KR20220050223A - 점적 적용을 위한 훈증제 제형 - Google Patents

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아르끄마 프랑스
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Abstract

본 발명은 토양 훈증 분야, 및 더욱 특히 0.10 중량% 내지 0.4 중량%의 훈증제를 포함하고 점적 투입에 특히 적합한 훈증제 제형, 및 또한 이의 용도에 관한 것이다. 본 발명은 또한 점적 투입되는 이러한 제형을 사용하는 토양 및/또는 기질의 훈증에 의한 살충제 처리 방법에 관한 것이다.

Description

점적 적용을 위한 훈증제 제형
본 발명은 토양 및/또는 기질(substrate) 훈증 분야, 및 더욱 특히 점적 투입에 적합한 훈증제 제형, 및 또한 이의 용도에 관한 것이다. 본 발명은 또한 점적 투입되는 이러한 제형을 사용하는 토양 및/또는 기질의 훈증에 의한 살충제 처리 방법에 관한 것이다.
훈증제는 식물을 파괴하고/하거나 이에 해로운 유기체, 예컨대, 선충류, 진균, 곤충, 잡초 등을 억제하거나 사멸시키는 널리 공지된 화학물질이다. 훈증제는 대부분 흔히 휘발성 액체, 고체 또는 기체의 형태를 취한다. 훈증제는 이들이 투입된 후 기체 형태로 처리하고자 하는 토양 및/또는 기질 내에서 확산되는 성질을 지닌다.
토양 훈증 기술은 현재 다양한 상황(농업, 수목재배, 원예, 시장 원예) 및 광범위한 작물을 위해 사용되고 있다. 더욱 특히, 훈증은 논의되는 주요 작물만이 언급되지만, 예를 들어, 토마토, 딸기, 멜론, 오이 및 피망 작물과 같은 고-부가-가치 식물 작물뿐만 아니라, 감자, 당근, 덩굴, 과수 및 절화 작물에도 사용된다.
최대 효능을 보장하기 위해, 훈증제는 일반적으로 토양 상에 침착되거나 그 밖에 주입에 의해 토양에 도입된다. 현재 훈증제를 투입하기 위해 일반적으로 사용되는 두 가지 기술, 즉,
- 토양에 수 센티미터에서 수십 센티미터 깊이까지 주입하도록 생크 사용; 및
- 시스템을 토양에 놓거나 묻힌 상태에서 점적식이 있다.
점적 훈증의 주요 이점은 훈증제의 투입 벡터(용매)가 물이라는 점을 고려할 때, 구현의 용이성, 사용의 유연성 및 독성의 감소이다.
공지된 훈증제들 중에서, 디메틸 디설파이드(DMDS로도 불림)는 출원 WO 02/074083에 살선충, 살진균, 살곤충 및 살균 성질을 갖는 광범위 훈증제로서 기재되어 있다. 이는 단독으로 또는 다른 훈증제와 조합 적용으로 사용될 수 있다.
그러나, 사용되는 훈증제, 및 특히 DMDS는 때때로 물에 잘 용해되지 않는다. 따라서, 점적 투입은 처리하고자 하는 플롯 상에서 훈증제의 투입에 문제를 일으킬 수 있다. 이의 낮은 용해도 때문에, 훈증제는 고르게 분포되지 않고, 일부 영역에 축적될 수 있고, 반면에 다른 영역에는 충분히 처리되지 않을 것이다. 따라서, 땅의 습도, 대기 조건 및 수행될 수 있는 상보적 스프링클링 조건에 좌우하여, DMDS를 비롯한 훈증제는 토양 또는 기질의 특정 영역에서 더 많거나 더 적은 축적에 주어질 수 있으므로, 작물, 편재적 과다투입 또는 과소투입의 위험을 초래할 수 있다.
또한, 훈증제는 적수기를 막히게 하고, 단독으로 사용되는 경우 적수기 관에 악영향을 미칠 수 있으므로, 사용된 장비와 마찬가지로 훈증제의 효능 수준만큼 많게 문제를 일으킬 수 있다. 실제로, 특정 훈증제, 특히 DMDS는 대부분의 플라스틱과 상용성이 아니다.
따라서, 처리하고자 하는 토양 및/또는 기질에 걸쳐 사용되는 훈증제의 균일한 확산을 보장하면서 효과적인 살충제 처리를 허용하는 훈증제 제형이 필요하다.
마찬가지로, 충분한 가용화를 허용하고 점적 투입에 적합한 안정한 훈증제 제형이 필요하다.
따라서, 본 발명의 목적 중 하나는 점적 투입에 적합한 훈증제 제형을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 특히 에멀젼의 형태로 안정한 훈증제 제형을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 사용 용이성이 향상된, 효과적이고, 처리하고자 하는 토양 및/또는 기질에 걸쳐 훈증제의 균일한 분포를 가능하게 하는 점적 훈증에 의한 살충제 처리 방법을 제공하는 것이다.
따라서, 본 발명은 제형 F로서, 물 및 제형 F에서 물의 총 부피에 대해 0.10 부피% 내지 0.40 부피%의 조성물 C를 포함하고, 상기 조성물 C가
- 조성물 C의 총 중량에 대해 적어도 80 중량%, 바람직하게는 적어도 90 중량%의 적어도 하나의 훈증제 화합물;
- 조성물 C의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 1 중량% 내지 10 중량%의 적어도 하나의 계면활성제; 및
- 임의로, 악취 차폐제, 예를 들어, 조성물 C의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 0.5 중량%의 악취 차폐제를 포함하는, 제형 F에 관한 것이다.
본 발명에 따른 제형 F는 바람직하게는 에멀젼이고, 더욱 바람직하게는 마이크로에멀젼이다. 예를 들어, 에멀젼의 입자는 0.1 μm 이하의 크기를 갖는다.
상기 제형 F는 제형 F 중 물의 총 부피에 대해 특히 0.10 부피% 내지 0.30 부피%, 바람직하게는 0.15 부피% 내지 0.25 부피%의 상기 조성물 C를 포함할 수 있다. 상기 제형 F는 제형 F 중 물의 총 부피에 대해 0.15 부피% 내지 0.40 부피%의 상기 조성물 C를 포함할 수 있다.
따라서, 본 발명은 물 및 조성물 C를 포함하는 제형 F로서, 상기 조성물 C가
- 조성물 C의 총 중량에 대해 적어도 80 중량%, 바람직하게는 적어도 90 중량%의 적어도 하나의 훈증제 화합물;
- 조성물 C의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 1 중량% 내지 10 중량%의 적어도 하나의 계면활성제; 및
- 임의로, 악취 차폐제를 포함하고,
제형 F는 [조성물 C]/[물] 부피비가 0.10/100 내지 0.40/100(즉, 0.0010 내지 0.004), 바람직하게는 0.10/100 내지 0.30/100(즉, 0.0010 내지 0.003), 및 더욱 바람직하게는 0.15/100 내지 0.25/100(즉, 0.0015 내지 0.0025)임을 특징으로 하는, 제형 F에 관한 것이다.
이러한 종류의 제형을 제조하기 위해, 특히 에멀젼화 가능한 훈증제 농축물을 사용하는 것이 가능하다. 한 가지 특히 바람직한 구현예에 따르면, 에멀젼화 가능한 농축물은 상기 정의된 바와 같은 조성물 C에 상응한다. 이는 매우 바람직하게는 명칭 Paladin® EC, Accolade® EC 및 Atomal® 13 하에 Arkema에 의해 시판되는 디메틸 디설파이드 조성물에 상응할 수 있다. 일 구현예에 따르면, 상기 조성물 C는 물을 포함하지 않는다. 상기 조성물 C는 조성물 C의 총 중량에 대해 적어도 엄격히 90 중량% 초과의 양의, 바람직하게는 엄격히 90 중량% 초과 내지 95 중량%를 포함하는 적어도 하나의 훈증제, 바람직하게는 DMDS를 포함할 수 있다.
조성물 C는 바람직하게는
- 조성물 C의 총 중량에 대해 적어도 90 중량%, 예를 들어, 90 중량% 내지 95 중량%의 디메틸 디설파이드;
- 조성물 C의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%의 적어도 하나의 계면활성제; 및
- 임의로, 조성물 C의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 0.5 중량%의 악취 차폐제를 포함한다.
조성물 C는 특히
- 조성물 C의 총 중량에 대해 적어도 90 중량%의 훈증제, 예를 들어, 디메틸 디설파이드;
- 조성물 C의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게는 1 중량% 내지 6 중량%의 적어도 하나의 (C10-C13)알킬-벤젠 설포네이트; 및
- 임의로, 조성물 C의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 0.5 중량%의 악취 차폐제를 포함하거나, 심지어 이로 이루어진다.
본 발명에 따른 제형 F 및 조성물 C는 당업자에게 널리 공지된 기술에 의해 제조될 수 있다. 예를 들어, 하기 방법이 이용될 수 있다:
- 임의로 교반 및 가열과 함께 조성물 C를 이의 성분의 간단한 혼합에 의해 제조(성분들이 첨가되는 순서가 조성물 C에 영향을 미치지 않음); 이후
- 임의로 교반과 함께 생성된 조성물 C에 물을 첨가하여 제형 F 제조.
제형 F는 또한 즉시 사용 가능한 형태일 수 있다.
본 발명자들은 점적 투입이 의도될 때, 훈증제 효능과 처리하고자 하는 토양 및/또는 기질에서의 균일한 분포 사이의 최상의 균형은 안정한 에멀젼이 수득되게 하는 특정 제형을 사용하는 것임을 발견하였다.
살충제 처리는 특히 식물 병원성 유기체와 관련하여 살선충, 살진균, 살곤충, 제초 및 살균 효과로부터 선택된 적어도 하나의 효과를 갖는 처리를 의미한다.
기질은 특히 퇴비, 이탄, 암면, 또는 식물, 및 특히 지상 작물의 성장에 흔히 사용되는 다른 기질을 의미한다.
훈증제 화합물
훈증제 화합물은 공지되어 있고, 문헌에 널리 기술되어 있다. 특히, 훈증제는 토양 및/또는 기질 소독에 실제로 사용될 수 있도록 하기 세 가지 조건들을 충족해야 한다:
- 이들은 전반적인 살충 성질(특히, 살선충성, 살진균성, 제초성, 살곤충성 및 살균성으로부터 선택된 적어도 하나의 성질)을 가짐;
- 이들은 처리하고자 하는 토양 및/또는 기질의 두께 전체에 걸쳐 기체 형태로 신속하게 확산될 수 있음; 및
- 이들은 존재하는 식물병원성 유기체를 사멸시키기에 충분한 기체 농도를 야기함.
훈증제는 특히,
1,3-디클로로프로펜, 설푸릴 플루오라이드(SO2F2), 포스핀, 메틸 아이오다이드, 클로로피크린(Cl3C-NO2), 메탐-소듐(CH3-NHCS2Na), 소듐 테트라티오카르보네이트(Na2CS4), MITC(CH3-NCS), 다조메트(MITC를 생성함), AITC(알릴 이소티오시아네이트), EDN(에탄디니트릴), 및 DMDS를 비롯한 하기 화학식 (1)의 화합물을 포함한다.
국제 출원 WO 2002/074083에는 특히 황 화합물을 기반으로 한 훈증제, 및 특히 하기 일반식 (1)에 따른 화합물이 기재되어 있다:
R-S(O)n-Sx-R' (1)
상기 식에서, R은 1 내지 4 개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼, 및 2 내지 4 개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알케닐 라디칼로부터 선택되고; n은 0, 1 또는 2이고; x는 0, 1, 2, 3 또는 4로부터 선택된 정수이고, 여기서 x는 바람직하게는 1, 2, 3 또는 4를 나타내고; R'는 1 내지 4 개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼 및 2 내지 4 개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알케닐 라디칼, 또는 n = x =0인 경우에만, 수소 또는 알칼리 금속 원자로부터 선택된다. 라디칼 R 및 R'의 비-제한적 예는 메틸, 프로필, 알릴 및 1-프로페닐 라디칼을 포함한다.
바람직하게는, n = 0이고, 따라서 화합물은 하기 화학식 (1')에 따른다:
R-S-Sx-R' (1')
상기 식에서, 동일하거나 상이한, 바람직하게는 동일한 R 및 R'는 바람직하게는, 각각 서로 독립적으로, 선형 또는 분지형 알킬 또는 알케닐, 바람직하게는 알킬, 1 내지 4 개의 탄소 원자를 함유하는 라디칼을 나타내고, x는 1, 2, 3 또는 4를 나타낸다.
본 발명에 따른 한 가지 특히 바람직한 화합물은 디메틸 디설파이드(DMDS)이다.
본 발명의 한 가지 변형예에 따르면, 둘 이상의 훈증제는 혼합물로서 또는 대안적으로 또는 성공적으로는 개별적으로 사용될 수 있다. 따라서, 둘 이상의 훈증제가 적용되는 경우, 이들은
- 제형 F에 함께 존재하거나;
- 대안적으로 또는 성공적으로, 훈증제 중 적어도 하나는 제형 F의 형태일 수 있는 훈증제 중 적어도 하나에 적용될 수 있다. 따라서, 제형 F는 다른 훈증제와 조합하여 또는 보완적으로 본 발명에 따라 사용될 수 있다.
특히, 상기 지시된 바와 같이, 예를 들어, 보완적 또는 상승작용적 성질을 갖는 하기로부터 선택된 둘 이상의 훈증제를 사용하는 것이 가능하다:
1,3-디클로로프로펜, 설푸릴 플루오라이드(SO2F2), 포스핀, 메틸 아이오다이드, 클로로피크린(Cl3C-NO2), 메탐-소듐(CH3-NHCS2Na), 소듐 테트라티오카르보네이트(Na2CS4), MITC(CH3-NCS), 다조메트(MITC를 생성함), AITC(알릴 이소티오시아네이트), EDN(에탄디니트릴), 및 화학식 (1)의 화합물, 및 특히 디알킬 디설파이트, 예를 들어, DMDS.
더욱 바람직하게는, 본 발명에 따른 제형 F는 하기로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 다른 훈증제 및 DMDS를 포함한다:
1,3-디클로로프로펜, 설푸릴 플루오라이드(SO2F2), 포스핀, 메틸 아이오다이드, 클로로피크린(Cl3C-NO2), 메탐-소듐(CH3-NHCS2Na), 소듐 테트라티오카르보네이트(Na2CS4), MITC(CH3-NCS), 다조메트(MITC를 생성함), AITC(알릴 이소티오시아네이트) 및 EDN(에탄디니트릴).
더욱 바람직하게는, DMDS는 1,3-디클로로프로펜, 클로로피크린(Cl3C-NO2), 메탐-소듐(CH3-NHCS2Na), AITC(알릴 이소티오시아네이트) 또는 EDN(에탄디니트릴)과 조합될 수 있고; 예를 들어, DMDS는 EDN과 조합될 수 있다. 바람직하게는, DMDS는 클로로피크린과 조합될 수 있다.
통상적인 살충제(즉, 비-훈증제 살충제)를 본 발명에 따른 제형 F와 교대로 사용하거나 보완적으로 사용하는 것은 본 발명의 범위를 벗어나지 않을 것이다.
본 발명에 따른 훈증제, 및 특히 DMDS는 또한, 예를 들어, 출원 PCT/US2019/016448에 기재된 종류의 새로운 살충제 또는 살생물제와 교대로 또는 보완적으로 사용될 수 있다.
특히, 소듐 하이포클로레이트, 하이드로젠 퍼옥사이드(H2O2), 또는 퍼옥사이드 공급원, 예컨대, 퍼아세트산, 소듐 퍼옥사이드, 포타슘 옥사이드, 포타슘 퍼옥사이드, 칼슘 퍼옥사이드, 마그네슘 퍼옥사이드, 우레아 퍼옥사이드, 유기 하이드로퍼옥사이드(RaOOH), 유기 퍼옥사이드(RaOORa), 및 수퍼옥사이드(여기서, Ra는 1 내지 12 개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬, 알케닐 또는 알키닐이거나, 바람직하게는 6 개의 탄소 원자를 갖는 방향족 고리임), 또는 방향족 고리들의 조합, 또는 반응성 산소를 생성시킬 수 있는 기타 화합물을 사용하는 것이 가능하다.
이러한 종류의 대안적 또는 보완적 처리는 본 발명에 따른 제형 F의 적용 전 또는 후에, 바람직하게는 후처리로서 수행될 수 있다.
본 발명의 맥락에서, 유일한 훈증제로서 DMDS를 포함하는 제형 F가 매우 특히 바람직하다.
계면활성제
본 발명에 따른 제형 F는 훈증제 화합물(들)에 적어도 하나의 계면활성제를 첨가한 후, 얻어진 혼합물을 특정량의 물과 혼합하여 에멀젼, 바람직하게는 마이크로에멀젼을 제공함으로써 수득될 수 있다. 매우 바람직하게는, 본 발명에 따른 제형 F는 수성 에멀젼(용매로서 물을 갖는)이다.
이들 에멀젼 또는 마이크로에멸젼의 제조에 특히 적합한 것은 주로 친수성 계면활성제, 즉, 8 이상의 HLB(친수성 친유성 균형)을 갖는 것들이고, 이는 음이온성, 양이온성, 비이온성 또는 양쪽성 성질일 수 있다.
음이온성 계면활성제의 비-제한적 예는
- 알킬-, 아릴- 또는 알킬아릴-설폰산, 염기성 pH의 지방산, 설포석신산 또는 설포석신산의 알킬, 디알킬, 알킬아릴 또는 폴리옥시에틸렌-알킬아릴 에스테르의 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 암모늄 또는 트리에탄올아민 염, ;
- 황산, 인산, 포스폰산 또는 설포아세트산 및 포화 또는 불포화 지방 알콜의 에스테르, 및 또한 이의 알콕시화 유도체의 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 염;
- 알킬아릴황산, 알킬아릴인산 또는 알킬아릴설포아세트산, 및 또한 이의 알콕시화 유도체의 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 염을 포함한다.
사용될 수 있는 양이온성 계면활성제는, 예를 들어, 4차 알킬암모늄, 설포늄 또는 산성 pH의 지방 아민, 및 또한 이의 알콕시화 유도체의 부류의 것들이다. 비이온성 계면활성제의 비-제한적 예로서, 알콕시화 알킬페놀, 알콕시화 알콜, 알콕시화 지방산, 글리세롤의 지방 에스테르 또는 당의 지방 유도체를 포함한다.
사용될 수 있는 양쪽성 계면활성제는, 예를 들어, 알킬-베타인 또는 알킬-타우린이다.
본 발명에 따른 제형 F를 제조하기 위한 바람직한 계면활성제는 알킬-벤젠 설포네이트 및/또는 알콕실화된 알킬페놀을 기반으로 한 화합물이다. 더욱 특히, (C10-C13)알킬-벤젠 설포네이트(벤젠 설폰산의 C10-C13 알킬 유도체의 염으로도 불림), 예를 들어, 벤젠 설폰산의 C10-C13 알킬 유도체의 칼슘 염(CAS 번호 1335202-81-7), 및 특히 임의의 비율의 이들의 혼합물이 사용된다. 상기 (C10-C13)알킬-벤젠 설포네이트는 임의로 유기 용매, 예컨대, 2-에틸헥산-1-올의 존재에서 다른 계면활성제, 예를 들어, 비이온성 계면활성제와의 혼합물일 수 있거나 아닐 수 있다.
사용되는 계면활성제는 상업적 조성물의 형태, 예를 들어, Croda에 의해 시판되는 Atlox™ 4851B, Harcros Chemicals에 의해 시판되는 T-Mulz® TE-CP일 수 있다.
악취 차폐제:
일부 훈증제는 강하거나, 불쾌하거나, 심지어 공격적인 냄새를 가질 수 있다. 특히, DMDS는 부분적으로는 냄새가 많이 나는 불순물의 존재 및 부분적으로 이러한 분자 고유의 마늘 및 에테르 냄새로 인해 강하고 공격적인 냄새를 갖는다. 대부분의 유기 설파이드도 마찬가지이다.
일반적으로 말하면, 이들 유기 설파이드의 옥사이드, 특히 DMSO는 덜 공격적인 냄새를 갖는다. 그럼에도 불구하고, 이 냄새는 불순물의 농도에 따라 최종 사용자에게 불쾌하고 곤란할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따르면, 제형 F는 악취 차폐제를 추가로 포함할 수 있다. 임의의 공지된 유형의 악취 차폐제가 사용될 수 있다. "악취 차폐제"는 사용되는 훈증제의 냄새를 감소, 억제 또는 차폐할 수 있게 하는 화합물 또는 다수의 화합물을 포함하는 조성물을 의미한다.
언급될 수 있는 예는 일반적으로 메틸 브로마이드의 냄새가 나게 하는 데 일반적으로 사용되는 클로로피크린이다.
특히, 인용에 의해 본원에 포함되는 출원 WO 2011/012815에 기재된 바와 같은 악취 차폐제를 사용하는 것이 가능하다.
상기 악취 차폐제는 적어도 하나의 모노에스테르, 적어도 하나의 디- 및/또는 트리에스테르, 적어도 하나의 알콜, 적어도 하나의 케톤 및 임의로 적어도 하나의 테르펜을 포함할 수 있다.
하나의 바람직한 구현예에 따르면, 악취 차폐제는
a1) 1 중량% 내지 40 중량%의 적어도 하나의 모노에스테르;
a2) 10 중량% 내재 70 중량%의 적어도 하나의 디- 및/또는 트리에스테르;
a3) 1 중량% 내지 30 중량%의 적어도 하나의 알콜;
a4) 0.5 중량% 내지 20 중량%의 화학식 Ra-CO-Rb의 적어도 하나의 케톤(여기서, Ra는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 포함하고, 임의로 이중 결합 형태의 하나 이상의 불포화를 포함하는 선형 또는 분지형 탄화수소 사슬을 나타내고, Rb는 사이클릭 탄화수소 사슬, 또는 달리, 임의로, 그러나 바람직하게는, 사이클릭 구조로 치환된 선형 또는 분지형 탄화수소 사슬을 나타내고, Rb는 6 내지 12 개의 탄소 원자를 포함하고, 임의로 이중 결합 형태의 하나 이상의 불포화를 포함하고, 하나 이상의 하이드록실 기로 임의로 치환됨); 및
a5) 임의로 20 중량% 이하의 적어도 하나의 테르펜을 포함한다.
a1, a2, a3, a4 및 a5의 백분율은 악취 차폐제의 총 중량에 대해 표현되는 중량 기준 백분율이다.
달리 언급되지 않는 한, "ppm"은 중량 기준 백만분율을 의미한다.
따라서, 상기 악취 차폐제는 악취 차폐제의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 40 중량%, 바람직하게는 2 중량% 내지 35 중량%, 더욱 바람직하게는 5 중량% 내지 30 중량%의 a1) 하에 명시된 적어도 하나의 모노에스테르를 포함할 수 있다.
a1) 하에 명시된 모노에스테르의 예시적이지만 비-제한적 예는 포화 또는 불포화 C2-C20 산의 에스테르, 예컨대, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 2-메틸부틸, 이소아밀, 헥실, 벤질, 페닐에틸, 메틸 및 카르빌 아세테이트, 프로피오네이트, 부티레이트, 메틸부티레이트, 펜타노에이트, 헥사노에이트, 헵타노에이트, 카프로에이트, 올레에이트, 리놀레에이트 및 리놀레네이트 등, 및 또한 이들의 혼합물을 포함한다.
이소아밀 아세테이트, 헥실 아세테이트, 2 메틸부틸 부티레이트, 이소아밀 부티레이트, 벤질 아세테이트, 페닐에틸 아세테이트 및 이들 화합물의 혼합물이 더욱 특히 바람직하다.
악취 차폐제는 악취 차폐제의 총 중량에 대해 10 중량% 내지 70 중량%, 바람직하게는 15 중량% 내지 65 중량%, 더욱 바람직하게는 20 중량% 내지 60 중량%의 양의 적어도 하나의 디- 및/또는 트리에스테르 a2)를 추가로 포함할 수 있다. 비-제한적으로, 오르토-프탈레이트로부터 선택된 적어도 하나의 디- 및/또는 트리에스테르, 예컨대, 디에틸 오르토-프탈레이트; 시트레이트, 예컨대, 트리에틸 시트레이트; 및 말로네이트, 예컨대, 디에틸 말로네이트가 언급될 수 있다.
악취 차폐제는 악취 차폐제의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 30 중량%, 바람직하게는 5 중량% 내지 25 중량%의 적어도 하나의 알콜 a3), 유리하게는 1 내지 30 개의 탄소 원자, 바람직하게는 6 내지 20 개의 탄소 원자, 더욱 바람직하게는 8 내지 11 개의 탄소 원자를 포함하는 적어도 하나의 모노알콜을 추가로 포함할 수 있고, 상기 탄소 원자는 임의로 이중 결합 형태의 하나 이상의 불포화, 및 임의로 포화, 또는 완전 또는 부분 불포화된 5- 또는 6-원 사이클릭 구조를 포함하는 선형 또는 분지형 사슬을 형성한다.
상기 정의된 알콜은 바람직하게는 하이드록실 작용기가 바람직하게는 sp2 탄소 원자에 의해 운반되는 모노알콜이다. 하이드록실 작용기는 또한 상기 정의된 바와 같은 사이클릭 구조에 포함되는 탄소 원자에 의해 운반될 수 있다는 것이 이해되어야 한다.
악취 차폐제에 사용되는 상기 정의된 바와 같은 알콜은 유리하게는, 그리고 비-제한적 예로서, 멘톨, 네오멘톨, 페닐에틸 알콜, 벤질 알콜, 시트로넬롤, 디하이드로미르세놀, 디하이드로테르피네올, 디메톨, 에틸-리날로올, 제라니올, 리날로올, 테트라하이드로리날로올, 테트라하이드로미르세놀, 네롤 등, 및 또한 이들의 둘 이상의 혼합물로부터 선택된다.
케톤 또는 상기 a4) 하에 지시되는 케톤은, 비-제한적 예로서, 그리고 바람직하게는 다마스콘, 다마스케논, 이오논, 이리손, 메틸이오논, 프람비논(CAS No. 5471-51-2) 등, 및 또한 이들의 혼합물로부터 선택된다. 케톤(들)의 양은 유리하게는 악취 차폐제의 총 중량에 대해 0.5 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 1 중량% 내지 10 중량%이다.
악취 차폐제는 임의로 악취 차폐제의 총 중량에 대해 20 중량% 이하, 바람직하게는 1 중량% 내지 10 중량%의 적어도 하나의 테르펜을 추가로 포함할 수 있다.
사용될 수 있는 a5) 하에 지시된 테르펜의 예는, 제한 없이, 테르피넨, 미르센, 리모넨, 테르피놀렌, 피넨, 사비넨, 캄펜 등, 이들의 둘 이상의 혼합물, 및 또한 테르펜 기반 에센스, 특히 이들 구성성분들을 포함하는 것들을 포함한다.
추가로, 본 발명의 맥락에서 사용될 수 있는 악취 차폐제는, 미량으로, 향수 업계에서 통상적으로 사용되는 기타 제제(향료) 및, 특히 고리형 케톤 및/또는 알데히드 작용기(들)을 보유하는 하나 이상의 화합물을 포함할 수 있는데, 다른 화합물들 중에서도 비제한적 예시로서 제라니알, 네랄, 시트로넬랄, 멘톤, 이소멘톤, 1,8-시네올, 아스카리돌, 플라보논 및 이들의 혼합물이 언급될 수 있다.
적절한 경우 및 심지어 필요 시 악취 차폐제는 당 분야에 통상적으로 사용되는 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 첨가제는, 예를 들어, 제한 없이, 용매, 안료, 염료, 보존제, 살생물제 등으로부터 선택될 수 있다.
용매들 중에서도, 특히 바람직한 예는 알콜, 에테르, 에스테르 및 글리콜이다. 특히 유리하게는, 용매는 디에틸 프탈레이트, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 및 이들의 혼합물로부터 선택되고, 더욱 유리하게는 또한 디에틸 프탈레이트, 디프로필렌 글리콜, 및 이들의 혼합물로부터 선택된다.
전형적인 악취 차폐제 조성물은 하기를 포함한다(악취 차폐제의 총 중량에 대한 중량 기준):
- 이소-아밀 아세테이트, 에틸 메틸-2-부티레이트, 이소-아밀 부티레이트, 페닐에틸 아세테이트, 에틸 카프로에이트, 벤질 아세테이트, 헥실 아세테이트 및 이들의 혼합물로부터 선택된, 5 중량% 내지 30 중량%의 적어도 하나의 모노에스테르 a1);
- 오르토-프탈레이트, 예컨대, 디에틸 오르토-프탈레이트; 시트레이트, 예컨대, 트리에틸 시트레이트; 및 말로네이트, 예컨대, 디에틸 말로네이트, 및 이들의 혼합물로부터 선택된, 20 중량% 내지 60 중량%의 적어도 하나의 디- 및/또는 트리에스테르 a2);
- a3) 하에 상술된 바와 같은, 5 중량% 내지 25 중량%의 적어도 하나의 알콜, 바람직하게는 적어도 두 개의 알콜, 더욱 바람직하게는 적어도 세 개의 알콜;
- a4) 하에 상술된 바와 같은, 1 중량% 내지 10 중량%의 적어도 하나의 케톤, 바람직하게는 적어도 두 개의 케톤, 더욱 바람직하게는 적어도 세 개의 케톤; 및
- 1 중량% 내지 10 중량%의, a5) 하에 상기 언급된 테르펜 중 적어도 하나, 바람직하게는 적어도 두 개, 바람직하게는 이들의 혼합물.
악취 차폐제의 대표적이지만 비-제한적 예가 하기에서 재현되며, 여기서 각각의 구성성분들은 열거된 화합물을 하나, 복수, 또는 심지어 전부 포함한다:
성분 a1): 16.00%
벤질 아세테이트, 헥실 아세테이트, 이소-아밀 아세테이트, 페닐에틸 아세테이트, 에틸 카프로에이트, 에틸 메틸-2-부티레이트 포함
성분 a2): 50.00%
디에틸 말로네이트, 디에틸 프탈레이트 포함
성분 a3): 20.60%
페닐에틸 알콜, 시트로넬롤, 제라니올, 리날로올, 시스-3-헥센올 포함
성분 a4): 4.50%
1-(4-하이드록시페닐)부탄-3-온, 알파-이리손 포함
성분 a5): 7.00%
오렌지 테르펜
기타: 1.90%
시트랄, 에틸말톨, 에틸메틸 페닐글리시데이트 포함
이들 조성물들은 예시로서 주어진 것이다.
점적 훈증 적용
본 발명은 토양 및/또는 기질을 훈증하기 위한 상기 정의된 바와 같은 제형 F의 용도에 관한 것이다. 상기 제형 F는 바람직하게는 처리하고자 하는 토양 및/또는 기질에 점적으로 투입된다.
본 발명은 또한 토양 및/또는 기질의 훈증에 의한 살충제 처리 방법으로서, 상기 정의된 바와 같은 제형 F가 점적 투입되는, 방법에 관한 것이다.
따라서, 본 발명에 따른 토양 및/또는 기질의 훈증은 과일, 채소, 꽃 및 관상용 식물, 특히 토마토, 딸기, 멜론, 오이, 가지, 피망, 감자, 당근, 파인애플, 애호박, 수박, 양파, 마늘, 덩굴, 과수 및 절화의 성장에 유용하다.
제형 F는 점적 투입에 특히 적합하다. 이는 훈증제 및 특히 DMDS의 가용화를 가능하게 한다. 훈증제는 안정적으로 가용화되어 적수기에 축적되고 적수기를 막히게 하는 것을 방지한다. 제형 F는 특히 적어도 30 분 동안 안정하다. 더욱이, 이는 심지어 처리하고자 하는 표면 전체에 걸쳐 그리고 훈증 기간 전체에 걸쳐 훈증제의 균일한 확산이 과소투입 또는 과다투입 영역 없이(후자는 분명히 바람직하지 않음) 얻어지는 것을 가능하게 한다.
특히, DMDS가 점적 적용에 의해 본 발명의 조건 하에, 및 특히 제형 F의 형태로 사용되는 경우, 이러한 훈증제에 대한 최대 효능을 얻을 수 있다.
처리는 처리하고자 하는 작물, 토양 및/또는 기질의 성질, 및 기후 조건에 따라 당업자에 의해 용이하게 적응될 수 있다.
점적 투입은 임의의 통상적인 점적 관개 시스템에 의해 수행될 수 있다. 점적 관개를 위한 이러한 종류의 시스템 또는 디바이스(세류 관개 시스템 또는 미세 관개 시스템으로도 불림)는 널리 공지되어 있으며, 일반적으로 농지, 농장 또는 기타 기질의 토양에서 재배될 식물에 물 및 임의로 관개 액체, 예컨대, 액체 비료를 제공하기 위해 사용된다. 본 발명에 따르면, 이들 시스템은 본 발명에 따른 훈증제 제형 F를 전달할 때 점적 훈증 시스템으로도 불린다.
통상적인 관개 디바이스 외에, 이들 시스템은, 예를 들어, 상기 정의된 바와 같은 조성물 C에 대한 공급부 및/또는 저장소, 및 임의로 상기 조성물 C에 대한 투입 디바이스를 포함한다.
조성물 C는 당업계에 공지된 임의의 수단에 의해, 예를 들어, 이를 함유하는 저장소로부터 공급될 수 있다. 저장소에는 국제 출원 WO 2014/147034에 기재된 바와 같이 펌프 및 유리하게는 플런저 튜브가 장착될 수 있다.
점적 적용은 상기 조성물 C에 대한 투입 디바이스를 포함하는 점적 관개 디바이스에 의해 매우 바람직하게 수행된다.
따라서, 제형 F는 유리하게는 훈증이 발생하는 위치에서 물과 혼합함으로써 투입 디바이스에 의해 제조된다. 투입은 Atex 펌프(인화성 또는 고인화성 제품의 사용을 위한 폭발성 대기용 펌프) 또는 벤츄리 시스템 또는 부피 계량 펌프를 사용하여 수행될 수 있다.
투입은 유리하게는 부피 계량 펌프, 바람직하게는 비례 계량을 위한 수압 부피 펌프, 바람직하게는 전기가 없는 것, 예컨대, Dosatron International®로부터 또는 FLUIDEO®로부터 입수 가능한 펌프를 사용하여 수행된다. 이러한 종류의 펌프는, 예를 들어, 출원 WO 2006/016032에 기재되어 있다. 따라서, 이러한 펌프를 사용하여, 제형 F의 투입은 물의 유량에 따라 이루어지므로, 훈증 기간 전체에 걸쳐 일정할 수 있다.
점적 훈증 시스템은 특히 주공급관에 연결된 적수관(또는 파이프)을 포함할 수 있고, 주공급관은 상기 언급된 바와 같이 투입 디바이스에 연결될 수 있다.
일 구현예에 따르면, 적수기 관은 약 20 cm 내지 1.5 m 서로 떨어져 이격된다. 각각의 적수기 관에는 특히 적수기가 장착되는데, 이는 10 cm 내지 50 cm 서로 떨어져 이격될 수 있고, 0.5 내지 4 L/시의 유량을 가질 수 있다. 본 발명에 따른 제형 F의 적용 시간은 45 분 내지 5 시간, 바람직하게는 1 시간 내지 2 시간일 수 있다.
물의 양은 처리하고자 하는 표면의 10 내지 50 L/m2, 바람직하게는 10 내지 30 L/m2, 예를 들어, 대략 20 L/m2일 수 있다. 적수기 관 내의 물 압력은 0.2 내지 3 bar, 바람직하게는, 1 내지 1.5 bar일 수 있다.
본 발명에 따른 훈증 시스템은 처리하고자 하는 토양 및/또는 기질의 표면 상에 설치될 수 있거나, 예를 들어, 5 cm 내지 2 m의 깊이, 바람직하게는 5 cm 내지 80 cm의 깊이로 땅에 매립될 수 있음이 인지된다.
적수기를 포함하는 관 전부, 또는 심지어 점적 훈증 시스템 전부 및 또한 처리하고자 하는 토양 및/또는 기질은 제형 F의 적용 전에 배리어 필름(즉, 훈증제 또는 훈증제들로부터의 증기에 불투과성인 필름)에 의해 커버링될 수 있다. 이는 훈증제(들)가 대기에서 소실되는 것을 방지하여 작업자를 보호하고 환경을 보존할 수 있게 한다. 현재 토양 및/또는 기질의 훈증 처리에 사용되는 다양한 유형의 배리어 필름, 예컨대, SIF(반-불투과성 필름), VIF(거의 불투과성 필름) 또는 TIF(완전 불투과성 필름) 필름이 있다. 상기 배리어 필름은 출원 WO 2013/030513에 기재된 바와 같은 광촉매 필름, 또는 출원 WO 2016/075392에 기재된 바와 같은 자가-접착성 또는 점착성 필름일 수 있다. 예를 들어, Arkema에 의해 시판되는 NFT54-195-1/2 CL2 BARRIER-FILM 필름, Accolade® 필름 및 Paladin® 필름을 사용하는 것이 가능하다.
본 발명은 또한 상기 정의된 바와 같은 조성물 C를 포함하는 토양 및/또는 기질의 점적 훈증용 키트, 및 또한 상기 조성물 C를 위한 투입 디바이스, 및 임의로 상기 정의된 바와 같은 점적 디바이스(특히, 적수기 관 및 물 및 조성물 C의 공급을 위한 시스템 포함)에 관한 것이다.
상기 키트는 투입에 의해 본 발명에 따른 제형 F가 조성물 C로부터 제조될 수 있게 하고, 임의로 점적 시스템과 함께 적용될 수 있게 한다.
상기 키트는 상기 언급된 바와 같은 배리어 필름을 임의로 포함할 수 있다.
실시예
실시예 1: 본 발명, 및 비교에 따른 DMDS를 갖는 제형 F
조성물 C를 물과 혼합하였다.
조성물 C는 대략 하기로 이루어졌다:
- 94.75 중량%의 DMDS;
- 0.25 중량%의 악취 차폐제; 및
- 5.00 중량%의, 벤젠 설폰산의 C10-C13 알킬 유도체의 칼슘 염을 기반으로 한 계면활성제.
얻어진 결과는 하기와 같다:
Figure pct00001
백분율은 물의 총 부피에 대해 표현된다.
본 발명에 따른 제형 F는 DMDS의 효과적이고 안정적인 에멀젼화를 야기하였다.
약 0.25 부피% 이하 용량의 조성물 C의 경우, 적어도 30 분 동안 안정한 투명한 마이크로에멀젼이 수득되었다.
> 0.25 부피% 내지 0.4 부피%의 조성물 C의 경우, 약간 탁하고 적어도 30 분 동안 안정하게 유지되는 에멀젼이 수득되었다.
0.40 부피% 초과 용량의 조성물 C의 경우, 에멀젼화는 불량했고, 에멀젼은 안정하지 않았다.
실시예 2: 본 발명에 따른 훈증 처리
단독으로 또는 또 다른 훈증제와 조합하여 본 발명에 따른 제형 F에서 DMDS의 효능을 터키산의 유리 하에 성장하는 플롯에서 재배한 카네이션에서 시험하였다.
I. 장비 및 기술:
시험을 무작위로 선택된 6 개의 플롯의 실험 구성을 이용하여 수행하였고, 처리 당 4 회의 시험으로 6 개의 상이한 처리로 처리하였다. 플롯의 크기는 50 m2였고, 사용된 물의 양은 20 L/m2였다.
DMDS 및/또는 메탐-소듐을 카네이션을 재식하기 한 달 전에 점적 관개 시스템(Dosatron® 펌프가 있는 DMDS 및 이후 전기 펌프가 있는 메탐-소듐)을 사용하여 물과 함께 적용하였다.
DMDS로 처리된 모든 플롯을 완전 불투과성 필름(TIF)으로 4주 동안 덮고; 메탐-소듐으로 처리된 플롯을 폴리에틸렌 필름으로 덮었다.
처리는 하기와 같았다:
사용된 조성물 C는 대략 하기로 이루어졌다:
- 94.75 중량%의 DMDS;
- 0.25 중량%의 악취 차폐제; 및
- 5.00 중량%의, 벤젠 설폰산의 C10-C13 알킬 유도체의 칼슘 염을 기반으로 한 계면활성제.
메탐-소듐의 경우, 수용액(510 g/L의 메탐-소듐 함유)을 사용하고 물의 스트림에 주입하였다. 메탐-소듐을 DMDS 적용 후에 주입하였다.
표 2: 사용된 농도
Figure pct00002
농도는 물의 총 부피에 대한 부피%로 나타나 있다.
II. 관찰 및 통계 분석:
카네이션을 재식한 후 90 일 및 180 일에 토양을 평가하였다.
사망률 백분율을 플롯 당 300 개의 식물에서 평가하였다. 데이터를 Abbot 식으로 처리하고, 처리의 효능 백분율을 계산하였다.
분산 분석을 Duncan 검정(0.05)을 이용하여 수행하였다.
시험 플롯에서, 감염된 카네이션의 샘플을 취하였다. 단리 연구를 이용하여, 후사리움(Fusarium) 종은 카네이션에서 뿌리 썩음을 일으키는 전염병으로 결정되었다.
III. 결과:
재식 후 90 일째에 하기 처리가 가장 우수한 효능을 가졌다:
- 제형 1: 79.4% 효능;
- 제형 3: 84.8% 효능; 및
- 제형 4: 90.9% 효능.
재식 후 180 일째에, 모든 훈증 처리는 후사리움 종에 대하여 비처리 대조군보다 유의하게 더 우수한 효능을 가졌고, DMDS로의 모든 처리는 1200 L/ha에서 단독으로 적용된 메탐-소듐에 대해 후사리움 종의 보다 현저하게 더 우수한 방제를 나타냈다.
표 3: 후사리움 종에 점적 적용된 훈증 처리의 사망률 백분율 및 효능
Figure pct00003
**DAP: 재식 후 일수
수확 시, 상기 표에 지시된 바와 같이 제형 1, 3 및 4로 가장 우수한 수율이 얻어졌다.
표 4: 비처리 플롯 대비 수확 수율 및 수율 편차
Figure pct00004
결론
조성물 C의 농도가 점적 시 0.10 부피% 내지 0.40 부피%(물의 총 부피에 대해)인 경우:
- 적용은 토양에서 제형의 탁월한 소실로 상당히 진행되고;
- 점적 시스템으로 투입함으로써 제형의 분포는 훈증 절차 전체에 걸쳐 일정하고 균일한 DMDS 농도를 가능하게 하고;
- DMDS 제형은 훈증 절차 전반에 걸쳐 안정하다.
그러므로, 본 발명에 따른 제형은 점적 적용에 매우 잘 적합하고, 훈증 장비의 고장 없이 효과적이고 균일한 살충제 처리를 가능하게 한다.
또한, 조성물 C의 농도가 0.40 부피%를 초과하는 제형으로 시험을 수행하였다.
조성물 C의 농도가 점적 시 엄격하게 0.40 부피% 초과(물의 총 부피에 대해)인 경우:
확장된 적수기 관에서 압력 강하에 의해 적용을 중단하였다. 그 이유는 적수기 관(폴리에틸렌의 경우 PE에서 또는 폴리비닐 클로라이드의 경우 PVC)이 이들 재료와 상용성이지 않은 상청액 DMDS(이에 따라 덜 잘 용해됨)와 접촉하여 팽윤되기 때문이다. 적수기 관은 팽윤되고 팽창하며, 결과적으로 플라스틱 필름 하에 훈증제가 방출될 수 있다.
적수기가 막혔다. 이러한 막힘은 하기에 의해 초래될 수 있다:
- 적수기 상류의 플라스틱의 화학적 분해에 의해
- "자기-보상" 적수기에 존재하는 막의 팽윤에 의해(이러한 시스템은 적수기에서 안정된 유량을 가능하게 함).
따라서, 점적 훈증의 처리는 이들 조건 하에 어렵거나 심지어 불가능하다.

Claims (11)

  1. 토양 및/또는 기질(substrate)의 훈증에 의한 살충제 처리 방법으로서, 제형 F가 점적으로 투입되고,
    상기 제형 F가 물 및 상기 제형 F 중 물의 총 부피에 대해 0.10 부피% 내지 0.40 부피%의 조성물 C를 포함하고,
    상기 조성물 C가
    - 상기 조성물 C의 총 중량에 대해 적어도 80 중량%, 바람직하게는 적어도 90 중량%의 적어도 하나의 훈증제 화합물;
    - 상기 조성물 C의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 20 중량%의 적어도 하나의 계면활성제; 및
    - 임의로 악취 차폐제를 포함하는, 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제형 F가 에멀젼인, 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 제형 F가 상기 제형 F 중 물의 총 부피에 대해 0.10 부피% 내지 0.30 부피%의 상기 조성물 C를 포함하는, 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 훈증제 화합물이 하기 일반식 (1)에 따른 화합물로부터 선택되는, 방법:
    R-S(O)n-Sx-R' (1)
    상기 식에서, R은 1 내지 4 개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼, 및 2 내지 4 개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알케닐 라디칼로부터 선택되고; n은 0, 1 또는 2이고; x는 0, 1, 2, 3 또는 4로부터 선택된 정수이고, 여기서 x는 바람직하게는 1, 2, 3 또는 4를 나타내고; R'는 1 내지 4 개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼 및 2 내지 4 개의 탄소 원자를 함유하는 선형 또는 분지형 알케닐 라디칼, 또는 n = x =0인 경우에만, 수소 또는 알칼리 금속 원자로부터 선택된다.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 훈증제 화합물이 디메틸 디설파이드인, 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 조성물 C가
    - 상기 조성물 C의 총 중량에 대해 적어도 90 중량%의 디메틸 디설파이드,
    - 상기 조성물 C의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%의 적어도 하나의 계면활성제; 및
    - 임의로, 상기 조성물 C의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 0.5 중량%의 악취 차폐제를 포함하는, 방법.
  7. 제6항에 있어서, DMDS가 1,3-디클로로프로펜, 설푸릴 플루오라이드(SO2F2), 포스핀, 메틸 아이오다이드, 클로로피크린(Cl3C-NO2), 메탐-소듐(CH3-NHCS2Na), 소듐 테트라티오카르보네이트(Na2CS4), 메틸 이소티오시아네이트(CH3NCS), 다조메트(테트라하이드로-3,5-디메틸-1,3,5-티아디아진-2-티온), AITC(알릴 이소티오시아네이트) 또는 EDN(에탄디니트릴)으로 이루어진 군으로부터 선택된 또 다른 훈증제 화합물과의 혼합물로 또는 개별적으로 투입되는, 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 점적 적용이 상기 조성물 C에 대한 투입 디바이스를 포함하는 점적 관개 디바이스에 의해 수행되는, 방법.
  9. 제형 F로서, 물 및 상기 제형 F 중 물의 총 부피에 대해 0.10 부피% 내지 0.40 부피%의 조성물 C를 포함하고,
    상기 조성물 C가
    - 상기 조성물 C의 총 중량에 대해 적어도 80 중량%, 바람직하게는 적어도 90 중량%의 적어도 하나의 훈증제 화합물;
    - 상기 조성물 C의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 20 중량%의 적어도 하나의 계면활성제; 및
    - 임의로 악취 차폐제를 포함하는, 제형 F.
  10. 토양 및/또는 기질을 훈증하기 위한 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 제형 F의 용도로서, 상기 제형 F가 바람직하게는 토양 및/또는 기질에 점적으로 투입되는, 용도.
  11. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 조성물 C, 및 또한 상기 조성물 C에 대한 투입 디바이스를 포함하는, 토양 및/또는 기질의 점적 훈증을 위한 키트.
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