KR20230090415A - Film for spacer and method of forming spacer using the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 멀티 칩 패키지에 적용되는 스페이서용 필름 및 이를 이용한 스페이서 형성 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 스페이서용 필름은 제1 필름 및 상기 제1 필름 하부에 배치되는 접착층을 포함한다. 본 발명에 따른 스페이서용 필름은 더미 웨이퍼 대신 제1 필름을 포함하며 저장탄성률과 컬량 값의 곱이 10 내지 200 GPa·mm이다. 이에 따라 다이싱 공정에서 발생하는 다이 인식 불량을 억제하고 픽업성을 향상시킬 수 있다.The present invention relates to a spacer film applied to a multi-chip package and a spacer forming method using the same. The spacer film according to the present invention includes a first film and an adhesive layer disposed under the first film. The spacer film according to the present invention includes a first film instead of a dummy wafer, and has a product of a storage modulus and a curl value of 10 to 200 GPa·mm. Accordingly, it is possible to suppress die recognition defects occurring in the dicing process and improve pick-up performance.
Description
본 발명은 멀티 칩 패키지에 적용되는 스페이서용 필름 및 이를 이용한 스페이서 형성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a spacer film applied to a multi-chip package and a spacer forming method using the same.
반도체 소자 제조 기술의 발전에 따라 전자 기기의 소형화 및 다기능화에 대한 많은 연구가 이루어지고 있다. 멀티 칩 패키지(Multui Chip Package: MCP) 기술은 반도체 칩의 패키지 기술 중 하나로서, 동종의 반도체 칩들 또는 이종의 반도체 칩들을 하나의 패키지로 구현하는 기술이다. 멀티 칩 패키지 기술은 좁은 패키지 면적에서 고속 전송 구현이 가능하여, 각각의 반도체 칩을 별개의 패키지로 구현한 것에 비해 사이즈 및 무게 측면에서 장점을 갖는다.With the development of semiconductor device manufacturing technology, many studies on miniaturization and multifunctionalization of electronic devices have been conducted. A multi-chip package (MCP) technology is one of semiconductor chip packaging technologies, and is a technology for implementing semiconductor chips of the same type or semiconductor chips of different types into a single package. The multi-chip package technology enables high-speed transmission in a small package area, and has advantages in terms of size and weight compared to implementing each semiconductor chip in a separate package.
멀티 칩 패키지에 있어서 사이즈 감소의 효과를 얻기 위해서는 복수의 반도체 칩들을 적층하여 하나의 패키지 내에 배치할 필요가 있다. 이때 이용되는 것이 스페이서이다. 예를 들어 2개의 반도체 칩이 적층된 패키지에서, 하나의 반도체 칩은 패키지 기판에 직접 부착되나, 다른 하나의 반도체 칩은 패키지 기판에 직접 부착되지 않는다. 이러한 패키지 기판에 직접 부착되지 않는 반도체 칩을 지지하는 역할을 하는 것이 스페이서이다.In order to obtain an effect of reducing the size of a multi-chip package, it is necessary to stack a plurality of semiconductor chips and arrange them in one package. A spacer is used at this time. For example, in a package in which two semiconductor chips are stacked, one semiconductor chip is directly attached to the package substrate, but the other semiconductor chip is not directly attached to the package substrate. A spacer serves to support a semiconductor chip that is not directly attached to such a package substrate.
스페이서는 일반적으로, 금속, 고분자, 감광성 레지스트 등으로 형성된다. 스페이서가 금속이나 감광성 레지스트로 형성될 경우 패키지 기판 상에 금속이나 감광성 레지스트의 증착이나 코팅 후, 스페이서 이외의 부분을 에칭에 의해 제거하는 방법이 이용될 수 있다. 스페이서가 금속이나 고분자로 형성될 경우, 미리 정해진 형태로 스페이서를 제작하고, 이를 패키지 기판 상에 접착하는 방법이 이용될 수 있다.The spacer is generally formed of metal, polymer, photosensitive resist or the like. When the spacer is formed of metal or photosensitive resist, a method of depositing or coating the metal or photosensitive resist on the package substrate and then removing parts other than the spacer by etching may be used. When the spacer is formed of metal or polymer, a method of fabricating the spacer in a predetermined shape and adhering it to the package substrate may be used.
금속이나 감광성 레지스트의 증착 또는 코팅 후 에칭하는 방법으로 스페이서를 형성하는 방법은 포토 리소그래피와 같은 복잡한 공정이 요구될 뿐만 아니라 소재의 낭비가 문제된다. 미리 정해진 사이즈로 스페이서를 제작하고, 이를 패키지 기판 상에 접착하는 방법은 사이즈의 스페이서를 정확하게 제작하기 쉽지 않을 뿐만 아니라 패키지 기판 상에 스페이서를 정확히 부착하는 것이 어려운 문제점이 있다.A method of forming a spacer by etching after depositing or coating a metal or photosensitive resist not only requires a complicated process such as photolithography, but also wastes materials. A method of manufacturing a spacer having a predetermined size and attaching the spacer to a package substrate has problems in that it is not easy to accurately manufacture a spacer of the size and it is difficult to accurately attach the spacer to the package substrate.
또한, 더미 웨이퍼를 활용(절단)하여 스페이서를 제작하고 이를 패키지 기판 상에 접착하는 방법이 있는데, 이 방법의 경우 더미 웨이퍼의 낭비가 문제된다.In addition, there is a method of manufacturing a spacer by using (cutting) a dummy wafer and bonding it on a package substrate. In this method, waste of the dummy wafer is a problem.
한편, 더미 웨이퍼 대신 폴리이미드(Polyimide)와 같은 성분을 포함하는 고분자 필름을 스페이서로 활용하는 방안을 고려할 수 있으나, 다이싱 후 칩 에지(edge) 부분에서 고분자 필름의 낮은 탄성률로 인한 필름의 휘어짐이 발생하여, 다이를 인식하는데 불량이 발생하고 픽업성이 저하된다.On the other hand, it is possible to consider using a polymer film containing a component such as polyimide as a spacer instead of a dummy wafer. occurs, a defect occurs in recognizing the die, and pick-up performance deteriorates.
본 발명의 일 과제는 더미 웨이퍼를 사용하지 않고 다이싱 공정이 가능하며, 다이 인식 불량이 억제되고 픽업성이 향상된 스페이서용 필름을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a film for a spacer capable of performing a dicing process without using a dummy wafer, suppressing die recognition defects and improving pick-up properties.
본 발명의 다른 일 과제는 더미 웨이퍼를 사용하지 않고도 우수한 효율로 다이싱 공정을 수행할 수 있는 스페이서 형성 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of forming a spacer capable of performing a dicing process with excellent efficiency without using a dummy wafer.
본 발명의 또 다른 일 과제는 더미 웨이퍼를 사용하지 않은 멀티 칩 패키지를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a multi-chip package that does not use a dummy wafer.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
예시적인 실시예들에 따른 스페이서용 필름은 제1 필름 및 상기 제1 필름 하부에 배치되는 접착층을 포함하고, 하기 수식 1을 만족한다.A film for a spacer according to exemplary embodiments includes a first film and an adhesive layer disposed under the first film, and satisfies Equation 1 below.
[수식 1][Equation 1]
10 GPa·mm ≤ (저장탄성률 x 컬량) ≤ 200 GPa·mm10 GPa mm ≤ (storage modulus x curl amount) ≤ 200 GPa mm
(상기 수식 1에서 저장탄성률은 상기 스페이서용 필름의 25 에서의 저장탄성률이고, 컬량은 상기 제1 필름과 접착층을 가로 50 mm, 세로 15 mm인 직사각형으로 절취하여 상기 접착층이 아래 측이 되도록 수평면 위에 두고 측정한 컬량이다.)(In Equation 1, the storage modulus is 25 It is the storage modulus at , and the amount of curl is measured by cutting the first film and the adhesive layer into a rectangle with a width of 50 mm and a length of 15 mm and placing the adhesive layer on a horizontal surface so that the adhesive layer is on the lower side.)
일부 실시예들에 있어서, 상기 저장탄성률은 2 GPa 내지 10 GPa일 수 있다. In some embodiments, the storage modulus may be 2 GPa to 10 GPa.
일부 실시예들에 있어서, 상기 컬량은 5 mm 내지 20 mm일 수 있다.In some embodiments, the curl amount may be 5 mm to 20 mm.
일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 필름은 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리아미드이미드, 폴리페닐렌 술파이드, 폴리프탈아미드, 폴리술폰, 폴리에테르술폰 및 폴리에테르이미드 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.In some embodiments, the first film may include at least one of polyimide, polyetheretherketone, polyamideimide, polyphenylene sulfide, polyphthalamide, polysulfone, polyethersulfone, and polyetherimide. can
일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 필름은 하부에 코팅층을 포함할 수 있다.In some embodiments, the first film may include a coating layer thereon.
일부 실시예들에 있어서, 상기 코팅층은 폴리이미드 작용기를 포함하는 화합물, 폴리아미드이미드 작용기를 포함하는 화합물, 에폭시 작용기를 포함하는 화합물 및 우레탄아크릴레이트 작용기를 포함하는 화합물 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.In some embodiments, the coating layer may include at least one of a compound containing a polyimide functional group, a compound containing a polyamideimide functional group, a compound containing an epoxy functional group, and a compound containing a urethane acrylate functional group. .
일부 실시예들에 있어서, 상기 코팅층은 두께가 2 um 내지 9 um인, 스페이서용 필름.In some embodiments, the coating layer has a thickness of 2 um to 9 um, a film for a spacer.
일부 실시예들에 있어서, 상기 접착층은 아크릴계 화합물 및 에폭시 수지 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In some embodiments, the adhesive layer may include at least one of an acrylic compound and an epoxy resin.
일부 실시예들에 있어서, 상기 스페이서용 필름은 상기 접착층 하부에 배치되는 제1 감압점착제층을 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the spacer film may further include a first pressure-sensitive adhesive layer disposed under the adhesive layer.
일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 감압점착제층은 아크릴계 화합물을 포함할 수 있다. In some embodiments, the first pressure-sensitive adhesive layer may include an acrylic compound.
일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리가 노출되어 있을 수 있다.In some embodiments, an edge of an upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer may be exposed.
일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 감압점착제층과 상기 접착층 간의 부착력은 상기 제1 감압점착제층의 UV 경화 전에는 20~200N/m이고, 상기 제1 감압점착제층의 UV 경화 후에는 15N/m 이하일 수 있다.In some embodiments, the adhesive strength between the first pressure-sensitive adhesive layer and the adhesive layer is 20 to 200 N/m before UV curing of the first pressure-sensitive adhesive layer and 15 N/m after UV curing of the first pressure-sensitive adhesive layer. may be below.
일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 감압점착제층 하부에 배치되는 제2 필름을 더 포함할 수 있다.In some embodiments, a second film disposed under the first pressure-sensitive adhesive layer may be further included.
일부 실시예들에 있어서, 상기 제2 필름은 폴리올레핀계 수지를 포함할 수 있다.In some embodiments, the second film may include a polyolefin-based resin.
일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 필름의 상부에 배치되는 제2 감압점착제층 및 상기 제2 감압점착제층 상부에 배치되는 커버 필름을 더 포함할 수 있다.In some embodiments, a second pressure-sensitive adhesive layer disposed on the first film and a cover film disposed on the second pressure-sensitive adhesive layer may be further included.
예시적인 실시예들에 따른 스페이서 형성 방법은 상기 스페이서용 필름을 프레임에 고정하는 고정 단계, 상기 스페이서용 필름을 다이싱하여 개편화하는 다이싱 단계, 개편화된 결과물에서 제1 필름 및 접착층으로 이루어진 스페이서를 픽업하는 픽업 단계, 및 픽업된 스페이서를 패키지 기판 상에 부착하는 부착 단계를 포함한다.A spacer forming method according to exemplary embodiments includes a fixing step of fixing the spacer film to a frame, a dicing step of dicing and singling the spacer film, and a first film and an adhesive layer in the singulated result. A pick-up step of picking up the spacer, and an attaching step of attaching the picked-up spacer on the package substrate.
일부 실시예들에 있어서, 상기 스페이서용 필름은 상기 접착층 하부에 배치되는 제1 감압점착제층을 더 포함하고, 상기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리가 노출되어 있으며, 프레임이 상기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리 상에 배치될 수 있다.In some embodiments, the spacer film further includes a first pressure-sensitive adhesive layer disposed below the adhesive layer, an edge of an upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer is exposed, and a frame is provided with the first pressure-sensitive adhesive layer. It may be disposed on the edge of the upper surface of the pressure-sensitive adhesive layer.
예시적인 실시예들에 따른 멀티 칩 패키지는 패키지 기판, 상기 패키지 기판 상에 배치되는 청구항 1에 기재된 스페이서용 필름을 포함하는 스페이서, 상기 패키지 기판 상에 배치되는 제1 반도체 칩 유닛, 상기 스페이서 및 제1 반도체 칩 유닛 상에 적층되는 제2 반도체 칩 유닛, 제1 반도체 칩 유닛의 칩 패드와 그에 대응되는 제1 기판 패드 및 제2 반도체 칩 유닛의 칩 패드와 그에 대응되는 제2 기판 패드를 전기적으로 연결하는 와이어 및 상기 제1 반도체 칩 유닛, 제2 반도체 칩 유닛, 와이어 및 스페이서를 봉지하는 패키지 몸체를 포함한다.A multi-chip package according to example embodiments includes a package substrate, a spacer including the spacer film according to claim 1 disposed on the package substrate, a first semiconductor chip unit disposed on the package substrate, the spacer, and a first semiconductor chip unit disposed on the package substrate. A second semiconductor chip unit stacked on one semiconductor chip unit, a chip pad of the first semiconductor chip unit and a corresponding first substrate pad, and a chip pad of the second semiconductor chip unit and a corresponding second substrate pad are electrically connected. A package body encapsulating a connecting wire, the first semiconductor chip unit, the second semiconductor chip unit, the wire, and the spacer is included.
본 발명에 따른 스페이서용 필름은 더미 웨이퍼 대신 제1 필름을 포함하며 저장탄성률과 컬량 값의 곱이 10 GPa·mm 내지 200 GPa·mm이다. 이에 따라 다이싱 공정에서 발생하는 다이 인식 불량을 억제하고 픽업성을 향상시킬 수 있다.The spacer film according to the present invention includes a first film instead of a dummy wafer, and the product of the storage modulus and the curl amount is 10 GPa·mm to 200 GPa·mm. Accordingly, it is possible to suppress die recognition defects occurring in the dicing process and improve pick-up performance.
따라서, 본 발명에 따른 스페이서용 필름으로부터 다이싱 공정을 통해 원하는 사이즈의 개편화된 스페이서를 용이하게 제작할 수 있다. Accordingly, it is possible to easily fabricate individualized spacers having a desired size from the spacer film according to the present invention through a dicing process.
또한, 본 발명에 따른 스페이서 형성 방법은 개편화된 스페이서를 픽업 공정 및 부착 공정을 통해 쉽게 패키지 기판에 부착할 수 있다.In addition, the spacer forming method according to the present invention can easily attach the individualized spacers to the package substrate through a pick-up process and an attaching process.
또한, 본 발명은 상기 스페이서용 필름을 이용하여 더미 웨이퍼를 사용하지 않은 멀티 칩 패키지를 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a multi-chip package that does not use a dummy wafer by using the spacer film.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지의 예를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서용 필름을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 스페이서용 필름을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 다이싱 공정을 이용한 스페이서 형성 방법을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 8은 도 7의 (a), (b), 및 (c)에 대응하는 평면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a multi-chip package including a spacer according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view of a multi-chip package including a spacer according to another embodiment of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view of a multi-chip package including a spacer according to another embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view of a multi-chip package including a spacer according to another embodiment of the present invention.
5 is a schematic cross-sectional view of a film for a spacer according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic cross-sectional view of a film for a spacer according to another embodiment of the present invention.
7 schematically illustrates a spacer forming method using a dicing process according to the present invention.
8 is a plan view corresponding to (a), (b), and (c) of FIG. 7 .
본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명과 관련된 공지기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 그리고, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다. In describing the present invention, if it is determined that a detailed description of the known technology related to the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, terms to be described later are terms defined in consideration of functions in the present invention, which may vary according to the intention or custom of a user or operator. Therefore, the definition should be made based on the contents throughout this specification.
본 발명의 기술적 사상은 청구범위에 의해 결정되며, 이하의 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 효율적으로 설명하기 위한 일 수단일 뿐이다.The technical spirit of the present invention is determined by the claims, and the following examples are only one means for efficiently explaining the technical spirit of the present invention to those skilled in the art to which the present invention belongs.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시형태를 설명하기로 한다. 그러나 이는 예시에 불과하며 본 발명은 이에 제한되지 않는다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, this is only an example and the present invention is not limited thereto.
도 1은 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지의 예를 개략적으로 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of a multi-chip package including a spacer.
도 1을 참조하면, 패키지 기판(110) 상에 제1 반도체 칩 유닛(120)이 배치된다. 제1 반도체 칩 유닛(120)은 제1 접착층(121)과 제1 반도체 칩(122)을 포함할 수 있다. 제1 접착층(121)은 제1 반도체 칩(122)을 패키지 기판(110)에 부착시키는 역할을 한다. 제1 반도체 칩 유닛(120)은 칩 패드와 그에 대응되는 제1 기판 패드가 와이어(125)를 통해 연결됨으로써, 패키지 기판(110)에 전기적으로 연결될 수 있다.Referring to FIG. 1 , a first
제1 반도체 칩 유닛(120) 주위에는 스페이서(130)가 배치된다. 스페이서(130)는 접착층(131) 및 서포트(132)를 포함한다. 접착층(131)은 서포트(132)를 기판에 부착시키는 역할을 한다.A
스페이서(130) 상에는 제2 반도체 칩 유닛(140)이 배치된다. 제2 반도체 칩 유닛(140)은 제2 접착층(141)과 제2 반도체 칩(142)을 포함할 수 있다. 제2 접착층(141)은 제2 반도체 칩(142)을 스페이서(130)의 서포트(132)에 부착시키는 역할을 한다. 제2 반도체 칩 유닛(140)은 칩 패드와 그에 대응되는 제2 기판 패드가 와이어(145)를 통해 연결됨으로써, 패키지 기판(110)에 전기적으로 연결될 수 있다. 다른 예로, 제2 반도체 칩(142)은 스페이서(130)를 관통하는 비아 홀을 통해 패키지 기판(110)에 전기적으로 연결될 수 있다.A second semiconductor chip unit 140 is disposed on the
패키지 기판(110) 상에, 제1 반도체 칩 유닛(120), 스페이서(130) 및 제2 반도체 칩 유닛(140)이 배치되고, 와이어 본딩 공정이 수행된 후에는 이들을 봉지하는 패키지 몸체(150)가 형성된다. 패키지 몸체(150)는 에폭시 수지와 같은 봉지재로 형성될 수 있다.On the
도 1에 도시된 바와 같이, 스페이서(130)의 높이는 제1 반도체 칩 유닛(120)의 높이보다 높을 수 있다. 이를 통해 스페이서(130)를 지지체로 하여 제2 반도체 칩 유닛(140)이 적층될 수 있다. 다른 예로, 스페이서(130)의 높이는 제1 반도체 칩 유닛(120)의 높이와 동일할 수 있다. 또한, 스페이서(130)의 높이가 제1 반도체 칩 유닛(120)의 높이와 동일한 것에 기인하여, 스페이서(130) 및 제2 반도체 칩 유닛(140)에 의해 제1 반도체 칩 유닛(120)이 매립되는 효과를 얻을 수 있다.As shown in FIG. 1 , the height of the
도 2 내지 도 4는 스페이서를 포함하는 멀티 칩 패키지의 다른 예를 개략적으로 나타낸 단면도들이다.2 to 4 are cross-sectional views schematically illustrating another example of a multi-chip package including a spacer.
도 2 내지 도 4에서는 제2 반도체 칩 유닛들(도 2의 140-1 내지 140-4, 도 3의 140-1 내지 140-5, 도 4의 140-1 내지 140-7)은 도 1에 도시된 예와 마찬가지로 와이어(미도시)나 비아 홀(미도시)을 통해 다른 제2 반도체 칩 유닛 또는 패키지 기판(110)에 전기적으로 연결될 수 있다.In FIGS. 2 to 4 , the second semiconductor chip units ( 140 - 1 to 140 - 4 in FIG. 2 , 140 - 1 to 140 - 5 in FIG. 3 , and 140 - 1 to 140 - 7 in FIG. 4 ) are shown in FIG. 1 . Similar to the illustrated example, it may be electrically connected to another second semiconductor chip unit or the
도 2 내지 도 4에 도시된 멀티 칩 패키지들의 경우에도 패키지 기판 (110) 상에 배치된 스페이서(130)를 통해 반도체 칩 유닛들의 적층이 가능하다.Even in the case of the multi-chip packages shown in FIGS. 2 to 4 , semiconductor chip units may be stacked through the
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서용 필름을 개략적으로 나타낸 단면도이다.5 is a schematic cross-sectional view of a film for a spacer according to an embodiment of the present invention.
도 5를 참조하면, 도시된 스페이서용 필름은 제1 필름(510) 및 접착층(520)을 포함하며, 상기 접착층(520) 하부에 배치되는 제1 감압점착제층(535)을 더 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 스페이서용 필름은 하기 수식 1을 만족한다.Referring to FIG. 5 , the illustrated spacer film includes a
[수식 1][Equation 1]
10 GPa·mm ≤ (저장탄성률 x 컬량) ≤ 200 GPa·mm10 GPa mm ≤ (storage modulus x curl amount) ≤ 200 GPa mm
상기 수식 1에서 저장탄성률은 상기 스페이서용 필름의 25℃에서의 저장탄성률이고, 컬량은 상기 제1 필름과 접착층을 가로 50mm, 세로 15mm 직사각형으로 절취하여 접착층이 아래 측이 되도록 수평면 위에 두고 측정한 것이다.In Equation 1, the storage modulus is the storage modulus of the spacer film at 25 ° C, and the curling amount is measured by cutting the first film and the adhesive layer into a rectangle 50 mm wide and 15 mm long, and placing the adhesive layer on a horizontal surface so that the adhesive layer is on the lower side. .
상기 수식 1에서 저장탄성률 x 컬량의 값은 10 GPa·mm 내지 200 GPa·mm인 것이 바람직하다. 상기 값의 범위에서 익스팬딩 시 워피지에 의한 다이 인식 불량 발생을 억제할 수 있으며 니들핀에 의한 픽업 공정이 잘 이루어질 수 있다. 저장탄성률이 증가할수록 필름의 경도가 증가하게 되어 컬량이 감소되어도 익스팬딩 시 필름의 워피지를 억제될 수 있으며, 반대로 저장탄성률이 감소하더라도 컬량을 증가시킴으로써 다이 인식 불량을 억제하고 픽업성을 향상시킬 수 있다. In Equation 1, the value of storage modulus x curl amount is preferably 10 GPa·mm to 200 GPa·mm. In the range of the above value, it is possible to suppress the occurrence of defective die recognition due to warpage during expansion, and the pick-up process by the needle pin can be performed well. As the storage modulus increases, the hardness of the film increases, so even if the curl amount decreases, warpage of the film can be suppressed during expansion. can
상기 저장탄성률(E')은 스페이서용 필름에서 제1필름과 접착층이 적층된 부분을 5mm x 20mm로 컷팅하고, 이를 DMA(dynamic Mechanical Analyzer, 제조사: TA社, 모델명: DMA850) 장비를 이용해 온도 범위 -30℃에서 10℃/분으로 승온하여 25℃ 저장 탄성율을 측정한 것일 수 있다. 상기 저장탄성률은 2 GPa 내지 10 GPa인 것이 바람직하다. 상기 저장탄성률이 2 GPa 미만인 경우 익스팬딩 시 워피지에 의한 다이 인식 불량 및 픽업 불량이 나타나며, 상기 저장탄성률이 10 GPa 초과인 경우 경도가 지나치게 증가하여 롤 형태의 제품화가 잘 되지 않을 수 있다.The storage modulus (E ') is obtained by cutting the portion where the first film and the adhesive layer are laminated in the spacer film into 5 mm x 20 mm, and using a DMA (dynamic mechanical analyzer, manufacturer: TA company, model name: DMA850) equipment to measure the temperature range The temperature may be increased from -30 ° C to 10 ° C / min to measure the 25 ° C storage modulus. The storage modulus is preferably 2 GPa to 10 GPa. If the storage modulus is less than 2 GPa, die recognition and pick-up failures due to warpage appear during expansion, and if the storage modulus is more than 10 GPa, the hardness is excessively increased, so that it may not be well commercialized in a roll form.
상기 컬량은 샘플의 중심부와 외곽 높이의 상대적인 차이를 의미하며, 중심부가 외곽보다 높은 경우 + 이며, 중심부가 외곽보다 낮은 경우 - 값을 갖는다.The amount of curl means a relative difference between the heights of the center and the outer edge of the sample, and has a + value when the center area is higher than the outer area, and a - value when the center area is lower than the outer area.
상기 컬량이 5 mm 미만인 경우 익스팬딩 시 스마일 형태의 워피지 발생으로 픽업 장비의 비젼 인식 불량이 나타나며, 상기 컬량이 20 mm 초과하는 경우 제1 필름(510)과 접착체층(520)이 잘 밀착되지 않아 제조공정이 진행될 수 없거나 픽업 공정에 사용 시 자가 박리에 의해 칩 플라잉이 발생하게 된다.If the curl amount is less than 5 mm, a smile-shaped warpage occurs during expansion, resulting in poor vision recognition of the pickup equipment, and if the curl amount exceeds 20 mm, the
제1 필름first film
제1 필름(510)은 도 1 내지 도 4의 스페이서(130)의 서포트(132)가 될 부분이다. 스페이서(130)는 반도체 칩 패키지 제조 공정 및 반도체 칩 패키지 사용에 있어 내열성을 가질 것이 요구된다.The
따라서 제1 필름(510)은 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 이에 본 발명에서 제1 필름(510)으로 200℃ 중량 감소율이 2% 이하, 100℃ 이하에서의 선팽 창계수가 50ppm/℃ 이하인 것으로 제한하였다. 200℃ 중량 감소율이 2%를 초과하거나 100℃ 이하에서의 선팽창계수가 50ppm/℃를 초과하는 경우, 내열성이 좋지 않다고 볼 수 있다.Therefore, the
상기와 같은 내열성을 갖는 제1 필름(510)은 폴리이미드, 폴리에테 르에테르케톤, 폴리아미드이미드, 폴리페닐렌 술파이드, 폴리프탈아미드, 폴리술폰, 폴리에테르술폰 및 폴리에테르이미드 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이 중에서도 내열성이 보다 우수한 폴리이미드 또는 폴리에테르에테르케톤을 제1 필름의 재질로 하는 것이 보다 바람직하다.The
제1 필름(510)은 단층 구조를 가질 수 있다. 다른 예로, 제1 필름(510)은 다층 구조를 가질 수 있다.The
상기 제1 필름(510)은 하부에 코팅층을 포함할 수 있다. 상기 코팅층은 제1 필름(510)보다 탄성률 또는 수축률이 더 높을 수 있다. 상기 코팅층이 포함되는 경우 제1 필름(510)의 하부와 상부에 탄성률 또는 수축율을 다르게 형성하여 스페이서용 필름에 컬을 보다 용이하게 부여할 수 있다. The
상기 코팅층은 바람직하게는 폴리이미드 작용기를 포함하는 화합물, 폴리아미드이미드 작용기를 포함하는 화합물, 에폭시 작용기를 포함하는 화합물 및 우레탄아크릴레이트 작용기를 포함하는 화합물 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 화합물은 경화물의 형태로 포함될 수 있다.The coating layer may preferably include at least one of a compound containing a polyimide functional group, a compound containing a polyamideimide functional group, a compound containing an epoxy functional group, and a compound containing a urethane acrylate functional group. The compound may be included in the form of a cured product.
상기 코팅층은 두께가 2 내지 9 um일 수 있다. 상기 코팅층의 두께가 2 um 미만인 경우 스페이서용 필름에 본 발명의 효과를 달성하기 위한 적절량의 컬이 부여되기 어려우며, 9 um를 초과하는 경우, 롤이 발생하여 스페이서용 필름의 제조가 어려워지거나 픽업 공정 시 플라잉이 발생할 수 있다.The coating layer may have a thickness of 2 to 9 um. If the thickness of the coating layer is less than 2 um, it is difficult to impart an appropriate amount of curl to achieve the effect of the present invention to the spacer film, and if it exceeds 9 um, rolls occur, making it difficult to manufacture the spacer film or pickup Flying may occur during processing.
상기 제1 필름층의 두께는 목표로 하는 스페이서의 서포트(도 1의 132)의 두께에 따라 정해질 수 있으나, 컬이 형성되는 것을 고려할 경우 두께가 3um 내지 100um 일 수 있으나 이에 특별히 제한되는 것은 아니다. The thickness of the first film layer may be determined according to the thickness of the target spacer support (132 in FIG. 1), but considering the formation of curls, the thickness may be 3 um to 100 um, but is not particularly limited thereto. .
접착층adhesive layer
접착층(520)은 도 1 내지 도 4의 스페이서(130)의 접착층(131) 이 될 부분이다.The
접착층(520)은 제1 필름(510)의 하부에 배치된다. 접착층(520) 은 약 3~60㎛ 두께를 가질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The
본 발명에서 접착층(520)은 아크릴계 화합물을 포함할 수 있다. 또한, 접착층(520)은 경화를 위해 에폭시 수지를 포함할 수 있다. 에폭시 수지로는 비스페놀 A형, 비스페놀 F형, 비스페놀 S형, 비스페놀 AF형, 비페닐형, 나프탈렌형, 플루오렌형, 페놀노볼락형, 오르토크레졸노볼락형, 글리시딜아민형 등이 1종 이상 이용될 수 있다.In the present invention, the
또한, 접착층(520)에는 1종 이상의 첨가제가 추가로 포함될 수 있 다. 첨가제로는 경화제(페놀계 수지, 아민류 등), 무기 입자(실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 이산화티타늄, 탄산칼슘 등), 경화촉진제, 실란 커플링제 등이 제시될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In addition, one or more additives may be further included in the
접착층(520), 그리고 후술하는 제1 감압점착제층(535) 및 제2 감 압점착제층(545)에 이용가능한 아크릴계 화합물은, 바람직하게는 (메트)아크릴산 에스테르에서 유래하는 단량체를 포함한다.The acrylic compound usable for the
상기 단량체로는 (메트)아크릴산 알킬에스테르, (메트)아크릴산 시클로알킬에스테르, (메트) 아크릴산 아릴에스테르 등이 제시될 수 있다.Examples of the monomers include (meth)acrylic acid alkyl esters, (meth)acrylic acid cycloalkyl esters, and (meth)acrylic acid aryl esters.
아크릴계 화합물에는 카르복시기 함유 단량체, 산 무수물 단량체, 히드록시기 함유 단량체, 글리시딜기 함유 단량체, 술폰산기 함유 단량체, 인산기 함유 단량체, 아크릴로니트릴 함유 단량체 등이 추가로 포함될 수 있다.The acrylic compound may further include a carboxyl group-containing monomer, an acid anhydride monomer, a hydroxyl group-containing monomer, a glycidyl group-containing monomer, a sulfonic acid group-containing monomer, a phosphoric acid group-containing monomer, an acrylonitrile-containing monomer, and the like.
또한 아크릴계 화합물에는 1종 이상의 다관능성 단량체가 추가로 포 함될 수 있다. 다관능성 단량체는 헥산디올디(메트)아크릴레이트, (폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트(즉, 폴리글리시딜(메트)아크릴레이트), 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 등이 제시될 수 있다.In addition, one or more polyfunctional monomers may be further included in the acrylic compound. Polyfunctional monomers include hexanediol di(meth)acrylate, (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, (poly)propylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, and pentaerythritol. Di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, epoxy(meth)acrylate (i.e. polyglycylate) Dill (meth)acrylate), polyester (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate and the like can be presented.
제2 필름2nd film
본 발명의 예시적인 실시예에 따른 스페이서용 필름은 상기 접착층(520) 하부에 배치되는 제2 필름(530)을 더 포함할 수 있다.The spacer film according to an exemplary embodiment of the present invention may further include a
제2 필름(530)과 접착층(520) 사이에는 제1 감압점착제층(535)이 배치될 수 있다. 제1 감압점착제층(535)은 제2 필름(530) 상에 직접 캐스팅 코팅 및 건조시켜 형성하거나, 제2 필름 (530)에 라미네이트되어 형성될 수 있다.A first pressure-
제2 필름(530)은 다이싱 공정에서 지지체의 역할을 할 수 있다. 익스팬딩 및 픽업성을 확보하기 위하여 제2 필름(530)의 두께는 40㎛ 이상으로 조절될 수 있다. 한편, 제2 필름(530)의 두께가 300㎛를 초과하여 지나치게 두꺼울 경우에도 익스팬딩 불량 및 픽업 불량 등이 발생할 가능성이 있는 바, 제2 필름(530)의 두께는 300㎛ 이하인 것이 바람직하다. 제2 필름(530)의 두께 범위는 40~300㎛가 될 수 있고, 바람직하게는 50~250㎛, 보다 바람직하게는 60~200㎛, 가장 바람직하게는 70~150㎛일 수 있다.The
제2 필름(530)은 폴리올레핀계 수지를 이용할 수 있다. 구체적으로는 제2 필름(530)은 저밀도 폴리에틸렌, 중밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 초저밀도 폴리에틸렌, 랜덤 공중합 폴리프로필렌, 블록 공중합 폴리프로필렌, 호모 폴리프로필렌, 폴리부텐, 폴리메틸펜텐, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체, 아이오노머 수지, 에틸렌-(메트)아크릴산 공중합체, 에틸렌-(메트)아크릴산 에스테르 공중 합체, 에틸렌-부텐 공중합체 및 에틸렌-헥센 공중합체 중 1종 이상을 포함하는 재질로 형성될 수 있다.The
제2 필름(530)은 단층 구조를 가질 수 있고, 다른 예로 다층 구조를 가질 수 있다.The
제1 감압점착제층(535)은 약 5~30㎛ 두께로 형성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 제1 감압점착제층(535)은 아크릴계 화합물을 포함할 수 있 다. 다만, 제1 감압점착제층(535)은 접착층(520)과는 달리 에폭시 수지를 포함하 지 않을 수 있다.The first pressure-
또한, 제1 감압점착제층(535)에는 1종 이상의 첨가제가 추가로 포 함될 수 있다. 첨가제로는 이소시아네이트 경화제와 같은 열 경화제나 벤조페논과 같은 광개시제가 제시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In addition, one or more additives may be further included in the first pressure-
상기 제1 감압점착제층(535)은 다이싱 공정에서 UV 경화 전까지는 B-스테이지 상태로 존재할 수 있다.The first pressure-
한편, 제1 감압점착제층(535)과 접착층(520) 간의 부착력은 제1 감압점착제층의 UV 경화 전에는 20~200N/m를 나타낼 수 있고, UV 경화 후에는 15N/m이하가 될 수 있다. 이는 다이싱 후에 픽업 공정에서 개편화된 제1 필름 (510)과 접착층(520)만이 픽업되도록 하기 위함이다. 이러한 제1 감압점착제층(535)의 부착력 제어는 예를 들어 점착제 성분 제어를 통해 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제1 감압점착제층(535)의 아크릴계 화합물은 아크릴산-2-에틸헥실 100 중량 부에 대하여, 아크릴산-2-하이드록시에틸 10 ~ 40 중량부, 2-메타크릴로일옥시에틸 이소시아네이트 10 ~ 45 중량부를 공중합반응시킨 공중합체를 포함하는 것이 될 수 있다.Meanwhile, the adhesive strength between the first pressure-
한편, 도 5를 참조하면, 제1 감압점착제층(535)의 상부면의 가장자 리가 노출되어 있을 수 있다. 이는 다이싱 공정에서 링 프레임에 대한 스페이서용 필름의 고정을 용이하게 하기 위함이다. 이에 대하여는 도 7에서 후술하기로 한다.Meanwhile, referring to FIG. 5 , the edge of the upper surface of the first pressure-
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 스페이서용 필름을 개략적으로 나타낸 단면도이다.6 is a schematic cross-sectional view of a film for a spacer according to another embodiment of the present invention.
도 6에 도시된 스페이서용 필름은 도 5에 도시된 스페이서용 필름과 마찬가지로 제1 필름(510), 접착층(520), 제2 필름(530) 및 제1 감 압점착제층(535)을 포함한다. 도 6에 도시된 스페이서용 필름에서 제1 필름 (510), 접착층(520), 제2 필름(530) 및 제1 감압점착제층(535)은 도 5에서 설명한 바와 동일하므로 그 설명을 생략하기로 한다.The spacer film shown in FIG. 6 includes a
한편, 도 6에 도시된 스페이서용 필름은 커버 필름(540) 및 제 2 감압점착제층(545)을 추가로 포함한다. Meanwhile, the spacer film shown in FIG. 6 further includes a
커버 필름cover film
커버 필름(540)은 다이싱 공정 이전에 제1 필름(510)을 보호하기 위 한 보호 필름으로서 작용한다. 커버 필름(540)은 다이싱 공정에서는 미리 제거된다. 커버 필름(540)은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐, 폴리카보네이트, 폴리이미드 등과 같은 재질로 형성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The
커버 필름(540)과 제1 필름(510) 사이에는 제2 감압점착제층(545)이 배치될 수 있다.A second pressure-
제2 감압점착제층(545)은 약 3~30㎛ 두께로 형성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 제2 감압점착제층(545)은 제1 감압점착제층(535)과 마찬가 지로, 아크릴계 화합물을 포함하되 에폭시 수지를 포함하지 않을 수 있다. 제2 감압점착제층(545)에는 페놀계 수지, 아민류 등과 같은 경화제나 실란 커플링제 등과 같은 첨가제가 1종 이상 추가로 포함될 수 있다.The second pressure-
한편, 도 6을 참조하면, 제2 감압점착제층(545)의 하부면의 가장자리가 노출되어 있을 수 있다. 이는 다이싱 공정 직전에 커버 필름(540) 및 제2 감압점착제층(545)의 제거를 용이하게 하기 위함이다.Meanwhile, referring to FIG. 6 , the edge of the lower surface of the second pressure-
스페이서 형성 방법Spacer formation method
도 7은 본 발명에 따른 다이싱 공정을 이용한 스페이서 형성 방법을 개략적으로 나타낸 것이다. 도 8은 도 7의 (a), (b) 및 (c)에 대응하는 평면도로서, 도 7에 대한 방법을 설명할 때 참조한다.7 schematically illustrates a spacer forming method using a dicing process according to the present invention. FIG. 8 is a plan view corresponding to (a), (b) and (c) of FIG. 7 , and is referred to when describing the method of FIG. 7 .
도 7을 참조하면, 본 발명에 따른 스페이서 형성 방법은 고정 단계, 다이싱 단계, 픽업 단계 및 부착 단계를 포함한다.Referring to FIG. 7 , the spacer forming method according to the present invention includes a fixing step, a dicing step, a pick-up step, and an attaching step.
먼저 도 7의 (a)에 도시된 예와 같이, 위로부터 제1 필름(510), 접 착제층(520), 제1 감압점착제층(535) 및 제2 필름(530)을 포함하는 스페이서용 필름을 마련한다. 예를 들어 도 6에 도시된 스페이서용 필름에서 제2 감압점착제층(545) 및 커버 필름(540)을 제거함으로써 도 7의 (a)에 도시된 예와 같은 스페이서용 필름을 마련할 수 있다.First, as in the example shown in (a) of FIG. 7, a spacer including a
이후 도 7의 (b) 및 도 8의 (b)에 도시된 예와 같이, 스페이서용 필름을 고정한다. 스페이서용 필름을 고정하기 위해 링 프레임과 같은 프레임(610)이 이용될 수 있다. 한편, 스페이서용 필름에서 제1 감압점착제층(535)의 상부면의 가장자리가 노출되어 있는 경우, 프레임(610)이 제1 감압점착제층(535)의 상부면의 가장자리 상에 쉽게 배치될 수 있다. Then, as in the example shown in FIG. 7 (b) and FIG. 8 (b), the spacer film is fixed. A
이후, 도 7의 (c)에 도시된 예와 같이, 다이싱용 쏘우(601) 또는 레이저를 이용하여 미리 정해진 절단 라인(SL)을 따라 스페이서용 필름을 다이싱하여 개편화(個片化)한다. 전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 스페이서용 필름에는 컬이 미리 부여되어 있기 때문에 익스팬딩 시 칩 에지(edge)에서 스페이서 필름이 상방을 향해 휘어지는 것을 방지할 수 있어, 익스팬딩 불량 및 픽업 불량을 억제할 수 있다.Then, as in the example shown in (c) of FIG. 7, the spacer film is diced along a predetermined cutting line (SL) using a dicing saw 601 or a laser to separate it. . As described above, since curls are pre-applied to the spacer film according to the present invention, it is possible to prevent the spacer film from being bent upward at the chip edge during expansion, thereby suppressing poor expansion and poor pick-up. can do.
이후, 도 7의 (d)에 도시된 예와 같이, 푸싱 수단(620) 및 흡착 수 단(630)을 이용하여 개편화된 결과물에서 제1 필름(510) 및 접착층(520)으로 이루어진 스페이서를 픽업한다.Then, as in the example shown in (d) of FIG. 7, the spacer made of the
이후, 도 7의 (e)에 도시된 예와 같이, 제1 필름(510) 및 접착층 (520)로 이루어진 스페이서를 패키지 기판(110) 상에 부착한다.Then, as shown in (e) of FIG. 7 , a spacer made of the
<실시예><Example>
이하 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 하기 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, a preferred embodiment is presented to aid understanding of the present invention. However, the following examples are only provided to more easily understand the present invention, and the content of the present invention is not limited by the following examples.
스페이서용 접착 필름의 제조Manufacture of adhesive film for spacers
위로부터 제1 필름(폴리이미드), 아크릴-에폭시 접착층, 아크릴 감압점착제층 및 제2 필름(폴리에틸렌 필름)으로 이루어진 스페이서용 필름들을 마련하였다(도 7의 (a) 참고). 상기 제1 필름으로는 하부에 코팅층을 형성한 것과 형성하지 않은 것을 각각 사용하였다.Spacer films consisting of a first film (polyimide), an acrylic-epoxy adhesive layer, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer, and a second film (polyethylene film) were prepared from above (see (a) in FIG. 7). As the first film, those with and without a coating layer formed thereon were used, respectively.
저장탄성률은 제조된 스페이서용 접착 필름을 시편 크기 5mm x 20mm, 승온 속도 10℃/분의 조건의 방법에 따라 25 에서 DMA 장치를 이용하여 측정하였다. The storage modulus of the prepared adhesive film for spacers was measured at 25 was measured using a DMA device.
컬량은 제조된 스페이서용 접착 필름에서 제1 필름과 접착층이 적층된 부분을 가로 50mm, 세로 15mm인 직사각형으로 절취하여 상기 접착층이 아래 측이 되도록 수평면 위에 두고 측정 장비를 사용하여 샘플의 중심부와 최외곽의 높이 차이를 측정하였다. The amount of curl is measured by cutting the portion where the first film and the adhesive layer are laminated from the manufactured adhesive film for spacers into a rectangle with a width of 50 mm and a length of 15 mm, placing the adhesive layer on a horizontal surface so that the adhesive layer is on the lower side, and using a measuring device to measure the center and outermost part of the sample. The height difference was measured.
각 샘플에 대하여 측정된 저장탄성률과 컬량을 하기 표 1에 나타내었다.The storage modulus and curl amount measured for each sample are shown in Table 1 below.
(두께 mm)first film
(thickness mm)
(두께 mm)coating insects
(thickness mm)
(두께 um)adhesive layer
(thickness um)
(Gpa)storage modulus
(Gpa)
(mm)curl amount
(mm)
스페이서용 접착 필름 평가Adhesive film evaluation for spacers
이후, 링 프레임을 아크릴 감압점착제층의 상부 가장자리측에 접합하여 스페이서용 필름을 고정한 후, 다이싱 기기인 DFD-6361(디스코사 제조)를 이용하여 각각의 시편들에 대하여 9mm Х 12mm 로 개별 스페이서로 분할하는 다이싱 공정을 행한 후, 픽업 장비인 SPA-300(신까와사 제조)를 이용하여 개별 스페이서들을 익스팬딩(expanding) 및 픽업하였다.Then, after bonding the ring frame to the upper edge side of the acrylic pressure-sensitive adhesive layer to fix the film for spacer, using a dicing device, DFD-6361 (manufactured by Disco), individual spacers were cut into 9mm Х 12mm for each specimen. After performing a dicing process for dividing into , individual spacers were expanded and picked up using a pickup equipment SPA-300 (manufactured by Shinkawa Co.).
이하의 평가들을 수행하여, 그 결과를 표 2에 나타내었다.The following evaluations were performed, and the results are shown in Table 2.
칩 인식 평가: 다이싱 후 픽업 장비에서 칩 간 구분 및 픽업을 용이하게 하기 위해 제2 필름을 확장하는 익스팬딩 공정을 진행하여, 익스팬딩 링(expanding ring) 높이 3mm에서의 칩 인식율을 측정하였다. 인식율이 95% 이상인 경우 양호(O), 95% 미만인 경우 불량(X)으로 평가하였다.Chip Recognition Evaluation: After dicing, an expanding process of expanding the second film was performed to facilitate separation and pickup between chips in a pick-up device, and the chip recognition rate was measured at an expanding ring height of 3 mm. A recognition rate of 95% or more was evaluated as good (O), and a recognition rate of less than 95% was evaluated as poor (X).
픽업성 평가: 픽업 장비의 니들핀의 높이를 0.35mm 및 0.45mm에서 픽업하였으며 픽업 성공율이 95% 이상일 경우 양호(O), 95% 미만일 경우 불량(X)으 로 평가하였다.Pickup evaluation: Pickup was performed at 0.35mm and 0.45mm height of the needle pin of the pick-up device, and when the pick-up success rate was 95% or more, it was evaluated as good (O), and when it was less than 95%, it was evaluated as bad (X).
(Gpa·mm)Storage modulus x curl amount
(Gpa mm)
표 2를 참조하면, 스페이서용 필름의 저장탄성률과 컬량의 곱의 값이 10 Gpa·mm 내지 200 Gpa·mm인 실시예 1 내지 12의 경우 익스팬딩 공정 및 픽업 공정에서 어떠한 불량도 나타내지 않았다. 이에 반해, 비교예 1 내지 9의 경우 픽업 장비의 니들핀 높이 0.45mm에서 픽업 불량이 확인되었다. Referring to Table 2, in the case of Examples 1 to 12 in which the product of the storage modulus and the amount of curl of the spacer film was 10 Gpa mm to 200 Gpa mm, no defects were shown in the expanding process and the pick-up process. On the other hand, in the case of Comparative Examples 1 to 9, pick-up defects were confirmed at a needle pin height of 0.45 mm of the pick-up device.
따라서, 스페이서용 필름에 컬을 부여하는 것은 픽업성 향상에 효과적임을 확인할 수 있으며 상기 저장탄성률과 컬량의 곱의 값은 10 Gpa·mm 내지 200 Gpa·mm인 것이 바람직함을 알 수 있다.Therefore, it can be confirmed that imparting curl to the spacer film is effective in improving pickup properties, and it can be seen that the product of the storage modulus and the amount of curl is preferably 10 Gpa·mm to 200 Gpa·mm.
이상과 같이 본 발명에 대해 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실 시예에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 통상의 기술자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 자명하다. 아울러 앞서 본 발명의 실시예를 설명하면서 본 발명의 구성에 따른 작용 효과를 명시적으로 기 재하여 설명하지 않았을 지라도, 해당 구성에 의해 예측 가능한 효과 또한 인정되 어야 함은 당연하다.Although the present invention has been described as above, the present invention is not limited by the embodiments disclosed herein, and it is obvious that various modifications can be made by a person skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. In addition, even if the operational effects according to the configuration of the present invention are not explicitly described and described while describing the embodiments of the present invention, it is natural that the effects predictable by the corresponding configuration should also be recognized.
110 : 패키지 기판
120 : 제1 반도체 칩 유닛
130 : 스페이서
131 : 접착층
132 : 서포트
140 : 제2 반도체 칩 유닛
150 : 패키지 몸체
510 : 제1 필름
520 : 접착층
530 : 제2 필름
535 : 제1 감압점착제층
540 : 커버 필름
545 : 제2 감압점착제층
601 : 다이싱용 쏘우
610 : 프레임
620 : 푸싱 수단
630 : 흡착 수단110: package substrate 120: first semiconductor chip unit
130: spacer 131: adhesive layer
132: support 140: second semiconductor chip unit
150: package body 510: first film
520: adhesive layer 530: second film
535: first pressure-sensitive adhesive layer 540: cover film
545: second pressure-sensitive adhesive layer 601: saw for dicing
610: frame 620: pushing means
630: adsorption means
Claims (18)
상기 제1 필름 하부에 배치되는 접착층;을 포함하고,
하기 수식 1을 만족하는, 스페이서용 필름:
[수식 1]
10 GPa·mm ≤ (저장탄성률 x 컬량) ≤ 200 GPa·mm
(상기 수식 1에서 저장탄성률은 상기 스페이서용 필름의 25℃에서의 저장탄성률이고, 컬량은 상기 제1 필름과 접착층이 적충된 부분을 가로 50 mm, 세로 15 mm인 직사각형으로 절취하여 상기 접착층이 아래 측이 되도록 수평면 위에 두고 측정한 컬량이다.)
first film; and
Including; an adhesive layer disposed under the first film,
A film for a spacer that satisfies Equation 1 below:
[Formula 1]
10 GPa mm ≤ (storage modulus x curl amount) ≤ 200 GPa mm
(In Equation 1, the storage modulus is the storage modulus of the spacer film at 25 ° C., and the amount of curl is obtained by cutting the portion where the first film and the adhesive layer are stacked into a rectangle with a width of 50 mm and a length of 15 mm, so that the adhesive layer is below. It is the amount of curl measured by placing it on a horizontal surface so that it is on the side.)
상기 저장탄성률은 2 GPa 내지 10 GPa인, 스페이서용 필름.
The method of claim 1,
The storage modulus is 2 GPa to 10 GPa, a film for a spacer.
상기 컬량은 5 mm 내지 20 mm인, 스페이서용 필름.
The method of claim 1,
The amount of curl is 5 mm to 20 mm, a film for a spacer.
상기 제1 필름은 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리아미드이미드, 폴리페닐렌 술파이드, 폴리프탈아미드, 폴리술폰, 폴리에테르술폰 및 폴리에테르이미드 중에서 적어도 하나를 포함하는, 스페이서용 필름.
The method of claim 1,
The first film includes at least one of polyimide, polyetheretherketone, polyamideimide, polyphenylene sulfide, polyphthalamide, polysulfone, polyethersulfone, and polyetherimide.
상기 제1 필름은 하부에 코팅층을 포함하는, 스페이서용 필름.
The method of claim 1,
Wherein the first film comprises a coating layer on the bottom, a film for spacers.
상기 코팅층은 폴리이미드 작용기를 포함하는 화합물, 폴리아미드이미드 작용기를 포함하는 화합물, 에폭시 작용기를 포함하는 화합물 및 우레탄아크릴레이트 작용기를 포함하는 화합물 중에서 적어도 하나를 포함하는, 스페이서용 필름.
The method of claim 5,
Wherein the coating layer includes at least one of a compound containing a polyimide functional group, a compound containing a polyamideimide functional group, a compound containing an epoxy functional group, and a compound containing a urethane acrylate functional group.
상기 코팅층은 두께가 2 내지 9 um 인, 스페이서용 필름.
The method of claim 1,
The coating layer is a film for a spacer having a thickness of 2 to 9 um.
상기 접착층은 아크릴계 화합물 및 에폭시 수지 중 적어도 하나를 포함하는, 스페이서용 필름.
The method of claim 1,
The adhesive layer comprises at least one of an acrylic compound and an epoxy resin, a film for a spacer.
상기 접착층 하부에 배치되는 제1 감압점착제층을 더 포함하는, 스페이서용 필름.
The method of claim 1,
The film for spacers further comprising a first pressure-sensitive adhesive layer disposed under the adhesive layer.
상기 제1 감압점착제층은 아크릴계 화합물을 포함하는, 스페이서용 필름.
The method of claim 9,
The first pressure-sensitive adhesive layer comprises an acrylic compound, a film for spacers.
기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리가 노출되어 있는, 스페이서용 필름.
The method of claim 9,
A film for spacers in which the edge of the upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer is exposed.
기 제1 감압점착제층과 상기 접착층 간의 부착력은 상기 제1 감압점착제층의 UV 경화 전에는 20~200N/m이고, 상기 제1 감압점착제층의 UV 경화 후에는 15N/m 이하인, 스페이서용 필름.
The method of claim 9,
The adhesive strength between the first pressure-sensitive adhesive layer and the adhesive layer is 20 to 200 N / m before UV curing of the first pressure-sensitive adhesive layer, and 15 N / m or less after UV curing of the first pressure-sensitive adhesive layer. Film for spacers.
상기 제1 감압점착제층 하부에 배치되는 제2 필름을 더 포함하는, 스페이서용 필름.
The method of claim 9,
The film for a spacer further comprising a second film disposed under the first pressure-sensitive adhesive layer.
기 제2 필름은 폴리올레핀계 수지를 포함하는, 스페이서용 필름.
The method of claim 13,
The film for spacers in which the second film is made of a polyolefin-based resin.
상기 제1 필름의 상부에 배치되는 제2 감압점착제층; 및
상기 제2 감압점착제층 상부에 배치되는 커버 필름;을 더 포함하는 스페이서용 필름.
The method of claim 9,
a second pressure-sensitive adhesive layer disposed on the first film; and
The spacer film further comprising a cover film disposed on the second pressure-sensitive adhesive layer.
상기 스페이서용 필름을 다이싱하여 개편화하는 다이싱 단계;
개편화된 결과물에서 제1 필름 및 접착층으로 이루어진 스페이서를 픽업하는 픽업 단계; 및
업된 스페이서를 패키지 기판 상에 부착하는 부착 단계를 포함하는, 스페이서 형성 방법.
A fixing step of fixing the film for a spacer according to claim 1 to a frame;
a dicing step of dicing the spacer film into individual pieces;
A pick-up step of picking up the spacer made of the first film and the adhesive layer in the pieced product; and
A method of forming a spacer, comprising an attachment step of attaching the raised spacer on a package substrate.
상기 스페이서용 필름은 상기 접착층 하부에 배치되는 제1 감압점착제층을 더 포함하고,
상기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리가 노출되어 있으며,
프레임이 상기 제1 감압점착제층의 상부면의 가장자리 상에 배치되는, 스페이서 형성 방법.
The method of claim 16
The spacer film further includes a first pressure-sensitive adhesive layer disposed under the adhesive layer,
The edge of the upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer is exposed,
A method of forming a spacer, wherein a frame is disposed on an edge of an upper surface of the first pressure-sensitive adhesive layer.
상기 패키지 기판 상에 배치되는 청구항 1에 기재된 스페이서용 필름을 포함하는 스페이서;
상기 패키지 기판 상에 배치되는 제1 반도체 칩 유닛;
상기 스페이서 및 제1 반도체 칩 유닛 상에 적층되는 제2 반도체 칩 유닛;
제1 반도체 칩 유닛의 칩 패드와 그에 대응되는 제1 기판 패드 및 제2 반도체 칩 유닛의 칩 패드와 그에 대응되는 제2 기판 패드를 전기적으로 연결하는 와이어; 및
상기 제1 반도체 칩 유닛, 제2 반도체 칩 유닛, 와이어 및 스페이서를 봉지하는 패키지 몸체;를 포함하는, 멀티 칩 패키지.package substrate;
a spacer comprising the spacer film according to claim 1 disposed on the package substrate;
a first semiconductor chip unit disposed on the package substrate;
a second semiconductor chip unit stacked on the spacer and the first semiconductor chip unit;
wires electrically connecting the chip pads of the first semiconductor chip unit and the corresponding first substrate pads and the chip pads of the second semiconductor chip unit and the corresponding second substrate pads; and
A multi-chip package including a package body encapsulating the first semiconductor chip unit, the second semiconductor chip unit, wires, and spacers.
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