KR20220082144A - 포토마스크 조립체 - Google Patents

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KR20220082144A
KR20220082144A KR1020200171344A KR20200171344A KR20220082144A KR 20220082144 A KR20220082144 A KR 20220082144A KR 1020200171344 A KR1020200171344 A KR 1020200171344A KR 20200171344 A KR20200171344 A KR 20200171344A KR 20220082144 A KR20220082144 A KR 20220082144A
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insulating layer
photomask assembly
layer
opening
lens unit
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박형규
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삼성디스플레이 주식회사
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Abstract

일 실시예에 따른 포토마스크 조립체는 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 위치하며 친수성을 가지는 제1 절연층, 상기 제1 절연층 상에 위치하며 제1 개구부를 가지는 제1 금속층, 상기 제1 금속층 상에 위치하며 소수성을 가지는 제2 절연층, 및 상기 제1 개구부 내에 위치하는 렌즈부를 포함한다.

Description

포토마스크 조립체{PHOTOMASK ASSEMBLY}
본 개시는 포토마스크 조립체에 관한 것이다.
표시 장치의 제조 공정에서, 신호 배선 등을 형성하기 위하여 리소그래피 공정을 이용한다. 리소그래피 공정에서는 원하는 패턴을 기판 상에 전사하기 위해 포토마스크 조립체를 이용한다. 신호 배선의 선폭이 감소함에 따라 이를 구현하기 위해 리소그래피 공정에 사용되는 포토마스크 조립체의 중요도가 높아지고 있다.
실시예들은 미세 선폭을 가지는 신호 배선을 형성 가능한 포토마스크 조립체를 제공하기 위한 것이다.
일 실시예에 따른 포토마스크 조립체는 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 위치하며 친수성을 가지는 제1 절연층, 상기 제1 절연층 상에 위치하며 제1 개구부를 가지는 제1 금속층, 상기 제1 금속층 상에 위치하며 소수성을 가지는 제2 절연층, 및 상기 제1 개구부 내에 위치하는 렌즈부를 포함한다.
상기 포토마스크 조립체는 상기 투명 기판과 중첩하는 펠리클을 더 포함하고, 상기 렌즈부는 상기 펠리클을 향해 돌출된 일면을 포함할 수 있다.
상기 렌즈부는 상기 제1 개구부 내에 위치하는 복수의 서브 렌즈부를 포함할 수 있다.
상기 포토마스크 조립체는 복수의 서브 렌즈부를 덮는 폴리머층을 더 포함할 수 있다.
상기 복수의 서브 렌즈부와 상기 폴리머층은 서로 다른 굴절률을 가질 수 있다.
일 실시예에 따른 포토마스크 조립체는 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 위치하는 제1 절연층, 상기 제1 절연층 상에 위치하며 제1 개구부를 가지는 제1 금속층, 상기 제1 금속층 상에 위치하는 제2 개구부를 가지는 제2 절연층, 및 상기 제1 개구부, 및 상기 제2 개구부에 위치하는 렌즈부를 포함하고, 상기 렌즈부는 적어도 2 이상의 서브 렌즈부를 포함한다.
상기 포토마스크 조립체는 상기 서브 렌즈부를 덮는 폴리머층을 더 포함할 수 있다.
상기 폴리머층은 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부와 중첩할 수 있다.
상기 제1 절연층은 친수성을 가질 수 있다.
상기 제1 금속층은 크롬(Cr) 또는 몰리브덴(Mo)을 포함할 수 있다.
상기 제2 절연층은 소수성을 가질 수 있다.
상기 서브 렌즈부는 친수성을 가지는 제1 폴리머를 포함할 수 있다.
상기 제1 폴리머는 폴리에스테르계 화합물을 포함할 수 있다.
상기 폴리머층은 제2 폴리머를 포함하고, 상기 폴리머층과 상기 서브 렌즈부의 굴절률은 서로 다를 수 있다.
상기 포토마스크 조립체는 상기 투명 기판과 중첩하는 펠리클을 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따른 포토마스크 조립체는 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 위치하는 제1 절연층, 상기 제1 절연층 상에 위치하며 제1 개구부를 가지는 제1 금속층, 상기 제1 금속층 상에 위치하는 제2 개구부를 가지는 제2 절연층, 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부에 위치하는 렌즈부, 및 상기 렌즈부를 덮는 폴리머층을 포함하고, 상기 렌즈부와 상기 폴리머층의 굴절률이 상이하다.
상기 렌즈부와 상기 폴리머층 각각은 폴리에스테르계 화합물을 포함할 수 있다.
상기 제1 절연층은 친수성을 가지고, 상기 제2 절연층은 소수성을 가질 수 있다.
상기 제1 절연층은 산화규소를 포함하고, 상기 제2 절연층은 질화규소를 포함할 수 있다.
상기 제1 금속층은 크롬(Cr) 또는 몰리브덴(Mo)을 포함할 수 있다.
실시예들에 따르면 미세 선폭을 가지는 표시 장치를 용이하게 제조할 수 있는 포토마스크 조립체의 제공이 가능할 수 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 포토마스크 조립체의 단면도이다.
도 2 및 도 3 각각은 일 실시예에 따른 포토마스크 조립체의 단면도이다.
도 4a, 도 5a, 도 6a, 도 7a, 도 8a, 도 9a, 도 10a, 도 11a, 도 12a, 도 13a 각각은 제조 공정에 따른 포토마스크 조립체의 사시도이다.
도 4b, 도 5b, 도 6b, 도 7b, 도 8b, 도 9b, 도 10b, 도 11b, 도 12b, 도 13b 각각은 제조 공정에 따른 포토마스크 조립체의 단면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.
또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다. 도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다.
또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 또한, 기준이 되는 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 하는 것은 기준이 되는 부분의 위 또는 아래에 위치하는 것이고, 반드시 중력 반대 방향 쪽으로 "위에" 또는 "상에" 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다.
또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
또한, 명세서 전체에서, "평면상"이라 할 때, 이는 대상 부분을 위에서 보았을 때를 의미하며, "단면상"이라 할 때, 이는 대상 부분을 수직으로 자른 단면을 옆에서 보았을 때를 의미한다.
이하에서는 도 1을 참조하여 일 실시예에 따른 포토마스크 조립체에 대해 살펴본다. 도 1은 일 실시예에 따른 포토마스크 조립체의 단면도이다.
일 실시예에 따른 포토마스크 조립체는 투명 기판(11), 제1 절연층(12), 제1 금속층(13), 제2 절연층(14) 및 렌즈부(15)를 포함할 수 있다.
투명 기판(11)은 입사되는 광을 모두 투과시킬 수 있다. 투명 기판(11)은 석영(Quartz)으로 구성된 유리 기판을 포함할 수 있다.
제1 절연층(12)은 투명 기판(11)의 전면에 위치할 수 있다. 제1 절연층(12)은 친수성을 가질 수 있다. 제1 절연층(12)은 친수성을 가지는 어떠한 물질도 포함할 수 있으나 일 예로 산화규소를 포함할 수 있다.
제1 금속층(13)은 조사되는 광을 차단하는 차광 패턴일 수 있다. 제1 금속층(13)은 크롬(Cr) 또는 몰리브덴(Mo)을 포함할 수 있다. 일 예로 제1 금속층(13)은 크롬(Cr) 또는 크롬 화합물을 포함할 수 있다. 일 예로 크롬 화합물은 질화크롬(CrN), 산화크롬(CrO), 탄화크롬(CrC), 탄화산화크롬(CrCO), 탄화질화크롬(CrCN), 산화질화크롬(CrON), 탄화산화질화크롬(CrCON), 불화크롬(CrF), 불화질화크롬(CrNF), 불산화크롬(CrOF), 불탄화크롬(CrCF), 불탄화질화크롬(CrCNF), 불산화질화크롬(CrONF), 불탄화산화질화크롬(CrCONF) 중에서 하나 이상을 포함할 수 있다.
제1 금속층(13)은 전사되는 패턴과 실질적으로 동일한 패턴을 가질 수 있다. 제1 금속층(13)은 패턴이 제거된 제1 개구부(op13)를 포함한다.
제1 금속층(13) 상에는 제2 절연층(14)이 위치할 수 있다. 제2 절연층(14)은 소수성을 가질 수 있다. 제2 절연층(14)은 소수성을 가지는 어떠한 물질도 포함할 수 있으나 일 예로 질화규소를 포함할 수 있다.
제2 절연층(14)은 실질적으로 제1 금속층(13)과 동일한 평면 형태를 가질 수 있다. 제2 절연층(14)은 전사되는 패턴과 실질적으로 동일한 패턴을 가질 수 있다. 제2 절연층(14)과 제1 금속층(13)의 가장자리는 서로 정렬될 수 있다. 제2 절연층(14)은 제1 개구부(op13)와 정렬된 제2 개구부(op14)를 포함할 수 있다.
제1 개구부(op13) 및 제2 개구부(op14) 내에 렌즈부(15)가 위치할 수 있다. 렌즈부(15)는 조사되는 광을 집중하거나 분산시킬 수 있다. 렌즈부(15)는 볼록 렌즈 형상을 포함할 수 있다. 이에 제한되지 않고 렌즈 형상은 오목 렌즈 형상, 비구면 렌즈 형상 등 당업자에게 자명한 어떠한 렌즈 형상도 가능할 수 있다.
렌즈부(15)는 일 예로 잉크젯 공정 또는 스크린 프린팅 공정 등을 사용하여 제조될 수 있다.
렌즈부(15)는 볼록 렌즈 형상을 포함하므로, 렌즈부(15)를 투과하는 광을 미리 결정된 영역으로 집중시킬 수 있다. 이에 따라 렌즈부(15)를 투과한 광이 도달하는 포토레지스트층의 광 노출 영역(A')은, 렌즈부(15)가 없는 경우 투명 기판(11)을 통과한 광이 도달하는 포토레지스트층의 광 노출 영역(A)보다 작을 수 있다. 렌즈부(15)의 볼록 렌즈의 곡률 또는 곡률 반경을 조절함으로써 광 노출 영역의 크기를 조절할 수 있다. 이는 렌즈부(15)가 다른 렌즈 형상을 가지는 경우에도 적용될 수 있다. 렌즈부(15)는 기판 상에 형성되는 신호 배선의 너비 등을 용이하게 조절할 수 있으며, 이를 통해 미세 배선, 미세 패턴의 구현이 용이할 수 있다.
렌즈부(15)는 고투과율을 가지는 물질을 포함할 수 있다. 일 예로 렌즈부(15)는 폴리머 계열 물질을 포함할 수 있다. 폴리머 계열의 물질은 아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리비닐에테르, 아세트산비닐/염화비닐코폴리머, 변성 폴리올레핀, 에폭시계, 불소계, 천연 고무, 합성 고무 등의 고무계등의 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 것을 적절히 선택하여 사용할 수 있다.
일 실시예에 따른 포토마스크 조립체(1)는 투명 기판(11)과 중첩하는 펠리클층(21)을 더 포함할 수 있다. 펠리클층(21)은 리소그래피 공정 중에 먼지 또는 레지스트와 같은 외부 오염 물질로부터 투명 기판(11) 상에 적층된 구성을 보호할 수 있다. 펠리클층(21)은 높은 광 투과율, 우수한 방열 특성, 강도, 내구성 및 안정성을 가질 수 있다.
본 명세서는 도시하지 않았으나 펠리클층(21)을 보호하는 보호층, 펠리클층(21)과 투명 기판(11)을 결합시키는 접착층 등을 더 포함할 수 있다.
이하에서는 도 2 내지 도 3을 참조하여 일 실시예에 따른 포토마스크 조립체에 대해 살펴본다. 도 2 및 도 3 각각은 일 실시예에 따른 포토마스크 조립체의 단면도이다. 전술한 구성요소와 동일한 구성요소에 대한 설명은 생략하기로 한다.
도 2를 참조하면 일 실시예에 따른 렌즈부(15)는 복수의 서브 렌즈부(15a)를 포함할 수 있다. 제1 개구부(op13) 및 제2 개구부(op14) 내에 적어도 2 이상의 서브 렌즈부(15a)가 배치될 수 있다.
서브 렌즈부(15a) 각각은 볼록 렌즈 형상을 포함하므로, 서브 렌즈부(15a)를 투과하는 광을 미리 결정된 영역으로 집중시킬 수 있다. 서브 렌즈부(15a)는 볼록 렌즈 형상의 곡률 또는 곡률 반경을 조절함으로써 조사되는 광의 노출 영역의 크기를 조절할 수 있다. 서브 렌즈부(15a)는 기판 상에 형성되는 신호 배선의 너비 등을 용이하게 조절할 수 있으며, 이를 통해 미세 배선, 미세 패턴의 구현이 용이할 수 있다.
도 3을 참조하면 일 실시예에 따른 포토마스크 조립체는 복수의 서브 렌즈부(15a)를 덮는 폴리머층(15b)을 더 포함할 수 있다. 폴리머층(15b)은 제1 개구부(op13) 및 제2 개구부(op14)의 가장자리 안쪽에 위치할 수 있다.
일 실시예에 따르면 서브 렌즈부(15a)는 제1 폴리머를 포함하고, 폴리머층(15b)은 제2 폴리머를 포함할 수 있다. 제1 폴리머 및 제2 폴리머는 서로 다른 굴절률을 가질 수 있다. 서브 렌즈부(15a)와 폴리머층(15b)은 서로 다른 굴절률을 가질 수 있다. 이에 따르면 도 3에 도시된 바와 같이 조사되는 광의 경로는 두 개의 볼록 렌즈의 조합을 통해 집중되면서 평행한 경로를 따라 이동할 수 있다. 조사되는 광의 회절을 감소시킬 수 있다. 일 실시예에 따른 포토마스크 조립체를 사용하는 경우 제조 공정에 필요한 신호 배선의 너비를 가지도록 용이하게 조절할 수 있다.
이하에서는 도 4a 내지 도 13b를 참조하여 일 실시예에 따른 포토마스크 조립체의 제조 방법에 대해 살펴본다. 도 4a, 도 5a, 도 6a, 도 7a, 도 8a, 도 9a, 도 10a, 도 11a, 도 12a, 도 13a 각각은 제조 공정에 따른 포토마스크 조립체의 사시도이고, 도 4b, 도 5b, 도 6b, 도 7b, 도 8b, 도 9b, 도 10b, 도 11b, 도 12b, 도 13b 각각은 제조 공정에 따른 포토마스크 조립체의 단면도이다.
우선 도 4a 및 도 4b를 참조하면 투명 기판(11)을 준비한다. 투명 기판(11)은 석영(Quartz)으로 구성된 유리 기판을 포함할 수 있다. 투명 기판(11)은 입사되는 광을 모두 투과시킬 수 있다.
다음 도 5a 및 도 5b를 참조하면 투명 기판(11) 전면과 중첩하는 제1 절연 물질층(12a)을 형성한다. 제1 절연 물질층(12a)은 일 예로 화학 기상 증착법을 사용하여 형성될 수 있다. 제1 절연 물질층(12a)은 친수성을 가질 수 있다. 제1 절연 물질층(12a)은 친수성을 가지는 어떠한 물질도 포함할 수 있으나 일 예로 산화규소를 포함할 수 있다.
다음 도 6a 및 도 6b에 도시된 바와 같이 제1 절연 물질층(12a) 상에 투명 기판(11) 전면과 중첩하는 제1 금속 물질층(13a)을 형성한다. 제1 금속 물질층(13a)은 광을 차단하는 어떠한 금속도 포함할 수 있으며, 일 예로 크롬 또는 몰리브덴을 포함할 수 있다.
도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이 제1 금속 물질층(13a) 상에 제2 절연 물질층(14a)을 형성한다. 제2 절연 물질층(14a)은 일 예로 화학 기상 증착법을 사용하여 형성될 수 있다. 제2 절연 물질층(14a)은 투명 기판(11) 전면과 중첩할 수 있다. 제2 절연 물질층(14a)은 소수성을 가질 수 있다. 제2 절연 물질층(14a)은 소수성을 가지는 어떠한 물질도 포함할 수 있으나 일 예로 질화규소를 포함할 수 있다.
다음 도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같이 제2 절연 물질층(14a) 상에 포토레지스트층(PR)을 투명 기판(11) 전면에 형성한다.
그리고 나서 도 9a 및 도 9b에 도시된 바와 같이 마스크(MASK)를 사용하여 광에 의해 경화되는 제1 영역(PR-a) 및 경화되지 않은 제2 영역(PR-b)을 형성할 수 있다. 이후 현상 공정을 통해 제2 영역(PR-b)을 제거하고 도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이 포토레지스트 패턴(PR-c)을 형성한다. 포토레지스트 패턴(PR-c)은 제2 절연 물질층(14a) 일부를 노출할 수 있다.
다음 도 11a 및 도 11b에 도시된 바와 같이 포토레지스트 패턴(PR-c)을 마스크로 하여 제2 절연층(14), 제1 금속층(13)을 형성한다. 제2 절연층(14)은 제2 절연 물질층을 식각하여 형성되고, 제1 금속층(13)은 제1 금속 물질층을 식각하여 형성될 수 있다. 제1 절연층(12)은 별도의 식각 없이 투명 기판(11) 전면과 중첩하는 형태로 형성될 수 있다. 이후 도 12a 및 도 12b에 도시된 바와 같이 포토레지스트 패턴(PR-c)을 제거한다.
그리고 나서 도 13a 및 도 13b에 도시된 바와 같이 제1 금속층(13)이 포함하는 제1 개구부(op13) 및 제2 절연층(14)이 가지는 제2 개구부(op14) 내에 렌즈부(15)를 형성할 수 있다. 렌즈부(15)는 일 예로 잉크젯 공정 또는 스크린 프린팅 공정 등을 사용하여 제조될 수 있다.
제2 절연층(14)은 소수성을 가지므로 렌즈부(15)는 개구부(op13, op14) 내에 용이하게 위치할 수 있다. 이후 펠리클층을 추가하여 도 1에 도시된 바와 같은 포토마스크 조립체를 제공할 수 있다.
이와 유사한 방법을 사용하여 제1 금속층(13)이 포함하는 제1 개구부(op13) 및 제2 절연층(14)이 가지는 제2 개구부(op14) 내에 복수의 서브 렌즈부(15)를 형성하여 도 2에 도시된 바와 같은 포토마스크 조립체를 제공할 수 있다. 복수의 서브 렌즈부(15)는 제1 폴리머를 주입하고 경화시키는 공정을 복수회 실시함에 따라 형성될 수 있다. 또는 복수의 서브 렌즈부(15a) 상에 위치하는 폴리머층(15b)을 더 형성함으로써 도 3에 도시된 바와 같은 포토마스크 조립체를 제공할 수 있다.
일 실시예에 따른 포토마스크 조립체는 기판 상에 형성되는 신호 배선의 너비 등을 용이하게 조절할 수 있으며, 이를 통해 미세 배선, 미세 패턴의 구현이 용이할 수 있다.
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
11: 투명 기판
12: 제1 절연층 13: 제1 금속층
14: 제2 절연층 15: 렌즈부
15a: 서브 렌즈부 15b: 폴리머층

Claims (20)

  1. 투명 기판,
    상기 투명 기판 상에 위치하며 친수성을 가지는 제1 절연층,
    상기 제1 절연층 상에 위치하며 제1 개구부를 가지는 제1 금속층,
    상기 제1 금속층 상에 위치하며 소수성을 가지는 제2 절연층, 및
    상기 제1 개구부 내에 위치하는 렌즈부를 포함하는 포토마스크 조립체.
  2. 제1항에서,
    상기 포토마스크 조립체는 상기 투명 기판과 중첩하는 펠리클을 더 포함하고,
    상기 렌즈부는 상기 펠리클을 향해 돌출된 일면을 포함하는 포토마스크 조립체.
  3. 제1항에서,
    상기 렌즈부는 상기 제1 개구부 내에 위치하는 복수의 서브 렌즈부를 포함하는 포토마스크 조립체.
  4. 제3항에서,
    상기 포토마스크 조립체는 복수의 서브 렌즈부를 덮는 폴리머층을 더 포함하는 포토마스크 조립체.
  5. 제4항에서,
    상기 복수의 서브 렌즈부와 상기 폴리머층은 서로 다른 굴절률을 가지는 포토마스크 조립체.
  6. 투명 기판,
    상기 투명 기판 상에 위치하는 제1 절연층,
    상기 제1 절연층 상에 위치하며 제1 개구부를 가지는 제1 금속층,
    상기 제1 금속층 상에 위치하는 제2 개구부를 가지는 제2 절연층, 및
    상기 제1 개구부, 및 상기 제2 개구부에 위치하는 렌즈부를 포함하고,
    상기 렌즈부는 적어도 2 이상의 서브 렌즈부를 포함하는 포토마스크 조립체.
  7. 제6항에서,
    상기 포토마스크 조립체는 상기 서브 렌즈부를 덮는 폴리머층을 더 포함하는 포토마스크 조립체.
  8. 제7항에서,
    상기 폴리머층은 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부와 중첩하는 포토마스크 조립체.
  9. 제6항에서,
    상기 제1 절연층은 친수성을 가지는 포토마스크 조립체.
  10. 제6항에서,
    상기 제1 금속층은 크롬(Cr) 또는 몰리브덴(Mo)을 포함하는 포토마스크 조립체.
  11. 제6항에서,
    상기 제2 절연층은 소수성을 가지는 포토마스크 조립체.
  12. 제7항에서,
    상기 서브 렌즈부는 친수성을 가지는 제1 폴리머를 포함하는 포토마스크 조립체.
  13. 제12항에서,
    상기 제1 폴리머는 폴리에스테르계 화합물을 포함하는 포토마스크 조립체.
  14. 제7항에서,
    상기 폴리머층은 제2 폴리머를 포함하고,
    상기 폴리머층과 상기 서브 렌즈부의 굴절률은 서로 다른 포토마스크 조립체.
  15. 제6항에서,
    상기 포토마스크 조립체는 상기 투명 기판과 중첩하는 펠리클을 더 포함하는 포토마스크 조립체.
  16. 투명 기판,
    상기 투명 기판 상에 위치하는 제1 절연층,
    상기 제1 절연층 상에 위치하며 제1 개구부를 가지는 제1 금속층,
    상기 제1 금속층 상에 위치하는 제2 개구부를 가지는 제2 절연층,
    상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부에 위치하는 렌즈부, 및
    상기 렌즈부를 덮는 폴리머층을 포함하고,
    상기 렌즈부와 상기 폴리머층의 굴절률이 상이한 포토마스크 조립체.
  17. 제16항에서,
    상기 렌즈부와 상기 폴리머층 각각은 폴리에스테르계 화합물을 포함하는 포토마스크 조립체.
  18. 제16항에서,
    상기 제1 절연층은 친수성을 가지고, 상기 제2 절연층은 소수성을 가지는 포토마스크 조립체.
  19. 제16항에서.
    상기 제1 절연층은 산화규소를 포함하고, 상기 제2 절연층은 질화규소를 포함하는 포토마스크 조립체.
  20. 제16항에서,
    상기 제1 금속층은 크롬(Cr) 또는 몰리브덴(Mo)을 포함하는 포토마스크 조립체.
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