KR20220018424A - Cutting devices and manufacturing methods of cutting products - Google Patents

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KR20220018424A
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쇼이치 가타오카
이치로 이마이
하루키 이구치
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토와 가부시기가이샤
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Abstract

A cutting device or the like for detecting the height position of a work at a lower cost is provided. The cutting device is configured to cut the work. The cutting device comprises a light source, an imaging part, and a detection part. The light source is configured to project the pattern of light onto the work. The imaging part is configured to image the pattern of light and generate first image data. The detection part is configured to detect the height position of the work based on the first image data. The angle formed by the direction in which the light source projects the pattern of light and the direction in which the imaging part images the pattern of light is greater than 0°.

Description

절단 장치 및 절단품의 제조 방법{CUTTING DEVICES AND MANUFACTURING METHODS OF CUTTING PRODUCTS}A cutting device and a manufacturing method of a cutting product {CUTTING DEVICES AND MANUFACTURING METHODS OF CUTTING PRODUCTS}

본 발명은, 절단 장치 및 절단품의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a cutting device and a method for manufacturing a cut product.

일본 특허 공개 제2019-45418호 공보(특허문헌 1)는 반도체 웨이퍼 등의 피가공물을 분할하는 레이저 가공 장치를 개시한다. 이 레이저 가공 장치에 있어서는, 특정한 파장대의 광이 피가공물의 상면에 조사되고, 반사광과 기준광의 간섭광에 기초하여 피가공물의 높이 위치가 검출된다(특허문헌 1 참조). Japanese Patent Laid-Open No. 2019-45418 (Patent Document 1) discloses a laser processing apparatus for dividing a workpiece such as a semiconductor wafer. In this laser processing apparatus, the light of a specific wavelength band is irradiated to the upper surface of a to-be-processed object, and the height position of a to-be-processed object is detected based on the interference light of a reflected light and a reference|standard light (refer patent document 1).

일본 특허 공개 제2019-45418호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2019-45418

상기 특허문헌 1에 개시되어 있는 레이저 가공 장치에 있어서는, 레이저 광원 등의 고가인 부품을 사용함으로써, 피가공물의 높이 위치가 검출된다. 즉, 상기 특허문헌 1의 기술을 사용한 경우, 피가공물의 높이 위치를 검출하기 위해, 높은 비용이 든다. In the laser processing apparatus disclosed by the said patent document 1, the height position of a to-be-processed object is detected by using expensive components, such as a laser light source. That is, when the technique of the said patent document 1 is used, in order to detect the height position of a to-be-processed object, high cost is required.

본 발명은, 이와 같은 문제를 해결하기 위해 이루어진 것으로서, 그 목적은, 보다 저비용으로 워크의 높이 위치를 검출 가능한 절단 장치 등을 제공하는 것이다. The present invention has been made in order to solve such a problem, and an object thereof is to provide a cutting device or the like capable of detecting the height position of the work at a lower cost.

본 발명의 어느 국면에 따르는 절단 장치는, 워크를 절단하도록 구성되어 있다. 이 절단 장치는 광원과, 촬상부와, 검출부를 구비한다. 광원은 워크에 광의 패턴을 투영하도록 구성되어 있다. 촬상부는 광의 패턴을 촬상하고, 제1 화상 데이터를 생성하도록 구성되어 있다. 검출부는 제1 화상 데이터에 기초하여 워크의 높이 위치를 검출하도록 구성되어 있다. 광원이 광의 패턴을 투영하는 방향과, 촬상부가 광의 패턴을 촬상하는 방향에 의해 형성되는 각도는 0°보다도 크다. The cutting device which concerns on any aspect of this invention is comprised so that a workpiece|work may be cut|disconnected. This cutting device is equipped with a light source, an imaging part, and a detection part. The light source is configured to project a pattern of light onto the work. The imaging unit is configured to image a pattern of light and generate first image data. The detection unit is configured to detect the height position of the work based on the first image data. The angle formed by the direction in which the light source projects the pattern of light and the direction in which the imaging unit images the pattern of light is greater than 0°.

또한, 본 발명의 다른 국면에 따르는 절단품의 제조 방법은, 상기 절단 장치를 사용한 절단품의 제조 방법이다. 이 절단품의 제조 방법은, 워크에 광의 패턴을 투영하는 스텝과, 광의 패턴을 촬상하고, 화상 데이터를 생성하는 스텝과, 화상 데이터에 기초하여 워크의 높이 위치를 검출하는 스텝과, 워크의 높이 위치에 기초하여 워크를 절단하고, 절단품을 제조하는 스텝을 포함한다. Moreover, the manufacturing method of the cut product which concerns on another situation of this invention is the manufacturing method of the cut product using the said cutting device. The manufacturing method of this cut product includes a step of projecting a pattern of light onto a work, a step of imaging a pattern of light and generating image data, a step of detecting a height position of the work based on the image data, and a height position of the work. and cutting the workpiece based on the , and manufacturing a cut product.

본 발명에 따르면, 보다 저비용으로 워크의 높이 위치를 검출 가능한 절단 장치 등을 제공할 수 있다. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the cutting device etc. which can detect the height position of a workpiece|work can be provided at lower cost.

도 1은 절단 장치의 일부의 평면을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 2는 절단 장치의 일부의 정면을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 3은 CCS 블록을 사용한 제어 좌표 원점의 검출 수순을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 촬상 유닛의 구성을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 5는 광원의 구성을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 6은 워크에 투영되는 광의 패턴의 일례를 나타내는 도면이다.
도 7은 워크 보유 지지 유닛 상에 보유 지지된 워크의 정면을 포함하는 도면이다.
도 8은 워크의 상면의 높이 위치에 의해 광원에 의해 투영되는 광의 패턴이 어떻게 변화되는지를 도시하는 도면이다.
도 9는 워크에 투영되는 광의 패턴예를 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 워크에 홈이 형성되어 있는 경우에 워크에 투영되는 광의 패턴예를 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 블레이드에 의해 홈이 형성된 워크의 부분 단면을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 12는 마모된 블레이드에 의해 홈이 형성되어 있는 경우에 워크에 투영되는 광의 패턴예를 설명하기 위한 도면이다.
도 13은 워크에 형성된 버의 일례를 나타내는 도면이다.
도 14는 단자에 버가 형성되어 있는 경우에 워크에 투영되는 광의 패턴예를 설명하기 위한 도면이다.
도 15는 러버에 투영되는 광의 패턴예를 설명하기 위한 도면이다.
도 16은 절단품의 제조 수순을 나타내는 흐름도이다.
도 17은 도 16의 스텝 S110에 있어서의 구체적인 처리 내용을 나타내는 흐름도이다.
도 18은 워크에 형성된 홈의 깊이의 검출 동작을 나타내는 흐름도이다.
도 19는 블레이드의 마모 상태의 검출 동작을 나타내는 흐름도이다.
도 20은 워크에 형성된 버의 유무의 검출 동작을 나타내는 흐름도이다.
도 21은 워크에 형성된 버의 높이의 검출 동작을 나타내는 흐름도이다.
도 22는 러버의 열화 상태의 검출 동작을 나타내는 흐름도이다.
도 23은 다른 실시 형태에 있어서의, 절단 장치의 일부의 평면을 모식적으로 도시하는 도면이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows typically the plane of a part of a cutting device.
It is a figure which shows typically the front of a part of a cutting device.
3 is a diagram for explaining a procedure for detecting a control coordinate origin using a CCS block.
4 is a diagram schematically showing the configuration of an imaging unit.
5 is a diagram schematically showing the configuration of a light source.
It is a figure which shows an example of the pattern of the light projected on a workpiece|work.
It is a figure including the front surface of the work hold|maintained on the work holding unit.
Fig. 8 is a view showing how the pattern of light projected by the light source is changed depending on the height position of the upper surface of the work.
It is a figure for demonstrating the example of the pattern of the light projected on a workpiece|work.
It is a figure for demonstrating the example of the pattern of the light projected to a work, when a groove|channel is formed in a work.
11 is a view schematically showing a partial cross section of a work in which a groove is formed by a blade.
12 is a view for explaining an example of a pattern of light projected on a work when a groove is formed by a worn blade.
13 is a view showing an example of a burr formed on a work.
Fig. 14 is a view for explaining an example of a pattern of light projected on a work when a burr is formed in the terminal;
It is a figure for demonstrating the example of the pattern of the light projected on rubber.
It is a flowchart which shows the manufacturing procedure of a cut product.
Fig. 17 is a flowchart showing specific processing contents in step S110 of Fig. 16 .
18 is a flowchart showing an operation of detecting the depth of a groove formed in a work.
19 is a flowchart showing an operation of detecting a wear state of a blade.
20 is a flowchart showing an operation of detecting the presence or absence of a burr formed on a work.
Fig. 21 is a flowchart showing an operation of detecting the height of a burr formed on a work;
It is a flowchart which shows the detection operation|movement of the deterioration state of rubber.
It is a figure which shows typically the plane of a part of a cutting device in another embodiment.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서, 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다. 또한, 도면 중 동일하거나 또는 상당 부분에는 동일 부호를 붙여서 그 설명은 반복되지 않는다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail, referring drawings. In addition, the same reference numerals are attached to the same or equivalent parts in the drawings, and the description thereof is not repeated.

[1. 절단 장치의 구성] [One. Configuration of cutting device]

도 1은, 본 실시 형태에 따르는 절단 장치(10)의 일부의 평면을 모식적으로 도시하는 도면이다. 도 2는, 절단 장치(10)의 일부의 정면을 모식적으로 도시하는 도면이다. 또한, 도 1 및 도 2에 있어서, 화살표 XYZ의 각각이 나타내는 방향은 공통이다. 1 : is a figure which shows typically the plane of a part of the cutting device 10 which concerns on this embodiment. FIG. 2 : is a figure which shows typically the front surface of a part of the cutting device 10. As shown in FIG. In addition, in FIG.1 and FIG.2, the direction which each of arrow XYZ shows is common.

절단 장치(10)는 워크(W1)를 절단함으로써, 워크(W1)를 복수의 절단품에 개편화하도록 구성되어 있다(풀컷). 또한, 절단 장치(10)는 워크(W1)의 일부를 제거함으로써 워크(W1)에 홈을 형성하도록 구성되어 있다(하프컷). 즉, 절단 장치(10)의 명칭(절단 장치)에 포함되는 「절단」이라고 하는 용어의 개념은, 절단 대상을 복수로 분리하는 것 및 절단 대상의 일부를 제거하는 것을 포함한다. 워크(W1)는, 예를 들어 패키지 기판이다. 패키지 기판에 있어서는, 반도체 칩이 장착된 기판 또는 리드 프레임이 수지 밀봉되어 있다. 즉, 워크(W1)는 수지 성형 완료 기판이다. 이하의 설명에서는, 워크(W1)의 밀봉측의 면을 「패키지면」, 기판 또는 리드 프레임측의 면을 「기판면」이라고도 기재한다. The cutting device 10 is comprised so that the workpiece|work W1 may be divided into several pieces by cutting|disconnecting the workpiece|work W1 (full cut). Moreover, the cutting device 10 is comprised so that a groove|channel may be formed in the workpiece|work W1 by removing a part of the workpiece|work W1 (half-cut). That is, the concept of the term "cutting" included in the name (cutting device) of the cutting device 10 includes separating the cutting object into a plurality and removing a part of the cutting object. The work W1 is, for example, a package substrate. In a package substrate, the board|substrate or lead frame to which the semiconductor chip was mounted is resin-sealed. That is, the work W1 is a resin-molded substrate. In the following description, the sealing-side surface of the work W1 is also referred to as "package surface", and the surface on the substrate or lead frame side is also described as "substrate surface".

패키지 기판의 일례로서는, BGA(Ball Grid Array) 패키지 기판, LGA(Land Grid Array) 패키지 기판, CSP(Chip Size Package) 패키지 기판, LED(Light Emitting Diode) 패키지 기판, QFN(Quad Flat No-leaded) 패키지 기판을 들 수 있다. As an example of the package substrate, a BGA (Ball Grid Array) package substrate, LGA (Land Grid Array) package substrate, CSP (Chip Size Package) package substrate, LED (Light Emitting Diode) package substrate, QFN (Quad Flat No-leaded) A package substrate is mentioned.

도 1 및 도 2에 도시되는 바와 같이, 절단 장치(10)는 절단 유닛(100)과, 워크 보유 지지 유닛(200)과, CCS(Contact Cutter Set) 블록(300)과, 촬상 유닛(400)과, 제어부(500)를 포함하고 있다. As shown in FIGS. 1 and 2 , the cutting device 10 includes a cutting unit 100 , a work holding unit 200 , a Contact Cutter Set (CCS) block 300 , and an imaging unit 400 . and a control unit 500 .

절단 유닛(100)은 워크(W1)를 절단하도록 구성되어 있고, 스핀들부(110)와, 슬라이더(103, 104)와, 지지체(105)를 포함하고 있다. 또한, 절단 장치(10)는 스핀들부(110)와 슬라이더(103, 104)의 조를 2조 포함하는 트윈 스핀들 구성이지만, 스핀들부(110)와 슬라이더(103, 104)의 조를 1조만 포함하는 싱글 스핀들 구성이어도 된다. The cutting unit 100 is configured to cut the work W1 , and includes a spindle unit 110 , sliders 103 and 104 , and a support 105 . Further, the cutting device 10 has a twin spindle configuration including two sets of the spindle unit 110 and the sliders 103 and 104, but includes only one set of the spindle unit 110 and the sliders 103 and 104. A single spindle configuration may be used.

지지체(105)는 금속제의 막대 형상 부재이며, 도시하지 않은 가이드를 따라서 화살표 Y 방향으로 이동하도록 구성되어 있다. 지지체(105)에는 길이 방향(화살표 X 방향)으로 연장되는 가이드(G1)가 형성되어 있다. The support body 105 is a metal rod-shaped member, and is comprised so that it may move in the arrow Y direction along a guide (not shown). A guide G1 extending in the longitudinal direction (arrow X direction) is formed on the support 105 .

슬라이더(104)는 금속제로 직사각 형상의 판 형상 부재이며, 가이드(G1)를 따라서 화살표 X 방향으로 이동 가능한 상태에서 지지체(105)에 설치되어 있다. 슬라이더(104)에는 길이 방향(화살표 Z 방향)으로 연장되는 가이드(G2)가 형성되어 있다. 슬라이더(103)는 금속제로 직사각 형상의 판 형상 부재이며, 가이드(G2)를 따라 높이 방향(화살표 Z 방향)으로 이동 가능한 상태에서 슬라이더(104)에 설치되어 있다. The slider 104 is a rectangular plate-shaped member made of metal, and is attached to the support body 105 in a state movable in the direction of the arrow X along the guide G1. The slider 104 is formed with a guide G2 extending in the longitudinal direction (arrow Z direction). The slider 103 is a rectangular plate-shaped member made of metal, and is attached to the slider 104 in a state where it can move in the height direction (arrow Z direction) along the guide G2.

스핀들부(110)는 스핀들부 본체(102)와, 스핀들부 본체(102)에 설치된 블레이드(101)를 포함하고 있다. 블레이드(101)는 고속 회전함으로써, 워크(W1)를 절단하고, 워크(W1)를 복수의 절단품(반도체 패키지)에 개편화한다. 스핀들부 본체(102)는 슬라이더(103)에 설치되어 있다. 스핀들부(110)는 슬라이더(103, 104) 및 지지체(105)의 이동에 따라서, 절단 장치(10) 내의 원하는 위치로 이동하도록 구성되어 있다. The spindle unit 110 includes a spindle unit body 102 and a blade 101 installed on the spindle unit body 102 . The blade 101 cuts the work W1 by rotating at a high speed, and separates the work W1 into pieces into a plurality of cut products (semiconductor packages). The spindle main body 102 is attached to the slider 103 . The spindle portion 110 is configured to move to a desired position in the cutting device 10 according to the movement of the sliders 103 , 104 and the support 105 .

워크 보유 지지 유닛(200)은 워크(W1)를 보유 지지하도록 구성되어 있고, 절단 테이블(201)과, 절단 테이블(201) 상에 배치된 러버(202)를 포함하고 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 2개의 워크 보유 지지 유닛(200)을 갖는 트윈 커트 테이블 구성의 절단 장치(10)가 예시되어 있다. 또한, 워크 보유 지지 유닛(200)의 수는 2개로 한정되지는 않고, 1개이어도 3개 이상이어도 된다. The work holding unit 200 is configured to hold the work W1 , and includes a cutting table 201 and a rubber 202 disposed on the cutting table 201 . In this embodiment, the cutting device 10 of the twin cut table structure which has the two workpiece|work holding units 200 is illustrated. In addition, the number of the work holding units 200 is not limited to two, One or three or more may be sufficient as it.

러버(202)는 고무제의 판 형상 부재이며, 흡착 부재의 일례이며, 러버(202)에는 복수의 구멍이 형성되어 있다. 러버(202) 상에는, 워크(W1)가 배치된다. 절단 테이블(201)은 러버(202) 상에 배치된 워크(W1)를 하방의 패키지면측으로부터 흡착함으로써 워크(W1)를 보유 지지한다. 절단 테이블(201)은 θ 방향으로 회전 가능하다. 워크(W1)는 워크 보유 지지 유닛(200)에 의해 보유 지지된 상태에서, 기판면측으로부터 스핀들부(110)에 의해 절단된다. 또한, 워크 보유 지지 유닛(200)은 반드시 러버(202)를 포함할 필요는 없고, 러버(202) 대신에, 상방에 배치된 워크(W1)를 하방의 패키지면측으로부터 흡착하는 다른 부재를 포함해도 된다. The rubber 202 is a rubber plate-shaped member, and is an example of an adsorption|suction member, and the some hole is formed in the rubber 202. On the rubber 202, the work W1 is arrange|positioned. The cutting table 201 holds the work W1 by adsorbing the work W1 disposed on the rubber 202 from the package surface side below. The cutting table 201 is rotatable in the θ direction. The work W1 is cut by the spindle part 110 from the substrate surface side in the state held by the work holding unit 200 . In addition, the work holding unit 200 does not necessarily include the rubber 202, and instead of the rubber 202, another member for adsorbing the work W1 disposed above from the package surface side below may be included. do.

CCS 블록(300)은 스핀들부(110)의 높이 위치의 제어에 있어서의 제어 좌표 원점의 검출을 위해 사용된다. 제어 좌표 원점은 스핀들부(110)의 높이 방향에 있어서의 제어 상의 기준 위치이며, 예를 들어 전기 원점을 포함한다. The CCS block 300 is used for detection of the control coordinate origin in the control of the height position of the spindle unit 110 . The control coordinate origin is a reference position on control in the height direction of the spindle unit 110, and includes, for example, an electrical origin.

도 3은, CCS 블록(300)을 사용한 제어 좌표 원점의 검출 수순을 설명하기 위한 도면이다. 절단 장치(10)에 있어서는, CCS 블록(300)의 높이 H1이 미리 기억되어 있다. 도 3에 도시된 바와 같이, 절단 장치(10)에 있어서는, 블레이드(101)를 CCS 블록(300)에 접촉시킴으로써, 스핀들부(110)의 높이 방향의 제어 좌표 원점이 검출된다. FIG. 3 is a diagram for explaining a procedure for detecting the control coordinate origin using the CCS block 300 . In the cutting device 10, the height H1 of the CCS block 300 is memorize|stored previously. As shown in FIG. 3 , in the cutting device 10 , the control coordinate origin in the height direction of the spindle unit 110 is detected by bringing the blade 101 into contact with the CCS block 300 .

촬상 유닛(400)은 워크(W1)가 촬상 유닛(400)의 하방에 위치하는 상태에서, 워크(W1)의 상면에 광의 패턴을 투영하고, 해당 광의 패턴이 투영된 워크(W1)의 상면을 촬상하도록 구성되어 있다. 촬상 유닛(400)은 상하 방향(화살표 Z 방향)으로 이동 가능하게 되어 있다. 촬상 유닛(400)에 의해 생성된 화상 데이터에 기초하여 후술하는 각종 검출이 행해진다. The imaging unit 400 projects a pattern of light on the upper surface of the work W1 in a state where the work W1 is positioned below the image capturing unit 400, and the upper surface of the work W1 onto which the pattern of light is projected. It is configured to take pictures. The imaging unit 400 is movable in the vertical direction (arrow Z direction). Various detections described later are performed based on the image data generated by the imaging unit 400 .

도 4는, 촬상 유닛(400)의 구성을 모식적으로 도시하는 도면이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 촬상 유닛(400)은 광원(410)과, 촬상부(420)를 포함하고 있다. 광원(410)은 워크(W1)의 상면에 광의 패턴을 투영하도록 구성되어 있다. 촬상부(420)는 워크(W1)의 상면을 촬상하고, 화상 데이터를 생성하도록 구성되어 있다. 즉, 광원(410)은 워크(W1)에 광선을 입사시키고, 촬상부(420)는 워크(W1)에서 반사한 광선을 촬상한다. 4 is a diagram schematically showing the configuration of the imaging unit 400 . 4 , the imaging unit 400 includes a light source 410 and an imaging unit 420 . The light source 410 is configured to project a pattern of light onto the upper surface of the work W1 . The imaging unit 420 is configured to image the upper surface of the work W1 and generate image data. That is, the light source 410 makes the light beam incident on the work W1, and the imaging unit 420 captures the light beam reflected from the work W1.

광원(410)이 워크(W1)의 상면에 광의 패턴을 투영하는 방향과, 촬상부(420)가 워크(W1)의 상면을 촬상하는 방향에 의해 형성되는 각도는 A1이다. 각도 A1은, 0°보다도 크고, 바람직하게는 30°내지 60°이며, 더욱 바람직하게는 40°내지 50°이다. 광원(410)은 워크(W1)의 상면에서 비스듬히 상방으로부터 워크(W1)의 상면을 향하여 광의 패턴을 투영한다. 촬상부(420)는 워크(W1)의 바로 위로부터 워크(W1)의 상면을 촬상한다. The angle formed by the direction in which the light source 410 projects the pattern of light on the upper surface of the work W1 and the direction in which the imaging unit 420 images the upper surface of the work W1 is A1. The angle A1 is larger than 0°, preferably 30° to 60°, and still more preferably 40° to 50°. The light source 410 projects a pattern of light toward the upper surface of the work W1 from obliquely upward from the upper surface of the work W1. The imaging unit 420 images the upper surface of the work W1 from just above the work W1.

도 5는, 광원(410)의 구성을 모식적으로 도시하는 도면이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 광원(410)은 LED 조명(411)과, 광학계(412)를 포함하고 있다. LED 조명(411)은 광학계(412)를 향하여 발광하도록 구성되어 있다. 5 : is a figure which shows typically the structure of the light source 410. As shown in FIG. As shown in FIG. 5 , the light source 410 includes an LED light 411 and an optical system 412 . The LED light 411 is configured to emit light toward the optical system 412 .

광학계(412)는 투영 렌즈(413)와, 조리개(414)와, 슬릿 부재(415)를 포함하고 있다. 광학계(412)에 있어서는, LED 조명(411)측으로부터 순서대로, 슬릿 부재(415), 조리개(414) 및 투영 렌즈(413)가 배치되어 있다. 투영 렌즈(413)는 단위 공액비 디자인의 양쪽 볼록 렌즈로 구성되어 있다. 조리개(414)는 투영 렌즈(413)의 초점 위치에 배치되어 있다. 조리개(414)를 투영 렌즈(413)의 초점 위치에 배치함으로써, 텔레센트릭 조명이 실현되어 있다. 슬릿 부재(415)에는, 선 형상의 슬릿이 형성되어 있다. 슬릿의 크기는, 예를 들어 길이가 2㎜, 폭이 0.05㎜이다. The optical system 412 includes a projection lens 413 , a stop 414 , and a slit member 415 . In the optical system 412, the slit member 415, the stop 414, and the projection lens 413 are arrange|positioned in order from the LED illumination 411 side. The projection lens 413 is composed of a biconvex lens of a unit conjugate ratio design. The stop 414 is disposed at the focal position of the projection lens 413 . By arranging the stop 414 at the focal position of the projection lens 413, telecentric illumination is realized. A linear slit is formed in the slit member 415 . The size of the slit is, for example, 2 mm in length and 0.05 mm in width.

도 6은, 워크(W1)에 투영되는 광의 패턴의 일례를 나타내는 도면이다. 도 6에 도시된 바와 같이, LED 조명(411)이 광학계(412)를 향하여 발광하면, 슬릿 부재(415)에 형성된 슬릿과 동일 형상(선 형상)의 광 패턴(L1)이 워크(W1) 상에 투영된다. 6 : is a figure which shows an example of the pattern of the light projected on the workpiece|work W1. As shown in FIG. 6 , when the LED light 411 emits light toward the optical system 412 , a light pattern L1 having the same shape (linear shape) as the slit formed in the slit member 415 is formed on the work W1 . is projected on

다시 도 1 및 도 2를 참조하여, 제어부(500)는 CPU(Central Processing Unit), RAM(Random Access Memory) 및 ROM(Read Only Memory) 등을 포함하고, 정보 처리에 따라서 각 구성 요소의 제어를 행하도록 구성되어 있다. 제어부(500)는, 예를 들어 절단 유닛(100), 워크 보유 지지 유닛(200) 및 촬상 유닛(400)을 제어하도록 구성되어 있다. 1 and 2 again, the control unit 500 includes a central processing unit (CPU), a random access memory (RAM), a read only memory (ROM), and the like, and controls each component according to information processing. is configured to do. The control part 500 is comprised so that the cutting unit 100, the workpiece|work holding unit 200, and the imaging unit 400 may be controlled, for example.

절단 장치(10)에 있어서는, 워크(W1)의 풀컷 및 하프컷이 행해진다. 하프컷을 통하여 워크(W1) 상에 원하는 깊이의 홈을 형성하기 위해서는, 워크(W1)의 높이 위치를 고정밀도로 검출할 필요가 있다. 절단 장치(10)에 있어서는, 워크(W1)의 높이 위치가 고정밀도로 검출된다. 또한, 절단 장치(10)에 있어서는, 워크(W1)에 형성된 홈의 깊이, 블레이드(101)의 마모 상태, 워크(W1)에 형성된 버 및 러버(202)의 열화 상태가 검출된다. 다음에, 절단 장치(10)에 있어서, 워크(W1)의 높이 위치가 검출되는 이유에 대해서 설명한다. In the cutting device 10, the full cut and the half cut of the workpiece|work W1 are performed. In order to form a groove of a desired depth on the work W1 through the half-cut, it is necessary to detect the height position of the work W1 with high accuracy. In the cutting device 10, the height position of the workpiece|work W1 is detected with high precision. Moreover, in the cutting device 10, the depth of the groove|channel formed in the workpiece|work W1, the wear state of the blade 101, the burr|burr formed in the workpiece|work W1, and the deterioration state of the rubber 202 are detected. Next, in the cutting device 10, the reason why the height position of the workpiece|work W1 is detected is demonstrated.

[2. 높이 위치의 검출이 필요한 이유] [2. The reason why the height position detection is necessary]

도 7은, 워크 보유 지지 유닛(200) 상에 보유 지지된 워크(W1)의 정면을 포함하는 도면이다. 도 7에 도시된 바와 같이, 워크(W1)의 절단 시에, 러버(202)는 절단 테이블(201)의 상면에 배치되어 있고, 워크(W1)는 러버(202)의 상면에 배치되어 있다. 7 : is a figure including the front surface of the work W1 hold|maintained on the work holding unit 200. As shown in FIG. As shown in FIG. 7 , at the time of cutting the work W1 , the rubber 202 is disposed on the upper surface of the cutting table 201 , and the work W1 is disposed on the upper surface of the rubber 202 .

절단 장치(10)에 있어서, 워크(W1)의 높이 H2 및 러버(202)의 높이 H3 등의 각 부재의 높이가 설계 단계의 치수값에 기초하여 미리 기억되어 있으면, 워크(W1)의 높이 위치를 반드시 검출할 필요는 없다고도 생각된다. 그러나, 각 부재의 높이 정보는, 반드시 정확한 것은 아니다. 예를 들어, 러버(202)는 절단 테이블(201)로부터의 흡착에 의해 휘어져 있을 가능성이 있다. 또한, 러버(202)는 경시 변화에 의해 마모되어 있을 가능성이 있다. 또한, 워크(W1)는 전공정에서의 열 등에 기인하여 휘어져 있을 가능성이 있다. 또한, 워크(W1)는 스핀들부(110) 등의 구성 부품의 가공에 의한 오차 등에 기인하여 휘어져 있을 가능성이 있다. In the cutting device 10, if the height of each member, such as the height H2 of the workpiece|work W1, and the height H3 of the rubber 202, is memorize|stored in advance based on the dimension value of a design stage, the height position of the workpiece|work W1 It is also considered that it is not necessarily necessary to detect . However, the height information of each member is not necessarily accurate. For example, there is a possibility that the rubber 202 is bent by suction from the cutting table 201 . In addition, there is a possibility that the rubber 202 is worn due to a change with time. In addition, the workpiece W1 may be warped due to heat or the like in the previous process. In addition, the workpiece W1 may be warped due to an error or the like due to processing of components such as the spindle part 110 .

이와 같이, 다양한 요인에 기인하여 각 부재의 실제 높이와 미리 기억되어 있는 높이가 일치하지 않는 경우가 있다. 따라서, 워크(W1)의 실제 높이 위치를 파악하기 위해서는, 워크(W1)의 높이 위치를 실제로 검출할 필요가 있다. In this way, due to various factors, the actual height of each member and the previously stored height may not match. Therefore, in order to grasp the actual height position of the work W1, it is necessary to actually detect the height position of the work W1.

[3 각종 검출 원리] [3 Various detection principles]

<3-1. 높이 위치의 검출 원리> <3-1. Principle of detection of height position>

도 8은, 워크(W1)의 상면의 높이 위치에 의해 광원(410)에 의해 투영되는 광의 패턴이 어떻게 변화되는지를 도시하는 도면이다. 도 8에 도시된 바와 같이, 절단 장치(10)에 있어서, 워크(W1)의 상면의 높이 위치가 기준 위치 Z1인 경우에, 광원(410)에 의해 발해지는 광의 패턴은 위치 A1에 투영된다. 또한, 워크(W1)의 상면의 높이 위치가 위치 Z1+α인 경우에 광의 패턴은 위치 A2에 투영되고, 워크(W1)의 상면의 높이 위치가 위치 Z1-α인 경우에 광의 패턴은 위치 A3에 투영된다. 8 is a diagram showing how the pattern of light projected by the light source 410 is changed by the height position of the upper surface of the work W1. 8, in the cutting device 10, when the height position of the upper surface of the workpiece|work W1 is the reference position Z1, the pattern of the light emitted by the light source 410 is projected to the position A1. Further, when the height position of the upper surface of the work W1 is at the position Z1+α, the pattern of light is projected to the position A2, and when the height position of the upper surface of the work W1 is at the position Z1-α, the pattern of light is at the position A3 is projected on

절단 장치(10)에 있어서는, 촬상 유닛(400)의 높이 방향의 기준 위치 Z2(도시하지 않음)가 미리 정해져 있다. 워크(W1)의 높이 위치의 검출 개시 시점에 있어서, 촬상 유닛(400)의 높이 위치는 기준 위치 Z2이다. 촬상 유닛(400)의 높이 위치가 기준 위치 Z2이며, 또한 워크(W1)의 상면의 높이 위치가 기준 위치 Z1인 경우에, 광의 패턴의 핀트가 워크(W1)의 상면에서 만난다. 즉, 절단 장치(10)에 있어서는, 그와 같은 기준 위치 Z1, Z2가 미리 준비되어 있다. 절단 장치(10)에 있어서는, 기준 위치 Z1, Z2가 미리 기억되어 있다. In the cutting device 10, the reference position Z2 (not shown) of the height direction of the imaging unit 400 is predetermined. At the detection start time of the height position of the work W1 , the height position of the imaging unit 400 is the reference position Z2 . When the height position of the imaging unit 400 is the reference position Z2 and the height position of the upper surface of the work W1 is the reference position Z1, the focus of the pattern of light meets the upper surface of the work W1. That is, in the cutting device 10, such reference positions Z1 and Z2 are prepared in advance. In the cutting device 10, the reference positions Z1 and Z2 are memorized beforehand.

도 9는, 워크(W1)에 투영되는 광의 패턴예를 설명하기 위한 도면이다. 도 9에 도시된 바와 같이, 촬상 유닛(400)이 기준 위치 Z2에 존재하고, 또한 워크(W1)의 상면이 기준 위치 Z1에 존재하는 경우에, 워크(W1)에는 광 패턴(L2)이 투영된다. 또한, 촬상 유닛(400)이 기준 위치 Z2에 존재하고, 또한 워크(W1)의 상면이 위치 Z1-α에 존재하는 경우에, 워크(W1)에는 광 패턴(L3)이 투영된다. 또한, 촬상 유닛(400)이 기준 위치 Z2에 존재하고, 또한 워크(W1)의 상면이 위치 Z1+α에 존재하는 경우에, 워크(W1)에는 광 패턴(L4)이 투영된다. 9 : is a figure for demonstrating the example of the pattern of the light projected on the workpiece|work W1. As shown in Fig. 9, when the imaging unit 400 exists at the reference position Z2 and the upper surface of the work W1 exists at the reference position Z1, the light pattern L2 is projected onto the work W1. do. Further, when the imaging unit 400 exists at the reference position Z2 and the upper surface of the work W1 exists at the position Z1-α, the light pattern L3 is projected on the work W1 . Further, when the imaging unit 400 exists at the reference position Z2 and the upper surface of the work W1 exists at the position Z1+α, the light pattern L4 is projected on the work W1.

즉, 워크(W1)의 상면의 높이 위치에 따라서, 광의 패턴의 투영 위치가 변화된다. 이것은, 광원(410)이 워크(W1)의 상면에 광의 패턴을 투영하는 방향과, 촬상부(420)가 워크(W1)의 상면을 촬상하는 방향에 의해 형성되는 각도가 0°보다도 크기 때문이다. That is, the projection position of the pattern of light changes according to the height position of the upper surface of the workpiece|work W1. This is because the angle formed by the direction in which the light source 410 projects the pattern of light on the upper surface of the work W1 and the direction in which the imaging unit 420 images the upper surface of the work W1 is greater than 0°. .

촬상 유닛(400)이 기준 위치 Z2에 존재하고, 또한 워크(W1)의 상면이 기준 위치 Z1에 존재하는 경우에, 촬상부(420)에 의해 촬상되는 화상에 있어서의 화살표 Y 방향의 중심에 광 패턴(L2)이 위치한다. 워크(W1)의 상면의 높이 위치가 기준 위치 Z1로부터 어긋남으로써, 광의 패턴이 투영되는 위치가 화살표 Y 방향에 있어서 어긋난다. 또한, 광 패턴(L2)의 핀트는 합치되어 있는 한편, 광 패턴(L3, L4)의 핀트는 합치되어 있지 않다. When the imaging unit 400 exists at the reference position Z2 and the upper surface of the work W1 exists at the reference position Z1, light is located at the center of the arrow Y direction in the image captured by the imaging unit 420 . The pattern L2 is located. When the height position of the upper surface of the workpiece|work W1 shift|deviates from the reference position Z1, the position where the pattern of light is projected shift|deviates in the arrow Y direction. In addition, while the focus of the light patterns L2 coincide, the focus of the light patterns L3 and L4 do not coincide.

상술한 바와 같이, 워크(W1)의 상면의 높이 위치의 검출 개시 시에 있어서, 촬상 유닛(400)의 높이 위치는 기준 위치 Z2이다. 이 경우에, 제어부(500)는 촬상부(420)에 의해 촬상된 화상의 화살표 Y 방향의 중심에 광의 패턴이 투영되어 있을 때는, 워크(W1)의 상면의 높이 위치가 기준 위치 Z1이라고 특정한다. 한편, 제어부(500)는 촬상부(420)에 의해 촬상된 화상의 화살표 Y 방향의 중심으로부터 어긋난 위치에 광의 패턴이 투영되어 있을 때는, 광의 패턴이 중심으로 이동하도록 촬상 유닛(400)의 높이 위치를 조정한다. 절단 장치(10)에 있어서는, 촬상 유닛(400)의 이동량과 워크(W1)의 상면의 높이 위치의 관계가 미리 기억되어 있다. 제어부(500)는 촬상 유닛(400)의 높이 방향(화살표 Z 방향)에 있어서의 이동량에 기초하여, 워크(W1)의 상면의 높이 위치를 산출한다. 이상의 방법에 의해, 워크(W1)의 상면의 높이 위치가 검출된다. As described above, at the start of detection of the height position of the upper surface of the work W1 , the height position of the imaging unit 400 is the reference position Z2 . In this case, when the pattern of light is projected on the center of the arrow Y direction of the image captured by the imaging unit 420, the control unit 500 specifies that the height position of the upper surface of the work W1 is the reference position Z1. . On the other hand, when the pattern of light is projected at a position deviated from the center of the arrow Y direction of the image captured by the imaging unit 420 , the control unit 500 controls the height position of the imaging unit 400 so that the pattern of light moves to the center. to adjust In the cutting device 10, the relationship between the movement amount of the imaging unit 400 and the height position of the upper surface of the workpiece|work W1 is memorize|stored beforehand. The control unit 500 calculates the height position of the upper surface of the work W1 based on the movement amount in the height direction (arrow Z direction) of the imaging unit 400 . By the above method, the height position of the upper surface of the workpiece|work W1 is detected.

<3-2. 홈의 깊이의 검출 원리> <3-2. Principle of detecting the depth of the groove>

도 10은, 워크(W1)에 홈(GR1)이 형성되어 있는 경우에 워크(W1)에 투영되는 광의 패턴예를 설명하기 위한 도면이다. 도 10에 도시된 바와 같이, 워크(W1)의 상면에는, 화살표 Y 방향으로 연장되는 홈(GR1)이 형성되어 있다. 10 : is a figure for demonstrating the example of the pattern of the light projected to the workpiece|work W1, when the groove|channel GR1 is formed in the workpiece|work W1. As shown in FIG. 10 , a groove GR1 extending in the arrow Y direction is formed on the upper surface of the work W1 .

광원(410)은 워크(W1)의 상면의 홈(GR1)에 걸친 영역에 광 패턴(L5)을 투영하도록 구성되어 있다. 광 패턴(L5)은 홈(GR1)이 연장되는 방향과는 대략 수직인 방향으로 연장되어 있다. 또한, 광 패턴(L5)이 연장되는 방향은, 반드시 홈(GR1)이 연장되는 방향과 대략 수직일 필요는 없다. 광 패턴(L5)이 홈(GR1)에 걸쳐 있으면 된다. 광 패턴(L5)은, 부분(P1, P2, P3)을 포함하고 있다. 부분(P1, P3)은 홈(GR1) 이외의 워크(W1)의 상면에 투영되고, 부분(P2)은 홈(GR1)에 투영된다. 홈(GR1) 이외의 워크(W1)의 상면의 높이 위치와, 홈(GR1)의 높이 위치가 다르므로, 부분(P1, P3)과 부분(P2)은 화살표 Y 방향에 있어서 다른 위치에 투영된다. The light source 410 is configured to project the light pattern L5 on the region spanning the groove GR1 on the upper surface of the work W1 . The light pattern L5 extends in a direction substantially perpendicular to the direction in which the groove GR1 extends. In addition, the direction in which the light pattern L5 extends is not necessarily substantially perpendicular to the direction in which the groove GR1 extends. The light pattern L5 just needs to span the groove GR1. The light pattern L5 includes portions P1, P2, and P3. The parts P1 and P3 are projected on the upper surface of the workpiece|work W1 other than the groove|channel GR1, and the part P2 is projected on the groove|channel GR1. Since the height position of the upper surface of the workpiece W1 other than the groove GR1 and the height position of the groove GR1 are different, the parts P1 and P3 and the part P2 are projected at different positions in the arrow Y direction. .

제어부(500)는, 예를 들어 촬상부(420)에 의해 촬상된 화상의 화살표 Y 방향의 중심으로 부분(P1, P3)이 이동하도록 촬상 유닛(400)의 높이 위치를 조정한다. 그 후, 제어부(500)는 부분(P2)이 화살표 Y 방향의 중심으로 이동하도록 촬상 유닛(400)의 높이 위치를 조정한다. 제어부(500)는 부분(P2)을 화살표 Y 방향의 중심으로 이동시켰을 때의 촬상 유닛(400)의 높이 방향에 있어서의 이동량에 기초하여 홈(GR1)의 깊이를 산출한다. 이상의 방법에 의해, 홈(GR1)의 깊이가 검출된다. 또한, 이 예에서는, 부분(P1, P3)을 먼저 화상의 화살표 Y 방향의 중심으로 이동시켰지만, 부분(P2)을 먼저 화살표 Y 방향의 중심으로 이동시켜도 된다. The control unit 500 adjusts, for example, the height position of the imaging unit 400 so that the portions P1 and P3 move to the center of the arrow Y direction of the image captured by the imaging unit 420 . Thereafter, the control unit 500 adjusts the height position of the imaging unit 400 so that the portion P2 moves to the center of the arrow Y direction. The control part 500 calculates the depth of the groove|channel GR1 based on the movement amount in the height direction of the imaging unit 400 when the part P2 is moved to the center of the arrow Y direction. By the above method, the depth of the groove GR1 is detected. In addition, in this example, although the parts P1 and P3 were first moved to the center of the arrow Y direction of an image, you may move the part P2 first to the center of the arrow Y direction.

<3-3. 블레이드의 마모 상태의 검출 원리> <3-3. Principle of detection of blade wear>

도 11은, 블레이드(101)에 의해 홈(GR2)이 형성된 워크(W1)의 부분 단면을 모식적으로 도시하는 도면이다. 도 11에 도시된 바와 같이, 가령 블레이드(101)가 마모되어 있지 않으면, 워크(W1)에는 홈(GR21)이 형성될 것이다. 즉, 블레이드(101)의 측면이 마모에 의해 얇아져 있지 않으면, 워크(W1)에는 홈(GR21)이 형성될 것이다. 홈(GR21)의 측벽은, 워크(W1)의 상면으로부터 대략 수직으로 하방으로 연장되어 있다. 한편, 블레이드(101)가 마모되어, 블레이드(101)의 측면이 얇아져 있는 경우에는, 예를 들어 워크(W1)에 홈(GR2)이 형성된다. 홈(GR2)의 측벽은, 워크(W1)의 상면으로부터 완만하게 경사져서 하방으로 연장되어 있다. 11 is a diagram schematically showing a partial cross section of the work W1 in which the groove GR2 is formed by the blade 101 . 11, for example, if the blade 101 is not worn, a groove GR21 will be formed in the work W1. That is, if the side surface of the blade 101 is not thinned by wear, a groove GR21 will be formed in the work W1. The side wall of the groove GR21 extends downward substantially vertically from the upper surface of the work W1. On the other hand, when the blade 101 is worn and the side surface of the blade 101 is thinned, for example, a groove GR2 is formed in the work W1 . The side wall of the groove GR2 is gently inclined from the upper surface of the work W1 and extends downward.

도 12는, 마모된 블레이드(101)에 의해 홈(GR2)이 형성되어 있는 경우에 워크(W1)에 투영되는 광의 패턴예를 설명하기 위한 도면이다. 도 12에 도시된 바와 같이, 워크(W1)의 상면에는, 화살표 Y 방향으로 연장되는 홈(GR2)이 형성되어 있다. 12 : is a figure for demonstrating the example of the pattern of the light projected to the workpiece|work W1 when the groove|channel GR2 is formed by the worn blade 101. As shown in FIG. As shown in FIG. 12 , a groove GR2 extending in the arrow Y direction is formed on the upper surface of the work W1 .

광원(410)은 워크(W1)의 상면의 홈(GR2)에 걸친 영역에 광 패턴(L6)을 투영하도록 구성되어 있다. 광 패턴(L6)은, 홈(GR2)이 연장되는 방향과는 대략 수직인 방향으로 연장되어 있다. 또한, 광 패턴(L6)이 연장되는 방향은, 반드시 홈(GR2)이 연장되는 방향과 대략 수직일 필요는 없다. 광 패턴(L6)이 홈(GR2)에 걸쳐 있으면 된다. 광 패턴(L6)은 부분(P4, P5, P6, P7, P8)을 포함하고 있다. 부분(P4, P8)은 홈(GR2) 이외의 워크(W1)의 상면에 투영되고, 부분(P5, P6, P7)은 홈(GR2)에 투영된다. The light source 410 is configured to project the light pattern L6 on the region spanning the groove GR2 on the upper surface of the work W1 . The light pattern L6 extends in a direction substantially perpendicular to the direction in which the groove GR2 extends. In addition, the direction in which the light pattern L6 extends is not necessarily substantially perpendicular to the direction in which the groove GR2 extends. The light pattern L6 just needs to span the groove GR2. The light pattern L6 includes portions P4, P5, P6, P7, and P8. The parts P4 and P8 are projected on the upper surface of the workpiece|work W1 other than the groove|channel GR2, and the parts P5, P6, P7 are projected on the groove|channel GR2.

홈(GR2) 이외의 워크(W1)의 상면의 높이 위치와, 홈(GR2)의 높이 위치가 다르므로, 부분(P4, P8)과 부분(P5, P6, P7)은 화살표 Y 방향에 있어서 다른 위치에 투영된다. 특히, 홈(GR2)의 측벽이 완만하므로, 부분(P5)은 부분(P4)으로부터 경사 방향으로 연장되어 점차 부분(P6)을 향하고, 부분(P7)은 부분(P8)으로부터 경사 방향으로 연장되어 점차 부분(P6)을 향하고 있다. Since the height position of the upper surface of the workpiece W1 other than the groove GR2 and the height position of the groove GR2 are different, the parts P4, P8 and the parts P5, P6, P7 are different in the arrow Y direction. projected on the location. In particular, since the sidewall of the groove GR2 is gentle, the portion P5 extends obliquely from the portion P4 and gradually toward the portion P6, and the portion P7 extends obliquely from the portion P8 Gradually toward part P6.

제어부(500)는, 예를 들어 촬상부(420)에 의해 촬상된 화상에 기초하여, 부분(P5, P7)의 기울기를 검출한다. 제어부(500)는 부분(P5, P7)의 기울기가 소정보다 완만한 경우에 블레이드(101)가 마모되어 있다고 판정하고, 그렇지 않은 경우에 블레이드(101)가 마모되어 있지 않다고 판정한다. The control unit 500 detects the inclination of the portions P5 and P7, for example, based on the image captured by the imaging unit 420 . The control unit 500 determines that the blade 101 is worn when the inclination of the portions P5 and P7 is gentler than predetermined, and otherwise determines that the blade 101 is not worn.

제어부(500)는, 예를 들어 부분(P4)과 부분(P5)의 접속 부분에 있어서의 X 좌표(화살표 X 방향에 있어서의 좌표)와, 부분(P5)과 부분(P6)의 접속 부분에 있어서의 X 좌표와의 차가 소정값 이상인 경우에 부분(P5)의 기울기가 완만하다고 판정한다. 또한, 제어부(500)는 부분(P5, P7)의 양쪽 기울기가 완만한 경우에 블레이드(101)가 마모되어 있다고 판정해도 되고, 부분(P5, P7)의 적어도 한쪽의 기울기가 완만한 경우에 블레이드(101)가 마모되어 있다고 판정해도 된다. 이상의 방법에 의해, 블레이드(101)의 마모 상태가 검출된다. The control unit 500 includes, for example, X coordinates (coordinates in the X direction of the arrow) in the connection part of the part P4 and the part P5, and in the connection part of the part P5 and the part P6. In the case where the difference from the X coordinate is equal to or greater than a predetermined value, it is determined that the inclination of the portion P5 is gentle. In addition, the controller 500 may determine that the blade 101 is worn when both inclinations of the parts P5 and P7 are gentle, and when the inclination of at least one of the parts P5 and P7 is gentle, the blade You may determine that (101) is worn out. By the above method, the wear state of the blade 101 is detected.

<3-4. 버에 관한 검출 원리> <3-4. Detection principle for burrs>

예를 들어, 워크(W1)가 금속제 리드 프레임을 사용한 QFN 패키지 기판인 바와 같은 경우에, 워크(W1)의 절단에 의해 워크(W1)의 금속 단자 부분에 버가 발생하는 경우가 있다. For example, when the work W1 is a QFN package substrate using a metal lead frame, burrs may be generated in the metal terminal portion of the work W1 due to cutting of the work W1.

도 13은, 워크(W1)에 형성된 버의 일례를 나타내는 도면이다. 도 13에 도시된 바와 같이, 워크(W1)에 있어서는, 단자(510)에 버(511)가 형성되어 있다. 단자(510)는 금속제이다. 13 : is a figure which shows an example of the burr formed in the workpiece|work W1. As shown in FIG. 13 , in the work W1 , a burr 511 is formed in the terminal 510 . The terminal 510 is made of metal.

도 14는, 단자(510)에 버(511)가 형성되어 있는 경우에 워크(W1)에 투영되는 광의 패턴예를 설명하기 위한 도면이다. 도 14에 도시된 바와 같이, 워크(W1)의 상면에는, 화살표 Y 방향으로 연장되는 홈(GR3)이 형성되어 있다. 워크(W1)에 있어서는, 홈(GR3)을 따라서, 복수의 단자(510)가 나열되어 있다. FIG. 14 is a diagram for explaining an example of a pattern of light projected on the work W1 when the burr 511 is formed on the terminal 510 . As shown in FIG. 14 , a groove GR3 extending in the arrow Y direction is formed on the upper surface of the work W1 . In the work W1, the plurality of terminals 510 are arranged along the groove GR3.

광원(410)은 워크(W1)의 상면의 홈(GR3) 및 단자(510)에 걸친 영역에 광 패턴(L7)을 투영하도록 구성되어 있다. 광 패턴(L7)은, 홈(GR3)이 연장되는 방향과 대략 수직인 방향으로 연장되어 있다. 또한, 광 패턴(L7)이 연장되는 방향은, 반드시 홈(GR3)이 연장되는 방향과 대략 수직일 필요는 없다. 광 패턴(L7)이 홈(GR3)에 걸쳐 있으면 된다. 광 패턴(L7)은 부분(P9, P10, P11)을 포함하고 있다. 부분(P9, P11)은 홈(GR3) 이외의 워크(W1)의 상면에 투영되고, 부분(P10)은 홈(GR3)에 투영된다. The light source 410 is configured to project the light pattern L7 on the region spanning the groove GR3 and the terminal 510 on the upper surface of the work W1 . The light pattern L7 extends in a direction substantially perpendicular to the direction in which the groove GR3 extends. In addition, the direction in which the light pattern L7 extends is not necessarily substantially perpendicular to the direction in which the groove GR3 extends. The light pattern L7 just needs to span the groove GR3. The light pattern L7 includes portions P9, P10, and P11. The parts P9 and P11 are projected on the upper surface of the workpiece|work W1 other than the groove|channel GR3, and the part P10 is projected on the groove|channel GR3.

단자(510)에 버(511)가 형성되어 있고, 버(511)가 형성되어 있지 않은 부분보다도 버(511) 부분이 융기되어 있으므로, 부분(P9, P11)의 투영 위치는, 버(511) 부근에서 화살표 Y 방향에 있어서 어긋나 있다. Since the burr 511 is formed on the terminal 510 and the portion of the burr 511 is higher than the portion where the burr 511 is not formed, the projected position of the portions P9 and P11 is the burr 511 . In the vicinity, it shifts|deviates in the arrow Y direction.

제어부(500)는, 예를 들어 촬상부(420)에 의해 촬상된 화상에 기초하여, 워크(W1)의 상면에 형성된 단자(510) 부분에 있어서 융기된 부분이 있는지 여부를 판정한다. 제어부(500)는, 예를 들어 부분(P9, P11)의 투영 위치가 단자(510) 부근에서 화살표 Y 방향에 있어서 소정량 이상 어긋나 있는 것인지 여부에 기초하여, 단자(510) 부분에 있어서 융기된 부분이 있는지 여부를 판정한다. 제어부(500)는 융기된 부분이 있다고 판정된 경우에, 워크(W1)에 버(511)가 형성되어 있다고 판정한다. 이상의 방법에 의해, 워크(W1)에 형성된 버(511)가 검출된다. For example, the control unit 500 determines whether there is a raised portion in the portion of the terminal 510 formed on the upper surface of the work W1 based on the image captured by the imaging unit 420 . The control unit 500 controls, for example, whether the projected positions of the portions P9 and P11 are deviated by a predetermined amount or more in the direction of the arrow Y in the vicinity of the terminal 510. Determine whether a part exists. When it is determined that there is a raised portion, the control unit 500 determines that the burr 511 is formed in the work W1. By the above method, the burr 511 formed on the work W1 is detected.

또한, 절단 장치(10)에 있어서는, 워크(W1)에 있어서의 버(511)의 유무의 검출뿐만 아니라, 버(511)의 높이의 검출도 행해진다. 다음에, 버(511)의 높이의 검출 원리에 대해서 설명한다. 제어부(500)는, 예를 들어 부분(P9) 중 홈(GR3)으로부터 소정량 떨어진 위치(부분(P9) 중 화살표 Y 방향으로 어긋나 있지 않은 위치)가 촬상부(420)에 의해 촬상된 화상의 화살표 Y 방향의 중심으로 이동하도록 촬상 유닛(400)의 높이 위치를 조정한다. 그 후, 제어부(500)는 부분(P9) 중 화살표 Y 방향으로 가장 어긋나 있는 위치(버(511)가 가장 융기되어 있는 위치)가 화살표 Y 방향의 중심으로 이동하도록 촬상 유닛(400)의 높이 위치를 조정한다. 제어부(500)는 부분(P9) 중 화살표 Y 방향으로 가장 어긋나 있는 위치를 화살표 Y 방향의 중심으로 이동시켰을 때의 촬상 유닛(400)의 높이 방향에 있어서의 이동량에 기초하여 버(511)의 높이를 산출한다. 이상의 방법에 의해, 버(511)의 높이가 검출된다. 또한, 이 예에서는, 부분(P9) 중 홈(GR3)으로부터 소정량 떨어진 위치를 먼저 화상의 화살표 Y 방향의 중심으로 이동시켰지만, 부분(P9) 중 화살표 Y 방향으로 가장 어긋나 있는 위치를 먼저 화살표 Y 방향의 중심으로 이동시켜도 된다. Moreover, in the cutting device 10, not only the detection of the presence or absence of the burr 511 in the workpiece|work W1, but the detection of the height of the burr 511 is also performed. Next, the detection principle of the height of the burr 511 will be described. The control unit 500 determines that, for example, a position away from the groove GR3 by a predetermined amount in the portion P9 (a position not deviated in the arrow Y direction among the portions P9) of the image captured by the imaging unit 420 is The height position of the imaging unit 400 is adjusted so as to move to the center of the arrow Y direction. Thereafter, the control unit 500 controls the height position of the imaging unit 400 so that the position most shifted in the arrow Y direction (the position where the burr 511 is the most protruded) among the portions P9 moves to the center of the arrow Y direction. to adjust The control unit 500 determines the height of the burr 511 based on the amount of movement in the height direction of the imaging unit 400 when the position most shifted in the arrow Y direction among the portions P9 is moved to the center of the arrow Y direction. to calculate By the above method, the height of the burr 511 is detected. In addition, in this example, the position away from the groove GR3 by a predetermined amount among the portions P9 is first moved to the center of the image in the arrow Y direction, but the position most shifted in the arrow Y direction among the portions P9 is first moved to the arrow Y You may move to the center of a direction.

<3-5. 러버의 열화 상태의 검출 원리> <3-5. Principle of detection of rubber deterioration>

상술한 바와 같이, 절단 장치(10)에 있어서는, 워크(W1)의 풀컷도 행해진다. 워크(W1)의 풀컷을 통하여, 워크(W1)가 적재되어 있는 러버(202)가 열화된다. As mentioned above, in the cutting device 10, the full cut of the workpiece|work W1 is also performed. Through the full cut of the work W1, the rubber 202 on which the work W1 is mounted deteriorates.

도 15는, 러버(202)에 투영되는 광의 패턴예를 설명하기 위한 도면이다. 도 15에 도시된 바와 같이, 러버(202)에는 워크(W1)의 풀컷을 통하여, 예를 들어 홈(GR4, GR5)이 형성된다. 홈(GR4, GR5)의 각각은, 화살표 Y 방향으로 연장되어 있다. 러버(202)에는 워크(W1)를 흡인하기 위한 복수의 구멍(B1)이 형성되어 있다. 15 : is a figure for demonstrating the example of the pattern of the light projected to the rubber 202. As shown in FIG. As shown in FIG. 15 , grooves GR4 and GR5 are formed in the rubber 202 through the full cut of the work W1 . Each of the grooves GR4 and GR5 extends in the arrow Y direction. A plurality of holes B1 for sucking the work W1 are formed in the rubber 202 .

광원(410)은 러버(202)의 상면의 홈(GR4, GR5)에 걸친 영역에 광 패턴(L8)을 투영하도록 구성되어 있다. 광 패턴(L8)은, 홈(GR4, GR5)이 연장되는 방향과 대략 수직인 방향으로 연장되어 있다. 또한, 광 패턴(L8)이 연장되는 방향은, 반드시 홈(GR4, GR5)이 연장되는 방향과 대략 수직일 필요는 없다. 광 패턴(L8)이 홈(GR4, GR5)에 걸쳐 있으면 된다. 광 패턴(L8)은, 부분(P12, P13, P14, P15, P16, P17)을 포함하고 있다. 부분(P12, P14, P15, P17)은, 홈(GR4, GR5) 이외의 러버(202)의 상면에 투영된다. 부분(P13)은 홈(GR4)에 투영되고, 부분(P16)은 홈(GR5)에 투영된다. The light source 410 is configured to project the light pattern L8 on the region spanning the grooves GR4 and GR5 on the upper surface of the rubber 202 . The light pattern L8 extends in a direction substantially perpendicular to the direction in which the grooves GR4 and GR5 extend. In addition, the direction in which the light pattern L8 extends is not necessarily substantially perpendicular to the direction in which the grooves GR4 and GR5 extend. The light pattern L8 only needs to span the grooves GR4 and GR5. The light pattern L8 includes portions P12, P13, P14, P15, P16, and P17. The parts P12, P14, P15, and P17 are projected on the upper surface of the rubber 202 other than groove|channel GR4, GR5. Part P13 is projected onto groove GR4 , and part P16 is projected onto groove GR5 .

홈(GR4, GR5) 등 이외의 러버(202)의 상면의 면적이 좁아지면, 워크(W1)와 러버(202)의 접촉 면적이 작아지므로, 워크(W1)의 흡착이 불안정해진다. 즉, 부분(P12, P14, P15, P17) 등이 짧아지면, 워크(W1)의 흡착이 불안정해진다. When the area of the upper surface of the rubber 202 other than the grooves GR4 and GR5 becomes narrow, the contact area between the work W1 and the rubber 202 becomes small, so that the adsorption of the work W1 becomes unstable. That is, when the portions P12, P14, P15, P17, etc. are shortened, the adsorption of the work W1 becomes unstable.

제어부(500)는, 예를 들어, 부분(P12, P14, P15, P17) 등의 길이가 소정보다도 짧은 경우에, 러버(202)가 열화되어 있다고 판정한다. 또한, 제어부(500)는 부분(P12, P14, P15, P17) 등의 모두가 소정보다도 짧은 경우에 러버(202)가 열화되어 있다고 판정해도 되고, 부분(P12, P14, P15, P17) 등의 적어도 일부가 소정보다도 짧은 경우에 러버(202)가 열화되어 있다고 판정해도 된다. 또한, 제어부(500)는 부분(P13, P16) 등이 소정보다도 긴 경우에 러버(202)가 열화되어 있다고 판정해도 된다. 이 경우에 있어서도, 제어부(500)는 부분(P13, P16) 등의 모두가 소정보다도 긴 경우에 러버(202)가 열화되어 있다고 판정해도 되고, 부분(P13, P16) 등의 적어도 일부가 소정보다도 긴 경우에 러버(202)가 열화되어 있다고 판정해도 된다. 이상의 방법에 의해, 러버(202)의 열화 상태가 검출된다. For example, when the length of the parts P12, P14, P15, P17, etc. is shorter than predetermined, the control part 500 determines that the rubber 202 has deteriorated. In addition, when all of the parts P12, P14, P15, P17, etc. are shorter than predetermined, the control part 500 may determine that the rubber 202 is deteriorated, and the parts P12, P14, P15, P17, etc. When at least one part is shorter than predetermined, you may determine that the rubber 202 has deteriorated. In addition, the control part 500 may determine that the rubber 202 is deteriorated, when the parts P13, P16, etc. are longer than predetermined|prescribed. Also in this case, the control part 500 may determine that the rubber 202 is deteriorated when all of the parts P13, P16, etc. are longer than predetermined|prescribed, and at least a part of the parts P13, P16, etc. is more than predetermined. In a long case, you may determine that the rubber 202 has deteriorated. By the above method, the deterioration state of the rubber 202 is detected.

[4. 동작] [4. movement]

<4-1. 절단품의 제조 수순> <4-1. Manufacturing procedure for cut products>

도 16은, 절단품의 제조 수순을 나타내는 흐름도이다. 이 흐름도에 나타나는 처리는, 절단 대상의 워크(W1)가 준비된 후에, 제어부(500)에 의해 실행된다. It is a flowchart which shows the manufacturing procedure of a cut product. The process shown in this flowchart is performed by the control part 500 after the workpiece|work W1 to be cut is prepared.

도 16을 참조하여, 제어부(500)는 스핀들부(110)의 높이 방향에 있어서의 제어 좌표 원점을 검출하기 위해, 블레이드(101)를 CCS 블록(300)에 접촉시키도록 스핀들부(110)를 제어한다(스텝 S100). 제어부(500)는 워크 보유 지지 유닛(200) 상에 보유 지지된 워크(W1)의 상면 복수 개소에 있어서의 높이 위치를 검출하도록 촬상 유닛(400)을 제어한다(스텝 S110). 또한, 이 시점에서, 워크(W1)는 촬상 유닛(400)의 하방에 위치하고 있다. Referring to FIG. 16 , the control unit 500 controls the spindle unit 110 to bring the blade 101 into contact with the CCS block 300 in order to detect the control coordinate origin in the height direction of the spindle unit 110 . control (step S100). The control part 500 controls the imaging unit 400 so that the height position in several places of the upper surface of the workpiece|work W1 hold|maintained on the workpiece|work holding unit 200 may be detected (step S110). In addition, at this point in time, the work W1 is positioned below the imaging unit 400 .

도 17은, 도 16의 스텝 S110에 있어서의 구체적인 처리 내용을 나타내는 흐름도이다. 도 17을 참조하여, 제어부(500)는 워크(W1)의 상면에 광의 패턴을 투영하도록 촬상 유닛(400)을 제어한다(스텝 S200). 제어부(500)는 촬상 유닛(400)에 의해 촬상된 화상의 화살표 Y 방향(도 9 등 참조)의 중심(이하, 단순히 「화상의 중심」이라고도 칭함)으로 광의 패턴이 위치하고 있는지 여부를 판정한다(스텝 S210). FIG. 17 is a flowchart showing specific processing contents in step S110 of FIG. 16 . Referring to FIG. 17 , the control unit 500 controls the imaging unit 400 to project a pattern of light on the upper surface of the work W1 (step S200 ). The control unit 500 determines whether the pattern of light is located at the center of the arrow Y direction (refer to FIG. 9 and the like) of the image captured by the imaging unit 400 (hereinafter, also simply referred to as “center of the image”) ( step S210).

화상의 중심에 광의 패턴이 위치하고 있다고 판정되면(스텝 S210에 있어서 "예"), 제어부(500)는 워크(W1)의 높이 위치가 기준 위치 Z1이라고 특정한다(스텝 S220). If it is determined that the pattern of light is located in the center of the image (YES in step S210), the control unit 500 specifies that the height position of the work W1 is the reference position Z1 (step S220).

한편, 화상의 중심에 광의 패턴이 위치하고 있지 않다고 판정되면(스텝 S210에 있어서 "아니오"), 제어부(500)는 광의 패턴 위치가 화상의 중심으로 이동하도록 촬상 유닛(400)을 상하 방향으로 이동시킨다(스텝 S230). 제어부(500)는 촬상 유닛(400)의 이동량에 기초하여 워크(W1)의 높이 위치를 산출한다(스텝 S240). On the other hand, if it is determined that the light pattern is not located in the center of the image (No in step S210), the control unit 500 moves the imaging unit 400 up and down so that the light pattern position moves to the center of the image. (Step S230). The control unit 500 calculates the height position of the work W1 based on the movement amount of the imaging unit 400 (step S240).

제어부(500)는 예정하고 있는 모든 개소의 높이 위치가 검출 완료인지 여부를 판정한다(스텝 S250). 예정하고 있는 모든 개소의 높이 위치가 검출 완료라고 판정되면(스텝 S250에 있어서 "예"), 이 흐름도에 나타나는 처리는 종료한다. 한편, 예정하고 있는 모든 개소의 높이 위치가 검출 완료가 아니라고 판정되면(스텝 S250에 있어서 "아니오"), 제어부(500)는 워크 보유 지지 유닛(200)의 위치를 조정한 후에, 스텝 S200 내지 S250의 처리를 반복한다. The control unit 500 determines whether the height positions of all the planned locations have been detected (step S250). When it is determined that the height positions of all the planned locations have been detected (YES in step S250), the processing shown in this flowchart ends. On the other hand, if it is determined that the height positions of all the planned locations are not detected (No in step S250), the control unit 500 adjusts the positions of the work holding units 200, and then, steps S200 to S250. repeat the processing of

다시 도 16을 참조하여, 스텝 S110의 처리가 종료되면, 제어부(500)는 워크(W1)의 높이 위치의 측정 결과에 기초하여 스핀들부(110)의 높이 위치를 조정한다(스텝 S120). 제어부(500)는 스핀들부(110)의 높이 위치를 조정하면서, 워크(W1)의 절단을 행하도록 스핀들부(110)를 제어한다(스텝 S130). 이와 같은 처리를 통하여, 워크(W1)의 절단이 행해진다. Referring again to FIG. 16 , when the process of step S110 is finished, the control unit 500 adjusts the height position of the spindle unit 110 based on the measurement result of the height position of the workpiece W1 (step S120 ). The control unit 500 controls the spindle unit 110 to cut the workpiece W1 while adjusting the height position of the spindle unit 110 (step S130). Through such processing, the workpiece W1 is cut.

<4-2. 홈의 깊이의 검출 동작> <4-2. Detecting the depth of the groove>

도 18은, 워크(W1)에 형성된 홈의 깊이의 검출 동작을 나타내는 흐름도이다. 이 흐름도에 나타나는 처리는, 상면에 홈이 형성된 워크(W1)가 촬상 유닛(400)의 하방에 위치하고 있는 상태에서, 제어부(500)에 의해 실행된다. 18 is a flowchart showing an operation of detecting the depth of the groove formed in the work W1. The processing shown in this flowchart is executed by the control unit 500 in a state where the workpiece W1 in which the groove is formed in the upper surface is positioned below the imaging unit 400 .

도 18을 참조하여, 제어부(500)는 워크(W1)의 상면 홈을 포함하는 영역에 광의 패턴을 투영하도록 촬상 유닛(400)을 제어한다(스텝 S300). 제어부(500)는 홈 이외의 워크(W1)의 상면에 투영된 광의 패턴이 촬상 유닛(400)에 의해 촬상된 화상의 중심에 위치하고 있는 것인지 여부를 판정한다(스텝 S310). Referring to FIG. 18 , the control unit 500 controls the imaging unit 400 to project a pattern of light onto the area including the upper surface groove of the work W1 (step S300 ). The control unit 500 determines whether or not the pattern of light projected onto the upper surface of the work W1 other than the groove is located in the center of the image captured by the imaging unit 400 (step S310).

홈 이외의 워크(W1)의 상면에 투영된 광의 패턴이 화상의 중심에 위치하고 있지 않다고 판정되면(스텝 S310에 있어서 "아니오"), 제어부(500)는 광의 패턴 위치가 화상의 중심으로 이동하도록 촬상 유닛(400)을 상하 방향으로 이동시킨다(스텝 S320). 한편, 홈 이외의 워크(W1)의 상면에 투영된 광의 패턴이 화상의 중심에 위치하고 있다고 판정되면(스텝 S310에 있어서 "예"), 처리는 스텝 S330으로 이행한다. If it is determined that the pattern of light projected on the upper surface of the workpiece W1 other than the groove is not located in the center of the image (No in step S310), the control unit 500 captures the image so that the position of the pattern of light moves to the center of the image. The unit 400 is moved up and down (step S320). On the other hand, if it is determined that the pattern of the light projected on the upper surface of the work W1 other than the groove is located in the center of the image (YES in step S310), the process shifts to step S330.

그 후, 제어부(500)는 홈에 투영된 광의 패턴 위치가 화상의 중심으로 이동하도록 촬상 유닛(400)을 상하 방향으로 이동시킨다(스텝 S330). 제어부(500)는 스텝 S330에 있어서의 촬상 유닛(400)의 이동량에 기초하여 워크(W1)에 형성되어 있는 홈의 깊이를 산출한다(스텝 S340). Then, the control unit 500 moves the imaging unit 400 up and down so that the pattern position of the light projected on the groove moves to the center of the image (step S330). The control part 500 calculates the depth of the groove|channel formed in the workpiece|work W1 based on the movement amount of the imaging unit 400 in step S330 (step S340).

<4-3. 블레이드의 마모 상태의 검출 동작> <4-3. Detecting the wear state of the blade>

도 19는, 블레이드(101)의 마모 상태의 검출 동작을 나타내는 흐름도이다. 이 흐름도에 나타나는 처리는, 상면에 홈이 형성된 워크(W1)가 촬상 유닛(400)의 하방에 위치하고 있는 상태에서, 제어부(500)에 의해 실행된다. 19 is a flowchart showing a detection operation of the wear state of the blade 101. As shown in FIG. The processing shown in this flowchart is executed by the control unit 500 in a state where the workpiece W1 in which the groove is formed in the upper surface is positioned below the imaging unit 400 .

도 19를 참조하여, 제어부(500)는 워크(W1)의 상면 홈을 포함하는 영역에 광의 패턴을 투영하도록 촬상 유닛(400)을 제어한다(스텝 S400). 제어부(500)는 촬상 유닛(400)에 의해 촬상된 화상에 기초하여, 예를 들어 도 12에 도시되는 부분(P4)(우측 선)과, 부분(P6)(좌측 선)을 접속하는 부분(P5)(접속 부분)을 검출한다(스텝 S410). Referring to FIG. 19 , the control unit 500 controls the imaging unit 400 to project a pattern of light onto the area including the upper surface groove of the work W1 (step S400 ). Based on the image captured by the imaging unit 400, the control unit 500 connects the portion P4 (right line) and the portion P6 (left line) shown in Fig. 12, for example, to a portion ( P5) (connection portion) is detected (step S410).

제어부(500)는 부분(P5)(접속 부분)의 기울기가 소정보다 완만한 것인지 여부를 판정한다(스텝 S420). 부분(P5)의 기울기가 소정보다 완만하다고 판정되면(스텝 S420에 있어서 "예"), 제어부(500)는 블레이드(101)의 측면이 마모되어 있다고 판정한다(스텝 S430). 한편, 부분(P5)의 기울기가 소정보다 완만하지 않다고 판정되면(스텝 S420에 있어서 "아니오"), 제어부(500)는 블레이드(101)의 측면이 마모되어 있지 않다고 판정한다(스텝 S440). The control unit 500 determines whether or not the inclination of the portion P5 (connection portion) is gentler than predetermined (step S420). If it is determined that the inclination of the portion P5 is gentler than predetermined (YES in step S420), the control unit 500 determines that the side surface of the blade 101 is worn (step S430). On the other hand, if it is determined that the inclination of the portion P5 is not more gentle than predetermined (No in step S420), the control unit 500 determines that the side surface of the blade 101 is not worn (step S440).

<4-4. 버에 관한 검출 동작> <4-4. Burr detection operation>

도 20은, 워크(W1)에 형성된 버(511)의 유무의 검출 동작을 나타내는 흐름도이다. 이 흐름도에 나타나는 처리는, 절단된 워크(W1)가 촬상 유닛(400)의 하방에 위치하고 있는 상태에서, 제어부(500)에 의해 실행된다. 20 is a flowchart showing the operation of detecting the presence or absence of the burr 511 formed on the work W1. The processing shown in this flowchart is executed by the control unit 500 in a state where the cut workpiece W1 is positioned below the imaging unit 400 .

도 20을 참조하여, 제어부(500)는 워크(W1)의 상면 단자(510)를 포함하는 영역에 광의 패턴을 투영하도록 촬상 유닛(400)을 제어한다(스텝 S500). Referring to FIG. 20 , the control unit 500 controls the imaging unit 400 to project a pattern of light onto the area including the upper surface terminal 510 of the work W1 (step S500 ).

제어부(500)는 촬상 유닛(400)에 의해 촬상된 화상에 기초하여, 단자(510)에 있어서 융기된 영역이 있는지 여부를 판정한다(스텝 S510). 융기된 영역이 있다고 판정되면(스텝 S510에 있어서 "예"), 제어부(500)는 워크(W1)에 버(511)가 형성되어 있다고 판정한다(스텝 S520). 한편, 융기된 영역이 없다고 판정되면(스텝 S510에 있어서 "아니오"), 제어부(500)는 워크(W1)에 버(511)가 형성되어 있지 않다고 판정한다(스텝 S530). The control unit 500 determines whether there is a raised region in the terminal 510 based on the image captured by the imaging unit 400 (step S510). If it is determined that there is a raised area (YES in step S510), the control unit 500 determines that the burr 511 is formed in the work W1 (step S520). On the other hand, if it is determined that there is no raised area (NO in step S510), the control unit 500 determines that the burr 511 is not formed in the work W1 (step S530).

도 21은, 워크(W1)에 형성된 버(511)의 높이의 검출 동작을 나타내는 흐름도이다. 이 흐름도에 나타나는 처리는, 절단된 워크(W1)가 촬상 유닛(400)의 하방에 위치하고 있는 상태에서, 제어부(500)에 의해 실행된다. 21 is a flowchart showing the detection operation of the height of the burr 511 formed on the work W1. The processing shown in this flowchart is executed by the control unit 500 in a state where the cut workpiece W1 is positioned below the imaging unit 400 .

도 21을 참조하여, 제어부(500)는 워크(W1)의 상면 단자(510)를 포함하는 영역에 광의 패턴을 투영하도록 촬상 유닛(400)을 제어한다(스텝 S600). 제어부(500)는 광의 패턴 중 홈(GR3)(도 14)으로부터 소정량 떨어진 부분(도 14에 있어서, 부분(P9) 중 화살표 Y 방향으로 어긋나 있지 않은 부분)이 촬상 유닛(400)에 의해 촬상된 화상의 중심에 위치하고 있는 것인지 여부를 판정한다(스텝 S610). Referring to FIG. 21 , the control unit 500 controls the imaging unit 400 to project a pattern of light onto the area including the upper surface terminal 510 of the work W1 (step S600 ). The control unit 500 captures an image of a portion of the light pattern that is separated from the groove GR3 ( FIG. 14 ) by a predetermined amount (in FIG. 14 , a portion P9 that does not deviate in the arrow Y direction) by the imaging unit 400 . It is determined whether or not it is located in the center of the image (step S610).

광의 패턴 중 홈(GR3)으로부터 소정량 떨어진 부분이 화상의 중심에 위치하고 있지 않다고 판정되면(스텝 S610에 있어서 "아니오"), 제어부(500)는 광의 패턴 중 홈(GR3)으로부터 소정량 떨어진 부분이 화상의 중심으로 이동하도록 촬상 유닛(400)을 상하 방향으로 이동시킨다(스텝 S620). 한편, 광의 패턴 중 홈(GR3)으로부터 소정량 떨어진 부분이 화상의 중심에 위치하고 있다고 판정되면(스텝 S610에 있어서 "예"), 처리는 스텝 S630으로 이행한다. If it is determined that the portion of the light pattern that is separated from the groove GR3 by a predetermined amount is not located in the center of the image (No in step S610), the control unit 500 determines that the portion of the light pattern that is separated from the groove GR3 by a predetermined amount is not located in the center of the image. The imaging unit 400 is moved up and down to move to the center of the image (step S620). On the other hand, if it is determined that the portion of the light pattern separated by a predetermined amount from the groove GR3 is located in the center of the image (YES in step S610), the processing proceeds to step S630.

그 후, 제어부(500)는 광의 패턴 중 버(511)의 가장 융기되어 있는 개소에 투영된 부분(도 14에 있어서, 부분(P9) 중 화살표 Y 방향으로 가장 어긋난 부분)이 화상의 중심으로 이동하도록 촬상 유닛(400)을 상하 방향으로 이동시킨다(스텝 S630). 제어부(500)는 스텝 S630에 있어서의 촬상 유닛(400)의 이동량에 기초하여 버(511)의 높이를 산출한다(스텝 S640). Thereafter, the control unit 500 moves the portion of the light pattern projected on the most protruding portion of the burr 511 (the portion most shifted in the arrow Y direction among the portions P9 in FIG. 14) to the center of the image. The imaging unit 400 is moved in the up-down direction (step S630). The control unit 500 calculates the height of the burr 511 based on the movement amount of the imaging unit 400 in step S630 (step S640).

<4-5. 러버의 열화 상태의 검출 동작> <4-5. Detection operation of rubber deterioration state>

도 22는, 러버(202)의 열화 상태의 검출 동작을 나타내는 흐름도이다. 이 흐름도에 나타나는 처리는, 상면에 워크(W1)가 적재되어 있지 않은 러버(202)가 촬상 유닛(400)의 하방에 위치하고 있는 상태에서, 제어부(500)에 의해 실행된다. 22 : is a flowchart which shows the detection operation|movement of the deterioration state of the rubber 202. As shown in FIG. The processing shown in this flowchart is executed by the control unit 500 in a state where the rubber 202 on which the work W1 is not mounted on the upper surface is positioned below the imaging unit 400 .

도 22를 참조하여, 제어부(500)는 러버(202)의 상면에 광의 패턴을 투영하도록 촬상 유닛(400)을 제어한다(스텝 S700). 제어부(500)는 촬상 유닛(400)에 의해 촬상된 화상에 기초하여, 홈 이외의 러버(202)의 상면에 투영된 라인 형상의 광 패턴을 검출한다(스텝 S710). Referring to FIG. 22 , the control unit 500 controls the imaging unit 400 to project a pattern of light on the upper surface of the rubber 202 (step S700 ). The control unit 500 detects a line-shaped light pattern projected on the upper surface of the rubber 202 other than the groove based on the image captured by the imaging unit 400 (step S710).

제어부(500)는 홈 이외의 러버(202)의 상면에 투영된 라인 형상의 광 패턴이 소정보다도 짧은지 여부를 판정한다(스텝 S720). 광의 패턴이 소정보다도 짧다고 판정되면(스텝 S720에 있어서 "예"), 제어부(500)는 러버(202)가 열화되어 있다고 판정한다(스텝 S730). 한편, 광의 패턴이 소정보다도 짧지 않다고 판정되면(스텝 S720에 있어서 "아니오"), 제어부(500)는 러버(202)가 열화되어 있지 않다고 판정한다(스텝 S740). The control part 500 determines whether the line-shaped light pattern projected on the upper surface of the rubber 202 other than a groove|channel is shorter than predetermined (step S720). If it is determined that the light pattern is shorter than predetermined (YES in step S720), the control unit 500 determines that the rubber 202 is deteriorated (step S730). On the other hand, if it is determined that the light pattern is not shorter than predetermined (No in step S720), the control unit 500 determines that the rubber 202 is not deteriorated (step S740).

[5. 특징] [5. Characteristic]

이상과 같이, 본 실시 형태에 따르는 절단 장치(10)에 있어서는, 광원(410)이 워크(W1)에 광의 패턴을 투영하는 방향과, 촬상부(420)가 광의 패턴을 촬상하는 방향에 의해 형성되는 각도가 0°보다도 크다. 따라서, 워크(W1)의 상면의 높이 위치에 따라서, 워크(W1)의 상면에 있어서의 광의 패턴의 투영 위치가 변화된다. 그 때문에, 절단 장치(10)에 의하면, 고가인 부품을 사용하지 않고, 광의 패턴의 투영 위치에 기초하여, 워크(W1)의 상면의 높이 위치를 검출할 수 있다. As mentioned above, in the cutting device 10 which concerns on this embodiment, the direction in which the light source 410 projects the pattern of light on the workpiece|work W1, and the direction in which the imaging part 420 images the pattern of light is formed The angle is greater than 0°. Therefore, according to the height position of the upper surface of the work W1, the projection position of the pattern of light in the upper surface of the work W1 changes. Therefore, according to the cutting device 10, the height position of the upper surface of the workpiece|work W1 can be detected based on the projection position of the pattern of light, without using expensive components.

또한, 절단 장치(10)가 상기와 같은 특징을 가지므로, 절단 장치(10)에 의하면, 고가인 부품을 사용하지 않고, 워크(W1)에 투영되는 광의 패턴의 형상에 기초하여, 블레이드(101)의 마모 상태를 검출할 수 있다. Moreover, since the cutting device 10 has the above characteristics, according to the cutting device 10, the blade 101 is based on the shape of the pattern of the light projected on the workpiece|work W1 without using expensive parts. ) can be detected.

또한, 절단 장치(10)가 상기와 같은 특징을 가지므로, 절단 장치(10)에 의하면, 고가인 부품을 사용하지 않고, 워크(W1)에 투영되는 광의 패턴의 형상에 기초하여, 워크(W1)에 형성된 버(511)에 관한 검출을 행할 수 있다. Moreover, since the cutting device 10 has the above characteristics, according to the cutting device 10, based on the shape of the pattern of the light projected to the workpiece|work W1, without using expensive parts, the workpiece W1 ) can be detected regarding the burr 511 formed in the .

또한, 절단 장치(10)가 상기와 같은 특징을 가지므로, 절단 장치(10)에 의하면, 고가인 부품을 사용하지 않고, 러버(202)에 투영되는 광의 패턴의 형상에 기초하여, 러버(202)의 열화 상태를 검출할 수 있다. Moreover, since the cutting device 10 has the above characteristics, according to the cutting device 10, based on the shape of the pattern of the light projected to the rubber 202, without using expensive parts, the rubber 202 ) can be detected.

[6. 다른 실시 형태] [6. other embodiment]

상기 실시 형태의 사상은, 이상에서 설명된 실시 형태에 한정되지는 않는다. 이하, 상기 실시 형태의 사상을 적용할 수 있는 다른 실시 형태의 일례에 대해서 설명한다. The idea of the said embodiment is not limited to the embodiment demonstrated above. Hereinafter, an example of another embodiment to which the idea of the said embodiment can be applied is demonstrated.

상기 실시 형태에 있어서, 광원(410)에 의해 투영되는 광의 패턴은 선 형상이었다. 그러나, 광의 패턴 형상은 이에 한정되지는 않는다. 광의 패턴 형상은, 예를 들어 원상이어도 되고, 다각 형상이어도 된다. In the above embodiment, the pattern of light projected by the light source 410 was linear. However, the light pattern shape is not limited thereto. The light pattern shape may be, for example, a circular shape or a polygonal shape.

또한, 상기 실시 형태에 있어서, 절단 장치(10)는 워크(W1)의 높이 위치의 검출 기능, 워크(W1)에 형성된 홈의 깊이의 검출 기능, 블레이드(101)의 열화 상태의 검출 기능, 워크(W1)에 형성된 버(511)의 검출 기능 및 러버(202)의 열화 상태의 검출 기능을 갖고 있었다. 그러나, 절단 장치(10)는 반드시 모든 기능을 갖고 있을 필요는 없다. 절단 장치(10)는, 예를 들어 상기 기능 중, 일부의 기능만을 갖고 있어도 된다. Moreover, in the said embodiment, the cutting device 10 has the detection function of the height position of the workpiece|work W1, the detection function of the depth of the groove|channel formed in the workpiece|work W1, the detection function of the deterioration state of the blade 101, the workpiece|work It had the detection function of the burr 511 formed in W1, and the detection function of the deterioration state of the rubber 202. However, the cutting device 10 does not necessarily have to have all the functions. The cutting device 10 may have only some functions among the said functions, for example.

또한, 상기 실시 형태에 있어서는, 스핀들부(110)가 화살표 XY 방향으로 이동하는 것으로 하였다. 그러나, 스핀들부(110)는 반드시 화살표 XY 방향으로 이동하지 않아도 된다. 예를 들어, 스핀들부(110)가 화살표 XY 방향으로 이동하지 않는 대신에, 워크 보유 지지 유닛(200)이 화살표 XY 방향으로 이동함으로써, 워크(W1)를 스핀들부(110)의 하방 절단 위치에 반송하도록 해도 된다. In addition, in the said embodiment, it was assumed that the spindle part 110 moves in arrow XY direction. However, the spindle unit 110 does not necessarily move in the arrow XY direction. For example, instead of the spindle unit 110 not moving in the arrow XY direction, the work holding unit 200 moves in the arrow XY direction, thereby moving the work W1 to the downward cutting position of the spindle unit 110 . You may send it back.

또한, 상기 실시 형태에 있어서는, CCS 블록(300)을 사용함으로써, 스핀들부(110)의 높이 방향에 있어서의 제어 좌표 원점이 검출되었다. 그러나, 스핀들부(110)의 높이 방향에 있어서의 제어 좌표 원점은, 반드시 CCS 블록(300)을 사용함으로써 검출되지 않아도 된다. 스핀들부(110)의 높이 방향에 있어서의 제어 좌표 원점은, 예를 들어 블레이드(101)의 접촉을 검출하는 터치 센서 등을 사용함으로써 검출되어도 된다. 또한, 제어 좌표 원점의 검출 시에 CCS 블록(300) 등에 접촉하는 부분은, 반드시 블레이드(101)일 필요는 없다. 예를 들어, 스핀들부(110)의 블레이드(101) 이외의 부분이 CCS 블록(300) 등에 접촉해도 된다. Moreover, in the said embodiment, the control coordinate origin in the height direction of the spindle part 110 was detected by using the CCS block 300. As shown in FIG. However, the control coordinate origin in the height direction of the spindle unit 110 does not necessarily need to be detected by using the CCS block 300 . The control coordinate origin in the height direction of the spindle unit 110 may be detected, for example, by using a touch sensor that detects the contact of the blade 101 . In addition, the portion in contact with the CCS block 300 or the like when the control coordinate origin is detected does not necessarily have to be the blade 101 . For example, parts other than the blade 101 of the spindle unit 110 may contact the CCS block 300 or the like.

또한, 상기 실시 형태에 따르는 절단 장치(10)에 있어서는, 상기 각종 기능을 실현하기 위해, 별도 촬상 유닛(400)이 마련되었다. 그러나, 상기 각종 기능을 실현하기 위해, 반드시 별도 촬상 유닛(400)이 마련될 필요는 없다. Moreover, in the cutting device 10 which concerns on the said embodiment, in order to implement|achieve the said various functions, the imaging unit 400 was provided separately. However, in order to realize the various functions, a separate imaging unit 400 is not necessarily provided.

도 23은, 절단 장치(10A)의 일부의 평면을 모식적으로 도시하는 도면이다. 도 23에 도시된 바와 같이, 절단 장치(10A)는 상기 실시 형태에 있어서의 촬상 유닛(400)을 포함하고 있지 않다. 23 : is a figure which shows typically the plane of a part of 10 A of cutting devices. As shown in FIG. 23, 10 A of cutting devices do not include the imaging unit 400 in the said embodiment.

절단 장치(10A)는 제1 위치 확인 카메라(700)와, 제2 위치 확인 카메라(800)를 포함하고 있다. 제1 위치 확인 카메라(700) 및 제2 위치 확인 카메라(800)는 도 1에 있어서는 도시하지 않았다. 워크(W1)의 상면에는 소정의 마크가 프린트되어 있다. 이 마크는, 예를 들어 워크(W1)의 절단 위치를 나타낸다. 제1 위치 확인 카메라(700)는 워크(W1)를 촬상하고, 화상 데이터를 생성한다. 제어부(500)는 화상 데이터가 나타내는 마크의 위치에 기초하여, 워크 보유 지지 유닛(200)에 있어서의 워크(W1)의 위치 및 워크(W1)의 절단 위치를 확인한다. 제1 위치 확인 카메라(700)에 의한 촬상은, 워크(W1)의 절단 전에 행해진다. The cutting device 10A includes a first positioning camera 700 and a second positioning camera 800 . The first positioning camera 700 and the second positioning camera 800 are not shown in FIG. 1 . A predetermined mark is printed on the upper surface of the work W1. This mark shows the cut position of the workpiece|work W1, for example. The first positioning camera 700 images the work W1 and generates image data. The control part 500 confirms the position of the workpiece|work W1 in the workpiece|work holding unit 200 and the cut position of the workpiece|work W1 based on the position of the mark which the image data shows. Imaging with the 1st positioning camera 700 is performed before cutting|disconnection of the workpiece|work W1.

또한, 제2 위치 확인 카메라(800)는 절단 후의 워크(W1)를 촬상하고, 화상 데이터를 생성한다. 제어부(500)는 생성된 화상 데이터에 기초하여, 워크 보유 지지 유닛(200)에 있어서의 워크(W1)의 위치, 그리고, 워크(W1)에 있어서의 절단 위치 및 절단폭 등을 확인한다. 제2 위치 확인 카메라(800)에 의해 생성된 화상 데이터에 기초하여, 워크(W1)에 있어서의 절단 위치 및 절단폭 등에 문제가 없을지가 판정된다. Moreover, the 2nd positioning camera 800 images the workpiece|work W1 after cutting, and produces|generates image data. The control unit 500 confirms the position of the work W1 in the work holding unit 200 and the cut position and the cut width of the work W1 based on the generated image data. Based on the image data generated by the second positioning camera 800, it is determined whether there are any problems in the cutting position, the cutting width, etc. in the work W1.

예를 들어, 제1 위치 확인 카메라(700) 또는 제2 위치 확인 카메라(800)가, 상기 실시 형태에 있어서의 촬상 유닛(400)의 구성을 포함하고 있어도 된다. 이와 같이, 기존의 카메라에 촬상 유닛(400)의 구성이 포함됨으로써, 비용 저감 및 공간 절약을 실현할 수 있다. For example, the 1st positioning camera 700 or the 2nd positioning camera 800 may include the structure of the imaging unit 400 in the said embodiment. As described above, since the configuration of the imaging unit 400 is included in the existing camera, cost reduction and space saving can be realized.

또한, 예를 들어 제1 위치 확인 카메라(700)가 촬상 유닛(400)의 구성을 포함하는 경우에는, 워크(W1)의 절단 위치의 확인 시에, 아울러 워크(W1)의 높이 위치가 검출되므로, 워크(W1)의 절단 위치에 있어서의 워크(W1)의 높이 위치가 보다 정확하게 검출된다. In addition, for example, when the first positioning camera 700 includes the configuration of the imaging unit 400, the height position of the workpiece W1 is detected at the time of checking the cutting position of the workpiece W1. , the height position of the work W1 in the cut position of the work W1 is detected more accurately.

또한, 예를 들어 제2 위치 확인 카메라(800)가 촬상 유닛(400)의 구성을 포함하는 경우에는, 워크(W1)의 버에 관한 검출 또는 블레이드(101)의 측면의 마모 상태에 관한 검출 등의 워크(W1)의 절단 후에 행해지는 검출을 최저한의 워크(W1)의 이동으로 실현할 수 있다. In addition, for example, when the second positioning camera 800 includes the configuration of the imaging unit 400, detection related to the burr of the workpiece W1 or detection related to the wear state of the side surface of the blade 101, etc. Detection performed after cutting of the workpiece W1 can be realized with the minimum movement of the workpiece W1.

이상, 본 발명의 실시 형태에 대해서 예시적으로 설명하였다. 즉, 예시적인 설명을 위해, 상세한 설명 및 첨부의 도면이 개시되었다. 따라서, 상세한 설명 및 첨부의 도면에 기재된 구성 요소 중에는, 과제 해결을 위해 필수적이지 않은 구성 요소가 포함되는 경우가 있다. 따라서, 그것들의 필수적이지 않은 구성 요소가 상세한 설명 및 첨부의 도면에 기재되어 있다고 하여, 그것들의 필수적이지 않은 구성 요소가 필수라고 바로 인정되어서는 안된다. In the above, embodiments of the present invention have been exemplarily described. That is, for illustrative purposes, the detailed description and accompanying drawings have been disclosed. Therefore, components that are not essential for solving the problem may be included among the components described in the detailed description and the accompanying drawings. Accordingly, even if those non-essential components are described in the detailed description and the accompanying drawings, it should not be immediately admitted that those non-essential components are essential.

또한, 상기 실시 형태는, 모든 점에 있어서 본 발명의 예시에 지나지 않는다. 상기 실시 형태는, 본 발명의 범위 내에 있어서, 다양한 개량이나 변경이 가능하다. 즉, 본 발명의 실시에 있어서는, 실시 형태에 따라서 구체적 구성을 적절히 채용할 수 있다. In addition, the said embodiment is only an illustration of this invention in all points. Various improvement and change are possible in the said embodiment within the scope of the present invention. That is, in the practice of the present invention, a specific configuration can be appropriately adopted depending on the embodiment.

10 : 절단 장치
100 : 절단 유닛
101 : 블레이드
102 : 스핀들부 본체
103, 104 : 슬라이더
105 : 지지체
110 : 스핀들부
200 : 워크 보유 지지 유닛
201 : 절단 테이블
202 : 러버(흡착 부재의 일례)
300 : CCS 블록
400 : 촬상 유닛
410 : 광원
411 : LED 조명
412 : 광학계
413 : 투영 렌즈
414 : 조리개
415 : 슬릿 부재
420 : 촬상부
500 : 제어부(검출부의 일례)
510 : 단자
511 : 버
700 : 제1 위치 확인 카메라
800 : 제2 위치 확인 카메라
G1, G2 : 가이드
B1 : 구멍
L1-L8 : 광 패턴
P1-P17 : 부분
GR1-GR5 : 홈
W1 : 워크
10: cutting device
100: cutting unit
101 : Blade
102: spindle unit body
103, 104: slider
105: support
110: spindle part
200: work holding unit
201 : cutting table
202: rubber (an example of an adsorption member)
300: CCS block
400: imaging unit
410: light source
411: LED light
412: optical system
413: projection lens
414: aperture
415: slit member
420: imaging unit
500: control unit (an example of a detection unit)
510: terminal
511 : Burr
700: first positioning camera
800: second positioning camera
G1, G2: guide
B1: hole
L1-L8: light pattern
P1-P17: Part
GR1-GR5 : Home
W1: work

Claims (9)

워크를 절단하도록 구성된 절단 장치이며,
상기 워크에 광의 패턴을 투영하도록 구성된 광원과,
상기 광의 패턴을 촬상하고, 제1 화상 데이터를 생성하도록 구성된 촬상부와,
상기 제1 화상 데이터에 기초하여 상기 워크의 높이 위치를 검출하도록 구성된 검출부를 구비하고,
상기 광원이 상기 광의 패턴을 투영하는 방향과, 상기 촬상부가 상기 광의 패턴을 촬상하는 방향에 의해 형성되는 각도는 0°보다도 큰, 절단 장치.
A cutting device configured to cut a workpiece,
a light source configured to project a pattern of light onto the work;
an imaging unit configured to image the pattern of light and generate first image data;
a detection unit configured to detect a height position of the work based on the first image data;
The cutting device whose angle formed by the direction in which the said light source projects the said pattern of light, and the direction in which the said imaging part images the said pattern of light is larger than 0 degree.
제1항에 있어서,
상기 검출부는, 상기 촬상부에 의해 촬상된 상기 광의 패턴 위치에 기초하여, 상기 워크의 높이 위치를 검출하도록 구성되어 있는, 절단 장치.
According to claim 1,
The said detection part is a cutting device comprised so that the height position of the said workpiece|work may be detected based on the pattern position of the said light imaged by the said imaging part.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 워크는, 수지 성형 완료 기판인, 절단 장치.
3. The method of claim 1 or 2,
The said workpiece is a resin-molded board|substrate, The cutting device.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광원은, 상기 워크의 경사 방향으로부터 상기 워크를 향하여 상기 광의 패턴을 투영하도록 구성되어 있는, 절단 장치.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The said light source is comprised so that the pattern of the said light may be projected toward the said workpiece|work from the inclination direction of the said workpiece|work, The cutting device.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
블레이드를 더 구비하고,
상기 워크에는 홈이 형성되어 있고,
상기 광원은, 상기 워크에 있어서의 상기 홈을 포함하는 영역에 상기 광의 패턴을 투영하도록 구성되어 있고,
상기 검출부는, 상기 촬상부에 의해 촬상된 상기 광의 패턴의 형상에 기초하여 상기 블레이드의 마모 상태를 검출하도록 구성되어 있는, 절단 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
A blade is further provided,
A groove is formed in the work,
the light source is configured to project the pattern of light onto a region including the groove in the work;
The said detection part is comprised so that the wear state of the said blade|wing may be detected based on the shape of the said pattern of the said image imaged by the said imaging part, The cutting device.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광원은, 상기 워크에 형성된 금속 단자를 포함하는 영역에 상기 광의 패턴을 투영하도록 구성되어 있고,
상기 검출부는, 상기 촬상부에 의해 촬상된 상기 광의 패턴의 형상에 기초하여 상기 워크의 버에 관한 검출을 행하도록 구성되어 있는, 절단 장치.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The light source is configured to project the pattern of light onto a region including a metal terminal formed on the work;
The said detection part is a cutting device comprised so that the detection regarding the burr of the said workpiece|work may be performed based on the shape of the said pattern of the said light imaged by the said imaging part.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 워크가 적재되는 흡착 부재를 더 구비하고,
상기 광원은, 상기 흡착 부재에 상기 광의 패턴을 투영하도록 구성되어 있고,
상기 촬상부는, 상기 흡착 부재를 촬상하도록 구성되어 있고,
상기 검출부는, 상기 촬상부에 의해 촬상된 상기 흡착 부재에 있어서의 상기 광의 패턴의 형상에 기초하여 상기 흡착 부재의 열화 상태를 검출하도록 구성되어 있는, 절단 장치.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Further comprising an adsorption member on which the work is loaded,
The light source is configured to project the pattern of light onto the adsorption member,
The imaging unit is configured to image the suction member,
The said detection part is comprised so that the deterioration state of the said adsorption|suction member may be detected based on the shape of the said pattern of the said light in the said adsorption|suction member imaged by the said imaging part.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 촬상부는, 상기 워크 상에 형성된 마크를 촬상하고, 제2 화상 데이터를 생성하도록 구성되어 있고,
상기 검출부는, 상기 제2 화상 데이터에 기초하여 상기 워크의 절단 위치를 검출하도록 구성되어 있는, 절단 장치.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
The imaging unit is configured to image a mark formed on the work and generate second image data,
The said detection part is a cutting device comprised so that the cutting position of the said workpiece|work may be detected based on the said 2nd image data.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 절단 장치를 사용한 절단품의 제조 방법이며,
상기 워크에 광의 패턴을 투영하는 스텝과,
상기 광의 패턴을 촬상하고, 화상 데이터를 생성하는 스텝과,
상기 화상 데이터에 기초하여 상기 워크의 높이 위치를 검출하는 스텝과,
상기 워크의 높이 위치에 기초하여 상기 워크를 절단하고, 상기 절단품을 제조하는 스텝을 포함하는, 절단품의 제조 방법.
It is a manufacturing method of the cut product using the cutting device in any one of Claims 1-7,
a step of projecting a pattern of light onto the work;
imaging the pattern of light and generating image data;
detecting a height position of the work based on the image data;
The manufacturing method of the cut product comprising the step of cutting the said workpiece|work based on the height position of the said workpiece|work, and manufacturing the said cut product.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019045418A (en) 2017-09-06 2019-03-22 株式会社ディスコ Height detection device, and laser processing device

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2100092B1 (en) * 2006-12-15 2010-06-23 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Method and device for thickness measurement
JP5248825B2 (en) * 2007-09-06 2013-07-31 株式会社ディスコ Device for detecting the height position of the workpiece held on the chuck table
JP2009094295A (en) * 2007-10-09 2009-04-30 Juki Corp Apparatus for measuring height of electronic component
JP2012242138A (en) * 2011-05-16 2012-12-10 Kobe Steel Ltd Shape measuring device
JP6143668B2 (en) * 2013-12-28 2017-06-07 Towa株式会社 Cutting apparatus and method for manufacturing electronic parts
JP6285784B2 (en) * 2014-04-09 2018-02-28 株式会社ディスコ Height position detector
JP6651257B2 (en) * 2016-06-03 2020-02-19 株式会社ディスコ Workpiece inspection method, inspection device, laser processing device, and expansion device
JP6848385B2 (en) * 2016-11-18 2021-03-24 オムロン株式会社 3D shape measuring device
JP6991668B2 (en) * 2018-02-15 2022-01-12 株式会社ディスコ Processing equipment
JP7219034B2 (en) * 2018-09-14 2023-02-07 株式会社ミツトヨ Three-dimensional shape measuring device and three-dimensional shape measuring method
JP7164411B2 (en) * 2018-11-15 2022-11-01 株式会社ディスコ Laminate processing method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019045418A (en) 2017-09-06 2019-03-22 株式会社ディスコ Height detection device, and laser processing device

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