KR20220129709A - Surface treatment method of glasses frame made of magnesium alloy material using rhodium - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a method for treating the surface of an eyeglass frame made of magnesium alloy material using rhodium and, more specifically, to a method for treating the surface of an eyeglass frame made of magnesium an alloy material using rhodium, which includes a degreasing step, an etching step, a zinc gate step, a copper cyanide plating step, a copper sulfate plating step, a ternary alloy plating step, a palladium plating step, and an electrodeposition step. In accordance with one embodiment of the present invention, in the ternary alloy plating step, a ternary alloy plating solution containing copper cyanide, zinc cyanide, and sodium stannate is used to acquire a highly reliable metal surface with excellent matter properties such as corrosion resistance, wear resistance and adhesion, thereby bringing about an advantage of preventing the formation of a defect, and also, in the electrodeposition step, electrodeposition is performed with a white rhodium plating solution containing rhodium, thereby effectively manifesting a silver color as well as preventing corrosion even when exposed to salt water due to excellent corrosion resistance, which can lead to an improvement in the quality of the eyeglass frame.

Description

로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법{SURFACE TREATMENT METHOD OF GLASSES FRAME MADE OF MAGNESIUM ALLOY MATERIAL USING RHODIUM}Surface treatment method of eyeglass frame composed of magnesium alloy material using rhodium

본 발명은 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 탈지단계, 에칭단계, 징게이트단계, 시안동도금단계, 황산동도금단계, 3원합금도금단계, 팔라듐도금단계 및 전착단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 관한 것으로서, 본 발명의 일 실시형태에 따른 표면처리 방법은 3원합금도금단계에서 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 결함이 형성되지 않는 장점이 있고, 전착단계에서 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시킬 수 있을 뿐만 아니라 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지할 수 있어 안경프레임 자체의 품질을 높일 수 있는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium, and more particularly, to a degreasing step, an etching step, a jingate step, a copper cyanide plating step, a copper sulfate plating step, a ternary alloy plating step, and a palladium plating step. It relates to a method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that it comprises a step and an electrodeposition step, wherein the surface treatment method according to an embodiment of the present invention comprises copper cyanide and cyanide in the ternary alloy plating step. By using a ternary alloy plating solution containing zinc and sodium stannate, it has excellent physical properties such as corrosion resistance, abrasion resistance and adhesion, so that a highly reliable metal surface can be obtained, which has the advantage that defects are not formed, and rhodium in the electrodeposition step By electrodeposition using the included white rhodium plating solution, not only can the silver color be effectively expressed, but also it has excellent corrosion resistance, so it can prevent corrosion even when exposed to salt water. It relates to a method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material.

마그네슘 또는 마그네슘 합금은 실용 금속 중 가장 비중이 작으면서 비강도가 큰 특징이 있으며, 주조성, 절삭성, 치수 안정성 및 내구성이 매우 뛰어나다는 이점을 가진다. 이로 인하여 마그네슘 관련 제품은 자동차 부품, 통신부품, 전자부품, 컴퓨터, 휴대용 전자기기뿐만 아니라 스포츠 용품의 재료로 사용되고 있다. 그러나 마그네슘 관련 제품은 공기 중에서 가장 부식되기 쉬운 금속이므로 제품으로 사용되기 위하여 표면처리가 필수로 진행되어야 한다.Magnesium or a magnesium alloy has the smallest specific gravity and high specific strength among practical metals, and has advantages in castability, machinability, dimensional stability and durability. For this reason, magnesium-related products are being used as materials for automobile parts, communication parts, electronic parts, computers, portable electronic devices, as well as sporting goods. However, magnesium-related products are the most corrosive metal in the air, so surface treatment is essential to be used as a product.

마그네슘 관련 제품의 표면 처리는 크로메이트 처리 또는 양극산화 처리와 같은 방법이 이용되고 있지만 크로메이트 처리는 용액의 크롬 6가 이온으로 인하여 환경 문제를 발생시킨다는 문제점을 가진다. 이로 인하여 마그네슘 관련 제품에 대한 새로운 도금 기술과 같은 표면처리 방법의 개발이 요구된다.Although methods such as chromate treatment or anodization treatment are used for surface treatment of magnesium-related products, chromate treatment has a problem in that it causes environmental problems due to chromium hexavalent ions in the solution. For this reason, it is required to develop a surface treatment method such as a new plating technology for magnesium-related products.

대한민국 공개특허 제10-2010-0104188호에는 전기, 전자기기, 안경테, 자동차 또는 각종 기계 부품에 사용되는 마그네슘 판재 또는 마그네슘 합금의 성형품과 같은 마그네슘 관련 제품의 내식성을 향상시키기 위한 무전해 또는 전해 도금 방법에 관련된 마그네슘 또는 마그네슘 합금 제품의 도금 방법과 관련된 기술 내용이 개시되어 있다. 또한 대한민국 공개특허 제10-2012-0127840호에는 마그네슘 합금 표면에 치환 구리 피막을 형성하는 전처리를 통하여 도금 밀착력이 향상되도록 하는 마그네슘 합금의 도금방법 및 이를 위한 전처리 방법과 관련된 기술 내용이 개시되어 있다. Korean Patent Laid-Open Patent No. 10-2010-0104188 discloses an electroless or electrolytic plating method for improving the corrosion resistance of magnesium-related products, such as magnesium plates or magnesium alloy molded products used in electrical, electronic devices, eyeglass frames, automobiles, or various mechanical parts. Technical content related to the plating method of magnesium or magnesium alloy products related to is disclosed. In addition, Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2012-0127840 discloses a method for plating a magnesium alloy to improve plating adhesion through a pretreatment of forming a substituted copper film on the surface of the magnesium alloy, and a technical content related to a pretreatment method therefor.

상기와 같이 마그네슘 관련 제품의 내식성을 향상시키기 위한 도금 기술과 같은 표면처리 방법에 대해서는 관련 연구가 활발히 진행되고 있기는 하지만, 마그네슘 관련 제품 중에서도 특히 안경프레임에 최적화되어 있으며, 3원합금 도금 공정에서 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 결함이 형성되지 않는 장점이 있고, 전착 공정에서 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시킬 수 있을 뿐만 아니라 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지할 수 있어 안경프레임 자체의 품질을 높일 수 있는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법과 관련된 기술 개발은 미흡한 실정이다.As mentioned above, although related research is being actively conducted on surface treatment methods such as plating technology to improve the corrosion resistance of magnesium-related products, it is optimized for glasses frames among magnesium-related products, and cyanide in the ternary alloy plating process By using a ternary alloy plating solution containing copper, zinc cyanide and sodium stannate, it has excellent physical properties such as corrosion resistance, abrasion resistance and adhesion, so that a highly reliable metal surface can be obtained. By electrodeposition using a white rhodium plating solution containing rhodium in the process, silver color can be effectively expressed, and corrosion resistance is excellent, preventing corrosion even when exposed to salt water, thereby improving the quality of the glasses frame itself. The development of technology related to the surface treatment method of the spectacle frame composed of a magnesium alloy material using rhodium is insufficient.

대한민국 공개특허 제10-2010-0104188호(2010.09.29.공개)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2010-0104188 (published on September 29, 2010) 대한민국 공개특허 제10-2012-0127840호(2012.11.26.공개)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2012-0127840 (published on November 26, 2012)

본 발명은 상술한 것과 같은 문제점을 해결하고 필요한 기술을 제공하기 위하여 안출된 것으로서,The present invention has been devised to solve the problems as described above and provide the necessary technology,

본 발명은 탈지단계, 에칭단계, 징게이트단계, 시안동도금단계, 황산동도금단계, 3원합금도금단계, 팔라듐도금단계 및 전착단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 제공함에 목적이 있다.The present invention relates to a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that it includes a degreasing step, an etching step, a jingate step, a cyan copper plating step, a copper sulfate plating step, a ternary alloy plating step, a palladium plating step and an electrodeposition step. An object of the present invention is to provide a surface treatment method.

또한, 본 발명은 3원합금도금단계에서 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 결함이 형성되지 않는 장점이 있는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 제공함에 다른 목적이 있다.In addition, the present invention uses a ternary alloy plating solution containing copper cyanide, zinc cyanide, and sodium stannate in the ternary alloy plating step to obtain excellent physical properties such as corrosion resistance, abrasion resistance and adhesion to obtain a highly reliable metal surface. Another object of the present invention is to provide a method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium, which has the advantage that defects are not formed.

아울러, 본 발명은 전착단계에서 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시킬 수 있을 뿐만 아니라 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지할 수 있어 안경프레임 자체의 품질을 높일 수 있는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 제공함에 또 다른 목적이 있다.In addition, the present invention can effectively express silver color by electrodeposition using a white rhodium plating solution containing rhodium in the electrodeposition step, and has excellent corrosion resistance to prevent corrosion even when exposed to salt water. Another object of the present invention is to provide a method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium that can improve the quality of the glasses.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시형태로서,As an embodiment of the present invention for achieving the above object,

본 발명의 일 실시형태는 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법으로서, 피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 50 내지 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5 내지 15분 동안 담지하여 탈지시키는 탈지단계; 상기 탈지단계에서 탈지 처리된 피도금체를 18 내지 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1 내지 2분 동안 침적하여 에칭시키는 에칭단계; 상기 에칭단계에서 에칭 처리된 피도금체를 65 내지 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 4 내지 6분 동안 침적하여 아연을 치환하는 징게이트단계; 상기 징게이트단계에서 징게이트 처리된 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 50 내지 60℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 시안동도금단계; 상기 시안동도금단계에서 시안동 도금된 도금체를 황산동도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 30 내지 40분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 황산동도금단계; 상기 황산동도금단계에서 황산동 도금된 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 3원합금도금단계; 상기 3원합금도금단계에서 3원합금 도금된 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 35 내지 45℃의 온도에서 2 내지 4분 동안 0.25 내지 0.5A의 전류세기로 전해도금시키는 팔라듐도금단계; 및 상기 팔라듐도금단계에서 팔라듐 도금된 도금체를 35 내지 45℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1 내지 2분 동안 침적하되, 0.5 내지 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시키는 전착단계;가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 제공한다.One embodiment of the present invention is a method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material, by immersing the spectacle frame made of a magnesium alloy material, which is a material to be plated, in a degreasing solution maintained at a temperature of 50 to 60° C. for 5 to 15 minutes. a degreasing step of degreasing; an etching step of etching by immersing the degreased object to be plated in the degreasing step for 1 to 2 minutes in an etchant maintained at a temperature of 18 to 25°C; a jingate step of substituting zinc by immersing the plated body etched in the etching step in a jingate solution maintained at a temperature of 65 to 70° C. for 4 to 6 minutes; a cyan copper plating step of electrolytically plating the body to be plated, which has been treated with the jingate in the jingate step, using a copper cyanide plating solution at a temperature of 50 to 60° C. for 10 to 20 minutes at a current strength of 1 to 2A; a copper sulfate plating step of electrolytically plating the cyan copper plated body in the cyan copper plating step using a copper sulfate plating solution at a temperature of 18 to 25° C. for 30 to 40 minutes at a current strength of 1 to 2 A; a ternary alloy plating step of electrolytically plating the copper sulfate plated body in the copper sulfate plating step using a ternary alloy plating solution at a temperature of 18 to 25° C. for 10 to 20 minutes at a current strength of 1 to 2A; a palladium plating step of electrolytically plating the ternary alloy plated body at a temperature of 35 to 45° C. for 2 to 4 minutes at a current strength of 0.25 to 0.5 A using a palladium plating solution in the ternary alloy plating step; and an electrodeposition step of immersing the palladium-plated plating body in the palladium plating step for 1 to 2 minutes in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 35 to 45 ° C., while stirring at a current strength of 0.5 to 1 A; It provides a method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that it becomes.

본 발명에 있어서, 상기 탈지단계의 탈지액은 pH가 13 이상인 알칼리 용액이며, 탈지액 전체 1리터(L)를 기준으로 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 100 내지 150g/L 및 탄산나트륨(Sodium carbonate) 50 내지 100g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the degreasing solution in the degreasing step is an alkaline solution having a pH of 13 or more, sodium hydroxide 100 to 150 g/L and sodium carbonate 50 to 50 to 1 liter (L) of the total degreasing solution. It is characterized in that 100g/L is included.

본 발명에 있어서, 상기 에칭단계의 에칭액은 에칭액 전체 1리터(L)를 기준으로 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA, Ethylene diamine tetra acetic acid) 5 내지 10g/L 및 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 30 내지 50g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the etching solution in the etching step is ethylenediamine tetraacetic acid (EDTA, Ethylene diamine tetra acetic acid) 5 to 10 g/L and sodium hydroxide 30 to 50 g/L based on the total 1 liter (L) of the etching solution. It is characterized in that L is included.

본 발명에 있어서, 상기 징게이트단계의 징게이트액은 징게이트액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산아연(Zinc sulfate) 30 내지 80g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the jingate solution in the jingate step is characterized in that it contains 30 to 80 g/L of zinc sulfate based on 1 liter (L) of the total jingate solution.

본 발명에 있어서, 상기 시안동도금단계의 시안동도금액은 시안동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(Sodium cyanide) 70 내지 90g/L, 시안화구리(Copper cyanide) 60 내지 80g/L, 칼륨나트륨타르타르산염(Potassium sodium tartrate) 20 내지 40g/L 및 탄산나트륨(Sodium carbonate) 40 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the copper cyanide plating solution in the copper cyanide plating step is 70 to 90 g/L of sodium cyanide, 60 to 80 g/L of copper cyanide, based on 1 liter (L) of the total copper cyanide plating solution. It is characterized in that it contains 20 to 40 g/L of potassium sodium tartrate and 40 to 60 g/L of sodium carbonate.

본 발명에 있어서, 상기 황산동도금단계의 황산동도금액은 황산동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산동(Copper sulfate) 150 내지 250g/L 및 황산(Sulfuric acid) 45 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징특징으로 한다.In the present invention, the copper sulfate plating solution in the copper sulfate plating step contains 150 to 250 g/L of copper sulfate and 45 to 60 g/L of sulfuric acid based on 1 liter (L) of the total copper sulfate plating solution. is a characteristic feature.

본 발명에 있어서, 상기 3원합금도금단계의 3원합금도금액은 3원합금도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(Sodium cyanide) 40 내지 50g/L, 시안화구리(Copper cyanide) 16 내지 20g/L, 시안화아연(Zinc cyanide) 1.6 내지 1.8g/L, 주석산나트륨(Sodium Stannate) 80 내지 90g/L 및 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 20 내지 30g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the ternary alloy plating solution in the ternary alloy plating step is 40 to 50 g/L of sodium cyanide and 16 to 50 g/L of sodium cyanide based on 1 liter (L) of the total ternary alloy plating solution. to 20 g/L, zinc cyanide 1.6 to 1.8 g/L, sodium stannate 80 to 90 g/L, and sodium hydroxide 20 to 30 g/L.

본 발명에 있어서, 상기 팔라듐도금단계의 팔라듐도금액은 팔라듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 팔라듐(Palladium) 3 내지 8g/L 및 황산암모늄(Ammonium sulfate) 150 내지 200g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the palladium plating solution in the palladium plating step contains 3 to 8 g/L of palladium and 150 to 200 g/L of ammonium sulfate based on 1 liter (L) of the total palladium plating solution. characterized in that

본 발명에 있어서, 상기 전착단계의 화이트로듐도금액은 화이트로듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 로듐(Rhodium) 1 내지 2g/L 및 황산(Sulfuric acid) 10 내지 15g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the white rhodium plating solution in the electrodeposition step contains 1 to 2 g/L of rhodium and 10 to 15 g/L of sulfuric acid based on 1 liter (L) of the total white rhodium plating solution. characterized in that

본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은 3원합금도금단계에서 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 결함이 형성되지 않는 장점이 있다.The method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention uses a ternary alloy plating solution containing copper cyanide, zinc cyanide, and sodium stannate in the ternary alloy plating step to achieve corrosion resistance and wear resistance. And since it is excellent in physical properties such as adhesion, a highly reliable metal surface can be obtained, there is an advantage in that defects are not formed.

또한, 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은 전착단계에서 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시킬 수 있을 뿐만 아니라 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지할 수 있어 안경프레임 자체의 품질을 높일 수 있는 장점이 있다.In addition, in the method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention, silver color can be effectively expressed by electrodeposition using a white rhodium plating solution containing rhodium in the electrodeposition step. It has excellent corrosion resistance, so it can prevent corrosion even when exposed to salt water, so it has the advantage of improving the quality of the glasses frame itself.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 공정 단계별로 나타낸 순서도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 이용하여 표면처리된 제품의 도금층을 나타내는 단면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편을 공정 단계별로 촬영한 사진이다.
도 4는 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 EDS 도금층을 측정한 결과를 나타내는 사진 및 그래프이다.
도 5는 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 밀착성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
도 6은 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
도 7은 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 시안동도금단계(S400) 및 황산동도금단계(S500)의 시간 증가에 따른 내식성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
도 8은 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 시안동도금단계(S400), 3원합금도금단계(S600), 팔라듐도금단계(S700) 및 전착단계(S800)의 시간 증가에 따른 내식성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
도 9는 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 내식성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
도 10은 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 땀에 대한 저항성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
1 is a flowchart illustrating a method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention, step by step.
2 is a cross-sectional view illustrating a plating layer of a product surface-treated using a method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention.
3 is a photograph of a magnesium alloy plating specimen surface-treated according to an embodiment of the present invention, taken by each process step.
4 is a photograph and graph showing the result of measuring the EDS plating layer of the magnesium alloy plating specimen surface-treated according to an embodiment of the present invention.
5 is a photograph showing the results of a plating adhesion confirmation test of a magnesium alloy plating specimen surface-treated according to an embodiment of the present invention.
6 is a photograph showing the results of a corrosion resistance confirmation test of a magnesium alloy plating specimen surface-treated according to an embodiment of the present invention.
7 is a photograph showing the results of a corrosion resistance confirmation test according to the increase in time of the copper cyanide plating step (S 400 ) and the copper sulfate plating step (S 500 ) of the magnesium alloy plating specimen surface-treated according to an embodiment of the present invention.
8 is a copper cyanide plating step (S 400 ), a ternary alloy plating step (S 600 ), a palladium plating step (S 700 ) and an electrodeposition step (S 800 ) of a magnesium alloy plating specimen surface-treated according to an embodiment of the present invention. It is a photograph showing the result of the corrosion resistance confirmation test according to the increase of time.
9 is a photograph showing the results of an experiment to confirm the corrosion resistance of a spectacle frame made of a magnesium alloy material surface-treated according to an embodiment of the present invention.
10 is a photograph showing the results of an experiment to confirm the resistance to sweat of a spectacle frame made of a surface-treated magnesium alloy material according to an embodiment of the present invention.

이하, 본원의 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본원 발명의 실시형태를 들어 상세히 설명한다. 본원 발명의 실시형태는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본원 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 본원 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본원 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily carry out the present invention. The embodiments of the present invention are provided in order to more completely explain the present invention to those of ordinary skill in the art. Accordingly, the embodiments of the present invention may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below.

본원 발명의 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification of the present invention, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated.

본 발명의 명세서 전체에서, 어떤 단계가 다른 단계와 “상에” 또는 “전에” 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 단계가 다른 단계와 직접적 시계열적인 관계에 있는 경우뿐만 아니라, 각 단계 후의 혼합하는 단계와 같이 두 단계의 순서에 시계열적 순서가 바뀔 수 있는 간접적 시계열적 관계에 있는 경우와 동일한 권리를 포함할 수 있다.Throughout the specification of the present invention, when a step is located “on” or “before” another step, this means not only a case in which a step is in a direct time-series relationship with another step, but also a step of mixing after each step and Likewise, the order of two stages may include the same rights as in the case of an indirect time series relationship in which the time series order may change.

본 발명의 명세서 전체에서 사용되는 정도의 용어 “약”, “실질적으로” 등은 언급된 의미에 고유한 제조 및 물질 허용 오차가 제시될 때 그 수치에서 또는 그 수치에 근접한 의미로 사용되고, 본 발명의 이해를 돕기 위해 정확하거나 절대적인 수치가 언급된 개시 내용을 비양심적인 침해자가 부당하게 이용하는 것을 방지하기 위해 사용된다. 본원 명세서 전체에서 사용되는 용어 “~(하는) 단계” 또는 “~의 단계”는 “~를 위한 단계”를 의미하지 않는다.The terms "about", "substantially", etc. to the extent used throughout the specification of the present invention are used in or close to the numerical value when manufacturing and material tolerances inherent in the stated meaning are presented, and the present invention It is used to prevent an unconscionable infringer from using the disclosure in which exact or absolute figures are mentioned to help understand. As used throughout this specification, the term “step of (to)” or “step of” does not mean “step for”.

본원 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본원 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본원 발명에서, “포함하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the present invention are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present invention, terms such as “comprise” or “have” are intended to designate that the features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification exist, but one or more other features It is to be understood that this does not preclude the possibility of the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

본 발명은 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 탈지단계(S100), 에칭단계(S200), 징게이트단계(S300), 시안동도금단계(S400), 황산동도금단계(S500), 3원합금도금단계(S600), 팔라듐도금단계(S700) 및 전착단계(S800)를 포함한다.The present invention relates to a method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium, and more specifically, a degreasing step (S 100 ), an etching step (S 200 ), a jingate step (S 300 ), a cyan copper plating step. (S 400 ), copper sulfate plating step (S 500 ), ternary alloy plating step (S 600 ), palladium plating step (S 700 ) and electrodeposition step (S 800 ).

이하, 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법(이하, ‘표면처리 방법’이라고도 함)을 구체적으로 설명한다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은 후술하는 설명에 의하여 보다 명확하게 이해될 수 있다.Hereinafter, a surface treatment method (hereinafter also referred to as a 'surface treatment method') of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention will be described in detail. A method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention may be more clearly understood by the following description.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 공정 단계별로 나타낸 순서도이다.1 is a flowchart illustrating a method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention, step by step.

우선, 탈지단계(S100)를 수행할 수 있다.First, a degreasing step (S 100 ) may be performed.

피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 50 내지 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5 내지 15분 동안 담지하여 탈지시키는 탈지단계(S100)를 수행할 수 있다.A degreasing step (S 100 ) of degreasing by immersing the spectacle frame made of a magnesium alloy material, which is a body to be plated, in a degreasing solution maintained at a temperature of 50 to 60° C. for 5 to 15 minutes may be performed.

탈지는 유지성 오염물을 제거하기 위해 수행하는 공정으로서, 도금에서는 세정을 포함하여 탈지 세정의 의미로 알칼리 탈지(세정), 용제 탈지(세청) 및 전해 탈지(세청) 등을 의미한다.Degreasing is a process performed to remove oleaginous contaminants. In plating, including cleaning, degreasing means alkaline degreasing (cleaning), solvent degreasing (cleaning), and electrolytic degreasing (cleaning).

본 발명의 탈지단계(S100)는 피도금체의 재질, 형상, 제조 공정, 제조 환경에 따라 발생된 금속 표면의 오염물질을 제거하기 위해 수행하는 공정으로서, 일반적인 도금 준비 작업이라 할 수 있다. 탈지는 도금 공정에서 중요한 공정이라 할 수 있으며 탈지가 불충분할 경우 밀착 불량, 광택 불량, 거친 도금 및 부풀음 등의 불량 원인이 될 수 있다.The degreasing step (S 100 ) of the present invention is a process performed to remove contaminants from the metal surface generated according to the material, shape, manufacturing process, and manufacturing environment of the object to be plated, and may be referred to as a general plating preparation operation. Degreasing is an important process in the plating process, and insufficient degreasing may cause defects such as poor adhesion, poor gloss, rough plating and swelling.

상기 탈지단계(S100)에서는 피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 50 내지 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 담지하여 탈지시키는 것이 바람직한데, 이는 50℃ 미만의 온도에서 탈지되는 경우에는 탈지 시간이 길어지며 미탈지 현상이 발생될 우려가 있기 때문이며, 60℃를 초과하는 온도에서 탈지되는 경우에는 탈지액 수명이 단축될 우려가 있기 때문이다.In the degreasing step (S 100 ), it is preferable to degrease the spectacle frame made of a magnesium alloy material, which is a material to be plated, by supporting it in a degreasing solution maintained at a temperature of 50 to 60 ° C. This is because the degreasing time becomes longer and there is a fear that a non-degreasing phenomenon may occur, and if the degreasing is performed at a temperature exceeding 60° C., the life of the degreasing solution may be shortened.

또한, 상기 탈지단계(S100)에서는 피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 탈지액에 5 내지 15분 동안 담지하여 탈지시키는 것이 바람직한데, 이는 5분 미만의 시간 동안 탈지되는 경우에는 부분적으로 미탈지가 발생될 우려가 있기 때문이며, 15분을 초과하는 시간 동안 탈지되는 경우에는 탈지가 완전히 이루어진 후에 불필요한 시간이 더 소비되게 되어 생산성이 저감될 우려가 있기 때문이다.In addition, in the degreasing step ( S 100 ), it is preferable to degrease the glasses frame made of a magnesium alloy material, which is a material to be plated, in a degreasing solution for 5 to 15 minutes, which is partially degreased for less than 5 minutes. This is because there is a possibility that non-degreasing may occur, and in the case of degreasing for a time exceeding 15 minutes, unnecessary time is consumed more after the degreasing is completely performed, and there is a fear that productivity may be reduced.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 탈지단계(S100)의 탈지액은 pH가 13 이상인 알칼리 용액이며, 탈지액 전체 1리터(L)를 기준으로 수산화나트륨(NaOH, Sodium hydroxide) 100 내지 150g/L 및 탄산나트륨(Na2CO3, Sodium carbonate) 50 내지 100g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the degreasing solution of the degreasing step (S 100 ) is an alkaline solution having a pH of 13 or more, and sodium hydroxide (NaOH, Sodium hydroxide) 100 to 150 g based on 1 liter (L) of the total degreasing solution /L and sodium carbonate (Na 2 CO 3 , Sodium carbonate) 50 to 100 g/L is included.

다음으로, 에칭단계(S200)를 수행할 수 있다.Next, an etching step (S 200 ) may be performed.

상기 탈지단계(S100)에서 탈지 처리된 피도금체를 18 내지 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1 내지 2분 동안 침적하여 에칭시키는 에칭단계(S200)를 수행할 수 있다.An etching step ( S200 ) of etching the degreasing-treated object to be plated in the degreasing step ( S100 ) may be performed by immersing it in an etchant maintained at a temperature of 18 to 25°C for 1 to 2 minutes.

에칭은 금속 또는 비금속 표면을 화학적 또는 전기화학적으로 부식하는 방법을 의미한다.Etching refers to a method of chemically or electrochemically etching a metal or non-metal surface.

본 발명의 에칭단계(S200)는 피도금체를 산화제가 포함된 액으로 에칭하여, 표면 조화와 화학적 변화를 일으키게 함으로써 도금 밀착성을 향상시키기 위해 수행하는 공정이다.The etching step (S 200 ) of the present invention is a process performed to improve plating adhesion by etching the object to be plated with a liquid containing an oxidizing agent, thereby causing surface roughness and chemical change.

상기 에칭단계(S200)에서는 피도금체를 18 내지 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1 내지 2분 동안 침적하여 에칭시키는 것이 바람직한데, 이는 25℃를 초과하는 온도에서 에칭되거나 2분을 초과하는 시간 동안 에칭되는 경우에는 과한 에칭으로 인해 피도금체 표면에 오히려 도금 밀착 불량이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the etching step (S 200 ), it is preferable to etch the object to be plated by immersing it in an etching solution maintained at a temperature of 18 to 25° C. for 1 to 2 minutes, which is etched at a temperature exceeding 25° C. or exceeding 2 minutes. This is because, in the case of etching for a period of time, there is a risk of poor plating adhesion on the surface of the object to be plated due to excessive etching.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 에칭단계(S200)의 에칭액은 에칭액 전체 1리터(L)를 기준으로 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA, C10H16N2O8, Ethylene diamine tetra acetic acid) 5 내지 10g/L 및 수산화나트륨(NaOH, Sodium hydroxide) 30 내지 50g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the etching solution of the etching step (S 200 ) is ethylenediamine tetraacetic acid (EDTA, C 10 H 16 N 2 O 8 , Ethylene diamine tetra acetic acid based on 1 liter (L) of the total etching solution) ) 5 to 10 g/L and sodium hydroxide (NaOH, Sodium hydroxide) 30 to 50 g/L.

다음으로, 징게이트단계(S300)를 수행할 수 있다.Next, a jingate step (S 300 ) may be performed.

상기 에칭단계(S200)에서 에칭 처리된 피도금체를 65 내지 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 4 내지 6분 동안 침적하여 아연을 치환하는 징게이트단계(S300)를 수행할 수 있다.In the etching step (S 200 ), the zincate step ( S300 ) of substituting zinc by immersing the plated body etched in the zincate solution maintained at a temperature of 65 to 70°C for 4 to 6 minutes can be performed. have.

징게이트는 서로 다른 금속 사이의 전위차를 이용하는 도금 방법으로, 무전해 도금에 속하며, 징게이트액에 침적시켜 아연을 치환하여 석출시키는 방법을 의미한다.Jingate is a plating method using a potential difference between different metals, belongs to electroless plating, and refers to a method of depositing zinc by substituting zinc by immersion in a zincate solution.

본 발명의 징게이트단계(S300)는 도금 밀착력을 증가시키기 위한 전처리공정으로써 수행한다.The jingate step ( S300 ) of the present invention is performed as a pretreatment process for increasing the plating adhesion.

상기 징게이트단계(S300)에서는 피도금체를 징게이트액에 4 내지 6분 동안 침적시키는 것이 바람직한데, 이는 4분 미만의 시간 동안 침적되는 경우에는 피막층이 제대로 코팅되지 않는 문제점이 발생될 우려가 있으며, 6분을 초과하는 시간 동안 침적되는 경우에는 피막층이 완전히 코팅된 후에 불필요한 시간이 더 소비되게 되어 생산성이 저감될 우려가 있기 때문이다.In the jingate step (S 300 ), it is preferable to immerse the object to be plated in the jingate solution for 4 to 6 minutes, which may cause a problem that the coating layer is not properly coated when immersed for less than 4 minutes. This is because, in the case of being immersed for a time exceeding 6 minutes, unnecessary time is consumed more after the coating layer is completely coated, thereby reducing productivity.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 징게이트단계(S300)의 징게이트액은 징게이트액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산아연(ZnSO4, Zinc sulfate) 30 내지 80g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the jingate solution in the jingate step (S 300 ) contains 30 to 80 g/L of zinc sulfate (ZnSO 4 , Zinc sulfate) based on 1 liter (L) of the total jingate solution. characterized by being

다음으로, 시안동도금단계(S400)를 수행할 수 있다.Next, a cyan copper plating step (S 400 ) may be performed.

상기 징게이트단계(S300)에서 징게이트 처리된 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 50 내지 60℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 시안동도금단계(S400)를 수행할 수 있다.A cyan copper plating step (S 300) of electrolytically plating the zincate-treated body to be plated in the jingate step (S 300 ) using a copper cyanide plating solution at a temperature of 50 to 60° C. for 10 to 20 minutes at a current strength of 1 to 2 A. 400 ) can be performed.

시안동 도금은 도금 밀착성을 개선하거나 전기 도금욕의 도금 초기에 저전류밀도 부분까지 하지표면을 도금 금속으로 커버할 수 있어 도금의 피복력을 향상시키는 도금을 방법을 의미한다.Cyan copper plating refers to a plating method that improves the plating adhesion or improves the coating power of the plating by covering the underlying surface with the plating metal up to the low current density portion at the initial stage of plating of the electroplating bath.

본 발명의 시안동도금단계(S400)는 하지도금을 하는 단계로, 황산동 도금은 아연상에 밀착력이 나빠 직접적인 도금이 어려울 수 있기 때문에 황산동 도금 전 도금 밀착성을 위하여 금속 상에 직접 밀착력이 우수한 도금인 시안동 도금을 먼저 하기 위해 수행하는 공정으로써, 1가 동에서의 석출이기 때문에 도금 속도가 빠른 장점이 있다.The cyan copper plating step (S 400 ) of the present invention is a base plating step, and since copper sulfate plating has poor adhesion to zinc, direct plating may be difficult. This is a process performed to perform cyan copper plating first, and since it is precipitation from monovalent copper, the plating speed is fast.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 시안동도금단계(S400)는 양극으로 피도금체 면적의 최소 2배 이상의 순수동판을 사용하고 양극 주머니를 씌워서 양극에서 슬러지가 생성되는 것을 방지한 뒤, 시안동도금액에 침적시킨 후 전류를 걸면서 공기 교반을 하여 도금을 진행하는 것이 바람직하며, 구리이온을 피도금체에 골고루 보내주게 됨으로써 높은 전류밀도가 되어 Pit 발생을 막아주는 장점이 있다.Although not limited thereto, the cyan copper plating step (S 400 ) uses a pure copper plate that is at least twice the area to be plated as the anode and covers the anode bag to prevent sludge from being generated at the anode, and then to the cyan copper plating solution. After deposition, it is preferable to perform plating by stirring with air while applying an electric current, and as copper ions are evenly distributed to the body to be plated, high current density is achieved and pit generation is prevented.

상기 시안동도금단계(S400)에서는 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 50 내지 60℃의 온도에서 전류를 가하여 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 50℃ 미만의 온도에서 전해도금되는 경우에는 도금이 취약해지고 밀착 불량이 발생될 우려가 있기 때문이며, 60℃를 초과하는 온도에서 전해도금되는 경우에는 도금 표면이 거칠게 되는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the copper cyanide plating step (S 400 ), it is preferable to electrolytically plated the body to be plated by applying a current at a temperature of 50 to 60° C. using a copper cyanide plating solution. This is because there is a risk of becoming brittle and poor adhesion, and when electrolytic plating is performed at a temperature exceeding 60° C., there is a risk that the plating surface becomes rough.

또한, 상기 시안동도금단계(S400)에서는 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 10 내지 20분 동안 전류를 가하여 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 10분 미만의 시간 동안 전해도금되는 경우에는 시안동 도금이 충분히 진행되지 않아 도금이 얇게 되어 추후 황산동 도금 공정 수행 중 황상동 도금조에서 도금체와 황산동이 반응하여 미도금 현상이 발생될 우려가 있기 때문이다.In addition, in the copper cyanide plating step (S 400 ), it is preferable to electrolytically plated the body to be plated by applying a current for 10 to 20 minutes using a copper cyanide plating solution, which is electrolytic plating for less than 10 minutes. This is because the plating does not proceed sufficiently, and the plating becomes thin, and there is a fear that the plating body and copper sulfate react in the copper sulfate plating tank during the subsequent copper sulfate plating process, resulting in non-plating.

아울러, 상기 시안동도금단계(S400)에서는 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 2A를 초과하는 전류세기로 전해도금되는 경우에는 도금체와 지그가 접하는 접촉면이 타는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In addition, in the copper cyanide plating step ( S400 ), it is preferable to electrolytically plated the body to be plated with a current strength of 1 to 2A using a copper cyanide plating solution, which is electrolytically plated with a current strength exceeding 2A. This is because there is a risk that the contact surface in contact with the jig may burn.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 시안동도금단계(S400)의 시안동도금액은 시안동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(NaCN, Sodium cyanide) 70 내지 90g/L, 시안화구리(CuCN, Copper cyanide) 60 내지 80g/L, 칼륨나트륨타르타르산염(롯셀염, C4H4KNaO6, Potassium sodium tartrate) 20 내지 40g/L 및 탄산나트륨(Na2CO3, Sodium carbonate) 40 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the copper cyanide plating solution in the copper cyanide plating step (S 400 ) is sodium cyanide (NaCN, Sodium cyanide) 70 to 90 g/L, copper cyanide based on 1 liter (L) of the total copper cyanide plating solution. (CuCN, Copper cyanide) 60 to 80 g/L, potassium sodium tartrate (Rossel salt, C 4 H 4 KNaO 6 , Potassium sodium tartrate) 20 to 40 g/L and sodium carbonate (Na 2 CO 3 , Sodium carbonate) 40 to 60 g It is characterized in that /L is included.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 시안동도금단계(S400)로 형성된 Cu 도금층은 4 내지 9㎛의 두께로 형성되는 것이 바람직한데, 이는 Cu 도금층이 4㎛ 미만의 두께로 형성되는 경우에는 너무 얇은 도금으로 인하여 추후 황산동 도금 공정 수행 중 황상동 도금조에서 도금체와 황산동이 반응하여 미도금 현상이 발생될 우려가 있기 때문이며, Cu 도금층이 9㎛를 초과하는 두께로 형성되는 경우에는 도금 밀착 불량 발생의 요인이 될 우려가 있기 때문이다.Although not limited thereto, the Cu plating layer formed in the cyan copper plating step (S 400 ) is preferably formed to a thickness of 4 to 9 μm, which is too thin plating when the Cu plating layer is formed to a thickness of less than 4 μm. This is because there is a risk that the plating body and copper sulfate react in the copper sulfate plating tank during the subsequent copper sulfate plating process to cause a non-plating phenomenon. because there is a risk of becoming

다음으로, 황산동도금단계(S500)를 수행할 수 있다.Next, a copper sulfate plating step (S 500 ) may be performed.

상기 시안동도금단계(S400)에서 시안동 도금된 도금체를 황산동도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 30 내지 40분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 황산동도금단계(S500)를 수행할 수 있다.A copper sulfate plating step (S 500 ) of electrolytically plating the cyan copper-plated plating body in the cyan copper plating step (S 400 ) at a temperature of 18 to 25 ° C. for 30 to 40 minutes at a current strength of 1 to 2 A using a copper sulfate plating solution. ) can be done.

황산동 도금은 공해가 적게 발생하며 비용이 적게 들고 평활성이 좋은 장점이 있다. 하지도금, 착색하지, 전주, 프리트기판 도금에 주로 사용된다. 철, 아연, 납, 아연다이캐스팅 상에 밀착력에 나빠 직접 도금이 어렵다. 평활화(Leceling) 작용이 좋아 버프 흠을 없애고 광택을 얻기 쉬울 뿐만 아니라 간단한 조성으로 대전류의 도금이 가능하고 전류 효율도 우수하다.Copper sulfate plating has the advantages of low pollution, low cost, and good smoothness. It is mainly used for base plating, color base, electric pole, and frit substrate plating. Direct plating is difficult due to poor adhesion on iron, zinc, lead and zinc die-casting. It has good smoothing action, so it is easy to get rid of buff flaws and obtain gloss, and it can be plated at high current with a simple composition and has excellent current efficiency.

본 발명의 황산동도금단계(S500)는 장식도금의 하지도금 중 중간층 도금을 하기 위해 수행하는 공정이다.The copper sulfate plating step (S 500 ) of the present invention is a process performed to perform intermediate layer plating among the base plating of decorative plating.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 황산동도금단계(S500)는 양극으로 도금체 면적의 최소 2배 이상의 순수동판을 사용하고 양극 주머니를 씌워서 양극에서 슬러지가 생성되는 것을 방지한 뒤, 황산동도금액에 침적시킨 후 전류를 걸면서 공기 교반을 하여 도금을 진행하는 것이 바람직하다. 교반은 균일한 광택을 얻기 위하여 진행하는 것으로서, 무교반시 액의 상, 하 농도차가 생겨 광택의 차이가 발생되기 때문이며, 구리이온을 피도금체에 골고루 보내주게 됨으로써 높은 전류밀도가 되어 Pit 발생을 막아주는 장점이 있기 때문이다.Although not limited thereto, in the copper sulfate plating step (S 500 ), a pure copper plate of at least twice the area of the plating body is used as the anode, and the anode bag is covered to prevent sludge from being generated at the anode, and then immersed in the copper sulfate plating solution. It is preferable to proceed with plating by stirring with air while applying an electric current. Stirring is carried out to obtain uniform gloss, and this is because there is a difference in gloss due to a difference in concentration between the upper and lower liquids when there is no stirring. Because it has advantages.

상기 황산동도금단계(S500)에서는 도금체를 황산동도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 전류를 가하여 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 18℃ 미만의 온도에서 전해도금되는 경우에는 도금이 취약해지며 도금 밀착 불량이 발생될 우려가 있고 황산동 결정이 생겨 농도가 낮아지는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이며, 25℃를 초과하는 온도에서 전해도금되는 경우에는 도금 표면이 거칠어지기 쉽고 광택제를 분해시켜 소비량이 많아지는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the copper sulfate plating step (S 500 ), it is preferable to electrolytically plated the plated body by applying a current at a temperature of 18 to 25° C. using a copper sulfate plating solution. This is because there is a risk that there is a risk of poor plating adhesion and a problem of lowering the concentration due to the formation of copper sulfate crystals. This is because there is a risk that the problem of increased consumption may occur.

또한, 상기 황산동도금단계(S500)에서는 도금체를 황산동도금액을 이용하여 30 내지 40분 동안 전류를 가하여 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 시간 범위가 30 내지 40분을 초과하거나 미달되는 경우에는 제대로 된 도금층이 형성되지 못하여 미광택 또는 광택성이 저하되는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In addition, in the copper sulfate plating step ( S 500 ), it is preferable to electrolytically plated the plating body by applying an electric current for 30 to 40 minutes using a copper sulfate plating solution. This is because there is a possibility that a problem of deterioration of gloss or glossiness may occur because a proper plating layer is not formed.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 황산동도금단계(S500)의 황산동도금액은 황산동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산동(CuSO4·5H2O, Copper sulfate) 150 내지 250g/L 및 황산(H2SO4, Sulfuric acid) 45 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the copper sulfate plating solution in the copper sulfate plating step (S 500 ) is 150 to 250 g/ L and sulfuric acid (H 2 SO 4 , Sulfuric acid) 45 to 60 g/L is included.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 황산동도금단계(S500)로 형성된 Cu 도금층은 15 내지 20㎛의 두께로 형성되는 것이 바람직한데, 이는 Cu 도금층이 15 내지 20㎛의 두께 범위를 초과하거나 미달되는 경우에는 광택이 나지 않으며 내식성이 떨어지고 추후 3원합금 도금 공정에서 도금이 제대로 진행되지 않는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.Although not limited thereto, the Cu plating layer formed by the copper sulfate plating step (S 500 ) is preferably formed to a thickness of 15 to 20 μm, which is more than or less than the thickness range of the Cu plating layer of 15 to 20 μm. This is because there is a fear that the plating does not proceed properly in the future ternary alloy plating process due to poor gloss, poor corrosion resistance.

다음으로, 3원합금도금단계(S600)를 수행할 수 있다.Next, a ternary alloy plating step (S 600 ) may be performed.

상기 황산동도금단계(S500)에서 황산동 도금된 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 3원합금도금단계(S600)를 수행할 수 있다.A ternary alloy plating step ( S 600 ) can be performed.

3원합금 도금은 시안타입의 알칼리성 용액을 이용하며, 3종류의 금속 석출에 의한 합금도금 방법을 의미한다. 장식용으로써의 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금은 대용 금도금(‘금색도금’이라고도 함)으로써 사용된다. 특히, 무니켈을 요하는 도금에 적합하며, 장신구, 콘넥터 및 Solder Pin 도금에 적합하다. 유해물질이 함유되어 있지 않아 유해물질 사용제한 지침(RoHS)에 대응할 수 있는 도금 방법이다. 전류효율이 우수하고 균일한 색상의 도금이 가능하다.The ternary alloy plating uses a cyan-type alkaline solution and refers to an alloy plating method by precipitating three types of metals. Cu-Sn-Zn ternary alloy plating for decoration is used as a substitute gold plating (also called 'gold plating'). In particular, it is suitable for plating that requires no nickel, and is suitable for plating ornaments, connectors and solder pins. It is a plating method that can respond to the Restriction of Use of Hazardous Substances Directive (RoHS) as it does not contain harmful substances. Excellent current efficiency and uniform color plating is possible.

본 발명의 3원합금도금단계(S600)는 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 최종 제품에서 결함이 형성되지 않도록 하기 위해 수행하는 공정으로, 하지도금으로 도금 밀착성, 내식성 향상을 위해 수행하는 공정이라 할 수 있으며, 도금피막의 광택성이 좋고 넒은 전류밀도 영역에서 석출되게 할 수 있는 장점이 있다.In the ternary alloy plating step ( S600 ) of the present invention, by using a ternary alloy plating solution containing copper cyanide, zinc cyanide, and sodium stannate, it has excellent physical properties such as corrosion resistance, abrasion resistance and adhesion, so that a highly reliable metal surface can be obtained. This is a process performed to prevent defects from being formed in the final product as there are There are advantages to doing.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 3원합금도금단계(S600)는 양극으로 도금체 면적의 최소 2배 이상의 전극용 카본을 사용한다. 3원합금도금액에 침적시킨 후 전류를 걸어 음극교반(3 내지 10m/min)을 진행하는 것이 바람직하다. 교반은 균일한 광택을 얻기 위하여 진행하는 것으로서, 무교반시 액의 상, 하 농도차가 생겨 광택의 차이가 발생되기 때문이며, 광택의 얼룩무늬 발생을 막아주는 효과가 있기 때문이다.Although not limited thereto, the ternary alloy plating step (S 600 ) uses carbon for an electrode at least twice the area of the plating body as an anode. After being immersed in the ternary alloy plating solution, it is preferable to apply an electric current to perform cathode stirring (3 to 10 m/min). Agitation is performed to obtain a uniform gloss, and this is because, when there is no stirring, there is a difference in concentration between the upper and lower liquids, resulting in a difference in gloss, and this is because there is an effect of preventing the occurrence of mottled patterns of gloss.

상기 3원합금도금단계(S600)에서는 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 전류를 가하여 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 18℃ 미만의 온도에서 전해도금되는 경우에는 광택이 발생되지 않는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이며, 25℃를 초과하는 온도에서 전해도금되는 경우에는 도금층의 Cu가 석출되고 광택성이 저하되는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the ternary alloy plating step (S 600 ), it is preferable to electrolytically plated the plating body by applying a current at a temperature of 18 to 25° C. using a ternary alloy plating solution, which is electrolytically plated at a temperature less than 18° C. This is because there is a concern that a problem in which gloss is not generated may occur, and when electrolytic plating is performed at a temperature exceeding 25° C., Cu in the plating layer is precipitated and there is a possibility that a problem of lowering gloss may occur.

또한, 상기 3원합금도금단계(S600)에서는 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 1A 미만의 전류세기로 전해도금되는 경우에는 석출피막이 감소되고 흰색의 광택이 없는 도금이 될 우려가 있기 때문이며, 2A를 초과하는 전류세기로 전해도금되는 경우에는 도금층의 Cu 석출이 증가되는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In addition, in the ternary alloy plating step ( S600 ), it is preferable to electrolytically plated the plating body with a current strength of 1 to 2A using a ternary alloy plating solution, which is precipitated when electrolytically plated with a current strength of less than 1A. This is because there is a fear that the coating film is reduced and there is a risk of plating without white gloss.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 3원합금도금단계(S600)의 3원합금도금액은 3원합금도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(NaCN, Sodium cyanide) 40 내지 50g/L, 시안화구리(CuCN, Copper cyanide) 16 내지 20g/L, 시안화아연(ZN(CN)2, Zinc cyanide) 1.6 내지 1.8g/L, 주석산나트륨(Na2SnO3, Sodium Stannate) 80 내지 90g/L 및 수산화나트륨(NaOH, Sodium hydroxide) 20 내지 30g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the ternary alloy plating solution of the ternary alloy plating step (S 600 ) is 40 to 50 g of sodium cyanide (NaCN, Sodium cyanide) based on 1 liter (L) of the total ternary alloy plating solution. /L, copper cyanide (CuCN, Copper cyanide) 16 to 20 g/L, zinc cyanide (ZN(CN) 2 , Zinc cyanide) 1.6 to 1.8 g/L, sodium tartrate (Na 2 SnO 3 , Sodium Stannate) 80 to 90 g /L and sodium hydroxide (NaOH, Sodium hydroxide) 20 to 30 g / L is included.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 3원합금도금단계(S600)로 형성된 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층은 2 내지 8㎛의 두께로 형성되는 것이 바람직한데, 이는 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층이 2 내지 8㎛의 두께 범위를 초과하거나 미달되는 경우에는 광택이 나지 않으며 내식성이 떨어지는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.Although not limited thereto, the Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer formed in the ternary alloy plating step (S 600 ) is preferably formed to a thickness of 2 to 8 μm, which is a Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer. If it exceeds or falls short of the thickness range of 2 to 8 μm, this is because there is a possibility that a problem of poor corrosion resistance may occur without glossiness.

다음으로, 팔라듐도금단계(S700)를 수행할 수 있다.Next, a palladium plating step (S 700 ) may be performed.

상기 3원합금도금단계(S600)에서 3원합금 도금된 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 35 내지 45℃의 온도에서 2 내지 4분 동안 0.25 내지 0.5A의 전류세기로 전해도금시키는 팔라듐도금단계(S700)를 수행할 수 있다.In the ternary alloy plating step ( S600 ), a palladium plating step of electrolytic plating the ternary alloy-plated body using a palladium plating solution at a temperature of 35 to 45° C. for 2 to 4 minutes at a current strength of 0.25 to 0.5A. (S 700 ) may be performed.

팔라듐은 로듐보다도 값은 싸지만 경도가 낮고 로듐 도금에 비해 내식성 및 내마모성이 떨어지는 문제점이 있다. 또한 팔라듐의 가격이 금의 약 25%이고, 비중이 약 33%이기 때문에 동일 도금 두께에서도 금보다 가격이 낮지만, 전기접점의 도금으로써 이용하면 공기 중의 유기물을 부착시키고 접촉작용이 중합되어 콜리머를 발생시키는 결점이 있다. 팔라듐 도금은 장식용으로써 로듐 또는 금의 하지도금으로써 사용된다.Although palladium is cheaper than rhodium, it has low hardness and inferior corrosion resistance and wear resistance compared to rhodium plating. In addition, the price of palladium is about 25% of that of gold and the specific gravity is about 33%, so the price is lower than that of gold even with the same plating thickness. There are drawbacks that cause Palladium plating is used as a base plating of rhodium or gold for decoration.

본 발명의 팔라듐도금단계(S700)는 장식용으로써 로듐의 하지도금층을 형성하기 수행하는 공정이다.The palladium plating step (S 700 ) of the present invention is a process performed to form a base plating layer of rhodium for decoration.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 팔라듐도금단계(S700)는 양극으로 도금체 면적의 최소 2배 이상의 백금/티탄망을 사용하고, 팔라듐도금액에 침적시킨 후 전류를 걸면서 교반을 하여 도금을 진행하는 것이 바람직하다.Although not limited thereto, in the palladium plating step (S 700 ), a platinum/titanium network of at least twice the area of the plating body is used as an anode, and after being immersed in a palladium plating solution, the plating is carried out by stirring while applying an electric current. It is preferable to do

상기 팔라듐도금단계(S700)에서는 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 35 내지 45℃의 온도에서 2 내지 4분 동안 0.25 내지 0.5A의 전류세기로 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 온도 범위가 35 내지 45℃를 초과하거나 미달되는 경우, 시간 범위가 2 내지 4분을 초과하거나 미달되는 경우 및 전류세기 범위가 0.25 내지 0.5A를 초과하거나 미달되는 경우에는 도금 밀착 불량이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the palladium plating step (S 700 ), it is preferable that the plating body be electrolytically plated using a palladium plating solution at a temperature of 35 to 45° C. for 2 to 4 minutes at a current strength of 0.25 to 0.5 A, which has a temperature range of 35 If it exceeds or falls short of to 45 ℃, if the time range exceeds or falls short of 2 to 4 minutes, and if the current intensity range exceeds or falls short of 0.25 to 0.5A, there is a fear that plating adhesion failure may occur. .

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 팔라듐도금단계(S700)의 팔라듐도금액은 팔라듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 팔라듐(Pd, Palladium) 3 내지 8g/L 및 황산암모늄((NH4)2SO4, Ammonium sulfate) 150 내지 200g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the palladium plating solution of the palladium plating step (S 700 ) is palladium (Pd, Palladium) 3 to 8 g/L and ammonium sulfate ((( NH 4 ) 2 SO 4 , Ammonium sulfate) 150 to 200 g/L are included.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 팔라듐도금단계(S700)의 팔라듐도금액은 팔라듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 팔라듐(Pd, Palladium) 3 내지 8g/L 및 황산암모늄((NH4)2SO4, Ammonium sulfate) 150 내지 200g/L가 포함되되, pH가 8 내지 9인 암모니아수(NHH2O, Ammonia water)가 더 포함되는 것을 특징으로 한다.Although not limited thereto, the palladium plating solution of the palladium plating step (S 700 ) includes 3 to 8 g/L of palladium (Pd, Palladium) and ammonium sulfate ((NH 4 ) based on 1 liter (L) of the total palladium plating solution. 2 SO 4 , Ammonium sulfate) 150 to 200 g/L is included, and ammonia water having a pH of 8 to 9 (NH 3 · H 2 O, Ammonia water) is further included.

또한, 이에 제한되는 것은 아니나, 상기 팔라듐도금단계(S700)로 형성된 Pd 도금층은 0.2 내지 1㎛의 두께로 형성되는 것이 바람직한데, 이는 Pd 도금층이 0.2 내지 1㎛의 두께 범위를 초과하거나 미달되는 경우에는 도금 밀착 불량이 발생될 우려가 있기 때문이다.In addition, although not limited thereto, the Pd plating layer formed in the palladium plating step (S 700 ) is preferably formed to a thickness of 0.2 to 1 μm, which is a Pd plating layer exceeding or less than the thickness range of 0.2 to 1 μm. This is because there is a fear that plating adhesion failure may occur.

다음으로, 전착단계(S800)를 수행할 수 있다.Next, the electrodeposition step (S 800 ) may be performed.

상기 팔라듐도금단계(S700)에서 팔라듐 도금된 도금체를 35 내지 45℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1 내지 2분 동안 침적하되, 0.5 내지 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시키는 전착단계(S800)를 수행할 수 있다.Electrodeposition step of immersing the palladium-plated plating body in the palladium plating step (S 700 ) for 1 to 2 minutes in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 35 to 45° C. while stirring at a current strength of 0.5 to 1 A (S 800 ) may be performed.

전착은 주로 장식분야, 즉 액세서리, 안경프레임, 만년필 등의 최종 도금에 사용된다.Electrodeposition is mainly used in the decorative field, namely, the final plating of accessories, eyeglass frames, fountain pens, etc.

본 발명의 전착단계(S800)는 상기 팔라듐 도금 공정 시 전지접점의 도금으로 이용하여 공기 중의 유기물이 부탁되거나 접촉작용이 중합되어 콜리머를 발생시키는 결점이 생길 수 있는데 이를 보완하기 위해 수행하는 공정이라 할 수 있으며, 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시키고 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지하기 위해 수행하는 공정이다.The electrodeposition step (S 800 ) of the present invention is a process performed to compensate for a defect in which organic matter in the air is deposited or the contact action is polymerized to generate a collimer by using the palladium plating process as plating of the electrical contact. It is a process performed to effectively express silver color by electrodeposition using a white rhodium plating solution containing rhodium and to prevent corrosion even when exposed to salt water due to its excellent corrosion resistance.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 전착단계(S800)는 양극으로 도금체 면적의 최소 2배 이상의 백금/티탄망을 사용하고, 화이트로듐도금액에 침적시킨 후 전류를 걸면서 교반을 하여 도금을 진행하는 것이 바람직하다.Although not limited thereto, in the electrodeposition step (S 800 ), a platinum/titanium network of at least twice the area of the plating body is used as the anode, immersed in a white rhodium plating solution, and then the plating is carried out by stirring while applying an electric current. It is preferable to do

상기 전착단계(S800)에서는 도금체를 35 내지 45℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1 내지 2분 동안 침적하되, 0.5 내지 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시키는 것이 바람직한데, 이는 온도 범위가 35 내지 45℃를 초과하거나 미달되는 경우, 시간 범위가 1 내지 2분을 초과하거나 미달되는 경우 및 전류세기 범위가 0.5 내지 1A를 초과하거나 미달되는 경우에는 도금 밀착 불량이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the electrodeposition step (S 800 ), the plating body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 35 to 45° C. for 1 to 2 minutes, but it is preferable to electrodeposit it while stirring at a current strength of 0.5 to 1 A, which When the range exceeds or falls short of 35 to 45 ° C, when the time range exceeds or falls short of 1 to 2 minutes, and when the current intensity range exceeds or falls short of 0.5 to 1A, there is a risk of poor plating adhesion Because.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 전착단계(S800)의 화이트로듐도금액은 화이트로듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 로듐(Rh, Rhodium) 1 내지 2g/L 및 황산(H2SO4, Sulfuric acid) 10 내지 15g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the white rhodium plating solution in the electrodeposition step (S 800 ) contains 1 to 2 g/L of rhodium (Rh, Rhodium) and sulfuric acid (H) based on 1 liter (L) of the total white rhodium plating solution. 2 SO 4 , Sulfuric acid) 10 to 15 g/L is included.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 전착단계(S800)의 화이트로듐도금액은 화이트로듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 로듐(Rh, Rhodium) 1 내지 2g/L 및 황산(H2SO4, Sulfuric acid) 10 내지 15g/L가 포함되되, 나머지를 순수로 채운 후 도금액을 안정시키기 위하여 하루정도 충분히 교반하여 제조하는 것을 특징으로 한다.Although not limited thereto, the white rhodium plating solution of the electrodeposition step (S 800 ) contains 1 to 2 g/L of rhodium (Rh, Rhodium) and sulfuric acid (H 2 SO 4 ) based on 1 liter (L) of the total white rhodium plating solution. , Sulfuric acid) 10 to 15 g/L is included, and after filling the remainder with pure water, it is characterized in that it is sufficiently stirred for about one day to stabilize the plating solution.

상기에서와 같이 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은, 탈지단계(S100), 에칭단계(S200), 징게이트단계(S300), 시안동도금단계(S400), 황산동도금단계(S500), 3원합금도금단계(S600), 팔라듐도금단계(S700) 및 전착단계(S800)를 포함하는 것을 특징으로 하는 바, 마그네슘 합금소재 표면에 Zn 치환층, Cu 도금층, Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층, Pd 도금층 및 화이트로듐 전착층이 형성될 수 있으며, 이는 하기 도 2의 단면과 같다.As described above, the surface treatment method of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention includes a degreasing step (S 100 ), an etching step (S 200 ), a jingate step (S 300 ), Copper cyanide plating step (S 400 ), copper sulfate plating step (S 500 ), ternary alloy plating step (S 600 ), palladium plating step (S 700 ) and electrodeposition step (S 800 ) Bar characterized in that it comprises a bar, magnesium alloy A Zn substitution layer, a Cu plating layer, a Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer, a Pd plating layer, and a white rhodium electrodeposition layer may be formed on the surface of the material, as shown in the cross section of FIG. 2 below.

이하, 본원 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본원 발명의 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편과 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 실시예를 들어 상세히 설명한다. 본원 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은 후술하는 실시예에 의해 보다 명확하게 이해될 수 있다. 그러나 본원 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, a magnesium alloy plating specimen and a magnesium alloy material surface-treated by the surface treatment method of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium of the present invention so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement it A spectacle frame composed of will be described in detail with reference to an embodiment. The method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention may be more clearly understood by the examples to be described later. However, the present invention may be embodied in several different forms and is not limited to the embodiments described herein.

도금 준비Plating Preparation

시편 : 마그네슘 합금 도금 시편과 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 준비한다.Specimen: Prepare a magnesium alloy plated specimen and a spectacle frame made of a magnesium alloy material.

탈지단계(S100) : 탈지액 전체 1리터(L)를 기준으로 수산화나트륨 125g/L 및 탄산나트륨 75g/L가 포함되되 pH가 13 이상인 탈지액을 준비한다.Degreasing step (S 100 ): Prepare a degreasing solution containing 125 g/L of sodium hydroxide and 75 g/L of sodium carbonate based on 1 liter (L) of the total degreasing solution, but having a pH of 13 or higher.

에칭단계(S200) : 에칭액 전체 1리터(L)를 기준으로 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA) 7.5g/L 및 수산화나트륨 40g/L가 포함된 에칭액을 준비한다.Etching step (S 200 ): Prepare an etchant containing 7.5 g/L of ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) and 40 g/L of sodium hydroxide based on 1 liter (L) of the total etchant.

징게이트단계(S300) : 징게이트액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산아연 55g/L가 포함된 징게이트액을 준비한다.Jingate step (S 300 ): Prepare a jingate solution containing 55 g/L of zinc sulfate based on 1 liter (L) of the total jingate solution.

시안동도금단계(S400) : 시안동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨 80g/L, 시안화구리 70g/L, 칼륨나트륨타르타르산염 30g/L 및 탄산나트륨 50g/L가 포함된 시안동도금액과 양극 순수동판을 준비한다.Copper cyanide plating step (S 400 ): Copper cyanide plating solution containing sodium cyanide 80 g/L, copper cyanide 70 g/L, potassium sodium tartrate 30 g/L and sodium carbonate 50 g/L based on 1 liter (L) of the total copper cyanide plating solution and an anode pure copper plate.

황산동도금단계(S500) : 황산동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산동 200g/L 및 황산 52g/L가 포함된 황산동도금액과 양극 순수동판을 준비한다.Copper sulfate plating step (S 500 ): Prepare a copper sulfate plating solution containing 200 g/L of copper sulfate and 52 g/L of sulfuric acid and a pure copper plate for an anode based on 1 liter (L) of the total copper sulfate plating solution.

3원합금도금단계(S600) : 3원합금도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨 45g/L, 시안화구리 18g/L, 시안화아연 1.7g/L, 주석산나트륨 85g/L 및 수산화나트륨 25g/L가 포함된 3원합금도금액과 양극 전극용 카본을 준비한다.Ternary alloy plating step (S 600 ): sodium cyanide 45g/L, copper cyanide 18g/L, zinc cyanide 1.7g/L, sodium tartrate 85g/L, and sodium hydroxide based on 1 liter (L) of the total ternary alloy plating solution Prepare a ternary alloy plating solution containing 25 g/L and carbon for anode electrode.

팔라듐도금단계(S700) : 팔라듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 팔라듐 5g/L 및 황산암모늄 175g/L가 포함되되 암모니아수(pH 8~9)가 적량 포함된 팔라듐도금액과 양극 백금/티탄망을 준비한다.Palladium plating step (S 700 ): palladium plating solution containing an appropriate amount of ammonia water (pH 8-9) and anode platinum containing 5 g/L of palladium and 175 g/L of ammonium sulfate based on 1 liter (L) of the total palladium plating solution /Prepare the titanium mesh.

전착단계(S800) : 화이트로듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 로듐 1.5g/L 및 황산 12g/L가 포함되되 나머지를 순수로 채운 후 도금액을 안정시키기 위하여 하루정도 충분히 교반하여 제조한 화이트로듐도금액과 양극 백금/티탄망을 준비한다.Electrodeposition step (S 800 ): 1.5 g/L of rhodium and 12 g/L of sulfuric acid are included based on 1 liter (L) of the total white rhodium plating solution. Prepare a white rhodium plating solution and an anode platinum/titanium network.

표면처리 공정 단계별 도금 두께 측정 실험Coating thickness measurement experiment for each step of the surface treatment process

하기의 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 두께를 측정하는 실험을 실시하였다.An experiment was conducted to measure the plating thickness of the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the following method.

[표면처리 공정][Surface treatment process]

1. 탈지단계(S100) : 피도금체인 마그네슘 합금 도금 시편을 55℃의 온도로 유지되는 탈지액에 10분 동안 담지하여 탈지시킨다.1. Degreasing step (S 100 ): Degrease the magnesium alloy plated specimen, which is to be plated, by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 55° C. for 10 minutes.

2. 에칭단계(S200) : 피도금체를 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1.5분 동안 침적하여 에칭시킨다.2. Etching step (S 200 ): The object to be plated is etched by immersion in an etching solution maintained at a temperature of 25° C. for 1.5 minutes.

3. 징게이트단계(S300) : 피도금체를 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 5분 동안 침적하여 아연을 치환한다.3. Jingate step (S 300 ): Substitute zinc by immersing the body to be plated in a zincate solution maintained at a temperature of 70° C. for 5 minutes.

4. 시안동도금단계(S400) : 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 55℃의 온도에서 10분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.4. Copper cyanide plating step (S 400 ): Electrolytic plating of the body to be plated at a temperature of 55° C. with a current strength of 2A for 10 minutes using a copper cyanide plating solution.

5. 황산동도금단계(S500) : 도금체를 황산동도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 30분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.5. Copper sulfate plating step (S 500 ): The plating body is electrolytically plated with a copper sulfate plating solution at a temperature of 25° C. for 30 minutes at a current strength of 2 A.

6. 3원합금도금단계(S600) : 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 10 내지 30분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.6. Ternary alloy plating step (S 600 ): Electrolytic plating of the plating body using a ternary alloy plating solution at a temperature of 25° C. for 10 to 30 minutes at a current strength of 1 to 2A.

7. 팔라듐도금단계(S700) : 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 40℃의 온도에서 2분 동안 0.5A의 전류세기로 전해도금시킨다.7. Palladium plating step (S 700 ): Electrolytic plating of the plating body using a palladium plating solution at a temperature of 40° C. for 2 minutes at a current strength of 0.5 A.

8. 전착단계(S800) : 도금체를 40℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 2.5분 동안 침적하되, 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시킨다.8. Electrodeposition step (S 800 ): The plating body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 40° C. for 2.5 minutes, and electrodeposited while stirring at a current strength of 1 A.

[도금 두께 측정 실험][Plating thickness measurement experiment]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 두께를 측정한 결과는 하기와 같다.The results of measuring the plating thickness of the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the surface treatment method are as follows.

표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편은 공정 단계별로 시편의 앞면과 뒷면의 도금 두께를 X선 형광 분석기(XRF, X-Ray Fluorescence Analyzer)를 사용하여 각각 5회 측정하여 그 평균값으로 표기하였으며, 그 결과는 하기 표 1 내지 9와 같다.For the surface-treated magnesium alloy plating specimen, the plating thickness of the front and back surfaces of the specimen was measured 5 times each using an X-ray fluorescence analyzer (XRF, X-Ray Fluorescence Analyzer) for each process step and expressed as the average value. It is shown in Tables 1 to 9 below.

징게이트단계(S300)로 형성된 Zn 치환층은 “Zn”으로 표기되어 있으며, 시안동도금단계(S400) 또는 황산동도금단계(S500)로 형성된 Cu 도금층은 “Cu”로 표기되어 있고, 3원합금도금단계(S600)로 형성된 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층은 “d3”으로 표기되어 있으며, 팔라듐도금단계(S700)로 형성된 Pd 도금층은 “Pd”로 표기되어 있고, 전착단계(S800)로 형성된 화이트로듐 전착층은 “Rh W”로 표기되어 있다.The Zn substitution layer formed in the jingate step (S 300 ) is marked with “Zn”, and the Cu plating layer formed by the copper cyanide plating step (S 400 ) or the copper sulfate plating step (S 500 ) is marked as “Cu”, 3 The Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer formed by the primary alloy plating step (S 600 ) is marked with “d3”, and the Pd plating layer formed by the palladium plating step (S 700 ) is marked with “Pd”, and the electrodeposition step ( The white rhodium electrodeposited layer formed of S 800 ) is marked with “Rh W”.

징게이트단계(S300) : 70℃, 5minJingate step (S 300 ): 70℃, 5min 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) 앞-1front-1 0.701 0.701 -- 뒤-1back-1 0.658 0.658 -- 앞-2front-2 0.699 0.699 -- 뒤-2back-2 0.657 0.657 -- 앞-3front-3 0.704 0.704 -- 뒤-3back-3 0.653 0.653 -- 앞-4front-4 0.699 0.699 -- 뒤-4back-4 0.659 0.659 -- 앞-5front-5 0.699 0.699 -- 뒤-5back-5 0.655 0.655 -- 평균Average 0.700 0.700 -- 평균Average 0.656 0.656 -- 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.013 0.013 -- 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.012 0.012 --

시안동도금단계(S400) : 55℃, 10min, 2ACyan copper plating step (S 400 ): 55℃, 10min, 2A 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) 앞-1front-1 0.588 0.588 4.850 4.850 뒤-1back-1 0.485 0.485 6.546 6.546 앞-2front-2 0.590 0.590 4.842 4.842 뒤-2back-2 0.491 0.491 6.588 6.588 앞-3front-3 0.592 0.592 4.836 4.836 뒤-3back-3 0.487 0.487 6.513 6.513 앞-4front-4 0.584 0.584 4.828 4.828 뒤-4back-4 0.483 0.483 6.513 6.513 앞-5front-5 0.581 0.581 4.835 4.835 뒤-5back-5 0.482 0.482 6.526 6.526 평균Average 0.587 0.587 4.838 4.838 평균Average 0.486 0.486 6.537 6.537 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.010 0.010 0.108 0.108 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.009 0.009 0.1450.145

황산동도금단계(S500) : 25℃, 30min, 2ACopper sulfate plating step (S 500 ): 25℃, 30min, 2A 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) 앞-1front-1 0.533 0.533 17.340 17.340 뒤-1back-1 0.446 0.446 19.590 19.590 앞-2front-2 0.538 0.538 17.410 17.410 뒤-2back-2 0.452 0.452 19.510 19.510 앞-3front-3 0.536 0.536 17.400 17.400 뒤-3back-3 0.416 0.416 19.500 19.500 앞-4front-4 0.571 0.571 17.460 17.460 뒤-4back-4 0.414 0.414 19.510 19.510 앞-5front-5 0.569 0.569 17.500 17.500 뒤-5back-5 0.438 0.438 19.720 19.720 평균Average 0.549 0.549 17.422 17.422 평균Average 0.433 0.433 19.566 19.566 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.010 0.010 0.388 0.388 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.008 0.008 0.4350.435

상기 표 1 내지 3은 징게이트단계(S300), 시안동도금단계(S400) 및 황산동도금단계(S500)로 형성된 Zn 치환층과 Cu 도금층의 두께를 측정한 결과를 나타내는 것으로서, 도금 두께가 적합한 것으로 확인되었다.Tables 1 to 3 show the results of measuring the thickness of the Zn substitution layer and the Cu plating layer formed in the jingate step (S 300 ), the copper cyanide plating step (S 400 ) and the copper sulfate plating step (S 500 ). was found to be suitable.

3원합금도금단계(S600) : 25℃, 20min, 1ATriple alloy plating step (S 600 ): 25℃, 20min, 1A 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) 앞-1front-1 1.000 1.000 17.780 17.780 0.347 0.347 뒤-1back-1 0.918 0.918 17.150 17.150 0.361 0.361 앞-2front-2 1.023 1.023 18.090 18.090 0.351 0.351 뒤-2back-2 0.914 0.914 16.900 16.900 0.350 0.350 앞-3front-3 1.015 1.015 17.890 17.890 0.356 0.356 뒤-3back-3 0.921 0.921 17.030 17.030 0.357 0.357 앞-4front-4 1.002 1.002 17.890 17.890 0.350 0.350 뒤-4back-4 0.902 0.902 17.010 17.010 0.357 0.357 앞-5front-5 1.030 1.030 17.910 17.910 0.348 0.348 뒤-5back-5 0.885 0.885 16.840 16.840 0.351 0.351 평균Average 1.014 1.014 17.912 17.912 0.350 0.350 평균Average 0.908 0.908 16.986 16.986 0.355 0.355

3원합금도금단계(S600) : 25℃, 20min, 2ATriple alloy plating step (S 600 ): 25℃, 20min, 2A 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) 앞-1front-1 1.246 1.246 14.960 14.960 0.836 0.836 뒤-1back-1 1.181 1.181 14.720 14.720 0.838 0.838 앞-2front-2 1.262 1.262 15.150 15.150 0.858 0.858 뒤-2back-2 1.180 1.180 14.820 14.820 0.851 0.851 앞-3front-3 1.218 1.218 14.950 14.950 0.530 0.530 뒤-3back-3 1.206 1.206 14.870 14.870 0.860 0.860 앞-4front-4 1.290 1.290 15.250 15.250 0.585 0.585 뒤-4back-4 1.382 1.382 15.730 15.730 0.914 0.914 앞-5front-5 1.205 1.205 14.760 14.760 0.830 0.830 뒤-5back-5 1.249 1.249 15.170 15.170 0.876 0.876 평균Average 1.244 1.244 15.014 15.014 0.728 0.728 평균Average 1.240 1.240 15.062 15.062 0.868 0.868

3원합금도금단계(S600) : 25℃, 30min, 2ATriple alloy plating step (S 600 ): 25℃, 30min, 2A 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) 앞-1front-1 1.103 1.103 15.860 15.860 0.669 0.669 뒤-1back-1 1.046 1.046 15.880 15.880 0.695 0.695 앞-2front-2 1.152 1.152 16.210 16.210 0.693 0.693 뒤-2back-2 1.010 1.010 15.580 15.580 0.682 0.682 앞-3front-3 1.166 1.166 16.300 16.300 0.696 0.696 뒤-3back-3 0.096 0.096 15.720 15.720 0.694 0.694 앞-4front-4 1.059 1.059 15.800 15.800 0.659 0.659 뒤-4back-4 1.076 1.076 15.880 15.880 0.699 0.699 앞-5front-5 1.114 1.114 15.910 15.910 0.678 0.678 뒤-5back-5 1.040 1.040 15.730 15.730 0.684 0.684 평균Average 1.119 1.119 16.016 16.016 0.679 0.679 평균Average 0.854 0.854 15.758 15.758 0.691 0.691

3원합금도금단계(S600) : 25℃, 10min, 2ATriple alloy plating step (S 600 ): 25℃, 10min, 2A 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) 앞-1front-1 0.751 0.751 17.270 17.270 0.277 0.277 뒤-1back-1 0.900 0.900 20.110 20.110 0.291 0.291 앞-2front-2 0.757 0.757 17.090 17.090 0.273 0.273 뒤-2back-2 0.904 0.904 20.280 20.280 0.303 0.303 앞-3front-3 0.752 0.752 17.240 17.240 0.265 0.265 뒤-3back-3 0.895 0.895 20.270 20.270 0.292 0.292 앞-4front-4 0.758 0.758 17.170 17.170 0.267 0.267 뒤-4back-4 0.888 0.888 20.050 20.050 0.295 0.295 앞-5front-5 0.758 0.758 17.090 17.090 0.275 0.275 뒤-5back-5 0.907 0.907 20.260 20.260 0.301 0.301 평균Average 0.755 0.755 17.172 17.172 0.271 0.271 평균Average 0.899 0.899 20.194 20.194 0.296 0.296

상기 표 4 내지 7은 3원합금도금단계(S600)로 형성된 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층의 두께를 측정한 결과를 나타내는 것으로서, 3원합금 중 Zn 치환층과 Cu 도금층의 경우 앞선 공정의 두께에 영향을 미쳐 3원합금의 두께에서 제대로 관찰되지 않는 것으로 추측된다.Tables 4 to 7 show the results of measuring the thickness of the Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer formed in the ternary alloy plating step (S 600 ), and in the case of the Zn substitution layer and Cu plating layer among the ternary alloys, It is presumed that it is not observed properly in the thickness of the ternary alloy because it affects the thickness.

팔라듐도금단계(S700) : 25℃, 2min, 0.5APalladium plating step (S 700 ): 25℃, 2min, 0.5A 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) Pd(㎛)Pd (μm) 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) Pd(㎛)Pd (μm) 앞-1front-1 0.814 0.814 16.540 16.540 0.309 0.309 0.301 0.301 뒤-1back-1 0.623 0.623 15.980 15.980 0.307 0.307 0.291 0.291 앞-2front-2 0.833 0.833 16.630 16.630 0.313 0.313 0.302 0.302 뒤-2back-2 0.623 0.623 15.890 15.890 0.302 0.302 0.291 0.291 앞-3front-3 0.782 0.782 16.200 16.200 0.296 0.296 0.299 0.299 뒤-3back-3 0.620 0.620 15.910 15.910 0.307 0.307 0.288 0.288 앞-4front-4 0.807 0.807 16.290 16.290 0.295 0.295 0.300 0.300 뒤-4back-4 0.654 0.654 16.250 16.250 0.317 0.317 0.295 0.295 앞-5front-5 0.904 0.904 17.160 17.160 0.341 0.341 0.310 0.310 뒤-5back-5 0.615 0.615 15.950 15.950 0.306 0.306 0.292 0.292 평균Average 0.828 0.828 16.564 16.564 0.311 0.311 0.302 0.302 평균Average 0.627 0.627 15.996 15.996 0.308 0.308 0.291 0.291

상기 표 8은 3원합금도금단계(S600)를 10분 동안 수행한 뒤, 팔라듐도금단계(S700)로 형성된 Pd 도금층의 두께를 측정한 결과를 나타내는 것으로서, 팔라듐도금단계(S700)는 2분 동안 수행하는 것이 가장 바람직한 것으로 확인되었다.Table 8 shows the results of measuring the thickness of the Pd plating layer formed in the palladium plating step (S 700 ) after performing the ternary alloy plating step (S 600 ) for 10 minutes, and the palladium plating step (S 700 ) is 2 Minutes were found to be the most desirable.

전착단계(S800) : 25℃, 2.5min, 1AElectrodeposition step (S 800 ): 25℃, 2.5min, 1A 번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) Pd(㎛)Pd (μm) Rh W(㎛)Rh W(㎛) 앞-1front-1 2.032 2.032 20.730 20.730 1.017 1.017 0.308 0.308 0.321 0.321 앞-2front-2 2.139 2.139 21.240 21.240 1.011 1.011 0.321 0.321 0.328 0.328 앞-3front-3 2.069 2.069 20.890 20.890 1.006 1.006 0.313 0.313 0.328 0.328 앞-4front-4 1.942 1.942 20.310 20.310 0.995 0.995 0.312 0.312 0.318 0.318 앞-5front-5 1.950 1.950 20.300 20.300 0.990 0.990 0.305 0.305 0.330 0.330 평균Average 2.026 2.026 20.694 20.694 1.004 1.004 0.312 0.312 0.325 0.325 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.036 0.036 0.460 0.460 -- 0.009 0.009 0.010 0.010 앞-1front-1 2.820 2.820 25.580 25.580 1.051 1.051 0.322 0.322 0.279 0.279 앞-2front-2 2.545 2.545 24.780 24.780 1.033 1.033 0.322 0.322 0.277 0.277 앞-3front-3 2.655 2.655 25.140 25.140 1.056 1.056 0.318 0.318 0.278 0.278 앞-4front-4 2.582 2.582 24.940 24.940 1.031 1.031 0.322 0.322 0.283 0.283 앞-5front-5 2.791 2.791 25.790 25.790 1.071 1.071 0.316 0.316 0.272 0.272 평균Average 2.679 2.679 25.246 25.246 1.048 1.048 0.320 0.320 0.278 0.278 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.048 0.048 0.562 0.562 -- 0.010 0.010 0.009 0.009

상기 표 9는 전착단계(S800)로 형성된 전착층(화이트로듐 전착층)의 두께를 측정한 결과를 나타내는 것으로서, 전착층 두께가 3㎛로 측정됨에 따라 전착단계(S800)의 전류나 시간을 줄여야 될 것으로 추측된다.Table 9 shows the results of measuring the thickness of the electrodeposition layer (white rhodium electrodeposition layer) formed in the electrodeposition step (S 800 ). As the thickness of the electrodeposition layer was measured to be 3 μm, the current or time of the electrodeposition step (S 800 ) is expected to be reduced.

도금 두께 및 EDS 도금층 측정 실험과 도금 밀착성 및 내식성 확인 실험 Plating thickness and EDS plating layer measurement test and plating adhesion and corrosion resistance test

하기의 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 두께 및 EDS 도금층을 측정하는 실험과 도금 밀착성 및 내식성을 확인하는 실험을 실시하였다. 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편을 공정 단계별로 촬영한 사진은 하기 도 3과 같다.An experiment to measure the plating thickness and EDS plating layer of the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the following method and an experiment to confirm the plating adhesion and corrosion resistance were conducted. The photos taken for each process step of the surface-treated magnesium alloy plating specimen are shown in FIG. 3 below.

[표면처리 공정][Surface treatment process]

1. 탈지단계(S100) : 피도금체인 마그네슘 합금 도금 시편을 10분 동안 초음파 탈지한 뒤, 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5분 동안 담지하여 탈지시킨다.1. Degreasing step (S 100 ): After ultrasonically degreasing the magnesium alloy plating specimen for 10 minutes, it is degreased by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 60° C. for 5 minutes.

2. 에칭단계(S200) : 피도금체를 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1분 동안 침적하여 에칭시킨다.2. Etching step (S 200 ): The object to be plated is etched by immersion in an etching solution maintained at a temperature of 25° C. for 1 minute.

3. 징게이트단계(S300) : 피도금체를 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 5분 동안 침적하여 아연을 치환한다.3. Jingate step (S 300 ): Substitute zinc by immersing the body to be plated in a zincate solution maintained at a temperature of 70° C. for 5 minutes.

4. 시안동도금단계(S400) : 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 55℃의 온도에서 10분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.4. Copper cyanide plating step (S 400 ): Electrolytic plating of the body to be plated at a temperature of 55° C. with a current strength of 2A for 10 minutes using a copper cyanide plating solution.

5. 황산동도금단계(S500) : 도금체를 황산동도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 30분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.5. Copper sulfate plating step (S 500 ): The plating body is electrolytically plated with a copper sulfate plating solution at a temperature of 25° C. for 30 minutes at a current strength of 2 A.

6. 3원합금도금단계(S600) : 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 10분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.6. Ternary alloy plating step ( S600 ): Electrolytic plating of the plating body using a ternary alloy plating solution at a temperature of 25°C for 10 minutes at a current strength of 2A.

7. 팔라듐도금단계(S700) : 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 40℃의 온도에서 2분 동안 0.5A의 전류세기로 전해도금시킨다.7. Palladium plating step (S 700 ): Electrolytic plating of the plating body using a palladium plating solution at a temperature of 40° C. for 2 minutes at a current strength of 0.5 A.

8. 전착단계(S800) : 도금체를 40℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1분 동안 침적하되, 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시킨다.8. Electrodeposition step (S 800 ): The plating body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 40° C. for 1 minute, and electrodeposited while stirring at a current strength of 1 A.

[도금 두께 측정 실험][Plating thickness measurement experiment]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 두께를 측정한 결과는 하기와 같다.The results of measuring the plating thickness of the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the surface treatment method are as follows.

표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편은 공정 단계별로 앞면과 뒷면의 도금 두께를 X선 형광 분석기(XRF, X-Ray Fluorescence Analyzer)를 사용하여 각각 9회 측정하여 그 평균값으로 표기하였으며, 그 결과는 하기 표 10과 같다.For the surface-treated magnesium alloy plating specimen, the plating thicknesses of the front and back sides were measured 9 times each using an X-ray fluorescence analyzer (XRF, X-Ray Fluorescence Analyzer) for each process step and expressed as the average value. The results are shown in the table below. equal to 10

징게이트단계(S300)로 형성된 Zn 치환층은 “Zn”으로 표기되어 있으며, 시안동도금단계(S400) 또는 황산동도금단계(S500)로 형성된 Cu 도금층은 “Cu”로 표기되어 있고, 3원합금도금단계(S600)로 형성된 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층은 “d3”으로 표기되어 있으며, 팔라듐도금단계(S700)로 형성된 Pd 도금층은 “Pd”로 표기되어 있고, 전착단계(S800)로 형성된 화이트로듐 전착층은 “Rh W”로 표기되어 있다.The Zn substitution layer formed in the jingate step (S 300 ) is marked with “Zn”, and the Cu plating layer formed by the copper cyanide plating step (S 400 ) or the copper sulfate plating step (S 500 ) is marked as “Cu”, 3 The Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer formed by the primary alloy plating step (S 600 ) is marked with “d3”, and the Pd plating layer formed by the palladium plating step (S 700 ) is marked with “Pd”, and the electrodeposition step ( The white rhodium electrodeposited layer formed of S 800 ) is marked with “Rh W”.

번호number Zn(㎛)Zn(㎛) Cu(㎛)Cu (μm) d3(㎛)d3 (μm) Pd(㎛)Pd (μm) Rh W(㎛)Rh W(㎛) 앞-1front-1 7.039 7.039 45.810 45.810 0.439 0.439 0.480 0.480 0.267 0.267 앞-2front-2 3.471 3.471 37.160 37.160 0.409 0.409 0.445 0.445 0.226 0.226 앞-3front-3 1.099 1.099 22.350 22.350 0.251 0.251 0.364 0.364 0.162 0.162 앞-4front-4 3.441 3.441 37.890 37.890 0.387 0.387 0.437 0.437 0.235 0.235 앞-5front-5 1.270 1.270 26.360 26.360 0.308 0.308 0.392 0.392 0.190 0.190 앞-6front-6 0.918 0.918 20.010 20.010 0.227 0.227 0.315 0.315 0.124 0.124 앞-7front-7 4.529 4.529 38.880 38.880 0.418 0.418 0.480 0.480 0.238 0.238 앞-8front-8 2.560 2.560 32.590 32.590 0.347 0.347 0.408 0.408 0.154 0.154 앞-9front -9 7.510 7.510 45.630 45.630 0.408 0.408 0.457 0.457 0.243 0.243 평균Average 3.537 3.537 34.076 34.076 0.355 0.355 0.420 0.420 0.204 0.204 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.063 0.063 0.758 0.758 -- 0.013 0.013 0.006 0.006 뒤-1back-1 4.642 4.642 41.360 41.360 0.429 0.429 0.465 0.465 0.249 0.249 뒤-2back-2 1.265 1.265 26.320 26.320 0.324 0.324 0.385 0.385 0.196 0.196 뒤-3back-3 3.902 3.902 39.240 39.240 0.399 0.399 0.452 0.452 0.247 0.247 뒤-4back-4 1.416 1.416 28.360 28.360 0.338 0.338 0.406 0.406 0.206 0.206 뒤-5back-5 1.648 1.648 29.510 29.510 0.361 0.361 0.407 0.407 0.209 0.209 뒤-6back-6 0.847 0.847 19.490 19.490 0.236 0.236 0.322 0.322 0.156 0.156 뒤-7back-7 1.399 1.399 27.470 27.470 0.329 0.329 0.385 0.385 0.190 0.190 뒤-8back-8 3.981 3.981 4.390 4.390 0.420 0.420 0.481 0.481 0.261 0.261 뒤-9back-9 2.848 2.848 34.630 34.630 0.383 0.383 0.431 0.431 0.210 0.210 평균Average 2.439 2.439 27.863 27.863 0.358 0.358 0.415 0.415 0.214 0.214 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.044 0.044 0.620 0.620 -- 0.012 0.012 0.007 0.007

[EDS 도금층 측정 실험][EDS plating layer measurement experiment]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 EDS 도금층을 측정한 결과는 하기 도 4에 나타내었다.The results of measuring the EDS plating layer of the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the surface treatment method are shown in FIG. 4 below.

시안동도금단계(S400)와 황산동도금단계(S500)로 형성된 Cu 도금층은 25 내지 30㎛로 측정되었으며, 3원합금도금단계(S600)로 형성된 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층은 2㎛로 측정되었고, 팔라듐도금단계(S700)로 형성된 Pd 도금층은 1㎛ 이하인 것으로 측정되었으며, 전착단계(S800)로 형성된 화이트로듐 전착층은 1㎛로 측정되었다.The Cu plating layer formed by the cyan copper plating step (S 400 ) and the copper sulfate plating step (S 500 ) was measured to be 25 to 30 μm, and the Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer formed by the ternary alloy plating step (S 600 ) was 2 μm. was measured, the Pd plating layer formed by the palladium plating step (S 700 ) was measured to be 1 μm or less, and the white rhodium electrodeposition layer formed by the electrodeposition step (S 800 ) was measured to be 1 μm.

표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 경우, SEM 측정 시 도금층의 경계가 보이지 않아 EDS로 측정하였으며, Mg, Zn, Cu, Sn, Pd 및 Rh가 모두 존재하는 것으로 확인되었으며, 도금이 층별도 잘 이루어진 것으로 확인되었다.In the case of the surface-treated magnesium alloy plating specimen, the boundary of the plating layer was not visible during SEM measurement, so it was measured by EDS. Confirmed.

[도금 밀착성 확인 실험 실험][Experiment to confirm plating adhesion]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 밀착성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 5에 나타내었다.The results of the test for confirming the plating adhesion of the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the surface treatment method are shown in FIG. 5 below.

도금 밀착성을 확인하기 위하여 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편을 300℃의 온도로 유지되는 소결로에 10분 동안 소결한 후 격자무늬로 컷팅하여 테이핑을 부착하는 방식으로 5회 측정하였다. 그 결과, 본 발명의 일 실시형태에 따른 표면처리 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편에서는 도금 밀착 불량이 확인되지 않았다.In order to check the plating adhesion, the surface-treated magnesium alloy plating specimen was sintered in a sintering furnace maintained at a temperature of 300° C. for 10 minutes, then cut into a grid pattern and taped five times. As a result, plating adhesion failure was not confirmed in the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the surface treatment method according to the embodiment of the present invention.

[내식성 확인 실험][Corrosion resistance confirmation test]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 6에 나타내었다.The results of the corrosion resistance confirmation test of the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the surface treatment method are shown in FIG. 6 below.

본 발명의 일 실시형태에 따른 표면처리 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편에 대한 염수분무 시험 결과, 24시간 안에 부식이 진행되었으나, 이는 도금 밀착성 확인 실험에서도 도금 밀착 불량이 발생되지 않았으므로 도금의 두께가 얇고 판재 컷팅 시 생겼던 외곽의 틈 때문에 이러한 현상이 발생된 것으로 추측된다.As a result of the salt spray test on the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the surface treatment method according to an embodiment of the present invention, corrosion progressed within 24 hours, but this did not cause plating adhesion failure even in the plating adhesion confirmation test. It is presumed that this phenomenon occurred because of the thin thickness and the outer gap that occurred during cutting of the plate.

시안동도금단계(SCyan copper plating step (S 400400 ) 및 황산동도금단계(S) and copper sulfate plating step (S 500500 )의 시간 증가에 따른 내식성 확인 시험), corrosion resistance confirmation test according to time increase

하기의 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성을 확인하는 실험을 실시하였다.An experiment was conducted to confirm the corrosion resistance of the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the following method.

[표면처리 공정][Surface treatment process]

1. 탈지단계(S100) : 피도금체인 마그네슘 합금 도금 시편을 10분 동안 초음파 탈지한 뒤, 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5분 동안 담지하여 탈지시킨다.1. Degreasing step (S 100 ): After ultrasonically degreasing the magnesium alloy plating specimen for 10 minutes, it is degreased by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 60° C. for 5 minutes.

2. 에칭단계(S200) : 피도금체를 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1분 동안 침적하여 에칭시킨다.2. Etching step (S 200 ): The object to be plated is etched by immersion in an etching solution maintained at a temperature of 25° C. for 1 minute.

3. 징게이트단계(S300) : 피도금체를 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 5분 동안 침적하여 아연을 치환한다.3. Jingate step (S 300 ): Substitute zinc by immersing the body to be plated in a zincate solution maintained at a temperature of 70° C. for 5 minutes.

4. 시안동도금단계(S400) : 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 55℃의 온도에서 20분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.4. Copper cyanide plating step (S 400 ): Electrolytic plating of the body to be plated using a copper cyanide plating solution at a temperature of 55°C for 20 minutes at a current strength of 2A.

5. 황산동도금단계(S500) : 도금체를 황산동도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 40분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.5. Copper sulfate plating step (S 500 ): The plating body is electrolytically plated with a copper sulfate plating solution at a temperature of 25° C. for 40 minutes at a current strength of 2 A.

6. 3원합금도금단계(S600) : 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 10분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.6. Ternary alloy plating step ( S600 ): Electrolytic plating of the plating body using a ternary alloy plating solution at a temperature of 25°C for 10 minutes at a current strength of 2A.

7. 팔라듐도금단계(S700) : 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 40℃의 온도에서 2분 동안 0.5A의 전류세기로 전해도금시킨다.7. Palladium plating step (S 700 ): Electrolytic plating of the plating body using a palladium plating solution at a temperature of 40° C. for 2 minutes at a current strength of 0.5 A.

8. 전착단계(S800) : 도금체를 40℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1분 동안 침적하되, 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시킨다.8. Electrodeposition step (S 800 ): The plating body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 40° C. for 1 minute, and electrodeposited while stirring at a current strength of 1 A.

[내식성 확인 실험][Corrosion resistance confirmation test]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 7에 나타내었다.The results of the corrosion resistance confirmation test of the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the surface treatment method are shown in FIG. 7 below.

상기 실시예 3의 표면처리된 마그네슘 합금 도금의 시편 보다 시안동도금단계(S400) 및 황산동도금단계(S500)의 도금 시간을 10분 늘린 시편의 경우 72시간 염수분무 시험 결과에서 실시예 3의 내식성 결과보다는 좋은 것으로 확인되었으며, 표면의 라운드에 백녹이 보이나, 도금층의 분리는 거의 보이지 않는 것으로 확인되었다.In the case of the specimen in which the plating time of the copper cyanide plating step (S 400 ) and the copper sulfate plating step (S 500 ) was increased by 10 minutes compared to the specimen of the surface-treated magnesium alloy plating of Example 3, the 72 hour salt spray test result of Example 3 It was confirmed that the corrosion resistance was better than the result, and although white rust was seen on the round surface of the surface, it was confirmed that the separation of the plating layer was hardly seen.

시안동도금단계(SCyan copper plating step (S 400400 ), 3원합금도금단계(S), ternary alloy plating step (S 600600 ), 팔라듐도금단계(S), palladium plating step (S 700700 ) 및 전착단계(S) and the electrodeposition step (S 800800 )의 시간 증가에 따른 내식성 확인 시험), corrosion resistance confirmation test according to time increase

하기의 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성을 확인하는 실험을 실시하였다.An experiment was conducted to confirm the corrosion resistance of the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the following method.

[표면처리 공정][Surface treatment process]

1. 탈지단계(S100) : 피도금체인 마그네슘 합금 도금 시편을 10분 동안 초음파 탈지한 뒤, 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5분 동안 담지하여 탈지시킨다.1. Degreasing step (S 100 ): After ultrasonically degreasing the magnesium alloy plating specimen for 10 minutes, it is degreased by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 60° C. for 5 minutes.

2. 에칭단계(S200) : 피도금체를 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1분 동안 침적하여 에칭시킨다.2. Etching step (S 200 ): The object to be plated is etched by immersion in an etching solution maintained at a temperature of 25° C. for 1 minute.

3. 징게이트단계(S300) : 피도금체를 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 5분 동안 침적하여 아연을 치환한다.3. Jingate step (S 300 ): Substitute zinc by immersing the body to be plated in a zincate solution maintained at a temperature of 70° C. for 5 minutes.

4. 시안동도금단계(S400) : 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 55℃의 온도에서 20분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.4. Copper cyanide plating step (S 400 ): Electrolytic plating of the body to be plated using a copper cyanide plating solution at a temperature of 55°C for 20 minutes at a current strength of 2A.

5. 황산동도금단계(S500) : 도금체를 황산동도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 30분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.5. Copper sulfate plating step (S 500 ): The plating body is electrolytically plated with a copper sulfate plating solution at a temperature of 25° C. for 30 minutes at a current strength of 2 A.

6. 3원합금도금단계(S600) : 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 20분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.6. Ternary alloy plating step ( S600 ): Electrolytic plating of the plating body using a ternary alloy plating solution at a temperature of 25°C for 20 minutes at a current strength of 2A.

7. 팔라듐도금단계(S700) : 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 40℃의 온도에서 4분 동안 0.5A의 전류세기로 전해도금시킨다.7. Palladium Plating Step (S 700 ): Electrolytic plating of the plating body using a palladium plating solution at a temperature of 40° C. for 4 minutes at a current strength of 0.5 A.

8. 전착단계(S800) : 도금체를 40℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 2분 동안 침적하되, 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시킨다.8. Electrodeposition step (S 800 ): The plating body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 40° C. for 2 minutes, and electrodeposited while stirring at a current strength of 1 A.

[내식성 확인 실험][Corrosion resistance confirmation test]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 8에 나타내었다.The results of the corrosion resistance confirmation test of the magnesium alloy plating specimen surface-treated by the surface treatment method are shown in FIG. 8 below.

시안동도금단계(S400), 3원합금도금단계(S600), 팔라듐도금단계(S700) 및 전착단계(S800)의 도금 시간을 2배씩 늘린 시편의 경우 72시간 염수분무 시험 결과에서 상기 실시예들의 내식성 결과 중에서는 가장 좋은 것으로 확인되었다. 표면의 라운드에 백녹이 보이나 소량이며, 도금층의 분리는 거의 보이지 않는 것으로 확인되었다.In the case of a specimen in which the plating time of the cyanide copper plating step (S 400 ), the ternary alloy plating step (S 600 ), the palladium plating step (S 700 ) and the electrodeposition step (S 800 ) is doubled, the 72-hour salt spray test results It was confirmed that it was the best among the corrosion resistance results of the examples. It was confirmed that white rust was seen on the round surface of the surface, but in a small amount, and the separation of the plating layer was hardly visible.

마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 포면처리에 따른 내식성 및 땀에 대한 저항성 확인 시험Corrosion resistance and sweat resistance confirmation test according to the surface treatment of the glasses frame made of magnesium alloy material

하기의 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 내식성 및 땀에 대한 저항성을 확인하는 실험을 실시하였다.An experiment was conducted to confirm the corrosion resistance and sweat resistance of the glasses frame made of the magnesium alloy material surface-treated by the following method.

[표면처리 공정][Surface treatment process]

1. 탈지단계(S100) : 피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 10분 동안 초음파 탈지한 뒤, 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5분 동안 담지하여 탈지시킨다.1. Degreasing step (S 100 ): After ultrasonically degreasing a spectacle frame made of a magnesium alloy material, which is a body to be plated, for 10 minutes, it is degreased by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 60° C. for 5 minutes.

2. 에칭단계(S200) : 피도금체를 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1분 동안 침적하여 에칭시킨다.2. Etching step (S 200 ): The object to be plated is etched by immersion in an etching solution maintained at a temperature of 25° C. for 1 minute.

3. 징게이트단계(S300) : 피도금체를 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 5분 동안 침적하여 아연을 치환한다.3. Jingate step (S 300 ): Substitute zinc by immersing the body to be plated in a zincate solution maintained at a temperature of 70° C. for 5 minutes.

4. 시안동도금단계(S400) : 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 55℃의 온도에서 20분 동안 1A의 전류세기로 전해도금시킨다.4. Copper cyanide plating step (S 400 ): Electrolytic plating of the body to be plated at a temperature of 55° C. with a current strength of 1A for 20 minutes using a copper cyanide plating solution.

5. 황산동도금단계(S500) : 도금체를 황산동도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 40분 동안 1A의 전류세기로 전해도금시킨다.5. Copper sulfate plating step (S 500 ): The plating body is electrolytically plated with a copper sulfate plating solution at a temperature of 25° C. for 40 minutes at a current strength of 1 A.

6. 3원합금도금단계(S600) : 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 20분 동안 1A의 전류세기로 전해도금시킨다.6. Ternary alloy plating step ( S600 ): Electrolytic plating of the plating body using a ternary alloy plating solution at a temperature of 25°C for 20 minutes at a current strength of 1A.

7. 팔라듐도금단계(S700) : 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 40℃의 온도에서 4분 동안 0.25A의 전류세기로 전해도금시킨다.7. Palladium plating step (S 700 ): Electrolytic plating of the plating body using a palladium plating solution at a temperature of 40° C. for 4 minutes at a current strength of 0.25 A.

8. 전착단계(S800) : 도금체를 40℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 2분 동안 침적하되, 0.5A의 전류세기로 교반하면서 전착시킨다.8. Electrodeposition step (S 800 ): The plating body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 40° C. for 2 minutes, and electrodeposited while stirring at a current strength of 0.5 A.

[내식성 확인 실험][Corrosion resistance confirmation test]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 내식성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 9에 나타내었으며, 72시간 염수분무 시험 결과, 부식이 진행되지 않은 것으로 확인되었다.The results of the test for confirming the corrosion resistance of the glasses frame made of the magnesium alloy material surface-treated by the surface treatment method are shown in FIG.

[땀에 대한 저항성 확인 실험][Experiment to confirm resistance to sweat]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 땀에 대한 저항성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 10에 나타내었으며, 땀에 대한 저항성 확인 시험 결과 이상이 없는 것으로 확인되었다.The results of an experiment to confirm the resistance to sweat of the glasses frame made of the magnesium alloy material surface-treated by the surface treatment method are shown in FIG.

결론적으로, 상기 실시예 1 내지 실시예 6을 통해, 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은 3원합금도금단계에서 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 결함이 형성되지 않는 장점이 있고, 전착단계에서 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시킬 수 있을 뿐만 아니라 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지할 수 있어 안경프레임 자체의 품질을 높일 수 있음을 확인하였다.In conclusion, through Examples 1 to 6, the surface treatment method of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention is copper cyanide, zinc cyanide and sodium stannate in the ternary alloy plating step. By using the ternary alloy plating solution containing this By electrodeposition using a rhodium plating solution, not only can the silver color be effectively expressed, but also corrosion resistance can be prevented even when exposed to salt water, thereby improving the quality of the spectacle frame itself.

이상, 실시예를 들어 본원 발명을 상세하게 설명하였으나, 본원 발명은 상기 실시예들에 한정되지 않으며, 여러 가지 다양한 형태로 변형될 수 있고, 본원 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 많은 변형이 가능함이 명백하다. 또한, 청구범위에 기재된 본원 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본원 발명의 권리 범위에 속한다고 할 것이다.Above, the present invention has been described in detail by way of examples, but the present invention is not limited to the above embodiments, and may be modified in various forms, and common knowledge in the art within the technical spirit of the present invention It is clear that many variations are possible by those who have it. In addition, within the scope that does not depart from the technical spirit of the present invention described in the claims, various forms of substitution, modification and change will be possible by those of ordinary skill in the art, and this also falls within the scope of the present invention will do it

Claims (9)

마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법으로서,
피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 50 내지 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5 내지 15분 동안 담지하여 탈지시키는 탈지단계;
상기 탈지단계에서 탈지 처리된 피도금체를 18 내지 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1 내지 2분 동안 침적하여 에칭시키는 에칭단계;
상기 에칭단계에서 에칭 처리된 피도금체를 65 내지 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 4 내지 6분 동안 침적하여 아연을 치환하는 징게이트단계;
상기 징게이트단계에서 징게이트 처리된 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 50 내지 60℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 시안동도금단계;
상기 시안동도금단계에서 시안동 도금된 도금체를 황산동도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 30 내지 40분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 황산동도금단계;
상기 황산동도금단계에서 황산동 도금된 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 3원합금도금단계;
상기 3원합금도금단계에서 3원합금 도금된 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 35 내지 45℃의 온도에서 2 내지 4분 동안 0.25 내지 0.5A의 전류세기로 전해도금시키는 팔라듐도금단계; 및
상기 팔라듐도금단계에서 팔라듐 도금된 도금체를 35 내지 45℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1 내지 2분 동안 침적하되, 0.5 내지 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시키는 전착단계;가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
A method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material, comprising:
A degreasing step of degreasing by immersing the spectacle frame made of a magnesium alloy material, which is a material to be plated, in a degreasing solution maintained at a temperature of 50 to 60° C. for 5 to 15 minutes;
an etching step of etching by immersing the degreased object to be plated in the degreasing step for 1 to 2 minutes in an etchant maintained at a temperature of 18 to 25°C;
a jingate step of substituting zinc by immersing the plated body etched in the etching step in a jingate solution maintained at a temperature of 65 to 70° C. for 4 to 6 minutes;
a cyan copper plating step of electrolytically plating the body to be plated, which has been treated with the jingate in the jingate step, using a copper cyanide plating solution at a temperature of 50 to 60° C. for 10 to 20 minutes at a current strength of 1 to 2A;
a copper sulfate plating step of electrolytically plating the cyan copper plated body in the cyan copper plating step using a copper sulfate plating solution at a temperature of 18 to 25° C. for 30 to 40 minutes at a current strength of 1 to 2 A;
a ternary alloy plating step of electrolytically plating the copper sulfate plated body in the copper sulfate plating step using a ternary alloy plating solution at a temperature of 18 to 25° C. for 10 to 20 minutes at a current strength of 1 to 2A;
a palladium plating step of electrolytically plating the ternary alloy plated body at a temperature of 35 to 45° C. for 2 to 4 minutes at a current strength of 0.25 to 0.5 A using a palladium plating solution in the ternary alloy plating step; and
In the palladium plating step, an electrodeposition step of immersing the palladium-plated plating body in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 35 to 45° C. for 1 to 2 minutes, while stirring at a current strength of 0.5 to 1 A; A method for surface treatment of an eyeglass frame made of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that.
청구항 1에 있어서,
상기 탈지단계의 탈지액은,
pH가 13 이상인 알칼리 용액이며,
탈지액 전체 1리터(L)를 기준으로 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 100 내지 150g/L 및 탄산나트륨(Sodium carbonate) 50 내지 100g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method according to claim 1,
The degreasing solution of the degreasing step,
It is an alkaline solution with a pH of 13 or higher,
Glasses frame made of magnesium alloy material using rhodium, characterized in that 100 to 150 g/L of sodium hydroxide and 50 to 100 g/L of sodium carbonate are included based on 1 liter (L) of total degreasing solution of surface treatment method.
청구항 1에 있어서,
상기 에칭단계의 에칭액은,
에칭액 전체 1리터(L)를 기준으로 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA, Ethylene diamine tetra acetic acid) 5 내지 10g/L 및 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 30 내지 50g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method according to claim 1,
The etching solution of the etching step,
Ethylene diamine tetra acetic acid (EDTA) 5 to 10 g/L and sodium hydroxide 30 to 50 g/L based on 1 liter (L) of the total etching solution. A method for surface treatment of eyeglass frames made of magnesium alloy material.
청구항 1에 있어서,
상기 징게이트단계의 징게이트액은,
징게이트액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산아연(Zinc sulfate) 30 내지 80g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method according to claim 1,
The jingate solution of the jingate step is,
A method for surface treatment of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that 30 to 80 g/L of zinc sulfate is contained based on 1 liter (L) of the total zincate solution.
청구항 1에 있어서,
상기 시안동도금단계의 시안동도금액은,
시안동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(Sodium cyanide) 70 내지 90g/L, 시안화구리(Copper cyanide) 60 내지 80g/L, 칼륨나트륨타르타르산염(Potassium sodium tartrate) 20 내지 40g/L 및 탄산나트륨(Sodium carbonate) 40 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method according to claim 1,
The copper cyanide plating solution in the cyan copper plating step is,
Based on 1 liter (L) of total copper cyanide plating solution, sodium cyanide 70 to 90 g/L, copper cyanide 60 to 80 g/L, potassium sodium tartrate 20 to 40 g/L And Sodium carbonate (Sodium carbonate) 40 to 60 g / L surface treatment method of a spectacle frame composed of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that it contains.
청구항 1에 있어서,
상기 황산동도금단계의 황산동도금액은,
황산동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산동(Copper sulfate) 150 내지 250g/L 및 황산(Sulfuric acid) 45 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method according to claim 1,
The copper sulfate plating solution in the copper sulfate plating step is,
Glasses frame made of magnesium alloy material using rhodium, characterized in that it contains 150 to 250 g/L of copper sulfate and 45 to 60 g/L of sulfuric acid based on 1 liter (L) of total copper sulfate plating solution of surface treatment method.
청구항 1에 있어서,
상기 3원합금도금단계의 3원합금도금액은,
3원합금도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(Sodium cyanide) 40 내지 50g/L, 시안화구리(Copper cyanide) 16 내지 20g/L, 시안화아연(Zinc cyanide) 1.6 내지 1.8g/L, 주석산나트륨(Sodium Stannate) 80 내지 90g/L 및 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 20 내지 30g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method according to claim 1,
The ternary alloy plating amount of the ternary alloy plating step is,
Sodium cyanide 40 to 50 g/L, Copper cyanide 16 to 20 g/L, Zinc cyanide 1.6 to 1.8 g/L based on total 1 liter (L) of ternary alloy plating solution , Sodium Stannate (Sodium Stannate) 80 to 90 g / L and Sodium hydroxide (Sodium hydroxide) 20 to 30 g / L A method of surface treatment of a spectacle frame composed of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that it contains.
청구항 1에 있어서,
상기 팔라듐도금단계의 팔라듐도금액은,
팔라듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 팔라듐(Palladium) 3 내지 8g/L 및 황산암모늄(Ammonium sulfate) 150 내지 200g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method according to claim 1,
The palladium plating solution of the palladium plating step is,
Glasses frame made of magnesium alloy material using rhodium, characterized in that it contains 3 to 8 g/L of palladium and 150 to 200 g/L of ammonium sulfate based on 1 liter (L) of the total palladium plating solution of surface treatment method.
청구항 1에 있어서,
상기 전착단계의 화이트로듐도금액은,
화이트로듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 로듐(Rhodium) 1 내지 2g/L 및 황산(Sulfuric acid) 10 내지 15g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method according to claim 1,
The white rhodium plating solution in the electrodeposition step is,
Glasses frame made of magnesium alloy material using rhodium, characterized in that 1 to 2 g/L of rhodium and 10 to 15 g/L of sulfuric acid are included based on 1 liter (L) of the total white rhodium plating solution of surface treatment method.
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