KR20220126032A - Circuit board grinding system and grinding method - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 회로기판의 연삭 시스템 및 그 연삭 가공 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 상면 및 하면 각각에 몰드를 형성한 회로기판 중 피가공면측 몰드 두께와, 상기 회로기판의 전체 총 두께를 기반으로 비가공면측 총 두께를 산정하고, 산정된 비가공면측 총 두께를 기반으로 가공면측 몰드의 목표두께를 산정하며, 산정된 가공면측 몰드의 목표두께를 기준으로 가공면측의 몰드를 연삭 가공하는 회로기판의 연삭 시스템 및 그 연삭 가공 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a grinding system for a circuit board and a grinding processing method thereof, and more particularly, based on the mold thickness on the side to be processed among circuit boards in which molds are formed on the upper and lower surfaces, respectively, and the total thickness of the circuit board. A circuit board that calculates the total thickness on the raw surface side, calculates the target thickness of the mold on the processed surface based on the calculated total thickness on the raw surface, and grinds the mold on the processed surface side based on the calculated target thickness of the mold on the processed surface It relates to a grinding system and a grinding processing method thereof.
일반적으로 반도체 디바이스의 제조 동안, 기판 상에 전자 회로망 또는 전기 접속들을 형성하기 위해, 다수의 재료 층이 퇴적되고, 패터닝되며, 에칭되는데, 기판의 최상부면은 처리 단계들 사이에서 평탄화될 수 있다.Typically during fabrication of a semiconductor device, multiple layers of material are deposited, patterned, and etched to form electronic circuitry or electrical connections on a substrate, the top surface of which may be planarized between processing steps.
그러한 평탄화는 통상적으로 에치-백 단계(etch-back step) 또는 화학적 기계적 폴리싱(CMP: chemical mechanical polishing)을 이용하여 수행된다.Such planarization is typically performed using an etch-back step or chemical mechanical polishing (CMP).
상기한 화학적 기계적 폴리싱 과정 동안, 기판은 폴리싱 패드 상에 뒤집혀져서(face down) 배치되고, 슬러리의 존재하에서 폴리싱 헤드를 통해 폴리싱 패드 쪽으로 눌러지고 폴리싱 패드에 의해 회전된다. During the chemical mechanical polishing process described above, a substrate is placed face down on a polishing pad, pressed through a polishing head toward the polishing pad in the presence of a slurry and rotated by the polishing pad.
슬러리는 연마 입자들(abrasive particles), 또는 기판으로부터의 재료 제거에 도움이 되는 화학물질들을 함유할 수 있고, 폴리싱은 기판 상에 평탄한 표면을 형성하기에 충분한 재료가 제거될 때까지 계속된다.The slurry may contain abrasive particles, or chemicals that aid in material removal from the substrate, and polishing continues until sufficient material is removed to form a planar surface on the substrate.
기판 상에 형성되는 디바이스들에 대한 균일한 층 두께를 보장하기 위해서는, CMP 동안 기판에 걸쳐 균일성을 유지하는 것이 중요하다. It is important to maintain uniformity across the substrate during CMP to ensure uniform layer thickness for devices formed on the substrate.
그러나 기판의 표면 전체에 걸쳐서 두께 균일성을 유지하는 것은 어렵고, 직경이 큰 기판일수록 특히 더 그렇하다. 그러므로 큰 기판 크기에 대해, 화학적 기계적 폴리싱 동안 균일성을 개선하기 위한 방법 및 장치가 필요하다.However, maintaining thickness uniformity over the entire surface of the substrate is difficult, especially with larger diameter substrates. Therefore, for large substrate sizes, there is a need for a method and apparatus for improving uniformity during chemical mechanical polishing.
이를 해소하기 위한 종래기술로는 공개특허 제10-2015-0005672호(2015.01.14)를 제공하였다.As a prior art for solving this problem, Patent Publication No. 10-2015-0005672 (2015.01.14) was provided.
하지만, 표면에 몰드로 마감하는 회로기판의 경우, 종래에는 피가공물(회로기판)의 전체 두께를 측정한 후, 측정된 전체 두께에서 목표두께를 이루도록 연삭 가공하였으나, 이를 경우 피가공물의 두께 및 가공면측 몰드의 두께가 반영되지 않아, 가공 후 남는 잔여 몰드의 두께가 지나치게 얇아지는 문제점이 있었다.However, in the case of a circuit board finished with a mold on the surface, conventionally, after measuring the total thickness of the workpiece (circuit board), grinding was performed to achieve a target thickness from the measured total thickness, but in this case, the thickness and processing of the workpiece Since the thickness of the face-side mold is not reflected, there is a problem in that the thickness of the remaining mold remaining after processing becomes too thin.
본 발명은 가공면측 몰드의 두께 및 피가공물의 전체 총 두께를 기반으로 목표두께를 설정하여, 가공 후 남는 잔여 몰드의 두께가 지나치게 얇아지는 것을 방지한 회로기판의 연삭 시스템 및 그 연삭 가공 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention provides a circuit board grinding system and a method for grinding the circuit board that prevent the thickness of the remaining mold remaining after processing from becoming too thin by setting a target thickness based on the thickness of the mold on the processing surface side and the total thickness of the workpiece to do that for that purpose.
본 발명에 따른 회로기판 연삭 시스템은 상, 하측에 각각 몰드를 형성한 피가공 기판을 해당 지정위치로 이송하는 로딩부와, 상기 로딩부의 인근에 배치되고, 상기 로딩부로부터 인계받은 피가공 기판의 몰드을 연삭하는 연삭수단을 구비한 작업대, 및 상기 로딩부, 작업대 및 연삭수단과 전기적으로 연결되어, 측정된 상기 피가공 기판의 가공면측 몰드 두께(a)와, 상기 피가공 기판의 전체 총 두께(b)의 차로, 상기 피가공 기판의 비가공면측 총 두께(c)를 산정하고, 산정된 상기 비가공면측 총 두께(c)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 합으로, 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 산출하며, 연삭 가공시작위치를 결정하는 상기 피가공 기판의 전체 총 두께(b)를 기초로 상기 연삭수단을 위치하고, 측정된 가공면측 몰드 두께(a)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 차로, 산출된 상기 피가공 기판 중 가공면측의 가공두께와, 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 기반으로 상기 연삭수단의 구동을 제어하는 제어부를 포함한다.The circuit board grinding system according to the present invention includes a loading unit for transferring a processing substrate having molds formed on the upper and lower sides to a corresponding designated position, and is disposed near the loading unit, A workbench having a grinding means for grinding the mold, and the loading unit, the workbench and the grinding means are electrically connected to the measured mold thickness (a) on the processing surface side of the processing target substrate, and the total total thickness of the processing target substrate ( By the difference of b), the total thickness (c) of the non-machined surface side of the substrate to be processed is calculated, and the calculated total thickness (c) of the non-machined surface side is the sum of the preset processing target thickness (d) of the machined surface side mold. , calculates the target thickness (e) of the substrate to be processed, locates the grinding means based on the total total thickness (b) of the substrate to be processed, which determines the grinding processing start position, and the measured mold thickness (a) on the processing surface side ) and the difference between the preset processing target thickness (d) of the processing surface side mold, the calculated processing surface side processing thickness among the processing target substrates, and driving the grinding means based on the target thickness (e) of the processing target substrate It includes a control unit for controlling the.
이때 본 발명에 따른 상기 작업대는 중심에 구비된 중앙축을 기준으로 회전하는 턴테이블을 구비하면서, 상기 중앙축을 기준으로 제1, 제2, 제3, 제4작업영역을 방사상으로 구획하며, 구획된 제1, 제2, 제3, 제4작업영역 각각에는 연삭수단을 구비하고, 방사상으로 구획된 상기 작업대의 제1, 제2, 제3, 제4작업영역 각각에 배치되고, 상기 로딩부로부터 인계받은 피가공 기판을 안착하여 지지하는 복수 개의 가공테이블과, 상기 작업영역 중 제1작업영역 일측에 구비되고, 상기 로딩부에 의해 이송된 피가공 기판을 피커로 집어 가공테이블에 안치하는 로봇암과, 상기 작업영역 중 제2작업영역에 구비되고, 상기 제2작업영역에 위치하는 가공테이블에 안치된 피가공 기판을 1차 연삭 가공하는 제1연삭수단과, 상기 작업영역 중 제3작업영역에 구비되고, 상기 제3작업영역에 위치하는 가공테이블에 안치된 피가공 기판을 2차 연삭 가공하는 제2연삭수단과, 상기 작업영역 중 제4작업영역에 구비되고, 상기 제4작업영역에 위치하는 가공테이블에 안치된 피가공 기판을 광택 연삭 가공하는 제3연삭수단을 포함한다.At this time, the workbench according to the present invention includes a turntable that rotates about a central axis provided in the center, and radially divides first, second, third, and fourth working areas with respect to the central axis, and A grinding means is provided in each of the first, second, third, and fourth work areas, and is disposed in each of the first, second, third, and fourth work areas of the radially partitioned work table, and takes over from the loading unit A plurality of processing tables for seating and supporting the received substrate to be processed, and a robot arm provided on one side of the first working region of the working region, for picking up the processed substrate transferred by the loading unit with a picker and placing it on the processing table; , a first grinding means provided in a second work area of the work area and for primary grinding a substrate to be processed placed on a processing table located in the second work area, and in a third work area of the work area a second grinding means for secondary grinding of the substrate to be processed, which is provided and placed on a processing table located in the third working area; and a third grinding means for gloss-grinding the substrate to be processed placed on the processing table.
여기서 본 발명에 따른 상기 로딩부는 상측, 하측에 각각 몰드를 형성하는 피가공 기판을 인계받아 해당 지정위치로 상기 피가공 기판을 인계하는 스트립 로더와, 상기 스트립 로더 인근에 배치되고, 상기 스트립 로더를 통해 인계받은 피가공 기판을 상면에 안치하여, 상기 로봇암의 피커가 위치하는 해당 지정장소로 운송하는 로딩셔틀을 포함한다.Here, the loading unit according to the present invention is disposed near the strip loader and the strip loader that takes over the substrate to be processed for forming the mold on the upper side and the lower side, respectively, and takes over the substrate to be processed to the designated position, and the strip loader and a loading shuttle for placing the substrate to be processed through the upper surface and transporting it to the designated place where the picker of the robot arm is located.
또한, 본 발명에 따른 상기 로딩셔틀에 구비되어, 상기 피가공 기판의 가공면측 몰드 두께를 측정하여, 상기 제어부로 그 측정값을 출력하는 제1 두께측정센서와, 방사상 구획된 상기 작업대의 작업영역 중 제2작업영역에 구비되고, 상기 피가공 기판의 전체 총 두께를 측정하여, 상기 제어부로 그 측정값을 출력하는 제2두께측정센서와, 방사상 구획된 상기 작업대의 작업영역 중 제3작업영역에 구비되고, 상기 피가공 기판의 전체 총 두께를 측정하여, 상기 제어부로 그 측정값을 출력하는 제3두께측정센서와, 방사상 형태로 구획된 상기 작업대의 작업영역 중 제4작업영역에 구비되고, 상기 피가공 기판의 전체 총 두께를 각각 측정하여, 상기 제어부로 그 측정값을 출력하는 제4두께측정센서를 구비한다.In addition, a first thickness measuring sensor provided in the loading shuttle according to the present invention to measure the mold thickness of the processing surface side of the substrate to be processed, and output the measured value to the control unit, and a radially partitioned working area of the workbench a second thickness measuring sensor provided in the second working area of the middle, measuring the total thickness of the substrate to be processed, and outputting the measured value to the control unit; is provided in the third thickness measuring sensor that measures the total thickness of the substrate to be processed and outputs the measured value to the control unit, and is provided in the fourth working area of the work area of the work table partitioned in a radial shape, and a fourth thickness measuring sensor for measuring the total thickness of the substrate to be processed, respectively, and outputting the measured value to the control unit.
이때 본 발명에 따른 상기 가공테이블들은 각각 그 중심을 축으로 하여 선택적으로 회전하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the processing tables according to the present invention are selectively rotated about each of the centers as an axis.
또한, 본 발명에 따른 상기 작업대에서 연삭 가공을 마친 피가공 기판을 매거진으로 이송하는 언로딩부를 포함하고, 상기 로봇암은 상기 작업영역 중 제1작업영역에 위치하는 피가공 기판을 피커로 집어 상기 언로딩부로 이송한다.In addition, it includes an unloading unit for transferring the processed substrate to the magazine after grinding on the work bench according to the present invention, wherein the robot arm picks up the processed substrate located in the first working area of the working area with a picker. transferred to the unloading unit.
그리고 본 발명에 따른 상기 언로딩부는 상기 작업대의 인근에 구비되고, 상기 로봇암에 의해 이송된 피가공 기판을 상면을 안치하여, 해당 지정장소로 운송하는 언로딩셔틀과, 상기 언로딩셔틀의 인근에 배치되고, 상기 언로딩셔틀에 의해 운송된 피가공 기판을 인계받아 해당 지정장소로 이송하는 스트립 언로더와, 상기 스크립 언로더의 인근에 배치되고, 상기 스크립 언로더가 인계하는 피가공 기판을 매거진으로 이송하는 매거진 컨베이어를 포함한다.And the unloading unit according to the present invention is provided in the vicinity of the workbench, the upper surface of the substrate transferred by the robot arm is placed on the upper surface of the unloading shuttle for transporting it to the designated place, and the vicinity of the unloading shuttle and a strip unloader disposed in the to-be-processed substrate transported by the unloading shuttle and transported to a corresponding designated place, and a processing target substrate disposed in the vicinity of the script unloader and transferred by the script unloader It includes a magazine conveyor that transports it to the magazine.
더불어 본 발명에 따른 상기 작업대의 작업영역 중 제1작업영역에는 상기 제1작업영역에 위치하는 가공테이블의 평면을 크리닝하는 브러쉬모듈을 구비한다.In addition, a brush module for cleaning the plane of the processing table located in the first working area is provided in the first work area of the work area of the work bench according to the present invention.
본 발명에 따른 회로기판의 연삭 가공방법은 ⅰ)피가공 기판 중 가공면측 몰드의 두께(a)를 측정하는 단계와, ⅱ)상기 피가공 기판의 전체 총 두께(b)를 측정하는 단계와, ⅲ)상기 피가공 기판의 전체 총 두께(b)에서 가공면측 몰드의 두께(a)의 차로, 상기 피가공 기판 중 비가공면측의 총 두께(c)를 산정하는 단계와, ⅳ)산정된 비가공면측의 총 두께(c)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 합으로, 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 산출하는 단계와, ⅴ)측정된 가공면측 몰드 두께(a)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 차로, 상기 피가공 기판 중 가공면측의 연삭 가공두께를 결정하는 단계, 및 ⅵ)상기 피가공 기판의 전체 총 두께(b)를 기초로 연삭 가공시작위치를 결정하여, 상기 피가공 기판 중 가공면측의 연삭 가공두께와, 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 토대로 연삭수단을 제어하여 상기 피가공 기판을 연삭 가공하는 단계를 포함한다.The grinding processing method of a circuit board according to the present invention comprises the steps of: i) measuring the thickness (a) of a mold on the processing surface side of the processing substrate; ii) measuring the total total thickness (b) of the processing substrate; iii) calculating the total thickness (c) of the non-processed side of the substrate by the difference of the thickness (a) of the mold on the processing surface side from the total thickness (b) of the processing substrate; iv) the calculated ratio Calculating the target thickness (e) of the substrate to be processed by the sum of the total thickness (c) on the processing surface side and the predetermined processing target thickness (d) of the mold on the processing surface side; v) Measured mold thickness on the processing surface side (a) and the difference between the preset processing target thickness (d) of the mold on the processing surface side, determining the grinding processing thickness on the processing surface side of the substrate to be processed, and vi) the total total thickness of the substrate to be processed (b) determining a grinding processing start position based on , and controlling the grinding means based on the grinding processing thickness on the processing surface side of the processing target substrate and the target thickness (e) of the processing target substrate to grind the processing substrate includes
본 발명에 따른 회로기판의 연삭 시스템 및 그 연삭 가공 방법에 의해 나타나는 효과는 다음과 같다.Effects of the circuit board grinding system and the grinding processing method thereof according to the present invention are as follows.
가공면측 몰드의 두께 및 피가공물의 전체 총 두께를 기반으로 타겟 두께를 설정하여, 가공 후 남는 잔여 몰드의 두께가 지나치게 얇아지는 것을 방지할 수 있다.By setting the target thickness based on the thickness of the mold on the processing surface side and the total thickness of the workpiece, the thickness of the remaining mold remaining after processing can be prevented from becoming too thin.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 회로기판의 연삭 시스템을 보인 예시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 회로기판의 연삭 시스템에서 회로기판 중 가공면측의 몰드 연삭 두께를 산정하는 과정을 간략하게 보인 예시도이다.
1 is an exemplary view showing a circuit board grinding system according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an exemplary diagram schematically illustrating a process of calculating a grinding thickness of a mold on a processing surface side of a circuit board in a circuit board grinding system according to an embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, the terms or words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to conventional or dictionary meanings, and the inventor should properly understand the concept of the term in order to best describe his invention. Based on the principle that it can be defined, it should be interpreted as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.
따라서 본 명세서에 기재된 실시 예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 실시 예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들은 대체할 수 있는 균등한 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are only the most preferred embodiments of the present invention, and do not represent all the technical ideas of the present invention, so at the time of the present application, they are equivalent It should be understood that there may be variations.
본 발명은 상면 및 하면 각각에 몰드를 형성한 회로기판 중 피가공면측 몰드 두께와, 상기 회로기판의 전체 총 두께를 기반으로 비가공면측 총 두께를 산정하고, 산정된 비가공면측 총 두께를 기반으로 가공면측 몰드의 목표두께를 산정하며, 산정된 가공면측 몰드의 목표두께를 기준으로 가공면측의 몰드를 연삭 가공하는 회로기판의 연삭 시스템 및 그 연삭 가공 방법에 관한 것으로, 도면을 참조하여 살펴보면 다음과 같다.The present invention calculates the total thickness of the raw surface side based on the mold thickness on the processing surface side of the circuit board on which the mold is formed on the upper surface and the lower surface, and the total thickness of the circuit board, and the calculated total thickness on the raw surface side. It is related to a grinding system for a circuit board that calculates the target thickness of the mold on the processing surface side with a same as
본 발명의 일 실시 예에 따른 회로기판의 연삭 시스템은 로딩부(100), 작업대(200), 복수 개의 가공테이블(300), 로봇암(400), 제1연삭수단(500), 제2연삭수단(600), 제3연삭수단(700), 언로딩부(800) 및 제어부(900)를 포함하는데, 상기 로딩부(100)는 회로기판(11)의 상측 및 하측에 몰드(12, 13)를 각각 형성하는 공정을 마친 피가공 기판(10)을 해당 지정위치로 이송한다.The circuit board grinding system according to an embodiment of the present invention includes a
이때 본 발명의 일 실시 예에 따른 로딩부(100)는 스트립로더(110)와, 로딩셔틀(120)을 포함하는데, 상기 스트립로더(110)는 상측, 하측에 각각 몰드(12, 13)를 형성하는 공정을 마친 피가공 기판(10)을 인계받아 해당 지정위치로 상기 피가공 기판(10)의 저면(하측 몰드)이 위를 향하도록 상기 피가공 기판(10)을 뒤집어 인계한다.At this time, the
그리고 로딩셔틀(120)은 상기 스트립로더(110) 인근에 배치되고, 상기 스트립로더(110)를 통해 인계받은 피가공 기판(10)을 상면에 안치하여, 상기 로봇암(400)의 피커가 위치하는 해당 지정장소로 운송한다.In addition, the
여기서 상기 스트립로더(110)와 로딩셔틀(120) 사이에는 스트립인풋(111)을 구비하는데, 상기 로딩셔틀(120) 및 스트립인풋(111) 각각은 해당 지점까지 놓인 선형의 가이드바를 따라 셔틀이 이동하는 타입으로, 상기 셔틀은 진공흡착으로 피가공 기판(10)을 고정하여, 상기 피가공 기판(10)의 이송 중 피가공 기판(10)이 손상되거나, 잼밍(jamming)이 발생하지 않는다. Here, a
그리고 상기 로딩셔틀(120)에는 레이저 스캔 센서를 구비하는데, 상기 레이저 스캔 센서는 상기 로딩셔틀(120)에 의해 운송되는 상기 피가공 기판(10)에 형성된 바코드 및 상기 피가공 기판(10)의 상태(상, 하측면 중 해당 지정 면이 상향을 향하도록 안치되었는지 확인) 등을 스캔한다.And the
또한, 상기 로딩셔틀(120)에는 제1 두께측정센서(121)를 더 구비하는데, 상기 제1두께측정센서(121)는 레이저 센서로, 상기 로딩셔틀(120)에 안치되어 상기 로딩셔틀(120)에 의해 해당 지정위치로 운송되는 상기 피가공 기판(10) 중 가공면측 몰드인 하측 몰드(13)의 두께(a)를 측정하여, 상기 제어부(900)로 그 측정값을 출력한다.In addition, the
여기서 상기 피가공 기판(10)은 상기 로딩셔틀(120)에 안치될 시 가공면측 몰드인 하측 몰드(13)가 위로 향하게 뒤집어져 안치되기 때문에 상기 피가공 기판(10)의 하측 몰드(13)가 외측(상부)으로 노출되어, 상기 제1두께측정센서(121)를 통해 상기 피가공 기판(10) 중 가공면측 몰드의 두께(a)가 측정된다.Here, when the
상기한 구성의 로딩부(100) 인근에는 작업대(200)를 배치하는데, 상기 작업대(200)는 상기 로딩부(100)로부터 인계받은 피가공 기판(10)을 연삭하는 연삭수단(500, 600, 700)을 구비하는데, 상기 피가공 기판(10)의 연삭 가공이 이루어지는 작업영역으로, 그 내부에는 원판형의 턴테이블(210)을 구비한다.A
이때 상기 턴테이블(210)의 중심은 작업영역의 중심으로, 중앙축(211)을 구비하며, 상기 턴테이블(210)은 상기 중앙축(211)을 기준으로 반시계방향으로 90°씩 회전하는 것이 바람직하다.In this case, the center of the
그리고 상기한 턴테이블(210)이 내부에 구비된 작업대(200)는 상기 중앙축(211)을 기준으로 턴테이블(210)과 함께 작업영역을 방사상 형태로 구획하는데, 상기 작업영역과 함께 상기 중앙축(211)을 기준으로 방사상 형태로 구획된 각각의 턴테이블(210) 상에는 가공테이블(300)을 각각 구비한다.And the work table 200 provided with the
상기 가공테이블(300)은 방사상 형태로 구획된 각각의 작업영역에 위치하는 턴테이블(210) 상에 구비되어, 각각 그 상면에 상기 피가공 기판(10)을 안치하여, 연삭 가공이 이루어지도록 하고, 상기 턴테이블(210)이 상기 중앙축(211)을 기준으로 반시계방향으로 90°씩 회전하면 이에 연동하여 90°씩 회동하게 된다.The processing table 300 is provided on the
따라서 상기 턴테이블(210)이 선택적으로 반시계방향으로 90°씩 회전함에 따라 상기 가공테이블(300)들 상에 안치된 상기 피가공 기판(10)은 최초 제1작업영역에 위치하다, 상기 턴테이블(210)이 반시계방향으로 90°회전하면, 제1작업영역에서 제2작업영역으로 이동하여 위치하고, 다시 상기 턴테이블(210)이 반시계방향으로 90° 회전하면, 제2작업영역에서 제3작업영역으로 이동하여 위치하고, 또다시 상기 턴테이블(210)이 반시계방향으로 90° 회전하면, 제3작업영역에서 제4작업영역으로 이동하여 위치하고, 또다시 상기 턴테이블(210)이 반시계방향으로 90° 회전하면, 제4작업영역에서 제1작업영역으로 이동하여 위치하게 된다.Accordingly, as the
그러므로 상기 피가공 기판(10)은 상기 턴테이블(210)의 회전에 의해 제1에서 제4의 작업영역을 순환하는 순환경로를 이룬다.Therefore, the
또한, 상기 가공테이블(300)들은 각각 그 중심을 축으로 하여 선택적으로 회전할 수 있어, 상기 가공테이블(300)들 상에 안치된 상기 피가공 기판(10)의 안치 방향을 선택적으로 보정할 수 있다.In addition, each of the processing tables 300 can be selectively rotated about its center as an axis, so that the seating direction of the
상기 작업영역 중 제1작업영역 일측에는 로봇암(400)을 구비하는데, 상기 로봇암(400)은 상기 로딩부(100)에 의해 이송된 피가공 기판(10)을 피커로 집어 가공테이블(300)에 안치한다.A
이때 상기 로봇암(400)는 통상의 로봇암과 같이 6축 로봇암으로 구비되는 것이 바람직하고, 상기 로봇암(400)의 피커는 진공흡착방식으로 상기 로딩부(100)에 의해 이송된 피가공 기판(10)을 집어 제1작업영역에 위치한 가공테이블(300)에 안치한다.At this time, the
또한, 상기 로봇암(400)은 상기 작업영역 중 제1작업영역에 위치하는 연삭 가공을 마친 피가공 기판(10)을 피커로 집어 언로딩부(800)로 이송한다.In addition, the
따라서 상기 피가공 기판(10)은 로딩부(100)를 통해 해당 지정 위치로 인입되면, 해당 지정 위치에서 상기 로봇암(400)에 의해 상기 작업대(200)의 작업영역 중 제1작업영역에 위치하는 가공테이블(300)로 이송되고, 상기 작업대(200)의 작업영역 중 제1작업영역으로 이송된 상기 피가공 기판(10)은 상기 작업대(200)의 내부에 구비된 턴테이블(210)의 회전에 의해 제1작업영역에서 제2작업영역으로 이동하고, 해당 시간의 경과 후 제2작업영역에서 제3작업영역으로 이동하며, 해당 시간의 경과 후 제3작업영역에서 제4작업영역으로 이동하고, 해당 시간의 경과 후 제4작업영역에서 다시 제1작업영역으로 이동하게 된다.Therefore, when the
여기서 상기 작업영역 중 제2작업영역에는 제1연삭수단(500)을 구비하는데, 상기 제1연삭수단(500)은 상기 제2작업영역에 위치하는 가공테이블(300)에 안치된 피가공 기판(10)을 1차 연삭 가공한다.Here, a first grinding means 500 is provided in a second working area among the working areas, and the first grinding means 500 is a substrate to be processed ( 10) is subjected to primary grinding.
이때 상기 제1연삭수단(500)은 통상의 연삭수단과 같이 300[rpm]으로 회전할 수 있는 스핀들 하단에 원판형의 연삭부재가 구비되어, 상기 제2작업영역에 위치하는 가공테이블(300)에 안치된 피가공 기판(10)의 가공면측을 1차 연삭 가공(Rough grinding)한다.At this time, the first grinding means 500 is provided with a disk-shaped grinding member at the lower end of the spindle that can rotate at 300 [rpm] like a normal grinding means, and the processing table 300 is located in the second working area. Primary grinding processing (Rough grinding) is performed on the processing surface side of the substrate to be processed 10 placed in the .
그리고 방사상 형태로 구획된 상기 작업대(200)의 작업영역 중 제2작업영역에는 제2두께측정센서(510)를 구비하는데, 상기 제2두께측정센서(510)는 프로브 타입으로, 상기 제2작업영역의 가공테이블(300)에 안치된 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b) 및/또는 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 측정하여, 상기 제어부(900)로 그 측정값을 출력한다.And a second work area of the work area of the
상기 제어부(900)는 상기 제2두께측정센서(510)에서 측정된 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b) 및/또는 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 기반으로, 상기 제2작업영역에서의 상기 제1연삭수단(500) 구동과, 턴테이블(210)의 회전을 제어하게 된다.The
또한, 상기 작업영역 중 제3작업영역에는 제2연삭수단(600)을 구비하는데, 상기 제2연삭수단(600)은 상기 제3작업영역에 위치하는 가공테이블(300)에 안치된 피가공 기판(10)을 2차 연삭 가공한다.In addition, a second grinding means 600 is provided in a third working area among the working areas, and the second grinding means 600 is a substrate to be processed placed on the processing table 300 located in the third working area. (10) is subjected to secondary grinding.
이때 상기 제2연삭수단(600) 역시, 통상의 연삭수단과 같이 300[rpm]으로 회전할 수 있는 스핀들 하단에 원판형의 연삭부재가 구비되어, 상기 제3작업영역에 위치하는 가공테이블(300)에 안치된 피가공 기판(10)의 가공면측을 2차 연삭 가공(Fine grinding)한다.At this time, the second grinding means 600 is also provided with a disk-shaped grinding member at the lower end of the spindle that can rotate at 300 [rpm] like a normal grinding means, and the processing table 300 is located in the third working area. ), the processing surface side of the
그리고 방사상 형태로 구획된 상기 작업대(200)의 작업영역 중 제3작업영역에는 제3두께측정센서(610)를 구비하는데, 상기 제3두께측정센서(610)는 프로브 타입으로, 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b) 및/또는 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 측정하여, 상기 제어부(900)로 그 측정값을 출력한다.And a third
상기 제어부(900)는 상기 제3두께측정센서(610)에서 측정된 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b) 및/또는 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 기반으로, 상기 제3작업영역에서의 상기 제2연삭수단(600) 구동과, 턴테이블(210)의 회전을 제어하게 된다.The
더불어 상기 작업영역 중 제4작업영역에는 제3연삭수단(700)을 구비하는데, 상기 제3연삭수단(700)은 상기 제4작업영역에 위치하는 가공테이블(300)에 안치된 피가공 기판(10)을 광택 연삭 가공한다.In addition, a third grinding means 700 is provided in a fourth working area among the working areas, and the third grinding means 700 is a substrate to be processed ( 10) is polished by grinding.
이때 상기 제3연삭수단(700)은 통상의 연삭수단과 같이 300[rpm]으로 회전할 수 있는 스핀들 하단에 원판형의 연삭부재가 구비되어, 상기 제4작업영역에 위치하는 가공테이블(300)에 안치된 피가공 기판(10)의 상면을 광택 연삭 가공(Dry Polishing)한다.At this time, the third grinding means 700 is provided with a disk-shaped grinding member at the lower end of the spindle that can rotate at 300 [rpm] like a normal grinding means, and the processing table 300 is located in the fourth working area. Dry polishing is performed on the upper surface of the
그리고 방사상 형태로 구획된 상기 작업대(200)의 작업영역 중 제4작업영역에는 제4두께측정센서(710)를 구비하는데, 상기 제4두께측정센서(710)는 프로브 타입으로, 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b) 및/또는 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 측정하여, 상기 제어부(900)로 그 측정값을 출력한다.And a fourth
상기 제어부(900)는 상기 제4두께측정센서(710)에서 측정된 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b) 및/또는 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 기반으로, 상기 제3작업영역에서의 상기 제3연삭수단(700) 구동과, 턴테이블(210)의 회전을 제어하게 된다.The
또한, 상기 작업대(200)의 작업영역 중 제1작업영역에는 상기 제1작업영역에 위치하는 가공테이블(300)의 표면을 크리닝하는 브러쉬모듈(220)을 구비한다.In addition, a
더불어 상기 작업대(200)의 작업영역 중 제1작업영역에서 언로딩부(800)로 인계되는 상기 피가공 기판(10) 상측몰드(12)의 표면을 정리하는 서페이스 크리너를 구비하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to include a surface cleaner for cleaning the surface of the
그리고 상기 작업대(200)에서 연삭 가공을 마친 피가공 기판(10)은 상기 언로딩부(800)에 의해 매거진으로 이송되는데, 상기 언로딩부(800)는 언로딩셔틀(810)과, 스트립언로더(820)와, 매거진컨베이어(830)를 포함한다.In addition, the
먼저, 상기 언로딩셔틀(810)은 상기 작업대(200)의 인근에 구비되고, 상기 로봇암(400)에 의해 이송된 피가공 기판(10)을 상면을 안치하여, 해당 지정장소로 운송한다.First, the unloading
이때 상기 언로딩셔틀(810)은 해당 지정장소까지 놓인 선형의 가이드바를 따라 셔틀이 이동하는 타입으로, 상기 셔틀은 진공흡착으로 피가공 기판(10)을 고정하여, 상기 피가공 기판(10)의 이송 중 피가공 기판(10)이 손상되거나, 잼밍(jamming)이 발생하지 않는다.At this time, the unloading
그리고 상기 언로딩셔틀(810)의 인근에는 스트립언로더(820)를 배치하는데, 상기 스트립언로더(820)는 상기 언로딩셔틀(810)에 의해 운송된 피가공 기판(10)을 인계받아 해당 지정장소로 이송한다.And a
여기서 상기 스크립언로더(820)의 인근에는 매거진컨베이어(830)을 배치하는데, 상기 매거진컨베이어(830)는 상기 스크립언로더(820)가 인계하는 피가공 기판(10)을 매거진으로 이송한다.Here, a
더불어 본 발명의 일 실시 예에 따른 제어부(900)는 상기 로딩부(100), 4개의 가공테이블(300), 로봇암(400), 제1 연삭수단(500), 제2 연삭수단(600), 제3 연삭수단(700)과 전기적으로 연결되어, 상기 피가공 기판(10)의 이송 및 연삭 정도에 따라 선택적으로 상기 로딩부(100), 4개의 가공테이블(300), 로봇암(400), 제1연삭수단(500), 제2연삭수단(600), 제3연삭수단(700)을 제어한다.In addition, the
이때 상기 제어부(900)는 상기 제1두께측정센서(121)에 의해 측정된 측정값을 토대로, 상기 피가공 기판(10) 중 가공면측 몰드인 하측몰드(13)의 두께(a)를 정하고, 상기 제2두께측정센서(510)에 의해 측정된 측정값을 토대로, 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)를 정하며, 측정된 상기 피가공 기판(10)의 가공면측 몰드 두께(a)와, 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)의 차로, 상기 피가공 기판(10)의 비가공면측 총 두께(c)를 산정한다.At this time, the
그리고 산정된 상기 비가공면측 총 두께(c)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 합으로, 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 산출하고, 연삭 가공시작위치를 결정하는 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)를 기초로 상기 제1연삭수단(500), 제2연삭수단(600), 제3연삭수단(700)들이 위치하도록 한다. Then, the target thickness (e) of the substrate to be processed is calculated by the sum of the calculated total thickness (c) on the non-machined surface side and the predetermined processing target thickness (d) of the mold on the processing surface side, and the grinding processing start position is determined. The first grinding means 500 , the second grinding means 600 , and the third grinding means 700 are positioned based on the total thickness b of the
또한, 측정된 가공면측 몰드 두께(a)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 차로, 산출된 상기 피가공 기판 중 가공면측의 가공두께와, 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 기반으로 상기 제1연삭수단(500), 제2연삭수단(600), 제3연삭수단(700)들의 구동을 제어한다.In addition, the difference between the measured mold thickness (a) on the processing surface side and the predetermined processing surface side mold processing target thickness (d), the calculated processing thickness on the processing surface side among the processing target substrates, and the target thickness of the processing target substrate ( Based on e), the driving of the first grinding means 500 , the second grinding means 600 , and the third grinding means 700 is controlled.
따라서 측정된 가공면측 몰드 두께(a)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 차로, 산출된 상기 피가공 기판 중 가공면측의 가공두께와, 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 기초로 하여 상기 제어부(900)는 상기 로딩부(100), 4개의 가공테이블(300), 로봇암(400), 제1연삭수단(500), 제2연삭수단(600), 제3연삭수단(700)을 제어한다.Therefore, the difference between the measured mold thickness (a) on the processing surface side and the predetermined processing surface-side mold thickness (d), the calculated processing thickness on the processing surface side among the processing target substrates, and the target thickness (e) of the processing target substrate ) based on the
그리고 상기 제어부(900)는 상기 제4두께측정센서(610)에 의해 측정된 측정값을 토대로, 연삭된 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(e)로 정상 가공 여부를 결정하고, 연삭 가공된 피가공 기판(10)이 상기 작업대(200)에서 언로딩되도록 제어하는 것이 바람직하다.And the
본 발명의 일 실시 예에 따른 회로기판의 연삭 가공방법은 상기한 회로기판의 연삭 시스템에서 실행되는데, 도 2를 참조하여 다시 살펴보면 먼저, ⅰ)단계로, 피가공 기판 중 가공면측 몰드의 두께(a)를 측정한다.The grinding processing method of the circuit board according to an embodiment of the present invention is performed in the above-described grinding system of the circuit board. Referring back to FIG. 2, first, in step i), the thickness of the mold on the processing surface side of the substrate to be processed ( a) is measured.
이때 가공면측 몰드는 상기 피가공 기판(10) 중 하측 몰드(13)로, 상기 로딩셔틀(120)의 제1두께측정센서(121)에 의해 상기 하측 몰드(13)의 두께(a)가 측정되고, 측정된 상기 하측 몰드(13)의 두께(a) 값은 제어부(900)로 전송된다.At this time, the processing surface side mold is the
그리고 다음은 ⅱ)단계로, 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)를 측정한다.Then, in step ii), the total total thickness (b) of the
이때 상기 작업대(200)의 제2작업영역 내에 구비된 제2두께측정센서(510)에 의해 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)가 측정되고, 측정된 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)는 제어부(900)로 전송된다.At this time, the total total thickness (b) of the
그리고 다음은 ⅲ)단계로, 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)에서 가공면측 몰드인 하측 몰드(13)의 두께(a)의 차로, 상기 피가공 기판(10) 중 비가공면측의 총 두께(c)를 산정한다.And the next step is iii), the difference between the thickness (a) of the
이때 상기 제1두께측정센서(121) 및 제2두께측정센서(510)에 의해 측정된 가공면측 몰드인 하측 몰드(13)의 두께(a)와, 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)가 상기 제어부(900)로 전송되면, 상기 제어부(900)에서 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)에서 가공면측 몰드인 하측 몰드(13)의 두께(a)의 차로, 상기 피가공 기판(10) 중 비가공면측의 총 두께(c)를 산정하게 된다.At this time, the thickness (a) of the
그리고 다음은 ⅳ)단계로, 산정된 비가공면측의 총 두께(c)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 합으로, 상기 피가공 기판(10)의 목표두께(e)를 산출한다.The next step is step iv), which is the sum of the calculated total thickness (c) on the non-machined surface side and the preset processing target thickness (d) of the mold on the machined surface side, and the target thickness (e) of the
이때 상기 제어부(900)가 상기 피가공 기판(10) 중 비가공면측의 총 두께(c)를 산정하면, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)를 산정된 비가공면측의 총 두께(c)를 합하여, 상기 피가공 기판(10)의 목표두께(e)를 산출한다.At this time, when the
그리고 다음은 ⅴ)단계로, 측정된 가공면측 몰드 두께(a)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 차로, 상기 피가공 기판 중 가공면측의 연삭 가공두께를 결정한다.Then, in step v), the difference between the measured mold thickness (a) on the processing surface side and the preset processing target thickness (d) of the processing surface side mold determines the grinding thickness on the processing surface side of the substrate to be processed.
그리고 다음은 ⅵ)단계로, 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)를 기초로 연삭 가공시작위치를 결정하여, 상기 피가공 기판(10) 중 가공면측의 연삭 가공두께와, 상기 피가공 기판(10)의 목표두께(e)를 토대로 상기 피가공 기판(10)을 연삭 가공한다.Then, in step vi), the grinding processing start position is determined based on the total total thickness (b) of the
이때 상기 제어부(200)는 작업대(200)의 각 작업영역 내에 구비된 연삭수단(500, 600, 700)이 구동과 함께, 턴테이블(210) 및 가공테이블(300)의 구동을 제어하여, 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)가 피가공 기판(10)의 목표두께(e)에 부합할 때가지 연삭 가공되도록 제어한다. At this time, the
그리고 연삭 가공된 상기 피가공 기판(10)의 전체 총 두께(b)가 상기 피가공 기판(10)의 목표두께(e)를 부합하면, 상기 작업대(200)에서 연삭 가공된 상기 피가공 기판(10)을 언로딩부(800)로 이송한다.And when the total total thickness (b) of the ground
본 발명은 도면에 도시된 실시 예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiment shown in the drawings, which is only exemplary, those of ordinary skill in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.
10: 피가공 기판
11: 회로기판
12: 상측몰드
13: 하측몰드
100: 로딩부
110: 스트립로더
111: 스트립인풋
120: 로딩셔틀
121: 제1두께측정센서
200: 작업대
210: 턴테이블
211: 중앙축
220: 브러쉬모듈
300: 가공테이블
400: 로봇암
500: 제1연삭수단
510: 제2두께측정센서
600: 제2연삭수단
610: 제3두께측정센서
700: 제3연삭수단
710: 제4두께측정센서
800: 언로딩부
810: 언로딩셔틀
820: 스트립언로더
830: 매거진컨베이어
900: 제어부10: substrate to be processed 11: circuit board
12: upper mold 13: lower mold
100: loading unit 110: strip loader
111: strip input 120: loading shuttle
121: first thickness measuring sensor 200: workbench
210: turntable 211: central axis
220: brush module 300: processing table
400: robot arm 500: first grinding means
510: second thickness measuring sensor 600: second grinding means
610: third thickness measuring sensor 700: third grinding means
710: fourth thickness measuring sensor 800: unloading unit
810: unloading shuttle 820: strip unloader
830: magazine conveyor 900: control unit
Claims (9)
상기 로딩부의 인근에 배치되고, 상기 로딩부로부터 인계받은 피가공 기판의 몰드을 연삭하는 연삭수단을 구비한 작업대; 및
상기 로딩부, 작업대 및 연삭수단과 전기적으로 연결되어,
측정된 상기 피가공 기판의 가공면측 몰드 두께(a)와, 상기 피가공 기판의 전체 총 두께(b)의 차로, 상기 피가공 기판의 비가공면측 총 두께(c)를 산정하고,
산정된 상기 비가공면측 총 두께(c)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 합으로, 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 산출하며,
연삭 가공시작위치를 결정하는 상기 피가공 기판의 전체 총 두께(b)를 기초로 상기 연삭수단을 위치하고,
측정된 가공면측 몰드 두께(a)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 차로, 산출된 상기 피가공 기판 중 가공면측의 가공두께와, 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 기반으로 상기 연삭수단의 구동을 제어하는 제어부를 포함하는 회로기판의 연삭 시스템.
a loading unit for transferring the substrate to which the mold is formed on the upper and lower sides, respectively, to the designated position;
a workbench disposed in the vicinity of the loading unit and having grinding means for grinding the mold of the substrate to be processed taken over from the loading unit; and
It is electrically connected to the loading unit, the workbench and the grinding means,
Calculate the unprocessed surface side total thickness (c) of the processed substrate by the difference between the measured mold thickness (a) on the processing surface side of the processing target substrate and the total total thickness (b) of the processing target substrate,
Calculate the target thickness (e) of the substrate to be processed by the sum of the calculated total thickness (c) on the non-machined surface side and the predetermined processing target thickness (d) of the mold on the processing surface side,
Positioning the grinding means based on the total total thickness (b) of the substrate to be processed, which determines the grinding processing start position,
The difference between the measured mold thickness (a) on the processing surface side and the predetermined processing surface side mold thickness (d) Grinding system of a circuit board comprising a control unit for controlling the driving of the grinding means based on.
상기 작업대는
중심에 구비된 중앙축을 기준으로 회전하는 턴테이블을 구비하면서, 상기 중앙축을 기준으로 제1, 제2, 제3, 제4작업영역을 방사상으로 구획하며, 구획된 제1, 제2, 제3, 제4작업영역 각각에는 연삭수단을 구비하고,
방사상으로 구획된 상기 작업대의 제1, 제2, 제3, 제4작업영역 각각에 배치되고, 상기 로딩부로부터 인계받은 피가공 기판을 안착하여 지지하는 복수 개의 가공테이블과;
상기 작업영역 중 제1작업영역 일측에 구비되고, 상기 로딩부에 의해 이송된 피가공 기판을 피커로 집어 가공테이블에 안치하는 로봇암과;
상기 작업영역 중 제2작업영역에 구비되고, 상기 제2작업영역에 위치하는 가공테이블에 안치된 피가공 기판을 1차 연삭 가공하는 제1연삭수단과;
상기 작업영역 중 제3작업영역에 구비되고, 상기 제3작업영역에 위치하는 가공테이블에 안치된 피가공 기판을 2차 연삭 가공하는 제2연삭수단과;
상기 작업영역 중 제4작업영역에 구비되고, 상기 제4작업영역에 위치하는 가공테이블에 안치된 피가공 기판을 광택 연삭 가공하는 제3연삭수단;을 포함하는 회로기판의 연삭 시스템.
The method according to claim 1,
the workbench
While having a turntable rotating about a central axis provided in the center, the first, second, third, and fourth work areas are radially divided based on the central axis, and the divided first, second, third, A grinding means is provided in each of the fourth working areas,
a plurality of processing tables disposed in each of the first, second, third, and fourth working areas of the radially partitioned work table, and for seating and supporting the substrate to be processed received from the loading unit;
a robot arm provided on one side of the first work area of the work area, the robot arm picking up the substrate transferred by the loading unit with a picker and placing it on a machining table;
a first grinding means provided in a second working area of the working area and performing primary grinding processing of a substrate to be processed placed on a processing table positioned in the second working area;
a second grinding means provided in a third working area of the working area and performing secondary grinding processing of a substrate to be processed placed on a processing table positioned in the third working area;
and a third grinding means provided in a fourth work area of the work area and performing a glossy grinding process on a substrate to be processed placed on a machining table positioned in the fourth work area.
상기 로딩부는
상측, 하측에 각각 몰드를 형성하는 피가공 기판을 인계받아 해당 지정위치로 상기 피가공 기판을 인계하는 스트립 로더와;
상기 스트립 로더 인근에 배치되고, 상기 스트립 로더를 통해 인계받은 피가공 기판을 상면에 안치하여, 상기 로봇암의 피커가 위치하는 해당 지정장소로 운송하는 로딩셔틀;을 포함하는 회로기판의 연삭 시스템.
3. The method according to claim 2,
the loading part
a strip loader that takes over a substrate to be processed for forming a mold on the upper side and the lower side, respectively, and delivers the substrate to a corresponding designated position;
A circuit board grinding system comprising a; a loading shuttle disposed near the strip loader, placing the substrate to be processed through the strip loader on the upper surface, and transporting it to the designated place where the picker of the robot arm is located.
상기 로딩셔틀에 구비되어, 상기 피가공 기판의 가공면측 몰드 두께를 측정하여, 상기 제어부로 그 측정값을 출력하는 제1 두께측정센서와;
방사상 구획된 상기 작업대의 작업영역 중 제2작업영역에 구비되고, 상기 피가공 기판의 전체 총 두께를 측정하여, 상기 제어부로 그 측정값을 출력하는 제2두께측정센서와;
방사상 구획된 상기 작업대의 작업영역 중 제3작업영역에 구비되고, 상기 피가공 기판의 전체 총 두께를 측정하여, 상기 제어부로 그 측정값을 출력하는 제3두께측정센서와;
방사상 형태로 구획된 상기 작업대의 작업영역 중 제4작업영역에 구비되고, 상기 피가공 기판의 전체 총 두께를 각각 측정하여, 상기 제어부로 그 측정값을 출력하는 제4두께측정센서를 구비하는 회로기판의 연삭 시스템.
4. The method of claim 3,
a first thickness measuring sensor provided in the loading shuttle to measure the mold thickness of the processing surface side of the substrate to be processed, and output the measured value to the control unit;
a second thickness measuring sensor provided in a second working area of the radially partitioned work area of the work table, measuring the total thickness of the substrate to be processed, and outputting the measured value to the control unit;
a third thickness measuring sensor provided in a third working area of the radially partitioned work area of the work table, measuring the total thickness of the substrate to be processed, and outputting the measured value to the control unit;
A circuit having a fourth thickness measuring sensor provided in a fourth working area among the working areas of the work table partitioned in a radial shape, measuring the total thickness of the substrate to be processed, and outputting the measured value to the control unit substrate grinding system.
상기 가공테이블들은
각각 그 중심을 축으로 하여 선택적으로 회전하는 회로기판의 연삭 시스템.
3. The method according to claim 2,
The processing tables are
A grinding system for circuit boards that selectively rotates around the center of each.
상기 작업대에서 연삭 가공을 마친 피가공 기판을 매거진으로 이송하는 언로딩부;를 포함하고,
상기 로봇암은 상기 작업영역 중 제1작업영역에 위치하는 피가공 기판을 피커로 집어 상기 언로딩부로 이송하는 회로기판의 연삭 시스템.
6. The method of claim 5,
and an unloading unit for transferring the substrate to be processed after grinding on the work table to the magazine;
The robot arm is a circuit board grinding system that picks up a substrate to be processed located in a first work area of the work area with a picker and transfers it to the unloading unit.
상기 언로딩부는
상기 작업대의 인근에 구비되고, 상기 로봇암에 의해 이송된 피가공 기판을 상면을 안치하여, 해당 지정장소로 운송하는 언로딩셔틀과;
상기 언로딩셔틀의 인근에 배치되고, 상기 언로딩셔틀에 의해 운송된 피가공 기판을 인계받아 해당 지정장소로 이송하는 스트립 언로더와;
상기 스크립 언로더의 인근에 배치되고, 상기 스크립 언로더가 인계하는 피가공 기판을 매거진으로 이송하는 매거진 컨베이어를 포함하는 회로기판의 연삭 시스템.
7. The method of claim 6,
The unloading unit
an unloading shuttle provided in the vicinity of the workbench, placing the substrate to be processed transferred by the robot arm on its upper surface and transporting it to a designated place;
a strip unloader disposed in the vicinity of the unloading shuttle, the strip unloader taking over the substrate transported by the unloading shuttle and transferring it to a corresponding designated place;
and a magazine conveyor disposed in the vicinity of the script unloader and configured to transport the substrate to be processed by the script unloader to the magazine.
상기 작업대의 작업영역 중 제1작업영역에는
상기 제1작업영역에 위치하는 가공테이블의 평면을 크리닝하는 브러쉬모듈을 구비하는 회로기판의 연삭 시스템.
3. The method according to claim 2,
In the first work area of the work area of the workbench,
A grinding system for a circuit board having a brush module for cleaning the plane of the processing table located in the first working area.
ⅱ)상기 피가공 기판의 전체 총 두께(b)를 측정하는 단계;
ⅲ)상기 피가공 기판의 전체 총 두께(b)에서 가공면측 몰드의 두께(a)의 차로, 상기 피가공 기판 중 비가공면측의 총 두께(c)를 산정하는 단계;
ⅳ)산정된 비가공면측의 총 두께(c)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 합으로, 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 산출하는 단계;
ⅴ)측정된 가공면측 몰드 두께(a)와, 기설정된 가공면측 몰드의 가공목표두께(d)의 차로, 상기 피가공 기판 중 가공면측의 연삭 가공두께를 결정하는 단계; 및
ⅵ)상기 피가공 기판의 전체 총 두께(b)를 기초로 연삭 가공시작위치를 결정하여, 상기 피가공 기판 중 가공면측의 연삭 가공두께와, 상기 피가공 기판의 목표두께(e)를 토대로 연삭수단을 제어하여 상기 피가공 기판을 연삭 가공하는 단계;를 포함하는 회로기판의 연삭 가공방법.i) measuring the thickness (a) of the mold on the processing surface side of the substrate to be processed;
ii) measuring the total total thickness (b) of the substrate to be processed;
iii) calculating the total thickness (c) of the non-processed side of the substrate by the difference of the thickness (a) of the mold on the processing surface side from the total thickness (b) of the substrate to be processed;
iv) calculating a target thickness (e) of the substrate to be processed as the sum of the calculated total thickness (c) of the non-machined surface side and the preset processing target thickness (d) of the mold on the processing surface side;
ⅴ) determining the grinding thickness of the processing surface side of the substrate to be processed by the difference between the measured processing surface side mold thickness (a) and the preset processing surface side mold processing target thickness (d); and
ⅵ) The grinding processing start position is determined based on the total thickness (b) of the substrate to be processed, and the grinding processing thickness on the processing surface side of the substrate to be processed and the target thickness (e) of the substrate to be processed are ground. A grinding processing method of a circuit board comprising a; controlling the means to grind the substrate to be processed.
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