KR20220008889A - 코팅 부재 및 코팅 부재의 제조 방법 - Google Patents

코팅 부재 및 코팅 부재의 제조 방법 Download PDF

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가즈히토 고바야시
다케키 호소카와
다쿠마 오카다
가즈야 다카하시
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니폰 페인트 오토모티브 코팅스 가부시키가이샤
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Abstract

반사 방지성과 의장성이 모두 향상된 코팅 부재를 제공한다. 본 발명은 기층과, 광간섭층 형성 조성물로 형성된 광간섭층을 갖는 코팅 부재로서, 상기 기층의 시인 측의 면에 있어서의 적어도 일부에, 상기 광간섭층이 배치되고, 상기 광간섭층은, 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위 내에서, 0.08＜(상기 기층의 굴절률)-(상기 광간섭층의 굴절률)＜0.45의 관계를 갖고, 상기 광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물이고, 상기 광간섭층은, 잉크젯법에 의해 형성된 광간섭층인, 코팅 부재를 제공한다.

Description

코팅 부재 및 코팅 부재의 제조 방법
본 개시는, 코팅 부재 및 코팅 부재의 제조 방법에 관한 것이다.
디스플레이는, 컴퓨터, 텔레비전, 휴대 전화, 휴대 정보 단말 기기(태블릿 퍼스널 컴퓨터, 모바일 기기 및 전자수첩 등)에 더하여, 디지털 미터, 인스트루먼트 패널, 내비게이션, 콘솔 패널, 센터 클러스터 및 히터 컨트롤 패널 등의 차재용 표시 패널로 예시되는 바와 같이, 다양한 분야에서 사용되고 있다. 이와 같은 제품은, 많은 경우, 반사 방지 기능을 갖는 필름 및 도막이 마련되고 있다.
일본 특허공개 2012-088684호 공보(특허문헌 1)에는, 예를 들면 액정 디스플레이의 표시부에 대해서 관찰자 측에 배치되고, 표시 영역과 비표시 영역을 갖는 표시용 전면판으로서, 표시 영역에 반사 방지막이 형성되고, 비표시 영역에 의장층이 형성된 표시용 전면판이 개시되어 있다.
일본 특허공개 2012-088684호 공보
특허문헌 1에 개시되는 바와 같이, 근년의 디스플레이 제품에 있어서는, 반사 방지성뿐만 아니라, 의장성을 구비할 것이 요구되고 있다.
그러나, 특허문헌 1에 기재되어 있는 표시용 전면판은, 표시 영역과 비표시 영역의 계면과, 반사 방지막이 존재하는 영역과 반사 방지막이 존재하지 않는 영역의 계면을 맞추는 공정이 필요하고, 게다가, 반사 방지막이 존재하는 영역과, 반사 방지막이 존재하지 않는 영역은, 상이한 막 재료로 형성된다. 따라서, 특허문헌 1의 표시용 전면판은, 표시 영역과 비표시 영역의 경계 부분에 있어서, 광 누설, 광의 난반사 등이 생길 우려가 있다. 또한, 충분한 의장성을 발휘할 수 없을 우려가 있다.
또, 근년, 디스플레이에는, 여러 가지 센서를 마련하는 경향이 있다. 이 때문에, 금후, 디스플레이 제품의 최표층 등에 배치되는 반사 방지막, 의장층 중 어느 것에 있어서도, 이들 센서가 갖는 기능을 저해하지 않을 것이 요구될 것으로 예측된다.
본 발명은 상기 과제를 해결하는 것으로, 그 목적은, 반사 방지성과 의장성을 모두 향상시킬 수 있는 코팅 부재를 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 하기 형태를 제공한다.
[1] 본 개시의 코팅 부재는, 기층(基層)과, 광간섭층 형성 조성물로 형성된 광간섭층을 갖는 코팅 부재로서,
기층의 시인 측의 면에 있어서의 일부에, 광간섭층이 배치되고,
광간섭층은, 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위 내이며,
0.08＜(상기 기층의 굴절률)-(상기 광간섭층의 굴절률)＜0.45의 관계를 갖고,
광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물이고,
광간섭층은, 잉크젯법에 의해 형성된 광간섭층이다.
[2] 다른 실시형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는, 기층과, 광간섭층 형성 조성물로 형성된 광간섭층을 갖는 코팅 부재로서,
기층의 시인 측의 면에 있어서의 적어도 일부에, 광간섭층이 배치되고,
광간섭층은, 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위 내에서,
최소 두께(tmin)와 최대 두께(tmax)를 갖고, 또한
최소 두께(tmin)＜최대 두께(tmax)의 관계를 가지며,
0.08＜(상기 기층의 굴절률)-(상기 광간섭층의 굴절률)＜0.45의 관계를 갖고,
상기 광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물이고,
상기 광간섭층은, 잉크젯법에 의해 형성된 광간섭층인,
코팅 부재.
[3] 일 실시형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는,
기층에 있어서의 색상의 L값, a값 및 b값을, L(i), a(i) 및 b(i)로 하고,
광간섭층의 두께 t(nm)에 있어서의 색상의 L값, a값 및 b값을, Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)로 하고,
여기에서, t는 0nm보다 크고 600nm 이하이며,
기층에 있어서의 L(i), a(i) 및 b(i)과,
광간섭층에 있어서의, 두께 t(nm)에서의 Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)가, 이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시키는,
코팅 부재;
0＜L(i)-Lt(ii)＜35 식(1)
-30＜a(i)-at(ii)＜30 식(2)
-40＜b(i)-bt(ii)＜40 식(3).
[4] 일 실시형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는,
기층에 있어서의 색상의 L값, a값 및 b값을, L(i), a(i) 및 b(i)로 하고,
광간섭층에 있어서의, 두께 t(nm)에서의 색상의 L값, a값 및 b값을, Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)로 하고,
여기에서, t는 0nm보다 크고 600nm 이하이며,
기층에 있어서의 색상과, 광간섭층에 있어서의, 두께 t(nm)에서의 색상의 차 ΔE가
1＜ΔE＜50의 관계를 나타낸다.
[5] 일 실시형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는, 광간섭층 형성 조성물이, 수지 고형분 100질량부에 대해, 300질량부 이상 9900질량부의 유기 용매를 포함한다.
[6] 일 실시형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는, 광간섭층 형성 조성물이, 광간섭층 형성 수지 성분을 포함하고, 광간섭층 형성 수지 성분은, 불포화 이중 결합을 갖고, 활성 에너지선 경화형의 수지 성분이다.
[7] 일 실시형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는, 광간섭층 형성 조성물이, 다작용 아크릴레이트 및 불소 수지를 포함한다.
[8] 일 실시형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는, 광간섭층 형성 조성물이, 다작용 아크릴레이트 및 실리콘 변성 아크릴레이트 및 불소 수지를 포함한다.
[9] 일 실시형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는, 차량의 실내에 이용하는 가식용 부재이다.
[10] 다른 실시형태에 있어서, 본 개시는, 코팅 부재의 제조 방법으로서,
기층의 시인 측의 면에 있어서의 적어도 일부에, 광간섭층 형성 조성물을 잉크젯법에 의해 도장하는 것, 및
활성 에너지선을 조사하여, 광간섭층을 형성하는 것
을 포함하는 코팅 부재의 제조 방법을 제공한다.
본 개시의 코팅 부재는, 우수한 반사 방지성과 의장성을 가질 수 있다.
도 1a는 기층의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 1b는 실시예 1의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 2는 실시예 2의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 3은 실시예 3의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 4는 실시예 4의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 5는 실시예 5의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 6은 실시예 6의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 7은 실시예 7의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 8은 실시예 8의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 9는 실시예 9의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 10은 실시예 10의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 11은 실시예 11의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 12는 실시예 12의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 13은 실시예 13의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 14는 실시예 14의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 15는 실시예 15의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 16은 실시예 16의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 17은 실시예 17의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
도 18은 실시예 18의 코팅 부재의 반사율에 관한 측정 결과이다.
본 발명을 완성시키기에 이른 경위를 설명한다. 본원 발명자들은, 전술한 과제를 해결하기 위해서, 여러 가지 검토를 행했다.
예를 들면, 반사 방지성을 향상시키면, 의장성이 단조로워지는 경향이 있었다. 한편, 의장성을 향상시키면, 코팅 부재를 제조하는 공정이 복잡해지는 경향이 있었다.
또, 특허문헌 1에 기재되는 바와 같이, 반사 방지 기능을 갖는 영역을 형성하는 공정과, 의장성을 갖는 영역을 형성하는 공정을 거쳐 얻어진 코팅 부재는, 이들의 경계 영역에 있어서, 광의 반사가 생기거나, 광 누설이 생기거나 할 뿐만 아니라, 의장성이 단순해질 수 있을 우려가 있었다.
그래서, 본원 발명자들은, 예의 검토한 결과, 본 발명을 완성시켜, 상기 과제를 해결할 수 있는 코팅 부재를 완성시켰다.
본 개시에 따른 코팅 부재는,
기층과, 광간섭층 형성 조성물로 형성된 광간섭층을 갖는 코팅 부재로서,
기층의 시인 측의 면에 있어서의 일부에, 광간섭층이 배치되고,
광간섭층은, 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위 내이며,
0.08＜(상기 기층의 굴절률)-(상기 광간섭층의 굴절률)＜0.45의 관계를 갖고,
광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물이고,
광간섭층은, 잉크젯법에 의해 형성된 광간섭층인,
코팅 부재이다.
또, 본 개시에 따른 코팅 부재는,
기층과, 광간섭층 형성 조성물로 형성된 광간섭층을 갖는 코팅 부재로서,
기층의 시인 측의 면에 있어서의 적어도 일부에, 광간섭층이 배치되고,
광간섭층은, 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위 내에서,
최소 두께(tmin)와 최대 두께(tmax)를 갖고, 또한
최소 두께(tmin)＜최대 두께(tmax)의 관계를 가지며,
0.08＜(상기 기층의 굴절률)-(상기 광간섭층의 굴절률)＜0.45의 관계를 갖고,
광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물이고,
광간섭층은, 잉크젯법에 의해 형성된 광간섭층이다.
본 개시에 의하면, 광간섭층이 특정의 두께를 갖고, 게다가, 광간섭층과 기층은 굴절률에 대해 특정의 관계를 갖는다. 이 때문에, 반사 방지성과 의장성을 모두 향상시킬 수 있는 코팅 부재가 제공된다.
예를 들면, 본 개시에 따른 광간섭층은, 이와 같은 특정의 굴절률의 관계를 갖기 때문에, 우수한 반사 방지성을 가질 수 있다.
또한, 광간섭층은, 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위 내이며, 광간섭층이 균일한 두께를 갖는다.
다른 실시형태에 있어서는, 광간섭층은, 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위 내에서, 최소 두께(tmin)와 최대 두께(tmax)를 갖고, 또한 최소 두께(tmin)가 최대 두께(tmax)보다도 작은 관계를 가지므로, 광의 간섭, 반사를 임의로 조정할 수 있어, 원하는 외관, 즉 의장성도 우수한 외관을 유도할 수 있다.
예를 들면, 광간섭층은, 패터닝, 그러데이션을 나타낼 수 있다. 또, 광의 간섭을 조정할 수 있고, 반사율도 조정할 수 있으므로, 예를 들면, 금속조의 외관을 갖는 코팅 부재를 제공할 수 있다.
다른 형태에 있어서는, 광간섭층은, 보는 각도, 광의 쬐는 방법 등에 따라, 다양한 색을 나타낼 수 있다.
또, 본 개시에 따른 코팅 부재는, 평면 방향, 즉, 코팅 부재의 두께 방향과 수직인 방향을 따라, 광간섭층의 두께를 변화시킬 수 있다. 예를 들면, 본 개시에 따른 코팅 부재의 단면 방향에 있어서의 광간섭층의 형상(두께 방향에 있어서의 광간섭층의 형상)을 관찰하면, 광간섭층은 구배를 가져도 되고, 계단상으로 두께가 변화하고 있어도 되며, 볼록상의 형상을 가져도 된다. 또, 본 개시에 따른 코팅 부재는, 광간섭층의 굴절률이, 두께 방향에 있어서는, 시인 측의 굴절률과, 시인 측으로부터 가장 떨어진 위치에서의 굴절률이 실질적으로 동일해도 된다.
또한, 본 개시의 코팅 부재는, 1종류의 광간섭층 형성 조성물로 광간섭층을 형성할 수 있으므로, 복수종의 도료 조성물을 이용하지 않아도 된다. 따라서, 상이한 도료 조성물을 이용함으로써 생길 수 있는, 의도하지 않는 광의 굴절, 반사 등을 억제할 수 있고, 게다가, 선명한 발색을 나타낼 수 있다.
이와 같이, 본 개시의 코팅 부재는, 기층의 시인 측의 면에 있어서의 적어도 일부에 있어서, 반사 방지성을 갖는 영역과, 의장성이 우수한 영역을 갖는 광간섭층을 가질 수 있다. 여기에서, 반사 방지성을 갖는 영역과, 의장성이 우수한 영역은, 연속하여 마련되어도 되고, 반사 방지성을 갖는 영역이 의장성이 우수한 영역이어도 된다.
예를 들면, 광간섭층은, 일 실시형태에 있어서 균일한 두께여도 되고, 다른 실시형태에 있어서, 기층의 표면으로부터, 두께 600nm 이하의 범위에서, 구배를 갖는 층이어도 된다. 일 실시형태에 있어서, 광간섭층은, 특히 우수한 반사 방지성이 요구되는 범위에서는 평탄한(균일한) 두께를 갖고, 의장성이 요구되는 영역에서는, 구배를 갖는 층이어도 된다. 이와 같은 형태에 있어서, 본 개시의 광간섭층은, 주로 우수한 반사 방지성을 나타내는 영역과, 주로 우수한 의장성을 나타내는 영역이 연속할 수 있다. 이 때문에, 반사 방지성을 나타내는 영역과, 우수한 의장성을 나타내는 영역의 경계 부분에 있어서의 광의 누설, 난반사 등을 억제할 수 있다.
혹은, 광간섭층은, 기층의 표면으로부터, 두께 600nm 이하의 범위에서, 계단상의 층 구조를 가져도 되고, 구배를 갖는 개소와, 계단상의 층 구조를 모두 가져도 된다.
또, 본 개시의 코팅 부재는, 표면의 반사율 및 투과율을 임의로 가변할 수 있는 코팅 부재여서, 예를 들면, 광간섭 기술에 의한 반사 방지와, 금속조 등의 의장성을 모두 구비할 수 있다.
또한, 본 개시에 있어서의 광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물이어서, 작업성도 우수하다. 게다가, 도장 정밀도가 높은 코팅 부재이다. 이 때문에, 설계된 영역에, 원하는 도장을 행할 수 있어, 그러데이션 등의 색채를, 보다 아름답게 재현할 수 있다. 또, 광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물인 것에 의해, 도포하지 않는 부분에 마스킹을 실시하지 않더라도, 임의의 장소에 도포할 수 있기 때문에, 가공성·생산성이 우수하다.
또, 대형화된 피도물, 심리스화된 피도물에 대해서도, 얼룩이 적은 광간섭층을 형성할 수 있다. 예를 들면, 이와 같은 대형화된 피도물에 대해서도, 동일 면에서 나누어 칠하기가 가능하다.
게다가, 잉크젯 방식을 이용하여, 막 두께가 극히 얇은 광간섭층을 형성할 수 있으므로, 코팅 부재 전체의 두께를 저감할 수 있다.
또한, 본 개시의 코팅 부재는, 높은 경도, 내흠집성 등의 물성을 갖고 있다.
이와 같이, 본 개시의 코팅 부재는, 극히 높은 의장성과, 디스플레이 등의 시인성을 향상시킬 수 있는 반사 방지능을 구비하고, 게다가, 우수한 기계적 성질을 구비하고 있다.
다른 실시형태에 있어서, 광간섭층은, 코팅 부재의 원하는 영역에 있어서, 반사율을 조정할 수 있다. 예를 들면, 원하는 파장에 있어서의 반사율을 저감시켜, 원하는 파장의 광을 투과시킬 수 있다. 이 때문에, 디스플레이의 내부에 마련될 수 있는 센서가 갖는 특성을, 충분히 발휘할 수 있다. 나아가, 원하는 파장 범위를 나타내는 광선의 투과율을 향상시키고, 또한, 광선의 투과율이 향상된 영역의 의장성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 센서 등이 요구하는 광선을 투과시키고, 게다가, 우수한 의장성(예를 들면, 금속조 외관)을 나타내는 코팅 부재를 얻을 수 있다.
또, 본 개시의 코팅 부재는, 높은 가교 밀도를 갖는 것도 가능하여, 각종 센서를 포함시킨 패널 등으로의 전개도 가능하다.
필요에 따라서, 국소적으로 적외선 반사율을 저하시킬 수 있어, 예를 들면, 그 영역에 적외선 센서를 탑재하는 것이 가능해진다. 이와 같은 형태에 있어서는, 적외선 센서를, 시인 측으로부터 눈에 띄지 않도록 탑재하는 것이 가능해져, 코팅 부재에 관한 디자인의 선택성이 폭넓어진다. 또, 센서 기능의 향상에도 기여할 수 있다.
또한, 예를 들면, 380nm∼780nm의 파장에 있어서, 높은 반사율을 가질 수 있어, 금속조를 보다 아름답게 표현할 수 있다. 또, 예를 들면, 청색 색조, 적색 색조에 대해서도 보다 아름답게 표현할 수 있다. 게다가, 정밀도가 높은 도장을 행할 수 있기 때문에, 디자인의 선택성이 극히 풍부한 코팅 부재가 제공된다.
본 개시의 코팅 부재는, 기층의 시인 측의 면에 있어서의 적어도 일부에, 광간섭층이 배치된다. 일 실시형태에 있어서, 디스플레이 등의 표시부에 배치되는, 코팅 부재의 영역은, 기층의 표면에 광간섭층이 배치되어, 반사 방지성을 나타내도 된다.
본 개시에 있어서, 광간섭층은, 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위 내이며, 광간섭층이 균일한 두께를 갖는다. 광간섭층이 이와 같은 두께를 갖는 것에 의해, 반사 방지성과 의장성이 모두 우수한 광간섭층을 얻을 수 있다. 또, 표면의 평활성이 우수하여, 얼룩이 생기지 않는, 극히 얼룩이 작은 광간섭층을 얻을 수 있어, 높은 광택성을 가질 수도 있다.
다른 실시형태에 있어서, 광간섭층은, 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위 내에서 최소 두께(tmin)와 최대 두께(tmax)를 갖고, 또한 최소 두께(tmin)＜최대 두께(tmax)의 관계를 갖는다.
광간섭층이 이와 같은 두께를 갖는 것에 의해, 반사 방지성과 의장성이 모두 우수한 광간섭층을 얻을 수 있다. 또, 표면의 평활성이 우수하여, 얼룩이 생기지 않는, 극히 얼룩이 작은 광간섭층을 얻을 수 있어, 높은 광택성을 가질 수도 있다.
전술한 형태를 취하기 때문에, 광간섭층은, 기층의 동일 면 상에 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위에서 균일한 두께를 갖고 있거나, 또는 두께가 나누어져 칠해져 있다. 또, 임의의 막 두께로(가변적으로) 나누어 칠하기가 가능하다.
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께는, 0.1nm 이상, 1nm 이상, 10nm 이상, 30nm 이상, 50nm 이상의 두께를 갖는다.
예를 들면, 광간섭층은, 0.1nm 이상 600nm 이하의 범위 내에서, 균일한 두께를 가져도 되며, 다른 형태에 있어서, 이와 같은 범위 내에서 최소 두께(tmin)와 최대 두께(tmax)를 갖고, 최소 두께(tmin)와 최대 두께(tmax)가 소정의 관계를 갖는다.
일 실시형태에 있어서, 최대 두께(tmax)는, 본 개시의 범위를 일탈하지 않는 한, 10nm 이상 500nm 이하, 20nm 이상 450nm 이하, 25nm 이상 400nm 이하, 30nm 이상 350nm 이하, 35nm 이상 320nm 이하, 40nm 이상 300nm 이하 및 45nm 이상 200nm 이하의 범위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 범위 내에 최대 두께를 가질 수 있다.
최대 두께(tmax)가 이와 같은 범위 내이고, 본 개시의 조건을 만족시키는 것에 의해, 반사 방지성과 의장성이 모두 우수한 광간섭층을 얻을 수 있다.
본 개시에 있어서, 광간섭층의 최대 두께(tmax)는, 최대 두께를 갖는 영역 내에 있어서의 평균치를 산출하는 것에 의해 구해진다.
막 두께의 측정은, 예를 들면 마이크로톰 등의 기구를 이용하여 단면을 석출시키고, 레이저 현미경, FE-SEM 등을 이용하여 단면 관찰을 행하는 것에 의해 측정할 수 있다.
본 개시에 있어서, 기층의 굴절률과 광간섭층의 굴절률은, 다음의 관계를 갖는다.
0.08＜(기층의 굴절률)-(광간섭층의 굴절률)＜0.45. 예를 들면,
0.10＜(기층의 굴절률)-(광간섭층의 굴절률)＜0.43,
0.15＜(기층의 굴절률)-(광간섭층의 굴절률)＜0.42,
0.18＜(기층의 굴절률)-(광간섭층의 굴절률)＜0.41, 및
0.20＜(기층의 굴절률)-(광간섭층의 굴절률)＜0.40
으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 관계를 가져도 된다.
기층의 굴절률과 광간섭층의 굴절률이 이와 같은 관계를 갖는 것에 의해, 색조차를 충분히 나타낼 수 있고, 또한 광간섭층의 물성이 우수한 코팅 부재를 얻을 수 있다.
굴절률은, JIS K0062에 준거한 방법에 의해, 아베 굴절률계에 의해 측정할 수 있다.
본 개시에 있어서의 광간섭층의 굴절률은, 예를 들면, 1.30 이상 2.0 이하이고, 일 실시형태에 있어서, 1.30 이상 1.80 이하이며, 예를 들면, 1.30 이상 1.76 이하이고, 1.30 이상 1.60 이하여도 된다.
다른 실시형태에 있어서, 간섭층의 굴절률은, 1.36 이상 1.80 이하이며, 예를 들면, 1.36 이상 1.76 이하이고, 1.36 이상 1.60 이하여도 된다.
또, 광간섭층의 굴절률이 본 발명의 범위 내인 한, 2종 이상의 광간섭층 형성 조성물을 이용하여 광간섭층을 형성해도 된다. 예를 들면, 광간섭층이 경사를 갖는 형태에 있어서, 최소 두께(tmin)까지의 광간섭층과, 최소 두께(tmin)부터 최대 두께(tmax)까지의 광간섭층에 있어서의 굴절률이 상이하도록 설계해도 된다.
광간섭층의 굴절률이 이와 같은 범위 내인 것에 의해, 코팅 부재는, 우수한 반사 방지성을 나타낼 수 있다. 또, 원하는 파장에 있어서의 광선의 반사율을 저감할 수 있어, 디스플레이의 내부에 마련될 수 있는 센서가 갖는 특성을, 충분히 발휘할 수 있다. 또한, 원하는 파장 범위를 나타내는 광선의 투과율을 향상시키고, 게다가, 광선의 투과율이 향상된 영역의 의장성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 센서 등이 요구하는 광선을 투과시키고, 게다가, 우수한 의장성(예를 들면, 금속조 외관)을 나타내는 코팅 부재를 얻을 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 코팅 부재는,
기층에 있어서의 색상의 L값, a값 및 b값을, L(i), a(i) 및 b(i)로 하고,
광간섭층의 두께 t(nm)에 있어서의 색상의 L값, a값 및 b값을, Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)로 하고,
여기에서, t는 0nm보다 크고 600nm 이하이며,
기층에 있어서의 L(i), a(i) 및 b(i)과,
광간섭층에 있어서의, 두께 (t)nm에서의 Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)가, 이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다;
0＜L(i)-Lt(ii)＜35 식(1)
-30＜a(i)-at(ii)＜30 식(2)
-40＜b(i)-bt(ii)＜40 식(3).
이와 같은 관계를 갖는 것에 의해, 광의 간섭을 조정할 수 있어, 원하는 외관, 즉 의장성도 우수한 외관을 유도할 수 있다. 예를 들면, 광간섭층은, 그러데이션을 나타낼 수 있다. 또, 광의 간섭을 조정할 수 있고, 반사율도 조정할 수 있으므로, 예를 들면, 금속조의 외관을 갖는 코팅 부재를 제공할 수 있다. 다른 형태에 있어서는, 광간섭층은, 보는 각도, 광의 쬐는 방법 등에 따라, 다양한 색을 나타낼 수 있다. 또한, 광간섭층의 얼룩, 기층과 광간섭층의 경계 영역에 있어서의 얼룩을 억제할 수 있어, 우수한 의장성을 갖는 코팅 부재를 얻을 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는, 상기 식(1)∼(3)을 모두 만족시켜도 되고, 이들 중 적어도 2개를 만족시켜도 된다.
일 실시형태에 있어서, L(i) 및 Lt(ii)는, 다음의 관계를 가져도 되고,
-30＜L(i)-Lt(ii)＜35 식(1)
예를 들면,
-20＜L(i)-Lt(ii)＜35 식(1)이어도 되고,
-10＜L(i)-Lt(ii)＜35 식(1)
의 관계여도 된다.
이와 같은 관계를 갖는 경우에 있어서도, 본 개시가 갖는 효과를 나타낼 수 있다.
다른 실시형태에 있어서, L(i) 및 Lt(ii)는, 다음의 관계를 가져도 된다.
0＜｜L(i)-Lt(ii)｜＜35. 여기에서, 기호 ｜｜는 절대치를 의미한다.
예를 들면, 1.5＜｜L(i)-Lt(ii)｜＜35 식(1)
의 관계를 가질 수 있다.
이와 같은 관계를 갖는 경우에 있어서도, 본 개시가 갖는 효과를 나타낼 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 식(2)는,
-30＜a(i)-at(ii)＜30 식(2)
(단, 0을 제외한다)의 관계를 가져도 된다.
또한, 본 개시에 기재된 여러 가지 (a(i)-at(ii))의 관계에 있어서도, 0을 제외한 형태를 포함할 수 있다.
다른 실시형태에 있어서, a(i) 및 at(ii)는, 다음의 관계를 가져도 된다.
0＜｜a(i)-at(ii)｜＜30 식(2) 여기에서, 기호 ｜｜는 절대치를 의미한다.
이와 같은 관계를 갖는 경우에 있어서도, 본 개시가 갖는 효과를 나타낼 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 식(3)은,
-40＜b(i)-bt(ii)＜40 식(3)
(단, 0을 제외한다)의 관계를 가져도 된다.
또, 본 개시에 기재된 여러 가지 (b(i)-bt(ii))의 관계에 있어서도, 0을 제외한 형태를 포함할 수 있다.
다른 실시형태에 있어서, b(i)-bt(ii)는, 다음의 관계를 가져도 된다.
0＜｜b(i)-bt(ii)｜＜40 식(3) 여기에서, 기호 ｜｜는 절대치를 의미한다.
이와 같은 관계를 갖는 경우에 있어서도, 본 개시가 갖는 효과를 나타낼 수 있다.
본 개시에 있어서, 광간섭층에 있어서의, 두께 t(nm)에서의 색상은, 광간섭층의 두께가 t(nm)인 코팅 부재의 색상을 의미한다. 즉, 본 개시에 따른 기층과 광간섭층을 갖는 코팅 부재에 있어서의, 두께 t(nm)의 광간섭층에 대해 측정한 색상을 의미한다.
여기에서, 기층에 있어서의 L(i), a(i) 및 b(i)은, 예를 들면, 이하의 범위를 나타낼 수 있다.
0＜L(i)＜40
-30＜a(i)＜30
-30＜b(i)＜30
예를 들면, 광간섭층에 있어서의 두께 t가 76nm인 형태에 있어서, Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)는, 각각, L76(ii), a76(ii) 및 b76(ii)로 나타낼 수 있다. 마찬가지로, 두께 t가 431nm인 형태에 있어서, Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)는, 각각, 색상 L431(ii), a431(ii) 및 b431(ii)로 나타낼 수 있다.
여기에서, 색상의 L값, a값 및 b값은, JIS Z8781-4, JIS Z8781-5에 준거하여 구해지고, L*a*b* 표색계(CIE 1976)에 의한, 피측정물의 색을 표시하는 데 이용되는 지표이다. 이 표색계에서는, L값은 명도를 표시한다. 그리고 색상과 채도를 나타내는 색도를 a값, b값으로 표시한다. a값, b값은, 크로매틱니스 지수라고 불리며, 색의 방향을 표시한다. a값은 0을 기준으로 하여, 수치가 마이너스가 되는 경우는 피측정 물질의 색상에 있어서 녹색도가, 수치가 플러스가 되는 경우는 적색도가 늘어나는 것을 의미한다. 또 b값은 0을 기준으로 하여, 수치가 마이너스가 되는 경우는 피측정 물질의 색상이 청색도를, 플러스가 되는 경우는 황색도를 늘리는 것을 의미한다. 한편 a값과 b값 모두 0인 경우는, 색미(色味)가 없는 무채색이 된다.
예를 들면, 색상의 L값, a값 및 b값은, 닛폰 덴쇼큐 공업제의 SD3000을 이용하여, 이하의 조건에서 측정할 수 있다.
광원: D65
측정 방법: 반사
시야: 10도
정반사광 처리: SCI.
일 실시형태에 있어서,
본 개시의 코팅 부재는, 이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다.
1.5＜L(i)-Lt(ii)＜35 식(1)
-25＜a(i)-at(ii)＜25 식(2)
-35＜b(i)-bt(ii)＜30 식(3)
여기에서, 광간섭층에 있어서의, 두께 t는, 0nm보다 크고 600nm 이하의 임의의 값을 채용할 수 있다.
특정의 이론으로 한정하여 해석해서는 안 되지만, 본 개시에 있어서의 광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물이어서, 스크린 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 스핀 코팅법 등과 비교하여, 광간섭층의 두께의 제어를, 보다 섬세하게 행할 수 있고, 예를 들면, 광간섭층의 두께의 경사를, 스크린 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 스핀 코팅법 등과 비교하여 스무드하게 형성할 수 있다.
또, 본 개시의 코팅 부재는, 본 개시에 있어서의 광간섭층 형성 조성물이 잉크젯 도장용의 조성물이기 때문에, 도장 정밀도가 높다. 이 때문에, 설계된 영역에, 원하는 도장을 행할 수 있어, 그러데이션 등의 색채를, 보다 아름답게 재현할 수 있다.
또한, 대형화된 피도물, 심리스화된 피도물에 대해서도, 얼룩이 적은 광간섭층을 형성할 수 있다. 이와 같이, 본 개시의 코팅 부재는, 극히 높은 의장성을 가질 수 있다.
게다가, 높은 의장성을 구비하면서, 광간섭층의 원하는 영역에 있어서의 적외선 등의 투과율을 컨트롤, 예를 들면, 적외선 투과율을 높게 할 수 있으므로, 적외선 센서를 마련할 수 있다. 따라서, 광간섭층의 원하는 영역에 있어서, 높은 의장성을 가지면서, 게다가, 높은 적외선 투과율을 나타낼 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께 t가 76nm인 경우,
이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다
10＜L(i)-L76(ii)＜35 식(1)
-30＜a(i)-a76(ii)＜0 식(2)
-30＜b(i)-b76(ii)＜0 식(3).
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께 t가 120nm인 경우,
이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다
10＜L(i)-L120(ii)＜35 식(1)
-10＜a(i)-a120(ii)＜5 식(2)
0＜b(i)-b120(ii)＜25 식(3).
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께 t가 129nm인 경우,
이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다
10＜L(i)-L129(ii)＜35 식(1)
-10＜a(i)-a129(ii)＜5 식(2)
0＜b(i)-b129(ii)＜25 식(3).
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께 t가 174nm인 경우,
이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다
0＜L(i)-L174(ii)＜10 식(1)
0＜a(i)-a174(ii)＜10 식(2)
0＜b(i)-b174(ii)＜15 식(3).
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께 t가 217nm인 경우,
이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다
0＜L(i)-L217(ii)＜10 식(1)
0＜a(i)-a217(ii)＜10 식(2)
-30＜b(i)-b217(ii)＜0 식(3).
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께 t가 260nm인 경우,
이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다
0＜L(i)-L260(ii)＜20 식(1)
-20＜a(i)-a260(ii)＜0 식(2)
-40＜b(i)-b260(ii)＜0 식(3).
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께 t가 307nm인 경우,
이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다
0＜L(i)-L307(ii)＜25 식(1)
-30＜a(i)-a307(ii)＜0 식(2)
10＜b(i)-b307(ii)＜40 식(3).
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께 t가 326nm인 경우,
이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다
10＜L(i)-L326(ii)＜25 식(1)
-20＜a(i)-a326(ii)＜0 식(2)
10＜b(i)-b326(ii)＜40 식(3).
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께 t가 379nm인 경우,
이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다
0＜L(i)-L379(ii)＜10 식(1)
10＜a(i)-a379(ii)＜30 식(2)
-30＜b(i)-b379(ii)＜0 식(3).
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께 t가 431nm인 경우,
이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킨다
0＜L(i)-L431(ii)＜10 식(1)
-10＜a(i)-a431(ii)＜10 식(2)
-30＜b(i)-b431(ii)＜0 식(3).
예를 들면, 광간섭층이, 두께 76nm와 두께 431nm의 두께를 갖는 경우, 각 두께에 따른 범위 내에서, 각각, 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시킬 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는,
기층에 있어서의 색상의 L값, a값 및 b값을, L(i), a(i) 및 b(i)로 하고,
광간섭층에 있어서의, 두께 t(nm)에서의 색상의 L값, a값 및 b값을, Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)로 하고,
여기에서, t는 0nm보다 크고 이상 600nm 이하이며,
기층에 있어서의 색상과, 광간섭층에 있어서의, 두께 t(nm)에서의 색상의 차 ΔE가
1＜ΔE＜50
의 관계를 나타낸다.
여기에서, 색차 ΔE는, JIS Z8730:2009에 준거하여 유도할 수 있다. 예를 들면, 기층에 대해, 분광 측색기(닛폰 덴쇼큐 공업제, 품번 SD3000) 및 D65 광원을 이용하여, 기층에 있어서의 색상 L(i), a(i) 및 b(i)을 측정하고, 마찬가지로, 광간섭층에 있어서의 임의의 두께 t(nm)에 있어서의 색상 Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)의 값으로부터 산출할 수 있다.
예를 들면, 본 실시형태에 따른 색차 ΔE의 계산식은, 하기 식으로 표시된다.
ΔE=[(ΔL)2+(Δa)2+(Δb)2]1/2
한편, 기층에 있어서의 색상의 L값, a값 및 b값을, L(i), a(i) 및 b(i)로 하고,
광간섭층에 있어서의, 두께 t(nm)에서의 색상의 L값, a값 및 b값을, Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)로 하고,
ΔL=L(i)-Lt(ii)
Δa=a(i)-at(ii)
Δb=b(i)-bt(ii)
로 한다.
일 실시형태에 있어서, 색차 ΔE는, 2 이상 50 이하이고, 예를 들면, 5 이상 45 이하이다.
이와 같은 관계를 갖는 것에 의해, 광의 간섭을 보다 효과적으로 조정할 수 있어, 의장성도 더 우수한 외관을 유도할 수 있다. 예를 들면, 광간섭층은, 패터닝, 그러데이션을 나타낼 수 있다. 또, 광의 간섭을 조정할 수 있고, 반사율도 조정할 수 있으므로, 예를 들면, 금속조의 외관을 갖는 코팅 부재를 제공할 수 있다. 다른 형태에 있어서는, 광간섭층은, 보는 각도, 광의 쬐는 방법 등에 따라, 다양한 색을 나타낼 수 있다. 또한, 광간섭층의 얼룩, 기층과 광간섭층의 경계 영역에 있어서의 얼룩을 억제할 수 있어, 우수한 의장성을 갖는 코팅 부재를 얻을 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는, 상기 식(1)∼(3)을 모두 만족시켜도 되고, 이들 중 적어도 2개를 만족시켜도 된다.
일 실시형태에 있어서, 기층의 반사율은, 380nm∼780nm의 영역에 있어서, 0.1∼20%이고, 예를 들면 3%∼11%이며, 다른 실시형태에서는 8%∼11%이다.
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께가 76nm인 위치에서 측정한, 본 개시의 코팅 부재(즉, 기층과 광간섭층을 갖는 부재)의 반사율은, 380nm∼780nm의 영역에 있어서, 0.1∼10%이고, 예를 들면 1%∼5%이다.
반사율이 이와 같은 범위 내인 것에 의해, 코팅 부재 표면의 반사율 및 투과율을 임의로 가변할 수 있어, 예를 들면, 광간섭 기술에 의한 반사 방지와, 금속조 등의 의장성을 모두 구비할 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 광간섭층의 두께가 260nm인 위치에서 측정한, 본 개시의 코팅 부재(즉, 기층과 광간섭층을 갖는 부재)의 반사율은, 380nm∼780nm의 영역에 있어서, 0%∼11%이다.
반사율이 이와 같은 범위 내인 것에 의해, 코팅 부재 표면의 반사율 및 투과율을 임의로 가변할 수 있어, 예를 들면, 광간섭 기술에 의한 반사 방지와, 금속조 등의 의장성을 모두 구비할 수 있다.
여기에서, 본 개시에 있어서, 광간섭층은, 본 개시의 범위에 포함되는 범위에서 임의의 막 두께를 갖는다. 예를 들면, 광간섭층의 임의의 위치에 있어서의 두께가 76nm이고, 다른 임의의 위치에 있어서의 두께가 260nm여도 된다. 이 형태에 있어서, 본 개시의 코팅 부재는, 각 막 두께에 있어서 상기한 반사율 등의 광학 특성을 나타낼 수 있어, 광간섭층의 각종 물성을 측정한 위치에 따라서, 다양한 물성, 예를 들면, 광학 특성을 나타낼 수 있다.
따라서, 광의 간섭을 보다 효과적으로 조정할 수 있어, 의장성도 더 우수한 외관을 유도할 수 있다.
이하, 본 개시에 따른 코팅 부재를 구성하는, 기층과, 광간섭층 형성 조성물로 형성된 광간섭층에 대해 설명한다.
(광간섭층)
본 개시의 광간섭층은, 광간섭층 형성 조성물로 형성된 층이다. 예를 들면, 광간섭층 형성 조성물은, 광간섭층 형성 수지 성분을 포함하고, 광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물이다.
광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물이기 때문에, 막 두께 제어, 및 나누어 칠하기(패터닝)를 극히 높은 정밀도로 행할 수 있다. 또, 얼룩의 발생을 저감 또는 억제할 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 수지 고형분 100질량부에 대해, 300질량부 이상 9900질량부 이하의 유기 용매를 포함한다. 다른 실시형태에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 수지 고형분 100질량부에 대해, 100질량부 이상 8000질량부 이하, 예를 들면, 100질량부 이상 4000질량부 이하의 유기 용매를 포함한다.
한편, 광간섭층 형성 조성물이 광간섭층 형성 수지 성분을 포함하는 형태에 있어서, 수지 고형분 100질량부는, 광간섭층 형성 수지 성분에 있어서의, 수지 성분의 고형분의 합계가 100질량부인 것을 의미한다.
이와 같은 범위 내에서 유기 용매를 포함하는 것에 의해, 광간섭층 형성 조성물을, 잉크젯법으로 적합하게 도장할 수 있어, 설계된 디자인에 맞추어, 최적인 조성물량으로 도장을 할 수 있다.
본 개시의 광간섭층은, 본 개시에 따른 특정의 광간섭층 형성 조성물을, 잉크젯 도장을 이용하여 실시하는 것에 의해 형성된 층이므로, 광간섭층의 막 두께를, 보다 세세하게, 다양한 범위로 설계할 수 있다. 예를 들면, 광간섭층은, 보다 복잡한 패터닝, 그러데이션을 나타낼 수 있다. 또, 광의 간섭을 더 세세하게 조정할 수 있고, 반사율도 보다 세세하게 조정할 수 있으므로, 예를 들면, 금속조의 외관을 갖는 코팅 부재를 제공할 수 있다.
다른 형태에 있어서는, 광간섭층은, 보는 각도, 광의 쬐는 방법 등에 따라, 다양한 색을 나타낼 수 있다. 또한, 광간섭층의 얼룩, 기층과 광간섭층의 경계 영역에 있어서의 얼룩을 억제할 수 있어, 우수한 의장성을 갖는 코팅 부재를 얻을 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 광간섭층 형성 수지 성분은, 불포화 이중 결합을 갖고, 활성 에너지선 경화형의 수지 성분이다.
또, 광간섭층 형성 조성물은, 다작용 아크릴레이트 및 불소 수지를 포함해도 되고, 다작용 아크릴레이트, 실리콘 변성 아크릴레이트 및 불소 수지를 포함해도 된다.
활성 에너지선 경화형의 수지 성분은, 활성 에너지선(예를 들면 자외선)에 의해 가교하여, 경화시킬 수 있는, 모노머, 올리고머, 혹은 폴리머(수지라고도 한다)이다.
이와 같은 활성 에너지선 경화형의 수지 성분의 구체예로서, 불포화 이중 결합기를 적어도 1개 갖는 모노머, 올리고머 또는 폴리머, 보다 구체적으로는, 불포화 이중 결합기를 적어도 1개 갖는, (메트)아크릴레이트 모노머, (메트)아크릴레이트 올리고머, (메트)아크릴레이트 폴리머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머, 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머, 실리콘 (메트)아크릴레이트 및 이들의 변성 모노머, 올리고머, 폴리머 등을 들 수 있다. 이들 모노머, 올리고머, 폴리머 등을 조합하여 이용해도 된다.
한편 「(메트)아크릴레이트」는, 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 나타낸다. 어느 형태에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지(불포화 이중 결합 함유 아크릴 폴리머라고도 한다)를 포함한다.
어느 형태에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 비반응성의 아크릴 수지를 포함해도 된다. 또, 광간섭층 형성 조성물은, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지를 포함할 수 있다.
광간섭층 형성 조성물은, 예를 들면, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지를 복수종 포함해도 된다.
예를 들면, 광간섭층 형성 조성물은, 중량 평균 분자량(Mw)이 5000∼100000인 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지를 포함한다. 어느 형태에 있어서, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지는, 중량 평균 분자량(Mw)이 5000 이상 100000 이하여도 되고, 예를 들면, 중량 평균 분자량(Mw)이 6000 이상 95000 이하여도 된다. 중량 평균 분자량(Mw)은, 기지의 방법에 의해 산출할 수 있다.
다른 형태에 있어서, 활성 에너지선 경화형의 수지 성분이, 복수종의 폴리머를 포함하는 경우, 하나의 폴리머는, 중량 평균 분자량(Mw)이 5000 이상 100000 이하여도 되고, 다른 종류의 폴리머는, 중량 평균 분자량(Mw)이 10000 이상 80000 이하여도 된다. 또한, 상이한 범위의 중량 평균 분자량(Mw)을 갖는 폴리머를 포함해도 된다. 다양한 중량 평균 분자량 범위를 갖는 폴리머를 병용함으로써, 광간섭층은, 높은 평활성·작업성을 나타낼 수 있다.
이와 같은 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지를 포함하는 것에 의해, 복잡한 형상으로도 성형 가능하고, 또한, 성형 시에 있어서의 불량품의 발생을 보다 낮게 할 수 있으며, 게다가, 얻어지는 성형체는, 보다 높은 경도, 내마모성, 내약품성 등을 가질 수 있다.
어느 형태에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지와, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트를 포함한다. 예를 들면, 광간섭층 형성 조성물은, 중량 평균 분자량(Mw) 5000∼100000의 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지와, 아크릴레이트 당량 100∼200의 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트를 포함한다.
한편, 본 명세서에 있어서, 비반응성의 아크릴 수지란, 활성 에너지선을 조사해도 반응하지 않거나, 또는 거의 반응성을 나타내지 않는 아크릴 수지이고, 예를 들면, 자외선 조사를 해도 반응하지 않거나, 또는 거의 반응성을 나타내지 않는 아크릴 수지이다.
다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트의 아크릴레이트 당량은, 예를 들면 100 이상 200 이하이고, 예를 들면, 아크릴레이트 당량은 110 이상 180 이하이며, 다른 형태에 있어서, 아크릴레이트 당량 115 이상 160 이하이다.
이와 같은 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트와, 전술한 바와 같은 아크릴 수지를 포함하는 것에 의해, 복잡한 형상이어도, 크랙 등의 결함이 생기는 일 없이, 우수한 외관을 갖는 성형품을 얻을 수 있다.
그에 더하여, 우수한 내마모성 및 내약품성을 갖고, 게다가, 높은 경도를 갖는 성형품을 얻을 수 있다.
어느 형태에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지와, 다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트와, 불소 수지와, 무기 산화 미립자를 포함한다.
예를 들면, 광간섭층 형성 조성물은, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지와, 중량 평균 분자량(Mw)이 700∼100000인 다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트와, 불소 수지와, 무기 산화 미립자를 포함한다.
특정의 이론으로 한정하여 해석되어서는 안 되지만, 다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트를 포함하는 것에 의해, 저표면장력화, 우수한 레벨링성 및 택의 저감이 가능해진다. 한편, 불소 수지를 포함하는 것에 의해, 코팅층(도막)에 미끄럼성을 부여할 수 있다. 또한, 무기 산화 미립자를 포함하는 것에 의해, 우수한 내마모성을 부여할 수 있고, 택의 저감이 가능해진다.
다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트의 중량 평균 분자량(Mw)은, 예를 들면, 700 이상 100000 이하이고, 어느 형태에 있어서, 800 이상 90000 이하이며, 다른 형태에 있어서, 800 이상 85000 이하이다.
어느 형태에 있어서, 불소 수지의 불소 함유량은 0.1중량% 이상 80중량% 이하, 예를 들면, 5 이상 75중량% 이하이다.
예를 들면, 광간섭층 형성 조성물은, 조성물에 포함되는 고형분 100질량부에 대해서, 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지를 0.1질량부 초과 80질량부 이하, 예를 들면, 3.0질량부 이상 60질량부 이하, 어느 형태에 있어서, 5.0질량부 이상 60질량부 이하로 포함한다. 광간섭층 형성 조성물은, 복수종의 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지를 포함하는 경우, 복수종의 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지 및/또는 비반응성의 아크릴 수지의 합계량이 상기 범위 내가 되는 것이 바람직하다.
어느 형태에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 조성물에 포함되는 수지 고형분 100질량부에 대해서, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트를 3.0질량부 이상 100질량 이하, 예를 들면, 5.0질량부 이상 95질량부 이하, 다른 형태에 있어서, 13질량부 이상 68질량부 이하로 포함한다.
어느 형태에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 조성물에 포함되는 고형분 100질량부에 대해서, 다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트를 0.1질량부 이상 100질량 이하, 예를 들면, 0.1질량부 이상 95질량부 이하, 다른 형태에 있어서, 0.3질량부 이상 50질량부 이하로 포함한다.
어느 형태에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 조성물에 포함되는 고형분 100질량부에 대해서, 불소 수지를 0.01질량부 이상 100질량 이하, 예를 들면, 0.1질량부 이상 95질량부 이하, 다른 형태에 있어서, 0.5질량부 이상 50질량부 이하로 포함한다.
본 개시에 따른 광간섭층 형성 조성물은, 경화 후의 가교 밀도를 높게 할 수 있어, 표면 경도의 향상 효과를 높게 할 수 있다는 관점에서, 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 다작용 (메트)아크릴레이트 올리고머 또는 다작용 (메트)아크릴레이트 폴리머 등의 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물; 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 올리고머, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머 등의 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 화합물; 다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트 모노머, 다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트 올리고머, 다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트 폴리머 등의 다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트 화합물; 등의, 다작용 (메트)아크릴레이트 화합물, 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 화합물 및 다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.
불포화 이중 결합기를 1개 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머로서, 시판품을 이용해도 된다. 시판품으로서, 예를 들면, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 n-뷰틸, (메트)아크릴산 아이소뷰틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산, 메타크릴산, (메트)아크릴산 아이소스테아릴, 에톡시화 o-페닐페놀 아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌 글라이콜 아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌 글라이콜 아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌 글라이콜 아크릴레이트, 2-아크릴로일옥시에틸 석시네이트, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 2-하이드록시프로필, 에틸렌 글라이콜 모노(메트)아크릴레이트, 프로필렌 글라이콜 모노(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-메톡시프로필 (메트)아크릴레이트, N-메틸올(메트)아크릴아마이드, N-하이드록시(메트)아크릴아마이드 등을 들 수 있다.
다작용 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머로서, 시판품을 이용해도 된다. 시판품으로서, 예를 들면, DPHA(다이셀 올넥스사제), PETRA(다이셀 올넥스사제: 펜타에리트리톨 트라이아크릴레이트), PETIA(다이셀 올넥스사제), 아로닉스 M-403(도아고세이사제: 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트), 아로닉스 M-402(도아고세이사제: 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트), 아로닉스 M-400(도아고세이사제: 다이펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트), SR-399(아르케마사제: 다이펜타에리트리톨 하이드록시펜타아크릴레이트), KAYARAD DPHA(닛폰 가야쿠사제), KAYARAD DPHA-2C(닛폰 가야쿠사제), M-404, M-405, M-406, M-450, M-305, M-309, M-310, M-315, M-320, TO-1200, TO-1231, TO-595, TO-756(이상, 도아고세이사제), KAYARD D-310, D-330, DPHA, DPHA-2C(이상, 닛폰 가야쿠사제) 등을 이용할 수 있다.
단작용 혹은 다작용 (메트)아크릴레이트 폴리머로서는, 상기 단작용 혹은 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머의 고분자량 화합물 등을 들 수 있다.
한편, 본 명세서에 있어서, 상기 여러 가지 폴리머를, 간단히 불포화 이중 결합 함유 아크릴 폴리머 또는 불포화 이중 결합 함유 아크릴 수지라고 칭하는 경우가 있다.
다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머로서, 시판품을 이용해도 된다. 시판품으로서, 예를 들면, 2작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(닛폰 가야쿠사제의 「UX-2201」, 「UX-8101」, 「UX-6101」, 교에이샤 화학사제의 「UF-8001」, 「UF-8003」, 다이셀 올넥스사제의 「Ebecryl 244」, 「Ebecryl 284」, 「Ebecryl 2002」, 「Ebecryl 4835」, 「Ebecryl 4883」, 「Ebecryl 8807」, 「Ebecryl 6700」), 3작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀 올넥스사제의 「Ebecryl 254」, 「Ebecryl 264」, 「Ebecryl 265」), 4작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀 올넥스사제의 「Ebecryl 8210」), 6작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀 올넥스사제의 「Ebecryl 1290k」, 「Ebecryl 5129」, 「Ebecryl 220」, 「KRM 8200」, 「Ebecryl 1290N」), 9작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀 올넥스사제의 「KRM 7804」), 10작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀 올넥스사제의 「KRM 8452」, 「KRM 8509」), 15작용 유레테인 (메트)아크릴레이트(다이셀 올넥스사제의 「KRM 8655」) 등을 이용할 수 있다.
단작용 혹은 다작용의 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머는 또, 예를 들면 폴리카보네이트 다이올과, 분자 중에 수산기와 불포화 이중 결합기를 함유하는 (메트)아크릴레이트 화합물과, 폴리아이소사이아네이트를 반응시키는 것에 의해 조제할 수도 있다.
단작용 혹은 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 폴리머로서는, 상기 단작용 혹은 다작용 유레테인 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머의 고분자량 화합물 등을 들 수 있다.
다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머는, 실리콘 골격을 갖는 화합물이다. 예를 들면, 실리콘 골격을 갖는 화합물이 불소 원자 함유기를 가져도 되고, 불소 수지가 실리콘 골격을 가져도 된다.
다작용 실리콘 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머로서, 시판품을 이용해도 된다. 시판품으로서, 예를 들면, 이하의 것을 들 수 있다.
메타크릴로일기 및 아크릴로일기를 갖는 화합물
BYK사제: BYK-UV3500, BYK-UV3570
신에쓰 화학공업사제: 신에쓰 실리콘 X-22-164, 신에쓰 실리콘 X-22-164AS, 신에쓰 실리콘 X-22-164A, 신에쓰 실리콘 X-22-164B, 신에쓰 실리콘 X-22-164C, 신에쓰 실리콘　X-22-164E, 신에쓰 실리콘　X-22-174DX, 신에쓰 실리콘　X-22-2426, 신에쓰 실리콘　X-22-2475, KER-4000-UV, KER-4700-UV, KER-4710-UV, KER-4800-UV,
JNC사제: FM-0711, FM-0721, FM-0725, TM-0701, FM-7711, FM-7721, FM-7725
에보닉 재팬:
TEGO(등록상표) Rad 2010, TEGO(등록상표) Rad 2011, TEGO(등록상표) Rad 2100, TEGO(등록상표) Rad 2200, TEGO(등록상표) Rad 2300, TEGO(등록상표) Rad 2400, TEGO(등록상표) Rad 2500 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴로일기 함유의 불소 원자 함유기를 갖는 재료와 불소 수지가 실리콘 골격의 화합물을 갖는 재료
니혼 합성화학공업사제: 시코(紫光) UV-AF305
T&K TOKA: ZX-212, ZX-214-A
신에쓰 화학공업사제: KY-1203 등을 들 수 있다.
광간섭층 형성 조성물은, 전술한 수지에 더하여, 예를 들면, 불소계 수지를 포함해도 된다. 조성물이 불소계 수지를 포함하는 것에 의해, 성형품의 내마모성을 더 향상시킬 수 있다.
본 개시에 있어서, 불소계 수지는, 실리콘 골격의 화합물을 포함하지 않는 불소 함유 수지를 의미한다. 예를 들면, 퍼플루오로옥틸 아크릴레이트, 아크릴 변성 퍼플루오로폴리에터 등을 들 수 있다. 불소 함유 수지는, 메타크릴로일기, 아크릴로일기인 작용기가 변성되어도 된다.
불소계 수지는, 예를 들면, 이하의 시판품이어도 된다.
DIC사제: 메가팩 RS-72-K, 메가팩 RS-75, 메가팩 RS-76-E, 메가팩 RS-76-NS, 메가팩 RS-77
다이킨 공업사제: 옵툴 DAC-HP
솔베이 솔렉시스사제: FLUOROLINK MD700, FLUOROLINK AD1700
네오스사제: 프타젠트 601ADH2 등.
광간섭층 형성 조성물은, 유기 미립자 및/또는 무기 산화 미립자를 포함해도 된다.
무기 산화 미립자로서, 예를 들면, 실리카(SiO2) 입자, 중공 실리카 입자, 불화 마크네슘 입자, 알루미나 입자, 타이타니아 입자, 산화 주석 입자, 안티모니 도프 산화 주석(약칭; ATO) 입자, 산화 아연 입자 등을 들 수 있다. 또한, 작용기가 수식된 것이어도 된다. 작용기는, (메트)아크릴로일기가 바람직하다. 유기 미립자로서는, 아크릴 미립자, 중공 아크릴 미립자, 폴리스타이렌 미립자, 멜라민 미립자 등을 들 수 있다. 유기 미립자 및 무기 산화 미립자, 예를 들면, 유기 미립자 및 무기 산화 미립자의 1차 입경은, 투명성과 도료 안정성의 관점에서 5nm∼100nm이다. 한편, 본 명세서에 있어서의 입상물의 평균 입자경은, 단면 전자 현미경의 화상으로부터, 화상 처리 소프트웨어를 이용하여 측정되는 값이다.
예를 들면, 무기 산화 미립자를 배합하는 것에 의해, 미경화 도막에 대해서, 체적 수축을 완화할 수 있다. 또한, 예를 들면, 무기 산화 미립자를 배합함으로써, 상기 효과에 더하여, 도막에 강성을 부여할 수 있다.
또, 무기 산화 미립자를 배합하는 것에 의해, 경화 도막에 대해서, 경화 수축에 의한 컬의 발생 등을 억제할 수 있고, 예를 들면, 무기 산화 미립자를 배합하는 것에 의해, 상기 효과에 더하여, 내마모성을 부여할 수 있다.
(광중합 개시제)
본 발명의 광간섭층 형성 조성물은, 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제가 존재하는 것에 의해, 활성 에너지선, 예를 들면 자외선에 의해 수지 성분이 양호하게 중합되게 된다. 광중합 개시제의 예로서, 예를 들면, 알킬페논계 광중합 개시제, 아실포스핀 옥사이드계 광중합 개시제, 타이타노센계 광중합 개시제, 옥심 에스터계 중합 개시제 등을 들 수 있다. 알킬페논계 광중합 개시제로서, 예를 들면, 2,2-다이메톡시-1,2-다이페닐에탄-1-온, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-하이드록시-1-{4-[4-(2-하이드록시-2-메틸-프로피온일)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온, 2-메틸-1-(4-메틸싸이오펜일)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-다이메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-뷰탄온-1, 2-(다이메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모폴린일)페닐]-1-뷰탄온 등을 들 수 있다. 아실포스핀 옥사이드계 광중합 개시제로서, 예를 들면, 2,4,6-트라이메틸벤조일-다이페닐-포스핀 옥사이드, 비스(2,4,6-트라이메틸벤조일)-페닐포스핀 옥사이드 등을 들 수 있다. 타이타노센계 광중합 개시제로서, 예를 들면, 비스(η5-2,4-사이클로펜타다이엔-1-일)-비스(2,6-다이플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)타이타늄 등을 들 수 있다. 옥심 에스터계 중합 개시제로서, 예를 들면, 1.2-옥테인다이온,1-[4-(페닐싸이오)-,2-(O-벤조일옥심)], 에탄온,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]-,1-(0-아세틸옥심), 옥시페닐아세트산, 2-[2-옥소-2-페닐아세톡시에톡시]에틸 에스터, 2-(2-하이드록시에톡시)에틸 에스터 등을 들 수 있다. 이들 광중합 개시제는, 1종을 단독으로 이용해도 되고, 또 2종 이상을 병용해도 된다.
상기 광중합 개시제 중, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤, 2-메틸-1-(4-메틸싸이오펜일)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-다이메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-뷰탄온-1 및 2,2-다이메톡시-1,2-다이페닐에탄-1-온 등이 바람직하게 이용된다.
광중합 개시제의 바람직한 양은, 광간섭층 형성 조성물의 수지 고형분 100질량부에 대해서, 0.01∼10질량부이고, 예를 들면, 1∼10질량부이다. 광중합 개시제는, 단독으로 이용해도 되고, 또 2종 이상의 광중합 개시제를 조합하여 이용해도 된다.
(용매)
광간섭층 형성 조성물은, 용매를 포함해도 된다.
용매는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 조성물 중에 포함되는 성분, 도포되는 기재의 종류 및 조성물의 도포 방법 등을 고려하여 적시 선택할 수 있다. 이용할 수 있는 용매의 구체예로서는, 예를 들면, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족계 용매; 메틸 에틸 케톤, 아세톤, 메틸 아이소뷰틸 케톤, 사이클로헥산온 등의 케톤계 용매; 다이에틸 에터, 아이소프로필 에터, 테트라하이드로퓨란, 다이옥세인, 에틸렌 글라이콜 다이메틸 에터, 에틸렌 글라이콜 다이에틸 에터, 다이에틸렌 글라이콜 다이메틸 에터, 다이에틸렌 글라이콜 다이에틸 에터, 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터(PGM), 아니솔, 페네톨 등의 에터계 용매; 아세트산 에틸, 아세트산 뷰틸, 아세트산 아이소프로필, 에틸렌 글라이콜 다이아세테이트 등의 에스터계 용매; 다이메틸폼아마이드, 다이에틸폼아마이드, N-메틸피롤리돈 등의 아마이드계 용매; 메틸 셀로솔브, 에틸 셀로솔브, 뷰틸 셀로솔브 등의 셀로솔브계 용매; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 아이소프로필 알코올, 뷰탄올, 아이소뷰틸 알코올 등의 알코올계 용매; 다이클로로메테인, 클로로폼 등의 할로젠계 용매; 등을 들 수 있다. 이들 용매를 단독으로 사용해도 되고, 또 2종 이상을 병용해도 된다. 이들 용매 중, 에스터계 용매, 에터계 용매, 알코올계 용매 및 케톤계 용매가 바람직하게 사용된다.
일 실시형태에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 0.5∼50cP, 예를 들면, 1∼40cP의 점도를 갖는다. 이에 의해, 성막 시의 균일성, 잉크젯 토출 시의 안정성, 조성물의 저장 안정성을 보다 양호하게 나타낼 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 10∼40mN/m의 표면 장력, 예를 들면, 15∼35mN/m의 표면 장력을 갖는다. 다른 실시형태에 있어서, 표면 장력은, 20∼30mN/m이다. 이에 의해, 성막 시의 균일성, 잉크젯 토출 시의 안정성, 조성물의 저장 안정성을 보다 양호하게 나타낼 수 있다.
광간섭층 형성 조성물은, 본 개시의 코팅 부재가 나타내는 효과를 해치지 않는 범위에서, 필요에 따라서, 여러 가지 첨가제를 첨가할 수 있다. 이와 같은 첨가제로서, 예를 들면, 대전 방지제, 가소제, 계면활성제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 표면 조정제, 레벨링제 등의 상용의 첨가제를 들 수 있다.
광간섭층 형성 조성물은, 당업자에 있어서 통상 행해지는 수법에 의해 조제할 수 있다. 예를 들면, 페인트 셰이커, 믹서 등의 통상 이용되는 혼합 장치를 이용하여, 상기 각 성분을 혼합하는 것에 의해 조제할 수 있다.
(기층)
본 개시에 따른 기층은, 본 개시에 있어서의 특정의 조건을 만족시키는 한, 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 기층은 단층이어도 되고, 복층이어도 된다. 일 실시형태에 있어서, 기층은, 본 개시에 따른 광간섭층과 인접하는 측, 즉, 시인 측으로부터 순서대로, 고굴절률층, 중굴절률층, 베이스층(예를 들면, 하드 코트층)을 갖는 구조여도 된다. 또한, 베이스층에 있어서의 중굴절률층과는 반대 측의 면에, 기재를 가져도 된다.
일 실시형태에 있어서, 기층은, 본 개시에 따른 광간섭층과 인접하는 측, 즉, 시인 측으로부터 순서대로, 적어도 베이스층 및 기재를 갖는다.
일 실시형태에 있어서, 고굴절률층은, 두께가 10nm 이상 300nm 이하이고, 예를 들면, 10nm 이상 200nm 이하이다. 고굴절률층의 굴절률은, 본 개시에 따른 광간섭층의 굴절률에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들면, 1.45 이상 2.00 이하의 범위 내이다.
일 실시형태에 있어서, 중굴절률층은, 두께가 10nm 이상 300nm 이하이고, 예를 들면, 10nm 이상 200nm 이하이다. 중굴절률층의 굴절률은, 본 개시에 따른 광간섭층의 굴절률에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 1.45 이상 1.70 이하의 범위 내에서 설정할 수 있다. 예를 들면, 고굴절률층을 포함하는 형태에 있어서, 중굴절률층은, 고굴절률층이 나타내는 굴절률보다 낮고, 본 개시에 따른 광간섭층이 갖는 굴절률보다도 높은 값을 채용할 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 베이스층의 두께는, 0.1∼100μm의 범위이고, 예를 들면, 1∼30μm의 범위이며, 다른 실시형태에 있어서, 1.5∼15μm의 범위이다. 베이스층의 두께가 이 범위에 있으면, 기재와의 밀착성, 기층의 표면 경도가 높아진다. 또, 베이스층의 굴절률은, 1.45 이상 1.70 이하의 범위 내에서 설정할 수 있다. 일 실시형태에 있어서, 베이스층의 굴절률은, 고굴절률층의 굴절률 및/또는 중굴절률층의 굴절률보다도 작다.
기층이 가질 수 있는, 고굴절률층, 중굴절률층, 베이스층을 형성하는 수지로서, 예를 들면, 에폭시계 수지, 페놀계 수지, 멜라민계 수지, 알키드계 수지, 아이소사이아네이트계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에스터계 수지, 유레테인계 수지 및 실록세인 수지 등을 들 수 있다. 이들 수지는, 열경화형, 자외선 경화형, 전자선 경화형의 수지를 들 수 있다. 이들 수지는, 단독으로 이용할 수도 2종 이상 병용할 수도 있다. 또, 이들 수지에, 고굴절률의 무기 미립자를 배합해도 된다.
고굴절률층, 중굴절률층을 형성하는 조성물은, 무기 산화 미립자를 포함해도 된다. 무기 산화 미립자는, 불포화 이중 결합으로 미립자 표면을 수식한 무기 산화 미립자여도 된다.
무기 산화 미립자로서, 예를 들면, 실리카(SiO2) 입자, 알루미나 입자, 타이타니아 입자, 산화 지르코니아 입자, 산화 주석 입자, 안티모니 도프 산화 주석(약칭; ATO) 입자, 산화 아연 입자 등을 들 수 있다. 예를 들면, 작용기가 수식된 것이 바람직하다. 작용기는, (메트)아크릴로일기가 바람직하다. 무기 산화 미립자, 예를 들면, 무기 산화 미립자의 1차 입경은, 투명성과 도료 안정성의 관점에서 5nm∼100nm이다. 한편, 본 명세서에 있어서의 입상물의 평균 입자경은, 단면 전자 현미경의 화상으로부터, 화상 처리 소프트웨어를 이용하여 측정되는 값이다.
예를 들면, 무기 산화 미립자를 배합하는 것에 의해, 미경화 도막에 대해서, 체적 수축을 완화할 수 있다. 또한, 예를 들면, 무기 산화 미립자를 배합함으로써, 상기 효과에 더하여, 도막에 강성을 부여할 수 있다.
또, 무기 산화 미립자를 배합하는 것에 의해, 경화 도막에 대해서, 경화 수축에 의한 컬의 발생 등을 억제할 수 있고, 예를 들면, 무기 산화 미립자를 배합하는 것에 의해, 상기 효과에 더하여, 내마모성을 부여할 수 있다.
예를 들면, 시판되는 무기 산화 미립자를 이용해도 되고, 알루미나 입자로서,
스미토모 오사카 시멘트사제: AS-15 0 I, AS-150T
빅케미 재팬사제: NANOBYK-3601, NANOBYK-3602, NANOBYK-3610 등을 들 수 있다.
산화 지르코니아 입자로서는
사카이 화학공업제: SZR-K, SZR-KM
CIK 나노텍제: ZRANB15WT%-P02, ZRMIBK15WT%-P01, ZRMIBK15WT%-F85
솔라제: NANON5ZR-010, NANON5ZR-020 등을 들 수 있다.
본 개시의 기층에 포함될 수 있는 기재로서, 예를 들면, 폴리카보네이트계 필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트 등의 폴리에스터계 필름; 다이아세틸 셀룰로스, 트라이아세틸 셀룰로스 등의 셀룰로스계 필름; 폴리메틸 메타크릴레이트 등의 아크릴계 필름과 같은, 수지 기재를 들 수 있다. 이들 수지 기재는 투명 수지 기재여도 된다.
또, 본 개시에 따른 수지 기재는, 폴리스타이렌, 아크릴로나이트릴-스타이렌 공중합체 등의 스타이렌계 필름; 폴리염화 바이닐, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 환상 내지 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 올레핀계 필름; 나일론, 방향족 폴리아마이드 등의 아마이드계 필름 등의, 수지 기재를 들 수 있다. 이들 수지 기재는 투명 수지 기재여도 된다.
또한, 본 개시에 따른 수지 기재는, 폴리이미드, 폴리설폰, 폴리에터 설폰, 폴리에터 에터 케톤, 폴리페닐렌 설파이드, 폴리바이닐 알코올, 폴리염화 바이닐리덴, 폴리바이닐 뷰티랄, 폴리아릴레이트, 폴리옥시메틸렌, 에폭시 수지, 및 상기 폴리머의 블렌드물 등의, 수지 기재를 들 수 있다. 이들 수지 기재는 투명 수지 기재여도 된다.
또한, 본 개시에 따른 수지 기재는, 복수의 수지 기재가 적층된 것이어도 된다. 예를 들면, 아크릴계 수지로 이루어지는 필름 및 폴리카보네이트계 수지로 이루어지는 필름의 적층 부재 또는 시트의 적층 부재여도 된다. 이들 적층 부재는, 투명한 적층 부재여도 된다.
본 개시에 따른 수지 기재는, 이들 수지 기재 중, 광학적으로 복굴절이 적은 것, 혹은 위상차를 파장(예를 들면 550nm)의 1/4(λ/4) 또는 파장의 1/2(λ/2)로 제어한 것, 나아가서는 복굴절을 전혀 제어하고 있지 않은 것을, 용도에 따라서 적절히 선택할 수 있다.
필름 기재의 두께는, 예를 들면 0.01mm 이상 5mm 이하여도 된다.
(코팅 부재의 제조 방법)
다른 실시형태에 있어서, 본 개시는, 기층의 시인 측의 면에 있어서의 적어도 일부에, 본 개시에 따른 광간섭층 형성 조성물을 잉크젯법에 의해 도장하는 것, 및
활성 에너지선을 조사하여, 광간섭층을 형성하는 것을 포함하는 코팅 부재의 제조 방법을 제공한다. 이 방법을 이용하여, 본 개시에 따른 코팅 부재를 제조할 수 있다.
본 개시에 있어서, 광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯법을 이용하여, 기층에 도장할 수 있다. 잉크젯법의 방식에 제한은 없고, 공지된 방식, 예를 들면 정전 유인력을 이용하는 전하 제어 방식, 피에조 소자의 진동 압력을 이용하는 드롭 온 디맨드 방식(압력 펄스 방식), 전기 신호를 음향 빔으로 변환하여, 광간섭층 형성 조성물에 조사하고, 방사압을 이용하여 광간섭층 형성 조성물을 토출시키는 음향 잉크젯 방식, 및 광간섭층 형성 조성물을 가열하여 기포를 형성하고, 생긴 압력을 이용하는 서멀 잉크젯 방식 등을 이용할 수 있다.
기층에 도장된 광간섭층 형성 조성물을 경화시키는 것에 의해, 광간섭층이 형성된다. 이 경화는, 필요에 따른 파장의 활성 에너지선을 발하는 광원을 이용하여 조사하는 것에 의해 행할 수 있다. 조사하는 일례로서, 자외선을 들고 있고, 예를 들면, 적산 광량 1∼5000mJ/cm2의 광을 조사할 수 있다. 예를 들면, 적산 광량 100mJ/cm2 초과 1000mJ/cm2 이하의 광을 조사하는 것에 의해, 광간섭층의 특성을 충분히 발휘할 수 있고, 게다가, 보다 효율적으로 광간섭층을 형성할 수 있다.
또 이 조사광의 파장은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 380nm 이하의 파장을 갖는 자외광 등을 이용할 수 있다. 이와 같은 광은, 고압 수은등, 초고압 수은등 등을 이용하여 얻을 수 있다.
(가식층)
본 개시의 코팅 부재는, 필요에 따라서 추가로 가식층을 가져도 되고, 예를 들면, 기층의 광간섭층과는 반대 측에 가식층을 가져도 된다.
가식층은, 본 개시에 따른 가식용 적층 부재에 모양, 문자 또는 금속 광택 등의 가식을 실시하는 층이다. 이와 같은 가식층으로서, 예를 들면 인쇄층 또는 증착층 등을 들 수 있다. 인쇄층 및 증착층은 모두, 가식을 실시하는 것을 주된 목적으로 하는 층이다.
본 개시에 있어서, 가식층으로서 인쇄층 또는 증착층의 어느 하나만을 마련해도 되고, 혹은 인쇄층 및 증착층의 양방을 마련해도 된다. 또 인쇄층은 복수의 층으로 구성되는 층이어도 된다. 예를 들면, 가식층은 인쇄층이다.
인쇄층은, 성형체 표면에 모양 및/또는 문자 등의 가식을 실시하는 것이다. 인쇄층으로서, 예를 들면, 나뭇결, 돌결, 옷감의 결, 모래의 결, 기하학 모양, 문자, 전면 솔리드 등으로 이루어지는 도안을 들 수 있다. 인쇄층의 재료로서는, 염화 바이닐/아세트산 바이닐계 공중합체 등의 폴리바이닐계 수지, 폴리아마이드계 수지, 폴리에스터계 수지, 폴리아크릴계 수지, 폴리유레테인계 수지, 폴리바이닐 아세탈계 수지, 폴리에스터 유레테인계 수지, 셀룰로스 에스터계 수지, 알키드 수지, 염소화 폴리올레핀계 수지 등의 수지를 바인더로 하고, 적절한 색의 안료 또는 염료를 착색제로서 함유하는 착색 잉크를 이용하면 된다.
인쇄층에 이용되는 잉크의 안료로서는, 예를 들면, 다음의 것을 사용할 수 있다. 통상, 안료로서, 황색 안료로서는 폴리아조 등의 아조계 안료, 아이소인돌리논 등의 유기 안료 또는 타이타늄 니켈 안티모니 산화물 등의 무기 안료, 적색 안료로서는 폴리아조 등의 아조계 안료, 퀴나크리돈 등의 유기 안료 또는 벵갈라 등의 무기 안료, 청색 안료로서는 프탈로사이아닌 블루 등의 유기 안료 또는 코발트 블루 등의 무기 안료, 흑색 안료로서는 아닐린 블랙 등의 유기 안료, 백색 안료로서는 이산화 타이타늄 등의 무기 안료를 사용할 수 있다.
인쇄층에 이용되는 잉크의 염료로서는, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서, 각종 공지된 염료를 사용할 수 있다. 또, 잉크의 인쇄 방법으로서는, 오프셋 인쇄법, 그라비어 인쇄법, 스크린 인쇄법 등의 공지된 인쇄법 또는 롤 코팅법, 스프레이 코팅법 등의 공지된 코팅법을 이용하는 것이 좋다.
증착층은, 알루미늄, 니켈, 금, 백금, 크로뮴, 철, 구리, 인듐, 주석, 은, 타이타늄, 납, 아연 등의 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 금속, 또는 이들의 합금 혹은 화합물을 사용하여, 진공 증착법 또는 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 도금법 등의 방법에 의해 형성할 수 있다.
이들 가식을 위한 인쇄층 또는 증착층은, 원하는 성형체의 표면 외관이 얻어지도록, 성형 시의 연신 정도에 따라서, 통상 이용되는 방법에 의해 적절히 그 두께를 선택할 수 있다.
본 개시의 코팅 부재는, 터치 패널 또는 디스플레이부에 배치되는 부재 및 그 주변에 배치되는 센서 부재로서 적합하게 이용할 수 있다.
일 실시형태에 있어서, 디스플레이로서, 예를 들면, 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 등을 들 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 가식 성형체를, 터치 패널, 디스플레이부에 배치하는 경우는, 터치 패널, 디스플레이부의 표시면에, 기층의 광간섭층과는 반대 측의 면이 적층된다.
본 발명의 코팅 부재는, 예를 들면, 자동차 구성 부품, 휴대 정보 단말, 가정용 전기 제품, 가구, 실내 세간품 등에 적용할 수 있고, 예를 들면, 차량의 실내에 이용하는 가식용 부재로서 적용할 수 있다.
실시예
이하의 실시예에 의해 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되지 않는다. 실시예 중, 「부」 및 「%」는, 달리 언급이 없는 한, 질량 기준에 의한다.
(제조예 1)
베이스 도막 형성 조성물의 조제
광중합 개시제로서 이르가큐어 184(IGM Resins사제)를 7중량부, 자외선 경화형 수지로서 아로닉스 M-305(도아고세이사제)를 100중량부, 용매로서 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터(PGM)를 이용하고, 고형분 농도가 35%가 되도록 조정하여, 베이스 도막 형성 조성물을 조제했다. 한편, 도막 형성 후의 굴절률은 1.51이었다.
(제조예 2)
중굴절률층 형성 조성물의 조제
광중합 개시제로서 이르가큐어 127(IGM)을 0.18중량부, 자외선 경화형 수지로서 아로닉스 M-402(도아고세이)를 2.65중량부, 굴절률 조정용의 금속 산화물 미립자로서 ZR-010(솔라)을 6.58중량부, 용매로서 다이아세톤 알코올(DAA)을 90중량부 이용하여, 중굴절률층 형성 조성물을 조정했다. 한편, 도막 형성 후의 굴절률은 1.59였다.
(제조예 3)
고굴절률층 형성 조성물의 조제
광중합 개시제로서 이르가큐어 127(IGM)을 0.17중량부, 자외선 경화형 수지로서 아로닉스 M-402(도아고세이)를 0.72중량부, 굴절률 조정용의 금속 산화물 미립자로서 ZR-010(솔라)을 12.43중량부, 용매로서 다이아세톤 알코올(DAA)을 90중량부 이용하여, 고굴절률층 형성 조성물을 조정했다. 한편, 도막 형성 후의 굴절률은 1.76이었다.
(제조예 A1)
기층 1의 제조
두께 2.0mm인, PMMA(폴리메틸 메타크릴레이트) 및 PC(폴리카보네이트)로 이루어지는 3층(PMMA/PC/PMMA) 시트(상품명: MT3LTR, 구라레이 주식회사제)의 한쪽 면에, 베이스 도막 형성 조성물을 바 코터에 의해 건조 막 두께가 3.5μm가 되도록 도포하고, 65℃에서 4분간 건조시켜 용매를 휘발시키고, 하드 코팅 조성물 측으로부터, 적산 광량 250mJ/cm2의 자외선 조사 처리에 의해 경화시켜, 베이스층을 형성했다(굴절률 1.51).
이어서, 베이스층 상에, 중굴절률층 형성 조성물을 바 코터에 의해 건조 막 두께가 80nm가 되도록 도포하고, 65℃에서 4분간 건조시켜 용매를 휘발시키고, 중굴절률층 형성 조성물 측으로부터, 적산 광량 250mJ/cm2의 자외선 조사 처리에 의해 경화시켜, 중굴절률층을 형성했다(굴절률 1.59).
추가로, 중굴절률층 상에, 고굴절률층 형성 조성물을 바 코터에 의해 건조 막 두께가 60nm가 되도록 도포하고, 65℃에서 4분간 건조시켜 용매를 휘발시키고, 고굴절률층 형성 조성물 측으로부터, 적산 광량 250mJ/cm2의 자외선 조사 처리에 의해 경화시켜, 고굴절률층을 형성했다(굴절률 1.76).
이와 같이 하여, 기층 1을 제조했다.
(참고예 1: 기층에 관한 평가)
얻어진 기층의 고굴절률층과는 반대 측의 면에, 스크린 인쇄를 이용하여, HF-HSD 콘크 710 블랙(세이코 어드밴스사제)에 의해 전면 흑색의 인쇄를 실시했다. 이 시험편에 대해, JIS Z8781-4, JIS Z8781-5 등에 기재된 방법에 따라, 닛폰 덴쇼큐 공업제(품번 SD3000)의 장치를 이용하여, 기층에 있어서의 색상의 L값, a값 및 b값인 L(i), a(i) 및 b(i)을 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다. 그 외의 평가 항목에 대해서는, 후술하는 실시예 1에 기재된 각종 평가 기준과 마찬가지로 하여 평가를 행했다.
(제조예 A2)
기층 2의 제조
두께 2.0mm인, PMMA(폴리메틸 메타크릴레이트) 및 PC(폴리카보네이트)로 이루어지는 3층(PMMA/PC/PMMA) 시트(상품명: MT3LTR, 구라레이 주식회사제)의 한쪽 면에, 베이스 도막 형성 조성물을 바 코터에 의해 건조 막 두께가 3.5μm가 되도록 도포하고, 65℃에서 4분간 건조시켜 용매를 휘발시키고, 하드 코팅 조성물 측으로부터, 적산 광량 250mJ/cm2의 자외선 조사 처리에 의해 경화시켜, 베이스층을 형성했다(굴절률 1.51).
이와 같이 하여, 기층 2를 제조했다.
(조제예 B1)
광간섭층 형성 조성물 1의 조제
광중합 개시제로서 이르가큐어 127(IGM)을 0.63중량부, 광중합 개시제로서 아로닉스 M-402(도아고세이)를 7.46중량부, 굴절률 조정용의 미립자로서 스룰리아 4320(닛키 촉매 화성사제)을 33.72중량부, 용매로서 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터(PGM)를 이용하고, 고형분 농도가 30%가 되도록 조정하여, 광간섭층 형성 조성물 1을 조제했다.
(실시예 1)
얻어진 기층의, 고굴절률층을 형성한 면에, 조제예 B1에서 얻어진 광간섭층 형성 조성물 1을, 잉크젯 장치를 이용하여, 건조 후의 광간섭층의 최대 두께 tm이 76nm가 되도록 도장했다. 65℃에서 4분간 건조시켜 용매를 휘발시키고, 광간섭층 형성 조성물 측으로부터, 적산 광량 250mJ/cm2의 자외선 조사 처리에 의해 경화시켜, 광간섭층을 형성했다.
이와 같이 하여, 기층과 광간섭층 형성 조성물로 형성된 광간섭층을 갖는 코팅 부재를 형성했다.
(두께의 측정)
시험 샘플을 10mm×10mm로 잘라내어, 마이크로톰(LEICA RM2265)으로 광간섭층의 단면을 석출시켰다. 석출시킨 단면을 FE-SEM(S-4800 히타치 하이테크놀로지제)으로 관찰하여, 10점의 광간섭층의 두께를 측정하고, 그 최대치 및 최소치의 평균치를 산출하는 것에 의해, 최소 두께(tmin)와 최대 두께(tmax)를 산출했다.
(굴절률의 측정)
각 층에 관한 굴절률은, JIS K0062에 준거한 방법에 의해, 아베 굴절률계에 의해 측정했다. 한편, 광간섭층의 굴절률은, 코팅 부재의 형태로 측정했다.
(광간섭층에 관한 색상의 평가)
실시예 1에서 얻은 코팅 부재의 광간섭층과는 반대 측의 면에, 스크린 인쇄를 이용하여, HF-HSD 콘크 710 블랙(세이코 어드밴스사제)에 의해 전면 흑색의 인쇄를 실시했다. 이 시험편에 대해, JIS Z8781-4, JIS Z8781-5 등에 기재된 방법에 따라, 닛폰 덴쇼큐 공업제(품번 SD3000)를 이용하여, 색상 L76(ii), a76(ii) 및 b76(ii)를 측정했다.
얻어진 수치에 기초하여, 「L(i)-L76(ii)」, 「a(i)-a76(ii)」 및 「b(i)-b76(ii)」를 산출했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
여기에서, 참고예 1에서 측정한 L값, a값 및 b값을, 각각, L(i), a(i) 및 b(i)로 했다.
(색차 ΔE의 산출)
색차 ΔE는, JIS Z8730:2009에 준거하여 유도했다. 전술한 바와 같이 하여 얻어진 기층에 있어서의 색상 L(i), a(i) 및 b(i)을 측정하고, 마찬가지로, 광간섭층의 두께 76nm에 있어서의 영역의 색상 L76(ii), a76(ii) 및 b76(ii)의 값으로부터 산출했다.
결과를 표 1에 나타낸다.
(나누어 칠하기 가부에 관한 평가)
150×250mm의 기층 상에, 잉크젯 장치를 이용하여, 조제예 B1에서 조제한 광간섭층 형성 조성물 1을 50mm각의 정방형을 3개소에 패터닝 도포했다. 도포면에 대해, 이하의 평가 기준에 따라 평가를 행했다.
(평가 기준)
○: 49mm각의 정방형∼51mm각의 정방형에 도포면이 들어가 있다.
Δ: 48mm각∼49mm각 미만의 정방형, 또는 51mm각 초과∼52mm각의 정방형에 도포면이 들어가 있다.
×: 48mm각의 정방형∼52mm각의 정방형에 도포면이 들어가 있지 않다.
(얼룩·마무리에 관한 평가)
150×250mm의 기층 상에, 잉크젯 장치를 이용하여, 조제예 B1에서 조제한 광간섭층 형성 조성물 1을 50mm각의 정방형을 3개소에 패터닝 도포했다. 인쇄한 도포면의 색상 3개소에 대해, 그 색차(ΔE)의 최대치를 측정했다. 이 색차(ΔE)의 최대치를 이하의 기준에 따라 평가했다.
(평가 기준)
○: 1 이하
Δ: 1 초과, 1.5 이하
×: 1.5 초과
연필 경도의 평가
실시예 1에서 얻어진 코팅 부재에 있어서의, 광간섭층에 대해, 경도의 평가를 행했다. 측정은, JIS K5600-5-4(1999), 긁기 경도(연필법)에 따라 연필 경도를 측정했다.
(반사율의 측정)
참고예 1에서 작성한 기층에 대해서는, 고굴절률층(굴절률 1.76) 측에 있어서의 파장 380∼780nm의 광선 반사율의 측정을 행했다. 결과를 도 1a에 나타낸다.
실시예 1에서 얻어진 코팅 부재에 있어서의, 광간섭층에 대해, 파장 380∼780nm의 광선 반사율의 측정을 행했다. 구체적으로는, 광간섭층의 두께 76nm의 영역을, 분광 색채계(닛폰 덴쇼큐 공업제 SD3000)를 이용하여, 5nm마다, 반사하는 광선의 강도(반사율을 측정했다. 결과를 도 1b에 나타낸다.
여기에서, 각 도면에 있어서 「광학 간섭」으로 나타나는 곡선이, 광간섭층에 관한 측정 결과이다. 또한, 「통상」으로 나타나는 곡선은, 참고로서, 기재와 베이스층을 갖는 도장물에 관한 반사율이다.
(실시예 2∼실시예 9)
광간섭층의 최대 두께를 변화시킨 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 코팅 부재를 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 각종 평가를 행했다. 결과를 표 1 및 도 2∼도 9에 나타낸다.
(실시예 10)
(조제예 B2)
광간섭층 형성 조성물 2의 조제
광중합 개시제로서 이르가큐어 127(IGM)을 0.63중량부, 광중합 개시제로서 아로닉스 M-402(도아고세이)를 7.46중량부, 굴절률 조정용의 미립자로서 스룰리아 4320(닛키 촉매)을 39.46중량부, 용매로서 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터(PGM)를 이용하고, 고형분 농도가 30%가 되도록 조정하여, 광간섭층 형성 조성물 2를 조제했다.
얻어진 광간섭층 형성 조성물 2를 이용하여, 두께 120nm의 광간섭층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 코팅 부재를 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 각종 물성 등을 평가했다. 광간섭층의 굴절률은 1.37이었다. 실시예 10에 관한 상세한 물성 등을 표 2에 나타낸다. 또, 반사율에 관한 결과를 도 10에 나타낸다.
(실시예 11)
(조제예 B3)
광간섭층 형성 조성물 3의 조제
광중합 개시제로서 이르가큐어 127(IGM)을 0.63중량부, 광중합 개시제로서 아로닉스 M-402(도아고세이)를 7.46중량부, 굴절률 조정용의 미립자로서 스룰리아 4320(닛키 촉매)을 6.42중량부, 용매로서 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터(PGM)를 이용하고, 고형분 농도가 30%가 되도록 조정하여, 광간섭층 형성 조성물 3을 조제했다.
얻어진 광간섭층 형성 조성물 3을 이용하여, 두께 120nm의 광간섭층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 코팅 부재를 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 각종 물성 등을 평가했다. 광간섭층의 굴절률은 1.48이었다. 실시예 11에 관한 상세한 물성 등을 표 2에 나타낸다. 또, 반사율에 관한 결과를 도 11에 나타낸다.
(실시예 12)
(조제예 B4)
광간섭층 형성 조성물 4의 조제
광중합 개시제로서 이르가큐어 127(IGM)을 0.63중량부, 광중합 개시제로서 아로닉스 M-402(도아고세이)를 5.60중량부, 및 아로닉스 M-211B(도아고세이)를 1.86중량부, 용매로서 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터(PGM)를 이용하고, 고형분 농도가 30%가 되도록 조정하여, 광간섭층 형성 조성물 4를 조제했다.
얻어진 광간섭층 형성 조성물 4를 이용하여, 두께 120nm의 광간섭층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 코팅 부재를 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 각종 물성 등을 평가했다. 광간섭층의 굴절률은 1.52였다. 실시예 12에 관한 상세한 물성 등을 표 2에 나타낸다. 또, 반사율에 관한 결과를 도 12에 나타낸다.
(실시예 13)
기층 2를 이용하고, 광간섭층의 두께를 120nm로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 코팅 부재를 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 각종 물성 등을 평가했다. 실시예 13에 관한 상세한 물성 등을 표 2에 나타낸다. 또, 반사율에 관한 결과를 도 13에 나타낸다.
(실시예 14)
(조제예 B5)
광간섭층 형성 조성물 5의 조제
광중합 개시제로서 이르가큐어 127(IGM)을 0.63중량부, 광중합 개시제로서 아로닉스 M-402(도아고세이)를 6.93중량부, 굴절률 조정용의 미립자로서 스룰리아 4320(닛키 촉매)을 19.41중량부, 용매로서 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터(PGM)를 이용하고, 고형분 농도가 30%가 되도록 조정하여, 광간섭층 형성 조성물 5를 조제했다.
얻어진 광간섭층 형성 조성물 5를 이용하여, 두께 120nm의 광간섭층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 코팅 부재를 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 각종 물성 등을 평가했다. 광간섭층의 굴절률은 1.42였다. 실시예 14에 관한 상세한 물성 등을 표 2에 나타낸다. 또, 반사율에 관한 결과를 도 14에 나타낸다.
(실시예 15)
조제예 B1에서 작성한 광간섭층 형성 조성물 1에 있어서, 수지 고형분 100질량부에 대해, 900질량부의 유기 용매(PGM)가 포함되도록 광간섭층 형성 조성물을 조정한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 코팅 부재를 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 각종 물성 등을 평가했다. 실시예 14에 관한 상세한 물성 등을 표 2에 나타낸다. 또, 반사율에 관한 결과를 도 15에 나타낸다.
(실시예 16)
조제예 B1에서 작성한 광간섭층 형성 조성물 1에 있어서, 수지 고형분 100질량부에 대해, 8000질량부의 유기 용매(PGM)가 포함되도록 광간섭층 형성 조성물을 조정한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 코팅 부재를 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 각종 물성 등을 평가했다. 실시예 14에 관한 상세한 물성 등을 표 2에 나타낸다. 또, 반사율에 관한 결과를 도 16에 나타낸다.
(실시예 17)
(조제예 B6)
광간섭층 형성 조성물 6의 조제
광중합 개시제로서 이르가큐어 127(IGM)을 0.63중량부, 광중합 개시제로서 아로닉스 M-402(도아고세이)를 6.93중량부, 불소계 첨가제로서 DAC-HP(다이킨)를 2.67중량부, 굴절률 조정용의 미립자로서 스룰리아 4320(닛키 촉매)을 33.72중량부, 용매로서 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터(PGM)를 이용하고, 고형분 농도가 30%가 되도록 조정하여, 광간섭층 형성 조성물 6을 조제했다.
얻어진 광간섭층 형성 조성물 6을 이용하여, 두께 120nm의 광간섭층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 코팅 부재를 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 각종 물성 등을 평가했다. 광간섭층의 굴절률은 1.38이었다. 실시예 14에 관한 상세한 물성 등을 표 2에 나타낸다. 또, 반사율에 관한 결과를 도 17에 나타낸다.
(실시예 18)
(조제예 B7)
광간섭층 형성 조성물 7의 조제
광중합 개시제로서 이르가큐어 127(IGM)을 0.63중량부, 광중합 개시제로서 아로닉스 M-402(도아고세이)를 4.16중량부, 실리콘 변성 유레테인 아크릴레이트인 UN-906S(네가미 공업)를 2.77중량부, 불소계 첨가제로서 DAC-HP(다이킨)를 2.67중량부, 굴절률 조정용의 미립자로서 스룰리아 4320(닛키 촉매)을 33.72중량부, 용매로서 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터(PGM)를 이용하고, 고형분 농도가 30%가 되도록 조정하여, 광간섭층 형성 조성물 7을 조제했다.
얻어진 광간섭층 형성 조성물 7을 이용하여, 두께 120nm의 광간섭층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 코팅 부재를 형성했다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 각종 물성 등을 평가했다. 광간섭층의 굴절률은 1.38이었다. 실시예 14에 관한 상세한 물성 등을 표 2에 나타낸다. 또, 반사율에 관한 결과를 도 18에 나타낸다.
(비교예 1∼비교예 4)
비교예 1∼비교예 3은, 잉크젯 도장용의 조성물인, 조제예 1에서 조제한 본 개시에 따른 광간섭층 형성 조성물을, 잉크젯법 이외의 도장 방법을 이용하여 도장을 행한 비교예이다. 상세한 결과를 표 3에 나타낸다. 이 결과로부터 이해할 수 있는 바와 같이, 잉크젯 도장용의 조성물을 그 외의 방법으로 도장하면, 반사 특성 및 의장성이 우수한 도막을 얻을 수 없었다.
비교예 4는, 광간섭층의 막 두께가, 본 개시의 범위 밖인 비교예이다. 상세한 결과를 표 3에 나타낸다. 이 결과로부터 이해할 수 있는 바와 같이, 광간섭층이 특정의 막 두께를 초과하면, 도막의 나누어 칠하기를 행할 수 없어, 예를 들면, 그러데이션 등, 의장성이 우수한 도막을 형성할 수 없었다.
(비교예 5)
(조제예 8)
수산기 함유 아크릴 수지(1)의 제조
교반기, 온도 제어 장치, 환류 냉각기를 구비한 용기에, 아세트산 뷰틸 30g을 투입하고, 120℃로 승온시켰다. 다음으로 하기 조성의 단량체 혼합물(스타이렌 20부, 아크릴산 n-뷰틸 15.3부, 메타크릴산-n-뷰틸 27.9부, 메타크릴산-2-하이드록시프로필 36부, 아크릴산 0.8부), 그리고 카야 에스터 O 12부 및 아세트산 뷰틸 6부를 3시간에 걸쳐 동시에 적하시킨 후 30분간 방치하고, 카야 에스터 O 0.5부, 아세트산 뷰틸 4부의 용액을 30분간에 걸쳐 적하하고, 반응 용액을 1시간 교반하여 수지로의 변화율을 상승시킨 후, 반응을 종료시켜, 고형분 70%, 수 평균 분자량 3800, 수산기가 140mg/KOH, 산가 6.2mg/KOH, SP값 10.6인, 수산기 함유 아크릴 수지(1)을 얻었다.
클리어 도료 조성물의 조제
상기 조제예 8의 수산기 함유 아크릴 수지(1)을 수지 고형분으로 60.0부, 메틸 아밀 케톤 57.0부 및 DBE(쇼에이 케미컬사제) 22.0부를 순차 첨가하고, 디스퍼로 충분히 교반하여, 2액형 클리어 도료 조성물의 주제를 얻었다.
다른 금속제 용기에, 스미토모 바이에르 유레테인사제 「데스모듀르 N-3300」(NCO 유효 성분 22%) 고형분으로 40.0부 및 2-에틸에톡시프로판올을 순차 첨가하고, 충분히 교반하여, 2액형 클리어 도료 조성물의 경화제를 얻었다.
광간섭층 형성 조성물 8
상기 클리어 도료 조성물과, 굴절률 조정용의 미립자로서 스룰리아 4320(닛키 촉매)을 452.01중량부, 용매로서 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에터(PGM)를 이용하고, 고형분 농도가 30%가 되도록 조정하여, 광간섭층 형성 조성물 8을 조제했다. 실시예 1과 마찬가지로 하여 광간섭층을 형성했다. 상세한 결과를 표 3에 나타낸다.
이 결과, 얻어진 코팅 부재는, 충분한 경도를 가질 수 없었다.
(비교예 6, 비교예 7)
비교예 8 및 9는, 기층의 굴절률로부터 광간섭층의 굴절률을 뺀 값, (기층의 굴절률-광간섭층의 굴절률)이 본 개시의 범위 밖인 비교예이다.
또한, 기층 2를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 각종 물성 등을 평가했다.
결과를 표 3에 나타낸다. 이 결과, 색조 변화가 없어 의장성이 나빴다.
(참고예 2, 참고예 3)
참고예 2 및 3은, 잉크젯 도장에서의 사용이 상정되어 있지 않는 조성물로서, 스크린 인쇄 등, 잉크젯법 이외의 방법을 이용하여 광간섭층을 형성할 수 있는 조성물을, 잉크젯법으로 도장하여, 도막의 형성을 시도했다. 예를 들면, 참고예 2는, 점도가 극히 낮아, 잉크젯 도장을 행한 바, 얼룩의 발생, 마무리 불량 등이 생겼다. 한편, 참고예 3은, 점도가 높아, 잉크젯법에 의해, 600nm 이하의 두께를 갖는 도막의 형성을 할 수 없었다.
[표 1A]
Figure pct00001
[표 1B]
Figure pct00002
[표 2A]
Figure pct00003
[표 2B]
Figure pct00004
[표 3]
Figure pct00005
실시예의 결과에 의하면, 본 개시에 따른 코팅 부재는, 반사 방지성과 의장성을 모두 향상시킬 수 있는 코팅 부재이다. 또, 표시 영역과 비표시 영역의 광 누설을 억제할 수 있고, 또한 반사 방지성이 우수하다.
게다가, 높은 나누어 칠하기 특성을 갖고 있어, 디자인의 선택성이 풍부한 코팅 부재인 것을 알 수 있다. 그에 더하여, 얼룩이 없거나 또는 극히 적은 코팅 부재이고, 게다가 양호한 도막 경도를 갖고 있다.
본 개시의 코팅 부재는, 반사 방지성과 의장성을 모두 향상시킬 수 있다. 또한, 높은 나누어 칠하기 특성을 갖고 있어, 디자인의 선택성이 풍부한 코팅 부재가 제공된다.

Claims (10)

  1. 기층(基層)과, 광간섭층 형성 조성물로 형성된 광간섭층을 갖는 코팅 부재로서,
    상기 기층의 시인 측의 면에 있어서의 일부에, 상기 광간섭층이 배치되고,
    상기 광간섭층은, 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위 내이며,
    0.08＜(상기 기층의 굴절률)-(상기 광간섭층의 굴절률)＜0.45의 관계를 갖고,
    상기 광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물이고,
    상기 광간섭층은, 잉크젯법에 의해 형성된 광간섭층인,
    코팅 부재.
  2. 기층과, 광간섭층 형성 조성물로 형성된 광간섭층을 갖는 코팅 부재로서,
    상기 기층의 시인 측의 면에 있어서의 적어도 일부에, 상기 광간섭층이 배치되고,
    상기 광간섭층은, 0nm보다 크고 600nm 이하의 범위 내에서,
    최소 두께(tmin)와 최대 두께(tmax)를 갖고, 또한
    상기 최소 두께(tmin)＜최대 두께(tmax)의 관계를 가지며,
    0.08＜(상기 기층의 굴절률)-(상기 광간섭층의 굴절률)＜0.45의 관계를 갖고,
    상기 광간섭층 형성 조성물은, 잉크젯 도장용의 조성물이고,
    상기 광간섭층은, 잉크젯법에 의해 형성된 광간섭층인,
    코팅 부재.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 기층에 있어서의 색상의 L값, a값 및 b값을, L(i), a(i) 및 b(i)로 하고,
    상기 광간섭층의 두께 t(nm)에 있어서의 색상의 L값, a값 및 b값을, Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)로 하고,
    여기에서, t는 0nm보다 크고 600nm 이하이며,
    상기 기층에 있어서의 L(i), a(i) 및 b(i)과,
    상기 광간섭층에 있어서의, 상기 두께 t(nm)에서의 Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)가, 이하의 식(1)∼식(3) 중 적어도 1개를 만족시키는,
    코팅 부재;
    0＜L(i)-Lt(ii)＜35 식(1)
    -30＜a(i)-at(ii)＜30 식(2)
    -40＜b(i)-bt(ii)＜40 식(3).
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기층에 있어서의 색상의 L값, a값 및 b값을, L(i), a(i) 및 b(i)로 하고,
    상기 광간섭층에 있어서의, 두께 t(nm)에서의 색상의 L값, a값 및 b값을, Lt(ii), at(ii) 및 bt(ii)로 하고,
    여기에서, t는 0nm보다 크고 600nm 이하이며,
    상기 기층에 있어서의 색상과, 상기 광간섭층에 있어서의, 두께 t(nm)에서의 색상의 차 ΔE가
    1＜ΔE＜50
    의 관계를 나타내는, 코팅 부재.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광간섭층 형성 조성물은, 수지 고형분 100질량부에 대해, 300질량부 이상 9900질량부의 유기 용매를 포함하는, 코팅 부재.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광간섭층 형성 조성물은, 광간섭층 형성 수지 성분을 포함하고,
    상기 광간섭층 형성 수지 성분은, 불포화 이중 결합을 갖고, 활성 에너지선 경화형의 수지 성분인, 코팅 부재.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광간섭층 형성 조성물은, 다작용 아크릴레이트 및 불소 수지를 포함하는, 코팅 부재.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광간섭층 형성 조성물은, 다작용 아크릴레이트, 실리콘 변성 아크릴레이트 및 불소 수지를 포함하는, 코팅 부재.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    차량의 실내에 이용하는 가식용 부재인, 코팅 부재.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 코팅 부재의 제조 방법으로서,
    상기 기층의 시인 측의 면에 있어서의 적어도 일부에, 상기 광간섭층 형성 조성물을 잉크젯법에 의해 도장하는 것, 및
    활성 에너지선을 조사하여, 상기 광간섭층을 형성하는 것
    을 포함하는 코팅 부재의 제조 방법.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012088684A (ja) 2010-09-21 2012-05-10 Dainippon Printing Co Ltd 表示用前面板、表示用前面板の製造方法、表示装置および表示装置の製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5766738A (en) * 1979-12-28 1998-06-16 Flex Products, Inc. Paired optically variable article with paired optically variable structures and ink, paint and foil incorporating the same and method
EP0220716B1 (de) * 1985-10-29 1994-06-01 Andreas Biedermann Dekorierter Gegenstand
JPH0749224A (ja) * 1993-08-05 1995-02-21 Inax Corp 部材表面の検査方法
JP3430094B2 (ja) * 1998-12-10 2003-07-28 日産自動車株式会社 塗装構造
WO2002055612A1 (fr) * 2001-01-15 2002-07-18 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Composition de revêtement, film de revêtement en cette composition, revêtement antireflet, film antireflet, afficheur d'image, et produit intermédiaire
JP2008058723A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Sharp Corp 防眩性フィルム及び液晶表示装置
JP5170083B2 (ja) * 2007-03-12 2013-03-27 コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 防眩性反射防止フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置
WO2008123101A1 (ja) * 2007-03-31 2008-10-16 Konica Minolta Opto, Inc. 反射防止フィルム、それを用いた偏光板、及び画像表示装置
JP2009139465A (ja) 2007-12-04 2009-06-25 Panasonic Corp 光学部品およびその製造方法
DE102008018866A1 (de) * 2008-04-15 2009-10-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Reflexionsminderndes Interferenzschichtsystem und Verfahren zu dessen Herstellung
JP2012181293A (ja) 2011-02-28 2012-09-20 Fujifilm Corp 反射防止膜の製造方法
CN104204864B (zh) * 2012-03-23 2017-09-05 凸版印刷株式会社 防反射膜
JPWO2014024873A1 (ja) * 2012-08-06 2016-07-25 コニカミノルタ株式会社 光反射フィルムおよびこれを用いた光反射体
JP6146103B2 (ja) * 2013-04-15 2017-06-14 凸版印刷株式会社 反射防止フィルム、それを用いた偏光板、タッチパネル基板、画像表示装置
JP6396003B2 (ja) * 2013-06-03 2018-09-26 富士フイルム株式会社 反射防止膜を備えた光学部材
JP2016045230A (ja) * 2014-08-20 2016-04-04 大日本印刷株式会社 表示装置用前面板およびその製造方法
EP3437858B1 (en) * 2016-03-30 2022-07-27 Nippon Paint Automotive Coatings Co., Ltd. Laminate film for molded decoration

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012088684A (ja) 2010-09-21 2012-05-10 Dainippon Printing Co Ltd 表示用前面板、表示用前面板の製造方法、表示装置および表示装置の製造方法

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