KR20220085043A - 가스 퀀칭 셀 - Google Patents

Abstract

본 개시는 가스 냉각 셀에 관한 것이며, 이 셀은 챔버와, 챔버 내부에 있는 처리 공간으로 접근하기 위한, 챔버 내의 하나 이상의 개구와, 개구를 폐쇄하는 하나 이상의 도어와, 챔버 내부에 있는 시스템(4)으로서, 하나 이상의 가동성 벽(42)을 구비하며, 이 벽이 상기 개구와 상기 처리 공간 사이에서 차단막을 형성하는 제1 위치와 상기 벽이 상기 개구로부터 상기 처리 공간으로 접근하는 것을 허가하는 제2 위치 사이를, 이동 가능한, 시스템을 구비한다.

Description

가스 퀀칭 셀

본 특허출원은, 여기에 참조로 포함된 프랑스 특허출원 FR19/11902의 우선권을 주장한다.

본 명세서는 일반적으로는 금속 또는 유리 부품 처리 장치에 관한 것이며, 더 상세하게는 가스 퀀칭 셀에 관한 것이다.

가스 퀀칭 셀은, 금속 또는 금속을 기반으로 하는 합금, 또는 심지어 유리로 이루어진 부품을 처리하는 산업에서 특히 널리 퍼져있다. 고체-상태 부품의 이 처리는 일반적으로 급속 냉각(퀀칭) 열 처리이다.

퀀칭 셀은 챔버에 놓여져 그 안에 준비된 처리될 부품을 냉각하기 위한 가스(또는 퀀칭하기 위한 가스)의 순환을 갖는 기밀성 챔버로 일반적으로 형성된다. 이 순환은 처리의 품질과 장치의 성능을 조절한다.

일 실시형태는 공지된 퀀칭 셀의 단점의 전부 또는 부분을 극복한다.

일 실시형태는 개선된 퀀칭 가스의 순환을 갖는 퀀칭 셀을 제공한다.

일 실시형태는 가스 냉각 셀을 제공하며, 가스 냉각 셀은,

일반적으로 원통형 형태의 챔버와,

챔버 내부에 있는 처리 공간으로 접근하기 위한, 챔버 내의 하나 이상의 개구와,

개구를 폐쇄하는 하나 이상의 도어(door)와,

챔버 내부에 있는 시스템으로서, 하나 이상의 가동성 벽을 구비하며, 이 벽이 개구와 처리 공간 사이에 차단막을 형성하는 제1 위치와 상기 벽이 개구로부터 처리 공간으로 접근하는 것을 허가하는 제2 위치 사이를, 원통형 챔버의 축에 평행한 방향으로 이동 가능한, 시스템

을 구비한다.

일 실시형태에 따르면, 가동성 벽은 처리 공간을 향하여 가스 흐름을 보내는 것에 참여한다.

일 실시형태에 따르면, 셀은 처리 공간으로의 접근을 위한 복수의 개구를 구비하며, 상기 시스템은 각 개구와 처리 공간 사이에 가동성 벽을 구비한다.

일 실시형태에 따르면, 챔버는 처리 공간으로의 접근을 위한 2개의 개구를 구비한다.

일 실시형태에 따르면, 상기 시스템은 처리 공간 주위에 프레임을 형성하도록 배치된 4개의 벽을 구비한다.

일 실시형태에 따르면, 프레임은, 제1 위치에 있을 때, 처리 공간에 배치된 적재물을 둘러싸기 위한 것이다.

일 실시형태에 따르면, 챔버 내의 가스 순환은, 처리 공간을 포함하는 챔버의 중앙 부분에서 제1 방향으로 챔버의 주변부에서 제2 방향으로, 폐쇄적 순회로 실행된다.

일 실시형태에 따르면, 벽(들)은 하측 엣지의 레벨에 변류기(deflector) 구성요소가 장착된다.

일 실시형태에 따르면, 벽(들)은 병진(translation)으로 수직하게 이동 가능하다.

일 실시형태에 따르면, 셀은 가동성 벽(들)을 갖는 시스템의, 한 위치에서 다른 위치로의 변위를 제어하는 기구를 더 구비한다.

일 실시형태에 따르면, 상기 기구는,

가동성 벽(들)의 운동의 방향에 직교하는 축을 따르는 회전 샤프트와,

샤프트의 회전 운동을 가동성 벽(들)의 병진 운동으로 전환시키는 하나 이상의 아암을 구비한다.

일 실시형태에 따르면, 샤프트의 회전은, 실린더의 병진 운동을 샤프트의 회전 운동으로 전환시키는 커넥팅 로드(connecting rod) 기구에 의하여 챔버의 외부로부터 발생된다.

일 실시형태에 따르면, 처리 공간은 적재물을 수용하기 위한, 적재물 지지체를 구비한다.

일 실시형태에 따르면, 셀은 적재물 지지체와 일렬로 수직하게 배치된 터빈을 구비하며, 터빈은

챔버 내부에, 팬과,

챔버 외부에, 액추에이터

를 구비한다.

일 실시형태에 따르면, 팬은 가스를 처리 공간으로 안내하기 위한 덕트의 내부에 있다.

일 실시형태에 따르면, 벽(들)은, 제1 위치에서, 덕트의 벽들의 전부 또는 일부를 연장하고 있다.

전술의 특징 및 장점 뿐만아니라 다른 특징 및 장점이, 첨부된 도면을 참조하여 그것으로 한정되지 않는 예로서 제공된 특정 실시형태에 대한 다음의 설명에서 상세하게 설명될 것이다.
도 1은 퀀칭 셀의 일 실시형태의 외부 사시도이다.
도 2는 퀀칭 셀의 일 실시형태의 부분 사시 단면도 A 및 B를 나타낸다.
도 3은 퀀칭 셀에 대한 가동성 벽을 갖는 시스템의 바람직한 실시형태의 사시도이다.
도 4는 퀀칭 셀에 포함된, 가동성 벽 시스템과 그의 작동 메카니즘의 일 실시형태의 사시 단면도이다.

동일한 특징들은 각 도면에서 동일한 참조부호로 지정된다. 특히, 여러 실시형태들에서 공통인 구조적 및/또는 기능적 특징은 동일한 참조부호를 가질 수 있고 동일한 구조적, 치수적 및 물질적 특성을 부여할 수 있다.

명확성을 위하여, 여기에서 설명된 실시형태들을 이해하기 위해 유용한 단계와 구성요소만이 도시되고 상세하게 기재된다. 특히, 각 퀀칭 가스의 유동율, 부피, 온도 및 압력에 따른, 처리될 부품에 대한, 각 퀀칭 가스의 영향은 공지되어 있어서 상세하게 설명되지 않을 것이며, 기재된 실시형태들은 일반적 처리 및 파라미터(유동율, 부피, 압력, 온도 등)와 호환가능할 수 있다.

특별한 지시가 없다면, 2개의 구성요소가 서로 접속되어 있다고 언급되는 경우, 이것은 도전체 이외의 어떤 중간 구성요소가 없는 직접 접속을 의미하며, 2개의 구성요소가 서로 결합되어 있다고 언급되는 경우, 이것은 이들 2개의 구성요소가 서로 접속될 수 있거나 또는 하나 이상의 다른 구성요소를 통하여 결합될 수 있음을 의미한다.

다음의 설명에서, 용어 "앞", "뒤", "상부면", "하부면", "왼쪽", "오른쪽" 등과 같은 절대 위치를 한정하는 용어, 또는 용어 "위", "아래", "상측", 하측" 등과 같은 상대 위치를 한정하는 용어, 또는 용어 "수평", "수직" 등과 같은 방향을 한정하는 용어가 언급되는 경우에는, 특별한 언급이 없다면, 일반적인 사용 위치의 퀀칭 셀 또는 도면의 배향을 나타낸다.

특별한 언급이 없다면, 표현 "약", "대략", "실질적으로" 및 "정도의"는 10% 내, 바람직하게는 5% 내를 의미한다.

도 1은 급속 냉각 셀 또는 퀀칭 셀(1)의 일 실시형태의 사시도이다.

그런 셀(1)은 일반적으로 금속, 금속 합금, 또는 유리로 이루어진 부품을 처리하기 위한 장치 또는 라인의 부분을 형성하며, 이것은 다른 부품 제조 및 처리 스테이션을 구비한다.

가스 퀀칭 셀(1)은, 예를 들어 일반적으로 원통 형상의 챔버(3)를 구비한다. 챔버(3)는 수직 또는 수평의 주 방향(주 가스 순환 방향)을 갖는다.

도 1에 도시된 바람직한 예에서, 챔버(3)는 수직 축을 갖는 원통형 챔버이다. 챔버(3)는 지지체(5) 또는 레그(leg) 상에 놓여 있다.

챔버(3)는 챔버 내부의 처리 공간으로 접근하기 위한 2개의 개구(도 1에서는 미도시)를 구비한다. 2개의 개구들은 바람직하게는 서로의 앞에 있다. 이 2개의 개구는, 특히 인라인 장치에서, 처리될 부품을 도입 또는 싣기 위하여 그리고 처리된 부품을 빼내기 위하여, 즉 적재물 이송을 위하여 각각 사용된다. 변형으로서, 처리 장치내의 셀의 배치에 따라서, 챔버는 부품을 싣고 빼내기 위하여 사용되는 단일 개구를 구비한다. 각 개구는 챔버(3) 외부에 있는, 도어(door, 9)와 연결되어 있다. 도어(9)는 예를 들어 수평의 가이드 레일들(11) 사이에서 미끄러지기 쉽게 조립된 도어로서 모터(13)에 의하여 움직인다. 도어(9)는 셀(1)의 기밀성 폐쇄를 보장하며, 퀀칭 셀(1)의 챔버(3)의 내부는, 작동 시에, 일반적으로 1 내지 20 바(bars)의 범위의 압력에 있다.

도시된 예에서, 개구들 중 하나는 셀(1)을 구비하는 장치의 나머지의 모듈(미도시)에 셀(1)을 결합하기 위한 구성요소(15)와 연결되어 있다. 예를 들어 히팅 셀 또는 이송 챔버이다. 이 연결은 이 처리 모듈과 퀀칭 셀 사이에서, 외부에 다시 놓지 않고도, 처리될 부품의 자동 이송을 용이하게 할 수 있다. 두 개구들은 각각 셀 외부의 모듈과 연결될 수 있다.

가스 퀀칭 셀(1)은 퀀칭 중에 가스를 냉각하기 위한 교환기(exchanger)를, 챔버 내부에 더 구비한다. 교환기에는 덕트(17)에 의하여, 냉각수, 예를 들어 물이 공급된다.

가스는, 도 1의 셀의 예에서, 챔버(3)의 상측 부분에 놓여 있는 덕트(19)에 의하여 도입된다. 예로서, 셀(1)에서 퀀칭에 사용되는 가스는 질소, 헬륨, 및/또는 아르곤이다.

도 2는 퀀칭 셀의 일 실시형태를, 부분 사시 단면도 A 및 B로 보여준다.

도 2의 도면 A는 퀀칭 사이클 시의 셀(1)을 보여주며, 셀 도어(9)가 폐쇄되어 있다. 도 2의 도면 B는, 예를 들어 처리될 부품을 싣거나 또는 처리된 부품을 빼내는 단계에서, 도어(9)가 개방된 셀(1)을 보여준다.

셀(1)은, 챔버(3)의 내부에, 처리 공간(39)의 높이로, 처리될 적재물(23)을 수용하기 위한 지지체(21)를 구비한다. 적재물 지지체(21)는 챔버(3)의 내부에 적재물을 배치할 수 있도록 선택되어서, 적재물은 챔버(3)의 수평 평면 중앙에 있고 개구(25)에 맞춰 정렬되어 있다(도 2B)

적재물(23)은, 챔버에서 적재물에 의하여 차지된 부피를 나타내는, 직육면체로 도 2에 개략적으로 도시되어 있다. 특히 이 적재물은, 하나 또는 복수의 개방형-작업 바구니 및/또는 개방형-작업 판에 배치된, 복수의 처리될 부품을 구비한다.

셀(1)은 적재물 지지체(21)와 일렬로 수직하게 터빈을 더 구비한다. 터빈은 챔버(3) 내부에, 팬(27) 및 챔버 외부에, 구동 모터(29)를 구비한다. 샤프트(31)는 챔버(3)의 상측 부분을 가로질러서 모터(29)를 팬(27)에 결합한다.

팬(27)은 적재물 지지체(21)를 향하여 가스를 안내하기 위한 덕트(32)의 내부에 배치된다. 팬(27)은 바람직하게는 덕트(32)의 상측 단부의 내부에 위치된다. 덕트(32)는 바람직하게는 팬을 구비하는 상측 부분에서 원형의 단면을 가지며, 다른 단부에서는, 처리될 적재물이 내접되는 형상으로 적절한, 정사각형 또는 직사각형 단면을 갖는다.

적재물(23)의 퀀칭 시에, 셀(1)의 챔버(3) 내의 퀀칭 가스의 순환은 일반적으로 폐쇄적 순회로 실행된다. 팬(27)은 덕트(32) 내의 가스를 아래로 향하게, 즉 지지체(21)를 향하게, 따라서 처리될 적재물(23)을 향하게 구동한다. 퀀칭 가스는, 덕트(32)와 챔버(3)의 벽 사이의 주변 공간을 통하여 챔버에서 다시 올르기 전에 처리 공간(39)에 놓인 적재물(23)을 가로지른다.

팬에 의하여 가속화된 가스 순환은 더 급속한 냉각을 할 수 있게 한다. 급류에 의하여, 금속 부품에 대한 냉각율은 대략 초당 5도 내지 대략 초당 10도의 범위에 있음을 의미한다.

열 교환기(33)는 주변 공간에, 바람직하게는 팬(27)의 레벨에서 상측 부분에 위치된다. 교환기(33)는, 폐쇄적 순회 순환에서 적재물(23)을 향하여 다시 몰고 가기 전에 가스를 냉각시키는 기능을 갖는다.

챔버의 하측 부분에서 가스 흐름의 순환을 용이하게 하기 위하여, 더 상세하게는 가스를 중앙 부분에서 챔버의 주변으로 다시 보내기 위해서, 위로 향하는 원뿔형 구조물(35)을 적재 지지체(21) 아래에 배치시킨다. 원뿔(35)의 첨단(tip)은 팬(27)의 축과 대략 동축이다.

아래로 향하는, 유사한 원뿔형 구조물(35')을 챔버의 상측 부분에 제공하여, 교환기에 의하여 냉각된 가스 흐름을, 주변 순환 공간에서 챔버의 중앙으로 다시 가져오게 한다. 구조물(35')의 원뿔의 첨단은 팬의 축과 대략 동축이다.

원뿔 구조물(35 및 35')은 챔버의 중앙에서는 상부면에서 바닥면으로 그리고 챔버의 주변에서는 바닥면에서 상부면으로 가스 순환을 용이하게 한다.

바람직하게는, 적재물 상에 도달하는 가스 흐름을 균질화하기 위하여 사용된 그리드(37)가 덕트(32)의 내부에, 바람직하게는 하측 단부의 레벨에 배채된다. 그리드(37)의 기능은 적재물(23)의 레벨에서 층류의 가스 흐름을 만드는 것이다.

처리의 품질과 장치의 성능은 챔버(3) 내의 가스 순환의 균질성에 의존한다. 설명된 실시형태는 처리 챔버에서의 가스 흐름의 새로운 분석에서 기인한다. 이러한 분석으로부터, 도어(9)의 존재, 특히 개구(25)의 존재 및 대응하는 도어 프레임의 존재는 챔버 내의 가스의 층류의 흐름을 방해하는 소용돌이를 생성하는 경향이 있는 것으로 나타난다. 이것은 주변의 가스의 상향 흐름뿐만 아니라, 특히 적재물의 레벨에서 하향의 가스 흐름의 균질성 그리고 개구(25) 앞에 위치된 적재물 부분의 레벨에서 상부면에서 바닥면까지의 적재물에서의 하향 가스의 흐름의 균질성을 방해한다. 이 현상은, 대부분의 경우에 대응하는, 원통형 챔버의 경우에 커진다.

이 현상을 극복하기 위하여, 셀(1)에는 챔버(3)의 각 개구(25)와 연결하고 있는, 가동성 벽 시스템(42)이 제공되며, 가동성 벽(42)은 챔버의 내부에서 원통형인 챔버의 축방향으로 이동 가능하며, 개구(25)는 챔버의 주변에 있으나 축 단부에는 있지 않다. 즉, 개구(25)와 벽(42)은 챔버의 축에 평행한 평면들에 있다.

벽(42)의 기능은 개구(25)와 처리 공간(39) 사이에, 더 상세하게는 개구와 적어도 이들 개구 앞에 있는 적재물(23)의 부분 사이에, 차단막을 형성하는 것이다. 처리될 부품을 셀(1)에 싣고 처리된 부품을 빼내는 것을 방해 받지 않게 하기 위하여, 벽(42)은 적어도, 도 2A에 도시된 제1 (낮은) 위치로서, 적재물(23)과 대응하는 개구(25) 사이에서 차단막을 형성하는 제1 위치와, 도 2B에 도시된 제2 (높은) 위치로서, 적재물 지지체(21)로의 접근, 따라서 처리 공간(39)으로의 접근을 허가하는 제2 위치 사이에서 이동 가능하다.

도 2의 도면 A는 퀀칭 사이클 중의 벽(42)의 위치를 나타낸다. 각 가동성 벽(42)은 덕트(32)의 벽의 연속으로서 위치된다. 이 위치에서, 가동성 벽(42)은, 개구(25)에 의하여 발생되는, 챔버(3)의 내의 상향 흐름의 가능한 교란으로부터 적재물(23)을 통과하는 하향 흐름을 보호한다. 도시된 예에서, 가동성 벽(42)은 또한 덕트(32)를 아래로 계속 잇게 됨으로써, 적재물을 향하는 하향 흐름을 안내하기 위하여 사용된다.

도 2의 도면 B는 퀀칭 사이클 이외, 예를 들어 셀(1)의 도어(9)가 개방되어 있을 때의 벽(42)의 위치를 나타낸다. 가동성 벽(42)은 이 때 개구(25)로의 접근을, 역으로 처리 공간(39)으로 따라서 적재물로의 접근을 허가하도록 위치된다. 바람직하게는, 이 위치에서, 가동성 벽(42)은, 예를 들어 덕트(32)의 양측에서 올려진다.

가동성 벽(42)의 수는 다양할 수 있고, 예를 들어 챔버(3)의 형태와 챔버 내부의 구성요소에 따른다. 기재된 실시형태에서, 챔버는 일반적으로 원통 형상을 가지며, 벽은 챔버의 축에 평행한 방향으로 이동 가능하다. 예를 들어 단일 개구(25)를 갖는 챔버는 단일 가동성 벽이 제공될 수 있다. 바람직한 실시형태에 따르면, 4개의 가동성 벽이 제공된다. 이것은 처리 공간(39)을, 따라서 적재물(23)을 둘러싸게 할 수 있어서, 그것을 통해 안내하는 가스 흐름의 기능을 개선한다.

벽(42)에 의하여 조정된 흐름의 안내는, 적재물을 가로지른 후의 상향 가스 흐름으로부터 하향 가스 흐름을 분리시키게 할 수 있다. 따라서, 하향 가스 흐름(적재물을 처리하기 위한 가스 흐름)은, 도어(9)의 프레임(25)의 레벨에서 가능한 가스 소용돌이 영향에 의하여 거의 또는 더 이상 방해받지 않는다. 이것은 처리 흐름을 균질화하게 할 수 있어서, 처리된 부품의 품질을 개선시킨다.

도 3은 퀀칭 셀을 위한 가동성 벽(42)을 갖는 시스템(4)의 바람직한 실시형태의 사시도이다.

이 실시형태에 따르면, 시스템(4)은 프레임(44), 또는 슬리브 또는 침니(chimney), 예를 들어 직육면체를 형성하도록 배치된 4개의 벽(42)을 구비한다. 프레임(44)은 높은 위치(도 2의 도면 B)와 낮은 위치(도 2의 도면 B) 사이에서, 원통형 챔버의 축에 평행하게 이동 가능하다. 예를 들어 프레임(44)은, 2개의 위치 사이에서 프레임(44)을 이동시키기에 적절한 제어 기구에 결합시키기(매달기) 위한 태브(tab)(46)를, 2개의 대향하는 벽(42)의 상측 부분에 구비한다.

예를 들어, 기구(5)는, 굽혀진 아암(52)의 제1 단부가 결합된 수평 샤프트(54)를 구비한다. 아암(52)의 제2 단부는, 수직 평면에서, 원형의 호를 따르는 포트 또는 슬롯을 구비한다. 각 포트(56)는 프레임(44)을 매달기 위한 수직 태브(46) 중 하나의 수평 핀(48)을 미끄러지기 쉽게 수용한다.

기구(5)의 기능은 축 X에 대한 샤프트(54)의 회전 운동을 높은 위치 및 낮은 위치 사이에서의 프레임(44)의 수직 병진 운동으로 변환하는 것이며, 핀(48)은 샤프트(54)의 회전의 영향으로 아암(52)의 수직 피봇팅과 함께 한 위치에서 다른 위치로 이동하도록 포트(56) 내에서 미끄러진다. 샤프트(54)의 축 X은 따라서 벽(42)의 이동의 방향에 직교한다.

샤프트(54)는 바람직하게는 프레임(44)에 대하여 측방향으로 오프셋 방식으로 배치되어서, 덕트(32)의 외부에 있으며 가스 순환을 방해하지 않는다.

그런 운동 변환을 제공하는 장점은 셀(3)의 기밀성을 유지하면서 챔버의 외부로부터 가동성 벽(42)을 갖는 시스템(4)의 수직 병진의 제어를 용이하게 한다는 것이다. 예를 들어, 샤프트(54)는 단단한 접속으로 지지되면서 수평하게 챔버(3)를 가로지르고, 그의 회전은, 실린더(66)의 병진 운동, 예를 들어 수직 운동을 샤프트(54)의 회전 운동으로 변환시키는 접속 로드(64)에 의하여 외부로부터 기구(6)에 의하여 제어된다.

낮은 위치에서, 벽(42)의 프레임(44)은 적재물을 둘러싸고 있으며, 따라서 챔버의 주변을 따라서 올라가는 가스 흐름으로부터 그것을 보호한다. 적재물은 따라서 챔버(3)의 개구(25)에 의하여 발생된 가능한 층류 방해에 의하여 영향을 받지 않는다.

도 3에 도시된 바와 같이 적재물을 둘러싸는 시스템의 장점은 낮은 위치에서 벽(42)이 덕트(32)를 연장하고 있어서 챔버의 상부면으로부터 처리 공간(39)까지의 층류 가스 흐름을 도울 수 있다.

바람직하게는, 벽(42)은, 하측 부분에, 가스 순환 시에, 특히 하방에서 상방으로의 순환 방향의 역전의 레벨에서, 벽(42)의 하측 엣지의 영향을 감쇄시키기 위하여 둥근 형태의 변류기(deflector)(425)를 구비한다.

도 4는 도 3과 관련하여 설명된 바와 같은 시스템(4)이 장착된 퀀칭 셀(1)의 일 실시형태의 수직 단면의 부분 사시도이다.

도 2 및 도 3과 관련하여 설명된 다른 구성요소들을 그 안에서 발견할 수 있다. 도 4의 도면에서, 프레임(44)은 낮은 위치에 있다. 셀의 하측 부분은 도 4에 도시되어 있지 않다.

도 4는 팬 아래에 위치되는 기구에 대하여 가스 순환을 방해하는 것을 피하기 위하여 중심에서 벗어난 샤프트(54)의 위치를 강조하여 나타내고 있다. 샤프트(54)가 팬과 나란하게 위치되지 않았다는 사실도 중심에서 벗어난 회전 운동에 의한 아암의 형태를 정의한다.

도 4는 또한 챔버에 대한 기구(6)의 고정부(67)와 실린더(66)의 액추에이터(68)를 보여준다.

다양한 실시형태들과 변형들이 기재되어 있다. 당업자는, 이들 다양한 실시형태들과 변형들의 일부 특징들이 결합될 수 있으며, 다른 변형들이 당업자에 의하여 발생할 것임을 이해할 것이다. 특히, 가동성 벽(42)을 갖는 시스템(4)과 벽 변위 기구(5)를 챔버(3)의 형태에 적용하는 것 그리고 이 형태에 연결된 구속 수단을 고려하는 것은 이상의 설명을 기초로하는 당업자의 능력 내에 있다.

마지막으로, 기재된 실시형태와 변형의 실제적 실현은 이상에서 제공된 기능적 지시, 특히 관련된 퀀칭 셀과 더 일반적으로는 처리 장치로의 적용에 대한 기능적 지시를 기초로하여 당업자의 능력 내에 있다.

Claims (16)

1. 가스 냉각 셀(1)로서,
   일반적으로 원통형 형태(3)의 챔버와,
   상기 챔버 내부에 있는 처리 공간(39)으로 접근하기 위한, 상기 챔버(3) 내의 하나 이상의 개구(25)와,
   상기 개구를 폐쇄하는 하나 이상의 도어(door; 9)와,
   상기 챔버 내부에 있는 시스템(4)으로서, 하나 이상의 가동성 벽(42)을 구비하며, 이 벽이 상기 개구와 상기 처리 공간 사이에서 차단막을 형성하는 제1 위치와 상기 벽이 상기 개구로부터 상기 처리 공간으로 접근하는 것을 허가하는 제2 위치 사이를, 상기 원통형 챔버의 축에 평행한 방향으로 이동 가능한, 시스템
   을 구비하는 가스 냉각 셀.
2. 제1항에 있어서,
   상기 가동성 벽(42)은 상기 처리 공간(39)을 향하여 가스 흐름을 보내는 것에 참여하는 셀.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 처리 공간(39)으로의 접근을 위한 복수의 개구들(25)을 구비하며, 상기 시스템(4)은 상기 각 개구(25)와 상기 처리 공간(39) 사이에 가동성 벽(42)을 구비하는 셀.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 챔버(3)는 상기 처리 공간(39)으로의 접근을 위한 2개의 개구들(25)을 구비하는 셀.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 시스템(4)은 상기 처리 공간(39) 주위에 프레임(44)을 형성하도록 배치된 4개의 벽들(42)을 구비하는 셀.
6. 제5항에 있어서,
   상기 프레임(44)은, 상기 제1 위치에 있을 때, 상기 처리 공간(39)에 배치된 적재물(load; 23)을 둘러싸기 위한 것인 셀.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 챔버(3) 내의 가스 순환은, 상기 처리 공간(39)을 포함하는 상기 챔버의 중앙 부분에서 제1 방향으로 그리고 상기 챔버의 주변에서 제2 방향으로, 폐쇄적 순회(closed-circuit)로 실행되는 셀.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 벽(들)(42)은 하측 엣지의 레벨에 변류기(deflector) 구성요소(425)가 장착되는 셀.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 벽(들)(42)은 병진(translation)으로 수직하게 이동 가능한 셀.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가동성 벽(들)을 갖는 시스템(4)의, 한 위치에서 다른 위치로의 변위를 제어하는 기구(5)를 더 구비하는 셀.
11. 제10항에 있어서,
    상기 기구(5)는,
    상기 가동성 벽(들)의 운동의 방향에 직교하는 축(X)을 따르는 회전 샤프트(54)와,
    상기 샤프트의 회전 운동을 상기 가동성 벽(들)(42)의 병진 운동으로 전환하는 하나 이상의 아암(52)을 구비하는 셀.
12. 제11항에 있어서,
    상기 샤프트(54)의 회전은, 실린더(66)의 병진 운동을 상기 샤프트(54)의 회전 운동으로 전환시키는 커넥팅 로드(connecting rod) 기구(6)에 의하여 상기 챔버(3)의 외부로부터 발생되는 셀.
13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리 공간(39)은 적재물(23)을 수용하기 위한, 적재물 지지체(21)를 구비하는 셀.
14. 제13항에 있어서,
    상기 적재물 지지체(21)와 일렬로 수직하게 배치된 터빈을 구비하며, 상기 터빈은,
    상기 챔버(3) 내부에, 팬(27)과,
    상기 챔버 외부에, 액추에이터(29)
    를 구비하는 셀.
15. 제14항에 있어서,
    상기 팬(27)은 상기 가스를 상기 처리 공간(39)으로 안내하기 위한 덕트(32)의 내부에 있는 셀.
16. 제15항에 있어서,
    상기 벽(들)(42)은, 제1 위치에서, 상기 덕트(32)의 벽들의 전부 또는 일부를 연장하는 셀.

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