KR20220057594A - Method of manufacturing a polarizing plate - Google Patents

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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

〔과제〕저온(-40℃) 조건과 고온(85℃) 조건을 반복하는 히트 쇼크 시험에 있어서 크랙의 발생이 억제되고, 또한 단부를 포함하는 영역에 있어서 요오드 빠짐이 발생하지 않는 편광판의 제조 방법을 제공하는 것.
〔해결 수단〕두께 15 ㎛ 이하의 편광자의 적어도 한쪽에 광학 필름을 접합하여 제1 적층체를 제작하는 제1 적층 공정과, 제1 적층체를, 온도 35℃ 이상에 있어서 상대 습도 75% RH 이상의 기상 중에 유지하는 가습 처리 공정을 포함하는 편광판의 제조 방법.
[Problem] A method for manufacturing a polarizing plate in which cracks are suppressed in a heat shock test that repeats low-temperature (-40°C) and high-temperature (85°C) conditions, and iodine loss does not occur in the region including the end portion to provide.
[Solution] A first lamination process of bonding an optical film to at least one side of a polarizer having a thickness of 15 µm or less to produce a first laminate, and a first laminate at a temperature of 35°C or higher, relative humidity of 75% RH or higher The manufacturing method of the polarizing plate including the humidification process hold|maintained in gaseous phase.

Description

편광판의 제조 방법Method of manufacturing a polarizing plate

본 발명은 편광판의 제조 방법에 관한 것이며, 또한, 편광자, 편광판 및 그것을 포함하는 화상 표시 장치에도 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a polarizing plate, and also to a polarizer, a polarizing plate, and an image display device including the same.

특허문헌 1에는, 편광자를 50℃ 이상의 처리액에 접촉시킴으로써, 단부에 붕산 농도가 낮은 부위가 형성된 편광자를 제조하는 방법이 제안되어 있다.The method of manufacturing the light polarizer in which the site|part with a low boric-acid density|concentration was formed in the edge part is proposed by making patent document 1 contact a light polarizer with a process liquid 50 degreeC or more.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2016-206641호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2016-206641

특허문헌 1에 기재된 제조 방법에서는, 편광자를 50℃ 이상의 처리액에 접촉시킨 부분의 평면시(平面視)에 있어서, 단부 및 단부로부터 50 ㎛ 이상까지 사이의 전영역에 걸쳐 붕산의 농도가 낮은 부위가 형성되고, 단부 및 단부로부터 300 ㎛를 초과하는 폭에서 요오드 빠짐이 발생하고 있다.In the manufacturing method described in patent document 1, in the planar view of the part which made the polarizer 50 degreeC or more contacting a process liquid, over the edge part and the whole area|region between the edge part to 50 micrometers or more, a site|part with a low concentration of boric acid is formed, and iodine loss is occurring at the end and at a width exceeding 300 μm from the end.

본 발명의 목적은, 저온(-40℃) 조건과 고온(85℃) 조건을 반복하는 히트 쇼크 시험에 있어서 크랙의 발생이 억제되고, 또한 단부를 포함하는 영역에 있어서 요오드 빠짐이 발생하지 않는 편광판의 제조 방법을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 다른 목적은, 크랙이 억제되고, 단부를 포함하는 영역에 있어서 요오드 빠짐이 발생하고 있지 않은 편광자, 및 그 편광자를 포함하는 편광판을 제공하는 것이다.An object of the present invention is a polarizing plate in which cracks are suppressed in a heat shock test that repeats low-temperature (-40°C) and high-temperature (85°C) conditions, and iodine leakage does not occur in the region including the end portion To provide a method for manufacturing Another object of the present invention is to provide a polarizer in which cracks are suppressed and iodine loss is not generated in the region including the edge portion, and a polarizing plate containing the polarizer.

본 발명은 이하의 편광판의 제조 방법, 편광자, 편광판 및 화상 표시 장치를 제공한다.This invention provides the manufacturing method of the following polarizing plate, a polarizer, a polarizing plate, and an image display apparatus.

[1] 편광판의 제조 방법으로서,[1] A method for manufacturing a polarizing plate, comprising:

두께 15 ㎛ 이하의 편광자의 적어도 한쪽에 광학 필름을 접합하여 제1 적층체를 제작하는 제1 적층 공정과,A first lamination step of bonding an optical film to at least one side of a polarizer having a thickness of 15 μm or less to produce a first laminate;

제1 적층체를, 온도 35℃ 이상에 있어서 상대 습도 75% RH 이상의 기상 중에 유지하는 가습 처리 공정The humidification treatment process which maintains a 1st laminated body in the gaseous phase of 75% RH or more of relative humidity in the temperature of 35 degreeC or more.

을 포함하는, 편광판의 제조 방법.A method of manufacturing a polarizing plate comprising a.

[2] 상기 제1 적층체를 성형 가공하는 성형 공정을 상기 가습 처리 공정 전에 더 포함하는, [1]에 기재된 편광판의 제조 방법.[2] The method for producing a polarizing plate according to [1], further comprising a molding step of molding the first laminate before the humidification treatment step.

[3] 상기 성형 공정에 있어서, 상기 제1 적층체에 이형부(異形部)를 형성하는, [2]에 기재된 편광판의 제조 방법.[3] The manufacturing method of the polarizing plate as described in [2] which forms a mold part in the said 1st laminated body in the said shaping|molding process.

[4] 상기 제1 적층체를 절삭 가공하는 절삭 공정을 상기 가습 처리 공정 전에 더 포함하는, [2] 또는 [3]에 기재된 편광판의 제조 방법.[4] The method for producing a polarizing plate according to [2] or [3], further comprising a cutting step of cutting the first laminate before the humidifying treatment step.

[5] 상기 절삭 공정에 있어서, 상기 제1 적층체의 평면시에 있어서, 광학 필름의 단부의 위치와 편광자의 단부의 위치가 동일해지도록 상기 제1 적층체를 절삭 가공하는, [4]에 기재된 편광판의 제조 방법.[5] In the above-mentioned cutting step, in [4], cutting the first laminate so that the position of the end of the optical film and the position of the end of the polarizer are the same in the planar view of the first laminate The manufacturing method of the described polarizing plate.

[6] 붕산과 요오드를 함유하는 수지 필름을 포함하고, 두께가 15 ㎛ 이하인 편광자로서,[6] A polarizer comprising a resin film containing boric acid and iodine and having a thickness of 15 µm or less,

상기 편광자의 단부를 포함하는 영역에 있어서, 이 영역 이외의 영역에 있어서의 붕산의 농도보다 낮은 농도로 붕산을 함유하는 영역을 갖고,In the region including the end portion of the polarizer, it has a region containing boric acid at a concentration lower than the concentration of boric acid in regions other than this region;

상기 편광자의 단부를 포함하는 영역에 있어서 요오드 빠짐이 발생하고 있지 않은, 편광자.The polarizer with which iodine loss|omission has not generate|occur|produced in the area|region including the edge part of the said polarizer.

[7] [6]에 기재된 편광자와, 상기 편광자의 적어도 한쪽에 접합된 광학 필름을 갖는, 편광판.[7] A polarizing plate comprising the polarizer according to [6] and an optical film bonded to at least one of the polarizers.

[8] 상기 편광판의 평면시에 있어서의 단부에 있어서, 상기 편광자의 단부의 위치와 상기 광학 필름의 단부의 위치가 동일한, [7]에 기재된 편광판.[8] The polarizing plate according to [7], wherein the position of the end of the polarizer and the position of the end of the optical film are the same at the end of the polarizing plate in plan view.

[9] [8]에 기재된 편광판을 구비한 화상 표시 장치.[9] An image display device provided with the polarizing plate according to [8].

[10] 카메라 홀을 갖는, [9]에 기재된 화상 표시 장치. [10] The image display device according to [9], having a camera hole.

본 발명에 의하면, 저온(-40℃) 조건과 고온(85℃) 조건을 반복하는 히트 쇼크 시험에 있어서 크랙의 발생이 억제되고, 또한 단부를 포함하는 영역에 있어서 요오드 빠짐이 발생하고 있지 않은 편광판의 제조 방법을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 저온(-40℃) 조건과 고온(85℃) 조건을 반복하는 히트 쇼크 시험(이하, 간략을 위해서 히트 쇼크 시험이라고도 함)에 있어서 크랙이 억제되고, 단부를 포함하는 영역에 있어서 요오드 빠짐이 발생하고 있지 않은 편광자, 및 그 편광자를 포함하는 편광판을 제공할 수 있다. According to the present invention, a polarizing plate in which cracks are suppressed in a heat shock test that repeats low-temperature (-40°C) conditions and high-temperature (85°C) conditions, and iodine loss does not occur in the region including the end portions. can provide a manufacturing method. In addition, according to the present invention, cracks are suppressed in a heat shock test (hereinafter also referred to as a heat shock test for simplicity) that repeats a low temperature (-40 ° C) condition and a high temperature (85 ° C) condition, A polarizer in which iodine loss has not occurred in the region, and a polarizing plate containing the polarizer can be provided.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 의한 편광자를 도시한 개략 단면도이다.
도 2는 제1 적층체의 일례를 도시한 개략도이다.
도 3은 붕산 저농도 부위를 설명하기 위한 편광자의 개략 상면도이다.
도 4는 카메라 홀을 갖는 화상 표시 장치의 일례를 도시한 개략 단면도이다.
도 5는 제2 적층체 및 엔드 밀의 일례를 도시한 개략도이다.
도 6은 절삭 공정의 일례를 도시한 개략도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시형태에 의한 편광판을 도시한 개략 평면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시형태에 의한 편광판을 도시한 개략 평면도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시형태에 의한 편광판을 도시한 개략 평면도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시형태에 의한 편광판을 도시한 개략 단면도이다.
도 11은 실시예에 있어서의 측정 샘플을 설명하기 위한 개략도이다.
도 12는 실시예 2의 편광판의 TOF-SIMS 분석 결과를 도시한다.
도 13은 실시예 2의 편광판의 단부 관찰 결과를 도시한다.
도 14는 비교예 3의 편광판의 단부 관찰 결과를 도시한다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic sectional drawing which shows the polarizer by one Embodiment of this invention.
2 is a schematic diagram illustrating an example of a first laminate.
3 is a schematic top view of a polarizer for explaining a boric acid low concentration site.
4 is a schematic cross-sectional view showing an example of an image display device having a camera hole.
5 is a schematic view showing an example of a second laminate and an end mill.
6 is a schematic diagram illustrating an example of a cutting process.
7 is a schematic plan view showing a polarizing plate according to an embodiment of the present invention.
8 is a schematic plan view showing a polarizing plate according to an embodiment of the present invention.
9 is a schematic plan view showing a polarizing plate according to an embodiment of the present invention.
10 is a schematic cross-sectional view showing a polarizing plate according to an embodiment of the present invention.
It is a schematic for demonstrating the measurement sample in an Example.
12 shows the TOF-SIMS analysis result of the polarizing plate of Example 2.
13 shows the end observation result of the polarizing plate of Example 2. FIG.
14 shows the end observation result of the polarizing plate of Comparative Example 3. FIG.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것이 아니다. 이하의 모든 도면에 있어서는, 각 구성 요소를 이해하기 쉽게 하기 위해서 축척을 적절히 조정하여 도시하고 있고, 도면에 도시된 각 구성 요소의 축척과 실제의 구성 요소의 축척은 반드시 일치하지 않는다. 도면에 있어서, 동등한 구성 요소에는 동등한 부호를 붙인다. 각 도면에 나타내는 X, Y 및 Z는, 서로 직교하는 3개의 좌표축을 의미한다. 각 도면 중의 XYZ 좌표축 각각이 나타내는 방향은 각 도면에 공통된다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although embodiment of this invention is described, referring drawings, this invention is not limited to the following embodiment. In all the drawings below, the scales are appropriately adjusted for easy understanding of each component, and the scale of each component shown in the drawings does not necessarily coincide with the scale of the actual component. In the drawings, equivalent components are denoted by equivalent reference numerals. X, Y, and Z shown in each figure mean three coordinate axes orthogonal to each other. The directions indicated by each of the XYZ coordinate axes in each figure are common to each figure.

<편광판의 제조 방법><Method for producing a polarizing plate>

본 발명의 일 실시양태에 따른 편광판의 제조 방법은, 두께 15 ㎛ 이하의 편광자의 적어도 한쪽에 광학 필름을 접합하여 제1 적층체를 제작하는 제1 적층 공정과, 제1 적층체를, 온도 35℃ 이상에 있어서 상대 습도 75% RH 이상의 기상 중에 유지하는 가습 처리 공정을 포함한다.A method for manufacturing a polarizing plate according to an embodiment of the present invention includes a first lamination step of bonding an optical film to at least one side of a polarizer having a thickness of 15 μm or less to produce a first laminate, and the first laminate at a temperature of 35 It includes a humidification treatment process maintained in a gas phase at a relative humidity of 75% RH or higher at a temperature of not less than °C.

편광판의 제조 방법에 의해 얻어지는 편광판은, 편광자의 양측에 광학 필름을 갖고 있어도 좋다. 도 1에 도시된 바와 같이, 편광판(1)은, 편광자(2)가 제1 광학 필름(3)과 제2 광학 필름(4) 사이에 배치되어 있다. 이하, 제1 광학 필름 및 제2 광학 필름을 총칭하여 광학 필름 또는 한 쌍의 광학 필름이라고 하는 경우가 있다.The polarizing plate obtained by the manufacturing method of a polarizing plate may have an optical film on both sides of a polarizer. As shown in FIG. 1 , in the polarizing plate 1 , the polarizer 2 is disposed between the first optical film 3 and the second optical film 4 . Hereinafter, a 1st optical film and a 2nd optical film may be generically called an optical film or a pair of optical films.

(제1 적층 공정)(1st lamination process)

제1 적층 공정에서는, 편광자와 광학 필름을 겹쳐 서로 접합함으로써 제1 적층체를 제작한다. 편광자 및 광학 필름은 장척(長尺)의 띠형이어도 좋다. 편광자를, 한 쌍의 광학 필름 사이에 배치되도록 겹치는 경우, 도 2에 도시된 바와 같이, 제1 적층체(10)에 있어서, 편광자(7)는 한 쌍의 제1 광학 필름(5) 및 제2 광학 필름(9) 사이에 위치한다. 광학 필름은, 접착제를 포함하는 접착층을 통해 편광자에 접합할 수 있다.At a 1st lamination|stacking process, a 1st laminated body is produced by overlapping a polarizer and an optical film and bonding together. The polarizer and the optical film may be in the form of a long strip. When the polarizer is overlapped so as to be disposed between a pair of optical films, as shown in FIG. 2 , in the first laminate 10 , the polarizer 7 includes the pair of first optical films 5 and the second It is located between the 2 optical films (9). The optical film can be bonded to the polarizer through an adhesive layer including an adhesive.

(편광자)(polarizer)

편광자는, 예컨대 일축 연신된 폴리비닐알콜계 수지 필름에 요오드가 흡착 배향되고, 폴리비닐알콜 분자쇄끼리가 붕산으로 가교된 편광자여도 좋다.The polarizer may be, for example, a polarizer in which iodine is oriented by adsorption to a uniaxially stretched polyvinyl alcohol-based resin film, and polyvinyl alcohol molecular chains are crosslinked with boric acid.

편광자는, 흡수축에 평행한 진동면을 갖는 직선 편광을 흡수하고, 흡수축에 직교하는(투과축과 평행한) 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는 흡수형의 편광자일 수 있다.The polarizer may be an absorption type polarizer having a property of absorbing linearly polarized light having an oscillation plane parallel to the absorption axis and transmitting linearly polarized light having an oscillation plane perpendicular to the absorption axis (parallel to the transmission axis).

편광자는, 예컨대 폴리비닐알콜계 수지 필름(이하, PVA 필름이라고도 함)에 연신 처리, 염색 처리 및 가교 처리를 실시함으로써 제조할 수 있다. 연신 처리, 염색 처리 및 가교 처리는 공지된 방법에 의해 행할 수 있다. 폴리비닐알콜계 수지 필름은, 장척의 띠형이어도 좋고, 매엽(枚葉)형이어도 좋다.A polarizer can be manufactured, for example by giving an extending|stretching process, a dyeing|staining process, and a crosslinking process to a polyvinyl alcohol-type resin film (henceforth a PVA film). The stretching treatment, the dyeing treatment and the crosslinking treatment can be performed by a known method. A long strip|belt shape may be sufficient as a polyvinyl alcohol-type resin film, and single-leaf shape may be sufficient as it.

예컨대, 먼저, PVA 필름을, 일축 방향 또는 이축 방향으로 연신한다. 일축 방향으로 연신된 편광자의 이색비는 높은 경향이 있다. 연신에 이어서, 염색액을 이용하여, PVA 필름을 요오드, 이색성 색소(폴리요오드) 또는 유기 염료에 의해 염색한다. 염색액은, 붕산, 황산아연, 또는 염화아연을 포함하고 있어도 좋다. 염색 전에 PVA 필름을 수세(水洗)해도 좋다. 수세에 의해, PVA 필름의 표면으로부터, 오물 및 블로킹 방지제가 제거된다. 또한 수세에 의해 PVA 필름이 팽윤하는 결과, 염색의 얼룩(불균일한 염색)이 억제되기 쉽다. 염색 후의 PVA 필름을, 가교를 위해서, 붕산을 포함하는 가교제의 용액(예컨대, 붕산의 수용액)으로 처리한다. 가교제에 의한 처리 후, PVA 필름을 수세하고, 계속해서 건조시킨다. 이상의 순서를 거쳐, 붕산과 요오드를 함유하는 수지 필름을 포함하는 편광자가 얻어진다. 폴리비닐알콜(PVA)계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산비닐계 수지는, 예컨대, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐, 또는, 아세트산비닐과 다른 단량체의 공중합체(예컨대, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체)여도 좋다. 아세트산비닐과 공중합하는 다른 단량체는, 에틸렌 외에, 불포화 카르복실산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류, 또는 암모늄기를 갖는 아크릴아미드류여도 좋다. 폴리비닐알콜계 수지는, 알데히드류로 변성되어 있어도 좋다. 변성된 폴리비닐알콜계 수지는, 예컨대, 부분 포르말화 폴리비닐알콜, 폴리비닐아세탈, 또는 폴리비닐부티랄이어도 좋다. 폴리비닐알콜계 수지는, 폴리비닐알콜의 탈수 처리물, 또는 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등의 폴리엔계 배향 필름이어도 좋다. 연신 전에 염색을 행해도 좋고, 염색액 중에서 연신을 행해도 좋다. 연신된 수지 필름의 길이는, 예컨대, 연신 전의 길이의 3∼7배여도 좋다.For example, first, a PVA film is extended|stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction. The dichroic ratio of the polarizer stretched in the uniaxial direction tends to be high. Following stretching, using a dyeing solution, the PVA film is dyed with iodine, a dichroic dye (polyiodine) or an organic dye. The dyeing solution may contain boric acid, zinc sulfate, or zinc chloride. Before dyeing, the PVA film may be washed with water. By washing with water, dirt and antiblocking agent are removed from the surface of the PVA film. Moreover, as a result of a PVA film swelling by water washing, it is easy to suppress the unevenness of dyeing (non-uniform dyeing|dyeing). The PVA film after dyeing is treated with a solution of a crosslinking agent containing boric acid (eg, aqueous solution of boric acid) for crosslinking. After treatment with a crosslinking agent, the PVA film is washed with water and subsequently dried. The polarizer containing the resin film containing boric acid and an iodine is obtained through the above procedure. Polyvinyl alcohol (PVA)-type resin is obtained by saponifying polyvinyl acetate-type resin. The polyvinyl acetate-based resin may be, for example, polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, or a copolymer of vinyl acetate and another monomer (eg, ethylene-vinyl acetate copolymer). The other monomer copolymerized with vinyl acetate may be, other than ethylene, unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, or acrylamides having an ammonium group. The polyvinyl alcohol-based resin may be modified with aldehydes. The modified polyvinyl alcohol-based resin may be, for example, partially formalized polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, or polyvinyl butyral. The polyvinyl alcohol-based resin may be a polyene-based oriented film such as a dehydrated product of polyvinyl alcohol or a dehydrochlorinated product of polyvinyl chloride. You may dye|stain before extending|stretching, and you may extend|stretch in a dyeing solution. The length of the stretched resin film may be, for example, 3 to 7 times the length before stretching.

편광자의 두께는, 예컨대 15 ㎛ 이하여도 좋고, 바람직하게는 10 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 8 ㎛ 이하이다. 편광자의 두께는 통상, 1 ㎛ 이상이고, 예컨대 3 ㎛ 이상이어도 좋다. 편광자가 얇을수록, 온도 변화에 따르는 편광자 자체의 수축 또는 팽창이 억제되기 쉬워져, 편광자 자체의 치수의 변화가 억제되기 쉬워지는 경향이 있다. 그 결과, 응력이 편광자에 작용하기 어려워져, 편광자에 있어서의 균열이 억제되기 쉬워지는 경향이 있다.The thickness of the polarizer may be, for example, 15 µm or less, preferably 10 µm or less, and more preferably 8 µm or less. The thickness of the polarizer is usually 1 µm or more, and for example, 3 µm or more may be sufficient. As the polarizer is thinner, the shrinkage or expansion of the polarizer itself with a change in temperature tends to be suppressed, and the change in the dimension of the polarizer itself tends to be easily suppressed. As a result, stress becomes difficult to act on a polarizer, and there exists a tendency for the crack in a polarizer to become suppressed easily.

(광학 필름)(optical film)

광학 필름은, 투광성을 갖는 열가소성 수지여도 좋다. 광학 필름은, 광학적으로 투명한 열가소성 수지여도 좋다. 광학 필름을 구성하는 수지는, 예컨대, 쇄상(鎖狀) 폴리올레핀계 수지, 환상(環狀) 올레핀 폴리머계 수지(COP계 수지), 셀룰로오스에스테르계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 또는 이들의 혼합물 혹은 공중합체여도 좋다.The optical film may be a translucent thermoplastic resin. The optical film may be an optically transparent thermoplastic resin. The resin constituting the optical film is, for example, a chain polyolefin-based resin, a cyclic olefin polymer-based resin (COP-based resin), a cellulose ester-based resin, a polyester-based resin, a polycarbonate-based resin, ( A meth)acrylic resin, a polystyrene-type resin, or these mixtures or copolymers may be sufficient.

편광판이 제1 광학 필름과 제2 광학 필름을 갖는 경우, 제1 광학 필름의 조성은, 제2 광학 필름의 조성과 완전히 동일해도 좋다. 예컨대, 제1 광학 필름 및 제2 광학 필름이 모두 환상 올레핀 폴리머계 수지(COP계 수지)를 포함해도 좋다. 제1 광학 필름 및 제2 광학 필름이 환상 올레핀 폴리머계 수지(COP계 수지)를 포함하는 경우, 본 발명의 효과가 얻어지기 쉽다. 편광판이 제1 광학 필름과 제2 광학 필름을 갖는 경우, 제1 광학 필름의 조성은, 제2 광학 필름의 조성과 상이해도 좋다.When a polarizing plate has a 1st optical film and a 2nd optical film, the composition of a 1st optical film may be completely the same as the composition of a 2nd optical film. For example, both a 1st optical film and a 2nd optical film may contain cyclic olefin polymer type resin (COP type resin). When a 1st optical film and a 2nd optical film contain cyclic olefin polymer-type resin (COP-type resin), the effect of this invention is easy to be acquired. When a polarizing plate has a 1st optical film and a 2nd optical film, the composition of a 1st optical film may differ from a composition of a 2nd optical film.

제1 광학 필름 및 제2 광학 필름의 유리 전이 온도는, 100℃ 이상 200℃ 이하, 또는 120℃ 이상 150℃ 이하인 것이 바람직하다. 제1 광학 필름 및 제2 광학 필름 각각의 유리 전이 온도가 상기 범위인 경우, 각 광학 필름의 단부의 연마에 의해 발생하는 열에 의해, 제1 광학 필름 및 제2 광학 필름이 서로 융착되기 쉽다.It is preferable that the glass transition temperatures of a 1st optical film and a 2nd optical film are 100 degrees C or more and 200 degrees C or less, or 120 degrees C or more and 150 degrees C or less. When the glass transition temperature of each of the first optical film and the second optical film is within the above range, the first optical film and the second optical film are likely to be fused to each other by the heat generated by the polishing of the end of each optical film.

쇄상 폴리올레핀계 수지는, 예컨대, 폴리에틸렌 수지 또는 폴리프로필렌 수지와 같은 쇄상 올레핀의 단독 중합체여도 좋다. 쇄상 폴리올레핀계 수지는, 2종 이상의 쇄상 올레핀을 포함하는 공중합체여도 좋다.The chain polyolefin resin may be, for example, a homopolymer of a chain olefin such as a polyethylene resin or a polypropylene resin. The chain polyolefin resin may be a copolymer containing two or more kinds of chain olefins.

환상 올레핀 폴리머계 수지(환상 폴리올레핀계 수지)는, 예컨대, 환상 올레핀의 개환 (공)중합체, 또는 환상 올레핀의 부가 중합체여도 좋다. 환상 올레핀 폴리머계 수지는, 예컨대, 환상 올레핀과 쇄상 올레핀의 공중합체(예컨대, 랜덤 공중합체)여도 좋다. 공중합체를 구성하는 쇄상 올레핀은, 예컨대, 에틸렌 또는 프로필렌이어도 좋다. 환상 올레핀 폴리머계 수지는, 상기한 중합체를 불포화 카르복실산 혹은 그 유도체로 변성한 그라프트 중합체, 또는 이들의 수소화물이어도 좋다. 환상 올레핀 폴리머계 수지는, 예컨대, 노르보르넨 또는 다환 노르보르넨계 모노머 등의 노르보르넨계 모노머를 이용한 노르보르넨계 수지여도 좋다.The cyclic olefin polymer resin (cyclic polyolefin resin) may be, for example, a ring-opened (co)polymer of a cyclic olefin or an addition polymer of a cyclic olefin. The cyclic olefin polymer resin may be, for example, a copolymer of a cyclic olefin and a chain olefin (eg, a random copolymer). The chain olefin constituting the copolymer may be, for example, ethylene or propylene. The cyclic olefin polymer-type resin may be the graft polymer which modified|denatured the said polymer with unsaturated carboxylic acid or its derivative(s), or these hydrides may be sufficient as it. Norbornene-type resin using norbornene-type monomers, such as norbornene or a polycyclic norbornene-type monomer, may be sufficient as cyclic olefin polymer-type resin, for example.

셀룰로오스에스테르계 수지는, 예컨대, 셀룰로오스트리아세테이트(트리아세틸셀룰로오스(TAC)), 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스트리프로피오네이트 또는 셀룰로오스디프로피오네이트여도 좋다. 이들의 공중합물을 이용해도 좋다. 수산기의 일부가 다른 치환기로 수식된 셀룰로오스에스테르계 수지를 이용해도 좋다.Cellulose ester resin may be, for example, cellulose triacetate (triacetyl cellulose (TAC)), cellulose diacetate, cellulose tripropionate, or cellulose dipropionate. You may use these copolymers. You may use the cellulose ester-type resin by which a part of hydroxyl group was modified by the other substituent.

셀룰로오스에스테르계 수지 이외의 폴리에스테르계 수지를 이용해도 좋다. 폴리에스테르계 수지는, 예컨대, 다가 카르복실산 또는 그 유도체와 다가 알콜의 중축합체여도 좋다. 다가 카르복실산 또는 그 유도체는, 디카르복실산 또는 그 유도체여도 좋다. 다가 카르복실산 또는 그 유도체는, 예컨대, 테레프탈산, 이소프탈산, 디메틸테레프탈레이트, 또는 나프탈렌디카르복실산디메틸이어도 좋다. 다가 알콜은, 예컨대, 디올이어도 좋다. 다가 알콜은, 예컨대, 에틸렌글리콜, 프로판디올, 부탄디올, 네오펜틸글리콜, 또는 시클로헥산디메탄올이어도 좋다.You may use polyester-type resin other than cellulose-ester-type resin. The polyester resin may be, for example, a polycondensate of a polyhydric carboxylic acid or a derivative thereof and a polyhydric alcohol. Dicarboxylic acid or its derivative(s) may be sufficient as polyhydric carboxylic acid or its derivative(s). The polyhydric carboxylic acid or its derivative may be, for example, terephthalic acid, isophthalic acid, dimethyl terephthalate, or dimethyl naphthalenedicarboxylic acid. The polyhydric alcohol may be, for example, a diol. The polyhydric alcohol may be, for example, ethylene glycol, propanediol, butanediol, neopentyl glycol, or cyclohexanedimethanol.

폴리에스테르계 수지는, 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌나프탈레이트, 폴리시클로헥산디메틸테레프탈레이트, 또는 폴리시클로헥산디메틸나프탈레이트여도 좋다.The polyester-based resin is, for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, polytrimethylene terephthalate, polytrimethylene naphthalate, polycyclohexanedimethyl terephthalate, or polycyclohexane. Dimethyl naphthalate may be sufficient.

폴리카보네이트계 수지는, 카보네이트기를 통해 중합 단위(모노머)가 결합된 중합체이다. 폴리카보네이트계 수지는, 수식된 폴리머 골격을 갖는 변성 폴리카보네이트여도 좋고, 공중합 폴리카보네이트여도 좋다.The polycarbonate-based resin is a polymer in which a polymerization unit (monomer) is bonded through a carbonate group. The polycarbonate-based resin may be a modified polycarbonate having a modified polymer skeleton, or may be a copolymerized polycarbonate.

(메트)아크릴계 수지는, 예컨대, 폴리(메트)아크릴산에스테르(예컨대, 폴리메타크릴산메틸(PMMA)); 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산 공중합체; 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산에스테르 공중합체; 메타크릴산메틸-아크릴산에스테르-(메트)아크릴산 공중합체; (메트)아크릴산메틸-스티렌 공중합체(예컨대, MS 수지); 메타크릴산메틸과 지환족 탄화수소기를 갖는 화합물의 공중합체(예컨대, 메타크릴산메틸-메타크릴산시클로헥실 공중합체, 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산노르보르닐 공중합체 등)여도 좋다.The (meth)acrylic resin is, for example, poly(meth)acrylic acid ester (eg, polymethyl methacrylate (PMMA)); methyl methacrylate-(meth)acrylic acid copolymer; methyl methacrylate-(meth)acrylic acid ester copolymer; methyl methacrylate-acrylic acid ester-(meth)acrylic acid copolymer; (meth) methyl acrylate-styrene copolymer (eg, MS resin); A copolymer of methyl methacrylate and a compound having an alicyclic hydrocarbon group (eg, methyl methacrylate-cyclohexyl methacrylate copolymer, methyl methacrylate-(meth) acrylate norbornyl copolymer, etc.) may be sufficient.

제1 광학 필름 또는 제2 광학 필름 각각은, 활제(滑劑), 가소제, 분산제, 열안정제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 대전 방지제, 및 산화 방지제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 첨가제를 포함해도 좋다.Each of the first optical film or the second optical film contains at least one additive selected from the group consisting of a lubricant, a plasticizer, a dispersant, a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antistatic agent, and an antioxidant. good to do

제1 광학 필름의 두께는, 예컨대, 5 ㎛ 이상 90 ㎛ 이하, 또는 10 ㎛ 이상 60 ㎛ 이하여도 좋다. 제2 광학 필름의 두께도, 예컨대, 5 ㎛ 이상 90 ㎛ 이하, 또는 10 ㎛ 이상 60 ㎛ 이하여도 좋다.The thickness of the first optical film may be, for example, 5 µm or more and 90 µm or less, or 10 µm or more and 60 µm or less. The thickness of the second optical film may also be, for example, 5 µm or more and 90 µm or less, or 10 µm or more and 60 µm or less.

제1 광학 필름 및 제2 광학 필름 중 적어도 한쪽은, 광학 기능을 갖는 필름이어도 좋다. 광학 기능을 갖는 필름이란, 예컨대, 위상차 필름 또는 휘도 향상 필름이어도 좋다. 예컨대, 상기 열가소성 수지를 포함하는 필름을 연신하거나, 상기 필름 상에 액정층 등을 형성하거나 함으로써, 임의의 위상차값이 부여된 위상차 필름이 얻어진다.The film which has an optical function may be sufficient as at least one of a 1st optical film and a 2nd optical film. The film having an optical function may be, for example, a retardation film or a brightness improving film. For example, the retardation film to which arbitrary retardation values were provided is obtained by extending|stretching the film containing the said thermoplastic resin, or forming a liquid crystal layer etc. on the said film.

제1 광학 필름은, 접착층을 통해, 편광자에 겹쳐져도 좋다. 제2 광학 필름도, 접착층을 통해, 편광자의 제1 광학 필름과는 반대측에 겹쳐져도 좋다. 접착층은, 폴리비닐알콜 등의 수계 접착제를 포함해도 좋다. 접착층은, 후술하는 활성 에너지선 경화성 수지를 포함해도 좋다.The 1st optical film may be superimposed on a polarizer via a contact bonding layer. The 2nd optical film may also be superimposed on the opposite side to the 1st optical film of a polarizer via a contact bonding layer. The adhesive layer may contain a water-based adhesive such as polyvinyl alcohol. The contact bonding layer may also contain the active energy ray-curable resin mentioned later.

활성 에너지선 경화성 수지는, 활성 에너지선이 조사됨으로써, 경화되는 수지이다. 활성 에너지선은, 예컨대, 자외선, 가시광, 전자선, 또는 X선이어도 좋다. 예컨대, 활성 에너지선 경화성 수지는, 자외선 경화성 수지여도 좋다.Active energy ray-curable resin is resin hardened|cured by irradiating an active energy ray. The active energy ray may be, for example, ultraviolet light, visible light, electron beam, or X-ray. For example, ultraviolet curable resin may be sufficient as active energy ray-curable resin.

활성 에너지선 경화성 수지는, 1종의 수지여도 좋고, 복수 종의 수지를 포함해도 좋다. 예컨대, 활성 에너지선 경화성 수지는, 양이온 중합성의 경화성 화합물, 또는 라디칼 중합성의 경화성 화합물을 포함해도 좋다. 활성 에너지선 경화성 수지는, 상기 경화성 화합물의 경화 반응을 개시시키기 위한 양이온 중합 개시제 또는 라디칼 중합 개시제를 포함해도 좋다.One type of resin may be sufficient as active energy ray-curable resin, and may also contain multiple types of resin. For example, active energy ray-curable resin may contain a cationically polymerizable sclerosing|hardenable compound, or a radically polymerizable sclerosing|hardenable compound. Active energy ray-curable resin may also contain the cationic polymerization initiator or radical polymerization initiator for starting the hardening reaction of the said sclerosing|hardenable compound.

양이온 중합성의 경화성 화합물은, 예컨대, 에폭시계 화합물(분자 내에 적어도 하나의 에폭시기를 갖는 화합물), 또는 옥세탄계 화합물(분자 내에 적어도 하나의 옥세탄환을 갖는 화합물)이어도 좋다. 라디칼 중합성의 경화성 화합물은, 예컨대, (메트)아크릴계 화합물(분자 내에 적어도 하나의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물)이어도 좋다. 라디칼 중합성의 경화성 화합물은, 라디칼 중합성의 이중 결합을 갖는 비닐계 화합물이어도 좋다.The cationically polymerizable curable compound may be, for example, an epoxy compound (a compound having at least one epoxy group in its molecule) or an oxetane compound (a compound having at least one oxetane ring in its molecule). The radically polymerizable sclerosing compound may be, for example, a (meth)acrylic compound (a compound having at least one (meth)acryloyloxy group in its molecule). The radically polymerizable sclerosing|hardenable compound may be a vinyl-type compound which has a radically polymerizable double bond.

활성 에너지선 경화성 수지는, 필요에 따라, 양이온 중합 촉진제, 이온 트랩제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 점착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 조정제, 가소제, 소포제, 대전 방지제, 레벨링제, 또는 용제 등을 포함해도 좋다.The active energy ray-curable resin is, if necessary, a cationic polymerization accelerator, an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, a tackifier, a thermoplastic resin, a filler, a flow regulator, a plasticizer, an antifoaming agent, an antistatic agent, a leveling agent, or a solvent. may include

(가습 처리 공정)(humidification treatment process)

제1 적층체를 온도 35℃ 이상에 있어서 상대 습도 75% RH 이상의 기상 중에 유지함으로써 가습 처리를 행한다. 가습 처리에 의하면, 제1 적층체의 단부를 포함하는 영역에 있어서, 이 영역 이외의 영역에 있어서의 붕산의 농도보다 낮은 농도로 붕산을 함유하는 영역(이하, 붕산 저함유 영역이라고도 함)이 형성됨에도 불구하고 요오드 빠짐이 발생하지 않아, 붕산 저함유 영역에 있어서도 직선 편광능이 발휘되게 된다. 본 발명의 제조 방법에 의해 제조된 편광판은, 히트 쇼크 시험에 있어서도 크랙이 발생하지 않고, 단부를 포함하는 영역에 있어서도 직선 편광능을 발휘할 수 있다.A humidification process is performed by hold|maintaining a 1st laminated body in the gaseous phase of 75 %RH or more of relative humidity in the temperature of 35 degreeC or more. According to the humidification treatment, in the region including the end portion of the first laminate, a region containing boric acid at a concentration lower than the concentration of boric acid in regions other than this region (hereinafter also referred to as a low boric acid content region) is formed In spite of this, iodine loss does not occur and linearly polarizing ability is exhibited even in a region with a low boric acid content. The polarizing plate manufactured by the manufacturing method of this invention does not generate|occur|produce a crack also in a heat shock test, but can exhibit linearly polarizing ability also in the area|region including an edge part.

특허문헌 1에 기재된 바와 같이, 히트 쇼크 시험에 있어서 크랙의 발생을 억제하기 위해서는, 편광자의 단부에 포함되는 붕산의 농도를 낮게 하는 것이 유효한 것이 알려져 있다. 그러나, 특허문헌 1에 기재된 제조 방법에서는, 편광자의 단부 및 단부로부터 50 ㎛ 이상까지 사이의 전영역에 걸쳐 붕산이 제거되고, 그 결과, 편광자의 단부 및 단부로부터 300 ㎛를 초과하는 폭의 전영역에 걸쳐 요오드 빠짐이 발생하여, 단부에 있어서 직선 편광능을 발휘할 수 없게 되는 것을 알 수 있었다. 그러나, 본 발명의 제조 방법에 의하면, 온도 35℃ 이상에 있어서 상대 습도 75% RH 이상의 기상 중에 있어서 유지하는 가습 처리를 행함으로써 제거되는 것은 편광자의 단부에 포함되는 여분의 붕산뿐이고, 요오드 빠짐이 발생하기 어려운 경향이 있기 때문에, 얻어지는 편광판은, 히트 쇼크 시험에 있어서 크랙의 발생이 억제되고 단부에 있어서도 직선 편광능을 발휘할 수 있다.As patent document 1 describes, in order to suppress generation|occurrence|production of a crack in a heat shock test, it is known that it is effective to make low the density|concentration of the boric acid contained in the edge part of a polarizer. However, in the manufacturing method of patent document 1, boric acid is removed over the whole area between 50 micrometers or more from the edge part and edge part of polarizer, As a result, the whole area of the width exceeding 300 micrometers from the edge part and edge part of light polarizer. It turned out that iodine loss|extraction generate|occur|produced over this and it became impossible to exhibit linearly polarizing ability in the edge part. However, according to the manufacturing method of this invention, it is only the excess boric acid contained in the edge part of a polarizer that is removed by performing the humidification process hold|maintained in the gaseous phase of 75% RH or more of relative humidity at a temperature of 35 degreeC or more, and iodine loss occurs. Since there exists a tendency which it is difficult to do, generation|occurrence|production of a crack is suppressed in a heat shock test, and the polarizing plate obtained can exhibit linearly polarizing ability also in an edge part.

붕산의 농도는, 편광판의 두께 방향도 포함한 단위 면적당 붕산의 농도를 말하고, 예컨대 후술하는 실시예의 난에 있어서 설명하는 비행 시간형 이차 이온 질량 분석법(TOF-SIMS)에 의해 측정된다. 본 명세서에 있어서, 붕산에는, 예컨대 붕산 분자(H3BO3) 및 붕산 이온(BO3 3-)이 포함된다.The concentration of boric acid refers to the concentration of boric acid per unit area including the thickness direction of the polarizing plate, and is measured by, for example, time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) described in the section of Examples to be described later. In the present specification, boric acid includes, for example, a molecule of boric acid (H 3 BO 3 ) and a boric acid ion (BO 3 3- ).

요오드 빠짐이 발생하고 있는 영역(이하, 간략히 요오드 빠짐 영역이라고도 함)은, 편광 현미경을 이용하여 크로스니콜 상태에서 광이 투과하는 영역으로서 육안으로 관찰되는 영역이다. 요오드에는, 예컨대 요오드 분자(I2), 폴리요오드 착체(I3 -, I5 -), 요오드 이온(I-)이 포함된다.The region in which iodine depletion has occurred (hereinafter also referred to as iodine depleted region) is a region observed with the naked eye as a region through which light is transmitted in a cross nicol state using a polarization microscope. Iodine includes, for example, an iodine molecule (I 2 ), a polyiodine complex (I 3 , I 5 ), and an iodine ion (I ).

본 명세서에 있어서, 평면시란, 편광판의 두께 방향으로부터 보는 것을 의미한다.In this specification, planar view means seeing from the thickness direction of a polarizing plate.

기상의 온도는 35℃ 이상이다. 기상의 온도가 35℃ 이상임으로써, 편광판의 단부에 포함되는 여분의 붕산이 제거되기 쉬워지는 경향이 있다. 기상의 온도는, 붕산이 제거되기 쉬워지는 관점에서 바람직하게는 40℃ 이상이다. 기상의 온도는, 예컨대 90℃ 이하여도 좋고, 바람직하게는 85℃ 이하이다. 기상의 온도가 90℃ 이하인 경우, 요오드 빠짐이 발생하기 어려워지는 경향이 있다. 기상의 온도는, 편광자의 단부에 있어서 여분의 붕산이 제거되고, 또한 요오드 빠짐이 발생하지 않도록 상기 범위 내에서 조절할 수 있다.The temperature of the gas phase is 35°C or higher. When the temperature of a gas phase is 35 degreeC or more, there exists a tendency for the excess boric acid contained in the edge part of a polarizing plate to become easy to remove. The temperature of the gas phase is preferably 40°C or higher from the viewpoint of easily removing boric acid. The temperature of the gas phase may be, for example, 90°C or lower, and preferably 85°C or lower. When the temperature of gas phase is 90 degrees C or less, there exists a tendency for iodine loss to become difficult to generate|occur|produce. The temperature of the gas phase can be adjusted within the above range so that excess boric acid is removed at the edge of the polarizer and iodine loss does not occur.

기상의 상대 습도는 75% RH 이상이다. 상대 습도가 75% RH 이상임으로써, 편광판의 단부에 포함되는 여분의 붕산이 제거되기 쉬워지는 경향이 있다. 기상의 상대 습도는, 붕산이 제거되기 쉬워지는 관점에서 바람직하게는 80% RH 이상이다. 기상의 상대 습도는, 예컨대 90% RH 이하여도 좋고, 바람직하게는 85% RH 이하이다. 기상의 상대 습도가 90% RH 이하인 경우, 요오드 빠짐이 발생하기 어려워지는 경향이 있다. 기상의 상대 습도는, 편광자의 단부에 있어서 여분의 붕산이 제거되고, 또한 요오드 빠짐이 발생하지 않도록 상기 범위 내에서 조절할 수 있다.The relative humidity of the weather is at least 75% RH. When a relative humidity is 75 %RH or more, there exists a tendency for the excess boric acid contained in the edge part of a polarizing plate to become easy to remove. The relative humidity of the gas phase is preferably 80% RH or more from the viewpoint of easily removing boric acid. The relative humidity of the gas phase may be, for example, 90% RH or less, preferably 85% RH or less. When the relative humidity of the gas phase is 90% RH or less, iodine loss tends to be difficult to occur. The relative humidity of gaseous phase can be adjusted within the said range so that excess boric acid may be removed in the edge part of a polarizer, and iodine loss may not generate|occur|produce.

가습 처리를 행하는 시간은, 예컨대 0.5시간 이상 4시간 이하여도 좋고, 붕산의 제거하기 쉬움 및 요오드 빠짐 방지의 관점에서 바람직하게는 1시간 이상 3시간 이하이며, 보다 바람직하게는 1.5시간 이상 2.5시간 이하이다. 또한, 가습 처리는 통상, 상기한 시간, 연속해서 행해진다.The time period for performing the humidification treatment may be, for example, 0.5 hours or more and 4 hours or less, preferably 1 hour or more and 3 hours or less, more preferably 1.5 hours or more and 2.5 hours or less, from the viewpoint of easy removal of boric acid and prevention of iodine loss. am. In addition, the humidification process is normally performed continuously for said time.

가습 처리는, 예컨대 항온 항습로를 이용하여 행할 수 있다.The humidification process can be performed using, for example, a constant-temperature and constant-humidity furnace.

제1 적층체가 후술하는 이형부를 갖는 경우, 크랙이 억제되고, 또한 요오드 빠짐이 눈에 띄기 어려워지는 관점에서 바람직하게는, 가습 처리는, 이형부에 포함되는 단부 영역이 가습 처리되도록 행한다.When the first laminate has a mold release portion described later, cracks are suppressed and iodine leakage is less conspicuous. Preferably, the humidification treatment is performed so that the end region included in the release portion is humidified.

가습 처리는, 크랙이 억제되고, 편광판의 외관에 있어서 요오드 빠짐이 눈에 띄기 어려워지는 관점에서 바람직하게는 붕산 저함유 영역에 있어서의 붕산의 농도가 편광판의 단부로부터 내측 방향에 있어서 단부로부터 멀어질수록 높아지는 농도가 얻어지도록 행할 수 있다. 그러한 농도는, 가습 처리의 조건에 있어서, 기상의 온도를 낮게 하는 경우나 상대 습도를 낮게 하는 경우, 가습 처리를 행하는 시간을 짧게 하는 경우에 얻어지기 쉬운 경향이 있다.From the viewpoint of suppressing cracks and making iodine loss less conspicuous in the appearance of the polarizing plate, the humidification treatment is preferably performed so that the concentration of boric acid in the low boric acid content region is inward from the end of the polarizing plate. It can be performed so that a density|concentration which becomes higher as it increases can be obtained. Such a concentration tends to be easily obtained when the temperature of the gas phase is lowered, the relative humidity is lowered, or the time for the humidification treatment is shortened under the conditions of the humidification treatment.

붕산 저함유 영역은, 예컨대 편광판의 평면시에 있어서의 단부로부터 내측 방향에 있어서 15 ㎛를 초과하는 영역에 형성되어도 좋고, 크랙 억제의 관점에서 바람직하게는 15 ㎛ 초과 200 ㎛ 미만의 영역에 형성되며, 보다 바람직하게는 20 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하의 영역에 형성되고, 더욱 바람직하게는 20 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만의 영역에 형성되며, 특히 바람직하게는 20 ㎛ 이상 50 ㎛ 미만의 영역에 형성된다.The low boric acid content region may be formed, for example, in a region exceeding 15 µm in the inward direction from the end in a planar view of the polarizing plate, and is preferably formed in an area exceeding 15 µm and less than 200 µm from the viewpoint of crack suppression, , more preferably in an area of 20 µm or more and 150 µm or less, still more preferably in an area of 20 µm or more and less than 100 µm, particularly preferably in a region of 20 µm or more and less than 50 µm.

붕산 저함유 영역은, 편광판의 평면시에 있어서의 단부로부터 15 ㎛ 이하의 영역에 있어서도 형성되어 있어도 좋다.The boric acid low content area|region may be formed also in the area|region 15 micrometers or less from the edge part in planar view of a polarizing plate.

붕산 저함유 영역은, 편광판의 평면시에 있어서의 단부로부터 15 ㎛ 이하의 전영역과, 편광판의 평면시에 있어서의 단부로부터 내측 방향에 있어서 15 ㎛ 초과 200 ㎛ 미만의 전영역에 연속적으로 형성되어 있어도 좋다. 바꿔 말하면, 붕산 저함유 영역은, 편광판의 평면시에 있어서의 단부 및 단부로부터 200 ㎛ 미만 사이의 전영역에 걸쳐 형성되어도 좋다. 붕산 저함유 영역이, 편광판의 평면시에 있어서의 단부 및 단부로부터 200 ㎛ 미만 사이의 전영역에 걸쳐 형성되는 경우, 붕산 저함유 영역과 그 이외의 영역의 경계가 단부 및 단부로부터 200 ㎛ 미만 사이의 영역에 존재할 수 있다.The low boric acid content region is continuously formed in the entire region of 15 µm or less from the end of the polarizing plate in plan view and the entire region of more than 15 µm and less than 200 µm in the inward direction from the end of the polarizing plate in plan view, good to be In other words, the boric acid low content region may be formed over the entire region between the end portion and the end portion of the polarizing plate in a plan view of less than 200 µm. When the boric acid low content region is formed over the entire region between the end portion and the end portion less than 200 μm in plan view of the polarizing plate, the boundary between the boric acid low acid content region and the other region is less than 200 μm between the edge portion and the end portion. may exist in the realm of

붕산 저함유 영역은, 바람직하게는 편광판의 평면시에 있어서의 단부 및 단부로부터 100 ㎛ 이하 사이의 전영역에 걸쳐 형성되고, 보다 바람직하게는 편광판의 평면시에 있어서의 단부 및 단부로부터 50 ㎛ 이하 사이의 전영역에 걸쳐 형성되며, 더욱 바람직하게는 편광판의 평면시에 있어서의 단부 및 단부로부터 20 ㎛ 이하 사이의 전영역에 걸쳐 형성된다.The low boric acid content region is preferably formed over the entire area between the end and the end of the polarizing plate 100 µm or less in plan view, and more preferably 50 µm or less from the end and the end in the plan view of the polarizing plate. It is formed over the entire region between the polarizing plates, and more preferably, it is formed over the entire region between the end portion and the end portion of the polarizing plate in a plane view of 20 µm or less.

편광판의 단부는 붕산을 함유하고 있지 않아도 좋다.The edge part of a polarizing plate does not need to contain boric acid.

붕산 저함유 영역이 형성된 영역과 그 이외의 영역의 경계는, 예컨대 후술하는 실시예의 난에 있어서 설명하는 비행 시간형 이차 이온 질량 분석법(TOF-SIMS)에 있어서 얻어지는 단부로부터의 거리에 대한 붕산 농도 프로파일로부터 구할 수 있다. 예컨대, 붕산 농도 프로파일에 있어서 붕산 이온 강도가 일정한 영역을 판독할 수 있는 경우에는, 그 영역의 붕산 이온 강도의 평균값을 구하고, 단부로부터, 붕산 이온 강도가 상기 평균값이 되는 위치까지를 붕산 저농도 부위로 할 수 있다. 상기 붕산 이온 강도가 일정한 영역이 붕산 농도 프로파일에 있어서 판독하기 어려운 경우에는, 붕산 농도 프로파일에 있어서, 붕산 이온 강도가 최대가 되는 점으로부터 내측으로 30 ㎛의 범위에 있어서의 붕산 이온 강도의 평균값을 구하고, 단부로부터, 붕산 이온 강도가 상기 평균값이 되는 위치까지를 붕산 저농도 부위로 할 수 있다.The boundary between the region in which the low boric acid content region is formed and the other regions is, for example, a boric acid concentration profile with respect to the distance from the end obtained by the time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) described in the section of Examples to be described later. can be obtained from For example, if a region with a constant boric acid ion strength can be read in the boric acid concentration profile, the average value of the boric acid ion strength of that region is obtained, and the position from the end to the position where the boric acid ion strength becomes the average value is defined as the low boric acid concentration region. can do. If the region where the boric acid ion strength is constant is difficult to read in the boric acid concentration profile, the average value of the boric acid ion strength in the range of 30 µm inward from the point where the boric acid ion strength is the maximum in the boric acid concentration profile is obtained, , from the end to the position at which the boric acid ion strength becomes the above average value can be defined as the low boric acid concentration site.

붕산 저함유 영역은, 편광판의 평면시에 있어서 하나의 연속된 영역이어도 좋고, 복수로 나누어진 영역이어도 좋다.One continuous area|region may be sufficient as a boric-acid low content area|region in the planar view of a polarizing plate, and the area|region divided into plurality may be sufficient as it.

붕산 저함유 영역은, 크랙 억제의 관점에서 바람직하게는 편광판의 외연부(外緣部)를 따라 형성된다. 붕산 저함유 영역은, 편광판의 외연부 전체를 따라 형성되어도 좋고, 편광판의 외연부의 일부를 따라 형성되어도 좋다.The boric acid low content region is preferably formed along the outer edge of the polarizing plate from the viewpoint of crack suppression. The boric acid low content region may be formed along the entire outer edge of the polarizing plate, or may be formed along a part of the outer edge of the polarizing plate.

이러한 가습 처리를 행함으로써, 편광자의 평면시에 있어서의 단부에 있어서, 이 영역 이외의 영역에 있어서의 붕산의 농도보다 저농도로 붕산을 함유하는 영역을 갖는 편광자가 얻어진다. 이 편광자는, 구체적으로는, 단부로부터 500 ㎛ 이상 내측의 내측 영역에 있어서의 붕산의 농도보다 낮은 붕산의 농도인 붕산 저농도 부위가 형성된 편광자이다. 내측 영역에 있어서, 붕산의 농도는 거의 똑같을 수 있다. 도 3에 도시된 편광자(2)는, 평면시에 있어서의 단부를 포함하는 영역에 있어서 붕산 저농도 부위(30)를 갖고, 단부로부터 500 ㎛ 이상 내측에 내측 영역(32)을 가질 수 있다. 내측 영역(32)은, 액정 표시 장치에 편입되었을 때에 화상을 표시하기 위한 영역을 포함할 수 있다. 붕산 저농도 부위(30)와 내측 영역(32) 사이의 중간 영역(31)에 있어서의 붕산 농도는, 통상, 내측 영역(32)과 거의 동일한 붕산 농도이다. 또한, 이 가습 처리를 실시함으로써, 편광자의 평면시에 있어서의 단부에 있어서는 요오드 빠짐이 발생하고 있지 않은 편광자가 얻어진다. 이 편광자는, 구체적으로는, 상기 내측 영역에 있어서의 요오드의 농도보다 낮은 요오드의 농도인 요오드 저농도 부위가 형성되어 있지 않은 편광자이다.By performing such a humidification process, the edge part in the planar view of a polarizer WHEREIN: The light polarizer which has a region containing boric acid at a lower concentration than the density|concentration of boric acid in regions other than this region is obtained. This polarizer is specifically, a polarizer in which the boric-acid low concentration site|part which is a density|concentration of boric acid lower than the density|concentration of boric acid in the inner side region 500 micrometers or more from an edge part was formed. In the inner region, the concentration of boric acid may be approximately the same. The polarizer 2 shown in FIG. 3 has the boric acid low concentration site|part 30 in the area|region including the edge part in planar view, and can have the inner side area|region 32 inside 500 micrometers or more from an edge part. The inner region 32 may include a region for displaying an image when incorporated in a liquid crystal display device. The boric acid concentration in the intermediate|middle area|region 31 between the boric-acid low concentration site|part 30 and the inner side area|region 32 is a boric-acid concentration substantially the same as that of the inner side area|region 32 normally. Moreover, in the edge part in the planar view of a polarizer by performing this humidification process, the polarizer in which iodine loss has not generate|occur|produced is obtained. This polarizer is specifically, a polarizer in which the low iodine concentration site|part which is the density|concentration of iodine lower than the density|concentration of iodine in the said inner region is not formed.

(성형 공정)(Forming process)

편광판의 제조 방법은, 가습 처리 공정 전에, 제1 적층체를 성형 가공하는 성형 공정을 더 포함할 수 있다. 성형 공정에 있어서, 제1 적층체를, 절단 및/또는 펀칭 가공에 의해 소정의 형상으로 성형 가공할 수 있다. 절단 및/또는 펀칭 가공은, 날붙이를 이용하거나, 레이저광을 조사하거나 함으로써 행할 수 있다. 레이저광은, CO2 레이저여도 좋다.The manufacturing method of a polarizing plate may further include the shaping|molding process of shaping|molding a 1st laminated body before a humidification process process. In the molding step, the first laminate can be molded into a predetermined shape by cutting and/or punching processing. Cutting and/or punching processing can be performed by using a cutter or irradiating a laser beam. The laser beam may be a CO 2 laser.

제1 적층체는, 성형 공정에 의해, 제1 적층체의 치수가, 가공하기 쉬운 치수로 조정되어도 좋다. 또한, 펀칭 가공, 또는 절단 가공에 의해, 제1 적층체의 외연부에 이형부를 형성해도 좋다. 이형부는, 예컨대 제1 적층체의 평면시에 있어서, 외연부에 형성된 오목 형상부나 내측 방향으로 볼록한 대략 V자 형상부, 및 면 내에 형성된 관통 구멍이어도 좋다. 제1 적층체는, 외연부 및/또는 면 내에 2 이상의 이형부를 갖고 있어도 좋다. 면 내에 형성된 관통 구멍은, 전술한 카메라 홀 등이어도 좋다.As for the 1st laminated body, the dimension of a 1st laminated body may be adjusted to the dimension which is easy to process by a shaping|molding process. Moreover, you may form a mold release part in the outer edge part of a 1st laminated body by a punching process or a cutting process. The mold release portion may be, for example, a concave portion formed on the outer edge portion, a substantially V-shaped portion convex inwardly, and a through hole formed in the surface of the first laminate in a plan view. The 1st laminated body may have two or more mold release parts in an outer edge part and/or surface. The through hole formed in the surface may be the camera hole or the like described above.

이형부를 갖는 편광판은, 히트 쇼크 시험에 있어서, 이형부에 응력이 집중되기 쉬워, 크랙이 발생하기 쉬운 경향이 있다. 본 발명의 편광판은 이형부를 가짐에도 불구하고, 붕산 저함유 영역이 이형부의 단부 영역에 형성됨으로써, 히트 쇼크 시험에 있어서 크랙의 발생이 억제되기 쉬워지는 경향이 있다.The polarizing plate which has a mold release part is a heat shock test. WHEREIN: Stress tends to concentrate on a mold part part, and there exists a tendency for a crack to generate|occur|produce easily. Although the polarizing plate of this invention has a mold release part, it exists in the tendency which becomes easy to suppress generation|occurrence|production of a crack in a heat shock test by forming a boric-acid low content area|region in the edge part area|region of a mold release part.

본 발명의 제조 방법에 의해 제조된 편광판은, 예컨대 카메라 홀을 갖는 화상 표시 장치에 적합하다. 도 4에 도시된 바와 같은, 카메라 홀(22), 커버 유리(24), 점착제층(25), 편광판(21), 액정 패널(23), 편광판(26), 카메라(27), 및 차광 테이프(28)를 갖는 화상 표시 장치(20)에 있어서, 도면 중, 동그라미로 둘러싸인 카메라 홀을 형성하는 부분은 직접 시인되기 쉬워진다. 그러한 부분에 요오드 빠짐이 발생하고 있으면, 요오드 빠짐이 눈에 띄기 쉬워지고, 그 결과, 디자인성의 저하를 초래하는 경우가 있다. 그러나, 본 발명의 편광판은, 단부를 포함하는 영역에 있어서 요오드 빠짐이 발생하고 있지 않기 때문에, 화상 표시 장치에 있어서 시인측에 배치되는 경우에도, 요오드 빠짐이 눈에 띄기 어렵고, 디자인성의 저하가 발생하기 어렵다.The polarizing plate manufactured by the manufacturing method of this invention is suitable for the image display apparatus which has a camera hole, for example. As shown in FIG. 4 , a camera hole 22 , a cover glass 24 , an adhesive layer 25 , a polarizing plate 21 , a liquid crystal panel 23 , a polarizing plate 26 , a camera 27 , and a light-shielding tape In the image display device 20 having (28), in the figure, the portion forming the camera hole surrounded by a circle is easily visually recognized. When iodine omission generate|occur|produces in such a part, iodine omission will become conspicuous, and as a result, the fall of design may be caused. However, in the polarizing plate of the present invention, since iodine leakage does not occur in the region including the edge portion, even when it is disposed on the visual recognition side in an image display device, iodine leakage is difficult to be conspicuous, and a decrease in design occurs. hard to do

이형부가 오목 형상부인 경우, 크랙 억제의 관점에서 바람직하게는, 오목 형상부의 깊이 방향과 흡수축(연신축 방향)은 직교하도록 형성된다. 또한, 오목 형상부는 그 깊이 방향이 흡수축(연신축 방향)과 통상 30° 이상 60° 이하의 각도로 교차하도록 형성되어도 좋다.When the deformable portion is a concave portion, it is preferably formed such that the depth direction of the concave portion and the absorption axis (stretching axis direction) are orthogonal to each other from the viewpoint of crack suppression. Further, the concave portion may be formed so that the depth direction thereof intersects the absorption axis (stretch axis direction) at an angle of usually 30° or more and 60° or less.

(절삭 공정)(cutting process)

편광판의 제조 방법은, 가습 처리 공정 전에, 엔드 밀을 제1 적층체 또는 후술하는 제2 적층체의 외주에 접촉시키고, 엔드 밀을 적층체의 외주를 따라 이동시키는 절삭 공정을 더 포함할 수 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 절삭 공정 전의 제1 적층체(10)의 외주 전역에 있어서, 편광자(7) 및 제1 광학 필름(5) 및 제2 광학 필름(9)의 단부의 위치는 일치하고 있어도 좋다.The manufacturing method of the polarizing plate may further include a cutting process of bringing the end mill into contact with the outer periphery of the first laminate or the second laminate to be described later, and moving the end mill along the outer periphery of the laminate before the humidification treatment process. . As shown in FIG. 2 , the positions of the ends of the polarizer 7 and the first optical film 5 and the second optical film 9 all over the outer periphery of the first laminate 10 before the cutting process coincide it's fine to do

도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 절삭 공정에 이용되는 엔드 밀(50)은, 그 회전 축선(50a)에 대략 평행한 측면에 있어서 돌출하는 날(에지)(50e)을 갖고 있다. 절삭 공정에서는, 엔드 밀(50)의 측면을 제1 적층체(10)의 외주(단부면)에 접촉시키고, 회전하는 엔드 밀(50)을 제1 적층체(10)의 외주를 따라 이동시킨다. 예컨대, 회전하는 엔드 밀(50)을 도 6 중의 화살표로 나타나는 경로를 따라 이동시켜도 좋다. 그 결과, 제1 적층체(10)의 외주(단부면)가 날(50e)에 의해 절삭 또는 연마되어, 제1 적층체(10)의 외주(단부면)가 평활해지고, 오목 형상부(13)가 형성되며, 오목 형상부(13)의 내측의 모퉁이가 모따기된다. 도 5에 도시된 바와 같이, 복수의 제1 적층체(10)를 겹쳐, 제2 적층체(100)를 형성한 후, 엔드 밀(50)의 측면을 제2 적층체(100)의 외주(단부면)에 접촉시키고, 회전하는 엔드 밀(50)을 제2 적층체(100)의 외주를 따라 이동시켜도 좋다. 즉 절삭 공정에서는, 제2 적층체(100)를 구성하는 복수의 제1 적층체(10)의 외주를 엔드 밀(50)로 일괄해서 절삭 또는 연마해도 좋다. 절삭 공정에서는, 오목 형상부(13)의 양단에 위치하는 모서리부, 및 제1 적층체(10)의 4모퉁이에 위치하는 모서리부 각각이 모따기되어 있어도 좋다.5 and 6 , the end mill 50 used in the cutting process has a blade (edge) 50e protruding from a side surface substantially parallel to the rotation axis 50a thereof. In the cutting process, the side surface of the end mill 50 is brought into contact with the outer periphery (end surface) of the first laminate 10 , and the rotating end mill 50 is moved along the outer periphery of the first laminate 10 . . For example, you may move the rotating end mill 50 along the path|route indicated by the arrow in FIG. As a result, the outer periphery (end surface) of the first laminate 10 is cut or polished by the blade 50e, the outer periphery (end surface) of the first laminate 10 becomes smooth, and the concave portion 13 ) is formed, and the inner corner of the concave shape 13 is chamfered. As shown in FIG. 5 , after overlapping a plurality of first laminates 10 to form a second laminate 100 , the side surface of the end mill 50 is placed on the outer periphery of the second laminate 100 ( end face) and the rotating end mill 50 may be moved along the outer periphery of the second laminate 100 . That is, in a cutting process, you may cut or grind|polish the outer periphery of the some 1st laminated body 10 which comprises the 2nd laminated body 100 collectively with the end mill 50. In a cutting process, each of the corner|angular part located at the both ends of the concave-shaped part 13, and the corner|angular part located at the four corners of the 1st laminated body 10 may be chamfered.

절삭 공정에 있어서의 엔드 밀의 절삭량은, 예컨대, 10 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하, 바람직하게는 50 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하여도 좋다.The cutting amount of the end mill in the cutting step may be, for example, 10 µm or more and 500 µm or less, and preferably 50 µm or more and 150 µm or less.

절삭 공정은 3회 이상 반복되어도 좋다. 예컨대, 3회째의 절삭 공정에서는, 제1 적층체(10)를 거의 절삭하지 않고, 2회째의 절삭 공정에 있어서 발생한 절삭 부스러기를 제1 적층체(10)의 단부면으로부터 제거해도 좋다. 각 절삭 공정에서는, 복수의 엔드 밀을 이용해도 좋다.The cutting process may be repeated three or more times. For example, in the 3rd cutting process, you may remove the 1st laminated body 10 from the end face of the 1st laminated body 10 almost without cutting, and the cutting chips which generate|occur|produced in the 2nd cutting process. In each cutting process, you may use several end mills.

절삭 공정에 있어서의 엔드 밀의 이송 속도는, 100 ㎜/분 이상 3000 ㎜/분 미만이어도 좋다. 절삭 공정에 있어서의 엔드 밀의 회전 속도는, 예컨대, 500 rpm 이상 60000 rpm 이하, 바람직하게는 10000 rpm 이상 60000 rpm 이하여도 좋다. 절삭 공정에 있어서의 절삭 각도는, 예컨대, 30° 이상 70° 이하, 바람직하게는 45° 이상 65° 이하여도 좋다. 엔드 밀(50)의 비틀림각이 α인 경우, 절삭 각도(β)는 90°-α로 정의된다. 도 6에 도시된 바와 같이, 엔드 밀(50)의 비틀림각(α)은, 엔드 밀(50)의 측면에 있어서 날(50e)이 연장되는 방향(d1)과 엔드 밀(50)의 회전 축선(50a)이 이루는 각도이다. 절삭 각도(β)는, 날(50e)이 연장되는 방향(d1)과 회전 축선(50a)에 수직인 방향(d2)이 이루는 각도라고 환언되어도 좋다. 절삭 공정에 이용하는 엔드 밀(50)의 직경(φ)(굵기)은, 예컨대, 3.0 ㎜ 이상 6.0 ㎜ 이하여도 좋다.The feed rate of the end mill in the cutting process may be 100 mm/min or more and less than 3000 mm/min. The rotational speed of the end mill in the cutting step may be, for example, 500 rpm or more and 60000 rpm or less, and preferably 10000 rpm or more and 60000 rpm or less. The cutting angle in the cutting step may be, for example, 30° or more and 70° or less, and preferably 45° or more and 65° or less. When the torsion angle of the end mill 50 is α, the cutting angle β is defined as 90°-α. As shown in FIG. 6 , the torsion angle α of the end mill 50 is the direction d1 in which the blade 50e extends from the side surface of the end mill 50 and the rotation axis of the end mill 50 . It is the angle formed by (50a). In other words, the cutting angle β may be an angle formed between a direction d1 in which the blade 50e extends and a direction d2 perpendicular to the rotation axis 50a. The diameter (phi) (thickness) of the end mill 50 used for a cutting process may be 3.0 mm or more and 6.0 mm or less, for example.

제1 적층체 또는 제2 적층체의 상태에서 절삭 가공함으로써, 제1 적층체 또는 제2 적층체의 평면시에 있어서, 광학 필름의 단부의 위치와 편광자의 단부의 위치가 동일해지도록 제1 적층체 또는 제2 적층체를 절삭 가공할 수 있다. 그 때문에, 얻어지는 편광판은, 절삭 가공에 의해 형성된 단부에 있어서, 편광판의 단부까지 직선 편광능을 가질 수 있다.By cutting in the state of a 1st laminated body or a 2nd laminated body, the planar view of a 1st laminated body or a 2nd laminated body WHEREIN: 1st lamination|stacking so that the position of the edge part of an optical film and the position of the edge part of a polarizer may become the same. The sieve or the second laminate can be cut. Therefore, the polarizing plate obtained can have linearly polarizing ability to the edge part of a polarizing plate in the edge part formed by cutting.

<편광자><Polarizer>

본 발명의 다른 실시양태에 따른 편광자는, 붕산과 요오드를 함유하는 수지 필름을 포함하고, 두께가 15 ㎛ 이하인 편광자이다. 편광자는, 예컨대 일축 연신된 폴리비닐알콜계 수지 필름에 요오드가 흡착 배향되고, 폴리비닐알콜 분자쇄끼리가 붕산으로 가교된 편광자여도 좋다. 편광자는, 흡수축에 평행한 진동면을 갖는 직선 편광을 흡수하고, 흡수축에 직교하는(투과축과 평행한) 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는 흡수형의 편광자일 수 있다.The polarizer according to another embodiment of the present invention includes a resin film containing boric acid and iodine, and is a polarizer having a thickness of 15 µm or less. The polarizer may be, for example, a polarizer in which iodine is oriented by adsorption to a uniaxially stretched polyvinyl alcohol-based resin film, and polyvinyl alcohol molecular chains are crosslinked with boric acid. The polarizer may be an absorption type polarizer having a property of absorbing linearly polarized light having an oscillation plane parallel to the absorption axis and transmitting linearly polarized light having an oscillation plane perpendicular to the absorption axis (parallel to the transmission axis).

편광자는, 편광자의 단부를 포함하는 영역에 있어서, 그 영역 이외의 영역에 있어서의 붕산의 농도보다 낮은 농도로 붕산을 함유하는 영역(이하, 편광자의 붕산 저함유 영역이라고도 함)을 갖고, 편광자의 단부를 포함하는 영역에 있어서 요오드 빠짐이 발생하고 있지 않은 편광자이다. 그 때문에, 본 발명의 편광자는, 히트 쇼크 시험에 있어서 크랙의 발생이 억제되고 단부에 있어서도 직선 편광능을 발휘할 수 있다.The polarizer has a region containing boric acid at a concentration lower than the concentration of boric acid in regions other than the region (hereinafter also referred to as a low boric acid content region of the polarizer) in the region including the end portion of the polarizer, It is a polarizer in which iodine loss|omission has not generate|occur|produced in the area|region including an edge part. Therefore, in the polarizer of this invention, generation|occurrence|production of a crack is suppressed in a heat shock test, and can exhibit linearly polarizing ability also in an edge part.

편광자는, 크랙이 억제되고, 편광자의 외관에 있어서 요오드 빠짐이 눈에 띄기 어려워지는 관점에서 바람직하게는 편광자의 붕산 저함유 영역에 있어서의 붕산의 농도가 편광판의 단부로부터 내측 방향에 있어서 단부로부터 멀어질수록 높아지고 있다.The polarizer preferably has a concentration of boric acid in the low boric acid content region of the polarizer in the inner direction from the end of the polarizing plate from the viewpoint of suppressing cracks and making iodine loss less conspicuous in the appearance of the polarizer. It is getting higher and higher.

편광자의 붕산 저함유 영역은, 예컨대 편광자의 평면시에 있어서의 단부로부터 내측 방향에 있어서 15 ㎛를 초과하는 영역에 형성되어 있어도 좋고, 크랙 억제의 관점에서 바람직하게는 15 ㎛ 초과 200 ㎛ 미만의 영역에 형성되어 있어도 좋으며, 보다 바람직하게는 20 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하의 영역에 형성되어 있어도 좋고, 더욱 바람직하게는 20 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만의 영역에 형성되어 있어도 좋으며, 특히 바람직하게는 20 ㎛ 이상 50 ㎛ 미만의 영역에 형성되어 있어도 좋다.The low boric acid content region of the polarizer may be formed, for example, in a region exceeding 15 µm in the inward direction from the end in a planar view of the polarizer, and preferably a region exceeding 15 µm and less than 200 µm from the viewpoint of crack suppression. may be formed in the region, more preferably in a region of 20 µm or more and 150 µm or less, still more preferably in a region of 20 µm or more and less than 100 µm, particularly preferably 20 µm or more and 50 µm or less. It may be formed in the area|region of less than micrometer.

편광자의 붕산 저함유 영역은, 편광자의 평면시에 있어서의 단부로부터 15 ㎛ 이하의 영역에 있어서도 형성되어 있어도 좋다.The boric acid low content area|region of a polarizer may be formed also in the area|region 15 micrometers or less from the edge part in planar view of a polarizer.

편광자의 붕산 저함유 영역은, 편광자의 평면시에 있어서의 단부로부터 15 ㎛ 이하의 전영역과, 편광자의 평면시에 있어서의 단부로부터 내측 방향에 있어서 15 ㎛ 초과 200 ㎛ 미만의 전영역에 연속적으로 형성되어 있어도 좋다. 바꿔 말하면, 편광자의 붕산 저함유 영역은, 편광자의 평면시에 있어서의 단부 및 단부로부터 200 ㎛ 미만 사이의 전영역에 걸쳐 형성되어도 좋다. 편광자의 붕산 저함유 영역이, 편광자의 평면시에 있어서의 단부 및 단부로부터 200 ㎛ 미만 사이의 전영역에 걸쳐 형성되는 경우, 편광자의 붕산 저함유 영역과 그 이외의 영역의 경계가 단부 및 단부로부터 200 ㎛ 미만 사이의 영역에 존재할 수 있다.The boric acid low content region of the polarizer is continuous to the entire region of 15 µm or less from the end in the planar view of the polarizer and the entire region exceeding 15 µm and less than 200 µm in the inward direction from the end in the planar view of the polarizer. may be formed. In other words, the boric acid low content area|region of a polarizer may be formed over the edge part in planar view of a polarizer, and the whole area between less than 200 micrometers from an edge part. When the boric acid low content region of the polarizer is formed over the entire region less than 200 µm from the end portion and the end portion in a planar view of the polarizer, the boundary between the boric acid low content region of the polarizer and other regions is from the end portion and the end portion It may be present in the region between less than 200 μm.

편광자의 붕산 저함유 영역은, 바람직하게는 편광자의 평면시에 있어서의 단부 및 단부로부터 100 ㎛ 이하 사이의 전영역에 걸쳐 형성되고, 보다 바람직하게는 편광자의 평면시에 있어서의 단부 및 단부로부터 50 ㎛ 이하 사이의 전영역에 걸쳐 형성되며, 더욱 바람직하게는 편광자의 평면시에 있어서의 단부 및 단부로부터 20 ㎛ 이하 사이의 전영역에 걸쳐 형성된다.The low boric acid content region of the polarizer is preferably formed over the entire region between the end and the end of the polarizer 100 µm or less in plan view, and more preferably 50 from the end and the end in the planar view of the polarizer. It is formed over the whole area between micrometers or less, More preferably, it forms over the edge part in the planar view of a polarizer, and the whole area between 20 micrometers or less from the edge part.

편광자의 단부는 붕산을 함유하고 있지 않아도 좋다.The edge part of a polarizer does not need to contain boric acid.

붕산 저함유 부위가 형성된 영역과 그 이외의 영역의 경계는, 전술한 편광판의 제조 방법에 있어서 서술한 방법에 의해 결정할 수 있다.The boundary between the area|region in which the boric-acid low content site|part was formed, and the area|region other than that can be determined by the method described in the manufacturing method of the above-mentioned polarizing plate.

편광자의 붕산 저함유 영역은, 편광자의 평면시에 있어서 하나의 연속된 영역이어도 좋고, 복수로 나누어진 영역이어도 좋다.One continuous area|region may be sufficient as the boric-acid low content area|region of a polarizer in planar view of a polarizer, and the area|region divided into plurality may be sufficient as it.

편광자의 붕산 저함유 영역은, 크랙 억제의 관점에서 바람직하게는 편광자의 외연부를 따라 형성된다. 붕산 저함유 영역은, 편광자의 외연부 전체를 따라 형성되어도 좋고, 편광자의 외연부의 일부를 따라 형성되어도 좋다.The low boric acid content region of the polarizer is preferably formed along the outer edge of the polarizer from the viewpoint of suppressing cracks. The boric acid low content region may be formed along the entire outer edge of the polarizer, or may be formed along a part of the outer edge of the polarizer.

편광자의 붕산 저함유 영역은, 구체적으로는, 단부로부터 500 ㎛ 이상 내측의 내측 영역에 있어서의 붕산의 농도보다 낮은 붕산의 농도일 수 있다. 내측 영역에 있어서, 붕산의 농도는 거의 똑같을 수 있다. 편광자는, 도 3에 도시된 바와 같이, 평면시에 있어서의 단부를 포함하는 영역에 있어서 붕산 저농도 부위(30)를 갖고, 단부로부터 500 ㎛ 이상 내측에 내측 영역(32)을 가질 수 있다. 내측 영역(32)은, 액정 표시 장치에 편입되었을 때에 화상을 표시하기 위한 영역을 포함할 수 있다. 붕산 저농도 부위(30)와 내측 영역(32) 사이의 중간 영역(31)에 있어서의 붕산 농도는, 통상, 내측 영역(32)과 거의 동일한 붕산 농도이다. 또한, 요오드 빠짐이 발생하고 있지 않은 편광자는, 구체적으로는, 상기 내측 영역에 있어서의 요오드의 농도보다 낮은 요오드의 농도인 요오드 저농도 부위가 형성되어 있지 않은 편광자이다. 요오드 저농도 부위의 유무는 후술하는 실시예의 난에 있어서 측정하는 방법에 의해 확인할 수 있다.Specifically, the boric acid low content region of the polarizer may have a boric acid concentration lower than the boric acid concentration in the inner region 500 µm or more inside from the end portion. In the inner region, the concentration of boric acid may be approximately the same. As shown in FIG. 3, the polarizer may have the boric-acid low concentration site|part 30 in the area|region including the edge part in planar view, and may have the inner side area|region 32 500 micrometers or more inside from the edge part. The inner region 32 may include a region for displaying an image when incorporated in a liquid crystal display device. The boric acid concentration in the intermediate|middle area|region 31 between the boric-acid low concentration site|part 30 and the inner side area|region 32 is a boric-acid concentration substantially the same as that of the inner side area|region 32 normally. In addition, the polarizer in which iodine loss|extraction has not generate|occur|produced is specifically, the polarizer in which the low iodine concentration site|part which is a density|concentration of iodine lower than the density|concentration of iodine in the said inner region is not formed. The presence or absence of the low iodine concentration site|part can be confirmed by the method of measuring in the column of the Example mentioned later.

편광자의 두께의 예시 및 바람직한 범위는, 전술한 편광판의 제조 방법에 대한 설명에 있어서의 예시 및 바람직한 범위가 적용된다.As for the illustration and preferable range of the thickness of a polarizer, the illustration and preferable range in description of the manufacturing method of the above-mentioned polarizing plate apply.

편광자는, 외연부에 이형부를 형성해도 좋다. 이형부는, 예컨대 편광자의 평면시에 있어서, 외연부에 형성된 오목 형상부나 내측 방향으로 볼록한 대략 V자 형상부, 및 면 내에 형성된 관통 구멍이어도 좋다. 편광자는, 외연부 및/또는 면 내에 2 이상의 이형부를 갖고 있어도 좋다. 면 내에 형성된 관통 구멍은, 전술한 카메라 홀 등이어도 좋다. 편광자는, 단부를 포함하는 영역에 있어서 요오드 빠짐이 발생하고 있지 않기 때문에, 화상 표시 장치에 있어서 시인측에 배치되는 편광판에 이용되는 경우에도, 요오드 빠짐이 눈에 띄기 어렵고, 디자인성의 저하가 발생하기 어렵다.The polarizer may provide a mold release part in the outer edge part. The deformable portion may be, for example, a concave portion formed on the outer edge portion, a substantially V-shaped portion convex in the inward direction, and a through hole formed in the plane in a planar view of the polarizer. The polarizer may have two or more deformable parts in an outer edge part and/or surface. The through hole formed in the surface may be the camera hole or the like described above. Since the polarizer does not cause iodine loss in the region including the edge portion, even when used for a polarizing plate disposed on the viewer side in an image display device, the iodine loss is difficult to be conspicuous and a decrease in design occurs. it's difficult.

편광자는, 예컨대 붕산과 요오드를 함유하는 일축 연신 폴리비닐알콜계 수지 필름에 가습 처리를 실시함으로써 제조할 수 있다. 가습 처리의 조건의 예시 및 바람직한 범위는, 전술한 편광판의 제조 방법에 있어서 설명한 가습 처리의 조건의 예시 및 바람직한 범위를 적용할 수 있다.The polarizer can be manufactured by, for example, subjecting a uniaxially stretched polyvinyl alcohol-based resin film containing boric acid and iodine to a humidifying treatment. The example and preferable range of the conditions of the humidification process demonstrated in the manufacturing method of the above-mentioned polarizing plate are applicable to the example and preferable range of the conditions of a humidification process.

<편광판><Polarizer>

본 발명의 또 다른 실시양태에 따른 편광판은, 전술한 편광자와, 편광자의 적어도 한쪽에 접합된 광학 필름을 갖는다. 광학 필름의 예시 및 바람직한 범위는, 전술한 편광판의 제조 방법에 있어서 설명한 예시 및 바람직한 범위가 적용된다.The polarizing plate which concerns on another embodiment of this invention has the above-mentioned polarizer and the optical film bonded by at least one side of the polarizer. As for the example and preferable range of an optical film, the example and preferable range demonstrated in the manufacturing method of the above-mentioned polarizing plate apply.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 실시형태에 따른 편광판(1)은, 적어도 한 쌍의 광학 필름(3, 4)과, 한 쌍의 광학 필름(3, 4) 사이에 위치하는 필름형의 편광자(2)를 구비한다. 이하에서는, 설명의 편의상, 편광자(2)와 한 쌍의 광학 필름(3, 4)으로 구성되는 편광판(1)이 주로 설명된다. 단 후술하는 바와 같이, 편광판이 구비하는 광학 필름의 수는 2장에 한정되지 않는다.As shown in FIG. 1 , the polarizing plate 1 according to the present embodiment is a film-type polarizer positioned between at least a pair of optical films 3 and 4 and a pair of optical films 3 and 4 . (2) is provided. Hereinafter, for convenience of description, the polarizing plate 1 composed of the polarizer 2 and a pair of optical films 3 and 4 is mainly described. However, the number of the optical films with which a polarizing plate is equipped is not limited to 2 sheets so that it may mention later.

광학 필름은, 편광판(1)을 구성하는 필름형의 부재(편광자(2) 자체를 제외한다.)를 의미한다. 예컨대, 광학 필름은, 보호 필름 및 이형 필름을 함의한다. 개개의 광학 필름은 단독으로 특정한 광학적 기능을 갖고 있지 않아도 좋다. 「필름」(광학 필름)은, 「층」(광학층)이라고 환언되어도 좋다. 한 쌍의 광학 필름(3, 4) 각각은 수지를 포함한다. 단, 광학 필름(3, 4) 각각의 조성은 한정되지 않는다. 한 쌍의 광학 필름(3, 4) 각각은 수지를 포함한다. 단, 광학 필름(3, 4) 각각의 조성은 한정되지 않는다.An optical film means the film-shaped member (polarizer 2 itself is excluded.) which comprises the polarizing plate 1. For example, an optical film implies a protective film and a release film. Each optical film alone may not have a specific optical function. "Film" (optical film) may be replaced with "layer" (optical layer) in other words. Each of the pair of optical films 3 and 4 contains a resin. However, the composition of each of the optical films 3 and 4 is not limited. Each of the pair of optical films 3 and 4 contains a resin. However, the composition of each of the optical films 3 and 4 is not limited.

편광자(2)는, 광학 필름(3, 4) 각각과 직접적 또는 간접적으로 겹쳐 있다. 예컨대, 편광자(2)와 광학 필름(3, 4) 사이에 다른 광학 필름이 있어도 좋다. 편광자(2)가 접착층을 통해 광학 필름(3, 4) 각각과 겹쳐 있어도 좋다.The polarizer 2 overlaps each of the optical films 3 and 4 directly or indirectly. For example, there may be another optical film between the polarizer 2 and the optical films 3 and 4 . The polarizer 2 may overlap each of the optical films 3 and 4 via an adhesive layer.

도 7은 본 실시형태에 따른 편광판(1)의 표면(수광면)을 도시한다. 도 7에 도시된 편광판(1)의 단면은, 편광판(1)의 표면(수광면)에 수직이고, 또한 오목부(13)의 내측에 위치하는 편광판(1)의 외주(1p)와 직교한다.7 shows the surface (light-receiving surface) of the polarizing plate 1 according to the present embodiment. The cross section of the polarizing plate 1 shown in FIG. 7 is perpendicular to the surface (light-receiving surface) of the polarizing plate 1 and is orthogonal to the outer periphery 1p of the polarizing plate 1 located inside the recess 13 .

도 7에 도시된 바와 같이, 오목부(13)가, 편광판(1)의 외주(1p)에 형성되어 있다. 즉, 편광판(1)의 외주(1p)에는 오목부(13)가 있다. 오목부(13)는, 함몰부, 절결(cutout) 또는 노치(notch)라고 환언되어도 좋다. 오목부(13)는, 편광판(1)의 표면(수광면)에 수직인 방향(Z축 방향)에 있어서 편광판(1)을 관통하고 있어도 좋다. 편광판(1)의 외주(1p)란, 편광판(1)의 수광면에 수직인 방향으로부터 보여지는 편광판(1)(수광면)의 외연 또는 윤곽이라고 환언되어도 좋다.As shown in FIG. 7 , a recess 13 is formed on the outer periphery 1p of the polarizing plate 1 . That is, there is a concave portion 13 on the outer periphery 1p of the polarizing plate 1 . The concave portion 13 may be referred to as a depression, a cutout or a notch in other words. The recessed part 13 may penetrate the polarizing plate 1 in the direction (Z-axis direction) perpendicular|vertical to the surface (light-receiving surface) of the polarizing plate 1 . The outer periphery 1p of the polarizing plate 1 may be in other words the outer edge or outline of the polarizing plate 1 (light-receiving surface) viewed from a direction perpendicular to the light-receiving surface of the polarizing plate 1 .

오목부(13)의 내측의 모퉁이(13c)가 곡면이어도 좋다. 즉, 오목부(13)의 내측의 모퉁이(13c)에 위치하는 편광판(1)의 단부면이 곡면이어도 좋다. 즉, 오목부의 내측의 모퉁이(13c)가 모따기(chamfer)되어 있어도 좋다. 오목부(13)의 내측의 모퉁이(13c)가 곡면임으로써, 오목부(13)의 내측의 모퉁이(13c)에 있어서의 균열이 억제되기 쉽다. 도 7에 도시된 바와 같이, 오목부(13)의 양단에 위치하는 모서리부, 및 편광판(1)의 4모퉁이에 위치하는 모서리부 각각도 모따기되어 있어도 좋다.The inner corner 13c of the concave portion 13 may be a curved surface. That is, the end surface of the polarizing plate 1 located in the inner corner 13c of the recessed part 13 may be a curved surface. That is, the corner 13c inside the recess may be chamfered. When the inner corner 13c of the concave portion 13 is a curved surface, cracks in the inner corner 13c of the concave portion 13 are easily suppressed. As shown in FIG. 7 , the corner portions located at both ends of the concave portion 13 and the corner portions located at the four corners of the polarizing plate 1 may also be chamfered.

오목부(13)의 폭(X축 방향에 있어서의 오목부(13)의 폭)은, 특별히 한정되지 않으나, 예컨대, 3 ㎜ 이상 160 ㎜ 이하여도 좋다. 오목부(13)의 깊이(Y축 방향에 있어서의 오목부(13)의 폭)는, 특별히 한정되지 않으나, 예컨대, 0.5 ㎜ 이상 160 ㎜ 이하여도 좋다. 오목부(13)가 형성되어 있는 편광판(1)의 변(짧은 변)의 길이는, 특별히 한정되지 않으나, 예컨대, 30 ㎜ 이상 90 ㎜ 이하여도 좋다. 오목부(13)가 형성되어 있지 않은 편광판(1)의 변(긴 변)의 길이는, 특별히 한정되지 않으나, 예컨대, 30 ㎜ 이상 170 ㎜ 이하여도 좋다.Although the width|variety of the recessed part 13 (the width|variety of the recessed part 13 in X-axis direction) is not specifically limited, For example, 3 mm or more and 160 mm or less may be sufficient. Although the depth of the recessed part 13 (the width|variety of the recessed part 13 in a Y-axis direction) is not specifically limited, For example, 0.5 mm or more and 160 mm or less may be sufficient. Although the length of the side (short side) of the polarizing plate 1 in which the recessed part 13 is formed is not specifically limited, For example, 30 mm or more and 90 mm or less may be sufficient. Although the length of the side (long side) of the polarizing plate 1 in which the recessed part 13 is not formed is not specifically limited, For example, 30 mm or more and 170 mm or less may be sufficient.

편광판(1) 전체의 두께는, 특별히 한정되지 않으나, 예컨대, 30 ㎛ 이상 300 ㎛ 이하여도 좋다.Although the thickness of the whole polarizing plate 1 is not specifically limited, For example, 30 micrometers or more and 300 micrometers or less may be sufficient.

도 7에 도시된 오목부(13)는 사각형 형상(직사각형 형상)이다. 단, 오목부(13)의 형상은 한정되지 않는다. 예컨대, 오목부(13)는 정사각형 형상이어도 좋다. 오목부(13)는, 사각형 및 삼각형 이외의 다른 다각형이어도 좋다. 예컨대 도 8 중의 (a)에 도시된 바와 같이, 오목부(13)의 형상은, 반원이어도 좋다. 도 8 중의 (b)에 도시된 바와 같이, 오목부(13)의 형상은, 삼각형이어도 좋다. 오목부(13) 전체가 곡선형이어도 좋다. 오목부(13)가 직선과 곡선으로 구성되어 있어도 좋다. 도 7, 도 8 중의 (a) 및 도 8 중의 (b)에 도시된 편광판(1)의 형상은 모두 대칭성을 갖고 있으나, 편광판(1)의 형상은 비대칭적이어도 좋다. 복수의 오목부(13)가 편광판(1)의 외주(1p)에 형성되어 있어도 좋다. 복수의 오목부(13)가, 편광판(1)의 외주(1p)를 구성하는 하나의 변에 형성되어도 좋다. 사각형 형상의 편광판(1)의 4개의 모서리부 중 적어도 하나의 모서리부가 절결됨으로써, 오목부(13)가 형성되어도 좋다.The concave portion 13 shown in Fig. 7 has a rectangular shape (rectangular shape). However, the shape of the recessed part 13 is not limited. For example, the concave portion 13 may have a square shape. The concave portion 13 may be a polygon other than a quadrangle and a triangle. For example, as shown in (a) in FIG. 8, the shape of the recessed part 13 may be a semicircle. As shown in (b) of FIG. 8, the shape of the recessed part 13 may be triangular. The entire concave portion 13 may be curved. The recessed part 13 may be comprised with a straight line and a curved line. Although the shape of the polarizing plate 1 shown to Fig.7, Fig.8 (a), and Fig.8 (b) all has symmetry, the shape of the polarizing plate 1 may be asymmetrical. A plurality of concave portions 13 may be formed in the outer periphery 1p of the polarizing plate 1 . The plurality of concave portions 13 may be formed on one side constituting the outer periphery 1p of the polarizing plate 1 . The concave portion 13 may be formed by cutting off at least one of the four corners of the rectangular polarizing plate 1 .

오목부(13)를 제외한 편광판(1)의 전체적인 형상은, 거의 사각형(직사각형)이다. 단, 편광판(1)의 형상은 한정되지 않는다. 예컨대, 편광판(1)의 형상은 정사각형이어도 좋다. 편광판(1)의 형상은, 사각형 이외의 다각형, 원형, 또는 타원형이어도 좋다. 편광자(2) 및 광학 필름(3, 4) 각각의 전체적인 형상은, 편광판(1)의 형상과 대략 동일해도 좋다. 도 6에 도시된 직사각형 형상의 편광판(1)의 경우, 오목부(13)는 편광판(1)의 짧은 변에 형성되어 있으나, 오목부(13)는 편광판(1)의 긴 변에 형성되어 있어도 좋다.The overall shape of the polarizing plate 1 excluding the concave portion 13 is substantially rectangular (rectangular). However, the shape of the polarizing plate 1 is not limited. For example, the shape of the polarizing plate 1 may be square. The shape of the polarizing plate 1 may be polygons other than a quadrangle, a circle, or an ellipse. The overall shape of each of the polarizer 2 and the optical films 3 and 4 may be substantially the same as the shape of the polarizing plate 1 . In the case of the rectangular polarizing plate 1 shown in FIG. 6 , the concave portion 13 is formed on the short side of the polarizing plate 1 , but the concave portion 13 is formed on the long side of the polarizing plate 1 . good.

도 9에 도시된 바와 같이, 편광판(1)은, 평면시에 있어서 면 내에 있어서 관통 구멍을 갖고 있어도 좋다. 관통 구멍의 직경은, 예컨대 0.5 ㎜ 이상 30 ㎜ 이하여도 좋고, 바람직하게는 1 ㎜ 이상 10 ㎜ 이하이다.As shown in FIG. 9, the polarizing plate 1 may have a through-hole in plane in planar view. The diameter of the through hole may be, for example, 0.5 mm or more and 30 mm or less, and preferably 1 mm or more and 10 mm or less.

(편광판의 다른 실시형태)(Another embodiment of a polarizing plate)

예컨대, 편광판은, 제1 광학 필름 및 제2 광학 필름을 포함하는 한 쌍의 광학 필름에 더하여, 수지를 포함하는 다른 광학 필름을 더 구비해도 좋다. 즉, 편광판은, 3장 이상의 광학 필름을 구비하고 있어도 좋다. 예컨대, 도 10에 도시된 바와 같이, 편광판이, 제1 광학 필름(3) 및 제2 광학 필름(4)과, 제1 광학 필름(3) 및 제2 광학 필름(4) 사이에 위치하는 편광자(2)와, 제1 광학 필름(3)에 겹치는 제3 광학 필름(15)을 구비해도 좋다. 제3 광학 필름(15)은, 전술한 접착층을 통해 제1 광학 필름(3)에 겹쳐져도 좋다. 제3 광학 필름(15)에 포함되는 수지는, 제1 광학 필름(3) 및 제2 광학 필름(4) 각각에 포함되는 수지로서 열거된 상기한 수지 중 적어도 어느 하나여도 좋다. 제3 광학 필름(15)의 조성은, 제1 광학 필름(3)의 조성과 동일해도 좋다. 제3 광학 필름(15)의 조성은, 제1 광학 필름(3)의 조성과 상이해도 좋다.For example, in addition to a pair of optical films containing a 1st optical film and a 2nd optical film, a polarizing plate may further be equipped with the other optical film containing resin. That is, the polarizing plate may be equipped with 3 or more optical films. For example, as shown in FIG. 10 , the polarizer is positioned between the first optical film 3 and the second optical film 4 , and the first optical film 3 and the second optical film 4 . (2) and the 3rd optical film 15 which overlaps with the 1st optical film 3 may be provided. The 3rd optical film 15 may be superimposed on the 1st optical film 3 via the adhesive layer mentioned above. The resin contained in the third optical film 15 may be at least any one of the above-described resins listed as the resin contained in each of the first optical film 3 and the second optical film 4 . The composition of the third optical film 15 may be the same as the composition of the first optical film 3 . The composition of the 3rd optical film 15 may differ from the composition of the 1st optical film 3 .

제3 광학 필름(15)의 조성은, 제2 광학 필름(4)의 조성과 동일해도 좋다. 제3 광학 필름(15)의 조성은, 제2 광학 필름(4)의 조성과 상이해도 좋다. 제3 광학 필름(15)의 두께는, 예컨대, 5 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하여도 좋다. 제3 광학 필름(15)은, 화상 표시 장치의 제조 과정에 있어서, 편광판으로부터 박리되어, 제거되어도 좋다. 즉, 제3 광학 필름(15)은, 임시의 광학 필름이어도 좋다.The composition of the 3rd optical film 15 may be the same as the composition of the 2nd optical film 4 . The composition of the 3rd optical film 15 may differ from the composition of the 2nd optical film 4 . The thickness of the 3rd optical film 15 may be 5 micrometers or more and 200 micrometers or less, for example. In the manufacturing process of an image display apparatus, the 3rd optical film 15 peels from a polarizing plate, and may be removed. That is, the 3rd optical film 15 may be a temporary optical film.

편광판은, 한 쌍의 광학 필름 중 한쪽에 겹치는 점착층과, 점착층에 겹치는 이형 필름을 더 구비해도 좋다. 예컨대, 도 10에 도시된 편광판은, 제2 광학 필름(4)에 겹치는 점착층과, 점착층에 겹치는 이형 필름을 더 구비해도 좋다. 점착층은, 예컨대, 아크릴계 감압형 접착제, 고무계 감압형 접착제, 실리콘계 감압형 접착제, 또는 우레탄계 감압형 접착제 등의 감압형 접착제를 포함해도 좋다. 점착층의 두께는, 예컨대, 2 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하여도 좋다. 이형 필름에 포함되는 수지는, 제1 광학 필름(3) 및 제2 광학 필름(4) 각각에 포함되는 수지로서 열거된 상기한 수지 중 적어도 어느 하나여도 좋다. 이형 필름의 조성은, 제1 광학 필름(3)의 조성과 동일해도 좋다. 이형 필름의 조성은, 제1 광학 필름(3)의 조성과 상이해도 좋다. 이형 필름의 조성은, 제2 광학 필름(4)의 조성과 동일해도 좋다. 이형 필름의 조성은, 제2 광학 필름(4)의 조성과 상이해도 좋다. 이형 필름의 두께는, 예컨대, 10 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하여도 좋다. 이형 필름은, 화상 표시 장치의 제조 과정에 있어서, 편광판으로부터 박리되어, 제거되어도 좋다. 이형 필름이, 점착층을 통해, 편광판의 양면에 배치되어 있어도 좋다.A polarizing plate may further be equipped with the adhesive layer which overlaps on one of a pair of optical films, and the release film which overlaps with the adhesion layer. For example, the polarizing plate shown in FIG. 10 may further be equipped with the adhesive layer which overlaps with the 2nd optical film 4, and the release film which overlaps with the adhesive layer. The pressure-sensitive adhesive layer may include, for example, a pressure-sensitive adhesive such as an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber pressure-sensitive adhesive, a silicone pressure-sensitive adhesive, or a urethane pressure-sensitive adhesive. The thickness of the adhesive layer may be, for example, 2 µm or more and 100 µm or less. The resin contained in the release film may be at least any one of the above-mentioned resins listed as the resin contained in each of the first optical film 3 and the second optical film 4 . The composition of the release film may be the same as the composition of the first optical film 3 . The composition of the release film may be different from the composition of the first optical film 3 . The composition of the release film may be the same as the composition of the second optical film 4 . The composition of the release film may be different from the composition of the second optical film 4 . The thickness of the release film may be, for example, 10 µm or more and 100 µm or less. A release film may peel from a polarizing plate and may be removed in the manufacturing process of an image display apparatus. A release film may be arrange|positioned on both surfaces of a polarizing plate through an adhesion layer.

편광판은, 광학 필름 또는 층으로서, 반사형 편광 필름, 방현 기능을 갖는 필름, 표면 반사 방지 기능을 갖는 필름, 반사 필름, 반투과 반사 필름, 시야각 보상 필름, 윈도우 필름, 대전 방지층, 하드 코트층, 광학 보상층, 터치 센서층, 및 방오층(防汚層)으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 더 구비해도 좋다.A polarizing plate, as an optical film or layer, a reflective polarizing film, a film having an anti-glare function, a film having a surface anti-reflection function, a reflective film, a transflective film, a viewing angle compensation film, a window film, an antistatic layer, a hard coat layer, You may further provide at least 1 sort(s) selected from the group which consists of an optical compensation layer, a touch sensor layer, and an antifouling|stain-resistant layer.

<화상 표시 장치><Image display device>

편광판은 화상 표시 장치에 이용할 수 있다. 화상 표시 장치로서는, 예컨대 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 등을 들 수 있다. 편광판은, 화상 표시 장치의 시인측에 배치되는 편광판에 이용되어도 좋고, 화상 표시 장치의 백라이트측에 배치되는 편광판에 이용되어도 좋으며, 시인측 및 백라이트측의 양방의 편광판에 이용되어도 좋다. 편광판은, 색 빠짐 개소가 눈에 띄기 어렵기 때문에, 화상 표시 장치의 시인측에 이용된 경우라도, 디자인성이 손상되기 어렵다. 그 때문에, 화상 표시 장치는, 카메라 홀을 갖는 화상 표시 장치, 예컨대 스마트폰이나 휴대 전화 등의 모바일 기기, 및 퍼스널 컴퓨터 등에 이용되는 화상 표시 장치로서 적합하다.A polarizing plate can be used for an image display apparatus. As an image display apparatus, a liquid crystal display device, organic electroluminescent display, etc. are mentioned, for example. A polarizing plate may be used for the polarizing plate arrange|positioned at the visual recognition side of an image display apparatus, may be used for the polarizing plate arrange|positioned at the backlight side of an image display apparatus, and may be used for both the polarizing plate of the visual recognition side and a backlight side. Since a color omission location is hard to conspicuously a polarizing plate, even if it is a case where it is used for the visual recognition side of an image display apparatus, designability is hard to be impaired. Therefore, the image display apparatus is suitable as an image display apparatus having a camera hole, for example, an image display apparatus used in mobile devices such as smartphones and mobile phones, personal computers, and the like.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부」는, 특별한 기재가 없는 한, 질량% 및 질량부이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples. In the examples, "%" and "parts" are mass % and parts by mass, unless otherwise specified.

[히트 쇼크 시험][Heat shock test]

실시예 및 비교예에서 얻어진 편광판을, 점착제층을 이용하여 코닝 유리에 접합하였다. 이 유리 접합 샘플을 냉열 충격 시험기에 넣어, 「-40℃의 조(槽)에서 30분간 유지한 후, 순식간에 85℃의 조로 옮겨 30분간 유지하는」 조작을 1사이클로 하여, 이것을 100사이클 반복하는 히트 쇼크 시험을 실시하였다. 광학 현미경을 이용하여, 크랙의 유무를 확인하였다.The polarizing plate obtained in the Example and the comparative example was bonded to Corning glass using the adhesive layer. Put this glass-bonded sample in a cold-heat shock tester, and repeat the operation 100 cycles of "holding in a -40 ℃ bath for 30 minutes, then immediately transferring it to an 85 ℃ bath and holding for 30 minutes" as one cycle A heat shock test was performed. The presence or absence of cracks was confirmed using an optical microscope.

[붕산 농도의 측정][Measurement of boric acid concentration]

비행 시간형 이차 이온 질량 분석법(TOF-SIMS)에 의해 붕산 이온(BO3 3-)의 농도의 분포를 구하였다. 도 11에 도시된 바와 같이, 편광판(110)의 광학 필름(5)(두께 52 ㎛)측에 접합한 프로텍트 필름을 박리하고, 광학 필름(9)(두께 21 ㎛)측의 점착제층 위에 접합한 세퍼레이트 필름을 박리하며, 오목 형상부의 코너를 포함하는 단부 영역 1개소를 100 ㎛ 폭으로 편광판의 내측을 향해 1 ㎜(1000 ㎛) 길이로 잘라내어, 측정 샘플(200)로 하였다. 측정 샘플(200)은, 광학 필름(201)(두께 52 ㎛), 접착층(202)(두께 1 ㎛), 편광자(203)(두께 8 ㎛), 접착층(204)(두께 1 ㎛), 광학 필름(205)(두께 21 ㎛), 점착제층(206)(두께 20 ㎛)을 이 순서로 가졌다. 이온 빔은, 측정 샘플(200)의 길이 방향(1000 ㎛) 측면에 있어서의 측정 영역(207)을 주사하면서 조사하여, 이 측면에 있어서의 붕산 이온의 시그널 강도의 2차원 분포를 얻고, 얻어진 2차원 분포로부터 편광자 측면에 상당하는 부분을 잘라내며, 측정 샘플(200)의 길이 방향에 대해 시그널 강도의 적산값을 플롯하여, 길이 방향에 대한 붕산 농도의 프로파일을 얻었다. 비행 시간형 이차 이온 질량 분석법(TOF-SIMS)의 조건을 하기에 나타낸다.The distribution of the concentration of borate ions (BO 3 3- ) was obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS). As shown in FIG. 11, the protective film bonded to the optical film 5 (thickness 52 µm) side of the polarizing plate 110 was peeled off, and the optical film 9 (thickness 21 µm) was bonded on the pressure-sensitive adhesive layer on the side. The separator film was peeled off, and one end region including the corner of the concave portion was cut out to a length of 1 mm (1000 µm) toward the inside of the polarizing plate with a width of 100 µm to obtain a measurement sample (200). The measurement sample 200 includes an optical film 201 (thickness 52 μm), an adhesive layer 202 (thickness 1 μm), a polarizer 203 (thickness 8 μm), an adhesive layer 204 (thickness 1 μm), and an optical film (205) (thickness of 21 micrometers), it had the adhesive layer 206 (thickness of 20 micrometers) in this order. The ion beam is irradiated while scanning the measurement region 207 in the longitudinal direction (1000 μm) side of the measurement sample 200 to obtain a two-dimensional distribution of the signal intensity of borate ions in this side surface, A portion corresponding to the side surface of the polarizer was cut out from the dimensional distribution, the integrated value of the signal intensity was plotted with respect to the longitudinal direction of the measurement sample 200, and a profile of the boric acid concentration with respect to the longitudinal direction was obtained. The conditions of the time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) are shown below.

또한 붕산 농도의 측정은 편광판 상태에서 행하였으나, 얻어진 붕산 농도는 편광자의 붕산 농도라고 간주할 수 있다.In addition, although the measurement of boric acid concentration was performed in the state of a polarizing plate, it can be considered that the obtained boric acid concentration is the boric acid concentration of a polarizer.

장치명: 제품명: PHI TRIFT V nano TOF(알박·파이 가부시키가이샤)Device name: Product name: PHI TRIFT V nano TOF (Ulbak Pi Co., Ltd.)

조사한 일차 이온: Au3 + Primary ion irradiated: Au 3 +

일차 이온 가속 전압: 30 ㎸Primary ion acceleration voltage: 30 kV

이온 빔의 공간 분해능: 1 ㎛×1 ㎛Spatial resolution of the ion beam: 1 μm × 1 μm

측정 영역의 면적: 200 ㎛×200 ㎛Area of measurement area: 200 μm×200 μm

얻어진 붕산 농도 프로파일로부터, 단부로부터의 거리가 30 ㎛ 이상 60 ㎛ 이하의 범위에 있어서의 붕산 이온 강도의 평균값을 구하고, 단부로부터, 붕산 이온 강도가 상기 평균값이 되는 위치까지를 붕산 저농도 부위로 하며, 편광판 단부로부터의 붕산 저농도 부위가 형성되어 있는 영역의 길이(붕산 저농도 부위의 길이)를 측정하였다.From the obtained boric acid concentration profile, the average value of the boric acid ion strength in the range of 30 µm or more and 60 µm or less from the end is obtained, and from the end to the position where the boric acid ion strength is the average value is defined as the low boric acid concentration site, The length (length of the low boric acid concentration site|part) of the area|region in which the boric-acid low concentration site|part from the edge part of a polarizing plate is formed was measured.

[요오드 빠짐][Iodine missing]

편광판의 염기 처리를 행한 부분에 대해 광학 현미경 투과광에 의해 관찰을 행하여, 광학 현미경상을 퍼스널 컴퓨터에 받아들이고, 이하와 같이, 편광판 단부로부터의 요오드 저농도 부위가 형성되어 있는 영역의 길이(요오드 저농도 부위의 길이)를 측정하였다.The base-treated portion of the polarizing plate was observed with transmitted light under an optical microscope, the optical microscope image was taken in a personal computer, and as follows, the length of the region where the low iodine concentration site is formed from the polarizing plate end (the length of the low iodine concentration site) length) was measured.

퍼스널 컴퓨터 상에 받아들인 광학 현미경 화상에 있어서, 육안으로는 요오드 저농도 부위는 밝게 보이고, 내측 영역은 어둡게 보인다. 광학 현미경 화상에 화상 처리를 실시하여, 요오드 저농도부의 밝기가 180∼220이 되고, 내측 영역의 밝기가 100∼140이 되도록, 256 계조의 흑백 화상(밝기 255가 백이고 0이 흑)으로 변환하고, 밝기가 180 이상이 되는 영역(백)을 요오드 저농도 부위로 하여 요오드 저농도 부위가 존재하는지 확인하였다.In the optical microscope image taken on the personal computer, the region with low iodine concentration appears bright and the inner region appears dark with the naked eye. Image processing is performed on the optical microscope image, so that the brightness of the low iodine concentration part becomes 180-220 and the brightness of the inner region becomes 100-140, so that it is converted into a black-and-white image of 256 gradations (brightness 255 is white and 0 is black), , the region (white) having a brightness of 180 or more was used as a low iodine concentration region, and it was confirmed whether a low iodine concentration region existed.

[두께 8 ㎛의 편광자][A polarizer with a thickness of 8 μm]

두께 20 ㎛의 폴리비닐알콜 필름(평균 중합도 약 2,400, 비누화도 99.9 몰% 이상)을, 건식 연신에 의해 약 4.9배로 일축 연신하고, 또한 긴장 상태를 유지한 채로, 60℃의 순수에 1분간 침지한 후, 요오드/요오드화칼륨/물의 중량비가 0.05/5/100인 수용액에 28℃에서 60초간 침지하였다. 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 중량비가 8.5/8.5/100인 수용액에 72℃에서 300초간 침지하였다. 계속해서 26℃의 순수로 20초간 세정한 후, 65℃에서 건조시켜, 폴리비닐알콜 필름에 요오드가 흡착 배향되어 있는 두께 8 ㎛의 편광자를 얻었다.A polyvinyl alcohol film with a thickness of 20 µm (average degree of polymerization of about 2,400, degree of saponification of 99.9 mol% or more) was uniaxially stretched to about 4.9 times by dry stretching, and immersed in pure water at 60°C for 1 minute while maintaining the tension state. After that, it was immersed in an aqueous solution having a weight ratio of iodine/potassium iodide/water of 0.05/5/100 at 28° C. for 60 seconds. Thereafter, it was immersed in an aqueous solution having a weight ratio of potassium iodide/boric acid/water of 8.5/8.5/100 at 72° C. for 300 seconds. Subsequently, after washing|cleaning for 20 second with 26 degreeC pure water, it dried at 65 degreeC, and obtained the 8-micrometer-thick polarizer in which the iodine adsorption orientation is carried out to the polyvinyl alcohol film.

[두께 12 ㎛의 편광자][Polarizer with a thickness of 12 μm]

두께 30 ㎛의 폴리비닐알콜 필름을 이용하고, 건식 연신에 의해 약 5.0배로 일축 연신하여, 두께 12 ㎛의 편광자를 얻은 것 이외에는, 두께 8 ㎛의 편광자와 동일하게 하여 두께 12 ㎛의 편광자를 얻었다.A polarizer having a thickness of 12 µm was obtained in the same manner as a polarizer having a thickness of 8 µm, except that a polyvinyl alcohol film having a thickness of 30 µm was used and uniaxially stretched to about 5.0 times by dry stretching to obtain a polarizer having a thickness of 12 µm.

[두께 28 ㎛의 편광자][A polarizer with a thickness of 28 μm]

두께 75 ㎛의 폴리비닐알콜 필름을 이용하고, 건식 연신에 의해 약 4배로 일축 연신하여, 두께 28 ㎛의 편광자를 얻은 것 이외에는, 두께 8 ㎛의 편광자와 동일하게 하여 두께 28 ㎛의 편광자를 얻었다.A polarizer having a thickness of 28 µm was obtained in the same manner as a polarizer having a thickness of 8 µm, except that a polyvinyl alcohol film having a thickness of 75 µm was used and uniaxially stretched to about 4 times by dry stretching to obtain a polarizer having a thickness of 28 µm.

[광학 필름][optical film]

COP: 두께 23 ㎛의 시클로올레핀계 수지 필름(닛폰 제온 가부시키가이샤 제조).COP: A 23-micrometer-thick cycloolefin resin film (made by Nippon Zeon Corporation).

TAC: 두께 20 ㎛의 트리아세틸셀룰로오스 필름(코니카 미놀타 가부시키가이샤 제조).TAC: Triacetyl cellulose film with a thickness of 20 µm (manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.).

[수계 접착제][Water-Based Adhesive]

물 100부에 대해, 카르복실기 변성 폴리비닐알콜(가부시키가이샤 쿠라레 제조의 KL-318) 3부를 용해하고, 그 수용액에, 수용성 에폭시 화합물인 폴리아미드에폭시계 첨가제(스미카 켐텍스 가부시키가이샤 제조의 스미레즈 레진(등록 상표) 650(30), 고형분 농도 30%의 수용액〕 1.5부를 첨가하여, 수계 접착제로 하였다.With respect to 100 parts of water, 3 parts of carboxyl group-modified polyvinyl alcohol (KL-318 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) is dissolved, and in the aqueous solution, a polyamide epoxy-based additive (Sumika Chemtex Co., Ltd.), which is a water-soluble epoxy compound, is dissolved. Sumirez Resin (registered trademark) 650 (30), an aqueous solution having a solid content concentration of 30%] was added to 1.5 parts to obtain a water-based adhesive.

[실시예 1][Example 1]

8 ㎛ 편광자의 양면에, 수계 접착제를 통해, 코로나 방전 처리를 실시한 광학 필름(COP 필름)을 접합하였다. 한쪽의 광학 필름의 편광자와는 반대측의 면에 점착제를 도포하여 점착제층을 형성하고, 그 위에 세퍼레이트 필름을 접합하였다. 이 세퍼레이트 필름은, 점착제층으로부터 박리 가능하였다. 점착제층을 형성한 광학 필름과는 다른 광학 필름의 편광자와는 반대측에 프로텍트 필름을 접합하였다. 이 프로텍트 필름은 광학 필름으로부터 박리 가능하였다. 이렇게 해서 얻어진 편광판을 가로세로 5.5 ㎝로 칩 커트하고, 펀칭날을 이용하여 직경 6 ㎜의 관통 구멍을 형성하는 이형 가공을 행하였다.An optical film (COP film) subjected to corona discharge treatment was bonded to both surfaces of an 8 µm polarizer through a water-based adhesive. An adhesive was apply|coated to the surface on the opposite side to the polarizer of one optical film, the adhesive layer was formed, and the separate film was bonded together on it. This separate film was peelable from the adhesive layer. The protection film was bonded together on the opposite side to the polarizer of the optical film other than the optical film in which the adhesive layer was formed. This protection film was peelable from an optical film. The polarizing plate obtained in this way was chip-cut to 5.5 cm in width and height, and the mold release process which forms the 6mm diameter through-hole using a punching blade was performed.

얻어진 편광판을, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 기상 중에 연속해서 2시간 유지하는 가습 처리를 행하였다. 이와 같이 하여 실시예 1의 편광판을 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 이 편광판에는, 요오드 빠짐에 따르는 광 누설이 발생하고 있지 않고, 요오드 저농도 부위의 단부로부터의 길이는 0 ㎛였다.The humidification process which hold|maintained the obtained polarizing plate continuously for 2 hours in the gaseous phase of the temperature of 85 degreeC and 85% of relative humidity was performed. In this way, the polarizing plate of Example 1 was obtained. A result is shown in Table 1. In addition, in this polarizing plate, light leakage accompanying iodine leakage did not generate|occur|produce, and the length from the edge part of the low iodine concentration site|part was 0 micrometers.

[실시예 2][Example 2]

가습 처리의 조건을 표 1에 나타내는 조건으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 2의 편광판을 제작하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 도 12에 편광판의 단부로부터의 거리에 대한 붕산 농도의 측정 결과를 도시한다. 또한, 도 13에 요오드 빠짐 관찰 결과를 도시한다.Except having changed the conditions of a humidification process into the conditions shown in Table 1, it carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing plate of Example 2. A result is shown in Table 1. Moreover, the measurement result of the boric acid concentration with respect to the distance from the edge part of a polarizing plate is shown in FIG. Moreover, the observation result of iodine loss is shown in FIG.

[실시예 3][Example 3]

가습 처리의 조건을 표 1에 나타내는 조건으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 3의 편광판을 제작하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.Except having changed the conditions of a humidification process into the conditions shown in Table 1, it carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing plate of Example 3. A result is shown in Table 1.

[비교예 1][Comparative Example 1]

가습 처리의 조건을 표 1에 나타내는 조건으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 1의 편광판을 제작하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.Except having changed the conditions of a humidification process into the conditions shown in Table 1, it carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing plate of Comparative Example 1. A result is shown in Table 1.

[비교예 2][Comparative Example 2]

가습 처리의 조건을 표 1에 나타내는 조건으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 2의 편광판을 제작하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.Except having changed the conditions of a humidification process into the conditions shown in Table 1, it carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing plate of the comparative example 2. A result is shown in Table 1.

[비교예 3][Comparative Example 3]

가습 처리를 행하는 대신에 온도 74℃의 온수 중에 16분간 침지한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 3의 편광판을 제작하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 요오드 빠짐 관찰 결과를 도 14에 도시한다. 이 편광판에는, 요오드 빠짐에 따르는 요오드 저농도 부위가 발생하고 있고, 그 길이는 약 250 ㎛였다.A polarizing plate of Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that it was immersed in hot water at a temperature of 74°C for 16 minutes instead of performing the humidification treatment. A result is shown in Table 1. The observation result of iodine depletion is shown in FIG. In this polarizing plate, the low iodine concentration site|part due to iodine loss|extraction generate|occur|produced, and the length was about 250 micrometers.

Figure pct00001
Figure pct00001

[실시예 4][Example 4]

12 ㎛ 편광자의 한쪽 면에, 수계 접착제를 통해, 코로나 방전 처리를 실시한 광학 필름 COP를 접합하고, 다른쪽 면에, 수계 접착제를 통해, 코로나 방전 처리를 실시한 광학 필름 TAC를 접합하여, 편광판을 제작하였다. 얻어진 편광판을 가로세로 5.5 ㎝로 칩 커트하고, 직경 6 ㎜의 관통 구멍을 형성하는 이형 가공을 행하였다.An optical film COP subjected to corona discharge treatment is bonded to one side of a 12 μm polarizer through a water-based adhesive, and an optical film TAC subjected to corona discharge treatment is bonded to the other side through a water-based adhesive to produce a polarizing plate did The obtained polarizing plate was chip-cut to 5.5 cm in width and height, and the mold release process which forms a 6-mm diameter through hole was performed.

얻어진 편광판을, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 기상 중에 2시간 유지하는 가습 처리를 행하였다. 이와 같이 하여 실시예 4의 편광판을 얻었다. 결과를 표 2에 나타낸다.The humidification process which hold|maintained the obtained polarizing plate in the gaseous phase of 85 degreeC of temperature and 85% of relative humidity for 2 hours was performed. In this way, the polarizing plate of Example 4 was obtained. A result is shown in Table 2.

[실시예 5][Example 5]

가습 처리의 조건을 표 2에 나타내는 조건으로 변경한 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하여 실시예 5의 편광판을 제작하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.Except having changed the conditions of a humidification process into the conditions shown in Table 2, it carried out similarly to Example 4, and produced the polarizing plate of Example 5. A result is shown in Table 2.

[비교예 4][Comparative Example 4]

가습 처리의 조건을 표 2에 나타내는 조건으로 변경한 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하여 비교예 4의 편광판을 제작하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.Except having changed the conditions of a humidification process into the conditions shown in Table 2, it carried out similarly to Example 4, and produced the polarizing plate of the comparative example 4. A result is shown in Table 2.

[비교예 5][Comparative Example 5]

가습 처리의 조건을 표 2에 나타내는 조건으로 변경한 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하여 비교예 5의 편광판을 제작하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.Except having changed the conditions of a humidification process into the conditions shown in Table 2, it carried out similarly to Example 4, and produced the polarizing plate of the comparative example 5. A result is shown in Table 2.

[비교예 6][Comparative Example 6]

가습 처리의 조건을 표 2에 나타내는 조건으로 변경한 것 이외에는 실시예 4와 동일하게 하여 비교예 6의 편광판을 제작하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.Except having changed the conditions of a humidification process into the conditions shown in Table 2, it carried out similarly to Example 4, and produced the polarizing plate of the comparative example 6. A result is shown in Table 2.

Figure pct00002
Figure pct00002

[비교예 7][Comparative Example 7]

28 ㎛ 편광자의 한쪽 면에, 수계 접착제를 통해, 코로나 방전 처리를 실시한 광학 필름 COP를 접합하고, 다른쪽 면에, 수계 접착제를 통해, 코로나 방전 처리를 실시한 광학 필름 TAC를 접합하여, 편광판을 제작하였다. 얻어진 편광판을 가로세로 5.5 ㎝로 칩 커트하고, 직경 6 ㎜의 관통 구멍을 형성하는 이형 가공을 행하였다.The optical film COP subjected to corona discharge treatment is bonded to one side of a 28 μm polarizer through a water-based adhesive, and the optical film TAC subjected to corona discharge treatment is bonded to the other side through a water-based adhesive to produce a polarizing plate. did The obtained polarizing plate was chip-cut to 5.5 cm in width and height, and the mold release process which forms a 6-mm diameter through hole was performed.

얻어진 편광판을, 온도 85℃ 및 상대 습도 85%의 기상 중에 2시간 유지하는 가습 처리를 행하였다. 이와 같이 하여 비교예 7의 편광판을 얻었다. 결과를 실시예 1 및 실시예 2의 결과와 함께 표 3에 나타낸다.The humidification process which hold|maintained the obtained polarizing plate in the gaseous phase of 85 degreeC of temperature and 85% of relative humidity for 2 hours was performed. In this way, the polarizing plate of Comparative Example 7 was obtained. The results are shown in Table 3 together with the results of Examples 1 and 2.

[비교예 8][Comparative Example 8]

가습 처리의 조건을 표 3에 나타내는 조건으로 변경한 것 이외에는 비교예 7과 동일하게 하여 비교예 8의 편광판을 제작하였다. 결과를 실시예 1 및 실시예 2의 결과와 함께 표 3에 나타낸다.Except having changed the conditions of a humidification process into the conditions shown in Table 3, it carried out similarly to the comparative example 7, and produced the polarizing plate of the comparative example 8. The results are shown in Table 3 together with the results of Examples 1 and 2.

Figure pct00003
Figure pct00003

1: 편광판 2, 7: 편광자
3, 5: 제1 광학 필름 4, 9: 제2 광학 필름
10: 제1 적층체 13: 오목부
14: 관통 구멍 15: 제3 광학 필름
20: 화상 표시 장치 21: 편광판
22: 카메라 홀 23: 액정 패널
24: 커버 유리 25: 점착제층
26: 편광판 27: 카메라
28: 차광 테이프 30: 붕산 저농도 부위
31: 중간 영역 32: 내측 영역
50: 엔드 밀 50e: 날(에지)
100: 제2 적층체 110: 편광판
200: 측정 샘플 201, 205: 광학 필름
202, 204: 접착층 203: 편광자
206: 점착제층 207: 측정 영역
α: 비틀림각 β: 절삭 각도
1: Polarizer 2, 7: Polarizer
3, 5: First optical film 4, 9: Second optical film
10: 1st laminated body 13: recessed part
14: through hole 15: third optical film
20: image display device 21: polarizing plate
22: camera hall 23: liquid crystal panel
24 cover glass 25 pressure-sensitive adhesive layer
26: polarizer 27: camera
28: light-shielding tape 30: boric acid low concentration area
31: middle region 32: inner region
50: end mill 50e: blade (edge)
100: second laminate 110: polarizing plate
200: measurement samples 201, 205: optical film
202, 204: adhesive layer 203: polarizer
206: pressure-sensitive adhesive layer 207: measurement area
α: twist angle β: cutting angle

Claims (10)

편광판의 제조 방법으로서,
두께 15 ㎛ 이하의 편광자의 적어도 한쪽에 광학 필름을 접합하여 제1 적층체를 제작하는 제1 적층 공정과,
제1 적층체를, 온도 35℃ 이상에 있어서 상대 습도 75% RH 이상의 기상 중에 유지하는 가습 처리 공정
을 포함하는 편광판의 제조 방법.
As a manufacturing method of a polarizing plate,
A first lamination step of bonding an optical film to at least one side of a polarizer having a thickness of 15 μm or less to produce a first laminate;
The humidification treatment process of holding a 1st laminated body in the gaseous phase of 75% RH or more of relative humidity in the temperature of 35 degreeC or more.
A method of manufacturing a polarizing plate comprising a.
제1항에 있어서, 상기 제1 적층체를 성형 가공하는 성형 공정을 상기 가습 처리 공정 전에 더 포함하는 편광판의 제조 방법.The method for manufacturing a polarizing plate according to claim 1, further comprising a molding process of molding the first laminate before the humidifying process. 제2항에 있어서, 상기 성형 공정에 있어서, 상기 제1 적층체에 이형부(異形部)를 형성하는 편광판의 제조 방법.The manufacturing method of the polarizing plate of Claim 2 which forms a mold part in the said 1st laminated body in the said shaping|molding process. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 제1 적층체를 절삭 가공하는 절삭 공정을 상기 가습 처리 공정 전에 더 포함하는 편광판의 제조 방법.The manufacturing method of the polarizing plate of Claim 2 or 3 further comprising the cutting process of cutting the said 1st laminated body before the said humidification process. 제4항에 있어서, 상기 절삭 공정에 있어서, 상기 제1 적층체의 평면시(平面視)에 있어서, 광학 필름의 단부의 위치와 편광자의 단부의 위치가 동일해지도록 상기 제1 적층체를 절삭 가공하는 편광판의 제조 방법.The said 1st laminated body is cut in the said cutting process so that the position of the edge part of an optical film and the position of the edge part of a polarizer may become the same in the plan view of the said 1st laminated body. A method for manufacturing a polarizing plate to be processed. 붕산과 요오드를 함유하는 수지 필름을 포함하고, 두께가 15 ㎛ 이하인 편광자로서,
상기 편광자의 단부를 포함하는 영역에 있어서, 이 영역 이외의 영역에 있어서의 붕산의 농도보다 낮은 농도로 붕산을 함유하는 영역을 갖고,
상기 편광자의 단부를 포함하는 영역에 있어서 요오드 빠짐이 발생하고 있지 않은 편광자.
A polarizer comprising a resin film containing boric acid and iodine and having a thickness of 15 µm or less,
In the region including the end portion of the polarizer, it has a region containing boric acid at a concentration lower than the concentration of boric acid in regions other than this region;
A polarizer in which iodine loss has not occurred in the region including the edge portion of the polarizer.
제6항에 기재된 편광자와, 상기 편광자의 적어도 한쪽에 접합된 광학 필름을 갖는 편광판.The polarizing plate which has the polarizer of Claim 6, and the optical film bonded by at least one of the said polarizer. 제7항에 있어서, 상기 편광판의 평면시에 있어서의 단부에 있어서, 상기 편광자의 단부의 위치와 상기 광학 필름의 단부의 위치가 동일한 편광판.The polarizing plate according to claim 7, wherein the position of the end of the polarizer and the position of the end of the optical film are the same at the end of the polarizing plate in a planar view. 제8항에 기재된 편광판을 구비한 화상 표시 장치.The image display apparatus provided with the polarizing plate of Claim 8. 제9항에 있어서, 카메라 홀을 갖는 화상 표시 장치.The image display device according to claim 9, having a camera hole.
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