KR20220028664A - Method for manufacturing side surface of ultra thin glass, jig for manufacturing side surface of glass and glass manufacturing apparatus including the same - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 270
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 121
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 31
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 6
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 205
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 28
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 15
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B35/00—Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
- C03B35/14—Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands
- C03B35/20—Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands by gripping tongs or supporting frames
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Abstract
Description
본 발명은 초박형 글라스의 측면 가공 방법, 글라스의 측면 가공용 지그 및 이를 포함하는 글라스 가공 설비에 관한 것이다. 상세하게는 원장 글라스가 글라스 셀(glass cell)로 절단된 이후 글라스의 측면을 가공하여 글라스 강도 등을 향상시키는 초박형 글라스의 가공 방법, 글라스의 측면 가공용 지그 및 이를 포함하는 글라스 가공 설비에 관한 것이다.The present invention relates to a method for side processing of ultra-thin glass, a jig for side processing of glass, and a glass processing equipment including the same. In detail, it relates to a processing method of ultra-thin glass to improve glass strength by processing the side of the glass after cutting the led glass into a glass cell, a jig for processing the side of the glass, and a glass processing equipment including the same.
기술발전에 힘입어 스마트폰, 태블릿 PC 등의 전자 기기는 점차 박형화되고 있다. 뿐만 아니라 수요자들은 전자 기기의 넓은 화면 및 심미감 측면에서 높은 스크린 투 바디 비율(screen to body ratio)을 요구하고, 이에 따라 전자 기기의 전면(全面)을 글라스로 형성하는 경우가 많아지는 추세이다.Thanks to technological advances, electronic devices such as smartphones and tablet PCs are gradually becoming thinner. In addition, consumers demand a high screen-to-body ratio in terms of a wide screen and aesthetics of an electronic device, and accordingly, the entire surface of the electronic device is formed of glass.
글라스(glass) 소재는 높은 광 투과율로 인해 오랫동안 디스플레이의 전면부 커버 윈도우 소재로 적용되어 왔다. 그러나 일반적인 글라스는 외부 충격에 취약하여 쉽게 깨지거나 스크래치가 발생할 수 있기 때문에 스마트폰 등의 전자 기기 전면을 글라스로 형성하기 위해서는 기계적 강도가 향상된 강화 글라스의 적용이 필수적이다.Glass material has been applied as a front cover window material of a display for a long time due to its high light transmittance. However, since general glass is vulnerable to external impact and can be easily broken or scratched, it is essential to apply tempered glass with improved mechanical strength to form the front surface of an electronic device such as a smartphone with glass.
한편, 최근 폴더블 디스플레이(foldable display) 및 롤러블 디스플레이(rollable display)에 대한 연구가 이루어지고 있으며 이러한 특수 디스플레이가 적용된 전자 기기 또한 출시되고 있다. Meanwhile, research on a foldable display and a rollable display has been recently conducted, and electronic devices to which such a special display is applied are also being released.
폴더블 디스플레이 등을 구현하기 위해 글라스 대신에 유연성을 갖는 소재, 예컨대 폴리이미드 필름(polyimide film) 등의 플라스틱 소재를 디스플레이의 커버 윈도우로 적용하기도 한다. 그러나 폴리이미드 필름 등은 글라스에 비해 광 투과율이 낮아 광손실이 발생할 수 있다. 뿐만 아니라 폴더블 디스플레이는 커버 윈도우의 특정 위치가 반복적으로 접어지기 때문에 폴딩 라인이 형성된 부분에 크랙이 발생하거나 영구적인 접힘 자국이 남는 문제가 있다.In order to implement a foldable display, etc., a flexible material, for example, a plastic material such as a polyimide film, is sometimes applied as a cover window of the display instead of glass. However, the polyimide film and the like have a lower light transmittance than glass, and thus light loss may occur. In addition, since a specific position of the cover window is repeatedly folded in the foldable display, there is a problem in that a crack occurs or a permanent fold mark is left in a portion where the folding line is formed.
이러한 측면에서 높은 기계적 강도를 가지면서도 폴더블 디스플레이 또는 롤러블 디스플레이 등의 특수 디스플레이에 적용 가능한 초박형 글라스(Ultra Thin Glass, UTG)의 개발이 절실히 요구되고 있다. 초박형 글라스는 일반적으로 100㎛ 이하의 두께를 갖는 글라스 소재를 의미한다. 초박형 글라스는 플라스틱 소재에 비해 광 투과율이 높고 얇은 두께를 가져 폴딩 라인의 접힘이 잘 시인되지 않을 수 있으며, 심지어 벤딩, 롤링 내지는 폴딩이 가능할 수 있다.In this respect, the development of ultra-thin glass (UTG) that has high mechanical strength and can be applied to special displays such as foldable displays or rollable displays is urgently required. Ultra-thin glass generally refers to a glass material having a thickness of 100 μm or less. Since the ultra-thin glass has a high light transmittance and a thin thickness compared to a plastic material, the folding of the folding line may not be easily recognized, and even bending, rolling or folding may be possible.
그러나 초박형 글라스는 지나치게 얇은 두께로 인해 가공 과정에서 파손되는 문제가 있다. 이로 인해 초박형 글라스의 수율이 그리 높지 못하고, 이는 초박형 글라스의 가격 상승을 야기할 수 있다. 이러한 이유로 초박형 글라스의 물리/화학적 강도를 향상시키기 위한 다양한 연구가 이루어져 왔다.However, there is a problem in that the ultra-thin glass is damaged during processing due to its excessively thin thickness. Due to this, the yield of the ultra-thin glass is not very high, which may cause an increase in the price of the ultra-thin glass. For this reason, various studies have been made to improve the physical/chemical strength of ultra-thin glass.
예컨대 특허문헌 1은 글라스 적층체를 형성하고(적층체 제조공정), 이를 커팅하여 작은 크기의 글라스 셀을 준비한 후(적층체 절단공정), 그 절단면의 조도를 가공하는 공정(에지면 면취공정)을 개시한다. 그리고 글라스의 에지면을 특정 형상으로 가공하는 기술(화학적 표면연마공정), 이른바 C각을 형성하여 글라스 강도를 높이는 기술을 개시한다. 이후 글라스를 세정하고, 적층체를 분리하여 글라스를 개별 낱장으로 마련하는 공정을 개시한다.For example, in
특허문헌 1은 절단된 글라스 셀(또는 글라스 적층체 셀)의 에지면, 즉 측면을 가공하여 치핑(chipping)을 제거하고, 이를 통해 글라스의 강도를 향상시킬 수 있음을 교시한다. 그리고 식각액을 이용한 글라스의 측면 가공에 영향을 미치는 요소로 식각율(etching rate)을 개시한다. 특허문헌 1은 적층된 글라스들의 측면이 식각액에 침지되어 회전하며 측면이 가공되는 개념을 제시하나, 특허문헌 1의 개시 내용만으로는 보다 균일한 글라스의 식각을 달성하기 어려운 문제가 있다.
이에 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 초박형 글라스에 대응 가능한 글라스의 측면 가공 기술로서, 보다 정밀하게 글라스의 측면을 원하는 형상으로 가공할 수 있는 글라스의 측면 가공 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, the problem to be solved by the present invention is to provide a side processing method of glass capable of processing the side surface of the glass into a desired shape more precisely as a side processing technology of glass that can cope with ultra-thin glass.
또, 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 본 발명에 따른 글라스의 측면 가공 방법에 적용될 수 있는 글라스 측면 가공 지그를 제공하는 것이다.In addition, another problem to be solved by the present invention is to provide a glass side processing jig that can be applied to the side processing method of the glass according to the present invention.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 본 발명에 따른 글라스의 측면 가공 방법에 적용될 수 있는 글라스 측면 가공 설비를 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a glass side processing facility that can be applied to the side processing method of the glass according to the present invention.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법은 하나 이상의 글라스를 지그에 실장하고 고정하는 단계, 상기 고정된 글라스를 식각액에 침지하는 단계, 상기 글라스를 식각액 내에서 일 방향으로 회전하는 제1 회전 단계, 및 상기 글라스를 식각액 내에서 타 방향으로 회전하는 제2 회전 단계를 포함한다.A side processing method of glass according to an embodiment of the present invention for solving the above problems includes the steps of mounting and fixing one or more glasses on a jig, immersing the fixed glass in an etchant, and working the glass in an etchant A first rotating step of rotating in the direction, and a second rotating step of rotating the glass in another direction in the etchant.
상기 제2 회전 단계는, 상기 글라스를 뒤집는 단계, 및 상기 글라스를 식각액 내에서 상기 일 방향으로 회전하는 단계를 포함할 수 있다.The second rotating step may include turning the glass over, and rotating the glass in the etchant in the one direction.
여기서 상기 제1 회전 단계와 상기 제2 회전 단계의 회전 방향은 동일할 수 있다.Here, the rotation direction of the first rotation step and the second rotation step may be the same.
상기 지그는 서로 이격된 상판과 하판, 상기 상판과 하판 중 하나 이상과 결합되어 회전하는 회전 유닛, 및 상기 회전 유닛의 단부와 연결되어 회전 동작 가능하게 구성된 힌지 유닛을 포함할 수 있다.The jig may include an upper plate and a lower plate spaced apart from each other, a rotating unit coupled to one or more of the upper and lower plates to rotate, and a hinge unit connected to an end of the rotating unit to be rotatably configured.
이 때 상기 글라스를 뒤집는 단계는, 상기 힌지 유닛의 수직 이동 및 회전 동작을 통해 수행될 수 있다.In this case, the step of turning the glass over may be performed through vertical movement and rotation of the hinge unit.
또 상기 지그는 서로 이격된 상판과 하판, 및 상기 상판과 하판 사이에 배치되는 버퍼판을 포함할 수 있다.In addition, the jig may include an upper plate and a lower plate spaced apart from each other, and a buffer plate disposed between the upper plate and the lower plate.
이 경우 상기 글라스를 두께 방향으로 고정하는 단계에서, 상기 버퍼판은 상기 상판과 글라스 사이 또는 상기 하판과 글라스 사이에 개재될 수 있다.In this case, in the step of fixing the glass in the thickness direction, the buffer plate may be interposed between the upper plate and the glass or between the lower plate and the glass.
몇몇 실시예에서, 상기 제1 회전 단계는 상기 제2 회전 단계 보다 먼저 수행되고, 상기 제1 회전 단계의 수행 시간은 상기 제2 회전 단계의 수행 시간 이상일 수 있다.In some embodiments, the first rotating step may be performed before the second rotating step, and the execution time of the first rotating step may be longer than or equal to the execution time of the second rotating step.
또 몇몇 실시예에서, 상기 제1 회전 단계는 상기 제2 회전 단계 보다 먼저 수행되고, 상기 제1 회전 단계의 회전 속도는 상기 제2 회전 단계의 회전 속도 이상일 수 있다.In some embodiments, the first rotation step may be performed before the second rotation step, and the rotation speed of the first rotation step may be greater than or equal to the rotation speed of the second rotation step.
몇몇 실시예에서, 기포를 이용하여 식각액을 혼합하는 단계를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the method may further include mixing the etchant using bubbles.
몇몇 실시예에서, 펌프를 이용하여 식각액을 혼합하는 단계를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the method may further include mixing the etchant using a pump.
상기 지그는 상기 글라스를 사이에 두고 서로 이격된 제1 판 및 제2 판을 포함하고, 상기 제1 회전 단계는 상기 제1 판과 결합된 제1 회전 유닛에 의해 수행되고, 상기 제2 회전 단계는 상기 제2 판과 결합된 제2 회전 유닛에 의해 수행될 수 있다.The jig includes a first plate and a second plate spaced apart from each other with the glass interposed therebetween, wherein the first rotation step is performed by a first rotation unit coupled to the first plate, and the second rotation step may be performed by a second rotation unit coupled to the second plate.
상기 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그는 서로 이격된 상판과 하판, 상기 상판과 하판 사이의 이격 거리를 조절하고 고정하는 하나 이상의 포스트, 및 상기 상판과 하판 중 어느 하나 이상과 결합되어 회전하는 회전 유닛을 포함한다.A glass side processing jig according to an embodiment of the present invention for solving the above other problems is one or more posts for adjusting and fixing the separation distance between the upper and lower plates, the upper and lower plates spaced apart from each other, and the upper and lower plates It includes a rotating unit coupled to any one or more to rotate.
몇몇 실시예에서 상기 지그는 상기 상판과 하판 사이에 배치되는 하나 이상의 버퍼판을 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the jig may further include one or more buffer plates disposed between the upper plate and the lower plate.
또, 상기 상판 또는 하판은 상기 버퍼판과 비중첩한 개구를 가질 수 있다.In addition, the upper plate or the lower plate may have an opening that does not overlap the buffer plate.
몇몇 실시예에서 상기 지그는 상기 회전 유닛의 단부와 연결되어 회동 가능하게 구성된 힌지 유닛을 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the jig may further include a hinge unit connected to an end of the rotation unit to be rotatable.
여기서 상기 힌지 유닛은, 힌지 축을 기준으로 상기 회전 유닛을 회동시키는 힌지부, 및 상기 힌지부를 평행 이동시키는 로드부를 포함할 수 있다.Here, the hinge unit may include a hinge part for rotating the rotation unit based on a hinge axis, and a rod part for moving the hinge part in parallel.
상기 또 다른 과제를 해결하기 위한 글라스 측면 가공 설비는 서로 이격된 상판과 하판, 상기 상판과 하판 사이의 이격 거리를 고정하는 하나 이상의 포스트, 및 상기 상판과 하판 중 어느 하나 이상과 결합되어 회전하는 회전 유닛을 포함하는 글라스 측면 가공 지그, 및 식각액이 수용되도록 구성되는 배스를 포함한다.Glass side processing equipment for solving the another problem is a top plate and a lower plate spaced apart from each other, one or more posts for fixing the separation distance between the upper plate and the lower plate, and the rotation rotating in combination with any one or more of the upper plate and the lower plate A glass side processing jig including a unit, and a bath configured to receive an etchant.
상기 글라스 측면 가공 지그는 상기 배스 내에 삽입되어 이동 가능하게 구성될 수 있다.The glass side processing jig may be inserted into the bath and configured to be movable.
또, 상기 글라스 측면 가공 지그는 진동 가능하게 구성될 수 있다.In addition, the glass side processing jig may be configured to be able to vibrate.
몇몇 실시예에서 상기 글라스 측면 가공 설비는 상기 배스 내에 배치된 기포 발생부를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the glass side processing equipment may further include a bubble generating unit disposed in the bath.
또, 상기 배스는 순환 유로부를 더 포함하고, 상기 글라스 측면 가공 설비는 상기 순환 유로부를 통해 상기 식각액을 유동시키는 펌프를 더 포함할 수 있다.In addition, the bath may further include a circulation passage, and the glass side processing equipment may further include a pump for flowing the etchant through the circulation passage.
상기 글라스 측면 가공 지그는, 상기 배스의 바닥면에 수직한 방향으로 회전하도록 구성될 수 있다.The glass side processing jig may be configured to rotate in a direction perpendicular to the bottom surface of the bath.
상기 회전 유닛은, 상기 상판과 장착 및 탈착 가능한 제1 회전 유닛, 및 상기 하판과 장착 및 탈착 가능한 제2 회전 유닛을 포함할 수 있다.The rotation unit may include a first rotation unit attachable to and detachable from the upper plate, and a second rotation unit attachable to and detachable from the lower plate.
기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명에 포함되어 있다.Details of other embodiments are included in the detailed description.
본 발명의 실시예들에 따르면, 글라스의 측면 가공을 통해 글라스의 강도를 향상시킬 수 있다.According to embodiments of the present invention, it is possible to improve the strength of the glass through the side processing of the glass.
본 발명의 실시예들에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.Effects according to the embodiments of the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present specification.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법을 나타낸 순서도이다.
도 2 내지 도 8은 도 1의 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법을 나타낸 순서도이다.
도 10은 도 9의 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법의 글라스 측면 가공 지그를 나타낸 사시도이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그를 나타낸 분해사시도이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그를 나타낸 분해사시도이다.
도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비를 나타낸 모식도이다.
도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비를 나타낸 모식도이다.
도 15 내지 도 19는 각각 본 발명의 또 다른 실시예들에 따른 글라스 측면 가공 설비를 나타낸 모식도들이다.1 is a flow chart showing a side processing method of glass according to an embodiment of the present invention.
2 to 8 are views for explaining the side processing method of the glass according to the embodiment of FIG.
9 is a flowchart showing a side processing method of glass according to another embodiment of the present invention.
10 is a perspective view showing a glass side processing jig of the side processing method of the glass according to the embodiment of FIG.
11 is an exploded perspective view showing a glass side processing jig according to another embodiment of the present invention.
12 is an exploded perspective view showing a glass side processing jig according to another embodiment of the present invention.
13 is a schematic view showing a glass side processing equipment according to another embodiment of the present invention.
14 is a schematic diagram showing a glass side processing equipment according to another embodiment of the present invention.
15 to 19 are schematic views each showing a glass side processing equipment according to another embodiment of the present invention.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 즉, 본 발명이 제시하는 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있다. 아래 설명하는 실시예들은 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 이들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various different forms, and only the embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the person of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims. That is, various changes may be made to the embodiments presented by the present invention. It should be understood that the embodiments described below are not intended to limit the embodiments, and include all modifications, equivalents, and substitutions thereto.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used herein may be used with the meaning commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. In addition, terms defined in a commonly used dictionary are not to be interpreted ideally or excessively unless clearly defined in particular.
본 명세서에서, '및/또는'은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. 또, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 본 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. '내지'를 사용하여 나타낸 수치 범위는 그 앞과 뒤에 기재된 값을 각각 하한과 상한으로서 포함하는 수치 범위를 나타낸다. '약' 또는 '대략'은 그 뒤에 기재된 값 또는 수치 범위의 20% 이내의 값 또는 수치 범위를 의미한다.In this specification, 'and/or' includes each and every combination of one or more of the recited items. The singular also includes the plural, unless the phrase specifically states otherwise. As used herein, 'comprises' and/or 'comprising' does not exclude the presence or addition of one or more other components in addition to the stated components. Numerical ranges indicated using 'to' indicate numerical ranges including the values stated before and after them as lower and upper limits, respectively. 'About' or 'approximately' means a value or numerical range within 20% of the value or numerical range recited thereafter.
도면에 도시된 구성요소의 크기, 두께, 폭, 길이 등은 설명의 편의 및 명확성을 위해 과장 또는 축소될 수 있으므로 본 발명이 도시된 형태로 제한되는 것은 아니다.The size, thickness, width, length, etc. of the components shown in the drawings may be exaggerated or reduced for convenience and clarity of description, so the present invention is not limited to the illustrated form.
공간적으로 상대적인 용어인 '위(above)', '상부(upper)', ‘상(on)’, '아래(below)', '아래(beneath)', '하부(lower)' 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 '아래(below 또는 beneath)'로 기술된 소자는 다른 소자의 '위(above)'에 놓일 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 '아래'는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다.Spatially relative terms 'above', 'upper', 'on', 'below', 'beneath', 'lower', etc. As illustrated, it may be used to easily describe a correlation between one element or components and another device or components. A spatially relative term should be understood as a term that includes different directions of the device when used in addition to the directions shown in the drawings. For example, when an element shown in the drawing is turned over, an element described as 'below or beneath' of another element may be placed 'above' of the other element. Accordingly, the exemplary term 'down' may include both the direction of the bottom and the top.
또, 본 명세서에서, 제1 방향(X)은 평면 내 임의의 방향을 의미하고, 제2 방향(Y)은 상기 평면 내에서 제1 방향(X)과 교차하는 다른 방향을 의미한다. 또, 제3 방향(Z)은 상기 평면과 수직한 방향을 의미한다.In addition, in this specification, the first direction (X) means an arbitrary direction in the plane, and the second direction (Y) means another direction intersecting the first direction (X) in the plane. In addition, the third direction Z means a direction perpendicular to the plane.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법을 나타낸 순서도이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법은 글라스 셀을 커팅하는 단계(S110), 글라스 라미네이트를 형성하는 단계(S120), 글라스 라미네이트를 지그에 실장 및 고정하는 단계(S130), 글라스 라미네이트를 식각액에 침지하는 단계(S140), 글라스 라미네이트를 일 방향으로 회전하는 단계(S150) 및 글라스 라미네이트를 타 방향으로 회전하는 단계(S160)를 포함한다.1 is a flowchart showing a side processing method of glass according to an embodiment of the present invention. The side processing method of glass according to an embodiment of the present invention comprises the steps of cutting a glass cell (S110), forming a glass laminate (S120), mounting and fixing the glass laminate to a jig (S130), glass laminate A step of immersing in the etchant (S140), the step of rotating the glass laminate in one direction (S150) and the step of rotating the glass laminate in the other direction (S160).
우선 원장 글라스(mother glass)를 글라스 셀(glass cell)로 절단한다(S110). 절단의 방법은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어 스크라이빙 휠을 이용한 스크라이빙 커팅, 플라즈마를 이용한 플라즈마 커팅, 워터젯 커팅 등을 들 수 있으나 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.First, the mother glass is cut into a glass cell (S110). The cutting method is not particularly limited, but, for example, scribing cutting using a scribing wheel, plasma cutting using plasma, waterjet cutting, etc. may be mentioned, but the present invention is not limited thereto.
도면으로 표현하지 않았으나, 글라스를 절단한 후에 글라스를 원하는 형상으로 가공하는 단계를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 2에 도시된 것과 같이 대략 직사각형 형상의 글라스 셀의 각 코너 부근을 라운드 가공하거나, 모따기(chamfering) 가공할 수 있다. 다른 예를 들어, 글라스를 직사각형 형상이 아니라 원형으로 가공하거나, 오각형, 육각형 내지는 팔각형 등의 다각형 형상으로 가공할 수 있다.Although not represented in the drawings, the method may further include processing the glass into a desired shape after cutting the glass. For example, as shown in FIG. 2 , the vicinity of each corner of the glass cell having an approximately rectangular shape may be round or chamfered. For another example, the glass may be processed into a circular shape rather than a rectangular shape, or may be processed into a polygonal shape such as a pentagon, a hexagon, or an octagon.
도 2는 글라스 라미네이트를 형성하는 단계(S120)를 나타낸 모식도이다. 도 2를 더 참조하면, 복수의 글라스(G)들을 적층하여 글라스 라미네이트(GL) 내지는 글라스 적층체를 형성한다(S120). 2 is a schematic view showing the step (S120) of forming a glass laminate. Referring further to FIG. 2 , a glass laminate GL or a glass laminate is formed by stacking a plurality of glasses G ( S120 ).
본 단계에서 각 글라스(G)의 두께는 약 100㎛ 이하, 또는 약 90㎛ 이하, 또는 약 80㎛ 이하, 또는 약 70㎛ 이하, 또는 약 60㎛ 이하, 또는 약 50㎛ 이하일 수 있다.In this step, the thickness of each glass G may be about 100 μm or less, or about 90 μm or less, or about 80 μm or less, or about 70 μm or less, or about 60 μm or less, or about 50 μm or less.
각 글라스(G) 사이에는 접착층(미도시)이 배치된 상태일 수 있다. 접착층은 자외선 등의 광 조사에 의해 경화되는 광 경화성 접착제, 또는 광 조사에 의해 분해되거나, 적어도 유연해지는 광 분해성 접착제일 수 있다. 접착층을 통해 제3 방향(Z)으로 중첩하는 글라스(G)들은 서로 고정된 상태일 수 있다. 몇몇 실시예에서, 인접한 글라스(G)들 사이에 배치된 접착층으로 인해 인접한 글라스(G)들은 제3 방향(Z)으로 소정 거리, 예컨대 약 0.1㎛ 이상, 또는 약 0.3㎛ 이상, 또는 약 0.5㎛ 이상, 또는 약 1.0㎛ 이상, 또는 약 5㎛ 이상 이격된 상태일 수 있다.An adhesive layer (not shown) may be disposed between each glass G. The adhesive layer may be a photo-curable adhesive that is cured by irradiation with light such as ultraviolet rays, or a photo-decomposable adhesive that is decomposed or at least becomes flexible by irradiation with light. The glasses G overlapping in the third direction Z through the adhesive layer may be in a fixed state. In some embodiments, due to the adhesive layer disposed between the adjacent glasses G, the adjacent glasses G are separated by a predetermined distance in the third direction Z, for example, about 0.1 μm or more, or about 0.3 μm or more, or about 0.5 μm. or more, or about 1.0 μm or more, or about 5 μm or more, may be spaced apart.
또, 도 2는 대략 20개의 글라스(G)가 적층되어 글라스 라미네이트(GL)를 형성한 경우를 예시하고 있으나 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며, 글라스 라미네이트(GL)는 제3 방향(Z)으로 중첩 내지는 적층된 약 5개 이하의 글라스(G), 또는 약 10개 이하의 글라스(G), 또는 약 25개 이상의 글라스(G), 또는 약 50개 이상의 글라스(G)를 포함할 수 있다. In addition, FIG. 2 illustrates a case in which approximately 20 pieces of glass G are stacked to form a glass laminate GL, but the present invention is not limited thereto. It may include about 5 or less glasses (G), or about 10 or less glasses (G), or about 25 or more glasses (G), or about 50 or more glasses (G) overlapped or laminated.
다른 실시예에서, 복수의 글라스(G)를 적층하여 글라스 라미네이트(GL)를 형성하는 대신에, 하나의 글라스(G)를 이용하여 글라스의 측면 가공 방법을 수행할 수 있다. 즉, 바람직한 실시예로서 복수의 글라스(G)를 적층하여 글라스 라미네이트(GL)를 형성하고, 글라스 라미네이트(GL)를 이용하여 측면 가공을 수행하는 경우를 예로 하여 설명하기 위해 글라스(G)와 글라스 라미네이트(GL)를 구별하여 지칭하나, 하나의 원장 글라스 또는 하나의 글라스 셀을 이용하여 측면 가공이 이루어질 수도 있다. 따라서 본 명세서에서 사용되는 용어 '글라스'는 낱장의 글라스(G) 뿐 아니라 글라스 라미네이트(GL)를 포함하는 의미로 이해되어야 한다.In another embodiment, instead of stacking a plurality of glasses (G) to form a glass laminate (GL), the side surface processing method of the glass may be performed using one glass (G). That is, as a preferred embodiment, in order to explain a case where a glass laminate (GL) is formed by laminating a plurality of glasses (G) and side processing is performed using the glass laminate (GL) as an example, the glass (G) and the glass Although the laminate (GL) is referred to separately, side processing may be performed using one led glass or one glass cell. Therefore, the term 'glass' used in this specification should be understood to include not only a sheet of glass (G) but also a glass laminate (GL).
한편, 본 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법은 원장 글라스를 글라스 셀(G)로 커팅(S110)한 다음 글라스 라미네이트(GL)를 형성(S120)하는 경우를 예시하고 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 다른 실시예에서, 글라스 접착 공정의 효율화를 도모하기 위해 원장 글라스를 이용하여 글라스 라미네이트를 형성한 다음, 글라스 라미네이트를 커팅하는 단계를 수행할 수도 있다.On the other hand, the side processing method of the glass according to this embodiment exemplifies the case of cutting the led glass into a glass cell (G) (S110) and then forming a glass laminate (GL) (S120), but the present invention is limited thereto it's not going to be In another embodiment, in order to increase the efficiency of the glass bonding process, a step of cutting the glass laminate may be performed after forming a glass laminate using the ledger glass.
도면으로 표현하지 않았으나, 적층된 글라스 라미네이트(GL)의 측면을 물리적으로 가공하는 단계를 더 포함할 수 있다. 글라스 라미네이트(GL)의 측면을 연마하여 조도를 감소시키거나, 표면 거칠기를 균일하게 형성할 수 있다. 측면을 연마 내지는 가공하는 방법은 공지의 방법을 이용할 수 있다.Although not shown in the drawings, the method may further include physically processing the side surface of the laminated glass laminate (GL). By grinding the side surface of the glass laminate (GL), the roughness may be reduced or the surface roughness may be uniformly formed. As a method of grinding or processing the side surface, a known method can be used.
본 단계에서, 각 글라스(G)들의 측면은 두께 방향, 예컨대 제3 방향(Z)으로 연장된 상태일 수 있다.In this step, the side surfaces of each of the glasses G may be extended in the thickness direction, for example, the third direction Z.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그(11)를 나타낸 분해사시도이다. 도 3을 더 참조하면, 글라스 라미네이트(GL)를 지그(11)의 하판(111)과 상판(121) 사이에 개재하고 고정한다(S130).Figure 3 is an exploded perspective view showing the glass
글라스 측면 가공 지그(11)는 서로 제3 방향(Z)으로 이격된 하판(111)과 상판(121) 및 하판(111)과 상판(121) 사이의 이격 거리를 조절하고 고정하도록 구성된 하나 이상의 포스트(301)를 포함하고, 하판(111)과 상판(121) 사이에 개재된 하나 이상의 버퍼판(211, 221), 하판(111)과 상판(121) 중 적어도 하나와 결합된 회전 유닛(401)을 더 포함할 수 있다.The glass
하판(111)과 상판(121)은 각각 플레이트(plate) 형상이고, 실질적으로 동일한 형상일 수 있다. 하판(111)과 상판(121)은 각각 글라스 라미네이트(GL)의 하면과 상면을 커버하고, 수평 방향(예컨대, 제1 방향(X)과 제2 방향(Y)이 속하는 방향)으로 회전 가능하게 구성된 글라스 측면 가공 지그(11)의 바디를 형성하는 부분일 수 있다. 하판(111)과 상판(121)은 각각 임의의 식각액에 대해 실질적으로 반응성을 갖지 않거나, 실리케이트 함유 글라스에 비해 현저하게 반응성이 낮은 금속 재질로 이루어질 수 있다.The
하판(111)과 상판(121)은 각각 하부 관통홀(111h)과 상부 관통홀(121h)을 가질 수 있다. 하부 관통홀(111h)은 하판(111)을 제3 방향(Z)으로 관통하는 홀 내지는 개구이고, 상부 관통홀(121h)은 상판(121)을 제3 방향(Z)으로 관통하는 홀 내지는 개구일 수 있다. 하부 관통홀(111h)과 상부 관통홀(121h)에는 포스트(301)가 적어도 부분적으로 삽입될 수 있다.The
포스트(301)는 하판(111)과 상판(121) 사이의 이격 거리를 조절하는 구성일 수 있다. 후술할 바와 같이 글라스 측면 가공 지그(11)에 실장된 글라스 라미네이트(GL)는 식각액에 침지되어 식각액에 의해 측면이 화학적으로 가공될 수 있다. 따라서 의도치 않은 영역, 예컨대 글라스 라미네이트(GL)의 하면과 상면의 식각을 방지하기 위해서는 글라스 라미네이트(GL)와 하판 및 상판(121)이 밀착되어 글라스 라미네이트(GL)의 하면과 상면을 노출시키지 않는 것이 중요하다. The
예시적인 실시예에서, 포스트(301)는 제3 방향(Z)으로의 길이가 조절될 수 있는 볼트 부재(311) 및 너트 부재(321)를 포함하여 이루어질 수 있다. 볼트 부재(311)는 상판(121) 측으로부터 삽입되어 상부 관통홀(121h) 및 하부 관통홀(111h)을 관통 배치될 수 있다. 또, 너트 부재(321)는 하부 관통홀(111h)을 통해 관통된 볼트 부재(311)와 결합될 수 있다. 이를 통해 볼트 부재(311)의 헤드부와 너트 부재(321) 사이에 개재된 하판(111), 상판(121) 및 글라스 라미네이트(GL)는 제3 방향(Z)으로의 위치가 견고하게 고정될 수 있고, 후술할 바와 같이 글라스 측면 가공 지그(11)가 고속으로 회전하는 경우에도 글라스 라미네이트(GL)가 그 위치를 이탈하지 않고 고정될 수 있다.In an exemplary embodiment, the
도 3은 포스트(301)가 글라스 라미네이트(GL)의 제1 방향(X) 양측 및 제2 방향(Y) 양측에 배치되어 총 4개 배치된 경우를 예시하나 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 또, 각 포스트(301)는 글라스 라미네이트(GL)와 이격되어 배치될 수 있다. 포스트(301)와 글라스 라미네이트(GL) 간의 수평 이격 거리는 약 0.5mm 이상, 또는 약 1.0mm 이상, 또는 약 1.5mm 이상, 또는 약 2.0mm 이상, 또는 약 3.0mm 이상, 또는 약 5.0mm 이상일 수 있다. 포스트(301)와 글라스 라미네이트(GL)가 맞닿거나, 또는 지나치게 인접할 경우 식각액이 글라스 라미네이트(GL)의 측면과 접촉하는 효율이 낮아져, 글라스 라미네이트(GL)의 측면 가공이 불균일해져 글라스(G)의 강화 품질이 저하될 수 있다.3 illustrates a case in which a total of four
몇몇 실시예에서, 글라스 측면 가공 지그(11)는 하판(111)과 상판(121) 사이에 개재된 하부 버퍼판(211) 및/또는 상부 버퍼판(221)을 더 포함할 수 있다. 하부 버퍼판(211)은 글라스 라미네이트(GL)와 하판(111) 사이에 개재되고, 상부 버퍼판(221)은 글라스 라미네이트(GL)와 상판(121) 사이에 개재될 수 있다. 하부 버퍼판(211) 및/또는 상부 버퍼판(221)은 글라스 라미네이트(GL)의 위치 이탈을 방지하는 기능을 할 수 있다. 또, 하판(111) 및/또는 상판(121)이 금속 재질로 이루어지는 경우, 글라스 라미네이트(GL)가 하판(111) 및 상판(121)과 직접 맞닿을 경우 글라스 라미네이트(GL)에 손상을 야기할 수 있다. 따라서 하부 버퍼판(211) 및 상부 버퍼판(221)은 글라스 라미네이트(GL)를 보호하여 파손을 최소화하는 기능을 할 수 있다.In some embodiments, the glass
전술한 바와 같이 글라스 라미네이트(GL)는 그 하면과 상면이 완전히 커버되는 것이 바람직하고, 지그(11)가 고속으로 회전하는 경우에도 글라스 라미네이트(GL)의 수평 방향으로의 위치가 온전히 고정된 상태여야 한다. 따라서 하부 버퍼판(211) 및/또는 상부 버퍼판(221)은 글라스 라미네이트(GL)와 밀착이 용이하고, 소정의 마찰력을 제공하는 재질로 이루어질 수 있다. 하부 버퍼판(211) 및 상부 버퍼판(221)의 재질은 식각액의 성분에 따라 선택될 수 있으나, 예를 들어 식각액에 대해 반응성이 낮고 소정의 탄성을 갖는 내화성 합성 수지, 예컨대 실리콘(silicone) 계열 합성 수지일 수 있다. 다만 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.As described above, it is preferable that the lower and upper surfaces of the glass laminate (GL) are completely covered, and even when the
몇몇 실시예에서, 하부 버퍼판(211) 및/또는 상부 버퍼판(221)의 평면상 크기는 하판(111) 및 상판(121) 보다 작고, 글라스 라미네이트(GL) 보다 클 수 있다. 또, 하부 버퍼판(211) 및 상부 버퍼판(221)은 하부 관통홀(111h) 및 상부 관통홀(121h)과 제3 방향(Z)으로 중첩하지 않도록 배치될 수 있다.In some embodiments, the planar size of the
회전 유닛(401)은 지그(11)의 상판(121)과 결합된 상태일 수 있다. 회전 유닛(401)은 대략 제3 방향(Z)으로 연장된 축을 기준으로 지그(11)를 제1 방향(X)과 제2 방향(Y)이 속하는 수평 방향으로 회전시킬 수 있다. 도면으로 표현하지 않았으나, 회전 유닛(401)은 모터 등의 구동기를 포함할 수 있다.The
전술한 구성을 갖는 글라스 측면 가공 지그(11)에 글라스 라미네이트(GL)를 실장하여 제3 방향(Z)으로의 위치, 및 수평 방향으로의 위치를 견고하게 고정할 수 있다.By mounting the glass laminate (GL) on the glass
도 4는 글라스 측면 가공 지그(11)에 글라스 라미네이트(GL)를 실장하여 식각액(ET)에 침지하는 단계(S140)를 나타낸 모식도이다. 도 4를 더 참조하면, 글라스 라미네이트(GL)를 식각액(ET)에 침지한다(S140).4 is a schematic diagram illustrating the step (S140) of mounting the glass laminate (GL) on the glass
본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(1)는 식각액(ET)이 수용되도록 구성된 배스(20) 및 전술한 글라스 측면 가공 지그(11)를 포함할 수 있다. 식각액(ET)은 실리케이트 함유 글라스(G) 또는 글라스 라미네이트(GL)와 반응성 내지는 식각성이 우수한 식각액을 이용하거나, 원하는 식각율(etching rate)을 갖는 식각액을 선택할 수 있으며, 본 발명이 특별히 제한되는 것은 아니다. 도면으로 표현하지 않았으나, 배스(20)는 그 내부에 수용된 식각액(ET)의 온도를 제어할 수 있는 수단을 더 포함할 수 있다.The glass
도 5 및 도 6은 글라스 라미네이트(GL)를 일 방향으로 회전하는 제1 회전 단계(S150)를 나타낸 모식도이다. 도 5 및 도 6을 더 참조하면, 글라스 라미네이트(GL)를 지그(11)에 고정한 상태에서 일 방향으로 회전시킨다(S150). 도 5 등은 본 단계에서 글라스 라미네이트(GL)를 시계 방향으로 회전시키는 경우를 예시한다.5 and 6 are schematic views illustrating a first rotating step (S150) of rotating the glass laminate (GL) in one direction. 5 and 6, the glass laminate GL is rotated in one direction while being fixed to the jig 11 (S150). 5 and the like illustrate a case in which the glass laminate GL is rotated clockwise in this step.
본 단계와 같이 글라스 라미네이트(GL)를 식각액(ET) 내에서 회전시켜 소정의 식각율로 글라스 라미네이트(GL)를 식각시킴으로써 글라스(G) 및 글라스 라미네이트(GL)의 측면을 식각할 수 있다. 각 글라스(G)의 측면은 경사를 갖도록 가공되며, 글라스(G)의 상면 및 하면과 연결될 수 있다. 다시 말해서, 측면이 선택적으로 식각된 각 글라스(G)의 측면은 제3 방향(Z)으로 연장된 면 및 경사면을 포함할 수 있다. 이에 따라 제3 방향(Z)으로 적층된 복수의 글라스(G)들 사이에는 대략 쐐기 형상의 골이 형성될 수 있다. As in this step, the glass G and the side surfaces of the glass laminate GL may be etched by rotating the glass laminate GL in the etching solution ET to etch the glass laminate GL at a predetermined etch rate. The side surface of each glass (G) is processed to have an inclination, and may be connected to the upper and lower surfaces of the glass (G). In other words, the side surface of each glass G on which the side surface is selectively etched may include a surface extending in the third direction (Z) and an inclined surface. Accordingly, a substantially wedge-shaped valley may be formed between the plurality of glasses G stacked in the third direction Z.
제1 회전 단계(S150)(또는 제1 식각 단계)에서 지그(11)의 회전 속도는 요구되는 글라스(G)의 측면 형상에 따라 적절히 선택될 수 있으나, 예를 들어 약 60rpm 이상, 또는 약 180rpm 이상, 또는 약 300rpm 이상, 또는 약 600rpm 이상, 또는 약 1,000rpm 이상일 수 있다.The rotation speed of the
글라스 라미네이트(GL)를 일 방향, 예컨대 시계 방향으로 회전할 경우, 글라스 라미네이트(GL)의 측면은 위치 별로 식각되는 정도에 차이가 발생할 수 있다. 예를 들어, 글라스 라미네이트(GL)의 어느 코너(도 6의 좌하단 코너)에 시계 방향으로 인접한 측면(이하, 제1 측면)은 상대적으로 식각이 많이 수행되는 반면, 상기 어느 코너에 반시계 방향으로 인접한 측면(이하, 제2 측면)은 상대적으로 식각이 적게 수행될 수 있다.When the glass laminate GL is rotated in one direction, for example, in a clockwise direction, a difference may occur in the degree of etching of the side surface of the glass laminate GL for each location. For example, a side (hereinafter, the first side) adjacent to any corner (lower left corner of FIG. 6 ) of the glass laminate GL in a clockwise direction is etched in a relatively large amount, whereas a counterclockwise direction is performed at any corner of the glass laminate (GL). A side (hereinafter, referred to as a second side) adjacent to each other may be etched relatively little.
본 단계가 수행된 이후, 비제한적인 예시로, 각 글라스(G)의 제1 측면에 형성된 경사면의 제1 경사각(θ1)은 제2 측면에 형성된 경사면의 제2 경사각(θ2) 보다 클 수 있다. 상기 용어 '경사각'은 어느 글라스(G)의 면 방향(즉, 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)이 속하는 방향)에 대해 경사면이 이루는 각도를 의미한다.After this step is performed, as a non-limiting example, the first inclination angle θ1 of the inclined surface formed on the first side of each glass G may be greater than the second inclination angle θ2 of the inclined surface formed on the second side. . The term 'inclination angle' refers to an angle formed by an inclined surface with respect to a surface direction of a certain glass G (ie, a direction to which the first direction (X) and the second direction (Y) belong).
다른 비제한적인 예시로, 각 글라스(G)의 제1 측면의 제1 침투 깊이(D1)는 제2 측면의 제2 침투 깊이(D2) 보다 클 수 있다. 상기 용어 '침투 깊이'는 최초 글라스(G)의 측면에 비해 쐐기 형상의 골이 형성되며 내측으로 만입된 수평 방향으로의 길이를 의미한다.As another non-limiting example, the first penetration depth D1 of the first side of each glass G may be greater than the second penetration depth D2 of the second side surface. The term 'penetration depth' refers to a length in the horizontal direction in which a wedge-shaped trough is formed compared to the side of the initial glass (G) and indented inward.
도 7 및 도 8은 글라스 라미네이트(GL)를 타 방향으로 회전하는 제2 회전 단계(S160)를 나타낸 모식도이다. 도 7 및 도 8을 더 참조하면, 글라스 라미네이트(GL)를 지그(11)에 고정한 상태에서 타 방향으로 회전시킨다(S160). 도 7 등은 본 단계에서 글라스 라미네이트(GL)를 반시계 방향으로 회전시키는 경우를 예시한다.7 and 8 are schematic views showing the second rotation step (S160) of rotating the glass laminate (GL) in the other direction. Referring further to FIGS. 7 and 8 , the glass laminate GL is rotated in the other direction while being fixed to the jig 11 ( S160 ). 7 illustrates a case in which the glass laminate GL is rotated counterclockwise in this step.
제2 회전 단계(S160)(또는 제2 식각 단계)를 통해 제1 회전 단계(S150)에서 발생한 위치별 식각의 불균일성을 해소하고, 글라스(G)의 식각 균일성을 더욱 향상시킬 수 있다.Through the second rotation step (S160) (or the second etching step), it is possible to solve the non-uniformity of the etching for each position generated in the first rotation step (S150), and to further improve the etching uniformity of the glass (G).
예를 들어, 글라스 라미네이트(GL)를 타 방향, 예컨대 반시계 방향으로 회전할 경우, 글라스 라미네이트(GL)의 어느 코너(도 8 기준 우하단 코너)에 시계 방향으로 인접한 측면(이하, 제3 측면)은 상대적으로 식각이 적게 수행되는 반면, 상기 어느 코너에 반시계 방향으로 인접한 측면(이하, 제4 측면)은 상대적으로 식각이 많이 수행될 수 있다. 즉, 제1 회전 단계(S150)와 제2 회전 단계(S160)를 수행하여 글라스 라미네이트(GL)를 전체적으로 대략 균일하게 식각할 수 있다.For example, when the glass laminate GL is rotated in another direction, for example, counterclockwise, a side (hereinafter, the third side surface) adjacent to any corner (lower right corner in FIG. 8 ) of the glass laminate GL in a clockwise direction. ), while relatively little etching is performed, a side (hereinafter, the fourth side) adjacent to the certain corner in a counterclockwise direction may be etched relatively much. That is, the glass laminate GL may be etched substantially uniformly as a whole by performing the first rotation step S150 and the second rotation step S160 .
본 단계가 수행된 이후, 비제한적인 예시로, 각 글라스(G)의 제3 측면에 형성된 경사면의 제3 경사각(θ3)은 제4 측면에 형성된 경사면의 제4 경사각(θ4)과 실질적으로 동일하거나, 그 차이가 약 10% 이내, 또는 약 9% 이내, 또는 약 8% 이내, 또는 약 7% 이내, 또는 약 6% 이내, 또는 약 5% 이내, 또는 약 4% 이내, 또는 약 3% 이내, 또는 약 2% 이내, 또는 약 1% 이내일 수 있다.After this step is performed, as a non-limiting example, the third inclination angle θ3 of the inclined surface formed on the third side of each glass G is substantially the same as the fourth inclination angle θ4 of the inclined surface formed on the fourth side or the difference is within about 10%, or within about 9%, or within about 8%, or within about 7%, or within about 6%, or within about 5%, or within about 4%, or within about 3%. within, or within about 2%, or within about 1%.
제3 경사각(θ3) 및 제4 경사각(θ4)은 전술한 제1 경사각(θ1) 및 제2 경사각(θ2) 보다 클 수 있다. 제3 경사각(θ3) 및 제4 경사각(θ4)은 대략 20도 내지 45도, 또는 약 25도 내지 40도, 또는 약 30도 내지 35도 범위에 있을 수 있다.The third inclination angle θ3 and the fourth inclination angle θ4 may be greater than the above-described first inclination angle θ1 and the second inclination angle θ2 . The third inclination angle θ3 and the fourth inclination angle θ4 may be in a range of about 20 degrees to 45 degrees, or about 25 degrees to 40 degrees, or about 30 degrees to 35 degrees.
다른 비제한적인 예시로, 각 글라스(G)의 제3 측면의 제3 침투 깊이(D3)는 제4 침투 깊이(D4)와 실질적으로 동일하거나, 그 차이가 약 10% 이내, 또는 약 9% 이내, 또는 약 8% 이내, 또는 약 7% 이내, 또는 약 6% 이내, 또는 약 5% 이내, 또는 약 4% 이내, 또는 약 3% 이내, 또는 약 2% 이내, 또는 약 1% 이내일 수 있다.As another non-limiting example, the third penetration depth D3 of the third side of each glass G is substantially the same as the fourth penetration depth D4, or the difference is within about 10%, or about 9% or less than about 8%, or about 7% or less, or about 6% or less, or about 5% or less, or about 4% or less, or about 3% or less, or about 2% or less, or about 1% or less can
제3 침투 깊이(D3) 및 제4 침투 깊이(D4)는 전술한 제1 침투 깊이(D1) 및 제2 침투 깊이(D2) 보다 클 수 있다. 제3 침투 깊이(D3) 및 제4 침투 깊이(D4)는 약 1.0㎛ 이상, 또는 약 3.0㎛ 이상, 또는 약 5.0㎛ 이상, 또는 약 10㎛ 이상, 또는 약 20㎛ 이상, 또는 약 30㎛ 이상, 또는 약 50㎛ 이상, 또는 약 100㎛ 이상일 수 있다. 제3 침투 깊이(D3) 및 제4 침투 깊이(D4)의 상한은 약 1,000㎛일 수 있다. 제3 침투 깊이(D3) 및 제4 침투 깊이(D4)가 너무 클 경우 글라스(G)의 측면 경사면의 길이가 증가하고, 글라스(G)의 측면이 날카로운 형상으로 가공되거나, 또는 되려 글라스(G)의 측면 강도가 저하될 수 있다.The third penetration depth D3 and the fourth penetration depth D4 may be greater than the aforementioned first penetration depth D1 and the second penetration depth D2. The third penetration depth D3 and the fourth penetration depth D4 are at least about 1.0 μm, or at least about 3.0 μm, or at least about 5.0 μm, or at least about 10 μm, or at least about 20 μm, or at least about 30 μm. , or about 50 μm or more, or about 100 μm or more. An upper limit of the third penetration depth D3 and the fourth penetration depth D4 may be about 1,000 μm. When the third penetration depth D3 and the fourth penetration depth D4 are too large, the length of the side slope of the glass G increases, and the side surface of the glass G is processed into a sharp shape, or the glass G ) may decrease the lateral strength.
제2 회전 단계(S160)에서 지그(11)의 회전 속도는 제1 회전 단계(S150)에서의 회전 속도 보다 작을 수 있다. 앞서 설명한 제1 회전 단계(S150)의 제1 측면은 제2 회전 단계(S160)의 제3 측면에 상응하는 위치이고, 제1 회전 단계(S150)의 제2 측면은 제2 회전 단계(S160)의 제4 측면에 상응하는 위치일 수 있다. 전술한 것과 같이 제1 회전 단계(S150)는 제1 측면(및 제3 측면)의 식각이 상대적으로 지배적으로 이루어지고, 제2 회전 단계(S160)는 제2 측면(및 제4 측면)의 식각이 상대적으로 지배적으로 이루어질 수 있다. 그러나 제1 회전 단계(S150)에서도 제2 측면(및 제4 측면)의 식각이 수행되기 때문에 제2 회전 단계(S160)에서 이루어지는 총 식각양(또는 식각률, 단위 시간당 식각 속도, 식각 마모도, 최대 식각도, 식각 범위)은 제1 회전 단계(S150)에서 이루어지는 총 식각양 보다 적도록 구성할 수 있다.The rotation speed of the
또한, 제2 회전 단계(S160)의 수행 시간은 글라스(G)와 식각액(ET)의 조성, 이들 간의 반응성, 회전 속도 등을 고려하여 제어될 수 있으나, 제2 회전 단계(S160)의 수행 시간은 제1 회전 단계(S150) 보다 더 짧게 수행될 수 있다.In addition, the execution time of the second rotation step (S160) may be controlled in consideration of the composition of the glass (G) and the etchant (ET), the reactivity between them, the rotation speed, etc., but the execution time of the second rotation step (S160) may be performed shorter than the first rotation step ( S150 ).
본 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법에 따르면, 포스트(301)의 제3 방향(Z)으로의 길이 조절을 통해 글라스 라미네이트(GL)를 하판(111)과 상판(121) 사이에 우수하게 밀착시킬 수 있다. 따라서 글라스 라미네이트(GL)의 상면과 하면이 의도치 않게 식각되는 것을 완화할 수 있다. 또, 지그(11)를 이용한 회전 단계에서 글라스 라미네이트(GL)가 위치를 이탈하여 해당 로뜨(lot)를 폐기해야 하는 공정 불량을 방지할 수 있다.According to the side processing method of the glass according to the present embodiment, the glass laminate GL is excellently adhered between the
또, 글라스 라미네이트(GL)를 식각액(ET)에 침지하여 식각함에 있어서, 일 방향으로만 회전했을 경우 글라스(G)의 측면 가공에도 불구하고 강도가 향상되는 정도가 미비한 점을 확인하고, 이러한 문제가 글라스(G)의 위치별 측면 형상의 불균일성에 기인한 것임에 착안하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법과 같이 글라스 라미네이트(GL)를 일 방향 및 타 방향으로 회전시키되, 각 회전 단계에서 소정의 공정 조건을 부여하여 글라스의 측면 가공 공정을 개선하고 글라스(G)의 강도를 향상시킬 수 있다.In addition, when the glass laminate (GL) is immersed in the etching solution (ET) and etched, when the glass laminate (GL) is rotated in only one direction, it is confirmed that the degree of strength improvement is insufficient despite the side processing of the glass (G), and this problem The present invention was completed by paying attention to the fact that it is due to the non-uniformity of the side shape for each position of the glass (G). That is, the glass laminate (GL) is rotated in one direction and the other direction as in the side processing method of glass according to the present embodiment, and predetermined process conditions are given in each rotation step to improve the side processing process of the glass and The strength of G) can be improved.
다른 실시예에서, 제1 회전 단계(S150)와 제2 회전 단계(S160)의 수행 시간은 실질적으로 동일하고, 제1 회전 단계(S150)와 제2 회전 단계(S160)의 회전 속도는 실질적으로 동일할 수도 있다.In another embodiment, the execution time of the first rotating step S150 and the second rotating step S160 is substantially the same, and the rotational speed of the first rotating step S150 and the second rotating step S160 is substantially may be the same.
이하, 본 발명의 다른 실시예들에 대하여 설명한다. 다만 전술한 일 실시예와 동일하거나, 극히 유사한 구성에 대한 설명은 생략하며, 이는 첨부된 도면으로부터 본 기술분야에 속하는 통상의 기술자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.Hereinafter, other embodiments of the present invention will be described. However, the description of the same or extremely similar configuration to the above-described embodiment will be omitted, which will be clearly understood by those skilled in the art from the accompanying drawings.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법을 나타낸 순서도이다. 도 10은 도 9의 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법의 글라스 측면 가공 지그(12)를 나타낸 사시도이다.9 is a flowchart illustrating a side processing method of glass according to another embodiment of the present invention. 10 is a perspective view showing the glass
우선 도 9를 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법은 글라스 셀을 커팅하는 단계(S210), 글라스 라미네이트를 형성하는 단계(S220), 글라스 라미네이트를 지그에 실장 및 고정하는 단계(S230), 글라스 라미네이트를 식각액에 침지하는 단계(S240), 글라스 라미네이트를 일 방향으로 회전하는 단계(S250) 및 글라스 라미네이트를 타 방향으로 회전하는 단계(S260)를 포함한다.First, referring to FIG. 9 , the side processing method of glass according to the present embodiment includes the steps of cutting a glass cell (S210), forming a glass laminate (S220), and mounting and fixing the glass laminate to a jig (S230). ), immersing the glass laminate in the etchant (S240), rotating the glass laminate in one direction (S250) and rotating the glass laminate in the other direction (S260).
원장 글라스를 글라스 셀로 절단하고(S210), 글라스 라미네이트를 형성(S220)하는 단계들에 대해서는 전술한 바 있으므로 중복되는 설명은 생략한다.Since the steps of cutting the ledger glass into a glass cell (S210) and forming a glass laminate (S220) have been described above, the overlapping description will be omitted.
본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그(12)는 하판(111)과 상판(121), 포스트(301) 및 하나 이상의 버퍼판(211)과 회전 유닛(412, 422)을 포함하되, 힌지 유닛(510, 520)을 더 포함하는 점이 도 3 등의 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그(11)와 상이한 점이다.The glass
힌지 유닛(510, 520)은 글라스 라미네이트(GL)의 하부, 즉 하판(111)과 결합된 제1 힌지 유닛(510)과 글라스 라미네이트(GL)의 상부, 즉 상판(121)과 결합된 제2 힌지 유닛(520)을 포함할 수 있다. 또, 제1 힌지 유닛(510)은 제1 힌지부(511) 및 제1 로드부(512)를 포함하고, 제2 힌지 유닛(520)은 제2 힌지부(521) 및 제2 로드부(522)를 포함할 수 있다.The
제1 힌지부(511)는 제3 방향(Z)으로 연장된 제1 회전 유닛(412)의 축 하단에 결합되고, 제2 힌지부(521)는 제3 방향(Z)으로 연장된 제2 회전 유닛(422)의 축 상단에 결합될 수 있다. 제1 힌지부(511)와 제2 힌지부(521)는 각각 그것을 중심으로 주변의 구성요소를 회동(회전 동작, 또는 힌지 회동)시킬 수 있다. 구체적으로, 제1 힌지부(511)와 제2 힌지부(521)는 하판(111)과 상판(121)을 포함하는 지그(12)의 몸체를 대략 제2 방향(Y)과 제3 방향(Z)이 속하는 평면 상에서 시계 방향으로 회전시키도록 구성될 수 있다. 제1 힌지부(511)는 제1 로드부(512)와 연결되고, 제2 힌지부(521)는 제2 로드부(522)와 연결될 수 있다. 전술한 바와 같이 지그(12)의 몸체가 제2 방향(Y)과 제3 방향(Z)이 속하는 평면에서 시계 방향으로 회전하도록 구성될 경우, 제1 로드부(512)와 제2 로드부(522)는 각각 제2 방향(Y) 일측과 타측으로 연장된 상태일 수 있다. 힌지부(511, 521)의 작동에 대해서는 제2 회전 단계(S260)와 함께 구체적으로 설명한다.The
그 외 포스트(301), 하부 버퍼판(211)과 상부 버퍼판에 대해서는 전술한 바 있으므로 중복되는 설명은 생략한다. 전술한 구성을 갖는 글라스 측면 가공 지그(12)에 글라스 라미네이트(GL)를 실장하여 제3 방향(Z)으로의 위치 및 수평 방향으로의 위치를 견고하게 고정(S230)할 수 있다.Since the
이어서 글라스 라미네이트(GL)를 식각액에 침지하고(S240), 지그(12)에 적재된 글라스 라미네이트(GL)를 일 방향으로 회전시킨다(제1 회전 단계, 또는 제1 식각 단계)(S250). 본 단계들에 대해서는 전술한 바 있으므로 중복되는 설명은 생략한다.Subsequently, the glass laminate GL is immersed in an etchant (S240), and the glass laminate GL loaded on the
그리고 제1 회전 단계(S250)를 수행한 후 제2 회전 단계(또는 제2 식각 단계)(S260)를 수행한다. 예시적인 실시예에서, 제2 회전 단계(S260)는 글라스 라미네이트(GL)를 뒤집는 단계(S261) 및 글라스 라미네이트(GL)를 상기 일 방향으로 회전시키는 단계(S262)를 포함할 수 있다. After performing the first rotation step (S250), a second rotation step (or a second etching step) (S260) is performed. In an exemplary embodiment, the second rotating step S260 may include turning the glass laminate GL over ( S261 ) and rotating the glass laminate GL in the one direction ( S262 ).
즉, 복수의 글라스(G)를 포함하는 글라스 라미네이트(GL)를 이용하여 본 단계가 수행되는 경우, 글라스 라미네이트를 뒤집는 단계(S261)에서, 최초 최상부에 위치하던 글라스는 최하부로 위치하고, 최초 최하부에 위치하던 글라스는 최상부로 위치하게 될 수 있다.That is, when this step is performed using a glass laminate (GL) including a plurality of glasses (G), in the step (S261) of inverting the glass laminate, the glass that was initially located at the top is located at the bottom, and at the first bottom The positioned glass may be positioned at the top.
다른 실시예에서, 단일의 글라스(G)를 이용하여 본 단계가 수행되는 경우, 글라스를 뒤집는 단계(S261)에서, 최초 글라스의 상면은 글라스의 하면이 되고, 최초 글라스의 하면은 글라스의 상면이 될 수 있다.In another embodiment, when this step is performed using a single glass (G), in the step of turning over the glass (S261), the upper surface of the initial glass becomes the lower surface of the glass, and the lower surface of the initial glass is the upper surface of the glass can be
다시 말해서, 본 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법은 제1 회전 단계(S250)와 제2 회전 단계(S260)에서 회전 방향이 동일하되, 힌지 유닛(510, 520)을 포함하는 글라스 측면 가공 지그(12)를 이용하여 글라스 라미네이트(GL)를 뒤집는 점이 도 1 등의 실시예에 따른 글라스의 측면 가공 방법과 상이한 점이다.In other words, in the side surface processing method of the glass according to this embodiment, the rotation direction is the same in the first rotation step (S250) and the second rotation step (S260), but the glass side processing jig including the
전술한 바와 같이 지그(12)는 하부에 위치한 제1 회전 유닛(412) 및 상부에 위치한 제2 회전 유닛(422)과 연결되어 지그(12)의 본체를 180도 회전시킬 수 있는 힌지 유닛(510, 520)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 로드부(512)를 적어도 부분적으로 상부로 이동시키고, 제2 로드부(522)를 적어도 부분적으로 하부로 이동시키며, 제1 힌지부(511)와 제2 힌지부(521)를 각각 그것을 중심으로 시계 방향으로 회동시킬 경우, 글라스 라미네이트(GL)는 제2 방향(Y)과 제3 방향(Z)이 속하는 평면 내에서 시계 방향으로 회전할 수 있다. 이에 따라 글라스 라미네이트(GL)는 최초 상태에 비해 180도 회전하여 뒤집힐 수 있다.As described above, the
그리고 최초 하부에 위치하던 제1 회전 유닛(412)이 상부에 위치하고, 최초 상부에 위치하던 제2 회전 유닛(422)이 하부에 위치한 후, 제1 회전 유닛(412)과 제2 회전 유닛(422)을 이용하여 글라스 라미네이트(GL)를 제1 회전 단계(S250)와 동일한 방향으로 회전시킬 수 있다. And after the
제1 회전 단계(S250)와 제2 회전 단계(S260)의 회전 방향이 동일하더라도, 글라스 라미네이트(GL)가 뒤집힌 상태이기 때문에 글라스 라미네이트(GL)의 측면 위치별 가공 균일성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.Even if the rotation directions of the first rotation step S250 and the second rotation step S260 are the same, since the glass laminate GL is in an inverted state, the processing uniformity for each lateral position of the glass laminate GL can be improved. there is
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그(13)를 나타낸 분해사시도이다.11 is an exploded perspective view showing a glass
도 11을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그(13)는 하판(113)과 상판(123)이 각각 개구들(113p, 123p)을 더 포함하는 점이 도 3 등의 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그(11)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 11 , in the glass
예시적인 실시예에서, 하판(113)은 복수의 하부 개구(113p)들을 갖고, 상판(123)은 복수의 상부 개구(123p)들을 가질 수 있다. 하부 개구(113p)는 하판(113)을 제3 방향(Z)으로 관통하고, 상부 개구(123p)는 상판(123)을 제3 방향(Z)으로 관통할 수 있다. 전술한 바와 같이 하판(113)은 하부 관통홀(113h)을 가지고, 상판(123)은 상부 관통홀(123h)을 가지되, 하부 관통홀(113h) 및 상부 관통홀(123h)에는 포스트(301)가 삽입되는 반면, 하부 개구(113p) 및 상부 개구(123p)에는 포스트 등의 구성요소가 삽입되지 않을 수 있다.In an exemplary embodiment, the
하부 개구(113p) 및/또는 상부 개구(123p)는 각각 대략 제1 방향(X)으로 연장된 슬릿(slit) 형상일 수 있다. 하부 개구(113p) 및/또는 상부 개구(123p)는 제1 방향(X) 및 제2 방향(Y)으로 이격되어 복수개가 배열될 수 있다. 또, 하부 개구(113p) 및 상부 개구(123p)는 글라스 라미네이트(GL)의 제2 방향(Y) 일측과 타측에 위치할 수 있다. 하부 개구(113p) 및 상부 개구(123p)는 글라스 라미네이트(GL), 하부 버퍼판(211) 및 상부 버퍼판(221)과 제3 방향(Z)으로 비중첩하도록 위치할 수 있다.Each of the
도 11은 하부 개구(113p) 및 상부 개구(123p)가 슬릿 형상인 경우를 예시하고 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며 다른 실시예에서 하부 개구(113p) 및/또는 상부 개구(123p)는 원형 또는 사각형 등의 다각형 형상일 수도 있다.11 illustrates a case in which the
전술한 바와 같이, 글라스 측면 가공 지그(13)에 글라스 라미네이트(GL)를 실장한 상태에서 식각액이 담긴 배스(미도시)에 침지시키고, 지그(13)를 회전시켜 글라스 라미네이트(GL)의 측면 가공을 수행할 수 있다. 글라스 라미네이트(GL)의 측면이 균일하게 식각액과 접촉하고, 식각되는 것은 글라스의 강화 품질에 매우 중요한 영향을 미치는 요소이다.As described above, in a state in which the glass laminate (GL) is mounted on the glass
이 때 글라스 측면 가공 지그(13)의 하판(113)과 상판(123)의 크기, 배스(미도시)의 형상 등에 따라 식각액의 흐름이 영향을 받을 수 있고, 제3 방향(Z)으로 중첩된 복수의 글라스들을 포함하는 글라스 라미네이트(GL)의 측면이 식각액과 균일하게 접촉하지 못할 수 있다. 예를 들어, 제3 방향(Z)으로 중첩된 복수의 글라스들을 포함하는 글라스 라미네이트(GL)에 있어서, 하판(113)과 매우 인접한 글라스 라미네이트(GL)의 하부의 일부분, 및/또는 상판(123)과 매우 인접한 글라스 라미네이트(GL)의 상부의 일부분은, 글라스 라미네이트(GL)의 제3 방향(Z) 대략 중앙 부분에 비해 식각액과 접촉하는 정도가 적고, 그에 따라 식각률에 차이가 발생할 수 있다.At this time, the flow of the etchant may be affected depending on the size of the
본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그(13)는 하판(113) 및/또는 상판(123)이 각각 하부 개구(113p)와 상부 개구(123p)를 가지고, 개구들(113p, 123p)을 통해 식각액이 유동할 수 있도록 구성하여 위와 같은 문제를 완화할 수 있다.The glass
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그(14)를 나타낸 분해사시도이다.12 is an exploded perspective view showing a glass
도 12를 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그(14)는 포스트(304)가 볼트 부재와 너트 부재를 포함하는 것이 아니라, 제3 방향(Z)으로 연장된 바 형상인 점이 도 3 등의 실시예에 따른 글라스 측면 가공 지그(11)와 상이한 점이다.12, in the glass
하판(114)은 그 상면에 형성된 하부 홈(114g)을 가지고, 상판(124)은 그 하면에 형성된 상부 홈(미도시)을 가질 수 있다. 또, 포스트(304)는 하부 홈(114g)과 상부 홈(미도시)에 삽입되어 하판(114)과 상판(124)을 제3 방향(Z)으로 이격시킬 수 있다.The
도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(5)를 나타낸 모식도이다.13 is a schematic view showing the glass
도 13을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(5)는 배스(25), 배스(25) 내에 수용된 식각액(ET) 및 식각액(ET)에 침지되도록 구성된 글라스 측면 가공 지그(11)에 적재된 글라스 라미네이트(GL)를 포함하되, 글라스 측면 가공 지그(11)가 수평 방향으로 이동 가능하거나, 및/또는 진동하도록 구성된 점이 도 4 등의 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(1)와 상이한 점이다.13, the glass
글라스 라미네이트(GL) 및 지그(11)가 식각액(ET)에 침지되어 글라스 라미네이트(GL)가 식각되는 과정에서, 식각액(ET)에는 글라스 라미네이트(GL) 및/또는 지그(11)로부터 발생한 부산물 내지는 이물질의 농도가 증가할 수 있다. 특히, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니나 글라스 측면 가공 지그(11)가 합성 수지 재질로 이루어진 버퍼판을 포함할 경우 식각액(ET)의 오염이 더욱 발생할 수 있다. 따라서 본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(5)는 지그(11)가 이동 내지는 진동 가능하게 구성하여 식각액(ET)의 혼합을 유도하고, 식각액(ET)의 농도 균일성을 높여 글라스의 강화 효율을 높일 수 있다.In the process in which the glass laminate GL and the
도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(6)를 나타낸 모식도이다.14 is a schematic diagram showing a glass
도 14를 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(6) 내지는 글라스 측면 가공 시스템은 복수의 글라스들이 적층된 글라스 라미네이트가 아니라 낱장의 글라스(G)를 이용하여 수행되는 점이 도 4 등의 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(1)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 14, the glass
도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(7)를 나타낸 모식도이다.15 is a schematic view showing a glass
도 15를 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(7)는 배스(27) 내에 배치된 기포 발생부(30)를 더 포함하는 점이 도 4 등의 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(1)와 상이한 점이다.15, the glass
기포 발생부(30)는 유로부(30a) 및 노즐부(30b)를 포함할 수 있다. 유로부(30a)는 수평 방향, 예컨대 제1 방향(X)으로 연장된 유로를 제공하고, 노즐부(30b)는 유로부(30a)로부터 돌출되어 식각액(ET)에 기포를 형성할 수 있다. 기포 발생부(30)는 배스(27)의 바닥면 부근에 위치할 수 있다. 구체적으로, 기포 발생부(30)는 글라스 측면 가공 지그(11) 보다 하측에 위치할 수 있다.The
도면으로 표현하지 않았으나, 기포 발생부(30)의 유로부(30a)는 가스 저장부(미도시) 등과 연결되고, 가스 저장부로부터 제공된 가스를 배출할 수 있다. 상기 가스의 종류는 특별히 제한되지 않으나, 질소, 아르곤 등의 비활성 가스, 또는 공기 등일 수 있다.Although not shown in the drawings, the
본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(7)를 이용한 글라스의 측면 가공 방법은 글라스 라미네이트(GL)를 일 방향 및/또는 타 방향으로 회전하는 단계와 적어도 부분적으로 동시에, 또는 그 사이에 기포 발생부(30)에서 제공된 가스의 기포를 이용하여 식각액(ET)을 혼합하는 단계를 더 포함할 수 있다.The side processing method of glass using the glass
전술한 바와 같이 식각액(ET)에는 글라스 라미네이트(GL) 및/또는 지그(11)로부터 배출된 이물질이 증가하여 글라스의 측면 가공 효율을 저하시킬 수 있으나, 본 실시예와 같이 식각액(ET)을 충분히 혼합하여 식각액(ET)의 농도 균일성을 향상시키고, 글라스의 가공 효율을 높일 수 있다.As described above, foreign substances discharged from the glass laminate GL and/or the
도 16은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(8)를 나타낸 모식도이다.16 is a schematic diagram showing a glass
도 16을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(8)의 배스(28)는 순환 유로부(28a)를 포함하고, 글라스 측면 가공 설비(8)는 순환 유로부(28a)를 통해 식각액(ET)이 순환될 수 있도록 구성된 펌프(40)를 더 포함하는 점이 도 4 등의 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(1)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 16 , the
배스(28)의 순환 유로부(28a)는 식각액(ET)의 이동 유로를 제공할 수 있다. 펌프(40)를 통해 식각액(ET)은 배스(28) 내에서 순환하며, 이를 통해 식각액(ET)의 농도 균일성을 향상시키고, 글라스의 가공 효율을 높일 수 있다.The
배스(28) 내에서 식각액(ET)이 흡인되는 부분은 흡인부(28b)를 형성하고, 식각액(ET)이 흡인되어 유로부(28a)를 따라 순환되고 다시 배스(28) 내로 배출되는 부분은 배출부(28c)를 형성할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 배출부(28c)는 복수개이고 식각액(ET) 조성물의 균일한 혼합을 위해 대략 균일하게 배치될 수 있다.The part where the etching solution ET is sucked in the
본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(8)를 이용한 글라스의 측면 가공 방법은 글라스 라미네이트(GL)를 일 방향 및/또는 타 방향으로 회전하는 단계와 적어도 부분적으로 동시에, 또는 그 사이에 펌프(40)를 이용하여 식각액(ET)을 혼합하는 단계를 더 포함할 수 있다.The side processing method of glass using the glass
도 17은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(9)를 나타낸 모식도이다.17 is a schematic diagram showing a glass
도 17을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(9)는 배스(29) 및 배스(29) 내에서 회전하는 글라스 측면 가공 지그(19)를 포함하되, 글라스 측면 가공 지그(19)는 배스(29)의 바닥면에 수직한 방향으로 회전하도록 구성된 점이 도 4 등의 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(1)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 17 , the glass
즉, 전술한 도 4의 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(9)의 글라스 측면 가공 지그(19)는 제1 방향(X)과 제2 방향(Y)이 속하는 평면 내에서 회전하도록 구성된 반면, 본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(9)의 글라스 측면 가공 지그(19)는 제2 방향(Y)과 제3 방향(Z)이 속하는 평면, 또는 제1 방향(X)과 제3 방향(Z)이 속하는 평면 내에서 회전하도록 구성될 수 있다.That is, the glass
몇몇 실시예에서, 지그(19)는 상판(또는 제1 판)과 하판(또는 제2 판)에 각각 연결된 제1 회전 유닛(409a) 및 제2 회전 유닛(409b) 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 지그(19)는 제1 회전 유닛(409a) 및 제2 회전 유닛(409b) 모두에 결합될 수 있으며, 제1 회전 유닛(409a)과 제2 회전 유닛(409b) 모두에 의해 전술한 제1 회전 단계 및 제2 회전 단계가 순차적으로 수행될 수 있다. 즉, 제1 회전 유닛(409a)과 제2 회전 유닛(409b)에 의해 제2 방향(Y)과 제3 방향(Z)이 속하는 평면 내에서 시계 방향으로 회전하고(예컨대, 제1 회전 단계), 그 다음 제2 방향(Y)과 제3 방향(Z)이 속하는 평면 내에서 반시계 방향으로 회전(예컨대, 제2 회전 단계)될 수 있다.In some embodiments, the
도 18은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(9')를 나타낸 모식도이다.18 is a schematic diagram showing a glass side processing facility 9' according to another embodiment of the present invention.
도 18을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(9')는 제1 회전 유닛(409a') 및 제2 회전 유닛(409b')이 지그(19)와 장착 및 탈착이 가능하며, 지그(19)가 제1 회전 유닛(409a')과 제2 회전 유닛(409b') 중 어느 하나에 의해 회전하도록 구성된 점이 도 17의 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(9)와 상이한 점이다.18, in the glass side processing facility 9' according to this embodiment, the
예를 들어, 지그(19)는 상판(또는 제1 판)과 연결된 제1 회전 유닛(409a')에 의해 제2 방향(Y)과 제3 방향(Z)이 속하는 평면 내에서 시계 방향으로 회전하고(예컨대, 제1 회전 단계), 그 다음 지그(19)는 하판(또는 제2 판)과 연결된 제2 회전 유닛(409b')에 의해 제2 방향(Y)과 제3 방향(Z)이 속하는 평면 내에서 반시계 방향으로 회전(예컨대, 제2 회전 단계)될 수 있다.For example, the
도 19는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(10)를 나타낸 모식도이다.19 is a schematic view showing the glass
도 19를 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비(10)는 제1 지그(11a)와 제2 지그(11b)를 포함하여, 하나의 배스(20) 내에 복수의 지그(11a, 11b)들이 배치되어 회전하는 점이 전술한 실시예에 따른 글라스 측면 가공 설비들과 상이한 점이다.Referring to FIG. 19 , the glass
이상에서 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다.In the above, the embodiment of the present invention has been mainly described, but this is only an example and does not limit the present invention. It will be appreciated that various modifications and applications not exemplified above are possible.
따라서 본 발명의 범위는 이상에서 예시된 기술 사상의 변경물, 균등물 내지는 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, 본 발명의 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성요소는 변형하여 실시할 수 있다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Therefore, it should be understood that the scope of the present invention includes changes, equivalents or substitutes of the technical idea exemplified above. For example, each component specifically shown in the embodiment of the present invention may be implemented by modification. And differences related to such modifications and applications should be construed as being included in the scope of the present invention defined in the appended claims.
111: 하판
121: 상판
211: 하부 버퍼판
221: 상부 버퍼판
301: 포스트
401: 회전 유닛
GL: 글라스 라미네이트111: lower plate
121: top plate
211: lower buffer plate
221: upper buffer plate
301: Post
401: rotation unit
GL: Glass Laminate
Claims (20)
상기 고정된 글라스를 식각액에 침지하는 단계;
상기 글라스를 식각액 내에서 일 방향으로 회전하는 제1 회전 단계; 및
상기 글라스를 식각액 내에서 타 방향으로 회전하는 제2 회전 단계를 포함하는 글라스의 측면 가공 방법.Mounting and fixing one or more glasses on a jig;
immersing the fixed glass in an etchant;
A first rotation step of rotating the glass in one direction in the etchant; and
A side processing method of glass comprising a second rotation step of rotating the glass in another direction in the etchant.
상기 제2 회전 단계는,
상기 글라스를 뒤집는 단계, 및
상기 글라스를 식각액 내에서 상기 일 방향으로 회전하는 단계를 포함하되,
상기 제1 회전 단계와 상기 제2 회전 단계의 회전 방향은 동일한 글라스의 측면 가공 방법.The method of claim 1,
The second rotation step is
turning the glass over, and
Including rotating the glass in the one direction in the etchant,
The first rotation step and the rotation direction of the second rotation step are the same side processing method of the glass.
상기 지그는 서로 이격된 상판과 하판, 상기 상판과 하판 중 하나 이상과 결합되어 회전하는 회전 유닛, 및 상기 회전 유닛의 단부와 연결되어 회전 동작 가능하게 구성된 힌지 유닛을 포함하고,
상기 글라스를 뒤집는 단계는, 상기 힌지 유닛의 수직 이동 및 회전 동작을 통해 수행되는 글라스의 측면 가공 방법.3. The method of claim 2,
The jig includes an upper plate and a lower plate spaced apart from each other, a rotating unit coupled to one or more of the upper and lower plates to rotate, and a hinge unit connected to an end of the rotating unit to be rotatably configured,
The step of turning over the glass is a side processing method of glass that is performed through a vertical movement and rotation operation of the hinge unit.
상기 지그는 서로 이격된 상판과 하판, 및 상기 상판과 하판 사이에 배치되는 버퍼판을 포함하되,
상기 글라스를 두께 방향으로 고정하는 단계에서, 상기 버퍼판은 상기 상판과 글라스 사이 또는 상기 하판과 글라스 사이에 개재되는 글라스의 측면 가공 방법.The method of claim 1,
The jig includes an upper plate and a lower plate spaced apart from each other, and a buffer plate disposed between the upper plate and the lower plate,
In the step of fixing the glass in the thickness direction, the buffer plate is a side surface processing method of glass interposed between the upper plate and the glass or between the lower plate and the glass.
상기 제1 회전 단계는 상기 제2 회전 단계 보다 먼저 수행되고,
상기 제1 회전 단계의 수행 시간은 상기 제2 회전 단계의 수행 시간 이상인 글라스의 측면 가공 방법.According to claim 1,
The first rotating step is performed before the second rotating step,
The execution time of the first rotation step is a side processing method of glass that is longer than the execution time of the second rotation step.
상기 제1 회전 단계는 상기 제2 회전 단계 보다 먼저 수행되고,
상기 제1 회전 단계의 회전 속도는 상기 제2 회전 단계의 회전 속도 이상인 글라스의 측면 가공 방법.The method of claim 1,
The first rotating step is performed before the second rotating step,
The rotation speed of the first rotation step is the side processing method of the glass which is greater than or equal to the rotation speed of the second rotation step.
기포를 이용하여 식각액을 혼합하는 단계를 더 포함하는 글라스의 측면 가공 방법.The method of claim 1,
Side processing method of glass further comprising the step of mixing the etchant using bubbles.
펌프를 이용하여 식각액을 혼합하는 단계를 더 포함하는 글라스의 측면 가공 방법.The method of claim 1,
Side processing method of glass further comprising the step of mixing the etchant using a pump.
상기 지그는 상기 글라스를 사이에 두고 서로 이격된 제1 판 및 제2 판을 포함하고,
상기 제1 회전 단계는 상기 제1 판과 결합된 제1 회전 유닛에 의해 수행되고,
상기 제2 회전 단계는 상기 제2 판과 결합된 제2 회전 유닛에 의해 수행되는 글라스의 측면 가공 방법.The method of claim 1,
The jig includes a first plate and a second plate spaced apart from each other with the glass interposed therebetween,
The first rotating step is performed by a first rotating unit coupled to the first plate,
The second rotation step is a side processing method of the glass is performed by a second rotation unit coupled to the second plate.
상기 상판과 하판 사이의 이격 거리를 조절하고 고정하는 하나 이상의 포스트; 및
상기 상판과 하판 중 어느 하나 이상과 결합되어 회전하는 회전 유닛을 포함하는 글라스 측면 가공 지그.The upper and lower plates are spaced apart from each other;
one or more posts for adjusting and fixing the separation distance between the upper plate and the lower plate; and
Glass side processing jig comprising a rotation unit that rotates in combination with any one or more of the upper plate and the lower plate.
상기 상판과 하판 사이에 배치되는 하나 이상의 버퍼판을 더 포함하는 글라스 측면 가공 지그.11. The method of claim 10,
Glass side processing jig further comprising one or more buffer plates disposed between the upper plate and the lower plate.
상기 상판 또는 하판은 상기 버퍼판과 비중첩한 개구를 갖는 글라스 측면 가공 지그.12. The method of claim 11,
The upper or lower plate is a glass side processing jig having an opening that does not overlap the buffer plate.
상기 회전 유닛의 단부와 연결되어 회동 가능하게 구성된 힌지 유닛을 더 포함하고, 상기 힌지 유닛은,
힌지 축을 기준으로 상기 회전 유닛을 회동시키는 힌지부, 및
상기 힌지부를 평행 이동시키는 로드부를 포함하는 글라스 측면 가공 지그.12. The method of claim 11,
Further comprising a hinge unit connected to the end of the rotation unit to be rotatably configured, the hinge unit,
A hinge part for rotating the rotation unit based on the hinge axis, and
Glass side processing jig including a rod for moving the hinge in parallel.
식각액이 수용되도록 구성되는 배스를 포함하는 글라스 측면 가공 설비.A glass side processing jig comprising an upper plate and a lower plate spaced apart from each other, one or more posts for fixing the distance between the upper plate and the lower plate, and a rotating unit coupled to any one or more of the upper plate and the lower plate to rotate; and
Glass side processing equipment including a bath configured to receive an etchant.
상기 글라스 측면 가공 지그는 상기 배스 내에 삽입되어 이동 가능하게 구성된 글라스 측면 가공 설비.15. The method of claim 14,
The glass side processing jig is inserted into the bath and configured to be movable glass side processing equipment.
상기 글라스 측면 가공 지그는 진동 가능하게 구성된 글라스 측면 가공 설비.16. The method of claim 15,
The glass side processing jig is a glass side processing equipment configured to be able to vibrate.
상기 배스 내에 배치된 기포 발생부를 더 포함하는 글라스 측면 가공 설비.15. The method of claim 14,
Glass side processing equipment further comprising a bubble generating unit disposed in the bath.
상기 배스는 순환 유로부를 더 포함하고,
상기 글라스 측면 가공 설비는 상기 순환 유로부를 통해 상기 식각액을 유동시키는 펌프를 더 포함하는 글라스 측면 가공 설비.15. The method of claim 14,
The bath further comprises a circulation flow passage,
The glass side processing facility further comprises a pump for flowing the etchant through the circulation passage.
상기 글라스 측면 가공 지그는, 상기 배스의 바닥면에 수직한 방향으로 회전하도록 구성된 글라스 측면 가공 설비.15. The method of claim 14,
The glass side processing jig is a glass side processing equipment configured to rotate in a direction perpendicular to the bottom surface of the bath.
상기 회전 유닛은,
상기 상판과 장착 및 탈착 가능한 제1 회전 유닛, 및
상기 하판과 장착 및 탈착 가능한 제2 회전 유닛을 포함하는 글라스 측면 가공 설비.15. The method of claim 14,
The rotating unit is
A first rotation unit that can be mounted and detached from the upper plate, and
Glass side processing equipment including the lower plate and a second rotation unit that can be mounted and detached.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| KR20220028664A true KR20220028664A (en) | 2022-03-08 |
| KR102625135B1 KR102625135B1 (en) | 2024-01-15 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020200109941A KR102625135B1 (en) | 2020-08-31 | 2020-08-31 | Method for manufacturing side surface of ultra thin glass, jig for manufacturing side surface of glass and glass manufacturing apparatus including the same |
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| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102625135B1 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006332481A (en) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Sony Corp | Etching processing method and etching apparatus |
| KR101459297B1 (en) * | 2013-07-01 | 2014-11-11 | (주)유알시스 | Reversal device |
| KR101661278B1 (en) | 2015-07-14 | 2016-09-29 | 에스피텍 주식회사 | Manufacturing Method of Ultra-Thin Type Glass Plate |
| WO2019044757A1 (en) * | 2017-08-31 | 2019-03-07 | 日本電気硝子株式会社 | Method for etching glass, etching treatment device and glass sheet |
-
2020
- 2020-08-31 KR KR1020200109941A patent/KR102625135B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006332481A (en) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Sony Corp | Etching processing method and etching apparatus |
| KR101459297B1 (en) * | 2013-07-01 | 2014-11-11 | (주)유알시스 | Reversal device |
| KR101661278B1 (en) | 2015-07-14 | 2016-09-29 | 에스피텍 주식회사 | Manufacturing Method of Ultra-Thin Type Glass Plate |
| WO2019044757A1 (en) * | 2017-08-31 | 2019-03-07 | 日本電気硝子株式会社 | Method for etching glass, etching treatment device and glass sheet |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |