KR102498078B1 - Surface treatment method of glasses frame made of magnesium alloy material using rhodium - Google Patents

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Abstract

본 발명은 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 탈지단계, 에칭단계, 징게이트단계, 시안동도금단계, 황산동도금단계, 3원합금도금단계, 팔라듐도금단계 및 전착단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 관한 것으로서, 본 발명의 일 실시형태에 따른 표면처리 방법은 3원합금도금단계에서 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 결함이 형성되지 않는 장점이 있고, 전착단계에서 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시킬 수 있을 뿐만 아니라 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지할 수 있어 안경프레임 자체의 품질을 높일 수 있는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for treating the surface of an eyeglass frame made of a magnesium alloy material using rhodium, and more specifically, a degreasing step, an etching step, a zinc gate step, a copper cyanide plating step, a copper sulfate plating step, a ternary alloy plating step, and a palladium plating step. It relates to a surface treatment method for a spectacle frame composed of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that it comprises step and electrodeposition step, and the surface treatment method according to an embodiment of the present invention is cyanide copper, cyanide in the ternary alloy plating step By using a ternary alloy plating solution containing zinc and sodium stannate, it is possible to obtain a highly reliable metal surface with excellent physical properties such as corrosion resistance, wear resistance and adhesion, so there is an advantage in that no defects are formed, and in the electrodeposition step, rhodium Silver color can be effectively expressed by electrodeposition using a white rhodium plating solution containing rhodium, which can effectively express silver color, and can prevent corrosion even when exposed to salt water due to its excellent corrosion resistance. It relates to a method for treating the surface of a spectacle frame made of a magnesium alloy material.

Description

로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법{SURFACE TREATMENT METHOD OF GLASSES FRAME MADE OF MAGNESIUM ALLOY MATERIAL USING RHODIUM}Surface treatment method of eyeglass frame made of magnesium alloy material using rhodium {SURFACE TREATMENT METHOD OF GLASSES FRAME MADE OF MAGNESIUM ALLOY MATERIAL USING RHODIUM}

본 발명은 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 탈지단계, 에칭단계, 징게이트단계, 시안동도금단계, 황산동도금단계, 3원합금도금단계, 팔라듐도금단계 및 전착단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 관한 것으로서, 본 발명의 일 실시형태에 따른 표면처리 방법은 3원합금도금단계에서 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 결함이 형성되지 않는 장점이 있고, 전착단계에서 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시킬 수 있을 뿐만 아니라 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지할 수 있어 안경프레임 자체의 품질을 높일 수 있는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for treating the surface of an eyeglass frame made of a magnesium alloy material using rhodium, and more specifically, a degreasing step, an etching step, a zinc gate step, a copper cyanide plating step, a copper sulfate plating step, a ternary alloy plating step, and a palladium plating step. It relates to a surface treatment method for a spectacle frame composed of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that it comprises step and electrodeposition step, and the surface treatment method according to an embodiment of the present invention is cyanide copper, cyanide in the ternary alloy plating step By using a ternary alloy plating solution containing zinc and sodium stannate, it is possible to obtain a highly reliable metal surface with excellent physical properties such as corrosion resistance, wear resistance and adhesion, so there is an advantage in that no defects are formed, and in the electrodeposition step, rhodium Silver color can be effectively expressed by electrodeposition using a white rhodium plating solution containing rhodium, which can effectively express silver color, and can prevent corrosion even when exposed to salt water due to its excellent corrosion resistance. It relates to a method for treating the surface of a spectacle frame made of a magnesium alloy material.

마그네슘 또는 마그네슘 합금은 실용 금속 중 가장 비중이 작으면서 비강도가 큰 특징이 있으며, 주조성, 절삭성, 치수 안정성 및 내구성이 매우 뛰어나다는 이점을 가진다. 이로 인하여 마그네슘 관련 제품은 자동차 부품, 통신부품, 전자부품, 컴퓨터, 휴대용 전자기기뿐만 아니라 스포츠 용품의 재료로 사용되고 있다. 그러나 마그네슘 관련 제품은 공기 중에서 가장 부식되기 쉬운 금속이므로 제품으로 사용되기 위하여 표면처리가 필수로 진행되어야 한다.Magnesium or a magnesium alloy has the characteristics of having the smallest specific gravity and high specific strength among practical metals, and has advantages such as excellent castability, machinability, dimensional stability and durability. Due to this, magnesium-related products are used as materials for sports goods as well as automobile parts, communication parts, electronic parts, computers, and portable electronic devices. However, magnesium-related products are metals that are most easily corroded in the air, so surface treatment is essential for use as products.

마그네슘 관련 제품의 표면 처리는 크로메이트 처리 또는 양극산화 처리와 같은 방법이 이용되고 있지만 크로메이트 처리는 용액의 크롬 6가 이온으로 인하여 환경 문제를 발생시킨다는 문제점을 가진다. 이로 인하여 마그네슘 관련 제품에 대한 새로운 도금 기술과 같은 표면처리 방법의 개발이 요구된다.Methods such as chromate treatment or anodic oxidation are used for surface treatment of magnesium-related products, but chromate treatment has a problem in that environmental problems arise due to chromium hexavalent ions in the solution. For this reason, the development of a surface treatment method such as a new plating technology for magnesium-related products is required.

대한민국 공개특허 제10-2010-0104188호에는 전기, 전자기기, 안경테, 자동차 또는 각종 기계 부품에 사용되는 마그네슘 판재 또는 마그네슘 합금의 성형품과 같은 마그네슘 관련 제품의 내식성을 향상시키기 위한 무전해 또는 전해 도금 방법에 관련된 마그네슘 또는 마그네슘 합금 제품의 도금 방법과 관련된 기술 내용이 개시되어 있다. 또한 대한민국 공개특허 제10-2012-0127840호에는 마그네슘 합금 표면에 치환 구리 피막을 형성하는 전처리를 통하여 도금 밀착력이 향상되도록 하는 마그네슘 합금의 도금방법 및 이를 위한 전처리 방법과 관련된 기술 내용이 개시되어 있다. Korean Patent Publication No. 10-2010-0104188 discloses an electroless or electrolytic plating method for improving the corrosion resistance of magnesium-related products such as magnesium sheets or molded products of magnesium alloys used in electrical and electronic devices, eyeglass frames, automobiles, and various mechanical parts. Technical content related to a plating method of magnesium or magnesium alloy products related to is disclosed. In addition, Korean Patent Publication No. 10-2012-0127840 discloses a magnesium alloy plating method and a pretreatment method for improving plating adhesion through a pretreatment of forming a substituted copper film on the surface of the magnesium alloy.

상기와 같이 마그네슘 관련 제품의 내식성을 향상시키기 위한 도금 기술과 같은 표면처리 방법에 대해서는 관련 연구가 활발히 진행되고 있기는 하지만, 마그네슘 관련 제품 중에서도 특히 안경프레임에 최적화되어 있으며, 3원합금 도금 공정에서 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 결함이 형성되지 않는 장점이 있고, 전착 공정에서 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시킬 수 있을 뿐만 아니라 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지할 수 있어 안경프레임 자체의 품질을 높일 수 있는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법과 관련된 기술 개발은 미흡한 실정이다.Although related researches are being actively conducted on surface treatment methods such as plating technology to improve the corrosion resistance of magnesium-related products as described above, it is especially optimized for eyeglass frames among magnesium-related products, and cyanide in the ternary alloy plating process By using a ternary alloy plating solution containing copper, zinc cyanide and sodium stannate, it is possible to obtain a highly reliable metal surface with excellent physical properties such as corrosion resistance, wear resistance and adhesion, so there is an advantage that no defects are formed, and electrodeposition In the process, by electrodeposition using a white rhodium plating solution containing rhodium, silver color can be effectively expressed, and corrosion resistance is excellent, so corrosion can be prevented even when exposed to salt water, which can improve the quality of the spectacle frame itself. Technology development related to the surface treatment method of the spectacle frame composed of magnesium alloy material using rhodium is insufficient.

대한민국 공개특허 제10-2010-0104188호(2010.09.29.공개)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2010-0104188 (published on September 29, 2010) 대한민국 공개특허 제10-2012-0127840호(2012.11.26.공개)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2012-0127840 (published on November 26, 2012)

본 발명은 상술한 것과 같은 문제점을 해결하고 필요한 기술을 제공하기 위하여 안출된 것으로서,The present invention has been made to solve the problems described above and provide necessary technology,

본 발명은 탈지단계, 에칭단계, 징게이트단계, 시안동도금단계, 황산동도금단계, 3원합금도금단계, 팔라듐도금단계 및 전착단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 제공함에 목적이 있다.The present invention is a spectacle frame composed of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that it includes a degreasing step, an etching step, a zinc gate step, a copper cyanide plating step, a copper sulfate plating step, a ternary alloy plating step, a palladium plating step, and an electrodeposition step. It is an object to provide a surface treatment method.

또한, 본 발명은 3원합금도금단계에서 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 결함이 형성되지 않는 장점이 있는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 제공함에 다른 목적이 있다.In addition, the present invention uses a ternary alloy plating solution containing copper cyanide, zinc cyanide and sodium stannate in the ternary alloy plating step to obtain a highly reliable metal surface with excellent physical properties such as corrosion resistance, wear resistance and adhesion. Another object is to provide a surface treatment method for a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium, which has the advantage of not forming defects according to the present invention.

아울러, 본 발명은 전착단계에서 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시킬 수 있을 뿐만 아니라 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지할 수 있어 안경프레임 자체의 품질을 높일 수 있는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 제공함에 또 다른 목적이 있다.In addition, in the present invention, by electrodeposition using a white rhodium plating solution containing rhodium in the electrodeposition step, silver color can be effectively expressed, and corrosion resistance is excellent, so corrosion can be prevented even when exposed to salt water, so that the spectacle frame itself Another object is to provide a method for treating the surface of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium, which can improve the quality of.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시형태로서,As one embodiment of the present invention for achieving the above object,

본 발명의 일 실시형태는 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법으로서, 피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 50 내지 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5 내지 15분 동안 담지하여 탈지시키는 탈지단계; 상기 탈지단계에서 탈지 처리된 피도금체를 18 내지 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1 내지 2분 동안 침적하여 에칭시키는 에칭단계; 상기 에칭단계에서 에칭 처리된 피도금체를 65 내지 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 4 내지 6분 동안 침적하여 아연을 치환하는 징게이트단계; 상기 징게이트단계에서 징게이트 처리된 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 50 내지 60℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 시안동도금단계; 상기 시안동도금단계에서 시안동 도금된 도금체를 황산동도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 30 내지 40분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 황산동도금단계; 상기 황산동도금단계에서 황산동 도금된 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 3원합금도금단계; 상기 3원합금도금단계에서 3원합금 도금된 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 35 내지 45℃의 온도에서 2 내지 4분 동안 0.25 내지 0.5A의 전류세기로 전해도금시키는 팔라듐도금단계; 및 상기 팔라듐도금단계에서 팔라듐 도금된 도금체를 35 내지 45℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1 내지 2분 동안 침적하되, 0.5 내지 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시키는 전착단계;가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 제공한다.One embodiment of the present invention is a surface treatment method for a spectacle frame composed of a magnesium alloy material, wherein the spectacle frame composed of a magnesium alloy material, which is an object to be plated, is immersed in a degreasing solution maintained at a temperature of 50 to 60 ° C. for 5 to 15 minutes Degreasing step of degreasing; an etching step of etching by immersing the plated body degreased in the degreasing step in an etchant maintained at a temperature of 18 to 25° C. for 1 to 2 minutes; a zinc gate step of immersing the plated body etched in the etching step in a zinc gate solution maintained at a temperature of 65 to 70° C. for 4 to 6 minutes to replace zinc; a copper cyanide plating step of electrolytically plating the plated body subjected to the zinc gate process at a current intensity of 1 to 2 A for 10 to 20 minutes at a temperature of 50 to 60° C. using a copper cyanide plating solution; a copper sulfate plating step of electrolytically plating the plated body plated with copper cyanide in the copper sulfate plating step at a temperature of 18 to 25° C. for 30 to 40 minutes at a current intensity of 1 to 2 A using a copper sulfate plating solution; A ternary alloy plating step of electrolytically plating the plated body plated with copper sulfate in the copper sulfate plating step using a ternary alloy plating solution at a temperature of 18 to 25° C. for 10 to 20 minutes at a current intensity of 1 to 2 A; A palladium plating step of electroplating the plated body plated with the ternary alloy in the ternary alloy plating step using a palladium plating solution at a temperature of 35 to 45° C. for 2 to 4 minutes at a current intensity of 0.25 to 0.5 A; And an electrodeposition step of depositing the palladium-plated plating body in the palladium plating step for 1 to 2 minutes in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 35 to 45 ° C. while stirring at a current intensity of 0.5 to 1A. It provides a method for treating the surface of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that.

본 발명에 있어서, 상기 탈지단계의 탈지액은 pH가 13 이상인 알칼리 용액이며, 탈지액 전체 1리터(L)를 기준으로 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 100 내지 150g/L 및 탄산나트륨(Sodium carbonate) 50 내지 100g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the degreasing solution in the degreasing step is an alkaline solution having a pH of 13 or higher, and contains 100 to 150 g/L of sodium hydroxide and 50 to 150 g/L of sodium carbonate based on 1 liter (L) of the total degreasing solution. It is characterized in that 100 g / L is included.

본 발명에 있어서, 상기 에칭단계의 에칭액은 에칭액 전체 1리터(L)를 기준으로 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA, Ethylene diamine tetra acetic acid) 5 내지 10g/L 및 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 30 내지 50g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the etchant in the etching step is 5 to 10 g/L of ethylenediamine tetra acetic acid (EDTA) and 30 to 50 g/L of sodium hydroxide based on 1 liter (L) of the total etchant. It is characterized in that L is included.

본 발명에 있어서, 상기 징게이트단계의 징게이트액은 징게이트액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산아연(Zinc sulfate) 30 내지 80g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the Zingate solution in the Zingate step is characterized in that it contains 30 to 80 g/L of zinc sulfate based on 1 liter (L) of the Zingate solution.

본 발명에 있어서, 상기 시안동도금단계의 시안동도금액은 시안동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(Sodium cyanide) 70 내지 90g/L, 시안화구리(Copper cyanide) 60 내지 80g/L, 칼륨나트륨타르타르산염(Potassium sodium tartrate) 20 내지 40g/L 및 탄산나트륨(Sodium carbonate) 40 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the copper cyanide plating solution in the copper cyanide plating step is 70 to 90 g/L of sodium cyanide, 60 to 80 g/L of copper cyanide, based on the total 1 liter (L) of the copper cyanide plating solution. It is characterized by including 20 to 40 g/L of potassium sodium tartrate and 40 to 60 g/L of sodium carbonate.

본 발명에 있어서, 상기 황산동도금단계의 황산동도금액은 황산동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산동(Copper sulfate) 150 내지 250g/L 및 황산(Sulfuric acid) 45 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징특징으로 한다.In the present invention, the copper sulfate plating solution in the copper sulfate plating step includes 150 to 250 g/L of copper sulfate and 45 to 60 g/L of sulfuric acid based on the total 1 liter (L) of the copper sulfate plating solution. characterized by that.

본 발명에 있어서, 상기 3원합금도금단계의 3원합금도금액은 3원합금도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(Sodium cyanide) 40 내지 50g/L, 시안화구리(Copper cyanide) 16 내지 20g/L, 시안화아연(Zinc cyanide) 1.6 내지 1.8g/L, 주석산나트륨(Sodium Stannate) 80 내지 90g/L 및 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 20 내지 30g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the ternary alloy plating solution in the ternary alloy plating step is 40 to 50 g / L of sodium cyanide and 16 copper cyanide based on the total 1 liter (L) of the ternary alloy plating solution to 20 g/L, 1.6 to 1.8 g/L of zinc cyanide, 80 to 90 g/L of sodium stannate, and 20 to 30 g/L of sodium hydroxide.

본 발명에 있어서, 상기 팔라듐도금단계의 팔라듐도금액은 팔라듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 팔라듐(Palladium) 3 내지 8g/L 및 황산암모늄(Ammonium sulfate) 150 내지 200g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the palladium plating solution in the palladium plating step contains 3 to 8 g/L of palladium and 150 to 200 g/L of ammonium sulfate based on the total 1 liter (L) of the palladium plating solution. characterized by

본 발명에 있어서, 상기 전착단계의 화이트로듐도금액은 화이트로듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 로듐(Rhodium) 1 내지 2g/L 및 황산(Sulfuric acid) 10 내지 15g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the white rhodium plating solution in the electrodeposition step contains 1 to 2 g/L of rhodium and 10 to 15 g/L of sulfuric acid based on 1 liter (L) of the total white rhodium plating solution. characterized by

본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은 3원합금도금단계에서 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 결함이 형성되지 않는 장점이 있다.According to an embodiment of the present invention, the surface treatment method of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium has corrosion resistance and wear resistance by using a ternary alloy plating solution containing copper cyanide, zinc cyanide, and sodium stannate in the ternary alloy plating step. There is an advantage in that defects are not formed as a highly reliable metal surface can be obtained due to excellent physical properties such as and adhesion.

또한, 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은 전착단계에서 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시킬 수 있을 뿐만 아니라 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지할 수 있어 안경프레임 자체의 품질을 높일 수 있는 장점이 있다.In addition, in the surface treatment method of a spectacle frame made of magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention, silver color can be effectively expressed by electrodeposition using a white rhodium plating solution containing rhodium in the electrodeposition step. In addition, it has excellent corrosion resistance, so it can prevent corrosion even when exposed to salt water, which has the advantage of improving the quality of the spectacle frame itself.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 공정 단계별로 나타낸 순서도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 이용하여 표면처리된 제품의 도금층을 나타내는 단면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편을 공정 단계별로 촬영한 사진이다.
도 4는 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 EDS 도금층을 측정한 결과를 나타내는 사진 및 그래프이다.
도 5는 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 밀착성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
도 6은 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
도 7은 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 시안동도금단계(S400) 및 황산동도금단계(S500)의 시간 증가에 따른 내식성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
도 8은 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 시안동도금단계(S400), 3원합금도금단계(S600), 팔라듐도금단계(S700) 및 전착단계(S800)의 시간 증가에 따른 내식성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
도 9는 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 내식성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
도 10은 본 발명의 일 실시형태에 따라 표면처리된 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 땀에 대한 저항성 확인 실험을 실시한 결과를 나타내는 사진이다.
1 is a flow chart showing a surface treatment method of a spectacle frame composed of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention step by step.
2 is a cross-sectional view showing a plating layer of a product surface-treated using the surface treatment method of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention.
3 is a photograph taken in each process step of a magnesium alloy plated specimen subjected to surface treatment according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a photograph and a graph showing the results of measuring the EDS plating layer of the magnesium alloy plated specimen surface-treated according to an embodiment of the present invention.
5 is a photograph showing the results of an experiment to confirm plating adhesion of a magnesium alloy plated specimen subjected to surface treatment according to an embodiment of the present invention.
6 is a photograph showing the results of a corrosion resistance confirmation experiment of a magnesium alloy plated specimen subjected to surface treatment according to an embodiment of the present invention.
7 is a photograph showing the results of a corrosion resistance test according to the increase of time in the copper cyanide plating step (S 400 ) and the copper sulfate plating step (S 500 ) of the magnesium alloy plated specimen subjected to surface treatment according to an embodiment of the present invention.
8 is a cyanide copper plating step (S 400 ), a ternary alloy plating step (S 600 ), a palladium plating step (S 700 ) and an electrodeposition step (S 800 ) of a magnesium alloy plated specimen subjected to surface treatment according to an embodiment of the present invention. It is a photograph showing the result of the corrosion resistance confirmation experiment according to the increase of time.
9 is a photograph showing the results of a corrosion resistance confirmation experiment of a spectacle frame composed of a magnesium alloy material surface-treated according to an embodiment of the present invention.
10 is a photograph showing the results of an experiment to confirm resistance to sweat of an eyeglass frame made of a magnesium alloy material surface-treated according to an embodiment of the present invention.

이하, 본원의 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본원 발명의 실시형태를 들어 상세히 설명한다. 본원 발명의 실시형태는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본원 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 본원 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본원 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily practice the present invention. Embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the embodiments of the present invention may be modified in many different forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below.

본원 발명의 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification of the present invention, when a certain component is said to "include", it means that it may further include other components without excluding other components unless otherwise stated.

본 발명의 명세서 전체에서, 어떤 단계가 다른 단계와 “상에” 또는 “전에” 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 단계가 다른 단계와 직접적 시계열적인 관계에 있는 경우뿐만 아니라, 각 단계 후의 혼합하는 단계와 같이 두 단계의 순서에 시계열적 순서가 바뀔 수 있는 간접적 시계열적 관계에 있는 경우와 동일한 권리를 포함할 수 있다.Throughout the specification of the present invention, when a step is said to be located “on” or “before” another step, this is not only the case where a step is in a direct time-series relationship with another step, but also the mixing step after each step As such, the order of the two steps may include the same rights as in the case of an indirect time-series relationship in which the time-series order may change.

본 발명의 명세서 전체에서 사용되는 정도의 용어 “약”, “실질적으로” 등은 언급된 의미에 고유한 제조 및 물질 허용 오차가 제시될 때 그 수치에서 또는 그 수치에 근접한 의미로 사용되고, 본 발명의 이해를 돕기 위해 정확하거나 절대적인 수치가 언급된 개시 내용을 비양심적인 침해자가 부당하게 이용하는 것을 방지하기 위해 사용된다. 본원 명세서 전체에서 사용되는 용어 “~(하는) 단계” 또는 “~의 단계”는 “~를 위한 단계”를 의미하지 않는다.The terms "about," "substantially," and the like used throughout the specification of the present invention are used at or close to that value when manufacturing and material tolerances inherent in the stated meaning are given, and the present invention Accurate or absolute figures are used to prevent unfair use by unscrupulous infringers of the disclosed disclosures mentioned for the sake of understanding. The term “step of (doing)” or “step of” used throughout the present specification does not mean “step for”.

본원 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본원 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본원 발명에서, “포함하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Terms used in the present invention are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present invention, terms such as “comprise” or “having” are intended to designate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features It should be understood that the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof is not precluded.

본 발명은 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 탈지단계(S100), 에칭단계(S200), 징게이트단계(S300), 시안동도금단계(S400), 황산동도금단계(S500), 3원합금도금단계(S600), 팔라듐도금단계(S700) 및 전착단계(S800)를 포함한다.The present invention relates to a method for treating the surface of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium, and more specifically, a degreasing step (S 100 ), an etching step (S 200 ), a zinc gate step (S 300 ), and cyan copper plating step (S 400 ), copper sulfate plating step (S 500 ), ternary alloy plating step (S 600 ), palladium plating step (S 700 ) and electrodeposition step (S 800 ).

이하, 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법(이하, ‘표면처리 방법’이라고도 함)을 구체적으로 설명한다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은 후술하는 설명에 의하여 보다 명확하게 이해될 수 있다.Hereinafter, a surface treatment method (hereinafter, also referred to as a 'surface treatment method') of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention will be described in detail. A surface treatment method of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention can be more clearly understood by the description below.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법을 공정 단계별로 나타낸 순서도이다.1 is a flow chart showing a surface treatment method of a spectacle frame composed of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention step by step.

우선, 탈지단계(S100)를 수행할 수 있다.First, a degreasing step (S 100 ) may be performed.

피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 50 내지 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5 내지 15분 동안 담지하여 탈지시키는 탈지단계(S100)를 수행할 수 있다.A degreasing step (S 100 ) of degreasing the spectacle frame made of a magnesium alloy material, which is a material to be plated, by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 50 to 60° C. for 5 to 15 minutes may be performed.

탈지는 유지성 오염물을 제거하기 위해 수행하는 공정으로서, 도금에서는 세정을 포함하여 탈지 세정의 의미로 알칼리 탈지(세정), 용제 탈지(세청) 및 전해 탈지(세청) 등을 의미한다.Degreasing is a process performed to remove oily contaminants, and in plating, it means alkali degreasing (cleaning), solvent degreasing (washing), and electrolytic degreasing (washing) in the meaning of degreasing and cleaning including washing.

본 발명의 탈지단계(S100)는 피도금체의 재질, 형상, 제조 공정, 제조 환경에 따라 발생된 금속 표면의 오염물질을 제거하기 위해 수행하는 공정으로서, 일반적인 도금 준비 작업이라 할 수 있다. 탈지는 도금 공정에서 중요한 공정이라 할 수 있으며 탈지가 불충분할 경우 밀착 불량, 광택 불량, 거친 도금 및 부풀음 등의 불량 원인이 될 수 있다.The degreasing step (S 100 ) of the present invention is a process performed to remove contaminants on the metal surface generated according to the material, shape, manufacturing process, and manufacturing environment of the object to be plated, and can be referred to as a general plating preparation work. It can be said that degreasing is an important process in the plating process, and insufficient degreasing can cause defects such as poor adhesion, poor gloss, rough plating and swelling.

상기 탈지단계(S100)에서는 피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 50 내지 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 담지하여 탈지시키는 것이 바람직한데, 이는 50℃ 미만의 온도에서 탈지되는 경우에는 탈지 시간이 길어지며 미탈지 현상이 발생될 우려가 있기 때문이며, 60℃를 초과하는 온도에서 탈지되는 경우에는 탈지액 수명이 단축될 우려가 있기 때문이다.In the degreasing step (S 100 ), it is preferable to degrease the spectacle frame composed of a magnesium alloy material, which is the object to be plated, by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 50 to 60 ° C. This is because the degreasing time is prolonged and there is a possibility of non-degreasing phenomenon, and when degreasing is performed at a temperature exceeding 60° C., the lifetime of the degreasing liquid may be shortened.

또한, 상기 탈지단계(S100)에서는 피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 탈지액에 5 내지 15분 동안 담지하여 탈지시키는 것이 바람직한데, 이는 5분 미만의 시간 동안 탈지되는 경우에는 부분적으로 미탈지가 발생될 우려가 있기 때문이며, 15분을 초과하는 시간 동안 탈지되는 경우에는 탈지가 완전히 이루어진 후에 불필요한 시간이 더 소비되게 되어 생산성이 저감될 우려가 있기 때문이다.In addition, in the degreasing step (S 100 ), it is preferable to degrease the spectacle frame composed of magnesium alloy material, which is the object to be plated, by immersing it in a degreasing solution for 5 to 15 minutes. This is because there is a fear that non-degreasing may occur, and when degreasing is performed for a time exceeding 15 minutes, unnecessary time is consumed after complete degreasing, and productivity may be reduced.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 탈지단계(S100)의 탈지액은 pH가 13 이상인 알칼리 용액이며, 탈지액 전체 1리터(L)를 기준으로 수산화나트륨(NaOH, Sodium hydroxide) 100 내지 150g/L 및 탄산나트륨(Na2CO3, Sodium carbonate) 50 내지 100g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to one embodiment of the present invention, the degreasing solution of the degreasing step (S 100 ) is an alkaline solution having a pH of 13 or more, and 100 to 150 g of sodium hydroxide (NaOH, Sodium hydroxide) based on 1 liter (L) of the total degreasing solution. / L and sodium carbonate (Na 2 CO 3 , Sodium carbonate) is characterized in that it includes 50 to 100g / L.

다음으로, 에칭단계(S200)를 수행할 수 있다.Next, an etching step (S 200 ) may be performed.

상기 탈지단계(S100)에서 탈지 처리된 피도금체를 18 내지 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1 내지 2분 동안 침적하여 에칭시키는 에칭단계(S200)를 수행할 수 있다.An etching step (S 200 ) of etching the object to be plated, which has been degreased in the degreasing step (S 100 ), may be immersed in an etchant maintained at a temperature of 18 to 25° C. for 1 to 2 minutes to be etched.

에칭은 금속 또는 비금속 표면을 화학적 또는 전기화학적으로 부식하는 방법을 의미한다.Etching refers to a method of chemically or electrochemically corroding a metal or non-metal surface.

본 발명의 에칭단계(S200)는 피도금체를 산화제가 포함된 액으로 에칭하여, 표면 조화와 화학적 변화를 일으키게 함으로써 도금 밀착성을 향상시키기 위해 수행하는 공정이다.The etching step ( S200 ) of the present invention is a process performed to improve plating adhesion by etching the object to be plated with a liquid containing an oxidizing agent to cause surface roughening and chemical change.

상기 에칭단계(S200)에서는 피도금체를 18 내지 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1 내지 2분 동안 침적하여 에칭시키는 것이 바람직한데, 이는 25℃를 초과하는 온도에서 에칭되거나 2분을 초과하는 시간 동안 에칭되는 경우에는 과한 에칭으로 인해 피도금체 표면에 오히려 도금 밀착 불량이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the etching step (S 200 ), it is preferable to immerse the object to be plated in an etchant maintained at a temperature of 18 to 25 ° C for 1 to 2 minutes to etch, which is etched at a temperature exceeding 25 ° C or exceeding 2 minutes. This is because, in the case of etching for a period of time during which the plating is performed, there is a concern that plating adhesion failure may occur on the surface of the object to be plated due to excessive etching.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 에칭단계(S200)의 에칭액은 에칭액 전체 1리터(L)를 기준으로 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA, C10H16N2O8, Ethylene diamine tetra acetic acid) 5 내지 10g/L 및 수산화나트륨(NaOH, Sodium hydroxide) 30 내지 50g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to one embodiment of the present invention, the etching solution in the etching step (S 200 ) is ethylenediamine tetraacetic acid (EDTA, C 10 H 16 N 2 O 8 , Ethylene diamine tetra acetic acid) based on the total 1 liter (L) of the etching solution. ) 5 to 10 g/L and 30 to 50 g/L of sodium hydroxide (NaOH, Sodium hydroxide).

다음으로, 징게이트단계(S300)를 수행할 수 있다.Next, a zinc gate step (S 300 ) may be performed.

상기 에칭단계(S200)에서 에칭 처리된 피도금체를 65 내지 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 4 내지 6분 동안 침적하여 아연을 치환하는 징게이트단계(S300)를 수행할 수 있다.A zinc gate step (S 300 ) of replacing zinc by immersing the plated body etched in the etching step (S 200 ) in a zinc gate solution maintained at a temperature of 65 to 70 ° C. for 4 to 6 minutes may be performed. there is.

징게이트는 서로 다른 금속 사이의 전위차를 이용하는 도금 방법으로, 무전해 도금에 속하며, 징게이트액에 침적시켜 아연을 치환하여 석출시키는 방법을 의미한다.Zingate is a plating method that uses a potential difference between different metals, and belongs to electroless plating.

본 발명의 징게이트단계(S300)는 도금 밀착력을 증가시키기 위한 전처리공정으로써 수행한다.The zinc gate step ( S300 ) of the present invention is performed as a pretreatment process to increase plating adhesion.

상기 징게이트단계(S300)에서는 피도금체를 징게이트액에 4 내지 6분 동안 침적시키는 것이 바람직한데, 이는 4분 미만의 시간 동안 침적되는 경우에는 피막층이 제대로 코팅되지 않는 문제점이 발생될 우려가 있으며, 6분을 초과하는 시간 동안 침적되는 경우에는 피막층이 완전히 코팅된 후에 불필요한 시간이 더 소비되게 되어 생산성이 저감될 우려가 있기 때문이다.In the zinc gate step (S 300 ), it is preferable to immerse the object to be plated in the zinc gate liquid for 4 to 6 minutes. This is because, when depositing for a time exceeding 6 minutes, unnecessary time is consumed after the coating layer is completely coated, and productivity may be reduced.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 징게이트단계(S300)의 징게이트액은 징게이트액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산아연(ZnSO4, Zinc sulfate) 30 내지 80g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to one embodiment of the present invention, the Zingate solution in the Zingate step (S 300 ) contains 30 to 80 g/L of zinc sulfate (ZnSO 4 , Zinc sulfate) based on the total 1 liter (L) of the Zingate solution. characterized by being

다음으로, 시안동도금단계(S400)를 수행할 수 있다.Next, a cyanide copper plating step (S 400 ) may be performed.

상기 징게이트단계(S300)에서 징게이트 처리된 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 50 내지 60℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 시안동도금단계(S400)를 수행할 수 있다. Cyanide copper plating step (S 400 ) can be performed.

시안동 도금은 도금 밀착성을 개선하거나 전기 도금욕의 도금 초기에 저전류밀도 부분까지 하지표면을 도금 금속으로 커버할 수 있어 도금의 피복력을 향상시키는 도금을 방법을 의미한다.Copper cyan plating refers to a plating method that improves plating adhesion or improves plating coverage by covering the underlying surface with plating metal up to the low current density portion at the beginning of plating of the electroplating bath.

본 발명의 시안동도금단계(S400)는 하지도금을 하는 단계로, 황산동 도금은 아연상에 밀착력이 나빠 직접적인 도금이 어려울 수 있기 때문에 황산동 도금 전 도금 밀착성을 위하여 금속 상에 직접 밀착력이 우수한 도금인 시안동 도금을 먼저 하기 위해 수행하는 공정으로써, 1가 동에서의 석출이기 때문에 도금 속도가 빠른 장점이 있다.The copper cyanide plating step ( S400 ) of the present invention is a step of undercoating. Since copper sulfate plating has poor adhesion to zinc and direct plating may be difficult, for plating adhesion before copper sulfate plating, plating with excellent direct adhesion to the metal As a process performed to perform cyanide copper plating first, it has the advantage of a fast plating speed because it is precipitation from monovalent copper.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 시안동도금단계(S400)는 양극으로 피도금체 면적의 최소 2배 이상의 순수동판을 사용하고 양극 주머니를 씌워서 양극에서 슬러지가 생성되는 것을 방지한 뒤, 시안동도금액에 침적시킨 후 전류를 걸면서 공기 교반을 하여 도금을 진행하는 것이 바람직하며, 구리이온을 피도금체에 골고루 보내주게 됨으로써 높은 전류밀도가 되어 Pit 발생을 막아주는 장점이 있다.Although not limited thereto, the copper cyanide plating step ( S400 ) uses a pure copper plate at least twice the area of the object to be plated as an anode, covers the anode bag to prevent sludge from being generated at the anode, and then After depositing, it is preferable to proceed with air agitation while applying an electric current, and by evenly sending copper ions to the object to be plated, it becomes high current density and has the advantage of preventing the occurrence of pits.

상기 시안동도금단계(S400)에서는 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 50 내지 60℃의 온도에서 전류를 가하여 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 50℃ 미만의 온도에서 전해도금되는 경우에는 도금이 취약해지고 밀착 불량이 발생될 우려가 있기 때문이며, 60℃를 초과하는 온도에서 전해도금되는 경우에는 도금 표면이 거칠게 되는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the cyanide copper plating step (S 400 ), it is preferable to electrolytically plate the object to be plated by applying a current at a temperature of 50 to 60 ° C using a copper cyanide plating solution. This is because there is a risk of becoming vulnerable and poor adhesion, and when electroplating is performed at a temperature exceeding 60 ° C., there is a risk that the plating surface becomes rough.

또한, 상기 시안동도금단계(S400)에서는 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 10 내지 20분 동안 전류를 가하여 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 10분 미만의 시간 동안 전해도금되는 경우에는 시안동 도금이 충분히 진행되지 않아 도금이 얇게 되어 추후 황산동 도금 공정 수행 중 황상동 도금조에서 도금체와 황산동이 반응하여 미도금 현상이 발생될 우려가 있기 때문이다.In addition, in the cyanide copper plating step ( S400 ), it is preferable to electrolytically plate the object to be plated by applying a current for 10 to 20 minutes using a cyanide copper plating solution. This is because the plating is not sufficiently progressed and the plating becomes thin, and there is a concern that a non-plating phenomenon may occur due to a reaction between the plated body and copper sulfate in the copper sulfate plating bath during the subsequent copper sulfate plating process.

아울러, 상기 시안동도금단계(S400)에서는 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 2A를 초과하는 전류세기로 전해도금되는 경우에는 도금체와 지그가 접하는 접촉면이 타는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In addition, in the cyanide copper plating step ( S400 ), it is preferable to electrolytically plate the object to be plated at a current intensity of 1 to 2A using a copper cyanide plating solution. This is because there is a concern that the contact surface in contact with the jig may burn.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 시안동도금단계(S400)의 시안동도금액은 시안동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(NaCN, Sodium cyanide) 70 내지 90g/L, 시안화구리(CuCN, Copper cyanide) 60 내지 80g/L, 칼륨나트륨타르타르산염(롯셀염, C4H4KNaO6, Potassium sodium tartrate) 20 내지 40g/L 및 탄산나트륨(Na2CO3, Sodium carbonate) 40 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to one embodiment of the present invention, the copper cyanide plating solution in the copper cyanide plating step (S 400 ) is sodium cyanide (NaCN, Sodium cyanide) 70 to 90 g / L, copper cyanide based on the total 1 liter (L) of the copper cyanide plating solution (CuCN, Copper cyanide) 60 to 80 g/L, potassium sodium tartrate (Rossel salt, C 4 H 4 KNaO 6 , Potassium sodium tartrate) 20 to 40 g/L and sodium carbonate (Na 2 CO 3 , Sodium carbonate) 40 to 60 g /L is characterized in that it is included.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 시안동도금단계(S400)로 형성된 Cu 도금층은 4 내지 9㎛의 두께로 형성되는 것이 바람직한데, 이는 Cu 도금층이 4㎛ 미만의 두께로 형성되는 경우에는 너무 얇은 도금으로 인하여 추후 황산동 도금 공정 수행 중 황상동 도금조에서 도금체와 황산동이 반응하여 미도금 현상이 발생될 우려가 있기 때문이며, Cu 도금층이 9㎛를 초과하는 두께로 형성되는 경우에는 도금 밀착 불량 발생의 요인이 될 우려가 있기 때문이다.Although not limited thereto, the Cu plating layer formed in the copper cyanide plating step (S 400 ) is preferably formed to a thickness of 4 to 9 μm, which is too thin when the Cu plating layer is formed to a thickness of less than 4 μm. This is because there is a concern that the plated body and copper sulfate react in the copper sulfate plating bath during the copper sulfate plating process later to cause non-plating, and when the Cu plating layer is formed with a thickness exceeding 9㎛, the cause of poor plating adhesion because there is a risk of

다음으로, 황산동도금단계(S500)를 수행할 수 있다.Next, a copper sulfate plating step (S 500 ) may be performed.

상기 시안동도금단계(S400)에서 시안동 도금된 도금체를 황산동도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 30 내지 40분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 황산동도금단계(S500)를 수행할 수 있다.Copper sulfate plating step (S 500 ) of electrolytically plating the cyanide plated body in the cyanide copper plating step (S 400 ) using a copper sulfate plating solution at a temperature of 18 to 25 ° C. for 30 to 40 minutes at a current intensity of 1 to 2 A ) can be performed.

황산동 도금은 공해가 적게 발생하며 비용이 적게 들고 평활성이 좋은 장점이 있다. 하지도금, 착색하지, 전주, 프리트기판 도금에 주로 사용된다. 철, 아연, 납, 아연다이캐스팅 상에 밀착력에 나빠 직접 도금이 어렵다. 평활화(Leceling) 작용이 좋아 버프 흠을 없애고 광택을 얻기 쉬울 뿐만 아니라 간단한 조성으로 대전류의 도금이 가능하고 전류 효율도 우수하다.Copper sulfate plating has the advantages of low pollution, low cost, and good smoothness. It is mainly used for undercoating, coloring, electroforming, and frit substrate plating. Direct plating is difficult due to poor adhesion on iron, zinc, lead, and zinc die-casting. It has a good leceling action, so it is easy to get rid of buff flaws and gloss, and it is possible to plate with a large current with a simple composition and has excellent current efficiency.

본 발명의 황산동도금단계(S500)는 장식도금의 하지도금 중 중간층 도금을 하기 위해 수행하는 공정이다.The copper sulfate plating step ( S500 ) of the present invention is a process performed to perform intermediate layer plating among decorative plating undercoating.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 황산동도금단계(S500)는 양극으로 도금체 면적의 최소 2배 이상의 순수동판을 사용하고 양극 주머니를 씌워서 양극에서 슬러지가 생성되는 것을 방지한 뒤, 황산동도금액에 침적시킨 후 전류를 걸면서 공기 교반을 하여 도금을 진행하는 것이 바람직하다. 교반은 균일한 광택을 얻기 위하여 진행하는 것으로서, 무교반시 액의 상, 하 농도차가 생겨 광택의 차이가 발생되기 때문이며, 구리이온을 피도금체에 골고루 보내주게 됨으로써 높은 전류밀도가 되어 Pit 발생을 막아주는 장점이 있기 때문이다.Although not limited thereto, the copper sulfate plating step ( S500 ) uses a pure copper plate at least twice the area of the plated body as the anode, covers the anode bag to prevent sludge from being generated at the anode, and then deposits in the copper sulfate plating solution After that, it is preferable to proceed with plating by performing air agitation while applying an electric current. Stirring is performed to obtain a uniform gloss. This is because there is a difference in gloss due to the difference in concentration between the top and bottom of the solution when no stirring is performed. Because it has advantages.

상기 황산동도금단계(S500)에서는 도금체를 황산동도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 전류를 가하여 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 18℃ 미만의 온도에서 전해도금되는 경우에는 도금이 취약해지며 도금 밀착 불량이 발생될 우려가 있고 황산동 결정이 생겨 농도가 낮아지는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이며, 25℃를 초과하는 온도에서 전해도금되는 경우에는 도금 표면이 거칠어지기 쉽고 광택제를 분해시켜 소비량이 많아지는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the copper sulfate plating step ( S500 ), it is preferable to electrolytically plate the plated body by applying a current at a temperature of 18 to 25 ° C using a copper sulfate plating solution. This is because there is a concern that plating adhesion failure may occur and copper sulfate crystals may occur, resulting in a problem of lowering the concentration. This is because there is a concern that a problem of increasing consumption may occur.

또한, 상기 황산동도금단계(S500)에서는 도금체를 황산동도금액을 이용하여 30 내지 40분 동안 전류를 가하여 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 시간 범위가 30 내지 40분을 초과하거나 미달되는 경우에는 제대로 된 도금층이 형성되지 못하여 미광택 또는 광택성이 저하되는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In addition, in the copper sulfate plating step ( S500 ), it is preferable to electrolytically plate the plated body by applying a current for 30 to 40 minutes using a copper sulfate plating solution. This is because there is a concern that a proper plating layer may not be formed, resulting in a problem of low luster or deterioration of gloss.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 황산동도금단계(S500)의 황산동도금액은 황산동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산동(CuSO4·5H2O, Copper sulfate) 150 내지 250g/L 및 황산(H2SO4, Sulfuric acid) 45 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to one embodiment of the present invention, the copper sulfate plating solution in the copper sulfate plating step (S 500 ) contains 150 to 250 g of copper sulfate (CuSO 4 5H 2 O, copper sulfate) based on 1 liter (L) of the copper sulfate plating solution. It is characterized in that L and sulfuric acid (H 2 SO 4 , Sulfuric acid) 45 to 60g / L is included.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 황산동도금단계(S500)로 형성된 Cu 도금층은 15 내지 20㎛의 두께로 형성되는 것이 바람직한데, 이는 Cu 도금층이 15 내지 20㎛의 두께 범위를 초과하거나 미달되는 경우에는 광택이 나지 않으며 내식성이 떨어지고 추후 3원합금 도금 공정에서 도금이 제대로 진행되지 않는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.Although not limited thereto, the Cu plating layer formed in the copper sulfate plating step (S 500 ) is preferably formed to a thickness of 15 to 20 μm, which is when the Cu plating layer exceeds or falls short of the thickness range of 15 to 20 μm. This is because it is not glossy, has poor corrosion resistance, and there is a concern that plating may not proceed properly in a later ternary alloy plating process.

다음으로, 3원합금도금단계(S600)를 수행할 수 있다.Next, a ternary alloy plating step (S 600 ) may be performed.

상기 황산동도금단계(S500)에서 황산동 도금된 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 3원합금도금단계(S600)를 수행할 수 있다.A ternary alloy plating step of electrolytically plating the copper sulfate plated body in the copper sulfate plating step ( S500 ) using a ternary alloy plating solution at a temperature of 18 to 25 ° C. for 10 to 20 minutes at a current intensity of 1 to 2 A ( S 600 ) may be performed.

3원합금 도금은 시안타입의 알칼리성 용액을 이용하며, 3종류의 금속 석출에 의한 합금도금 방법을 의미한다. 장식용으로써의 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금은 대용 금도금(‘금색도금’이라고도 함)으로써 사용된다. 특히, 무니켈을 요하는 도금에 적합하며, 장신구, 콘넥터 및 Solder Pin 도금에 적합하다. 유해물질이 함유되어 있지 않아 유해물질 사용제한 지침(RoHS)에 대응할 수 있는 도금 방법이다. 전류효율이 우수하고 균일한 색상의 도금이 가능하다.Ternary alloy plating uses a cyan-type alkaline solution and means an alloy plating method by precipitation of three types of metals. Cu-Sn-Zn ternary alloy plating for decoration is used as a substitute gold plating (also called 'gold plating'). In particular, it is suitable for plating that requires no nickel, and it is suitable for plating accessories, connectors, and solder pins. It is a plating method that can respond to the Restriction of Use of Hazardous Substances Directive (RoHS) because it does not contain harmful substances. Excellent current efficiency and uniform color plating is possible.

본 발명의 3원합금도금단계(S600)는 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 최종 제품에서 결함이 형성되지 않도록 하기 위해 수행하는 공정으로, 하지도금으로 도금 밀착성, 내식성 향상을 위해 수행하는 공정이라 할 수 있으며, 도금피막의 광택성이 좋고 넒은 전류밀도 영역에서 석출되게 할 수 있는 장점이 있다.The ternary alloy plating step (S 600 ) of the present invention uses a ternary alloy plating solution containing copper cyanide, zinc cyanide, and sodium stannate to obtain a highly reliable metal surface with excellent physical properties such as corrosion resistance, wear resistance and adhesion. It is a process performed to prevent the formation of defects in the final product according to the presence of the coating, and it can be said to be a process performed to improve plating adhesion and corrosion resistance by undercoating, and to ensure that the plating film has good gloss and is deposited in a wide current density area. There are advantages to doing so.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 3원합금도금단계(S600)는 양극으로 도금체 면적의 최소 2배 이상의 전극용 카본을 사용한다. 3원합금도금액에 침적시킨 후 전류를 걸어 음극교반(3 내지 10m/min)을 진행하는 것이 바람직하다. 교반은 균일한 광택을 얻기 위하여 진행하는 것으로서, 무교반시 액의 상, 하 농도차가 생겨 광택의 차이가 발생되기 때문이며, 광택의 얼룩무늬 발생을 막아주는 효과가 있기 때문이다.Although not limited thereto, in the ternary alloy plating step (S 600 ), carbon for an electrode at least twice the area of the plated body is used as an anode. After immersion in the ternary alloy plating solution, it is preferable to conduct cathode agitation (3 to 10 m/min) by applying an electric current. Stirring is carried out to obtain a uniform gloss, and this is because a difference in gloss occurs due to a difference in concentration between the upper and lower layers of the liquid without stirring, and it is effective in preventing the occurrence of mottled patterns in gloss.

상기 3원합금도금단계(S600)에서는 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 전류를 가하여 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 18℃ 미만의 온도에서 전해도금되는 경우에는 광택이 발생되지 않는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이며, 25℃를 초과하는 온도에서 전해도금되는 경우에는 도금층의 Cu가 석출되고 광택성이 저하되는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the ternary alloy plating step ( S600 ), it is preferable to electrolytically plate the plated body by applying a current at a temperature of 18 to 25 ° C. using a ternary alloy plating solution. This is because there is a concern that a problem of not generating gloss may occur, and when electroplating is performed at a temperature exceeding 25 ° C., there is a concern that Cu of the plating layer is precipitated and a problem of deterioration in gloss may occur.

또한, 상기 3원합금도금단계(S600)에서는 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 1A 미만의 전류세기로 전해도금되는 경우에는 석출피막이 감소되고 흰색의 광택이 없는 도금이 될 우려가 있기 때문이며, 2A를 초과하는 전류세기로 전해도금되는 경우에는 도금층의 Cu 석출이 증가되는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.In addition, in the ternary alloy plating step ( S600 ), it is preferable to electrolytically plate the plated body at a current intensity of 1 to 2A using a ternary alloy plating solution. This is because there is a concern that the coating film may be reduced and the plating without a white luster may occur, and when electrolytic plating is performed at a current intensity exceeding 2A, there is a concern that Cu precipitation in the plating layer may increase.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 3원합금도금단계(S600)의 3원합금도금액은 3원합금도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(NaCN, Sodium cyanide) 40 내지 50g/L, 시안화구리(CuCN, Copper cyanide) 16 내지 20g/L, 시안화아연(ZN(CN)2, Zinc cyanide) 1.6 내지 1.8g/L, 주석산나트륨(Na2SnO3, Sodium Stannate) 80 내지 90g/L 및 수산화나트륨(NaOH, Sodium hydroxide) 20 내지 30g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to one embodiment of the present invention, the ternary alloy plating solution of the ternary alloy plating step (S 600 ) is sodium cyanide (NaCN, Sodium cyanide) 40 to 50g based on the total 1 liter (L) of the ternary alloy plating solution /L, copper cyanide (CuCN) 16 to 20 g/L, zinc cyanide (ZN(CN) 2 , zinc cyanide) 1.6 to 1.8 g/L, sodium stannate (Na 2 SnO 3 , Sodium Stannate) 80 to 90 g /L and sodium hydroxide (NaOH, Sodium hydroxide) is characterized in that it contains 20 to 30g / L.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 3원합금도금단계(S600)로 형성된 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층은 2 내지 8㎛의 두께로 형성되는 것이 바람직한데, 이는 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층이 2 내지 8㎛의 두께 범위를 초과하거나 미달되는 경우에는 광택이 나지 않으며 내식성이 떨어지는 문제점이 발생될 우려가 있기 때문이다.Although not limited thereto, the Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer formed in the ternary alloy plating step (S 600 ) is preferably formed to a thickness of 2 to 8 μm, which is a Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer. This is because when the thickness exceeds or falls below the range of 2 to 8 μm, there is a concern that gloss is not obtained and corrosion resistance is deteriorated.

다음으로, 팔라듐도금단계(S700)를 수행할 수 있다.Next, a palladium plating step (S 700 ) may be performed.

상기 3원합금도금단계(S600)에서 3원합금 도금된 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 35 내지 45℃의 온도에서 2 내지 4분 동안 0.25 내지 0.5A의 전류세기로 전해도금시키는 팔라듐도금단계(S700)를 수행할 수 있다.In the ternary alloy plating step (S 600 ), a palladium plating step of electrolytically plating the plated body plated with a ternary alloy at a temperature of 35 to 45 ° C. for 2 to 4 minutes at a current intensity of 0.25 to 0.5 A using a palladium plating solution. (S 700 ) may be performed.

팔라듐은 로듐보다도 값은 싸지만 경도가 낮고 로듐 도금에 비해 내식성 및 내마모성이 떨어지는 문제점이 있다. 또한 팔라듐의 가격이 금의 약 25%이고, 비중이 약 33%이기 때문에 동일 도금 두께에서도 금보다 가격이 낮지만, 전기접점의 도금으로써 이용하면 공기 중의 유기물을 부착시키고 접촉작용이 중합되어 콜리머를 발생시키는 결점이 있다. 팔라듐 도금은 장식용으로써 로듐 또는 금의 하지도금으로써 사용된다.Palladium is cheaper than rhodium, but has low hardness and inferior corrosion resistance and wear resistance compared to rhodium plating. In addition, since the price of palladium is about 25% of that of gold and its specific gravity is about 33%, the price is lower than that of gold even with the same plating thickness. There are flaws that cause Palladium plating is used as an undercoat of rhodium or gold for decorative purposes.

본 발명의 팔라듐도금단계(S700)는 장식용으로써 로듐의 하지도금층을 형성하기 수행하는 공정이다.The palladium plating step ( S700 ) of the present invention is a process performed to form an underlying plating layer of rhodium for decoration.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 팔라듐도금단계(S700)는 양극으로 도금체 면적의 최소 2배 이상의 백금/티탄망을 사용하고, 팔라듐도금액에 침적시킨 후 전류를 걸면서 교반을 하여 도금을 진행하는 것이 바람직하다.Although not limited thereto, the palladium plating step ( S700 ) uses a platinum/titanium network at least twice the area of the plated body as an anode, immerses it in a palladium plating solution, and then proceeds with plating by stirring while applying a current It is desirable to do

상기 팔라듐도금단계(S700)에서는 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 35 내지 45℃의 온도에서 2 내지 4분 동안 0.25 내지 0.5A의 전류세기로 전해도금시키는 것이 바람직한데, 이는 온도 범위가 35 내지 45℃를 초과하거나 미달되는 경우, 시간 범위가 2 내지 4분을 초과하거나 미달되는 경우 및 전류세기 범위가 0.25 내지 0.5A를 초과하거나 미달되는 경우에는 도금 밀착 불량이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the palladium plating step ( S700 ), it is preferable to electrolytically plate the plated body at a current intensity of 0.25 to 0.5A for 2 to 4 minutes at a temperature of 35 to 45 ° C. using a palladium plating solution, which has a temperature range of 35 This is because plating adhesion failure may occur when the temperature exceeds or falls below 45 ° C, when the time range exceeds or falls short of 2 to 4 minutes, and when the current intensity range exceeds or falls short of 0.25 to 0.5 A. .

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 팔라듐도금단계(S700)의 팔라듐도금액은 팔라듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 팔라듐(Pd, Palladium) 3 내지 8g/L 및 황산암모늄((NH4)2SO4, Ammonium sulfate) 150 내지 200g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to one embodiment of the present invention, the palladium plating solution in the palladium plating step (S 700 ) includes 3 to 8 g/L of palladium (Pd, Palladium) and ammonium sulfate (( NH 4 ) 2 SO 4 , Ammonium sulfate) is characterized in that it includes 150 to 200g / L.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 팔라듐도금단계(S700)의 팔라듐도금액은 팔라듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 팔라듐(Pd, Palladium) 3 내지 8g/L 및 황산암모늄((NH4)2SO4, Ammonium sulfate) 150 내지 200g/L가 포함되되, pH가 8 내지 9인 암모니아수(NHH2O, Ammonia water)가 더 포함되는 것을 특징으로 한다.Although not limited thereto, the palladium plating solution of the palladium plating step (S 700 ) includes 3 to 8 g/L of palladium (Pd, Palladium) and ammonium sulfate ((NH 4 ) based on the total 1 liter (L) of the palladium plating solution. 2 SO 4 , Ammonium sulfate) 150 to 200 g/L is included, and ammonia water (NH 3 · H 2 O, Ammonia water) having a pH of 8 to 9 is further included.

또한, 이에 제한되는 것은 아니나, 상기 팔라듐도금단계(S700)로 형성된 Pd 도금층은 0.2 내지 1㎛의 두께로 형성되는 것이 바람직한데, 이는 Pd 도금층이 0.2 내지 1㎛의 두께 범위를 초과하거나 미달되는 경우에는 도금 밀착 불량이 발생될 우려가 있기 때문이다.In addition, although not limited thereto, the Pd plating layer formed by the palladium plating step ( S700 ) is preferably formed to a thickness of 0.2 to 1 μm, which is that the Pd plating layer exceeds or falls short of the thickness range of 0.2 to 1 μm. This is because there is a possibility that plating adhesion failure may occur in this case.

다음으로, 전착단계(S800)를 수행할 수 있다.Next, an electrodeposition step (S 800 ) may be performed.

상기 팔라듐도금단계(S700)에서 팔라듐 도금된 도금체를 35 내지 45℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1 내지 2분 동안 침적하되, 0.5 내지 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시키는 전착단계(S800)를 수행할 수 있다.In the palladium plating step (S 700 ), the palladium-plated plated body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 35 to 45 ° C. for 1 to 2 minutes, an electrodeposition step of electrodepositing while stirring at a current intensity of 0.5 to 1A. (S 800 ) may be performed.

전착은 주로 장식분야, 즉 액세서리, 안경프레임, 만년필 등의 최종 도금에 사용된다.Electrodeposition is mainly used in the decorative field, that is, in the final plating of accessories, spectacle frames, fountain pens, etc.

본 발명의 전착단계(S800)는 상기 팔라듐 도금 공정 시 전지접점의 도금으로 이용하여 공기 중의 유기물이 부탁되거나 접촉작용이 중합되어 콜리머를 발생시키는 결점이 생길 수 있는데 이를 보완하기 위해 수행하는 공정이라 할 수 있으며, 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시키고 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지하기 위해 수행하는 공정이다.The electrodeposition step (S 800 ) of the present invention is used as a plating of electrical contacts during the palladium plating process, and organic matter in the air is deposited or the contact action is polymerized to generate a collimer. It is a process performed to effectively express silver color by electrodepositing using a white rhodium plating solution containing rhodium and to prevent corrosion even when exposed to salt water due to its excellent corrosion resistance.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 전착단계(S800)는 양극으로 도금체 면적의 최소 2배 이상의 백금/티탄망을 사용하고, 화이트로듐도금액에 침적시킨 후 전류를 걸면서 교반을 하여 도금을 진행하는 것이 바람직하다.Although not limited thereto, the electrodeposition step (S 800 ) uses a platinum / titanium net at least twice the area of the plated body as an anode, deposits it in a white rhodium plating solution, and then proceeds with plating by stirring while applying a current It is desirable to do

상기 전착단계(S800)에서는 도금체를 35 내지 45℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1 내지 2분 동안 침적하되, 0.5 내지 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시키는 것이 바람직한데, 이는 온도 범위가 35 내지 45℃를 초과하거나 미달되는 경우, 시간 범위가 1 내지 2분을 초과하거나 미달되는 경우 및 전류세기 범위가 0.5 내지 1A를 초과하거나 미달되는 경우에는 도금 밀착 불량이 발생될 우려가 있기 때문이다.In the electrodeposition step ( S800 ), it is preferable to immerse the plated body in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 35 to 45 ° C. for 1 to 2 minutes, and electrodeposit while stirring at a current intensity of 0.5 to 1A. When the range exceeds or falls short of 35 to 45 ° C, when the time range exceeds or falls short of 1 to 2 minutes, and when the current intensity range exceeds or falls short of 0.5 to 1A, plating adhesion failure may occur. Because.

본 발명의 일 실시형태에 따르면, 상기 전착단계(S800)의 화이트로듐도금액은 화이트로듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 로듐(Rh, Rhodium) 1 내지 2g/L 및 황산(H2SO4, Sulfuric acid) 10 내지 15g/L가 포함되는 것을 특징으로 한다.According to one embodiment of the present invention, the white rhodium plating solution of the electrodeposition step (S 800 ) is 1 to 2 g / L of rhodium (Rh, Rhodium) and sulfuric acid (H 2 SO 4 , Sulfuric acid) is characterized in that it includes 10 to 15g / L.

이에 제한되는 것은 아니나, 상기 전착단계(S800)의 화이트로듐도금액은 화이트로듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 로듐(Rh, Rhodium) 1 내지 2g/L 및 황산(H2SO4, Sulfuric acid) 10 내지 15g/L가 포함되되, 나머지를 순수로 채운 후 도금액을 안정시키기 위하여 하루정도 충분히 교반하여 제조하는 것을 특징으로 한다.Although not limited thereto, the white rhodium plating solution of the electrodeposition step (S 800 ) is 1 to 2 g / L of rhodium (Rh, Rhodium) and sulfuric acid (H 2 SO 4 based on the total 1 liter (L) of the white rhodium plating solution) , Sulfuric acid) 10 to 15 g / L is included, characterized in that it is prepared by filling the rest with pure water and then stirring it sufficiently for about one day to stabilize the plating solution.

상기에서와 같이 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은, 탈지단계(S100), 에칭단계(S200), 징게이트단계(S300), 시안동도금단계(S400), 황산동도금단계(S500), 3원합금도금단계(S600), 팔라듐도금단계(S700) 및 전착단계(S800)를 포함하는 것을 특징으로 하는 바, 마그네슘 합금소재 표면에 Zn 치환층, Cu 도금층, Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층, Pd 도금층 및 화이트로듐 전착층이 형성될 수 있으며, 이는 하기 도 2의 단면과 같다.As described above, the surface treatment method of the spectacle frame composed of magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention includes a degreasing step (S 100 ), an etching step (S 200 ), a zincating step (S 300 ), Cyanide copper plating step (S 400 ), copper sulfate plating step (S 500 ), ternary alloy plating step (S 600 ), palladium plating step (S 700 ) and electrodeposition step (S 800 ), magnesium alloy A Zn substitution layer, a Cu plating layer, a Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer, a Pd plating layer, and a white rhodium electrodeposition layer may be formed on the surface of the material, as shown in the cross section of FIG. 2 below.

이하, 본원 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본원 발명의 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편과 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 실시예를 들어 상세히 설명한다. 본원 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은 후술하는 실시예에 의해 보다 명확하게 이해될 수 있다. 그러나 본원 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, a magnesium alloy plated specimen and a magnesium alloy material surface-treated by the surface treatment method of a spectacle frame composed of a magnesium alloy material using rhodium of the present invention so that those skilled in the art can easily carry out the present invention A spectacle frame composed of an example will be described in detail. A method for treating the surface of a spectacle frame made of a magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention can be more clearly understood by referring to the following examples. However, the present invention may be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

도금 준비ready for plating

시편 : 마그네슘 합금 도금 시편과 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 준비한다.Specimen: Prepare a magnesium alloy plated specimen and an eyeglass frame made of magnesium alloy material.

탈지단계(S100) : 탈지액 전체 1리터(L)를 기준으로 수산화나트륨 125g/L 및 탄산나트륨 75g/L가 포함되되 pH가 13 이상인 탈지액을 준비한다.Degreasing step (S 100 ): Prepare a degreasing solution containing 125 g/L of sodium hydroxide and 75 g/L of sodium carbonate based on the total 1 liter (L) of the degreasing solution but having a pH of 13 or higher.

에칭단계(S200) : 에칭액 전체 1리터(L)를 기준으로 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA) 7.5g/L 및 수산화나트륨 40g/L가 포함된 에칭액을 준비한다.Etching step (S 200 ): Prepare an etchant containing 7.5 g/L of ethylenediamine tetraacetic acid (EDTA) and 40 g/L of sodium hydroxide based on 1 liter (L) of the total etchant.

징게이트단계(S300) : 징게이트액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산아연 55g/L가 포함된 징게이트액을 준비한다.Zingate step (S 300 ): Zingate solution containing 55 g/L of zinc sulfate is prepared based on the total 1 liter (L) of Zingate solution.

시안동도금단계(S400) : 시안동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨 80g/L, 시안화구리 70g/L, 칼륨나트륨타르타르산염 30g/L 및 탄산나트륨 50g/L가 포함된 시안동도금액과 양극 순수동판을 준비한다.Copper cyanide plating step (S 400 ): Copper cyanide plating solution containing 80 g/L of sodium cyanide, 70 g/L of copper cyanide, 30 g/L of potassium sodium tartrate and 50 g/L of sodium carbonate based on the total 1 liter (L) of copper cyanide plating solution and anode pure copper plate.

황산동도금단계(S500) : 황산동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산동 200g/L 및 황산 52g/L가 포함된 황산동도금액과 양극 순수동판을 준비한다.Copper sulfate plating step (S 500 ): A copper sulfate plating solution containing 200 g/L of copper sulfate and 52 g/L of sulfuric acid based on 1 liter (L) of copper sulfate plating solution and a pure copper anode are prepared.

3원합금도금단계(S600) : 3원합금도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨 45g/L, 시안화구리 18g/L, 시안화아연 1.7g/L, 주석산나트륨 85g/L 및 수산화나트륨 25g/L가 포함된 3원합금도금액과 양극 전극용 카본을 준비한다.Ternary alloy plating step (S 600 ): Sodium cyanide 45g/L, copper cyanide 18g/L, zinc cyanide 1.7g/L, sodium tartrate 85g/L and sodium hydroxide based on the total 1 liter (L) of the ternary alloy plating solution Prepare a ternary alloy plating solution containing 25 g/L and carbon for the anode electrode.

팔라듐도금단계(S700) : 팔라듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 팔라듐 5g/L 및 황산암모늄 175g/L가 포함되되 암모니아수(pH 8~9)가 적량 포함된 팔라듐도금액과 양극 백금/티탄망을 준비한다.Palladium plating step (S 700 ): Palladium plating solution containing 5 g/L of palladium and 175 g/L of ammonium sulfate based on the total 1 liter (L) of the palladium plating solution and an appropriate amount of ammonia water (pH 8-9) and anode platinum /Prepare the titanium net.

전착단계(S800) : 화이트로듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 로듐 1.5g/L 및 황산 12g/L가 포함되되 나머지를 순수로 채운 후 도금액을 안정시키기 위하여 하루정도 충분히 교반하여 제조한 화이트로듐도금액과 양극 백금/티탄망을 준비한다.Electrodeposition step (S 800 ): 1.5 g/L of rhodium and 12 g/L of sulfuric acid are included based on 1 liter (L) of the white rhodium plating solution, but the rest is filled with pure water and then stirred sufficiently for one day to stabilize the plating solution. Prepare a white rhodium plating solution and an anode platinum/titanium net.

표면처리 공정 단계별 도금 두께 측정 실험Plating thickness measurement experiment for each stage of surface treatment process

하기의 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 두께를 측정하는 실험을 실시하였다.An experiment was conducted to measure the plating thickness of the magnesium alloy plated specimens surface-treated by the following method.

[표면처리 공정][Surface treatment process]

1. 탈지단계(S100) : 피도금체인 마그네슘 합금 도금 시편을 55℃의 온도로 유지되는 탈지액에 10분 동안 담지하여 탈지시킨다.1. Degreasing step (S 100 ): The magnesium alloy plated specimen, which is the object to be plated, is immersed in a degreasing solution maintained at a temperature of 55 ° C. for 10 minutes to degrease.

2. 에칭단계(S200) : 피도금체를 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1.5분 동안 침적하여 에칭시킨다.2. Etching step (S 200 ): The object to be plated is immersed in an etchant maintained at a temperature of 25° C. for 1.5 minutes to be etched.

3. 징게이트단계(S300) : 피도금체를 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 5분 동안 침적하여 아연을 치환한다.3. Zingate step (S 300 ): Zinc is substituted by immersing the object to be plated in a zincate solution maintained at a temperature of 70 ° C for 5 minutes.

4. 시안동도금단계(S400) : 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 55℃의 온도에서 10분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.4. Copper cyanide plating step (S 400 ): The object to be plated is electrolytically plated with a copper cyanide plating solution at a temperature of 55° C. for 10 minutes at a current intensity of 2A.

5. 황산동도금단계(S500) : 도금체를 황산동도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 30분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.5. Copper sulfate plating step (S 500 ): The plated body is electrolytically plated with a copper sulfate plating solution at a temperature of 25° C. for 30 minutes at a current intensity of 2A.

6. 3원합금도금단계(S600) : 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 10 내지 30분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.6. Ternary alloy plating step (S 600 ): The plated body is electroplated using a ternary alloy plating solution at a temperature of 25° C. for 10 to 30 minutes at a current intensity of 1 to 2A.

7. 팔라듐도금단계(S700) : 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 40℃의 온도에서 2분 동안 0.5A의 전류세기로 전해도금시킨다.7. Palladium plating step ( S700 ): The plated body is electroplated using a palladium plating solution at a temperature of 40° C. for 2 minutes at a current intensity of 0.5A.

8. 전착단계(S800) : 도금체를 40℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 2.5분 동안 침적하되, 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시킨다.8. Electrodeposition step (S 800 ): The plating body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 40° C. for 2.5 minutes, and electrodeposition is performed while stirring at a current intensity of 1A.

[도금 두께 측정 실험][Plating thickness measurement experiment]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 두께를 측정한 결과는 하기와 같다.The results of measuring the plating thickness of the magnesium alloy plated specimen surface-treated by the above surface treatment method are as follows.

표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편은 공정 단계별로 시편의 앞면과 뒷면의 도금 두께를 X선 형광 분석기(XRF, X-Ray Fluorescence Analyzer)를 사용하여 각각 5회 측정하여 그 평균값으로 표기하였으며, 그 결과는 하기 표 1 내지 9와 같다.For the surface-treated magnesium alloy plated specimen, the plating thickness of the front and back surfaces of the specimen was measured 5 times each using an X-ray fluorescence analyzer (XRF, X-Ray Fluorescence Analyzer) at each stage of the process, and the average value was indicated. As shown in Tables 1 to 9 below.

징게이트단계(S300)로 형성된 Zn 치환층은 “Zn”으로 표기되어 있으며, 시안동도금단계(S400) 또는 황산동도금단계(S500)로 형성된 Cu 도금층은 “Cu”로 표기되어 있고, 3원합금도금단계(S600)로 형성된 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층은 “d3”으로 표기되어 있으며, 팔라듐도금단계(S700)로 형성된 Pd 도금층은 “Pd”로 표기되어 있고, 전착단계(S800)로 형성된 화이트로듐 전착층은 “Rh W”로 표기되어 있다.The Zn substitution layer formed by the zinc gate step (S 300 ) is marked as “Zn”, and the Cu plating layer formed by the copper cyanide plating step (S 400 ) or copper sulfate plating step (S 500 ) is marked as “Cu”. The Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer formed by the original alloy plating step (S 600 ) is marked as “d3”, the Pd plating layer formed by the palladium plating step (S 700 ) is marked as “Pd”, and the electrodeposition step ( S 800 ) is marked as “Rh W”.

징게이트단계(S300) : 70℃, 5minZingate step (S 300 ): 70 ℃, 5min 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) 앞-1front-1 0.701 0.701 -- 뒤-1back-1 0.658 0.658 -- 앞-2front-2 0.699 0.699 -- 뒤-2back-2 0.657 0.657 -- 앞-3front-3 0.704 0.704 -- 뒤-3back-3 0.653 0.653 -- 앞-4front-4 0.699 0.699 -- 뒤-4back-4 0.659 0.659 -- 앞-5front-5 0.699 0.699 -- 뒤-5back-5 0.655 0.655 -- 평균average 0.700 0.700 -- 평균average 0.656 0.656 -- 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.013 0.013 -- 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.012 0.012 --

시안동도금단계(S400) : 55℃, 10min, 2ACyanide Copper Plating Step (S 400 ): 55℃, 10min, 2A 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) 앞-1front-1 0.588 0.588 4.850 4.850 뒤-1back-1 0.485 0.485 6.546 6.546 앞-2front-2 0.590 0.590 4.842 4.842 뒤-2back-2 0.491 0.491 6.588 6.588 앞-3front-3 0.592 0.592 4.836 4.836 뒤-3back-3 0.487 0.487 6.513 6.513 앞-4front-4 0.584 0.584 4.828 4.828 뒤-4back-4 0.483 0.483 6.513 6.513 앞-5front-5 0.581 0.581 4.835 4.835 뒤-5back-5 0.482 0.482 6.526 6.526 평균average 0.587 0.587 4.838 4.838 평균average 0.486 0.486 6.537 6.537 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.010 0.010 0.108 0.108 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.009 0.009 0.1450.145

황산동도금단계(S500) : 25℃, 30min, 2ACopper sulfate plating step (S 500 ): 25℃, 30min, 2A 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) 앞-1front-1 0.533 0.533 17.340 17.340 뒤-1back-1 0.446 0.446 19.590 19.590 앞-2front-2 0.538 0.538 17.410 17.410 뒤-2back-2 0.452 0.452 19.510 19.510 앞-3front-3 0.536 0.536 17.400 17.400 뒤-3back-3 0.416 0.416 19.500 19.500 앞-4front-4 0.571 0.571 17.460 17.460 뒤-4back-4 0.414 0.414 19.510 19.510 앞-5front-5 0.569 0.569 17.500 17.500 뒤-5back-5 0.438 0.438 19.720 19.720 평균average 0.549 0.549 17.422 17.422 평균average 0.433 0.433 19.566 19.566 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.010 0.010 0.388 0.388 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.008 0.008 0.4350.435

상기 표 1 내지 3은 징게이트단계(S300), 시안동도금단계(S400) 및 황산동도금단계(S500)로 형성된 Zn 치환층과 Cu 도금층의 두께를 측정한 결과를 나타내는 것으로서, 도금 두께가 적합한 것으로 확인되었다.Tables 1 to 3 show the results of measuring the thickness of the Zn substitution layer and the Cu plating layer formed by the zinc gate step (S 300 ), the copper cyanide plating step (S 400 ) and the copper sulfate plating step (S 500 ), and the plating thickness is found to be suitable.

3원합금도금단계(S600) : 25℃, 20min, 1Aternary alloy plating step (S 600 ): 25℃, 20min, 1A 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) 앞-1front-1 1.000 1.000 17.780 17.780 0.347 0.347 뒤-1back-1 0.918 0.918 17.150 17.150 0.361 0.361 앞-2front-2 1.023 1.023 18.090 18.090 0.351 0.351 뒤-2back-2 0.914 0.914 16.900 16.900 0.350 0.350 앞-3front-3 1.015 1.015 17.890 17.890 0.356 0.356 뒤-3back-3 0.921 0.921 17.030 17.030 0.357 0.357 앞-4front-4 1.002 1.002 17.890 17.890 0.350 0.350 뒤-4back-4 0.902 0.902 17.010 17.010 0.357 0.357 앞-5front-5 1.030 1.030 17.910 17.910 0.348 0.348 뒤-5back-5 0.885 0.885 16.840 16.840 0.351 0.351 평균average 1.014 1.014 17.912 17.912 0.350 0.350 평균average 0.908 0.908 16.986 16.986 0.355 0.355

3원합금도금단계(S600) : 25℃, 20min, 2Aternary alloy plating step (S 600 ): 25℃, 20min, 2A 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) 앞-1front-1 1.246 1.246 14.960 14.960 0.836 0.836 뒤-1back-1 1.181 1.181 14.720 14.720 0.838 0.838 앞-2front-2 1.262 1.262 15.150 15.150 0.858 0.858 뒤-2back-2 1.180 1.180 14.820 14.820 0.851 0.851 앞-3front-3 1.218 1.218 14.950 14.950 0.530 0.530 뒤-3back-3 1.206 1.206 14.870 14.870 0.860 0.860 앞-4front-4 1.290 1.290 15.250 15.250 0.585 0.585 뒤-4back-4 1.382 1.382 15.730 15.730 0.914 0.914 앞-5front-5 1.205 1.205 14.760 14.760 0.830 0.830 뒤-5back-5 1.249 1.249 15.170 15.170 0.876 0.876 평균average 1.244 1.244 15.014 15.014 0.728 0.728 평균average 1.240 1.240 15.062 15.062 0.868 0.868

3원합금도금단계(S600) : 25℃, 30min, 2ATernary alloy plating step (S 600 ): 25℃, 30min, 2A 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) 앞-1front-1 1.103 1.103 15.860 15.860 0.669 0.669 뒤-1back-1 1.046 1.046 15.880 15.880 0.695 0.695 앞-2front-2 1.152 1.152 16.210 16.210 0.693 0.693 뒤-2back-2 1.010 1.010 15.580 15.580 0.682 0.682 앞-3front-3 1.166 1.166 16.300 16.300 0.696 0.696 뒤-3back-3 0.096 0.096 15.720 15.720 0.694 0.694 앞-4front-4 1.059 1.059 15.800 15.800 0.659 0.659 뒤-4back-4 1.076 1.076 15.880 15.880 0.699 0.699 앞-5front-5 1.114 1.114 15.910 15.910 0.678 0.678 뒤-5back-5 1.040 1.040 15.730 15.730 0.684 0.684 평균average 1.119 1.119 16.016 16.016 0.679 0.679 평균average 0.854 0.854 15.758 15.758 0.691 0.691

3원합금도금단계(S600) : 25℃, 10min, 2Aternary alloy plating step (S 600 ): 25℃, 10min, 2A 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) 앞-1front-1 0.751 0.751 17.270 17.270 0.277 0.277 뒤-1back-1 0.900 0.900 20.110 20.110 0.291 0.291 앞-2front-2 0.757 0.757 17.090 17.090 0.273 0.273 뒤-2back-2 0.904 0.904 20.280 20.280 0.303 0.303 앞-3front-3 0.752 0.752 17.240 17.240 0.265 0.265 뒤-3back-3 0.895 0.895 20.270 20.270 0.292 0.292 앞-4front-4 0.758 0.758 17.170 17.170 0.267 0.267 뒤-4back-4 0.888 0.888 20.050 20.050 0.295 0.295 앞-5front-5 0.758 0.758 17.090 17.090 0.275 0.275 뒤-5back-5 0.907 0.907 20.260 20.260 0.301 0.301 평균average 0.755 0.755 17.172 17.172 0.271 0.271 평균average 0.899 0.899 20.194 20.194 0.296 0.296

상기 표 4 내지 7은 3원합금도금단계(S600)로 형성된 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층의 두께를 측정한 결과를 나타내는 것으로서, 3원합금 중 Zn 치환층과 Cu 도금층의 경우 앞선 공정의 두께에 영향을 미쳐 3원합금의 두께에서 제대로 관찰되지 않는 것으로 추측된다.Tables 4 to 7 show the results of measuring the thickness of the Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer formed in the ternary alloy plating step (S 600 ), in the case of the Zn substitution layer and the Cu plating layer among the ternary alloys, of the previous process. It is assumed that it affects the thickness and is not properly observed in the thickness of the ternary alloy.

팔라듐도금단계(S700) : 25℃, 2min, 0.5APalladium plating step (S 700 ): 25 ℃, 2min, 0.5A 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) Pd(㎛)Pd(μm) 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) Pd(㎛)Pd(μm) 앞-1front-1 0.814 0.814 16.540 16.540 0.309 0.309 0.301 0.301 뒤-1back-1 0.623 0.623 15.980 15.980 0.307 0.307 0.291 0.291 앞-2front-2 0.833 0.833 16.630 16.630 0.313 0.313 0.302 0.302 뒤-2back-2 0.623 0.623 15.890 15.890 0.302 0.302 0.291 0.291 앞-3front-3 0.782 0.782 16.200 16.200 0.296 0.296 0.299 0.299 뒤-3back-3 0.620 0.620 15.910 15.910 0.307 0.307 0.288 0.288 앞-4front-4 0.807 0.807 16.290 16.290 0.295 0.295 0.300 0.300 뒤-4back-4 0.654 0.654 16.250 16.250 0.317 0.317 0.295 0.295 앞-5front-5 0.904 0.904 17.160 17.160 0.341 0.341 0.310 0.310 뒤-5back-5 0.615 0.615 15.950 15.950 0.306 0.306 0.292 0.292 평균average 0.828 0.828 16.564 16.564 0.311 0.311 0.302 0.302 평균average 0.627 0.627 15.996 15.996 0.308 0.308 0.291 0.291

상기 표 8은 3원합금도금단계(S600)를 10분 동안 수행한 뒤, 팔라듐도금단계(S700)로 형성된 Pd 도금층의 두께를 측정한 결과를 나타내는 것으로서, 팔라듐도금단계(S700)는 2분 동안 수행하는 것이 가장 바람직한 것으로 확인되었다.Table 8 shows the results of measuring the thickness of the Pd plating layer formed by the palladium plating step (S 700 ) after performing the ternary alloy plating step (S 600 ) for 10 minutes. minutes was found to be most desirable.

전착단계(S800) : 25℃, 2.5min, 1AElectrodeposition step (S 800 ): 25 ℃, 2.5min, 1A 번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) Pd(㎛)Pd(μm) Rh W(㎛)Rh W (μm) 앞-1front-1 2.032 2.032 20.730 20.730 1.017 1.017 0.308 0.308 0.321 0.321 앞-2front-2 2.139 2.139 21.240 21.240 1.011 1.011 0.321 0.321 0.328 0.328 앞-3front-3 2.069 2.069 20.890 20.890 1.006 1.006 0.313 0.313 0.328 0.328 앞-4front-4 1.942 1.942 20.310 20.310 0.995 0.995 0.312 0.312 0.318 0.318 앞-5front-5 1.950 1.950 20.300 20.300 0.990 0.990 0.305 0.305 0.330 0.330 평균average 2.026 2.026 20.694 20.694 1.004 1.004 0.312 0.312 0.325 0.325 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.036 0.036 0.460 0.460 -- 0.009 0.009 0.010 0.010 앞-1front-1 2.820 2.820 25.580 25.580 1.051 1.051 0.322 0.322 0.279 0.279 앞-2front-2 2.545 2.545 24.780 24.780 1.033 1.033 0.322 0.322 0.277 0.277 앞-3front-3 2.655 2.655 25.140 25.140 1.056 1.056 0.318 0.318 0.278 0.278 앞-4front-4 2.582 2.582 24.940 24.940 1.031 1.031 0.322 0.322 0.283 0.283 앞-5front-5 2.791 2.791 25.790 25.790 1.071 1.071 0.316 0.316 0.272 0.272 평균average 2.679 2.679 25.246 25.246 1.048 1.048 0.320 0.320 0.278 0.278 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.048 0.048 0.562 0.562 -- 0.010 0.010 0.009 0.009

상기 표 9는 전착단계(S800)로 형성된 전착층(화이트로듐 전착층)의 두께를 측정한 결과를 나타내는 것으로서, 전착층 두께가 3㎛로 측정됨에 따라 전착단계(S800)의 전류나 시간을 줄여야 될 것으로 추측된다.Table 9 shows the result of measuring the thickness of the electrodeposition layer (white rhodium electrodeposition layer) formed in the electrodeposition step (S 800 ), and as the electrodeposition layer thickness was measured as 3 μm, the current or time of the electrodeposition step (S 800 ) is presumed to be reduced.

도금 두께 및 EDS 도금층 측정 실험과 도금 밀착성 및 내식성 확인 실험 Plating thickness and EDS plating layer measurement test and plating adhesion and corrosion resistance test

하기의 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 두께 및 EDS 도금층을 측정하는 실험과 도금 밀착성 및 내식성을 확인하는 실험을 실시하였다. 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편을 공정 단계별로 촬영한 사진은 하기 도 3과 같다.An experiment to measure the plating thickness and EDS plating layer of the magnesium alloy plated specimen surface-treated by the following method and an experiment to confirm plating adhesion and corrosion resistance were conducted. Photos taken of the surface-treated magnesium alloy plated specimen in each process step are shown in FIG. 3 below.

[표면처리 공정][Surface treatment process]

1. 탈지단계(S100) : 피도금체인 마그네슘 합금 도금 시편을 10분 동안 초음파 탈지한 뒤, 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5분 동안 담지하여 탈지시킨다.1. Degreasing step (S 100 ): After ultrasonically degreasing a magnesium alloy plated specimen, which is a material to be plated, for 10 minutes, it is degreased by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 60 ° C. for 5 minutes.

2. 에칭단계(S200) : 피도금체를 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1분 동안 침적하여 에칭시킨다.2. Etching step (S 200 ): The object to be plated is immersed in an etchant maintained at a temperature of 25° C. for 1 minute to be etched.

3. 징게이트단계(S300) : 피도금체를 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 5분 동안 침적하여 아연을 치환한다.3. Zingate step (S 300 ): Zinc is substituted by immersing the object to be plated in a zincate solution maintained at a temperature of 70 ° C for 5 minutes.

4. 시안동도금단계(S400) : 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 55℃의 온도에서 10분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.4. Copper cyanide plating step (S 400 ): The object to be plated is electrolytically plated with a copper cyanide plating solution at a temperature of 55° C. for 10 minutes at a current intensity of 2A.

5. 황산동도금단계(S500) : 도금체를 황산동도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 30분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.5. Copper sulfate plating step (S 500 ): The plated body is electrolytically plated with a copper sulfate plating solution at a temperature of 25° C. for 30 minutes at a current intensity of 2A.

6. 3원합금도금단계(S600) : 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 10분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.6. Ternary alloy plating step (S 600 ): The plated body is electrolytically plated at a current of 2A for 10 minutes at a temperature of 25° C. using a ternary alloy plating solution.

7. 팔라듐도금단계(S700) : 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 40℃의 온도에서 2분 동안 0.5A의 전류세기로 전해도금시킨다.7. Palladium plating step ( S700 ): The plated body is electroplated using a palladium plating solution at a temperature of 40° C. for 2 minutes at a current intensity of 0.5A.

8. 전착단계(S800) : 도금체를 40℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1분 동안 침적하되, 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시킨다.8. Electrodeposition step (S 800 ): The plated body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 40 ° C for 1 minute, and electrodeposited while stirring at a current intensity of 1A.

[도금 두께 측정 실험][Plating thickness measurement experiment]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 두께를 측정한 결과는 하기와 같다.The results of measuring the plating thickness of the magnesium alloy plated specimen surface-treated by the above surface treatment method are as follows.

표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편은 공정 단계별로 앞면과 뒷면의 도금 두께를 X선 형광 분석기(XRF, X-Ray Fluorescence Analyzer)를 사용하여 각각 9회 측정하여 그 평균값으로 표기하였으며, 그 결과는 하기 표 10과 같다.For the surface-treated magnesium alloy plated specimen, the plating thickness of the front and back surfaces was measured 9 times each using an X-Ray Fluorescence Analyzer (XRF) at each stage of the process, and the average value was indicated. The results are shown in the table below. equal to 10

징게이트단계(S300)로 형성된 Zn 치환층은 “Zn”으로 표기되어 있으며, 시안동도금단계(S400) 또는 황산동도금단계(S500)로 형성된 Cu 도금층은 “Cu”로 표기되어 있고, 3원합금도금단계(S600)로 형성된 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층은 “d3”으로 표기되어 있으며, 팔라듐도금단계(S700)로 형성된 Pd 도금층은 “Pd”로 표기되어 있고, 전착단계(S800)로 형성된 화이트로듐 전착층은 “Rh W”로 표기되어 있다.The Zn substitution layer formed by the zinc gate step (S 300 ) is marked as “Zn”, and the Cu plating layer formed by the copper cyanide plating step (S 400 ) or copper sulfate plating step (S 500 ) is marked as “Cu”. The Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer formed by the original alloy plating step (S 600 ) is marked as “d3”, the Pd plating layer formed by the palladium plating step (S 700 ) is marked as “Pd”, and the electrodeposition step ( S 800 ) is marked as “Rh W”.

번호number Zn(㎛)Zn(μm) Cu(㎛)Cu(μm) d3(㎛)d3(μm) Pd(㎛)Pd(μm) Rh W(㎛)Rh W (μm) 앞-1front-1 7.039 7.039 45.810 45.810 0.439 0.439 0.480 0.480 0.267 0.267 앞-2front-2 3.471 3.471 37.160 37.160 0.409 0.409 0.445 0.445 0.226 0.226 앞-3front-3 1.099 1.099 22.350 22.350 0.251 0.251 0.364 0.364 0.162 0.162 앞-4front-4 3.441 3.441 37.890 37.890 0.387 0.387 0.437 0.437 0.235 0.235 앞-5front-5 1.270 1.270 26.360 26.360 0.308 0.308 0.392 0.392 0.190 0.190 앞-6front-6 0.918 0.918 20.010 20.010 0.227 0.227 0.315 0.315 0.124 0.124 앞-7front-7 4.529 4.529 38.880 38.880 0.418 0.418 0.480 0.480 0.238 0.238 앞-8front-8 2.560 2.560 32.590 32.590 0.347 0.347 0.408 0.408 0.154 0.154 앞-9front-9 7.510 7.510 45.630 45.630 0.408 0.408 0.457 0.457 0.243 0.243 평균average 3.537 3.537 34.076 34.076 0.355 0.355 0.420 0.420 0.204 0.204 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.063 0.063 0.758 0.758 -- 0.013 0.013 0.006 0.006 뒤-1back-1 4.642 4.642 41.360 41.360 0.429 0.429 0.465 0.465 0.249 0.249 뒤-2back-2 1.265 1.265 26.320 26.320 0.324 0.324 0.385 0.385 0.196 0.196 뒤-3back-3 3.902 3.902 39.240 39.240 0.399 0.399 0.452 0.452 0.247 0.247 뒤-4back-4 1.416 1.416 28.360 28.360 0.338 0.338 0.406 0.406 0.206 0.206 뒤-5back-5 1.648 1.648 29.510 29.510 0.361 0.361 0.407 0.407 0.209 0.209 뒤-6back-6 0.847 0.847 19.490 19.490 0.236 0.236 0.322 0.322 0.156 0.156 뒤-7back-7 1.399 1.399 27.470 27.470 0.329 0.329 0.385 0.385 0.190 0.190 뒤-8back-8 3.981 3.981 4.390 4.390 0.420 0.420 0.481 0.481 0.261 0.261 뒤-9back - 9 2.848 2.848 34.630 34.630 0.383 0.383 0.431 0.431 0.210 0.210 평균average 2.439 2.439 27.863 27.863 0.358 0.358 0.415 0.415 0.214 0.214 석출량(g)Precipitation amount (g) 0.044 0.044 0.620 0.620 -- 0.012 0.012 0.007 0.007

[EDS 도금층 측정 실험][EDS plating layer measurement experiment]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 EDS 도금층을 측정한 결과는 하기 도 4에 나타내었다.The results of measuring the EDS plating layer of the magnesium alloy plated specimen surface-treated by the above surface treatment method are shown in FIG. 4 below.

시안동도금단계(S400)와 황산동도금단계(S500)로 형성된 Cu 도금층은 25 내지 30㎛로 측정되었으며, 3원합금도금단계(S600)로 형성된 Cu-Sn-Zn 3원합금 도금층은 2㎛로 측정되었고, 팔라듐도금단계(S700)로 형성된 Pd 도금층은 1㎛ 이하인 것으로 측정되었으며, 전착단계(S800)로 형성된 화이트로듐 전착층은 1㎛로 측정되었다.The Cu plating layer formed by the copper cyanide plating step (S 400 ) and the copper sulfate plating step (S 500 ) was measured to be 25 to 30 μm, and the Cu-Sn-Zn ternary alloy plating layer formed by the ternary alloy plating step (S 600 ) was 2 μm. , and the Pd plating layer formed by the palladium plating step (S 700 ) was measured to be 1 μm or less, and the white rhodium electrodeposition layer formed by the electrodeposition step (S 800 ) was measured to be 1 μm.

표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 경우, SEM 측정 시 도금층의 경계가 보이지 않아 EDS로 측정하였으며, Mg, Zn, Cu, Sn, Pd 및 Rh가 모두 존재하는 것으로 확인되었으며, 도금이 층별도 잘 이루어진 것으로 확인되었다.In the case of the surface-treated magnesium alloy plating specimen, the boundary of the plating layer was not visible during SEM measurement, so it was measured by EDS, and it was confirmed that Mg, Zn, Cu, Sn, Pd, and Rh were all present, and the plating was well done layer by layer Confirmed.

[도금 밀착성 확인 실험 실험][Plating Adhesion Confirmation Test]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 도금 밀착성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 5에 나타내었다.The results of conducting an experiment to confirm the plating adhesion of the magnesium alloy plated specimen surface-treated by the above surface treatment method are shown in FIG. 5 below.

도금 밀착성을 확인하기 위하여 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편을 300℃의 온도로 유지되는 소결로에 10분 동안 소결한 후 격자무늬로 컷팅하여 테이핑을 부착하는 방식으로 5회 측정하였다. 그 결과, 본 발명의 일 실시형태에 따른 표면처리 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편에서는 도금 밀착 불량이 확인되지 않았다.In order to check the plating adhesion, the surface-treated magnesium alloy plated specimen was sintered in a sintering furnace maintained at a temperature of 300 ° C. for 10 minutes, and then cut into a grid pattern and measured five times in a manner in which taping was attached. As a result, in the magnesium alloy plated specimens surface-treated by the surface treatment method according to an embodiment of the present invention, plating adhesion failure was not confirmed.

[내식성 확인 실험][Corrosion resistance test]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 6에 나타내었다.The results of the corrosion resistance confirmation test of the magnesium alloy plated specimen surface-treated by the above surface treatment method are shown in FIG. 6 below.

본 발명의 일 실시형태에 따른 표면처리 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편에 대한 염수분무 시험 결과, 24시간 안에 부식이 진행되었으나, 이는 도금 밀착성 확인 실험에서도 도금 밀착 불량이 발생되지 않았으므로 도금의 두께가 얇고 판재 컷팅 시 생겼던 외곽의 틈 때문에 이러한 현상이 발생된 것으로 추측된다.As a result of the salt spray test on the magnesium alloy plated specimen surface-treated by the surface treatment method according to an embodiment of the present invention, corrosion proceeded within 24 hours, but this indicates that plating adhesion failure did not occur even in the plating adhesion confirmation test. It is presumed that this phenomenon occurred because of the thin thickness and the gaps on the outside that were created when cutting the plate.

시안동도금단계(SCyan copper plating step (S 400400 ) 및 황산동도금단계(S) and copper sulfate plating step (S 500500 )의 시간 증가에 따른 내식성 확인 시험) Corrosion resistance test with increasing time

하기의 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성을 확인하는 실험을 실시하였다.An experiment was conducted to confirm the corrosion resistance of the magnesium alloy plated specimen subjected to surface treatment by the following method.

[표면처리 공정][Surface treatment process]

1. 탈지단계(S100) : 피도금체인 마그네슘 합금 도금 시편을 10분 동안 초음파 탈지한 뒤, 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5분 동안 담지하여 탈지시킨다.1. Degreasing step (S 100 ): After ultrasonically degreasing a magnesium alloy plated specimen, which is a material to be plated, for 10 minutes, it is degreased by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 60 ° C. for 5 minutes.

2. 에칭단계(S200) : 피도금체를 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1분 동안 침적하여 에칭시킨다.2. Etching step (S 200 ): The object to be plated is immersed in an etchant maintained at a temperature of 25° C. for 1 minute to be etched.

3. 징게이트단계(S300) : 피도금체를 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 5분 동안 침적하여 아연을 치환한다.3. Zingate step (S 300 ): Zinc is substituted by immersing the object to be plated in a zincate solution maintained at a temperature of 70 ° C for 5 minutes.

4. 시안동도금단계(S400) : 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 55℃의 온도에서 20분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.4. Copper cyanide plating step (S 400 ): The object to be plated is electrolytically plated with a copper cyanide plating solution at a temperature of 55° C. for 20 minutes at a current intensity of 2A.

5. 황산동도금단계(S500) : 도금체를 황산동도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 40분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.5. Copper sulfate plating step (S 500 ): The plated body is electrolytically plated with a copper sulfate plating solution at a temperature of 25° C. for 40 minutes at a current intensity of 2A.

6. 3원합금도금단계(S600) : 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 10분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.6. Ternary alloy plating step (S 600 ): The plated body is electrolytically plated at a current of 2A for 10 minutes at a temperature of 25° C. using a ternary alloy plating solution.

7. 팔라듐도금단계(S700) : 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 40℃의 온도에서 2분 동안 0.5A의 전류세기로 전해도금시킨다.7. Palladium plating step ( S700 ): The plated body is electroplated using a palladium plating solution at a temperature of 40° C. for 2 minutes at a current intensity of 0.5A.

8. 전착단계(S800) : 도금체를 40℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1분 동안 침적하되, 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시킨다.8. Electrodeposition step (S 800 ): The plated body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 40 ° C for 1 minute, and electrodeposited while stirring at a current intensity of 1A.

[내식성 확인 실험][Corrosion resistance test]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 7에 나타내었다.The results of the corrosion resistance confirmation test of the magnesium alloy plated specimen surface-treated by the above surface treatment method are shown in FIG. 7 below.

상기 실시예 3의 표면처리된 마그네슘 합금 도금의 시편 보다 시안동도금단계(S400) 및 황산동도금단계(S500)의 도금 시간을 10분 늘린 시편의 경우 72시간 염수분무 시험 결과에서 실시예 3의 내식성 결과보다는 좋은 것으로 확인되었으며, 표면의 라운드에 백녹이 보이나, 도금층의 분리는 거의 보이지 않는 것으로 확인되었다.In the case of the specimen in which the plating time of the copper cyanide plating step (S 400 ) and the copper sulfate plating step (S 500 ) was increased by 10 minutes compared to the surface-treated magnesium alloy plating specimen of Example 3, in the results of the 72-hour salt spray test, Example 3 It was confirmed that it was better than the corrosion resistance result, and white rust was seen on the round surface, but it was confirmed that the separation of the plating layer was hardly seen.

시안동도금단계(SCyan copper plating step (S 400400 ), 3원합금도금단계(S), ternary alloy plating step (S 600600 ), 팔라듐도금단계(S), palladium plating step (S 700700 ) 및 전착단계(S) and electrodeposition step (S 800800 )의 시간 증가에 따른 내식성 확인 시험) Corrosion resistance test with increasing time

하기의 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성을 확인하는 실험을 실시하였다.An experiment was conducted to confirm the corrosion resistance of the magnesium alloy plated specimen subjected to surface treatment by the following method.

[표면처리 공정][Surface treatment process]

1. 탈지단계(S100) : 피도금체인 마그네슘 합금 도금 시편을 10분 동안 초음파 탈지한 뒤, 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5분 동안 담지하여 탈지시킨다.1. Degreasing step (S 100 ): After ultrasonically degreasing a magnesium alloy plated specimen, which is a material to be plated, for 10 minutes, it is degreased by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 60 ° C. for 5 minutes.

2. 에칭단계(S200) : 피도금체를 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1분 동안 침적하여 에칭시킨다.2. Etching step (S 200 ): The object to be plated is immersed in an etching solution maintained at a temperature of 25° C. for 1 minute to be etched.

3. 징게이트단계(S300) : 피도금체를 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 5분 동안 침적하여 아연을 치환한다.3. Zingate step (S 300 ): Zinc is substituted by immersing the object to be plated in a zincate solution maintained at a temperature of 70 ° C for 5 minutes.

4. 시안동도금단계(S400) : 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 55℃의 온도에서 20분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.4. Copper cyanide plating step (S 400 ): The object to be plated is electrolytically plated with a copper cyanide plating solution at a temperature of 55° C. for 20 minutes at a current intensity of 2A.

5. 황산동도금단계(S500) : 도금체를 황산동도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 30분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.5. Copper sulfate plating step (S 500 ): The plated body is electrolytically plated with a copper sulfate plating solution at a temperature of 25° C. for 30 minutes at a current intensity of 2A.

6. 3원합금도금단계(S600) : 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 20분 동안 2A의 전류세기로 전해도금시킨다.6. Ternary alloy plating step (S 600 ): The plated body is electrolytically plated at a current intensity of 2A for 20 minutes at a temperature of 25 ° C using a ternary alloy plating solution.

7. 팔라듐도금단계(S700) : 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 40℃의 온도에서 4분 동안 0.5A의 전류세기로 전해도금시킨다.7. Palladium plating step ( S700 ): The plated body is electroplated using a palladium plating solution at a temperature of 40° C. for 4 minutes at a current intensity of 0.5A.

8. 전착단계(S800) : 도금체를 40℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 2분 동안 침적하되, 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시킨다.8. Electrodeposition step (S 800 ): The plating body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 40 ° C for 2 minutes, and electrodeposition is performed while stirring at a current intensity of 1A.

[내식성 확인 실험][Corrosion resistance test]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금 도금 시편의 내식성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 8에 나타내었다.The results of the corrosion resistance confirmation test of the magnesium alloy plated specimen surface-treated by the above surface treatment method are shown in FIG. 8 below.

시안동도금단계(S400), 3원합금도금단계(S600), 팔라듐도금단계(S700) 및 전착단계(S800)의 도금 시간을 2배씩 늘린 시편의 경우 72시간 염수분무 시험 결과에서 상기 실시예들의 내식성 결과 중에서는 가장 좋은 것으로 확인되었다. 표면의 라운드에 백녹이 보이나 소량이며, 도금층의 분리는 거의 보이지 않는 것으로 확인되었다.In the case of specimens in which the plating time of the cyanide copper plating step (S 400 ), the ternary alloy plating step (S 600 ), the palladium plating step (S 700 ) and the electrodeposition step (S 800 ) were doubled, the above results were obtained from the 72-hour salt spray test. Among the corrosion resistance results of the examples, it was confirmed to be the best. It was confirmed that white rust was visible on the round surface, but it was small, and the separation of the plating layer was almost invisible.

마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 포면처리에 따른 내식성 및 땀에 대한 저항성 확인 시험Corrosion resistance and perspiration resistance test according to surface treatment of glasses frame made of magnesium alloy material

하기의 방법으로 표면처리된 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 내식성 및 땀에 대한 저항성을 확인하는 실험을 실시하였다.An experiment was conducted to confirm the corrosion resistance and sweat resistance of the spectacle frame composed of a magnesium alloy material surface-treated by the following method.

[표면처리 공정][Surface treatment process]

1. 탈지단계(S100) : 피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 10분 동안 초음파 탈지한 뒤, 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5분 동안 담지하여 탈지시킨다.1. Degreasing step (S 100 ): After ultrasonically degreasing the glasses frame composed of magnesium alloy material, which is a material to be plated, for 10 minutes, it is degreased by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 60 ° C. for 5 minutes.

2. 에칭단계(S200) : 피도금체를 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1분 동안 침적하여 에칭시킨다.2. Etching step (S 200 ): The object to be plated is immersed in an etchant maintained at a temperature of 25° C. for 1 minute to be etched.

3. 징게이트단계(S300) : 피도금체를 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 5분 동안 침적하여 아연을 치환한다.3. Zingate step (S 300 ): Zinc is substituted by immersing the object to be plated in a zincate solution maintained at a temperature of 70 ° C for 5 minutes.

4. 시안동도금단계(S400) : 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 55℃의 온도에서 20분 동안 1A의 전류세기로 전해도금시킨다.4. Copper cyanide plating step (S 400 ): The object to be plated is electrolytically plated with a copper cyanide plating solution at a temperature of 55° C. for 20 minutes at a current intensity of 1A.

5. 황산동도금단계(S500) : 도금체를 황산동도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 40분 동안 1A의 전류세기로 전해도금시킨다.5. Copper sulfate plating step ( S500 ): The plated body is electrolytically plated at a current intensity of 1A for 40 minutes at a temperature of 25°C using a copper sulfate plating solution.

6. 3원합금도금단계(S600) : 도금체를 3원합금도금액을 이용하여 25℃의 온도에서 20분 동안 1A의 전류세기로 전해도금시킨다.6. Ternary alloy plating step (S 600 ): The plated body is electrolytically plated with a ternary alloy plating solution at a temperature of 25° C. for 20 minutes at a current intensity of 1A.

7. 팔라듐도금단계(S700) : 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 40℃의 온도에서 4분 동안 0.25A의 전류세기로 전해도금시킨다.7. Palladium plating step ( S700 ): The plated body is electrolytically plated with a palladium plating solution at a temperature of 40°C for 4 minutes at a current intensity of 0.25A.

8. 전착단계(S800) : 도금체를 40℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 2분 동안 침적하되, 0.5A의 전류세기로 교반하면서 전착시킨다.8. Electrodeposition step (S 800 ): The plated body is immersed in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 40° C. for 2 minutes, and electrodeposition is performed while stirring at a current intensity of 0.5A.

[내식성 확인 실험][Corrosion resistance test]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 내식성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 9에 나타내었으며, 72시간 염수분무 시험 결과, 부식이 진행되지 않은 것으로 확인되었다.The results of the corrosion resistance confirmation experiment of the spectacle frame composed of the magnesium alloy material surface-treated by the above surface treatment method are shown in FIG. 9, and as a result of the 72-hour salt spray test, it was confirmed that corrosion did not proceed.

[땀에 대한 저항성 확인 실험][Experiment to confirm resistance to sweat]

상기의 표면처리 방법에 의해 표면처리된 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 땀에 대한 저항성 확인 실험을 실시한 결과는 하기 도 10에 나타내었으며, 땀에 대한 저항성 확인 시험 결과 이상이 없는 것으로 확인되었다.The results of an experiment to confirm the sweat resistance of the eyeglass frame made of the magnesium alloy material surface-treated by the above surface treatment method are shown in FIG. 10, and it was confirmed that there was no abnormality as a result of the sweat resistance confirmation test.

결론적으로, 상기 실시예 1 내지 실시예 6을 통해, 본 발명의 일 실시형태에 따른 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법은 3원합금도금단계에서 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용함으로써 내식성, 내마모성 및 밀착성 등의 물성이 우수하여 고신뢰성의 금속 표면을 얻을 수 있음에 따라 결함이 형성되지 않는 장점이 있고, 전착단계에서 로듐이 포함된 화이트로듐도금액을 이용하여 전착시킴으로써 실버 색상을 효과적으로 발현시킬 수 있을 뿐만 아니라 내식성이 우수하여 염수 노출 시에도 부식이 되는 것을 방지할 수 있어 안경프레임 자체의 품질을 높일 수 있음을 확인하였다.In conclusion, through the above Examples 1 to 6, the surface treatment method of the spectacle frame composed of magnesium alloy material using rhodium according to an embodiment of the present invention is copper cyanide, zinc cyanide and sodium stannate in the ternary alloy plating step By using the ternary alloy plating solution containing this, it is possible to obtain a highly reliable metal surface with excellent physical properties such as corrosion resistance, wear resistance and adhesion, so there is an advantage in that no defects are formed, and in the electrodeposition step, white containing rhodium By electrodeposition using a rhodium plating solution, it was confirmed that not only can silver color be effectively expressed, but also excellent corrosion resistance can prevent corrosion even when exposed to salt water, so that the quality of the spectacle frame itself can be improved.

이상, 실시예를 들어 본원 발명을 상세하게 설명하였으나, 본원 발명은 상기 실시예들에 한정되지 않으며, 여러 가지 다양한 형태로 변형될 수 있고, 본원 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 많은 변형이 가능함이 명백하다. 또한, 청구범위에 기재된 본원 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본원 발명의 권리 범위에 속한다고 할 것이다.Above, the present invention has been described in detail with examples, but the present invention is not limited to the above embodiments, and can be modified in various forms, and conventional knowledge in the art within the technical spirit of the present invention It is clear that many variations are possible by those who have it. In addition, various forms of substitution, modification and change will be possible by those skilled in the art within the scope of the technical spirit of the present invention described in the claims, which also falls within the scope of the present invention. will do it

Claims (9)

마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법으로서,
피도금체인 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임을 50 내지 60℃의 온도로 유지되는 탈지액에 5 내지 15분 동안 담지하여 탈지시키는 탈지단계;
상기 탈지단계에서 탈지 처리된 피도금체를 18 내지 25℃의 온도로 유지되는 에칭액에 1 내지 2분 동안 침적하여 에칭시키는 에칭단계;
상기 에칭단계에서 에칭 처리된 피도금체를 65 내지 70℃의 온도로 유지되는 징게이트액에 4 내지 6분 동안 침적하여 아연을 치환하는 징게이트단계;
상기 징게이트단계에서 징게이트 처리된 피도금체를 시안동도금액을 이용하여 50 내지 60℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 시안동도금단계;
상기 시안동도금단계에서 시안동 도금된 도금체를 황산동도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 30 내지 40분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 황산동도금단계;
상기 황산동도금단계에서 황산동 도금된 도금체를 시안화구리, 시안화아연 및 주석산나트륨이 포함된 3원합금도금액을 이용하여 18 내지 25℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 1 내지 2A의 전류세기로 전해도금시키는 3원합금도금단계;
상기 3원합금도금단계에서 3원합금 도금된 도금체를 팔라듐도금액을 이용하여 35 내지 45℃의 온도에서 2 내지 4분 동안 0.25 내지 0.5A의 전류세기로 전해도금시키는 팔라듐도금단계; 및
상기 팔라듐도금단계에서 팔라듐 도금된 도금체를 35 내지 45℃의 온도로 유지되는 화이트로듐도금액에 1 내지 2분 동안 침적하되, 0.5 내지 1A의 전류세기로 교반하면서 전착시키는 전착단계;가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법에 있어서,
상기 3원합금도금단계의 3원합금도금액은,
3원합금도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(Sodium cyanide) 40 내지 50g/L, 시안화구리(Copper cyanide) 16 내지 20g/L, 시안화아연(Zinc cyanide) 1.6 내지 1.8g/L, 주석산나트륨(Sodium Stannate) 80 내지 90g/L 및 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 20 내지 30g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
As a surface treatment method of a spectacle frame made of magnesium alloy material,
A degreasing step of degreasing the spectacle frame made of a magnesium alloy material, which is a material to be plated, by immersing it in a degreasing solution maintained at a temperature of 50 to 60 ° C for 5 to 15 minutes;
an etching step of etching by immersing the plated body degreased in the degreasing step in an etchant maintained at a temperature of 18 to 25° C. for 1 to 2 minutes;
a zinc gate step of immersing the plated body etched in the etching step in a zinc gate solution maintained at a temperature of 65 to 70° C. for 4 to 6 minutes to replace zinc;
a copper cyanide plating step of electrolytically plating the plated body subjected to the zinc gate process at a current intensity of 1 to 2 A for 10 to 20 minutes at a temperature of 50 to 60° C. using a copper cyanide plating solution;
a copper sulfate plating step of electrolytically plating the plated body plated with copper cyanide in the copper sulfate plating step at a temperature of 18 to 25° C. for 30 to 40 minutes at a current intensity of 1 to 2 A using a copper sulfate plating solution;
In the copper sulfate plating step, the copper sulfate plated body is electrolyzed at a current intensity of 1 to 2A for 10 to 20 minutes at a temperature of 18 to 25 ° C using a ternary alloy plating solution containing copper cyanide, zinc cyanide and sodium stannate A ternary alloy plating step of plating;
A palladium plating step of electrolytically plating the plated body plated with the ternary alloy in the ternary alloy plating step using a palladium plating solution at a temperature of 35 to 45° C. for 2 to 4 minutes at a current intensity of 0.25 to 0.5 A; and
An electrodeposition step of depositing the palladium-plated plated body in the palladium plating step for 1 to 2 minutes in a white rhodium plating solution maintained at a temperature of 35 to 45 ° C. while stirring at a current intensity of 0.5 to 1A; In the surface treatment method of the spectacle frame composed of magnesium alloy material using rhodium, characterized in that,
The ternary alloy plating amount of the ternary alloy plating step,
40 to 50 g/L of sodium cyanide, 16 to 20 g/L of copper cyanide, and 1.6 to 1.8 g/L of zinc cyanide based on 1 liter (L) of the ternary alloy plating solution , Sodium stannate (Sodium Stannate) 80 to 90g / L and sodium hydroxide (Sodium hydroxide) 20 to 30g / L characterized in that it is included in the surface treatment method of the spectacle frame composed of magnesium alloy material using rhodium.
청구항 1에 있어서,
상기 탈지단계의 탈지액은,
pH가 13 이상인 알칼리 용액이며,
탈지액 전체 1리터(L)를 기준으로 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 100 내지 150g/L 및 탄산나트륨(Sodium carbonate) 50 내지 100g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method of claim 1,
The degreasing liquid in the degreasing step,
It is an alkaline solution with a pH of 13 or higher,
Glasses frame made of magnesium alloy material using rhodium, characterized by containing 100 to 150 g/L of sodium hydroxide and 50 to 100 g/L of sodium carbonate based on 1 liter (L) of the total degreasing solution of the surface treatment method.
청구항 1에 있어서,
상기 에칭단계의 에칭액은,
에칭액 전체 1리터(L)를 기준으로 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA, Ethylene diamine tetra acetic acid) 5 내지 10g/L 및 수산화나트륨(Sodium hydroxide) 30 내지 50g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method of claim 1,
The etchant in the etching step,
Using rhodium, characterized in that 5 to 10 g/L of ethylenediamine tetra acetic acid (EDTA) and 30 to 50 g/L of sodium hydroxide are included based on 1 liter (L) of the total etchant. A surface treatment method for eyeglass frames made of magnesium alloy.
청구항 1에 있어서,
상기 징게이트단계의 징게이트액은,
징게이트액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산아연(Zinc sulfate) 30 내지 80g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method of claim 1,
The Zingate solution in the Zingate step,
Surface treatment method of a spectacle frame composed of a magnesium alloy material using rhodium, characterized in that 30 to 80 g / L of zinc sulfate is included based on 1 liter (L) of the total Zingate solution.
청구항 1에 있어서,
상기 시안동도금단계의 시안동도금액은,
시안동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 시안화나트륨(Sodium cyanide) 70 내지 90g/L, 시안화구리(Copper cyanide) 60 내지 80g/L, 칼륨나트륨타르타르산염(Potassium sodium tartrate) 20 내지 40g/L 및 탄산나트륨(Sodium carbonate) 40 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method of claim 1,
The copper cyanide plating solution in the copper cyanide plating step,
70 to 90 g/L of sodium cyanide, 60 to 80 g/L of copper cyanide, and 20 to 40 g/L of potassium sodium tartrate based on 1 liter (L) of copper cyanide plating solution and 40 to 60 g/L of sodium carbonate.
청구항 1에 있어서,
상기 황산동도금단계의 황산동도금액은,
황산동도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 황산동(Copper sulfate) 150 내지 250g/L 및 황산(Sulfuric acid) 45 내지 60g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method of claim 1,
The copper sulfate plating solution in the copper sulfate plating step,
Glasses frame made of magnesium alloy material using rhodium, characterized by containing 150 to 250 g/L of copper sulfate and 45 to 60 g/L of sulfuric acid based on 1 liter (L) of copper sulfate plating solution of the surface treatment method.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 팔라듐도금단계의 팔라듐도금액은,
팔라듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 팔라듐(Palladium) 3 내지 8g/L 및 황산암모늄(Ammonium sulfate) 150 내지 200g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method of claim 1,
The palladium plating solution of the palladium plating step,
Glasses frame made of magnesium alloy material using rhodium, characterized in that it contains 3 to 8 g/L of palladium and 150 to 200 g/L of ammonium sulfate based on 1 liter (L) of palladium plating solution of the surface treatment method.
청구항 1에 있어서,
상기 전착단계의 화이트로듐도금액은,
화이트로듐도금액 전체 1리터(L)를 기준으로 로듐(Rhodium) 1 내지 2g/L 및 황산(Sulfuric acid) 10 내지 15g/L가 포함되는 것을 특징으로 하는 로듐을 이용한 마그네슘 합금소재로 구성된 안경프레임의 표면처리 방법.
The method of claim 1,
The white rhodium plating solution of the electrodeposition step,
Glasses frame made of magnesium alloy material using rhodium, characterized in that 1 to 2 g/L of rhodium and 10 to 15 g/L of sulfuric acid are included based on 1 liter (L) of the total white rhodium plating solution of the surface treatment method.
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