JP6651257B2 - Workpiece inspection method, inspection device, laser processing device, and expansion device - Google Patents

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Description

本発明は、被加工物を破断する際の起点となる改質層の状態を確認できる被加工物の検査方法や検査装置等に関する。   The present invention relates to an inspection method, an inspection apparatus, and the like for a workpiece, which can confirm a state of a modified layer serving as a starting point when the workpiece is broken.

シリコンやＳｉＣ、サファイア等の材料でなるウェーハを複数のチップへと分割する際には、例えば、透過性のレーザービームを集光して多光子吸収を発生させることで、ウェーハの内部を局所的に改質して改質層（改質領域）を形成する（例えば、特許文献１参照）。この改質層は他の領域に比べて脆いので、後に小さな力を加えるだけで、ウェーハを破断して複数のチップへと分割できる。   When dividing a wafer made of a material such as silicon, SiC, or sapphire into a plurality of chips, for example, by condensing a transparent laser beam to generate multiphoton absorption, the inside of the wafer is locally localized. To form a modified layer (modified region) (for example, see Patent Document 1). Since the modified layer is brittle compared to other regions, the wafer can be broken and divided into a plurality of chips only by applying a small force later.

ところで、上述した方法でウェーハ等の被加工物を分割する際には、被加工物に設定される分割予定ライン（ストリート）に沿って改質層を確実に形成する必要がある。そこで、赤外線領域に感度のあるカメラ等を用いて被加工物の内部を撮像し、改質層の位置を確認する確認方法等が提案されている（例えば、特許文献２参照）。   By the way, when a workpiece such as a wafer is divided by the above-described method, it is necessary to surely form a modified layer along a division line (street) set on the workpiece. Therefore, a confirmation method has been proposed in which the inside of the workpiece is imaged using a camera or the like having sensitivity in the infrared region and the position of the modified layer is confirmed (for example, see Patent Document 2).

特開２００５−２２３２８４号公報JP 2005-223284 A 特開２００５−１６９４０７号公報JP 2005-169407 A

しかしながら、被加工物の内部に形成される改質層の幅は狭く、上述のような確認方法を用いたとしても改質層の状態を容易には把握できない。そのため、被加工物を実際に破断してみるまでは、必要な改質層が形成されているか否かを適切に判定できないというのが実情であった。   However, the width of the modified layer formed inside the workpiece is narrow, and the state of the modified layer cannot be easily grasped even by using the above-described confirmation method. For this reason, the fact is that it is not possible to appropriately determine whether or not a necessary modified layer is formed until the workpiece is actually broken.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、改質層の状態を適切かつ容易に判定できる被加工物の検査方法、検査装置、レーザー加工装置、又は拡張装置を提供することである。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a method for inspecting a workpiece, an inspection apparatus, a laser processing apparatus, or an extension capable of appropriately and easily determining the state of a modified layer. It is to provide a device.

本発明の第１態様によれば、被加工物に対して透過性を有する波長のレーザービームを照射することで、被加工物を破断する際の起点となる改質層を被加工物の内部に形成するとともに、該改質層に対応する凹凸を被加工物の露出した面に生じさせる改質層形成ステップと、光源から放射される光を被加工物の露出した該面で反射させて投影面に照射することで、該凹凸が強調された投影像を形成するとともに、該投影像を撮像して画像を形成する撮像ステップと、該画像に基づいて、該改質層の状態を判定する判定ステップと、を備える被加工物の検査方法が提供される。   According to the first aspect of the present invention, by irradiating the workpiece with a laser beam having a wavelength having transparency, the modified layer serving as a starting point when the workpiece is broken is formed inside the workpiece. And forming a modified layer that causes irregularities corresponding to the modified layer on the exposed surface of the workpiece, and reflecting light emitted from the light source on the exposed surface of the workpiece. By irradiating the projection surface, a projection image in which the unevenness is emphasized is formed, and an imaging step of imaging the projection image to form an image, and determining a state of the modified layer based on the image And a determining step of performing the inspection.

本発明の第１態様において、被加工物は、複数の分割予定ラインによって区画された表面側の領域にデバイスが形成されたウェーハであり、該改質層は、該分割予定ラインに沿って形成されていても良い。   In the first aspect of the present invention, the workpiece is a wafer on which devices are formed in a surface-side region partitioned by a plurality of planned dividing lines, and the modified layer is formed along the planned dividing line. It may be.

また、本発明の第１態様において、該改質層形成ステップの前に、被加工物にダイシングテープを貼着するダイシングテープ貼着ステップと、該改質層形成ステップの後に、該ダイシングテープを拡張して被加工物に力を付与し、該改質層を破断の起点として被加工物を複数のチップに分割する拡張分割ステップと、を備え、該拡張分割ステップは、該撮像ステップと並行して実施されても良い。   Further, in the first aspect of the present invention, before the modified layer forming step, a dicing tape attaching step of attaching a dicing tape to a workpiece, and after the modified layer forming step, the dicing tape is removed. Expanding and applying a force to the workpiece to divide the workpiece into a plurality of chips with the modified layer as a starting point of fracture, the extended dividing step being performed in parallel with the imaging step. It may be implemented.

本発明の第２態様によれば、透過性を有する波長のレーザービームが照射されることで、内部に破断の起点となる改質層が形成されるとともに、露出した面に該改質層に対応する凹凸が生じた被加工物の該改質層を検査するための検査装置であって、被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された被加工物の露出した該面に光を照射する光源と、被加工物で反射された光源からの光を照射することで、該凹凸を強調した投影像が形成される投影面と、該投影面に形成された該投影像を撮像して画像を形成する撮像手段と、形成された該画像と、予め設定された条件とを比較して該改質層の状態を判定する判定手段と、を備える検査装置が提供される。   According to the second aspect of the present invention, by irradiation with a laser beam having a wavelength having transparency, a modified layer serving as a fracture starting point is formed inside, and the modified layer is formed on an exposed surface. An inspection apparatus for inspecting the modified layer of a workpiece having a corresponding unevenness, the holding table holding the workpiece, and the exposed surface of the workpiece held by the holding table. A light source for irradiating light, a light reflected from the workpiece, and a projection surface on which a projection image in which the unevenness is emphasized is formed, and the projection image formed on the projection surface. There is provided an inspection apparatus comprising: an imaging unit that captures an image to form an image; and a determination unit that compares the formed image with a preset condition to determine a state of the modified layer. .

本発明の第３態様によれば、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物にレーザービームを照射することで、被加工物を破断する際の起点となる改質層を被加工物の内部に形成するとともに、該改質層に対応する凹凸を被加工物の露出した面に生じさせるレーザービーム照射手段と、該レーザービームが照射された後の被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された被加工物の露出した該面に光を照射する光源と、被加工物で反射された光源からの光を照射することで、該凹凸を強調した投影像が形成される投影面と、該投影面に形成された該投影像を撮像して画像を形成する撮像手段と、形成された該画像と、予め設定された条件とを比較して該改質層の状態を判定する判定手段と、各構成要素を制御する制御手段と、を備えるレーザー加工装置が提供される。   According to the third aspect of the present invention, a chuck table that holds a workpiece and a workpiece that is held by the chuck table is irradiated with a laser beam to be a starting point when the workpiece is broken. A laser beam irradiating means for forming a modified layer inside the workpiece, and forming irregularities corresponding to the modified layer on an exposed surface of the workpiece, and a workpiece after the laser beam is irradiated; A holding table for holding the object, a light source for irradiating the exposed surface of the workpiece held by the holding table with light, and irradiating light from a light source reflected on the workpiece to form the unevenness. A projection surface on which a projection image is formed by emphasizing the image, imaging means for imaging the projection image formed on the projection surface to form an image, and comparing the formed image with a preset condition. To determine the state of the modified layer When a control unit for controlling the respective components, a laser processing apparatus including a is provided.

本発明の第３態様において、該保持テーブルは、該チャックテーブルでも良い、すなわち、チャックテーブルを保持テーブルとして用いることができる。   In the third aspect of the present invention, the holding table may be the chuck table, that is, the chuck table can be used as a holding table.

本発明の第４態様によれば、透過性を有する波長のレーザービームが照射されることで、内部に破断の起点となる改質層が形成されるとともに、露出した面に該改質層に対応する凹凸が生じた被加工物を、該被加工物に貼着されたダイシングテープを介して支持する支持基台と、該ダイシングテープを拡張する拡張手段と、該被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された被加工物の露出した該面に光を照射する光源と、被加工物で反射された光源からの光を照射することで、該凹凸を強調した投影像が形成される投影面と、該投影面に形成された該投影像を撮像して画像を形成する撮像手段と、形成された該画像と、予め設定された条件とを比較して該改質層の状態を判定する判定手段と、各構成要素を制御する制御手段と、を備える拡張装置が提供される。   According to the fourth aspect of the present invention, the modified layer serving as a fracture starting point is formed inside by being irradiated with a laser beam having a wavelength having transparency, and the modified layer is formed on the exposed surface. A support base for supporting the workpiece having the corresponding unevenness via a dicing tape stuck to the workpiece, an expanding means for expanding the dicing tape, and a holding unit for holding the workpiece A table, a light source that irradiates the exposed surface of the workpiece held by the holding table with light, and a projection image in which the irregularities are emphasized by irradiating light from the light source reflected by the workpiece. A projection surface on which projection images are formed, imaging means for imaging the projection image formed on the projection surface to form an image, and comparing the formed image with a preset condition to perform the modification. Determining means for determining the state of the layer, and a control means for controlling each component If, expansion device comprising a are provided.

本発明の第４態様において、該保持テーブルは、該支持基台でも良い。すなわち、支持基台を保持テーブルとして用いることができる。   In the fourth aspect of the present invention, the holding table may be the support base. That is, the support base can be used as a holding table.

本発明の第１態様に係る被加工物の検査方法では、光源から放射される光を改質層に対応する微細な凹凸が生じた被加工物の面で反射させて投影面に照射することで、面内の凹凸が強調された投影像を形成するとともに、この投影像を撮像して形成される画像に基づいて改質層の状態を判定するので、改質層に対応する強調された凹凸を含む画像に基づいて、改質層の状態を適切かつ容易に判定できる。   In the method for inspecting a workpiece according to the first aspect of the present invention, the light emitted from the light source is reflected on the surface of the workpiece on which the fine unevenness corresponding to the modified layer has occurred, and is irradiated on the projection surface. Thus, a projection image in which in-plane irregularities are emphasized is formed, and the state of the modified layer is determined based on an image formed by capturing the projected image. The state of the modified layer can be appropriately and easily determined based on the image including the irregularities.

また、本発明の第２態様に係る検査装置、第３態様に係るレーザー加工装置、及び第４態様に係る拡張装置は、いずれも、被加工物の露出した面に光を照射する光源と、被加工物で反射された光源からの光が投影されることで、面内の凹凸を強調した投影像が形成される投影面と、投影面に投影された投影像を撮像して画像を形成する撮像手段と、形成された画像と、予め設定された条件とを比較して改質層の状態を判定する判定手段と、を備えるので、上述した被加工物の検査方法を実施して、改質層の状態を適切かつ容易に判定できる。   Further, the inspection apparatus according to the second aspect of the present invention, the laser processing apparatus according to the third aspect, and the expansion apparatus according to the fourth aspect, each of which includes a light source that irradiates the exposed surface of the workpiece with light, The light from the light source reflected from the workpiece is projected to form a projection surface on which a projection image in which in-plane unevenness is emphasized is formed, and a projection image projected on the projection surface is captured to form an image. Imaging means to perform, the formed image, and a determination means for comparing the conditions set in advance to determine the state of the modified layer, so that the inspection method of the workpiece described above is implemented, The state of the modified layer can be determined appropriately and easily.

検査装置の構成例等を模式的に示す図である。It is a figure which shows the example of a structure of an inspection apparatus typically. テープ貼着ステップを模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a tape sticking step typically. 裏面研削ステップを模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a back surface grinding step typically. 裏面研削ステップを模式的に示す側面図である。It is a side view which shows a back surface grinding step typically. 改質層形成ステップを模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows the modified layer formation step typically. 改質層形成ステップを模式的に示す一部断面側面図である。FIG. 4 is a partial cross-sectional side view schematically illustrating a modified layer forming step. 被加工物に適切な改質層が形成された場合の投影像の例を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a projected image when an appropriate modified layer is formed on a workpiece. 被加工物に適切な改質層が形成されていない場合の投影像の例を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a projected image when an appropriate modified layer is not formed on a workpiece. レーザー加工装置の構成例を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view showing typically the example of composition of a laser processing device. 図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）は、拡張装置の構成例及び拡張分割ステップを模式的に示す一部断面側面図である。FIGS. 10A and 10B are partial cross-sectional side views schematically illustrating a configuration example of an expansion device and an expansion division step. 拡張分割ステップの後の投影像の例を示す図である。FIG. 14 is a diagram illustrating an example of a projection image after an extended division step.

添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。図１は、検査装置の構成例等を模式的に示す図である。図１に示すように、本実施形態に係る検査装置２は、改質層（改質領域）が内部に形成された板状の被加工物１１を保持するための保持テーブル４を備えている。保持テーブル４の上面の一部は、被加工物１１（又は被加工物１１に貼付されたテープ（ダイシングテープ）２１）を保持する保持面４ａになっている。   An embodiment according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a diagram schematically illustrating an example of the configuration of an inspection apparatus and the like. As shown in FIG. 1, the inspection apparatus 2 according to the present embodiment includes a holding table 4 for holding a plate-shaped workpiece 11 having a modified layer (modified area) formed therein. . A part of the upper surface of the holding table 4 is a holding surface 4a for holding the workpiece 11 (or a tape (dicing tape) 21 attached to the workpiece 11).

保持テーブル４の上方には、保持テーブル４によって保持される被加工物１１の全体に光Ｌ１を放射するための光源６が配置されている。光源６としては、例えば、白熱電球やＬＥＤ等が用いられる。ただし、光源６の種類や位置等に制限はない。また、光Ｌ１は、平行光でも良いし非平行光でも良い。光Ｌ１を平行光とする場合には、例えば、光源６に対してレンズ等の光学素子を組み合わせると良い。一方で、光Ｌ１を非平行光とする場合には、発光領域が小さく点光源とみなせる光源６を用いることが好ましい。   Above the holding table 4, a light source 6 for emitting light L1 to the entire workpiece 11 held by the holding table 4 is arranged. As the light source 6, for example, an incandescent light bulb or an LED is used. However, there is no limitation on the type, position, and the like of the light source 6. The light L1 may be parallel light or non-parallel light. When the light L1 is a parallel light, for example, an optical element such as a lens may be combined with the light source 6. On the other hand, when the light L1 is non-parallel light, it is preferable to use the light source 6 which has a small light emitting area and can be regarded as a point light source.

図１に示すように、被加工物１１で反射される光Ｌ１の経路（光路）上には、反射後の光Ｌ１を照射することによって投影像が形成される投影面８が設けられている。投影面８は、代表的には、平坦なスクリーンであり、被加工物１１と同程度の大きさに形成される。なお、この投影面８は、少なくとも被加工物１１の全体を投影できる態様（位置、大きさ、形状等）で設けられていれば良い。   As shown in FIG. 1, a projection surface 8 on which a projection image is formed by irradiating the reflected light L1 is provided on a path (light path) of the light L1 reflected by the workpiece 11. . The projection surface 8 is typically a flat screen, and is formed to be approximately the same size as the workpiece 11. The projection surface 8 only needs to be provided in a mode (position, size, shape, and the like) at which the entire workpiece 11 can be projected.

本実施形態では、保持テーブル４の斜め上方に光源６を配置するとともに、被加工物１１で反射される光Ｌ１の経路上に、被加工物１１の裏面１１ｂに対して概ね垂直な投影面８を配置している。そのため、光源６から斜め下方に進行する光Ｌ１を被加工物１１に放射すると、この光Ｌ１は、被加工物１１の露出した面（ここでは、裏面１１ｂ）で反射されて投影面８に照射される。その結果、投影面８には、被加工物１１の露出した面（すなわち、裏面１１ｂ）の状態を反映した投影像が形成される。   In the present embodiment, the light source 6 is disposed obliquely above the holding table 4, and a projection surface 8 substantially perpendicular to the back surface 11 b of the workpiece 11 is provided on the path of the light L <b> 1 reflected by the workpiece 11. Has been arranged. Therefore, when the light L1 traveling obliquely downward from the light source 6 is radiated to the workpiece 11, the light L1 is reflected on the exposed surface (here, the back surface 11b) of the workpiece 11 and irradiates the projection surface 8. Is done. As a result, a projection image reflecting the state of the exposed surface of the workpiece 11 (that is, the back surface 11b) is formed on the projection surface 8.

投影面８と対面する位置には、投影面８に形成される投影像を撮像して画像を形成するための撮像ユニット（撮像手段）１０が配置されている。この撮像ユニット１０は、例えば、ＣＣＤやＣＭＯＳ等の撮像素子にレンズ等の光学素子を組み合わせたデジタルカメラであり、投影像を撮像して形成した画像（映像）を外部へと出力する。なお、この撮像ユニット１０としては、静止画を形成するデジタルスチルカメラ、動画を形成するデジタルビデオカメラのいずれを用いることもできる。   At a position facing the projection plane 8, an imaging unit (imaging means) 10 for imaging a projection image formed on the projection plane 8 to form an image is arranged. The imaging unit 10 is, for example, a digital camera in which an imaging element such as a CCD or a CMOS is combined with an optical element such as a lens, and outputs an image (video) formed by imaging a projection image to the outside. As the imaging unit 10, any of a digital still camera for forming a still image and a digital video camera for forming a moving image can be used.

撮像ユニット１０には、撮像ユニット１０から出力される画像と、予め設定された条件とを比較して、被加工物１１に形成されている改質層の状態を判定するための判定ユニット（判定手段）１２が接続されている。判定ユニット１２で行われる処理等の詳細については後述する。   The imaging unit 10 includes a determination unit (a determination unit) for comparing an image output from the imaging unit 10 with a preset condition to determine the state of the modified layer formed on the workpiece 11. Means) 12 are connected. Details of the processing and the like performed by the determination unit 12 will be described later.

次に、上述した検査装置２を用いる被加工物１１の検査方法の例について説明する。本実施形態に係る被加工物１１の検査方法では、まず、被加工物１１に対してテープ（ダイシングテープ）２１を貼り付けるテープ貼着ステップ（ダイシングテープ貼着ステップ）を実施する。図２は、テープ貼着ステップを模式的に示す斜視図である。   Next, an example of an inspection method of the workpiece 11 using the above-described inspection device 2 will be described. In the method for inspecting the workpiece 11 according to the present embodiment, first, a tape attaching step (dicing tape attaching step) for attaching the tape (dicing tape) 21 to the workpiece 11 is performed. FIG. 2 is a perspective view schematically showing a tape attaching step.

図２に示すように、被加工物１１は、例えば、シリコン、ＳｉＣ、ガラス、サファイア等の材料でなる円盤状のウェーハであり、その表面１１ａ側は、中央のデバイス領域と、デバイス領域を囲む外周余剰領域とに分けられている。デバイス領域は、格子状に設定された複数の分割予定ライン（ストリート）１３で更に複数の領域に区画されており、各領域には、ＩＣ（ＬＳＩ）、ＬＥＤ等のデバイス１５が形成されている。   As shown in FIG. 2, the workpiece 11 is, for example, a disk-shaped wafer made of a material such as silicon, SiC, glass, or sapphire, and the surface 11a side surrounds the central device region and the device region. It is divided into an outer peripheral surplus area. The device region is further divided into a plurality of regions by a plurality of planned dividing lines (streets) 13 set in a lattice shape, and a device 15 such as an IC (LSI) or an LED is formed in each region. .

なお、本実施形態では、シリコン、ＳｉＣ、ガラス、サファイア等の材料でなるウェーハを被加工物１１として用いるが、被加工物１１の材質、形状、構造等に制限はない。例えば、任意の半導体、セラミック、樹脂、金属等の材料でなる被加工物１１を用いることもできる。同様に、分割予定ライン１３の配置やデバイス１５の種類等にも制限はない。   In the present embodiment, a wafer made of a material such as silicon, SiC, glass, and sapphire is used as the workpiece 11, but there is no limitation on the material, shape, structure, and the like of the workpiece 11. For example, a workpiece 11 made of any material such as a semiconductor, ceramic, resin, or metal can be used. Similarly, there is no restriction on the arrangement of the planned dividing lines 13 or the type of the device 15.

テープ貼着ステップでは、上述した被加工物１１の表面１１ａ側に、例えば、保護部材等としての機能を持つテープ２１を貼り付ける。テープ２１は、例えば、被加工物１１と同等以上の大きさ（例えば、直径）に形成された樹脂製のフィルムであり、その第１面２１ａ側には、接着力のある樹脂等でなる接着層（糊層）が設けられている。   In the tape attaching step, for example, a tape 21 having a function as a protective member or the like is attached to the surface 11a of the workpiece 11 described above. The tape 21 is, for example, a resin film formed to have a size (for example, a diameter) equal to or larger than the workpiece 11, and an adhesive made of an adhesive resin or the like on the first surface 21 a side. A layer (glue layer) is provided.

よって、図２に示すように、被加工物１１の表面１１ａ側にテープ２１の第１面２１ａ側を接触させることで、被加工物１１にテープ２１を貼り付けることができる。このようなテープ２１を被加工物１１に貼り付けることで、例えば、後の研削の際に加わる荷重等によるデバイス１５の破損を防止できる。   Therefore, as shown in FIG. 2, by bringing the first surface 21 a of the tape 21 into contact with the surface 11 a of the workpiece 11, the tape 21 can be attached to the workpiece 11. By attaching such a tape 21 to the workpiece 11, it is possible to prevent the device 15 from being damaged due to, for example, a load applied at the time of subsequent grinding.

なお、本実施形態では、被加工物１１と同等の大きさを持つテープ２１を被加工物１１の表面１１ａ側に貼り付けているが、より大きいテープ２１を被加工物１１に貼り付けることもできる。この場合には、テープ２１の外周部分に環状のフレームを固定して、この環状のフレームで被加工物１１を間接的に支持できるようにすると良い。   In the present embodiment, the tape 21 having the same size as the workpiece 11 is attached to the surface 11 a of the workpiece 11, but a larger tape 21 may be attached to the workpiece 11. it can. In this case, an annular frame may be fixed to the outer peripheral portion of the tape 21 so that the workpiece 11 can be indirectly supported by the annular frame.

テープ貼着ステップの後には、被加工物１１の裏面１１ｂを研削して被加工物１１を所定の厚みにする裏面研削ステップを実施する。図３は、裏面研削ステップを模式的に示す斜視図であり、図４は、裏面研削ステップを模式的に示す側面図である。裏面研削ステップは、例えば、図３及び図４に示す研削装置２２で実施される。   After the tape attaching step, a back surface grinding step of grinding the back surface 11b of the workpiece 11 to make the workpiece 11 have a predetermined thickness is performed. FIG. 3 is a perspective view schematically illustrating the back surface grinding step, and FIG. 4 is a side view schematically illustrating the back surface grinding step. The back surface grinding step is performed by, for example, the grinding device 22 illustrated in FIGS. 3 and 4.

研削装置２２は、被加工物１１を吸引、保持するためのチャックテーブル２４を備えている。チャックテーブル２４は、モータ等の回転駆動源（不図示）に連結されており、鉛直方向に概ね平行な回転軸の周りに回転する。また、チャックテーブル２４の下方には、テーブル移動機構（不図示）が設けられており、チャックテーブル２４は、このテーブル移動機構によって水平方向に移動する。   The grinding device 22 includes a chuck table 24 for sucking and holding the workpiece 11. The chuck table 24 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis substantially parallel to the vertical direction. A table moving mechanism (not shown) is provided below the chuck table 24, and the chuck table 24 is horizontally moved by the table moving mechanism.

チャックテーブル２４の上面の一部は、被加工物１１に貼り付けられたテープ２１の第２面２１ｂ側を吸引、保持する保持面２４ａとなっている。この保持面２４ａには、チャックテーブル２４の内部に形成された流路（不図示）等を通じて吸引源（不図示）の負圧が作用し、テープ２１を吸引するための吸引力が発生する。   A part of the upper surface of the chuck table 24 is a holding surface 24a that sucks and holds the second surface 21b side of the tape 21 attached to the workpiece 11. A negative pressure of a suction source (not shown) acts on the holding surface 24a through a flow path (not shown) formed inside the chuck table 24, and a suction force for sucking the tape 21 is generated.

チャックテーブル２４の上方には、研削ユニット２６が配置されている。研削ユニット２６は、研削ユニット昇降機構（不図示）に支持されたスピンドルハウジング（不図示）を備える。スピンドルハウジングには、スピンドル２８が収容されており、スピンドル２８の下端部には、円盤状のマウント３０が固定されている。このマウント３０の下面には、マウント３０と概ね同径の研削ホイール３２が装着される。   Above the chuck table 24, a grinding unit 26 is arranged. The grinding unit 26 includes a spindle housing (not shown) supported by a grinding unit elevating mechanism (not shown). A spindle 28 is accommodated in the spindle housing, and a disc-shaped mount 30 is fixed to a lower end of the spindle 28. A grinding wheel 32 having substantially the same diameter as the mount 30 is mounted on the lower surface of the mount 30.

研削ホイール３２は、ステンレス、アルミニウム等の金属材料で形成されたホイール基台３４を備えている。ホイール基台３４の下面には、複数の研削砥石３６が環状に配列されている。スピンドル２８の上端側（基端側）には、モータ等の回転駆動源（不図示）が連結されており、研削ホイール３２は、この回転駆動源から伝達される回転力によって、鉛直方向に概ね平行な回転軸の周りに回転する。   The grinding wheel 32 includes a wheel base 34 formed of a metal material such as stainless steel and aluminum. A plurality of grinding wheels 36 are annularly arranged on the lower surface of the wheel base 34. A rotational drive source (not shown) such as a motor is connected to the upper end side (base end side) of the spindle 28, and the grinding wheel 32 is substantially vertically moved by the rotational force transmitted from the rotational drive source. Rotate around parallel axes of rotation.

裏面研削ステップでは、まず、被加工物１１に貼り付けられているテープ２１の第２面２１ｂをチャックテーブル２４の保持面２４ａに接触させて、吸引源の負圧を作用させる。これにより、被加工物１１は、裏面１１ｂ側が上方に露出した状態でチャックテーブル２４に吸引、保持される。   In the back surface grinding step, first, the second surface 21b of the tape 21 affixed to the workpiece 11 is brought into contact with the holding surface 24a of the chuck table 24 to apply the negative pressure of the suction source. As a result, the workpiece 11 is sucked and held on the chuck table 24 with the back surface 11b side exposed upward.

次に、チャックテーブル２４を研削ホイール３２の下方に移動させる。そして、図３及び図４に示すように、チャックテーブル２４と研削ホイール３２とをそれぞれ回転させ、純水等の研削液を供給しながらスピンドルハウジング（スピンドル２８）を下降させる。スピンドルハウジングの下降量は、被加工物１１の裏面１１ｂに研削砥石３６の下面が押し当てられる程度に調整される。   Next, the chuck table 24 is moved below the grinding wheel 32. Then, as shown in FIGS. 3 and 4, the chuck table 24 and the grinding wheel 32 are respectively rotated, and the spindle housing (spindle 28) is lowered while supplying a grinding liquid such as pure water. The lowering amount of the spindle housing is adjusted to such an extent that the lower surface of the grinding wheel 36 is pressed against the back surface 11b of the workpiece 11.

これにより、裏面１１ｂ側を研削して被加工物１１を薄くできる。この裏面研削ステップは、例えば、被加工物１１の厚みを測定しながら遂行される。被加工物１１が所定の厚み（代表的には、デバイスチップの仕上がり厚み）まで薄くなると、裏面研削ステップは終了する。   Thereby, the back surface 11b side is ground and the workpiece 11 can be thinned. This back grinding step is performed, for example, while measuring the thickness of the workpiece 11. When the workpiece 11 is thinned to a predetermined thickness (typically, the finished thickness of the device chip), the back surface grinding step ends.

裏面研削ステップの後には、被加工物１１に対して透過性を有する波長のレーザービームを被加工物１１に照射、集光して、被加工物１１を破断する際の起点となる改質層を被加工物１１の内部に形成する改質層形成ステップを実施する。図５は、改質層形成ステップを模式的に示す斜視図であり、図６は、改質層形成ステップを模式的に示す一部断面側面図である。改質層形成ステップは、例えば、図５及び図６に示すレーザー加工装置４２で実施される。   After the back surface grinding step, a laser beam having a wavelength that is transparent to the workpiece 11 is irradiated on the workpiece 11 and condensed, and the modified layer serving as a starting point when the workpiece 11 is broken. Is performed inside the workpiece 11 to form a modified layer. FIG. 5 is a perspective view schematically showing a modified layer forming step, and FIG. 6 is a partial cross-sectional side view schematically showing the modified layer forming step. The modified layer forming step is performed by, for example, the laser processing device 42 illustrated in FIGS. 5 and 6.

レーザー加工装置４２は、被加工物１１を吸引、保持するためのチャックテーブル４４を備えている。チャックテーブル４４は、モータ等の回転駆動源（不図示）に連結されており、鉛直方向に概ね平行な回転軸の周りに回転する。また、チャックテーブル４４の下方には、テーブル移動機構（不図示）が設けられており、チャックテーブル４４は、このテーブル移動機構によって水平方向に移動する。   The laser processing device 42 includes a chuck table 44 for sucking and holding the workpiece 11. The chuck table 44 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis substantially parallel to the vertical direction. A table moving mechanism (not shown) is provided below the chuck table 44, and the chuck table 44 is horizontally moved by the table moving mechanism.

チャックテーブル４４の上面の一部は、被加工物１１に貼り付けられたテープ２１の第２面２１ｂ側を吸引、保持する保持面４４ａとなっている。この保持面４４ａには、チャックテーブル４４の内部に形成された流路（不図示）等を通じて吸引源（不図示）の負圧が作用し、テープ２１を吸引するための吸引力が発生する。   A part of the upper surface of the chuck table 44 serves as a holding surface 44a for sucking and holding the second surface 21b side of the tape 21 attached to the workpiece 11. A negative pressure of a suction source (not shown) acts on the holding surface 44a through a flow path (not shown) formed inside the chuck table 44, and a suction force for sucking the tape 21 is generated.

チャックテーブル４４の上方には、レーザー照射ユニット４６が配置されている。レーザー照射ユニット４６に隣接する位置には、被加工物１１を撮像するための撮像ユニット４８が設置されている。レーザー照射ユニット４６は、レーザー発振器（不図示）でパルス発振されたレーザービームＬ２を所定の位置に照射、集光する。レーザー発振器は、被加工物１１に対して透過性を有する波長（吸収され難い波長）のレーザービームＬ２をパルス発振できるように構成されている。   Above the chuck table 44, a laser irradiation unit 46 is arranged. At a position adjacent to the laser irradiation unit 46, an imaging unit 48 for imaging the workpiece 11 is installed. The laser irradiation unit 46 irradiates a laser beam L2 pulse-oscillated by a laser oscillator (not shown) onto a predetermined position and condenses the laser beam L2. The laser oscillator is configured to be able to pulse-oscillate a laser beam L2 having a wavelength (a wavelength that is hardly absorbed) having a transmittance to the workpiece 11.

改質層形成ステップでは、まず、被加工物１１に貼り付けられているテープ２１の第２面２１ｂをチャックテーブル４４の保持面４４ａに接触させて、吸引源の負圧を作用させる。これにより、被加工物１１は、裏面１１ｂ側が上方に露出した状態でチャックテーブル４４に吸引、保持される。   In the modified layer forming step, first, the second surface 21b of the tape 21 attached to the workpiece 11 is brought into contact with the holding surface 44a of the chuck table 44 to apply a negative pressure of the suction source. Thereby, the workpiece 11 is sucked and held on the chuck table 44 in a state where the back surface 11b side is exposed upward.

次に、被加工物１１を保持したチャックテーブル４４を移動、回転させて、レーザー照射ユニット４６を加工対象の分割予定ライン１３の端部に合わせる。そして、レーザー照射ユニット４６から被加工物１１の裏面１１ｂに向けてレーザービームＬ２を照射しつつ、チャックテーブル４４を加工対象の分割予定ライン１３に平行な方向に移動させる。すなわち、被加工物１１の裏面１１ｂ側から分割予定ライン１３に沿ってレーザービームＬ２を照射する。   Next, the chuck table 44 holding the workpiece 11 is moved and rotated to align the laser irradiation unit 46 with the end of the division line 13 to be processed. Then, the chuck table 44 is moved in a direction parallel to the planned division line 13 to be processed while irradiating the laser beam L2 from the laser irradiation unit 46 toward the back surface 11b of the workpiece 11. That is, the laser beam L2 is irradiated from the back surface 11b side of the workpiece 11 along the line 13 to be divided.

この時、レーザービームＬ２の集光点の位置を被加工物１１の内部に合せておく。これにより、レーザービームＬ２の集光点近傍を多光子吸収で改質して、加工対象の分割予定ライン１３に沿う改質層（改質領域）１７を形成できる。チャックテーブル４４の移動、回転と、レーザービームＬ２の照射、集光とを繰り返し、例えば、全ての分割予定ライン１３に沿って改質層１７が形成されると、改質層形成ステップは終了する。   At this time, the position of the focal point of the laser beam L2 is adjusted to the inside of the workpiece 11. This makes it possible to modify the vicinity of the focal point of the laser beam L2 by multiphoton absorption to form a modified layer (modified area) 17 along the planned dividing line 13 to be processed. The movement and rotation of the chuck table 44 and the irradiation and focusing of the laser beam L2 are repeated, and, for example, when the modified layer 17 is formed along all the planned dividing lines 13, the modified layer forming step is completed. .

なお、この改質層形成ステップで被加工物１１にレーザービームＬ２を照射、集光すると、レーザービームＬ２の集光点近傍で被加工物１１が膨張し、表面１１ａ及び裏面１１ｂの改質層１７に対応する位置には目視できない程度の微細な凸部（代表的には、サブミクロン単位）が形成される。すなわち、被加工物１１の内部に改質層１７が形成されるのとほぼ同じタイミングで凸部が形成され、改質層形成ステップが終了した状態では、改質層１７に対応する微細な凹凸が被加工物１１の表面１１ａ及び裏面１１ｂに存在する。   When the laser beam L2 is irradiated and focused on the workpiece 11 in this modified layer forming step, the workpiece 11 expands near the focal point of the laser beam L2, and the modified layer on the front surface 11a and the rear surface 11b is formed. Fine protrusions (typically in submicron units) are formed at positions corresponding to 17 so as to be invisible. That is, the projections are formed at substantially the same timing as the modified layer 17 is formed inside the workpiece 11, and when the modified layer forming step is completed, the fine unevenness corresponding to the modified layer 17 is formed. Exist on the front surface 11a and the back surface 11b of the workpiece 11.

本実施形態に係る被加工物の検査方法では、この凹凸を利用して改質層１７の状態を判定する。具体的には、改質層形成ステップの後に、光Ｌ１を被加工物１１で反射させて凹凸が強調された投影像を形成するとともに、撮像ユニット１２で投影像を撮像して画像を形成する撮像ステップを実施する。   In the method of inspecting a workpiece according to the present embodiment, the state of the modified layer 17 is determined using the unevenness. Specifically, after the modified layer forming step, the light L <b> 1 is reflected by the workpiece 11 to form a projection image in which unevenness is emphasized, and the imaging unit 12 captures the projection image to form an image. Perform an imaging step.

撮像ステップは、上述した検査装置２で実施される。まず、被加工物１１を保持テーブル４に載せる。具体的には、図１に示すように、被加工物１１に貼り付けられているテープ２１の第２面２１ｂを保持テーブル４の保持面４ａに接触させる。これにより、被加工物１１は、裏面１１ｂ側が上方に露出した状態で保持テーブル４に保持される。   The imaging step is performed by the inspection device 2 described above. First, the workpiece 11 is placed on the holding table 4. Specifically, as shown in FIG. 1, the second surface 21 b of the tape 21 attached to the workpiece 11 is brought into contact with the holding surface 4 a of the holding table 4. Thereby, the workpiece 11 is held on the holding table 4 in a state where the back surface 11b side is exposed upward.

次に、図１に示すように、光源６から光Ｌ１を放射する。光源６は、保持テーブル４によって保持される被加工物１１の全体に対して光Ｌ１を照射できる態様（位置、向き等）で設けられている。よって、光源６から放射された光Ｌ１は、被加工物１１の裏面１１ｂで反射される。   Next, as shown in FIG. 1, the light source 6 emits light L1. The light source 6 is provided in such a manner that the light L1 can be irradiated to the entire workpiece 11 held by the holding table 4 (position, direction, and the like). Therefore, the light L <b> 1 emitted from the light source 6 is reflected on the back surface 11 b of the workpiece 11.

また、被加工物１１で反射される光Ｌ１の経路上には、投影面８が配置されている。よって、被加工物１１の裏面１１ｂで反射された光Ｌ１は、投影面８に照射され、被加工物１１の裏面１１ｂの状態に応じた投影像が形成される。図７は、被加工物１１に適切な改質層１７が形成された場合の投影像の例を示す図である。   Further, a projection surface 8 is arranged on the path of the light L1 reflected by the workpiece 11. Therefore, the light L1 reflected on the back surface 11b of the workpiece 11 is irradiated on the projection surface 8, and a projection image corresponding to the state of the back surface 11b of the workpiece 11 is formed. FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a projected image when an appropriate modified layer 17 is formed on the workpiece 11.

被加工物１１の裏面１１ｂは、改質層１７による微細な凸部を除いて概ね平坦である。つまり、裏面１１ｂの凸部を除く領域に照射された光Ｌ１は、裏面１１ｂでの反射後にも殆ど拡散しない。一方で、裏面１１ｂの凸部に照射された光Ｌ１は、凸部の凸面鏡のような機能で拡散される。   The back surface 11b of the workpiece 11 is substantially flat except for fine projections due to the modified layer 17. In other words, the light L1 applied to the area other than the convex portion of the back surface 11b hardly diffuses even after being reflected on the back surface 11b. On the other hand, the light L1 applied to the convex portion of the back surface 11b is diffused by a function like a convex mirror of the convex portion.

よって、被加工物１１の裏面１１ｂで反射された光Ｌ１を投影面８に照射すると、図７に示すような投影像３１が得られる。この投影像３１では、改質層１７に対応する凹凸が強調されて影３３になる。その後、撮像ユニット１０で投影像３１を撮像し、投影像３１の情報を含む画像を形成する。撮像ユニット１０によって形成された画像が判定ユニット１２に送られると、撮像ステップは終了する。   Therefore, when the light L1 reflected on the back surface 11b of the workpiece 11 is irradiated on the projection surface 8, a projection image 31 as shown in FIG. 7 is obtained. In the projected image 31, the unevenness corresponding to the modified layer 17 is emphasized to be a shadow 33. After that, the projection image 31 is captured by the imaging unit 10, and an image including information of the projection image 31 is formed. When the image formed by the imaging unit 10 is sent to the determination unit 12, the imaging step ends.

撮像ステップの後には、撮像ユニット１０で形成された画像と、予め設定された条件とを比較して改質層１７の状態を判定する判定ステップを実施する。図７に示すように、被加工物１１の破断に適した改質層１７が形成されている場合には、例えば、改質層１７に対応して形成される影３３の幅も太くなる。   After the imaging step, a determination step of comparing the image formed by the imaging unit 10 with a preset condition to determine the state of the modified layer 17 is performed. As shown in FIG. 7, when the modified layer 17 suitable for breaking the workpiece 11 is formed, for example, the width of the shadow 33 formed corresponding to the modified layer 17 becomes large.

よって、この影３３の幅を画像処理等によって検出し、あらかじめ設定しておいた基準の幅（基準値、条件）と比較することで、適切な改質層１７が形成されているか否かを判定できる。具体的には、例えば、影３３の幅が基準値以上の場合に、判定ユニット１２は、適切な改質層１７が形成されていると判定する。一方で、影３３の幅が基準値より狭い場合、判定ユニット１２は、適切な改質層１７が形成されていないと判定する。   Therefore, the width of the shadow 33 is detected by image processing or the like, and is compared with a predetermined reference width (reference value, condition) to determine whether or not the appropriate modified layer 17 is formed. Can be determined. Specifically, for example, when the width of the shadow 33 is equal to or larger than the reference value, the determination unit 12 determines that the appropriate modified layer 17 is formed. On the other hand, when the width of the shadow 33 is smaller than the reference value, the determination unit 12 determines that the appropriate modified layer 17 is not formed.

なお、撮像ユニット１０によって形成される画像内の領域を複数の微小な領域（微笑領域）に区画して、各微小領域内で検出される影３３の幅を基準値と比較することで、各微小領域において適切な改質層１７が形成されているか否かを判定できる。また、この方法を用いれば、適切な改質層１７が形成されていない不良領域の位置を特定することもできる。   Note that by dividing an area in an image formed by the imaging unit 10 into a plurality of minute areas (smile areas) and comparing the width of the shadow 33 detected in each minute area with a reference value, It can be determined whether or not the appropriate modified layer 17 is formed in the minute region. Further, by using this method, it is possible to specify the position of the defective area where the appropriate modified layer 17 is not formed.

図８は、被加工物１１に適切な改質層１７が形成されていない場合の投影像３１の例を示す図である。図８に示すように、適切な改質層１７が形成されていない場合には、投影像３１中に影３３の幅が基準値より狭い不良領域３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄが存在する。各微小領域に適切な改質層１７が形成されているか否かを判定する上述の方法で、この不良領域３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄの位置を特定できる。   FIG. 8 is a diagram illustrating an example of the projected image 31 when the appropriate modified layer 17 is not formed on the workpiece 11. As shown in FIG. 8, when the appropriate modified layer 17 is not formed, defective areas 35 a, 35 b, 35 c, and 35 d in which the width of the shadow 33 is smaller than the reference value exist in the projected image 31. The position of the defective regions 35a, 35b, 35c, and 35d can be specified by the above-described method of determining whether an appropriate modified layer 17 is formed in each minute region.

被加工物１１中に不良領域３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄが見つかった場合には、例えば、改質層形成ステップを再び実施し、不良領域３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄに改質層１７を形成しても良い。また、その後の加工不良を防止できるように、改質層形成ステップの加工条件を変更しても良い。   When the defective regions 35a, 35b, 35c, and 35d are found in the workpiece 11, for example, the modified layer forming step is performed again to form the modified layer 17 in the defective regions 35a, 35b, 35c, and 35d. You may. In addition, the processing conditions in the modified layer forming step may be changed so that subsequent processing defects can be prevented.

以上のように、本実施形態に係る被加工物の検査方法では、光源６から放射される光Ｌ１を改質層１７に対応する微細な凹凸が生じた被加工物１１の裏面１１ｂで反射させて投影面８に照射することで、面内の凹凸が強調された投影像３１を形成するとともに、この投影像３１を撮像して形成される画像に基づいて改質層１７の状態を判定するので、改質層１７に対応する強調された凹凸を含む画像に基づいて、改質層１７の状態を適切かつ容易に判定できる。   As described above, in the method for inspecting a workpiece according to the present embodiment, the light L1 emitted from the light source 6 is reflected by the back surface 11b of the workpiece 11 on which the fine irregularities corresponding to the modified layer 17 are formed. By irradiating the projection surface 8 with the projection image 8, a projection image 31 in which in-plane unevenness is emphasized is formed, and the state of the modified layer 17 is determined based on an image formed by capturing the projection image 31. Therefore, the state of the modified layer 17 can be appropriately and easily determined based on the image including the emphasized unevenness corresponding to the modified layer 17.

また、本実施形態に係る検査装置２は、被加工物１１の裏面（露出した面）１１ｂに光Ｌ１を照射する光源６と、被加工物１１で反射された光源６からの光Ｌ１が投影されることで、面内の凹凸を強調した投影像３１が形成される投影面８と、投影面８に投影された投影像３１を撮像して画像を形成する撮像ユニット（撮像手段）１０と、形成された画像と、予め設定された条件とを比較して改質層１７の状態を判定する判定ユニット（判定手段）１２と、を備えるので、上述した被加工物の検査方法を実施して、改質層１７の状態を適切かつ容易に判定できる。   In addition, the inspection apparatus 2 according to the present embodiment projects the light source 6 that irradiates the back surface (exposed surface) 11b of the work 11 with the light L1 and the light L1 from the light source 6 reflected by the work 11 As a result, a projection surface 8 on which a projection image 31 in which in-plane unevenness is enhanced is formed, and an imaging unit (imaging means) 10 which captures the projection image 31 projected on the projection surface 8 to form an image. , A judgment unit (judgment means) 12 for judging the state of the modified layer 17 by comparing the formed image with a preset condition. Thus, the state of the modified layer 17 can be determined appropriately and easily.

なお、本発明は上記実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施形態に係る検査装置２をレーザー加工装置に組み込んでも良い。図９は、検査装置２が組み込まれたレーザー加工装置の構成例を模式的に示す斜視図である。図９に示すように、レーザー加工装置１０２は、各構造を支持する基台１０４を備えている。基台１０４の端部には、Ｚ軸方向（鉛直方向、高さ方向）に延在する支持構造１０６が設けられている。   The present invention is not limited to the description of the above embodiment, and can be implemented with various modifications. For example, the inspection device 2 according to the above embodiment may be incorporated in a laser processing device. FIG. 9 is a perspective view schematically illustrating a configuration example of a laser processing device in which the inspection device 2 is incorporated. As shown in FIG. 9, the laser processing apparatus 102 includes a base 104 that supports each structure. At an end of the base 104, a support structure 106 extending in the Z-axis direction (vertical direction, height direction) is provided.

支持構造１０６から離れた基台１０４の角部には、上方に突き出た突出部１０４ａが設けられている。突出部１０４ａの内部には空間が形成されており、この空間には、昇降可能なカセットエレベータ１０８が設置されている。カセットエレベータ１０８の上面には、複数の被加工物１１を収容可能なカセット１１０が載せられる。   At a corner of the base 104 away from the support structure 106, a protruding portion 104a protruding upward is provided. A space is formed inside the protruding portion 104a, and a cassette elevator 108 that can move up and down is installed in this space. On an upper surface of the cassette elevator 108, a cassette 110 capable of storing a plurality of workpieces 11 is placed.

突出部１０４ａに近接する位置には、上述した被加工物１１を仮置きするための仮置き機構１１２が設けられている。仮置き機構１１２は、例えば、Ｙ軸方向（割り出し送り方向）に平行な状態を維持しながら接近、離隔される一対のガイドレール１１２ａ，１１２ｂを含む。   At a position close to the protruding portion 104a, a temporary placement mechanism 112 for temporarily placing the workpiece 11 described above is provided. The temporary placing mechanism 112 includes, for example, a pair of guide rails 112a and 112b approached and separated while maintaining a state parallel to the Y-axis direction (indexing direction).

各ガイドレール１１２ａ，１１２ｂは、被加工物１１（環状のフレーム）を支持する支持面と、支持面に概ね垂直な側面とを備え、搬送機構（不図示）によってカセット１１０から引き出された被加工物１１（環状のフレーム）をＸ軸方向（加工送り方向）において挟み込んで所定の位置に合わせる。   Each of the guide rails 112a and 112b has a support surface that supports the workpiece 11 (annular frame) and a side surface that is substantially perpendicular to the support surface, and the workpiece that is pulled out of the cassette 110 by a transport mechanism (not shown). The object 11 (annular frame) is sandwiched in the X-axis direction (processing feed direction) and adjusted to a predetermined position.

基台１０４の中央には、移動機構（加工送り機構、割り出し送り機構）１１６が設けられている。移動機構１１６は、基台１０４の上面に配置されＹ軸方向に平行な一対のＹ軸ガイドレール１１８を備えている。Ｙ軸ガイドレール１１８には、Ｙ軸移動テーブル１２０がスライド可能に取り付けられている。   At the center of the base 104, a moving mechanism (processing feed mechanism, index feed mechanism) 116 is provided. The moving mechanism 116 includes a pair of Y-axis guide rails 118 arranged on the upper surface of the base 104 and parallel to the Y-axis direction. A Y-axis moving table 120 is slidably attached to the Y-axis guide rail 118.

Ｙ軸移動テーブル１２０の裏面側（下面側）には、ナット部（不図示）が設けられており、このナット部には、Ｙ軸ガイドレール１１８に平行なＹ軸ボールネジ１２２が螺合されている。Ｙ軸ボールネジ１２２の一端部には、Ｙ軸パルスモータ１２４が連結されている。Ｙ軸パルスモータ１２４でＹ軸ボールネジ１２２を回転させれば、Ｙ軸移動テーブル１２０は、Ｙ軸ガイドレール１１８に沿ってＹ軸方向に移動する。   A nut (not shown) is provided on the back side (lower side) of the Y-axis moving table 120, and a Y-axis ball screw 122 parallel to the Y-axis guide rail 118 is screwed to the nut. I have. A Y-axis pulse motor 124 is connected to one end of the Y-axis ball screw 122. When the Y-axis ball screw 122 is rotated by the Y-axis pulse motor 124, the Y-axis moving table 120 moves in the Y-axis direction along the Y-axis guide rail 118.

Ｙ軸移動テーブル１２０の表面（上面）には、Ｘ軸方向に平行な一対のＸ軸ガイドレール１２６が設けられている。Ｘ軸ガイドレール１２６には、Ｘ軸移動テーブル１２８がスライド可能に取り付けられている。   On the surface (upper surface) of the Y-axis moving table 120, a pair of X-axis guide rails 126 parallel to the X-axis direction are provided. An X-axis moving table 128 is slidably attached to the X-axis guide rail 126.

Ｘ軸移動テーブル１２８の裏面側（下面側）には、ナット部（不図示）が設けられており、このナット部には、Ｘ軸ガイドレール１２６に平行なＸ軸ボールネジ１３０が螺合されている。Ｘ軸ボールネジ１３０の一端部には、Ｘ軸パルスモータ（不図示）が連結されている。Ｘ軸パルスモータでＸ軸ボールネジ１３０を回転させれば、Ｘ軸移動テーブル１２８は、Ｘ軸ガイドレール１２６に沿ってＸ軸方向に移動する。   A nut (not shown) is provided on the back surface (lower surface side) of the X-axis moving table 128, and an X-axis ball screw 130 parallel to the X-axis guide rail 126 is screwed into the nut. I have. An X-axis pulse motor (not shown) is connected to one end of the X-axis ball screw 130. When the X-axis ball screw 130 is rotated by the X-axis pulse motor, the X-axis moving table 128 moves in the X-axis direction along the X-axis guide rail 126.

Ｘ軸移動テーブル１２８の表面側（上面側）には、テーブルベース１３２が設けられている。テーブルベース１３２の上部には、被加工物１１を吸引、保持するためのチャックテーブル（保持テーブル）１３４が配置されている。チャックテーブル１３４の周囲には、被加工物１１を支持する環状のフレームを四方から固定する４個のクランプ１３６が設けられている。   A table base 132 is provided on the front side (upper side) of the X-axis moving table 128. Above the table base 132, a chuck table (holding table) 134 for sucking and holding the workpiece 11 is arranged. Around the chuck table 134, four clamps 136 for fixing an annular frame that supports the workpiece 11 from four sides are provided.

チャックテーブル１３４は、モータ等の回転駆動源（不図示）に連結されており、Ｚ軸方向（鉛直方向、高さ方向）に概ね平行な回転軸の周りに回転する。上述した移動機構１１６でＸ軸移動テーブル１２８をＸ軸方向に移動させれば、チャックテーブル１３４はＸ軸方向に加工送りされる。また、移動機構１１６でＹ軸移動テーブル１２０をＹ軸方向に移動させれば、チャックテーブル１３４はＹ軸方向に割り出し送りされる。   The chuck table 134 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis substantially parallel to the Z-axis direction (vertical direction, height direction). If the X-axis moving table 128 is moved in the X-axis direction by the moving mechanism 116 described above, the chuck table 134 is processed and fed in the X-axis direction. If the moving mechanism 116 moves the Y-axis moving table 120 in the Y-axis direction, the chuck table 134 is indexed and fed in the Y-axis direction.

チャックテーブル１３４の上面は、被加工物１１を保持する保持面１３４ａとなっている。この保持面１３４ａは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に対して概ね平行に形成されており、チャックテーブル１３４やテーブルベース１３２の内部に形成された流路（不図示）等を通じて吸引源（不図示）に接続されている。   The upper surface of the chuck table 134 is a holding surface 134a that holds the workpiece 11. The holding surface 134a is formed substantially parallel to the X-axis direction and the Y-axis direction, and is provided with a suction source (not shown) through a flow path (not shown) formed inside the chuck table 134 or the table base 132. )It is connected to the.

支持構造１０６には、基台１０４の中央側に向けて突出する支持アーム１０６ａが設けられており、この支持アーム１０６ａの先端部には、下方に向けてレーザービームを照射するレーザー照射ユニット１３８が配置されている。また、レーザー照射ユニット１３８に隣接する位置には、被加工物１１を撮像する撮像ユニット１４０が設置されている。   The support structure 106 is provided with a support arm 106a protruding toward the center of the base 104. A laser irradiation unit 138 for irradiating a laser beam downward is provided at the tip of the support arm 106a. Are located. At a position adjacent to the laser irradiation unit 138, an imaging unit 140 for imaging the workpiece 11 is provided.

レーザー照射ユニット１３８は、被加工物１１に対して透過性を有する波長のレーザービームをパルス発振するレーザー発振器（不図示）を備えている。例えば、シリコン等の半導体材料でなる被加工物１１に改質層１７を形成したい場合には、波長が１０６４ｎｍのレーザービームをパルス発振するＮｄ：ＹＡＧ等のレーザー媒質を備えたレーザー発振器を用いることができる。   The laser irradiation unit 138 includes a laser oscillator (not shown) that oscillates a laser beam having a wavelength that is transparent to the workpiece 11 in a pulsed manner. For example, when it is desired to form the modified layer 17 on the workpiece 11 made of a semiconductor material such as silicon, a laser oscillator having a laser medium such as Nd: YAG that oscillates a laser beam having a wavelength of 1064 nm is used. Can be.

また、レーザー照射ユニット１３８は、レーザー発振器からパルス発振されたレーザービームを集光する集光器（不図示）を備えており、チャックテーブル１３４に保持された被加工物１１等に対してこのレーザービームを照射、集光する。レーザー照射ユニット１３８でレーザービームを照射しながら、チャックテーブル１３４をＸ軸方向に加工送りさせることで、被加工物１１をＸ軸方向に沿ってレーザー加工（改質）できる。   The laser irradiation unit 138 includes a condenser (not shown) that collects a laser beam pulse-oscillated from a laser oscillator, and applies the laser beam to the workpiece 11 and the like held on the chuck table 134. Irradiate and focus the beam. By processing and feeding the chuck table 134 in the X-axis direction while irradiating the laser beam with the laser irradiation unit 138, the workpiece 11 can be laser-processed (modified) along the X-axis direction.

加工後の被加工物１１は、例えば、仮置き機構１１２に隣接する検査装置２の保持テーブル４へと搬送される。支持構造１０６の保持テーブル４側には、投影面８が形成されている。なお、図９では、検査装置２の構成の一部を省略している。検査装置２で検査された被加工物１１は、例えば、搬送機構で仮置き機構１１２に載せられ、カセット１１０に収容される。   The processed workpiece 11 is conveyed to the holding table 4 of the inspection device 2 adjacent to the temporary placing mechanism 112, for example. A projection surface 8 is formed on the holding table 4 side of the support structure 106. In FIG. 9, a part of the configuration of the inspection apparatus 2 is omitted. The workpiece 11 inspected by the inspection device 2 is placed on the temporary placing mechanism 112 by a transport mechanism, for example, and is accommodated in the cassette 110.

搬送機構、移動機構１１６、チャックテーブル１３４、レーザー照射ユニット１３８、撮像ユニット１４０等の構成要素は、それぞれ、制御ユニット（制御手段）１４２に接続されている。この制御ユニット１４２は、被加工物１１の加工に必要な一連の工程に合わせて、上述した各構成要素を制御する。   Components such as the transport mechanism, the moving mechanism 116, the chuck table 134, the laser irradiation unit 138, and the imaging unit 140 are connected to a control unit (control means) 142, respectively. The control unit 142 controls the above-described components in accordance with a series of steps required for processing the workpiece 11.

なお、レーザー加工装置１０２のチャックテーブル１３４に検査装置２の保持テーブル４としての機能を持たせても良い。このように、チャックテーブル１３４を保持テーブル４として用いることで、保持テーブル４を省略できる。この場合には、光源６、投影面８、撮像ユニット（撮像手段）１０等をチャックテーブル１３４に合わせて配置することになる。同様に、制御ユニット１４２に検査装置２の判定ユニット１２としての機能を持たせても良い。この場合、判定ユニット１２を省略できる。   Note that the chuck table 134 of the laser processing apparatus 102 may have a function as the holding table 4 of the inspection apparatus 2. By using the chuck table 134 as the holding table 4, the holding table 4 can be omitted. In this case, the light source 6, the projection surface 8, the imaging unit (imaging means) 10, and the like are arranged in accordance with the chuck table 134. Similarly, the control unit 142 may have a function as the determination unit 12 of the inspection device 2. In this case, the determination unit 12 can be omitted.

また、上記実施形態に係る検査装置２を、テープ（ダイシングテープ）を拡張するための拡張装置に組み込んでも良い。図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）は、検査装置２が組み込まれた拡張装置の構成例及びこの拡張装置を用いる拡張分割ステップを模式的に示す一部断面側面図である。なお、この拡張装置を用いる場合には、上述したテープ貼着ステップ（ダイシングテープ貼着ステップ）等において、被加工物１１より径の大きいテープ４１を被加工物１１に貼り付け、テープ４１の外周部分に環状のフレーム４３を固定しておく。   Further, the inspection device 2 according to the above-described embodiment may be incorporated in an expansion device for expanding a tape (dicing tape). FIGS. 10A and 10B are partial cross-sectional side views schematically illustrating a configuration example of an extension device in which the inspection device 2 is incorporated and an extension division step using the extension device. When this expanding device is used, a tape 41 having a larger diameter than the workpiece 11 is attached to the workpiece 11 in the above-described tape attaching step (dicing tape attaching step), and the outer periphery of the tape 41 is removed. An annular frame 43 is fixed to the portion.

図１０（Ａ）及び図１０（Ｂ）に示すように、拡張装置５２は、テープ４１及びフレーム４３を介して被加工物１１を側方から支持する支持構造（保持テーブル）５４と、テープ４１を介して被加工物１１を下方から支持する円筒状の拡張ドラム（支持基台、保持テーブル）５６と、を備えている。例えば、拡張ドラム５６の内径は、被加工物１１の直径より大きく、拡張ドラム５６の外径は、テープ４１に固定されるフレーム４３の内径より小さい。   As shown in FIGS. 10A and 10B, the expansion device 52 includes a support structure (holding table) 54 that supports the workpiece 11 from the side via the tape 41 and the frame 43, and a tape 41. And a cylindrical expansion drum (support base, holding table) 56 that supports the workpiece 11 from below through the base. For example, the inner diameter of the expansion drum 56 is larger than the diameter of the workpiece 11, and the outer diameter of the expansion drum 56 is smaller than the inner diameter of the frame 43 fixed to the tape 41.

支持構造５４は、フレーム４１を支持するフレーム支持テーブル５８を含む。このフレーム支持テーブル５８の上面は、テープ４１の外周部分に固定されたフレーム４３を支持する支持面となっている。フレーム支持テーブル５８の外周部分には、フレーム４１を固定するための複数のクランプ６０が設けられている。   The support structure 54 includes a frame support table 58 that supports the frame 41. The upper surface of the frame support table 58 is a support surface for supporting the frame 43 fixed to the outer peripheral portion of the tape 41. A plurality of clamps 60 for fixing the frame 41 are provided on an outer peripheral portion of the frame support table 58.

支持構造５４の下方には、昇降機構（拡張手段）６２が設けられている。昇降機構６２は、下方の基台（不図示）に固定されたシリンダケース６４と、シリンダケース６４に挿入されたピストンロッド６６とを備えている。ピストンロッド６６の上端部には、フレーム支持テーブル５８が固定されている。   Below the support structure 54, an elevating mechanism (expansion means) 62 is provided. The lifting mechanism 62 includes a cylinder case 64 fixed to a lower base (not shown) and a piston rod 66 inserted into the cylinder case 64. A frame support table 58 is fixed to the upper end of the piston rod 66.

この昇降機構６２は、拡張ドラム５６の上端に等しい高さの基準位置と、拡張ドラム５６の上端より下方の拡張位置との間でフレーム支持テーブル５８の上面（支持面）が移動するように、支持構造５４を昇降させる。昇降機構６２の動作は、例えば、昇降機構６２に接続された制御ユニット（制御手段）６８によって制御される。   The lifting mechanism 62 moves the upper surface (support surface) of the frame support table 58 between a reference position having a height equal to the upper end of the extension drum 56 and an extension position below the upper end of the extension drum 56. The support structure 54 is raised and lowered. The operation of the lifting mechanism 62 is controlled by, for example, a control unit (control means) 68 connected to the lifting mechanism 62.

支持構造５４及び拡張ドラム５６の上方には、検査装置２を構成する光源６、投影面８、撮像ユニット（撮像手段）１０等が配置されている。なお、この拡張装置５２の支持構造５４や拡張ドラム５６は、検査装置２の保持テーブル４として機能する。もちろん、支持構造５４や拡張ドラム５６とは別に、保持テーブル４を設けても良い。   Above the support structure 54 and the expansion drum 56, a light source 6, a projection surface 8, an imaging unit (imaging means) 10, and the like that constitute the inspection device 2 are arranged. The support structure 54 and the expansion drum 56 of the expansion device 52 function as the holding table 4 of the inspection device 2. Of course, the holding table 4 may be provided separately from the support structure 54 and the extension drum 56.

テープ４１を拡張して被加工物１１を分割する拡張分割ステップを実施する際には、まず、図１０（Ａ）に示すように、基準位置に移動させたフレーム支持テーブル５８の上面にフレーム４３を載せ、このフレーム４３をクランプ６０で固定する。これにより、拡張ドラム５６の上端は、被加工物１１とフレーム４３との間でテープ４１に接触する。   When performing the extended dividing step of dividing the workpiece 11 by expanding the tape 41, first, as shown in FIG. 10A, the frame 43 is placed on the upper surface of the frame support table 58 moved to the reference position. And the frame 43 is fixed by the clamp 60. Thereby, the upper end of the expansion drum 56 contacts the tape 41 between the workpiece 11 and the frame 43.

次に、昇降機構６２で支持構造５４を下降させ、図１０（Ｂ）に示すように、フレーム支持テーブル５８の上面を拡張ドラム５６の上端より下方の拡張位置に移動させる。その結果、拡張ドラム５６はフレーム支持テーブル５８に対して上昇し、テープ４１は拡張ドラム５６で押し上げられるようにして放射状に拡張される。   Next, the support structure 54 is lowered by the elevating mechanism 62, and the upper surface of the frame support table 58 is moved to an extended position below the upper end of the extended drum 56, as shown in FIG. As a result, the expansion drum 56 rises with respect to the frame support table 58, and the tape 41 is radially expanded so as to be pushed up by the expansion drum 56.

テープ４１が拡張されると、被加工物１１にはテープ４１を拡張する方向の力（放射状の力）が付与される。これにより、被加工物１１は、改質層１７を破断の起点として複数のチップへと分割され、更に、隣接するチップ同士の間隔が拡げられる。この拡張分割ステップの前後には、例えば、上述した撮像ステップを実施して、被加工物１１を検査すると良い。   When the tape 41 is expanded, a force (radial force) in a direction in which the tape 41 is expanded is applied to the workpiece 11. As a result, the workpiece 11 is divided into a plurality of chips with the modified layer 17 as a starting point of breakage, and the interval between adjacent chips is further increased. Before and after this extended division step, for example, the above-described imaging step may be performed to inspect the workpiece 11.

図１１は、拡張分割ステップの後の投影像の例を示す図である。拡張分割ステップにおいて被加工物１１が複数のチップへと分割され、隣接するチップ同士の間隔が拡げられると、影３３の幅も広くなる。また、改質層１７を起点に分割されたチップには、被加工物１１の研削時に発生する応力（内部応力）が残留しているので、この応力によって、チップは僅かに湾曲した状態になる。これにより、チップに放射された光Ｌ１は僅かに集光され、チップ同士の間隔が更に強調された影３３を含む投影像が得られる。   FIG. 11 is a diagram illustrating an example of a projection image after the extended division step. When the workpiece 11 is divided into a plurality of chips in the extended dividing step, and the distance between adjacent chips is increased, the width of the shadow 33 is also increased. Moreover, since the stress (internal stress) generated when the workpiece 11 is ground remains in the chip divided from the modified layer 17 as a starting point, the chip is slightly curved by this stress. . Thus, the light L1 emitted to the chip is slightly condensed, and a projection image including the shadow 33 in which the interval between the chips is further enhanced is obtained.

よって、この影３３の幅を画像処理等によって検出し、あらかじめ設定しておいた基準の幅（基準値、条件）と比較することで、被加工物１１が適切に分割されたか否か、チップ同士の間隔が適切か否か等を確実に判定できる。なお、被加工物１１の裏面１１ｂを研削する研削ステップを実施していない場合には、デバイス１５等のパターンを形成する際に発生する応力（内部応力）が被加工物１１に残留した状態になる。この応力によるチップの湾曲によって、影３３を強調する同様の効果が得られる。   Therefore, the width of the shadow 33 is detected by image processing or the like, and is compared with a preset reference width (reference value, condition) to determine whether or not the workpiece 11 is appropriately divided. It is possible to reliably determine whether or not the interval between them is appropriate. When the grinding step for grinding the back surface 11b of the workpiece 11 is not performed, the stress (internal stress) generated when forming the pattern of the device 15 or the like remains in the workpiece 11. Become. A similar effect of enhancing the shadow 33 can be obtained by bending the tip due to this stress.

なお、拡張分割ステップと並行（同時）に撮像ステップを実施しても良い。例えば、撮像ユニット６としてハイスピード撮影のできるビデオカメラを用い、拡張分割ステップ中の投影像３１を撮像することで、破断の進行状況を確認できる。そして、この確認の結果に基づいて、テープ４１を拡張する際の速度や拡張の方向、テープ４１の種類等を設定することで、被加工物１１をより確実に分割できるようになる。   Note that the imaging step may be performed in parallel (simultaneously) with the extended division step. For example, by using a video camera capable of high-speed shooting as the imaging unit 6 and capturing the projection image 31 during the extended division step, the progress of the break can be confirmed. Then, based on the result of this confirmation, by setting the speed and direction of expansion of the tape 41, the type of the tape 41, and the like, the workpiece 11 can be divided more reliably.

また、制御ユニット６８に検査装置２の判定ユニット１２としての機能を持たせても良い。この場合、判定ユニット１２を省略できる。   Further, the control unit 68 may have a function as the determination unit 12 of the inspection device 2. In this case, the determination unit 12 can be omitted.

なお、上記実施形態では、改質層形成ステップの前に裏面研削ステップを実施しているが、裏面研削ステップ等を省略することもできる。また、改質層形成ステップの後に裏面研削ステップを実施しても良い。また、上記実施形態では、被加工物１１の裏面１１ｂを露出させているが、被加工物１１の表面１１ａを露出させる場合にも同様の方法で被加工物１１を検査できる。   In the above embodiment, the back surface grinding step is performed before the modified layer forming step, but the back surface grinding step and the like can be omitted. Further, a back surface grinding step may be performed after the modified layer forming step. In the above embodiment, the back surface 11b of the workpiece 11 is exposed. However, the workpiece 11 can be inspected in the same manner when the front surface 11a of the workpiece 11 is exposed.

その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。   In addition, the structure, method, and the like according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented without departing from the scope of the object of the present invention.

１１ 被加工物
１１ａ 表面
１１ｂ 裏面
１３ 分割予定ライン（ストリート）
１５ デバイス
１７ 改質層（改質領域）
２１ テープ（ダイシングテープ）
２１ａ 第１面
２１ｂ 第２面
３１ 投影像
３３ 影
３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ 不良領域
４１ テープ（ダイシングテープ）
４３ フレーム
Ｌ１ 光
Ｌ２ レーザービーム
２ 検査装置
４ 保持テーブル
４ａ 保持面
６ 光源
８ 投影面
１０ 撮像ユニット（撮像手段）
１２ 判定ユニット（判定手段）
２２ 研削装置
２４ チャックテーブル
２４ａ 保持面
２６ 研削ユニット
２８ スピンドル
３０ マウント
３２ 研削ホイール
３４ ホイール基台
３６ 研削砥石
４２ レーザー加工装置
４４ チャックテーブル
４４ａ 保持面
４６ レーザー照射ユニット
４８ 撮像ユニット
５２ 拡張装置
５４ 支持構造（保持テーブル）
５６ 拡張ドラム（支持基台、保持テーブル）
５８ フレーム支持テーブル
６０ クランプ
６２ 昇降機構（拡張手段）
６４ シリンダケース
６６ ピストンロッド
６８ 制御ユニット（制御手段）
１０２ レーザー加工装置
１０４ 基台
１０４ａ 突出部
１０６ 支持構造
１０６ａ 支持アーム
１０８ カセットエレベータ
１１０ カセット
１１２ 仮置き機構
１１２ａ，１１２ｂ ガイドレール
１１６ 移動機構（加工送り機構、割り出し送り機構）
１１８ Ｙ軸ガイドレール
１２０ Ｙ軸移動テーブル
１２２ Ｙ軸ボールネジ
１２４ Ｙ軸パルスモータ
１２６ Ｘ軸ガイドレール
１２８ Ｘ軸移動テーブル
１３０ Ｘ軸ボールネジ
１３２ テーブルベース
１３４ チャックテーブル（保持テーブル）
１３４ａ 保持面
１３６ クランプ
１３８ レーザー照射ユニット
１４０ 撮像ユニット
１４２ 制御ユニット（制御手段） 11 Workpiece 11a Front surface 11b Back surface 13 Planned dividing line (street)
15 Device 17 Reformed layer (reformed area)
21 tape (dicing tape)
21a first surface 21b second surface 31 projected image 33 shadow 35a, 35b, 35c, 35d defective area 41 tape (dicing tape)
43 frame L1 light L2 laser beam 2 inspection device 4 holding table 4a holding surface 6 light source 8 projection surface 10 imaging unit (imaging means)
12 Judgment unit (judgment means)
22 Grinding Device 24 Chuck Table 24a Holding Surface 26 Grinding Unit 28 Spindle 30 Mount 32 Grinding Wheel 34 Wheel Base 36 Grinding Wheel 42 Laser Processing Device 44 Chuck Table 44a Holding Surface 46 Laser Irradiation Unit 48 Imaging Unit 52 Expansion Device 54 Supporting Structure ( Holding table)
56 Expansion drum (support base, holding table)
58 Frame support table 60 Clamp 62 Elevating mechanism (expansion means)
64 Cylinder case 66 Piston rod 68 Control unit (control means)
Reference Signs List 102 Laser processing device 104 Base 104a Projection 106 Support structure 106a Support arm 108 Cassette elevator 110 Cassette 112 Temporary placement mechanism 112a, 112b Guide rail 116 Moving mechanism (processing feed mechanism, index feed mechanism)
118 Y axis guide rail 120 Y axis moving table 122 Y axis ball screw 124 Y axis pulse motor 126 X axis guide rail 128 X axis moving table 130 X axis ball screw 132 table base 134 chuck table (holding table)
134a Holding surface 136 Clamp 138 Laser irradiation unit 140 Imaging unit 142 Control unit (control means)

Claims (8)

被加工物に対して透過性を有する波長のレーザービームを照射することで、被加工物を破断する際の起点となる改質層を被加工物の内部に形成するとともに、該改質層に対応する凹凸を被加工物の露出した面に生じさせる改質層形成ステップと、
光源から放射される光を被加工物の露出した該面で反射させて投影面に照射することで、該凹凸が強調された投影像を形成するとともに、該投影像を撮像して画像を形成する撮像ステップと、
該画像に基づいて、該改質層の状態を判定する判定ステップと、を備えることを特徴とする被加工物の検査方法。 By irradiating the workpiece with a laser beam having a wavelength having transparency, a modified layer serving as a starting point when the workpiece is broken is formed inside the workpiece, and the modified layer is formed on the modified layer. A modified layer forming step of producing corresponding unevenness on the exposed surface of the workpiece,
The light emitted from the light source is reflected on the exposed surface of the workpiece to irradiate the projection surface, thereby forming a projection image in which the irregularities are emphasized, and capturing the projection image to form an image. Imaging step;
Determining a state of the modified layer based on the image. 被加工物は、複数の分割予定ラインによって区画された表面側の領域にデバイスが形成されたウェーハであり、
該改質層は、該分割予定ラインに沿って形成されていることを特徴とする請求項１に記載の被加工物の検査方法。 The workpiece is a wafer in which devices are formed in a surface-side region partitioned by a plurality of planned dividing lines,
The method for inspecting a workpiece according to claim 1, wherein the modified layer is formed along the dividing line. 該改質層形成ステップの前に、被加工物にダイシングテープを貼着するダイシングテープ貼着ステップと、
該改質層形成ステップの後に、該ダイシングテープを拡張して被加工物に力を付与し、該改質層を破断の起点として被加工物を複数のチップに分割する拡張分割ステップと、を備え、
該拡張分割ステップは、該撮像ステップと並行して実施されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の被加工物の検査方法。 Before the modified layer forming step, a dicing tape attaching step of attaching a dicing tape to the workpiece,
An expanding division step of expanding the dicing tape to apply a force to the workpiece after the modified layer forming step, and dividing the workpiece into a plurality of chips by using the modified layer as a starting point of fracture; Prepared,
The inspection method for a workpiece according to claim 1, wherein the extension division step is performed in parallel with the imaging step. 透過性を有する波長のレーザービームが照射されることで、内部に破断の起点となる改質層が形成されるとともに、露出した面に該改質層に対応する凹凸が生じた被加工物の該改質層を検査するための検査装置であって、
被加工物を保持する保持テーブルと、
該保持テーブルに保持された被加工物の露出した該面に光を照射する光源と、
被加工物で反射された光源からの光を照射することで、該凹凸を強調した投影像が形成される投影面と、
該投影面に形成された該投影像を撮像して画像を形成する撮像手段と、
形成された該画像と、予め設定された条件とを比較して該改質層の状態を判定する判定手段と、を備えることを特徴とする検査装置。 By being irradiated with a laser beam having a wavelength having transparency, a modified layer serving as a starting point of fracture is formed inside, and a workpiece having an uneven surface corresponding to the modified layer on an exposed surface is formed. An inspection device for inspecting the modified layer,
A holding table for holding the workpiece,
A light source for irradiating the exposed surface of the workpiece held by the holding table with light;
By irradiating light from a light source reflected by the workpiece, a projection surface on which a projection image that emphasizes the irregularities is formed,
Imaging means for imaging the projection image formed on the projection surface to form an image,
An inspection apparatus comprising: a determination unit configured to compare the formed image with a preset condition to determine a state of the modified layer. 被加工物を保持するチャックテーブルと、
該チャックテーブルに保持された被加工物にレーザービームを照射することで、被加工物を破断する際の起点となる改質層を被加工物の内部に形成するとともに、該改質層に対応する凹凸を被加工物の露出した面に生じさせるレーザービーム照射手段と、
該レーザービームが照射された後の被加工物を保持する保持テーブルと、
該保持テーブルに保持された被加工物の露出した該面に光を照射する光源と、
被加工物で反射された光源からの光を照射することで、該凹凸を強調した投影像が形成される投影面と、
該投影面に形成された該投影像を撮像して画像を形成する撮像手段と、
形成された該画像と、予め設定された条件とを比較して該改質層の状態を判定する判定手段と、
各構成要素を制御する制御手段と、を備えることを特徴とするレーザー加工装置。 A chuck table for holding the workpiece,
By irradiating the workpiece held by the chuck table with a laser beam, a modified layer serving as a starting point when the workpiece is broken is formed inside the workpiece, and the modified layer corresponding to the modified layer is formed. A laser beam irradiating means for generating unevenness on the exposed surface of the workpiece,
A holding table for holding the workpiece after the laser beam has been irradiated,
A light source for irradiating the exposed surface of the workpiece held by the holding table with light;
By irradiating light from a light source reflected by the workpiece, a projection surface on which a projection image that emphasizes the irregularities is formed,
Imaging means for imaging the projection image formed on the projection surface to form an image,
Determining means for determining the state of the modified layer by comparing the formed image with a preset condition;
A laser processing apparatus comprising: a control unit that controls each component. 該保持テーブルは、該チャックテーブルであることを特徴とする請求項５に記載のレーザー加工装置。   The laser processing apparatus according to claim 5, wherein the holding table is the chuck table. 透過性を有する波長のレーザービームが照射されることで、内部に破断の起点となる改質層が形成されるとともに、露出した面に該改質層に対応する凹凸が生じた被加工物を、該被加工物に貼着されたダイシングテープを介して支持する支持基台と、
該ダイシングテープを拡張する拡張手段と、
該被加工物を保持する保持テーブルと、
該保持テーブルに保持された被加工物の露出した該面に光を照射する光源と、
被加工物で反射された光源からの光を照射することで、該凹凸を強調した投影像が形成される投影面と、
該投影面に形成された該投影像を撮像して画像を形成する撮像手段と、
形成された該画像と、予め設定された条件とを比較して該改質層の状態を判定する判定手段と、
各構成要素を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする拡張装置。 By being irradiated with a laser beam having a wavelength having transparency, a modified layer serving as a fracture starting point is formed inside, and a workpiece having irregularities corresponding to the modified layer on an exposed surface is formed. , A support base for supporting via a dicing tape stuck to the workpiece,
Expansion means for expanding the dicing tape;
A holding table for holding the workpiece,
A light source for irradiating the exposed surface of the workpiece held by the holding table with light;
By irradiating light from a light source reflected by the workpiece, a projection surface on which a projection image that emphasizes the irregularities is formed,
Imaging means for imaging the projection image formed on the projection surface to form an image,
Determining means for determining the state of the modified layer by comparing the formed image with a preset condition;
Control means for controlling each component. 該保持テーブルは、該支持基台であることを特徴とする請求項７に記載の拡張装置。   The expansion device according to claim 7, wherein the holding table is the support base.
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