KR20220170413A - Multi-functional transparent photomask with preventing electrostatic discharge damage and anti-fouling and Manufacturing method of the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 포토마스크 및 이를 제조하는 방법에 관한 것으로, 접촉식 포토리소그래피 공정에 사용하는 포토마스크에 있어서, 투명 전도성 물질을 이용함으로써, 접촉식 포토리소그래피 공정 중 발생하는 정전기 방전에 의한 포토마스크 내 패턴의 손상을 효과적으로 방지하고 이때 표면에 방오 기능성 물질을 도포함으로써 투과율 향상 및 세정력을 향상시킨 투명 포토마스크 제조 기술에 관한 것이다.The present invention relates to a photomask and a method for manufacturing the same, and in a photomask used in a contact photolithography process, a pattern in the photomask by electrostatic discharge generated during the contact photolithography process by using a transparent conductive material. It relates to a transparent photomask manufacturing technology that effectively prevents damage and improves transmittance and detergency by applying an antifouling functional material to the surface at this time.
접촉식 포토리소그래피 공정에 사용하는 포토마스크의 경우 제품과의 반복적인 탈부착에 의해 발생하는 정전기가 포토마스크 내 금속 패턴에 축적되고 표면 항목 전압을 초과할 경우 금속 패턴이 용융되거나 기화되어 패턴이 손상되는 정전기 방전(ESD, Electro-Static Discharge)이 주요 공정 애로사항 중 하나이다. 이에 대한 개선방안으로 현재까지는 포토마스크의 교환 주기를 짧게 설정하거나 정전기 방전을 최소화할 수 있도록 패턴 디자인을 변경하는 방법을 적용 중에 있다. 그러나 이러한 방안은 생산성이 저하되거나 공정 단가를 상승시키는 등의 문제를 야기하고 있어 접촉식 포토리소그래피 공정에서 정전기 방전에 의한 패턴 손상을 방지한 포토마스크에 대한 요구가 증대되고 있다.In the case of a photomask used in the contact photolithography process, static electricity generated by repeated attachment and detachment from products is accumulated on the metal pattern in the photomask, and when the surface item voltage is exceeded, the metal pattern is melted or vaporized, resulting in damage to the pattern. Electro-Static Discharge (ESD) is one of the main process difficulties. As an improvement plan for this, a method of setting a short photomask replacement cycle or changing a pattern design to minimize electrostatic discharge is currently being applied. However, since these methods cause problems such as reduced productivity or increased process cost, a demand for a photomask that prevents pattern damage due to electrostatic discharge in a contact photolithography process is increasing.
정전기 방전에 의한 패턴 손상의 주요 발생 원인은 포토마스크 상부의 금속 패턴 사이에 공기층이 존재하여 하나의 축전기와 같은 구조를 형성하거나 좁은 패턴에 순간적으로 많은 양의 정전기 전하가 집중된 경우이다. 따라서 정전기 방전에 의한 패턴 손상을 방지하기 위해서는 금속 패턴 내의 전하 축적과 급격한 방전을 방지해야 하며, 이를 위해서는 금속 패턴간의 전하 이동 통로를 형성시켜 주는 것이 가장 효과적인 방법이다.The main cause of pattern damage by electrostatic discharge is when an air layer exists between the metal patterns on the top of the photomask to form a capacitor-like structure or when a large amount of electrostatic charge is instantly concentrated in a narrow pattern. Therefore, in order to prevent pattern damage due to electrostatic discharge, it is necessary to prevent charge accumulation and rapid discharge in the metal pattern. To this end, forming a charge transfer path between metal patterns is the most effective method.
종래에는 전하 이동 통로 형성을 위해 도 1과 같이 금속 패턴 하부에 전도성 물질 층을 형성시킨 기술이 상용화되어있다.Conventionally, a technique of forming a conductive material layer under a metal pattern as shown in FIG. 1 has been commercialized to form a charge transfer passage.
그러나 기존에 상용화된 금속 패턴 하부에 전도성 물질을 형성시키는 기술의 경우 다음과 같은 다양한 문제점을 갖고 있어 그 사용이 제한되고 있다. 첫 번째는 금속 패턴 하부에 형성된 전도성 물질과 패턴의 금속간의 밀착력이 낮아 도 2와 같이 금속 패턴의 일부가 박리되는 현상이 있어 포토마스크의 제조 생산 수율 및 포토마스크 수명을 단축시키는 문제를 갖고 있다.However, in the case of a conventionally commercialized technology for forming a conductive material under a metal pattern, its use is limited due to the following various problems. First, the adhesion between the conductive material formed under the metal pattern and the metal of the pattern is low, and as shown in FIG. 2, a part of the metal pattern is peeled off, thereby reducing the manufacturing yield and life of the photomask.
두 번째는 도 3과 같이 금속 패턴 하부에 형성한 전도성 물질에 의해 일반 포토마스크에 비해 약 15% 이상 투과도가 감소하는 문제이다. 포토마스크는 노광 공정의 핵심 광학 부품이기 때문에 투과도 감소는 노광 설비 광원의 수명 단축뿐만 아니라 노광 공정의 제품 품질에 심각한 영향을 주는 매우 심각한 문제이다.Second, as shown in FIG. 3, the transmittance is reduced by about 15% or more compared to a general photomask due to the conductive material formed under the metal pattern. Since the photomask is a key optical component in the exposure process, the decrease in transmittance is a very serious problem that seriously affects product quality in the exposure process as well as shortens the lifespan of light sources in exposure equipment.
상용화되어 있는 기술의 전도성 물질은 탄탈륨을 주요 성분으로 하고 있는데, 탄탈륨 자체는 투과도를 갖지 않기 때문에 수 nm 두께로 전도층을 형성시키고 일부 산화시킴으로써 투과율을 증가시킨 형태로 적용되고 있다. 문제는 수 nm 박막이기 때문에 포토마스크 전체 면적에 대해 산화 정도를 조절하기 쉽지 않아 투과도의 균일도가 떨어질 뿐만 아니라 산화되면서 저항이 증가하여 정전기 전하를 효과적으로 전도시키지 못하는 것이다.The commercially available conductive material has tantalum as its main component. Since tantalum itself does not have transmittance, it is applied in a form in which transmittance is increased by forming a conductive layer with a thickness of several nm and partially oxidizing the conductive material. The problem is that since it is a few nm thin film, it is not easy to control the degree of oxidation over the entire area of the photomask, so not only the uniformity of transmittance is lowered, but also the resistance increases as it is oxidized, so that the electrostatic charge cannot be effectively conducted.
상술한 바와 같이, 현재 상용화되어 있는 기술이 많은 문제를 갖고 있기 때문에 일정수준 이상의 투과도, 우수한 정전기 전하 전도성뿐만 아니라 포토마스크 공정에 대한 내화학성을 보유하고 있어야 하며, 더불어 노광 공정 중에 손상되지 않는 높은 내구성을 갖는 새로운 대체 기술이 필요하다.As described above, since the currently commercialized technology has many problems, it must have a certain level of transmittance, excellent electrostatic charge conductivity, as well as chemical resistance to the photomask process, and high durability that is not damaged during the exposure process. A new alternative technology with
본 발명은 포토마스크의 크롬 금속 패턴간의 정전기 전하가 이동할 수 있는 통로인 투명 전도성 물질 층을 형성시킴과 동시에 투명 전도성 물질층의 내화학성 및 수명 연장을 위해 투명 전도성 물질 층 상부에 세정력을 향상시킬 수 있는 방오 기능성 물질 층이 형성되어 있는 포토마스크를 제조하는 공정을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention forms a transparent conductive material layer, which is a path through which electrostatic charges can move between chrome metal patterns of a photomask, and at the same time, it is possible to improve the cleaning power on the transparent conductive material layer to extend the chemical resistance and lifespan of the transparent conductive material layer. Its object is to provide a process for manufacturing a photomask in which a layer of an antifouling functional material is formed.
투명 전도성 물질과 방오 기능성 물질층의 형성은 새로운 소재 및 제조 기술이 아닌 범용적인 기술을 사용함으로써 기술의 확장성을 확보하는 것을 그 목적으로 한다. 아울러, 본 발명은 상술한 방법으로 제조되어 우수한 품질을 갖는 투명 포토마스크를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The purpose of forming the transparent conductive material and the antifouling functional material layer is to secure the scalability of the technology by using a general-purpose technology rather than a new material or manufacturing technology. In addition, an object of the present invention is to provide a transparent photomask manufactured by the above-described method and having excellent quality.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 투명 포토마스크는 투명 유리 기판 상부에 오목부 및 볼록부로 구성된 요철 패턴이 형성되어 있으며, 상기 볼록부는 투명 유리 기판 상부 방향으로부터 크롬층, 산화크롬층, 투명 전도성층, 밀착력 향상층 및 방오 코팅층이 차례대로 적층되어 있고, 상기 오목부는 투명 유리 기판 상부 방향으로부터 투명 전도성층, 밀착력 향상층 및 방오 코팅층이 차례대로 형성되어 있으며, 상기 방오 코팅층은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 방오 코팅조성물을 포함할 수 있다.In order to solve the above problems, the multifunctional transparent photomask having antistatic and antifouling properties of the present invention has a concavo-convex pattern composed of concave and convex parts formed on a transparent glass substrate, and the convex part has chrome from the top of the transparent glass substrate. layer, a chromium oxide layer, a transparent conductive layer, an adhesion enhancing layer and an antifouling coating layer are sequentially stacked, and the concave portion has a transparent conductive layer, an adhesion enhancing layer and an antifouling coating layer sequentially formed from an upper direction of the transparent glass substrate. The antifouling coating layer may include an antifouling coating composition including a compound represented by Formula 1 below.
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1에 있어서, n 및 m은 화합물의 수평균분자량 1,000 ~ 15,000을 만족하는 유리수이다.In Formula 1, n and m are rational numbers that satisfy the number average molecular weight of 1,000 to 15,000 of the compound.
또한, 본 발명의 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 포토마스크의 제조방법은 포토마스크를 준비하는 1단계, 상기 포토마스크의 표면을 플라즈마 처리하여 표면 개질시키는 2단계, 표면 개질된 포토마스크 상부에 투명 전도성 소재를 증착하여 투명 전도성층을 형성시키는 3단계, 투명 전도성층 상부에 밀착력 향상을 위한 소재를 증착하여 밀착력 향상층을 형성시키는 4단계, 상기 밀착력 향상층 표면을 플라즈마 처리하여 표면 개질시키는 5단계 및 밀착력 향상층 상부에 방오 코팅조성물을 포함하는 방오 코팅제를 도포한 후, 열처리하여 방오 코팅층을 형성하는 6단계를 포함하며, 1단계의 포토마스크는 투명 유리 기판 상부에 오목부 및 볼록부로 구성된 요철 패턴이 형성되어 있으며, 상기 볼록부는 투명 유리 기판 상부 방향으로부터 크롬층, 산화크롬층이 차례대로 적층되어 있고, 오목부는 투명 유리 기판만이 존재하며, 상기 방오 코팅조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물이 혼합되어 있을 수 있다.In addition, the method of manufacturing a multifunctional photomask having antistatic and antifouling properties of the present invention includes a first step of preparing a photomask, a second step of surface-modifying the surface of the photomask by plasma treatment, and a surface-modified photomask on top of the photomask. Step 3 of depositing a transparent conductive material to form a transparent conductive layer, Step 4 of depositing a material for improving adhesion on top of the transparent conductive layer to form an adhesion enhancement layer, Step 5 of surface modification by plasma treatment of the surface of the adhesion enhancement layer and 6 steps of applying an antifouling coating composition containing an antifouling coating composition on top of the adhesion enhancing layer and then heat-treating to form an antifouling coating layer. A concavo-convex pattern is formed, the convex part has a chromium layer and a chromium oxide layer sequentially stacked from the upper direction of the transparent glass substrate, and only the transparent glass substrate exists in the concave part, and the antifouling coating composition is represented by the following formula (1) Compounds may be mixed.
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1에 있어서, n 및 m은 화합물의 수평균분자량 1,000 ~ 15,000을 만족하는 유리수이다.In Formula 1, n and m are rational numbers that satisfy the number average molecular weight of 1,000 to 15,000 of the compound.
여기서, 투명 전도성 소재는 충분한 전도성을 갖으며, 접촉식 포토리소그래피 공정에서 사용하는 광원의 파장에 대해 광학적으로 우수한 투과성을 갖는 소재를 포함하며, 포토마스크의 유리기판과 충분한 접착력을 갖는 것을 특징으로 한다.Here, the transparent conductive material includes a material that has sufficient conductivity and optically excellent transmittance for the wavelength of the light source used in the contact photolithography process, and has sufficient adhesive strength with the glass substrate of the photomask. .
아울러, 최상부에 방오 코팅층을 형성함으로써 대전방지 기능과 더불어 방오 기능성을 동시에 보유하는 것을 특징으로 한다.In addition, by forming an antifouling coating layer on the top, it is characterized in that it has antistatic function and antifouling function at the same time.
아울러, 우수하고 균일한 전기 전도도, 높은 투과도 균일성, 뛰어난 방오 기능성 및 포토마스크의 유리 기판 또는 각 층간의 우수한 밀착력을 위해 물리적 증착 방법을 우선으로 하나 앞서 언급된 특성을 구현할 수 있는 습식 증착 방법을 포함한다.In addition, the physical deposition method is given priority for excellent and uniform electrical conductivity, high transmittance uniformity, excellent antifouling functionality and excellent adhesion between the glass substrate or each layer of the photomask, but a wet deposition method capable of implementing the above-mentioned characteristics include
포토마스크 상부에 전도성을 갖는 투명 전도성층을 형성시킴으로써 크롬 패턴 사이에 정전기 전하가 이동할 수 있는 통로가 형성되어 접촉식 포토리소그래피 공정의 밀착, 탈착시 발생하는 정전기에 의한 크롬 패턴 손상을 방지할 수 있는 효과를 제공할 수 있다. 또한, 가시광 영역에 대한 준수한 투과율을 갖는 전도성 물질을 이용하고 광학설계를 통해 최적의 두께를 구현함으로써, 접촉식 포토리소그래피의 노광 에너지 손실을 최소화할 수 있는 효과를 제공할 수 있다.By forming a transparent conductive layer with conductivity on the top of the photomask, a passage through which static charges can move is formed between the chrome patterns, which can prevent damage to the chrome patterns due to static electricity generated during adhesion and detachment in the contact photolithography process. effect can be provided. In addition, an effect capable of minimizing exposure energy loss in contact photolithography can be provided by using a conductive material having a good transmittance in the visible light region and implementing an optimal thickness through an optical design.
종래에 접촉식 포토리소그래피 공정에서 이물 흡착율을 낮추고 세정력을 향상시키는 효과가 있는 방오 기능 효과를 동일하게 제공할 수 있으며, 특히 투명 전도성층과 방오 코팅층 사이에 밀착력 향상층을 형성시킴으로써 방오 기능성 물질의 밀착력, 방오 특성을 향상시키는 효과가 있다.In the conventional contact photolithography process, it is possible to provide the same antifouling function effect that has the effect of lowering the foreign matter adsorption rate and improving the cleaning power. In particular, by forming an adhesion enhancing layer between the transparent conductive layer and the antifouling coating layer, the adhesion of the antifouling functional material , there is an effect of improving antifouling properties.
뿐만 아니라, 일반적으로 제조된 포토마스크 상부에 순차적으로 투명 전도성층, 밀착력 향상층 및 방오 코팅층을 형성하고 각 층 사이에 물리적으로 혼합되거나 화학적으로 화합물을 형성하지 않는다.In addition, a transparent conductive layer, an adhesion enhancing layer, and an antifouling coating layer are sequentially formed on a generally manufactured photomask, and a compound is not physically mixed or chemically formed between each layer.
도 1은 종래 크롬층 하부에 전도성 물질층을 형성하여 대전방지 기능을 구현한 포토마스크의 단면도이다.
도 2는 도 1의 기존 포토마스크에서 발생하는 크롬 패턴의 박리로 인한 결함(pin-hole)에 대한 이미지이다.
도 3은 도 1의 대전방지 기능이 구현된 포토마스크와 일반 포토마스크의 투과도 스펙트럼 측정 결과로서, 도 1의 대전방지 기능이 구현된 포토마스크가 일반 포토마스크에 비해 약 15% 정도 낮은 투과도를 보인다.
도 4 내지 도 10 각각은 본 발명에 따른 다양한 기능을 갖는 포토마스크 제조 방법을 도시한 단면도들이다.1 is a cross-sectional view of a conventional photomask in which an antistatic function is implemented by forming a conductive material layer under a chromium layer.
FIG. 2 is an image of a defect (pin-hole) caused by exfoliation of a chrome pattern occurring in the conventional photomask of FIG. 1 .
FIG. 3 is a result of measuring transmittance spectra of the photomask in which the antistatic function of FIG. 1 is implemented and the general photomask, and the photomask in which the antistatic function of FIG. 1 is implemented shows about 15% lower transmittance than the general photomask. .
4 to 10 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a photomask having various functions according to the present invention.
이하에서는, 본 발명의 상술한 목적에 근거하여 대전방지, 방오 등 다양한 기능을 갖는 포토마스크 및 이를 제조하는 방법에 대하여 상세히 설명하는 것으로 한다.Hereinafter, based on the above object of the present invention, a photomask having various functions such as antistatic and antifouling and a method for manufacturing the same will be described in detail.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 상세하게 후술되어 있는 실시 예들 및 도면을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and methods of achieving them, will become clear with reference to the detailed embodiments and drawings described below. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, only the present embodiments make the disclosure of the present invention complete, and conventional knowledge in the art to which the present invention belongs It is provided to fully inform the holder of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.
본 발명을 실시하기 위한 실시예로서 일반적인 제조방법을 통해 제작된 포토마스크 상부에 순차적으로 투명하고 전도성을 갖는 투명 전도성층, 투명 전도성층을 보호하면서 상부 방오 코팅층과의 밀착력을 향상시키는 밀착력 향상층, 및 최상부에 방오 기능성을 구현하는 방오 코팅층을 형성하는 방법을 제공한다. 좀 더 구체적으로 본 발명을 설명하면 다음과 같다.As an embodiment for carrying out the present invention, a transparent conductive layer sequentially transparent and conductive on top of a photomask manufactured through a general manufacturing method, an adhesion enhancing layer that improves adhesion with the upper antifouling coating layer while protecting the transparent conductive layer, And it provides a method of forming an antifouling coating layer that implements antifouling functionality on top. More specifically, the present invention is described as follows.
본 발명의 투명 포토마스크는 포토마스크를 준비하는 1단계; 상기 포토마스크의 표면을 플라즈마 처리하여 표면 개질시키는 2단계; 표면 개질된 포토마스크 상부에 투명 전도성 소재를 증착하여 투명 전도성층을 형성시키는 3단계; 투명 전도성층 상부에 밀착력 향상 소재를 증착 처리하여 밀착력 향상층을 형성시키는 4단계; 상기 밀착력 향상층 표면을 플라즈마 처리하여 표면 개질시키는 5단계; 및 밀착력 향상층 상부에 방오 코팅조성물을 포함하는 방오 코팅제를 도포한 후, 열처리하여 방오 코팅층을 형성하는 6단계;를 포함하는 공정을 수행하여 제조할 수 있다.The transparent photomask of the present invention includes a first step of preparing the photomask; a second step of modifying the surface of the photomask by plasma treatment; a third step of depositing a transparent conductive material on the surface-modified photomask to form a transparent conductive layer; Step 4 of depositing an adhesion-enhancing material on top of the transparent conductive layer to form an adhesion-enhancing layer; a fifth step of surface-modifying the surface of the adhesion enhancing layer by plasma treatment; and a sixth step of applying an antifouling coating composition containing an antifouling coating composition on top of the adhesion enhancing layer and then heat-treating to form an antifouling coating layer.
1단계의 상기 포토마스크는 일반적인 포토마스크일 수 있으며, 바람직한 일례를 들면, 투명 유리 기판(100) 상부에 오목부 및 볼록부로 구성된 요철 패턴이 형성되어 있으며, 상기 볼록부는 투명 유리 기판 상부 방향으로부터 크롬층(110), 산화크롬층(120)이 차례대로 적층되어 있고, 오목부는 투명 유리 기판만이 존재한다(도 4 참조).The photomask in the first step may be a general photomask. As a preferred example, a concavo-convex pattern composed of concave and convex portions is formed on the
상기 투명 유리기판(100)은 소다라임(SodaLime) 또는 석영(Quartz)을 주로 이용할 수 있으며, 상기 물질에 항상 제한되는 것은 아니며, 일반적으로 통용되는 포토마스크 제조를 위한 물질들도 모두 사용 가능하다.The
2단계는 투명 전도성층 형성 전 전처리 공정으로서, 포토마스크의 표면인 오목부의 유리 기판(100)의 표면 및 볼록부의 최외각 표면인 산화크롬층(120)의 표면을 개질 처리하는 공정이다. 표면 개질 처리 방법은 플라즈마 처리를 수행할 수 있다.The second step is a pretreatment process before forming the transparent conductive layer, which is a process of modifying the surface of the concave portion of the
표면 개질은 5.0 × 10-6 Torr의 진공도하에서 2,000V 수준의 파워로 포토마스크 표면을 28 ~ 32mm/s의 속도로, 바람직하게는 29 ~ 31mm/s의 속도로, 더욱 바람직하게는 29.5 ~ 30.5mm/s 속도로 플라즈마를 조사하는 방식으로 진행한다.The surface modification is performed on the photomask surface at a speed of 28 to 32 mm/s, preferably at a speed of 29 to 31 mm/s, and more preferably at 29.5 to 30.5 It proceeds by irradiating plasma at a speed of mm/s.
이와 같은 개질 처리를 통해, 도 4에 개략도로 나타낸 바와 같이, 표면이 개질된 투명 유리 기판(105) 및 표면이 개질된 산화크롬층(125)을 확보할 수 있다.Through such a modification process, as schematically shown in FIG. 4 , it is possible to secure a
다음으로, 3단계는 개질 처리된 포토마스크 표면에 투명 전도성층을 형성시키는 공정이다.Next, step 3 is a process of forming a transparent conductive layer on the modified photomask surface.
상기 투명 전극재는 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), IWO(Indium Tungsten Oxide) 및 FTO(Fluorine Tin Oxide)와 같은 전도성을 갖는 산화물 소재 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.The transparent electrode material may include at least one selected from conductive oxide materials such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tungsten oxide (IWO), and fluorine tin oxide (FTO).
또는, 탄소나노튜브, 은 나노와이어(Ag Nanowire) 및 그래핀과 같은 전도성 소재가 분산된 소재 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.Alternatively, at least one selected from materials in which conductive materials such as carbon nanotubes, silver nanowires, and graphene are dispersed may be included.
그리고 폴리아세틸렌(Polyacetylene), P3HT(Poly 3-Hexylthiophene) 및 PEDOT (Polytthylene di-oxythiophene)과 같이 전도성 폴리머 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.In addition, at least one selected from conductive polymers such as polyacetylene, poly 3-hexylthiophene (P3HT), and polytthylene di-oxythiophene (PEDOT) may be included.
이러한 조성의 투명 전도성 소재로 개질 처리된 포토마스크 표면에 투명 전도성층을 형성시킨다. 이때, 투명 전도성층은 크롬층(110) 및 산화크롬층(120) 보다 얇아야 하며, 광투과도 및 전기 전도도 특성을 만족하기 위해서, ITO의 경우 바람직하게는 10 ~ 50nm, 더 바람직하게는 10 ~ 20nm인 것이 좋으며, 투명 전도성층의 두께가 30nm를 초과하면 광학적 특성에 문제가 있을 수 있다.A transparent conductive layer is formed on the surface of the photomask modified with the transparent conductive material having such a composition. At this time, the transparent conductive layer should be thinner than the
ITO 소재에 대한 투명 전도성층의 형성은 진공도 5.2 ~ 5.8 × 10-6 Torr, 바람직하게는 5.4 ~ 5.6 × 10-6 Torr 하에서 아르곤과 산소를 각각 98 ~ 102sccm 및 7 ~ 9sccm, 바람직하게는 99 ~ 101sccm 및 7.5 ~ 8.5sccm으로 주입하고 파워 1.98 ~ 2.02kW, 바람직하게는 1.99 ~ 2.01kW의 공정 조건 하에서 건식 증착을 통해 수행할 수 있다.The formation of the transparent conductive layer on the ITO material is carried out by argon and oxygen at 98 to 102 sccm and 7 to 9 sccm, preferably 99 to 9 sccm, respectively, under a vacuum degree of 5.2 to 5.8 × 10 -6 Torr, preferably 5.4 to 5.6 × 10 -6 Torr. 101 sccm and 7.5 to 8.5 sccm are injected and dry deposition may be performed under process conditions of a power of 1.98 to 2.02 kW, preferably 1.99 to 2.01 kW.
이렇게 형성된 투명 전도성층은 전기 전도도가 우수하면서 높은 광학적 투과도를 확보할 수 있는 소재로 제조되었는바, 표면저항이 1 × 104Ω/squre 이하, 바람직하게는 2.0 ~ 5.0 × 103Ω/squre를 가질 수 있다.The transparent conductive layer thus formed is made of a material capable of securing high optical transmittance while having excellent electrical conductivity, and has a surface resistance of 1 × 10 4 Ω/squre or less, preferably 2.0 to 5.0 × 10 3 Ω/squre. can have
그리고, 투명 전도성층은 380 ~ 450nm 가시광 영역에서의 평균 투과도가 85% 이상이며, 바람직하게는 85 ~ 87%일 수 있고, 더 바람직하게는 85.5 ~ 86.5%일 수 있다.In addition, the transparent conductive layer may have an average transmittance of 85% or more in a visible light region of 380 to 450 nm, preferably 85 to 87%, and more preferably 85.5 to 86.5%.
다음으로, 4단계는 투명 전도성층 상부에 밀착력 향상제를 코팅처리하여 밀착력 향상층을 형성시키는 공정으로서, 밀착력 향상층은 또한 하부의 투명 전도성층을 화학적, 물리적으로 보호하기 위해 충분한 내산성, 내알칼리성, 내마모성을 가는 소재이면서, 투명 전도성층과 상부의 방오 코팅층과 높은 밀착력을 갖는 소재를 사용하여 형성시킨다.Next, step 4 is a process of forming an adhesion enhancing layer by coating an adhesion improving agent on the top of the transparent conductive layer. The adhesion enhancing layer also has sufficient acid resistance, alkali resistance, It is formed by using a material with high abrasion resistance and high adhesion to the transparent conductive layer and the upper antifouling coating layer.
상기 밀착력 향상제는 세라믹 및 무기 고분자를 포함할 수 있다.The adhesion enhancer may include ceramics and inorganic polymers.
상기 세라믹은 산화실리콘, 질화실리콘 및 탄화실리콘 및 산화알루미늄 중에서 선택된 1종 이상을 포함하며, 바람직하게는 산화실리콘 및 질화실리콘 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.The ceramic may include at least one selected from silicon oxide, silicon nitride, silicon carbide, and aluminum oxide, and preferably may include at least one selected from silicon oxide and silicon nitride.
그리고, 상기 무기 고분자는 폴리실라잔 및 실란 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.And, the inorganic polymer may include at least one selected from polysilazane and silane.
투명 전도성층 상부에 밀착성 향상층(210)을 형성시키며(도 7 참조), 이때, 밀착성 향상층은 산화실리콘의 경우 평균두께 50nm 이하, 바람직하게는 10 ~ 35nm, 더 바람직하게는 10 ~ 20nm인 것이 좋으며, 밀착성 향상층의 두께가 20nm를 초과하면 단방향 성장 특성에 의해 최상부 방오 기능성 코팅의 특성이 발현되지 않는 문제가 있을 수 있다.An
밀착력 향상 층의 형성은 해당 업계 범용적으로 사용하는 증착방법을 사용하며, 바람직하게는 건식 증착방법을 사용할 수 있다. 좀 더 구체적으로 설명하면, 진공도 1.0 ~ 1.4 × 10-5 Torr, 바람직하게는 1.1 ~ 1.3 × 10-6 Torr 하에서 아르곤과 산소를 각각 38 ~ 42sccm 및 24 ~ 28sccm, 바람직하게는 39 ~ 41sccm 및 25 ~ 27sccm으로 주입하고 파워 2.86 ~ 2.90kW, 바람직하게는 2.87 ~ 2.89kW로 공정 조건 하에서 건식 증착을 수행할 수 있다.Formation of the adhesion enhancing layer uses a deposition method commonly used in the industry, and preferably a dry deposition method may be used. More specifically, argon and oxygen are respectively 38 to 42 sccm and 24 to 28 sccm , preferably 39 to 41 sccm and 25 Dry deposition can be carried out under process conditions with an injection of ~ 27 sccm and a power of 2.86 ~ 2.90 kW, preferably 2.87 ~ 2.89 kW.
이렇게 형성된 상기 밀착력 향상층은 380 ~ 450nm 가시광 영역에서의 광투과율이 95% 이상이며, 바람직하게는 96 ~ 99%, 더 바람직하게는 96 ~ 98% 일 수 있다.The adhesion improving layer thus formed may have a light transmittance of 95% or more in the visible light region of 380 to 450 nm, preferably 96 to 99%, and more preferably 96 to 98%.
다음으로, 5단계는 방오 코팅층 형성 전 밀착력 향상층 표면을 플라즈마 처리하여 표면 개질시키는 단계이다. 상기 표면 개질은 방오 코팅제 도포시 보다 균일하게 도포될 수 있도록 함과 동시에 포토마스크의 표면에 결합에 사용되는 수산화(-OH)기를 형성시켜줌으로써 상기 밀착력 향상층과 방오 코팅제간의 밀착력을 향상시키기 위한 것이다.Next, step 5 is a step of surface modification by plasma treatment of the surface of the adhesion enhancing layer before forming the antifouling coating layer. The surface modification is to improve the adhesion between the adhesion enhancing layer and the antifouling coating by forming a hydroxyl (-OH) group used for bonding on the surface of the photomask while allowing the antifouling coating to be applied more uniformly. .
상기 5단계의 플라즈마 처리는 상압 플라즈마로 제품의 손상을 최소화하기 위하여 45 ~ 60% 수준인 0.45 ~ 0.6W/1mm, 바람직하게는 약 0.48 ~ 0.55W/1mm, 더욱 바람직하게는 0.49 ~ 0.52W/1mm의 조건 하에서 28 ~ 32mm/s의 속도로, 바람직하게는 29 ~ 31mm/s의 속도로, 더욱 바람직하게는 29.5 ~ 30.5mm/s 속도로, 아르곤과 산소가 약 780 ~ 820 : 1 부피비로 혼합된 가스를 이용하여 수행한다.The plasma treatment in the above 5 steps is 0.45 to 0.6W/1mm, preferably about 0.48 to 0.55W/1mm, more preferably 0.49 to 0.52W/1mm, which is a level of 45 to 60%, in order to minimize product damage with normal pressure plasma. Under the condition of 1 mm, at a speed of 28 to 32 mm/s, preferably at a speed of 29 to 31 mm/s, more preferably at a speed of 29.5 to 30.5 mm/s, argon and oxygen at a volume ratio of about 780 to 820: 1 It is carried out using a mixed gas.
또한, 플라즈마 처리 전 포토마스크 표면에 흡착된 이물 및 포토마스크 표면 대전 특성을 중성화하기 위한 이온나이저(ionizer) 처리를 선행할 수도 있으며, 이온나이저 처리는 당업계에서 사용하는 일반적인 방법을 통해 수행할 수 있다.In addition, before the plasma treatment, an ionizer treatment may be preceded to neutralize foreign matter adsorbed on the photomask surface and the charging characteristics of the photomask surface, and the ionizer treatment may be performed by a general method used in the art. there is.
이와 같이 5단계의 표면 개질에 의해 표면 개질된 밀착력 향상층(215)이 포토마스크 최외각 상부층에 형성된다(도 8 참조).As such, the surface-modified
다음으로, 6단계는 방오 코팅층을 형성시키는 공정으로서, 당업계에서 사용하는 일반적인 코팅 방법을, 바람직하게는 습식 코팅 방법을 통해 방오 코팅제를 표면 개질된 포토마스크의 밀착력 향상층 상부에 코팅시킬 수 있으며, 더 바람직하게는 개질 처리된 포토마스크의 표면에 액상 형태의 방오 코팅제를 고압 분사시키는 습식 스프레이 코팅방법으로 수행할 수 있다. 이를 좀 더 구체적으로 설명하면, 상기 방오 코팅제를 토출속도 1.5 ~ 2.5ml/분, 바람직하게는 1.8 ~ 2.2ml/분로 토출시키고, 11 ~ 13L/분의 질소압으로, 바람직하게는 11.5 ~ 12.5L/분의 질소압으로 가속시켜 포토마스크 표면에 분사하여 수행할 수 있다. 그리고, 포토마스크 전체를 560 ~ 650mm/s의 속도로, 바람직하게는 580 ~ 620mm/s의 속도로, 더욱 바람직하게는 590 ~ 610mm/s 정도의 속도로 스캔(scan)하여 포토마스크 전체에 도포시켜서 수행할 수 있는데, 이때, 분사 노즐의 이동 방향은 ‘ㄹ’으로 하며, 방향전환을 반드시 포토마스크 외부에서 하도록 설정함으로써 포토마스크의 외곽에 코팅액이 과도하게 분사되는 것을 방지하는 습식코팅 공정을 수행할 수 있다. 이와 같은 방법으로 코팅 처리하여 표면이 개질된 투명 유리 기판(100) 및 표면 개질된 밀착력 향상층(215)의 상부 표면에 방오 코팅제가 코팅된 방오 코팅층(220)을 형성시킬 수 있다(도 9 참조).Next, step 6 is a process of forming an antifouling coating layer, and the antifouling coating agent is coated on top of the adhesion enhancing layer of the surface-modified photomask through a general coating method used in the art, preferably a wet coating method, , More preferably, it can be carried out by a wet spray coating method in which a liquid antifouling coating agent is sprayed at high pressure on the surface of the modified photomask. More specifically, the antifouling coating agent is discharged at a discharge rate of 1.5 to 2.5 ml/min, preferably 1.8 to 2.2 ml/min, and a nitrogen pressure of 11 to 13 L/min, preferably 11.5 to 12.5 L/min. It can be performed by spraying on the surface of the photomask by accelerating with a nitrogen pressure of /min. Then, the entire photomask is scanned at a speed of 560 to 650 mm/s, preferably at a speed of 580 to 620 mm/s, more preferably at a speed of about 590 to 610 mm/s, and applied to the entire photo mask. At this time, the moving direction of the spray nozzle is 'd', and the direction change is set to be performed outside the photomask to prevent excessive spraying of the coating liquid on the outside of the photomask. Perform a wet coating process can do. The
상기 방오 코팅제는 방오 코팅조성물 및 유기용매를 포함할 수 있으며, 바람직하게는 방오 코팅조성물 0.1 ~ 1.0 중량% 및 잔량의 용매를 포함하는 방오 코팅제로, 바람직하게는 방오 코팅조성물 0.2 ~ 0.8 중량% 및 잔량의 용매를, 더욱 바람직하게는 방오 코팅조성물 0.3 ~ 0.7 중량% 및 잔량의 용매를 코팅시켜 형성된 형성시킬 수 있다. 이 때, 방오 코팅조성물 함량이 0.1 중량% 미만이면 충분한 특성을 발현시키기 어려운 문제가 있을 수 있고, 1.0 중량%를 초과하면 응집 또는 미경화되거나 공정 중 노즐이 막히는 문제가 있을 수 있다.The antifouling coating agent may include an antifouling coating composition and an organic solvent, preferably an antifouling coating composition containing 0.1 to 1.0% by weight of the antifouling coating composition and the remaining solvent, preferably 0.2 to 0.8% by weight of the antifouling coating composition and The remaining amount of the solvent, more preferably 0.3 to 0.7% by weight of the antifouling coating composition and the remaining amount of the solvent may be formed by coating. At this time, if the content of the antifouling coating composition is less than 0.1% by weight, it may be difficult to express sufficient properties, and if it exceeds 1.0% by weight, there may be a problem of aggregation or uncuring or clogging of the nozzle during the process.
상기 방오 코팅조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물이 혼합되어 있을 수 있다.The antifouling coating composition may be a mixture of a compound represented by Formula 1 below.
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1에 있어서, n 및 m은 화합물의 수평균분자량 1,000 ~ 15,000, 바람직하게는 3,000 ~10,000, 더욱 바람직하게는 5,000 ~ 8,000을 만족하는 유리수이다.In Formula 1, n and m are rational numbers that satisfy the number average molecular weight of the compound of 1,000 to 15,000, preferably 3,000 to 10,000, and more preferably 5,000 to 8,000.
또한, 방오 코팅조성물은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물이 더 혼합되어 있을 수 있다.In addition, the antifouling coating composition may further mix a compound represented by Formula 2 and a compound represented by Formula 3 below.
[화학식 2][Formula 2]
상기 화학식 2에 있어서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기, 페닐기 또는 알킬페닐기이고, 바람직하게는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, 더욱 바람직하게는 각각 독립적으로, 에틸기이다.In Formula 2, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a C1 to C12 straight-chain alkyl group, a C3 to C12 branched alkyl group, a phenyl group or an alkylphenyl group, preferably each independently , C1-C12 linear alkyl groups, more preferably each independently an ethyl group.
[화학식 3][Formula 3]
상기 화학식 3에 있어서, R5, R6 및 R7는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기, 페닐기 또는 알킬페닐기이고, 바람직하게는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, 더욱 바람직하게는 메틸기이다.In Formula 3, R 5 , R 6 and R 7 are each independently a C1-C12 straight-chain alkyl group, a C3-C12 branched alkyl group, a phenyl group or an alkylphenyl group, preferably a C1-C12 straight-chain alkyl group. It is an alkyl group, More preferably, it is a methyl group.
또한, 상기 화학식 3에 있어서, B1 및 B2는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이며, 더욱 바람직하게는 B1는 -CH2CH2CH2-이고, B2는 -CH2-이다.In Formula 3, B 1 and B 2 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, more preferably B 1 is -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 2 is -CH 2 -.
더욱 구체적으로, 방오 코팅조성물은 전체 중량%에 대하여, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 50 ~ 70 중량%, 바람직하게는 55 ~ 65 중량%, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 10 ~ 30 중량%, 바람직하게는 15 ~ 25 중량% 및 화학식 3로 표시되는 화합물 10 ~ 30 중량%, 바람직하게는 15 ~ 25 중량%로 혼합되어 있을 수 있으며, 이와 같은 중량%를 만족함으로서, 우수한 광학적 특성을 갖고 있을 뿐만 아니라, 우수한 전도 특성을 갖고 있고, 내구성 역시 우수할 수 있다.More specifically, the antifouling coating composition is 50 to 70% by weight, preferably 55 to 65% by weight of the compound represented by Formula 1, 10 to 30% by weight of the compound represented by Formula 2, based on the total weight%. Preferably, it may be mixed with 15 to 25% by weight and 10 to 30% by weight of the compound represented by Formula 3, preferably 15 to 25% by weight, and by satisfying such a weight%, it not only has excellent optical properties In addition, it has excellent conduction properties and may also have excellent durability.
그리고, 상기 유기용매는 방오 코팅조성물과 반응하지 않는 것으로서, 방오 코팅조성물을 용해시키는 역할을 하며, 불소 함유 유기 용매, 예컨대 불소 함유 알케인(alkane), 불소 함유 할로알케인(halo alkane), 불소 함유 방향족 화합물 및 불소 함유 에테르(하이드로플루오로에테르) 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 알킬 플루오로알킬 에테르, 더 바람직하게는 C1 ~ C3의 알킬 노나플루오로이소부틸 에테르(C1 ~ C3 alkyl Nonafluoroisobutyl Ether), 더 더욱 바람직하게는 메틸 노나플루오로이소부틸 에테르(MethylNonafluoroisobutyl Ether) 및 에틸 노나플루오로이소부틸 에테르(EthylNonafluoroisobutyl Ether) 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.In addition, the organic solvent does not react with the antifouling coating composition, serves to dissolve the antifouling coating composition, and fluorine-containing organic solvents such as fluorine-containing alkane, fluorine-containing haloalkane, fluorine It may include one or more selected from aromatic compounds and fluorine-containing ethers (hydrofluoroethers), preferably alkyl fluoroalkyl ethers, more preferably C1-C3 alkyl nonafluoroisobutyl At least one selected from ether (C1-C3 alkyl Nonafluoroisobutyl Ether), more preferably methyl nonafluoroisobutyl ether and ethyl nonafluoroisobutyl ether.
그리고, 6단계의 열처리는 당업계에서 사용하는 일반적인 열처리 방법을 수행할 수 있으며, 바람직하게는 140 ~ 150℃ 하에서 10 ~ 15분 동안 열풍 처리하여 열에너지를 공급함으로서, 방오 코팅층 내 용매를 휘발하여 경화된 방오 코팅층(220)를 형성시킬 수 있다.In addition, the heat treatment in step 6 can be performed by a general heat treatment method used in the art, and preferably by supplying heat energy by hot air treatment at 140 to 150 ° C. for 10 to 15 minutes to volatilize and harden the solvent in the antifouling coating layer. An
상기 방오 코팅층은 평균두께 50nm 이하로 형성되어 있을 수 있고, 바람직하게는 30 ~ 45nm로, 더욱 바람직하게는 30 ~ 40nm로 형성되어 있을 수 있다. 이때, 방오 코팅층의 평균두께가 50nm를 초과하면 코팅막 내의 결합력이 약화되어 내마모 특성이 저하됨에 따른 탈막 등이 발생하는 문제가 있을 수 있고, 그 두께가 너무 얇으면 충분한 방오 효과 및 균일한 광학 특성을 구현하지 못할 수 있다.The antifouling coating layer may be formed to an average thickness of 50 nm or less, preferably 30 to 45 nm, more preferably 30 to 40 nm. At this time, if the average thickness of the antifouling coating layer exceeds 50 nm, the bonding force within the coating layer is weakened and there may be a problem of film detachment due to a decrease in abrasion resistance, and if the thickness is too thin, sufficient antifouling effect and uniform optical properties may not be implemented.
본 발명에 있어서, 상기 방오 코팅층은 380 ~ 450nm 가시광 영역에서의 광투과율이 98% 이상, 바람직하게는 98.0 ~ 99.2%, 더 바람직하게는 98.5 ~ 99.0% 일 수 있다.In the present invention, the antifouling coating layer may have a light transmittance of 98% or more, preferably 98.0 to 99.2%, and more preferably 98.5 to 99.0% in the visible light region of 380 to 450 nm.
또한, KS L 2110 규격을 기반으로 패턴이 있는 볼록부 및 패턴이 없는 오목부를 대상으로 초순수를 이용하여 측정한 초기 접촉각이 100°이상, 바람직하게는 105° ~ 110°일 수 있다.In addition, the initial contact angle measured using ultrapure water for convex portions with patterns and concave portions without patterns based on the KS L 2110 standard may be 100 ° or more, preferably 105 ° to 110 °.
이렇게 제조된 본 발명의 방오 코팅층이 형성된 포토마스크는 황산과수 또는 솔벤트 계열의 화학약품을 기반으로 한 세정을 진행하는 일반 포토마스크와 달리, 전기, 전자 산업군에서 범용적으로 사용되는 클린룸용 무진 와이퍼만을 이용하여 손쉽게 세정을 수행할 수 있다.The photomask with the antifouling coating layer of the present invention manufactured in this manner is unlike general photomasks that are cleaned based on sulfuric acid and water or solvent-based chemicals. Cleaning can be easily performed using only
또한, 본 발명은 기존 고가의 설비 및 화학약품을 사용하지 않아도 되기 때문에 작업자 안전성 확보, 작업시간 단축, 생산 단가 절감이 가능한 친환경 세정 방법을 제시할 수 있다.In addition, since the present invention does not require the use of existing expensive equipment and chemicals, it is possible to present an eco-friendly cleaning method capable of securing worker safety, reducing working time, and reducing production cost.
또한, 방오 코팅층에 의한 이물 흡착율을 감소시킴으로써 포토리소그래피 공정에서 발생하는 불량을 개선할 수 있기 때문에 종래의 기술과의 차별성을 통해 그 활용성이 극대화될 수 있다.In addition, since defects occurring in the photolithography process can be improved by reducing the adsorption rate of foreign substances by the antifouling coating layer, its utilization can be maximized through differentiation from conventional technologies.
또한, 투명 전도성 층으로 크롬 패턴 사이에 정전기 전하가 이동할 수 있는 통로가 형성되어 접촉식 포토리소그래피 공정에서의 반복적인 밀착, 탈착시 발생하는 정전기에 의한 크롬 패턴 손상을 방지할 수 있는 효과를 제공할 수 있으며, 시광 영역에 대한 준수한 투과율을 갖는 전도성 물질을 이용하고 광학설계를 통해 최적의 두께를 구현함으로써, 접촉식 포토리소그래피의 노광 에너지 손실을 최소화할 수 있는 효과를 제공할 수 있다.In addition, the transparent conductive layer forms a path through which electrostatic charge can move between the chrome patterns, thereby providing an effect of preventing damage to the chrome patterns due to static electricity generated during repeated adhesion and detachment in the contact photolithography process. In addition, an effect capable of minimizing exposure energy loss in contact photolithography can be provided by using a conductive material having a good transmittance to the viewing area and implementing an optimal thickness through optical design.
한편, 본 발명의 투명 포토마스크는 방오 코팅층 상부에 방오 코팅강화제를 도포한 후, 열처리하여 방오 코팅강화층을 형성하는 7단계; 를 더 포함하는 공정을 수행하여 제조할 수 있다.On the other hand, the transparent photomask of the present invention comprises seven steps of applying an antifouling coating strengthening agent on the top of the antifouling coating layer and then heat-treating to form an antifouling coating strengthening layer; It can be prepared by performing a process further comprising.
구체적으로, 7단계는 방오 코팅강화층을 형성시키는 공정으로서, 당업계에서 사용하는 일반적인 코팅 방법을, 바람직하게는 습식 코팅 방법을 통해 방오 코팅강화제를 표면 개질된 포토마스크의 방오 코팅층 상부에 코팅시킬 수 있으며, 더 바람직하게는 표면 개질된 포토마스크의 표면에 액상 형태의 방오 코팅강화제를 고압 분사시키는 습식 스프레이 코팅방법으로 수행할 수 있다. 이를 좀 더 구체적으로 설명하면, 상기 방오 코팅강화제를 토출속도 1.5 ~ 2.5ml/분, 바람직하게는 1.8 ~ 2.2ml/분로 토출시키고, 11 ~ 13L/분의 질소압으로, 바람직하게는 11.5 ~ 12.5L/분의 질소압으로 가속시켜 포토마스크 표면에 분사하여 수행할 수 있다. 그리고, 포토마스크 전체를 560 ~ 650mm/s의 속도로, 바람직하게는 580 ~ 620mm/s의 속도로, 더욱 바람직하게는 590 ~ 610mm/s 정도의 속도로 스캔(scan)하여 포토마스크 전체에 도포시켜서 수행할 수 있는데, 이때, 분사 노즐의 이동 방향은 ‘ㄹ’으로 하며, 방향전환을 반드시 포토마스크 외부에서 하도록 설정함으로써 포토마스크의 외곽에 코팅액이 과도하게 분사되는 것을 방지하는 습식코팅 공정을 수행할 수 있다. 이와 같은 방법으로 코팅 처리하여 표면이 개질된 투명 유리 기판(100) 및 표면 개질된 방오 코팅층(220)의 상부 표면에 방오 코팅강화제가 코팅된 방오 코팅강화층(230)을 형성시킬 수 있다(도 10 참조).Specifically, step 7 is a process of forming an antifouling coating enhancement layer, and the antifouling coating enhancement agent is coated on top of the antifouling coating layer of the surface-modified photomask through a general coating method used in the art, preferably a wet coating method. More preferably, it may be performed by a wet spray coating method in which a liquid antifouling coating enhancer is sprayed at high pressure on the surface of the surface-modified photomask. More specifically, the antifouling coating enhancer is discharged at a discharge rate of 1.5 to 2.5 ml/min, preferably 1.8 to 2.2 ml/min, and a nitrogen pressure of 11 to 13 L/min, preferably 11.5 to 12.5 ml/min. It can be performed by spraying on the surface of the photomask by accelerating with a nitrogen pressure of L/min. Then, the entire photomask is scanned at a speed of 560 to 650 mm/s, preferably at a speed of 580 to 620 mm/s, more preferably at a speed of about 590 to 610 mm/s, and applied to the entire photo mask. At this time, the moving direction of the spray nozzle is 'd', and the direction change is set to be performed outside the photomask to prevent excessive spraying of the coating liquid on the outside of the photomask. Perform a wet coating process can do. It is possible to form an antifouling
상기 방오 코팅강화제는 방오 코팅강화조성물 및 유기용매를 포함할 수 있으며, 바람직하게는 방오 코팅강화조성물 0.1 ~ 0.7 중량% 및 잔량의 용매를 포함하는 방오 코팅제로, 바람직하게는 방오 코팅강화조성물 0.1 ~ 0.5 중량% 및 잔량의 용매를, 더욱 바람직하게는 방오 코팅강화조성물 0.2 ~ 0.4 중량% 및 잔량의 용매를 코팅시켜 형성된 형성시킬 수 있다. 이 때, 방오 코팅강화조성물 함량이 0.1 중량% 미만이면 충분한 특성을 발현시키기 어려운 문제가 있을 수 있고, 0.7 중량%를 초과하면 응집 또는 미경화되거나 공정 중 노즐이 막히는 문제가 있을 수 있다.The antifouling coating strengthening agent may include an antifouling coating strengthening composition and an organic solvent, preferably an antifouling coating agent containing 0.1 to 0.7% by weight of the antifouling coating strengthening composition and the remaining amount of a solvent, preferably 0.1 to 0.7% of the antifouling coating strengthening composition. 0.5% by weight and the remaining amount of the solvent, more preferably 0.2 to 0.4% by weight of the antifouling coating reinforced composition and the remaining amount of the solvent may be formed by coating. At this time, if the content of the antifouling coating reinforcement composition is less than 0.1% by weight, it may be difficult to express sufficient properties, and if it exceeds 0.7% by weight, there may be a problem of aggregation or uncuring or clogging of the nozzle during the process.
상기 방오 코팅강화조성물은 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함할 수있다.The antifouling coating reinforcement composition may include a compound represented by Formula 4 below.
[화학식 4][Formula 4]
상기 화학식 4에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R17, R18 및 R19는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기, 페닐기 또는 알킬페닐기이고, 바람직하게는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, 더욱 바람직하게는 각각 독립적으로, 메틸기이다.In Formula 4, R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 17 , R 18 and R 19 are each independently a C1 to C12 linear alkyl group, C3 to C12 pulverization type alkyl group, phenyl group or alkylphenyl group, preferably each independently a C1-C12 straight-chain alkyl group, more preferably each independently a methyl group.
또한, 상기 화학식 4에 있어서, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 B3는 -CH2-이고, B4는 -CH2CH2CH2CH2-이다.In Formula 4, B 3 and B 4 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably B 3 is -CH 2 - and B 4 is -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -.
또한, 상기 화학식 4에 있어서, p은 300 내지 1,000를 만족하는 유리수이고, l은 3 내지 10를 만족하는 유리수이다.In Formula 4, p is a rational number ranging from 300 to 1,000, and l is a rational number ranging from 3 to 10.
그리고, 상기 유기용매는 방오 코팅강화조성물과 반응하지 않는 것으로서, 방오 코팅강화조성물을 용해시키는 역할을 하며, 불소 함유 유기 용매, 예컨대 불소 함유 알케인(alkane), 불소 함유 할로알케인(halo alkane), 불소 함유 방향족 화합물 및 불소 함유 에테르(하이드로플루오로에테르) 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 알킬 플루오로알킬 에테르, 더 바람직하게는 C1 ~ C3의 알킬 노나플루오로이소부틸 에테르(C1 ~ C3 alkyl Nonafluoroisobutyl Ether), 더 더욱 바람직하게는 메틸 노나플루오로이소부틸 에테르(MethylNonafluoroisobutyl Ether) 및 에틸 노나플루오로이소부틸 에테르(EthylNonafluoroisobutyl Ether) 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.In addition, the organic solvent does not react with the antifouling coating enhancement composition, serves to dissolve the antifouling coating enhancement composition, and fluorine-containing organic solvent, such as fluorine-containing alkane, fluorine-containing halo alkane , It may include one or two or more selected from fluorine-containing aromatic compounds and fluorine-containing ethers (hydrofluoroethers), preferably alkyl fluoroalkyl ethers, more preferably C1-C3 alkyl nonafluoro It may include at least one selected from isobutyl ether (C1 ~ C3 alkyl Nonafluoroisobutyl Ether), more preferably methyl nonafluoroisobutyl ether (MethylNonafluoroisobutyl Ether) and ethyl nonafluoroisobutyl ether (EthylNonafluoroisobutyl Ether). .
그리고, 7단계의 열처리는 당업계에서 사용하는 일반적인 열처리 방법을 수행할 수 있으며, 바람직하게는 140 ~ 150℃ 하에서 10 ~ 15분 동안 열풍 처리하여 열에너지를 공급함으로서, 방오 코팅강화층 내 용매를 휘발하여 경화된 방오 코팅강화층(230)를 형성시킬 수 있다.In addition, the heat treatment in step 7 can be performed by a general heat treatment method used in the art, and preferably, by supplying heat energy by hot air treatment at 140 to 150 ° C for 10 to 15 minutes, the solvent in the antifouling coating reinforcement layer is volatilized. The cured antifouling
한편, 방오 코팅층 및 방오 코팅강화층은 1 : 0.1 ~ 0.3의 두께비, 바람직하게는 1 : 0.15 ~0.25의 두께비를 가질 수 있으며, 이와 같은 두께비를 만족함으로서, 내구성을 더욱더 향상시킬 수 있다.Meanwhile, the antifouling coating layer and the antifouling coating reinforcement layer may have a thickness ratio of 1:0.1 to 0.3, preferably a thickness ratio of 1:0.15 to 0.25, and durability may be further improved by satisfying such a thickness ratio.
한편, 본 발명의 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 투명 포토마스크는 앞서 설명한 제조방법으로 제조된 것일 수 있다.Meanwhile, the multifunctional transparent photomask having antistatic and antifouling properties of the present invention may be manufactured by the above-described manufacturing method.
또한, 본 발명의 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 투명 포토마스크는 투명 유리 기판 상부에 오목부 및 볼록부로 구성된 요철 패턴이 형성되어 있으며, 상기 볼록부는 투명 유리 기판 상부 방향으로부터 크롬층, 산화크롬층, 투명 전도성층, 밀착력 향상층 및 방오 코팅층이 차례대로 적층되어 있고, 상기 오목부는 투명 유리 기판 상부 방향으로부터 투명 전도성층, 밀착력 향상층 및 방오 코팅층이 차례대로 형성되어 있을 수 있다.In addition, the multi-functional transparent photomask having antistatic and antifouling properties of the present invention has a concavo-convex pattern composed of concave and convex portions formed on the top of the transparent glass substrate, and the convex portions form a chromium layer and chromium oxide from the top of the transparent glass substrate. layer, a transparent conductive layer, an adhesion enhancing layer, and an antifouling coating layer are sequentially stacked, and the concave portion may have a transparent conductive layer, an adhesion enhancing layer, and an antifouling coating layer sequentially formed from an upper direction of the transparent glass substrate.
이 때, 방오 코팅층은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 방오 코팅조성물을 포함할 수 있다.At this time, the antifouling coating layer may include an antifouling coating composition including a compound represented by Formula 1 below.
[화학식 1][Formula 1]
상기 화학식 1에 있어서, n 및 m은 화합물의 수평균분자량 1,000 ~ 15,000, 바람직하게는 3,000 ~10,000, 더욱 바람직하게는 5,000 ~ 8,000을 만족하는 유리수이다.In Formula 1, n and m are rational numbers that satisfy the number average molecular weight of the compound of 1,000 to 15,000, preferably 3,000 to 10,000, and more preferably 5,000 to 8,000.
또한, 방오 코팅조성물은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 더 포함할 수 있다.In addition, the antifouling coating composition may further include a compound represented by Formula 2 and a compound represented by Formula 3 below.
[화학식 2][Formula 2]
상기 화학식 2에 있어서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기, 페닐기 또는 알킬페닐기이고, 바람직하게는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, 더욱 바람직하게는 각각 독립적으로, 에틸기이다.In Formula 2, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a C1 to C12 straight-chain alkyl group, a C3 to C12 branched alkyl group, a phenyl group or an alkylphenyl group, preferably each independently , C1-C12 linear alkyl groups, more preferably each independently an ethyl group.
[화학식 3][Formula 3]
상기 화학식 3에 있어서, R5, R6 및 R7는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기, 페닐기 또는 알킬페닐기이고, 바람직하게는 C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, 더욱 바람직하게는 메틸기이다.In Formula 3, R 5 , R 6 and R 7 are each independently a C1-C12 straight-chain alkyl group, a C3-C12 branched alkyl group, a phenyl group or an alkylphenyl group, preferably a C1-C12 straight-chain alkyl group. It is an alkyl group, More preferably, it is a methyl group.
또한, 상기 화학식 3에 있어서, B1 및 B2는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 -CH2-, -CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이며, 더욱 바람직하게는 B1는 -CH2CH2CH2-이고, B2는 -CH2-이다.In Formula 3, B 1 and B 2 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably -CH 2 -, -CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -, more preferably B 1 is -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 2 is -CH 2 -.
또한, 방오 코팅조성물은 전체 중량%에 대하여, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 50 ~ 70 중량%, 바람직하게는 55 ~ 65 중량%, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물 10 ~ 30 중량%, 바람직하게는 15 ~ 25 중량% 및 화학식 3로 표시되는 화합물 10 ~ 30 중량%, 바람직하게는 15 ~ 25 중량%로 포함할 수 있다.In addition, the antifouling coating composition is 50 to 70% by weight of the compound represented by Formula 1, preferably 55 to 65% by weight, 10 to 30% by weight of the compound represented by Formula 2, based on the total weight%, preferably 15 to 25% by weight and 10 to 30% by weight of the compound represented by Formula 3, preferably 15 to 25% by weight.
한편, 본 발명의 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 투명 포토마스크는 오 코팅층 일면에는 방오 코팅강화층이 더 형성되어 있을 수 있고, 방오 코팅강화층은 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.Meanwhile, in the multifunctional transparent photomask having antistatic and antifouling properties of the present invention, an antifouling coating reinforced layer may be further formed on one surface of the antifouling coating layer, and the antifouling coating reinforced layer may include a compound represented by Formula 4 below. there is.
[화학식 4][Formula 4]
상기 화학식 4에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R17, R18 및 R19는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기, 페닐기 또는 알킬페닐기이고, 바람직하게는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기이며, 더욱 바람직하게는 각각 독립적으로, 메틸기이다.In Formula 4, R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 17 , R 18 and R 19 are each independently a C1 to C12 linear alkyl group, C3 to C12 pulverization type alkyl group, phenyl group or alkylphenyl group, preferably each independently a C1-C12 straight-chain alkyl group, more preferably each independently a methyl group.
또한, 상기 화학식 4에 있어서, B3 및 B4는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2-이고, 바람직하게는 B3는 -CH2-이고, B4는 -CH2CH2CH2CH2-이다.In Formula 4, B 3 and B 4 are each independently -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, preferably B 3 is -CH 2 - and B 4 is -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -.
또한, 상기 화학식 4에 있어서, p은 300 내지 1,000를 만족하는 유리수이고, l은 3 내지 10를 만족하는 유리수이다.In Formula 4, p is a rational number ranging from 300 to 1,000, and l is a rational number ranging from 3 to 10.
이 때, 방오 코팅층 및 방오 코팅강화층은 1 : 0.1 ~ 0.3의 두께비, 바람직하게는 1 : 0.15 ~0.25의 두께비를 가질 수 있으며, 이와 같은 두께비를 만족함으로서, 내구성을 더욱더 향상시킬 수 있다.At this time, the antifouling coating layer and the antifouling coating reinforcement layer may have a thickness ratio of 1:0.1 to 0.3, preferably a thickness ratio of 1:0.15 to 0.25, and durability may be further improved by satisfying such a thickness ratio.
이하에서는 본 발명을 실시예에 의거하여 더욱 구체적으로 설명한다. 그러나, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로서, 하기 실시예로 본 발명의 권리범위를 한정하여 해석해서는 안 된다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. However, the following examples are intended to aid understanding of the present invention, and should not be construed as limiting the scope of the present invention to the following examples.
[실시예][Example]
준비예 1 : 투명 전도성 층의 제조Preparation Example 1: Preparation of Transparent Conductive Layer
90 중량% 산화인듐(Indium oxide) 및 10 중량% 산화주석(Tin oxide)이 혼합 및 고온 압착된 건식 증착용 타겟을 준비하고 건식 증착 방법으로 4.8mm 두께의 소다라임 유리에 코팅하여 투명 전도성층을 제조하였다.Prepare a dry deposition target in which 90 wt % indium oxide and 10 wt % tin oxide are mixed and hot-pressed, and coated on soda lime glass with a thickness of 4.8 mm by dry deposition method to form a transparent conductive layer. manufactured.
이때, 상기 건식 증착 방법은 진공도 5.4 ~ 5.6 × 10-6 Torr 하에서 아르곤과 산소를 각각 99 ~ 101sccm 및 7.5 ~ 8.5sccm으로 주입하고. 파워(POWER) 11.99 ~ 2.01kW를 가하는 공정 조건 하에서 건식 증착을 수행하였다.At this time, in the dry deposition method, argon and oxygen are injected at 99 to 101 sccm and 7.5 to 8.5 sccm, respectively, under a vacuum of 5.4 to 5.6 × 10 -6 Torr. Dry deposition was performed under process conditions of applying POWER of 11.99 to 2.01 kW.
준비예 2 : 밀착력 향상제의 제조Preparation Example 2: Preparation of adhesion enhancer
99% 이상의 순도를 갖는 실리콘(Silicon) 건식 증착용 타겟을 준비하고 산소의 농도가 높은 조건 하에서 건식 증착 방법으로 4.8mm 두께의 소다라임 유리에 코팅하여 밀착력 향상 코팅층을 제조하였다.A silicon dry deposition target having a purity of 99% or more was prepared and coated on soda lime glass having a thickness of 4.8 mm by a dry deposition method under a high oxygen concentration condition to prepare an adhesion enhancing coating layer.
이때, 상기 건식 증착 방법은 진공도 1.1 ~ 1.3 × 10-6 Torr 하에서 아르곤과 산소를 각각 39 ~ 41sccm 및 25 ~ 27sccm으로 주입하고, 파워(POWER) 22.87 ~ 2.89kW을 가하는 공정 조건 하에서 건식 증착을 수행하였다.At this time, in the dry deposition method, argon and oxygen are injected at 39 to 41 sccm and 25 to 27 sccm, respectively, under a vacuum degree of 1.1 to 1.3 × 10 -6 Torr, and a power of 22.87 to 2.89 kW is applied. Dry deposition is performed under process conditions. did
준비예 3 : 방오 코팅제의 제조Preparation Example 3: Preparation of antifouling coating agent
방오 코팅조성물 0.5 중량% 및 용매로서 에틸 노나플루오로이소부틸 에테르(Ethyl Nonafluoroisobutyl Ether) 99.5 중량%를 혼합 및 교반하여 방오 코팅제를 제조하였다.An antifouling coating was prepared by mixing and stirring 0.5% by weight of the antifouling coating composition and 99.5% by weight of ethyl nonafluoroisobutyl ether as a solvent.
이 때, 방오 코팅조성물은 전체 중량%에 대하여, 하기 화학식 1-1로 표시되는 화합물 60 중량%, 하기 화학식 2-1로 표시되는 화합물 20 중량% 및 하기 화학식 3-1로 표시되는 화합물 20 중량%로 혼합된 것을 사용하였다.At this time, the antifouling coating composition is 60% by weight of a compound represented by the following formula 1-1, 20% by weight of a compound represented by the following formula 2-1, and 20% by weight of a compound represented by the following formula 3-1, based on the total weight% % was used.
[화학식 1-1][Formula 1-1]
상기 화학식 1-1에 있어서, n 및 m은 화합물의 수평균분자량 6,600을 만족하는 유리수이다.In Formula 1-1, n and m are rational numbers that satisfy the number average molecular weight of the compound of 6,600.
[화학식 2-1][Formula 2-1]
상기 화학식 2-1에 있어서, R1, R2, R3 및 R4는 에틸기이다.In Formula 2-1, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are ethyl groups.
[화학식 3-1][Formula 3-1]
상기 화학식 3-1에 있어서, R5, R6 및 R7는 메틸기이고, B1는 -CH2CH2CH2-이며, B2는 -CH2-이다.In Formula 3-1, R 5 , R 6 and R 7 are methyl groups, B 1 is -CH 2 CH 2 CH 2 -, and B 2 is -CH 2 -.
준비예 4 : 방오 코팅제의 제조Preparation Example 4: Preparation of antifouling coating agent
방오 코팅조성물 0.5 중량% 및 용매로서 에틸 노나플루오로이소부틸 에테르(Ethyl Nonafluoroisobutyl Ether) 99.5 중량%를 혼합 및 교반하여 방오 코팅제를 제조하였다.An antifouling coating was prepared by mixing and stirring 0.5% by weight of the antifouling coating composition and 99.5% by weight of ethyl nonafluoroisobutyl ether as a solvent.
이 때, 방오 코팅조성물은 상기 화학식 1-1로 표시되는 화합물을 사용하였다.At this time, the antifouling coating composition used the compound represented by Formula 1-1.
준비예 5 : 방오 코팅제의 제조Preparation Example 5: Preparation of antifouling coating agent
방오 코팅조성물 0.5 중량% 및 용매로서 에틸 노나플루오로이소부틸 에테르(Ethyl Nonafluoroisobutyl Ether) 99.5 중량%를 혼합 및 교반하여 방오 코팅제를 제조하였다.An antifouling coating was prepared by mixing and stirring 0.5% by weight of the antifouling coating composition and 99.5% by weight of ethyl nonafluoroisobutyl ether as a solvent.
이 때, 방오 코팅조성물은 전체 중량%에 대하여, 상기 화학식 1-1로 표시되는 화합물 80 중량%, 상기 화학식 2-1로 표시되는 화합물 10 중량% 및 상기 화학식 3-1로 표시되는 화합물 10 중량%로 혼합된 것을 사용하였다.At this time, the antifouling coating composition contains 80% by weight of the compound represented by Formula 1-1, 10% by weight of the compound represented by Formula 2-1, and 10% by weight of the compound represented by Formula 3-1, based on the total weight%. % was used.
비교준비예 1 : 방오 코팅제의 제조Comparative Preparation Example 1: Preparation of antifouling coating agent
퍼플루오로 폴리트리메틸렌 옥사이드(Perfluoro polytrimethyleneoxide) 0.3 중량% 및 용매로서 에틸 노나플루오로이소부틸 에테르(Ethyl Nonafluoroisobutyl Ether) 99.7 중량%를 혼합 및 교반하여 방오 코팅제를 제조하였다.An antifouling coating was prepared by mixing and stirring 0.3% by weight of perfluoro polytrimethyleneoxide and 99.7% by weight of ethyl nonafluoroisobutyl ether as a solvent.
실시예 1 : 다기능성 투명 포토마스크의 제조Example 1: Preparation of multi-functional transparent photomask
접촉식 포토리소그래피 공정에서 범용적으로 사용되는 20인치 × 24인치 크기의 투명 유리 기판(100, 소다라임) 상부에 크롬층(110), 산화크롬층 및 포토레지스트층이 순차적으로 형성된 블랭크 마스크를 준비하였다.Prepare a blank mask on which a
다음으로, 블랭크 마스크를 레이저를 조사하고 현상, 에칭 반응을 유도하여 투명 유리 기판 상부에 크롬층 및 크롬층 상부에 산화크롬층이 적층된 볼록 패턴과 오목 패턴이 형성된 포토마스크를 제조하였다(도 4 참조).Next, a blank mask was irradiated with laser, and development and etching reactions were induced to manufacture a photomask having convex and concave patterns in which a chromium layer and a chromium oxide layer were stacked on top of a transparent glass substrate (FIG. 4). Reference).
이때, 투명 유리 기판의 두께는 4.8mm이고, 크롬층 두께는 약 95nm이며, 산화크롬층 두께는 약 15nm였다.At this time, the thickness of the transparent glass substrate was 4.8 mm, the thickness of the chromium layer was about 95 nm, and the thickness of the chromium oxide layer was about 15 nm.
다음으로, 상기 포토마스크를 진공 설비에 투입하여 아르곤(Ar) 가스 하에서 0.5W/mm의 조건으로 플라즈마 처리를 수행하여 표면개질 처리하였다.Next, the photomask was put into a vacuum facility, and plasma treatment was performed under an argon (Ar) gas under a condition of 0.5 W/mm to modify the surface.
다음으로, 플라즈마 처리한 포토마스크 상부에 준비예 1에서 제조한 투명 전도성 소재를 5.5 × 10-6Torr 진공도 하에서 아르곤 100sccm, 산소 8sccm을 주입하고 2kW의 전력으로 건식 증착 공정을 진행하여 포토마스크 표면에 고르게 투명 전도성층을 형성시켰다. 이때, ITO의 타겟의 길이는 1,000mm 이상으로 하여 1회 공정을 진행하는 것으로 투명 전도성층을 평균두께 20nm로 형성시켰다.Next, 100 sccm of argon and 8 sccm of oxygen were injected into the transparent conductive material prepared in Preparation Example 1 on the top of the plasma-treated photomask under a vacuum of 5.5 × 10 -6 Torr, and a dry deposition process was performed with a power of 2 kW to deposit the surface of the photomask. A transparent conductive layer was evenly formed. At this time, the length of the ITO target was 1,000 mm or more, and a transparent conductive layer was formed with an average thickness of 20 nm by performing the process once.
다음으로, 투명 전도성층이 형성된 포토마스크를 1.2 × 10-5Torr 진공도 하에서 아르곤 40sccm, 산소 26sccm을 주입하고 2.88kW의 전력으로 준비예 2의 밀착력 향상제로 건식 증착 공정을 진행하여 포토마스크 표면에 고르게 투명 밀착성 향상층을 형성시켰다. 이때, Si의 타겟의 길이는 1,000mm 이상으로 하여 1회 공정을 진행하는 것으로 투명 밀착성 향상층을 평균두께 18nm로 형성시켰다.Next, the photomask on which the transparent conductive layer is formed is injected with 40 sccm of argon and 26 sccm of oxygen under a vacuum of 1.2 × 10 -5 Torr, and a dry deposition process is performed with the adhesion enhancer of Preparation Example 2 with a power of 2.88 kW to evenly spread the photomask on the surface of the photomask. A transparent adhesion improving layer was formed. At this time, the length of the Si target was 1,000 mm or more, and a transparent adhesion improving layer was formed with an average thickness of 18 nm by performing the process once.
다음으로, 밀착력 항상층이 형성된 포토마스크를 아르곤(Ar)과 산소(O2)를 혼합한 가스 하에서 0.5W/mm의 조건으로 상압 플라즈마 처리를 수행하여 표면개질처리 하였다.Next, the photomask on which the adhesion enhancing layer was formed was surface-modified by performing atmospheric plasma treatment under a gas mixture of argon (Ar) and oxygen (O 2 ) under a condition of 0.5 W/mm.
다음으로, 플라즈마 처리한 포토마스크의 상부에 준비예 3에서 제조한 2ml/min로 토출되는 방오 코팅제를 12L/min의 질소압으로 가속시켜 포토마스크 표면에 고르게 분사될 수 있도록 하며, 포토마스크 전체를 600mm/s의 속도 조건으로 고압 분사시켜서 방오 코팅제를 습식 코팅시켰다. 이때, 분사 노즐의 이동 방향은 ‘ㄹ’으로 하며, 방향전환을 반드시 포토마스크 외부에서 하도록 설정함으로써 포토마스크의 외곽에 코팅액이 과도하게 분사되는 것을 방지하는 습식코팅 공정을 수행하였다.Next, the antifouling coating agent discharged at 2 ml/min prepared in Preparation Example 3 on the top of the plasma-treated photomask is accelerated at a nitrogen pressure of 12 L/min so that it can be evenly sprayed on the surface of the photomask, and the entire photomask is The antifouling coating was wet-coated by high-pressure spraying at a speed of 600 mm/s. At this time, the direction of movement of the spray nozzle was set to 'L', and the wet coating process was performed to prevent excessive spraying of the coating liquid on the outside of the photomask by setting the direction change to be performed outside the photomask.
다음으로, 코팅제가 코팅된 포토마스크를 150℃ 하에서 15분 동안 열풍방식으로 열에너지를 공급하는 조건으로 열처리 및 경화시켜서 투명 유리 기판 상에 두께 약 30nm의 방오 코팅층을 형성시켜서, 도 9에 개략적인 단면도를 나타낸 형태와 같은 방오코팅층이 형성된 포토마스크를 제조하였다.Next, the photomask coated with the coating agent was heat-treated and cured at 150° C. for 15 minutes under the condition of supplying thermal energy in a hot air method to form an antifouling coating layer having a thickness of about 30 nm on a transparent glass substrate, which is a schematic cross-sectional view of FIG. A photomask having an antifouling coating layer as in the form shown was prepared.
실시예 2 : 다기능성 투명 포토마스크의 제조Example 2: Preparation of multi-functional transparent photomask
실시예 1과 동일한 방법으로 포토마스트를 제조하였다. 다만 실시예 1과 달리 준비예 3에서 제조한 방오 코팅제가 아닌 준비예 4에서 제조한 방오 코팅제를 사용하여, 최종적으로 포토마스크를 제조하였다.A photomast was manufactured in the same manner as in Example 1. However, unlike Example 1, a photomask was finally manufactured using the antifouling coating agent prepared in Preparation Example 4, not the antifouling coating agent prepared in Preparation Example 3.
실시예 3 : 다기능성 투명 포토마스크의 제조Example 3: Preparation of multi-functional transparent photomask
실시예 1과 동일한 방법으로 포토마스트를 제조하였다. 다만 실시예 1과 달리 준비예 3에서 제조한 방오 코팅제가 아닌 준비예 5에서 제조한 방오 코팅제를 사용하여, 최종적으로 포토마스크를 제조하였다.A photomast was manufactured in the same manner as in Example 1. However, unlike Example 1, a photomask was finally manufactured using the antifouling coating agent prepared in Preparation Example 5, not the antifouling coating agent prepared in Preparation Example 3.
비교예 1 : 다기능성 투명 포토마스크의 제조Comparative Example 1: Preparation of multifunctional transparent photomask
실시예 1과 동일한 방법으로 포토마스트를 제조하였다. 다만 실시예 1과 달리 준비예 3에서 제조한 방오 코팅제가 아닌 비교준비예 1에서 제조한 방오 코팅제를 사용하여, 최종적으로 포토마스크를 제조하였다.A photomast was manufactured in the same manner as in Example 1. However, unlike Example 1, a photomask was finally manufactured using the antifouling coating agent prepared in Comparative Preparation Example 1, not the antifouling coating agent prepared in Preparation Example 3.
실험예 1 : 포토마스크의 광투과도 측정Experimental Example 1: Measurement of light transmittance of photomask
상기 실시예 1 ~ 3 및 비교예 1에서 제조한 포토마스크의 파장에 따른 광투과도를 측정하였고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었고 표 2에 기판의 광학적 특성을 제외한 결과를 나타내었다.The light transmittance according to the wavelength of the photomask prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 was measured, and the results are shown in Table 1, and Table 2 shows the results except for the optical characteristics of the substrate.
광투과도는 300 ~ 500nm 파장 조사하여 포토마스크의 광투과율을 KS M ISO 9211-3 방법에 의거하여 측정하였다.Light transmittance was measured according to the KS M ISO 9211-3 method for light transmittance of the photomask by irradiating at a wavelength of 300 to 500 nm.
실험예 2 : 방오 코팅층의 접촉각, 내구성, 헤이즈, 표면저항 측정Experimental Example 2: Measurement of contact angle, durability, haze, and surface resistance of antifouling coating layer
상기 실시예 및 비교예의 증류수에 대한 초기 접촉각을 KS L 2110 방법에 의거하여 측정하였고, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.The initial contact angle of the distilled water of the Examples and Comparative Examples was measured according to the KS L 2110 method, and the results are shown in Table 3 below.
또한, 방오 코팅층의 내구성을 평가하기 위하여 내마모 시험 후 접촉각을 측정하였고, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다. 이때, 내마모 시험 조건은 무진천을 대상으로 250g, 40rpm, 5,000회를 실시하였다.In addition, in order to evaluate the durability of the antifouling coating layer, the contact angle was measured after the abrasion resistance test, and the results are shown in Table 3 below. At this time, the abrasion resistance test conditions were 250g, 40rpm, and 5,000 times for Mujincheon.
이때, 방오 코팅이 실제 접촉 또는 근접식 노광 공정에 적용되기 위해서는 내마모 시험 전, 후의 접촉각 차이가 10°이내여야 한다.At this time, in order for the antifouling coating to be applied to an actual contact or proximity exposure process, the contact angle difference before and after the abrasion resistance test must be within 10°.
또한, KS M ISO 14782에 의거하여 헤이즈를 측정하였고, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.In addition, haze was measured according to KS M ISO 14782, and the results are shown in Table 3 below.
또한, KS L 2109 방법에 의거하여 표면저항을 측정하였고, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다. 이 때 표면저항은 투명 전도성 층의 표면저항으로 보다 구체적으로 실시예 1 ~ 3 및 비교예 1의 경우 ITO층에 대한 측정 결과이다.In addition, the surface resistance was measured according to the KS L 2109 method, and the results are shown in Table 3 below. At this time, the surface resistance is the surface resistance of the transparent conductive layer, and more specifically, Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 are the measurement results for the ITO layer.
실시예 1은 상기 표 2 및 표 3에서 볼 수 있듯이, 우수한 광학적 특성을 가지고 있음을 확인할 수 있었다.As can be seen in Tables 2 and 3, Example 1 was confirmed to have excellent optical properties.
또한, 표 3에서 확인할 수 있듯이, 실시예 1은 낮은 표면저항을 갖음으로써 우수한 전도 특성을 갖고 있고 최상부의 방오코팅의 내구성 역시 우수함을 확인할 수 있었다.In addition, as can be seen in Table 3, Example 1 has excellent conductivity by having a low surface resistance, and it was confirmed that the durability of the top antifouling coating is also excellent.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시 예들에 국한되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited to the above embodiments and may be modified in various forms, and those skilled in the art to which the present invention belongs It will be understood that the present invention may be embodied in other specific forms without changing its spirit or essential characteristics. Therefore, the embodiments described above should be understood as illustrative in all respects and not limiting.
100 : 투명유리기판
105 : 표면 개질된 투명유리기판
110 : 패턴이 형성된 크롬층
120 : 패턴이 형성된 산화크롬층
125 : 표면 개질된 산화크롬 패턴
200 : 투명 전도성층
210 : 밀착력 향상층
215 : 표면 개질된 밀착력 향상층
220 : 방오 코팅층
230 : 방오 코팅강화층100: transparent glass substrate
105: surface-modified transparent glass substrate
110: patterned chrome layer
120: patterned chromium oxide layer
125: surface modified chromium oxide pattern
200: transparent conductive layer
210: adhesion enhancing layer
215: surface-modified adhesion enhancing layer
220: antifouling coating layer
230: antifouling coating reinforcement layer
Claims (10)
상기 볼록부는 투명 유리 기판 상부 방향으로부터 크롬층, 산화크롬층, 투명 전도성층, 밀착력 향상층 및 방오 코팅층이 차례대로 적층되어 있고,
상기 오목부는 투명 유리 기판 상부 방향으로부터 투명 전도성층, 밀착력 향상층 및 방오 코팅층이 차례대로 형성되어 있으며,
상기 방오 코팅층은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 방오 코팅조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 투명 포토마스크.
[화학식 1]
상기 화학식 1에 있어서, n 및 m은 화합물의 수평균분자량 1,000 ~15,000을 만족하는 유리수이다.A concavo-convex pattern composed of concave and convex portions is formed on the transparent glass substrate,
The convex portion has a chromium layer, a chromium oxide layer, a transparent conductive layer, an adhesion enhancing layer, and an antifouling coating layer sequentially stacked from the top of the transparent glass substrate,
In the concave portion, a transparent conductive layer, an adhesion enhancing layer, and an antifouling coating layer are sequentially formed from the top of the transparent glass substrate,
The antifouling coating layer is a multifunctional transparent photomask having antistatic and antifouling properties, characterized in that it comprises an antifouling coating composition containing a compound represented by Formula 1 below.
[Formula 1]
In Formula 1, n and m are rational numbers that satisfy the number average molecular weight of 1,000 to 15,000 of the compound.
상기 방오 코팅조성물은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 투명 포토마스크.
[화학식 2]
상기 화학식 2에 있어서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기, 페닐기 또는 알킬페닐기이고,
[화학식 3]
상기 화학식 3에 있어서, R5, R6 및 R7는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기, 페닐기 또는 알킬페닐기이며, B1 및 B2는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2-이다.According to claim 1,
The antifouling coating composition is a multifunctional transparent photomask having antistatic and antifouling properties, characterized in that it further comprises a compound represented by the following formula (2) and a compound represented by the following formula (3).
[Formula 2]
In Formula 2, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a C1 to C12 straight chain alkyl group, a C3 to C12 branched alkyl group, a phenyl group or an alkylphenyl group,
[Formula 3]
In Formula 3, R 5 , R 6 and R 7 are each independently a C1 to C12 straight-chain alkyl group, a C3 to C12 branched alkyl group, a phenyl group or an alkylphenyl group, and B 1 and B 2 are each independently , -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -.
상기 방오 코팅조성물은 전체 중량%에 대하여, 화학식 1로 표시되는 화합물 50 ~ 70 중량%, 화학식 2로 표시되는 화합물 10 ~ 30 중량% 및 화학식 3로 표시되는 화합물 10 ~ 30 중량%로 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 투명 포토마스크.According to claim 2,
The antifouling coating composition includes 50 to 70% by weight of the compound represented by Formula 1, 10 to 30% by weight of the compound represented by Formula 2, and 10 to 30% by weight of the compound represented by Formula 3, based on the total weight%. A multifunctional transparent photomask with antistatic and antifouling properties.
상기 투명 전도성층은 평균두께 10 ~ 50nm이고,
상기 밀착력 향상층은 평균두께 10 ~ 20nm이며,
상기 방오 코팅층은 평균두께 30 ~ 45nm인 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 투명 포토마스크.According to claim 1,
The transparent conductive layer has an average thickness of 10 to 50 nm,
The adhesion enhancing layer has an average thickness of 10 to 20 nm,
The antifouling coating layer is a multifunctional transparent photomask having antistatic and antifouling properties, characterized in that the average thickness of 30 ~ 45nm.
상기 포토마스크의 표면을 플라즈마 처리하여 표면 개질시키는 2단계;
표면 개질된 포토마스크 상부에 투명 전도성 소재를 증착하여 투명 전도성층을 형성시키는 3단계;
투명 전도성층 상부에 밀착력 향상을 위한 소재를 증착하여 밀착력 향상층을 형성시키는 4단계;
상기 밀착력 향상층 표면을 플라즈마 처리하여 표면 개질시키는 5단계; 및
밀착력 향상층 상부에 방오 코팅조성물을 포함하는 방오 코팅제를 도포한 후, 열처리하여 방오 코팅층을 형성하는 6단계;를 포함하며,
1단계의 포토마스크는 투명 유리 기판 상부에 오목부 및 볼록부로 구성된 요철 패턴이 형성되어 있으며, 상기 볼록부는 투명 유리 기판 상부 방향으로부터 크롬층, 산화크롬층이 차례대로 적층되어 있고, 오목부는 투명 유리 기판만이 존재하며,
상기 방오 코팅조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물이 혼합되어 있는 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 포토마스크의 제조방법.
[화학식 1]
상기 화학식 1에 있어서, n 및 m은 화합물의 수평균분자량 1,000 ~15,000을 만족하는 유리수이다.Step 1 of preparing a photomask;
a second step of modifying the surface of the photomask by plasma treatment;
a third step of depositing a transparent conductive material on the surface-modified photomask to form a transparent conductive layer;
Step 4 of depositing a material for improving adhesion on top of the transparent conductive layer to form an adhesion enhancement layer;
a fifth step of surface-modifying the surface of the adhesion enhancing layer by plasma treatment; and
A sixth step of applying an antifouling coating agent containing an antifouling coating composition on the top of the adhesion enhancing layer and then heat-treating to form an antifouling coating layer;
In the photomask of the first step, a concavo-convex pattern consisting of concave and convex portions is formed on the top of the transparent glass substrate, and a chromium layer and a chromium oxide layer are sequentially stacked on the convex portion from the top of the transparent glass substrate, and the concave portion is made of transparent glass. There is only a substrate,
The antifouling coating composition is a method for producing a multifunctional photomask having antistatic and antifouling properties, characterized in that the compound represented by Formula 1 is mixed.
[Formula 1]
In Formula 1, n and m are rational numbers that satisfy the number average molecular weight of 1,000 to 15,000 of the compound.
상기 방오 코팅조성물은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물이 더 혼합되어 있는 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 포토마스크의 제조방법.
[화학식 2]
상기 화학식 2에 있어서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기, 페닐기 또는 알킬페닐기이고,
[화학식 3]
상기 화학식 3에 있어서, R5, R6 및 R7는 각각 독립적으로, C1 ~ C12의 직쇄형 알킬기, C3 ~ C12의 분쇄형 알킬기, 페닐기 또는 알킬페닐기이며, B1 및 B2는 각각 독립적으로, -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH2CH2- 또는 -CH2CH2CH2CH2CH2-이다.According to claim 5,
The antifouling coating composition is a method for producing a multifunctional photomask having antistatic and antifouling properties, characterized in that the compound represented by the following formula (2) and the compound represented by the following formula (3) are further mixed.
[Formula 2]
In Formula 2, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a C1 to C12 straight chain alkyl group, a C3 to C12 branched alkyl group, a phenyl group or an alkylphenyl group,
[Formula 3]
In Formula 3, R 5 , R 6 and R 7 are each independently a C1 to C12 straight-chain alkyl group, a C3 to C12 branched alkyl group, a phenyl group or an alkylphenyl group, and B 1 and B 2 are each independently , -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -.
상기 방오 코팅조성물은 전체 중량%에 대하여, 화학식 1로 표시되는 화합물 50 ~ 70 중량%, 화학식 2로 표시되는 화합물 10 ~ 30 중량% 및 화학식 3로 표시되는 화합물 10 ~ 30 중량%로 혼합되어 있는 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 포토마스크의 제조방법.According to claim 5,
The antifouling coating composition is mixed with 50 to 70% by weight of the compound represented by Formula 1, 10 to 30% by weight of the compound represented by Formula 2, and 10 to 30% by weight of the compound represented by Formula 3, based on the total weight% A method of manufacturing a multifunctional photomask having antistatic and antifouling properties, characterized in that.
3단계의 투명 전도성 소재는 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), IWO(Indium Tungsten Oxide) 및 FTO(Fluorine Tin Oxide)와 같은 전도성을 갖는 산화물 소재 중에서 선택된 1종 이상을 포함하거나,
탄소나노튜브, 은 나노와이어(Ag Nanowire) 및 그래핀과 같은 전도성 소재가 분산된 소재 중에서 선택된 1종 이상을 포함하거나,
폴리아세틸렌(Polyacetylene), P3HT(Poly 3-Hexylthiophene) 및 PEDOT (Polytthylene di-oxythiophene)과 같이 전도성 폴리머 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 투명 포토마스크의 제조방법.According to claim 5,
The transparent conductive material in the third step includes at least one selected from conductive oxide materials such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), IWO (Indium Tungsten Oxide), and FTO (Fluorine Tin Oxide),
Contains at least one selected from materials in which conductive materials such as carbon nanotubes, silver nanowires, and graphene are dispersed;
A multifunctional transparent photomask having antistatic and antifouling properties, characterized in that it contains at least one selected from conductive polymers such as polyacetylene, P3HT (Poly 3-Hexylthiophene) and PEDOT (Polytthylene di-oxythiophene). manufacturing method.
4단계의 밀착력 향상제는 산화실리콘, 질화실리콘 및 탄화실리콘 및 산화알루미늄과 같은 무기계 소재 중에서 선택된 1종 이상을 포함하거나,
폴리실라잔, 실란과 같은 무기계 폴리머 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 투명 포토마스크의 제조방법.According to claim 5,
The four-step adhesion enhancer includes at least one selected from inorganic materials such as silicon oxide, silicon nitride, silicon carbide, and aluminum oxide,
A method of manufacturing a multifunctional transparent photomask having antistatic and antifouling properties, comprising at least one selected from inorganic polymers such as polysilazane and silane.
6단계의 방오 코팅제는 방오 코팅조성물 0.1 ~ 1.0 중량% 및 잔량의 유기용매를 포함하며,
상기 유기용매는 방오 코팅조성물과 반응하지 않으면서 방오 코팅조성물을 용해시킬 수 있는 유기용매이며, 상기 유기용매는 불소 함유 알케인, 불소 함유 할로알케인, 불소 함유 방향족 화합물 및 불소 함유 에테르 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방오 특성을 갖는 다기능성 투명 포토마스크의 제조방법.According to claim 5,
The antifouling coating agent of step 6 includes 0.1 to 1.0% by weight of the antifouling coating composition and the remaining amount of an organic solvent,
The organic solvent is an organic solvent capable of dissolving the antifouling coating composition without reacting with the antifouling coating composition, and the organic solvent is one selected from among fluorine-containing alkanes, fluorine-containing haloalkanes, fluorine-containing aromatic compounds and fluorine-containing ethers. A method of manufacturing a multifunctional transparent photomask having antistatic and antifouling properties, characterized in that it comprises more than one species.
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