KR20220019214A - Rotary disc-type crystallizer system using micro bubble - Google Patents

Rotary disc-type crystallizer system using micro bubble Download PDF

Info

Publication number
KR20220019214A
KR20220019214A KR1020200127250A KR20200127250A KR20220019214A KR 20220019214 A KR20220019214 A KR 20220019214A KR 1020200127250 A KR1020200127250 A KR 1020200127250A KR 20200127250 A KR20200127250 A KR 20200127250A KR 20220019214 A KR20220019214 A KR 20220019214A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wastewater
crystallizer
storage unit
gas
heat exchanger
Prior art date
Application number
KR1020200127250A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102464456B1 (en
Inventor
홍원석
김경호
정봉욱
손권
Original Assignee
주식회사 성광이엔에프
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 성광이엔에프 filed Critical 주식회사 성광이엔에프
Publication of KR20220019214A publication Critical patent/KR20220019214A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102464456B1 publication Critical patent/KR102464456B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D9/00—Crystallisation
    • B01D9/005—Selection of auxiliary, e.g. for control of crystallisation nuclei, of crystal growth, of adherence to walls; Arrangements for introduction thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F11/00—Treatment of sludge; Devices therefor
    • C02F11/12—Treatment of sludge; Devices therefor by de-watering, drying or thickening
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B11/00—Machines or apparatus for drying solid materials or objects with movement which is non-progressive
    • F26B11/02—Machines or apparatus for drying solid materials or objects with movement which is non-progressive in moving drums or other mainly-closed receptacles
    • F26B11/04—Machines or apparatus for drying solid materials or objects with movement which is non-progressive in moving drums or other mainly-closed receptacles rotating about a horizontal or slightly-inclined axis
    • F26B11/0445—Machines or apparatus for drying solid materials or objects with movement which is non-progressive in moving drums or other mainly-closed receptacles rotating about a horizontal or slightly-inclined axis having conductive heating arrangements, e.g. heated drum wall
    • F26B11/045—Machines or apparatus for drying solid materials or objects with movement which is non-progressive in moving drums or other mainly-closed receptacles rotating about a horizontal or slightly-inclined axis having conductive heating arrangements, e.g. heated drum wall using heated internal elements, e.g. which move through or convey the materials to be dried
    • F26B11/0454—Machines or apparatus for drying solid materials or objects with movement which is non-progressive in moving drums or other mainly-closed receptacles rotating about a horizontal or slightly-inclined axis having conductive heating arrangements, e.g. heated drum wall using heated internal elements, e.g. which move through or convey the materials to be dried the elements being discs
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
    • F26B3/02—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air
    • F26B3/06—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air the gas or vapour flowing through the materials or objects to be dried
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
    • F26B3/02—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air
    • F26B3/10—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air the gas or vapour carrying the materials or objects to be dried with it
    • F26B3/12—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air the gas or vapour carrying the materials or objects to be dried with it in the form of a spray, i.e. sprayed or dispersed emulsions or suspensions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D9/00—Crystallisation
    • B01D2009/0086—Processes or apparatus therefor
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B2200/00—Drying processes and machines for solid materials characterised by the specific requirements of the drying good
    • F26B2200/18—Sludges, e.g. sewage, waste, industrial processes, cooling towers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Mixers Of The Rotary Stirring Type (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Removal Of Specific Substances (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Biological Treatment Of Waste Water (AREA)
  • Control Of Non-Electrical Variables (AREA)

Abstract

According to an embodiment of the present invention, provided is a rotary disk-type crystallizer system including: an evaporation crystallizer for vaporizing wastewater to pulverize particles contained in the wastewater; and a microbubble generating unit for generating microbubbles in the wastewater supplied to the evaporation crystallizer.

Description

마이크로 버블을 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템{ROTARY DISC-TYPE CRYSTALLIZER SYSTEM USING MICRO BUBBLE}Rotary disk type crystalizer system using microbubbles {ROTARY DISC-TYPE CRYSTALLIZER SYSTEM USING MICRO BUBBLE}

본 발명은 마이크로 버블을 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a crystallizer system of a rotating disk type using microbubbles.

종래의 회전 디스크(disk) 타입의 건조 장치는 디스크를 고온화시키기 위해서 고온 고압의 증기(예를 들면, 수증기)를 이용하는 장치이다. 하지만, 종래의 회전 디스크(disk)형 건조 장치는 디스크에 의해 증기화된 기체가 외부로 적절하게 배출되지 않아 기화 효율이 좋지 않고, 다양한 종류의 농도를 가진 폐수에 효과적으로 대응하지 못한다.A conventional rotary disk type drying apparatus is an apparatus that uses high-temperature and high-pressure steam (eg, water vapor) to heat the disk. However, the conventional rotary disk (disk) type drying apparatus does not properly discharge the gas vaporized by the disk to the outside, so the vaporization efficiency is not good, and it cannot effectively cope with wastewater having various types of concentrations.

본 발명의 하나 이상의 실시예에 따르면, 마이크로 버블을 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템이 제공된다.According to one or more embodiments of the present invention, a crystallizer system of a rotating disk type using microbubbles is provided.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템에 있어서, 폐수를 기화시켜 폐수에 포함된 입자를 분말화하는 증발 결정화기; 및 상기 증발 결정화기로 공급되는 폐수에 미세 버블을 발생시키기 위한 미세기포 생성부;를 포함하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템이 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a rotary disk-type crystallizer system, comprising: an evaporation crystallizer for vaporizing wastewater to pulverize particles contained in wastewater; and a microbubble generating unit for generating microbubbles in the wastewater supplied to the evaporation crystallizer.

본 발명의 하나 이상의 실시예에 따르면, 기화 효율이 좋고 다양한 종류의 농도를 가진 폐수에 대응하여 효울적으로 기화를 시킬 수 있게 된다. According to one or more embodiments of the present invention, it is possible to effectively vaporize the wastewater having a good vaporization efficiency and having various types of concentrations.

본 발명의 하나 이상의 실시예에 따르면, 증발 결정화기에서 배출되는 배가스나 응축수 등을 활용하여 에너지 효율이 향상된다.According to one or more embodiments of the present invention, energy efficiency is improved by utilizing the exhaust gas or condensate discharged from the evaporation crystallizer.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 마이크로 버블을 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 제1 실시예에 사용된 증발 결정화기(10)의 예시적인 세부 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템에 사용되는 미세 기포 생성부(1300)를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 마이크로 버블을 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템에 사용되는 농도 조절 장치(1000)를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템에 사용되는 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)의 예시적인 세부 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 7 내지 도 10의 도면들은 본 발명에 따른 마이크로 버블을 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템의 이해를 돕기 위한 도면들이다. 1 is a view for explaining a crystallizer system of a rotating disk type using microbubbles according to a first embodiment of the present invention.
2 is a view for explaining an exemplary detailed configuration of the evaporation crystallizer 10 used in the first embodiment.
3 is a view for explaining the microbubble generator 1300 used in the crystallizer system according to an embodiment of the present invention.
4 is a view for explaining a rotating disk type crystalizer system using microbubbles according to a second embodiment of the present invention.
5 is a view for explaining the concentration control apparatus 1000 used in the crystallizer system according to an embodiment of the present invention.
6 is a view for explaining an exemplary detailed configuration of the circulating carrier gas supply device 400 used in the crystallizer system according to an embodiment of the present invention.
7 to 10 are diagrams to help the understanding of the rotating disk type crystalizer system using microbubbles according to the present invention.

이상의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.The above objects, other objects, features and advantages of the present invention will be easily understood through the following preferred embodiments in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided so that the disclosed subject matter may be thorough and complete, and that the spirit of the present invention may be sufficiently conveyed to those skilled in the art.

본 명세서의 도면들에서, 구성요소들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다.In the drawings of the present specification, the thickness of the components is exaggerated for effective description of technical content.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. The terminology used herein is for the purpose of describing the embodiments and is not intended to limit the present invention. In this specification, the singular also includes the plural unless specifically stated otherwise in the phrase.

본원 명세서에서는 임의의 구성요소 A와 구성요소 B가 서로 동작적으로 결합되어 있다고 함은, 어떤 동작이 이루어지도록 임의의 구성요소 A와 구성요소 B가 서로 직접 또는 간접(하나 이상의 다른 구성요소를 매개로 하여) 결합되어 있는 것을 의미한다. In this specification, any component A and component B are operatively coupled to each other means that any component A and component B are directly or indirectly connected to each other (via one or more other components) so that an operation is performed. ) means that they are connected.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하도록 한다. 아래의 특정 실시예들을 기술하는데 있어서, 여러 가지의 특정적인 내용들은 발명을 더 구체적으로 설명하고 이해를 돕기 위해 작성되었다. 하지만 본 발명을 이해할 수 있을 정도로 이 분야의 지식을 갖고 있는 독자는 이러한 여러 가지의 특정적인 내용들이 없어도 사용될 수 있다는 것을 인지할 수 있다. 어떤 경우에는, 발명을 기술하는 데 있어서 흔히 알려졌으면서 발명과 크게 관련 없는 부분들은 본 발명을 설명하는 데 있어 혼돈을 막기 위해 기술하지 않음을 미리 언급해 둔다. 또한, 도면에서 구성요소들 간에 연결된 선이나 화살표들은 서로 동작적으로 결합되어 있음을 나타낸다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In describing the specific embodiments below, various specific contents have been prepared to more specifically describe the invention and help understanding. However, a reader having enough knowledge in this field to understand the present invention may recognize that the present invention may be used without these various specific details. In some cases, it is mentioned in advance that parts which are commonly known and not largely related to the invention in describing the invention are not described in order to avoid confusion in describing the invention. In addition, in the drawings, lines or arrows connected between components indicate that they are operatively coupled to each other.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 마이크로 버블을 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템을 설명하기 위한 도면이다. 1 is a view for explaining a crystallizer system of a rotating disk type using microbubbles according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 제1 실시예에 따른 마이크로 버블을 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템(이하, '크리스탈라이저 시스템'이라고 함)은 증발 결정화기(10)와 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)를 포함한다. Referring to FIG. 1 , a rotating disk-type crystallizer system (hereinafter, referred to as a 'crystalizer system') using microbubbles according to the first embodiment is an evaporation crystallizer 10 and a circulating carrier gas supply device 400 ) is included.

증발 결정화기(10)는 폐수를 기화시켜 폐수에 포함된 입자들을 분말화한다.The evaporation crystallizer 10 vaporizes the wastewater to pulverize the particles included in the wastewater.

증발 결정화기(10)는 외부로부터 스팀(미 도시)을 제공받거나 또는 물(미 도시)을 제공받아서 스팀을 생성한다. 증발 결정화기(10)는, 그러한 스팀을 이용해 폐수를 기화시켜 폐수에 포함된 입자들을 분말화시킬 수 있다. 증발 결정화기(10)로 공급된 스팀은 폐수를 기화시키면서 물로 변환 - 응축수 - 되어 외부로 방출된다.The evaporation crystallizer 10 is provided with steam (not shown) from the outside or water (not shown) to generate steam. The evaporation crystallizer 10 may use such steam to vaporize wastewater to pulverize particles included in the wastewater. The steam supplied to the evaporation crystallizer 10 is converted to water while vaporizing the wastewater - condensed water - and discharged to the outside.

증발 결정화기(10)는 증기화시킬 폐수에 미세 기포를 발생시켜서 기화시킨다. Evaporation crystallizer 10 is vaporized by generating fine bubbles in the wastewater to be vaporized.

본원 명세서에서, 용어 '미세 기포'는 수백 마이크로미터 이하의 직경을 가진 기포(또는 버블)을 의미한다. 또한, 용어 '마이크로 버블'은 '미세 기포'와 동일한 의미를 가지며, 수백 마이크로미터 이하의 직경을 가진 기포(또는 버블)를 의미한다. As used herein, the term 'microbubble' refers to a bubble (or bubble) having a diameter of several hundred micrometers or less. In addition, the term 'microbubble' has the same meaning as 'fine bubble', and refers to a bubble (or bubble) having a diameter of several hundred micrometers or less.

제1실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템은 폐수용 열교환기(900)를 더 포함할 수 있다. 폐수용 열교환기(900)는 증발 결정화기(10)로 유입될 폐수와, 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 응축수간에 열교환을 시킨다. The crystallizer system according to the first embodiment may further include a heat exchanger 900 for wastewater. The wastewater heat exchanger 900 exchanges heat between wastewater to be introduced into the evaporative crystallizer 10 and condensed water discharged from the evaporative crystallizer 10 .

순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 배가스를 유입받고, 유입받은 배가스의 적어도 일부를 캐리어 가스로 변환시키고, 증발 결정화기(10)로 제공할 수 있다. 여기서, 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)에 의해 수행되는 '변환'은, 배가스에서 수분을 제거하고 소정의 온도 범위로 유지 또는 조절시키는 동작을 의미한다. The circulating carrier gas supply device 400 may receive the exhaust gas discharged from the evaporative crystallizer 10 , convert at least a portion of the received exhaust gas into a carrier gas, and provide it to the evaporative crystallizer 10 . Here, the 'conversion' performed by the circulating carrier gas supply device 400 refers to an operation of removing moisture from the exhaust gas and maintaining or controlling it in a predetermined temperature range.

예를 들면, 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 배가스를 유입받고, 배가스에 포함된 수분을 제거하고, 수분이 제거된 배가스의 온도를 소정의 온도 범위로 유지시킨다. 이렇게, 수분이 제거되고 소정의 온도 범위로 유지된 배가스를 본원 명세서에는 특히 '캐리어 가스'라고 언급되며, 이러한 캐리어 가스는 증발 결정화기(10)로부터 배출된 순간의 배가스보다 건조한 상태가 된다. 한편, 소정의 온도 범위는 디스크(100)의 표면에 분사된 폐수의 기화를 방해하지 않을 정도의 온도로 정해진다. 소정의 온도 범위가 너무 낮은 온도 범위일 경우, 디스크의 표면에 존재하는 폐수의 기화가 방해되기 때문이다. For example, the circulating carrier gas supply device 400 receives the exhaust gas discharged from the evaporative crystallizer 10, removes moisture contained in the exhaust gas, and adjusts the temperature of the exhaust gas from which the moisture is removed to a predetermined temperature range. keep it In this way, the moisture is removed and the exhaust gas maintained in a predetermined temperature range is specifically referred to herein as a 'carrier gas', and this carrier gas is in a drier state than the instantaneous exhaust gas discharged from the evaporative crystallizer 10 . On the other hand, the predetermined temperature range is set to a temperature that does not interfere with the vaporization of the wastewater sprayed on the surface of the disk 100 . This is because, when the predetermined temperature range is too low, vaporization of the wastewater present on the surface of the disk is hindered.

도 1에 도시되어 있듯이, 제1실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템은, 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)와 증발 결정화기(10) 사이에 유체가 이동될 수 있는 배관을 더 포함하며, 이 배관을 통해서 캐리어 가스가 증발 결정화기(10)로 제공된다. 배관에는 밸브들(V1, V3)이 설치되어 있고, 밸브들(V1, V3)의 온 또는 오프 동작에 의해 증발 결정화기(10)로 제공되는 캐리어 가스 양이 조절된다.As shown in FIG. 1 , the crystallizer system according to the first embodiment further includes a pipe through which a fluid can be moved between the circulating carrier gas supply device 400 and the evaporative crystallizer 10 , the pipe The carrier gas is provided to the evaporative crystallizer 10 through the. Valves V1 and V3 are installed in the pipe, and the amount of carrier gas provided to the evaporation crystallizer 10 is adjusted by on or off operation of the valves V1 and V3.

증발 결정화기(10)와 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)의 구체적인 구성과 작용에 대하여는 각각 도 2와 도 6을 참조하여 상세히 설명하기로 한다. The specific configuration and operation of the evaporative crystallizer 10 and the circulating carrier gas supply device 400 will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 6 , respectively.

도 2는 제1 실시예에 사용된 증발 결정화기(10)의 예시적인 세부 구성을 설명하기 위한 도면이다. 도 2를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 증발 결정화기(10)는 디스크(100), 디스크(100)에 폐수를 분사하는 분사부(300), 디스크(100)를 회전시킬 수 있는 구동부(600), 디스크(100)에 스팀을 제공하는 스팀 발생기(700), 디스크(100)의 표면에 생성된 분말을 긁기 위한 스크래퍼(500), 펌프(800), 낙하 폐수 저장부(200), 농도 조절 장치(1000), 낙하 분말 저장부(1100), 및 미세 기포 생성부(1300)를 포함할 수 있다. 후술하겠지만, 이들 구성요소들은 동작적으로 서로 결합되어 있다.2 is a view for explaining an exemplary detailed configuration of the evaporation crystallizer 10 used in the first embodiment. Referring to FIG. 2 , the evaporation crystallizer 10 according to the first embodiment of the present invention can rotate the disk 100 , the injection unit 300 for spraying wastewater to the disk 100 , and the disk 100 . A driving unit 600, a steam generator 700 for providing steam to the disk 100, a scraper 500 for scraping the powder generated on the surface of the disk 100, a pump 800, a falling wastewater storage unit 200 ), a concentration control device 1000 , a falling powder storage unit 1100 , and a fine bubble generation unit 1300 . As will be described later, these components are operatively coupled to each other.

디스크(100)는 구동부(600)(예를 들면, 모터)에 의해 회전될 수 있다. 스팀 발생기(700)는 외부로부터 물(미 도시)을 공급받아 스팀을 발생시켜 디스크(100)로 공급한다. 스팀 발생기(700)에 의해 공급되는 스팀은 디스크(100)의 내부 공간으로 제공되고, 내부 공간에 제공된 스팀에 의해, 디스크(100)의 표면에 존재하는 폐수가 기화된다. The disk 100 may be rotated by a driving unit 600 (eg, a motor). The steam generator 700 receives water (not shown) from the outside, generates steam, and supplies it to the disk 100 . Steam supplied by the steam generator 700 is provided to the inner space of the disk 100 , and wastewater existing on the surface of the disk 100 is vaporized by the steam provided to the inner space.

펌프(800)는 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수를 분사부(300)로 이동시키고, 분사부(300)는 디스크(100)의 표면에 폐수를 분사하도록 배치되어 있다. 디스크(100)의 표면에 분사된 폐수는 디스크(100)의 내부로 공급된 스팀에 의해 기화되어 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)로 배출된다. 한편, 디스크(100)의 표면에 분사된 폐수 중 기화되지 못하고 낙하되는 폐수가 존재할 수 있고, 낙하되는 폐수는 낙하 폐수 저장부(200)에 의해 저장된다. The pump 800 moves the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 to the spraying unit 300 , and the spraying unit 300 is disposed to spray the wastewater on the surface of the disk 100 . The wastewater sprayed on the surface of the disk 100 is vaporized by the steam supplied to the inside of the disk 100 and discharged to the circulating carrier gas supply device 400 . Meanwhile, among the wastewater sprayed on the surface of the disk 100 , wastewater that falls without being vaporized may exist, and the falling wastewater is stored by the falling wastewater storage unit 200 .

낙하 폐수 저장부(200)는 디스크(100)의 표면에 분사된 폐수가 기화되지 않고 흘러내리는 폐수를 저장할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 폐수 공급원 - 폐수를 공급하는 장치 - 으로부터 공급된 폐수는 폐수용 열교환기(900)를 거쳐서 낙하 폐수 저장부(200)로 제공되고, 분사부(300)는 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수를 디스크(100)의 표면에 분사한다. The falling wastewater storage unit 200 may store wastewater that flows down without vaporizing the wastewater sprayed on the surface of the disk 100 . According to one embodiment, wastewater supplied from a wastewater supply source - a device for supplying wastewater - is provided to the falling wastewater storage unit 200 through the wastewater heat exchanger 900 , and the spraying unit 300 is a falling wastewater storage unit The wastewater stored in 200 is sprayed on the surface of the disk 100 .

디스크(100)의 표면에 분사된 폐수가 기화되면, 폐수에 존재하던 입자들은 디스크(100)의 표면에 분말로 부착된다. 스크래퍼(500)는 디스크(100)의 표면에 부착된 분말을 긁어서 디스크(100)의 표면으로부터 분리시킨다. 디스크(100)의 표면으로부터 분리된 분말은 낙하 분말 저장부(1100)에 저장된다. When the wastewater sprayed on the surface of the disk 100 is vaporized, particles existing in the wastewater are attached to the surface of the disk 100 as powder. The scraper 500 scrapes the powder adhering to the surface of the disk 100 to separate it from the surface of the disk 100 . The powder separated from the surface of the disk 100 is stored in the falling powder storage unit 1100 .

디스크(100)의 내부 공간에 제공된 스팀은 디스크(100)의 표면에 존재하던 폐수를 기화시키면서 열을 빼앗기고 따라서 액체인 물 - 응축수 - 로 변환된다.The steam provided to the internal space of the disk 100 evaporates wastewater existing on the surface of the disk 100 and loses heat, and thus is converted into liquid water - condensed water -.

이 응축수는 폐수용 열교환기(900)로 제공된다. 상술한 바와 같이, 폐수용 열교환기(900)로 이동된 응축수는 폐수와 열교환된 후 외부로 배출된다. 응축수와 열교환된 폐수는 증발 결정화기(10)(예를 들면, 증발 결정화기(10)의 낙하 폐수 저장부(200))로 제공된다. 이처럼, 열교환되기 전의 폐수의 온도보다 열교환된 폐수의 온도가 더 높은 상태가 됨으로써 기화 효율이 높아지게 된다. This condensed water is provided to the heat exchanger 900 for wastewater. As described above, the condensed water moved to the wastewater heat exchanger 900 is discharged to the outside after heat exchange with the wastewater. The wastewater heat-exchanged with the condensed water is provided to the evaporative crystallizer 10 (eg, the falling wastewater storage unit 200 of the evaporative crystallizer 10 ). As such, since the temperature of the heat-exchanged wastewater becomes higher than the temperature of the wastewater before the heat-exchange, the vaporization efficiency is increased.

농도 조절 장치(1000)는 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수의 농도를 조절할 수 있다. 농도 조절 장치(1000)에 대한 자세한 설명은 도 5를 참조하여 후술하기로 한다. The concentration adjusting device 1000 may adjust the concentration of the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 . A detailed description of the concentration control apparatus 1000 will be described later with reference to FIG. 5 .

미세 기포 생성부(1300)는 폐수에 미세 버블을 발생시키기 위한 장치이다. 본 실시예에 따르면, 미세기포 생성부(1300)는 폐수용 열교환기(900)와 낙하 폐수 저장부(200)에 위치되며, 미세기포 생성부(1300)에 의해 낙하 폐수 저장부(200)에 저장되는 폐수에는 미세 기포가 함유되어 있게 된다. 미세 기포 생성부(1300)의 예시적 구성에 대하여는 도 3을 참조하여 후술하기로 한다. The microbubble generator 1300 is a device for generating microbubbles in wastewater. According to the present embodiment, the microbubble generating unit 1300 is located in the wastewater heat exchanger 900 and the falling wastewater storage unit 200 , and is placed in the falling wastewater storage unit 200 by the microbubble generating unit 1300 . The stored wastewater contains microbubbles. An exemplary configuration of the microbubble generator 1300 will be described later with reference to FIG. 3 .

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템에 사용되는 미세 기포 생성부(1300)를 설명하기 위한 도면이다. 3 is a view for explaining the microbubble generator 1300 used in the crystallizer system according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 미세 기포 생성부(1300)는 인젝터(1301), 선회기(1303), 용해탱크(1305), 및 세척장치(1307)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 3 , the microbubble generator 1300 may include an injector 1301 , a swirler 1303 , a dissolution tank 1305 , and a cleaning device 1307 .

인젝터(1301)는 벤츄리 인젝터로 불리우는 디바이스이다. 인젝터(1301)는 입구가 2개이고, 출구가 1개이다. 인젝터(1301)의 입구 2개 중에서 한개로는 폐수(폐수용 열교환기로부터 배출되는 폐수)가 유입되고 나머지 한개로는 기체(예를 들면 공기)가 유입된다. 인젝터(1301)의 출구로는 기체와 폐수가 혼합된 혼합물 - 기체의 적어도 일부가 폐수에 용해된 상태로서, '기포 함유 폐수'라고 부르기로 함 - 이 배출되어 선회기로 유입된다. 선회기(1303)로 유입된 혼합물은 충분히 회전된후에 용해탱크(1305)로 배출된다. 용해탱크(1305)는 선회기(1303)로부터 유입받은 혼합물을 일시 저장하며, 낙하 폐수 저장부(200)로 제공된다. 미세 기포 생성부(1300)의 용해탱크(1305)와 낙하 폐수 저장부(200) 사이에 펌프(미 도시)가 설치되며, 그러한 펌프에 의해 용해탱크(1305)에 저장된 '기포 함유 폐수'는 낙하 폐수 저장부(200)로 공급된다. 한편, 후술하겠지만, 도 3을 참조하여 설명한 미세 기포 생성부(1300)는 본 발명의 제2실시예에 따른 증발 결정화기(10)에도 사용될 수 있다. The injector 1301 is a device called a venturi injector. The injector 1301 has two inlets and one outlet. Wastewater (wastewater discharged from the wastewater heat exchanger) flows into one of the two inlets of the injector 1301 and gas (eg, air) flows into the other. At the outlet of the injector 1301, a mixture of gas and wastewater - in a state in which at least a part of the gas is dissolved in wastewater, which is referred to as 'bubble-containing wastewater' - is discharged and introduced into the swirler. The mixture introduced into the swirler 1303 is discharged to the dissolution tank 1305 after being sufficiently rotated. The dissolution tank 1305 temporarily stores the mixture received from the swirler 1303 and is provided to the falling wastewater storage unit 200 . A pump (not shown) is installed between the dissolution tank 1305 of the microbubble generating unit 1300 and the falling wastewater storage unit 200, and the 'bubble-containing wastewater' stored in the dissolution tank 1305 by such a pump falls It is supplied to the wastewater storage unit 200 . Meanwhile, as will be described later, the microbubble generator 1300 described with reference to FIG. 3 may also be used in the evaporation crystallizer 10 according to the second embodiment of the present invention.

세척장치(1307)는 선회기(1303)나 이젝터(1301)에 이물질이 고착화될 경우, 그러한 이물질을 제거하기 위한 것이다. 세척장치(1307)가 동작할 경우, 밸브(V7)와 밸브(V9)는 오프시키고, 밸브(V11)과 밸브(V13)을 온시킨다. 세척장치(1307)로는 예를 들면 한국등록특허 10-1688981호(이하, '981 특허')에 개시된 임펠라 디바이스를 이용한 배관 세정시스템이 있을 수 있다. 981 특허는 배관 세정을 위한 시스템이지만, 선회기(1303)나 이젝터(1301)의 세정에도 사용될 수 있다. The cleaning device 1307 is for removing foreign substances when they are fixed to the swirler 1303 or the ejector 1301 . When the washing device 1307 operates, the valve V7 and the valve V9 are turned off, and the valve V11 and the valve V13 are turned on. As the washing device 1307, for example, there may be a pipe washing system using an impeller device disclosed in Korean Patent Registration No. 10-1688981 (hereinafter, '981 patent'). The 981 patent is a system for cleaning pipes, but it can also be used for cleaning the swirler 1303 or the ejector 1301 .

세척장치(1307)가 981 특허의 배관세정시스템으로 구현이 될 경우, 물과 공기는 외부로부터 공급받을 수 있다. 한편, 증발 결정화기(10)에서 배출되는 응축수의 일부가 세척장치(1307)에서 사용되는 물로 활용될 수 있다. When the cleaning device 1307 is implemented with the pipe cleaning system of the 981 patent, water and air may be supplied from the outside. On the other hand, a portion of the condensed water discharged from the evaporation crystallizer 10 may be utilized as water used in the washing device 1307 .

선회기(1303)로는 한국등록특허 10-1284266호(이하, '266 특허')에 개시된 선회모듈이 활용될 수 있다. 266 특허에는 인젝터(1301), 선회기(1303), 및 용해탱크(1305)를 활용하여 미세기포를 생성하는 기술이 개시되어 있다. As the turning device 1303, a turning module disclosed in Korean Patent Registration No. 10-1284266 (hereinafter, '266 patent') may be utilized. The 266 patent discloses a technique for generating microbubbles using the injector 1301, the swirler 1303, and the dissolution tank 1305.

상술한 981 특허와 266 특허에 개시된 모든 기술내용은 본원 명세서의 일부로서 결합하되, 본원 발명의 내용과 상충되는 내용은 제외된다. All technical contents disclosed in the above-mentioned 981 patent and 266 patent are incorporated as a part of the present specification, but contents that conflict with the contents of the present invention are excluded.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 마이크로 버블을 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템을 설명하기 위한 도면이다. 4 is a view for explaining a crystallizer system of a rotating disk type using microbubbles according to a second embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 제2 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템은 증발 결정화기(10)와 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)를 포함한다. 제2 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템에 사용되는 증발 결정화기(10)(이하, '제2 실시예에 따른 증발 결정화기')는 디스크(100), 디스크(100)에 폐수를 분사하는 분사부(300), 디스크(100)를 회전시킬 수 있는 구동부(600), 디스크(100)에 스팀을 제공하는 스팀 발생기(700), 디스크(100)의 표면에 생성된 분말을 긁기 위한 스크래퍼(500), 펌프(800), 낙하 폐수 저장부(200), 농도 조절 장치(1000), 낙하 분말 저장부(1100), 및 미세 기포 생성부(1300)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 4 , the crystallizer system according to the second embodiment includes an evaporation crystallizer 10 and a circulating carrier gas supply device 400 . The evaporative crystallizer 10 (hereinafter, 'evaporative crystallizer according to the second embodiment') used in the crystallizer system according to the second embodiment is a disk 100, an injection unit for spraying wastewater to the disk 100 300, a driving unit 600 capable of rotating the disk 100, a steam generator 700 providing steam to the disk 100, and a scraper 500 for scraping the powder generated on the surface of the disk 100 , a pump 800 , a falling wastewater storage unit 200 , a concentration control device 1000 , a falling powder storage unit 1100 , and a microbubble generator 1300 .

제1 실시예에 따른 증발 결정화기(10)와 제2 실시예에 따른 증발 결정화기(10)를 비교하면, 미세 기포 생성부(1300)의 위치에만 양자의 차이가 있다. 제2 실시예에 따른 증발 결정화기(10)의 미세 기포 생성부(1300)는 낙하 폐수 저장부(200)와 분사부(300)의 사이에 위치된다. 제2 실시예에서의 미세 기포 생성부(1300)의 구성은 도 3을 참조하여 설명한 구성과 동일하다. 이하에서는, 제1 실시예에 따른 증발 결정화기(10)와 제2 실시예에 따른 증발 결정화기(10)와의 차이점을 위주로 설명하기로 한다. When the evaporation crystallizer 10 according to the first embodiment and the evaporation crystallizer 10 according to the second embodiment are compared, there is a difference only in the position of the microbubble generating unit 1300 . The microbubble generating unit 1300 of the evaporation crystallizer 10 according to the second embodiment is located between the falling wastewater storage unit 200 and the spraying unit 300 . The configuration of the microbubble generating unit 1300 in the second embodiment is the same as the configuration described with reference to FIG. 3 . Hereinafter, differences between the evaporative crystallizer 10 according to the first embodiment and the evaporative crystallizer 10 according to the second embodiment will be mainly described.

낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수는 미세 기포 저장부(1300)를 경유하여 분사부(300)를 통해서 디스크(100)에 분사된다. 미세 기포 저장부(1300)는 폐수를 유입받고, 폐수에 미세 기포를 생성시켜 기포 함유 폐수를 생성하여 분사부(300)로 배출한다. The wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 is injected to the disk 100 through the injection unit 300 via the microbubble storage unit 1300 . The microbubble storage unit 1300 receives wastewater, generates microbubbles in the wastewater to generate bubble-containing wastewater, and discharges the wastewater to the spraying unit 300 .

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템에 사용되는 농도 조절 장치(1000)를 설명하기 위한 도면이다. 5 is a view for explaining the concentration control apparatus 1000 used in the crystallizer system according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 농도 조절 장치(1000)는 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수의 농도를 조절할 수 있다. 농도 조절 장치(1000)는 폐수의 농도를 조절하기 위한 농도 조절용 용액을 저장하는 농도 조절용 용액 저장부(1003), 농도 조절용 용액 저장부(1003)에 저장된 농도 조절용 용액을 낙하 폐수 저장부(200)로 공급하기 위한 펌프(1007), 및 펌프(1007)의 동작을 제어하는 제어부(1001)를 포함할 수 있다. 제어부(1001)는 예를 들면 농도 측정 센서(미 도시)에 의해 감지된 결과에 의해 펌프(1007)의 동작을 제어할 수 있다. Referring to FIG. 5 , the concentration adjusting apparatus 1000 may adjust the concentration of wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 . The concentration control device 1000 drops the concentration control solution stored in the concentration control solution storage unit 1003 for storing the concentration control solution for controlling the concentration of the wastewater, and the concentration control solution storage unit 1003 for the concentration control. Wastewater storage unit 200 It may include a pump 1007 for supplying to the furnace, and a control unit 1001 for controlling the operation of the pump 1007 . The control unit 1001 may control the operation of the pump 1007 according to a result detected by, for example, a concentration measuring sensor (not shown).

농도 조절용 용액은 물로 구성되거나 또는 폐수에 포함된 염의 종류와 동일하거나 유사한 종류의 염을 포함하는 용액으로 구성될 수 있다. 도 5를 참조하면, 농도 조절 장치(1000)는 농도 조절용 용액 저장부(1003)를 1개 포함하고 있지만, 이는 예시적인 것으로 농도 조절용 용액 저장부(1003)를 2개 이상 포함할 수 있다. The solution for adjusting the concentration may be composed of water or a solution containing a salt of the same or similar type to the type of salt contained in the wastewater. Referring to FIG. 5 , the concentration control apparatus 1000 includes one solution storage unit 1003 for adjusting the concentration, but this is exemplary and may include two or more solution storage units 1003 for adjusting the concentration.

예를 들면, 농도 조절 장치(1000)는 물을 저장하는 농도 조절용 용액 저장부 - 제1 농도 조절용 용액 저장부 - 와, 염을 저장하는 농도 조절용 용액 저장부 - 제2 농도 조절용 용액 저장부 -를 포함할 수 있다. 이러한 예에서, 제어부(1001)는 폐수의 농도가 기준 범위 - 미리 설정된 값으로 '농도 조절용 기준 범위'이라고 함 - 보다 낮을 경우에는 제2 농도 조절용 용액 저장부에 저장된 염을 낙하 폐수 저장부(200)에게 제공하고, 폐수의 농도가 기준 범위 이상일 경우에는 제1 농도 조절용 용액 저장부에 저장된 물을 낙하 폐수 저장부(200)에 제공하도록 동작할 수 있다. 이러한 동작을 위하여 도 5에 도시된 펌프(1007)나 밸브(V5)외에 추가적인 펌프와 밸브가 농도 조절 장치(1000)에 사용될 수 있다. For example, the concentration control device 1000 includes a concentration control solution storage unit for storing water - a first concentration control solution storage unit - and a concentration control solution storage unit for storing salt - a second concentration control solution storage unit - may include In this example, the control unit 1001 drops the salt stored in the second concentration control solution storage unit when the concentration of the wastewater is lower than the reference range - a preset value, which is referred to as a 'reference range for concentration control' - falls into the wastewater storage unit 200 ), and when the concentration of wastewater is greater than or equal to the reference range, it may operate to provide the water stored in the first concentration control solution storage unit to the falling wastewater storage unit 200 . For this operation, an additional pump and valve in addition to the pump 1007 or the valve V5 shown in FIG. 5 may be used in the concentration control device 1000 .

농도 조절 장치(1000)는 히터(1005)를 더 포함할 수 있다. 히터(1005)는 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수와 열적으로 결합되어 있으며, 제어부(1001)에 의해 히터(1005)의 동작이 제어된다. 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수의 농도가 기준 범위 보다 낮을 경우, 히터(1005)가 동작한다. 히터(1005)가 동작되면, 폐수의 일부가 기화되어 폐수의 농도가 높아져서 기준 범위에 포함된다. The concentration control apparatus 1000 may further include a heater 1005 . The heater 1005 is thermally coupled to the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 , and the operation of the heater 1005 is controlled by the controller 1001 . When the concentration of wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 is lower than the reference range, the heater 1005 operates. When the heater 1005 is operated, a portion of the wastewater is vaporized to increase the concentration of the wastewater and is included in the reference range.

일 실시예에 따르면, 도 5에 도시된 농도 조절 장치(1000)에서 농도 조절용 용액 저장부(1003)는 물을 저장하도록 구성된다. 이러한 구성에서, 폐수의 농도가 기준 범위 보다 낮으면 제어부(1001)는 히터(1005)를 동작시켜 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수의 농도가 기준 범위에 속하도록 조절하고, 폐수의 농도가 기준 범위 보다 높으면 농도 조절용 용액 저장부(1003)에 저장된 물을 낙하 폐수 저장부(200)로 제공하여 폐수의 농도를 기준 범위에 속하도록 조절한다.According to one embodiment, in the concentration control apparatus 1000 shown in FIG. 5 , the concentration control solution storage unit 1003 is configured to store water. In this configuration, when the concentration of the wastewater is lower than the reference range, the controller 1001 operates the heater 1005 to adjust the concentration of the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 to fall within the reference range, and the concentration of the wastewater is If it is higher than the reference range, the water stored in the solution storage unit 1003 for concentration control is provided to the falling wastewater storage unit 200 to adjust the concentration of the wastewater to fall within the reference range.

한편, 도 5에는 농도 조절 장치(1000)가 농도 조절용 용액 저장부(1003)와 히터(1005)를 모두 포함하는 것으로 도시되어 있으나, 이는 예시적인 것으로 농도 조절용 용액 저장부(1003)와 히터(1005) 중 어느 하나만을 포함하도록 구성될 수도 있다. Meanwhile, in FIG. 5 , the concentration control device 1000 is illustrated as including both the concentration control solution storage unit 1003 and the heater 1005 , but this is exemplary and includes the concentration control solution storage unit 1003 and the heater 1005 . ) may be configured to include any one of them.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템에 사용되는 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)의 예시적인 세부 구성을 설명하기 위한 도면이다.6 is a view for explaining an exemplary detailed configuration of the circulating carrier gas supply device 400 used in the crystallizer system according to an embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는, 제1팬(401), 적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제1열교환기(403), 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제1기액분리부(405), 제2팬(411), 적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제2열교환기(407), 및 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제2기액분리부(409)를 포함할 수 있다. 여기서, 유체는 기체, 액체, 또는 기체와 액체의 혼합물을 의미한다.Referring to FIG. 6 , the circulating carrier gas supply device 400 according to an embodiment of the present invention includes a first fan 401 , a first heat exchanger 403 capable of exchanging at least two fluids, and gas A first gas-liquid separation unit 405 capable of separating the liquid from the second fan 411, a second heat exchanger 407 capable of exchanging heat with at least two fluids, and a first gas-liquid separation unit capable of separating gas and liquid A second gas-liquid separation unit 409 may be included. Here, the fluid means a gas, a liquid, or a mixture of a gas and a liquid.

증발 결정화기(10)로부터 배출되는 배가스는 제1팬(401), 제1열교환기(403), 제1기액분리부(405), 제2열교환기(407), 제2팬(411), 및 제2기액분리부(409)를 순차적으로 통과한다. 제1기액분리부(405)와 제2기액분리부(409)에서 수분이 제거된 기체의 적어도 일부는 제1열교환기(403)로 제공되어 제1열교환기(403)로 유입된 배가스와 열교환되며, 제1열교환기(403)에서 배가스와 열교환된 후 배출된 가스의 적어도 일부는 증발 결정화기(10)로 제공된다. The exhaust gas discharged from the evaporation crystallizer 10 includes a first fan 401, a first heat exchanger 403, a first gas-liquid separator 405, a second heat exchanger 407, a second fan 411, and the second gas-liquid separation unit 409 sequentially. At least a portion of the gas from which moisture has been removed from the first gas-liquid separator 405 and the second gas-liquid separator 409 is provided to the first heat exchanger 403 to exchange heat with the exhaust gas introduced into the first heat exchanger 403 . and at least a portion of the discharged gas after heat exchange with the exhaust gas in the first heat exchanger 403 is provided to the evaporation crystallizer 10 .

증발 결정화기(10)의 내부에 존재하던 기체 - 수분이 포함 - 의 적어도 일부는 제1팬(401)에 의해 제1열교환기(403)로 이동된다. 제1열교환기(403)는 제1팬(401)에 의해 제공 받은 배가스와, 제2기액분리부(409)로부터 배출된 기체의 적어도 일부를 서로 열교환시키도록 구성되어 있다. 제1열교환기(403)로 제공되는 배가스의 온도는 제2기액분리부(409)에서 배출되는 기체의 온도보다 높으므로, 제1열교환기(403)를 통과한 배가스의 온도는 낮아진다. 또한, 제2기액분리부(409)로부터 배출된 기체는 제1열교환기(403)를 통과하면서 온도가 높아지게 된다. At least a portion of the gas - including moisture - existing in the evaporative crystallizer 10 is moved to the first heat exchanger 403 by the first fan 401 . The first heat exchanger 403 is configured to exchange heat between the exhaust gas provided by the first fan 401 and at least a portion of the gas discharged from the second gas-liquid separation unit 409 with each other. Since the temperature of the exhaust gas provided to the first heat exchanger 403 is higher than the temperature of the gas discharged from the second gas-liquid separator 409 , the temperature of the exhaust gas passing through the first heat exchanger 403 is lowered. In addition, the gas discharged from the second gas-liquid separator 409 passes through the first heat exchanger 403 to increase the temperature.

제1기액분리부(405)는 제1열교환기(403)로부터 배출되는 배가스에서 습기를 제거한다.The first gas-liquid separator 405 removes moisture from the exhaust gas discharged from the first heat exchanger 403 .

제1기액분리부(405)에 의해 습기가 제거된 배가스 - 건조 배가스 - 는 제2팬(411)에 의해 제2열교환기(407)로 제공된다. 제2열교환기(407)는 제2팬(411)에 의해 제공 받은 건조 배가스와, 외부로부터 제공받은 냉수를 서로 열교환시키도록 구성되어 있다. 제2열교환기(407)에게 이동되는 건조 배가스의 온도는 냉수의 온도보다 높으므로, 제2열교환기(407)를 통과한 배가스 - 저온 및 건조 배가스 - 의 온도는 더 낮아진다. The exhaust gas - dry exhaust gas - from which moisture has been removed by the first gas-liquid separator 405 is provided to the second heat exchanger 407 by the second fan 411 . The second heat exchanger 407 is configured to exchange heat between the dry exhaust provided by the second fan 411 and the cold water provided from the outside. Since the temperature of the dry flue gas moved to the second heat exchanger 407 is higher than the temperature of the cold water, the temperature of the flue gas - low temperature and dry flue gas - passing through the second heat exchanger 407 - is lowered.

제2기액분리부(409)는 제2열교환기(407)로부터 배출되는 저온 및 건조 배가스에서 습기를 제거한다. 제2기액분리부(409)에서 습기가 더 제거된 저온 및 건조 배가스는 제1열교환기(403)로 제공되어, 디스크(100)로부터 배출되는 배가스와 열교환된다. 제1열교환기(403)에 의해 열교환되어 배출되는 저온 및 건조 배가스는 디스크(100)로 제공된다. The second gas-liquid separator 409 removes moisture from the low-temperature and dry exhaust gas discharged from the second heat exchanger 407 . The low-temperature and dry exhaust gas from which moisture has been further removed from the second gas-liquid separation unit 409 is provided to the first heat exchanger 403 to exchange heat with the exhaust gas discharged from the disk 100 . The low-temperature and dry exhaust gas that is heat-exchanged and discharged by the first heat exchanger 403 is provided to the disk 100 .

본원 명세서에서, '캐리어 가스'는, 제1기액분리부(405)로부터 배출된 건조 배가스, 제2열교환기(407)로부터 배출된 저온 및 건조 배가스, 제2기액분리부(409)로부터 배출된 저온 및 건조 배가스, 또는 제1열교환기(403)로부터 배출된 저온 및 건조 배가스 중 어느 하나를 지칭하거나 또는 전부를 지칭하는 의미로 사용하기로 한다.In this specification, the 'carrier gas' is the dry exhaust gas discharged from the first gas-liquid separation unit 405 , the low-temperature and dry exhaust gas discharged from the second heat exchanger 407 , and the second gas-liquid separation unit 409 discharged from It will be used to refer to any one or all of the low-temperature and dry flue gas, or the low-temperature and dry flue gas discharged from the first heat exchanger 403 .

본 발명의 일 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는 제2열교환기(407)로부터 배출되는 캐리어 가스가 디스크(100)로 이동될 수 있는 배관(또는, '라인')을 포함하고, 이 배관에는 디스크(100)로 제공되는 캐리어 가스의 양을 조절하기 위한 밸브들(V1, V3)이 설치되어 있다. 한편, 디스크(100)로 제공되는 캐리어 가스의 양을 조절하기 위한 밸브들(V1, V3)은 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)에 포함되도록 구성되거나, 또는 도 1에 도시된 바와 같이 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)의 외부에 위치될 수 있다.The circulating carrier gas supply device 400 according to an embodiment of the present invention includes a pipe (or 'line') through which the carrier gas discharged from the second heat exchanger 407 can be moved to the disk 100 . and valves V1 and V3 for controlling the amount of carrier gas provided to the disk 100 are installed in this pipe. On the other hand, the valves (V1, V3) for controlling the amount of the carrier gas provided to the disk 100 is configured to be included in the circulating carrier gas supply device 400, or as shown in FIG. It may be located outside the carrier gas supply device 400 .

제1기액분리부(405)와 제2기액분리부(409)에서 각각 생성된 응축수 - 배가스에 포함된 수분이 액체로 변화된 것임 - (이하, '기액분리부들의 응축수')는 외부로 방출된다. 본 실시예에서, 증발 결정화기(10)로부터 배출되어 폐수용 열교환기(900)를 거친 응축수와, 기액분리부들의 응축수는 합류되어 외부로 배출될 수 있다.The condensed water generated by the first gas-liquid separation unit 405 and the second gas-liquid separation unit 409 - the moisture contained in the flue gas is changed to liquid - (hereinafter, 'condensed water of the gas-liquid separation units') is discharged to the outside . In this embodiment, the condensed water discharged from the evaporation crystallizer 10 and passed through the wastewater heat exchanger 900 and the condensed water of the gas-liquid separation units may be combined and discharged to the outside.

상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는 제1실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템과 제2실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템에 사용될 수 있다. The above-described circulating carrier gas supply device 400 according to an embodiment of the present invention may be used in the crystallizer system according to the first embodiment and the crystallizer system according to the second embodiment.

도 7 내지 도 10의 도면들은 본 발명에 따른 크리스탈라이저 시스템의 직관적인 이해를 돕기 위한 도면들로서, 도 7은 증발 결정화기(10)의 예시적 구성을 나타낸 것이고, 도 8은 도 7의 증발 결정화기(10)에서 커버의 일부를 제거한 상태를 나타낸 것이고, 도 9와 도 10은 디스크(100), 스크래퍼(500), 및 분사부(300)의 예시적 구성을 나타낸 것이다. 한편, 도 7 내지 도 10의 도면들에서 도면부호가 지시하는 구성요소들은, 도 1 내지 도 6을 참조하여 설명한 구성요소들 중 같은 도면부호를 가진 구성요소들과 동일하거나 유사한 기능을 한다. 7 to 10 are diagrams to help intuitive understanding of the crystallizer system according to the present invention, and FIG. 7 shows an exemplary configuration of the evaporation crystallizer 10, and FIG. 8 is the evaporation crystal of FIG. It shows a state in which a part of the cover is removed from the firearm 10 , and FIGS. 9 and 10 show exemplary configurations of the disk 100 , the scraper 500 , and the spraying unit 300 . Meanwhile, components indicated by reference numerals in the drawings of FIGS. 7 to 10 function the same or similar to components having the same reference numerals among the components described with reference to FIGS. 1 to 6 .

도 7과 도 8을 참조하면, 디스크(100)는 구동부(600)와 동작적으로 결합되어 회전 가능하도록 구성되어 있고, 디스크(100)의 상부를 통해서 배가스가 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)(도 7과 도 8에는 미도시)로 배출된다.7 and 8 , the disk 100 is operatively coupled to the driving unit 600 and configured to be rotatable, and the exhaust gas is circulated through the upper portion of the disk 100 , the carrier gas supply device 400 . (not shown in FIGS. 7 and 8).

도 9와 도 10을 참조하면, 스크래퍼(500)는 디스크(100)의 표면에서 생성되는 분말(미 도시)을 제거하도록 배치되어 있고, 분사부(300)의 일부를 구성하는 노즐(N)은 디스크(100)의 표면에 폐수를 분사하도록 배치되어 있다. 또한, 디스크(100)의 내부로 스팀을 제공하는 스팀 공급 라인(PL)이 디스크(100)의 내부와 연통되도록 결합되어 있고, 디스크(100)의 내부에서 발생된 응축수 - 스팀이 물로 변환된 것 - 를 외부로 배출하기 위한 응축수 배출 라인(OL)이 디스크(100)의 내부와 연통되도록 결합되어 있다. 스팀 공급 라인(PL)은 스팀 발생기(700)와 배관(미 도시)에 의해 연결되어 있고, 응축수 배출 라인(OL)은 폐수용 열교환기(900)와 배관(미 도시)에 의해 연결되어 있다. 9 and 10 , the scraper 500 is disposed to remove powder (not shown) generated on the surface of the disk 100 , and the nozzle N constituting a part of the spray unit 300 is It is arranged to spray wastewater on the surface of the disk 100 . In addition, the steam supply line PL for providing steam to the inside of the disk 100 is coupled to communicate with the inside of the disk 100 , and condensed water generated inside the disk 100 - steam is converted into water - The condensate discharge line (OL) for discharging to the outside is coupled to communicate with the inside of the disk (100). The steam supply line PL is connected to the steam generator 700 by a pipe (not shown), and the condensate discharge line OL is connected to the wastewater heat exchanger 900 by a pipe (not shown).

한편, 디스크(100)를 구동시키기 위한 구동부(600)의 회전축(미 도시)는 디스크(100)의 중앙의 중심축(AX)과 결합되어, 구동부(600)에 의해 디스크(100)가 회전될 수 있다. 스크래퍼(500)는 고정되어 있고, 디스크(100)가 회전함에 따라서 디스크(100)의 표면에 생성된 분말을 제거한다. 분사부(300)의 일부를 구성하는 노즐(N) 역시 고정되어 있고, 디스크(100)가 회전함에 따라서 디스크(100)의 표면에 폐수를 분사한다. On the other hand, the rotation shaft (not shown) of the driving unit 600 for driving the disc 100 is coupled to the central axis AX of the disc 100 , and the disc 100 is rotated by the driving unit 600 . can The scraper 500 is fixed, and as the disk 100 rotates, it removes the powder generated on the surface of the disk 100 . The nozzle N constituting a part of the spray unit 300 is also fixed, and as the disk 100 rotates, wastewater is sprayed on the surface of the disk 100 .

상술한 바와 같이 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상술한 명세서의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.As described above, various modifications and variations are possible from the description of the above-described specification to those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments and should be defined by the following claims as well as the claims and equivalents.

10: 증발 결정화기
100: 디스크
200: 낙하 폐수 저장부
300: 분사부
400: 순환식 캐리어 가스 공급 장치
401, 411 : 팬
403: 제1열교환기
407: 제2열교환기
405: 제1기액분리부
409: 제2기액분리부
500: 스크래퍼
600: 구동부
700: 스팀 발생기
800: 펌프
900: 폐수용 열교환기
1000: 농도 조절 장치
1001: 제어부
1003: 농도 조절용 용액 저장부
1005: 히터
1007: 펌프
V1, V3, V5, V7, V9, V11, V13 : 밸브
N: 노즐
PL: 스팀 공급 라인
OL: 응축수 배출 라인
AX: 중심축10: evaporation crystallizer
100: disk
200: falling wastewater storage unit
300: injection unit
400: circulating carrier gas supply device
401, 411: fan
403: first heat exchanger
407: second heat exchanger
405: first gas-liquid separation unit
409: second gas-liquid separation unit
500: scraper
600: drive unit
700: steam generator
800: pump
900: heat exchanger for wastewater
1000: concentration control device
1001: control unit
1003: solution storage for concentration control
1005: heater
1007: pump
V1, V3, V5, V7, V9, V11, V13: valve
N: Nozzle
PL: Steam supply line
OL: Condensate drain line
AX: central axis

Claims (10)

회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템에 있어서,
폐수를 기화시켜 폐수에 포함된 입자를 분말화하는 증발 결정화기; 및
상기 증발 결정화기로 공급되는 폐수에 미세 버블을 발생시키기 위한 미세기포 생성부;를 포함하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템.In the crystallizer system of the rotating disk type,
an evaporation crystallizer for vaporizing wastewater to pulverize particles contained in wastewater; and
A crystallizer system of a rotating disk type comprising a; microbubble generating unit for generating microbubbles in the wastewater supplied to the evaporation crystallizer. 제1항에 있어서,
상기 증발 결정화기는
디스크, 상기 디스크에 폐수를 분사하는 분사부, 상기 디스크를 회전시키는 구동부, 상기 디스크의 내부에 스팀을 제공하는 스팀 발생기, 상기 디스크의 표면에 생성된 분말을 긁기 위한 스크래퍼, 및 상기 디스크의 표면에 분사된 폐수가 기화되지 않고 흘러내리는 폐수를 저장할 수 있는 낙하 폐수 저장부를 포함하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템.The method of claim 1,
The evaporative crystallizer
A disk, a spraying unit for spraying wastewater to the disk, a driving unit for rotating the disk, a steam generator providing steam to the inside of the disk, a scraper for scraping the powder generated on the surface of the disk, and a surface of the disk A crystallizer system of a rotating disk type that includes a falling wastewater storage unit capable of storing the discharged wastewater without being vaporized. 제2항에 있어서,
상기 증발 결정화기로부터 배출되는 응축수와 상기 증발 결정화기로 공급하는 폐수를 열교환시키는 폐수용 열교환기;를 더 포함하며,
상기 미세기포 생성부는 상기 폐수용 열교환기와 상기 증발 결정화기 사이에 위치되며, 상기 폐수용 열교환기를 통해서 배출되어 상기 증발 결정화기로 공급되는 폐수에 미세 기포를 생성시키는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템.3. The method of claim 2,
It further includes; a heat exchanger for wastewater for exchanging heat exchange between the condensed water discharged from the evaporative crystallizer and the wastewater supplied to the evaporative crystallizer,
The microbubble generating unit is located between the wastewater heat exchanger and the evaporation crystallizer, and is discharged through the wastewater heat exchanger to generate microbubbles in the wastewater supplied to the evaporation crystallizer, a rotating disk type crystallizer system. 제2항에 있어서,
상기 낙하 폐수 저장부는 상기 디스크의 표면에 분사된 폐수가 기화되지 않고 흘러내리는 폐수를 저장할 수 있고,
상기 폐수 공급원으로부터 공급된 폐수는 폐수용 열교환기를 거쳐서 상기 낙하 폐수 저장부로 제공되고, 상기 분사부는 상기 낙하 폐수 저장부에 저장된 폐수를 상기 디스크의 표면에 분사하며,
상기 미세기포 생성부는 상기 분사부와 상기 낙하 폐수 저장부의 사이에 위치되며, 상기 낙하 폐수 저장부로부터 상기 분사부로 이동되는 폐수에 미세 기포를 생성시키는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템.3. The method of claim 2,
The falling wastewater storage unit may store the wastewater flowing down without vaporizing the wastewater sprayed on the surface of the disk,
The wastewater supplied from the wastewater supply source is provided to the falling wastewater storage unit through a wastewater heat exchanger, and the spraying unit sprays the wastewater stored in the falling wastewater storage unit to the surface of the disk,
The microbubble generating unit is positioned between the spraying unit and the falling wastewater storage unit, and generating microbubbles in the wastewater moving from the falling wastewater storage unit to the spraying unit, a rotating disk type crystallizer system. 제3항에 있어서,
상기 증발 결정화기에서 기화될 폐수의 농도를 조절하기 위한 농도 조절 장치;를 더 포함하고,
상기 농도 조절 장치는 상기 증발 결정화기로 공급될 폐수의 농도를 조절하거나 또는 상기 증발 결정화기로 이미 공급된 폐수의 농도를 조절하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템.4. The method of claim 3,
Concentration control device for controlling the concentration of the wastewater to be vaporized in the evaporation crystallizer; further comprising,
The concentration control device controls the concentration of the wastewater to be supplied to the evaporative crystallizer or controls the concentration of the wastewater already supplied to the evaporative crystallizer, the rotary disk type crystallizer system. 제5항에 있어서,
상기 농도 조절 장치는 상기 낙하 폐수 저장부에 저장된 폐수의 농도를 조절하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템.6. The method of claim 5,
The concentration control device will adjust the concentration of the wastewater stored in the falling wastewater storage unit, a rotating disk type crystalizer system. 제6항에 있어서,
상기 농도 조절 장치는 상기 낙하 폐수 저장부에 저장된 폐수의 농도를 조절하기 위한 농도 조절용 용액을 저장하는 농도 조절용 용액 저장부, 상기 농도 조절용 용액 저장부에 저장된 농도 조절용 용액을 펌핑하여 상기 낙하 폐수 저장부로 공급하기 위한 펌프를 포함하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템.7. The method of claim 6,
The concentration control device includes a concentration control solution storage unit for storing a concentration control solution for controlling the concentration of wastewater stored in the falling wastewater storage unit, and pumps the concentration control solution stored in the concentration control solution storage unit to the falling wastewater storage unit. A crystallizer system of the rotating disk type, comprising a pump for feeding. 제6항에 있어서,
상기 농도 조절 장치는 상기 낙하 폐수 저장부에 저장된 폐수를 가열하기 위위하여 상기 낙하 폐수 저장부와 열적으로 결합된 히터와 상기 히터의 동작을 제어하는 제어부를 포함하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템.7. The method of claim 6,
The concentration control device includes a heater thermally coupled to the falling wastewater storage unit to heat the wastewater stored in the falling wastewater storage unit, and a controller for controlling the operation of the heater, a rotating disk type crystalizer system. 제6항에 있어서,
상기 증발 결정화기로 공급할 폐수를 임시 저장하는 폐수 임시 저장부;를 더 포함하며,
상기 농도 조절 장치는 상기 폐수 임시 저장부에 저장된 폐수의 농도를 조절하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템.7. The method of claim 6,
It further includes; a temporary storage unit for temporarily storing the wastewater to be supplied to the evaporation crystallizer,
The concentration control device will control the concentration of the wastewater stored in the wastewater temporary storage unit, a rotating disk type crystalizer system. 제3항에 있어서,
상기 증발 결정화기로부터 배출되는 배가스를 유입받고, 유입받은 배가스의 적어도 일부를 상기 증발 결정화기로 캐리어 가스로서 제공하는 순환식 캐리어 가스 공급 장치;를 더 포함하며,
상기 캐리어 가스는 상기 증발 결정화기로부터 배출되는 배가스보다 건조하며,
상기 순환식 캐리어 가스 공급 장치는
적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제1열교환기, 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제1기액 분리부, 적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제2열교환기, 및 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제2기액 분리부를 포함하며,
상기 증발 결정화기로부터 배출되는 배가스는 제1열교환기, 제1기액분리부, 제2열교환기, 및 제2기액 분리부를 순차적으로 통과하고, 제2열교환기로부터 배출되어 제2기액 분리부로 유입된 배가스로부터 분리된 기체의 적어도 일부는 제1열교환기로 유입되어, 제1열교환기로 유입된 배가스와 열교환되며, 제1열교환기에서 배가스와 열교환된 후 배출된 가스의 적어도 일부는 상기 증발 결정화기로 제공되는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템.4. The method of claim 3,
Further comprising; a circulating carrier gas supply device that receives the exhaust gas discharged from the evaporative crystallizer and provides at least a portion of the received exhaust gas as a carrier gas to the evaporative crystallizer,
The carrier gas is drier than the flue gas discharged from the evaporative crystallizer,
The circulating carrier gas supply device is
A first heat exchanger capable of exchanging heat with at least two fluids, a first gas-liquid separation unit capable of separating gas and liquid, a second heat exchanger capable of exchanging heat with at least two fluids, and capable of separating gas and liquid Including a second gas-liquid separation unit,
The exhaust gas discharged from the evaporative crystallizer sequentially passes through the first heat exchanger, the first gas-liquid separation unit, the second heat exchanger, and the second gas-liquid separation unit, and is discharged from the second heat exchanger and flows into the second gas-liquid separation unit. At least a portion of the gas separated from the flue gas flows into the first heat exchanger and exchanges heat with the flue gas introduced into the first heat exchanger, and at least a portion of the gas discharged after heat exchange with the flue gas in the first heat exchanger is provided to the evaporative crystallizer A rotating disk type crystallizer system.
KR1020200127250A 2020-08-07 2020-09-29 Rotary disc-type crystallizer system using micro bubble KR102464456B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200099082 2020-08-07
KR20200099082 2020-08-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220019214A true KR20220019214A (en) 2022-02-16
KR102464456B1 KR102464456B1 (en) 2022-11-10

Family

ID=80474965

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200127250A KR102464456B1 (en) 2020-08-07 2020-09-29 Rotary disc-type crystallizer system using micro bubble
KR1020200127257A KR102464461B1 (en) 2020-08-07 2020-09-29 Vaporization system for treating high salinity and high concentration wastewater
KR1020200127246A KR102464454B1 (en) 2020-08-07 2020-09-29 High efficiency rotary disc-type crystallizer system using wastewater concentration control
KR1020200127241A KR102464452B1 (en) 2020-08-07 2020-09-29 Rotary disc-type crystallizer system using circulation career gas

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200127257A KR102464461B1 (en) 2020-08-07 2020-09-29 Vaporization system for treating high salinity and high concentration wastewater
KR1020200127246A KR102464454B1 (en) 2020-08-07 2020-09-29 High efficiency rotary disc-type crystallizer system using wastewater concentration control
KR1020200127241A KR102464452B1 (en) 2020-08-07 2020-09-29 Rotary disc-type crystallizer system using circulation career gas

Country Status (1)

Country Link
KR (4) KR102464456B1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240026392A (en) 2022-08-19 2024-02-28 주식회사 유니스캔 A method for purifying wastewater with high salinity and purification system using the same
KR102618703B1 (en) * 2023-06-19 2023-12-28 (주)송산피엔이 Apparatus For VOC's Deodorization Using Falling Film Evaporator

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0168035B1 (en) * 1995-11-24 1999-01-15 박용철 Dryer for wastewater
JP2007532291A (en) * 2004-04-07 2007-11-15 ユニバーシティ カレッジ カーディフ コンサルタンツ リミテッド Water treatment
KR101249203B1 (en) * 2009-09-18 2013-04-02 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 Steam generator
KR20200055191A (en) * 2018-11-12 2020-05-21 주식회사 태고 Non-discharge wastewater treatment using multi-step vacuum decompression evaporation concentration of high concentration wastewater

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101721137B1 (en) * 2015-03-30 2017-04-11 한국기계연구원 Submerged burner type wastewater treatment System

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0168035B1 (en) * 1995-11-24 1999-01-15 박용철 Dryer for wastewater
JP2007532291A (en) * 2004-04-07 2007-11-15 ユニバーシティ カレッジ カーディフ コンサルタンツ リミテッド Water treatment
KR101249203B1 (en) * 2009-09-18 2013-04-02 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 Steam generator
KR20200055191A (en) * 2018-11-12 2020-05-21 주식회사 태고 Non-discharge wastewater treatment using multi-step vacuum decompression evaporation concentration of high concentration wastewater

Also Published As

Publication number Publication date
KR102464461B1 (en) 2022-11-10
KR20220019212A (en) 2022-02-16
KR102464456B1 (en) 2022-11-10
KR102464452B1 (en) 2022-11-10
KR20220019213A (en) 2022-02-16
KR102464454B1 (en) 2022-11-10
KR20220019215A (en) 2022-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102464456B1 (en) Rotary disc-type crystallizer system using micro bubble
CA2821458C (en) Method, apparatus and system for concentrating solutions using evaporation
US8043479B2 (en) Desalination system
JP2020500690A (en) Multistage evaporation system enhanced by low gravity field
KR101757060B1 (en) Configure a blade made of a double-screw heat transfer body type evaporation drying system
JPWO2017043368A1 (en) Evaporator
CN106365231B (en) A kind of humidification dehumidifying seawater desalination system using engine of boat and ship waste heat
ES2844941T3 (en) Seawater desalination apparatus for desalinating seawater
KR20020059467A (en) Wastewater evaporation concentration and drying plant
JP2511732B2 (en) Cooling water circulation method
EP1185346B1 (en) An apparatus for rectification of liquid mixtures and/or for scrubbing of gases
JP2002206856A (en) Heat exchanger for dryer
WO2018207421A1 (en) Waste liquid evaporation apparatus, incinerator, zld system, and nozzle
JP4317767B2 (en) Ammonia refrigeration system with waste ammonia water purification device
SU343119A1 (en) HEAT AND MASS EXCHANGER FOR AIR AIR CONDITIONING SYSTEM ABC-CC-ROSHA? ”1PL11: nTSH} -] '[CHRISTMANN [-> &; ::. Ps-1 =: gp”
JP2979104B2 (en) Non-azeotropic evaporator
JPH09112946A (en) Simplified air cooling system
JP2009274017A (en) Heating/cooling device
JP2018199120A (en) Waste liquid evaporator, incinerator, ZLD system and nozzle
JP4145254B2 (en) Ammonia refrigeration equipment
RU2789939C1 (en) Method for desalination of salt and mineralized water and device for its implementation
SU707994A1 (en) Unit for cleaning in organic solvents
JP2007170698A (en) Control method of cooling device
RU2234355C1 (en) Evaporative desalting plant
RU2426575C2 (en) Heating method of scale forming solutions and device for its implementation

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right