KR102464452B1 - Rotary disc-type crystallizer system using circulation career gas - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따르면, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템에 있어서, 폐수를 기화시켜 폐수에 포함된 입자를 분말화하는 증발 결정화기(10); 및 상기 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 응축수와 상기 증발 결정화기(10)로 공급하는 폐수를 열교환시키는 폐수용 열교환기(900);를 포함하며, 상기 응축수는 상기 증발 결정화기(10)로 공급된 폐수를 기화시키기 위한 스팀이 상기 폐수를 기화시키면서 응축된 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템이 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a rotary disk type crystallizer system, comprising: an evaporation crystallizer 10 for vaporizing wastewater to pulverize particles contained in wastewater; and a wastewater heat exchanger 900 for exchanging heat exchange between the condensed water discharged from the evaporative crystallizer 10 and the wastewater supplied to the evaporative crystallizer 10, wherein the condensed water is transferred to the evaporative crystallizer 10 Steam for vaporizing the supplied wastewater is condensed while vaporizing the wastewater, a rotating disk type crystallizer system is provided.

Figure R1020200127241
Figure R1020200127241

Description

순환식 캐리어 가스를 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템{ROTARY DISC-TYPE CRYSTALLIZER SYSTEM USING CIRCULATION CAREER GAS}Rotary disk type crystalizer system using circulating carrier gas {ROTARY DISC-TYPE CRYSTALLIZER SYSTEM USING CIRCULATION CAREER GAS}

본 발명은 순환식 캐리어 가스를 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a rotating disk type crystallizer system using a circulating carrier gas.

종래의 회전 디스크(disk) 타입의 건조 장치는 디스크를 고온화시키기 위해서 고온 고압의 증기(예를 들면, 수증기)를 이용하는 장치이다. 하지만, 종래의 회전 디스크(disk)형 건조 장치는 디스크에 의해 증기화된 기체가 외부로 적절하게 배출되지 않아 기화 효율이 좋지 않고, 다양한 종류의 농도를 가진 폐수에 효과적으로 대응하지 못한다. A conventional rotary disk type drying apparatus is an apparatus that uses high-temperature and high-pressure steam (eg, water vapor) to heat the disk. However, the conventional rotary disk (disk) type drying apparatus does not properly discharge the gas vaporized by the disk to the outside, so the vaporization efficiency is not good, and it cannot effectively cope with wastewater having various types of concentrations.

본 발명의 하나 이상의 실시예에 따르면, 순환식 캐리어 가스를 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템이 제공된다.In accordance with one or more embodiments of the present invention, a rotating disk type crystallizer system using a circulating carrier gas is provided.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템에 있어서, 폐수를 기화시켜 폐수에 포함된 입자를 분말화하는 증발 결정화기(10); 및 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 응축수와 증발 결정화기(10)로 공급하는 폐수를 열교환시키는 폐수용 열교환기(900);를 포함하며, 응축수는 증발 결정화기(10)로 공급된 폐수를 기화시키기 위한 스팀이 상기 폐수를 기화시키면서 응축된 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템이 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a rotary disk type crystallizer system, comprising: an evaporation crystallizer 10 for vaporizing wastewater to pulverize particles contained in wastewater; and a wastewater heat exchanger 900 for exchanging heat between the condensed water discharged from the evaporative crystallizer 10 and the wastewater supplied to the evaporative crystallizer 10; The steam for vaporization is condensed while vaporizing the wastewater, a rotating disk type crystallizer system is provided.

본 발명의 하나 이상의 실시예에 따르면, 기화 효율이 좋고 다양한 종류의 농도를 가진 폐수에 대응하여 효율적으로 기화시킬 수 있게 된다. According to one or more embodiments of the present invention, it is possible to efficiently vaporize wastewater having good vaporization efficiency and having various types of concentrations.

본 발명의 하나 이상의 실시예에 따르면, 증발 결정화기에서 배출되는 배가스나 응축수 등을 활용하여 에너지 효율이 향상된다.According to one or more embodiments of the present invention, energy efficiency is improved by utilizing the exhaust gas or condensate discharged from the evaporation crystallizer.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스를 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 도 1의 증발 결정화기(10)의 예시적인 세부 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 도 1의 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)의 예시적인 세부 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스를 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스를 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템의 이해를 돕기 위한 도면이다.
도 6 내지 도 9의 도면들은 본 발명에 따른 순환식 캐리어 가스를 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템의 이해를 돕기 위한 도면들이다. 1 is a view for explaining a crystallizer system of a rotating disk type using a circulating carrier gas according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view for explaining an exemplary detailed configuration of the evaporation crystallizer 10 of FIG. 1 .
FIG. 3 is a view for explaining an exemplary detailed configuration of the circulating carrier gas supply device 400 of FIG. 1 .
FIG. 4 is a view for explaining a rotating disk type crystallizer system using a circulating carrier gas according to a second embodiment of the present invention.
5 is a diagram to help understand the crystallizer system of the rotating disk type using a circulating carrier gas according to the first embodiment of the present invention.
6 to 9 are diagrams to help the understanding of the crystallizer system of the rotating disk type using a circulating carrier gas according to the present invention.

이상의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.The above objects, other objects, features and advantages of the present invention will be easily understood through the following preferred embodiments in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided so that the disclosed subject matter may be thorough and complete, and that the spirit of the present invention may be sufficiently conveyed to those skilled in the art.

본 명세서의 도면들에서, 구성요소들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다.In the drawings of the present specification, the thickness of the components is exaggerated for effective description of technical content.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. The terminology used herein is for the purpose of describing the embodiments and is not intended to limit the present invention. In this specification, the singular also includes the plural, unless specifically stated otherwise in the phrase.

본원 명세서에서는 임의의 구성요소 A와 구성요소 B가 서로 동작적으로 결합되어 있다고 함은, 어떤 동작이 이루어지도록 임의의 구성요소 A와 구성요소 B가 서로 직접 또는 간접(하나 이상의 다른 구성요소를 매개로 하여) 결합되어 있는 것을 의미한다. In this specification, any component A and component B are operatively coupled to each other means that any component A and component B are directly or indirectly connected to each other (via one or more other components) so that an operation is performed. ) means that they are connected.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하도록 한다. 아래의 특정 실시예들을 기술하는데 있어서, 여러 가지의 특정적인 내용들은 발명을 더 구체적으로 설명하고 이해를 돕기 위해 작성되었다. 하지만 본 발명을 이해할 수 있을 정도로 이 분야의 지식을 갖고 있는 독자는 이러한 여러 가지의 특정적인 내용들이 없어도 사용될 수 있다는 것을 인지할 수 있다. 어떤 경우에는, 발명을 기술하는 데 있어서 흔히 알려졌으면서 발명과 크게 관련 없는 부분들은 본 발명을 설명하는 데 있어 혼돈을 막기 위해 기술하지 않음을 미리 언급해 둔다. 또한, 도면에서 구성요소들 간에 연결된 선이나 화살표들은 서로 동작적으로 결합되어 있음을 나타낸다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In describing the specific embodiments below, various specific contents have been prepared to more specifically describe the invention and help understanding. However, a reader having enough knowledge in this field to understand the present invention may recognize that the present invention may be used without these various specific details. In some cases, it is mentioned in advance that parts which are commonly known and not largely related to the invention in describing the invention are not described in order to avoid confusion in describing the invention. In addition, lines or arrows connected between components in the drawings indicate that they are operatively coupled to each other.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스를 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템을 설명하기 위한 도면이다. 1 is a view for explaining a crystallizer system of a rotating disk type using a circulating carrier gas according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 제1 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스를 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템(이하, '크리스탈라이저 시스템'이라고 함)은 증발 결정화기(10)와 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)를 포함한다. Referring to FIG. 1 , a rotating disk type crystallizer system (hereinafter, referred to as a 'crystalizer system') using a circulating carrier gas according to the first embodiment is an evaporation crystallizer 10 and a circulating carrier gas supply device (400).

증발 결정화기(10)는 폐수를 기화시켜 폐수에 포함된 입자들을 분말화한다.The evaporation crystallizer 10 vaporizes the wastewater to pulverize the particles included in the wastewater.

증발 결정화기(10)는 외부로부터 스팀(미 도시)을 제공받거나 또는 물(미 도시)을 제공받아서 스팀을 생성한다. 증발 결정화기(10)는, 그러한 스팀을 이용해 폐수를 기화시켜 폐수에 포함된 입자들을 분말화시킬 수 있다. 증발 결정화기(10)로 공급된 스팀은 폐수를 기화시키면서 물로 변환 - 응축수 -되어 외부로 방출된다. The evaporation crystallizer 10 is provided with steam (not shown) from the outside or water (not shown) to generate steam. The evaporation crystallizer 10 may use such steam to vaporize wastewater to pulverize particles included in the wastewater. The steam supplied to the evaporation crystallizer 10 is converted into water while vaporizing wastewater - condensed water - and discharged to the outside.

제1실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템은 폐수용 열교환기(900)를 더 포함할 수 있다. 폐수용 열교환기(900)는 증발 결정화기(10)로 유입될 폐수와, 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 응축수간에 열교환을 시킨다. The crystallizer system according to the first embodiment may further include a heat exchanger 900 for wastewater. The wastewater heat exchanger 900 exchanges heat between the wastewater to be introduced into the evaporative crystallizer 10 and the condensed water discharged from the evaporative crystallizer 10 .

순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 배가스를 유입받고, 유입받은 배가스의 적어도 일부를 캐리어 가스로 변환시키고, 증발 결정화기(10)로 제공할 수 있다. 여기서, 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)에 의해 수행되는 '변환'은, 배가스에서 수분을 제거하고 소정의 온도 범위로 유지 또는 조절시키는 동작을 의미한다. The circulating carrier gas supply device 400 may receive the exhaust gas discharged from the evaporative crystallizer 10 , convert at least a portion of the received exhaust gas into a carrier gas, and provide it to the evaporative crystallizer 10 . Here, 'conversion' performed by the circulating carrier gas supply device 400 refers to an operation of removing moisture from the exhaust gas and maintaining or adjusting the temperature in a predetermined temperature range.

예를 들면, 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 배가스를 유입받고, 배가스에 포함된 수분을 제거하고, 수분이 제거된 배가스의 온도를 소정의 온도 범위로 유지시킨다. 이렇게, 수분이 제거되고 소정의 온도 범위로 유지된 배가스를 본원 명세서에는 특히 '캐리어 가스'라고 언급되며, 이러한 캐리어 가스는 증발 결정화기(10)로부터 배출된 순간의 배가스보다 건조한 상태가 된다. 한편, 소정의 온도 범위는 디스크(100)의 표면에 분사된 폐수의 기화를 방해하지 않을 정도의 온도로 정해진다.For example, the circulating carrier gas supply device 400 receives the exhaust gas discharged from the evaporative crystallizer 10, removes moisture contained in the exhaust gas, and sets the temperature of the exhaust gas from which the moisture is removed to a predetermined temperature range. keep it As such, the exhaust gas from which moisture has been removed and maintained at a predetermined temperature range is specifically referred to herein as a 'carrier gas', and this carrier gas is in a drier state than the instantaneous exhaust gas discharged from the evaporative crystallizer 10 . On the other hand, the predetermined temperature range is set to a temperature that does not interfere with the vaporization of the wastewater sprayed on the surface of the disk 100 .

도 1에 도시되어 있듯이, 제1실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템은, 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)와 증발 결정화기(10) 사이에 유체가 이동될 수 있는 배관을 더 포함하며, 이 배관을 통해서 캐리어 가스가 증발 결정화기(10)로 제공된다. 배관에는 밸브들(V1, V3)이 설치되어 있고, 밸브들(V1, V3)의 온 또는 오프 동작에 의해 증발 결정화기(10)로 제공되는 캐리어 가스 양이 조절된다.As shown in FIG. 1 , the crystallizer system according to the first embodiment further includes a pipe through which a fluid can be moved between the circulating carrier gas supply device 400 and the evaporative crystallizer 10 , the pipe The carrier gas is provided to the evaporative crystallizer 10 through the. Valves V1 and V3 are installed in the pipe, and the amount of carrier gas provided to the evaporation crystallizer 10 is adjusted by the on or off operation of the valves V1 and V3.

도 2는 도 1의 증발 결정화기(10)의 예시적인 세부 구성을 설명하기 위한 도면이다. 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 증발 결정화기(10)는 디스크(100), 디스크(100)에 폐수를 분사하는 분사부(300), 디스크(100)를 회전시킬 수 있는 구동부(600), 디스크(100)에 스팀을 제공하는 스팀 발생기(700), 디스크(100)의 표면에 생성된 분말을 긁기 위한 스크래퍼(500), 펌프(800), 낙하 폐수 저장부(200), 및 낙하 분말 저장부(1100)를 포함할 수 있다. 후술하겠지만, 이들 구성요소들은 동작적으로 서로 결합되어 있다.FIG. 2 is a view for explaining an exemplary detailed configuration of the evaporation crystallizer 10 of FIG. 1 . Referring to FIG. 2 , the evaporation crystallizer 10 according to an embodiment of the present invention is capable of rotating the disk 100 , the injection unit 300 for spraying wastewater to the disk 100 , and the disk 100 . A driving unit 600, a steam generator 700 for providing steam to the disk 100, a scraper 500 for scraping the powder generated on the surface of the disk 100, a pump 800, a falling wastewater storage unit 200 , and a falling powder storage unit 1100 may be included. As will be described later, these components are operatively coupled to each other.

디스크(100)는 구동부(600)(예를 들면, 모터)에 의해 회전될 수 있다. 스팀 발생기(700)는 외부로부터 물(미 도시)을 공급받아 스팀을 발생시켜 디스크(100)로 공급한다. 스팀 발생기(700)에 의해 공급되는 스팀은 디스크(100)의 내부 공간으로 제공되고, 내부 공간에 제공된 스팀에 의해, 디스크(100)의 표면에 존재하는 폐수가 기화된다. The disk 100 may be rotated by a driving unit 600 (eg, a motor). The steam generator 700 receives water (not shown) from the outside, generates steam, and supplies it to the disk 100 . Steam supplied by the steam generator 700 is provided to the inner space of the disk 100 , and wastewater existing on the surface of the disk 100 is vaporized by the steam provided to the inner space.

펌프(800)는 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수를 분사부(300)로 이동시키고, 분사부(300)는 디스크(100)의 표면에 폐수를 분사하도록 배치되어 있다. 디스크(100)의 표면에 분사된 폐수는 디스크(100)의 내부로 공급된 스팀에 의해 기화되어 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)로 배출된다. 한편, 디스크(100)의 표면에 분사된 폐수 중 기화되지 못하고 낙하되는 폐수가 존재할 수 있고, 낙하되는 폐수는 낙하 폐수 저장부(200)에 의해 저장된다. The pump 800 moves the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 to the spraying unit 300 , and the spraying unit 300 is disposed to spray the wastewater on the surface of the disk 100 . The wastewater sprayed on the surface of the disk 100 is vaporized by the steam supplied to the inside of the disk 100 and discharged to the circulating carrier gas supply device 400 . Meanwhile, among the wastewater sprayed on the surface of the disk 100 , there may be wastewater falling without being vaporized, and the falling wastewater is stored by the falling wastewater storage unit 200 .

낙하 폐수 저장부(200)는 디스크(100)의 표면에 분사된 폐수가 기화되지 않고 흘러내리는 폐수를 저장할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 폐수 공급원 - 폐수를 공급하는 장치 - 으로부터 공급된 폐수는 폐수용 열교환기(900)를 거쳐서 낙하 폐수 저장부(200)로 제공되고, 분사부(300)는 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수를 디스크(100)의 표면에 분사한다. The falling wastewater storage unit 200 may store wastewater that flows down without vaporizing the wastewater sprayed on the surface of the disk 100 . According to one embodiment, wastewater supplied from a wastewater supply source - a device for supplying wastewater - is provided to the falling wastewater storage unit 200 through the wastewater heat exchanger 900 , and the spraying unit 300 is a falling wastewater storage unit The wastewater stored in 200 is sprayed on the surface of the disk 100 .

디스크(100)의 표면에 분사된 폐수가 기화되면, 폐수에 존재하던 입자들은 디스크(100)의 표면에 분말로 부착된다. 스크래퍼(500)는 디스크(100)의 표면에 부착된 분말을 긁어서 디스크(100)의 표면으로부터 분리시킨다. 디스크(100)의 표면으로부터 분리된 분말은 낙하 분말 저장부(1100)에 저장된다. When the wastewater sprayed on the surface of the disk 100 is vaporized, particles existing in the wastewater are attached to the surface of the disk 100 as powder. The scraper 500 scrapes the powder attached to the surface of the disk 100 and separates it from the surface of the disk 100 . The powder separated from the surface of the disk 100 is stored in the falling powder storage unit 1100 .

디스크(100)의 내부 공간에 제공된 스팀은 디스크(100)의 표면에 존재하던 폐수를 기화시키면서 열을 빼앗기고 따라서 액체인 물 - 응축수 - 로 변환된다. Steam provided to the internal space of the disk 100 evaporates wastewater existing on the surface of the disk 100 , and loses heat, and thus is converted into liquid water - condensed water -.

이 응축수는 폐수용 열교환기(900)로 제공된다. 상술한 바와 같이, 폐수용 열교환기(900)로 이동된 응축수는 폐수와 열교환된 후 외부로 배출된다. 응축수와 열교환된 폐수는 증발 결정화기(10)(예를 들면, 증발 결정화기(10)의 낙하 폐수 저장부(200))로 제공되어 기화된다. 이처럼, 열교환되기 전의 폐수의 온도보다 열교환된 폐수의 온도가 더 높은 상태가 됨으로써, 기화 효율이 높아지게 된다. This condensed water is provided to the heat exchanger 900 for wastewater. As described above, the condensed water moved to the wastewater heat exchanger 900 is discharged to the outside after heat exchange with the wastewater. The wastewater heat-exchanged with the condensed water is provided to the evaporation crystallizer 10 (eg, the falling wastewater storage unit 200 of the evaporation crystallizer 10) and is vaporized. As such, since the temperature of the heat-exchanged wastewater becomes higher than the temperature of the wastewater before the heat-exchange, the vaporization efficiency is increased.

도 3과 도 5는 도 1의 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)의 예시적인 세부 구성을 설명하기 위한 도면들이다.3 and 5 are diagrams for explaining an exemplary detailed configuration of the circulating carrier gas supply device 400 of FIG. 1 .

도 3과 도 5를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스를 이용한 크리스탈라이저 시스템 증발 결정화기(10)와 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)를 포함하고, 증발 결정화기(10)는 디스크(100), 디스크(100)에 폐수를 분사하는 분사부(300), 디스크(100)를 회전시킬 수 있는 구동부(600), 디스크(100)에 스팀을 제공하는 스팀 발생기(700), 디스크(100)의 표면에 생성된 분말을 긁기 위한 스크래퍼(500), 펌프(800), 낙하 폐수 저장부(200), 및 낙하 분말 저장부(1100)를 포함할 수 있다. 도 3에 도시된 구성요소들과 도 1과 도 2에서 도시된 구성요소들을 비교하면, 도면 부호가 동일하게 부여되고 동일한 명칭이 부여된 구성요소들은 동일한 동작을 수행한다. 이하에서는, 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)의 구성을 위주로 설명하기로 한다. 3 and 5, the crystallizer system using a circulating carrier gas according to the first embodiment of the present invention includes an evaporative crystallizer 10 and a circulating carrier gas supply device 400, and the evaporative crystallizer (10) is a disk 100, a spraying unit 300 for spraying wastewater to the disk 100, a driving unit 600 capable of rotating the disk 100, and a steam generator providing steam to the disk 100 ( 700), a scraper 500 for scraping the powder generated on the surface of the disk 100, a pump 800, a falling wastewater storage unit 200, and a falling powder storage unit 1100 may be included. Comparing the components illustrated in FIG. 3 with the components illustrated in FIGS. 1 and 2 , components having the same reference numerals and the same names perform the same operations. Hereinafter, the configuration of the circulating carrier gas supply device 400 will be mainly described.

도 3과 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는, 제1팬(401), 적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제1열교환기(403), 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제1기액분리부(405), 제2팬(411), 적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제2열교환기(407), 및 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제2기액분리부(409)를 포함할 수 있다. 여기서, 유체는 기체, 액체, 또는 기체와 액체의 혼합물을 의미한다. 3 and 5 , the circulating carrier gas supply device 400 according to an embodiment of the present invention includes a first fan 401 and a first heat exchanger 403 capable of exchanging at least two fluids. ), a first gas-liquid separator 405 capable of separating gas and liquid, a second fan 411, a second heat exchanger 407 capable of exchanging at least two fluids, and a second heat exchanger 407 capable of separating gas and liquid A second gas-liquid separation unit 409 may be included. Here, the fluid means a gas, a liquid, or a mixture of a gas and a liquid.

증발 결정화기(10)로부터 배출되는 배가스는 제1팬(401), 제1열교환기(403), 제1기액분리부(405), 제2열교환기(407), 제2팬(411), 및 제2기액분리부(409)를 순차적으로 통과한다. 제1기액분리부(405)와 제2기액분리부(409)에서 수분이 제거된 기체의 적어도 일부는 제1열교환기(403)로 제공되어 제1열교환기(403)로 유입된 배가스와 열교환되며, 제1열교환기(403)에서 배가스와 열교환된 후 배출된 가스의 적어도 일부는 증발 결정화기(10)로 제공된다. The exhaust gas discharged from the evaporation crystallizer 10 includes a first fan 401, a first heat exchanger 403, a first gas-liquid separator 405, a second heat exchanger 407, a second fan 411, and the second gas-liquid separation unit 409 sequentially. At least a portion of the gas from which moisture has been removed from the first gas-liquid separator 405 and the second gas-liquid separator 409 is provided to the first heat exchanger 403 to exchange heat with the exhaust gas introduced into the first heat exchanger 403 . and at least a portion of the discharged gas after heat exchange with the exhaust gas in the first heat exchanger 403 is provided to the evaporation crystallizer 10 .

증발 결정화기(10)의 내부에 존재하던 기체 - 수분이 포함 -의 적어도 일부는 제1팬(401)에 의해 제1열교환기(403)로 이동된다. 제1열교환기(403)는 제1팬(401)에 의해 제공 받은 배가스와, 제2기액분리부(409)로부터 배출된 기체의 적어도 일부를 서로 열교환시키도록 구성되어 있다. 제1열교환기(403)로 제공되는 배가스의 온도는 제2기액분리부(409)에서 배출되는 기체의 온도보다 높으므로, 제1열교환기(403)를 통과한 배가스의 온도는 낮아진다. 또한, 제2기액분리부(409)로부터 배출된 기체는 제1열교환기(403)를 통과하면서 온도가 높아지게 된다. At least a portion of the gas - including moisture - existing in the evaporative crystallizer 10 is moved to the first heat exchanger 403 by the first fan 401 . The first heat exchanger 403 is configured to exchange heat between the exhaust gas provided by the first fan 401 and at least a portion of the gas discharged from the second gas-liquid separation unit 409 with each other. Since the temperature of the exhaust gas provided to the first heat exchanger 403 is higher than the temperature of the gas discharged from the second gas-liquid separator 409 , the temperature of the exhaust gas passing through the first heat exchanger 403 is lowered. In addition, the gas discharged from the second gas-liquid separator 409 passes through the first heat exchanger 403 to increase the temperature.

제1기액분리부(405)는 제1열교환기(403)로부터 배출되는 배가스에서 습기를 제거한다.The first gas-liquid separator 405 removes moisture from the exhaust gas discharged from the first heat exchanger 403 .

제1기액분리부(405)에 의해 습기가 제거된 배가스 - 건조 배가스 - 는 제2팬(411)에 의해 제2열교환기(407)로 제공된다. 제2열교환기(407)는 제2팬(411)에 의해 제공 받은 건조 배가스와, 외부로부터 제공받은 냉수를 서로 열교환시키도록 구성되어 있다. 제2열교환기(407)에게 이동되는 건조 배가스의 온도는 냉수의 온도보다 높으므로, 제2열교환기(407)를 통과한 배가스 - 저온 및 건조 배가스 - 의 온도는 더 낮아진다. The exhaust gas from which moisture has been removed by the first gas-liquid separation unit 405 - the dry exhaust gas - is provided to the second heat exchanger 407 by the second fan 411 . The second heat exchanger 407 is configured to exchange heat between the dry exhaust provided by the second fan 411 and the cold water provided from the outside. Since the temperature of the dry flue gas moved to the second heat exchanger 407 is higher than the temperature of the cold water, the temperature of the flue gas - low temperature and dry flue gas - passing through the second heat exchanger 407 - is lowered.

제2기액분리부(409)는 제2열교환기(407)로부터 배출되는 저온 및 건조 배가스에서 습기를 제거한다. 제2기액분리부(409)에서 습기가 더 제거된 저온 및 건조 배가스는 제1열교환기(403)로 제공되어, 디스크(100)로부터 배출되는 배가스와 열교환된다. 제1열교환기(403)에 의해 열교환되어 배출되는 저온 및 건조 배가스는 디스크(100)로 제공된다. The second gas-liquid separator 409 removes moisture from the low temperature and dry exhaust gas discharged from the second heat exchanger 407 . The low-temperature and dry exhaust gas from which moisture has been further removed from the second gas-liquid separation unit 409 is provided to the first heat exchanger 403 to exchange heat with the exhaust gas discharged from the disk 100 . The low-temperature and dry exhaust gas that is heat-exchanged and discharged by the first heat exchanger 403 is provided to the disk 100 .

본원 명세서에서, '캐리어 가스'는, 제1기액분리부(405)로부터 배출된 건조 배가스, 제2열교환기(407)로부터 배출된 저온 및 건조 배가스, 제2기액분리부(409)로부터 배출된 저온 및 건조 배가스, 또는 제1열교환기(403)로부터 배출된 저온 및 건조 배가스 중 어느 하나를 지칭하거나 또는 전부를 지칭하는 의미로 사용하기로 한다.In the present specification, the 'carrier gas' refers to the dry exhaust gas discharged from the first gas-liquid separation unit 405 , the low-temperature and dry exhaust gas discharged from the second heat exchanger 407 , and the second gas-liquid separation unit 409 discharged from the It will be used to refer to any one or all of the low-temperature and dry flue gas, or the low-temperature and dry flue gas discharged from the first heat exchanger 403 .

본 발명의 일 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는 제2열교환기(407)로부터 배출되는 캐리어 가스가 디스크(100)로 이동될 수 있는 배관(또는, '라인')을 포함하고, 이 배관에는 디스크(100)로 제공되는 캐리어 가스의 양을 조절하기 위한 밸브들(V1, V3)이 설치되어 있다. 한편, 디스크(100)로 제공되는 캐리어 가스의 양을 조절하기 위한 밸브들(V1, V3)은 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)에 포함되도록 구성되거나, 또는 도 1에 도시된 바와 같이 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)의 외부에 위치될 수 있다.The circulating carrier gas supply device 400 according to an embodiment of the present invention includes a pipe (or 'line') through which the carrier gas discharged from the second heat exchanger 407 can be moved to the disk 100 . and valves V1 and V3 for controlling the amount of carrier gas provided to the disk 100 are installed in this pipe. Meanwhile, the valves V1 and V3 for controlling the amount of carrier gas provided to the disk 100 are configured to be included in the circulating carrier gas supply device 400 , or as shown in FIG. 1 , the circulating type It may be located outside the carrier gas supply device 400 .

제1기액분리부(405)와 제2기액분리부(409)에서 각각 생성된 응축수 - 배가스에 포함된 수분이 액체로 변화된 것임 - (이하, '기액분리부들의 응축수')는 외부로 방출된다. 본 실시예에서, 증발 결정화기(10)로부터 배출되어 폐수용 열교환기(900)를 거친 응축수와, 기액분리부들의 응축수는 합류되어 외부로 배출될 수 있다.The condensed water generated by the first gas-liquid separation unit 405 and the second gas-liquid separation unit 409 - the moisture contained in the flue gas is changed to liquid - (hereinafter, 'condensed water of the gas-liquid separation units') is discharged to the outside . In this embodiment, the condensed water discharged from the evaporation crystallizer 10 and passed through the wastewater heat exchanger 900 and the condensed water of the gas-liquid separation units may be combined and discharged to the outside.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스를 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템을 설명하기 위한 도면이다. FIG. 4 is a view for explaining a rotating disk type crystallizer system using a circulating carrier gas according to a second embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 제2 실시예에 따른 순환식 캐리어 가스를 이용한 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저 시스템은 증발 결정화기(10), 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400), 및 농도 조절 장치(1000)를 포함한다. Referring to FIG. 4 , a crystallizer system of a rotating disk type using a circulating carrier gas according to a second embodiment is an evaporation crystallizer 10 , a circulating carrier gas supply device 400 , and a concentration control device 1000 . includes

제2 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템은 또한 폐수용 열교환기(900)를 더 포함할 수 있다. 제2 실시예에서, 증발 결정화기(10)는 디스크(100), 디스크(100)에 폐수를 분사하는 분사부(300), 디스크(100)를 회전시킬 수 있는 구동부(600), 디스크(100)에 스팀을 제공하는 스팀 발생기(700), 디스크(100)의 표면에 생성된 분말을 긁기 위한 스크래퍼(500), 펌프(800), 낙하 폐수 저장부(200), 및 낙하 분말 저장부(1100)를 포함할 수 있다. 또한, 제2 실시예에서, 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는 제1팬(401), 적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제1열교환기(403), 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제1기액분리부(405), 제2팬(411), 적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제2열교환기(407), 및 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제2기액분리부(409)를 포함할 수 있다.The crystallizer system according to the second embodiment may further include a heat exchanger 900 for wastewater. In the second embodiment, the evaporation crystallizer 10 includes a disk 100 , a spraying unit 300 for spraying wastewater to the disk 100 , a driving unit 600 capable of rotating the disk 100 , and the disk 100 . ) a steam generator 700 for providing steam, a scraper 500 for scraping the powder generated on the surface of the disk 100, a pump 800, a falling wastewater storage unit 200, and a falling powder storage unit 1100 ) may be included. In addition, in the second embodiment, the circulating carrier gas supply device 400 includes a first fan 401 , a first heat exchanger 403 capable of exchanging at least two fluids, and a gas and liquid separation mechanism. A first gas-liquid separator 405 , a second fan 411 , a second heat exchanger 407 capable of exchanging at least two fluids, and a second gas-liquid separator 409 capable of separating gas and liquid may include

제1 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템과 제2 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템을 비교하면, 제2 실시예에 따른 크리스탈라이저 시스템은 농도 조절 장치(1000)를 더 포함하고 있다는 점에서 양자의 차이가 있다. 제1 실시예와 도 2 실시예에서 도면 부호가 동일하게 부여된 동일한 명칭의 구성요소들은 동일한 동작을 수행한다. 이하에서는, 제1실시예와의 차이점을 위주로 제2 실시예를 설명하기로 한다. Comparing the crystallizer system according to the first embodiment and the crystallizer system according to the second embodiment, the crystallizer system according to the second embodiment is different in that it further includes a concentration control device 1000 . have. In the first embodiment and in the embodiment of FIG. 2, components of the same name assigned the same reference numerals perform the same operation. Hereinafter, the second embodiment will be mainly described with respect to the differences from the first embodiment.

제2 실시예에 따르면, 농도 조절 장치(1000)는 증발 결정화기(10)에서 기화될 폐수의 농도를 조절할 수 있다. 폐수는 디스크(100)의 표면에 분사되어 기화되므로, 폐수의 농도는 디스크(100)에서의 기화 효율에 영향을 미친다. 폐수의 농도가 너무 낮으면 디스크(100)의 표면에 분사되자마자 기화될 시간을 가지지 못하고 낙하될 수 있다. 반대로 폐수의 농도가 너무 높으면, 디스크(100)의 표면에 폐수가 잘 펴지지 못하고 뭉친 상태로 존재할 수 있어서 기화가 잘 되지 않을 수 있다. 제2 실시예에서는 이러한 문제점을 인식하고, 폐수의 농도를 조절하여 디스크(100)의 표면에서 잘 기화되도록 한 것이다. According to the second embodiment, the concentration control apparatus 1000 may control the concentration of the wastewater to be vaporized in the evaporation crystallizer 10 . Since the wastewater is vaporized by being sprayed on the surface of the disk 100 , the concentration of the wastewater affects the vaporization efficiency of the disk 100 . If the concentration of wastewater is too low, it may fall without having time to vaporize as soon as it is sprayed on the surface of the disk 100 . Conversely, if the concentration of the wastewater is too high, the wastewater may not spread well on the surface of the disk 100 and may exist in a lumped state, so that the vaporization may not be good. In the second embodiment, this problem is recognized and the concentration of wastewater is adjusted so that it is well vaporized on the surface of the disk 100 .

농도 조절 장치(1000)는 증발 결정화기(10)로 공급되어 디스크(100)에 분무하기 전의 폐수의 농도를 조절하거나, 증발 결정화기(10)로 공급되기 전의 폐수의 농도를 조절할 수 있다.The concentration control device 1000 may control the concentration of wastewater before being supplied to the evaporative crystallizer 10 and spraying on the disk 100 , or may control the concentration of wastewater before being supplied to the evaporative crystallizer 10 .

전자의 예를 들면, 농도 조절 장치(1000)는 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수의 농도를 조절할 수 있다. 농도 조절 장치(1000)는 폐수의 농도를 조절하기 위한 농도 조절용 용액을 저장하는 농도 조절용 용액 저장부(1003), 농도 조절용 용액 저장부(1003)에 저장된 농도 조절용 용액을 낙하 폐수 저장부(200)로 공급하기 위한 펌프(1007), 및 펌프(800)의 동작을 제어하는 제어부(1001)를 포함할 수 있다. 제어부(1001)는 예를 들면 농도 측정 센서(미 도시)에 의해 감지된 결과에 의해 펌프(1007)의 동작을 제어할 수 있다. For the former example, the concentration adjusting apparatus 1000 may adjust the concentration of the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 . The concentration control device 1000 drops the concentration control solution stored in the concentration control solution storage unit 1003 for storing the concentration control solution for controlling the concentration of the wastewater, and the concentration control solution storage unit 1003 for the concentration control solution storage unit 200. It may include a pump 1007 for supplying to the furnace, and a control unit 1001 for controlling the operation of the pump 800 . The control unit 1001 may control the operation of the pump 1007 according to a result detected by, for example, a concentration measuring sensor (not shown).

농도 조절용 용액은 물로 구성되거나 또는 폐수에 포함된 염의 종류와 동일하거나 유사한 종류의 염을 포함하는 용액으로 구성될 수 있다. 도 4를 참조하면, 농도 조절 장치(1000)는 농도 조절용 용액 저장부(1003)를 1개 포함하고 있지만, 이는 예시적인 것으로 농도 조절용 용액 저장부(1003)를 2개 이상 포함할 수 있다. The solution for adjusting the concentration may be composed of water or a solution containing a salt of the same or similar type as the type of salt contained in the wastewater. Referring to FIG. 4 , the concentration control apparatus 1000 includes one solution storage unit 1003 for concentration control, but this is exemplary and may include two or more solution storage units 1003 for concentration control.

예를 들면, 농도 조절 장치(1000)는 물을 저장하는 농도 조절용 용액 저장부 - 제1 농도 조절용 용액 저장부 - 와, 염을 저장하는 농도 조절용 용액 저장부 - 제2 농도 조절용 용액 저장부 -를 포함할 수 있다. 이러한 예에서, 제어부(1001)는 폐수의 농도가 기준 범위 - 미리 설정된 값으로 '농도 조절용 기준 범위'이라고 함 - 보다 낮을 경우에는 제2 농도 조절용 용액 저장부에 저장된 염을 낙하 폐수 저장부(200)에게 제공하고, 폐수의 농도가 기준 범위 이상일 경우에는 제1 농도 조절용 용액 저장부에 저장된 물을 낙하 폐수 저장부(200)에 제공하도록 동작할 수 있다. 이러한 동작을 위하여 도 4에 도시된 펌프(1007)나 밸브(V5)외에 추가적인 펌프와 밸브가 농도 조절 장치(1000)에 사용될 수 있다. For example, the concentration control device 1000 includes a solution storage unit for concentration control for storing water - a solution storage unit for first concentration control - and a solution storage unit for concentration control for storing salt - a solution storage unit for concentration control second - for storing water. may include In this example, the control unit 1001 drops the salt stored in the second concentration control solution storage unit when the concentration of the wastewater is lower than the reference range - a preset value, referred to as a 'reference range for concentration control' - is dropped into the wastewater storage unit 200 ), and when the concentration of wastewater is greater than or equal to the reference range, it may operate to provide the water stored in the first concentration control solution storage unit to the falling wastewater storage unit 200 . For this operation, an additional pump and valve in addition to the pump 1007 or the valve V5 shown in FIG. 4 may be used in the concentration control device 1000 .

농도 조절 장치(1000)는 히터(1005)를 더 포함할 수 있다. 히터(1005)는 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수와 열적으로 결합되어 있으며, 제어부(1001)에 의해 히터(1005)의 동작이 제어된다. 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수의 농도가 기준 범위 보다 낮을 경우, 히터(1005)가 동작한다. 히터(1005)가 동작되면, 폐수의 일부가 기화되어 폐수의 농도가 높아져서 기준 범위에 포함된다. The concentration control apparatus 1000 may further include a heater 1005 . The heater 1005 is thermally coupled to the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 , and the operation of the heater 1005 is controlled by the controller 1001 . When the concentration of the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 is lower than the reference range, the heater 1005 operates. When the heater 1005 is operated, a portion of the wastewater is vaporized to increase the concentration of the wastewater and is included in the reference range.

일 실시예에 따르면, 도 4에 도시된 농도 조절 장치(1000)에서 농도 조절용 용액 저장부(1003)는 물을 저장하도록 구성된다. 이러한 구성에서, 폐수의 농도가 기준 범위 보다 낮으면 제어부(1001)는 히터(1005)를 동작시켜 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수의 농도가 기준 범위에 속하도록 조절하고, 폐수의 농도가 기준 범위 보다 높으면 농도 조절용 용액 저장부(1003)에 저장된 물을 낙하 폐수 저장부(200)로 제공하여 폐수의 농도를 기준 범위에 속하도록 조절한다.According to one embodiment, in the concentration control apparatus 1000 shown in FIG. 4 , the concentration control solution storage unit 1003 is configured to store water. In this configuration, when the concentration of the wastewater is lower than the reference range, the control unit 1001 operates the heater 1005 to adjust the concentration of the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 to fall within the reference range, and the concentration of the wastewater is When it is higher than the reference range, the water stored in the concentration control solution storage unit 1003 is provided to the falling wastewater storage unit 200 to adjust the concentration of the wastewater to fall within the reference range.

한편, 도 4에는 농도 조절 장치(1000)가 농도 조절용 용액 저장부(1003)와 히터(1005)를 모두 포함하는 것으로 도시되어 있으나, 이는 예시적인 것으로 농도 조절용 용액 저장부(1003)와 히터(1005) 중 어느 하나만을 포함하도록 구성될 수도 있다. Meanwhile, in FIG. 4 , the concentration control device 1000 is illustrated as including both the concentration control solution storage unit 1003 and the heater 1005 , but this is exemplary and includes the concentration control solution storage unit 1003 and the heater 1005 . ) may be configured to include any one of them.

도 6 내지 도 9의 도면들은 본 발명에 따른 크리스탈라이저 시스템의 직관적인 이해를 돕기 위한 도면들로서, 도 6은 증발 결정화기(10)의 예시적 구성을 나타낸 것이고, 도 7은 도 6의 증발 결정화기(10)에서 커버의 일부를 제거한 상태를 나타낸 것이고, 도 8과 도 9은 디스크(100), 스크래퍼(500), 및 분사부(300)의 예시적 구성을 나타낸 것이다. 한편, 도 6 내지 도 9의 도면들에서 도면부호가 지시하는 구성요소들은, 도 1 내지 도 5를 참조하여 설명한 구성요소들 중 같은 도면부호를 가진 구성요소들과 동일하거나 유사한 기능을 한다. 6 to 9 are diagrams to help intuitive understanding of the crystallizer system according to the present invention, and FIG. 6 shows an exemplary configuration of the evaporation crystallizer 10, and FIG. 7 is the evaporation crystal of FIG. It shows a state in which a part of the cover is removed from the firearm 10 , and FIGS. 8 and 9 show exemplary configurations of the disk 100 , the scraper 500 , and the injection unit 300 . Meanwhile, components indicated by reference numerals in the drawings of FIGS. 6 to 9 function the same or similar to components having the same reference numerals among the components described with reference to FIGS. 1 to 5 .

도 6과 도 7을 참조하면, 디스크(100)는 구동부(600)와 동작적으로 결합되어 회전 가능하도록 구성되어 있고, 디스크(100)의 상부를 통해서 배가스가 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)(도 6과 도 7에는 미도시)로 배출된다.6 and 7 , the disk 100 is operatively coupled to the driving unit 600 and configured to be rotatable, and the exhaust gas is circulated through the upper portion of the disk 100 , the carrier gas supply device 400 . (not shown in FIGS. 6 and 7).

도 8과 도 9를 참조하면, 스크래퍼(500)는 디스크(100)의 표면에서 생성되는 분말(미 도시)을 제거하도록 배치되어 있고, 분사부(300)의 일부를 구성하는 노즐(N)은 디스크(100)의 표면에 폐수를 분사하도록 배치되어 있다. 또한, 디스크(100)의 내부로 스팀을 제공하는 스팀 공급 라인(PL)이 디스크(100)의 내부와 연통되도록 결합되어 있고, 디스크(100)의 내부에서 발생된 응축수 - 스팀이 물로 변환된 것 - 를 외부로 배출하기 위한 응축수 배출 라인(OL)이 디스크(100)의 내부와 연통되도록 결합되어 있다. 스팀 공급 라인(PL)은 스팀 발생기(700)와 배관(미 도시)에 의해 연결되어 있고, 응축수 배출 라인(OL)은 폐수용 열교환기(900)와 배관(미 도시)에 의해 연결되어 있다. 8 and 9 , the scraper 500 is disposed to remove powder (not shown) generated on the surface of the disk 100 , and the nozzle N constituting a part of the spray unit 300 is It is arranged to spray wastewater on the surface of the disk 100 . In addition, the steam supply line PL for providing steam to the inside of the disk 100 is coupled to communicate with the inside of the disk 100 , and condensed water generated inside the disk 100 - steam is converted into water - A condensate discharge line (OL) for discharging to the outside is coupled to communicate with the inside of the disk 100 . The steam supply line PL is connected to the steam generator 700 by a pipe (not shown), and the condensate discharge line OL is connected to the wastewater heat exchanger 900 by a pipe (not shown).

한편, 디스크(100)를 구동시키기 위한 구동부(600)의 회전축(미 도시)는 디스크(100)의 중앙의 중심축(AX)과 결합되어, 구동부(600)에 의해 디스크(100)가 회전될 수 있다. 스크래퍼(500)는 고정되어 있고, 디스크(100)가 회전함에 따라서 디스크(100)의 표면에 생성된 분말을 제거한다. 분사부(300)의 일부를 구성하는 노즐(N) 역시 고정되어 있고, 디스크(100)가 회전함에 따라서 디스크(100)의 표면에 폐수를 분사한다. On the other hand, the rotation shaft (not shown) of the drive unit 600 for driving the disk 100 is coupled to the central axis AX of the center of the disk 100 so that the disk 100 is rotated by the drive unit 600 . can The scraper 500 is fixed, and as the disk 100 rotates, it removes the powder generated on the surface of the disk 100 . The nozzle N constituting a part of the spray unit 300 is also fixed, and as the disk 100 rotates, wastewater is sprayed on the surface of the disk 100 .

상술한 바와 같이 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상술한 명세서의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.As described above, various modifications and variations are possible from the description of the above-described specification to those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments and should be defined by the claims described below as well as the claims and equivalents.

10: 증발 결정화기
100: 디스크
200: 낙하 폐수 저장부
300: 분사부
400: 순환식 캐리어 가스 공급 장치
401, 411 : 팬
403: 제1열교환기
407: 제2열교환기
405: 제1기액분리부
409: 제2기액분리부
500: 스크래퍼
600: 구동부
700: 스팀 발생기
800: 펌프
900: 폐수용 열교환기
1000: 농도 조절 장치
1001: 제어부
1003: 농도 조절용 용액 저장부
1005: 히터
1007: 펌프
1100: 낙하 분말 저장부
V1, V3, V5 : 밸브
N: 노즐
PL: 스팀 공급 라인
OL: 응축수 배출 라인
AX: 중심축10: evaporation crystallizer
100: disk
200: falling wastewater storage unit
300: injection unit
400: circulating carrier gas supply device
401, 411: fan
403: first heat exchanger
407: second heat exchanger
405: first gas-liquid separation unit
409: second gas-liquid separation unit
500: scraper
600: drive unit
700: steam generator
800: pump
900: heat exchanger for wastewater
1000: concentration control device
1001: control unit
1003: solution storage for concentration control
1005: heater
1007: pump
1100: falling powder storage unit
V1, V3, V5 : valve
N: Nozzle
PL: Steam supply line
OL: Condensate drain line
AX: central axis

Claims (10)

회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템에 있어서,
폐수를 기화시켜 폐수에 포함된 입자를 분말화하는 증발 결정화기(10);
상기 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 응축수와 상기 증발 결정화기(10)로 공급하는 폐수를 열교환시키는 폐수용 열교환기(900); 및
상기 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 배가스를 유입받고, 유입받은 배가스의 적어도 일부를 냉각 및 건조시켜 상기 증발 결정화기(10)로 캐리어 가스로서 제공하는 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400);를 포함하며
상기 응축수는 상기 증발 결정화기(10)로 공급된 폐수를 기화시키기 위한 스팀이 상기 폐수를 기화시키면서 응축된 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템.In the crystallizer system of the rotating disk type,
an evaporation crystallizer 10 for vaporizing wastewater to pulverize particles contained in wastewater;
a wastewater heat exchanger 900 for exchanging heat between the condensed water discharged from the evaporative crystallizer 10 and the wastewater supplied to the evaporative crystallizer 10; and
A circulating carrier gas supply device 400 that receives the exhaust gas discharged from the evaporative crystallizer 10, cools and dries at least a portion of the received exhaust gas, and provides it to the evaporative crystallizer 10 as a carrier gas; includes
The condensed water is that steam for vaporizing the wastewater supplied to the evaporation crystallizer (10) is condensed while vaporizing the wastewater, a rotating disk type crystallizer (Crystallizer) system. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는
적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제1열교환기(403), 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제1기액분리부(405), 적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제2열교환기(407), 및 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제2기액분리부(409)를 포함하며,
상기 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 배가스는 제1열교환기(403), 제1기액분리부(405), 제2열교환기(407), 및 제2기액분리부(409)를 순차적으로 통과하고, 제2열교환기(407)로부터 배출되어 제2기액분리부(409)로 유입된 배가스로부터 분리된 기체의 적어도 일부는 제1열교환기(403)로 유입되어, 제1열교환기(403)로 유입된 배가스와 열교환되며, 제1열교환기(403)에서 배가스와 열교환된 후 배출된 가스의 적어도 일부는 상기 증발 결정화기(10)로 제공되는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템.According to claim 1,
The circulating carrier gas supply device 400 is
A first heat exchanger 403 capable of exchanging at least two fluids, a first gas-liquid separation unit 405 capable of separating gas and liquid, and a second heat exchanger 407 capable of exchanging at least two fluids with heat. , and a second gas-liquid separation unit 409 capable of separating gas and liquid,
The exhaust gas discharged from the evaporation crystallizer 10 sequentially passes through a first heat exchanger 403 , a first gas-liquid separation unit 405 , a second heat exchanger 407 , and a second gas-liquid separation unit 409 . and at least a portion of the gas separated from the exhaust gas discharged from the second heat exchanger 407 and introduced into the second gas-liquid separation unit 409 is introduced into the first heat exchanger 403, the first heat exchanger 403 It is exchanged with the exhaust gas introduced into the furnace, and at least a portion of the exhaust gas after heat exchange with the exhaust gas in the first heat exchanger 403 is provided to the evaporative crystallizer 10, a rotating disk type crystallizer (Crystallizer) system. 제1항에 있어서,
상기 증발 결정화기(10)에서 기화될 폐수의 농도를 조절하기 위한 농도 조절 장치(1000);를 더 포함하고,
상기 증발 결정화기(10)는
디스크(100), 상기 디스크(100)에 폐수를 분사하는 분사부(300), 상기 디스크(100)를 회전시키는 구동부(600), 상기 디스크(100)의 내부에 스팀을 제공하는 스팀 발생기(700), 및 상기 디스크(100)의 표면에 생성된 분말을 긁기 위한 스크래퍼(500)를 포함하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템.According to claim 1,
Concentration control device 1000 for controlling the concentration of the wastewater to be vaporized in the evaporation crystallizer 10; further comprising,
The evaporation crystallizer 10 is
Disc 100 , a spraying unit 300 for spraying wastewater to the disc 100 , a driving unit 600 rotating the disc 100 , and a steam generator 700 providing steam to the inside of the disc 100 . ), and a scraper 500 for scraping the powder generated on the surface of the disk 100, a rotating disk type crystallizer (Crystallizer) system. 제4항에 있어서,
상기 농도 조절 장치(1000)는 상기 폐수용 열교환기(900)와 상기 증발 결정화기(10) 사이에 이동되는 폐수의 농도를 조절하거나 또는 상기 증발 결정화기(10)로 이미 공급된 폐수의 농도를 조절하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템.5. The method of claim 4,
The concentration control device 1000 adjusts the concentration of wastewater moved between the wastewater heat exchanger 900 and the evaporative crystallizer 10 or adjusts the concentration of wastewater already supplied to the evaporative crystallizer 10 . A rotating disk-type crystallizer system that regulates. 제5항에 있어서,
상기 증발 결정화기(10)는 낙하 폐수 저장부(200)를 더 포함하며,
상기 낙하 폐수 저장부(200)는 상기 디스크(100)의 표면에 분사된 폐수가 기화되지 않고 흘러내리는 폐수를 저장할 수 있고,
폐수 공급원으로부터 공급된 폐수가 폐수용 열교환기(900)를 거쳐서 상기 낙하 폐수 저장부(200)로 제공되고, 상기 분사부(300)는 상기 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수를 상기 디스크(100)의 표면에 분사하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템.6. The method of claim 5,
The evaporation crystallizer 10 further includes a falling wastewater storage unit 200,
The falling wastewater storage unit 200 may store the wastewater that flows down without vaporizing the wastewater sprayed on the surface of the disk 100,
The wastewater supplied from the wastewater supply source is provided to the falling wastewater storage unit 200 through the wastewater heat exchanger 900, and the spraying unit 300 transfers the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200 to the disk ( 100) to spray on the surface of the, rotating disk type crystallizer (Crystallizer) system. 제6항에 있어서,
상기 농도 조절 장치(1000)는 상기 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수의 농도를 조절하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템.7. The method of claim 6,
The concentration control device 1000 is to adjust the concentration of the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200, a rotating disk type crystallizer (Crystallizer) system. 제7항에 있어서,
상기 농도 조절 장치(1000)는 상기 낙하 폐수 저장부(200)에 저장된 폐수의 농도를 조절하기 위한 농도 조절용 용액을 저장하는 농도 조절용 용액 저장부(1003), 상기 농도 조절용 용액 저장부(1003)에 저장된 농도 조절용 용액을 펌핑하여 상기 낙하 폐수 저장부(200)로 공급하기 위한 펌프(1007)를 포함하는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템.8. The method of claim 7,
The concentration control device 1000 includes a concentration control solution storage unit 1003 for storing a concentration control solution for controlling the concentration of the wastewater stored in the falling wastewater storage unit 200, and the concentration control solution storage unit 1003. Which comprises a pump (1007) for pumping the stored solution for concentration control and supplying it to the falling wastewater storage unit (200), a rotating disk type crystallizer (Crystallizer) system. 삭제delete 제8항에 있어서,
상기 순환식 캐리어 가스 공급 장치(400)는
적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제1열교환기(403), 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제1기액분리부(405), 적어도 2개의 유체를 열교환시킬 수 있는 제2열교환기(407), 및 기체와 액체를 분리시킬 수 있는 제2기액분리부(409)를 포함하며,
상기 증발 결정화기(10)로부터 배출되는 배가스는 제1열교환기(403), 제1기액분리부(405), 제2열교환기(407), 및 제2기액분리부(409)를 순차적으로 통과하고, 제2열교환기(407)로부터 배출되어 제2기액분리부(409)로 유입된 배가스로부터 분리된 기체의 적어도 일부는 제1열교환기(403)로 유입되어, 제1열교환기(403)로 유입된 배가스와 열교환되며, 제1열교환기(403)에서 배가스와 열교환된 후 배출된 가스의 적어도 일부는 상기 증발 결정화기(10)로 제공되는 것인, 회전 디스크 타입의 크리스탈라이저(Crystallizer) 시스템.9. The method of claim 8,
The circulating carrier gas supply device 400 is
A first heat exchanger 403 capable of exchanging at least two fluids, a first gas-liquid separation unit 405 capable of separating gas and liquid, and a second heat exchanger 407 capable of exchanging at least two fluids with heat. , and a second gas-liquid separation unit 409 capable of separating gas and liquid,
The exhaust gas discharged from the evaporation crystallizer 10 sequentially passes through a first heat exchanger 403 , a first gas-liquid separation unit 405 , a second heat exchanger 407 , and a second gas-liquid separation unit 409 . and at least a portion of the gas separated from the exhaust gas discharged from the second heat exchanger 407 and introduced into the second gas-liquid separation unit 409 is introduced into the first heat exchanger 403, the first heat exchanger 403 It is exchanged with the exhaust gas introduced into the furnace, and at least a portion of the exhaust gas after heat exchange with the exhaust gas in the first heat exchanger 403 is provided to the evaporative crystallizer 10, a rotating disk type crystallizer (Crystallizer) system.
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