KR20220140611A - 미정질 유리, 미정질 유리 제품 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 우수한 기계적 성능을 가진 미정질 유리 및 미정질 유리, 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：65~80%, Al2O3：5% 미만, Li2O：10~25%, ZrO2：5~15%, P2O5：1~8%. 합리적인 구성 요소 설계를 통하여, 본 발명으로 얻은 미정질 유리 제품은 우수한 기계 성능을 가지고 있다.
Description
본 발명은 미정질(microcrystalline) 유리 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 우수한 기계적 성능을 가진 미정질 유리, 미정질 유리 제품 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
근래에 들어서서 전자 제품의 끊임없는 대두와 발전에 따라, 유리는 투명하고 성능이 좋은 재료로서 이러한 전자 부품에 대량으로 응용된다. 예를 들어 LED, LCD 모니터 및 컴퓨터 모니터와 같은 장치에는 "터치" 기능이 있을 수 있다. 여기에 사용되는 유리는 손가락 및/또는 스타일러스 펜과 같은 다양한 물체에 닿아야 하므로, 유리는 일상적인 접촉에도 손상되지 않고 견딜 수 있는 견고하고 화학적인 안정성이 필요하다. 또한 이러한 유리는 모바일(휴대폰), 태블릿 PC와 개인용 미디어 단말기 등 휴대용 전자 제품에도 적용될 수 있고 여기에 적용되는 유리는 일반적인 "터치"접촉에 장시간 견딜 수 있어야 할 뿐만 아니라 사용중에 발생할 수 있는 우발적인 구부러짐, 긁힘, 충격에도 견딜 수 있어야 하므로 더 높은 성능의 유리를 요구하게된다.
미정질 유리는 유리를 열처리하여 유리 내부에 결정을 석출시킨 물질이다. 미정질 유리는 내부에 분산된 결정에 의해 유리에서 얻을 수 없는 물리적 특성 값을 가질 수 있다. 결정을 형성하여 휨과 마모 및 낙하 등 성능이 일반 유리에 비해 분명한 장점이 있다. 한편, 미정질 유리는 화학적 강화를 통해 기계적 성능을 한층 더 높일 수 있다. 위의 장점을 바탕으로 현재 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은 낙하 저항, 압축 저항 및 스크래치 저항에 대한 요구가 높은 디스플레이 장치 또는 전자기기에 적용되며 특히 휴대용 전자기기(예: 핸드폰, 손목시계, PAD 등)의 전면 후면 커버판에 적용된다.
과학 기술의 발전에 따라 전자 설비 또는 디스플레이 장치에 사용되는 유리 재료의 광학 성능에 대해 더 높은 요건을 요구하고 있다. 광학 성능이란 물질이 광선의 흡수, 반사 및 굴절시에 표현하는 성능을 가리키며, 광 투과율, 헤이즈(Haze)와 굴절율 등을 포함한다. 그러나 현재 시장에 나와있는 미정질 유리는 화학적 강화가 쉽지 않거나 화학적 강화된 유리의 기계적 특성이 커버판 재료에 대한 요구 사항을 충족하기 어렵다.
따라서, 낙하 저항, 압축 저항 및 스크래치 저항에 대한 높은 요구 사항을 가진 디스플레이 장치 또는 전자 장치에 적합한 미정질 유리 및 미정질 유리 제품의 개발은 과학 기술 인력이 추구하는 목표가 되었다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 기계적 특성이 우수한 미정질 유리와 미정질 유리 제품을 제공하는 것이다.
본 발명이 기술적 문제를 해결하기 위해 채택한 기술적 방안은 다음과 같다.
(1) 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：65~80%;Al2O3：5% 미만;Li2O：10~25%;ZrO2：5~15%;P2O5：1~8%.
(2) 미정질 유리 제품으로, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%;Al2O3： 10%미만;Li2O：8~25%;ZrO2：5~15%;P2O5：1~8%.
(3) (1) 또는 (2)중의 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 더 포함한다: K2O: 0~5%;및/또는 MgO：0~3%;및/또는 ZnO：0~3%;및/또는 Na2O：0~6%;및/또는 SrO：0~5%;및/또는 BaO：0~5%;및/또는 CaO：0~5%;및/또는 TiO2：0~5%;및/또는 B2O3：0~5%;및/또는 Y2O3：0~6%;및/또는 청징제：0~2%.
(4) 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성에는 SiO2, Al2O3, Li2O, ZrO2와P2O5를함유하고 있으며, 미정질 유리제품은 규산리튬 결정상을 함유하고 있으며 규산리튬 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 중량 백분율을 가지고 있다.
(5) 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성에는 SiO2, Li2O, ZrO2와P2O5를함유하고 있으며, 1mm 이하의 두께를 가진 미정질 유리 제품은 400~800nm의 평균 빛|B|의 값이 0.9 이하이다.
(6) 규산리튬 결정상을 함유하고 있는 미정질 유리제품의 낙하 시험 높이는 1400mm이상이다.
(7) 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2, Al2O3, Li2O, ZrO2와P2O5를 함유하고 있으며, Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.2 이하, 상술한 미정질 유리제품은 규산리튬 결정상을 함유하고 있으며, 미정질 유리 제품의 낙하 충격 시험 높이는 1400mm 이상이다.
(8) 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2, Li2O, ZrO2와 P2O5를 함유하고 있으며, SiO2/ZrO2는 4.0~15.8이며, 상술한 미정질 유리제품은 규산리튬 결정상을 함유하고 있으며, 규산리튬 결정상은 기타 결정보다 더 높은 중량 백분율을 가지고 있다.
(9) (4)~(8) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%;및/또는Li2O：8~25%;및/또는ZrO2：5~15%;및/또는P2O5：1~8%.
(10) 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%;Li2O：8~25%;ZrO2：5~15%;P2O5：1~8%.
(11) (4)~(10) 중 어느 하나의미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 동시에：Al2O3：10%미만;및/또는K2O：0~5%;및/또는MgO：0~3%;및/또는ZnO：0~3%;및/또는Na2O：0~6%;및/또는SrO：0~5%;및/또는BaO：0~5%;및/또는CaO：0~5%; 및/또는 TiO2：0~5%;및/또는B2O3：0~5%;및/또는Y2O3：0~6%;및/또는 청징제：0~2%.
(12) (1)~(11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함한다: 다음 10가지 상황들 중 하나 이상을 충족한다.
1) Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.2 이하, 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):1.0 이하,보다 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):0.05~0.7이다.
2) SiO2/ZrO2는 4.0~15.8, 바람직하게는 SiO2/ZrO2:4.5~12.0,보다 바람직하게는 SiO2/ZrO2:5.0~9.5,더욱 바람직하게는SiO2/ZrO2:6.0~9.0이다.
3) P2O5+ZrO2：6~21%, 바람직하게는 P2O5+ZrO2：7~18%,보다 바람직하게는P2O5+ZrO2：8~16%, 더욱 바람직하게는 P2O5+ZrO2：10~16%이다.
4) SiO2/(P2O5+ZrO2)는2.5~12.0, 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2):3.0~10.0, 보다 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2):3.5~7.5,더욱 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)4.0~6.5이다.
5) (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.0 이상, 바람직하게는(ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5 이상,보다 바람직하게는(ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5~30.0이다.
6) (SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.0~16.0, 바람직하게는(SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.5~12.0, 보다 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:5.0~10.0, 더욱 바람직하게는(SiO2+Al2O3)/ZrO2:6.0~9.5이다.
7) (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.19~0.55, 바람직하게는(Li2O+ZrO2)/SiO2:0.2~0.5, 보다 바람직하게는(Li2O+ZrO2)/SiO2:0.25~0.45,더욱 바람직하게는(Li2O+ZrO2)/SiO2:0.25~0.4이다.
8) (MgO+ZnO)/ZrO2:0.65 이하, 바람직하게는(MgO+ZnO)/ZrO2는0.4 이하,보다 바람직하게는(MgO+ZnO)/ZrO2:0.2 이하,더욱 바람직하게는(MgO+ZnO)/ZrO2:0.1 이하이다.
9) (Li2O+Al2O3)/ZrO2:0.8~5.0, 바람직하게는(Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.0~4.0,보다 바람직하게는(Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.2~3.0,더욱 바람직하게는(Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.5~2.5이다.
10) Li2O/(ZrO2+P2O5):0.5~3.0, 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.6~2.5,보다 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.7~2.0,더욱 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.8~1.5이다.
(13) (1)~(11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 그중 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.3 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.25 이하,보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.01~0.2,더욱 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.01~0.1이고; 및/또는 Al2O3/Li2O는 0.4이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.3 이하,보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.2 이하,더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.1 이하이다.
(14) (1)~(11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：68~78%, 바람직하게는 SiO2：70~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~4.5%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~3%; 및/또는 Li2O：12.5~22%, 바람직하게는 Li2O：12.5~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%이다.
(15) (2), (4)~(11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 그중 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는0.4이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.3 이하,보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.25 이하이고; 및/또는 Al2O3/Li2O는0.7 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.6 이하,보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.5 이하,더욱 바람직하게는Al2O3/Li2O:0.45 이하이고; 및/또는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):0.1~0.6 ; 및/또는(ZrO2+Li2O)/Al2O3:3.0~20.0이다.
(16) (2), (4)~(11) 중 어느 하나의미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：58~78%, 바람직하게는SiO2：60~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~8%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~7%; 및/또는 Li2O：9~22%, 바람직하게는 Li2O：10~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%이다.
(17) (1)~(11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 또한La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~5%, 바람직하게는La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~2%, 보다 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~1%이다.
(18) (1)~ (11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 그 조성에는 SrO를 포함하지 않고/않거나; BaO를 포함하지 않고/않거나; MgO를 포함하지 않고/않거나; CaO를 포함하지 않고/않거나; ZnO를 포함하지 않고/않거나; PbO를 포함하지 않고/않거나; As2O3을 포함하지 않고/않거나; TiO2를 포함하지 않고/않거나; B2O3을 포함하지 않고/않거나; Y2O3을 포함하지 않고/않거나; F를 포함하지 않는다.
(19) (1)~ (11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 규산리튬 결정상 및/또는 인산리튬 결정상 ; 및/또는 페타라이트 결정상; 및/또는 석영 고형체를 함유한다.
(20) (1)~ (11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 규산 리튬을 함유하고 있고, 규산리튬 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 중량 백분율을 차지하고 있으며, 바람직하게는 규산리튬 결정상을 10~70% 차지하고, 보다 바람직하게는 규산리튬 결정상을 10~65% 차지하고 더욱 바람직하게는 규산리튬 결정상을 15~60% 차지하고, 더더욱 바람직하게는 규산리튬 결정상을 20~55% 차지한다.
(21) (1)~ (11) 중 어느 미정질 유리 제품에 있어서, 규산리튬,리튬 모노실리케이트 결정상을 함유하고 있고, 리튬 모노실리케이트 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 중량 백분율을 차지하고 있으며, 바람직하게는 리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리제품의 중량 백분율의 30~65%, 보다 바람직하게는 리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리제품의 중량 백분율의 35~60%, 더욱 바람직하게는 리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리 제품의 중량 백분율의 40~55%를 차지한다.
(22) (1)~ (11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 리튬 디실리케이트 결정상을 함유하고 있고, 다른 결정상보다 더 높은 중량 백분율을 차지하고 있으며, 바람직하게는 리튬 디실리케이트 결정상은 미정질 유리제품의 중량 백분율의10~60%, 보다 바람직하게는 리튬 디실리케이트 결정상은 미정질 유리제품의 중량 백분율의 15~50%,더욱 바람직하게는 리튬 디실리케이트 결정상은 미정질 유리 제품의 중량 백분율의 20~45%를 차지한다.
(23) (1)~ (11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 인산리튬 결정상을 함유하고 있으며,인산리튬 결정상은 미정질 유리제품의 중량 백분율의 10% 이하, 바람직하게는 인산리튬 결정상은 미정질 유리제품의 중량 백분율의 5%를 차지한다.
(24) (1)~ (11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 석영 고용체 결정상을 함유하고 있으며, 석영 고용체 결정은 미정질 유리제품의 중량 백분율의 10%, 바람직하게는 고용체 결정은 미정질 유리제품의 중량 백분율의 5%를 차지한다.
(25) (1)~ (11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 페타라이트(Petalite) 결정상을 함유하고 있고, 미정질 유리제품의 중량 백분율의 18% 이하, 바람직하게는 미정질 유리제품의 중량 백분율의 15% 이하, 보다 바람직하게는 미정질 유리제품의 중량 백분율의 10% 이하, 더욱 바람직하게는 미정질 유리 제품의 중량 백분율의 5% 이하를 차지한다.
(26) (1)~ (11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 4점 굽힘 강도는 600MPa 이상으로, 바람직하게는 650MPa 이상, 보다 바람직하게는 700MPa 이상, 및/또는 이온 교환 층의 깊이는 20μm 이상, 바람직하게는 30μm 이상, 보다 바람직하게는 40μm 이상이며, 및/또는 낙하 시험 높이는 1400mm 이상, 바람직하게는 1500mm 이상, 보다 바람직하게는 1600mm 이상이며, 및/또는 파괴 인성이 1MPa·m1/2 이상, 바람직하게는 1.3MPa·m1/2 이상, 보다 바람직하게는 1.5MPa·m1/2 이상이며, 및/또는 비커스(vickers) 경도는 730kgf/mm2 이상, 바람직하게는 750kgf/mm2 이상, 보다 바람직하게는 780kgf/mm2 이상이며, 및/또는 유전 상수εr은 5.4 이상, 바람직하게는 5.8 이상, 보다 바람직하게는 6.0 이상이며, 및/또는 유전 손실 tanδ는 0.05 이하, 바람직하게는 0.04 이하, 보다 바람직하게는 0.02, 더욱 바람직하게는 0.01이하이다.
(27) (1)~ (11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 결정도는 50% 이상, 바람직하게는 60% 이상,보다바람직하게는 70% 이상이며, 및/또는 결정 입자 크기는 80nm 이하, 바람직하게는 50nm 이하, 보다 바람직하게는 30nm 이하이다.
(28) (1)~ (11) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품에 있어서, 1mm 이하 두께의 헤이즈는 0.2% 이하, 바람직하게는 0.18% 이하, 보다 바람직하게는 0.15% 이하이며, 및/또는 400~800nm 파장의 평균 광 투과율은 87% 이상, 바람직하게는 89% 이상,보다 바람직하게는 90% 이상이며, 및/또는 550nm 파장의 광 투과율은 88% 이상, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 91% 이상이며, 및/또는 400~800nm의 평균 빛 |B|의 값은 0.9 이하, 바람직하게는 0.8 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하이다.
(29) (28)의 미정질 유리 제품에 있어서, 두께는 0.2~1mm, 바람직하게는 0.3~0.9mm, 보다 바람직하게는 0.5~0.8mm, 더욱 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
(30) (1)~ (11) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 착색제를 함유한다.
(31) (30)중 의 미정질 유리 제품에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0~4% 및/또는 Ni2O3：0~4%; 및/또는 CoO：0~2%; 및/또는 Co2O3：0~2%; 및/또는 Fe2O3：0~7%; 및/또는 MnO2：0~4%; 및/또는 Er2O3：0~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0~8%; 및/또는 Cu2O：0~4%; 및/또는 Pr2O3：0~8%; 및/또는 CeO2 ：0~4%.
(32) (30)의 미정질 유리 제품에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~4%; 및/또는 Ni2O3：0.1~4%; 및/또는 CoO：0.05~2%; 및/또는 Co2O3：0.05~2%; 및/또는 Fe2O3：0.2~7%; 및/또는 MnO2：0.1~4%; 및/또는 Er2O3：0.4~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0.4~8%; 및/또는 Cu2O：0.5~4%; 및/또는 Pr2O3：0.4~8%; 및/또는 CeO2 ：0.5~4%.
(33) (30)의 미정질 유리 제품에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~3%; 및/또는 Ni2O3：0.1~3%; 및/또는 CoO：0.05~1.8%; 및/또는 Co2O3：0.05~1.8%; 및/또는 Fe2O3：0.2~5%; 및/또는 MnO2：0.1~3%; 및/또는 Er2O3：0.4~6%; 및/또는 Nd2O3：0.4~6%; 및/또는 Cu2O：0.5~3%; 및/또는 Pr2O3：0.4~6%; 및/또는 CeO2：0.5~3%.
(34) (30)의 미정질 유리 제품에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~3%; 및/또는 Ni2O3：0.1~3%.
(35) (30)의 미정질 유리 제품에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: CoO：0.05~1.8%; 및/또는 Co2O3：0.05~1.8%.
(36) (30)의 미정질 유리 제품에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Cu2O：0.5~3%; 및/또는 CeO2：0.5~3%.
(37) (30)의 미정질 유리 제품에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Fe2O3：0.2~5%, CoO：0.05~0.3%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, Co2O3：0.05~0.3%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, CoO：0.05~0.3%, NiO：0.1~1%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, Co2O3：0.05~0.3%, NiO：0.1~1%.
(38) (30)의 미정질 유리 제품에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Pr2O3：0.4~6%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, 또는 MnO2：0.1~3%, 또는 Er2O3：0.4~6%, 또는 Nd2O3：0.4~6%.
(39) (30)의 미정질 유리 제품에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Er2O3：0.4~6%, Nd2O3：0.4~4%, MnO2：0.1~2%.
(40) 미정질 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：65~80%, Al2O3：5% 미만, Li2O：10~25%, ZrO2：5~15%, P2O5：1~8%.
(41) 미정질 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%, Al2O3：10% 미만, Li2O：8~25%, ZrO2：5~15%, P2O5：1~8%.
(42) (40)또는 (41) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 또한 K2O：0~5%; 및/또는 MgO：0~3%; 및/또는 ZnO：0~3%; 및/또는 Na2O：0~6%; 및/또는 SrO：0~5%; 및/또는 BaO：0~5%; 및/또는 CaO：0~5%; 및/또는 TiO2：0~5%; 및/또는 B2O3：0~5%; 및/또는 Y2O3：0~6%; 및/또는 청징제：0~2%.
(43) 미정질 유리에 있어서, 그 조성에는 SiO2, Al2O3, Li2O, ZrO2와 P2O5를 함유하고 있으며, 서술한 미정질 유리에는 규산리튬 결정상을 함유하고 있으며, 다른 결정보다 더 높은 중량 백분율을 가지고 있다.
(44) 미정질 유리에 있어서, 그 조성에는 SiO2, Li2O, ZrO2와 P2O5,1mm 이하 두께의 미정질 유리 400~800nm의 평균 빛 |B|의 값은 0.9 이하이다.
(45) 미정질 유리에 있어서, 규산리튬 결정상을 함유하고 있으며,낙하 시험 높이는 1700mm 이상이다.
(46) 미정질 유리에 있어서, 그 조성에는 SiO2, Al2O3, Li2O, ZrO2와 P2O5를 함유하고 있으며, 중량 백분율로 Al2O3/(P2O5+ZrO2)은 1.2 이하, 바람직하게는 규산리튬 결정상을 함유하고 있으며, 미정질 유리의 낙하 시험 높이는 1700mm 이상이다.
(47) 미정질 유리에 있어서, 그 조성에는 SiO2, Li2O, ZrO2 및 P2O5를 함유하고 있으며, 중량 백분율로 SiO2/ZrO2는 4.0~15.8이며, 상술한 미정질 유리는 규산리튬 결정상을 함유하고 있으며 규산리튬 결정상은 다른 결정보다 더 높은 중량 백분율을 함유한다.
(48) (43)~(47) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%; 및/또는 Li2O：8~25%; 및/또는 ZrO2：5~15%; 및/또는 P2O5：1~8%.
(49) 미정질 유리에 있어서, 규산리튬 결정상을 함유하고 있으며,그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%, Li2O：8~25%, ZrO2：5~15%, P2O5：1~8%.
(50) (43)~(49) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 또한 Al2O3：10% 미만; 및/또는 K2O：0~5%; 및/또는 MgO：0~3%; 및/또는 ZnO：0~3%; 및/또는 Na2O：0~6%; 및/또는 SrO：0~5%; 및/또는 BaO：0~5%; 및/또는 CaO：0~5%; 및/또는 TiO2：0~5%; 및/또는 B2O3：0~5%; 및/또는 Y2O3：0~6%; 및/또는 청징제：0~2%.
(51) (40)~(50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함한다: 다음 10가지 상황들 중 하나 이상을 충족한다.
1) Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.2 이하, 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):1.0 이하,보다 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):0.05~0.7이다.
2) SiO2/ZrO2는 4.0~15.8, 바람직하게는 SiO2/ZrO2:4.5~12.0,보다 바람직하게는 SiO2/ZrO2:5.0~9.5,더욱 바람직하게는 SiO2/ZrO2:6.0~9.0이다.
3) P2O5+ZrO2：6~21%, 바람직하게는 P2O5+ZrO2：7~18%,보다 바람직하게는P2O5+ZrO2：8~16%, 더욱 바람직하게는 P2O5+ZrO2：10~16%이다.
4) SiO2/(P2O5+ZrO2)는2.5~12.0, 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2):3.0~10.0, 보다 바람직하게는SiO2/(P2O5+ZrO2):3.5~7.5,더욱 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)4.0~6.5이다.
5) (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.0 이상, 바람직하게는(ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5 이상,보다 바람직하게는(ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5~30.0이다.
6) (SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.0~16.0, 바람직하게는(SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.5~12.0, 보다 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:5.0~10.0, 더욱 바람직하게는(SiO2+Al2O3)/ZrO2:6.0~9.5이다.
7) (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.19~0.55, 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.2~0.5,보다 바람직하게는(Li2O+ZrO2)/SiO2:0.25~0.45,더욱 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.25~0.4이다.
8) (MgO+ZnO)/ZrO2:0.65 이하, 바람직하게는(MgO+ZnO)/ZrO2는0.4 이하, 보다 바람직하게는(MgO+ZnO)/ZrO2:0.2이하, 더욱 바람직하게는(MgO+ZnO)/ZrO2:0.1 이하이다.
9) (Li2O+Al2O3)/ZrO2:0.8~5.0, 바람직하게는(Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.0~4.0, 보다 바람직하게는(Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.2~3.0, 더욱 바람직하게는(Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.5~2.5이다.
10) Li2O/(ZrO2+P2O5):0.5~3.0, 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.6~2.5, 보다 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.7~2.0，더욱 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.8~1.5이다.
(52) (40)~(50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함한다: Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)은 0.3 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.25 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.01~0.2, 더욱 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.01~0.1; 및/또는 Al2O3/Li2O: 0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.2 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.1 이하.
(53) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：68~78%, 바람직하게는 SiO2：70~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~4.5%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~3%; 및/또는 Li2O：12.5~22%, 바람직하게는 Li2O：12.5~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
(54) (41), (43)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함한다: Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.25 이하; 및/또는 Al2O3/Li2O는 0.7 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.6 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.5 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.45 이하; 및/또는 Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 0.1~0.6; 및/또는(ZrO2+Li2O)/Al2O3는 3.0~20.0.
(55) (41), (43)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：58~78%, 바람직하게는 SiO2：60~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~8%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~7%; 및/또는 Li2O：9~22%, 바람직하게는 Li2O：10~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%fh, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
(56) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 또한La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~5%, 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~2%, 보다 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~1%.
(57) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서 조성에는 SrO를 포함하지 않고/않거나; BaO를 포함하지 않고/않거나; MgO를 포함하지 않고/않거나; CaO를 포함하지 않고/않거나; ZnO를 포함하지 않고/않거나; PbO를 포함하지 않고/않거나; As2O3을 포함하지 않고/않거나; TiO2를 포함하지 않고/않거나; B2O3을 포함하지 않고/않거나; Y2O3을 포함하지 않고/않거나; F를 포함하지 않는다.
(58) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 미정질 유리의 결정은 규산리튬 결정상을 함유하고; 및/또는 인산리튬 결정상을 함유하고; 및/또는 페타라이트 결정상을 함유하고; 및/또는 석영 고용체 결정상을 함유한다.
(59) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 규산리튬 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 백분율을 차지하고 있으며, 미정질 유리의 중량 백분율의 10~70%를 차지하고, 바람직하게는 미정질 유리의 중량 백분율의 10~65%, 보다 바람직하게는 미정질 유리의 중량 백분율의 15~60%, 더욱 바람직하게는 미정질 유리의 중량 백분율의 20~55%를 차지한다.
(60) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 리튬 모노실리케이트 결정상을 함유하고, 리튬 모노실리케이트 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 백분율을 차지하고 있으며, 리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율 의 30~65%, 바람직하게는 리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율 의 35~60%, 보다 바람직하게는 리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율의 40~55%를 차지한다.
(61) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 리튬 디실리케이트 결정상을 함유하고, 리튬 디실리케이트 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 백분율을 차지하고 있으며, 리튬 디실리케이트 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율의 10~60%, 바람직하게는 리튬 디실리케이트 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율의 15~50%, 보다 바람직하게는 리튬 디실리케이트 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율의 20~45%를 차지한다.
(62) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 인산리튬 결정상을 함유하고 있으며, 인산리튬 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율의 10% 이하, 바람직하게는 인산리튬 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율의 5% 이하를 차지한다.
(63) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 석영 고용체 결정상을 함유하고 있으며, 석영 고용체 결정은 미정질 유리의 중량 백분의 10% 이하, 바람직하게는 석영 고용체 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율의 5% 이하를 차지한다.
(64) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 페타라이트 결정상을 함유하고 있고, 페타라이트 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율의 18% 이하, 바람직하게는 미정질 유리의 중량 백분율의 15% 이하, 보다 바람직하게는 미정질 유리의 중량 백분율의 10% 이하, 더욱 바람직하게는 미정질 유리의 중량 백분율의 5% 이하를 차지한다.
(65) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 미정질 유리의 결정도는 50% 이상, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 70%, 및/또는 결정입자 크기가 80nm 이하, 바람직하게는 50nm 이하, 보다 바람직하게는 30nm 이하; 및/또는 열 팽창 계수는 70Х10-7/K~90Х10-7/K, 및/또는 굴절률은 1.5520~1.5700.
(66) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 미정질 유리의 낙하 높이는 1,700mm 이상이고, 바람직하게는 1900mm 이상, 보다 바람직하게는 2000mm 이상, 및/또는 비커스 경도(Vickers hardness) 630kgf/mm2 이상, 바람직하게는650kgf/mm2 이상, 보다 바람직하게는 680kgf/mm2 이상, 및/또는 유전 상수 5.4 이상, 바람직하게는 5.8 이상, 보다 바람직하게는 6.0 이상; 및/또는 유전 손실 0.05 이하, 바람직하게는 0.04 이하, 보다 바람직하게는 0.03 이하, 더욱 바람직하게는 0.01 이하, 및/또는 표면 저항이 1Х109Ω·m 이상, 바람직하게는 1Х1010Ω·m 이상, 보다 바람직하게는 1Х1011Ω·m 이상.
(67) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 1mm 이하 두께의 헤이즈는 0.2% 이하, 바람직하게는0.18% 이하, 보다 바람직하게는 0.15% 이하이고; 및/또는 400~800nm 파장의 평균 광 투과율은 87% 이상, 바람직하게는 89%이상, 보다 바람직하게는 90%이상이고; 및/또는 550nm 파장의 평균 광 투과율은 88%이상, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 91% 이상이고; 및/또는 400~800nm의 평균 빛 |B|의 값은 0.9 이하, 바람직하게는 0.8 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하이다.
(68) (67)의 미정질 유리에 있어서, 미정질 유리의 두께는 0.2~1mm, 바람직하게는 0.3~0.9mm, 보다 바람직하게는 0.5~0.8mm, 더욱 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
(69) (40)~ (50) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서 착색제를 함유한다.
(70) （69）의 미정질 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0~4%; 및/또는 Ni2O3：0~4%; 및/또는 CoO：0~2%; 및/또는 Co2O3：0~2%; 및/또는 Fe2O3：0~7%; 및/또는 MnO2：0~4%; 및/또는 Er2O3：0~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0~8%; 및/또는 Cu2O：0~4%; 및/또는 Pr2O3：0~8%; 및/또는 CeO2 ：0~4%.
(71) （69）의 미정질 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~4%; 및/또는 Ni2O3：0.1~4%; 및/또는 CoO：0.05~2%; 및/또는 Co2O3：0.05~2%; 및/또는 Fe2O3：0.2~7%; 및/또는 MnO2：0.1~4%; 및/또는 Er2O3：0.4~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0.4~8%; 및/또는 Cu2O：0.5~4%; 및/또는 Pr2O3：0.4~8%; 및/또는 CeO2 ：0.5~4%.
(72) （69）의 미정질 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~3%; 및/또는 Ni2O3：0.1~3%; 및/또는 CoO：0.05~1.8%; 및/또는 Co2O3：0.05~1.8%; 및/또는 Fe2O3：0.2~5%; 및/또는 MnO2：0.1~3%; 및/또는 Er2O3：0.4~6%; 및/또는 Nd2O3：0.4~6%; 및/또는 Cu2O：0.5~3%; 및/또는 Pr2O3：0.4~6%; 및/또는 CeO2：0.5~3%.
(73) （69）의 미정질 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~3%; 및/또는 Ni2O3：0.1~3%.
(74) （69）의 미정질 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: CoO：0.05~1.8%; 및/또는 Co2O3：0.05~1.8%.
(75) （69）의 미정질 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Cu2O：0.5~3%; 및/또는 CeO2：0.5~3%.
(76) （69）의 미정질 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Fe2O3：0.2~5%, CoO：0.05~0.3%; 또는 Fe2O3：0.2~5%, Co2O3：0.05~0.3%; 또는 Fe2O3：0.2~5%, CoO：0.05~0.3%, NiO：0.1~1%; 또는 Fe2O3：0.2~5%, Co2O3：0.05~0.3%, NiO：0.1~1%.
(77) （69）의 미정질 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Pr2O3：0.4~6%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, 또는 MnO2：0.1~3%, 또는 Er2O3：0.4~6%, 또는 Nd2O3：0.4~6%.
(78) （69）의 미정질 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Er2O3：0.4~6%, Nd2O3：0.4~4%, MnO2：0.1~2%.
(79) 매트릭스 유리,그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：65~80%, Al2O3：5% 미만, Li2O：10~25%, ZrO2：5~15%, P2O5：1~8%.
(80) 매트릭스 유리,그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%, Al2O3：10% 미만, Li2O：8~25%, ZrO2：5~15%, P2O5：1~8%.
(81) 매트릭스 유리에 있어서, 그 성분 중 SiO2, Al2O3, Li2O, ZrO2 및 P2O5를 함유하고 있으며, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Al2O3/(P2O5+ZrO2)로 1.2 이하, 열 팽창 계수는 65Х10-7/K~79Х10-7/K이다.
(82) 매트릭스 유리에 있어서, 그 조성 중 SiO2, Li2O, ZrO2 및 P2O5를 함유하고 있으며, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2/ZrO2는 4.0~15.8.
(83) (81) 또는 (82) 중 어느 하나의 매트릭스 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%; 및/또는 Al2O3：10% 미만; 및/또는 Li2O：8~25%; 및/또는 ZrO2：5~15%; 및/또는 P2O5：1~8%.
(84) (79) 또는 (83) 중 어느 하나의 매트릭스 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 또한 K2O：0~5%; 및/또는 MgO：0~3%; 및/또는 ZnO：0~3%; 및/또는 Na2O：0~6%; 및/또는 SrO：0~5%; 및/또는 BaO：0~5%; 및/또는 CaO：0~5%; 및/또는 TiO2：0~5%; 및/또는 B2O3：0~5%; 및/또는 Y2O3：0~6%; 및/또는 청징제：0~2%.
(85) (79) 또는 (83) 중 어느 하나의 매트릭스 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함한다: 다음 10가지 상황들 중 하나 이상을 충족한다.
1) Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.2 이하, 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):1.0 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):0.05~0.7이다.
2) SiO2/ZrO2는 4.0~15.8, 바람직하게는 SiO2/ZrO2:4.5~12.0, 보다 바람직하게는 SiO2/ZrO2:5.0~9.5, 더욱 바람직하게는 SiO2/ZrO2:6.0~9.0이다.
3) P2O5+ZrO2：6~21%, 바람직하게는 P2O5+ZrO2：7~18%, 보다 바람직하게는 P2O5+ZrO2：8~16%, 더욱 바람직하게는 P2O5+ZrO2：10~16%이다.
4) SiO2/(P2O5+ZrO2)는 2.5~12.0, 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2):3.0~10.0, 보다 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2):3.5~7.5, 더욱 바람직하게는SiO2/(P2O5+ZrO2)4.0~6.5이다.
5) (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.0 이상, 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5 이상, 보다 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5~30.0이다.
6) (SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.0~16.0, 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.5~12.0, 보다 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:5.0~10.0, 더욱 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:6.0~9.5이다.
7) (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.19~0.55, 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.2~0.5, 보다 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.25~0.45, 더욱 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.25~0.4이다.
8) (MgO+ZnO)/ZrO2:0.65 이하, 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.4 이하, 보다 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2:0.2 이하, 더욱 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2:0.1 이하이다.
9) (Li2O+Al2O3)/ZrO2:0.8~5.0, 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.0~4.0, 보다 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.2~3.0, 더욱 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.5~2.5이다.
10) Li2O/(ZrO2+P2O5):0.5~3.0, 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.6~2.5, 보다 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.7~2.0, 더욱 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.8~1.5이다.
(86) (79) 또는 (83) 중 어느 하나의 매트릭스 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.3 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.25 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5): 0.01~0.2, 더욱 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.01~0.1이고; 및/또는 Al2O3/Li2O는 0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O: 0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.2 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.1 이하이다.
(87) (79) 또는 (83) 중 어느 하나의 매트릭스 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：68~78%, 바람직하게는 SiO2：70~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~4.5%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~3%; 및/또는 Li2O：12.5~22%, 바람직하게는 Li2O：12.5~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
(88) (80) 또는 (83) 중 어느 하나의 매트릭스 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.4, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5): 0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.25 이하이고; 및/또는 Al2O3/Li2O는 0.7 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.6 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.5 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O: 0.45 이하이고; 및/또는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):0.1~0.6; 및/또는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3:3.0~20.0.
(89) (80) 또는 (83) 중 어느 하나의 매트릭스 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：58~78%, 바람직하게는 SiO2：60~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~8%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~7%; 및/또는 Li2O：9~22%, 바람직하게는 Li2O：10~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
(90) (79) 또는 (83) 중 어느 하나의 매트릭스 유리에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 또한La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~5%, 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~2%, 보다 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~1%.
(91) (79) 또는 (83) 중 어느 하나의 매트릭스 유리에 있어서, 그 조성에는 SrO를 포함하지 않고/않거나; BaO를 포함하지 않고/않거나; MgO를 포함하지 않고/않거나; CaO를 포함하지 않고/않거나; ZnO를 포함하지 않고/않거나; PbO를 포함하지 않고/않거나; As2O3을 포함하지 않고/않거나; TiO2를 포함하지 않고/않거나; B2O3을 포함하지 않고/않거나; Y2O3을 포함하지 않고/않거나; F를 포함하지 않는다.
(92) (79) 또는 (83) 중 어느 하나의 매트릭스 유리에 있어서, 열 팽창 계수는 65Х10-7/K~80Х10-7/K ;및/또는 굴절률은 1.5400~1.5600이다.
(93) (79) 또는 (83) 중 어느 하나의 매트릭스 유리에 있어서, 착색제를 함유한다.
(94) (93)의 매트릭스 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0~4%;및/또는 Ni2O3：0~4%; 및/또는 CoO：0~2%; 및/또는 Co2O3：0~2%; 및/또는 Fe2O3：0~7%; 및/또는 MnO2：0~4%; 및/또는 Er2O3：0~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0~8%; 및/또는 Cu2O：0~4%; 및/또는 Pr2O3：0~8%; 및/또는 CeO2 ：0~4%.
(95) (93)의 매트릭스 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~4%; 및/또는 Ni2O3：0.1~4%; 및/또는 CoO：0.05~2%; 및/또는 Co2O3：0.05~2%; 및/또는 Fe2O3：0.2~7%; 및/또는 MnO2：0.1~4%; 및/또는 Er2O3：0.4~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0.4~8%; 및/또는 Cu2O：0.5~4%; 및/또는 Pr2O3：0.4~8%; 및/또는 CeO2 ：0.5~4%.
(96) (93)의 매트릭스 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~3%; 및/또는 Ni2O3：0.1~3%; 및/또는 CoO：0.05~1.8%; 및/또는 Co2O3：0.05~1.8%; 및/또는 Fe2O3：0.2~5%; 및/또는 MnO2：0.1~3%; 및/또는 Er2O3：0.4~6%; 및/또는 Nd2O3：0.4~6%; 및/또는 Cu2O：0.5~3%; 및/또는 Pr2O3：0.4~6%; 및/또는 CeO2：0.5~3%.
(97) (93)의 매트릭스 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~3%; 및/또는 Ni2O3：0.1~3%.
(98) (93)의 매트릭스 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: CoO：0.05~1.8%; 및/또는 Co2O3：0.05~1.8%.
(99) (93)의 매트릭스 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Cu2O：0.5~3%; 및/또는 CeO2：0.5~3%.
(100) (93) 중 매트릭스 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Fe2O3：0.2~5%, CoO：0.05~0.3%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, Co2O3：0.05~0.3%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, CoO：0.05~0.3%, NiO：0.1~1%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, Co2O3：0.05~0.3%, NiO：0.1~1%.
(101) (93)의 매트릭스 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Pr2O3：0.4~6%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, 또는 MnO2：0.1~3%, 또는 Er2O3：0.4~6%, 또는 Nd2O3：0.4~6%.
(102) (93)의 매트릭스 유리에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Er2O3：0.4~6%, Nd2O3：0.4~4%, MnO2：0.1~2%.
(103) (40)~ (78) 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서, 미정질 유리를 함유하는 미정질 유리 성형체.
(104) 유리 커버판은, (1)~ (39) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품, 및/또는 (40)~(78) 중 어느 하나의 미정질 유리, 및/또는 (79)~(102) 중 어느 하나의 매트릭스 유리, 및/또는 (103)의 미정질 유리 형성체를 포함한다.
(105) 유리 소자는, (1)~ (39) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품, 및/또는 (40)~(78) 중 어느 하나의 미정질 유리, 및/또는 (79)~(102) 중 어느 하나의 매트릭스 유리, 및/또는 (103)의 미정질 유리 형성체를 포함한다
(106) 디스플레이 장치는, (1)~ (39) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품, 및/또는 (40)~(78) 중 어느 하나의 미정질 유리, 및/또는 (79)~(102) 중 어느 하나의 매트릭스 유리, 및/또는 (103)의 미정질 유리 형성체, 및/또는 (104)의 유리 커버판, 및/또는 (105)의 유리 소자를 포함한다.
(107) 전자 장치는, (1)~ (39) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품, 및/또는 (40)~(78) 중 어느 하나의 미정질 유리, 및/또는 (79)~(102) 중 어느 하나의 매트릭스 유리, 및/또는 (103)의 미정질 유리 형성체, 및/또는 (104)의 유리 커버판, 및/또는 (105)의 유리 소자를 포함한다.
(108) 미정질 유리제품의 제조 방법으로 다음의 단계를 포함한다. 매트릭스 유리를 형성하고, 미정질 공정을 통해 미정질 유리를 형성하고, 다시 화학 강화 공정을 통해 미정질 유리 제품을 형성하고, 미정질 유리 제품의 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：65~80%.Al2O3：5% 미만, Li2O：10~25%, ZrO2：5~15%.P2O5：1~8%.
(109) 미정질 유리제품의 제조 방법으로 다음의 단계를 포함한다. 매트릭스 유리를 형성하고, 미정질 공정을 통해 미정질 유리를 형성하고, 다시 화학 강화 공정을 통해 미정질 유리 제품을 형성하고, 미정질 유리 제품의 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%, Al2O3：10% 미만, Li2O：8~25%, ZrO2：5~15%, P2O5：1~8%.
(110) 미정질 유리 제품의 제조 방법으로 다음의 단계를 포함한다. 매트릭스 유리를 형성하고, 미정질 공정을 통해 미정질 유리를 형성하고, 다시 화학 강화 공정을 통해 미정질 유리 제품을 형성하고, 규산리튬 결정상을 함유하고, 미정질 유리 제품의 성분은 중량 백분율에 따라 Al2O3/(P2O5+ZrO2)은 1.2 이하이다.
(111) 미정질 유리 제품의 제조 방법으로 다음의 단계를 포함한다. 매트릭스 유리를 형성하고, 미정질 공정을 통해 미정질 유리를 형성하고, 다시 화학 강화 공정을 통해 미정질 유리 제품을 형성하고, 규산리튬 결정상을 함유하고 있으며, 규산리튬 결정상은 기타 결정상보다 더 높은 중량 백분율로 가지고 있다.
(112) (110) 또는 (111) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 미정질 유리 제품의 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%; 및/또는 Al2O3：10% 미만; 및/또는 Li2O：8~25%; 및/또는 ZrO2：5~15%; 및/또는 P2O5：1~8%.
(113) (108) 또는 (112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 미정질 유리 제품의 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 또한 K2O：0~5%; 및/또는 MgO：0~3%; 및/또는 ZnO：0~3%; 및/또는 Na2O：0~6%; 및/또는 SrO：0~5%; 및/또는 BaO：0~5%; 및/또는 CaO：0~5%; 및/또는 TiO2：0~5%; 및/또는 B2O3：0~5%; 및/또는 Y2O3：0~6%; 및/또는 청징제：0~2%.
(114) (108) 또는 (113) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 미정질 유리 제품의 성분은 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하며 다음 10가지 상황들 중 하나 이상을 충족한다.
1) Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.2 이하, 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):1.0 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):0.05~0.7이다.
2) SiO2/ZrO2는 4.0~15.8, 바람직하게는 SiO2/ZrO2:4.5~12.0, 보다 바람직하게는 SiO2/ZrO2:5.0~9.5, 더욱 바람직하게는 SiO2/ZrO2:6.0~9.0이다.
3) P2O5+ZrO2：6~21%, 바람직하게는 P2O5+ZrO2：7~18%, 보다 바람직하게는P2O5+ZrO2：8~16%, 더욱 바람직하게는 P2O5+ZrO2：10~16%이다.
4) SiO2/(P2O5+ZrO2)는 2.5~12.0, 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2):3.0~10.0, 보다 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2):3.5~7.5, 더욱 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)4.0~6.5이다.
5) (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.0 이상, 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5 이상, 보다 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5~30.0이다 .
6) (SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.0~16.0, 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.5~12.0, 보다 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:5.0~10.0, 더욱 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:6.0~9.5이다.
7) (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.19~0.55, 바람직하게는(Li2O+ZrO2)/SiO2:0.2~0.5, 보다 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.25~0.45, 더욱 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.25~0.4이다.
8) (MgO+ZnO)/ZrO2:0.65이하, 바람직하게는(MgO+ZnO)/ZrO2는0.4이하, 보다 바람직하게는(MgO+ZnO)/ZrO2:0.2이하, 더욱 바람직하게는(MgO+ZnO)/ZrO2:0.1이하이다.
9) (Li2O+Al2O3)/ZrO2:0.8~5.0, 바람직하게는(Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.0~4.0, 보다 바람직하게는(Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.2~3.0, 더욱 바람직하게는(Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.5~2.5이다.
10) Li2O/(ZrO2+P2O5):0.5~3.0, 바람직하게는Li2O/(ZrO2+P2O5):0.6~2.5, 보다 바람직하게는Li2O/(ZrO2+P2O5):0.7~2.0, 더욱 바람직하게는Li2O/(ZrO2+P2O5):0.8~1.5이다.
(115) (108) 또는 (112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 미정질 유리 제품의 성분은 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.3 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.25 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.01~0.2, 더욱 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.01~0.1 ; 및/또는 Al2O3/Li2O는0.4이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는0.2 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.1이하이다.
(116) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：68~78%; 바람직하게는 SiO2：70~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~4.5%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~3%; 및/또는 Li2O：12.5~22%, 바람직하게는 Li2O：12.5~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
(117) (109)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.25 이하이고; 및/또는 Al2O3/Li2O는0.7 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.6 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.5 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.45 이하이고; 및/또는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):0.1~0.6; 및/또는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3는 3.0~20.0이다.
(118) (109)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：58~78%, 바람직하게는 SiO2：60~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~8%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~7%; 및/또는 Li2O：9~22%, 바람직하게는 Li2O：10~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
(119) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~5%, 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~2%, 보다 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~1%이다.
(120) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, SrO를 포함하지 않고/않거나; BaO를 포함하지 않고/않거나; MgO를 포함하지 않고/않거나; CaO를 포함하지 않고/않거나; ZnO를 포함하지 않고/않거나; PbO를 포함하지 않고/않거나; As2O3을 포함하지 않고/않거나; TiO2를 포함하지 않고/않거나; B2O3을 포함하지 않고/않거나; Y2O3을 포함하지 않고/않거나; F를 포함하지 않는다.
(121) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 규산리튬 결정상을 함유하고; 및/또는 인산리튬 결정상을 함유하고; 및/또는 페타라이트 결정상을 함유하고; 및/또는 석영 고형체 결정상을 함유한다.
(122) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 유리 제품들은 규산 리튬 결정상을 함유하고 있고, 규산 리튬 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 10~70%를 함유하고, 바람직하게는 10~65%, 보다 바람직하게는 15~60%, 더욱 바람직하게는 20~55%.
(123) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 리튬 모노실리케이트 결정상을 함유하고 있고 다른 결정상보다 더 높은 백분율을 차지하고 있으며, 리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리 제품의 중량 백분율의30~65%, 바람직하게는 35~60%, 보다 바람직하게는 40~55%.
(124) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 리튬 디실리케이트 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 백분율을 차지하고 있으며, 리튬 디실리케이트 결정상은 미정질 유리 제품의 중량 백분율의 10~60%, 바람직하게는 15~50%, 보다 바람직하게는 20~45%이다.
(125) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 인산리튬 결정상을 함유하고 있으며, 인산리튬 결정상은 미정질 유리 제품의 중량 백분율 10% 이하, 바람직하게는 인산리튬 결정상은 미정질 유리 제품의 중량 백분율 5% 이하이다.
(126) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서,석영 고용체 결정상을 함유하고 있으며, 석영 고용체 결정상이 미정질 유리 제품의 중량 백분율로 10% 이하, 바람직하게는 중량 백분율로 5% 이하이다.
(127) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 페타라이트 결정상을 함유하고 있으며 중량 백분율로 18% 이하, 바람직하게는 중량 백분율로 15% 이하, 보다 바람직하게는 중량 백분율로10% 이하, 더욱 바람직하게는 중량 백분율로 5% 이하이다.
(128) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 미정질 유리 제품의 4점 굽힘 강도는 600MPa 이상, 바람직하게는 650MPa 이상, 보다 바람직하게는 700MPa 이상이고; 및/또는 이온 교환 층의 깊이는 20μm 이상, 바람직하게는 30μm 이상, 보다 바람직하게는 40μm 이상이고, 및/또는 낙하 시험 높이는 1400mm 이상, 바람직하게는 1500mm 이상, 보다 바람직하게는 1600mm 이상이고, 및/또는 파괴 인성은 1MPa·m1/2 이상, 바람직하게는 1.3MPa·m1/2 이상, 보다 바람직하게는 1.5MPa·m1/2 이상이고, 및/또는 비커스 경도 730kgf/ mm2 이상, 바람직하게는750kgf/ mm2 이상, 보다 바람직하게는 780kgf/ mm2 이상이고; 및/또는 유전 상수는 5.4 이상, 바람직하게는 5.8 이상, 보다 바람직하게는 6.0 이상이고, 및/또는 유전 손실은 0.05 미만, 바람직하게는0.04 미만, 보다 바람직하게는 0.02 미만, 더욱 바람직하게는 0.01 미만이고, 및/또는 결정도는 50% 이상, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상이고, 및/또는 결정 입자 크기는 80nm 이하, 바람직하게는50nm 이하, 보다 바람직하게는 30nm이다 .
(129) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 1mm 이하 두께의 헤이즈는 0.2% 이하, 바람직하게는 0.18% 이하, 보다 바람직하게는 0.15% 이하이고; 및/또는 400~800nm 파장의 평균 광 투과율은 87% 이상, 바람직하게는 89% 이상, 보다 바람직하게는 90%이상이고; 및/또는 550nm 파장의 광 투과율은 88% 이상, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 91% 이상이고; 및/또는 400~800nm의 평균 빛 |B|의 값은 0.9 이하, 바람직하게는 0.8 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하이다.
(130) (129)의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 미정질 유리 제품의 두께는 0.2~1mm, 바람직하게는 0.3~0.9mm, 보다 바람직하게는 0.5~0.8mm, 더욱 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
(131) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 미정질 유리 제품에 착색제를 함유하고 있으며, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0~4%; 및/또는 Ni2O3：0~4%; 및/또는 CoO：0~2%; 및/또는 Co2O3：0~2%; 및/또는 Fe2O3：0~7%; 및/또는 MnO2：0~4%; 및/또는 Er2O3：0~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0~8%; 및/또는 Cu2O：0~4%; 및/또는 Pr2O3：0~8%; 및/또는 CeO2 ：0~4%.
(132) (131)의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~4%; 및/또는 Ni2O3：0.1~4%; 및/또는 CoO：0.05~2%; 및/또는 Co2O3：0.05~2%; 및/또는 Fe2O3：0.2~7%; 및/또는 MnO2：0.1~4%; 및/또는 Er2O3：0.4~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0.4~8%; 및/또는 Cu2O：0.5~4%; 및/또는 Pr2O3：0.4~8%; 및/또는 CeO2 ：0.5~4%.
(133) (131)의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~3%; 및/또는 Ni2O3：0.1~3%; 및/또는 CoO：0.05~1.8%; 및/또는 Co2O3：0.05~1.8%; 및/또는 Fe2O3：0.2~5%; 및/또는 MnO2：0.1~3%; 및/또는 Er2O3：0.4~6%; 및/또는 Nd2O3：0.4~6%; 및/또는 Cu2O：0.5~3%; 및/또는 Pr2O3：0.4~6%; 및/또는 CeO2：0.5~3%.
(134) (131)의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~3%; 및/또는 Ni2O3：0.1~3%.
(135) (131)의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: CoO：0.05~1.8%; 및/또는 Co2O3：0.05~1.8%.
(136) (131)의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Cu2O：0.5~3%; 및/또는 CeO2：0.5~3%.
(137) (131)의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Fe2O3：0.2~5%, CoO：0.05~0.3%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, Co2O3：0.05~0.3%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, CoO：0.05~0.3%, NiO：0.1~1%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, Co2O3：0.05~0.3%, NiO：0.1~1%.
(138) (131)의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Pr2O3：0.4~6%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, 또는 MnO2：0.1~3%, 또는 Er2O3：0.4~6%, 또는 Nd2O3：0.4~6%.
(139) (131)의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Er2O3：0.4~6%, Nd2O3：0.4~4%, MnO2：0.1~2%.
(140) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 규정된 결정화 처리 온도로 가열하고, 결정화 처리 온도에 도달한 후 일정시간 유지한 후 다시 온도를 낮추는데, 이 결정화 처리 온도는 580~750℃, 바람직하게는600~700℃, 결정화 처리 온도에서의 유지 시간은 0~8시간, 바람직하게는 1~6시간이다.
(141) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 제1 온도에서 핵 형성 공정의 처리를 진행하고, 그 후 핵 형성 공정의 온도보다 높은 제2 온도에서 결정 성장 공정의 처리를 진행한다.
(142) (141)의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 결정화 공정은 다음 단계를 포함한다: 제1 온도는 470~580℃, 제2 온도는 600~750℃。제1 온도에서의 유지 시간은 0~24시간, 바람직하게는 2시간~15시간, 제2 온도에서의 유지시간은 0~10시간, 바람직하게는 0.5~6시간.
(143) (108)~(112) 중 어느 하나의 미정질 유리 제품의 제조 방법에 있어서, 화학적 강화 공정은 다음을 포함한다: 미정질 유리를 350℃~470℃ 온도의 용융된 Na염의 염욕에 1~36시간을 침지하며, 바람직한 온도범위는 380℃~460℃이고, 바람직한 시간 범위는 2~24시간이며, 및/또는 미정질 유리를 360℃~450℃ 온도의 용융된 K염의 염욕에 1~36시간을 침지하며, 바람직한 시간 범위는 2~24시간이며, 및/또는 미정질 유리를 360℃~450℃ 온도의 용융된 Na염과 K염의 혼합 염욕에 1~36시간을 침지하며, 바람직한 시간 범위는 2~24시간이다.
(144) 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 서술하는 방법은 다음의 단계를 포함한다: 매트릭스 유리를 형성하고, 결정화 공정을 통해 미정질 유리를 형성하고, 서술하는 미정질 유리의그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：65~80%, Al2O3：5% 미만, Li2O：10~25%, ZrO2：5~15%, P2O5：1~8%.
(145) 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 다음의 단계를 포함한다: 매트릭스 유리를 형성하고, 결정화 공정을 통해 미정질 유리를 형성하고,그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%, Al2O3：10% 미만, Li2O：8~25%, ZrO2：5~15%, P2O5：1~8%.
(146) 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 다음의 단계를 포함한다: 매트릭스 유리를 형성하고, 결정화 공정을 통해 미정질 유리를 형성하고, 규산리튬 결정상을 함유하고, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.2 이하.
(147) 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 다음의 단계를 포함한다: 매트릭스 유리를 형성하고, 미정질 공정을 통해 미정질 유리를 형성하며, 규산리튬 결정상을 함유하고 있으며, 규산리튬 결정상은 기타 결정상보다 더 높은 중량 백분율로 가지고 있다.
(148) (146) 또는 (147)의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：55~80%; 및/또는 Al2O3：10% 미만; 및/또는 Li2O：8~25%; 및/또는 ZrO2：5~15%; 및/또는 P2O5：1~8%.
(149) (144) 또는 (148) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: K2O：0~5%; 및/또는 MgO：0~3%; 및/또는 ZnO：0~3%; 및/또는 Na2O：0~6%; 및/또는 SrO：0~5%; 및/또는 BaO：0~5%; 및/또는 CaO：0~5%; 및/또는 TiO2：0~5%; 및/또는 B2O3：0~5%; 및/또는 Y2O3：0~6%; 및/또는 청징제：0~2%.
(150) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하고 다음 10가지 상황들 중 하나 이상을 충족한다.
1) Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.2 이하, 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):1.0 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):0.05~0.7이다.
2) SiO2/ZrO2는 4.0~15.8, 바람직하게는 SiO2/ZrO2:4.5~12.0, 보다 바람직하게는 SiO2/ZrO2:5.0~9.5, 더욱 바람직하게는 SiO2/ZrO2:6.0~9.0이다.
3) P2O5+ZrO2：6~21%, 바람직하게는 P2O5+ZrO2：7~18%, 보다 바람직하게는 P2O5+ZrO2：8~16%, 더욱 바람직하게는 P2O5+ZrO2：10~16%이다.
4) SiO2/(P2O5+ZrO2)는 2.5~12.0, 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2):3.0~10.0, 보다 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2):3.5~7.5, 더욱 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2) 4.0~6.5이다.
5) (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.0 이상, 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5 이상, 보다 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5~30.0이다 .
6) (SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.0~16.0, 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.5~12.0, 보다 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:5.0~10.0, 더욱 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:6.0~9.5이다.
7) (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.19~0.55, 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.2~0.5, 보다 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.25~0.45, 더욱 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.25~0.4이다.
8) (MgO+ZnO)/ZrO2:0.65 이하, 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.4 이하, 보다 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2:0.2 이하, 더욱 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2:0.1 이하이다.
9) (Li2O+Al2O3)/ZrO2:0.8~5.0, 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.0~4.0, 보다 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.2~3.0, 더욱 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.5~2.5이다.
10) Li2O/(ZrO2+P2O5):0.5~3.0, 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.6~2.5, 보다 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.7~2.0, 더욱 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.8~1.5이다.
(151) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.3 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.25 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.01~0.3, 더욱 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.01~0.1; 및/또는 Al2O3/Li2O는 0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.2 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.1이하.
(152) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：68~78%, 바람직하게는 SiO2：70~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~4.5%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~3%; 및/또는 Li2O：12.5~22%, 바람직하게는 Li2O：12.5~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
(153) (145) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.25 이하; 및/또는 Al2O3/Li2O는 0.7 이하, 바람직하게는, Al2O3/Li2O:0.6 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.5 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.45 이하; 및/또는 Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 0.1~0.6; 및/또는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3는 3.0~20.0.
(154) (145) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SiO2：58~78%, 바람직하게는 SiO2：60~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~8%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~7%; 및/또는 Li2O：9~22%, 바람직하게는 Li2O：10~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
(155) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 또한La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~5%, 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~2%, 보다 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~1%.
(156) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 성분은 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: SrO를 포함하지 않고/않거나; BaO를 포함하지 않고/않거나; MgO를 포함하지 않고/않거나; CaO를 포함하지 않고/않거나; ZnO를 포함하지 않고/않거나; PbO를 포함하지 않고/않거나; As2O3을 포함하지 않고/않거나; TiO2를 포함하지 않고/않거나; B2O3을 포함하지 않고/않거나; Y2O3을 포함하지 않고/않거나; F를 포함하지 않는다.
(157) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 결정은 규산리튬 결정상을 함유한다. 및/또는 인산리튬 결정상, 및/또는 페타라이트 결정상; 및/또는 석영 고형체 결정상을 함유하고 있다.
(158) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 규산리튬 결정상을 함유하고 있고, 규산리튬 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 중량 백분율을 함유하고 있으며, 바람직하게는 미정질 유리의 중량 백분율의 10~70%, 보다 바람직하게는 10~65%, 더욱 바람직하게는 15~60%, 더더욱 바람직하게는 20~55%이다.
(159) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 리튬 모노실리케이트 결장상을 함유하고, 리튬 모노실리케이트 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 백분율을 차지하고 있으며, 바람직하게는 리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율 30~65%, 보다 바람직하게는 35~60%, 더욱 바람직하게는 40~55%를 차지한다.
(160) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 리튬 디실리케이트 결정상을 함유하고 있으며, 리튬 디실리케이트 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 중량 백분율을 가지고 있으며, 바람직하게는10~60%, 보다 바람직하게는 15~50%, 더욱 바람직하게는 20~45%이다.
(161) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 인산리튬 결정상을 함유하고 있으며, 인산리튬 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율의 10% 이하, 바람직하게는 인산리튬 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율 5% 이하를 차지한다.
(162) (144) ~ (149) 어느 하나에 기술한 미정질 유리의 제조 방법에 있어서,석영 고용체 결정상을 함유하고 있으며, 석영 고용체 결정상은 미정질 유리의 중량 백분율의 10% 이하, 바람직하게는 5% 이하를 차지한다.
(163) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 페타라이트 결정상을 함유하고 있으며, 미정질 유리의 중량 백분율의 18% 이하, 바람직하게는 15%, 보다 바람직하게는 10% 이하, 더욱 바람직하게는 5%를 차지한다.
(164) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 결정도는 50% 이상, 바람직하게는60% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상이며, 및/또는 결정입자 크기는 80nm 이하, 바람직하게는 50nm 이하, 보다 바람직하게는 30nm 이하이며, 및/또는 열 팽창 계수는 70Х10-7/K~90Х10-7/K이며, 및/또는 굴절률은1.5520~1.5700이며, 및/또는 낙하 시험 높이는 1700mm 이상, 바람직하게는 1900mm 이상, 보다 바람직하게는 2000mm 이상이며, 및/또는 비커스 경도는 630kgf/mm2 이상, 바람직하게는 650kgf/mm2 이상, 보다 바람직하게는 680kgf/mm2 이상이며, 및/또는 유전 상수는 5.4 이상, 바람직하게는 5.8 이상, 보다 바람직하게는 6.0 이상이며, 및/또는 유전 손실은 0.05 미만, 바람직하게는 0.04 미만, 보다 바람직하게는 0.03 미만, 더욱 바람직하게는 0.01 미만이며, 및/또는 표면 저항은 1Х109Ω·cm 이상, 바람직하게는 1Х1010Ω·cm 이상, 보다 바람직하게는 1Х1011Ω·cm 이상이다.
(165) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 1mm 이하 두께의 헤이즈는 0.2% 이하, 바람직하게는 0.18% 이하, 보다 바람직하게는 0.15% 이하이며, 및/또는 400~800nm 파장의 평균 광 투과율은 87% 이상, 바람직하게는 89% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상이며, 및/또는 550nm 파장의 광 투과율은 88% 이상, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 91% 이상이며, 및/또는400~800nm의 평균 빛 |B|의 값은 0.9 이하, 바람직하게는 0.8 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하이다.
(166) (165)의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 두께는 0.2~1mm, 바람직하게는 0.3~0.9mm, 보다 바람직하게는 0.5~0.8mm, 더욱 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
(167) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0~4%; 및/또는 Ni2O3：0~4%; 및/또는 CoO：0~2%; 및/또는 Co2O3：0~2%; 및/또는 Fe2O3：0~7%; 및/또는 MnO2：0~4%; 및/또는 Er2O3：0~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0~8%; 및/또는 Cu2O：0~4%; 및/또는 Pr2O3：0~8%; 및/또는 CeO2 ：0~4%.
(168) (167)의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~4%; 및/또는 Ni2O3：0.1~4%; 및/또는 CoO：0.05~2%; 및/또는 Co2O3：0.05~2%; 및/또는 Fe2O3：0.2~7%; 및/또는 MnO2：0.1~4%; 및/또는 Er2O3：0.4~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0.4~8%; 및/또는 Cu2O：0.5~4%; 및/또는 Pr2O3：0.4~8%; 및/또는 CeO2 ：0.5~4%.
(169) (167)의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~3%; 및/또는 Ni2O3：0.1~3%; 및/또는 CoO：0.05~1.8%; 및/또는 Co2O3：0.05~1.8%; 및/또는 Fe2O3：0.2~5%; 및/또는 MnO2：0.1~3%; 및/또는 Er2O3：0.4~6%; 및/또는 Nd2O3：0.4~6%; 및/또는 Cu2O：0.5~3%; 및/또는 Pr2O3：0.4~6%; 및/또는 CeO2：0.5~3%.
(170) (167)의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: NiO：0.1~3%; 및/또는 Ni2O3：0.1~3%.
(171) (167)의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: CoO：0.05~1.8%; 및/또는 Co2O3：0.05~1.8%.
(172) (167)의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Cu2O：0.5~3%; 및/또는 CeO2：0.5~3%.
(173) (167)의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Fe2O3：0.2~5%, CoO：0.05~0.3%.또는 Fe2O3：0.2~5%, Co2O3：0.05~0.3%.또는 Fe2O3：0.2~5%, CoO：0.05~0.3%, NiO：0.1~1%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, Co2O3：0.05~0.3%, NiO：0.1~1%.
(174) (167)의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Pr2O3：0.4~6%, 또는 Fe2O3：0.2~5%, 또는 MnO2：0.1~3%, 또는 Er2O3：0.4~6%, 또는 Nd2O3：0.4~6%.
(175) (167)의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: Er2O3：0.4~6%, Nd2O3：0.4~4%, MnO2：0.1~2%.
(176) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 결정화 공정은 소정의 결정화 처리 온도까지 가열하고, 열처리 온도에 도달한 후, 그 온도를 일정 시간 동안 유지한 다음, 온도를 냉각시키는 단계를 포함한다. 결정화 처리 온도는 바람직하게는 580~750℃, 보다 바람직하게는 600~700℃이며, 결정화 처리 온도에서의 유지시간은 바람직하게는 0~8시간, 보다 바람직하게는 1~6시간이다.
(177) (144) ~ (149) 중 어느 하나의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 결정화 공정은 제1 온도에서 핵 형성 공정을 수행한 다음, 핵 형성 공정 온도보다 높은 제2 온도에서 결정 성장 공정을 수행하는 단계를 포함한다.
(178) (177)의 미정질 유리의 제조 방법에 있어서, 결정화 공정은 제1 온도는 470~580℃이고, 제2 온도는 600~750℃인 단계를 포함한다. 제1 온도에서의 유지 시간은 0~24시간, 바람직하게는 2~15시간이다. 제2 온도에서의 유지 시간은 0~10시간, 바람직하게는 0.5~6시간이다.
(179) 미정질 유리 성형체의 제조 방법에 있어서 미정질 유리를 연마하거나 광택을 내어 미정질 유리 성형체를 만들거나 일정한 온도에서 매트릭스 유리 또는 미정질 유리를 핫 벤딩 공정이나 프레스 공정을 통해 미정질 유리 성형체를 제조한다.
(180) 미정질 유리 성형체의 제조 방법으로, 기술하는 방법은 다음 단계를 포함한다: 매트릭스 유리를 제1 결정화 열처리 과정, 가열, 보온 핵 형성, 가열, 보온 결정화, 실온까지 냉각, 사전 결정화된 유리 형성을 함유한다; 사전 결정화된 유리를 열가공 성형하여 미정질 유리 성형체를 얻는다.
(181) 미정질 유리 성형체를 제조하는 방법이며 다음과 같은 단계를 함유하다.
1) 승온 예열: 매트릭스 유리 또는 사전 결정화된 유리 또는 미정질 유리를 금형에 배치하고, 금형은 핫 벤딩머신 중 순차적으로 각 가열 챔버를 통과하고, 각 챔버에 일정한 시간 동안 머물며 보온을 하며, 예열 영역 온도는 400~800℃, 압력은 0.01~0.05MPa, 시간은 40~200s이다.
2) 프레스 성형: 금형은 예열을 거친 후 성형 챔버로 이송되고, 핫 벤딩 머신는 금형에 일정한 압력을 가하며, 압력 범위는 0.1~0.8Mpa, 성형 챔버 온도 범위는 650~850℃, 성형 시간 범위는 40~200s이다.
3) 보압 냉각: 금형을 냉각챔버로 이송하여 각 챔버마다 냉각한다. 냉각 온도 범위는 750~500℃, 압력은 0.01~0.05Mpa, 시간은 40~200s이다.
본 발명의 유익한 효과는 합리적인 구성 요소 설계를 통하여 본 발명으로 얻은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품이 우수한 기계적 성능을 가지고 있다는 것이다.
본 발명의 미정질 유리 및 미정질 유리 제품은 비정질 고체와 달리 결정상(때로는 결정체 라고도한다.) 및 유리상을 갖는 재료이다. 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 결정상은 X 선 회절 분석의 X 선 회절 패턴에 나타나는 피크 각도를 통하여 식별가능허고, 및/또는 TEMEDX를 통해 구분할 수 있으며, 주 결정상은 X 선 회절로 측정한다.
반복된 실험과 연구를 통해, 본 발명의 발명자들은 미정질 유리 및 미정질 유리 제품을 구성하는 특정 성분의 함량 및 함량 비율을 특정 값으로 결정하고 이들이 특정 결정상을 석출시키도록 하여 보다 저렴한 비용으로 본 발명의 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품이 얻었다.
아래, 본 발명의 매트릭스 유리, 미정질 유리 및 미정질 유리 제품의 각 성분(성분)의 범위에 대하여 설명한다. 다음은, 본 발명의 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 각 성분의 조성 범위를 설명한다. 본 명세서에서, 달리 명시되지 않는 한, 각 성분의 함량은 산화물의 조성으로 변환된 유리 물질 총함량에 대한 중량 백분율로 표시된다. 여기서, "산화물의 조성으로 변환된" 이란, 본 발명의 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 조성 성분의 원료로 사용된 산화물, 복합 염 및 수산화물 등이 용융될 때 모두 분해되어 산화물로 변환되는 경우, 산화물의 총함량이 100%으로 간주되는 것을 의미한다. 또한, 본 명세서에서 유리로만 언급되 는 경우는 결정화 전의 매트릭스 유리이고, 매트릭스 유리가 결정화된 후에는 미정질 유리라고 하며, 미정질 유리 제품은 화학적 강화(chemical tempering) 후의 미정질 유리를 의미한다 이 밖에, 본 설명서에서 단지 유리라고 할 때는 결정화(즉,결정화 공정 처리) 전의 매트릭스 유리, 매트릭스 유리의결정화(즉,결정화 공정 처리)후 를 미정질 유리라고 하며, 미정질 유리 제품은 미정질 유리를 화학적으로 강화한 후에 얻은 제품을 가리킨다.
구체적 상황에서 달리 명시되지 않는 한, 본 명세서에 나열된 수치 범위는 상한 및 하한을 포함하고,"이상" 및 "이하"는 종점값을 포함하며, 그 범위 내의 모든 정수 및 분수는 범위를 한정할 때 나열된 특정 값에제한되지 않는다. 본 명세서에 사용된 용어 "약(約)"은 배합, 파라미터와 기타 수량 및 특징이 정확하지 않고 정확할 필요가 없음을 가리킨다. 예를 들어, 필요에 따라 근사하거나 및/또는 더 크거나 더 낮을 수 있으며, 이는 공차, 변환 계수, 측정 오류 등을 반영한다. 본 명세서에 사용된 "및/또는"은 포괄적이다. 예를 들어, "A 및/또는 B"는 A 만 가리키거나, B 만 가리키거나 또는 A와 B를 모두 가리킨다.
본 발명의 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 결정상에 규산리튬 결정상을 함유한다; 및/또는 인산리튬 결정상, 및/또는 페타라이트 결정상 및/또는 석영 고형체 결정상을 함유한다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 결정상은 규산리튬 결정상(리튬 모노실리케이트와 리튬 디실리케이 중 하나 또는 두 가지)을 포함한다. 본 발명의 일부 실시 방식에서 규산리튬 결정상은 다른 결정보다 더 높은 중량 백분율 가지고 있다. 본 발명의 일부 실시 방식에서 규산리튬 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 10~70%를 차지하고, 바람직하게는 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 10~65%, 보다 바람직하게는 규산리튬 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 15~60%, 더욱 바람직하게는 규산리튬 결정상을 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 20~55%를 차지한다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 규산리튬 결정상은 미정질 유리나 미정질 유리 제품의 중량 백분율의 10%, 11%, 12%, 13%, 14%, 15%, 16%, 17%, 18%, 19%, 20%, 21%, 22%, 23%, 24%, 25%, 26%, 27%, 28%, 29%, 30%, 31%, 32%, 33%, 34%, 35%, 36%, 37%, 38%, 39%, 40%, 41%, 42%, 43%, 44%, 45%, 46%, 47%, 48%, 49%, 50%, 51%, 52%, 53%, 54%, 55%, 56%, 57%, 58%, 59%, 60%, 61%, 62%, 63%, 64%, 65%, 66%, 67%, 68%, 69%, 70%를 차지한다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리나 미정질 유리 제품의 결정상에는 리튬 모노실리케이트 결정상이 함유되어 있다. 본 발명의 일부 실시 방식에서,리튬 모노실리케이트 결정상은 다른 결정보다 더 높은 중량 백분율을 가진다. 본 발명의 일부 실시 방식에서,리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 30~65%, 바람직하게는 리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 35~60%, 보다 바람직하게는 리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품중량 백분율의 40~55%를 차지한다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 리튬 모노실리케이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품중량 백분율의 30%, 31%, 32%, 33%, 34%, 35%, 36%, 37%, 38%, 39%, 40%, 41%, 42%, 43%, 44%, 45%, 46%, 47%, 48%, 49%, 50%, 51%, 52%, 53%, 54%, 55%, 56%, 57%, 58%, 59%, 60%, 61%, 62%, 63%, 64%, 65%를 차자한다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 결정상은 리튬 디실리케이트 결정상을 함유한다. 본 발명의 일부 실시 방식에서 리튬 디실리케이트 결정상은 다른 결정상보다 더 높은 중량 백분율을 가지고 있다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 리튬 디실리케이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 10~60%, 바람직하게는 리튬 디실리케이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 15~50%, 보다 바람직하게는 리튬 디실리케이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 20~45%를 차지한다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 리튬 디실리케이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 10%, 11%, 12%, 13%, 14%, 15%, 16%, 17%, 18%, 19%, 20%, 21%, 22%, 23%, 24%, 25%, 26%, 27%, 28%, 29%, 30%, 31%, 32%, 33%, 34%, 35%, 36%, 37%, 38%, 39%, 40%, 41%, 42%, 43%, 44%, 45%, 46%, 47%, 48%, 49%, 50%, 51%, 52%, 53%, 54%, 55%, 56%, 57%, 58%, 59%, 60%를 차지한다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 결정상에는 인산리튬 결정상을 함유하고, 인산리튬 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 중량 백분율의 10% 이하, 바람직하게는 인산리튬 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 중량 백분율의 5%를 차지한다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 인산리튬 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 중량 백분율은 0%, 함유하고 0% 이상, 0.1%, 0.5%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%, 8.5%, 9%, 9.5%, 10%이다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 결정상은 10% 이하의 중량 백분율로 차지하는 석영 고형체 결정상을 함유하고 있으며, 석영 고형체 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 중량 백분율의 5% 이하이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 석영 고용체 결정상은 미정질 유리나 미정질 유리 제품의 중량 백분율은 0%, 함유하고 0% 이상, 0.1%, 0.5%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%, 8.5%, 9%, 9.5%, 10%이다.
본 발명의 몇 가지 방법 중에서, 미정질 유리나 미정질 유리 제품에는 페타라이트 결정상이 들어있고, 페타라이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품중량 백분율의 18% 이하, 바람직하게는 페타라이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 15% 이하, 보다 바람직하게는 페타라이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 10% 이하, 더욱 바람직하게는 페타라이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 5% 이하를 차지한다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 페타라이트 결정상은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중량 백분율의 0%, 함유하고 0% 이상, 0.1%, 0.5%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%, 8.5%, 9%, 9.5%, 10%, 10.5%, 11%, 11.5%, 12%, 12.5%, 13%, 13.5%, 14%, 14.5%, 15%, 15.5%, 16%, 16.5%, 17%, 17.5%, 18%이다.
SiO2는 본 발명의 유리를 구성하는 망상 구조를 안정화시키는데 사용할 수 있으며, 열처리 후 결정상을 형성하는 주요 구성요소의 하나로서, SiO2의 함량이 55% 이하이면, 유리 결정화 처리 후 형성되는 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 투명도가 높지 않을 뿐만 아니라, 미정질 유리 중 결정상 형성이 줄어들고, 미정질 유리의 낙하 시험 높이와 미정질 유리 제품의 충격에도 영향을 미친다. 따라서 SiO2 함량의 하한은 55%, 바람직하게는 58%, 보다 바람직하게는 60%이며; 본 발명의 일부 실시 방식에서, SiO2 함량의 하한은 바람직하게는 65%, 보다 바람직하게는 68%, 더욱 바람직하게는 70%이다. 한편, SiO2의 함량이 80% 이상이면, 유리 성형이 어렵고, 미정질 유리 중 형성되는 결정체의 종류 수량이 변화되어, 미정질 유리의 전이점(soften temperature)(Ts)을 높이고, 유리와 미정질 유리의 고온 벤딩에 영향을 주며, 미정질 유리 제품 표면 응력과 이온 교환 층의 깊이에 영향을 미친다. 따라서, SiO2 함량의 상한은 80%, 바람직하게는 78%, 보다 바람직하게는 76%이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 55%, 55.5%, 56%, 56.5%, 57%, 57.5%, 58%, 58.5%, 59%, 59.5%, 60%, 60.5%, 61%, 61.5%, 62%, 62.5%, 63%, 63.5%, 64%, 64.5%, 65%, 65.5%, 66%, 66.5%, 67%, 67.5%, 68%, 68.5%, 69%, 69.5%, 70%, 70.5%, 71%, 71.5%, 72%, 72.5%, 73%, 73.5%, 74%, 74.5%, 75%, 75.5%, 76%, 76.5%, 77%, 77.5%, 78%, 78.5%, 79%, 79.5%, 80%의 SiO2를 포함할 수 있다.
Al2O3는 유리 망상 구조를 형성하는 성분으로, 유리 성형을 안정시키고 화학적 안정성을 향상시키는 중요한 성분이며, 미정질 유리 제품의 낙하와 굽힘 강도를 높인다; 그러나 Al2O3의 함량이 너무 많으면, 미정질 유리와 미정질 유리 제품에 다른 결정상이 쉽게 생성되어 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 헤이즈가 높아질 수 있다. 따라서, 본 발명의 Al2O3 함량은 10% 미만, 바람직하게는 0.1~8%, 보다 바람직하게는 0.5~7%이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, Al2O3 함량은 5% 미만, 바람직하게는 0.1~4.5%, 보다 바람직하게는 0.5~3%이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0%, 함유하고 0% 이상, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3%, 3.1%, 3.2%, 3.3%, 3.4%, 3.5%, 3.6%, 3.7%, 3.8%, 3.9%, 4%, 4.1%, 4.2%, 4.3%, 4.4%, 4.5%, 4.6%, 4.7%, 4.8%, 4.9%, 5%, 5.1%, 5.2%, 5.3%, 5.4%, 5.5%, 5.6%, 5.7%, 5.8%, 5.9%, 6%, 6.1%, 6.2%, 6.3%, 6.4%, 6.5%, 6.6%, 6.7%, 6.8%, 6.9%, 7%, 7.1%, 7.2%, 7.3%, 7.4%, 7.5%, 7.6%, 7.7%, 7.8%, 7.9%, 8%, 8.1%, 8.2%, 8.3%, 8.4%, 8.5%, 8.6%, 8.7%, 8.8%, 8.9%, 9%, 9.1%, 9.2%, 9.3%, 9.4%, 9.5%, 9.6%, 9.7%, 9.8%, 10%의 Al2O3가 함유될 수 있다.
Li2O는 유리의 용융을 촉진하고, 제련 온도를 낮추고, P2O5의 분상을 줄일 수 있고, P2O5의 용해를 촉진하는 것은 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 결정상를 형성하는 주요 성분이며 또한 화학 강화에서 주로 나트륨, 칼륨이온과 치환하는 성분으로서 미정질 유리 제품의 표면응력을 증대시키고 미정질 유리 제품의 낙하 충격 시험의 고도를 높이며 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 유전 상수를 증가시킬 수 있다; 다만 Li2O의 함량이 8% 미만이면, 규산리튬 결정상의 형성이 좋지 않으며, 미정질 유리 제품의 이온 교환 층의 깊이에 영향을 미치며, 미정질 유리 제품과 미정질 유리 제품의 낙하 충격 시험의 높이와 파편에 영향을 미친다. 따라서, Li2O 함량의 하한은 8%, 바람직하게는 9%, 더욱 바람직하게는 10%이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 바람직하게는 Li2O 함량의 하한은 12.5%이다. 한편, Li2O를 너무 많이 함유하면 유리가 결정화 처리될 때 분상되기 쉬우며, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 광 투과율에 영향을 미친다. 따라서,Li2O 함량의 상한은 25%, 바람직하게는 상한 22%, 보다 바람직하게는 상한 20%이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 8%, 8.5%, 9%, 9.5%, 10%, 10.5%, 11%, 11.5%, 12%, 12.5%, 13%, 13.5%, 14%, 14.5%, 15%, 15.5%, 16%, 16.5%, 17%, 17.5%, 18%, 18.5%, 19%, 19.5%, 20%, 20.5%, 21%, 21.5%, 22%, 22.5%, 23%, 23.5%, 24%, 24.5%, 25%의 Li2O를 포함할 수 있다.
발명자의 광범위한실험 연구를 통해 본 발명의 일부 실시 방식에서 Al2O3의 함량과 Li2O의 함량 사이의 비율을 Al2O3/Li2O가 0.7 이하로 제어함으로써 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 결정도를 높이고 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 결정 입자 크기를 낮출 수 있음을 발견하였다. 따라서, 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.7 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.6 이하이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, Al2O3/Li2O를 0.5 이하로 제어함으로써, 미정질 유리와 미정질 유리 제품이 우수한 광 투과율을 가질 수 있으며, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 헤이즈를 낮출 수 있다. 따라서, 바람직하게는 Al2O3/Li2OAl2O3/Li2O:0.5 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.45 이하이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.4 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.3 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.2 이하, 가장 바람직하게는 Al2O3/Li2O:0.1 이하이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, Al2O3/Li2O 값이 0, 함유하고 0 이상, 0.01, 0.02, 0.03, 0.04, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18, 0.19, 0.2, 0.21, 0.22, 0.23, 0.24, 0.25, 0.26, 0.27, 0.28, 0.29, 0.3, 0.31, 0.32, 0.33, 0.34, 0.35, 0.36, 0.37, 0.38, 0.39, 0.4, 0.41, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47, 0.48, 0.49, 0.5, 0.55, 0.6, 0.65, 0.7일 수 있다.
Na2O는 유리의 제련 온도를 낮출 수 있으며, 미정질 유리를 화학적으로 강화할 때 Li와 Na의 교환 속도를 효과적으로 낮출 수 있으며, 화학적 강화 공정을 비교적 쉽게 제어할 수 있도록 한다. Na2O 함량의 하한은 0.5%이다. 다만, Na2O를 너무 많이 함유하되, 미정질 유리 중의 결정 형성에 영향이 미쳐 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 결정도를 낮추어 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 강도를 감소시킨다. 따라서 Na2O의 함량은 0~6%, 바람직하게는 0~4%, 보다 바람직하게는 0.5~3%이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0%, 함유하고 0% 이상, 0.05%, 0.1%, 0.5%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%의 Na2O가 함유될 수 있다.
K2O는 유리의 점도를 낮출 수 있으며, 결정화 공정 처리시 결정의 형성을 촉진할 수 있지만, K2O가 너무 많이 함유되면, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 결정이 굵어지게 되고, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 광 투과율과 낙하 충격 시험의 높이를 낮출 수 있다. 따라서 K2O 함량의 상한은 5%, 바람직하게는 4%, 보다 바람직하게는 2%이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0%, 함유하고 0% 이상, 0.1%, 0.5%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%의 K2O를 포함할 수 있다.
P2O5는 본 발명에서 결정의 형성을 촉진하고, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 결정도를 높이며, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 경도와 강도를 증가시키고, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 헤이즈를 낮춘다. 본 발명에서P2O5 함량의 하한은 1%, 바람직하게는 1.5%, 보다 바람직하게는 2%이다. 그러나 P2O5가 너무 많이 함유되면, 유리 성형 시 불균일한 결정 분포를 형성하고, 열처리 후 미정질 유리의 헤이즈와 강도를 조절하기 어려우며, 유리의 화학적 안정성을 떨어뜨린다. 따라서 P2O5의 함량의 상한은 8%, 바람직하게는7%, 보다 바람직하게는 6%이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%의 P2O5를 포함할 수 있다.
본 발명에서 ZrO2와 P2O5는 서로 배합하여 결정입자를 세분화하고, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 헤이즈를 낮출 수 있으며, ZrO2는 유리의 망상 구조를 증대시키고, 미정질 유리의 화학적 강화를 유리하게 하며, 미정질 유리 제품의 이온 교환 층의 깊이를 증가시키고, 미정질 유리 제품의 낙하 충격 시험의 고도를 높일 수 있다. 따라서 ZrO2 함량의 하한은 5%, 바람직하게는 6%, 보다 바람직하게는 7%이다. 반면에 ZrO2를 너무 많이 함유하면 유리가 녹기 어렵다. 따라서 ZrO2 함량의 상한은 15%, 바람직하게는 12%이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 5%, 5.5%, 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%, 8.5%, 9%, 9.5%, 10%, 10.5%, 11%, 11.5%, 12%, 12.5%, 13%, 13.5%, 14%, 14.5%, 15%의 ZrO2가 함유될 수 있다.
일부 실시 방식에서 SiO2와 ZrO2의 함량 사이의 비율을 제어하여 SiO2/ ZrO2가 4.0~15.8 범위 내에서 미정질 유리 열처리(예: 열휘어짐) 후의 헤이즈와 |B|의 값을 더욱 최적화하여 열처리(예: 열휘어짐) 후 미정질 유리 제품의 헤이즈와 |B|의 값을 더욱 우월하게 할 수 있다. 따라서 SiO2/ ZrO2의 바람직한 범위는 4.0 ~ 15.8, 보다 바람직한 범위는 SiO2/ ZrO2 : 4.5 ~ 12.0이다. 일부 실시 방식에서, SiO2/ ZrO2를 5.0~9.5 범위 내에 있게 함으로써, 미정질 유리 제품의 이온 교환층 깊이를 증가시킬 수 있고, 미정질 유리 제품의 내충격성을 높일 수 있으므로, 보다 바람직한 범위는 SiO2/ ZrO2: 5.0~9.5, 더욱 바람직한 범위는 SiO2/ ZrO2: 6.0~9.0이다. 일부 실시 방식에서는 SiO2/ ZrO2의 값이 4.0, 4.5, 5.0, 5.5, 6.0, 6.5, 7.0, 7.5, 8.0, 8.5, 9.0, 9.5, 10.0, 10.5, 11.0, 11.5, 12.0, 12.5, 13.0, 13.5, 14.0, 14.5, 15.0, 15.5, 15.8일 수 있다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, P2O5와ZrO2의 총 함량 P2O5+ZrO2는 6~21% 범위에서 미정질 유리(핫 벤딩 후의 미정질 유리 함유)와 미정질 유리 제품의 헤이즈를 낮출 수 있다. 따라서, 바람직하게는 P2O5+ZrO2: 6~21%, 보다 바람직하게는 P2O5+ZrO2: 7~18%이다. 나아가 일부 실시 방식에서, P2O5+ZrO2: 8~16% 범위에 제어하여 미정질 유리 제품의 파괴 인성을 증가시킬 수도 있다. 따라서, 바람직하게는 P2O5+ZrO2: 8~16%, 보다 바람직하게는 P2O5+ZrO2: 10~16%이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, P2O5+ZrO2의 값이 6%, 6.5%, 7%, 7.5%, 8%, 8.5%, 9%, 9.5%, 10%, 10.5%, 11%, 11.5%, 12%, 12.5%, 13%, 13.5%, 14%, 14.5%, 15%, 15.5%, 16%, 16.5%, 17%, 17.5%, 18%, 18.5%, 19%, 19.5%, 20%, 20.5%, 21%일 수 있다.
본 발명의 일부 실시 방식에서는, Al2O3와 P2O5와 ZrO2의 합계 함량 P2O5+ZrO2사이의 비율 Al2O3/(P2O5+ZrO2)를 1.2 이하로 제어함으로써 미정질 유리 중 리튬 디실리케이트 결정상 함량을 높이고 미정질 유리의 낙하 시험 높이와 미정질 유리 제품의 낙하 시험 높이를 높일 수 있다. 따라서, 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):1.2 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):1.0 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):0.05~0.7이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, Al2O3/(P2O5+ZrO2):0.1~0.6 범위에 제어함으로써 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 헤이즈를 낮출 수 있으므로써, 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2):0.1~0.6이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, Al2O3/(P2O5+ZrO2)의 값은 0, 0.05, 0.1, 0.15, 0.2, 0.25, 0.3, 0.35, 0.4, 0.45, 0.5, 0.55, 0.6, 0.65, 0.7, 0.75, 0.8, 0.85, 0.9, 0.95, 1.0, 1.05, 1.1, 1.15, 1.2일 수 있다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, SiO2의 함량과 P2O5와 ZrO2의 합계 함량 P2O5+ ZrO2의 비율 SiO2/(P2O5+Zr O2)를 2.5~12.0 범위 내에서 제어함으로써 미정질 유리 중 규산리튬 결정상의 형성을 촉진하고 그 함량을 증가시킬 수 있으며 기타 결정상의 형성을 억제하여 미정질 유리의 열처리의 핫 벤딩성을 효과적으로 보장하고 미정질 유리의 핫 벤딩 성능을 향상시킬 수 있다. 따라서, SiO2/(P2O5+ZrO2)의 범위는2.5~12.0, 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2):3.0~10.0이다. 나아가 본 발명의 일부 실시 방식에서, SiO2/(P2O5+ZrO2)를 3.5~7.5 범위에 제어함으로써 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 결정도를 높이고, 미정질 유리 제품의 파단 후의 파편을 증대시킬 수 있다. 따라서 SiO2/(P2O5+ZrO2)는 3.5~7.5로 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2): 4.0~6.5. 본 발명의 일부 실시 방식에서, SiO2/(P2O5+ZrO2)의 값이 2.5, 3.0, 3.5, 4.0, 4.5, 5.0, 5.5, 6.0, 6.5, 7.0, 7.5, 8.0, 8.5, 9.0, 9.5, 10.0, 10.5, 11.0, 11.5, 12.0가 될 수 있다.
일부 실시 방식에서, Li2O와 ZrO2의 합계 함량 ZrO2+Li2O와 Al2O3의 함량 사이의 비율(ZrO2+Li2O)/Al2O3를 2.0 이상으로 하면, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 유전 상수를 증가시킬 수 있어 향후 적용에 유리하다. 따라서, (ZrO2+Li2O)/Al2O3 범위는 2.0 이상, 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5 이상, 보다 바람직하게는 ZrO2+Li2O)/Al2O3:2.5~30.0이다. 나아가 본 발명의 일부 실시 방식에서, (ZrO2+Li2O)/Al2O3를 3.0~20.0 범위에 두어 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 유전 손실을 줄일 수 있다. 따라서, 보다 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3:3.0~20.0이다.본 발명의 일부 실시 방식에서 (ZrO2+Li2O)/Al2O3의 값은 2.0, 2.5, 3.0, 3.5, 4.0, 4.5, 5.0, 5.5, 6.0, 6.5, 7.0, 7.5, 8.0, 8.5, 9.0, 9.5, 10.0, 10.5, 11.0, 11.5, 12.0, 12.5, 13.0, 13.5, 14.0, 14.5, 15.0, 15.5, 16.0, 16.5, 17.0, 17.5, 18.0, 18.5, 19.0, 19.5, 20.0, 20.5, 21.0, 21.5, 22.0, 22.5, 23.0, 23.5, 24.0, 24.5, 25.0, 25.5, 26.0, 26.5, 27.0, 27.5, 28.0, 28.5, 29.0, 29.5, 30.0, 31.0, 32.0, 33.0, 34.0, 35.0, 36.0, 37.0, 38.0, 39.0, 40.0, 41.0, 42.0, 43.0, 44.0, 45.0, 46.0, 47.0, 48.0, 49.0, 50.0, 51.0, 52.0, 53.0, 54.0, 55.0, 56.0, 57.0, 58.0, 59.0, 60.0일 수 있다.
본 발명의 일부 실시 방식에서 SiO2, Al2O3의 합계 함량 SiO2+Al2O3와 ZrO2 함량 사이의 비율 (SiO2+Al2O3)/ZrO2 : 4.0~16.0 범위 내로 하면 미정질 유리와 미정질 유리 제품이 적합한 표면 저항을 가지게 되어 향후 적용에 유리하다. 따라서, 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.0~16.0, 보다 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:4.5~12.0이다. 나아가 본 발명의 일부 실시 방식에서 (SiO2+Al2O3)/ZrO2를 5.0~10.0 범위 내에 제어함으로써 미정질 유리의 열처리(예를 들어 핫 벤딩) 후의 결정상 함량의 변화를 줄일 수 있으며, 열처리(예를 들어 핫 벤딩) 후의 미정질 유리 제품 크기를 제어하는데 유리하고, 후속 가공에 유리하다. 따라서, 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2는5.0~10.0, 보다 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2:6.0~9.5이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, (SiO2+Al2O3)/ZrO2의 값이 4.0, 4.5, 5.0, 5.5, 6.0, 6.5, 7.0, 7.5, 8.0, 8.5, 9.0, 9.5, 10.0, 10.5, 11.0, 11.5, 12.0, 12.5, 13.0, 13.5, 14.0, 14.5, 15.0, 15.5, 16.0일 수 있다.
발명가는 많은 실험 연구를 통해, Al2O3, Li2O, ZrO2와 P2O5가 복잡한 시너지효과를 낸다는 것을 발견하였다. 본 발명의 일부 실시방식에서, Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)를 0.4 이하로 제어함으로써 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 낙하 시험 높이를 높일 수 있으므로, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5): 0.4 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5): 0.3 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5): 0.25 이하이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)를 0.01~0.2의 범위에서 제어함으로써 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 헤이즈와 광 투과율을 최적화할 수 있다. 따라서, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5): 0.01~0.2, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5):0.01~0.1이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5) 값이 0, 함유하고 0 이상, 0.01, 0.02, 0.03, 0.04, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18, 0.19, 0.2, 0.21, 0.22, 0.23, 0.24, 0.25, 0.26, 0.27, 0.28, 0.29, 0.3, 0.31, 0.32, 0.33, 0.34, 0.35, 0.36, 0.37, 0.38, 0.39, 0.4일 수 있다.
본 발명의 일부 실시방식에서, Li2O, ZrO2의 합계 함량은 Li2O+ZrO2와 SiO2 함량 사이의 비율 (Li2O+ZrO2)/SiO2를 0.19~0.55 범위 내에 포함시킴으로써 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 경도와 낙하 충격 시험의 고도를 높일 수 있다. 따라서, 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.19~0.55, 보다 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2는0.2~0.5이다. 나아가 본 발명의 일부 실시 방식에서, (Li2O+ZrO2)/SiO2를 0.25~0.45 범위 내에 제어함으로써, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 |B| 값을 낮출 수 있다. 따라서, 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2는0.25~0.45, 보다 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2:0.25~0.4이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, (Li2O+ZrO2)/SiO2의 값이 0.19, 0.2, 0.21, 0.22, 0.23, 0.24, 0.25, 0.26, 0.27, 0.28, 0.29, 0.3, 0.31, 0.32, 0.33, 0.34, 0.35, 0.36, 0.37, 0.38, 0.39, 0.4, 0.41, 0.42, 0.43, 0.44, 0.45, 0.46, 0.47, 0.48, 0.49, 0.5, 0.51, 0.52, 0.53, 0.54, 0.55가 될 수 있다.
본 발명의 본 발명의 일부 실시 방식에서 Li2O, Al2O3의 합계 함량 Li2O+Al2O3와 ZrO2 함량 사이의 비율 (Li2O+Al2O3)/ZrO2가 0.8~5.0 범위 내에 제어함으로써, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 굽힘 강도를 높일 수 있다. 따라서, 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2:0.8~5.0, 보다 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ ZrO2:1.0~4.0, 더욱 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2를 1.2~3.0으로 제어함으로써, 미정질 유리의 화학 강화 성능을 더 최적화할 수 있고, 미정질 유리 제품의 이온 교환층 깊이와 표면 응력을 높일 수 있다. 따라서, 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2는1.2~3.0, 보다 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2:1.5~2.5이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, (Li2O+Al2O3)/ZrO2의 값이 0.8, 0.9, 1.0, 1.1, 1.2, 1.3, 1.4, 1.5, 1.6, 1.7, 1.8, 1.9, 2.0, 2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5, 2.6, 2.7, 2.8, 2.9, 3.0, 3.1, 3.2, 3.3, 3.4, 3.5, 3.6, 3.7, 3.8, 3.9, 4.0, 4.1, 4.2, 4.3, 4.4, 4.5, 4.6, 4.7, 4.8, 4.9, 5.0이 될 수 있다.
본 발명의 일부 실시방식에서, ZrO2의 함량을 ZrO2와 P2O5의 합계 함량인 ZrO2+P2O5의 비율인 Li2O/(ZrO2+P2O5)와 0.5~3.0 범위 내에서 제어함으로써, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 |B| 값과 결정입자의 크기를 낮출 수 있다. 따라서, 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.5~3.0, 보다 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.6~2.5이다. 나아가 Li2O/(ZrO2+P2O5)를 0.7~2.0 범위 내에 제어함으로써, 미정질 유리의 화학적 강화 성능을 최적화하고, 미정질 유리 제품의 이온 교환층 깊이와 끊어진 인성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.7~2.0, 보다 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5):0.8~1.5이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, Li2O/(ZrO2+P2O5)의 값이 0.5, 0.55, 0.6, 0.65, 0.7, 0.75, 0.8, 0.85, 0.9, 0.95, 1.0, 1.05, 1.1, 1.15, 1.2, 1.25, 1.3, 1.35, 1.4, 1.45, 1.5, 1.55, 1.6, 1.65, 1.7, 1.75, 1.8, 1.85, 1.9, 1.95, 2.0, 2.05, 2.1, 2.15, 2.2, 2.25, 2.3, 2.35, 2.4, 2.45, 2.5, 2.55, 2.6, 2.65, 2.7, 2.75, 2.8, 2.85, 2.9, 2.95, 3.0일 수 있다.
ZnO는 유리의 제련 난이도를 낮출 수 있으며 함량이 과다할 경우 유리의 저온분상을 촉진할 수 있으며 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 결정도를 낮출 수 있다. 본 발명은 ZnO 함량의 상한은 3%, 바람직하게는 2%, 보다 바람직하게는 1%, 더욱 바람직하게는 ZnO를 함유하지 않는다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0%, 함유하고 0% 이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3%의 ZnO가 함유될 수 있다.
MgO는 유리의 제련난이도를 낮출 수 있고, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 낙하충구실험고도를 증가시키는데 유리하지만, MgO는 유리의 저온미정질을 쉽게 촉진하고, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 결정도와 광 투과율을 낮출 수 있다. 따라서, MgO 함량 상한은 3%, 바람직하게는 2%, 보다 바람직하게는 1%, 더욱 바람직하게는 MgO를 함유하지 않는다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0%, 함유하고 0% 이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3%의 MgO가 함유될 수 있다.
본 발명의 일부 실시방식에서 MgO와 ZnO의 합계 함량 MgO+ZnO와 ZrO2 함량의 비율 (MgO+ZnO)/ ZrO2를 0.65 이하로 제어함으로써 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 경도, 휨강도와 파괴 인성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2:0.65 이하, 보다 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2:0.4 이하, 더욱 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2:0.2 이하, 가장 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2:0.1 이하이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, (MgO+ZnO)/ZrO2 값이 0, 함유하고 0 이상, 0.01, 0.02, 0.03, 0.04, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08, 0.09, 0.1, 0.11, 0.12, 0.13, 0.14, 0.15, 0.16, 0.17, 0.18, 0.19, 0.2, 0.23, 0.25, 0.27, 0.3, 0.33, 0.35, 0.37, 0.4, 0.43, 0.45, 0.47, 0.5, 0.53, 0.55, 0.57, 0.6, 0.63, 0.65일 수 있다.
SrO는 유리의 저온 융해성을 높이고 유리 성형 시 정출을 억제하는 임의의 구성 요소이지만 함량이 너무 많으면 유리 성형에 불리하다. 따라서, 본 발명에서 SrO함량의 범위는 0~5%, 바람직하게는0~2%, 보다 바람직하게는 0~1%, 더욱 바람직하게는 SrO를 함유하지 않는다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0%를, 함유하고 0% 이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.5%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%의SrO를 함유한다.
BaO는 유리의 성형 성능을 높이는 데 도움이 되는 임의의 구성 요소로, 함량이 너무 많으면 유리가 성형되지 않는다. 따라서, 본 발명의 BaO 함량의 범위는 0~5%, 바람직하게는 0~2%, 보다 바람직하게는 0~1%, 더욱 바람직하게는 BaO를 함유하지 않는다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0%를, 함유하고 0% 이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.5%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%의 BaO를 함유한다.
CaO는 유리의 경도를 증가시킬 수 있는데, 함량이 너무 많으면 유리를 성형할 때 쉽게 무르게 된다. 따라서 본 발명의 CaO 함량 범위는 0~5%, 바람직하게는 0~2%, 보다 바람직하게는 0~1%, 더욱 바람직하게는 CaO를 함유하지 않는다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0%를, 함유하고 0% 이상, 0.01%, 0.05%, 0.1%, 0.5%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%의 CaO를 함유한다.
TiO2는 유리의 용융 온도를 낮추고 화학적 안정성을 높이는 데 도움이 되는 선택적 성분이다. 본 발명은 유리의 미정질 과정을 쉽게 제어할 수 있도록 5% 이하의TiO2를 함유하고 있으며, 바람직하게는 2% 이하의 TiO2 함량, 보다 바람직하게는 1% 이하이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 바람직하게는 TiO2를 함유하지 않는다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0%를, 함유하고 0% 이상, 0.05%, 0.1%, 0.5%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%의 TiO2를 포함할 수 있다.
B2O3는 유리의 망상 구조를 개선하고 미정질 유리의 화학적 강화 성능을 조정할 수 있다. 다만 그 함량이 5%를 초과하면 유리성형에 불리하며 성형시 쉽게 석출(晶出)하기 때문에 B2O3 함량의 상한을 5%로 하고, 바람직하게는 3%, 보다 바람직하게는 2%, 더욱 바람직하게는 B2O3를 함유하지 않는다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0%를, 함유하고 0% 이상, 0.05%, 0.1%, 0.5%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%의 B2O3를 포함할 수 있다.
Y2O3는 ZrO2의 용융을 촉진하고, 유리의 제련 난이도를 낮출 수 있으나, 그 함량이 과다하면 유리 결정화 시 결정 형성 곤란, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 결정도 저하, 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 낙하 시험 높이 저하를 초래할 수 있다. 따라서, Y2O3 함량의 상한은 6%로, 바람직하게는 4%, 보다 바람직하게는 2%이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0%를, 함유하고 0% 이상, 0.05%, 0.1%, 0.5%, 1%, 1.5%, 2%, 2.5%, 3%, 3.5%, 4%, 4.5%, 5%, 5.5%, 6%의 Y2O3를 함유한다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, Sb2O3, SnO2, SnO, CeO2, F(불소), Cl(염소), Br(브롬) 중 하나 이상을 함유하되 이에 국한되지 않는 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 거품 제거 능력을 향상시키기 위한 0~2%의 청징제를 일부 실시 방식에서 함유할 수 있으며, Sb2O3를 청징제로 선택한다. 상기 청징제가 단독 또는 조합으로 존재할 경우, 함량의 상한은 1%, 바람직하게는 0.5%이다. 일부 실시 방식에서, 상기 청징제 중 하나 또는 그 이상의 함량은 약 0%를, 함유하고 0% 이상, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2%을 함유한다.
본 발명 유리, 미정질 유리, 미정질 유리 제품의 성능에 영향을 주지 않으면서 La2O3, Gd2O3, Yb2O3, Nb2O5, WO3, Bi2O3, Ta2O5, TeO2, GeO2 등과 같이 위에서 언급하지 않은 기타 성분을 적절히 첨가할 수 있으나, 본 발명 신청 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 우수한 성능을 유지하기 위하여, 바람직하게는 La2O3, Gd2O3, Yb2O3, Nb2O5, WO3, Bi2O3, Ta2O5, TeO2, GeO2의 각각의 함량 또는 합계 함량은 5% 이하, 보다 바람직하게는 2% 이하, 더욱 바람직하게는 1% 이하, 가장 바람직하게는 함유하지 않는다.
PbO와As2O3는 독성 물질이며, 소량의 함유 조차도 환경 보호에 적합하지 않으므로, 본 발명은 일부 실시 방식 중에서 PbO와 As2O3를 함유하지 않는 것을 선호한다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 착색제를 함유함으로써 색상이 있는 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품을 제조할 수 있으며, 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품이 서로 다른 색을 나타낼 수 있다. 착색제는 NiO：0~4%; 및/또는 Ni2O3：0~4%; 및/또는 CoO：0~2%; 및/또는 Co2O3：0~2%; 및/또는 Fe2O3：0~7%; 및/또는 MnO2：0~4%; 및/또는 Er2O3：0~8%; 및/또는 Nd2O3：0~8%; 및/또는 Cu2O：0~4%; 및/또는 Pr2O5：0~8%; 및/또는 CeO2 ：0~4%를 함유하고 있다. 그 착색제 중량 백분율 함량과 작용을 서술하면 다음과 같다.
NiO, Ni2O3 또는 Pr2O5를 착색제로 사용하여 본 발명으로 제조된 갈색 또는 녹색 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품. NiO와 Ni2O3는 착색제로, 갈색 또는 녹색 매트릭스 유리, 미정질 유리, 또는 미정질 유리 제품을 제조하는데 사용되며, 두 가지 성분은 단독으로 사용하거나 혼합하여 사용할 수 있으며, 그 함량은 통상적으로 4% 이하로, 바람직하게는 3% 이하. 만약 함량이 4%를 초과하면 착색제가 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중에 잘 용해되지 않으므로, 그 함량의 하한은 0.1% 이상으로, 함량이 0.1%보다 낮으면 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 색상이 뚜렷하지 않다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1.0%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2.0%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3.0%, 3.1%, 3.2%, 3.3%, 3.4%, 3.5%, 3.6%, 3.7%, 3.8%, 3.9%, 4.0%의 NiO 또는 Ni2O3가 함유될 수 있다. 혼합 사용시 NiO와 Ni2O3 합계량은 통상적으로 4% 이하로, 합계량 하한은 0.1% 이상이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서는 약 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1.0%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2.0%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3.0%, 3.1%, 3.2%, 3.3%, 3.4%, 3.5%, 3.6%, 3.7%, 3.8%, 3.9%, 4.0%의 NiO 또는 Ni2O3가 함유될 수 있다. 개별 사용시 Pr2O5를 녹색 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 착색제로 사용하며, 보통 함량은 8% 이하, 바람직하게는 6% 이하이다. 그 함량의 하한이 0.4% 이상으로, 0.4%보다 낮으면 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 색상이 뚜렷하지 않다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0.4%, 0.6%, 0.8%, 1.0%, 1.2%, 1.4%, 1.6%, 1.8%, 2.0%, 2.2%, 2.4%, 2.6%, 2.8%, 3.0%, 3.2%, 3.4%, 3.6%, 3.8%, 4.0%, 4.2%, 4.4%, 4.6%, 4.8%, 5.0%, 5.2%, 5.4%, 5.6%, 5.8%, 6.0%, 6.2%, 6.4%, 6.6%, 6.8%, 7.0%, 7.2%, 7.4%, 7.6%, 7.8%, 8.0%의 Pr2O5가 함유될 수 있다.
본 발명으로 제조된 파란색 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은, CoO 또는 Co2O3를 착색제로 사용해서, 두 개의 착색제 성분을 개별적으로 사용하거나 혼합해서 사용할 수 있는데, 그 함량은 통상 2% 이하로, 바람직하게는 1.8% 이하이다. 함량이 2%를 초과하면 착색제가 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품에 잘 녹지 않으므로 그 함량의 하한은 0.05% 이상으로 한다. 0.05%보다 낮으면 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 색상이 뚜렷하지 않다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, CoO 또는 Co2O3의 약 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1.0%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2.0%를 포함할 수 있다. 혼합 사용시, CoO와 Co2O3 합계량은 2%를 초과하지 않으며 합계량 하한은 0.05% 이상이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, CoO와Co2O3의 약 0.05%, 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1.0%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2.0%를 포함할 수 있다.
본 발명으로 제조된 황색 매트릭스 유리, 미정질 유리, 미정질 유리 제품은, Cu2O 또는 CeO2를 착색제로 사용하는데, 두 착색제 성분을 단독으로 사용하거나 혼합하여 사용하고, 각각 함량 하한이 0.5% 이상으로 0.5%보다 낮으면, 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 색상이 뚜렷하지 않고, 단독으로 Cu2O를 사용하면 4% 이하, 바람직하게는 3% 이하, 함량이 4%를 초과하면, 매트릭스 유리가 쉽게 정출할 수 있다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1.0%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2.0%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3.0%, 3.1%, 3.2%, 3.3%, 3.4%, 3.5%, 3.6%, 3.7%, 3.8%, 3.9%, 4.0%의 Cu2O가 함유될 수 있다. CeO2를 단독으로 사용하면 통상적으로 4% 이하로, 바람직하게는 3% 이하, 4%를 초과하면 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 광택이 좋지 않다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1.0%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2.0%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3.0%, 3.1%, 3.2%, 3.3%, 3.4%, 3.5%, 3.6%, 3.7%, 3.8%, 3.9%, 4.0%의 CeO2를 포함할 수 있다. 또한 소량의 CeO2를 유리에 첨가하면 거품을 제거하는 효과가 있다. CeO2는 유리에 첨가할 때 함유량은 2% 이하, 바람직하게는 1% 이하, 보다 바람직하게는 0.5% 이하이다. 만약 두 착색제를 혼합하여 사용한다면, 그 합계량은 통상 4% 이하이고 합계량 하한은 0.5% 이상이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1.0%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2.0%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3.0%, 3.1%, 3.2%, 3.3%, 3.4%, 3.5%, 3.6%, 3.7%, 3.8%, 3.9%, 4.0% CeO2와 Cu2O를 포함할 수 있다.
본 발명으로 제조된 흑색 또는 스모키그레이 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은 Fe2O3를 단독으로 착색제로 사용한다. 또는 Fe2O3와 CoO 두 가지를 혼합하여 사용하는 착색제를 사용하기도 한다. 또는 Fe2O3와 Co2O3 두 가지를 혼합하여 사용하는 착색제를 사용하기도 한다. 또는 Fe2O3, CoO, NiO의 혼합된 착색제를 사용한다. 또는 Fe2O3, Co2O3, NiO의 세 가지 착색제를 섞어서 사용하기도 한다. 흑색과 스모키그레이 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품을 제조하는 착색제는 주로 Fe2O3를 사용하여 착색되며 함량은 7% 이하로, 바람직하게는 5% 이하, 함량 하한은 0.2% 이상이며, 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1.0%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2.0%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3.0%, 3.1%, 3.2%, 3.3%, 3.4%, 3.5%, 3.6%, 3.7%, 3.8%, 3.9%, 4.0%, 4.5%, 5.0%, 5.5%, 6.0%, 6.5%, 7.0%의 Fe2O3, CoO와 Co2O3는 가시광선을 흡수하여 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 착색을 깊게 할 수 있는 정도이며, 통상 Fe2O3와 혼용할 때 각각의 함량은 0.6% 이하로, 하한은 0.2% 이상이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, CoO 및/또는 Co2O3의 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%를 포함할 수 있다. NiO는 가시광선을 흡수하여 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 착색을 깊게 할 수 있는 정도로 통상적으로 혼합하여 사용할 경우 그 함량은 1% 이하, 합계량 하한은 0.2% 이상이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1.0%의 NiO가 함유될 수 있다.
본 발명으로 제조된 자주색 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은 MnO2를 착색제로 사용하며 사용 함량은 통상적으로 4% 이하이고, 3% 이하, 선호하며 그 함량의 하한은 0.1% 이상이며 0.1% 이하일 경우 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 색상이 뚜렷하지 않다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0.1%, 0.2%, 0.3%, 0.4%, 0.5%, 0.6%, 0.7%, 0.8%, 0.9%, 1.0%, 1.1%, 1.2%, 1.3%, 1.4%, 1.5%, 1.6%, 1.7%, 1.8%, 1.9%, 2.0%, 2.1%, 2.2%, 2.3%, 2.4%, 2.5%, 2.6%, 2.7%, 2.8%, 2.9%, 3.0%, 3.1%, 3.2%, 3.3%, 3.4%, 3.5%, 3.6%, 3.7%, 3.8%, 3.9%, 4.0%의 MnO2가 함유될 수 있다.
본 발명으로 제조된 흑색 또는 스모키그레이 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은 Er2O3를 착색제로 사용하며, 사용 함량은 통상적으로 8% 이하로, 6% 이하. 희토류 원소인 Er2O3의 착색 효율이 낮기 때문에, 사용 함량이 8%를 초과할 경우, 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 색상이 더욱 짙어지게 할 수 없고, 오히려 비용이 증가한다. 그 함량 하한은 0.4% 이상이다. 0.4% 미만일 경우, 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 색상이 뚜렷하지 않다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0.4%, 0.6%, 0.8%, 1.0%, 1.2%, 1.4%, 1.6%, 1.8%, 2.0%, 2.2%, 2.4%, 2.6%, 2.8%, 3.0%, 3.2%, 3.4%, 3.6%, 3.8%, 4.0%, 4.2%, 4.4%, 4.6%, 4.8%, 5.0%, 5.2%, 5.4%, 5.6%, 5.8%, 6.0%, 6.2%, 6.4%, 6.6%, 6.8%, 7.0%, 7.2%, 7.4%, 7.6%, 7.8%, 8.0%의 Er2O3가 함유될 수 있다.
본 발명으로 제조된 자홍색 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은 Nd2O3를 착색제로 사용하며, 사용 함량은 통상적으로 8% 이하이고, 바람직하게는 6% 이하이며; 희토류 원소 Nd2O3의 착색 효율이 낮기 때문에 사용 함량이 8%를 초과하면 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 색상을 더 깊게 할 수 없고 오히려 비용을 증가시킨다. 따라서 그 함량 하한은 0.4% 이상이다. 그러나 그 함량이 0.4% 미만이면 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 색이 뚜렷하지 않다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 약 0.4%, 0.6%, 0.8%, 1.0%, 1.2%, 1.4%, 1.6%, 1.8%, 2.0%, 2.2%, 2.4%, 2.6%, 2.8%, 3.0%, 3.2%, 3.4%, 3.6%, 3.8%, 4.0%, 4.2%, 4.4%, 4.6%, 4.8%, 5.0%, 5.2%, 5.4%, 5.6%, 5.8%, 6.0%, 6.2%, 6.4%, 6.6%, 6.8%, 7.0%, 7.2%, 7.4%, 7.6%, 7.8%, 8.0%의 Nd2O3를 포함할 수 있다.
본 발명으로 제조된 적색 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은, Er2O3, Nd2O3와 MnO2를 혼합해서 사용하고, 유리의 Er 이온은 400-500nm에서 흡수되고, Mn 이온은 주로 500nm에서 흡수되고, Nd이온은 주로 580nm에서 흡수가 강하며, 세가지 물질의 혼합으로 적색 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품을 제조할 수 있다. Er2O3와 Er2O3, Nd2O3는 희토류로 착색되기 때문에 착색 능력이 비교적 약하다. Er2O3 사용량은 6% 이내, Nd2O3 사용량은 4% 이내, MnO2는 착색이 강하고 사용량은 2% 범위 이내로 하고, 혼합 착색제 합계량 하한은 0.9% 이상으로 한다.
본 문에서 "불포함"," 0%"란 해당 화합물, 분자 또는 원소 등을 본 발명의 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품에 고의로 원료로 첨가하지 않은 것을 말한다. 그러나 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품을 생산하는 원재료 및/또는 설비에 의도적으로 첨가되지 않은 일부 불순물 또는 성분이 최종 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품에 소량 또는 미량 함유될 수 있는 경우도 본 발명 특허의 보호 범위 내에 있다.
본 발명의 일부 실시 방식에서 미정질 유리와 미정질 유리 제품 중 리튬 모노실리케이트를 함유하고 있어, 강도를 제공하고,파괴 인성이 높아진다. 미정질 유리와 미정질 유리 제품의 낙하 시험은 높이와 4점 굽힘 강도가 높아진다. 본 발명중의 미정질 유리는 화학적 강화 성능이 뛰어나며, 또한 화학적 강화 공정을 통해 우수한 기계적 강도를 얻을 수 있다. 합리적인 구성 요소 설계를 통해, 본 발명의 미정질 유리 제품에 알맞은 결정 입자 크기를 얻을 수 있고, 본 발명 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서와 미정질 유리 제품이 높은 강도를 가질 수 있다. 본 발명에서 기술한 미정질 유리와 미정질 유리 제품은 양호한 결정도를 가지고 있어 우수한 기계적 성능을 가지게 된다. 본문에서 일컫는 결정도는 결정의 완전한 정도를 가리키며, 결정이 완전한 결정 내부 질점의 배열이 비교적 규칙적이며 회절선이 강하고 날카롭고 대칭적이며 회절봉의 반 높이가 측정기의 측정한 폭에 가깝다. 결정도가 나쁜 결정상에는 자리틀림 같은 결함이 있어서 회절선을 봉긋하게 넓고 흩어지게 한다. 결정도가 나쁠수록 회절 능력은 약해지고 회절 피크(diffraction peak)는 배경에서 사라질 때까지 넓어진다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 제품이나 미정질 유리의 결정도가 50% 이상, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상이다.
본 발명의 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품 중 결정 입자 크기와 종류는 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 헤이즈와 투과율에 영향을 미치며, 결정입자가 작을수록 투과율이 높다. 헤이즈가 작을수록 투과율이 높아진다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 1mm 이하 두께의 미정질 유리 제품이나 미정질 유리의 헤이즈는 0.2% 이하, 바람직하게는0.18% 이하, 보다 바람직하게는 0.15% 이하이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 제품이나 미정질 유리의 결정입자의 크기가 80nm 이하, 바람직하게는 50nm 이하, 보다 바람직하게는 30nm 이하이다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 결정상 함량과 굴절률은 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 |B|의 값에 영향을 주며, 가시광선 범위에서 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품이 파란색 또는 노란색으로 나타나는 것을 관찰하면 제품의 광학성능에 영향을 주며, LAB(물질색의 색도값)에서 |B|의 값으로 표시한다. 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은 가시광선 범위에서 낮은 |B|의 값을 나타내며, 일부 실시 방식에서는 1mm 이하의 두께 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서 제품 또는 미정질 유리 400~800nm의 평균 |B|의 값은 0.9 이하이며, 바람직하게는 0.8 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은 가시광선 범위에서 높은 투명도를 나타낸다(즉, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은 투명하다). 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은 가시광선 범위에서 높은 투과율을 나타내는데, 일부 실시방식에서는 1mm 이하의 두께 중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서 제품 또는 미정질 유리 400~800nm의 평균 광 투과율은 바람직하게는 87% 이상이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 1mm 이하 두께의 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품의 550nm의 광 투과율은 바람직하게는 88% 이상이다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 항미생물 성분을 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품에 첨가할 수 있다. 본문에서 서술한 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품은 주방이나 음식 작업대 등의 응용에 사용될 수 있으며, 그 중에는 유해한 세균에 노출될 가능성이 높다. 매트릭스 유리, 미정질 유리 또는 미정질 유리 제품에 함유된 항미생물 성분은 Ag, AgO, Cu, CuO, Cu2O 등을 포함하나 제한하지 않는다. 일부 실시 방식에서는 상술한 항미생물 성분의 단독 또는 조합 함량이 2% 이하, 바람직하게는 1% 이하이다.
본 발명의 매트릭스 유리, 미정질 유리 및 미정질 유리 제품은 다음과 같은 방법으로 생산 및 제조할 수 있다.
매트릭스 유리 생성: 조성 비율에 따라 원료를 균일하게 혼합하고 균일한 혼합물을 백금이나 석영제의 도가니에 넣는다. 유리로 구성된 용융 난이도에 따라 전기로나 가스로에서 1250~1650℃의 온도 범위에서 5~24시간 진행한다. 용융하고 균일하게 교반한 후, 적절한 온도로 낮추고 금형에 부어 천천히 냉각시킨다.
본 발명의 매트릭스 유리는 공지된 방법으로 성형할 수 있다.
본 발명의 매트릭스 유리는 성형 후 또는 성형 가공 후 결정화 공정을 통해 결정화 처리를 수행하여, 유리 내부에 결정을 균일하게 석출한다. 결정화 처리는 1개 단계 또는 2개 단계로 수행할 수 있지만, 결정화 처리는 2개 단계로 수행하는 것이 바람직하다. 제1 온도에서 핵 형성 공정을 수행한 후, 핵 형성 공정 온도보다 높은 제2 온도에서 결정 성장 공정을 수행한다. 제1 온도에서 수행된 결정화 처리를 제1 결정화 처리라고 하고, 제2 온도에서 수행된 결정화 처리를 제2 결정화 처리라고 한다.
미정질 유리가 원하는 물리적 성질을 얻을 수 있도록 바람직한 결정화 공정은 다음과 같다:
전술한 1개 단계를 통해 결정화 처리를 수행하여, 핵 형성 과정과 결정 성장 과정을 연속적으로 수행할 수 있다. 즉, 온도를 소정의 결정화 처리 온도로 상승시키고, 열처리 온도에 도달한 후, 그 온도를 일정 시간 동안 유지한 후, 온도를 하강시킨다. 결정화 처리의 온도는 바람직하게는 580~750℃이고, 원하는 결정상을 석출시키기 위해서는 600~700℃가 보다 바람직하며, 결정화 처리 온도에서의 유지 시간은 바람직하게 0~8시간이고, 보다 바람직하게는 1~6시간이다.
전술한 2개 단계를 통해 결정화 처리를 수행하는 경우, 제1 온도는 바람직하게는 470~580℃이고, 제2 온도는 바람직하게는 600~750℃이다. 제1 온도에서의 유지 시간은 바람직하게는 0~24시간, 보다 바람직하게는 2~15시간이다. 제2 온도에서의 유지 시간은 바람직하게는 0~10시간, 보다 바람직하게는 0.5~6시간이다.
전술한 유지 시간 0시간이라는 것은, 그 온도에 도달한 후 1분 이내에 온도가 떨어지거나 증가하는 것을 의미한다.
일부 실시 방식에서, 다양한 공정을 통해 본 명세서에 기재된 매트릭스 유리 또는 미정질 유리를 성형체로 제조할 수 있으며, 성형체는 시트를 포함하지만 이에 제한되지는 않는다. 상기 공정은 슬릿 드로잉 방법, 플로트 방법, 롤 프레싱 방법 및 본 기술 영역에 공지된 다른 시트 형성 공정을 포함하지만 이에 제한되지 않는다. 또는, 본 기술 영역에 공지된 플로트 방법 또는 롤 프레싱 방법에 의해 매트릭스 유리 또는 미정질 유리를 형성할 수 있다.
본 발명에서 말하는 성형체에는 또한 렌즈, 프리즘 등도 포함된다.
본 발명의 매트릭스 유리 또는 미정질 유리는 연삭 또는 연마와 같은 방법으로 시트의 유리 성형체를 제조하는데 사용될 수 있지만, 유리 성형체의 제조 방법은 이들 방법에 한정되지 않는다.
본 발명의 매트릭스 유리 또는 미정질 유리는 일정한 온도에서 핫 벤딩 또는 압착 방법에 의해 다양한 형상으로 제조될 수 있으며, 이들 방법에 한정되지 않는다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 핫 벤딩 공법을 사용하여 유리 성형체나 미정질 유리 성형체를 만들 수 있다. 서술한 핫 벤딩 공정은 2D나 2.5D 유리 또는 미정질 유리를 금형에 배치하고 핫 벤딩 기계에서 순차적으로 승온 예열, 프레스 성형, 보압 냉온 등 단계를 함유하여 3D 커브의 유리 성형체 또는 미정질 유리 성형체를 만드는 과정이다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 성형체는 2.5D 또는 3D 구조를 가지고 있는데, 즉 미정질 유리 성형체는 비평면 구조를 가지고 있다. 본 문에서 서술하는 "비평면 구조"란 2.5D 또는 3D 형상에서 미정질 유리 성형체의 최소 일부분이 바깥쪽으로 연장되거나 2D 매트릭스 유리의 오리지널, 배치로 한정된 평면과의 사이각을 따라 연장하는 것을 말한다. 매트릭스 유리로 된 2.5D 또는 3D 미정질 유리 성형체는 하나 이상의 돌기 또는 커브 부분을 가질 수 있다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 중의 결정상의 성장과 결정상의 전환 등의 특성을 결합하여, 미정질 유리 성형체의 제조 방법은 핫 벤딩 공정 방법이다. 구체적으로 말하자면, 서술된 방법에는 사전 결정화와 열가공 성형이 포함된다. 본 발명에서 말하는 사전 결정화는 매트릭스 유리(즉, 미정질 전의 유리)를 제어하여 결정화 공정을 통해 사전 결정화된 유리를 형성하는 것으로, 사전 결정화된 유리의 결정도가 목표 미정질 유리 성형체의 성능 지표에 필요한 결정도에 도달하지 못한 것이다. 사전 결정화된 유리는 다시 열가공 성형공정을 통해 미정질 유리 성형체를 형성한다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 성형체의 제조 방법에는 다음과 같은 단계가 포함된다:
1) 매트릭스 유리를 가열, 보온 핵 형성, 승온, 보온 결정화, 실온 냉각을 거친 1차 결정화 열처리 과정으로 사전 결정화된 유리를 형성한다.
2) 사전 결정화된 유리를 열가공 성형하여 미정질 유리 성형체를 얻는다.
본 발명에서 기술한 결정화 열처리 과정은 매트릭스 유리를 일정 온도 Th와 시간 th에서 핵 형성하고, 다시 일정 온도 Tc와 시간 tc에서 결정화하여 얻은 사전 결정화된 유리의 결정도가 목표 미정질 유리 성형체의 성능 지표에 필요한 결정도에 도달하지 못하는 것을 함유한다. Rietveld Full 스펙트럼 적합 정수법을 통해 XRD 테스트 데이터를 적용하여 사전 결정화된 유리의 결정도 중 주요 결정상의 총 함량을 Ic1로 계산했다. 본 발명의 사전 결정화는 공정 과정상 하나의 완전한 과정으로, 핵 형성 공정의 한 단계, 결정화 공정의 한 단계, 두 단계 또는 세 단계 이상의 등등을 함유하며, 온도, 보온, 다시 온도, 보온... 그리고 다시 공정에 따라 실온으로 떨어지는 완전한 과정이다. 일부 문헌이나 특허에서 언급하는 1차 결정화, 2차 결정화...와 달리, 본 발명은 사실상 완전한 결정화 공정 중 제1 결정화 처리, 제2 결정화 처리......, 그 사이가 연속적인 것일 뿐, 실온으로 떨어졌다가 다시 승온 결정화하는 과정은 나타나지 않는다.
본 발명의 열가공 성형은, 일정한 온도, 시간, 압력 등의 조건에서, 서술한 사전 결정화된 유리에 대하여 열가공 공정 성형 처리를 거치고, 서술한 열가공 성형에는 1차 이상의 열가공 공정이 함유되며, 서술한 열가공 공정에는 일정한 온도, 시간, 압력 등 조건에서 사전 결정화된 유리를 압제 성형, 굽힘 성형 또는 인출 성형을 함유하나 이에 국한되지는 않는다. 열가공 성형 과정 중에, 때로는 형상이 복잡한 성형체를 한 번의 열가공으로 완성할 수 없으며, 아마도 두 번 이상의 여러 번의 열가공을 해야만 실현할 수 있다.
본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 성형체의 제조 방법은 핫 벤딩 공정 방법이다. 구체적으로, 본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 성형체의 제조 방법에는 다음과 같은 단계가 포함된다:
1) 승온 예열: 매트릭스 유리 또는 선정제화 유리 또는 미정질 유리를 금형에 배치하고, 금형은 핫 벤딩머신에서 순차적으로 각 가열 챔버를 통과하고, 각 챔버에 일정한 시간 동안 머물며 보온한다. 예열 영역의 온도는 400~800℃, 압력은 0.01~0.05MPa, 시간은 40~200s이다. 본 발명의 일부 실시 방식에서, 5개 예열 챔버의 핫 벤딩머신의 경우, 통상적으로 초기 온도는 500℃ 정도로 안정적으로 설정하고, 후속 챔버는 점차 온도를 높이며, 인접한 두 챔버 간의 온도 구배는 저온에서 고온으로 점차 줄어들고, 마지막 예열 챔버와 프레스 첫 번째 챔버의 온도 차는 20℃ 범위 내에 있으면 된다.
2) 프레스 성형: 금형은 예열을 거친 후 성형 챔버로 이송하고, 열절곡기는 금형에 일정한 압력을 가하며, 압력 범위는 0.1~0.8Mpa이고, 압력 크기는 유리 두께, 라디안(radian) 등 요소에 따라 확정하며, 성형 챔버 온도 범위는 650~850℃, 성형 시간 범위는 40~200s이다.
3) 보압 냉각: 금형을 냉각 챔버로 옮겨 챔버별로 냉각을 한다. 냉각 온도 범위 750~500℃, 압력 0.01~0.05Mpa, 시간 40~200s로 조절한다.
미정질 유리 성형체는 알루미늄 유리와 같은 외관 품질을 조절해야 하는 것 외에, 또한 핫 벤딩 과정에서 결정의 성장과 발육이 미정질 유리 성능에 미치는 영향을 제어해야 하는데, 디스플레이 장비나 전자장비 케이스에 사용되는 3D 커버 글라스는 핫 벤딩 후 광 투과율, 헤이즈, |B| 값 및 그 균일성 등을 주의 깊게 관찰해야 한다.
일부 실시 방식에서, 사전 결정화된 유리의 주요 결정상은 리튬 모노실리케이트, 및/또는 리튬 디실리케이트, 및/또는 인산리튬, 및/또는 석영 고용체 및/또는 페타라이트를 함유하고 있으며, 결정 함량 범위는 20~60%, 그 중 페타라이트 함량은 0~18%이다. 핫 벤딩 공정을 통하여 성형한 후 형성된 미정질 유리 성형체의 주결정은 리튬 디실리케이트, 또는 리튬 디실리케이트와 페타라이트를 함유하고 있으며, 결정 함량 범위는 40~70%이며, 그 중 페타라이트 함량은 0~18%이다.
일부 실시 방식에서, 사전 결정화된 유리의 주요 결정상은 리튬 모노실리케이트, 및/또는 리튬 디실리케이트, 및/또는 인산리튬, 및/또는 석영 고용체 및/또는 페타라이트를 함유하고 있으며, 결정 함량 범위는 20~60%, 그 중 페타라이트 함량은 0~18%이다. 핫 벤딩 공정에 의해 형성된 미정질 유리 성형체의 주요 결정은 리튬 모노실리케이트 및/또는 리튬 디실리케이트를 함유하고 있으며, 결정 함량 범위는 40~70%이다.
핫 벤딩 전후의 결정상 변화량에 따라 미정질 유리 성형체의 크기 균일성, 양산 가능성 및 원가 관리 등이 결정되며, 본 발명의 매트릭스 유리와 미정질 유리는 핫 벤딩 성능이 뛰어나며, 핫 벤딩 후 결정상 함량의 변화량이 20% 이하, 바람직하게는 15% 이하, 보다 바람직하게는 10% 이하, 핫 벤딩후 얻어지는 미정질 유리 성형체의 헤이즈와 |B|의 값 등의 균일성을 보장할 수 있다.
본 발명에 기술한 매트릭스 유리, 미정질 유리 및 미정질 유리 제품은 합리적이고 유용한 임의의 두께를 가질 수 있다.
본 발명의 미정질 유리 제품은 결정의 석출을 통해 기계적 특성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 압축 응력층을 형성하여 더욱 우수한 기계적 성능을 얻을 수 있어 미정질 유리 제품을 제조할 수 있다.
일부 실시 방식에서, 매트릭스 유리 또는 미정질 유리를 가공하여 시트 및/또는 조형(예: 펀칭, 핫 벤딩 등), 성형 후 연마 및/또는 광학적 스캐닝된 다음, 화학적 강화 공정을 통해 화학적 강화가 수행될 수 있다.
본 발명에서 설명하는 화학적 강화는 이온 교환 방법이다. 본 발명의 유리 및 미정질 유리는 본 기술 영역에 공지된 방법에 의해 이온 교환이 될 수 있다. 이온 교환 과정에서, 유리 또는 미정질 유리 중의 작은 금속 이온은 유리 또는 미정질 유리에 가까운 동일한 원자가의 더 큰 금속 이온으로 대체되거나 "교환"된다. 더 작은 이온을 더 큰 이온으로 대체하여 유리 또는 미정질 유리에 압축 응력을 형성하여 압축 응력 층을 형성한다 이온 교환
일부 실시 방식에서, 금속 이온은 1가 알칼리 금속 이온(예를 들어, Na+, K+, Rb+, Cs+ 등)이고, 이온 교환은 유리 또는 미정질 유리를 더 큰 금속 이온을 함유한 적어도 하나의 용융된 염의 염욕에 침지시킴으로써 수행되며,더 큰 금속 이온은 유리 중의 작은 금속 이온을 대체하는데 사용된다. 또는, Ag+, Tl+, Cu+ 등과 같은 다른 1가 금속 이온도 1가 이온을 교환하는데 사용될 수 있다. 유리 또는 미정질 유리를 화학적으로 강화하는데 사용되는 하나 이상의 이온 교환 과정에는 다음이 포함될 수 있지만 이에 국한되지는 않는다: 단일 염욕에 침지하거나, 동일 또는 상이한 조성의 복수의 염욕에 침지하거나, 침지 사이에 세척 및/또는 어닐링 단계가 있다.
일부 실시 방식에서, 유조성물 또는 미정질 유리는 약 350℃~470℃ 온도의 용융된 Na 염(예를 들어, NaNO3)의 염욕에 약 1~36 시간 동안 침지시킴으로써 이온 교환이 될 수 있으며, 바람직한 온도 범위는 380℃~460℃이고, 바람직한 시간 범위는 2~24 시간이다. 이 실시 방식에서, Na 이온은 매트릭스 유리 또는 미정질 유리에서 Li 이온의 일부를 대체하여 표면 압축층을 형성하고 높은 기계적 특성을 나타낸다. 일부 실시 방식에서, 매트릭스 유리 또는 미정질 유리는 약 360℃~450℃의 온도의 용융된 K염(예를 들어, KNO3)의 염욕에 1~36시간 동안 침지시킴으로써 이온 교환이 수행될 수 있으며, 바람직한 시간 범위는 2~24시간이다. 일부 실시 방식에서, 매트릭스 유리 또는 미정질 유리는약 360℃~450℃의 온도의 용융된 K염과 Na 염의 혼합염욕에 1~36시간 동안 침지시킴으로써 이온 교환이 수행될 수 있으며, 바람직한 시간 범위는 2~24시간이다.
본 발명중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서 및/또는 미정질 유리 제품 및/또는 매트릭스 유리의 성능 지표는 다음의 방법으로 테스트한다.
[헤이즈]
미놀타 CM3600A의 헤이즈 측정기를 사용하여 1mm 이하의 샘플로 제조하고 GB2410-80을 기준으로 테스트한다.
[결정입자 크기]
미정질 유리는 HF산 중에서 표면처리를 하고, 다시 미정질 유리의 표면에 금을 도장하고, SEM 주사전자현미경에서 표면을 스캔하여 결정입자의 크기를 확정한다.
[광 투과율]
본문에서 서술한 광 투과율은 모두 외부 투과율이며, 때로는 투과율이라고 줄여 부른다.
시료를 1mm 이하로 가공하고 상대면을 평행하게 마감하며, 히타치 U-41000형 분광광도계를 이용하여 400~800nm의 평균 광 투과율을 측정한다.
시료를 1mm 이하로 가공하고 상대면을 평행하게 마감하여 히타치 U-41000형 분광광도계를 이용하여 550nm의 광 투과율을 측정한다.
[결정도]
XRD 회절 피크를 데이터베이스 다이어그램과 대조하면, 결정도는 전체 다이어그램의 강도에서 결정상의 회절 강도가 차지하는 비율을 계산하고 순수 수정 결정을 사용하여 내부적으로 측정한다.
[이온 교환 레이어 깊이]
유리 표면 응력계 SLP-2000을 이용하여 이온 교환층의 깊이를 측정한다.
측정 조건으로 샘플의 굴절률 1.56, 광학적 탄성 상수 26[(nm/cm)/Mpa]로 계산한다.
[낙하 충격 테스트 높이]
145mmХ67mmХ0.7mm중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서 샘플을 유리탑재 클램프 위에 놓아 132g의 강구를 규정높이에서 떨어뜨리고 샘플이 파단하지 않고 견딜 수 있는 충격의 최대 낙하 충격테스트높이 이다. 구체적으로 말하자면, 시험은 낙하 충격 시험의 높이가 800mm부터 실시되며, 부러지지 않는 한 850mm, 900mm, 950mm, 1000mm 이상의 순서로 높이를 변경한다. "낙하 시험 높이"가 있는 실시예에 대해서는, 미정질 유리 제품을 실험 대상으로 한다. 실시예에서 1000mm로 기록된 실험 데이터는 1000mm의 높이에서 강공이 떨어지더라도 미정질 유리 제품이 부러지지 않고 충격을 견뎌냈음을 나타낸다. 본 발명의 낙하 시험 높이는 때로는 낙하 시험 높이라고 약칭한다.
[낙하 높이]
145mmХ67mmХ0.7mm중 어느 하나의 미정질 유리에 있어서 샘플을 유리 탑재 클램프 위에 놓아 32g의 강구를 규정된 높이에서 낙하시키면 샘플이 파단하지 않고 견딜 수 있는 충격의 최대 낙하 시험고도가 의 낙하높이이다. 구체적으로 말하자면, 시험은 낙하 충격 시험 고도 500mm부터 실시하며, 끊어지지 않는 한 550mm, 600mm, 650mm, 700mm 이상의 순서로 고도를 변경한다. "낙하 시험 높이"가 있는 실시예에 대하여, 미정질 유리를 실험 대상으로 삼는데, 이는 미정질 유리의 낙하 시험 높이이다. 실시예에서 1000mm로 기록된 실험 데이터는 1000mm의 높이에서 강구가 떨어져도 미정질 유리가 파단하지 않고 충격을 견뎌냈음을 나타낸다.
[파괴 인성]
압입 자국을 직접 측정하여 균열을 확장하는 방법으로, 시료 규격은 2mmХ4mmХ20mm이며, 모따기, 연마 및 광택을 거쳐 시료 제조가 완료된 후 비커스 경도로 압자(penetrator)를 눌러 시료에 49N의 힘을 가하고 30s의 시간을 유지하며, 압입 자국을 낸 후 3점 만곡의 방법으로 파괴 강도를 측정한다.
[4포인트 굽힘 강도]
CMT6502 마이크로 컴퓨터 제어 전자 만능 시험기로, 샘플 규격은 1mm 이하의 두께이며, ASTM C 158-2002를 기준으로 테스트를 진행한다. 본 발명에서는 때로는 4점 굽힘 강도를 굽힘 강도라고 줄여서 부른다.
[비커스 경도]
상대면의 협각이 136°인 금강석 사각추 압력으로 시험면에 피라미드 모양의 오목한 부분을 눌렀을 때의 부하(N)를 오목한 부분의 길이를 통해 계산한 표면적(mm2)으로 나눈 값으로 표시한다. 실험 하중을 100(N)으로 하고 15(초)로 유지한다. 본 발명에서는 때로는 비커스 경도를 경도라고 줄여서 부른다.
[|B| 값]
B 값 검사를 위해 미놀타 CM-700d를 사용한다. 샘플 규격은 1mm 이하의 두께이며, 장통과 단통을 사용하여 각각 기기 0비트 교정과 화이트보드 교정을 진행하고, 교정 후 장통으로 다시 대공 테스트를 진행하며, 기기 안정적 교정 신뢰성을 판정하고(B≤0.05), 기기 교정 합격 후 제품을 0비트 장통에 배치하여 테스트를 진행한다.
| B | 값은 B 값의 절대값입니다.
[열 팽창 계수]
열 팽창 계수(α20℃-120℃)는 GB/T7962.16-2010 테스트 방법에 따라 테스트한다.
[굴절률]
굴절률(nd)은 GB/T7962.1-2010 방법에 따라 테스트한다.
[유전 상수]
유전 상수(εr)는 GB 9622.9-1988 방법에서 1~7GHZ로 측정한다.
[유전 손실]
유전 손실(tan δ)은 GB 9622.9-1988 방법에 따라 1~7GHZ의 주파수로 테스트한다.
[표면 저항]
표면 저항은 CS-157-2020 방법에 따라 20~40℃로 측정한다.
본 발명에 기술한 미정질 유리 제품으로 다음과 같은 성능을 가진다.
1) 본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 제품의 4점 굽힘 강도는600MPa 이상, 바람직하게는 650MPa 이상, 보다 바람직하게는 700MPa 이상이다.
2) 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 제품의 이온 교환 층 깊이는 20μm 이상, 바람직하게는 30μm 이상, 보다 바람직하게는 40μm 이상이다.
3) 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 제품의 낙하 실험 높이는 1400mm 이상, 바람직하게는 1500mm 이상, 보다 바람직하게는 1600mm 이상이다.
4) 본 발명의 일부 실시 방식에서 미정질 유리 제품은 1MPa·m1/2 이상, 바람직하게는 1.3MPa·m1/2 이상, 보다 바람직하게는 1.5MPa·m1/2 이상이다.
5) 본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 제품의 비커스 경도(Hv)는 730kgf/ mm2 이상, 바람직하게는 750kgf/ mm2 이상, 보다 바람직하게는 780kgf/ mm2 이상이다.
6) 일부 실시 방식에서는, 미정질 유리 제품의 결정도는 50% 이상, 바람직하게는 60%이상, 보다 바람직하게는 70% 이상이다.
7) 본 발명의 일부 실시 방식에서 미정질 유리 제품의 결정 입자 크기는80nm 이하, 바람직하게는 50nm 이하, 보다 바람직하게는 30nm 이하이다.
8) 본 발명의 일부 실시 방식에서 1mm 이하 두께의 미정질 유리 제품의 헤이즈는 0.2% 이하, 바람직하게는 0.18% 이하, 보다 바람직하게는 0.15% 이하이다. 이 두께는 바람직하게는 0.2~1mm, 보다 바람직하게는 0.3~0.9mm, 더욱 바람직하게는 0.5~0.8mm, 가장 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
9) 본 발명의 일부 실시 방식에서 1mm 이하 두께의 미정질 유리 제품의 400~800nm 파장의 평균 광 투과율은 87% 이상, 바람직하게는 89% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상이다. 이 두께는 바람직하게는 0.2~1mm, 보다 바람직하게는 0.3~0.9mm, 더욱 바람직하게는 0.5~0.8mm, 가장 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
10) 본 발명의 일부 실시 방식에서 1mm 이하 두께의 미정질 유리 제품의 550nm 파장의 광 투과율은 88% 이상, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 91% 이상이다. 이 두께는 바람직하게는 0.2~1mm, 보다 바람직하게는 0.3~0.9mm, 더욱 바람직하게는 0.5~0.8mm, 가장 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
11) 본 발명의 일부 실시 방식에서 1mm 이하 두께의 미정질 유리 제품의 400~800nm의 평균 빛|B|의 값은 0.9 이하, 바람직하게는 0.8 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하이다. 이 두께는 바람직하게는 0.2~1mm, 보다 바람직하게는 0.3~0.9mm, 더욱 바람직하게는 0.5~0.8mm, 가장 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
12) 본 발명의 일부 실시 방식에서 미정질 유리 제품의 유전 상수(εr)는 5.4 이상, 바람직하게는 5.8 이상, 보다 바람직하게는 6.0 이상이다.
13) 본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리 제품의 유전 손실(tanδ)은 0.05 이하, 바람직하게는 0.04 이하, 보다 바람직하게는 0.02 이하, 더욱 바람직하게는 0.01 이하이다.
본 발명 미정질 유리는 다음과 같은 성능을 가진다.
1) 본 발명의 일부 실시 방식에서 미정질 유리의 결정도는 50% 이상, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상이다.
2) 본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리의 결정입자 크기는 80nm 이하, 바람직하게는 50nm 이하, 보다 바람직하게는 30nm 이하이다.
3) 본 발명의 일부 실시 방식에서 1mm 이하 두께 미정질 유리 제품의 헤이즈는 0.2% 이하, 바람직하게는 0.18% 이하, 보다 바람직하게는 0.15% 이하이다. 이 두께는 바람직하게는 0.2~1mm, 보다 바람직하게는 0.3~0.9mm, 더욱 바람직하게는 0.5~0.8mm, 가장 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
4) 본 발명의 일부 실시 방식에서 1mm 이하 두께의 미정질 유리 제품의400~800nm 파장의 평균 광 투과율은 87% 이상, 바람직하게는 89% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상이다. 이 두께는 바람직하게는 0.2~1mm, 보다 바람직하게는 0.3~0.9mm, 더욱 바람직하게는 0.5~0.8mm, 가장 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
5) 본 발명의 일부 실시 방식에서 1mm 이하 두께 중의 미정질 유리 제품의 550nm 파장의 광 투과율은 88% 이상, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 91% 이상이다. 이 두께는 바람직하게는 0.2~1mm, 보다 바람직하게는 0.3~0.9mm, 더욱 바람직하게는 0.5~0.8mm, 가장 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
6) 본 발명의 일부 실시 방식에서, 미정질 유리의 낙하시험 높이는 1,700mm 이상, 바람직하게는 1,900mm 이상, 보다 바람직하게는 2,000mm 이상이다.
7) 본 발명의 일부 실시 방식에서 1mm 이하 두께의 미정질 유리 제품의 400~800nm의 평균 빛 |B|의 값은 0.9 이하, 바람직하게는 0.8 이하, 바람직하게는 0.7 이하이다. 이 두께는 바람직하게는 0.2~1mm, 보다 바람직하게는 0.3~0.9mm, 더욱 바람직하게는 0.5~0.8mm, 가장 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm이다.
8) 본 발명의 일부 실시 방식에서 미정질 유리의 비커스 경도(Hv)는 630kgf/mm2 이상, 바람직하게는 650kgf/mm2 이상, 보다 바람직하게는 680kgf/mm2 이상이다.
9) 일부 실시방식에서, 미정질 유리의 열 팽창 계수 (α20℃-120℃)는 70Х10-7/K~90Х10-7/K이다.
10) 본 발명의 일부 실시 방식에서 미정질 유리의 굴절률(nd)은 1.5520~1.5700이다.
11) 본 발명의 일부 실시 방식에서 미정질 유리의 유전 상수(εr)는 5.4 이상, 바람직하게는 5.8 이상, 보다 바람직하게는 6.0 이상이다.
12) 본 발명의 일부 실시 방식에서 미정질 유리의 유전 손실(tanδ)은 0.05 이하, 바람직하게는 0.04 이하, 보다 바람직하게는 0.03 이하, 더욱 바람직하게는 0.01 이하이다.
13) 일부 방식에서는 미정질 유리의 표면 저항은 1Х109Ω·cm 이상 , 바람직하게는1Х1010Ω·cm 이상, 보다 바람직하게는 1Х1011Ω·cm 이상이다.
본 발명의 매트릭스 유리는 다음과 같은 성능을 가진다.
1) 본 발명의 일부 실시 방식에서, 매트릭스 유리의 열 팽창 계수(α20℃-120℃)는 65Х10-7/K~80Х10-7/K이다.
2) 본 발명의 일부 실시 방식에서 매트릭스 유리의 굴절률(nd)은 1.5400~1.5600이다.
본 발명 중의 미정질 유리, 미정질 유리 제품, 매트릭스 유리, 유리 성형체, 미정질 유리 성형체는 상술한 우수한 성능을 가지고 있기 때문에 유리 커버판 또는 유리 소자로 광범위하게 제작할 수 있다. 또한 본 발명은 미정질 유리, 미정질 유리 제품, 매트릭스 유리, 유리 성형체, 미정질 유리 성형체는 전자 기기나 디스플레이 기기에 적용될 수 있으며, 핸드폰, 시계, 컴퓨터, 터치 디스플레이, 휴대 전화, 스마트폰, 태블릿, 노트북, PDA, 텔레비전, 노트북, MTA 기기 또는 산업용 모니터를 제조하기 위한 방호 유리, 터치 스크린, 방호 창, 자동차 유리, 기차 유리, 항공기 유리, 터치 스크린 방호 유리, 하드 디스크 또는 태양광 전지, 냉장고 부품 또는 주방 기구 등의 백색 가전 제품을 제조하는 데 사용된다.
실시예
본 발명의 기술적 방안을 더욱 명확하게 해석하고 설명하기 위하여, 아래와 같은 비제한적 실시예를 제공한다. 본 발명 실시예는 수치(예: 수량, 온도 등)의 정확성을 확보하기 위해 많은 노력을 거쳤으나, 반드시 약간의 오차와 편차가 존재함을 고려해야 한다. 구성 자체는 산화물에 기반하여 그 조성은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분을 포함한다: 주어지며 100%로 표준화되었다.
< 매트릭스 유리 실시예 >
본 실시예에서는 상술한 매트릭스 유리의 제조 방법을 사용하여 표 1~표 6에 표시된 구성의 매트릭스 유리를 얻는다. 또한 본 발명에 기술한 시험 방법을 통하여 각 매트릭스 유리의 특성을 측정하고 측정 결과를 표 1~표 6에 표시한다.
< 미정질 유리 실시예 >
본 실시예에서는 상술한 미정질 유리의 제조 방법을 사용하여 표 7-표 12의 구성을 갖춘 미정질 유리를 얻는다. 또한, 본 발명에 서술한 테스트 방법을 통하여 각 미정질 유리의 특성을 측정하고, 측정결과를 표 7~표 12에 표시하며, 아래 실시예에서 서술한 실내 온도인 25℃를 표시한다.
< 미정질 유리 제품 실시예 >
본 실시예에서는 상술한 미정질 유리 제품의 제조 방법을 이용하여 표 13~표 18의 구성을 갖춘 미정질 유리 제품을 얻는다. 또한, 본 발명에 기술한 시험 방법을 통하여 각 미정질 유리 제품의 특성을 측정하고, 측정 결과를 표 13~표 18에 표시한다.
Claims (74)
- 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 미정질(microcrystalline) 유리 제품: SiO2：65 ~80%; Al2O3：5% 미만; Li2O：10~25%; ZrO2：5~15%; P2O5：1~8%.
- 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 미정질 유리 제품: SiO2：55~80%; Al2O3：10% 미만; Li2O：8~25%; ZrO2：5~15%; P2O5：1~8%.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 더 포함하는, 미정질 유리 제품: K2O：0~5%; 및/또는 MgO：0~3%; 및/또는 ZnO：0~3%; 및/또는 Na2O：0~6%; 및/또는 SrO：0~5%; 및/또는 BaO：0~5%; 및/또는 CaO：0~5%; 및/또는 TiO2：0~5%; 및/또는 B2O3：0~5%; 및/또는 Y2O3：0~6%; 및/또는 청징제：0~2%.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 성분들은 중량 백분율로 표시되고, 다음 10가지 상황들 중 하나 이상을 충족하는 것인, 미정질 유리 제품:
1) Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.2 이하, 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.0 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 0.05~0.7이고;
2) SiO2/ZrO2는 4.0~15.8, 바람직하게는 SiO2/ZrO2는 4.5~12.0, 보다 바람직하게는 SiO2/ZrO2는 5.0~9.5, 더욱 바람직하게는 SiO2/ZrO2는 6.0~9.0이며;
3) P2O5+ZrO2：6~21%, 바람직하게는 P2O5+ZrO2：7~18%, 보다 바람직하게는P2O5+ZrO2：8~16%, 더욱 바람직하게는 P2O5+ZrO2：10~16%이고;
4) SiO2/(P2O5+ZrO2)는 2.5~12.0, 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)는 3.0~10.0, 보다 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)는 3.5~7.5, 더욱 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)는 4.0~6.5이며;
5) (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 2.0 이상, 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 2.5 이상, 보다 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 2.5~30.0이고;
6) (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 4.0~16.0, 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 4.5~12.0, 보다 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 5.0~10.0, 더욱 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 6.0~9.5이며;
7) (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.19~0.55, 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.2~0.5, 보다 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.25~0.45, 더욱 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.25~0.4이고;
8) (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.65 이하, 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.4 이하, 보다 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.2 이하, 더욱 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.1 이하이며;
9) (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 0.8~5.0, 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 1.0~4.0, 보다 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 1.2~3.0, 더욱 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 1.5~2.5이고;
10) Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.5~3.0, 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.6~2.5, 보다 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.7~2.0, 더욱 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.8~1.5이다. - 제1항 또는 제2항에 있어서, 성분들은 중량 백분율로 표시되고, Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.3 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.25 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.01~0.2, 더욱 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.01~0.1이고/이거나; Al2O3/Li2O는0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.2 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.1 이하인 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 미정질 유리 제품: SiO2：68~78%, 바람직하게는 SiO2：70~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~4.5%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~3%; 및/또는 Li2O：12.5~22%, 바람직하게는 Li2O：12.5~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
- 제2항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 미정질 유리 제품: Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.25 이하이고/이거나; Al2O3/Li2O는 0.7 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.6 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.5 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.45 이하이고/이거나; Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 0.1~0.6이고/이거나; (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 3.0~20.0인 것인, 미정질 유리 제품.
- 제2항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 미정질 유리 제품: SiO2：58~78%, 바람직하게는 SiO2：60~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~8%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~7%; 및/또는 Li2O：9~22%, 바람직하게는 Li2O：10~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2% ; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품은 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 더 포함하는, 미정질 유리 제품: La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~5%, 바람직하게는La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~2%, 보다 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~1%.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 성분들은 SrO를 포함하지 않고/않거나; BaO를 포함하지 않고/않거나; MgO를 포함하지 않고/않거나; CaO를 포함하지 않고/않거나; ZnO를 포함하지 않고/않거나; PbO를 포함하지 않고/않거나; As2O3을 포함하지 않고/않거나; TiO2를 포함하지 않고/않거나; B2O3을 포함하지 않고/않거나; Y2O3을 포함하지 않고/않거나; F를 포함하지 않는 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품의 결정상은 규산리튬 결정상; 및/또는 인산리튬 결정상; 및/또는 페타라이트 결정상; 및/또는 석영 고용체 결정상을 포함하는 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품은 규산리튬 결정상을 함유하고 있고, 규산리튬 결정상은 다른 결정상들보다 더 높은 중량 백분율을 차지하고 있으며, 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 규산리튬 결정상은 10~70%이고, 보다 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 규산리튬 결정상은 10~65%이고, 더욱 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 규산리튬 결정상은 15~60%이고, 더더욱 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 규산리튬 결정상은 20~55%인 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품은 리튬 모노실리케이트 결정상을 함유하고 있고, 리튬 모노실리케이트 결정상은 다른 결정상들보다 더 높은 중량 백분율을 차지하고 있으며, 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 리튬 모노실리케이트 결정상은 30~65%, 보다 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 리튬 모노실리케이트 결정상은 35~60%, 더욱 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 리튬 모노실리케이트 결정상은 40~55%인 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품은 리튬 디실리케이트 결정상을 함유하고 있고, 리튬 디실리케이트 결정상은 다른 결정상들보다 더 높은 중량 백분율을 차지하고 있으며, 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 리튬 디실리케이트 결정상은 10~60%, 보다 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 리튬 디실리케이트 결정상은 15~50%, 더욱 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 리튬 디실리케이트 결정상은 20~45%인 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품은 인산리튬 결정상을 함유하고 있으며, 미정질 유리 제품 중 상기 인산리튬 결정상의 중량 백분율은 10% 이하, 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 인산리튬 결정상은 5% 이하인 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품은 석영 고용체 결정상을 함유하고 있으며, 미정질 유리 제품 중 석영 고용체 결정상의 중량 백분율은 10% 이하, 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 석영 고용체 결정상은 5% 이하인 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품은 페타라이트 결정상을 함유하고 있고, 미정질 유리 제품 중 페타라이트 결정상의 중량 백분율은 18% 이하, 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 페타라이트 결정상은 15% 이하, 보다 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 페타라이트 결정상은 10% 이하, 더욱 바람직하게는 상기 미정질 유리 제품의 중량 백분율로서 페타라이트 결정상은 5% 이하인 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품의 4점 굽힘 강도는 600MPa 이상, 바람직하게는 650MPa 이상, 보다 바람직하게는 700MPa 이상이고/이거나; 이온 교환 층의 깊이는 20μm 이상, 바람직하게는 30μm 이상, 보다 바람직하게는 40μm 이상이며/이거나; 낙하 시험 높이는 1400mm 이상, 바람직하게는 1500mm 이상, 보다 바람직하게는 1600mm 이상이며/이거나; 파괴 인성이 1MPa·m1/2 이상, 바람직하게는 1.3MPa·m1/2 이상, 보다 바람직하게는 1.5MPa·m1/2 이상이며/이거나; 비커스 경도(Vickers hardness)는 730kgf/mm2 이상, 바람직하게는 750kgf/mm2 이상, 보다 바람직하게는 780kgf/mm2 이상이며/이거나; 유전 상수εr은 5.4 이상, 바람직하게는 5.8 이상, 보다 바람직하게는 6.0 이상이며/이거나; 유전 손실 tanδ는 0.05 이하, 바람직하게는 0.04 이하, 보다 바람직하게는 0.02 이하, 더욱 바람직하게는 0.01 이하인 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품의 결정도는 50% 이상, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상이며/이거나; 결정 입자 크기는 80nm 이하, 바람직하게는 50nm 이하, 보다 바람직하게는 30nm 이하인 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 1mm 이하 두께의 상기 미정질 유리 제품의 헤이즈(haze)는 0.2% 이하, 바람직하게는 0.18% 이하, 보다 바람직하게는 0.15% 이하이며/이거나; 400 내지 800nm 파장의 평균 광 투과율은 87% 이상, 바람직하게는 89% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상이며/이거나; 550nm 파장의 광 투과율은 88% 이상, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 91% 이상이며/이거나; 400 내지 800nm의 평균 빛 |B|의 값은 0.9 이하, 바람직하게는 0.8 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하인 것인, 결정질 유리 제품.
- 제20항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품의 두께는 0.2~1mm, 바람직하게는 0.3~0.9mm, 보다 바람직하게는 0.5~0.8mm, 더욱 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm인 것인, 미정질 유리 제품.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 미정질 유리 제품은 착색제를 함유하는, 미정질 유리 제품.
- 제22항에 있어서, 상기 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는 것인, 미정질 유리 제품: NiO：0~4%; 및/또는 Ni2O3：0~4%; 및/또는 CoO：0~2%; 및/또는 Co2O3：0~2%; 및/또는 Fe2O3：0~7%; 및/또는 MnO2：0~4%; 및/또는 Er2O3：0~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0~8%; 및/또는 Cu2O：0~4%; 및/또는 Pr2O3：0~8%; 및/또는 CeO2 ：0~4%.
- 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 미정질 유리: SiO2：65~80%; Al2O3：5% 미만; Li2O：10~25%; ZrO2：5~15%; P2O5：1~8%.
- 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 미정질 유리: SiO2：55~80%; Al2O3：10% 미만; Li2O：8~25%; ZrO2：5~15%; P2O5：1~8%.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 미정질 유리는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 더 포함하는, 미정질 유리: K2O：0~5%; 및/또는 MgO：0~3%; 및/또는 ZnO：0~3%; 및/또는 Na2O：0~6%; 및/또는 SrO：0~5%; 및/또는 BaO：0~5%; 및/또는 CaO：0~5%; 및/또는 TiO2：0~5%; 및/또는 B2O3：0~5%; 및/또는 Y2O3：0~6%; 및/또는 청징제：0~2%.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 성분들은 중량 백분율로 표시되고, 다음10가지 상황들 중 하나 이상을 충족하는 것인, 미정질 유리:
1) Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.2 이하, 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.0 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 0.05~0.7이고;
2) SiO2/ZrO2는 4.0~15.8, 바람직하게는 SiO2/ZrO2는 4.5~12.0, 보다 바람직하게는 SiO2/ZrO2는 5.0~9.5, 더욱 바람직하게는SiO2/ZrO2는 6.0~9.0이며;
3) P2O5+ZrO2：6~21%, 바람직하게는 P2O5+ZrO2：7~18%, 보다 바람직하게는 P2O5+ZrO2：8~16%, 더욱 바람직하게는 P2O5+ZrO2：10~16%이고;
4) SiO2/(P2O5+ZrO2)는2.5~12.0, 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)는 3.0~10.0, 보다 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)는 3.5~7.5, 더욱 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)는 4.0~6.5이며;
5) (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 2.0 이상, 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 2.5 이상, 보다 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 2.5~30.0이고;
6) (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 4.0~16.0, 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 4.5~12.0, 보다 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 5.0~10.0, 더욱 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 6.0~9.5이며;
7) (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.19~0.55, 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.2~0.5, 보다 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.25~0.45, 더욱 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.25~0.4이고;
8) (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.65 이하, 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.4 이하, 보다 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.2 이하, 더욱 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.1 이하이며;
9) (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 0.8~5.0, 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 1.0~4.0, 보다 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 1.2~3.0, 더욱 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 1.5~2.5이고;
10) Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.5~3.0, 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.6~2.5, 보다 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.7~2.0, 더욱 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.8~1.5이다. - 제24항 또는 제25항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 미정질 유리; Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)은 0.3 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.25 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.01~0.2, 더욱 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.01~0.1이고/이거나; Al2O3/Li2O는 0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.3이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.2 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.1 이하이다.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 미정질 유리: SiO2：68~78%, 바람직하게는 SiO2：70~76%; 및/또는Al2O3：0.1~4.5%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~3%; 및/또는 Li2O：12.5~22%, 바람직하게는 Li2O：12.5~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
- 제25항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 미정질 유리: Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.25 이하; 및/또는Al2O3/Li2O는 0.7 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.6 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.5 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.45 이하; 및/또는Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 0.1~0.6; 및/또는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 3.0~20.0이다.
- 제25항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 미정질 유리: SiO2：58~78%, 바람직하게는 SiO2：60~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~8%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~7%; 및/또는 Li2O：9~22%, 바람직하게는 Li2O：10~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 더 포함하는, 미정질 유리: La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2： 0~5%, 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2： 0~2%, 보다 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~1%.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 성분들은 SrO를 포함하지 않고/않거나; BaO를 포함하지 않고/않거나; MgO를 포함하지 않고/않거나; CaO를 포함하지 않고/않거나; ZnO를 포함하지 않고/않거나; PbO를 포함하지 않고/않거나; As2O3을 포함하지 않고/않거나; TiO2를 포함하지 않고/않거나; B2O3을 포함하지 않고/않거나 Y2O3을 포함하지 않고/않거나; F를 포함하지 않는 것인, 미정질 유리.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 미정질 유리의 결정상은 규산리튬 결정상; 및/또는 인산리튬 결정상; 및/또는 페타라이트 결정상; 및/또는 석영 고용체 결정상을 함유하는 것인, 미정질 유리.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 미정질 유리는 규산리튬 결정상을 함유하고, 규산리튬 결정상은 다른 결정상들보다 더 높은 중량 백분율을 차지하고 있으며, 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 규산리튬 결정상은 10~70%이고, 보다 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 규산리튬 결정상은 10~65%이고, 더욱 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 규산리튬 결정상은 15~60%, 더더욱 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 규산리튬 결정상은 20~55%인 것인, 미정질 유리.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 미정질 유리는 리튬 모노실리케이트 결정상을 함유하고, 리튬 모노실리케이트 결정상은 다른 결정상들보다 더 높은 중량 백분율을 차지하고 있으며, 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 리튬 모노실리케이트 결정상은 30~65%이고, 보다 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 리튬 모노실리케이트 결정상은 35~60%이며, 더욱 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 리튬 모노실리케이트 결정상은 40~55%인 것인, 미정질 유리.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 미정질 유리는 리튬 디실리케이트 결정상을 함유하고, 리튬 디실리케이트 결정상은 다른 결정상들보다 더 높은 중량 백분율을 차지하고 있으며, 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 리튬 디실리케이트 결정상은 10~60%, 보다 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 리튬 디실리케이트 결정상은 15~50%, 더욱 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 리튬 디실리케이트 결정상은 20~45%인 것인, 미정질 유리.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 미정질 유리는 인산리튬 결정상을 함유하고 있으며, 미정질 유리 중 상기 인산리튬 결정상의 중량 백분율은 10% 이하이고, 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 인산리튬 결정상은 5% 이하인 것인, 미정질 유리.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 미정질 유리는 석영 고용체 결정상을 함유하고 있으며, 미정질 유리 중 상기 석영 고용체 결정상의 중량 백분율은 10% 이하, 바람직하게는 미정질 유리의 중량 백분율로서 석영 고용체 결정상은 5% 이하인 것인, 미정질 유리.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 미정질 유리는 페타라이트 결정상을 함유하고 있고, 미정질 유리 중 상기 페타라이트 결정상의 중량 백분율은 18% 이하이고, 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 페타라이트 결정상은 15% 이하이고, 보다 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 페타라이트 결정상은 10% 이하이고, 더욱 바람직하게는 상기 미정질 유리의 중량 백분율로서 페타라이트 결정상은 5% 이하인 것인, 미정질 유리.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 미정질 유리의 결정도는 50% 이상, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상이고/이거나; 결정 입자 크기는 80nm 이하, 바람직하게는 50nm 이하, 보다 바람직하게는 30nm 이하이고/이거나; 열 팽창 계수는 70Х10-7/K~90Х10-7/K이고/이거나; 굴절률은 1.5520~1.5700인 것인, 미정질 유리.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기 미정질 유리의 낙하 높이는 1,700mm 이상, 바람직하게는 1900mm 이상, 보다 바람직하게는 2000mm 이상이고/이거나; 비커스 경도는 630kgf/mm2 이상, 바람직하게는 650kgf/mm2 이상, 보다 바람직하게는 680kgf/mm2 이상이고/이거나; 유전 상수는 5.4 이상, 바람직하게는 5.8 이상, 보다 바람직하게는 6.0 이상이고/이거나; 유전 손실은 0.05 이하, 바람직하게는 0.04 이하, 보다 바람직하게는 0.03 이하, 더욱 바람직하게는 0.01 이하이고/이거나; 표면 저항은 1Х109Ω·cm 이상, 바람직하게는 1Х1010Ω·cm 이상, 보다 바람직하게는 1Х1011Ω·cm 이상인 것인, 미정질 유리.
- 제24항 또는 제25항에 있어서, 1mm 이하 두께의 상기 미정질 유리의 헤이즈는 0.2% 이하, 바람직하게는 0.18% 이하, 보다 바람직하게는 0.15% 이하이고/이거나; 400~800nm 파장의 평균 광 투과율은 87% 이상, 바람직하게는 89% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상이고/이거나; 550nm 파장의 광 투과율은 88% 이상, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 91% 이상이고/이거나; 400~800nm의 평균 빛 |B|의 값은 0.9 이하, 바람직하게는 0.8 이하, 보다 바람직하게는 0.7 이하인 것인, 미정질 유리.
- 제43항에 있어서, 상기 미정질 유리의 두께는 0.2~1mm, 바람직하게는0.3~0.9mm, 보다 바람직하게는 0.5~0.8mm, 더욱 바람직하게는 0.55mm 또는 0.6mm 또는 0.68mm 또는 0.7mm 또는 0.75mm인 것인, 결정질 유리.
- 제24항 또는 제25항에 있어서,상기 미정질 유리는 착색제를 함유하는, 미정질 유리.
- 제45항에 있어서, 상기 착색제는 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는 것인, 미정질 유리: NiO：0~4%; 및/또는 Ni2O3：0~4%; 및/또는 CoO：0~2%; 및/또는 Co2O3：0~2%; 및/또는 Fe2O3：0~7%; 및/또는 MnO2：0~4%; 및/또는 Er2O3：0~8%; 및/또는 Nd2O3 ：0~8%; 및/또는 Cu2O：0~4%; 및/또는 Pr2O3：0~8%; 및/또는 CeO2 ：0~4%.
- 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 매트릭스 유리: SiO2：65~80%; Al2O3：5% 미만; Li2O：10~25%; ZrO2：5~15%; P2O5：1~8%.
- 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 매트릭스 유리: SiO2：55~80%; Al2O3：10% 미만; Li2O：8~25%; ZrO2：5~15%; P2O5：1~8%.
- 제47항 또는 제48항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 더 포함하는, 매트릭스 유리: K2O：0~5%; 및/또는 MgO：0~3%; 및/또는 ZnO：0~3%; 및/또는 Na2O：0~6%; 및/또는 SrO：0~5%; 및/또는 BaO：0~5%; 및/또는 CaO：0~5%; 및/또는 TiO2：0~5%; 및/또는 B2O3：0~5%; 및/또는 Y2O3：0~6%; 및/또는 청징제：0~2%.
- 제47항 또는 제48항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하고, 다음 10가지 상황들 중 하나 이상을 충족하는 것인, 매트릭스 유리.
1) Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.2 이하, 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 1.0 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 0.05~0.7이고;
2) SiO2/ZrO2는 4.0~15.8, 바람직하게는 SiO2/ZrO2는 4.5~12.0, 보다 바람직하게는 SiO2/ZrO2는 5.0~9.5, 더욱 바람직하게는 SiO2/ZrO2는 6.0~9.0이며;
3) P2O5+ZrO2：6~21%, 바람직하게는 P2O5+ZrO2：7~18%, 보다 바람직하게는 P2O5+ZrO2：8~16%, 더욱 바람직하게는 P2O5+ZrO2：10~16%이고;
4) SiO2/(P2O5+ZrO2)는 2.5~12.0, 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)는 3.0~10.0, 보다 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)는 3.5~7.5, 더욱 바람직하게는 SiO2/(P2O5+ZrO2)는 4.0~6.5이며;
5) (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 2.0 이상, 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 2.5 이상, 보다 바람직하게는 (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 2.5~30.0이고;
6) (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 4.0~16.0, 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 4.5~12.0, 보다 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 5.0~10.0, 더욱 바람직하게는 (SiO2+Al2O3)/ZrO2는 6.0~9.5이며;
7) (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.19~0.55, 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.2~0.5, 보다 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.25~0.45, 더욱 바람직하게는 (Li2O+ZrO2)/SiO2는 0.25~0.4이고;
8) (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.65 이하, 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.4 이하, 보다 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.2 이하, 더욱 바람직하게는 (MgO+ZnO)/ZrO2는 0.1 이하이며;
9) (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 0.8~5.0, 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 1.0~4.0, 보다 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 1.2~3.0, 더욱 바람직하게는 (Li2O+Al2O3)/ZrO2는 1.5~2.5이고;
10) Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.5~3.0, 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.6~2.5, 보다 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.7~2.0, 더욱 바람직하게는 Li2O/(ZrO2+P2O5)는 0.8~1.5이다. - 제47항 또는 제48항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 매트릭스 유리: Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.3 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.25 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.01~0.2, 더욱 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.01~0.1이고/이거나; Al2O3/Li2O는 0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.2 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.1 이하이다.
- 제47항 또는 제48항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 매트릭스 유리: SiO2：68~78%, 바람직하게는 SiO2：70~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~4.5%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~3%; 및/또는 Li2O：12.5~22%, 바람직하게는 Li2O：12.5~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2： 0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
- 제48항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 매트릭스 유리: Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.4 이하, 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.3 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/(Li2O+ZrO2+P2O5)는 0.25 이하이고/이거나; Al2O3/Li2O는 0.7 이하, 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.6 이하, 보다 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.5 이하, 더욱 바람직하게는 Al2O3/Li2O는 0.45 이하이고/이거나; Al2O3/(P2O5+ZrO2)는 0.1~0.6이고/이거나; (ZrO2+Li2O)/Al2O3은 3.0~20.0이다.
- 제48항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 포함하는, 매트릭스 유리: SiO2：58~78%, 바람직하게는 SiO2：60~76%; 및/또는 Al2O3：0.1~8%, 바람직하게는 Al2O3：0.5~7%; 및/또는 Li2O：9~22%, 바람직하게는 Li2O：10~20%; 및/또는 ZrO2：6~12%, 바람직하게는 ZrO2：7~12%; 및/또는 P2O5：1.5~7%, 바람직하게는 P2O5：2~6%; 및/또는 K2O：0~4%, 바람직하게는 K2O：0~2%; 및/또는 MgO：0~2%, 바람직하게는 MgO：0~1%; 및/또는 ZnO：0~2%, 바람직하게는 ZnO：0~1%; 및/또는 Na2O：0~4%, 바람직하게는 Na2O：0.5~3%; 및/또는 SrO：0~2%, 바람직하게는 SrO：0~1%; 및/또는 BaO：0~2%, 바람직하게는 BaO：0~1%; 및/또는 CaO：0~2%, 바람직하게는 CaO：0~1%; 및/또는 TiO2：0~2%, 바람직하게는 TiO2：0~1%; 및/또는 B2O3：0~3%, 바람직하게는 B2O3：0~2%; 및/또는 Y2O3：0~4%, 바람직하게는 Y2O3：0~2%; 및/또는 청징제：0~1%, 바람직하게는 청징제：0~0.5%.
- 제47항 또는 제48항에 있어서, 중량 백분율로 표시되는 다음 성분들을 더 포함하는, 매트릭스 유리: La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~5%, 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~2%, 보다 바람직하게는 La2O3+Gd2O3+Yb2O3+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5+TeO2+GeO2：0~1%.
- 제47항 또는 제48항에 있어서, 상기 성분들은 SrO를 포함하지 않고/않거나; BaO를 포함하지 않고/않거나; MgO를 포함하지 않고/않거나; CaO를 포함하지 않고/않거나; ZnO를 포함하지 않고/않거나; PbO를 포함하지 않고/않거나; As2O3을 포함하지 않고/않거나; TiO2를 포함하지 않고/않거나; B2O3을 포함하지 않고/않거나; Y2O3을 포함하지 않고/않거나; F를 포함하지 않는 것인, 매트릭스 유리.
- 제47항 또는 제48항에 있어서, 매트릭스 유리의 열 팽창 계수는 65Х10-7/K~80Х10-7/K이고/이거나; 굴절률은 1.5400~1.5600인 것인, 매트릭스 유리.
- 제24항 내지 제46항 중 어느 한 항에 언급된 미정질 유리를 함유하고 있는 특징이 있는, 미정질 유리 성형체.
- 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 언급된 미정질 유리 제품, 및/또는 제24항 내지 제46항 중 어느 한 항에 언급된 미정질 유리, 및/또는 제47항 내지 제57항 중 어느 한 항에 언급된 매트릭스 유리, 및/또는 제58항에 언급된 미정질 유리 성형체를 함유하고 있는 특징이 있는, 유리 소자.
- 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 언급된 미정질 유리 제품, 및/또는 제24항 내지 제46항 중 어느 한 항에 언급된 미정질 유리, 및/또는 제47항 내지 제57항 중 어느 한 항에 언급된 매트릭스 유리, 및/또는 제58항에 언급된 미정질 유리 성형체를 함유하고 있는 특징이 있는, 유리 소자.
- 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 언급된 미정질 유리 제품, 및/또는 제24항 내지 제46항 중 어느 한 항에 언급된 미정질 유리, 및/또는 제47항 내지 제57항 중 어느 한 항에 언급된 매트릭스 유리, 및/또는 제58항에 언급된 미정질 유리 성형체, 및/또는 제59항에 기재된 유리 커버판, 및/또는 제60항에 기재된 유리 소자가 함유된 특징이 있는, 디스플레이 장치.
- 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 언급된 미정질 유리 제품, 및/또는 제24항 내지 제46항 중 어느 한 항에 언급된 미정질 유리, 및/또는 제47항 내지 제57항 중 어느 한 항에 언급된 매트릭스 유리, 및/또는 제58항에 언급된 미정질 유리 성형체, 및/또는 제59항에 기재된 유리 커버판, 및/또는 제60항에 기재된 유리 소자를 함유하는 특징이 있는, 전자 기기.
- 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 기재된 미정질 유리 제품을 제조하는 방법으로서, 상기 방법은 다음과 같은 단계들이 포함되는 특징이 있는, 방법: 매트릭스 유리를 형성하는 단계, 결정화 공정을 통해 상기 매트릭스 유리를 미정질 유리로 형성하는 단계, 및 이어서 화학 강화 공정을 통해 상기 미정질 유리 제품을 형성하는 단계.
- 제63항에 있어서, 상기 결정화 공정은 규정된 결정화 처리 온도로 가열하는 단계, 결정화 처리 온도에 도달한 후 그 온도를 일정하게 유지한 후 다시 냉각하는 단계를 포함하고, 이때 이 결정화 처리 온도는 580 내지 750℃, 바람직하게는 600 내지 700℃이고, 결정화 처리 온도에서의 유지 시간은 0 내지 8시간, 바람직하게는 1 내지 6시간인 특징이 있는, 미정질 유리 제품을 제조하는 방법.
- 제63항에 있어서, 상기 결정화 공정은 제1 온도에서 핵 형성 공정의 처리를 진행하며, 그 후 핵 형성 공정의 온도보다 높은 제2 온도에서 결정 성장 공정의 처리를 진행하는 단계를 포함하는 특징이 있는, 미정질 유리 제품을 제조하는 방법.
- 제65항에 있어서, 상기 결정화 공정은 제1 온도가 470~580℃, 제2 온도가 600~750℃이고; 상기 제1 온도에서의 유지 시간은 0~24시간, 바람직하게는 2~15시간이며; 상기 제2 온도에서의 유지 시간은 0~10시간, 바람직하게는 0.5~6시간인 특징이 있는, 미정질 유리 제품을 제조하는 방법.
- 제63항에 있어서, 상기 화학 강화 공정은 다음을 포함하는 특징이 있는, 미정질 유리 제품을 제조하는 방법: 상기 미정질 유리를 350℃~470℃의 온도에서 1~36시간 동안, 바람직하게는 380℃~460℃의 온도 범위, 및 바람직하게는 2~24시간의 시간 범위에서 용융된 Na 염의 염욕에 침지하고/하거나, 상기 미정질 유리를 용융된 K염의 염욕에 1~36시간 동안, 바람직하게는 2~24시간 동안 침지하고/하거나; 미정질 유리를 360℃~450℃의 온도에서 1~36시간 동안, 바람직하게는 2~24시간 동안 용융된 K염과 Na염의 혼합 염욕에 침지하는 것.
- 제24항 또는 제46항 중 어느 한 항에 기재된 미정질 유리를 제조하는 방법으로서, 상기 방법은 다음과 같은 단계들을 포함하는 특징이 있는, 방법: 매트릭스 유리를 형성하는 단계, 결정화 공정을 통해 상기 매트릭스 유리를 미정질 유리로 형성하는 단계.
- 제68항에 있어서, 상기 결정화 공정은 규정된 결정화 처리 온도로 가열하는 단계, 결정화 처리 온도에 도달한 후 그 온도를 일정하게 유지한 후 다시 냉각하는 단계를 포함하고, 이때 이 결정화 처리 온도는 580~750℃, 바람직하게는600~700℃이고, 결정화 처리 온도에서의 유지 시간은 0~8시간, 바람직하게는 1~6시간인 특징이 있는, 미정질 유리를 제조하는 방법.
- 제68항에 있어서, 상기 결정화 공정은 제1 온도에서 핵 형성 공정의 처리를 진행하며, 그 후 핵 형성 공정의 온도보다 높은 제2 온도에서 결정 성장 공정의 처리를 진행하는 단계를 포함하는 특징이 있는, 미정질 유리를 제조하는 방법.
- 제70항에 있어서, 상기 결정화 공정은 제1 온도가 470~580℃, 제2 온도가 600~750℃이며, 상기 제1 온도에서의 유지 시간은 0~24시간, 바람직하게는 2시간~15시간이고, 상기 제2 온도에서의 유지 시간은 0~10시간, 바람직하게는 0.5~6시간인 특징이 있는, 미정질 유리를 제조하는 방법.
- 미정질 유리 성형체의 제조 방법으로서, 상기 방법은 상기 미정질 유리를 연마하거나 광택을 내어 미정질 유리 성형체를 만들거나, 일정한 온도에서 매트릭스 유리 또는 미정질 유리를 핫 벤딩 공정이나 프레스 공정을 통해 미정질 유리 성형체를 만드는 단계를 포함하는 특징이 있는, 방법.
- 미정질 유리 성형체의 제조 방법으로서, 상기 방법은 매트릭스 유리를, 가열, 보온 핵 형성, 가열, 보온 결정화, 및 실온으로 냉각을 포함하는 결정화 열 처리 공정을 거쳐사전 결정화된 유리를 형성하고; 상기 사전 결정화된 유리를 열가공 및 성형하여 미정질 유리 성형체를 얻는 단계를 포함하는 특징이 있는, 미정질 유리 성형체의 제조 방법.
- 미정질 유리 성형체를 제조하는 방법으로서, 상기 방법은 하기 단계들을 포함하는, 방법:
1) 승온 예열: 매트릭스 유리 또는 사전 결정화된 유리 또는 미정질 유리를 금형에 배치하고, 상기 금형은 핫 벤딩머신에서 순차적으로 각 가열 챔버를 통과하고, 각 챔버에 일정한 시간 동안 머물며 보온을 하며, 예열 영역 온도는 400~800℃, 압력은 0.01~0.05MPa, 시간은 40~200s임;
2) 프레스 성형: 상기 금형은 예열을 거친 후 성형 챔버로 이송되고, 핫 벤딩머신은 금형에 일정한 압력을 가하며, 압력 범위는 0.1~0.8Mpa, 성형 챔버 온도 범위는 650~850℃, 성형 시간 범위는 40~200s임;
3) 보압 냉각: 상기 금형을 냉각 챔버로 이송하여 각 챔버마다 냉각하고, 냉각 온도 범위는 750~500℃, 압력은 0.01~0.05Mpa, 시간은 40~200s임.
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| ES2581452T3 (es) * | 2010-04-16 | 2016-09-05 | Ivoclar Vivadent Ag | Vitrocerámica y vidrio de silicato de litio con óxido de metal de transición |
| WO2012175450A1 (en) * | 2011-06-22 | 2012-12-27 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der Angwandten Forschung E.V. | Dental restoration, method for production thereof and glass ceramic |
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