중 유리 기판과의 밀착성을 높이는 관점에서, 실란 커플링제를 적합하게 이용할 수 있다.Known coupling agents such as silane coupling agents, titanate coupling agents, and aluminate coupling agents can be used. Among these, a silane coupling agent can be suitably used from a viewpoint of improving adhesiveness with a glass substrate.

착색 감광성 조성물은, 필요에 따라서, 상기 이외의 각종 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 구체적으로는, 증감제, 경화 촉진제, 광 가교제, 광 증감제, 분산 조제, 충전제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제, 열 중합 금지제, 소포제, 계면 활성제, 발액제, 연쇄 이동제, 광 개시 조제, 용제 등이 예시된다. 어느 첨가제도, 종래 공지의 것을 이용할 수 있다.The coloring photosensitive composition may contain various additives other than the above as needed. Specifically, a sensitizer, a curing accelerator, a photocrosslinking agent, a photosensitizer, a dispersing aid, a filler, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an aggregation inhibitor, a thermal polymerization inhibitor, an antifoaming agent, a surfactant, a liquid repellent, a chain transfer agent, and a light initiation aid , solvents, etc. are exemplified. As any additive, a conventionally well-known thing can be used.

계면 활성제로서는, 예를 들면, 음이온계 화합물, 양이온계 화합물, 비이온계 화합물 등을 들 수 있다.As surfactant, anionic compounds, cationic compounds, nonionic compounds, etc. are mentioned, for example.

열 중합 금지제로서는, 예를 들면, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노에틸에테르 등을 들 수 있다.As a thermal polymerization inhibitor, hydroquinone, hydroquinone monoethyl ether, etc. are mentioned, for example.

소포제로서는, 예를 들면, 실리콘계 화합물, 불소계 화합물 등을 들 수 있다.As an antifoamer, a silicone type compound, a fluorine type compound, etc. are mentioned, for example.

연쇄 이동제로서는, 예를 들면, 메르캅탄계 화합물, 할로겐계 화합물, 퀴논계 화합물, α-메틸스티렌다이머 등을 들 수 있다. 연쇄 이동제를 함유함으로써, 패턴 형상(특히, 홀 패턴의 CD 변화, 노광 마진)을 양호하게 컨트롤할 수 있다. 그 중에서도 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐(α-메틸스티렌다이머)은 상기 효과에 더하여, 승화물이나 착색, 취기를 저감할 수 있는 점에서 바람직하다.Examples of the chain transfer agent include mercaptan-based compounds, halogen-based compounds, quinone-based compounds, and α-methylstyrene dimer. By containing a chain transfer agent, the pattern shape (particularly, the CD change of the hole pattern and the exposure margin) can be well controlled. Among them, 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene (?-methylstyrene dimer) is preferable in that it can reduce sublimation, coloration, and odor in addition to the above effects.

광 개시 조제로서는, 예를 들면, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산 메틸, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 미힐러즈케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센 및, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다. 이들 광 개시 조제는, 1종 또는 2종 이상 조합하여 이용해도 좋다.Examples of photoinitiating aids include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 2-dimethylaminobenzoate. Ethylhexyl, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N,N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4'-bis(diethylamino)benzo phenone, 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, and the like. You may use these photoinitiation adjuvant 1 type or in combination of 2 or more types.

발액제로서는, 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지 등을 들 수 있다. 격벽의 표면에 발잉크성을 부여할 수 있는 점에서, 착색 감광성 조성물을 격벽의 형성에 사용할 때에는, 화소마다의 혼색을 막는 것으로 할 수 있다고 생각된다.Examples of the liquid repellent include fluorine atom-containing resins having a crosslinking group. From the point which ink repellency can be provided to the surface of a partition, when using a colored photosensitive composition for formation of a partition, it is thought that it can prevent color mixture for every pixel.

가교기로서는, 에폭시기 또는 에틸렌성 불포화기를 들 수 있고, 발액제의 현상액으로의 유출 억제의 관점에서, 에틸렌성 불포화기가 바람직하다. 또한 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지는, 퍼플루오로알킬기 및 퍼플루오로알킬렌에테르쇄의 어느 한쪽 또는 양쪽을 갖는 것이 바람직하다. 퍼플루오로알킬기로서는, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로헥실기, 퍼플루오로옥틸기 등을 들 수 있다. 퍼플루오로알킬렌에테르쇄로서는, -CF2-O-, -(CF2)2-O-, -(CF2)3-O-, -CF2-C(CF3)O-, -C(CF3)-CF2-O- 및 이들의 반복 단위를 갖는 2가의 기를 들 수 있다.As a crosslinking group, an epoxy group or an ethylenically unsaturated group is mentioned, and an ethylenically unsaturated group is preferable from a viewpoint of suppressing the outflow of a liquid repellent agent to a developing solution. Further, the fluorine atom-containing resin having a crosslinking group preferably has either or both of a perfluoroalkyl group and a perfluoroalkylene ether chain. As a perfluoroalkyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorohexyl group, a perfluorooctyl group, etc. are mentioned. As the perfluoroalkylene ether chain, -CF 2 -O-, -(CF 2 ) 2 -O-, -(CF 2 ) 3 -O-, -CF 2 -C(CF 3 )O-, -C (CF 3 )-CF 2 -O- and divalent groups having repeating units thereof.

가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지의 구체예로서는, 예를 들면 에폭시기 및 퍼플루오로알킬기를 갖는 아크릴 공중합 수지, 에폭시기 및 퍼플루오로알킬렌에테르쇄를 갖는 아크릴 공중합 수지, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬기를 갖는 아크릴 공중합 수지, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬렌에테르쇄를 갖는 아크릴 공중합 수지, 에폭시기 및 퍼플루오로알킬기를 갖는 에폭시(메타)아크릴레이트 수지, 에폭시기 및 퍼플루오로알킬렌에테르쇄를 갖는 에폭시(메타)아크릴레이트 수지, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬기를 갖는 에폭시(메타)아크릴레이트 수지, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬렌에테르쇄를 갖는 에폭시(메타)아크릴레이트 수지, 등을 들 수 있다. 그 중에서도 발잉크성의 관점에서, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬기를 갖는 아크릴 공중합 수지, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬렌에테르쇄를 갖는 아크릴 공중합 수지가 바람직하고, 에틸렌성 불포화기 및 퍼플루오로알킬렌에테르쇄를 갖는 아크릴 공중합 수지가 더욱 바람직하다. 이들 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지의 시판품으로서는, DIC사 제조 「메가팩(등록상표, 이하 동일) F116」, 「메가팩 F120」, 「메가팩 F142D」, 「메가팩 F144D」, 「메가팩 F150」, 「메가팩 F160」, 「메가팩 F171」, 「메가팩 F172」, 「메가팩 F173」, 「메가팩 F177」, 「메가팩 F178A」, 「메가팩 F178K」, 「메가팩 F179」, 「메가팩 F183」, 「메가팩 F184」, 「메가팩 F191」, 「메가팩 F812」, 「메가팩 F815」, 「메가팩 F824」, 「메가팩 F833」, 「메가팩 RS101」, 「메가팩 RS102」 「메가팩 RS105」, 「메가팩 RS201」, 「메가팩 RS202」, 「메가팩 RS301」, 「메가팩 RS303」 「메가팩 RS304」, 「메가팩 RS401」, 「메가팩 RS402」, 「메가팩 RS501」, 「메가팩 RS502」, 「메가팩 RS-72-K」, 「메가팩 RS-78」, 「메가팩 RS-90」, 「DEFENSA(등록상표, 이하 동일) MCF300」, 「DEFENSA MCF310」, 「DEFENSA MCF312」, 「DEFENSA MCF323」, 스리엠재팬사 제조 「플로라드 FC430」, 「플로라드 FC431」, 「FC-4430」, 「FC4432」, AGC사 제조 「아사히가드(등록상표) AG710」, 「사프론(등록상표, 이하 동일) S-382」, 「사프론 SC-101」, 「사프론 SC-102」, 「사프론 SC-103」, 「사프론 SC-104」, 「사프론 SC-105」, 「사프론 SC-106」 등의 상품명으로 시판되어 있는 불소 함유 유기 화합물을 사용할 수 있다.Specific examples of the fluorine atom-containing resin having a crosslinking group include, for example, an acrylic copolymer resin having an epoxy group and a perfluoroalkyl group, an acrylic copolymer resin having an epoxy group and a perfluoroalkylene ether chain, an ethylenically unsaturated group and a perfluoroalkyl group. An acrylic copolymer resin having an ethylenically unsaturated group and a perfluoroalkylene ether chain, an epoxy (meth)acrylate resin having an epoxy group and a perfluoroalkyl group, an epoxy group and a perfluoroalkylene ether chain An epoxy (meth)acrylate resin having an ethylenically unsaturated group and a perfluoroalkyl group, an epoxy (meth)acrylate resin having an ethylenically unsaturated group and a perfluoroalkylene ether chain, etc. can be mentioned. Among them, from the viewpoint of ink repellency, an acrylic copolymer resin having an ethylenically unsaturated group and a perfluoroalkyl group, and an acrylic copolymer resin having an ethylenically unsaturated group and a perfluoroalkylene ether chain are preferable, and an ethylenically unsaturated group and a purple An acrylic copolymer resin having a fluoroalkylene ether chain is more preferred. Examples of commercially available fluorine atom-containing resins having these crosslinking groups include “Megapack (registered trademark, hereinafter the same) F116”, “Megapack F120”, “Megapack F142D”, “Megapack F144D” and “Megapack F150” manufactured by DIC. ”, “Megapack F160”, “Megapack F171”, “Megapack F172”, “Megapack F173”, “Megapack F177”, “Megapack F178A”, “Megapack F178K”, “Megapack F179”, “Megapack F183”, “Megapack F184”, “Megapack F191”, “Megapack F812”, “Megapack F815”, “Megapack F824”, “Megapack F833”, “Megapack RS101”, “Megapack RS101” “Megapack RS102”, “Megapack RS105”, “Megapack RS201”, “Megapack RS202”, “Megapack RS301”, “Megapack RS303”, “Megapack RS304”, “Megapack RS401”, “Megapack RS402”, "Megapack RS501", "Megapack RS502", "Megapack RS-72-K", "Megapack RS-78", "Megapack RS-90", "DEFENSA (registered trademark) MCF300", "DEFENSA MCF310", "DEFENSA MCF312", "DEFENSA MCF323", "Florad FC430", "Florad FC431", "FC-4430", "FC4432" manufactured by 3M Japan, "Asahi Guard (registered)" manufactured by AGC Trademark) AG710”, “Saffron (registered trademark, the same hereinafter) S-382”, “Saffron SC-101”, “Saffron SC-102”, “Saffron SC-103”, “Saffron SC-104” ”, “Saffron SC-105”, “Saffron SC-106” and other commercially available fluorine-containing organic compounds can be used.

≪착색 감광성 조성물의 조제 방법≫<<Preparation method of colored photosensitive composition>>

착색 감광성 조성물은, 예를 들면, 상기 각 성분을 균일하게 교반, 혼합하고, 균일하게 용해, 분산시켜 조제한다. 혼합 시에 있어서는, 롤 밀, 볼 밀, 샌드 밀 등의 교반기로 혼합해도 좋다. 필요에 따라서 2㎛ 멤브레인 필터 등의 필터로 여과하여 조제할 수 있다.The coloring photosensitive composition is prepared by, for example, uniformly stirring and mixing each of the above components, dissolving and dispersing them uniformly. In the case of mixing, you may mix with a stirrer, such as a roll mill, a ball mill, and a sand mill. It can prepare by filtering with a filter, such as a 2 micrometer membrane filter, as needed.

≪착색막 및 패턴화된 착색막≫≪Colored film and patterned colored film≫

상기 착색 감광성 조성물을 경화함으로써, 착색막을 얻을 수 있다.A colored film can be obtained by hardening the said coloring photosensitive composition.

착색막의 제조 방법은, 착색 감광성 조성물을 도포하여 도포막을 형성하는 공정과, 도포막을 노광하는 공정을 포함한다.The manufacturing method of a colored film includes the process of apply|coating a colored photosensitive composition and forming a coating film, and the process of exposing a coating film.

또한, 패턴화된 착색막의 제조 방법은, 착색 감광성 조성물을 도포하여 도포막을 형성하는 공정과, 도포막을 위치 선택적으로 노광하는 공정과, 노광 후의 도포막을 현상하는 공정을 포함한다.Further, the method for producing a patterned colored film includes a step of forming a coated film by applying a colored photosensitive composition, a step of positionally selectively exposing the coated film, and a step of developing the coated film after exposure.

상기 착색 감광성 조성물을, 네거티브형 감광성 조성물로서 이용함으로써, 고농도의 착색제가 함유되어 있어도 직진성이 좋아 고정세한 패턴을 형성할 수 있다.By using the said coloring photosensitive composition as a negative photosensitive composition, even if a high-concentration coloring agent is contained, it can form a high-definition pattern with good linearity.

이하, 각 공정에 대해서 설명한다. 착색 감광성 조성물을 이용하여 도포막을 형성하는 것을 「도포막 형성 공정」이라고 기재한다. 도포막을 노광하는 것을 「노광 공정」이라고 기재한다. 노광된 도포막을 현상하는 것을 「현상 공정」이라고 기재한다.Hereinafter, each process is demonstrated. Forming a coating film using the colored photosensitive composition is described as a "coating film formation step". Exposing the coating film is described as an "exposure step". Developing the exposed coating film is described as a "development step".

≪도포막 형성 공정≫≪Coating film formation process≫

도포막 형성 공정에서는, 상기 착색 감광성 조성물을, 기판 상에 도포하여 도포막을 형성한다.In the coating film formation step, the colored photosensitive composition is applied onto a substrate to form a coating film.

기판의 종류는 특별히 한정되지 않고, 액정 표시 소자, 유기 EL 표시 소자, 유기 TFT 어레이 등의 광학 소자 등으로 이용되고 있는 여러 가지의 기판을 적절히 이용할 수 있다. 기판으로서, 예를 들면, 석영, 유리, 광학 필름, 세라믹 재료, 증착막, 자성막, 반사막, Ni, Cu, Cr, Fe 등의 금속 기판, SOG(Spin On Glass), 폴리에스테르 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리이미드 필름 등의 폴리머 기판, TFT 어레이 기판, PDP의 전극판, 유리나 투명 플라스틱 기판, ITO나 금속 등의 도전성 기재, 절연성 기재, 실리콘, 질화 실리콘, 폴리 실리콘, 산화 실리콘, 어모퍼스 실리콘 등의 반도체 제작 기판 등을 들 수 있다. 또한, 예를 들면 기판 상에 적층 구조를 형성하는 경우에 있어서, 기판 상에 이미 형성된 하부 구조가 되는 어떠한 층도, 착색 감광성 조성물이 적용되는 기재로서의 개념에 포함된다. 또한, 기재의 형상도 특별히 한정되지 않고, 판 형상이라도 좋고, 롤 형상이라도 좋다. 기재는, 예를 들면, 각종 패턴에 의해 표면에 요철을 가져도 좋다. 또한, 상기 기재로서는, 광 투과성, 또는, 비(非)광 투과성의 기재를 선택할 수 있다.The type of substrate is not particularly limited, and various substrates used for optical elements such as liquid crystal display elements, organic EL display elements, and organic TFT arrays can be suitably used. As the substrate, for example, quartz, glass, optical film, ceramic material, vapor deposition film, magnetic film, reflective film, metal substrate such as Ni, Cu, Cr, Fe, SOG (Spin On Glass), polyester film, polycarbonate film , polymer substrates such as polyimide films, TFT array substrates, PDP electrode plates, glass and transparent plastic substrates, conductive substrates such as ITO and metal, insulating substrates, semiconductors such as silicon, silicon nitride, polysilicon, silicon oxide, and amorphous silicon A production board|substrate etc. are mentioned. Further, for example, in the case of forming a laminated structure on a substrate, any layer that becomes a lower structure already formed on the substrate is included in the concept as a base material to which the colored photosensitive composition is applied. Also, the shape of the substrate is not particularly limited, and may be in a plate shape or in a roll shape. The base material may have unevenness on the surface by, for example, various patterns. In addition, as the substrate, a light-transmitting or non-light-transmitting substrate can be selected.

도포막 형성 공정에서는, 예를 들면, 롤 코터, 리버스 코터, 바 코터 등의 접촉 전사형 도포 장치나 스피너(회전식 도포 장치), 슬릿 코터, 커튼 플로우 코터 등의 비접촉형 도포 장치를 이용하여, 착색 감광성 조성물을, 기판 상에 도포하고, 필요에 따라서, 건조(프리베이킹)에 의해 용매를 제거하여 도포막을 형성한다.In the coating film forming step, for example, a contact transfer type coating device such as a roll coater, a reverse coater, or a bar coater, or a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device), a slit coater, or a curtain flow coater is used to form a color photosensitive coating. The composition is applied on a substrate and, if necessary, the solvent is removed by drying (prebaking) to form a coating film.

도포막의 막두께는 특별히 한정되지 않는다. 도포막의 두께로서는, 0.05㎛ 이상이 바람직하고, 1㎛ 이상이 보다 바람직하다. 도포막의 두께는, 예를 들면, 7㎛ 이상이면 좋고, 10㎛ 이상이면 좋다. 도포막의 두께의 상한은 특별히 없지만, 예를 들면 50㎛ 이하이면 좋고, 20㎛ 이하이면 좋다.The film thickness of the coating film is not particularly limited. As thickness of a coating film, 0.05 micrometer or more is preferable and 1 micrometer or more is more preferable. The thickness of the coating film may be, for example, 7 μm or more, and may be 10 μm or more. There is no particular upper limit on the thickness of the coating film, but it may be, for example, 50 μm or less, and 20 μm or less.

도포막을 필요에 따라서 건조시켜도 좋다. 건조 방법은, 특별히 한정되지 않는다. 건조 방법으로서는, 예를 들면, (1) 핫 플레이트에서 80℃ 이상 120℃ 이하, 바람직하게는 90℃ 이상 100℃ 이하의 온도에서 60초 이상 120초 이하의 사이 건조시키는 방법, (2) 실온에서 수시간 내지 수일간 방치하는 방법, (3) 온풍 히터나 적외선 히터 중에 수십분간 내지 수시간 넣어 용제를 제거하는 방법 등을 들 수 있다.You may dry the coating film as needed. A drying method is not particularly limited. As the drying method, for example, (1) a method of drying on a hot plate at a temperature of 80°C or more and 120°C or less, preferably 90°C or more and 100°C or less for 60 seconds or more and 120 seconds or less, (2) at room temperature A method of leaving it to stand for several hours to several days, (3) a method of removing the solvent by placing it in a warm air heater or an infrared heater for several tens of minutes to several hours, and the like.

≪노광 공정≫≪Exposure process≫

노광 공정에서는, 도포막 형성 공정에서 형성된 도포막을, 노광한다. 이에 따라, 착색 감광성 조성물의 경화막(착색막)이 얻어진다. 패턴 형상에 따라서 위치 선택적으로 노광하고, 현상함으로써, 패턴화된 경화막(착색막)이 얻어진다.In an exposure process, the coating film formed in the coating film formation process is exposed. Thereby, a cured film (colored film) of the colored photosensitive composition is obtained. A patterned cured film (colored film) is obtained by position-selectively exposing and developing according to the pattern shape.

노광 공정에서는, 도포막에, 예를 들면 i선, g선, h선 등의 방사선 내지 전자파를 조사하여, 도포막을 노광한다. 패턴화된 경화막(착색막)을 형성하는 경우는, 도포막으로 하는 노광은, 네거티브형의 마스크를 통하여 위치 선택적으로 행해진다. 노광량은 착색 감광성 조성물의 조성에 따라서도 상이하지만, 예를 들면 5mJ/㎠ 이상 500mJ/㎠ 이하 정도가 바람직하다. 10mJ/㎠ 이상 150mJ/㎠ 이하 정도가 보다 바람직하다.In the exposure step, the coating film is exposed to radiation or electromagnetic waves, such as i-line, g-line, or h-line, for example. In the case of forming a patterned cured film (colored film), exposure to be a coated film is performed positionally through a negative mask. The exposure amount varies depending on the composition of the colored photosensitive composition, but is preferably about 5 mJ/cm 2 or more and 500 mJ/cm 2 or less, for example. About 10 mJ/cm<2> or more and 150 mJ/cm<2> or less is more preferable.

노광에 의해 경화한 경화막에 대하여 가열을 행해도 좋다. 가열을 행할 때의 온도는 특별히 한정되지 않고, 180℃ 이상 280℃ 이하가 바람직하고, 200℃ 이상 260℃ 이하가 보다 바람직하고, 220℃ 이상 250℃ 이하가 특히 바람직하다. 가열 시간은, 전형적으로는, 1분 이상 60분 이하가 바람직하고, 10분 이상 50분 이하가 보다 바람직하고, 20분 이상 40분 이하가 특히 바람직하다.You may heat with respect to the cured film hardened|cured by exposure. The temperature at the time of heating is not particularly limited, and is preferably 180°C or more and 280°C or less, more preferably 200°C or more and 260°C or less, and particularly preferably 220°C or more and 250°C or less. The heating time is typically preferably 1 minute or more and 60 minutes or less, more preferably 10 minutes or more and 50 minutes or less, and particularly preferably 20 minutes or more and 40 minutes or less.

≪현상 공정≫≪Development process≫

현상 공정에 있어서, 노광 공정에서 노광된 도포막이, 알칼리 현상액에 의해 현상된다.In the developing step, the coating film exposed in the exposure step is developed with an alkaline developer.

현상 공정에서는, 노광된 도포막을 현상액으로 현상함으로써, 소망하는 형상으로 패턴화된 경화막(착색막)이 형성된다. 현상 방법은 특별히 한정되지 않고, 침지법, 스프레이법 등을 이용할 수 있다. 현상액의 구체예로서는, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 암모니아, 4급 암모늄염 등의 수용액을 들 수 있다.In the developing step, a cured film (colored film) patterned into a desired shape is formed by developing the exposed coating film with a developing solution. The developing method is not particularly limited, and an immersion method, a spray method, or the like can be used. As a specific example of a developing solution, aqueous solutions, such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, and a quaternary ammonium salt, are mentioned.

현상 후, 필요에 따라서 포스트베이킹을 행해도 좋다. 현상 후 포스트베이킹의 온도는 80℃ 이상 250℃ 이하가 바람직하고, 100℃ 이상 230℃ 이하가 보다 바람직하다. 현상 후 포스트베이킹의 시간은, 5분 이상 60분 이하가 바람직하고, 10분 이상 30분 이하가 보다 바람직하다.After development, you may perform post-baking as needed. The post-baking temperature after development is preferably 80°C or more and 250°C or less, more preferably 100°C or more and 230°C or less. 5 minutes or more and 60 minutes or less are preferable, and, as for the time of post-baking after image development, 10 minutes or more and 30 minutes or less are more preferable.

상기 착색 감광성 조성물을 이용함으로써, 후술하는 실시예에 나타내는 바와 같이, 고농도의 착색제의 분산 가능, 또한 고정세한 패턴을 형성할 수 있음과 함께, 내열성을 양호하게 하고 싶은 경우는 경화제를 함유할 수 있다.By using the colored photosensitive composition, as shown in Examples to be described later, a high-concentration colorant can be dispersed and a high-definition pattern can be formed, and a curing agent can be contained when it is desired to improve heat resistance. there is.

[실시예][Example]

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 중, 특별히 언급이 없는 한 부는 중량부를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, in the examples, unless otherwise specified, parts represent parts by weight.

에폭시 당량, 산가는 이하의 조건으로 측정했다.Epoxy equivalent and acid value were measured under the following conditions.

1) 에폭시 당량(WPE): JIS K 7236:2001에 준한 방법으로 측정했다.1) Epoxy equivalent weight (WPE): measured according to JIS K 7236:2001.

2) 산가: JIS K 0070:1992에 준한 방법으로 측정했다.2) Acid value: measured according to JIS K 0070:1992.

3) 겔 투과 크로마토그래프(GPC)의 측정 조건은 이하와 같다.3) The measurement conditions of gel permeation chromatography (GPC) are as follows.

기종: TOSOH HLC-8220GPCModel: TOSOH HLC-8220GPC

컬럼: TSKGEL Super HZM-NColumn: TSKGEL Super HZM-N

용리액: THF(테트라하이드로푸란); 0.35ml/분, 온도 40℃Eluent: THF (tetrahydrofuran); 0.35ml/min, temperature 40℃

검출기: 시차 굴절계Detector: Differential Refractometer

분자량 표준: 폴리스티렌Molecular Weight Standard: Polystyrene

제조예 1Preparation Example 1

교반 장치, 온도계 및 콘덴서, 질소 라인을 구비한 4구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 646.3g과 이소포론디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성체(EVONIK사 제조 「VESTANATT-1890/100」, 이소시아네이트기 함유량 17.3질량%) 242.8g 및 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 188.1g을 더했다. 질소를 계 중에 취입하면서 116℃까지 승온시키고, 동(同)온도에서 30시간 반응시켰다. 적외 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2250㎝ 1의 흡수가 완전하게 소멸한 것을 확인했다. 폴리스티렌을 표준으로 한 겔 침투압 크로마토그래피에 의한 수 평균 분자량은 1,250, 중량 평균 분자량 4,040의 고형분 산가는 164㎎KOH/g의 아미드이미드 수지 (1) 용액을 얻었다. 60℃까지 냉각하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 494.5g과 글리시딜메타크릴레이트 170.4g, 헥사하이드로 무수 프탈산 154.0g, 디부틸하이드록시톨루엔 2.27g을 더하여 교반한 후에, 트리페닐포스핀 2.27g을 더하여 116℃까지 승온했다. 동온도에서 20시간 반응시켜, 고형분 산가 94.1㎎KOH/g, (메타)아크릴 당량 629, GPC에 의한 수 평균 분자량은 1,870, 중량 평균 분자량 5,320의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (Ⅰ)을 얻었다. 또한, 에폭시 당량을 측정한 결과 13,000g/eq로, 충분히 에폭시기가 반응하고 있는 것도 함께 확인했다.In a four-necked flask equipped with a stirring device, a thermometer, a condenser, and a nitrogen line, 646.3 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and a modified isocyanurate of isophorone diisocyanate ("VESTANATT-1890/100" manufactured by EVONIK, isocyanate 242.8 g of group content 17.3 mass %) and 188.1 g of cyclohexane- 1,3,4- tricarboxylic acid- 3,4- anhydride were added. It heated up to 116 degreeC, blowing nitrogen into the system, and was made to react at the same temperature for 30 hours. In the infrared spectrum, it was confirmed that absorption at 2250 cm −1 , which is the characteristic absorption of an isocyanate group, completely disappeared. An amideimide resin (1) solution having a number average molecular weight of 1,250 and a weight average molecular weight of 4,040 and a solid acid value of 164 mgKOH/g was obtained by gel permeation pressure chromatography using polystyrene as a standard. After cooling to 60 ° C., adding 494.5 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 170.4 g of glycidyl methacrylate, 154.0 g of hexahydrophthalic anhydride, and 2.27 g of dibutylhydroxytoluene and stirring, 2.27 g of triphenylphosphine was added and the temperature was raised to 116°C. It was made to react at the same temperature for 20 hours, and the solid content acid value of 94.1 mgKOH/g, the (meth)acrylic equivalent weight of 629, the number average molecular weight by GPC of 1,870, and the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (I) of weight average molecular weight of 5,320 were obtained. In addition, as a result of measuring the epoxy equivalent, it was also confirmed that the epoxy group was sufficiently reacting at 13,000 g/eq.

제조예 2Preparation Example 2

교반 장치, 온도계 및 콘덴서, 질소 라인을 구비한 4구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 661.2g과 이소포론디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성체(EVONIK사 제조 「VESTANATT-1890/100」, 이소시아네이트기 함유량 17.3질량%) 242.8g 및 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 198.0g을 더했다. 질소를 계 중에 취입하면서 116℃까지 승온시키고, 동온도에서 30시간 반응시켰다. 적외 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2250㎝ 1의 흡수가 완전하게 소멸한 것을 확인했다. 폴리스티렌을 표준으로 한 겔 침투압 크로마토그래피에 의한 수 평균 분자량은 1,290, 중량 평균 분자량 3,590의 고형분 산가는 155㎎KOH/g의 아미드이미드 수지 (2) 용액을 얻었다. 60℃까지 냉각하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 537.5g과 글리시딜메타크릴레이트 198.8g, 헥사하이드로 무수 프탈산 154.0g, 디부틸하이드록시톨루엔 2.38g을 더하여 교반한 후에, 트리페닐포스핀 2.38g을 더하여 116℃까지 승온했다. 동온도에서 20시간 반응시켜, 고형분 산가 92.2㎎KOH/g, (메타)아크릴 당량 629, GPC에 의한 수 평균 분자량은 1,710, 중량 평균 분자량 4,930의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (Ⅱ)를 얻었다. 또한, 에폭시 당량을 측정한 결과 11,000g/eq로, 충분히 에폭시기가 반응하고 있는 것도 함께 확인했다.In a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser, and a nitrogen line, 661.2 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and a modified isocyanurate of isophorone diisocyanate ("VESTANATT-1890/100" manufactured by EVONIK, isocyanate 242.8 g of group content 17.3 mass %) and 198.0 g of cyclohexane- 1,3,4- tricarboxylic acid- 3,4- anhydride were added. The temperature was raised to 116°C while blowing nitrogen into the system, and the mixture was reacted at the same temperature for 30 hours. In the infrared spectrum, it was confirmed that absorption at 2250 cm −1 , which is the characteristic absorption of an isocyanate group, completely disappeared. An amideimide resin (2) solution having a number average molecular weight of 1,290 and a weight average molecular weight of 3,590 and a solid acid value of 155 mgKOH/g was obtained by gel osmosis chromatography using polystyrene as a standard. After cooling to 60 ° C., adding 537.5 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 198.8 g of glycidyl methacrylate, 154.0 g of hexahydrophthalic anhydride, and 2.38 g of dibutylhydroxytoluene and stirring, 2.38 g of triphenylphosphine was added and the temperature was raised to 116°C. It was made to react at the same temperature for 20 hours, and the solid content acid value of 92.2 mgKOH/g, the (meth)acryl equivalent weight of 629, the number average molecular weight by GPC of 1,710, and the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (II) of weight average molecular weight of 4,930 were obtained. In addition, as a result of measuring the epoxy equivalent, it was also confirmed that the epoxy group was sufficiently reacting at 11,000 g/eq.

제조예 3Preparation Example 3

교반 장치, 온도계 및 콘덴서, 질소 라인을 구비한 4구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 646.3g과 이소포론디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성체(EVONIK사 제조 「VESTANATT-1890/100」, 이소시아네이트기 함유량 17.3질량%) 242.8g 및 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 188.1g을 더했다. 질소를 계 중에 취입하면서 116℃까지 승온시키고, 동온도에서 30시간 반응시켰다. 적외 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2250㎝ 1의 흡수가 완전하게 소멸한 것을 확인했다. 폴리스티렌을 표준으로 한 겔 침투압 크로마토그래피에 의한 수 평균 분자량은 1,260, 중량 평균 분자량 4,120의 고형분 산가는 159㎎KOH/g의 아미드이미드 수지 (3) 용액을 얻었다. 60℃까지 냉각하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 448.0g과 글리시딜메타크릴레이트 170.4g, 헥사하이드로 무수 프탈산 123.2g, 디부틸하이드록시톨루엔 2.17g을 더하여 교반한 후에, 트리페닐포스핀 2.17g을 더하여 116℃까지 승온했다. 동온도에서 20시간 반응시켜, 고형분 산가 85.9㎎KOH/g, (메타)아크릴 당량 604, GPC에 의한 수 평균 분자량은 1,750, 중량 평균 분자량 5,500의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (Ⅲ)을 얻었다. 또한, 에폭시 당량을 측정한 결과 14,000g/eq로, 충분히 에폭시기가 반응하고 있는 것도 함께 확인했다.In a four-necked flask equipped with a stirring device, a thermometer, a condenser, and a nitrogen line, 646.3 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and a modified isocyanurate of isophorone diisocyanate ("VESTANATT-1890/100" manufactured by EVONIK, isocyanate 242.8 g of group content 17.3 mass %) and 188.1 g of cyclohexane- 1,3,4- tricarboxylic acid- 3,4- anhydride were added. The temperature was raised to 116°C while blowing nitrogen into the system, and the mixture was reacted at the same temperature for 30 hours. In the infrared spectrum, it was confirmed that absorption at 2250 cm −1 , which is the characteristic absorption of an isocyanate group, completely disappeared. An amide-imide resin (3) solution having a number average molecular weight of 1,260 and a weight average molecular weight of 4,120 and a solid acid value of 159 mgKOH/g by gel osmosis chromatography using polystyrene as a standard was obtained. After cooling to 60 ° C., adding 448.0 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 170.4 g of glycidyl methacrylate, 123.2 g of hexahydrophthalic anhydride, and 2.17 g of dibutylhydroxytoluene and stirring, 2.17 g of triphenylphosphine was added and the temperature was raised to 116°C. It was made to react at the same temperature for 20 hours, and the solid content acid value of 85.9 mgKOH/g, (meth)acrylic equivalent weight of 604, the number average molecular weight by GPC of 1,750, and the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (III) of weight average molecular weight of 5,500 were obtained. In addition, as a result of measuring the epoxy equivalent, it was also confirmed that the epoxy group was sufficiently reacting at 14,000 g/eq.

제조예 4Production Example 4

교반 장치, 온도계 및 콘덴서, 질소 라인을 구비한 4구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 646.3g과 이소포론디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성체(EVONIK사 제조 「VESTANATT-1890/100」, 이소시아네이트기 함유량 17.3질량%) 242.8g 및 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 188.1g을 더했다. 질소를 계 중에 취입하면서 116℃까지 승온시키고, 동온도에서 30시간 반응시켰다. 적외 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2250㎝ 1의 흡수가 완전하게 소멸한 것을 확인했다. 폴리스티렌을 표준으로 한 겔 침투압 크로마토그래피에 의한 수 평균 분자량은 1,190, 중량 평균 분자량 3,850의 고형분 산가는 151㎎KOH/g의 아미드이미드 수지 (4) 용액을 얻었다. 60℃까지 냉각하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 494.8g과 글리시딜메타크릴레이트 170.4g, 헥사하이드로-4-메틸프탈산 무수물 154.0g, 디부틸하이드록시톨루엔 2.44g을 더하여 교반한 후에, 트리페닐포스핀 2.44g을 더하여 116℃까지 승온했다. 동온도에서 20시간 반응시켜, 고형분 산가 95.8㎎KOH/g, (메타)아크릴 당량 641, GPC에 의한 수 평균 분자량은 1,640, 중량 평균 분자량 4,790의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (Ⅳ)를 얻었다. 또한, 에폭시 당량을 측정한 결과 12,000g/eq로, 충분히 에폭시기가 반응하고 있는 것도 함께 확인했다.In a four-necked flask equipped with a stirring device, a thermometer, a condenser, and a nitrogen line, 646.3 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and a modified isocyanurate of isophorone diisocyanate ("VESTANATT-1890/100" manufactured by EVONIK, isocyanate 242.8 g of group content 17.3 mass %) and 188.1 g of cyclohexane- 1,3,4- tricarboxylic acid- 3,4- anhydride were added. The temperature was raised to 116°C while blowing nitrogen into the system, and the mixture was reacted at the same temperature for 30 hours. In the infrared spectrum, it was confirmed that absorption at 2250 cm −1 , which is the characteristic absorption of an isocyanate group, completely disappeared. An amide-imide resin (4) solution having a number average molecular weight of 1,190 and a weight average molecular weight of 3,850 and a solid acid value of 151 mgKOH/g by gel osmosis chromatography using polystyrene as a standard was obtained. After cooling to 60 ° C., adding 494.8 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 170.4 g of glycidyl methacrylate, 154.0 g of hexahydro-4-methylphthalic anhydride, and 2.44 g of dibutylhydroxytoluene and stirring, triphenyl 2.44 g of phosphine was added and the temperature was raised to 116°C. It was made to react at the same temperature for 20 hours, and polycarboxylic acid resin (IV) containing an unsaturated group with a solid acid value of 95.8 mgKOH/g, a (meth)acryl equivalent of 641, a number average molecular weight by GPC of 1,640, and a weight average molecular weight of 4,790 was obtained. In addition, as a result of measuring the epoxy equivalent, it was also confirmed that the epoxy group was sufficiently reacting at 12,000 g/eq.

제조예 5Preparation Example 5

교반 장치, 온도계 및 콘덴서, 질소 라인을 구비한 4구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 646.3g과 이소포론디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성체(EVONIK사 제조 「VESTANATT-1890/100」, 이소시아네이트기 함유량 17.3질량%) 242.8g 및 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 188.1g을 더했다. 질소를 계 중에 취입하면서 116℃까지 승온시키고, 동온도에서 30시간 반응시켰다. 적외 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2250㎝ 1의 흡수가 완전하게 소멸한 것을 확인했다. 폴리스티렌을 표준으로 한 겔 침투압 크로마토그래피에 의한 수 평균 분자량은 1,300, 중량 평균 분자량 3,690의 고형분 산가는 152㎎KOH/g의 아미드이미드 수지 (5) 용액을 얻었다. 60℃까지 냉각하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 491.7g과 글리시딜메타크릴레이트 170.4g, 1,2,3,6-테트라하이드로프탈산 무수물 152.2g, 디부틸하이드록시톨루엔 2.31g을 더하여 교반한 후에, 트리페닐포스핀 2.31g을 더하여 116℃까지 승온했다. 동온도에서 20시간 반응시켜, 고형분 산가 97.9㎎KOH/g, (메타)아크릴 당량 628, GPC에 의한 수 평균 분자량은 1,690, 중량 평균 분자량 4,980의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (Ⅴ)를 얻었다. 또한, 에폭시 당량을 측정한 결과 14,000g/eq로, 충분히 에폭시기가 반응하고 있는 것도 함께 확인했다.In a four-necked flask equipped with a stirring device, a thermometer, a condenser, and a nitrogen line, 646.3 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and a modified isocyanurate of isophorone diisocyanate ("VESTANATT-1890/100" manufactured by EVONIK, isocyanate 242.8 g of group content 17.3 mass %) and 188.1 g of cyclohexane- 1,3,4- tricarboxylic acid- 3,4- anhydride were added. The temperature was raised to 116°C while blowing nitrogen into the system, and the mixture was reacted at the same temperature for 30 hours. In the infrared spectrum, it was confirmed that absorption at 2250 cm −1 , which is the characteristic absorption of an isocyanate group, completely disappeared. An amideimide resin (5) solution having a number average molecular weight of 1,300 and a weight average molecular weight of 3,690 and a solid acid value of 152 mgKOH/g was obtained by gel osmosis chromatography using polystyrene as a standard. After cooling to 60°C, 491.7 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 170.4 g of glycidyl methacrylate, 152.2 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, and 2.31 g of dibutylhydroxytoluene were added and stirred. After that, 2.31 g of triphenylphosphine was added and the temperature was raised to 116°C. It was made to react at the same temperature for 20 hours, and polycarboxylic acid resin (V) containing an unsaturated group with a solid acid value of 97.9 mgKOH/g, a (meth)acrylic equivalent of 628, and a number average molecular weight by GPC of 1,690 and a weight average molecular weight of 4,980 was obtained. In addition, as a result of measuring the epoxy equivalent, it was also confirmed that the epoxy group was sufficiently reacting at 14,000 g/eq.

제조예 6Preparation Example 6

교반 장치, 온도계 및 콘덴서, 질소 라인을 구비한 4구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 646.3g과 이소포론디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성체(EVONIK사 제조 「VESTANATT-1890/100」, 이소시아네이트기 함유량 17.3질량%) 242.8g 및 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 188.1g을 더했다. 질소를 계 중에 취입하면서 116℃까지 승온시키고, 동온도에서 30시간 반응시켰다. 적외 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2250㎝ 1의 흡수가 완전하게 소멸한 것을 확인했다. 폴리스티렌을 표준으로 한 겔 침투압 크로마토그래피에 의한 수 평균 분자량은 1,250, 중량 평균 분자량 3,680의 고형분 산가는 161㎎KOH/g의 아미드이미드 수지 (6) 용액을 얻었다. 60℃까지 냉각하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 261.9g과 글리시딜메타크릴레이트 170.4g, 디부틸하이드록시톨루엔 1.90g을 더하여 교반한 후에, 트리페닐포스핀 1.90g을 더하여 116℃까지 승온했다. 동온도에서 20시간 반응시켜, 고형분 산가 19.2㎎KOH/g, GPC에 의한 수 평균 분자량은 1,740, 중량 평균 분자량 6,950의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (Ⅰ')를 얻었다. 또한, 에폭시 당량을 측정한 결과 13,000g/eq로, 충분히 에폭시기가 반응하고 있는 것도 함께 확인했다.In a four-necked flask equipped with a stirring device, a thermometer, a condenser, and a nitrogen line, 646.3 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and a modified isocyanurate of isophorone diisocyanate ("VESTANATT-1890/100" manufactured by EVONIK, isocyanate 242.8 g of group content 17.3 mass %) and 188.1 g of cyclohexane- 1,3,4- tricarboxylic acid- 3,4- anhydride were added. The temperature was raised to 116°C while blowing nitrogen into the system, and the mixture was reacted at the same temperature for 30 hours. In the infrared spectrum, it was confirmed that absorption at 2250 cm −1 , which is the characteristic absorption of an isocyanate group, completely disappeared. An amide-imide resin (6) solution having a number average molecular weight of 1,250 and a weight average molecular weight of 3,680 and a solid acid value of 161 mgKOH/g by gel osmosis chromatography using polystyrene as a standard was obtained. After cooling to 60 ° C., adding 261.9 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 170.4 g of glycidyl methacrylate, and 1.90 g of dibutylhydroxytoluene and stirring, 1.90 g of triphenylphosphine was added and the temperature was raised to 116 ° C. . It was made to react at the same temperature for 20 hours, and polycarboxylic acid resin (I') containing an unsaturated group having a solid content acid value of 19.2 mgKOH/g, a number average molecular weight by GPC of 1,740, and a weight average molecular weight of 6,950 was obtained. In addition, as a result of measuring the epoxy equivalent, it was also confirmed that the epoxy group was sufficiently reacting at 13,000 g/eq.

제조예 7Preparation Example 7

교반 장치, 온도계 및 콘덴서, 질소 라인을 구비한 4구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 646.3g과 이소포론디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성체(EVONIK사 제조 「VESTANATT-1890/100」, 이소시아네이트기 함유량 17.3질량%) 242.8g 및 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 188.1g을 더했다. 질소를 계 중에 취입하면서 116℃까지 승온시키고, 동온도에서 30시간 반응시켰다. 적외 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2250㎝-1의 흡수가 완전하게 소멸한 것을 확인했다. 폴리스티렌을 표준으로 한 겔 침투압 크로마토그래피에 의한 수 평균 분자량은 1,180, 중량 평균 분자량 3,860의 고형분 산가는 154㎎KOH/g의 아미드이미드 수지 (7) 용액을 얻었다. 60℃까지 냉각하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 494.5g과 글리시딜메타크릴레이트 170.4g, 무수 프탈산 148.1g, 디부틸하이드록시톨루엔 1.90g을 더하여 교반한 후에, 트리페닐포스핀 1.90g을 더하여 116℃까지 승온했다. 동온도에서 20시간 반응시켜, 고형분 산가 99.5㎎KOH/g, (메타)아크릴 당량 624, GPC에 의한 수 평균 분자량은 1,630, 중량 평균 분자량 4,830의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (Ⅱ')를 얻었다. 또한, 에폭시 당량을 측정한 결과 14,000g/eq로, 충분히 에폭시기가 반응하고 있는 것도 함께 확인했다.In a four-necked flask equipped with a stirring device, a thermometer, a condenser, and a nitrogen line, 646.3 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and a modified isocyanurate of isophorone diisocyanate ("VESTANATT-1890/100" manufactured by EVONIK, isocyanate 242.8 g of group content 17.3 mass %) and 188.1 g of cyclohexane- 1,3,4- tricarboxylic acid- 3,4- anhydride were added. The temperature was raised to 116°C while blowing nitrogen into the system, and the mixture was reacted at the same temperature for 30 hours. In the infrared spectrum, it was confirmed that absorption at 2250 cm −1 , which is the characteristic absorption of an isocyanate group, completely disappeared. An amideimide resin (7) solution having a number average molecular weight of 1,180 and a weight average molecular weight of 3,860 and a solid acid value of 154 mgKOH/g was obtained by gel osmosis chromatography using polystyrene as a standard. After cooling to 60°C, 494.5 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 170.4 g of glycidyl methacrylate, 148.1 g of phthalic anhydride, and 1.90 g of dibutylhydroxytoluene were added and stirred, then 1.90 g of triphenylphosphine was added. The temperature was raised to 116°C. It was made to react at the same temperature for 20 hours, and polycarboxylic acid resin (II') containing an unsaturated group having a solid acid value of 99.5 mgKOH/g, a (meth)acrylic equivalent of 624, a number average molecular weight by GPC of 1,630, and a weight average molecular weight of 4,830 was obtained. . In addition, as a result of measuring the epoxy equivalent, it was also confirmed that the epoxy group was sufficiently reacting at 14,000 g/eq.

제조예 8Preparation Example 8

교반 장치, 온도계 및 콘덴서, 질소 라인을 구비한 4구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 646.3g과 이소포론디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성체(EVONIK사 제조 「VESTANATT-1890/100」, 이소시아네이트기 함유량 17.3질량%) 242.8g 및 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 188.1g을 더했다. 질소를 계 중에 취입하면서 116℃까지 승온시키고, 동온도에서 30시간 반응시켰다. 적외 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2250㎝ 1의 흡수가 완전하게 소멸한 것을 확인했다. 60℃까지 냉각하고, 펜타에리트리톨(트리/테트라)아크릴레이트 혼합물(다이셀·올넥스사 제조 「PETRA」, 수산기가 115㎎KOH/g) 97.58g을 더하여, 116℃까지 승온시키고, 동온도에서 10시간 반응시켜, 폴리스티렌을 표준으로 한 겔 침투압 크로마토그래피에 의한 수 평균 분자량은 1,070, 중량 평균 분자량 3,080의 고형분 산가는 135㎎KOH/g의 아미드이미드 수지 (8) 용액을 얻었다. 60℃까지 냉각하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 494.8g과 글리시딜메타크릴레이트 170.4g, 헥사하이드로-4-메틸프탈산 무수물 154.0g, 디부틸하이드록시톨루엔 2.44g을 더하여 교반한 후에, 트리페닐포스핀 2.44g을 더하여 116℃까지 승온했다. 동온도에서 20시간 반응시켜, 고형분 산가 82.1㎎KOH/g, (메타)아크릴 당량 395, GPC에 의한 수 평균 분자량은 1,370, 중량 평균 분자량 3,700의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (Ⅲ')를 얻었다. 또한, 에폭시 당량을 측정한 결과 15,000g/eq로, 충분히 에폭시기가 반응하고 있는 것도 함께 확인했다.In a four-necked flask equipped with a stirring device, a thermometer, a condenser, and a nitrogen line, 646.3 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and a modified isocyanurate of isophorone diisocyanate ("VESTANATT-1890/100" manufactured by EVONIK, isocyanate 242.8 g of group content 17.3 mass %) and 188.1 g of cyclohexane- 1,3,4- tricarboxylic acid- 3,4- anhydride were added. The temperature was raised to 116°C while blowing nitrogen into the system, and the mixture was reacted at the same temperature for 30 hours. In the infrared spectrum, it was confirmed that absorption at 2250 cm −1 , which is the characteristic absorption of an isocyanate group, completely disappeared. Cool to 60°C, add 97.58 g of a pentaerythritol (tri/tetra)acrylate mixture ("PETRA" manufactured by Daicel Allnex, hydroxyl value: 115 mgKOH/g), and raise the temperature to 116°C, the same temperature was reacted for 10 hours to obtain an amideimide resin (8) solution having a number average molecular weight of 1,070 and a weight average molecular weight of 3,080 and a solid acid value of 135 mgKOH/g by gel osmosis pressure chromatography using polystyrene as a standard. After cooling to 60 ° C., adding 494.8 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 170.4 g of glycidyl methacrylate, 154.0 g of hexahydro-4-methylphthalic anhydride, and 2.44 g of dibutylhydroxytoluene and stirring, triphenyl 2.44 g of phosphine was added and the temperature was raised to 116°C. It was reacted at the same temperature for 20 hours to obtain an unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (III') having a solid acid value of 82.1 mgKOH/g, a (meth)acrylic equivalent of 395, a number average molecular weight of 1,370 by GPC, and a weight average molecular weight of 3,700. . In addition, as a result of measuring the epoxy equivalent, it was also confirmed that the epoxy group was sufficiently reacting at 15,000 g/eq.

제조예 9Preparation Example 9

교반 장치, 온도계 및 콘덴서를 구비한 4구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 250.3g과 크레졸노볼락형 에폭시 수지(닛뽄가야쿠(주) 제조 「EOCN-104S」, 에폭시 당량 218g/eq) 435.7g 및 디부틸하이드록시톨루엔 1.75g을 더하여 80℃에서 교반하고, 에폭시 수지를 용해시켰다. 그 후, 아크릴산 148.4g, 트리페닐포스핀 1.75g을 더하여 116℃까지 승온시키고, 동온도에서 12시간 반응시켜 고형분 산가 2.2㎎·KOH/g, 또한, 에폭시 당량 13㎏/eq의 반응성 에폭시카복시레이트 수지 (9) 용액을 얻었다. 60℃까지 냉각하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 48.6g과 1,2,3,6-테트라하이드로프탈산 무수물 113.5g을 더하여 100℃까지 승온했다. 동온도에서 5시간 반응시켜, 고형분 산가 61.2㎎KOH/g, (메타)아크릴 당량 349, GPC에 의한 수 평균 분자량은 2058, 중량 평균 분자량 6420의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (Ⅳ')를 얻었다. 또한, 에폭시 당량을 측정한 결과 13,000g/eq로, 충분히 에폭시기가 반응하고 있는 것도 함께 확인했다.In a four-necked flask equipped with a stirring device, a thermometer and a condenser, 250.3 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and a cresol novolac type epoxy resin (“EOCN-104S” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 218 g/eq) 435.7 g and 1.75 g of dibutylhydroxytoluene were added, and the mixture was stirred at 80°C to dissolve the epoxy resin. Thereafter, 148.4 g of acrylic acid and 1.75 g of triphenylphosphine were added, the temperature was raised to 116° C., and the reaction was carried out at the same temperature for 12 hours to obtain a reactive epoxy carboxylate having a solid acid value of 2.2 mg KOH/g and an epoxy equivalent of 13 kg/eq. A resin (9) solution was obtained. After cooling to 60°C, 48.6 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and 113.5 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride were added, and the temperature was raised to 100°C. It was reacted at the same temperature for 5 hours to obtain an unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (IV') having a solid acid value of 61.2 mgKOH/g, a (meth)acrylic equivalent of 349, a number average molecular weight of 2058 by GPC, and a weight average molecular weight of 6420. . In addition, as a result of measuring the epoxy equivalent, it was also confirmed that the epoxy group was sufficiently reacting at 13,000 g/eq.

제조예 10Preparation Example 10

일본특허-6576161의 실시예 2-1에 기재된 수지를 기재하고 있는대로 제조하여, 고형분 산가 61.5㎎KOH/g, (메타)아크릴 당량 335, GPC에 의한 수 평균 분자량은 1830, 중량 평균 분자량 3520의 반응성 폴리카본산 화합물 (Ⅴ')를 얻었다.The resin described in Example 2-1 of Japanese Patent-6576161 was prepared as described, and had a solid content acid value of 61.5 mgKOH/g, a (meth)acrylic equivalent of 335, a number average molecular weight by GPC of 1830, and a weight average molecular weight of 3520. A reactive polycarboxylic acid compound (V') was obtained.

제조예 11Preparation Example 11

교반 장치, 온도계 및 콘덴서, 질소 라인을 구비한 4구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 646.3g과 이소포론디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성체(EVONIK사 제조 「VESTANATT-1890/100」, 이소시아네이트기 함유량 17.3질량%) 242.8g 및 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 188.1g을 더했다. 질소를 계 중에 취입하면서 116℃까지 승온시키고, 동온도에서 30시간 반응시켰다. 적외 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2250㎝ 1의 흡수가 완전하게 소멸한 것을 확인했다. 폴리스티렌을 표준으로 한 겔 침투압 크로마토그래피에 의한 수 평균 분자량은 1,310, 중량 평균 분자량 3,810의 고형분 산가는 152㎎KOH/g의 아미드이미드 수지 (5) 용액을 얻었다. 60℃까지 냉각하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 338.6g과 글리시딜메타크릴레이트 142.0g, 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 79.2g, 디부틸하이드록시톨루엔 2.31g을 더하여 교반한 후에, 트리페닐포스핀 2.31g을 더하여 116℃까지 승온했다. 동온도에서 20시간 반응시켜, 고형분 산가 87.1㎎KOH/g, (메타)아크릴 당량 652, GPC에 의한 수 평균 분자량은 1,870, 중량 평균 분자량 6,010의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (Ⅵ)을 얻었다. 또한, 에폭시 당량을 측정한 결과 16,000g/eq로, 충분히 에폭시기가 반응하고 있는 것도 함께 확인했다.In a four-necked flask equipped with a stirring device, a thermometer, a condenser, and a nitrogen line, 646.3 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and a modified isocyanurate of isophorone diisocyanate ("VESTANATT-1890/100" manufactured by EVONIK, isocyanate 242.8 g of group content 17.3 mass %) and 188.1 g of cyclohexane- 1,3,4- tricarboxylic acid- 3,4- anhydride were added. The temperature was raised to 116°C while blowing nitrogen into the system, and the mixture was reacted at the same temperature for 30 hours. In the infrared spectrum, it was confirmed that absorption at 2250 cm −1 , which is the characteristic absorption of an isocyanate group, completely disappeared. An amideimide resin (5) solution having a number average molecular weight of 1,310 and a weight average molecular weight of 3,810 and a solid acid value of 152 mgKOH/g was obtained by gel osmosis chromatography using polystyrene as a standard. Cool to 60 ° C., 338.6 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 142.0 g of glycidyl methacrylate, 79.2 g of cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride, dibutylhydroxytoluene After adding 2.31 g and stirring, 2.31 g of triphenylphosphine was added and the temperature was raised to 116°C. It was made to react at the same temperature for 20 hours, and the solid content acid value of 87.1 mgKOH/g, the (meth)acryl equivalent weight of 652, the number average molecular weight by GPC of 1,870, and the unsaturated group containing polycarboxylic acid resin (VI) of weight average molecular weight of 6,010 were obtained. In addition, as a result of measuring the epoxy equivalent, it was also confirmed that the epoxy group was sufficiently reacting at 16,000 g/eq.

제조예 12Preparation Example 12

교반 장치, 온도계 및 콘덴서, 질소 라인을 구비한 4구 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 646.3g과 이소포론디이소시아네이트의 이소시아누레이트 변성체(EVONIK사 제조 「VESTANATT-1890/100」, 이소시아네이트기 함유량 17.3질량%) 242.8g 및 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 188.1g을 더했다. 질소를 계 중에 취입하면서 116℃까지 승온시키고, 동온도에서 30시간 반응시켰다. 적외 스펙트럼에서 이소시아네이트기의 특성 흡수인 2250㎝ 1의 흡수가 완전하게 소멸한 것을 확인했다. 폴리스티렌을 표준으로 한 겔 침투압 크로마토그래피에 의한 수 평균 분자량은 1,260, 중량 평균 분자량 3,600의 고형분 산가는 156㎎KOH/g의 아미드이미드 수지 (5) 용액을 얻었다. 60℃까지 냉각하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 441.4g과 글리시딜메타크릴레이트 170.4g, 사이클로헥산-1,3,4-트리카본산-3,4-무수물 118.8g, 디부틸하이드록시톨루엔 2.31g을 더하여 교반한 후에, 트리페닐포스핀 2.31g을 더하여 116℃까지 승온했다. 동온도에서 20시간 반응시켜, 고형분 산가 80.6㎎KOH/g, (메타)아크릴 당량 600, GPC에 의한 수 평균 분자량은 1,870, 중량 평균 분자량 6,010의 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (Ⅶ)을 얻었다. 또한, 에폭시 당량을 측정한 결과 14,000g/eq로, 충분히 에폭시기가 반응하고 있는 것도 함께 확인했다.In a four-necked flask equipped with a stirring device, a thermometer, a condenser, and a nitrogen line, 646.3 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and a modified isocyanurate of isophorone diisocyanate ("VESTANATT-1890/100" manufactured by EVONIK, isocyanate 242.8 g of group content 17.3 mass %) and 188.1 g of cyclohexane- 1,3,4- tricarboxylic acid- 3,4- anhydride were added. The temperature was raised to 116°C while blowing nitrogen into the system, and the mixture was reacted at the same temperature for 30 hours. In the infrared spectrum, it was confirmed that absorption at 2250 cm −1 , which is the characteristic absorption of an isocyanate group, completely disappeared. An amideimide resin (5) solution having a number average molecular weight of 1,260 and a weight average molecular weight of 3,600 and a solid acid value of 156 mgKOH/g was obtained by gel osmosis chromatography using polystyrene as a standard. Cool to 60 ° C., 441.4 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 170.4 g of glycidyl methacrylate, 118.8 g of cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride, dibutylhydroxytoluene After adding 2.31 g and stirring, 2.31 g of triphenylphosphine was added and the temperature was raised to 116°C. It was made to react at the same temperature for 20 hours, and polycarboxylic acid resin (VII) containing an unsaturated group having a solid acid value of 80.6 mgKOH/g, a (meth)acryl equivalent of 600, a number average molecular weight by GPC of 1,870, and a weight average molecular weight of 6,010 was obtained. In addition, as a result of measuring the epoxy equivalent, it was also confirmed that the epoxy group was sufficiently reacting at 14,000 g/eq.

[실시예 1, 비교예 1] 착색 감광성 조성물의 조제와 혼련 분산성에 관한 평가[Example 1, Comparative Example 1] Preparation of colored photosensitive composition and evaluation of kneading dispersibility

제조예 1∼10에서 얻어진 불포화기 함유 폴리카본산 수지를 20g, 실시예 및 비교예에 있어서, 미츠비시카본블랙 MA-100 (B1)을 착색제 (B)로서 이용했다. 용제 (C)로서, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (C1)을 이용하여, 비즈 밀로 혼련하고, 혼련 후의 상태를 확인했다. 얻어진 착색 감광성 조성물이 균일한 것은 ○, 불균일, 수지에 의한 겔화가 발생한 것은 ×로 했다. 착색 감광성 조성물의 비율과 혼련 후의 상태의 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Mitsubishi Carbon Black MA-100 (B1) was used as a colorant (B) in 20 g of the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resins obtained in Production Examples 1 to 10, Examples and Comparative Examples. As the solvent (C), propylene glycol monomethyl ether acetate (C1) was used and kneaded in a bead mill, and the state after kneading was confirmed. What the obtained colored photosensitive composition was uniform was rated as (circle), and what gelation by non-uniformity and resin occurred was rated as x. Table 1 shows the evaluation results of the ratio of the colored photosensitive composition and the state after kneading.

Figure pat00004
Figure pat00004

[실시예 2, 비교예 2] 착색 감광성 조성물의 조제와 착색제 분산성에 관한 평가[Example 2, Comparative Example 2] Preparation of colored photosensitive composition and evaluation of colorant dispersibility

실시예 1, 비교예 1에서 얻어진 착색 감광성 조성물에, 가교제 (D)로서, DPHA(상품명: 닛뽄가야쿠(주) 제조) (D1), 추가로 20g의 글래스 비즈를 넣고, 페인트셰이커로 1시간 분산을 행했다. 분산 종료 후의 분산액을, 와이어 바 코터 #2로 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 도공하고, 80℃의 온풍 건조기로 10분간 건조를 행했다. 건조 종료 후의 도막 표면의 광택을 60° 반사 글로스계(호리바세이사쿠쇼 IG-331 광택계)를 이용하여 측정하고, 카본 블랙의 분산성을 평가했다. 표 2에 결과를 나타낸다. 광택의 값이 높을수록, 안료 분산성은 양호하다.To the colored photosensitive composition obtained in Example 1 and Comparative Example 1, as a crosslinking agent (D), DPHA (trade name: manufactured by Nippon Gayaku Co., Ltd.) (D1) and further 20 g of glass beads were added, and the mixture was stirred in a paint shaker for 1 hour. dispersion was carried out. After completion of the dispersion, the dispersion was coated on a polyethylene terephthalate film with a wire bar coater #2, and dried for 10 minutes with a warm air dryer at 80°C. The gloss of the coating film surface after completion of drying was measured using a 60° reflective gloss meter (Horiba Seisakusho IG-331 gloss meter) to evaluate the carbon black dispersibility. Table 2 shows the results. The higher the gloss value, the better the pigment dispersibility.

Figure pat00005
Figure pat00005

[실시예 3, 비교예 3] 착색 감광성 조성물의 조제와 현상성 평가[Example 3, Comparative Example 3] Preparation of colored photosensitive composition and evaluation of developability

제조예 1∼10에서 얻어진 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A), 착색제 (B1), 용제 (C1) 및, 가교제 (D), 광 중합 개시제 (E)에 대해서, 표 3에 나타내는 배합으로 균일하게 분산시켜, 레지스트 수지 조성물을 얻었다.The unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A) obtained in Production Examples 1 to 10, the colorant (B1), the solvent (C1), the crosslinking agent (D), and the photopolymerization initiator (E) are uniformly formulated in the formulations shown in Table 3. and dispersed to obtain a resist resin composition.

실시예 및 비교예에 있어서, 가교제 (D)로서 DPCA-20(닛뽄가야쿠(주) 제조: ε-카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트) (D2), 광 중합 개시제 (E)로서 이르가큐어 907(치바스페셜리티케미컬즈 제조) (E1) 및 카야큐어 DETX-S(닛뽄가야쿠(주) 제조) (E2) 및, 경화제 (F)로서, YD-134(닛테츠케미컬&마테리얼(주) 제조: 비스페놀-A형 에폭시 수지) (F1), 열 경화 촉매 (G)로서 TPP(홋쿄카가쿠고교(주) 제조: 트리페닐포스핀) (G1)을 이용했다.In Examples and Comparative Examples, DPCA-20 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.: ε-caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate) (D2) as a crosslinking agent (D), and as a photopolymerization initiator (E) Gacur 907 (manufactured by Chiba Specialty Chemicals) (E1) and Kayacure DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (E2) and, as a curing agent (F), YD-134 (Nittetsu Chemical & Material ( Note) Production: bisphenol-A type epoxy resin) (F1) and TPP (Hokkyo Chemical Industry Co., Ltd.: triphenylphosphine) (G1) were used as the thermal curing catalyst (G).

평가 항목의 각각의 항목에 대해서 상술한다.Each item of the evaluation item is described in detail.

현상성 평가(표 중 약칭: 현상성)Developability evaluation (abbreviation in the table: developability)

착색 감광성 조성물을 어플리케이터로 20㎛의 두께가 되도록 압연 동박 BHY-82F-HA-V2(JX킨조쿠(주) 제조)에 도포하고, 도막을 80℃의 열풍 건조기로 30분 건조시켰다. 건조 후의 도막 도포막에 대하여, 50㎛ 개구의 마스크를 통하여, 자외선 조사기(USHIO 제조(초고압 수은등))를 이용하여 150mJ/㎠의 조사량으로 경화를 행했다. 그 후, 현상액으로서 1% 탄산 나트륨 수용액을 이용하여 스프레이 현상을 행했다. 미노광부의 도막이 완전하게 용해할 때까지의 시간, 소위 브레이크 타임을 갖고 현상성의 평가로 했다(단위: 초).The colored photosensitive composition was applied to a rolled copper foil BHY-82F-HA-V2 (manufactured by JX Kinzoku Co., Ltd.) with an applicator to a thickness of 20 μm, and the coated film was dried with a hot air dryer at 80° C. for 30 minutes. The coated film after drying was cured with an irradiation amount of 150 mJ/cm 2 using an ultraviolet irradiator (manufactured by USHIO (ultra-high pressure mercury lamp)) through a mask with a 50 μm opening. Then, spray development was performed using a 1% sodium carbonate aqueous solution as a developing solution. It was set as the developability evaluation with the time until the coating film of an unexposed area melt|dissolves completely, so-called break time (unit: second).

△ ·· 막 감소△ .. membrane reduction

× ·· 패턴 직진성× ... pattern straightness

×× ·· 팽윤 박리×× Swelling peeling

「막 감소」에 대해서는, 현상 전의 도포막의 막두께와 현상 후의 패턴의 단면의 높이로부터 구하여, 막 감소가 있는 경우는 브레이크 타임이 아니라, △ 평가로 했다(전자 현미경 사용). 「패턴 직진성」에 대해서는, 구부러져 있는 경우를 × 평가로 했다. 패턴의 직진성이 없고, 깔끔하게 형성되어 있지 않은 경우는 브레이크 타임이 아니라, × 평가로 했다(전자 현미경 사용). 「팽윤 박리」에 대해서는, 현상 시에 용해 현상이 아니고, 도막이 팽윤하여 박리된 경우는 브레이크 타임이 아니라, ×× 평가로 했다.Regarding "film shrinkage", it was obtained from the film thickness of the coating film before development and the height of the cross section of the pattern after development, and when there was film reduction, it was evaluated as △, not the break time (using an electron microscope). Regarding "pattern straightness", the case where it was curved was evaluated as x. When there was no linearity of the pattern and it was not formed neatly, it was set as x evaluation instead of break time (using an electron microscope). About "swelling peeling", it was not a dissolution phenomenon at the time of development, and when the coating film swelled and peeled, it was set as xx evaluation, not break time.

내열 분해성 평가(표 중 약칭: 내열 분해성)Thermal degradation resistance evaluation (abbreviation in the table: thermal degradation resistance)

착색 감광성 조성물을 어플리케이터로 20㎛의 두께가 되도록 압연 동박 BHY-82F-HA-V2(JX킨조쿠(주) 제조)에 도포하고, 도막을 80℃의 열풍 건조기로 30분 건조시킨 후, 자외선 조사기(GS YUASA 제조: CS 30L-1)를 이용하여, 500mJ/㎠의 에너지로 자외선을 조사했다. 이어서 오븐 내에서 150℃에서 30분 경화시켜, 경화물을 얻었다. 동박을 염화철(Ⅲ) 45°보메(준세이카가쿠(주) 제조)로 제거했다. 제작한 경화물을 작성한 샘플 3㎎을, 매분 100ml의 공기류 중에서 METTLER 제조 TGA/DSC1을 이용하여 중량이 5% 감소하는 온도를 측정했다.The colored photosensitive composition was applied to a rolled copper foil BHY-82F-HA-V2 (manufactured by JX Kinzoku Co., Ltd.) with an applicator to a thickness of 20 µm, and the coated film was dried with a hot air dryer at 80 ° C. for 30 minutes, followed by an ultraviolet irradiation machine. (Product made by GS YUASA: CS 30L-1) was used, and ultraviolet rays were irradiated with an energy of 500 mJ/cm 2 . Subsequently, it was made to harden at 150 degreeC for 30 minutes in oven, and the hardened|cured material was obtained. The copper foil was removed with an iron (III) chloride 45° Baume (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.). The temperature at which the weight decreases by 5% was measured for a sample of 3 mg of the produced cured product using a TGA/DSC1 manufactured by METTLER in an air stream of 100 ml per minute.

Figure pat00006
Figure pat00006

상기의 결과로부터, 본 발명의 착색 감광성 조성물로부터 얻어지는 도막은 우수한 착색제 분산성이고, 또한 현상성이 높고, 그의 경화물도 내열 분해성이 우수한 것을 확인할 수 있다.From the above results, it can be confirmed that the coating film obtained from the colored photosensitive composition of the present invention has excellent colorant dispersibility and high developability, and that the cured product thereof is also excellent in thermal decomposition resistance.

[실시예 4] 착색 감광성 조성물의 조제와 혼련 분산성에 관한 평가[Example 4] Preparation of colored photosensitive composition and evaluation of kneading dispersibility

제조예 11, 12에서 얻어진 불포화기 함유 폴리카본산 수지를 20g과, 착색제 (B)로서 미츠비시카본블랙 MA-100 (B1)을 이용했다. 비즈 밀로 혼련하고, 혼련 후의 상태를 확인했다. 얻어진 착색 감광성 조성물이 균일한 것은 ○, 불균일, 수지에 의한 겔화가 발생한 것은 ×로 했다.20 g of the unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin obtained in Production Examples 11 and 12 and Mitsubishi Carbon Black MA-100 (B1) were used as the colorant (B). It was kneaded with a bead mill, and the state after kneading was confirmed. What the obtained colored photosensitive composition was uniform was rated as (circle), and what gelation by non-uniformity and resin occurred was rated as x.

Figure pat00007
Figure pat00007

[실시예 5] 착색 감광성 조성물의 조제와 착색제 분산성에 관한 평가[Example 5] Preparation of colored photosensitive composition and evaluation of colorant dispersibility

실시예 4-1, 4-2, 4-3에서 얻어진 착색 감광성 조성물에, 가교제 (D)로서, DPHA(상품명: 닛뽄가야쿠(주) 제조) (D1), 추가로 20g의 글래스 비즈를 넣고, 페인트셰이커로 1시간 분산을 행했다. 분산 종료 후의 분산액을, 와이어 바 코터 #2로 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 도공하고, 80℃의 온풍 건조기로 10분간 건조를 행했다. 건조 종료 후의 도막 표면의 광택을 60°반사 글로스계(호리바세이사쿠쇼 IG-331 광택계)를 이용하여 측정하고, 카본 블랙의 분산성을 평가했다. 표 5에 결과를 나타낸다. 광택의 값이 높을수록, 안료 분산성은 양호하다.To the colored photosensitive compositions obtained in Examples 4-1, 4-2 and 4-3, as a crosslinking agent (D), DPHA (trade name: manufactured by Nippon Gayaku Co., Ltd.) (D1) and further 20 g of glass beads were added , and dispersion was performed for 1 hour with a paint shaker. After completion of the dispersion, the dispersion was coated on a polyethylene terephthalate film with a wire bar coater #2, and dried for 10 minutes with a warm air dryer at 80°C. The gloss of the coating film surface after completion of drying was measured using a 60° reflective gloss meter (Horiba Seisakusho IG-331 gloss meter) to evaluate the dispersibility of the carbon black. Table 5 shows the results. The higher the gloss value, the better the pigment dispersibility.

Figure pat00008
Figure pat00008

[실시예 6] 착색 감광성 조성물의 조제와 현상성 평가[Example 6] Preparation of colored photosensitive composition and evaluation of developability

제조예 11, 12에서 얻어진 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A), 착색제 (B1), 용제 (C1) 및, 가교제 (D), 광 중합 개시제 (E)에 대해서, 표 6에 나타내는 배합으로 균일하게 분산시켜, 레지스트 수지 조성물을 얻었다.The unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A) obtained in Production Examples 11 and 12, the colorant (B1), the solvent (C1), the crosslinking agent (D), and the photopolymerization initiator (E) are uniformly formulated as shown in Table 6. and dispersed to obtain a resist resin composition.

실시예에 있어서, 가교제 (D)로서 DPCA-20(닛뽄가야쿠(주) 제조: ε-카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트) (D2), 광 중합 개시제 (E)로서 이르가큐어 907(치바스페셜리티케미컬즈 제조) (E1) 및 카야큐어 DETX-S(닛뽄가야쿠(주) 제조) (E2) 및, 경화제 (F)로서, YD-134(닛테츠케미컬&마테리얼(주) 제조: 비스페놀-A형 에폭시 수지) (F1), 열 경화 촉매 (G)로서 TPP(홋쿄카가쿠고교(주) 제조: 트리페닐포스핀) (G1)을 이용했다.In Examples, DPCA-20 (Nippon Kayaku Co., Ltd.: ε-caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate) (D2) as a crosslinking agent (D), Irgacure 907 as a photopolymerization initiator (E) (Chiba Specialty Chemicals) (E1) and Kayacure DETX-S (Nippon Kayaku Co., Ltd.) (E2) and, as a curing agent (F), YD-134 (Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd.) : Bisphenol-A type epoxy resin) (F1) and TPP (Hokkyo Chemical Industry Co., Ltd. triphenylphosphine) (G1) were used as the thermal curing catalyst (G).

평가 항목의 각각의 항목에 대해서는, 실시예 3과 마찬가지이다. 각 평가 항목의 평가 결과를 표 6에 나타낸다.About each item of evaluation criteria, it is the same as Example 3. The evaluation result of each evaluation item is shown in Table 6.

Figure pat00009
Figure pat00009

상기의 결과로부터도, 본 발명의 착색 감광성 조성물로부터 얻어지는 도막은 우수한 착색제 분산성이고, 또한 현상성이 높고, 그의 경화물도 내열 분해성이 우수한 것을 확인할 수 있다.Also from the above results, it can be confirmed that the coating film obtained from the colored photosensitive composition of the present invention has excellent colorant dispersibility and high developability, and that the cured product thereof is also excellent in thermal decomposition resistance.

이상으로부터, 본 발명의 착색 감광성 조성물로부터 얻어지는 도막은 우수한 착색제 분산성이고, 또한 현상성이 높고, 그의 경화물도 내열성이 우수한 점에서, 화상 표시 장치용의 차광 효과를 갖는 격벽 및, 블랙 매트릭스, 착색 스페이서, 컬러 레지스트에 적합하다.From the above, the coating film obtained from the colored photosensitive composition of the present invention has excellent colorant dispersibility and high developability, and a cured product thereof is also excellent in heat resistance, so that a barrier rib having a light-shielding effect for an image display device, a black matrix, and coloring Suitable for spacers and color resists.

Claims (7)

지환식 이소시아누레이트형 폴리이소시아네이트 (a1)과 지환식 트리카본산 무수물 (a2)와의 반응에 의해 얻어진 말단 산기 또는 산 무수물기를 갖는 폴리아미드이미드 수지 (a3)에 1분자 중에 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 (b) 및 지방족 디카본산 무수물 또는, 지방족 트리카본산 무수물 (c)를 반응시켜 얻어지는 불포화기 함유 폴리카본산 수지 (A)와 착색제 (B), 용제 (C)를 함유하는 착색 감광성 조성물.Polyamide-imide resin (a3) having a terminal acid group or an acid anhydride group obtained by reaction of an alicyclic isocyanurate type polyisocyanate (a1) with an alicyclic tricarboxylic acid anhydride (a2) has an epoxy group in one molecule (meta) ) Coloring containing an acrylate compound (b) and an aliphatic dicarboxylic acid anhydride or an unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin (A) obtained by reacting an aliphatic tricarboxylic acid anhydride (c) with a coloring agent (B) and a solvent (C) photosensitive composition. 제1항에 있어서,
가교제 (D)를 함유하는, 착색 감광성 조성물.
According to claim 1,
A colored photosensitive composition containing a crosslinking agent (D).
제1항에 있어서,
추가로, 광 중합 개시제 (E)를 함유하는, 착색 감광성 조성물.
According to claim 1,
The coloring photosensitive composition which further contains a photoinitiator (E).
제1항에 있어서,
추가로, 경화제 (F)를 함유하는, 착색 감광성 조성물.
According to claim 1,
The coloring photosensitive composition which further contains a hardening|curing agent (F).
제1항에 있어서,
상기 착색제 (B)가, 흑색 안료를 포함하는, 착색 감광성 조성물.
According to claim 1,
The coloring photosensitive composition in which the said coloring agent (B) contains a black pigment.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 조성물의 경화물.A cured product of the colored photosensitive composition according to any one of claims 1 to 5. 제6항에 기재된 경화물을 구비하는 화상 표시 장치.
An image display device comprising the cured product according to claim 6.
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