KR20220099897A - Machining apparatus and method for taking out workpiece - Google Patents

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나츠코 하나무라
사토시 하나지마
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가부시기가이샤 디스코
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Abstract

The present invention provides a machining apparatus and a method for taking out a workpiece, which are able to, when taking out a workpiece after a machining process, more strongly discharge water onto a maintaining surface, and more definitely take out the workpiece. According to the present invention, a maintaining table (10) of the machining apparatus (1) comprises: a porous plate (11) having a central area (13-1) adsorbing and maintaining the workpiece (100); a frame body (12) having a concave unit (14) accommodating the porous plate (11); an adsorption line (16) formed on a bottom surface (14-1) of the frame body (12) and allowing the central area (13-1) and an adsorption source (17) to communicate with each other; and an air supply line (18) communicating with an air supply source (19) and discharging air from an outer circumferential area (13-2) surrounding the central area (13-1).

Description

가공 장치 및 피가공물의 반출 방법{MACHINING APPARATUS AND METHOD FOR TAKING OUT WORKPIECE}Processing device and method of discharging the workpiece {MACHINING APPARATUS AND METHOD FOR TAKING OUT WORKPIECE}

본 발명은 유지 테이블로부터 피가공물을 반출하는 가공 장치 및 피가공물의 반출 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a processing apparatus for unloading a workpiece from a holding table and a method for unloading the workpiece.

유지 테이블로 유지한 피가공물을 가공하고, 가공 후의 피가공물을 유지 테이블로부터 반출하는 가공 장치가 알려져 있다(예컨대, 특허문헌 1, 2 참조).The processing apparatus which processes the to-be-processed object hold|maintained by the holding table, and carries out the to-be-processed object after a process from the holding table is known (for example, refer patent document 1, 2).

특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2016-127195호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2016-127195 특허문헌 2: 일본 특허 제6309371호 공보Patent Document 2: Japanese Patent No. 6309371

가공 후에 유지 테이블로부터 피가공물을 반출할 때에, 피가공물과 유지 테이블의 유지면 사이에 들어간 가공용의 액체(물)의 표면 장력에 의해 반출할 수 없다고 하는 문제가 있었다. 그래서, 유지면에 모인 물을 발출하기 위해 피가공물의 반출 시에 유지면에 부압을 도입하여, 피가공물을 흡인 유지하면서 물을 흡인함으로써 물을 발출하여, 표면 장력에 의한 고정을 해제하고 있지만, 피가공물과 유지면 사이가 진공이 된 상태에서 아무리 흡인하여도 유지면에 남은 물을 전부 제거할 수 없어, 유지면으로부터의 반출 시 에러가 발생하는 경우가 있다고 하는 문제가 있었다.When a workpiece was taken out from the holding table after processing, there was a problem that it could not be taken out due to the surface tension of the processing liquid (water) entered between the workpiece and the holding surface of the holding table. Therefore, in order to drain the water collected on the holding surface, negative pressure is introduced to the holding surface when the workpiece is taken out, and water is extracted by sucking the water while sucking and holding the workpiece to release the fixing by the surface tension, There was a problem in that all the water remaining on the holding surface could not be removed no matter how much suction was performed in a state where a vacuum was created between the workpiece and the holding surface, and an error might occur when discharging from the holding surface.

본 발명은 이러한 문제점을 감안하여 이루어진 것이며, 그 목적은 가공 후의 피가공물을 반출할 때에, 유지면 상의 물 발출을 보다 강력하게 행하여, 피가공물의 반출을 보다 확실하게 행할 수 있는 가공 장치 및 피가공물의 반출 방법을 제공하는 것이다.The present invention has been made in view of these problems, and an object thereof is a processing apparatus and a workpiece capable of more reliably discharging the workpiece by more powerfully draining water on the holding surface when the workpiece is unloaded after processing. to provide a method for exporting

전술한 과제를 해결하여, 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 가공 장치는, 피가공물을 유지하는 유지면을 갖는 유지 테이블과, 상기 유지 테이블에 유지된 피가공물을 가공하는 가공 유닛과, 상기 가공 유닛으로 가공되는 가공점에 가공용의 액체를 공급하는 액체 공급 노즐과, 상기 유지 테이블로부터 피가공물을 반출하는 반출 유닛과, 제어 유닛을 갖는 가공 장치로서, 상기 유지 테이블은, 피가공물을 흡인 유지하는 중앙 영역을 갖는 포러스판과, 상기 포러스판을 수용하는 오목부를 갖는 프레임체와, 상기 프레임체의 저면에 형성되어 상기 중앙 영역과 흡인원을 연통시키는 흡인 라인과, 상기 중앙 영역을 위요하는 외주 영역으로부터 에어를 분출시키는, 에어 공급원과 연통된 에어 공급 라인을 구비하고, 상기 제어 유닛은, 상기 흡인 라인에 의해 상기 포러스판과 상기 흡인원을 연통시켜 상기 중앙 영역에서 피가공물을 흡인하여, 상기 포러스판과 피가공물 사이의 물을 제거하면서, 상기 에어 공급 라인에 에어를 공급하여, 상기 외주 영역으로부터 에어를 분출시켜 피가공물의 외주부를 상기 유지면으로부터 부상시켜, 상기 포러스판과 피가공물 사이의 물의 표면 장력을 해제한 상태에서, 상기 반출 유닛에 의해 피가공물을 상기 유지 테이블로부터 반출하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems and achieve the object, the processing apparatus of the present invention includes: a holding table having a holding surface for holding a work; a machining unit for machining the work held by the holding table; A processing apparatus comprising: a liquid supply nozzle for supplying a processing liquid to a processing point to be processed by a unit; a discharging unit for unloading a workpiece from the holding table; A porous plate having a central region, a frame having a recess for accommodating the porous plate, a suction line formed on a bottom surface of the frame to communicate the central region and a suction source, and an outer peripheral region surrounding the central region and an air supply line communicating with an air supply source for ejecting air from the control unit, wherein the control unit communicates the porous plate and the suction source with the suction line to suck the workpiece in the central region, the porous While removing the water between the plate and the workpiece, air is supplied to the air supply line, and the air is blown out from the outer peripheral region to float the outer peripheral part of the workpiece from the holding surface, so that the water between the porous plate and the workpiece is removed. It is characterized in that the workpiece is unloaded from the holding table by the unloading unit in a state in which the surface tension is released.

전술한 과제를 해결하여, 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 피가공물의 반출 방법은, 피가공물을 유지하는 유지면을 갖는 유지 테이블과, 상기 유지 테이블에 유지된 피가공물을 가공하는 가공 유닛과, 상기 가공 유닛으로 가공되는 가공점에 가공용의 액체를 공급하는 액체 공급 노즐과, 상기 유지 테이블로부터 피가공물을 반출하는 반출 유닛을 갖는 가공 장치에 있어서, 피가공물을 상기 반출 유닛에 의해 상기 유지 테이블로부터 반출하는 반출 방법으로서, 상기 유지 테이블은, 피가공물을 흡인 유지하는 중앙 영역을 갖는 포러스판과, 상기 포러스판을 수용하는 오목부를 갖는 프레임체와, 상기 프레임체의 저면에 형성되어 상기 중앙 영역과 흡인원을 연통시키는 흡인 라인과, 상기 중앙 영역을 위요하는 외주 영역으로부터 에어를 분출시키는, 에어 공급원과 연통된 에어 공급 라인을 구비하고, 상기 흡인 라인에 의해 상기 포러스판과 상기 흡인원을 연통시켜 상기 중앙 영역에서 피가공물을 흡인하여, 상기 포러스판과 피가공물 사이의 물을 제거하면서, 상기 에어 공급 라인에 에어를 공급하여 상기 외주 영역으로부터 에어를 분출시켜 피가공물의 외주부만을 상기 유지면으로부터 부상시켜, 상기 포러스판과 피가공물 사이의 물의 표면 장력을 해제하는 외주 부상 단계와, 상기 반출 유닛에 의해 피가공물을 유지하는 피가공물 유지 단계와, 상기 피가공물 유지 단계 및 상기 외주 부상 단계 후, 상기 중앙 영역에 있어서의 피가공물의 흡인을 차단하여 상기 유지 테이블로부터 피가공물 전체를 이격시켜 상기 유지 테이블로부터 피가공물을 반출하는 반출 단계를 구비한다.In order to solve the above-mentioned problem and achieve the object, the method for discharging a to-be-processed object of this invention is a holding table which has a holding surface which holds a to-be-processed, A processing unit which processes the to-be-processed object hold|maintained by the said holding table, , a processing apparatus having a liquid supply nozzle for supplying a processing liquid to a processing point processed by the processing unit, and a unloading unit for unloading a workpiece from the holding table, wherein the processing unit transfers the workpiece to the holding table A method for unloading from a porous plate, wherein the holding table includes: a porous plate having a central region for sucking and holding a workpiece; a frame body having a concave portion for accommodating the porous plate; and a suction line communicating with the suction source, and an air supply line communicating with an air supply source for blowing air from an outer peripheral region surrounding the central region, wherein the porous plate and the suction source are communicated by the suction line to suck the workpiece in the central region to remove water between the porous plate and the workpiece, supply air to the air supply line to blow air from the outer peripheral region, and only the outer periphery of the workpiece from the holding surface An outer flotation step of releasing the surface tension of water between the porous plate and the work piece by flotation, a work piece holding step of holding the work piece by the discharging unit, and the work piece holding step and after the outer circumferential floating step, and a discharging step of removing the work piece from the holding table by blocking the suction of the work piece in the central region to separate the entire work piece from the holding table.

본 발명은 가공 후의 피가공물을 반출할 때에, 유지면 상의 물 발출을 보다 강력하게 행하여, 피가공물의 반출을 보다 확실하게 행할 수 있다.In the present invention, when the processed object is taken out, the water on the holding surface can be more strongly drained, and the processed object can be taken out more reliably.

도 1은 실시형태에 따른 가공 장치의 구성예를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1의 가공 장치의 주요부를 나타내는 단면도이다.
도 3은 도 1의 가공 장치(1)의 주요부를 나타내는 사시도이다.
도 4는 실시형태에 따른 피가공물의 반출 방법의 처리 순서의 일례를 나타내는 흐름도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a perspective view which shows the structural example of the processing apparatus which concerns on embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a main part of the processing apparatus of FIG. 1 .
3 : is a perspective view which shows the principal part of the processing apparatus 1 of FIG.
It is a flowchart which shows an example of the processing sequence of the to-be-processed object carrying-out method which concerns on embodiment.

본 발명을 실시하기 위한 형태(실시형태)에 대해, 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다. 이하의 실시형태에 기재한 내용에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에 기재한 구성 요소에는, 당업자가 용이하게 상정할 수 있는 것, 실질적으로 동일한 것이 포함된다. 또한, 이하에 기재한 구성은 적절하게 조합하는 것이 가능하다. 또한, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 구성의 여러 가지의 생략, 치환 또는 변경을 행할 수 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION The form (embodiment) for implementing this invention is demonstrated in detail, referring drawings. This invention is not limited by the content described in the following embodiment. In addition, the components described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art, and those that are substantially the same. In addition, it is possible to combine the structures described below as appropriate. In addition, various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the gist of the present invention.

〔실시형태〕[Embodiment]

본 발명의 실시형태에 따른 가공 장치(1) 및 피가공물의 반출 방법을 도면에 기초하여 설명한다. 도 1은 실시형태에 따른 가공 장치(1)의 구성예를 나타내는 사시도이다. 도 2는 도 1의 가공 장치(1)의 주요부를 나타내는 단면도이다. 도 3은 도 1의 가공 장치(1)의 주요부를 나타내는 사시도이다. 실시형태에 따른 가공 장치(1)는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 유지 테이블(10)과, 가공 유닛(20)과, 액체 공급 노즐(30)과, 제1 반출 유닛(40)과, 제2 반출 유닛(50)과, 제어 유닛(60)과, 표시 유닛(70)과, 세정 유닛(80)과, 카세트 배치대(90)를 갖는다.The processing apparatus 1 which concerns on embodiment of this invention and the carrying out method of a to-be-processed object are demonstrated based on drawing. 1 : is a perspective view which shows the structural example of the processing apparatus 1 which concerns on embodiment. 2 : is sectional drawing which shows the principal part of the processing apparatus 1 of FIG. 3 : is a perspective view which shows the principal part of the processing apparatus 1 of FIG. As shown in FIG. 1 , a processing apparatus 1 according to the embodiment includes a holding table 10 , a processing unit 20 , a liquid supply nozzle 30 , a first discharging unit 40 , and a first 2 It has a discharging unit 50 , a control unit 60 , a display unit 70 , a cleaning unit 80 , and a cassette mounting table 90 .

본 실시형태에 있어서, 가공 장치(1)가 가공하는 가공 대상인 피가공물(100)은, 예컨대, 실리콘, 사파이어, 실리콘카바이드(SiC), 갈륨비소, 유리 등을 모재로 하는 원판형의 반도체 웨이퍼나 광 디바이스 웨이퍼 등이다. 피가공물(100)은, 도 1에 나타내는 바와 같이, 평탄한 표면(101)의 격자형으로 형성되는 복수의 분할 예정 라인(102)에 의해 구획된 영역에 칩 사이즈의 디바이스(103)가 형성되어 있다. 본 발명에 있어서 피가공물(100)은, 점착 테이프에 접착되지 않고, 피가공물(100)의 단체로 처리되어도 좋다. 예컨대 완전히 분할하지 않는 깊이의 홈을 형성하는 하프 컷트를 정밀도 좋게 실시하고자 하는 경우는 점착 테이프의 두께 편차에 영향을 받지 않도록 하기 위해, 피가공물(100)의 단체로 가공되는 경우가 많다. 또한, 피가공물(100)은, 표면(101)의 이면의 이면(104)에 점착 테이프가 접착되어, 점착 테이프의 바깥 가장자리부에 환형 프레임이 장착되어도 좋다. 또한, 환형 프레임에 장착되지 않고, 동형태의 점착 테이프에 접착되어 있어도 좋다. 또한, 피가공물(100)은, 본 발명에서는, 수지에 의해 밀봉된 디바이스를 복수 갖는 직사각 형상의 패키지 기판, 세라믹스판, 또는 유리판 등이어도 좋다.In the present embodiment, the processing target 100 to be processed by the processing apparatus 1 is, for example, a disk-shaped semiconductor wafer using silicon, sapphire, silicon carbide (SiC), gallium arsenide, glass or the like as a base material. optical device wafers and the like. 1, as shown in FIG. 1, a chip-sized device 103 is formed in a region partitioned by a plurality of division lines 102 formed in a lattice shape on a flat surface 101. . In this invention, the to-be-processed object 100 may not be adhere|attached to an adhesive tape, but may be processed as a single-piece|unit of the to-be-processed object 100. As shown in FIG. For example, when half-cut for forming a groove having a depth that is not completely divided is to be performed with high precision, the workpiece 100 is often processed as a single piece in order not to be affected by the thickness variation of the adhesive tape. In addition, the to-be-processed object 100 may adhere an adhesive tape to the back surface 104 of the back surface of the front surface 101, and the annular frame may be attached to the outer edge part of the adhesive tape. Moreover, it may not be attached to an annular frame, but may be adhere|attached to the adhesive tape of the same shape. Further, in the present invention, the workpiece 100 may be a rectangular package substrate having a plurality of devices sealed with a resin, a ceramic plate, a glass plate, or the like.

유지 테이블(10)은, 도 2에 나타내는 바와 같이, 포러스판(11)과, 프레임체(12)와, 흡인 라인(16)과, 에어 공급 라인(18)을 구비한다. 포러스판(11)은, 다수의 포러스 구멍을 구비한 포러스 세라믹 등으로 원반 형상으로 형성되어 있다. 프레임체(12)는, 스테인레스 등으로 원반형으로 형성되어 있고, 중앙에 포러스판(11)을 수용하는 오목부(14)가 형성되어 있다. 포러스판(11)은, 프레임체(12)의 오목부(14)에 끼워 넣어진다.As shown in FIG. 2 , the holding table 10 includes a porous plate 11 , a frame body 12 , a suction line 16 , and an air supply line 18 . The porous plate 11 is formed in a disk shape with a porous ceramic or the like provided with a large number of porous holes. The frame body 12 is formed in a disk shape of stainless steel or the like, and a concave portion 14 for accommodating the porous plate 11 is formed in the center. The porous plate 11 is fitted into the recessed portion 14 of the frame body 12 .

유지 테이블(10)은, 피가공물(100)이 배치되고, 배치된 피가공물(100)을 유지하는 유지면(13)을 갖는다. 유지면(13)은, 포러스판(11)의 상면과, 프레임체(12)의 상면에 의해 구성된다. 포러스판(11)의 상면과 프레임체(12)의 상면은, 동일 평면 상에 배치되어 있고, 또한, 수평면인 XY 평면에 평행하게 형성되어 있다. 유지면(13)은, 본 실시형태에서는, 피가공물(100)이 표면(101)을 상방을 향하게 하여 배치되고, 배치된 피가공물(100)을 이면(104)측으로부터 직접 유지한다. 프레임체(12)의 상면은, 피가공물(100)보다 포러스판(11)의 직경이 작은 경우, 포러스판(11)으로부터 비어져 나온 피가공물(100)의 외주부를 지지한다.The holding table 10 has the holding surface 13 on which the to-be-processed object 100 is arrange|positioned, and the arrange|positioned to-be-processed object 100 is hold|maintained. The holding surface 13 is constituted by the upper surface of the porous plate 11 and the upper surface of the frame body 12 . The upper surface of the porous plate 11 and the upper surface of the frame body 12 are arranged on the same plane and are formed parallel to the XY plane, which is a horizontal plane. In this embodiment, the holding surface 13 holds the to-be-processed object 100 with the surface 101 facing upward, and hold|maintains the arrange|positioned to-be-processed object 100 directly from the back surface 104 side. The upper surface of the frame body 12 supports the outer peripheral portion of the to-be-processed object 100 protruding from the porous plate 11 when the diameter of the porous plate 11 is smaller than that of the to-be-processed object 100 .

흡인 라인(16)은, 도 2에 나타내는 바와 같이, 프레임체(12)의 오목부(14)의 저면(14-1)의 중앙 부분(15-1)에 형성되며, 흡인 밸브(16-1)를 통해 포러스판(11)의 중앙 영역(13-1)과 흡인원(17)을 연통시킨다. 포러스판(11)의 중앙 영역(13-1)은, 도 2에 나타내는 바와 같이, 흡인 밸브(16-1)를 개방하여 흡인 라인(16)에 의해 흡인원(17)으로부터의 부압이 도입됨으로써, 배치된 피가공물(100)을 흡인 유지하는 흡인 에어리어가 된다.The suction line 16 is formed in the central part 15-1 of the bottom surface 14-1 of the recessed part 14 of the frame body 12, and the suction valve 16-1, as shown in FIG. ) through the central region 13-1 of the porous plate 11 and the suction source 17 are communicated. As shown in FIG. 2, the central region 13-1 of the porous plate 11 opens the suction valve 16-1 and the negative pressure from the suction source 17 is introduced through the suction line 16. , becomes a suction area for holding the arranged workpiece 100 by suction.

에어 공급 라인(18)은, 도 2에 나타내는 바와 같이, 프레임체(12)의 오목부(14)의 저면(14-1)의 외주 부분(15-2)에 형성되며, 에어 공급 밸브(18-1)를 통해 포러스판(11)의 중앙 영역(13-1)을 위요하는 외주 영역(13-2)과 에어 공급원(19)을 연통시켜, 중앙 영역(13-1)을 위요하는 외주 영역(13-2)으로부터 에어를 분출시킨다. 여기서, 포러스판(11)의 상면은, 중앙 영역(13-1)과 외주 영역(13-2)을 갖고, 외주 영역(13-2)은, 중앙 영역(13-1)의 외주측에 위치하고 있다. 에어 공급 라인(18)은, 도 2에 나타내는 예에 한정되지 않고, 오목부(14)를 위요하는 프레임체(12)의 내측면(14-2)이나 프레임체(12)의 환형 볼록부(14-3)의 상면으로부터 에어가 분출되도록 형성되어도 좋다.The air supply line 18 is formed in the outer peripheral part 15-2 of the bottom face 14-1 of the recessed part 14 of the frame body 12, as shown in FIG. 2, The air supply valve 18 The air supply 19 and the outer peripheral region 13-2 surrounding the central region 13-1 of the porous plate 11 communicate with each other through -1), and the peripheral region surrounding the central region 13-1 Air is blown out from (13-2). Here, the upper surface of the porous plate 11 has a central region 13-1 and an outer peripheral region 13-2, and the outer peripheral region 13-2 is located on the outer peripheral side of the central region 13-1. have. The air supply line 18 is not limited to the example shown in FIG. 2, The inner surface 14-2 of the frame body 12 surrounding the recessed part 14, or the annular convex part ( 14-3) may be formed so that air is ejected from the upper surface.

여기서, 본 실시형태에서는 예컨대, 외주 부분(15-2)은, 저면(14-1)과 동심이며, 저면(14-1)의 내직경의 절반의 원의 외측의 영역의 부분을 가리킨다. 또한, 중앙 부분(15-1)은, 저면(14-1)에 있어서 에어 공급 라인(18)을 형성한 위치보다 직경 방향의 내측의 영역의 부분을 가리킨다.Here, in this embodiment, for example, the outer peripheral part 15-2 is concentric with the bottom surface 14-1, and points out the part of the area|region outside the half circle of the inner diameter of the bottom surface 14-1. In addition, the center part 15-1 points out the part of the area|region inside the radial direction rather than the position where the air supply line 18 was formed in the bottom surface 14-1.

유지 테이블(10)에 있어서, 도 2에 나타내는 바와 같이, 흡인 밸브(16-1)를 개방하여 흡인 라인(16)에 의해 흡인원(17)으로부터의 부압이 도입되고, 더욱이, 에어 공급 밸브(18-1)를 개방하여 에어 공급 라인(18)에 의해 에어 공급원(19)으로부터의 에어가 도입되면, 유지면(13)의 중앙 영역(13-1)은, 유지면(13) 상의 피가공물(100)을 흡인하면서, 유지면(13)과 피가공물(100) 사이에 들어간 가공용의 액체(35)를 흡인하여 제거하는 흡인 에어리어가 되고, 외주 영역(13-2)은, 중앙 영역(13-1)을 둘러싸며, 적어도 1개소에 에어를 분출시키는 에어분출구를 갖고, 유지면(13) 상의 피가공물(100)의 외주부를 유지면(13)으로부터 부상시키는 분출 영역이 된다.In the holding table 10, as shown in FIG. 2, the suction valve 16-1 is opened and the negative pressure from the suction source 17 is introduced by the suction line 16, and further, the air supply valve ( When the air from the air supply source 19 is introduced by the air supply line 18 by opening 18-1), the central region 13-1 of the holding surface 13 is a workpiece on the holding surface 13. While suctioning (100), it becomes a suction area for sucking and removing the processing liquid (35) that has entered between the holding surface (13) and the workpiece (100), and the outer peripheral region (13-2) is the central region (13) -1), it has an air jet port for blowing air at at least one location, and serves as a blowing area for floating the outer periphery of the workpiece 100 on the holding surface 13 from the holding surface 13 .

또한, 포러스판(11)의 상면의 중앙 영역(13-1)과 외주 영역(13-2)의 경계는, 본 실시형태에서는, 흡인 라인(16) 및 에어 공급 라인(18)이 형성된 위치 및 흡인 라인(16)으로부터의 부압의 압력값(게이지압) 및 에어 공급 라인(18)으로부터의 에어의 공급량이나 공급압 등에 따라 변한다.Further, the boundary between the central region 13-1 and the outer peripheral region 13-2 of the upper surface of the porous plate 11 is, in this embodiment, the position where the suction line 16 and the air supply line 18 are formed, and It changes depending on the pressure value (gauge pressure) of the negative pressure from the suction line 16 and the amount of air supplied from the air supply line 18, the supply pressure, and the like.

유지 테이블(10)은, 도시하지 않는 X축 이동 유닛에 의해 수평 방향의 일방향인 X축 방향으로 이동 가능하게 마련되어 있다. 유지 테이블(10)은, X축 이동 유닛에 의해 X축 방향을 따라 이동함으로써, 도 1에 나타내는 바와 같이, 피가공물(100)을 반입 및 반출하는 반출입 영역(3)과, 피가공물(100)을 가공 유닛(20)에 의해 가공하는 가공 영역(4) 사이를 오간다. 유지 테이블(10)은, 도시하지 않는 회전 구동원에 의해 연직 방향이며 XY 평면에 직교하는 Z축 둘레로 회전 가능하게 마련되어 있다.The holding table 10 is provided so that it can move in the X-axis direction which is one horizontal direction by an X-axis movement unit (not shown). The holding table 10 is moved along the X-axis direction by the X-axis moving unit, so that, as shown in FIG. 1 , the carrying-in/out area 3 for carrying in and carrying out the to-be-processed object 100, and the to-be-processed object 100 moves between the machining areas 4 to be machined by the machining unit 20 . The holding table 10 is provided rotatably around the Z axis perpendicular to the XY plane in the vertical direction by a rotation drive source (not shown).

가공 유닛(20)은, 도 1에 나타내는 바와 같이 가공 영역(4)에 마련되어 있고, 가공 영역(4)에 위치된 유지 테이블(10)의 유지면(13)에서 유지된 피가공물(100)을 가공한다. 가공 유닛(20)은, 본 실시형태에서는, 스핀들의 선단에 장착된 절삭 블레이드를 갖고, 스핀들에 의해 수평 방향의 별도의 일방향이며 X축 방향에 직교하는 Y축 방향과 평행한 축심 둘레의 회전 동작이 부가된 절삭 블레이드로, 가공 영역(4)에 위치된 유지 테이블(10)에 유지된 피가공물(100)을 예컨대 분할 예정 라인(102)을 따라 절삭하는 절삭 유닛이다.The processing unit 20 is provided in the processing region 4 as shown in FIG. 1 and holds the workpiece 100 held by the holding surface 13 of the holding table 10 positioned in the processing region 4 . process In the present embodiment, the machining unit 20 has a cutting blade attached to the tip of the spindle, and rotates around an axis parallel to the Y-axis direction perpendicular to the X-axis direction and in another horizontal direction by the spindle. With this added cutting blade, it is a cutting unit which cuts the to-be-processed object 100 held on the holding table 10 located in the processing area|region 4 along the dividing line 102, for example.

또한, 가공 유닛(20)은, 본 발명에서는 이러한 절삭 유닛에 한정되지 않고, 예컨대, 스핀들의 선단에 장착된 연삭 휠을 갖고, 스핀들에 의해 Z축 방향과 평행한 축심 둘레의 회전 동작이 부가된 연삭 휠로, 가공 영역(4)에 위치된 유지 테이블(10)에 유지된 피가공물(100)의 예컨대 이면(104)측을 연삭하는 연삭 유닛이어도 좋다. 또한, 가공 유닛(20)은, 스핀들의 선단에 장착된 연마 패드를 갖고, 스핀들에 의해 Z축 방향과 평행한 축심 둘레의 회전 동작이 부가된 연마 패드로, 가공 영역(4)에 위치된 유지 테이블(10)에 유지된 피가공물(100)의 예컨대 이면(104)측을 연마하는 연마 유닛이어도 좋다.In addition, the machining unit 20 is not limited to such a cutting unit in the present invention, and for example, has a grinding wheel mounted on the tip of the spindle, and rotational motion around the axis parallel to the Z-axis direction is added by the spindle. It may be a grinding unit which grinds, for example, the back surface 104 side of the to-be-processed object 100 held on the holding table 10 located in the processing area|region 4 with a grinding wheel. Further, the processing unit 20 is a polishing pad having a polishing pad mounted on the tip of the spindle, and a polishing pad to which a rotational operation about an axis parallel to the Z-axis direction is added by the spindle, and a holding positioned in the processing region 4 . A polishing unit for polishing, for example, the back surface 104 side of the to-be-processed object 100 held on the table 10 may be used.

액체 공급 노즐(30)은, 가공 유닛(20)에 인접하여 가공 영역(4)에 마련되어, 도시하지 않는 액체 공급원으로부터 공급되는 가공용의 액체(35)를, 피가공물(100)에 있어서 가공 유닛(20)으로 가공되는 가공점 및 가공점의 근방의 영역에 공급한다. 가공점은, 가공 유닛(20)이 전술한 절삭 유닛인 경우, 피가공물(100)이 절삭 블레이드로 절삭되어 있는 점이다. 가공점은, 가공 유닛(20)이 연삭 유닛이나 연마 유닛인 경우, 피가공물(100)이 연삭 휠이나 연마 패드로 연삭이나 연마되어 있는 면 상의 임의의 점이다. 가공용의 액체(35)는, 가공 유닛(20)의 가공의 종류나 조건, 사양 등에 따라 적절하게 선택하여 사용할 수 있고, 본 실시형태에서는, 절삭수, 연삭수, 연마수로서 사용하는 물(순수)이다.The liquid supply nozzle 30 is provided in the processing region 4 adjacent to the processing unit 20 and supplies the processing liquid 35 supplied from a liquid supply source (not shown) to the processing unit ( 100 ) in the processing unit ( 100 ). 20) to the processing point and the area near the processing point. The machining point is a point where the workpiece 100 is cut with a cutting blade when the machining unit 20 is the aforementioned cutting unit. The processing point is any point on the surface where the workpiece 100 is ground or polished with a grinding wheel or a polishing pad when the processing unit 20 is a grinding unit or a polishing unit. The processing liquid 35 can be appropriately selected and used according to the type, condition, specification, etc. of the processing of the processing unit 20, and in the present embodiment, water (pure water) used as cutting water, grinding water, and grinding water. )to be.

제1 반출 유닛(40)은, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 제1 반출 아암(41)과, Y축 이동 유닛(42)과, Z축 이동 유닛(43)과, 판부재(44)와, 홈(45)과, 파지부(46)와, 에어 공급원(47)과, 에어 공급 라인(48)을 갖는다. 제1 반출 아암(41)은, 상방측이 Z축 방향을 따라 연장되며, 하방측이 X축 방향을 따라 연장되는 L자형의 부재이고, 상방이 Z축 이동 유닛(43)을 통해 Y축 이동 유닛(42)에 접속되어 있고, 하방에 판부재(44)가 고정되어 있다.1 and 2, the 1st carrying out unit 40 is the 1st carrying out arm 41, the Y-axis movement unit 42, the Z-axis movement unit 43, and the plate member 44. ), a groove 45 , a gripping part 46 , an air supply source 47 , and an air supply line 48 . The first carry-out arm 41 is an L-shaped member with an upper side extending along the Z-axis direction and a lower side extending along the X-axis direction, and the upper side is moved along the Y-axis via the Z-axis movement unit 43 . It is connected to the unit 42, and the plate member 44 is being fixed below.

Y축 이동 유닛(42)은, Z축 이동 유닛(43)과 함께 제1 반출 아암(41)을 Y축 방향을 따라 이동시킨다. Z축 이동 유닛(43)은, 제1 반출 아암(41)을 Z축 방향을 따라 이동시킨다. Y축 이동 유닛(42) 및 Z축 이동 유닛(43)은, 각각, 예컨대, Y축 및 Z축의 축심 둘레로 회전 가능하게 마련된 주지의 볼나사, 볼나사를 축심 둘레로 회전시키는 주지의 펄스 모터 및 제1 반출 아암(41)을 Y축 방향 또는 Z축 방향으로 이동 가능하게 지지하는 주지의 가이드 레일을 구비하여 구성되어 있다.The Y-axis moving unit 42 moves the first carrying-out arm 41 along the Y-axis direction together with the Z-axis moving unit 43 . The Z-axis moving unit 43 moves the first carrying-out arm 41 along the Z-axis direction. The Y-axis movement unit 42 and the Z-axis movement unit 43 are, for example, a well-known ball screw provided rotatably about the Y-axis and Z-axis axis centers, respectively, and a well-known pulse motor for rotating the ball screw around the axis centers. and the well-known guide rail which supports the 1st carrying out arm 41 movably in a Y-axis direction or a Z-axis direction, and is comprised.

판부재(44)는, 도 1 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 원판형으로 형성되어 있고, 상방측이 제1 반출 아암(41)에 지지되어 있고, 하방측에는, 중앙으로부터 방사형으로 복수개(도 1 및 도 3에 나타내는 예에서는 3개)의 홈(45)이 형성되어 있다. 판부재(44)는, 후술하는 카세트 배치대(90)에 배치된 카세트(95)의 개구와 대향하는 위치에, 피가공물(100)에 장착된 환형 프레임(106)을 파지하는 파지부(46)가 마련되어 있다.As shown in Figs. 1 and 3, the plate member 44 is formed in a disk shape, the upper side is supported by the first carry-out arm 41, and a plurality of plate members 44 are radially from the center on the lower side (Fig. 1). And in the example shown in FIG. 3, the groove|channel 45 of 3) is formed. The plate member 44 has a gripping portion 46 for gripping the annular frame 106 mounted on the workpiece 100 at a position opposite to the opening of the cassette 95 disposed on the cassette mounting table 90 to be described later. ) is provided.

홈(45)은, 도 2 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 판부재(44)의 내부에 형성된 에어 공급 라인(48)을 통해, 에어 공급원(47)과 연통하고 있다. 홈(45)은, 에어 공급 라인(48)과의 접속 부분에 있어서, 홈(45)이 연장되는 방향에 직교하는 단면에 있어서의 홈(45)의 단면적이, 에어가 흐르는 방향에 직교하는 단면에 있어서의 에어 공급 라인(48)의 단면적보다 커지도록 형성된다.The groove 45 is communicating with the air supply source 47 through the air supply line 48 formed in the inside of the plate member 44, as shown in FIG.2 and FIG.3. The cross section of the groove 45 is a cross section orthogonal to the direction in which the air flows in the cross section orthogonal to the direction in which the groove 45 extends in the connecting portion with the air supply line 48 . It is formed so that it may become larger than the cross-sectional area of the air supply line 48 in.

에어 공급원(47)으로부터 공급된 에어는, 홈(45) 내를 중앙으로부터 방사 방향을 향하여 고속으로 흐른다. 에어 공급원(47)으로부터 공급된 에어는, 홈(45)과 에어 공급 라인(48)의 단면적의 관계로부터, 에어 공급 라인(48)으로부터 홈(45)에 흐를 때에 가속하여, 홈(45)의 양편의 주위의 공기를 흡인하면서 홈(45) 내를 흐르기 때문에, 베르누이 효과에 의해 홈(45)의 근방에 부압이 생긴다. 제1 반출 유닛(40)의 판부재(44)는, 이 홈(45)의 근방에 생기는 부압에 의해, 판부재(44)가 홈(45)이 형성된 측에 대향하는 유지 테이블(10)의 유지면(13) 상의 피가공물(100)을 비접촉으로 유지한다.Air supplied from the air supply source 47 flows through the groove 45 from the center toward the radial direction at high speed. The air supplied from the air supply source 47 accelerates when flowing from the air supply line 48 to the groove 45 from the relationship between the cross-sectional area of the groove 45 and the air supply line 48 , and Since it flows in the groove 45 while sucking the surrounding air on both sides, a negative pressure is generated in the vicinity of the groove 45 due to the Bernoulli effect. The plate member 44 of the first discharging unit 40 has a negative pressure generated in the vicinity of the groove 45 , the plate member 44 is opposite to the side on which the groove 45 is formed of the holding table 10 . The workpiece 100 on the holding surface 13 is held in a non-contact manner.

제1 반출 유닛(40)의 판부재(44)는, 본 실시형태에서는, 홈(45) 내에 에어를 흐르게 함으로써 베르누이 효과에 의해 생기는 부압에 의해 비접촉으로 유지 테이블(10) 상의 피가공물(100)을 유지하지만, 본 발명에서는 이에 한정되지 않고, 판부재(44)의 하방측에 마련된 흡인 패드를 피가공물(100)의 표면(101)에 접촉시켜 흡인 패드에 의해 피가공물(100)을 흡인 유지하여도 좋고, 흡인 패드에 의해 피가공물(100)에 점착 테이프를 통해 장착된 환형 프레임의 상면측을 흡인 유지하여도 좋다.In this embodiment, the plate member 44 of the 1st carrying-out unit 40 is non-contact by the negative pressure generated by the Bernoulli effect by making air flow in the groove|channel 45 on the to-be-processed object 100 on the holding table 10. However, in the present invention, the present invention is not limited thereto, and the suction pad provided on the lower side of the plate member 44 is brought into contact with the surface 101 of the workpiece 100 to suction and hold the workpiece 100 by the suction pad. Alternatively, the upper surface side of the annular frame attached to the to-be-processed object 100 via an adhesive tape by a suction pad may be sucked and held.

제1 반출 유닛(40)은, 카세트 배치대(90)에 배치된 카세트(95) 내의 가공 전의 피가공물(100)을 파지부(46)로 파지하여 추출하여, 반출입 영역(3)에 유지 테이블(10)의 이동 영역보다 상방에 마련된 피가공물(100)의 가배치용의 한쌍의 가이드 레일(93) 상에 배치한다. 제1 반출 유닛(40)은, 한쌍의 가이드 레일(93) 상에 배치한 가공 전의 피가공물(100)을 베르누이 효과에 의해 생기는 부압에 의해 비접촉으로 유지하여, 반출입 영역(3)에 위치된 유지 테이블(10)의 유지면(13) 상에 배치한다. 제1 반출 유닛(40)은, 반출입 영역(3)에 위치된 유지 테이블(10)의 유지면(13) 상의 가공 후의 피가공물(100)을 베르누이 효과에 의해 생기는 부압에 의해 비접촉으로 유지하여 반출하여, 세정 유닛(80)에 반송한다. 제1 반출 유닛(40)은, 세정 유닛(80)으로 세정된 피가공물(100)을 베르누이 효과에 의해 생기는 부압에 의해 비접촉으로 유지하여, 한쌍의 가이드 레일(93) 상에 배치한다. 제1 반출 유닛(40)은, 한쌍의 가이드 레일(93) 상에 배치한 가공 후 및 세정 후의 피가공물(100)을 파지부(46)로 파지하여, 카세트 배치대(90)에 배치된 카세트(95) 내에 반송한다.The first discharging unit 40 grips and extracts the unprocessed object 100 in the cassette 95 arranged on the cassette mounting table 90 with the holding unit 46 , and is placed on the holding table in the discharging area 3 . It is arrange|positioned on the pair of guide rails 93 for temporary arrangement|positioning of the to-be-processed object 100 provided above the movement area|region of (10). The first carry-out unit 40 holds the unprocessed workpiece 100 disposed on the pair of guide rails 93 in a non-contact manner by the negative pressure generated by the Bernoulli effect, and is positioned in the carrying-out area 3 . It is placed on the holding surface 13 of the table 10 . The first unloading unit 40 carries out the processed workpiece 100 on the holding surface 13 of the holding table 10 positioned in the carrying-in/out area 3 in a non-contact manner by the negative pressure generated by the Bernoulli effect. and conveyed to the cleaning unit 80 . The first discharging unit 40 holds the workpiece 100 cleaned by the washing unit 80 in a non-contact manner by the negative pressure generated by the Bernoulli effect, and arranges it on the pair of guide rails 93 . The first discharging unit 40 holds the processed and cleaned object 100 arranged on the pair of guide rails 93 with the holding unit 46, and a cassette arranged on the cassette mounting table 90 . Return within (95).

제2 반출 유닛(50)은, 제1 반출 유닛(40)과 대략 동일한 구성을 갖고 있고, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 제2 반출 아암(51)과, Y축 이동 유닛(52)과, Z축 이동 유닛(53)과, 판부재(54)와, 홈(55)과, 파지부(56)와, 에어 공급원(57)과, 에어 공급 라인(58)을 갖는다. 제2 반출 아암(51), Y축 이동 유닛(52), Z축 이동 유닛(53), 판부재(54), 홈(55), 파지부(56), 에어 공급원(57) 및 에어 공급 라인(58)은, 각각, 제1 반출 아암(41), Y축 이동 유닛(42), Z축 이동 유닛(43), 판부재(44), 홈(45), 파지부(46), 에어 공급원(47) 및 에어 공급 라인(48)과 대략 동일한 구성을 갖고 있다. 제2 반출 유닛(50)은, 판부재(54)로 가공 후의 피가공물(100)을 베르누이 효과에 의해 생기는 부압에 의해 비접촉으로 유지하여, 유지 테이블(10)로부터 세정 유닛(80)에 반송한다. 제1 반출 유닛(40)과 제2 반출 유닛(50)은, 서로 부딪치지 않도록 Z축 방향의 위치를 옮기면서, 교대로 피가공물(100)을 반송한다. 가공 장치(1)는, 도 1에 나타내는 예에서는 제1 반출 유닛(40)과 제2 반출 유닛(50)의 2개의 반출 유닛을 구비하고 있지만, 본 발명에서는 이에 한정되지 않고, 어느 한쪽의 하나의 반출 유닛만 구비하고 있어도, 3개 이상의 복수의 반출 유닛을 구비하고 있어도 좋다.The 2nd carrying out unit 50 has substantially the same structure as the 1st carrying out unit 40, and, as shown in FIGS. 1 and 2, the 2nd carrying out arm 51 and the Y-axis movement unit 52 are carried out. and a Z-axis moving unit 53 , a plate member 54 , a groove 55 , a gripping portion 56 , an air supply source 57 , and an air supply line 58 . 2nd carry-out arm 51, Y-axis movement unit 52, Z-axis movement unit 53, plate member 54, groove 55, grip part 56, air supply source 57, and air supply line Reference numeral 58 denotes the first carrying out arm 41 , the Y-axis movement unit 42 , the Z-axis movement unit 43 , the plate member 44 , the groove 45 , the grip portion 46 , and the air supply source, respectively. It has substantially the same structure as (47) and the air supply line (48). The second discharging unit 50 holds the workpiece 100 after processing into the plate member 54 in a non-contact manner by the negative pressure generated by the Bernoulli effect, and conveys it from the holding table 10 to the cleaning unit 80 . . The 1st carrying out unit 40 and the 2nd carrying out unit 50 alternately convey the to-be-processed object 100, moving the position of the Z-axis direction so that they may not collide with each other. In the example shown in FIG. 1, although the processing apparatus 1 is equipped with two carrying out units of the 1st carrying out unit 40 and the 2nd carrying out unit 50, this invention is not limited to this, Either one Even if only the carrying out unit of

제어 유닛(60)은, 가공 장치(1)의 각종 구성 요소의 동작을 제어하여, 피가공물(100)의 가공 처리를 가공 장치(1)에 실시시킨다. 제어 유닛(60)은, 흡인 라인(16)의 흡인 밸브(16-1)의 개폐 및 에어 공급 라인(18)의 에어 공급 밸브(18-1)의 개폐를 제어함으로써, 유지면(13) 상의 흡인 에어리어 및 분출 영역의 형성을 제어한다. 제어 유닛(60)은, 흡인원(17)을 제어함으로써 흡인 라인(16)으로부터 유지면(13)에 도입하는 부압의 압력값(게이지압)을 제어하고, 에어 공급원(19)을 제어함으로써 에어 공급 라인(18)으로부터의 에어의 공급량이나 공급압 등을 제어한다.The control unit 60 controls the operation of various components of the processing apparatus 1 to cause the processing apparatus 1 to process the object 100 . The control unit 60 controls the opening and closing of the suction valve 16-1 of the suction line 16 and the opening and closing of the air supply valve 18-1 of the air supply line 18, so that the Controls the formation of the suction area and the ejection area. The control unit 60 controls the pressure value (gauge pressure) of the negative pressure introduced from the suction line 16 to the holding surface 13 by controlling the suction source 17 , and by controlling the air supply source 19 , the air The supply amount and supply pressure of air from the supply line 18 are controlled.

제어 유닛(60)은, Y축 이동 유닛(42, 52) 및 Z축 이동 유닛(43, 53)을 제어함으로써, 제1, 제2 반출 유닛(40, 50)의 제1, 제2 반출 아암(41, 51)의 Y축 방향 및 Z축 방향의 위치 및 이동을 제어한다. 제어 유닛(60)은, 에어 공급원(47, 57)으로부터 홈(45, 55)에의 에어의 공급을 제어함으로써, 홈(45, 55) 내에 에어를 흐르게 함으로써 베르누이 효과에 의해 생기는 부압을 제어하여, 제1 반출 유닛(40, 50)의 판부재(44, 54)에 의한 피가공물(100)의 유지를 제어한다. 제어 유닛(60)은, 파지부(46, 56)를 제어함으로써, 피가공물(100)의 파지를 제어한다.The control unit 60 controls the Y-axis movement units 42 and 52 and the Z-axis movement units 43 and 53 , thereby controlling the first and second carrying arms of the first and second carrying out units 40 and 50 . The position and movement of (41, 51) in the Y-axis direction and the Z-axis direction are controlled. The control unit 60 controls the supply of air from the air supply sources 47 and 57 to the grooves 45 and 55, thereby controlling the negative pressure caused by the Bernoulli effect by flowing the air into the grooves 45 and 55, The holding of the to-be-processed object 100 by the plate members 44 and 54 of the 1st carrying out units 40 and 50 is controlled. The control unit 60 controls the gripping of the to-be-processed object 100 by controlling the gripping parts 46 and 56 .

제어 유닛(60)은, 본 실시형태에서는, 컴퓨터 시스템을 포함한다. 제어 유닛(60)이 포함하는 컴퓨터 시스템은, CPU(Central Processing Unit)와 같은 마이크로 프로세서를 갖는 연산 처리 장치와, ROM(Read Only Memory) 또는 RAM(Random Access Memory)과 같은 메모리를 갖는 기억 장치와, 입출력 인터페이스 장치를 구비한다. 제어 유닛(60)의 연산 처리 장치는, 제어 유닛(60)의 기억 장치에 기억되어 있는 컴퓨터 프로그램에 따라 연산 처리를 실시하여, 가공 장치(1)를 제어하기 위한 제어 신호를, 제어 유닛(60)의 입출력 인터페이스 장치를 통해 가공 장치(1)의 각 구성 요소에 출력한다.The control unit 60 includes a computer system in the present embodiment. The computer system included in the control unit 60 includes an arithmetic processing unit having a microprocessor such as a CPU (Central Processing Unit), and a storage unit having a memory such as a ROM (Read Only Memory) or RAM (Random Access Memory); , an input/output interface device. The arithmetic processing device of the control unit 60 performs arithmetic processing according to the computer program stored in the storage device of the control unit 60 , and transmits a control signal for controlling the processing device 1 to the control unit 60 . ) output to each component of the processing device 1 through the input/output interface device.

표시 유닛(70)은, 가공 장치(1)의 가공 조건의 설정의 화면, 가공 처리의 결과의 화면, 제어 유닛(60)에 의한 흡인 밸브(16-1)의 개폐 및 에어 공급 밸브(18-1)의 개폐의 제어에 관한 설정의 화면, 제어 유닛(60)에 의한 제1, 제2 반출 유닛(40, 50)의 동작의 제어에 관한 설정의 화면 등을 표시한다. 표시 유닛(70)은, 본 실시형태에서는, 액정 표시 장치 등에 의해 구성된다. 표시 유닛(70)은, 오퍼레이터가 가공 장치(1)의 각종 설정에 관한 정보 등을 입력할 때에 사용하는 입력 유닛이 마려되어 있다. 표시 유닛(70)에 마련된 입력 유닛은, 본 실시형태에서는, 표시 유닛(70)에 마련된 터치 패널과, 키보드 등 중 적어도 하나에 의해 구성된다. 또한, 가공 장치(1)는, 본 발명에서는 이에 한정되지 않고, 표시 유닛(70)을 갖고 있지 않아도 좋다. 또한, 가공 장치(1)는, 본 발명에서는 이에 한정되지 않고, 표시 유닛(70) 대신에, 유선 또는 무선으로, 스마트 폰, 태블릿, 웨어러블 디바이스, 컴퓨터 등의 정보 기기에 접속되어, 정보 기기의 표시부에 표시하거나, 정보 기기의 입력부를 통해 조작되거나 하여도 좋다.The display unit 70 includes a screen for setting the processing conditions of the processing device 1 , a screen for processing results, the opening/closing of the suction valve 16-1 by the control unit 60 and the air supply valve 18- 1) The screen of the setting related to the control of opening/closing, the screen of the setting related to the control of the operation|movement of the 1st, 2nd carrying out unit 40 and 50 by the control unit 60, etc. are displayed. The display unit 70 is constituted by a liquid crystal display device or the like in the present embodiment. The display unit 70 includes an input unit used by the operator when inputting information and the like regarding various settings of the processing apparatus 1 . The input unit provided in the display unit 70 is comprised by at least one of the touch panel provided in the display unit 70, a keyboard, etc. in this embodiment. In addition, in this invention, the processing apparatus 1 is not limited to this, It is not necessary to have the display unit 70 . In addition, the processing apparatus 1 is not limited to this in the present invention, and instead of the display unit 70, wired or wirelessly, it is connected to information equipment such as a smart phone, tablet, wearable device, computer, etc. It may be displayed on a display unit, or may be operated through an input unit of an information device.

세정 유닛(80)은, 가공 후의 피가공물(100)을 세정하여, 피가공물(100)에 부착된 가공 부스러기 등의 이물을 제거한다. 카세트 배치대(90)는, 복수의 피가공물(100)을 수용하기 위한 수용기인 카세트(95)를 배치하는 배치대이며, 배치된 카세트(95)를 Z축 방향으로 승강시킨다. 또한, 가공 장치(1)는, 본 실시형태에서는, 제2 반출 유닛(50)에 의한 피가공물(100)의 반출처의 하나로서 세정 유닛(80)을 갖고 있지만, 본 발명에서는 이에 한정되지 않고, 제2 반출 유닛(50)에 의한 피가공물(100)의 반출처로서 가공 후의 피가공물(100)의 품질을 검사하는 검사 장치를 더 가져도 좋고, 또한 세정 유닛(80)을 갖고 있지 않아도 좋다.The cleaning unit 80 cleans the processed object 100 after processing to remove foreign substances such as processing debris adhering to the processing object 100 . The cassette mounting table 90 is a mounting table for arranging a cassette 95 that is a container for accommodating the plurality of workpieces 100 , and elevates the arranged cassette 95 in the Z-axis direction. Moreover, although the processing apparatus 1 has the washing|cleaning unit 80 as one of the transport destinations of the to-be-processed object 100 by the 2nd carrying-out unit 50 in this embodiment, in this invention, it is not limited to this. , an inspection device for inspecting the quality of the processed object 100 after processing may be further provided as a destination of the processing object 100 by the second unloading unit 50, or the cleaning unit 80 may not be provided. .

다음에, 본 명세서는 실시형태에 따른 피가공물의 반출 방법을 도면에 기초하여 설명한다. 실시형태에 따른 피가공물의 반출 방법은, 피가공물(100)을 제1, 제2 반출 유닛(40, 50)에 의해 유지 테이블(10)로부터 반출하는 방법으로서, 가공 장치(1)를 이용하여 실시된다. 도 4는 실시형태에 따른 피가공물의 반출 방법의 처리 순서의 일례를 나타내는 흐름도이다. 실시형태에 따른 피가공물의 반출 방법은, 도 4에 나타내는 바와 같이, 외주 부상 단계(1001)와, 피가공물 유지 단계(1002)와, 반출 단계(1003)를 구비한다. 실시형태에 따른 피가공물의 반출 방법은, 예컨대, 유지 테이블(10)의 유지면(13)으로 흡인 유지한 피가공물(100)을 가공 유닛(20)에서의 가공 후에 반출할 때에 실시된다.Next, this specification describes the carrying out method of the to-be-processed object which concerns on embodiment based on drawing. The method of carrying out the to-be-processed object which concerns on embodiment is a method of carrying out the to-be-processed object 100 from the holding table 10 by the 1st, 2nd carrying out units 40 and 50, Using the processing apparatus 1 is carried out It is a flowchart which shows an example of the processing procedure of the to-be-processed object carrying-out method which concerns on embodiment. As shown in FIG. 4 , the method for carrying out a workpiece according to the embodiment includes a step 1001 for flotation of the outer periphery, a step 1002 for holding the workpiece, and a step 1003 for carrying out. The carrying out method of the to-be-processed object which concerns on embodiment is performed, for example, when carrying out the to-be-processed object 100 suction-held by the holding surface 13 of the holding table 10 after processing in the processing unit 20 .

외주 부상 단계(1001)는, 흡인 라인(16)에 의해 포러스판(11)과 흡인원(17)을 연통시켜 유지면(13)의 중앙 영역(13-1)에서 피가공물(100)을 흡인하여, 포러스판(11)과 피가공물(100) 사이의 가공용의 액체(35)(물)를 제거하면서, 에어 공급 라인(18)에 에어를 공급하여, 중앙 영역(13-1)을 위요하는 외주 영역(13-2)으로부터 에어를 분출시켜 피가공물(100)의 외주부만을 유지면(13)으로부터 부상시켜, 포러스판(11)과 피가공물(100) 사이의 가공용의 액체(35)(물)의 표면 장력을 해제하는 단계이다.In the outer circumferential floating step 1001 , the porous plate 11 and the suction source 17 are communicated by the suction line 16 to suck the workpiece 100 in the central region 13-1 of the holding surface 13 . Thus, while removing the liquid 35 (water) for processing between the porous plate 11 and the workpiece 100, air is supplied to the air supply line 18 to cover the central region 13-1. Air is blown from the outer peripheral region 13-2 to float only the outer periphery of the workpiece 100 from the holding surface 13, and the liquid 35 for processing between the porous plate 11 and the workpiece 100 (water) ) to release the surface tension of

외주 부상 단계(1001)에서는, 제어 유닛(60)은, 흡인원(17)의 부압의 압력값(게이지압)을 포러스판(11)의 유지면(13)의 전체면에서 피가공물(100)을 흡인 유지할 때보다 약하게 제어하면서, 흡인 라인(16)의 흡인 밸브(16-1)를 개방함으로써, 흡인 라인(16)에 의해 포러스판(11)과 흡인원(17)을 연통시켜, 유지면(13)의 중앙 영역(13-1)에서 피가공물(100)을 흡인하여, 포러스판(11)과 피가공물(100) 사이의 가공용의 액체(35) 등의 물을 제거한다. 또한, 외주 부상 단계(1001)에서는, 제어 유닛(60)은, 에어 공급 라인(18)의 에어 공급 밸브(18-1)를 개방함으로써, 에어 공급 라인(18)에 에어 공급원(19)으로부터의 에어를 공급하여 유지면(13)의 외주 영역(13-2)으로부터 에어를 분출시켜 피가공물(100)의 외주부만을 유지면(13)으로부터 부상시킨다. 외주 부상 단계(1001)에서는, 이와 같이, 흡인원(17)의 부압의 압력값(게이지압)을 약하게 하여, 유지면(13)의 중앙 영역(13-1)에 있어서의 흡인 라인(16)에 의한 흡인과, 유지면(13)의 외주 영역(13-2)에 있어서의 에어 공급 라인(18)으로부터의 에어의 분출에 의한 피가공물(100)의 외주부의 부상을 동시에 실시함으로써, 유지면(13) 상의 가공용의 액체(35)(물)와 유지면(13) 상의 피가공물(100)의 이면(104)측을 강제적으로 떼어 놓아, 포러스판(11)과 피가공물(100) 사이에 형성된 진공 상태를 파괴하여, 포러스판(11)과 피가공물(100) 사이의 가공용의 액체(35)(물)의 표면 장력을 해제할 수 있다. 또한, 에어 분출구가 형성되는 외주 영역(13-2)은, 도 2에 나타내는 바와 같이 포러스판(11)의 상면의 외주 영역이어도 좋고, 포러스판(11)을 위요하는 프레임체(12)의 상면이어도 좋다. 피가공물(100)의 직경이 포러스판(11)보다 큰 경우는, 프레임체(12)의 상면에 피가공물(100)의 외주부가 지지되기 때문에, 프레임체(12)의 상면에 에어 분출구가 형성되는 쪽이 바람직하다.In the outer circumferential floating step 1001 , the control unit 60 calculates the pressure value (gauge pressure) of the negative pressure of the suction source 17 from the entire surface of the holding surface 13 of the porous plate 11 to the workpiece 100 . By opening the suction valve 16-1 of the suction line 16 while controlling weaker than when holding the The workpiece 100 is sucked in the central region 13-1 of (13), and water such as the processing liquid 35 between the porous plate 11 and the workpiece 100 is removed. In addition, in the outer circumferential flotation step 1001 , the control unit 60 opens the air supply valve 18-1 of the air supply line 18, thereby providing the air supply line 18 with By supplying air, the air is blown out from the outer peripheral region 13-2 of the holding surface 13 to float only the outer peripheral portion of the workpiece 100 from the holding surface 13 . In the peripheral flotation step 1001, the pressure value (gauge pressure) of the negative pressure of the suction source 17 is weakened in this way, and the suction line 16 in the central region 13-1 of the holding surface 13 is By simultaneously performing suction by , and floating of the outer periphery of the workpiece 100 by blowing of air from the air supply line 18 in the outer peripheral region 13-2 of the holding surface 13, the holding surface (13) The liquid 35 (water) for image processing and the back surface 104 side of the workpiece 100 on the holding surface 13 are forcibly separated between the porous plate 11 and the workpiece 100. By breaking the vacuum state formed, the surface tension of the liquid 35 (water) for processing between the porous plate 11 and the workpiece 100 can be released. In addition, as shown in FIG. 2, the outer peripheral area|region 13-2 in which an air outlet is formed may be the outer peripheral area|region of the upper surface of the porous board 11, The upper surface of the frame body 12 surrounding the porous board 11. it's good too When the diameter of the workpiece 100 is larger than that of the porous plate 11 , the outer periphery of the workpiece 100 is supported on the upper surface of the frame body 12 , so an air outlet is formed on the upper surface of the frame body 12 . It is preferable to be

피가공물 유지 단계(1002)는, 외주 부상 단계(1001)에서 포러스판(11)과 피가공물(100) 사이의 가공용의 액체(35)(물)의 표면 장력을 해제한 상태에서, 제1 반출 유닛(40)에 의해 피가공물(100)을 유지하는 단계이다. 피가공물 유지 단계(1002)에서는, 제어 유닛(60)은, 홈(45) 내에 에어를 흐르게 함으로써 베르누이 효과에 의해 생기는 부압에 의해, 제1 반출 유닛(40)의 판부재(44)로, 유지면(13) 상에서 포러스판(11)과의 사이의 가공용의 액체(35)(물)의 표면 장력이 해제된 상태의 피가공물(100)을 비접촉으로 유지한다.In the workpiece holding step 1002 , the surface tension of the liquid 35 (water) for processing between the porous plate 11 and the workpiece 100 is released in the outer circumferential floating step 1001 , the first unloading It is a step of holding the workpiece 100 by the unit 40 . In the workpiece holding step 1002 , the control unit 60 is held by the plate member 44 of the first discharging unit 40 by the negative pressure generated by the Bernoulli effect by flowing air into the groove 45 . The workpiece 100 in a state in which the surface tension of the liquid 35 (water) for processing between the surface 13 and the porous plate 11 is released is held in a non-contact manner.

반출 단계(1003)는, 외주 부상 단계(1001) 및 피가공물 유지 단계(1002) 후, 유지면(13)의 중앙 영역(13-1)에 있어서의 피가공물(100)의 흡인을 차단하여 유지 테이블(10)로부터 피가공물(100)의 전체를 이격시켜, 유지 테이블(10)로부터 피가공물(100)을 반출하는 단계이다. 반출 단계(1003)에서는, 제어 유닛(60)은, 흡인 라인(16)의 흡인 밸브(16-1)를 폐쇄함으로써, 흡인 라인(16)에 의한 포러스판(11)과 흡인원(17)의 연통을 차단함으로써, 유지면(13)의 중앙 영역(13-1)에 있어서의 피가공물(100)의 흡인을 차단하여 유지 테이블(10)로부터 피가공물(100)의 전체를 이격시킨다. 반출 단계(1003)에서는, 이에 의해, 제1 반출 유닛(40)의 판부재(44)는, 홈(45) 내에 에어를 흐르게 함으로써 베르누이 효과에 의해 생기는 부압에 의해, 피가공물(100)을 비접촉으로 유지한다. 반출 단계(1003)에서는, 그 후, 제어 유닛(60)은, 제1 반출 유닛(40)의 판부재(44)에 의해 비접촉으로 유지한 피가공물(100)을 반출한다.In the unloading step 1003, after the outer peripheral flotation step 1001 and the workpiece holding step 1002, the suction of the workpiece 100 in the central region 13-1 of the holding surface 13 is blocked and maintained. It is a step of separating the whole to-be-processed object 100 from the table 10, and carrying out the to-be-processed object 100 from the holding table 10. In the unloading step 1003 , the control unit 60 closes the suction valve 16 - 1 of the suction line 16 , so that the porous plate 11 and the suction source 17 by the suction line 16 are closed. By blocking the communication, the suction of the workpiece 100 in the central region 13-1 of the holding surface 13 is interrupted, and the whole of the workpiece 100 is separated from the holding table 10 . In the discharging step 1003 , thereby, the plate member 44 of the first discharging unit 40 does not contact the workpiece 100 by the negative pressure generated by the Bernoulli effect by flowing air in the groove 45 . keep it as In the unloading step 1003 , thereafter, the control unit 60 unloads the workpiece 100 held in a non-contact manner by the plate member 44 of the first unloading unit 40 .

제1 반출 유닛(40)의 판부재(44)는, 피가공물 유지 단계(1002)에서의 베르누이 효과에 의해 생기는 부압에 의한 비접촉으로의 흡인력이 약하기 때문에 피가공물(100)을 완전히 유지할 수 없는 경우, 다음 반출 단계(1003)에서 유지면(13)의 중앙 영역(13-1)에 있어서의 피가공물(100)의 흡인을 차단하여 유지 테이블(10)로부터 피가공물(100)의 전체를 이격시켰을 때에, 피가공물(100)을 완전하게 유지한다.When the plate member 44 of the first discharging unit 40 cannot completely hold the workpiece 100 because the suction force to the non-contact by the negative pressure generated by the Bernoulli effect in the workpiece holding step 1002 is weak. , in the next unloading step 1003, the suction of the workpiece 100 in the central region 13-1 of the holding surface 13 was blocked to separate the entire workpiece 100 from the holding table 10. At this time, the workpiece 100 is completely held.

또한, 피가공물 유지 단계(1002) 및 반출 단계(1003)에서는, 본 실시형태에서는, 제1 반출 유닛(40)의 판부재(44)가 홈(45) 내에 에어를 흐르게 함으로써 베르누이 효과에 의해 생기는 부압에 의해 피가공물(100)을 비접촉으로 유지하지만, 본 발명에서는 이에 한정되지 않고, 판부재(44)의 하방측에 설치된 흡인 패드에 의해 피가공물(100)을 직접 접촉하여 흡인 유지하여도 좋다.In addition, in the workpiece holding step 1002 and the unloading step 1003 , in the present embodiment, the plate member 44 of the first unloading unit 40 causes air to flow in the groove 45 , which is caused by the Bernoulli effect. Although the workpiece 100 is maintained in a non-contact manner by negative pressure, the present invention is not limited thereto, and the workpiece 100 may be directly contacted by a suction pad provided on the lower side of the plate member 44 and held by suction. .

이상과 같은 구성을 갖는 실시형태에 따른 가공 장치(1) 및 피가공물의 반출 방법은, 유지 테이블(10)이 흡인 라인(16) 및 에어 공급 라인(18)을 구비하고, 가공 후의 피가공물(100)을 반출할 때에, 흡인 라인(16)에 의해 유지면(13)의 중앙 영역(13-1)에서 피가공물(100)을 비교적 약한 부압으로 흡인하여, 포러스판(11)과 피가공물(100) 사이의 가공용의 액체(35)(물)를 제거하면서, 에어 공급 라인(18)에 의해 피가공물(100)의 외주부를 유지면(13)으로부터 부상시켜, 포러스판(11)과 피가공물(100) 사이에 형성된 진공 상태를 파괴하여, 가공용의 액체(35)(물)의 표면 장력을 해제한다. 이 때문에, 실시형태에 따른 가공 장치(1) 및 피가공물의 반출 방법은, 유지면(13) 상의 물 발출을 보다 강력하게 행할 수 있으며, 이 표면 장력에 의해 피가공물(100)의 유지면(13)에의 고정을 해제할 수 있다. 또한, 실시형태에 따른 가공 장치(1) 및 피가공물의 반출 방법은, 가공 후의 피가공물(100)을 반출할 때에, 피가공물(100)의 반출을 보다 확실하게 행할 수 있다고 하는 작용 효과를 발휘한다.In the processing apparatus 1 and the method for discharging the workpiece according to the embodiment having the configuration as described above, the holding table 10 includes a suction line 16 and an air supply line 18, and the workpiece ( When the 100) is taken out, the workpiece 100 is sucked with a relatively weak negative pressure in the central region 13-1 of the holding surface 13 by the suction line 16, and the porous plate 11 and the workpiece ( While removing the liquid 35 (water) for processing between 100 , the outer periphery of the workpiece 100 is floated from the holding surface 13 by the air supply line 18 , and the porous plate 11 and the workpiece The vacuum state formed between 100 is broken, and the surface tension of the liquid 35 (water) for processing is released. For this reason, in the processing apparatus 1 and the method of discharging the to-be-processed object according to the embodiment, the water on the holding surface 13 can be drawn out more strongly, and by this surface tension, the holding surface ( 13) can be released. In addition, the processing apparatus 1 and the method for discharging the to-be-processed object according to the embodiment exhibit the effect of being able to carry out the to-be-processed object 100 more reliably when carrying out the processed object 100 after processing. do.

예컨대, 피가공물(100)을 분할 예정 라인(102)을 따라 절삭 가공하여 피가공물(100)의 두께 이하(예컨대 두께의 절반 정도)의 깊이의 절삭홈을 형성하는 소위 하프 컷트를 실시하는 것 같은 경우나, 피가공물(100)을 매우 얇게 연삭 가공하는 것 같은 경우, 피가공물(100)의 외주부의 전체 둘레를 환형으로 절삭하는 엣지 트리밍 가공을 하는 것 같은 경우에는, 피가공물(100)의 파손을 막기 위해, 제1 반출 유닛(40)으로 베르누이 효과를 이용하여 비접촉으로 피가공물(100)을 유지한다. 실시형태에 따른 가공 장치(1) 및 피가공물의 반출 방법은, 이와 같이 제1 반출 유닛(40)에 의해 베르누이 효과를 이용하여 비접촉으로 약한 힘으로 피가공물(100)을 유지하는 것 같은 경우에는, 특히, 포러스판(11)과 피가공물(100) 사이의 가공용의 액체(35)(물)의 표면 장력을 해제함으로써, 이 표면 장력에 의해 피가공물(100)의 유지면(13)에의 고정을 해제할 수 있는 것에 따른 전술한 실시형태의 효과를 크게 발휘할 수 있다.For example, a so-called half-cut in which the workpiece 100 is cut along the line 102 to be divided to form a cutting groove having a depth of less than or equal to the thickness of the workpiece 100 (eg, about half the thickness) is performed. In the case of grinding the workpiece 100 very thinly, or in the case of cutting the entire periphery of the outer periphery of the workpiece 100 in an annular shape, the workpiece 100 is damaged In order to prevent this, the workpiece 100 is maintained in a non-contact manner by using the Bernoulli effect as the first carrying unit 40 . In the case where the processing apparatus 1 according to the embodiment and the method for unloading the workpiece 100 hold the workpiece 100 with a weak force in a non-contact manner using the Bernoulli effect by the first unloading unit 40 in this way, , in particular, by releasing the surface tension of the liquid 35 (water) for processing between the porous plate 11 and the workpiece 100, the surface tension is fixed to the holding surface 13 of the workpiece 100 by this surface tension. The effect of the above-described embodiment can be greatly exhibited by being able to cancel the .

또한, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것이 아니다. 즉, 본 발명의 골자를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변형하여 실시할 수 있다.In addition, this invention is not limited to the said embodiment. That is, it can be implemented with various modifications within a range that does not deviate from the gist of the present invention.

1 가공 장치 10 유지 테이블
11 포러스판 12 프레임체
13 유지면 13-1 중앙 영역(흡인 에어리어)
13-2 외주 영역(흡인 에어리어의 외주 부분)
14 오목부 14-1 저면
14-2 내측면 15-1 중앙 부분
15-2 외주 부분 16 흡인 라인
17 흡인원 18 에어 공급 라인
19 에어 공급원 20 가공 유닛
30 액체 공급 노즐 35 가공용의 액체(물)
40 제1 반출 유닛 50 제2 반출 유닛
60 제어 유닛 100 피가공물1 Machining unit 10 Holding table
11 Porous plate 12 Frame body
13 Retaining surface 13-1 Central area (suction area)
13-2 Outer periphery area (outer periphery of suction area)
14 Concave 14-1 Bottom
14-2 Inner side 15-1 Central part
15-2 Outer periphery 16 Suction line
17 Suction source 18 Air supply line
19 Air supply 20 Processing unit
30 Liquid supply nozzle 35 Processing liquid (water)
40 first carrying out unit 50 second carrying out unit
60 Control Unit 100 Workpiece

Claims (2)

피가공물을 유지하는 유지면을 갖는 유지 테이블과,
상기 유지 테이블에 유지된 피가공물을 가공하는 가공 유닛과,
상기 가공 유닛으로 가공되는 가공점에 가공용의 액체를 공급하는 액체 공급 노즐과,
상기 유지 테이블로부터 피가공물을 반출하는 반출 유닛과,
제어 유닛을 갖는 가공 장치로서,
상기 유지 테이블은,
피가공물을 흡인 유지하는 중앙 영역을 갖는 포러스판과,
상기 포러스판을 수용하는 오목부를 갖는 프레임체와,
상기 프레임체의 저면에 형성되어 상기 중앙 영역과 흡인원을 연통시키는 흡인 라인과,
상기 중앙 영역을 위요하는 외주 영역으로부터 에어를 분출시키는, 에어 공급원과 연통된 에어 공급 라인을 구비하고,
상기 제어 유닛은, 상기 흡인 라인에 의해 상기 포러스판과 상기 흡인원을 연통시켜 상기 중앙 영역에서 피가공물을 흡인하여, 상기 포러스판과 피가공물 사이의 물을 제거하면서, 상기 에어 공급 라인에 에어를 공급하여, 상기 외주 영역으로부터 에어를 분출시켜 피가공물의 외주부를 상기 유지면으로부터 부상시켜, 상기 포러스판과 피가공물 사이의 물의 표면 장력을 해제한 상태에서, 상기 반출 유닛에 의해 피가공물을 상기 유지 테이블로부터 반출하는 것을 특징으로 하는 가공 장치.a holding table having a holding surface for holding a workpiece;
a processing unit for processing the workpiece held on the holding table;
a liquid supply nozzle for supplying a processing liquid to a processing point processed by the processing unit;
a discharging unit discharging the workpiece from the holding table;
A processing device having a control unit, comprising:
The maintenance table is
A porous plate having a central area for holding a workpiece by suction;
a frame body having a concave portion for accommodating the porous plate;
a suction line formed on the bottom surface of the frame to communicate the central region and the suction source;
an air supply line communicating with an air supply source for blowing air from an outer peripheral region surrounding the central region;
The control unit communicates the porous plate and the suction source by the suction line to suck the workpiece in the central region, and removes water between the porous plate and the workpiece, while supplying air to the air supply line. supply, blowing air from the outer periphery region to float the outer periphery of the work piece from the holding surface to release the surface tension of water between the porous plate and the work piece, and hold the work piece by the discharging unit A processing device characterized in that it is carried out from the table. 피가공물을 유지하는 유지면을 갖는 유지 테이블과, 상기 유지 테이블에 유지된 피가공물을 가공하는 가공 유닛과, 상기 가공 유닛으로 가공되는 가공점에 가공용의 액체를 공급하는 액체 공급 노즐과, 상기 유지 테이블로부터 피가공물을 반출하는 반출 유닛을 갖는 가공 장치에 있어서, 피가공물을 상기 반출 유닛에 의해 상기 유지 테이블로부터 반출하는 반출 방법으로서,
상기 유지 테이블은,
피가공물을 흡인 유지하는 중앙 영역을 갖는 포러스판과,
상기 포러스판을 수용하는 오목부를 갖는 프레임체와,
상기 프레임체의 저면에 형성되어 상기 중앙 영역과 흡인원을 연통시키는 흡인 라인과,
상기 중앙 영역을 위요하는 외주 영역으로부터 에어를 분출시키는, 에어 공급원과 연통된 에어 공급 라인을 구비하고,
상기 흡인 라인에 의해 상기 포러스판과 상기 흡인원을 연통시켜 상기 중앙 영역에서 피가공물을 흡인하여, 상기 포러스판과 피가공물 사이의 물을 제거하면서, 상기 에어 공급 라인에 에어를 공급하여 상기 외주 영역으로부터 에어를 분출시켜 피가공물의 외주부만을 상기 유지면으로부터 부상시켜, 상기 포러스판과 피가공물 사이의 물의 표면 장력을 해제하는 외주 부상 단계와,
상기 반출 유닛에 의해 피가공물을 유지하는 피가공물 유지 단계와,
상기 피가공물 유지 단계 및 상기 외주 부상 단계 후, 상기 중앙 영역에 있어서의 피가공물의 흡인을 차단하여 상기 유지 테이블로부터 피가공물 전체를 이격시켜 상기 유지 테이블로부터 피가공물을 반출하는 반출 단계
를 포함하는 피가공물의 반출 방법.a holding table having a holding surface for holding a workpiece; a processing unit for processing the workpiece held by the holding table; a liquid supply nozzle for supplying a processing liquid to a processing point processed by the processing unit; In a processing apparatus having a discharging unit for discharging a workpiece from a table, the discharging method comprising:
The maintenance table is
A porous plate having a central area for holding a workpiece by suction;
a frame body having a concave portion for accommodating the porous plate;
a suction line formed on the bottom surface of the frame to communicate the central region and the suction source;
an air supply line communicating with an air supply source for blowing air from an outer peripheral region surrounding the central region;
The porous plate and the suction source are communicated by the suction line to suck the workpiece in the central region, and while removing water between the porous plate and the workpiece, air is supplied to the air supply line to supply air to the outer peripheral region an outer circumferential floating step of releasing the surface tension of water between the porous plate and the workpiece by blowing air from
a workpiece holding step of holding the workpiece by the unloading unit;
After the step of holding the workpiece and the step of floating on the outer periphery, a discharging step of blocking the suction of the workpiece in the central region to separate the entire workpiece from the holding table and discharging the workpiece from the holding table
A method of discharging a workpiece comprising a.
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