KR20220072634A - Multi-layered film for spacer and method of forming spacer using the same - Google Patents

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Abstract

스페이서용 다층 필름 및 이를 이용한 스페이서 형성 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 스페이서용 다층 필름은 200℃ 중량 감소율이 2% 이하, 100℃ 이하에서의 선팽창계수가 50ppm/℃ 이하인 제1 필름, 상기 제1 필름 하부에 배치되는 접착제층, 상기 접착제층 하부에 배치되는 제1 감압점착제층 및 상기 제1 감압점착제층 하부에 배치되며, 40~300㎛ 두께를 갖는 제2 필름을 포함한다.Disclosed are a multilayer film for a spacer and a method of forming a spacer using the same. The multilayer film for spacers according to the present invention is a first film having a weight reduction rate of 2% or less at 200° C. and a coefficient of linear expansion at 100° C. or less of 50 ppm/° C. or less, an adhesive layer disposed under the first film, and a lower portion of the adhesive layer It includes a first pressure-sensitive adhesive layer and a second film disposed under the first pressure-sensitive adhesive layer and having a thickness of 40 to 300 μm.

Description

스페이서용 다층 필름 및 이를 이용한 스페이서 형성 방법 {MULTI-LAYERED FILM FOR SPACER AND METHOD OF FORMING SPACER USING THE SAME}Multilayer film for spacer and method of forming spacer using the same

본 발명은 멀티 칩 패키지에 적용되는 스페이서를 제조하기 위한 스페이서용 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a film for a spacer for manufacturing a spacer applied to a multi-chip package.

본 발명은 또한 멀티 칩 패키지에서 스페이서를 형성하는 방법에 관한 것이다.The present invention also relates to a method of forming a spacer in a multi-chip package.

반도체 소자 제조 기술의 발전에 따라 전자 기기의 소형화 및 다기능화에 대한 많은 연구가 이루어지고 있다. With the development of semiconductor device manufacturing technology, many studies have been made on miniaturization and multifunctionality of electronic devices.

멀티 칩 패키지(Multi Chip Package; MCP) 기술은 반도체 칩의 패키지 기술 중 하나로서, 동종의 반도체 칩들 또는 이종의 반도체 칩들을 하나의 패키지로 구현하는 기술이다. A multi-chip package (MCP) technology is one of semiconductor chip package technologies, and is a technology for implementing the same type of semiconductor chips or different types of semiconductor chips into a single package.

멀티 칩 패키지 기술은 좁은 패키지 면적에서 고속 전송 구현이 가능하여, 각각의 반도체 칩을 별개의 패키지로 구현한 것에 비해 사이즈 및 무게 측면에서 장점을 갖는다. The multi-chip package technology can realize high-speed transmission in a narrow package area, so it has advantages in size and weight compared to implementing each semiconductor chip as a separate package.

멀티 칩 패키지에 있어서 사이즈 감소의 효과를 얻기 위해서는 복수의 반도체 칩들을 적층하여 하나의 패키지 내에 배치할 필요가 있다. 이때, 이용되는 것이 스페이서이다. In order to obtain an effect of size reduction in a multi-chip package, it is necessary to stack a plurality of semiconductor chips and arrange them in one package. In this case, a spacer is used.

예를 들어 2개의 반도체 칩이 적층된 패키지에서, 하나의 반도체 칩은 패키지 기판에 직접 부착되나, 다른 하나의 반도체 칩은 패키지 기판에 직접 부착되지 않는다. 이러한 패키지 기판에 직접 부착되지 않는 반도체 칩을 지지하는 역할을 하는 것이 스페이서이다. For example, in a package in which two semiconductor chips are stacked, one semiconductor chip is directly attached to the package substrate, but the other semiconductor chip is not directly attached to the package substrate. A spacer serves to support a semiconductor chip that is not directly attached to the package substrate.

스페이서는 일반적으로 금속, 고분자, 감광성 레지스트 등으로 형성된다. 스페이서가 금속이나 감광성 레지스트로 형성될 경우 패키지 기판 상에 금속이나 감광성 레지스트의 증착이나 코팅 후, 스페이서 이외의 부분을 에칭에 의해 제거하는 방법이 이용될 수 있다. 스페이서가 금속이나 고분자로 형성될 경우, 미리 정해진 형태로 스페이서를 제작하고, 이를 패키지 기판 상에 접착하는 방법이 이용될 수 있다. The spacer is generally formed of a metal, a polymer, a photosensitive resist, or the like. When the spacer is formed of a metal or a photosensitive resist, a method of removing the portion other than the spacer by etching after deposition or coating of the metal or the photosensitive resist on the package substrate may be used. When the spacer is formed of a metal or a polymer, a method of manufacturing the spacer in a predetermined shape and bonding the spacer on a package substrate may be used.

금속이나 감광성 레지스트의 증착 또는 코팅 후 에칭하는 방법으로 스페이서를 형성하는 방법은 포토 리소그래피와 같은 복잡한 공정이 요구될 뿐만 아니라 소재의 낭비가 문제된다. 미리 정해진 사이즈로 스페이서를 제작하고, 이를 패키지 기판 상에 접착하는 방법은 원하는 사이즈의 스페이서를 정확하게 제작하기 쉽지 않을 뿐만 아니라 패키지 기판 상에 스페이서를 정확히 부착하는 것이 어려운 문제점이 있다. A method of forming a spacer by etching after depositing or coating a metal or a photosensitive resist requires a complicated process such as photolithography and wastes materials. In the method of manufacturing a spacer having a predetermined size and bonding the spacer on a package substrate, it is not easy to accurately manufacture a spacer of a desired size, and it is difficult to accurately attach the spacer on the package substrate.

또한, 더미 웨이퍼를 활용(절단)하여 스페이서를 제작하고 이를 패키지 기판 상에 접착하는 방법이 있는데, 이 방법의 경우 더미 웨이퍼의 낭비가 문제된다.In addition, there is a method of manufacturing a spacer by using (cutting) a dummy wafer and bonding the spacer on a package substrate. In this method, waste of the dummy wafer is a problem.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 더미 웨이퍼를 사용하지 않고 다이싱 공정이 가능한 스페이서용 다층 필름을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a multilayer film for a spacer capable of a dicing process without using a dummy wafer.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 더미 웨이퍼를 사용하지 않고 다이싱 공정을 이용한 스페이서 형성 방법을 제공하는 것이다. Another object to be solved by the present invention is to provide a method of forming a spacer using a dicing process without using a dummy wafer.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 스페이서용 다층 필름은 200℃ 중량 감소율이 2% 이하, 100℃ 이하에서의 선팽창계수가 50ppm/℃ 이하인 제1 필름; 상기 제1 필름 하부에 배치되는 접착제층; 상기 접착제층 하부에 배치되는 제1 감압점착제층; 및 상기 제1 감압점착제층 하부에 배치되며, 40~300㎛ 두께를 갖는 제2 필름;을 포함한다. The multilayer film for a spacer according to the present invention for solving the above problems is a first film having a weight reduction rate of 200° C. of 2% or less, a coefficient of linear expansion at 100° C. or less of 50 ppm/° C. or less; an adhesive layer disposed under the first film; a first pressure-sensitive adhesive layer disposed under the adhesive layer; and a second film disposed under the first pressure-sensitive adhesive layer and having a thickness of 40 to 300 μm.

상기 제1 필름은 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리아미드이미드, 폴리페닐렌 술파이드, 폴리프탈아미드, 폴리술폰, 폴리에테르술폰 및 폴리에테르이미드 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. The first film may include at least one of polyimide, polyetheretherketone, polyamideimide, polyphenylene sulfide, polyphthalamide, polysulfone, polyethersulfone, and polyetherimide.

상기 제2 필름은 폴리올레핀계 수지를 포함할 수 있다. The second film may include a polyolefin-based resin.

상기 제1 감압점착층은 아크릴계 화합물을 포함할 수 있다. The first pressure-sensitive adhesive layer may include an acrylic compound.

상기 접착제층은 아크릴계 화합물 및 에폭시 수지를 포함할 수 있다. The adhesive layer may include an acrylic compound and an epoxy resin.

상기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리가 노출되어 있을 수 있다.An edge of the upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer may be exposed.

상기 제1 감압점착제층과 상기 접착제층 간의 부착력은 상기 제1 감압점착제층의 UV 경화 전에는 20~200N/m이고, 상기 제1 감압점착제층의 UV 경화 후에는 15N/m 이하일 수 있다.The adhesive force between the first pressure-sensitive adhesive layer and the adhesive layer may be 20 to 200 N/m before UV curing of the first pressure-sensitive adhesive layer, and 15 N/m or less after UV curing of the first pressure-sensitive adhesive layer.

상기 제1 필름의 상부에 배치되는 제2 감압점착제층; 및 상기 제2 감압점착제층 상부에 배치되는 커버 필름을 추가로 포함할 수 있다. a second pressure-sensitive adhesive layer disposed on the first film; and a cover film disposed on the second pressure-sensitive adhesive layer.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 스페이서 형성 방법은 전술한 스페이서용 다층 필름을 프레임에 고정하는 고정 단계; 상기 스페이서용 다층 필름을 다이싱하여 개편화하는 다이싱 단계; 개편화된 결과물에서 제1 필름 및 접착제층으로 이루어진 스페이서를 픽업하는 픽업 단계; 픽업된 스페이서를 패키지 기판 상에 부착하는 부착 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. A method of forming a spacer according to the present invention for solving the above problems includes a fixing step of fixing the multilayer film for a spacer to a frame; a dicing step of dicing the multilayer film for spacers into individual pieces; Pick-up step of picking up a spacer made of a first film and an adhesive layer from the individualized result; and an attaching step of attaching the picked up spacers on the package substrate.

상기 스페이서용 다층 필름은 상기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리가 노출되어 있으며, 프레임이 상기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리 상에 배치될 수 있다.In the multilayer film for spacers, an edge of an upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer may be exposed, and a frame may be disposed on an edge of an upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer.

본 발명에 따른 스페이서용 다층 필름은 40~300㎛ 두께를 갖는 제2 필름을 포함한다. 이에 따라 제1 필름을 개별 스페이서의 서포트로 개편화하기 위한 다이싱 공정에서, 제2 필름이 충분한 지지력을 제공할 수 있다. The multilayer film for spacers according to the present invention includes a second film having a thickness of 40 to 300 μm. Accordingly, in the dicing process for splitting the first film into individual spacers support, the second film can provide sufficient support.

따라서, 다이싱 공정을 이용하여 본 발명에 따른 스페이서용 다층 필름으로부터 원하는 사이즈의 개편화된 스페이서의 제작이 가능하다. 또한 다이싱을 통해 개편화된 스페이서는 픽업 공정 및 부착 공정을 통해 쉽게 패키지 기판에 부착 가능한 효과가 있다.Therefore, it is possible to manufacture the separated spacer of a desired size from the multilayer film for spacers according to the present invention by using the dicing process. In addition, the spacers separated through dicing can be easily attached to the package substrate through the pick-up process and the attachment process.

또한, 본 발명은 스페이서를 형성하여 더미 웨이퍼를 사용하지 않고 다이싱 공정이 가능한 효과가 있다.In addition, the present invention has an effect that a dicing process is possible without using a dummy wafer by forming a spacer.

도 1은 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지의 예를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 2는 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지의 다른 예를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 3은 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지의 또 다른 예를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 4는 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지의 또 다른 예를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서용 다층 필름을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 스페이서용 다층 필름을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 다이싱 공정을 이용한 스페이서 형성 방법을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 8은 도 7의 (a), (b) 및 (c)에 대응하는 평면도이다.
1 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of a multi-chip package including a spacer.
2 is a cross-sectional view schematically illustrating another example of a multi-chip package including a spacer.
3 is a cross-sectional view schematically illustrating another example of a multi-chip package including a spacer.
4 is a cross-sectional view schematically illustrating another example of a multi-chip package including a spacer.
5 is a cross-sectional view schematically illustrating a multilayer film for a spacer according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view schematically showing a multilayer film for a spacer according to another embodiment of the present invention.
7 schematically shows a method of forming a spacer using a dicing process according to the present invention.
8 is a plan view corresponding to (a), (b) and (c) of FIG. 7 .

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 "일면", "타면", "양면" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로, 구성요소가 상기 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다. 이하, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 관련된 공지 기술에 대한 상세한 설명은 생략한다.The objects, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings and preferred embodiments. In this specification, terms such as "one side", "the other side", and "both sides" are used to distinguish one component from another component, and the component is not limited by the terms. Hereinafter, in describing the present invention, detailed descriptions of related known technologies that may unnecessarily obscure the gist of the present invention will be omitted.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 스페이서용 다층 필름 및 이를 이용한 스페이서 형성 방법에 대하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a multilayer film for a spacer according to the present invention and a method of forming a spacer using the same will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지의 예를 개략적으로 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of a multi-chip package including a spacer.

도 1을 참조하면, 패키지 기판(110) 상에 제1 반도체 칩 유닛(120)이 배치된다. 제1 반도체 칩 유닛(120)은 제1 접착제층(121)과 제1 반도체 칩(122)을 포함한다. 제1 접착제층(121)은 제1 반도체 칩(122)을 패키지 기판(110)에 부착시키는 역학을 한다. 제1 반도체 칩(122)은 와이어(125)를 통해 패키지 기판(110)에 전기적으로 연결될 수 있다.Referring to FIG. 1 , a first semiconductor chip unit 120 is disposed on a package substrate 110 . The first semiconductor chip unit 120 includes a first adhesive layer 121 and a first semiconductor chip 122 . The first adhesive layer 121 serves to attach the first semiconductor chip 122 to the package substrate 110 . The first semiconductor chip 122 may be electrically connected to the package substrate 110 through a wire 125 .

제1 반도체 칩 유닛(120) 주위에는 스페이서(130)가 배치된다. 스페이서(130)는 접착제층(131) 및 서포트(132)를 포함한다. 접착제층(131)은 서포트(132)를 기판에 부착시키는 역할을 한다. A spacer 130 is disposed around the first semiconductor chip unit 120 . The spacer 130 includes an adhesive layer 131 and a support 132 . The adhesive layer 131 serves to attach the support 132 to the substrate.

스페이서(130) 상에는 제2 반도체 칩 유닛(140)이 배치된다. 제2 반도체 칩 유닛(140)은 제2 접착제층(141)과 제2 반도체 칩(142)을 포함한다. 제2 접착제층(141)은 제2 반도체 칩(142)을 스페이서(130)의 서포트(132)에 부착시키는 역할을 한다. 제2 반도체 칩(142)은 와이어(145)를 통해 패키지 기판(110)에 전기적으로 연결될 수 있다. 다른 예로, 제2 반도체 칩(142)은 스페이서를 관통하는 비아 홀을 통해 패키지 기판(110)에 전기적으로 연결될 수 있다.The second semiconductor chip unit 140 is disposed on the spacer 130 . The second semiconductor chip unit 140 includes a second adhesive layer 141 and a second semiconductor chip 142 . The second adhesive layer 141 serves to attach the second semiconductor chip 142 to the support 132 of the spacer 130 . The second semiconductor chip 142 may be electrically connected to the package substrate 110 through a wire 145 . As another example, the second semiconductor chip 142 may be electrically connected to the package substrate 110 through a via hole passing through the spacer.

패키지 기판(110) 상에, 제1 반도체 칩 유닛(120), 스페이서(130) 및 제2 반도체 칩 유닛(140)이 배치되고, 와이어 본딩 공정이 수행된 후에는 이들을 밀봉하는 몰딩부(150)가 형성된다. 몰딩부(150)는 에폭시 수지와 같은 봉지재로 형성될 수 있다. The first semiconductor chip unit 120 , the spacer 130 , and the second semiconductor chip unit 140 are disposed on the package substrate 110 , and after a wire bonding process is performed, a molding unit 150 sealing them is performed. is formed The molding part 150 may be formed of an encapsulant such as an epoxy resin.

도 1에 도시된 예와 같이, 스페이서(130)의 높이는 제1 반도체 칩 유닛(120)의 높이보다 높을 수 있다. 이를 통해 스페이서(130)를 지지체로 하여 제2 반도체 칩 유닛(140)이 적층될 수 있다. 다른 예로, 스페이서(130)의 높이는 제1 반도체 칩 유닛(120)의 높이와 동일할 수 있다. 또한, 스페이서(130)의 높이가 제1 반도체 칩 유닛(120)의 높이보다 높거나 또는 스페이서(130)의 높이가 제1 반도체 칩 유닛(120)의 높이와 동일한 것에 기인하여, 스페이서(130) 및 제 2 반도체 칩 유닛(140)에 의해 제1 반도체 칩 유닛(120)이 매립되는 효과를 얻을 수 있다.1 , the height of the spacer 130 may be higher than the height of the first semiconductor chip unit 120 . Through this, the second semiconductor chip unit 140 may be stacked using the spacer 130 as a support. As another example, the height of the spacer 130 may be the same as the height of the first semiconductor chip unit 120 . In addition, since the height of the spacer 130 is higher than the height of the first semiconductor chip unit 120 or the height of the spacer 130 is the same as the height of the first semiconductor chip unit 120 , the spacer 130 is and the effect that the first semiconductor chip unit 120 is buried by the second semiconductor chip unit 140 may be obtained.

도 2 내지 도 4는 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지의 다른 예를 개략적으로 나타낸 단면도들이다. 2 to 4 are cross-sectional views schematically illustrating another example of a multi-chip package including a spacer.

도 2 내지 도 4에서는 제2 반도체 칩 유닛들(도 2의 140-1 내지 140-4, 도 3의 140-1 내지 140-5, 도 4의 140-1 내지 140-7)은 도 1에 도시된 예와 마찬가지로 와이어(미도시)나 비아 홀(미도시)을 통해 다른 제2 반도체 칩 유닛 또는 패키지 기판(110)에 전기적으로 연결될 수 있다. 2 to 4, second semiconductor chip units (140-1 to 140-4 in FIG. 2, 140-1 to 140-5 in FIG. 3, and 140-1 to 140-7 in FIG. 4) are shown in FIG. Like the illustrated example, it may be electrically connected to another second semiconductor chip unit or the package substrate 110 through a wire (not shown) or a via hole (not shown).

도 2 내지 도 4에 도시된 멀티 칩 패키지들의 경우에도 패키지 기판(110) 상에 배치된 스페이서(130)를 통해 반도체 칩 유닛들의 적층이 가능하다. Even in the case of the multi-chip packages shown in FIGS. 2 to 4 , the semiconductor chip units may be stacked through the spacers 130 disposed on the package substrate 110 .

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서용 다층 필름을 개략적으로 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view schematically illustrating a multilayer film for a spacer according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 도시된 스페이서용 다층 필름은 제1 필름(510), 접착제층(520), 제2 필름(530) 및 제1 감압점착제층(535)을 포함한다. Referring to FIG. 5 , the illustrated multilayer film for spacers includes a first film 510 , an adhesive layer 520 , a second film 530 , and a first pressure-sensitive adhesive layer 535 .

제1 필름first film

제1 필름(510)은 도 1 내지 도 4의 스페이서(130)의 서포트(132)가 될 부분이다. 스페이서(130)는 반도체 칩 패키지 제조 공정 및 반도체 칩 패키지 사용에 있어 내열성을 가질 것을 요구한다. The first film 510 is a portion that will become the support 132 of the spacer 130 of FIGS. 1 to 4 . The spacer 130 is required to have heat resistance in a semiconductor chip package manufacturing process and use of the semiconductor chip package.

따라서 제1 필름(510)은 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 이에 본 발명에서 제1 필름(510)으로 200℃ 중량 감소율이 2% 이하, 100℃ 이하에서의 선팽창계수가 50ppm/℃ 이하인 것으로 제한하였다. 200℃ 중량 감소율이 2%를 초과하거나 100℃ 이하에서의 선팽창계수가 50ppm/℃를 초과하는 경우, 내열성이 좋지 않다고 볼 수 있다. Therefore, the first film 510 preferably has heat resistance. Accordingly, the first film 510 in the present invention was limited to a weight loss rate of 2% or less at 200°C and a coefficient of linear expansion at 100°C or less of 50 ppm/°C or less. When the weight loss rate of 200°C exceeds 2% or the coefficient of linear expansion at 100°C or lower exceeds 50 ppm/°C, it can be considered that the heat resistance is not good.

상기와 같은 내열성을 갖는 제1 필름(510)은 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리아미드이미드, 폴리페닐렌 술파이드, 폴리프탈아미드, 폴리술폰, 폴리에테르술폰 및 폴리에테르이미드 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이 중에서도 내열성이 보다 우수한 폴리이미드 또는 폴리에테르에테르케톤을 제1 필름의 재질로 하는 것이 보다 바람직하다.The first film 510 having the above heat resistance includes at least one of polyimide, polyetheretherketone, polyamideimide, polyphenylene sulfide, polyphthalamide, polysulfone, polyethersulfone, and polyetherimide. can do. Among these, it is more preferable to use polyimide or polyether ether ketone which is more excellent in heat resistance as a material of a 1st film.

제1 필름(510)은 단층 구조를 가질 수 있다. 다른 예로, 제1 필름(510)은 다층 구조를 가질 수 있다.The first film 510 may have a single-layer structure. As another example, the first film 510 may have a multilayer structure.

제1 필름(510)의 두께는 목표로 하는 스페이서의 서포트(도 1의 132)의 두께에 따라 정해질 수 있다. The thickness of the first film 510 may be determined according to the thickness of the target spacer support ( 132 in FIG. 1 ).

접착제층adhesive layer

접착제층(520)은 도 1 내지 도 4의 스페이서(130)의 접착제층(131)이 될 부분이다.The adhesive layer 520 is a portion to be the adhesive layer 131 of the spacer 130 of FIGS. 1 to 4 .

접착제층(520)은 제1 필름(510)의 하부에 배치된다. 접착제층(520)은 약 3~60㎛ 두께를 가질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The adhesive layer 520 is disposed under the first film 510 . The adhesive layer 520 may have a thickness of about 3 to 60 μm, but is not limited thereto.

본 발명에서 접착제층(520)은 아크릴계 화합물을 포함할 수 있다. 또한, 접착제층(520)은 경화를 위해 에폭시 수지를 포함할 수 있다. 에폭시 수지로는 비스페놀 A형, 비스페놀 F형, 비스페놀 S형, 비스페놀 AF형, 비페닐형, 나프탈렌형, 플루오렌형, 페놀노볼락형, 오르토크레졸노볼락형, 글리시딜아민형 등이 1종 이상 이용될 수 있다. In the present invention, the adhesive layer 520 may include an acrylic compound. In addition, the adhesive layer 520 may include an epoxy resin for curing. As an epoxy resin, bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, bisphenol AF type, biphenyl type, naphthalene type, fluorene type, phenol novolak type, orthocresol novolak type, glycidylamine type, etc. are 1 More than one species can be used.

또한, 접착제층(520)에는 1종 이상의 첨가제가 추가로 포함될 수 있다. 첨가제로는 경화제(페놀계 수지, 아민류 등), 무기 입자(실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 이산화티타늄, 탄산칼슘 등), 경화촉진제, 실란 커플링제 등이 제시될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. In addition, one or more additives may be additionally included in the adhesive layer 520 . The additive may include, but is not limited to, a curing agent (phenolic resin, amines, etc.), inorganic particles (silica, aluminum hydroxide, alumina, titanium dioxide, calcium carbonate, etc.), a curing accelerator, and a silane coupling agent.

접착제층(520), 그리고 후술하는 제1 감압점착제층(535) 및 제2 감압점착제층(545)에 이용가능한 아크릴계 화합물은, 바람직하게는 (메트)아크릴산 에스테르에서 유래하는 단량체를 포함한다. The acrylic compound usable for the adhesive layer 520 and the first pressure-sensitive adhesive layer 535 and the second pressure-sensitive adhesive layer 545 to be described later preferably includes a monomer derived from (meth)acrylic acid ester.

아크릴계 화합물의 단량체를 형성하 위한 (메트)아크릴산 에스테르로는, (메트)아크릴산 알킬에스테르, (메트)아크릴산 시클로알킬에스테르, (메트)아크릴산 아릴에스테르 등이 제시될 수 있다.As the (meth)acrylic acid ester for forming the monomer of the acrylic compound, (meth)acrylic acid alkyl ester, (meth)acrylic acid cycloalkyl ester, (meth)acrylic acid aryl ester, etc. may be presented.

아크릴계 화합물에는 카르복시기 함유 단량체, 산 무수물 단량체, 히드록시기 함유 단량체, 글리시딜기 함유 단량체, 술폰산기 함유 단량체, 인산기 함유 단량체, 아크릴로니트릴 함유 단량체 등이 추가로 포함될 수 있다. The acrylic compound may further include a carboxyl group-containing monomer, an acid anhydride monomer, a hydroxyl group-containing monomer, a glycidyl group-containing monomer, a sulfonic acid group-containing monomer, a phosphoric acid group-containing monomer, an acrylonitrile-containing monomer, and the like.

또한 아크릴계 화합물에는 1종 이상의 다관능성 단량체가 추가로 포함될 수 있다. 다관능성 단량체는 헥산디올디(메트)아크릴레이트, (폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리 (메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트(즉, 폴리글리시딜(메트)아크릴레이트), 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 등이 제시될 수 있다. In addition, the acrylic compound may further include one or more polyfunctional monomers. The polyfunctional monomer is hexanediol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol Di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate (ie, polyglycy dil (meth) acrylate), polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and the like may be presented.

제2 필름second film

제2 필름(530)은 접착제층(520) 하부에 배치된다. 제2 필름(530)과 접착제층(520) 사이에는 제1 감압점착제층(535)이 배치된다. 제1 감압점착제층(535)은 제2 필름(530) 상에 직접 캐스팅 코팅 및 건조시켜 형성하거나, 제2 필름(530)에 라미네이트되어 형성될 수 있다. The second film 530 is disposed under the adhesive layer 520 . A first pressure-sensitive adhesive layer 535 is disposed between the second film 530 and the adhesive layer 520 . The first pressure-sensitive adhesive layer 535 may be formed by casting coating and drying directly on the second film 530 , or may be formed by laminating the second film 530 .

제2 필름(530)은 다이싱 공정에서 지지체의 역할을 한다. 이에 본 발명에서는 제2 필름(530)의 두께를 40㎛ 이상으로 제한하였다. 제2 필름(530)의 두께가 40㎛ 미만일 경우에는 익스팬딩(expanding) 및 픽업성을 확보하기 어렵다. 또한, 제2 필름(530)의 두께가 300㎛를 초과하여 지나치게 두꺼울 경우에도 익스팬딩 불량 및 픽업 불량 등이 발생할 가능성이 있는 바, 제2 필름(530)의 두께는 300㎛ 이하인 것이 바람직하다. 제2 필름(530)의 두께 범위는 40~300㎛가 될 수 있고, 바람직하게는 50~250㎛, 보다 바람직하게는 60~200㎛, 가장 바람직하게는 70~150㎛를 제시할 수 있다.The second film 530 serves as a support in the dicing process. Accordingly, in the present invention, the thickness of the second film 530 is limited to 40 μm or more. When the thickness of the second film 530 is less than 40 μm, it is difficult to secure expanding and pickup properties. In addition, when the thickness of the second film 530 exceeds 300 μm and is excessively thick, there is a possibility that an expansion failure and a pickup failure may occur. Therefore, the thickness of the second film 530 is preferably 300 μm or less. The thickness range of the second film 530 may be 40 to 300 μm, preferably 50 to 250 μm, more preferably 60 to 200 μm, and most preferably 70 to 150 μm.

제2 필름(530)은 폴리올레핀계 수지를 이용할 수 있다. 구체적으로는 제2 필름(530)은 저밀도 폴리에틸렌, 중밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 초저밀도 폴리에틸렌, 랜덤 공중합 폴리프로필렌, 블록 공중합 폴리프로필렌, 호모폴리프로필렌, 폴리부텐, 폴리메틸펜텐, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체, 아이오노머 수지, 에틸렌-(메트)아크릴산 공중합체, 에틸렌-(메트)아크릴산 에스테르 공중합체, 에틸렌-부텐 공중합체 및 에틸렌-헥센 공중합체 중 1종 이상을 포함하는 재질로 형성될 수 있다. The second film 530 may use a polyolefin-based resin. Specifically, the second film 530 is a low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, ultra-low-density polyethylene, random copolymer polypropylene, block copolymer polypropylene, homo polypropylene, polybutene, polymethylpentene, ethylene-vinyl acetate copolymer It may be formed of a material including at least one of a copolymer, an ionomer resin, an ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, an ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer, an ethylene-butene copolymer, and an ethylene-hexene copolymer.

제2 필름(530)은 단층 구조를 가질 수 있고, 다른 예로 다층 구조를 가질 수 있다. The second film 530 may have a single-layer structure, or as another example, a multi-layer structure.

제1 감압점착제층(535)은 약 5~30㎛ 두께로 형성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 제1 감압점착제층(535)은 아크릴계 화합물을 포함할 수 있다. 다만, 제1 감압점착제층(535)은 접착제층(520)과는 달리 에폭시 수지를 포함하지 않을 수 있다. The first pressure-sensitive adhesive layer 535 may be formed to a thickness of about 5 to 30 μm, but is not limited thereto. The first pressure-sensitive adhesive layer 535 may include an acrylic compound. However, unlike the adhesive layer 520 , the first pressure-sensitive adhesive layer 535 may not include an epoxy resin.

또한, 제1 감압점착제층(535) 에는 1종 이상의 첨가제가 추가로 포함될 수 있다. 첨가제로는 이소시아네이트 경화제와 같은 열 경화제나 벤조페논과 같은 광개시제가 제시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In addition, one or more additives may be additionally included in the first pressure-sensitive adhesive layer 535 . The additive may be a thermal curing agent such as an isocyanate curing agent or a photoinitiator such as benzophenone, but is not limited thereto.

상기 제1 감압점착제층(535)은 다이싱 공정에서 UV 경화 전까지는 B-스테이지 상태로 존재할 수 있다.The first pressure-sensitive adhesive layer 535 may exist in a B-stage state until UV curing in the dicing process.

한편, 제1 감압점착제층(535)과 접착제층(520) 간의 부착력은 제1 감압점착제층의 UV 경화 전에는 20~200N/m를 나타낼 수 있고, UV 경화 후에는 15N/m이하가 될 수 있다. 이는 다이싱 후에 픽업 공정에서 개편화된 제1 필름 510)과 접착제층(520)만이 픽업되도록 하기 위함이다. 이러한 제1 감압점착제층(535)의 부착력 제어는 예를 들어 점착제 성분 제어를 통해 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제1 감압점착제층(535)의 아크릴계 화합물은 아크릴산-2-에틸헥실 100 중량부에 대하여, 아크릴산-2-하이드록시에틸 10 ~ 40 중량부, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 10 ~ 45 중량부를 공중합반응시킨 공중합체를 포함하는 것이 될 수 있다. On the other hand, the adhesive force between the first pressure-sensitive adhesive layer 535 and the adhesive layer 520 may represent 20 to 200 N/m before UV curing of the first pressure-sensitive adhesive layer, and 15 N/m or less after UV curing. . This is to ensure that only the separated first film 510 and the adhesive layer 520 are picked up in the pickup process after dicing. The control of the adhesion of the first pressure-sensitive adhesive layer 535 may be performed, for example, by controlling the pressure-sensitive adhesive component. For example, the acrylic compound of the first pressure-sensitive adhesive layer 535 is based on 100 parts by weight of acrylic acid-2-ethylhexyl, 10 to 40 parts by weight of acrylic acid-2-hydroxyethyl, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate 10 to 45 parts by weight of the copolymer may be one comprising a copolymerized reaction.

한편, 도 5를 참조하면, 제1 감압점착제층(535)의 상부면의 가장자리가 노출되어 있을 수 있다. 이는 다이싱 공정에서 링 프레임에 대한 스페이서용 필름의 고정을 용이하게 하기 위함이다. 이에 대하여는 도 7에서 후술하기로 한다. Meanwhile, referring to FIG. 5 , the edge of the upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer 535 may be exposed. This is to facilitate fixing of the film for spacers to the ring frame in the dicing process. This will be described later with reference to FIG. 7 .

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 스페이서용 다층 필름을 개략적으로 나타낸 단면도이다.6 is a cross-sectional view schematically showing a multilayer film for a spacer according to another embodiment of the present invention.

도 6에 도시된 스페이서용 다층 필름은 도 5에 도시된 스페이서용 다층 필름과 마찬가지로 제1 필름(510), 접착제층(520), 제2 필름(530) 및 제1 감압점착제층(535)을 포함한다. 도 6에 도시된 스페이서용 다층 필름에서 제1 필름(510), 접착제층(520), 제2 필름(530) 및 제1 감압점착제층(535)은 도 5에서 설명한 바와 동일하므로 그 설명을 생략하기로 한다. The multilayer film for spacers shown in FIG. 6 includes a first film 510 , an adhesive layer 520 , a second film 530 , and a first pressure-sensitive adhesive layer 535 , like the multilayer film for spacers shown in FIG. 5 . include In the multilayer film for spacers shown in FIG. 6 , the first film 510 , the adhesive layer 520 , the second film 530 , and the first pressure-sensitive adhesive layer 535 are the same as those described in FIG. 5 , and thus descriptions thereof will be omitted. decide to do

한편, 도 6에 도시된 스페이서용 다층 필름은 커버 필름(540) 및 제2 감압점착제층(545)을 추가로 포함한다. Meanwhile, the multilayer film for spacers shown in FIG. 6 further includes a cover film 540 and a second pressure-sensitive adhesive layer 545 .

커버 필름cover film

커버 필름(540)은 다이싱 공정 이전에 제1 필름(510)을 보호하기 위한 보호 필름으로서 작용한다. 커버 필름(540)은 다이싱 공정에서는 미리 제거된다. 커버 필름(540)은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐, 폴리카보네이트, 폴리이미드 등과 같은 재질로 형성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The cover film 540 acts as a protective film for protecting the first film 510 before the dicing process. The cover film 540 is previously removed in the dicing process. The cover film 540 may be formed of a material such as polyethylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polycarbonate, polyimide, etc., but is not limited thereto.

커버 필름(540)과 제1 필름(510) 사이에는 제2 감압점착제층(545)이 배치될 수 있다. A second pressure-sensitive adhesive layer 545 may be disposed between the cover film 540 and the first film 510 .

제2 감압점착제층(545)은 약 3~30㎛ 두께로 형성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 제2 감압점착제층(545)은 제1 감압점착제층(535)과 마찬가지로, 아크릴계 화합물을 포함하되 에폭시 수지를 포함하지 않을 수 있다. 제2 감압점착제층(545)에는 페놀계 수지, 아민류 등과 같은 경화제나 실란 커플링제 등과 같은 첨가제가 1종 이상 추가로 포함될 수 있다. The second pressure-sensitive adhesive layer 545 may be formed to a thickness of about 3 to 30 μm, but is not limited thereto. Like the first pressure-sensitive adhesive layer 535 , the second pressure-sensitive adhesive layer 545 may include an acrylic compound but not an epoxy resin. The second pressure-sensitive adhesive layer 545 may further include one or more additives such as a curing agent such as a phenol-based resin and amines, or a silane coupling agent.

한편, 도 6을 참조하면, 제2 감압점착제층(545)의 하부면의 가장자리가 노출되어 있을 수 있다. 이는 다이싱 공정 직전에 커버 필름(540) 및 제2 감압점착제층(545)의 제거를 용이하게 하기 위함이다. Meanwhile, referring to FIG. 6 , the edge of the lower surface of the second pressure-sensitive adhesive layer 545 may be exposed. This is to facilitate the removal of the cover film 540 and the second pressure-sensitive adhesive layer 545 immediately before the dicing process.

스페이서 형성 방법How to form a spacer

도 7은 본 발명에 따른 다이싱 공정을 이용한 스페이서 형성 방법을 개략적으로 나타낸 것이다. 도 8은 도 7의 (a), (b) 및 (c)에 대응하는 평면도로서, 도 7에 대한 방법을 설명할 때 참조한다. 7 schematically shows a method of forming a spacer using a dicing process according to the present invention. 8 is a plan view corresponding to (a), (b) and (c) of FIG. 7 , which is referred to when describing the method of FIG. 7 .

도 7을 참조하면, 본 발명에 따른 스페이서 형성 방법은 고정 단계, 다이싱 단계, 픽업 단계 및 부착 단계를 포함한다. Referring to FIG. 7 , the method for forming a spacer according to the present invention includes a fixing step, a dicing step, a picking step and an attaching step.

먼저 도 7의 (a)에 도시된 예와 같이, 위로부터 제1 필름(510), 접착제층(520), 제1 감압점착제층(535) 및 제2 필름(530)을 포함하는 스페이서용 다층 필름을 마련한다. 예를 들어 도 6에 도시된 스페이서용 다층 필름에서 제2 감압점착제층(545) 및 커버 필름(540)을 제거함으로써 도 7의 (a)에 도시된 예와 같은 스페이서용 다층 필름을 마련할 수 있다.First, as in the example shown in FIG. 7 (a), a multilayer for spacers including a first film 510, an adhesive layer 520, a first pressure-sensitive adhesive layer 535 and a second film 530 from above. prepare the film For example, by removing the second pressure-sensitive adhesive layer 545 and the cover film 540 from the multilayer film for spacers shown in FIG. 6 , a multilayer film for spacers such as the example shown in (a) of FIG. 7 can be prepared. have.

이후 도 7의 (b) 및 도 8의 (b)에 도시된 예와 같이, 스페이서용 다층 필름을 고정한다. 스페이서용 다층 필름을 고정하기 위해 링 프레임과 같은 프레임(610)이 이용될 수 있다. 한편, 스페이서용 다층 필름에서 제1 감압점착제층(535)의 상부면의 가장자리가 노출되어 있는 경우, 프레임(610)이 제1 감압점착제층(535)의 상부면의 가장자리 상에 쉽게 배치될 수 있다. Then, as in the examples shown in FIGS. 7 (b) and 8 (b), the multilayer film for spacers is fixed. A frame 610 such as a ring frame may be used to fix the multilayer film for spacers. On the other hand, when the edge of the upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer 535 is exposed in the multilayer film for spacers, the frame 610 can be easily disposed on the edge of the upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer 535 . have.

이후, 도 7의 (c)에 도시된 예와 같이, 다이싱용 쏘우(601) 또는 레이저를 이용하여 미리 정해진 절단 라인(SL)을 따라 스페이서용 다층 필름을 다이싱하여 개편화(個片化)한다. 전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 스페이서용 다층 필름의 경우, 스페이서의 서포트가 되는 제1 필름(510)과 별도로, 40~300㎛의 두께를 갖는 제2 필름(530)을 포함한다. 스페이서용 다층 필름에 포함되는 40~300㎛의 두께의 제2 필름(530)은 다이싱 공정에서 충분한 지지력을 제공할 수 있다.Thereafter, as in the example shown in FIG. 7C , the multilayer film for spacers is diced along a predetermined cutting line SL using a dicing saw 601 or a laser to separate into pieces. do. As described above, in the case of the multilayer film for a spacer according to the present invention, the second film 530 having a thickness of 40 to 300 μm is included separately from the first film 510 serving as a support for the spacer. The second film 530 having a thickness of 40 to 300 μm included in the multilayer film for spacers may provide sufficient support in the dicing process.

이후, 도 7의 (d)에 도시된 예와 같이, 푸싱 수단(620) 및 흡착 수단(630)을 이용하여 개편화된 결과물에서 제1 필름(510) 및 접착제층(520)으로 이루어진 스페이서를 픽업한다. Thereafter, as in the example shown in (d) of FIG. 7 , a spacer consisting of a first film 510 and an adhesive layer 520 in the resultant fragmented using a pushing means 620 and an adsorption means 630 is removed. pick up

이후, 도 7의 (e)에 도시된 예와 같이, 제1 필름(510) 및 접착제층(520)로 이루어진 스페이서를 패키지 기판(110) 상에 부착한다. Thereafter, as in the example shown in FIG. 7E , a spacer formed of the first film 510 and the adhesive layer 520 is attached to the package substrate 110 .

<실시예><Example>

이하 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 하기 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred examples are presented to help the understanding of the present invention. However, the following examples are only provided for easier understanding of the present invention, and the contents of the present invention are not limited by the following examples.

스페이서용 접착 필름의 제조Preparation of adhesive film for spacer

위로부터 제1 필름(폴리이미드), 아크릴-에폭시 접착제층, 아크릴 감압점착제층 및 제2 필름(폴리에틸렌 필름)으로 이루어진 스페이서용 다층 필름들을 마련하였으며(도 7의 (a) 참고), 제2 필름의 두께만을 달리하였다. 이후, 링 프레임을 아크릴 감압점착제층의 상부 가장자리측에 접합하여 스페이서용 다층 필름을 고정한 후, 다이싱 기기인 DFD-6361(디스코사 제조)를 이용하여 각각의 시편들에 대하여 9mm × 12mm 로 개별 스페이서로 분할하는 다이싱 공정을 행한 후, 픽업 장비인 SPA-300(신까와사 제조)를 이용하여 개별 스페이서들을 익스팬딩(expanding) 및 픽업하였다. A first film (polyimide), an acrylic-epoxy adhesive layer, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer, and a second film (polyethylene film) were prepared from above to prepare multilayer films for spacers (refer to FIG. 7 (a)), and the second film Only the thickness of was changed. After that, the ring frame was bonded to the upper edge of the acrylic pressure-sensitive adhesive layer to fix the multilayer film for spacers, and then, using a dicing device, DFD-6361 (manufactured by Disco), each specimen was individually measured to be 9mm × 12mm. After the dicing process of dividing the spacers into spacers, the individual spacers were expanded and picked up using a pickup equipment SPA-300 (manufactured by Shinkawa Co., Ltd.).

이하의 평가들을 수행하여, 표 1에 나타내었다. The following evaluations were performed, and are shown in Table 1.

익스팬딩(expanding) 평가 : 다이싱 후 픽업 장비에서 칩 간 구분 및 픽업을 용이하게 하기 위해 제2 필름을 확장하는 익스팬딩 공정을 진행하여, 익스팬딩 링(expanding ring) 상향이 가능한 범위(mm)를 측정하였다 Expanding evaluation: After dicing, in the pickup equipment, the expanding process of expanding the second film is performed in order to distinguish between chips and to facilitate pickup. was measured

픽업성 평가 : 픽업 장비의 니들핀의 높이를 0.35mm 및 0.45mm에서 픽업하였으며 픽업 성공율이 95% 이상일 경우 양호(O), 95% 미만일 경우 불량(X)으로 평가하였다.Pick-up evaluation: The height of the needle pin of the pickup equipment was picked up at 0.35 mm and 0.45 mm, and when the pickup success rate was more than 95%, it was evaluated as good (O), and when it was less than 95%, it was evaluated as bad (X).

[표 1][Table 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

표 1을 참조하면, 제2 필름의 두께가 40~300㎛인 시편 2~6의 경우 익스팬딩 공정 및 픽업 공정에서 어떠한 불량도 나타내지 않았다. 이에 반해, 제2 필름의 두께가 40㎛ 미만인 시편 1 경우 필름의 찢어짐으로 인해 익스팬딩 공정이 진행되지 못했으며, 그 결과 픽업 공정도 진행되지 못하였다. 한편, 제2 필름의 두께가 300㎛를 초과하는 시편 7의 경우 익스팬딩 가능 범위가 1mm에 불과하였으며, 또한 픽업 장비의 니들핀 높이 0.45mm에서 픽업 불량이 확인되었다. Referring to Table 1, in the case of specimens 2 to 6 having a thickness of 40 to 300 μm of the second film, no defects were observed in the expanding process and the pickup process. In contrast, in the case of Specimen 1 having a thickness of less than 40 μm of the second film, the expanding process did not proceed due to tearing of the film, and as a result, the pickup process did not proceed either. On the other hand, in the case of Specimen 7 in which the thickness of the second film exceeds 300 μm, the expandable range was only 1 mm, and pickup failure was confirmed at the needle pin height of 0.45 mm of the pickup equipment.

따라서, 제2 필름의 두께는 40~300㎛인 것이 바람직하다. Therefore, it is preferable that the thickness of the second film is 40 to 300 μm.

이상과 같이 본 발명에 대해 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 통상의 기술자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 자명하다. 아울러 앞서 본 발명의 실시예를 설명하면서 본 발명의 구성에 따른 작용 효과를 명시적으로 기재하여 설명하지 않았을 지라도, 해당 구성에 의해 예측 가능한 효과 또한 인정되어야 함은 당연하다.Although the present invention has been described as described above, the present invention is not limited by the embodiments disclosed herein, and it is apparent that various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. In addition, even if the effect of the configuration of the present invention is not explicitly described and described while describing the embodiment of the present invention, it is natural that the effect predictable by the configuration should also be recognized.

110 : 패키지 기판
120 : 제1 반도체 칩 유닛
130 : 스페이서
131 : 접착제층
132 : 서포트
140 : 제2 반도체 칩 유닛
150 : 몰딩부
510 : 제1 필름
520 : 접착제층
530 : 제2 필름
535 : 제1 감압점착제층
540 : 커버 필름
545 : 제2 감압점착제층
601 : 다이싱용 쏘우
610 : 프레임
620 : 푸싱 수단
630 : 흡착 수단
110: package substrate
120: first semiconductor chip unit
130: spacer
131: adhesive layer
132: support
140: second semiconductor chip unit
150: molding part
510: first film
520: adhesive layer
530: second film
535: first pressure-sensitive adhesive layer
540: cover film
545: second pressure-sensitive adhesive layer
601: Saw for dicing
610: frame
620: pushing means
630: means of adsorption

Claims (10)

200℃ 중량 감소율이 2% 이하, 100℃ 이하에서의 선팽창계수가 50ppm/℃ 이하인 제1 필름;
상기 제1 필름 하부에 배치되는 접착제층;
상기 접착제층 하부에 배치되는 제1 감압점착제층; 및
상기 제1 감압점착제층 하부에 배치되며, 40~300㎛ 두께를 갖는 제2 필름;을 포함하는 것을 특징으로 하는 스페이서용 다층 필름.
A first film having a weight loss rate of 2% or less at 200° C. and a coefficient of linear expansion at 100° C. or less of 50 ppm/° C. or less;
an adhesive layer disposed under the first film;
a first pressure-sensitive adhesive layer disposed under the adhesive layer; and
and a second film disposed under the first pressure-sensitive adhesive layer and having a thickness of 40 to 300 μm.
제1항에 있어서,
상기 제1 필름은 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리아미드이미드, 폴리페닐렌 술파이드, 폴리프탈아미드, 폴리술폰, 폴리에테르술폰 및 폴리에테르이미드 중에서 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 스페이서용 다층 필름.
The method of claim 1,
The first film is a multilayer for a spacer, characterized in that it comprises at least one of polyimide, polyether ether ketone, polyamide imide, polyphenylene sulfide, polyphthalamide, poly sulfone, polyether sulfone and polyether imide. film.
제1항에 있어서,
상기 제2 필름은 폴리올레핀계 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 스페이서용 다층 필름.
According to claim 1,
The second film is a multilayer film for spacers, characterized in that it comprises a polyolefin-based resin.
제1항에 있어서,
상기 제1 감압점착제층은 아크릴계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 스페이서용 다층 필름.
According to claim 1,
The first pressure-sensitive adhesive layer is a multilayer film for spacers, characterized in that it includes an acrylic compound.
제1항에 있어서,
상기 접착제층은 아크릴계 화합물 및 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 스페이서용 다층 필름.
According to claim 1,
The adhesive layer is a multilayer film for spacers, characterized in that it comprises an acrylic compound and an epoxy resin.
제1항에 있어서,
상기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리가 노출되어 있는 것을 특징으로 하는 스페이서용 다층 필름.
According to claim 1,
The multilayer film for spacers, characterized in that the edge of the upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer is exposed.
제1항에 있어서,
상기 제1 감압점착제층과 상기 접착제층 간의 부착력은 상기 제1 감압점착제층의 UV 경화 전에는 20~200N/m이고, 상기 제1 감압점착제층의 UV 경화 후에는 15N/m 이하인 것을 특징으로 하는 스페이서용 다층 필름.
According to claim 1,
The adhesive force between the first pressure-sensitive adhesive layer and the adhesive layer is 20 to 200 N/m before UV curing of the first pressure-sensitive adhesive layer, and 15 N/m or less after UV curing of the first pressure-sensitive adhesive layer. Spacer, characterized in that for multilayer films.
제1항에 있어서,
상기 제1 필름의 상부에 배치되는 제2 감압점착제층; 및
상기 제2 감압점착제층 상부에 배치되는 커버 필름을 추가로 포함하는 것을 특징으로 스페이서용 다층 필름.
According to claim 1,
a second pressure-sensitive adhesive layer disposed on the first film; and
The multilayer film for spacers, characterized in that it further comprises a cover film disposed on the second pressure-sensitive adhesive layer.
제1항에 기재된 스페이서용 다층 필름을 프레임에 고정하는 고정 단계;
상기 스페이서용 다층 필름을 다이싱하여 개편화하는 다이싱 단계;
개편화된 결과물에서 제1 필름 및 접착제층으로 이루어진 스페이서를 픽업하는 픽업 단계;
픽업된 스페이서를 패키지 기판 상에 부착하는 부착 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 스페이서 형성 방법.
A fixing step of fixing the multilayer film for spacers according to claim 1 to a frame;
a dicing step of dicing the multilayer film for spacers into individual pieces;
Pick-up step of picking up a spacer made of a first film and an adhesive layer from the individualized result;
and an attaching step of attaching the picked up spacers onto a package substrate.
제9항에 있어서,
상기 스페이서용 다층 필름은 상기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리가 노출되어 있으며,
프레임이 상기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리 상에 배치되는 것을 특징으로 하는 스페이서 형성 방법.
10. The method of claim 9,
The multilayer film for the spacer has an exposed edge of the upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer,
A method for forming a spacer, characterized in that a frame is disposed on an edge of the upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer.
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