KR20220089574A - Detachable stepped jig, holder which adjusts the height of the sample by the jig, and sample stage including the holder - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 홀더는 착탈 가능하게 마스크에 결합되는 계단형 지그를 이용하여 시료의 돌출 높이를 정밀하면서도 용이하게 조절할 수 있고 다양한 두께의 시료를 고정할 수 있다.
그리고, 본 발명에 따른 시료대에는 상기 홀더가 자석에 의해 착탈 가능하게 결합된다. 상기 시료대는 나사 탭과 가이드부를 이용하여 홀더의 높이를 조절할 수 있고 나선형 스프링으로 백래쉬를 보정할 수 있다. The holder according to the present invention can precisely and easily control the protrusion height of the sample by using a step-type jig detachably coupled to the mask, and can fix samples of various thicknesses.
And, the holder is detachably coupled to the sample stand according to the present invention by a magnet. The sample stand can adjust the height of the holder by using the screw tab and the guide part, and can compensate the backlash with the spiral spring.

Description

착탈 가능한 계단형 지그와, 이를 이용하여 시료의 높이를 조절하는 홀더, 및 이 홀더를 포함하는 시료대 {Detachable stepped jig, holder which adjusts the height of the sample by the jig, and sample stage including the holder}A detachable stepped jig, a holder for adjusting the height of the sample using the same, and a sample stage including the holder {Detachable stepped jig, holder which adjusts the height of the sample by the jig, and sample stage including the holder}

본 발명은 이온 밀링 가공시 샘플을 고정하기 위한 홀더에 대한 것으로서, 더욱 구체적으로는 착탈 가능하게 마스크에 결합되는 계단형 지그를 이용하여 시료의 돌출 높이를 정밀하면서도 용이하게 조절할 수 있고 다양한 두께의 시료를 고정할 수 있는 홀더에 대한 것이다.The present invention relates to a holder for fixing a sample during ion milling, and more specifically, by using a step-type jig detachably coupled to a mask, the protrusion height of the sample can be precisely and easily adjusted and samples of various thicknesses It is about a holder that can fix it.

아울러, 본 발명은 상기 계단형 지그와 시료대를 포함한다. In addition, the present invention includes the step-type jig and the sample stand.

이온빔 연마(ion milling)는 본래 화학적 연마가 어려운 세라믹이나 반도체 시료를 연마하기 위해 시작되었으나, 현재는 이들 소재는 물론이고 금속 등 여러 재료들의 연마에 이용되는 가장 일반적인 방법이다. 특히, 이차전지, 커넥터, MLCC 등과 같이 다양한 소재의 연구개발에서 단면 관찰은 필수적인 것으로서, 이를 분석하기 위해 이온빔 연마가 더욱 증가하고 있다.Ion beam grinding was originally started to grind ceramic or semiconductor samples, which are difficult to chemically polish, but now it is the most common method used for grinding these materials as well as various materials such as metals. In particular, cross-sectional observation is essential in the research and development of various materials such as secondary batteries, connectors, and MLCCs, and ion beam polishing is increasing to analyze them.

이온빔 연마(ion milling)는 이온 건(ion gun)에서 발생된 이온빔(ion beam)을 시료(specimen)에 조사하여 이루어진다. 시료는 홀더에 고정된 상태에서 시료대에 설치된다.Ion beam grinding is performed by irradiating an ion beam generated from an ion gun to a specimen. The sample is installed on the sample stand while being fixed to the holder.

도 1에 나타난 바와 같이, 홀더의 뒷면에는 마스크가 설치되고, 시료는 마스크의 뒷면에 설치되되 마스크의 상단 보다 위로 돌출되도록 설치된다. 마스크는 이온빔을 차단하므로, 시료 중에서 마스크 보다 위로 돌출된 부분만 밀링 가공이 이루어진다. 따라서, 원하는 위치의 단면을 얻기 위해서는 시료 높이를 조절하는 것이 매우 중요하다. 이를 위해, 시료대는 도브 테일 베드면과, 도브 테일 베드면을 상하(y축 방향)로 이동시키기 위한 나사탭 구조를 구비한다. 즉, 시료대를 도 2와 같은 시료대 조절지그에 설치한 후, y축 위치조절기구를 이용하여 도브 테일 베드면을 상하(y축 방향)로 이동시켜서 시료의 돌출높이를 조절한다. 그리고, x축 위치조절기구를 이용하여 x축 방향의 위치를 조절한다. 1, a mask is installed on the back side of the holder, and the sample is installed on the back side of the mask so that it protrudes above the top of the mask. Since the mask blocks the ion beam, only the portion of the sample that protrudes above the mask is milled. Therefore, it is very important to adjust the height of the sample in order to obtain a cross section at a desired position. To this end, the sample stage includes a dovetail bed surface and a screw tab structure for moving the dovetail bed surface up and down (y-axis direction). That is, after the sample stand is installed on the sample stand adjusting jig as shown in FIG. 2, the dovetail bed surface is moved up and down (y-axis direction) by using the y-axis positioning mechanism to adjust the protrusion height of the sample. Then, the position in the x-axis direction is adjusted using the x-axis position adjusting mechanism.

그러나, 이러한 구조는 복잡할 뿐만 아니라, 상기 돌출 높이를 30μm, 50μm, 80μm 등으로 정확하게 맞추기가 어렵다는 문제점이 있다. However, such a structure is not only complicated, but there is a problem in that it is difficult to accurately adjust the protrusion height to 30 μm, 50 μm, 80 μm, or the like.

또한, 상기 구조는 시료를 x축 베드에 고정하기 위해 카본 테이프를 이용하는데, 카본 테이프는 그 자체의 고정력이 약하고 진공 상태에서 수축하므로 시료를 원하는 위치에 고정하기 어렵다는 문제점이 있다.In addition, the structure uses a carbon tape to fix the sample to the x-axis bed, but the carbon tape itself has a weak fixing force and shrinks in a vacuum, so it is difficult to fix the sample at a desired position.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 착탈 가능하게 마스크에 결합되는 계단형 지그와, 이를 이용하여 시료의 돌출 높이를 정밀하면서도 용이하게 조절할 수 있는 홀더, 및 이 홀더를 구비하는 시료대를 제공하는 데 그 목적이 있다. The present invention has been proposed to solve the above problems, and includes a step-type jig detachably coupled to a mask, a holder capable of precisely and easily adjusting the protrusion height of a sample using the step-type jig, and a sample having the holder Its purpose is to provide

본 발명의 또 다른 목적은 다양한 두께의 시료를 고정할 수 있는 홀더, 및 이를 구비하는 시료대를 제공하는 데 있다. Another object of the present invention is to provide a holder capable of holding samples of various thicknesses, and a sample stand having the same.

본 발명의 또 다른 목적은 홀더가 자석에 의해 시료대에 부착되므로 홀더의 위치 조절이 가능하고, 나사탭과 가이드부(리니어 가이드 등)를 이용하여 홀더의 높이 조절이 가능하되 나선형 스프링을 이용하여 백래쉬 보정이 가능한 시료대를 제공하는 데 있다. Another object of the present invention is that since the holder is attached to the sample stage by a magnet, the position of the holder can be adjusted, and the height of the holder can be adjusted using a screw tab and a guide part (linear guide, etc.), but using a spiral spring It is to provide a sample stand capable of backlash compensation.

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 홀더(100)는, 홀더 몸체(110); 홀더 몸체(110)에 설치되어 이온빔을 차단하는 마스크(130); 마스크(130)의 후방에 설치되어 시료(s)를 마스크(130)의 뒷면에 밀착되도록 하는 고정수단(140); 및, 계단턱(153)을 중심으로 제1 면(151)과 제2 면(152)을 갖는 지그(150);를 포함한다.In order to achieve the above object, the holder 100 according to a preferred embodiment of the present invention, the holder body 110; a mask 130 installed on the holder body 110 to block the ion beam; a fixing means 140 installed at the rear of the mask 130 so that the sample s is in close contact with the back of the mask 130 ; and a jig 150 having a first surface 151 and a second surface 152 with respect to the step 153 .

제1 면(151)은 제2 면(152) 보다 높은 곳에 위치하며, 이에 따라 제1 면(151)이 시료(s)와 밀착되고 제2 면(152)이 마스크(130)와 밀착되도록 지그(150)가 위치되면 시료(s)의 상단이 마스크(130)의 상단 보다 계단턱(153)의 높이(g)만큼 위로 돌출된다. The first surface 151 is positioned higher than the second surface 152 , and thus the first surface 151 is in close contact with the sample s and the second surface 152 is in close contact with the mask 130 . When 150 is positioned, the upper end of the sample s protrudes upward by the height g of the step 153 than the upper end of the mask 130 .

지그(150)는 마스크(130)에 착탈 가능하며, 마스크(130)와 시료(s)의 높이를 조절한 후 제거된다. 바람직하게, 지그(150)는 자석(156)을 포함하고, 마스크(130)는 자석(156)과 결합되는 물질로 이루어지며, 지그(150)는 마스크(130)에 착탈 가능하게 부착될 수 있다.The jig 150 is detachable from the mask 130 and is removed after adjusting the heights of the mask 130 and the sample s. Preferably, the jig 150 includes a magnet 156 , the mask 130 is made of a material coupled to the magnet 156 , and the jig 150 may be detachably attached to the mask 130 . .

마스크(130)의 상단면 중 앞쪽 부분(133)은 제2 면(152)과 평행하고 상기 앞쪽 부분(133)의 뒷부분(134)은 아래를 향한 경사면으로 이루어지는 것이 바람직하다. 이 경우, 뒷부분(134)이 제2 면(152)과 간섭하는 것이 방지될 수 있다. It is preferable that the front portion 133 of the upper surface of the mask 130 is parallel to the second surface 152 , and the rear portion 134 of the front portion 133 has a downward inclined surface. In this case, the rear portion 134 may be prevented from interfering with the second surface 152 .

상기 고정수단(140)은, 시료(s)의 뒷면에 설치된 누름판(141); 그 선단이 홀더 몸체(110)에 체결되고 후단이 누름판(141)을 관통한 후 누름판(141)의 뒷면으로 돌출되는 고정 축(143); 고정 축(143)에 설치된 나선 스프링(145); 및, 고정 축(143)의 후단에 나사 결합된 누름 부재(146);를 포함할 수 있다. The fixing means 140, the pressing plate 141 installed on the back side of the sample (s); a fixed shaft 143 having its front end fastened to the holder body 110 and protruding to the rear of the pressing plate 141 after the rear end passes through the pressing plate 141; Helical spring 145 installed on the fixed shaft 143; and a pressing member 146 screwed to the rear end of the fixed shaft 143 .

나선 스프링(145)의 탄성 복원력에 의해 누름판(141)이 누름 부재(146)에 밀착될 수 있다. 그리고, 누름 부재(146)를 회전시키는 것에 의해 누름 부재(146)가 누름판(141)을 가압하여 시료(s)가 마스크(130)의 뒷면에 밀착 고정될 수 있다. The pressing plate 141 may be in close contact with the pressing member 146 by the elastic restoring force of the spiral spring 145 . And, by rotating the pressing member 146 , the pressing member 146 presses the pressing plate 141 , so that the sample s may be closely fixed to the back surface of the mask 130 .

누름판(141)은 그 길이 방향을 따라 길게 형성될 수 있다. 상기 길이 방향의 양쪽 단부에는 고정 축(143)이 관통하는 관통공(141a)이 각각 형성되고, 상기 길이 방향의 중앙 부분(141b)은 상기 양쪽 단부 보다 전방(前方) 또는 후방(後方)에 위치하고, 중앙 부분(141b)은 시료(s)를 마스크(130)에 대해 밀착, 가압한다. The pressing plate 141 may be formed to be elongated along its longitudinal direction. Through-holes 141a through which the fixing shaft 143 passes are respectively formed at both ends in the longitudinal direction, and the central portion 141b in the longitudinal direction is located in front or rear of the both ends. , the central portion 141b closely adheres and presses the sample s to the mask 130 .

바람직하게, 홀더 몸체(110)의 뒷면에는 마스크(130)와 형합하는 홈(111)이 형성된다. 마스크(130)는 홈(111)에 안착되도록 설치되고, 홀더 몸체(110)를 관통하도록 설치된 고정 나사(113)가 홈(111)에 안착된 마스크(130)와 체결될 수 있다. Preferably, a groove 111 matching the mask 130 is formed on the back side of the holder body 110 . The mask 130 is installed to be seated in the groove 111 , and a fixing screw 113 installed to pass through the holder body 110 may be coupled to the mask 130 seated in the groove 111 .

본 발명의 또 다른 측면인 시료대(300)는, 상기 홀더(100); 및, 홀더(100)가 안착되어 고정되는 시료대 몸체(200);를 포함할 수 있다.Another aspect of the present invention, the sample stage 300, the holder 100; and a sample stage body 200 on which the holder 100 is seated and fixed.

시료대 몸체(200)는, 베이스부(210); 베이스부(210)에 승하강 가능하도록 설치된 안착부(230); 및, 베이스부(210)에 수직으로 설치되어 안착부(230)를 승하강 시키는 승하강부(250);를 포함할 수 있다. The sample stage body 200 includes a base portion 210; a seating part 230 installed so as to be able to ascend and descend on the base part 210; and an elevating unit 250 installed vertically on the base unit 210 to elevate the seating unit 230 .

상기 안착부(230)는, 홀더 몸체(110)의 하단을 지지하도록 수평으로 형성된 지지면(231); 지지면(231)과 수직을 이루도록 형성되고, 마스크(130)의 뒷면과 밀착되며 마스크(130)와 결합되기 위한 자석(233)을 갖는 수직면(232); 및, 수직면(232)의 하단과 지지면(231) 사이에 수평 방향으로 형성된 수평홈(235);을 포함할 수 있다. The seating portion 230 includes a support surface 231 formed horizontally to support the lower end of the holder body 110 ; a vertical surface 232 that is formed to be perpendicular to the support surface 231 , is in close contact with the back surface of the mask 130 , and has a magnet 233 for coupling with the mask 130 ; and a horizontal groove 235 formed in a horizontal direction between the lower end of the vertical surface 232 and the support surface 231 .

홀더 몸체(110)의 뒷면 하단에는 돌기(115)가 형성되고, 돌기(115)가 수평홈(235)에 삽입되도록 홀더 몸체(110)가 지지면(231)에 설치되면 자석(233)이 마스크(130)의 뒷면에 밀착 결합될 수 있다. A protrusion 115 is formed at the bottom of the rear surface of the holder body 110, and when the holder body 110 is installed on the support surface 231 so that the protrusion 115 is inserted into the horizontal groove 235, the magnet 233 is a mask. It may be closely coupled to the back side of the 130 .

승하강부(250)는 안착부(230)를 승하강시킨다. 승하강부(250)는, 베이스부(210)의 일측에 설치되되 베이스부(210)를 수직 방향으로 관통하도록 설치되고 그 외부면 중의 적어도 일부에는 나사산이 형성된 수직 스크류(251); 베이스부(210)의 타측에 설치된 나선형 스프링(253); 안착부(230)의 일측에 구비되고, 수직 스크류(251)의 나사산과 나사 결합되는 나사산이 형성된 너트부(236); 상기 나선형 스프링(253)을 지지하도록 안착부(230)의 타측에 구비된 스프링 받침부(237);를 포함할 수 있다. The elevating unit 250 raises and lowers the seating unit 230 . Elevating unit 250 is installed on one side of the base unit 210, the base unit 210 is installed to penetrate in the vertical direction, at least a portion of the outer surface of the vertical screw 251 is formed with a thread; Helical spring 253 installed on the other side of the base portion 210; a nut portion 236 provided on one side of the seating portion 230 and having a screw thread coupled to the screw thread of the vertical screw 251; and a spring support portion 237 provided on the other side of the seating portion 230 to support the spiral spring 253 .

수직 스크류(251)가 회전되면 상기 나사 결합에 의해 안착부(230)가 승하강되고 나선형 스프링(253)은 스프링 받침부(237)와 베이스부(210)를 서로 밀어내는 탄성력을 제공하므로 백래쉬 문제를 해결할 수 있다.When the vertical screw 251 is rotated, the seating part 230 is raised and lowered by the screw coupling, and the spiral spring 253 provides an elastic force that pushes the spring support part 237 and the base part 210 to each other, so there is a backlash problem. can solve

본 발명은 다음과 같은 효과를 갖는다.The present invention has the following effects.

첫째, 착탈 가능하게 마스크에 결합되는 계단형 지그를 이용하여 시료의 돌출 높이를 정밀하면서도 용이하게 조절할 수 있다.First, the protrusion height of the sample can be precisely and easily adjusted by using a step-type jig that is detachably coupled to the mask.

둘째, 다양한 두께의 시료를 고정할 수 있다.Second, samples of various thicknesses can be fixed.

셋째, 홀더가 자석에 의해 시료대에 부착되므로 홀더의 위치 조절이 가능하고, 나사탭과 가이드부(리니어 가이드)를 이용하여 홀더의 높이 조절이 가능하되 나선형 스프링을 이용하여 백래쉬 보정이 가능하다. Third, since the holder is attached to the sample table by a magnet, the position of the holder can be adjusted, and the height of the holder can be adjusted using a screw tab and a guide part (linear guide), but backlash compensation is possible using a spiral spring.

도 1은 종래기술에 따른 시료대를 보여주는 분해 사시도.
도 2는 도 1의 시료대가 시료대 조절지그에 설치된 것을 보여주는 사시도.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 시료대를 보여주는 결합 사시도.
도 4는 도 3의 시료대를 보여주는 정방향 분해 사시도.
도 5는 도 3의 시료대를 보여주는 역방향 분해 사시도.
도 6은 홀더와 마스크 및 시료를 보여주는 분해 사시도.
도 7은 지그가 마스크와 시료의 높이를 조절하는 것을 보여주는 측면도.
도 8은 홀더와 마스크를 보여주는 평면도.
도 9는 도 8의 홀더에 구비된 누름판을 보여주는 사시도.
도 10은 누름판의 방향이 반대로 설치된 홀더를 보여주는 평면도.
도 11은 변형된 누름판을 구비하는 홀더를 보여주는 평면도.
도 12는 도 11의 누름판을 보여주는 사시도.
도 13은 안착부의 승하강을 위한 수직 스크류가 설치된 구조를 보여주는 단면도.
도 14는 나선형 스프링이 설치된 구조를 보여주는 단면도. 1 is an exploded perspective view showing a sample stand according to the prior art;
FIG. 2 is a perspective view showing the sample stand of FIG. 1 installed on the sample stand adjusting jig;
3 is a combined perspective view showing a sample stand according to a preferred embodiment of the present invention;
4 is a forward exploded perspective view showing the sample stage of FIG. 3;
5 is a reverse exploded perspective view showing the sample stage of FIG. 3;
6 is an exploded perspective view showing a holder, a mask, and a sample;
7 is a side view showing that the jig adjusts the height of the mask and the sample.
Fig. 8 is a plan view showing the holder and the mask;
9 is a perspective view showing a pressing plate provided in the holder of FIG.
10 is a plan view showing the holder installed in the opposite direction of the pressing plate.
11 is a plan view showing a holder having a deformed pressing plate.
Figure 12 is a perspective view showing the pressing plate of Figure 11;
13 is a cross-sectional view showing a structure in which a vertical screw for elevating and lowering the seating portion is installed.
14 is a cross-sectional view showing a structure in which a spiral spring is installed.

이하, 첨부된 도면들을 참조로 본 발명에 대해서 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 실시예들에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, the terms or words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to conventional or dictionary meanings, and the inventor should properly understand the concept of the term in order to best describe his invention. Based on the principle that it can be defined, it should be interpreted as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention. Accordingly, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are merely embodiments of the present invention and do not represent all the technical spirit of the present invention, so various equivalents that can be substituted for them at the time of the present application It should be understood that there may be variations and variations.

한편, 아래 도면에서 동일한 도면 참조부호는 동일하거나 실질적으로 동일한 구성요소를 나타낸다. 그리고, 도면에서 x, y, z축은 도면의 이해와 설명의 편의를 위해 기재된 카르테시안 좌표축으로서, x, y, z축은 서로에 대해 수직을 이룬다. Meanwhile, in the drawings below, the same reference numerals denote the same or substantially the same components. And, in the drawings, the x, y, and z axes are Cartesian coordinate axes described for the convenience of understanding and explanation of the drawings, and the x, y, and z axes are perpendicular to each other.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 시료대를 보여주는 결합 사시도이고, 도 4는 상기 시료대를 보여주는 정방향 분해 사시도이며, 도 5는 상기 시료대를 보여주는 역방향 분해 사시도이다. 3 is a combined perspective view showing a sample stand according to a preferred embodiment of the present invention, FIG. 4 is a forward exploded perspective view showing the sample stand, and FIG. 5 is a reverse exploded perspective view showing the sample stand.

도면에 나타난 바와 같이, 시료대(300)는 홀더(100)와 시료대 몸체(200)를 포함한다.As shown in the drawing, the sample stage 300 includes a holder 100 and a sample stage body 200 .

홀더(100)는 시료를 고정하는 것으로서, 시료대 몸체(200)에 착탈 가능하게 결합될 수 있다. The holder 100 is for fixing the sample, and may be detachably coupled to the sample stand body 200 .

홀더(100)는 홀더 몸체(110)와, 홀더 몸체(110)에 고정되어 이온빔을 차단하는 마스크(130)와, 시료(s)를 마스크(130)의 뒷면에 고정하는 고정수단(140) 및, 계단턱(153)을 갖는 지그(150)를 포함할 수 있다. The holder 100 includes a holder body 110 , a mask 130 fixed to the holder body 110 to block the ion beam, a fixing means 140 for fixing the sample s to the back of the mask 130 , and , may include a jig 150 having a step 153 .

홀더 몸체(110)는 대략적인 직육면체 형상으로 갖되, 그 상단의 양측에는 볼트공(119)이 위로 돌출되어 형성된다. 양측의 볼트공(119)에는 고정 축(143)이 삽입되어 체결되는데 이에 대해서는 아래에서 설명하기로 한다. The holder body 110 has a substantially rectangular parallelepiped shape, and bolt holes 119 protrude upward on both sides of the upper end thereof. A fixing shaft 143 is inserted into and fastened to the bolt holes 119 on both sides, which will be described below.

양측의 볼트공(119) 사이에는 볼트공(119) 보다 낮도록 홀더 몸체(110)의 윗면이 형성된다. 상기 윗면은 평평하게 형성되는 것이 바람직하다. 그리고, 도 6에 나타난 바와 같이, 홀더 몸체(110)의 뒷면에는 마스크(130)가 안착되는 홈(111)이 형성된다. 홈(111)은 마스크(130)와 형합되는 형상인 것이 바람직하다. Between the bolt holes 119 on both sides, the upper surface of the holder body 110 is formed to be lower than the bolt hole 119 . The upper surface is preferably formed flat. And, as shown in FIG. 6 , a groove 111 in which the mask 130 is seated is formed on the back side of the holder body 110 . The groove 111 is preferably shaped to match the mask 130 .

아울러, 홀더 몸체(110)의 상부 또는 중앙에는 관통공(112)이 형성될 수 있다. 관통공(112)은 마스크(130)가 홈(111)에 안착되었을 때 나사공(131)과 대응되는 곳에 형성되는데, 고정 나사(113)가 관통공(112)을 관통하여 나사공(도 6의 131)에 나사 결합되는 것에 의해 마스크(130)가 고정될 수 있다. In addition, a through hole 112 may be formed in the upper portion or the center of the holder body 110 . The through hole 112 is formed in a position corresponding to the screw hole 131 when the mask 130 is seated in the groove 111, and the fixing screw 113 passes through the through hole 112 to the screw hole (FIG. 6). The mask 130 may be fixed by being screwed to 131 of the .

홀더 몸체(110)의 뒷면 하단에는 돌기(115)가 형성될 수 있다. 돌기(115)가 수평홈(235)에 삽입되도록 홀더 몸체(110)가 지지면(231)에 설치되면 자석(233)이 마스크(130)의 뒷면에 밀착 결합될 수 있다. 따라서, 돌기(115)와 수평홈(235)은 홀더 몸체(110)를 설치할 때 가이드 역할을 한다. A protrusion 115 may be formed at the lower end of the rear surface of the holder body 110 . When the holder body 110 is installed on the support surface 231 so that the protrusion 115 is inserted into the horizontal groove 235 , the magnet 233 may be closely coupled to the back surface of the mask 130 . Accordingly, the protrusion 115 and the horizontal groove 235 serve as a guide when installing the holder body 110 .

마스크(130)는 이온 빔을 차단하기 위한 것으로서 시료(s)의 앞쪽에 설치된다. 따라서, 시료(s) 중 마스크(130)에 의해 가려지는 부분은 가공(밀링)되지 않고 마스크(130) 보다 위로 돌출된 부분만 가공된다. The mask 130 is installed in front of the sample s to block the ion beam. Accordingly, the portion of the sample s that is covered by the mask 130 is not processed (milled), and only the portion that protrudes above the mask 130 is processed.

마스크(130)는 자석과 결합되는 재질로 이루어진 것이 바람직하다. 이에 따라, 마스크(130)의 앞면 상부는 자석(156)이 설치된 제3 면(154)과 밀착 결합되고 마스크(130)의 뒷면은 수직면(232)의 자석(233)과 밀착 결합될 수 있다. The mask 130 is preferably made of a material coupled with a magnet. Accordingly, the upper front surface of the mask 130 may be closely coupled to the third surface 154 on which the magnet 156 is installed, and the rear surface of the mask 130 may be closely coupled to the magnet 233 of the vertical surface 232 .

본 발명에서는 마스크(130)와 시료(s)의 높이 차이를 조절하기 위해서 지그(150)를 사용하는데, 도 7에 나타난 바와 같이, 마스크(130) 상단면의 앞쪽 부분(133)은 지그(150)의 제2 면(152)과 평행하고, 앞쪽 부분(133)의 뒷부분(134)은 아래로 경사진 것이 바람직하다. 이것은 지그(150)를 이용한 높이 조절시, 뒷부분(134)이 제2 면(152)과 간섭하는 것을 방지하기 위해서이다. In the present invention, the jig 150 is used to adjust the height difference between the mask 130 and the sample s. As shown in FIG. 7 , the front part 133 of the upper surface of the mask 130 is the jig 150 . ) parallel to the second surface 152, the rear portion 134 of the front portion 133 is preferably inclined downward. This is to prevent the rear portion 134 from interfering with the second surface 152 during height adjustment using the jig 150 .

고정수단(140)은 볼트공(119)과 누름판(141)을 연결하도록 설치되어 시료(s)를 마스크(130)의 뒷면에 밀착시킨다. 고정수단(140)은 시료(s)의 뒷면에 설치된 누름판(141)과, 누름판(141)을 관통하도록 설치된 고정 축(143)과, 고정 축(143)에 설치된 나선 스프링(145) 및, 고정 축(143)의 후단에 나사 결합된 누름 부재(146)를 포함할 수 있다. The fixing means 140 is installed to connect the bolt hole 119 and the pressing plate 141 to bring the sample s into close contact with the back surface of the mask 130 . The fixing means 140 includes a pressing plate 141 installed on the back side of the sample s, a fixing shaft 143 installed to pass through the pressing plate 141, a spiral spring 145 installed on the fixing shaft 143, and fixing A pressing member 146 screwed to the rear end of the shaft 143 may be included.

누름판(141)은 그 길이 방향을 따라 길게 형성된 판 형상의 부재로서, 그 양쪽 단부의 관통공(141a)과 중앙 부분(141b)을 포함한다. The pressing plate 141 is a plate-shaped member elongated along its longitudinal direction, and includes through-holes 141a and a central portion 141b at both ends thereof.

관통공(141a)에는 고정 축(143)이 관통하도록 설치된다. 그리고, 중앙 부분(141b)은 마스크(130)의 뒷면에 대해 시료(s)를 가압하는 부분으로서, 시료(s)의 뒷면과 평행하도록 형성된 것이 바람직하다. The fixed shaft 143 is installed in the through hole 141a to pass therethrough. In addition, the central portion 141b is a portion for pressing the sample s against the back surface of the mask 130 , and is preferably formed to be parallel to the back surface of the sample s.

중앙 부분(141b)은 양쪽 단부 보다 전방(前方)에 위치한다. 중앙 부분(141b)과 양쪽 단부 사이에는 턱이 형성될 수 있다. 따라서, 도 8~9에 나타난 바와 같이, 중앙 부분(141b)이 상기 양쪽 단부 보다 전방(前方)에 위치하고, 누름부재(146)가 회전되어 상기 양쪽 단부를 가압하면 중앙 부분(141b)이 시료(s, 도 8~9에 미도시)를 마스크(130)의 뒷면에 밀착 가압한다. The central portion 141b is located in front of both ends. A chin may be formed between the central portion 141b and both ends. Therefore, as shown in FIGS. 8 to 9, the central portion 141b is located in front of the both ends, and when the pressing member 146 is rotated to press the both ends, the central portion 141b is the sample ( s (not shown in FIGS. 8 to 9 ) is pressed in close contact with the back surface of the mask 130 .

시료의 두께가 두꺼운 경우에는 누름판(143)을 뒤집어서 사용할 수 있다. 도 10에 나타난 바와 같이, 중앙 부분(141b)이 상기 양쪽 단부 보다 후방(後方)에 위치하도록 설치하고 중앙 부분(141b)과 마스크(130) 사이에 시료(s)를 설치하면 두꺼운 시료(s, 도 10에 미도시)를 가압할 수 있다. When the thickness of the sample is thick, the pressing plate 143 can be turned upside down. As shown in FIG. 10, when the central part 141b is installed so as to be located at the rear of the both ends, and the sample s is installed between the central part 141b and the mask 130, the thick sample s, 10) may be pressed.

한편, 상기 누름판(143)에 대한 대안으로서, 도 11~12에 나타난 바와 같이, 누름판(143)이 일자형으로 이루어질 수도 있다. Meanwhile, as an alternative to the pressing plate 143 , as shown in FIGS. 11 to 12 , the pressing plate 143 may be formed in a straight shape.

예를 들어, 시료(s)의 두께가 대략 0~3mm인 경우에는 중앙 부분(141b)이 양쪽 단부 보다 전방(前方)에 위치한 누름판이 적합하고, 시료(s)의 두께가 대략 2.5~6mm인 경우에는 일자형의 누름판이 적합하며, 시료의 두께가 대략 5.5~9mm인 경우에는 중앙 부분(141b)이 양쪽 단부 보다 후방(後方)에 위치한 누름판이 적합하다. For example, when the thickness of the sample (s) is approximately 0 to 3 mm, the central portion 141b is suitable for the pressing plate located in the front rather than both ends, and the thickness of the sample (s) is approximately 2.5 to 6 mm. In this case, a straight press plate is suitable, and when the thickness of the sample is approximately 5.5 to 9 mm, a press plate in which the central portion 141b is located behind both ends is suitable.

고정 축(143)은 관통공(141a)과 나선 스프링(145)을 관통하도록 설치되되, 그 선단이 너트공(119)에 나사결합되고 그 후단이 누름부재(146)와 나사 결합된다. The fixed shaft 143 is installed to pass through the through hole 141a and the spiral spring 145 , the front end thereof being screwed to the nut hole 119 , and the rear end thereof being screwed with the pressing member 146 .

고정 축(143) 중에서 누름판(141)과 너트공(119) 사이의 부분에는 나선 스프링(145)이 설치될 수 있다. 상기 나선 스프링(145)은 탄성 복원력에 의해 누름판(141)을 후방(누름부재 쪽)으로 밀어내는 작용을 하므로 누름판(141)이 시료(s)의 뒷면에 항상 밀착 및 가압하도록 한다. A spiral spring 145 may be installed in a portion between the pressing plate 141 and the nut hole 119 among the fixed shafts 143 . The spiral spring 145 acts to push the pressing plate 141 to the rear (toward the pressing member) by the elastic restoring force, so that the pressing plate 141 always adheres and presses against the back surface of the sample s.

누름 부재(146)는 고정 축(143)의 후단에 나사 결합된 누름 나사(도 6의 146a)와, 누름 나사(146a)를 회전시켜 전,후진시키는 육각 볼트(도 6의 146b)를 포함할 수 있다. 누름 나사(146a)가 고정 축(143)의 후단에 나사 결합된 상태에서 사용자가 육각 볼트(146b)를 회전시키면 누름 나사(146a)가 전,후진될 수 있다. The pressing member 146 includes a pressing screw (146a in FIG. 6) screwed to the rear end of the fixed shaft 143, and a hexagonal bolt (146b in FIG. 6) for rotating the pressing screw (146a) forward and backward. can When the user rotates the hexagon bolt 146b in a state in which the pressing screw 146a is screwed to the rear end of the fixed shaft 143, the pressing screw 146a may be moved forward and backward.

지그(150)는 계단턱(153)과, 계단턱(153)의 일측에 형성된 제1 면(151)과, 계단턱(153)의 타측에 형성된 제2 면(152)과, 제1,2 면(151)(152)과 수직을 이루는 제3 면(154), 및 자석(156)을 포함한다. 제1 면(151)과 제2 면(152)은 서로 평행하고 계단턱(153)은 제1,2 면(151)(152)과 수직을 이룬다. 그리고, 제3 면(154)의 상단은 제2 면(152)에서부터 아래로 연장된다. 제3 면(154)은 자석(156)에 의해서 마스크(130)의 상단에 밀착되도록 결합된다. The jig 150 includes a step 153 , a first surface 151 formed on one side of the step 153 , a second surface 152 formed on the other side of the step 153 , and first and second surfaces and a third surface 154 perpendicular to the surfaces 151 and 152 , and a magnet 156 . The first surface 151 and the second surface 152 are parallel to each other, and the step 153 is perpendicular to the first and second surfaces 151 and 152 . And, the upper end of the third surface 154 extends downward from the second surface 152 . The third surface 154 is coupled to the upper end of the mask 130 by the magnet 156 so as to be in close contact.

제1 면(151)은 제2 면(152) 보다 높은 곳에 위치한다. 자석(156)에 의해서 지그(150)가 마스크(130)에 결합되면 제1 면(151)이 시료(s)의 상단면과 밀착되고 제2 면(152)이 마스크(130)의 상단면에 밀착되는데, 제1 면(151)이 제2 면(152) 보다 높으므로 시료(s)가 마스크(130) 보다 계단턱(153)의 높이(g) 만큼 위로 돌출된다. 상기 높이(g)는 필요에 따라 선택될 수 있다. 예를 들어, 상기 높이(g)는 30μm, 50μm, 80μm일 수 있다. The first surface 151 is positioned higher than the second surface 152 . When the jig 150 is coupled to the mask 130 by the magnet 156 , the first surface 151 is in close contact with the upper surface of the sample s, and the second surface 152 is attached to the upper surface of the mask 130 . Since the first surface 151 is higher than the second surface 152 , the sample s protrudes upward by the height g of the step 153 than the mask 130 . The height g may be selected as needed. For example, the height g may be 30 μm, 50 μm, or 80 μm.

자석(156)은 제3 면(154)에 설치될 수 있는데, 자석(156)은 마스크(130)에 착탈 가능하게 결합된다. 제3 면(154)이 마스크(130)의 앞면 상단에 결합되도록 설치되면 지그(150)는 자력에 의해 마스크(130)에 결합된 상태를 계속 유지하고, 사용자가 지그(150)를 인위적으로 잡아당기면 마스크(130)와 분리되어 제거될 수 있다. 즉, 지그(150)는 상기 높이 조절이 완료되면 마스크(130)로부터 제거된다.The magnet 156 may be installed on the third surface 154 , and the magnet 156 is detachably coupled to the mask 130 . When the third surface 154 is installed to be coupled to the top of the front side of the mask 130, the jig 150 continues to be coupled to the mask 130 by magnetic force, and the user artificially grabs the jig 150 When pulled, it can be separated from the mask 130 and removed. That is, the jig 150 is removed from the mask 130 when the height adjustment is completed.

바람직하게, 지그(150)는 손잡이(155)를 구비할 수 있다. 그리고, 지그(150)의 윗면에는 계단턱(153)의 높이(g)를 나타내는 숫자가 표시될 수도 있다. 따라서, 사용자는 여러 개의 지그(150) 중에서 적합한 계단턱(153) 높이(g)를 갖는 지그(150)를 선택하여 사용할 수 있다. Preferably, the jig 150 may include a handle 155 . In addition, a number indicating the height g of the step 153 may be displayed on the upper surface of the jig 150 . Therefore, the user can select and use the jig 150 having a suitable step 153 height g from among several jigs 150 .

적합한 높이(g)를 갖는 지그(150)를 마스크(130)에 결합시킨 후 시료(s)의 상단이 제1 면(151)에 밀착되고 마스크(130)의 상단면이 제2 면(152)에 밀착되도록 한 후, 누름부재(146)를 회전시켜서 누름판(141)이 시료(s)를 가압하여 마스크(130) 뒷면에 밀착되도록 하면 시편(s)의 돌출 높이 조절이 완성된다.After bonding the jig 150 having a suitable height g to the mask 130, the top of the sample s is in close contact with the first surface 151, and the top surface of the mask 130 is the second surface 152 After being in close contact with the mask 130 by rotating the pressing member 146 so that the pressing plate 141 presses the sample s to be in close contact with the back surface of the mask 130, the protrusion height adjustment of the specimen s is completed.

기존에는, [발명의 배경이 되는 기술]에서 설명한 바와 같이, 시료(s)의 돌출 높이 조절 작업이 매우 어렵고 복잡하였음에 비해, 본 발명은 이 작업을 매우 단순하면서도 정확하게 할 수 있다. Conventionally, as described in [Technical Background of the Invention], the operation of adjusting the height of the protrusion of the sample (s) was very difficult and complicated, but the present invention can make this operation very simple and accurate.

시료대 몸체(200)는 베이스부(210)와, 승하강 가능하도록 베이스부(210)에 설치된 안착부(230)와, 안착부(230)를 승하강 시키는 승하강부(250)와, 베이스부(210)의 아래에 설치된 레일부(201)를 포함할 수 있다.The sample stage body 200 includes a base part 210, a seating part 230 installed on the base part 210 so as to be able to ascend and descend, an elevation part 250 for raising and lowering the seating part 230, and the base part. It may include a rail unit 201 installed under the 210 .

베이스부(210)는 레일부(201)의 위에 수직으로 설치되되 안착부(230)의 후방에 설치된다. 베이스부(210)의 일측에는 제1 측부(211)와 제2 측부(212)가 형성되고, 베이스부(210)의 타측에는 제3 측부(213)가 형성된다. The base part 210 is installed vertically on the rail part 201 and installed at the rear of the seating part 230 . A first side portion 211 and a second side portion 212 are formed on one side of the base portion 210 , and a third side portion 213 is formed on the other side of the base portion 210 .

도 13에 나타난 바와 같이, 제1,2 측부(211)(212)는 수직 방향으로 소정 간격으로 이격되고, 이 이격된 부분에 너트부(236)가 삽입된다. As shown in FIG. 13 , the first and second side portions 211 and 212 are spaced apart from each other at predetermined intervals in the vertical direction, and the nut portion 236 is inserted into the spaced portion.

제1 측부(211)에는 제1 수직공(211a)이 수직 방향으로 형성되고 제2 측부(212)에는 제2 수직공(212a)이 수직 방향으로 형성된다. 그리고, 너트부(236)에는 너트공(236a)이 수직 방향으로 형성된다. 너트부(236)가 제1,2 측부(211)(212) 사이에 삽입되면, 제1,2 수직공(211a)(212a)과 너트공(236a)은 서로 대응되도록 위치되고, 이에 따라 수직 스크류(251)가 제1,2 수직공(211a)(212a)과 너트공(236a)을 관통하여 삽입될 수 있다. A first vertical hole 211a is formed in the first side portion 211 in a vertical direction, and a second vertical hole 212a is formed in the second side portion 212 in a vertical direction. In addition, the nut part 236 has a nut hole 236a formed in a vertical direction. When the nut portion 236 is inserted between the first and second side portions 211 and 212 , the first and second vertical holes 211a and 212a and the nut hole 236a are positioned to correspond to each other, and thus vertical The screw 251 may be inserted through the first and second vertical holes 211a and 212a and the nut hole 236a.

상기 너트공(236a)의 내부면에는 나사산이 형성되어 있고 수직 스크류(251)의 외부면에는 너트공(236a)과 대응되는 부분에 나사산이 형성되어 있다. 따라서, 상기 나사산들이 나사 결합된 상태에서 수직 스크류(251)가 회전되면 안착부(230)가 승하강될 수 있다.A thread is formed on the inner surface of the nut hole 236a, and a thread is formed on the outer surface of the vertical screw 251 at a portion corresponding to the nut hole 236a. Accordingly, when the vertical screw 251 is rotated in a state in which the threads are screwed, the seating portion 230 may be raised and lowered.

도 14에 나타난 바와 같이, 제3 측부(213)에는 제3 수직공(213a)이 수직 방향으로 형성되고, 제3 수직공(213a)을 덮도록 스프링 덮개(214)가 설치된다. 그리고, 제3 측부(213)의 아래쪽으로 소정 간격으로 이격된 부분에 스프링 받침부(237)가 삽입된다. 참고로, 스프링 받침부(237)는 안착부(230)와 결합된 상태이므로 스프링 받침부(237)와 안착부(230)는 함께 승하강된다. 14 , a third vertical hole 213a is formed in the third side portion 213 in a vertical direction, and a spring cover 214 is installed to cover the third vertical hole 213a. Then, the spring support portion 237 is inserted into the portion spaced apart from the bottom of the third side portion 213 by a predetermined interval. For reference, since the spring support part 237 is coupled to the seating part 230 , the spring support part 237 and the seating part 230 are raised and lowered together.

스프링 받침부(237)에는 소정 깊이의 홈(237a)이 형성된다. 제3 측부(213)의 아래에 스프링 받침부(237)가 위치되면 제3 수직공(213a)과 홈(237a)이 서로 대응되고, 이 상태에서 제3 수직공(213a)과 홈(237a)에는 나선형 스프링(253)이 설치되며, 제3 수직공(213a)을 덮는 스프링 덮개(214)가 설치된다. 이 상태에서, 수직 스크류(251)가 회전되어 스프링 받침부(237)가 승하강될 때 나선형 스프링(253)은 제3 측부(213)와 스프링 받침부(237)가 서로 밀어지도록 탄성력을 인가하므로 수직 스크류(251)의 백래쉬를 없애주고, 이에 따라 승하강시 오차를 줄이거나 없앨 수 있다. A groove 237a having a predetermined depth is formed in the spring support portion 237 . When the spring support part 237 is positioned under the third side part 213 , the third vertical hole 213a and the groove 237a correspond to each other, and in this state, the third vertical hole 213a and the groove 237a The spiral spring 253 is installed, and a spring cover 214 covering the third vertical hole 213a is installed. In this state, when the vertical screw 251 is rotated and the spring support part 237 is raised and lowered, the spiral spring 253 applies an elastic force so that the third side part 213 and the spring support part 237 are pushed together. It is possible to eliminate the backlash of the vertical screw 251, thereby reducing or eliminating an error during elevating and lowering.

안착부(230)는 홀더(100)가 안착되는 부분으로서, 레일부(201)의 위에서 승하강이 가능하도록 설치된다. 안착부(230)는 지지면(231)과, 수직면(232), 및 수평홈(235)을 포함할 수 있다.The seating part 230 is a part on which the holder 100 is seated, and is installed so as to be able to ascend and descend on the rail part 201 . The seating part 230 may include a support surface 231 , a vertical surface 232 , and a horizontal groove 235 .

지지면(231)은 홀더 몸체(110)의 하단을 지지하도록 수평으로 형성된다. 수직면(232)은 지지면(231)과 수직을 이룬다. 수직면(232)에는 자석(233)이 설치되어 있으므로, 수직면(232)은 마스크(130)의 뒷면과 착탈 가능하게 밀착 결합된다. The support surface 231 is formed horizontally to support the lower end of the holder body 110 . The vertical surface 232 is perpendicular to the support surface 231 . Since the magnet 233 is installed on the vertical surface 232 , the vertical surface 232 is detachably and closely coupled to the back surface of the mask 130 .

수평홈(235)은 수직면(232)의 하단과 지지면(231) 사이에 수평 방향으로 형성된다.The horizontal groove 235 is formed in the horizontal direction between the lower end of the vertical surface 232 and the support surface 231 .

홀더 몸체(110)의 뒷면 하단에는 돌기(115)가 형성되어 있는데, 이 돌기(115)가 수평홈(235)에 삽입되도록 홀더 몸체(110)가 지지면(231)에 설치되면 자석(233)이 마스크(130)의 뒷면에 밀착 결합된다. A protrusion 115 is formed at the lower end of the rear surface of the holder body 110, and when the holder body 110 is installed on the support surface 231 so that the protrusion 115 is inserted into the horizontal groove 235, a magnet 233) It is closely coupled to the back side of the mask 130 .

안착부(230)의 후단에는 너트부(236)와 스프링 받침부(237) 및 가이드부(238)가 형성된다. 너트부(236)와 스프링 받침부(237)에 대해서는 상술한 바 있으므로 여기서는 설명을 생략하기로 한다.A nut part 236 , a spring support part 237 , and a guide part 238 are formed at the rear end of the seating part 230 . Since the nut part 236 and the spring support part 237 have been described above, descriptions thereof will be omitted here.

가이드부(238)는 너트부(236)와 스프링 받침부(237) 사이에서 수직으로 구비된다. 가이드부(238)는 안착부(230)의 승하강을 가이드한다. 가이드부(238)는 베이스부(210)에 수직으로 설치된 제1 가이드부와, 제1 가이드부와 마주보도록 안착부(230)에 수직으로 설치된 제2 가이드부를 포함할 수 있다. 제1 가이드부가 고정된 상태에서, 제2 가이드부는 제1 가이드부에 의해 가이드되면서 안착부(230)와 함께 수직으로 승하강된다. 가이드부(238)는 크로스 롤러 가이드 또는 LM 가이드일 수 있지만 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. The guide part 238 is vertically provided between the nut part 236 and the spring support part 237 . The guide part 238 guides the elevation of the seating part 230 . The guide part 238 may include a first guide part vertically installed on the base part 210 and a second guide part vertically installed on the seating part 230 to face the first guide part. In a state in which the first guide part is fixed, the second guide part is vertically elevated together with the seating part 230 while being guided by the first guide part. The guide portion 238 may be a cross roller guide or an LM guide, but is not necessarily limited thereto.

승하강부(250)는 수직 스크류(251)와 나선형 스프링(253)을 포함한다. 수직 스크류(251)와 나선형 스프링(253)에 대해서는 상술한 바 있으므로 여기서는 설명을 생략하기로 한다. The elevating unit 250 includes a vertical screw 251 and a helical spring 253 . Since the vertical screw 251 and the spiral spring 253 have been described above, their description will be omitted here.

레일부(201)는 안착부(230) 및 베이스부(210)의 아래에 설치된 것으로서, 하부의 스테이지(도면에 미도시)와 체결되기 위한 부분이다. 상기 체결은 시료대(300)를 슬라이딩 시키면서 이루어질 수 있다.The rail part 201 is installed under the seating part 230 and the base part 210 and is a part for fastening with the lower stage (not shown in the drawing). The fastening may be performed while sliding the sample table 300 .

한편, 위에서는 본 발명을 설명하기 위해서 단면 밀링(cross-section milling)을 예로 들었으나 본 발명은 플랫 밀링(flat milling)에도 적용될 수 있는데, 이러한 점은 본 명세서를 참조한 당업자가 자명하게 또는 쉽게 알 수 있을 것이다. Meanwhile, in the above, cross-section milling is exemplified to describe the present invention, but the present invention can also be applied to flat milling, which is apparent or easily understood by those skilled in the art with reference to the present specification. will be able

100 : 홀더 110 : 홀더 몸체
111 : 홈 112 : 관통공
113 : 고정 나사 115 : 돌기
119 : 너트공
130 : 마스크 131 : 나사공
133 : 마스크의 앞쪽 부분 134 : 마스크의 뒷부분
140 : 고정 수단 141 : 누름판
141a : 관통공 141b : 중앙부분
143 : 고정 축 145 : 나선 스프링
146 : 누름 부재 146a : 누름 나사
146b : 육각 볼트 150 : 지그
151 : 제1 면 152 : 제2 면
153 : 계단턱 154 : 제3 면
155 : 손잡이 156 : 자석
200 : 시료대 몸체 201 : 레일부
210 : 베이스부 211 : 제1 측부
211a : 제1 수직공 212 : 제2 측부
212a : 제2 수직공 213 : 제3 측부
213a : 제3 수직공 214 : 스프링 덮개
230 : 안착부 231 : 지지면
232 : 수직면 233 : 자석
236 : 너트부 236a : 너트공
237 : 스프링 받침부 237a : 홈
238 : 가이드부 250 : 승하강부
251 : 수직 스크류 253 : 나선형 스프링
300 : 시료대 s : 시료
g : 계단턱의 높이100: holder 110: holder body
111: groove 112: through hole
113: fixing screw 115: projection
119: nut ball
130: mask 131: screw hole
133: the front part of the mask 134: the back part of the mask
140: fixing means 141: press plate
141a: through hole 141b: central part
143: fixed shaft 145: spiral spring
146: pressing member 146a: pressing screw
146b: hex bolt 150: jig
151: first surface 152: second surface
153: stair sill 154: third side
155: handle 156: magnet
200: sample stage body 201: rail part
210: base 211: first side
211a: first vertical hole 212: second side
212a: second vertical hole 213: third side
213a: third vertical hole 214: spring cover
230: seating portion 231: support surface
232: vertical plane 233: magnet
236: nut part 236a: nut ball
237: spring support 237a: groove
238: guide unit 250: elevating unit
251: vertical screw 253: spiral spring
300: sample stage s: sample
g: the height of the step sill

Claims (12)

이온빔을 이용하여 밀링(milling) 작업을 할 때 시료를 고정하는 홀더에 있어서,
홀더 몸체(110);
홀더 몸체(110)에 설치되어 이온빔을 차단하는 마스크(130);
마스크(130)의 후방에 설치되어 시료(s)를 마스크(130)의 뒷면에 밀착되도록 하는 고정수단(140); 및,
계단턱(153)을 중심으로 제1 면(151)과 제2 면(152)을 갖는 지그(150);를 포함하고,
제1 면(151)은 제2 면(152) 보다 높은 곳에 위치하며, 이에 따라 제1 면(151)이 시료(s)와 밀착되고 제2 면(152)이 마스크(130)와 밀착되도록 지그(150)가 위치되면 시료(s)의 상단이 마스크(130)의 상단 보다 계단턱(153)의 높이(g)만큼 위로 돌출되는 것을 특징으로 하는 홀더. In a holder for fixing a sample when milling using an ion beam,
holder body 110;
a mask 130 installed on the holder body 110 to block the ion beam;
a fixing means 140 installed at the rear of the mask 130 so that the sample s is in close contact with the back of the mask 130 ; and,
Including; and a jig 150 having a first surface 151 and a second surface 152 around the step 153.
The first surface 151 is positioned higher than the second surface 152 , and thus the first surface 151 is in close contact with the sample s and the second surface 152 is in close contact with the mask 130 . When the (150) is positioned, the upper end of the sample (s) protrudes upward by the height (g) of the step 153 than the upper end of the mask 130. 제1항에 있어서,
지그(150)는 마스크(130)에 착탈 가능하며, 마스크(130)와 시료(s)의 높이를 조절한 후 제거되는 것을 특징으로 하는 홀더.According to claim 1,
The jig 150 is detachable from the mask 130, and is removed after adjusting the height of the mask 130 and the sample (s). 제2항에 있어서,
지그(150)는 자석(156)을 포함하고, 마스크(130)는 자석(156)과 결합되는 물질로 이루어지며,
지그(150)는 마스크(130)에 착탈 가능하게 부착되는 것을 특징으로 하는 홀더.3. The method of claim 2,
The jig 150 includes a magnet 156, and the mask 130 is made of a material coupled to the magnet 156,
The holder, characterized in that the jig 150 is detachably attached to the mask (130). 제1항에 있어서,
마스크(130)의 상단면 중 앞쪽 부분(133)은 제2 면(152)과 평행하게 형성되고 상기 앞쪽 부분(133)의 뒷부분(134)은 아래를 향한 경사면으로 이루어지고, 이에 따라 뒷부분(134)이 제2 면(152)과 간섭하는 것이 방지되는 것을 특징으로 하는 홀더. According to claim 1,
Among the upper surfaces of the mask 130 , the front portion 133 is formed parallel to the second surface 152 , and the rear portion 134 of the front portion 133 is formed as a downwardly inclined surface, and thus the rear portion 134 . ) is prevented from interfering with the second face (152). 제1항에 있어서,
고정수단(140)은,
시료(s)의 뒷면에 설치된 누름판(141);
그 선단이 홀더 몸체(110)에 체결되고 후단이 누름판(141)을 관통한 후 누름판(141)의 뒷면으로 돌출되는 고정 축(143);
고정 축(143)에 설치된 나선 스프링(145); 및,
고정 축(143)의 후단에 나사 결합된 누름 부재(146);를 포함하고,
나선 스프링(145)의 탄성 복원력에 의해 누름판(141)이 누름 부재(146)에 밀착되며, 누름 부재(146)를 회전시키는 것에 의해 누름 부재(146)가 누름판(141)을 가압하여 시료(s)가 마스크(130)의 뒷면에 밀착 고정되는 것을 특징으로 하는 홀더. According to claim 1,
The fixing means 140 is
a press plate 141 installed on the back side of the sample (s);
a fixed shaft 143 having its front end fastened to the holder body 110 and protruding to the rear of the pressing plate 141 after the rear end passes through the pressing plate 141;
Helical spring 145 installed on the fixed shaft 143; and,
Including; a pressing member 146 screwed to the rear end of the fixed shaft 143;
The pressing plate 141 is in close contact with the pressing member 146 by the elastic restoring force of the spiral spring 145, and by rotating the pressing member 146, the pressing member 146 presses the pressing plate 141 and the sample (s) ) is a holder characterized in that it is fixed in close contact with the back of the mask (130). 제5항에 있어서,
누름판(141)은 그 길이 방향을 따라 길게 형성되고 상기 길이 방향의 양쪽 단부에는 고정 축(143)이 관통하는 관통공(141a)이 각각 형성되며, 상기 길이 방향의 중앙 부분(141b)은 상기 양쪽 단부 보다 전방(前方) 또는 후방(後方)에 위치하고, 중앙 부분(141b)은 시료(s)를 마스크(130)에 대해 밀착, 가압하는 것을 특징으로 하는 홀더. 6. The method of claim 5,
The pressing plate 141 is formed to be elongated along its longitudinal direction, and at both ends in the longitudinal direction, through-holes 141a through which the fixing shaft 143 passes are formed, respectively, and the central portion 141b in the longitudinal direction is formed on both ends of the press plate 141 . A holder, characterized in that it is positioned in front or behind the end portion, and the central portion (141b) closely adheres and presses the sample (s) to the mask (130). 제2항에 있어서,
홀더 몸체(110)의 뒷면에는 마스크(130)와 형합하는 홈(111)이 형성되고, 마스크(130)는 홈(111)에 안착되도록 설치되며,
홀더 몸체(110)를 관통하도록 설치된 고정 나사(113)가 홈(111)에 안착된 마스크(130)와 체결되는 것을 특징으로 하는 홀더. 3. The method of claim 2,
A groove 111 matching the mask 130 is formed on the back side of the holder body 110, and the mask 130 is installed to be seated in the groove 111,
Holder, characterized in that the fixing screw (113) installed to penetrate the holder body (110) is fastened to the mask (130) seated in the groove (111). 이온빔을 이용하여 밀링(milling) 작업을 할 때 시료의 높이를 조절하기 위해서 사용되는 지그이고,
계단턱(153)의 일측에 형성된 제1 면(151);
계단턱(153)의 타측에 형성된 제2 면(152); 및,
제2 면(152)에서 아래로 수직으로 연장되어 형성된 제3 면(154);을 포함하고,
제1 면(151)과 제2 면(152)은 서로 평행하고 제3 면(154)과 수직을 이루며,
제1 면(151)은 제2 면(152) 보다 높은 곳에 위치하며, 이에 따라 제1 면(151)이 시료(s)와 밀착되고 제2 면(152)이 마스크(130)와 밀착되도록 지그(150)가 위치되면 시료(s)의 상단이 마스크(130)의 상단 보다 계단턱(153)의 높이(g)만큼 위로 돌출되는 것을 특징으로 하는 계단형 지그. It is a jig used to adjust the height of a sample when milling using an ion beam,
A first surface 151 formed on one side of the step 153;
a second surface 152 formed on the other side of the stair step 153; and,
Including; and a third surface 154 formed extending vertically downward from the second surface 152
The first surface 151 and the second surface 152 are parallel to each other and perpendicular to the third surface 154,
The first surface 151 is positioned higher than the second surface 152 , and thus the first surface 151 is in close contact with the sample s and the second surface 152 is in close contact with the mask 130 . Step type jig, characterized in that when the 150 is positioned, the upper end of the sample s protrudes upward by the height g of the step 153 than the upper end of the mask 130. 제8항에 있어서,
자석(156)을 더 포함하고, 자석(156)은 지그(150)를 마스크(130)에 착탈 가능하게 결합시키는 것을 특징으로 하는 계단형 지그. 9. The method of claim 8,
It further comprises a magnet 156, the magnet 156 is a step-type jig, characterized in that the jig 150 is detachably coupled to the mask 130. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 홀더(100); 및,
홀더(100)가 안착되어 고정되는 시료대 몸체(200);를 포함하고,
시료대 몸체(200)는,
베이스부(210);
베이스부(210)에 승하강 가능하도록 설치된 안착부(230); 및,
베이스부(210)에 수직으로 설치되어 안착부(230)를 승하강 시키는 승하강부(250);를 포함하는 것을 특징으로 하는 시료대. The holder 100 of any one of claims 1 to 7; and,
The holder 100 is seated and fixed to the sample stage body 200, including;
The sample stage body 200,
base 210;
a seating part 230 installed so as to be able to ascend and descend on the base part 210; and,
The sample table, characterized in that it comprises a; elevating unit (250) installed vertically on the base unit (210) for elevating the seating unit (230). 제10항에 있어서,
안착부(230)는,
홀더 몸체(110)의 하단을 지지하도록 수평으로 형성된 지지면(231);
지지면(231)과 수직을 이루도록 형성되고, 마스크(130)의 뒷면과 밀착되며 마스크(130)와 결합되기 위한 자석(233)을 갖는 수직면(232); 및,
수직면(232)의 하단과 지지면(231) 사이에 수평 방향으로 형성된 수평홈(235);을 포함하고,
홀더 몸체(110)의 뒷면 하단에는 돌기(115)가 형성되고, 돌기(115)가 수평홈(235)에 삽입되도록 홀더 몸체(110)가 지지면(231)에 설치되면 자석(233)이 마스크(130)의 뒷면에 밀착 결합되는 것을 특징으로 하는 시료대. 11. The method of claim 10,
The seating part 230 is
a support surface 231 formed horizontally to support the lower end of the holder body 110;
a vertical surface 232 that is formed to be perpendicular to the support surface 231 , is in close contact with the back surface of the mask 130 , and has a magnet 233 for coupling with the mask 130 ; and,
A horizontal groove 235 formed in the horizontal direction between the lower end of the vertical surface 232 and the support surface 231; includes;
A protrusion 115 is formed at the bottom of the rear surface of the holder body 110, and when the holder body 110 is installed on the support surface 231 so that the protrusion 115 is inserted into the horizontal groove 235, the magnet 233 is a mask. A sample stand, characterized in that it is closely coupled to the back side of the (130). 제10항에 있어서,
승하강부(250)는,
베이스부(210)의 일측에 설치되되, 베이스부(210)를 수직 방향으로 관통하도록 설치되고, 그 외부면 중의 적어도 일부에는 나사산이 형성된 수직 스크류(251);
베이스부(210)의 타측에 설치된 나선형 스프링;
안착부(230)의 일측에 구비되고, 수직 스크류(251)의 나사산과 나사 결합되는 나사산이 형성된 너트부(236);
상기 나선형 스프링을 지지하도록 안착부(230)의 타측에 구비된 스프링 받침부(237);를 포함하고,
수직 스크류(251)가 회전되면 상기 나사 결합에 의해 안착부(230)가 승하강되고 나선형 스프링은 스프링 받침부(237)와 베이스부(210)를 서로 밀어내는 탄성력을 제공하는 것을 특징으로 하는 시료대. 11. The method of claim 10,
Elevating unit 250,
a vertical screw 251 installed on one side of the base part 210 and installed to pass through the base part 210 in a vertical direction, and having a thread formed on at least a portion of its outer surface;
a helical spring installed on the other side of the base portion 210;
a nut portion 236 provided on one side of the seating portion 230 and having a screw thread coupled to the screw thread of the vertical screw 251;
and a spring support part 237 provided on the other side of the seating part 230 to support the spiral spring.
When the vertical screw 251 is rotated, the seating part 230 is raised and lowered by the screw coupling, and the spiral spring provides an elastic force for pushing the spring support part 237 and the base part 210 to each other. big.
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