KR20220074810A - 표면에 망상 패턴을 갖는 인조대리석 및 이의 제조 방법 - Google Patents

표면에 망상 패턴을 갖는 인조대리석 및 이의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 인조대리석 원료 조성물을 포함하는 덩어리를 제조하는 단계; 상기 덩어리의 표면에 안료를 코팅하여 안료가 코팅된 덩어리를 제조하는 단계; 상기 안료가 코팅된 덩어리를 몰드에 분상하여 인조대리석 조성물을 제조하는 단계; 및 상기 인조대리석 조성물을 경화하는 단계를 포함하는 인조대리석의 제조 방법 및 인조대리석에 대한 것이다.

Description

표면에 망상 패턴을 갖는 인조대리석 및 이의 제조 방법{ARTIFICIAL MARBLE HAVING RETICULAR PATTERN ON ITS SURFACE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 출원은 2020년 11월 27일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제10-2020-0163210호 및 2021년 9월 15일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제10-2021-0123461호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.
본 발명은 표면에 망상 패턴을 갖는 인조대리석 및 이의 제조 방법에 대한 것이다.
엔지니어드 스톤은 이스톤이라고도 불리는 인조대리석으로, 천연석과 비슷한 질감과 느낌을 갖는 인테리어 소재이다. 업계에서는 인조대리석의 발색 및 모양 등을 개선하여 미감을 증진시키는 연구들이 이루어져 왔는데, 예컨대, 한국공개특허 10-2021-0064127호에는 물결 형태 패턴을 갖는 엔지니어드 스톤의 제조방법이 개시되어 있다. 엔지니어드 스톤은 실내 바닥, 벽 장식, 주방 상판 등에서 수요가 점차 증가하고 있으며, 화강암과 대리석 계열의 천연 석종들을 모사한 제품들이 주를 이루어 왔다.
그리고 또한 천연석종 중 유리처럼 투명하지 않지만 빛을 통과하는 대리석이나 오닉스등이 있어 실내 바닥, 벽 장식, 주방 상판 등의 배면에 광원(라이팅, lighting)과 함께 새로운 디자인을 제공하여 왔다. 인조대리석 또한 이러한 트렌드를 반영하여 해당 석종과 같이 광투과성을 구현하고자 많은 노력을 기울이고 있다.
그러나 인조대리석 중 엔지니어드 스톤은 주 원료가 되는 석영(쿼츠)분말이 불투명하여 빛을 투과하는 성질을 구현하기가 어려웠다.
본 발명의 목적은 부드럽고 미려한 망상 패턴을 갖는 인조대리석을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시상태는, 표면에 있어서, 폐도형 형태의 가장자리부로 둘러싸인 표면영역을 포함하며, 상기 폐도형 형태의 가장자리부는 미세라인으로 이루어지고, 상기 표면영역은 광 투과성 재료로 구성되는 것인 망상 패턴을 갖는 인조대리석을 제공한다.
본 발명의 또 하나의 실시상태는 표면에 있어서, 폐도형 형태의 가장자리부로 둘러싸인 표면영역을 포함하며, 상기 폐도형 형태의 가장자리부는 미세라인으로 이루어지고, 상기 표면영역은 장축이 3 cm 이상인 영역을 포함하며, 인조대리석 표면의 20 cm × 20 cm 크기의 임의의 부분에서 장축이 5 cm 이상인 영역들의 개수가 5 이상인 인조대리석을 제공한다.
본 발명의 또 하나의 실시상태는, 표면에 있어서, 폐도형 형태의 가장자리부로 둘러싸인 표면영역을 포함하며, 상기 폐도형 형태의 가장자리부는 미세라인으로 이루어지고, 상기 표면영역은 면적이 4 cm2 이상인 영역을 포함하고, 인조대리석 표면의 20 cm × 20 cm 크기의 임의의 부분에서 면적이 25 cm2 이상인 영역들의 개수가 5 이상인 인조대리석을 제공한다.
본 발명의 또 하나의 실시상태는
인조대리석 원료 조성물을 포함하는 덩어리를 제조하는 단계;
상기 덩어리의 표면에 안료를 코팅하여 안료가 코팅된 덩어리를 제조하는 단계;
상기 안료가 코팅된 덩어리를 몰드에 분상하여 인조대리석 조성물을 제조하는 단계; 및
상기 인조대리석 조성물을 경화하는 단계를 포함하는
인조대리석의 제조 방법을 제공한다.
또한 본 발명의 추가의 실시상태는 상기 인조대리석의 제조 방법을 이용하여 제조 된 망상 패턴을 갖는 인조대리석을 제공한다.
본 발명의 인조대리석은 부드럽고 미려한 외관의 망상 패턴을 갖는다.
도 1은 본 발명의 인조대리석의 제조 방법의 공정 중 일부를 보여준다.
도 2는 안료를 이용하여 인조대리석을 제조하는 종래 방법을 보여준다.
도 3은 실시예 1의 인조대리석 샘플의 일부분의 사진이다.
도 4는 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 표면영역(파란 선) 및 깊이영역(빨란 선)이 나타난 사진이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 두께 방향의 단면 사진(a) 및 깊이영역을 둘러싸는 미세라인 및 깊이를 표시한 도면(b)이다.
도 7은 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 깊이영역의 형태를 예시한 것이다.
도 8은 비교예 1의 인조대리석 샘플의 일부분의 사진이다.
본 발명의 일 실시상태는, 표면에 있어서, 폐도형 형태의 가장자리부로 둘러싸인 표면영역을 포함하며, 상기 폐도형 형태의 가장자리부는 미세라인으로 이루어지고, 상기 표면영역은 광 투과성 재료로 구성되는 것인 망상 패턴을 갖는 인조대리석을 제공한다. 상기와 같이 표면영역이 광 투과성 재료로 구성됨으로써 표면에서 내부의 안료가 시인됨으로써 그라데이션 무늬가 나타난다. 여기서, 상기 광 투과성 재료란 가시광 영역 중 적어도 일부 또는 전부를 투과할 수 있는 재료를 의미한다. 예컨대, 상기 광 투과성 재료는 후술하는 전투과율이 6% 이상인 재료일 수 있다.
일 실시상태에 따르면, 상기 인조대리석은 상기 표면영역으로부터 상기 인조대리석의 두께 방향으로 연장되는 깊이영역을 포함하고, 상기 깊이영역은 상기 표면영역과 미세라인으로 둘러싸인 영역이고, 상기 인조대리석의 두께 방향으로의 단면 중 상기 표면영역의 중심점을 지나는 적어도 하나의 단면에 있어서, 상기 표면영역의 양측 가장자리부 사이의 거리 100%를 기준으로 적어도 하나의 가장자리로부터 10% 이내의 거리에서 상기 표면영역으로부터 연장되는 깊이영역의 깊이가 나머지 깊이영역의 깊이보다 짧은 것을 포함한다.
또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 표면영역으로부터 상기 인조대리석의 두께 방향으로 연장되는 깊이영역을 포함하고, 상기 깊이영역은 표면영역과 미세라인으로 둘러싸인 영역이고, 상기 인조대리석의 두께 방향으로의 단면 중 상기 표면영역의 중심점을 지나는 적어도 하나의 단면에 있어서, 상기 표면영역의 어느 하나의 가장자리부와 중심점 사이의 거리 100%를 기준으로 상기 표면영역의 가장자리로부터 20% 이내의 거리에서 상기 표면영역으로부터 연장되는 깊이영역의 깊이의 평균이 상기 표면영역의 중심점으로부터 80% 이내의 거리에서 상기 표면영역으로부터 연장되는 깊이영역의 깊이의 평균 보다 짧은 것을 포함한다.
또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 인조대리석은 상기 표면영역으로부터 상기 인조대리석의 두께 방향으로 연장되는 깊이영역을 포함하고, 상기 깊이영역은 표면영역과 미세라인으로 둘러 싸인 영역이고, 상기 인조대리석의 두께 방향으로의 단면 중 상기 표면영역의 중심점을 지나는 적어도 하나의 단면에 있어서, 상기 표면영역의 중심점에서 상기 표면영역의 가장자리부로 갈수록 상기 표면영역으로부터 연장되는 깊이영역의 깊이가 짧아진다.
상기 표면영역은 인조대리석의 상면 또는 하면에 나타날 수 있으며, 바람직하게는 상면에 나타날 수 있다. 상기 깊이영역은 인조대리석의 측면 또는 인조대리석의 두께방향으로의 단면에 나타날 수 있다. 도 4는 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 표면영역(파란 선) 및 깊이영역(빨간 선)이 나타난 사진이다.
상기와 같이, 상기 가장자리부에 인접한 표면영역으로부터 연장된 깊이영역의 깊이가 상대적으로 얇고, 상기 표면 영역은 광 투과성 재료로 이루어져 있기 때문에, 상기 깊이영역을 둘러싸는 미세라인 중 적어도 일부, 구체적으로 상기 가장자리부에 인접한 표면영역으로부터 연장된 깊이영역을 둘러싸는 미세라인의 색상이 상기 표면영역을 투과하여 시인될 수 있다. 도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 두께 방향의 단면 사진(a) 및 깊이영역을 둘러싸는 미세라인(검은 선) 및 깊이(파란색 화살표)를 표시한 도면(b)이다. 도 5 및 도 6에 깊이를 화살표로 표시한 깊이영역은 표면영역의 중심부보다 가장자리부에 인접한 부분에 대응하는 깊이영역의 깊이가 비교적 짧기 때문에 상기 가장자리부에 인접한 부분에 대응하는 깊이영역을 둘러싸는 미세라인의 염료 또는 안료가 표면영역을 투과하여 시인될 수 있다. 이에 의하여, 상기 표면영역은 그 중심부와 상기 가장자리부에 인접한 부분의 색감이 다를 수 있다. 여기서 상기 중심부와 상기 가장자리부에 인접한 부분은 상대적인 개념으로서, 상기 중심부는 상기 표면영역의 중심점을 포함하고, 상기 가장자리부에 인접한 부분보다는 내측에 위치한 부분을 의미하고, 상기 가장자리부에 인접한 부분은 상기 중심부와 상기 가장자리부 사이의 부분을 의미한다.
도 7의 (a) 내지 (d)는 본 발명의 일 실시상태에 따른 인조대리석의 깊이영역의 형태를 예시한 것이다. 도 7의 (a) 및 (b)는 표면영역의 중심부에 비하여 가장자리부에 인접한 부분으로 갈수록 깊이가 상대적으로 짧아지므로, 전술한 그라데이션 무늬가 나타나기 쉽다.
일 예에 따르면, 상기 가장자리부에 인접한 상기 표면영역의 부분은 상기 가장자리부의 미세라인의 염료 또는 안료의 종류 또는 농도, 상기 표면영역의 크기 및 상기 가장자리부에 인접한 표면영역으로부터 연장되는 깊이영역의 깊이의 차이에 따라 형성되는 그라데이션 무늬를 가질 수 있다. 예컨대, 상기 표면영역의 중심부로부터 상기 가장자리부에 인접한 부분으로 갈수록 상기 표면영역으로부터 연장되는 깊이영역의 깊이가 점차 짧아지는 부분이 있는 경우, 깊이영역의 깊이 변화에 의하여 깊이영역을 둘러싸는 미세라인의 염료 또는 안료가 상기 표면영역으로 시인될 때 색상이 점차적으로 변하는 그라데이션 무늬를 나타낼 수 있다.
본 발명의 추가의 실시상태는 표면에 있어서, 폐도형 형태의 가장자리부로 둘러싸인 표면영역을 포함하며, 상기 폐도형 형태의 가장자리부는 미세라인으로 이루어지고, 상기 표면영역은 장축이 3 cm 이상인 영역을 포함하며, 인조대리석 표면의 20 cm × 20 cm 크기의 임의의 부분에서 장축이 5 cm 이상인 영역들의 개수가 5 이상인 인조대리석에 대한 것이다. 이때 장축은 미세라인 임의의 두 점을 선택하여 덩어리를 이분할하는 직선을 그었을 때 최장거리가 되는 임의의 두 점을 그은 임의의 선의 길이이다.
본 발명의 추가의 실시상태는 표면에 있어서, 폐도형 형태의 가장자리부로 둘러싸인 표면영역을 포함하며, 상기 폐도형 형태의 가장자리부는 미세라인으로 이루어지고, 상기 표면영역은 면적이 4 cm2 이상인 영역을 포함하고, 인조대리석 표면의 20 cm × 20 cm 크기의 임의의 부분에서 면적이 25 cm2 이상인 영역들의 개수가 5 이상인 인조대리석 인조대리석에 대한 것이다.
후술하는 방법에 의하여, 부피 또는 크기가 큰 덩어리를 이용함으로써 상기와 같은 장축 또는 면적을 갖는 표면영역을 포함하는 망상 구조의 인조대리석을 제공할 수 있다.
또한 본 발명의 또 하나의 실시상태는
인조대리석 원료 조성물을 포함하는 덩어리를 제조하는 단계;
상기 덩어리의 표면에 안료를 코팅하여 안료가 코팅된 덩어리를 제조하는 단계;
상기 안료가 코팅된 덩어리를 몰드에 분상하여 인조대리석 조성물을 제조하는 단계; 및
상기 인조대리석 조성물을 경화하는 단계를 포함하는
인조대리석의 제조 방법에 대한 것이다.
이하 본 발명을 자세히 설명한다.
인조대리석 원료 조성물을 포함하는 덩어리를 제조하는 단계
본 발명의 인조대리석의 제조 방법은 인조대리석 원료 조성물을 포함하는 덩어리를 제조하는 단계를 포함한다(도 1의 A 및 B).
여기서, 덩어리는 인조대리석 원료 조성물로 이루어진 것으로서, 인조대리석 원료 조성물이 응집한 형태를 의미할 수 있다. 상기 덩어리의 크기는 특별히 한정되지 않으나, 예컨대 직경 0.1 cm2 내지 100 cm2일 수 있다. 상기 덩어리의 직경은 상기 덩어리의 최장 길이를 의미한다. 상기 덩어리의 형태는 둥근 형태인 것이 바람직하며, 구 형상인 것이 더욱 바람직하다. 둥근 형태란 선형의 모서리를 가지지 않는 형태를 의미한다. 상기 구 형상이란 완전한 구의 형태로 한정되는 것은 아니며, 단면이 원형인 경우뿐만 아니라 타원형인 경우도 포함하며, 전체적으로 둥근 형태를 갖는다면 표면에 다소 굴곡이 있는 경우도 허용된다. 이와 같이 둥근 형태의 덩어리를 이용하는 것이 망상 패턴을 형성하는데 유리하다. 덩어리가 선형의 모서리를 갖는 경우 인조대리석에서 망상 패턴을 구성하는 미세 라인이 끊어져 부드럽고 미려한 망상 패턴을 형성하기 어려울 수 있다.
상기 인조대리석의 제조시 사용되는 덩어리들 중 적어도 일부는 직경 3 cm 이상, 바람직하게는 5 cm 이상이거나 및/또는 직경을 지나는 단면의 면적이 4 cm2 이상, 바람직하게는 25 cm2 이상인 것이 바람직하다. 이와 같은 크기의 덩어리를 포함함으로써 인조대리석에 상기와 같은 덩어리의 크기에 대응하는 영역이 나타날 수 있다.
상기 덩어리를 제조하는 단계는 인조대리석 원료 조성물을 장비에 넣고 장비를 회전시켜 수행할 수 있다. 바람직하게는 상기 덩어리를 제조하는 단계는 덩어리가 들어있는 장비에 안료를 넣고 장비를 회전시켜 수행할 수 있다. 이때 상기 장비는 3 내지 20 분 동안 회전할 수 있다. 장비가 3 분 미만으로 회전하는 경우 덩어리가 충분히 구 형상으로 성형되지 못하고 20 분 초과하여 회전하더라도 덩어리의 형상에 유의한 변화가 생기지 않는다. 이때 상기 장비는 30 내지 600 rpm의 속도로 회전할 수 있다. 바람직하게는 상기 장비는 60 rpm 내지 300rpm 속도로 회전할 수 있다. 장비의 회전 속도가 30 rpm 미만이거나 600 rpm을 초과하는 경우 덩어리 형성이 효율적이지 못하다.
상기 인조대리석 원료 조성물은 불포화 폴리에스테르계 수지인 바인더 수지, 무기 입자 및 석영 분말을 포함하는 인조대리석 원료 조성물일 수 있다.
상기 인조대리석 원료 조성물은 바인더 수지 100 중량부에 대하여 무기 입자 500 내지 700 중량부, 석영 분말 200 내지 400 중량부를 포함하고, 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지를 90 중량% 이상 포함하고, 상기 석영 분말은 평균 SiO2 함량이 99.5 내지 100 중량%이며 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하인 것이 바람직하다. 상기 무기 입자는 비정질 실리카 입자, 바륨 원소을 포함하는 유리 입자 및 결정질 석영 입자로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상일 수 있고, 바람직하게는 비정질 실리카 입자일 수 있고, 바람직하게는 평균 SiO2 함량이 99.5 중량% 이상 100 중량% 이하인 무기 입자일 수 있다. 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르(unsaturated polyester, UPE) 수지를 포함하는 바인더 수지로 엔지니어드 스톤으로도 불리는 폴리에스테르계 인조대리석 분야에서 사용되는 바인더 수지일 수 있다. 한 예에서 상기 바인더 수지는 불포화 폴리에스테르 수지를 90 중량% 이상 포함할 수 있고, 바람직하게는 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여 경화제 0.4 내지 2.5 중량부, 촉매제 0.05 내지 0.3 중량부, 및 커플링제 0.5 내지 7 중량부를 혼합하고 분산시킨 후 경화하여 제조할 수 있다. 상기 불포화 폴리에스테르 수지는 불포화 폴리에스테르 고분자 및 비닐계 단량체를 100 : 30 내지 70 중량비로 포함하는 조성물을 이용하여 제조될 수 있다. 상기 석영 분말은 평균 SiO2 함량이 99.5 내지 100 중량%일 수 있고 바람직하게는 99.6 내지 100 중량%일 수 있으며 더욱 바람직하게는 평균 SiO2 함량이 99.7 내지 100 중량%일 수 있다.
상기 인조대리석 원료 조성물을 경화시켜 경화물을 제조하는 경우 가로 7 cm, 세로 7 cm, 두께 1.5 cm 의 인조대리석 샘플에 대하여 탁도계(Nippon denshoku사의 NDH 5000)를 사용하여 전투과율 측정 시 전투과율이 6 이상 20 % 이하이며, 바람직하게는 6.5 이상 20 % 이하이다. 상기 인조대리석 원료 조성물을 경화시켜 경화물을 제조하는 경우 가로 7 cm, 세로 7 cm, 두께 1.5 cm 의 인조대리석 샘플에 대하여 60 루멘(lumen)의 빛으로 백라이트를 인조대리석에 접촉하여 비추고 백라이트를 접촉하는 인조대리석의 반대편에서 인조대리석의 표면 약 5 cm 위에서 휘도계(KONICA MINOLTA의 Luminance Meter LS-160)를 이용하여 휘도를 측정 시 휘도가 400 cd/m2 이상 2000 cd/m2 이하이며 바람직하게는 600 cd/m2 이상 2000 cd/m2 이하이고 더욱 바람직하게는 800 cd/m2 이상 2000 cd/m2 이하이다.
이때 장비의 내부 공간에서 인조대리석 원료 조성물은 10 내지 40 부피%의 양으로 사용될 수 있다. 인조대리석 원료 조성물의 양이 10 부피% 미만인 경우 충분한 크기로 덩어리가 형성되지 않고 지나치게 작은 크기의 덩어리가 많이 형성될 가능성이 높다. 인조대리석 원료 조성물의 양이 40 부피%를 초과하는 경우 충분한 개수의 덩어리가 형성되지 않거나 충분히 둥근 구형 형태로 형성되지 않을 가능성이 높다.
안료가 코팅된 덩어리를 제조하는 단계
본 발명의 인조대리석의 제조 방법은 상기 덩어리의 표면에 안료를 코팅하여 안료가 코팅된 덩어리를 제조하는 단계를 포함한다(도 1의 C).
이때 인조대리석 원료 조성물 100 중량부에 대하여 안료 0.1 내지 10 중량부를 사용할 수 있다. 안료를 0.1 중량부 미만으로 사용하는 경우 덩어리의 표면을 충분히 코팅하지 못하여 인조대리석에서 미세 라인이 서로 충분히 연결되어 무정형 망상 패턴을 만들기 어려울 수 있다. 또한 안료를 10 중량부를 초과하여 사용하는 경우 덩어리 표면에 코팅되지 않고 남는 안료가 발생하여 비효율적일 수 있다.
본 발명의 안료는 무기 안료인 것이 바람직하다. 본 발명의 안료는 인조대리석의 제조에 일반적으로 사용되는 안료이면 되고 특별히 제한되는 것은 아니다. 본 발명의 안료는 TiO2, NiO·Sb2O3·20TiO2, Fe2O3, Fe3O4 등이 될 수 있다.
이때 둘 이상의 안료를 사용할 수 있다. 바람직하게는 안료가 상이한 두 종류 이상의 덩어리를 제조할 수 있다. 안료가 상이한 두 종류 이상의 덩어리를 제조하기 위하여 필요에 따라 둘 이상의 장비를 이용할 수 있다. 이 경우 서로 다른 안료를 사용한 두 종류 이상의 안료가 코팅된 덩어리들을 이용하여 제조되는 인조대리석은 다른 색상의 미세 라인으로 이루어진 망상 구조를 가질 수 있다. 즉 인조대리석의 망상 패턴이 부분 별로 다른 색상을 가질 수 있다.
이때 하나의 장비 안에서 둘 이상의 안료를 사용할 수도 있다. 이 경우 인조대리석의 망상 패턴을 이루는 미세 라인들은 안료들이 섞인 색상을 가질 수 있어 특별한 미감을 줄 수 있다.
인조대리석 조성물을 제조하는 단계
본 발명의 인조대리석의 제조 방법은 상기 안료가 코팅된 덩어리를 몰드에 분상하여 인조대리석 조성물을 제조하는 단계를 포함한다.
이때 크기가 상이한 둘 이상의, 안료가 코팅된 덩어리를 몰드에 분상(distribution)할 수 있다. 상기 분상은 덩어리를 몰드에 떨어뜨리는 것을 의미하며, 상기 분상은 분상 설비를 이용하여 수행할 수 있고, 이때 인조대리석 제조 시 흔히 사용하는 분상 방법을 이용하면 되고 특별히 제한되지 않는다.
본 발명의 한 예에서, 안료가 코팅된 덩어리를 크기 별로 분류하여 원하는 크기의 안료가 코팅된 덩어리를 몰드에 분상할 수 있다. 즉, 원하는 범위의 크기를 갖는 안료가 코팅된 덩어리들을 몰드에 분상할 수 있다. 이 경우 본 발명은 안료가 코팅된 덩어리를 크기에 따라 분류하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
한 예에서 본 발명은 서로 구별되는 두 종류 이상의 덩어리, 예컨대 안료가 상이한 두 종류 이상의 덩어리를 몰드에 분상할 수 있다. 이 경우 상기 종류가 다른 덩어리들은 동시에 또는 순차적으로 몰드에 분상될 수 있으며, 통상의 기술자는 원하는 인조대리석의 패턴에 따라 종류가 다른 덩어리들의 비율, 분상 순서 등을 적절히 선택할 수 있다.
인조대리석 조성물을 경화하는 단계
본 발명의 인조대리석의 제조 방법은 상기 인조대리석 조성물을 경화하는 단계를 포함한다.
상기 경화는 인조대리석을 경화하는 기존의 방법들을 이용하여 수행하면 되고 특별히 제한되지 않는다. 예컨대, 상기 인조대리석 조성물을 경화하는 단계는 몰드에 분상하여 투입된 인조대리석 조성물을 진공가압 장비를 이용하여 압축성형하는 진공진동압축 성형 공정, 그 후 90 내지 130 ℃에서 30분 내지 1시간 동안 경화시켜 수행할 수 있다.
본 발명의 인조대리석의 제조 방법은 인조대리석 조성물이 경화된 후 실온으로 식히고(냉각) 그 후 몰드에서 빼내(탈형) 인조대리석을 제조하는 단계, 상기 제조된 인조대리석을 재단하고 표면을 매끄럽게 연마하는 후가공 공정을 포함하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명의 인조대리석
본 발명의 인조대리석 및/또는 본 발명의 제조 방법으로 제조된 인조대리석은 표면에 망상 패턴을 가질 수 있다. 망상 패턴이란 미세 라인으로 둘러싸인 복수의 영역들이 그물과 같이 인접하여 배치된 구조를 의미한다.
바람직하게는 상기 인조대리석의 표면은 미세 라인으로 이루어진 무정형의 망상 패턴을 포함하고, 상기 망상 패턴은 미세 라인으로 둘러싸인 영역을 포함할 수 있다. 무정형이란 망상 패턴을 구성하는 망상의 눈들의 크기 및 형태가 일정하지 않고 규칙성을 갖지 않는 것을 의미한다. 상기 망상 패턴은, 전술한 인조대리석의 제조방법에서의 압축 성형, 인조대리석의 재단 또는 연마와 같은 후가공에 의하여, 전술한 안료가 코팅된 덩어리의 단면이 인조대리석의 표면에 노출된 형태이다. 인조대리석의 제조과정에서 전술한 안료가 코팅된 덩어리들은 크기 및 형태가 다양하고, 인조대리석의 두께 방향 또는 표면 방향으로 무작위로 혼합됨으로써, 인조대리석의 표면에는 무정형의 망상 패턴이 노출된다.
본 발명의 인조대리석은 표면에 미세 라인으로 둘러싸이고, 면적이 4 cm2 이상인 영역을 포함할 수 있다. 상기와 같은 면적을 갖는 영역을 포함함으로써 인조대리석의 표면에 표시되는 망상 패턴이 부드럽고 미려한 미감을 가져, 천연석과 같은 질감을 구현할 수 있다. 또한 본 발명의 인조대리석은 표면에 면적이 0.1 내지 100 cm2인 영역을 포함할 수 있다. 미세 라인이란 전술한 덩어리에 코팅된 안료의 두께일 수 있다. 미세 라인인의 폭은 0.01 mm 내지 10 mm, 바람직하게는 0.05 mm 내지 5 mm일 수 있다.
망상 패턴의 미세라인으로 둘러싸인 영역의 면적은 하기와 같이 측정할 수 있다. 먼저 크기를 쉽게 측정가능한 특정 크기(예, 직사각형의 A4사이즈) 의 반투명 종이를 준비하여 무게를 측정한다(즉, 종이 전체의 무게). 그 종이를 면적을 측정하고자 하는 영역을 포함하는 인조대리석의 표면 위에 올려 종이 뒷편에 비치는 영역의 가장자리, 즉 미세라인을 연필 등으로 따라 표기한 후 절취하여 절취된 종이 조각(상기 영역에 상응한다)의 무게를 측정한다. 이후, 아래 [수식 1] 과 같은 방법으로 미세라인으로 둘러싸인 영역의 면적을 측정할 수 있다.
[수식 1]
영역의 면적 = {[절취된 종이 조각의 무게]/[종이 전체의 무게]} × 종이전체의 면적
상기 영역은 안료로 코팅된 덩어리의 인조대리석 원료 조성물이 경화된 영역일 수 있다. 상기 영역이 위치하는 인조대리석의 표면은 인조대리석 원료 조성물이 경화된 부분이다. 상기 영역은 안료가 코팅된 덩어리가 경화되고, 전술한 제조방법에서의 압축 성형, 인조대리석의 재단 또는 연마와 같은 후가공에 의하여 덩어리 내부가 인조대리석 표면에 노출된 것이기 때문에, 인조대리석 내부에는 덩어리에 코팅된 안료가 존재한다. 따라서, 미세 라인으로부터의 거리, 인조대리석 원료 조성물의 조성(예컨대, 조성물이 광 투과가 가능한 투명 소재인 경우 투명한 정도 등) 등 조건에 따라 상기 영역의 표면 하단(즉, 인조대리석 내부)에 존재하는 안료가 육안으로 관찰될 수도 있다. 이 경우 미세 라인으로부터의 거리에 따라 안료가 비쳐 보이는 정도가 달라져 그라데이션이 관찰될 수 있다.
또한 바람직하게는 상기 인조대리석의 표면은 미세 라인으로 이루어진 망상 패턴을 포함하고, 상기 망상 패턴은 미세 라인으로 둘러싸이고 장축(임의의 미세라인 임의의 두 점을 선택하여 덩어리를 이분할 하는 직선을 그었을 때 최장거리가 되는 임의의 두 점을 그은 임의의 선의 길이)이 3 cm 이상인 영역을 포함할 수 있다. 상기와 같은 장축을 갖는 영역을 포함함으로써 인조대리석의 표면에 표시되는 망상 패턴이 부드럽고 미려한 미감을 가져, 천연석과 같은 질감을 구현할 수 있다. 바람직하게는 상기 인조대리석의 표면은 장축이 0.3 cm 이상 10 cm 이하인 영역을 포함할 수 있고, 더욱 바람직하게는 장축이 1 cm 이상 8 cm 이하인 영역을 포함할 수 있다.
본 발명의 인조대리석은 인조대리석 표면의 20 cm × 20 cm 크기의 부분에서 장축이 5 cm 이상인 영역들의 개수가 5 이상일 수 있다. 이 경우, 보다 천연석과 같은 질감을 구현할 수 있다
또한 본 발명의 인조대리석은 인조대리석 표면의 20 cm × 20 cm 크기의 부분에서 면적이 25 cm2 이상인 영역들의 개수가 5 이상일 수 있다. 이 경우, 보다 천연석과 같은 질감을 구현할 수 있다
상기 인조대리석의 KS F 4739에 따른 굴곡 강도는 30 내지 100 MPa일 수 있다. 상기 굴곡 강도는 굽힘 하중에 의해 상기 인조대리석이 파단에 이르기까지의 최대 응력을 의미한다. 구체적으로, 상기 인조대리석의 굴곡 강도는 30 MPa 내지 100 MPa, 또는 50 MPa 내지 80 MPa일 수 있다. 상기 인조대리석이 전술한 범위 내의 굴곡 강도를 가짐으로써, 외장재에 적절히 적용할 수 있다
상기 인조대리석의 내스크래치성은 Erichsen 시험기로 측정 시 0.8 내지 2 N일 수 있다. 내스크래치성이 상기 범위를 가질 때 인조대리석이 외장재로서 적절히 사용될 수 있다.
상기 인조대리석의 흡수율은 0.1% 이하일 수 있다. 상기 흡수율은 ASTM C97 규격에 따라 측정될 수 있다. 본 발명의 인조대리석은 상기 범위의 흡수율을 가짐으로써 수시로 수분에 노출되는 주방 상판이나 실외 건축장식재, 외장재 등으로 적용 가능하다.
상기 인조대리석은 불포화 폴리에스테르계(unsaturated polyester, (UPE)) 인조대리석일 수 있다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
고투명 비정질 용융 실리카 입자는 입도가 0.1 내지 2.5 mm 인 고투명 비정질 용융 실리카 입자를 사용하였다. 상기 고투명 비정질 용융 실리카 입자는 SiO2 함량이 99.7 중량% 이상 100 중량% 이하이며, 평균 SiO2 함량이 99.7 중량%인 것이다.
고투명 결정질 석영 분말은 입도가 0.1 mm 이하의 직경을 갖는 고투명 결정질 석영 분말을 사용하였다. 상기 고투명 결정질 석영 분말은 알루미나 함량이 0.5 중량% 이하이며, SiO2 함량이 99.7 중량% 이상 100 중량% 이하이며, 평균 SiO2 함량이 99.7 중량%인 고투명 결정질 석영 분말이다.
회전 장비는 내부 지름 25 cm, 내부 깊이 35 cm인 원통형 장비를 제작하여 사용하였다.
덩어리의 크기는 버니어캘리퍼스를 사용하여 측정하였다.
<제조예 1>
바인더 수지 조성물의 제조
오쏘(ortho)-프탈산이 다가 알코올과 중축합된 불포화 폴리에스테르 고분자와 스티렌 모노머가 65:35의 중량비로 사용된 불포화 폴리에스테르 수지를 사용하였다. 이후, 상기 불포화 폴리에스테르 수지 100 중량부에 대하여, 경화제로서 터트부틸퍼옥시벤조에이트 열경화제(TBPB, Trigonox C, akzo nobel) 1.5 중량부, 촉매제로서 코발트 6% 촉매제(Hex-Cem, Borchers) 0.1 중량부, 실란계 커플링제 3 중량부를 혼합하고, 분산시켜 바인더 수지 조성물을 제조하였다.
인조대리석 원료 조성물의 제조
바인더 수지 조성물에 고투명 비정질 용융 실리카 입자를 혼합하고, Planetary mixer 를 사용하여 잘 섞어주었다. 그리고 상기 혼합물에 고투명 결정질 석영 분말을 첨가하여 혼합하고 잘 섞어 인조대리석 조성물을 제조하였다. 이때 바인더 수지 100 중량부에 대하여 고투명 비정질 용융 실리카 입자 600 중량부, 고투명 결정질 석영 분말 300 중량부를 사용하였다.
<실시예 1>
제조예 1의 인조대리석 원료 조성물 4.4 kg를 회전 장비에 투입하고 60 rpm으로 5 분간 회전시켰다. 회전 후 장비 안에는 크고 작은 덩어리들이 여러 개 뭉쳐 있었다. 거기에 무기 안료인 TiO2를 8.8 g 넣고 300 rpm으로 3 분간 추가로 회전시켜 덩어리를 안료로 코팅하였다. 이렇게 안료가 코팅된 덩어리를 몰드에 분상하였다. 그리고 진공가압 장비를 이용하여 압축성형하였다. 그 다음 120 ℃에서 1시간 동안 경화시키고, 경화가 완료된 후 실온으로 식히고 그 후 몰드에서 빼내 인조대리석을 제조하였다. 상기 인조대리석의 사방을 재단한 후 표면을 매끄럽게 연마하여 인조대리석 샘플을 제조하였다.
<실시예 2>
제조예 1의 인조대리석 원료 조성물 4.4 kg를 회전 장비에 투입하고 60 rpm으로 15 분간 회전시켜 덩어리를 제조한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법을 수행하여 인조대리석 샘플을 제조하였다.
<실시예 3>
실시예 1의 방법으로 제조한 안료가 코팅된 덩어리들을 체를 이용하여 4 cm 이상 8 cm 이하의 직경을 갖는 덩어리들을 선별하였다. 그리고 상기 덩어리들을 회전 장비 안에 다시 넣고 거기에 무기 안료인 TiO2를 44 g 넣고 300 rpm으로 3 분간 추가로 회전시켜 덩어리를 안료로 코팅하였다. 이렇게 안료가 코팅된 덩어리를 몰드에 분상하였다. 그리고 진공가압 장비를 이용하여 압축성형하였다. 그 다음 120 ℃에서 1시간 동안 경화시키고, 경화가 완료된 후 실온으로 식히고 그 후 몰드에서 빼내 인조대리석을 제조하였다. 상기 인조대리석의 사방을 재단한 후 표면을 매끄럽게 연마하여 인조대리석 샘플을 제조하였다.
<실시예 4>
제조예 1의 인조대리석 원료 조성물 2.2 kg를 회전 장비에 투입하고 200 rpm으로 5 분간 회전시켰다. 회전 후 장비 안에는 크고 작은 덩어리들이 여러 개 뭉쳐 있었다. 거기에 무기 안료인 TiO2를 22 g 넣고 150 rpm으로 3 분간 추가로 회전시켜 덩어리를 안료로 코팅하였다. 이렇게 안료가 코팅된 덩어리를 덩어리 A라 하였다.
한편, 제조예 1의 인조대리석 원료 조성물 2.2 kg를 회전 장비에 투입하고 200 rpm으로 5 분간 회전시켰다. 회전 후 장비 안에는 크고 작은 덩어리들이 여러 개 뭉쳐 있었다. 거기에 무기 안료인 Fe2O3를 8.8 g 넣고 150rpm으로 3 분간 추가로 회전시켜 덩어리를 안료로 코팅하였다. 이렇게 안료가 코팅된 덩어리를 덩어리 B가 하였다.
상기 복수 개의 덩어리 A 및 덩어리 B를 1 : 1 의 중량비로 동시에 몰드에 분상하였다. 그리고 진공가압 장비를 이용하여 압축성형하였다. 그 다음 120 ℃에서 1시간 동안 경화시키고, 경화가 완료된 후 실온으로 식히고 그 후 몰드에서 빼내 인조대리석을 제조하였다. 상기 인조대리석의 사방을 재단한 후 표면을 매끄럽게 연마하여 인조대리석 샘플을 제조하였다.
<실시예 5>
실시예 4와 동일한 방법으로 덩어리 A 및 덩어리 B를 제조하였다. 복수 개의 덩어리 A를 몰드에 분상한 후 복수 개의 덩어리 B를 몰드에 추가로 분상하였다. 이때 덩어리 A 및 덩어리 B는 1 : 1 의 중량비로 사용하였다. 그리고 진공가압 장비를 이용하여 압축성형하였다. 그 다음 120 ℃에서 1시간 동안 경화시키고, 경화가 완료된 후 실온으로 식히고 그 후 몰드에서 빼내 인조대리석을 제조하였다. 상기 인조대리석의 사방을 재단한 후 표면을 매끄럽게 연마하여 인조대리석 샘플을 제조하였다.
<비교예 1>
제조예 1의 인조대리석 원료 조성물을 컨베이어 벨트 상에 위치 시키고 그 위에 무기 안료인 TiO2를 분사하여 혼합물을 제조하였다. 상기 혼합물을 몰드에 분상하고(도 2) 진공가압 장비를 이용하여 압축성형하였다. 그 다음 120 ℃에서 1시간 동안 경화시키고, 경화가 완료된 후 실온으로 식히고 그 후 몰드에서 빼내 인조대리석을 제조하였다. 상기 인조대리석의 사방을 재단한 후 표면을 매끄럽게 연마하여 인조대리석 샘플을 제조하였다.
이때 인조대리석 원료 조성물 1 kg 당 무기 안료는 8.8 g을 사용하였다.
<비교예 2>
천연암을 빻아서 적당한 크기의 분쇄물로 제조하였다. 상기 분쇄물과 제조예 1의 인조대리석 원료 조성물을 혼합하고 상기 혼합물을 직경 4 cm의 크기를 갖는 덩어리들로 나누었다. 상기 덩어리의 표면에 무기 안료인 TiO2를 부착하고 이렇게 안료가 부착된 덩어리를 몰드에 분상하였다. 그리고 진공가압 장비를 이용하여 압축성형하였다. 그 다음 120 ℃에서 1시간 동안 경화시키고, 경화가 완료된 후 실온으로 식히고 그 후 몰드에서 빼내 인조대리석을 제조하였다. 상기 인조대리석의 사방을 재단한 후 표면을 매끄럽게 연마하여 인조대리석 샘플을 제조하였다.
<실시예 6>
제조예 1의 인조대리석 원료 조성물 4.4 kg를 회전 장비에 투입하고 450 rpm으로 5 분간 회전시켜 덩어리를 제조한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법을 수행하여 인조대리석 샘플을 제조하였다.
<실험예 1>
실시예 1 내지 5의 인조대리석 샘플의 제조 시 안료로 코팅된 덩어리들의 크기를 측정하였다.
그 결과 실시예 1 내지 5의 덩어리들은 대부분 그 직경이 3 내지 10 cm로 다양하였다. 그러나 특정 범위의 크기를 갖는 덩어리를 선별하여 이용한 실시예 3은 덩어리들이 4 내지 8 cm의 직경을 가졌다.
<실험예 2>
실시예 1 내지 5, 비교예 1 내지 3의 인조대리석 샘플들 표면을 육안으로 관찰하였다.
그 결과 실시예 1 내지 5의 인조대리석 샘플들은 표면에 미세 라인으로 이루어진 무정형의 망상 패턴이 확인되었다. 상기 망상 패턴은 미세 라인으로 둘러싸인 영역을 만들며, 상기 미세 라인들은 서로 부드럽게 연결된 특징이 있었다.
실시예 1의 인조대리석 샘플의 두 부분의 사진을 보면(도 3), 미세 라인부터 시작해(A 부분) 영역 안쪽으로 갈수록 (B 부분) 불투명해진다. 따라서 미세라인 근처에서 상대적으로 진하게 보이는 미세라인 안료의 색이 화살표를 따라 영역 안쪽으로 갈수록 그라데이션이 형성되며 점점 불투명하면서 사라진다. 또한 실시예 1의 인조대리석 샘플 표면에는 미세 라인들이 뭉친 부분 (점선으로 된 원 부분)이 관찰되었는데, 이는 크기가 작은 덩어리들이 뭉쳐서 경화된 부분이다.
실시예 2의 인조대리석 샘플은 실시예 1보다 상기 영역의 모양이 좀더 둥글었다. 이는 회전 장비에서 좀더 오래 회전함으로써 더 둥근 형태의 덩어리를 만들었기 때문으로 추측되었다.
실시예 3의 인조대리석 샘플은 실시예 1보다 상기 영역의 크기가 대체로 좀더 작았다. 인조대리석 샘플은 인조대리석의 표면을 연마하여 제조되었기 때문에 각 덩어리의 단면이 노출되게 된다. 그러므로 비교적 실시예 3의 인조대리석 샘플의 영역들의 크기가 완전히 고르지는 않았다. 그러나 특정 범위의 크기를 갖는 덩어리들을 사용하였기 때문에 영역들의 크기 또한 특정 범위 내에 있었다.
실시예 4 및 5의 인조대리석 샘플은 영역들을 둘러싼 미세라인들의 색상이 여러 개여서 독특한 심미감을 주는 망상 구조 패턴을 가졌다. 이는 무기 염료를 두 종류 사용하였기 때문이다. 다만 동시 분상과 순차적 분상의 차이로 망상 구조 패턴이 다소 차이가 있었다.
비교예 1의 인조대리석 샘플은 미세라인들이 연결된 망상 구조가 아닌, 기존의 인조대리석에서 베인 패턴이라 불리는 미세라인들이 뚝뚝 끊어져 분포하는 패턴을 보였다(도 8).
비교예 2의 인조대리석 샘플은 미세라인들이 대체로 연결되어 있기는 하나 완전히 연결되지는 않고 군데군데 끊긴 부분들이 있었으며, 영역의 모서리들, 즉 미세라인들의 모양이 부드럽지 않고 날카롭거나 모난 부분이 많았다.
실시예 6의 인조대리석 샘플은 실시예 1보다 상기 영역의 모양이 좀더 둥글었다. 이는 회전 장비에서 좀더 빠르게 회전함으로써 더 둥근 형태의 덩어리를 만들었기 때문으로 추측되었다.
<실험예 3>
제조예 1의 인조대리석 원료 조성물을 몰드에 분상하였다. 그리고 진공가압 장비를 이용하여 압축성형하였다. 그 다음 120 ℃에서 1시간 동안 경화시키고, 경화가 완료된 후 실온으로 식히고 그 후 몰드에서 빼내 경화물을 제조하였다. 상기 경화물의 사방을 재단한 후 표면을 매끄럽게 연마하여 가로 7 cm, 세로 7 cm, 두께 1.5 cm의 경화물 샘플을 제조하였다.
<3-1>
상기 경화물에 대하여 탁도계(Nippon denshoku사의 NDH 5000)를 사용하여 빛 투과율을 측정하였다. 그 결과, 전투과율은 8.09%로 나타나 우수한 투과율을 갖는 것이 확인되었다.
<3-2>
경화물 샘플에 대하여 샘플 뒤에서 백라이트로 조명을 비추고 샘플 앞에서 육안으로 관찰하였다. 백라이트는 60 루멘(lumen)의 빛으로 백라이트가 경화물에 접촉하도록 바짝 붙여서 비추었고 광원은 스마트폰의 LED 후면 라이트(삼성 갤럭시 S7)를 이용하였다.
그 결과, 경화물 샘플은 앞에서도 불빛이 강하게 투과되는 것이 보였다.
<3-3>
또한 경화물 표면 약 5 cm 위에서 휘도계(KONICA MINOLTA의 Luminance Meter LS-160)를 이용하여 휘도를 측정하였다.
그 결과 휘도가 1250 cd/m2으로 나타나 우수한 휘도를 보였다.
<실험예 4>
실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 2의 인조대리석 샘플을 표면에서 수직방향으로 절단하여, 20 cm × 20 cm 크기의 샘플을 수득하였다. 상기 20 cm × 20 cm 크기의 샘플 표면의 미세라인으로 둘러싸인 영역들에 대하여 하기를 측정하였다:
1) 영역들 중 최대 장축 (즉, 복수 개의 영역들의 장축들 중 가장 긴 장축의 길이)
2) 영역들 중 최대 영역의 면적
3) 장축이 5 cm 이상인 영역들의 개수
4) 면적이 25 cm2 이상인 영역들의 개수.
최대 장축 (cm) 최대 영역의 면적
(cm2)		 장축이 5 cm 이상인 영역들의 개수 면적이 25 cm2 이상인 영역들의 개수
실시예 1 8 60 7 5
실시예 2 10 95 10 8
실시예 3 8 60 12 10
실시예 4 8 52 5 5
실시예 5 7 50 5 5
비교예 1 7 30 5 3
비교예 2 7 30 5 3
실시예 6 6 35 5 3
실시예들에서 제조된 인조대리석의 망상 패턴은 부드럽고 미려함을 가져 천연석과 같은 질감을 구현할 수 있음을 확인할 수 있었다.

Claims (25)

  1. 표면에 있어서, 폐도형 형태의 가장자리부로 둘러싸인 표면영역을 포함하며, 상기 폐도형 형태의 가장자리부는 미세라인으로 이루어지고, 상기 표면영역은 광 투과성 재료로 구성되는 것인 망상 패턴을 갖는 인조대리석.
  2. 제1항에 있어서, 상기 인조대리석은 상기 표면영역으로부터 상기 인조대리석의 두께 방향으로 연장되는 깊이영역을 포함하고, 상기 깊이영역은 상기 표면영역과 미세라인으로 둘러싸인 영역이고, 상기 인조대리석의 두께 방향으로의 단면 중 상기 표면영역의 중심점을 지나는 적어도 하나의 단면에 있어서, 상기 표면영역의 양측 가장자리부 사이의 거리 100%를 기준으로 적어도 하나의 가장자리로부터 10% 이내의 거리에서 상기 표면영역으로부터 연장되는 깊이영역의 깊이가 나머지 깊이영역의 깊이보다 짧은 것을 포함하는 망상 패턴을 갖는 인조대리석.
  3. 제1항에 있어서, 상기 인조대리석은 상기 표면영역으로부터 상기 인조대리석의 두께 방향으로 연장되는 깊이영역을 포함하고, 상기 깊이영역은 표면영역과 미세라인으로 둘러싸인 영역이고, 상기 인조대리석의 두께 방향으로의 단면 중 상기 표면영역의 중심점을 지나는 적어도 하나의 단면에 있어서, 상기 표면영역의 어느 하나의 가장자리부와 중심점 사이의 거리 100%를 기준으로 상기 표면영역의 가장자리로부터 20% 이내의 거리에서 상기 표면영역으로부터 연장되는 깊이영역의 깊이의 평균이 상기 표면영역의 중심점으로부터 80% 이내의 거리에서 상기 표면영역으로부터 연장되는 깊이영역의 깊이의 평균 보다 짧은 것을 포함하는 망상 패턴을 갖는 인조대리석.
  4. 제1항에 있어서, 상기 인조대리석은 상기 표면영역으로부터 상기 인조대리석의 두께 방향으로 연장되는 깊이영역을 포함하고, 상기 깊이영역은 표면영역과 미세라인으로 둘러 싸인 영역이고, 상기 인조대리석의 두께 방향으로의 단면 중 상기 표면영역의 중심점을 지나는 적어도 하나의 단면에 있어서, 상기 표면영역의 중심점에서 상기 표면영역의 가장자리부로 갈수록 상기 표면영역으로부터 연장되는 깊이영역의 깊이가 짧아지는 것인 망상 패턴을 갖는 인조대리석.
  5. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 깊이영역을 둘러싸는 미세라인 중 적어도 일부의 색상이 상기 표면영역을 투과하여 시인되는 것인 망상 패턴을 갖는 인조대리석.
  6. 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 표면영역은 그 중심부와 상기 가장자리부에 인접한 부분의 색감이 다른 것인 망상 패턴을 갖는 인조대리석.
  7. 제6항에 있어서, 상기 가장자리부에 인접한 상기 표면영역의 부분은 상기 가장자리부의 미세라인의 염료 또는 안료의 종류 또는 농도, 상기 표면영역의 크기 및 상기 가장자리부에 인접한 표면영역으로부터 연장되는 깊이영역의 깊이의 차이에 따라 형성되는 그라데이션 무늬를 갖는 것인 망상패턴구조를 가지는 망상 패턴을 갖는 인조대리석.
  8. 표면에 있어서, 폐도형 형태의 가장자리부로 둘러싸인 표면영역을 포함하며, 상기 폐도형 형태의 가장자리부는 미세라인으로 이루어지고, 상기 표면영역은 장축이 3 cm 이상인 영역을 포함하며,
    인조대리석 표면의 20 cm × 20 cm 크기의 임의의 부분에서 장축이 5 cm 이상인 영역들의 개수가 5 이상인 인조대리석:
    이때 장축은 미세라인 임의의 두 점을 선택하여 덩어리를 이분할하는 직선을 그었을 때 최장거리가 되는 임의의 두 점을 그은 임의의 선의 길이이다.
  9. 표면에 있어서, 폐도형 형태의 가장자리부로 둘러싸인 표면영역을 포함하며, 상기 폐도형 형태의 가장자리부는 미세라인으로 이루어지고, 상기 표면영역은 면적이 4 cm2 이상인 영역을 포함하고,
    인조대리석 표면의 20 cm × 20 cm 크기의 임의의 부분에서 면적이 25 cm2 이상인 영역들의 개수가 5 이상인 인조대리석.
  10. 제1항 내지 제4항, 제8항 및 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 인조대리석은 미세라인으로 둘러싸인 무정형의 망상 패턴을 갖는 것인 인조대리석.
  11. 인조대리석 원료 조성물을 포함하는 덩어리를 제조하는 단계;
    상기 덩어리의 표면에 안료를 코팅하여 안료가 코팅된 덩어리를 제조하는 단계;
    상기 안료가 코팅된 덩어리를 몰드에 분상하여 인조대리석 조성물을 제조하는 단계; 및
    상기 인조대리석 조성물을 경화하는 단계를 포함하는
    인조대리석의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 덩어리를 제조하는 단계는 인조대리석 원료 조성물을 장비에 넣고 장비를 회전시켜 수행하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  13. 제11항에 있어서, 상기 안료가 코팅된 덩어리를 제조하는 단계는 덩어리가 들어있는 장비에 안료를 넣고 장비를 회전시켜 수행하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 장비는 3 내지 20 분 동안 회전하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  15. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 장비는 30 내지 600 rpm의 속도로 회전하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  16. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 장비는 60 내지 300 rpm의 속도로 회전하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  17. 제11항에 있어서, 인조대리석 원료 조성물 100 중량부에 대하여 안료 0.1 내지 10 중량부를 사용하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  18. 제12항에 있어서, 장비의 내부 공간에서 인조대리석 원료 조성물은 10 내지 40 부피%의 양으로 사용되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  19. 제11항에 있어서, 안료가 코팅된 덩어리를 크기 별로 분류하여 원하는 크기의 안료가 코팅된 덩어리를 몰드에 분상하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  20. 제13항에 있어서, 둘 이상의 안료를 사용하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  21. 제11항에 있어서, 안료가 상이한 두 종류 이상의 덩어리를 제조하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  22. 제11항에 있어서, 크기가 상이한 둘 이상의, 안료가 코팅된 덩어리를 몰드에 분상하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  23. 제11항에 있어서, 상기 인조대리석은 표면에 망상 패턴을 갖는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  24. 제11항에 있어서, 상기 인조대리석의 표면은 미세 라인으로 이루어진 무정형의 망상 패턴을 포함하고, 상기 망상 패턴은 미세 라인으로 둘러싸이고 면적이 0.1 내지 100 cm2인 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  25. 제11항에 있어서, 상기 영역은 안료로 코팅된 덩어리의 인조대리석 원료 조성물이 경화된 영역인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
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