KR20220007530A - 결상광학계, 노광 장치, 및 물품제조방법 - Google Patents

결상광학계, 노광 장치, 및 물품제조방법 Download PDF

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Abstract

결상광학계는, 적어도 2개의 반사면의 각각의 형상을, 그 반사면의 각각의 이면에 힘을 가해서 조정하는 복수의 조정부를 구비한다. 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점을 해당 반사면에 대하여 규정된 광축 방향으로 투영하여서 얻어진 점은 보정점으로서 정의되고, 물체면의 한 점으로부터 방출된 광속내의 제1광선과 제2광선이 제1반사면과 제2반사면에서 반사할 때, 상기 제1광선은, 상기 제1반사면의 보정점에 입사하고, 상기 제2반사면의 보정점에는 입사하지 않고, 또, 상기 제2광선은, 상기 제1반사면의 보정점에 입사하지 않고 상기 제2반사면의 보정점에 입사하도록, 상기 작용점이 설정된다.

Description

결상광학계, 노광 장치, 및 물품제조방법{IMAGING OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD}
본 발명은, 결상광학계, 노광 장치, 및 물품제조방법에 관한 것이다.
노광 장치는, 반도체 디바이스나 액정표시장치등의 제조 공정인 리소그래피 공정에 있어서, 원판(레티클 또는 마스크)의 패턴을, 투영 광학계를 통해 감광성의 기판(표면에 레지스트층이 형성된 웨이퍼나 유리 플레이트 등)에 전사하는 장치다. 노광 장치의 투영 광학계에는, 일반적으로, 대략 서로 동심형으로 배치된 오목거울과 볼록거울을 가지고, 광축외의 환형 양호 화상영역을 사용해서 마스크의 패턴을 기판 위에 결상하는 반사형 투영 광학계가 사용된다. 이러한 광학계에 있어서, 수차보정을 위해, 대구경의 오목거울을 가변거울로서 사용하는 것이 제안되어 있다(예를 들면, 일본 특허공개 2019-28352, 일본 특허공개 2017-211493을 참조). 가변거울에는 오목거울의 면형상을 보정하기 위해서 힘을 더하는 복수의 보정점이 배치된다. 광학성능의 관점에서는, 광속내에 될 수 있는 한 많은 보정점을 설치하는 것이 바람직하다.
반사형 투영 광학계에 가변거울을 적용할 때, 마스크상의 한 점으로부터 방출된 광속은, 기판 위에 결상되기 전에, 미러에서 복수회 반사된다. 특히, 대구경의 오목거울을 사용할 때, 광속은 상기 오목거울의 중심선에 대하여 대칭의 영역에서 2회 반사된다. 종래의 가변거울에 있어서는, 복수의 보정점이 점대칭으로 배치되어 있었다. 이 경우에, 마스크상의 한 점으로부터 방출된 광속에서의 동일 점은, 그 광속의 확대에서, 2회 보정된다. 이것은, 광속내에서 보정할 수 있는 점수가 실질적으로는 증가하지 않고 있는 것을 의미한다.
또한, 복수의 보정점의 각각은 복잡한 기계적 부재로 형성되고, 구동시에 열을 발생하므로, 인접하는 보정점의 간격을 쉽게 감소시킬 수 없다. 그 때문에, 1개의 반사면에 많은 보정점을 배치하는 것은 곤란하다.
이상의 과제로부터, 광속에 대하여, 보다 효과적인 면형상 보정점의 배치가 필요로 되어 있다. 본 발명은, 상기한 과제를 감안하여, 수차의 보정 정밀도의 향상에 유리한 기술을 제공한다.
일 측면에서의 본 발명에서는, 광을 반사하는 복수의 반사면을 포함하고 물체면으로부터 방출된 광속을 상기 복수의 반사면을 통해 상면(image plane) 위에 결상시키는 결상광학계를 제공하고, 상기 결상광학계는, 상기 복수의 반사면의 적어도 2개의 반사면의 각각의 형상을, 상기 적어도 2개의 반사면의 각각의 이면에 힘을 가해서 조정하는 복수의 조정부를 구비하고, 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점을 해당 반사면에 대하여 규정된 광축 방향으로 투영하여서 얻어진 점을 보정점으로서 정의하는 경우, 상기 물체면의 한 점으로부터 방출된 광속내의 제1광선과 제2광선이 제1반사면과 제2반사면에서 반사될 때, 상기 제1광선은, 상기 제1반사면의 보정점에 입사하지만 상기 제2반사면의 보정점에는 입사하지 않고, 상기 제2광선은, 상기 제1반사면의 보정점에 입사하지 않고 상기 제2반사면의 보정점에 입사하도록, 상기 작용점이 설정된다.
본 발명의 추가의 특징들은, (첨부도면을 참조하여) 이하의 실시 형태들의 설명으로부터 명백해질 것이다.
도1은 제1실시 형태에 따른 투영 광학계의 광로도;
도2a 및 2b는 종래 예에 있어서의 가변거울의 액추에이터의 배치도;
도3은 마스크면상의 원호형 노광 영역을 도시한 도면;
도4는 종래의 오목거울상의 유효광속영역을 도시한 모식도;
도5는 종래의 오목거울상의 유효광속영역과 보정점과의 위치 관계를 도시한 도면;
도6은 제1실시 형태에 있어서의 오목거울상의 유효광속영역을 도시한 광학 트레이스 도;
도7은 제1실시 형태에 있어서의 오목거울상의 유효광속영역을 도시한 모식도;
도8은 제1실시 형태에 있어서의 유효광속영역과 보정점과의 위치 관계를 도시한 도면;
도9는 제1실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면;
도10은 제2실시 형태에 있어서의 유효광속영역과 보정점과의 위치 관계를 도시한 도면;
도11은 제2실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면;
도12는 제3실시 형태에 있어서의 평면거울상의 유효광속영역과 보정점과의 위치 관계를 도시한 도면;
도13은 제3실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면;
도14는 제4실시 형태에 있어서의 평면거울상의 유효광속영역과 보정점과의 위치 관계를 도시한 도면;
도15는 제4실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면;
도16은 제5실시 형태에 따른 투영 광학계의 광로도;
도17a 및 17b는 제5실시 형태에 있어서의 제1 및 제2오목거울상의 유효광속영역과 보정점과의 위치 관계를 도시한 모식도;
도18은 제5실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면;
도19a 및 19b는 제6실시 형태에 있어서의 제1 및 제2평면거울상의 유효광속영역과 보정점과의 위치 관계를 각각 도시한 모식도;
도20은 제6실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면;
도21은 제7실시 형태에 있어서의 제1평면거울상의 유효광속영역과 보정점과의 위치 관계를 도시한 도면;
도22는 제7실시 형태에 있어서의 볼록거울상의 유효광속영역과 보정점과의 위치 관계를 도시한 도면;
도23은 제7실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면;
도24는 제8실시 형태에 있어서의 볼록거울상의 유효광속영역과 보정점과의 위치 관계를 도시한 도면;
도25는 제8실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면;
도26은 제1, 제2실시 형태에 있어서의 노광 장치의 구성을 도시한 도면;
도27은 제3, 제4실시 형태에 있어서의 노광 장치의 구성을 도시한 도면;
도28은 제5실시 형태에 있어서의 노광 장치의 구성을 도시한 도면;
도29는 제6실시 형태에 있어서의 노광 장치의 구성을 도시한 도면;
도30은 제7실시 형태에 있어서의 노광 장치의 구성을 도시한 도면이다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 실시 형태를 상세히 설명한다. 또한, 이하의 실시 형태는 청구된 발명의 범위를 한정하려는 것이 아니다. 실시 형태에는 복수의 특징이 기재되어 있지만, 이러한 복수의 특징들 모두를 필요로 하는 발명에 한정하는 것이 아니고, 복수의 이러한 특징은 적절히 조합되어도 된다. 더욱, 첨부 도면에 있어서는, 동일 또는 유사한 구성에 동일한 참조 번호를 첨부하고, 그의 중복된 설명은 생략한다.
도26은, 실시 형태에 있어서의 노광 장치의 구성을 도시한 도면이다. 본 명세서에 있어서, 수평면을 ＸＹ평면으로서 정의하는 ＸＹＺ좌표계에 있어서 방향이 표시된다. 일반적으로, 기판P는 그 기판P의 표면이 수평면(ＸＹ평면)에 평행해지도록 기판 스테이지(401) 위에 놓인다. 이에 따라, 이하에서는, 기판P의 표면을 따르는 평면내에서 서로 직교하는 방향을 X축 및 Y축으로서 정의하고, X축 및 Y축에 수직한 방향을 Z축으로서 정의한다. 단, 노광 장치의 구성으로 인해, Z축과 Y축과의 관계는 절곡 미러에 의해 상호 변환될 수 있다. 따라서, 참조하는 도면에 따라서 Z축과 Y축과의 관계가 교환될 수도 있다.
조명 광학계(1)는, 광원(101), ＮＤ필터(102), 옵티컬 인터그레이터(103), 조리개(104), 콘덴서 렌즈(105), 슬릿(106), 렌즈107, 미러(108), 렌즈109를 포함할 수 있다. 광원(101)은, 고압 수은 램프 등이고, 자외선의 광을 방출한다. ＮＤ필터(102)는, 소정의 투과율을 갖고, 광원(101)으로부터 방출된 광의 강도를 조정한다. 옵티컬 인터그레이터(103)는, 예를 들면 플라이 아이(fly-eye) 렌즈로 형성된다. 플라이 아이 렌즈는, 복수의 미소 렌즈의 집합으로 형성되고, 그 광 사출면 근방에 복수의 2차 광원이 형성된다. 조리개(104)는, 옵티컬 인터그레이터(103)에 의해 형성된 2차 광원의 집합의 총체적인 형상을 결정하기 위한 조리개다. 2차 광원의 집합의 총체적인 형상은 조명 형상이라고 불린다. 콘덴서 렌즈(105)는, 옵티컬 인터그레이터(103)로부터의 광을 사용하여 슬릿(106)을 쾰러(Koehler) 조명을 행한다. 슬릿(106)은, 광원으로부터의 광을 정형한다. 슬릿(106)의 개구부는, 마스킹 블레이드에 의해 마스크를 조명하는 형상으로 형성되어 있다. 슬릿(106)을 통과한 광은 렌즈107, 미러(108), 렌즈109를 통해 마스크M을 조명한다.
마스크 스테이지(201)는, 마스크M을 보유하고, Y축방향으로 이동가능하다. 레이저 간섭계(202)는, 마스크 스테이지(201)의 위치를 계측한다.
투영 광학계(3)는, 광을 반사하는 반사면 및 해당 반사면의 반대측의 면인 이면을 갖는 복수의 미러를 구비하고, 물체면으로부터 방출된 광속을 복수의 미러의 반사면을 통해 상면 위에 결상시키는, 결상광학계다. 보다 구체적으로는, 투영 광학계(3)는, 마스크M에 묘화된 패턴(예를 들면, 회로 패턴)을, 감광제가 도포된 기판인 기판P 위에 투영한다. 투영 광학계(3)는, 소위 오프너(Ｏｆｆｎｅｒ) 광학계다. 오프너 광학계에 있어서, 양호한 화상영역을 확보하기 위해서, 마스크M에는 원호형상의 광이 적용된다. 이에 따라, 슬릿(106)의 광투과부(개구부)의 형상의 각각은, 기판P에 도달하는 노광 광의 조사 형상도 원호형상으로 되어 있다. 마스크M의 패턴을 투과한 광은, 제1평면거울T1, 오목거울Ｍｏ의 제1반사 영역Ｍｏａ, 볼록거울Ｍｔ, 오목거울Ｍｏ의 제2반사 영역Ｍｏｂ, 및 제2평면거울T2의 순서대로 반사한 후에 기판P에 도달한다. 따라서, 마스크M의 패턴이 기판P 위에 전사된다.
여기에서는, 오목거울Ｍｏ는 제1반사 영역Ｍｏａ 및 제2반사 영역Ｍｏｂ를 포함하는 1개의 미러로서 기재되어 있다. 그러나, 제1반사 영역Ｍｏａ와 제2반사 영역Ｍｏｂ에 의해 광이 2회 반사되므로, 실질적으로는 오목거울Ｍｏ는, 제1반사 영역Ｍｏａ를 갖는 제1오목거울과, 제2반사 영역Ｍｏｂ를 갖는 제2오목거울로 분할되는 것과 실질적으로 동일하다. 단, 도26에 도시된 투영 광학계는 등배결상하는 것을 지향하고 있어 별체로 형성될 필요가 없다. 이 때문에, 여기에서는 제1오목거울과 제2오목거울은 동일 광학부재로 형성되어, 오목거울Ｍｏ가 1개의 미러로서 기재되어 있다. 확대계나 축소계를 제공하기 위해 오목거울Ｍｏ를 2개의 바디로 분할한 구성에 대해서는 후술한다.
기판 스테이지(401)는, 기판P를 보유하고, 적어도 X방향 및 Y방향으로 이동가능하다. 기판 스테이지(401)가 기판P를 보유해서 마스크 스테이지(201)와 동기하여 Y방향으로 구동함에 의해, 기판P의 주사 노광이 행해질 수 있다. 제어부(5)는, 예를 들면, ＣＰＵ 및 메모리를 포함하는 컴퓨터로 형성되고, 주사 노광을 포함하는 노광 장치의 동작을 총괄적으로 제어한다.
유저는, 조작부(6)를 통하여 상기 노광 장치의 각종 파라미터의 설정을 행할 수 있다. 입력된 파라미터의 값은 제어부(5)에 송신되어, 제어부(5)에 의해 노광 장치내의 각 부가 조정될 수 있다.
본 실시 형태에서는, 광축외의 환형 양호 화상영역을 사용해서 패턴을 투영하는 투영 광학계(3)에 있어서, 복수의 미러 중 적어도 2개의 미러가 가변거울이다. 그 가변거울의 면형상을 효과적으로 보정함으로써, 화면내에서의 배율이나 디스토션, 포커스, 비점수차등의 광학수차가 개선된다. 예를 들면, 투영 광학계(3)에서는, 실질적으로 제1오목거울과 제2오목거울을 포함하는 오목거울Ｍｏ가 가변거울이고, 오목거울Ｍｏ의 이면의 복수개소의 각각에 힘을 가하는 복수의 조정부(7)가 구비된다. 복수의 조정부(7)의 각각은, 보이스 코일 모터 등의 액추에이터로 형성될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 가변거울에 있어서의 복수의 조정부(7)에 의한 힘 작용점의 각각을 조정 점이라고도 한다. 또한, 조정 점을 가변거울(예를 들면, 오목거울)에 대하여 규정되는 광축의 방향으로 가변거울의 반사면 위에 투영하여서 얻어진 점을, 보정점으로서 정의한다. 또한, 여기에서 "점"은, 면적을 갖지 않는 가상 점이다.
도2a 및 2b는, 일본 특허공개2019-28352호 공보에 개시된 투영 광학계에 사용된 오목거울을 가변거울이라고 했을 경우의 액추에이터의 배치 예를 각각 도시하는 평면도 및 단면도다. 도2a 및 2b에 있어서, 한 쌍의 액추에이터 요소ａｃ1(예를 들면, 자석)과 ａｃ2(예를 들면, 코일)로 형성된 조정 점Ａｃ가, 광축단면내에서, 원주방향과 반경방향(반경방향 벡터가 연장되는 방향)으로 복수배열되어 있다. 도2a 및 2b에 도시된 예에 있어서는, 그 조정 점Ａｃ는, 광축에 대하여 점대칭으로 배치되어 있고, 일본 특허공개2017-211493호 공보에 기재된 것 같이, 광학수차나 면 변위량에 근거한 보정지령 값에 따라 구동된다. 이러한 구성에 의해, 반사면측의 면형상이 변형된다.
다음에, 오목거울상에서의 광속 확대와 보정점과의 위치 관계에 대해서 설명한다. 도3, 도4를 참조하여, 오목거울상의 유효광속에 대해서 설명한다. 도3은, 마스크면Ｍ상의 원호형 노광 영역을 도시한 도면이다. 상기한 것 같이, 조명 광학계(1)의 내부에 있는 슬릿(106)의 개구부는 원호형의 형상을 가진다. 이 슬릿(106)에 의해, 투영 광학계(3)가 갖는 축외의 환형 양호 화상영역만이 선택적으로 조명된다. 도3은, 그 노광 영역을 도시하고, X축방향으로 노광 폭W, Y축방향으로 슬릿 폭Ｓｗ을 갖는 조명 영역이 형성되어 있다. 도3에 있어서, 마스크면Ｍ상의 Ｙ방향은, 후술하는 투영 광학계(3)의 광선도인 도1에 있어서의 도면내 횡방향에 대응한다. 이 방향으로, 마스크와 기판이 동기 주사되어서, 기판 전면을 노광한다. 도3에 있어서, R은 환형 노광 영역을 형성하는 원호의 최외 반경을 가리키고, 원호의 중심은 본 투영 광학계의 광축o에 일치한다. 이 원호를 Y방향(주사 방향)으로 Ｓｗ만큼 어긋나게 하여서 얻어진 위치에 최내 원호가 존재한다.
이러한 조명 영역을 설치하는 것에 의해, 마스크와 기판이 주사 노광될 때에, 노광 폭 전역(X방향)에 걸쳐 균일한 적산 노광량을 얻는 것이 가능해진다. 또한, 균일한 적산 노광량을 얻기 위해서는, 도3과 달리, 원호의 최내 반경의 중심을 광축o에 일치시켜서, 최내 반경을 Y방향으로 Ｓｗ만큼 어긋나게 하여서 얻어진 위치에 최외 원호를 형성하는 것도 가능하다. 도3에서, 점C1은 Y축상에서 원호의 최고점을 나타내고, 점C2는 최저점을 나타낸다. 또한, 점R2, L2는, Y축으로부터 X방향으로 가장 떨어진 좌우의 원호최저점을 나타낸다. 마스크상의 한 점으로부터 방출된 광속은, 기판 위에 결상전에 미러에서 복수회 반사된다. 대구경의 오목거울에서는, 그 광속이 그 오목거울의 중심에 대하여 점대칭의 영역에서 2회 반사된다.
도4는, 오목거울Ｍｏ상의 유효광속영역을 도시하는 모식도다. 보다 엄밀하게는, 도4는, 투영 광학계(3)의 광축(Z축방향으로 연장된다)에 수직해서 오목거울Ｍｏ의 광축을 통과하는 면에 광속을 투영한 도다. 그러므로, 도4의 Y축은 도1의 Z축에 대응한다. 도1의 상세에 대해서는, 후술의 제1 실시 형태에 있어서 설명한다. 이점 쇄선으로 둘러싸여진 영역ＥＡ1은, 오목거울로 1회째에 반사할 때의 유효광속영역이며, 파선으로 둘러싸여진 영역ＥＡ2는, 오목거울로 2회째에 반사할 때의 유효광속영역이다. 여기에서, 원호중앙부의 점C2로부터 방출하고, 오목거울로 1회째에 반사하는 광속(C2을 중심으로 하는 φ2)과, 오목거울로 2회째에 반사하는 광속(C22을 중심으로 하는 φ22)이 도시되어 있다. 또한, 원호 우단부의 점R2로부터 방출하고, 오목거울로 1회째에 반사하는 광속(R2를 중심으로 하는 φr)과, 오목거울로 2회째에 반사하는 광속(R22를 중심으로 하는 φr2)도 도시되어 있다.
도5는, 도2와 도4를 포개서 얻어진 도이며, 보정점 배열의 배치 상태와 오목거울상의 유효광속영역과의 관계를 도시한 도면이다. 도5의 Y축은, 도4에서와 같이, 도1의 Z축에 대응한다. 원호상의 점C2와 R2로부터 방출된 광속내에 면형상을 보정하는 점 배열이 존재하고 있는 것을 알 수 있다. 여기서, 주목해야 할 점은, 오목거울상에서 1회째에 반사하는 광속과 2회째에 반사하는 광속은, 광축에 대하여 점대칭으로 배치되고, 도2와 같이, 오목거울상의 보정점 배열도 점대칭으로 배치되어 있는 점이다. 이러한 배치에서는, 마스크상의 한 점으로부터 방출된 광속에서의 동일 점은, 그 광속의 확대에서 2회 보정된다. 이것은 실효적인 보정점수가 적은 것을 의미하고, 이하의 과제를 가진다. 광학성능의 관점에서는, 광속내에 될 수 있는 한 많은 보정점을 설치하여, 제르니케(Zernike) 전개 항으로 대표된 고차수차를 보정할 필요가 있다. 금후, ＮＡ가 상승하면, 이 요구가 더 강해질 것이다. 한편, 각 보정점은 복잡한 기계적 부재로부터 형성되고, 게다가, 구동시에 열을 발생한다. 이에 따라, 인접한 보정점의 간격을 용이하게 감소시킬 수 없다. 바꾸어 말하면, 1개의 반사면에 많은 보정점을 배치할 수 없다. 따라서, 광속에 대하여, 보다 효과적인 면형상 보정점 배열의 배치가 필요하게 된다. 이러한 과제를 해결하기 위한 구성 예를 이하의 각 실시 형태에 있어서 설명한다.
(제1실시 형태)
도1은, 제1실시 형태에 있어서의 투영 광학계(3)의 광선도다. 마스크면Ｍ상의 점, C1, C2, 및 R2, L2는, 도3에 도시되어 있다. 이것들의 점의 각각으로부터 방출된 광속은, 마스크면 바로 아래의 광학부재G1을 통과후, 제1평면거울T1의 작용으로 광로를 직각으로 구부리고 나서, 오목거울Ｍｏ에 입사한다. 오목거울Ｍｏ에서 반사된 광속은, 광축ｏｏ' 근방에 있는 광학부재G2를 통과후, 볼록거울Ｍｔ에 입사한다. 볼록거울Ｍｔ는 투영 광학계(3)의 조리개면에 위치한다. 볼록거울Ｍｔ에서 반사한 광속은, 다시, 광학부재G2를 통과후, 오목거울Ｍｏ에 입사한다. 오목거울Ｍｏ에서 다시 반사한 광속은, 제2평면거울T2에 진행하고, 이 제2평면거울T2의 작용으로 광로를 직각으로 구부려, 기판P 바로 위쪽의 광학부재G3을 통과하고, 기판P 위에 결상한다. 상기 마스크의 근방과 기판의 근방의 각각에 배치된 상술한 광학부재G1, G3의 각각은, 굴절력을 갖는 광학부재이며, 예를 들면 비구면형상을 갖는 렌즈를 포함할 수 있다.
도1에 있어서, 마스크면상의 점R2, L2 각각으로부터 방출된 광속 중, 오목거울Ｍｏ상에서 광축ｏｏ'에 가장 가까운 점과 광축ｏｏ'과의 거리D가 도시되어 있다. 또한, 이 투영 광학계(3)는 등배계이므로, 투영 광학계(3)의 조리개면에 위치하는 볼록거울Ｍｔ에 대하여 광학계와 광로는 상하 대칭이 된다. 따라서, 광축ｏｏ'로부터의 거리는 상하도 D와 다름없다. 본 실시 형태에서, 결상배율은 등배이다. 일례에 있어서, 개구수(ＮＡ)는 0.135, 노광 폭은 820mm이다. 원호반경은 600mm이고, 슬릿 폭은 60mm이다. 노광 파장으로서는, 300ｎｍ으로부터 365ｎｍ까지의 대역의 ＤＵＶ광을 사용하고, 이것들에 대하여 수차보정이 행해진다. 상술한 구성을 실현하기 위한 각 광학부재의 곡률반경R, 간격D, 유리부재의 광학굴절률N, 및 대응하는 광학부재의 참조 부호가, 아래의 표 1에 요약되어 있다. 또한, 일부의 광학부재의 각각은 비구면을 갖게 형성되고, 비구면형상을 정의하는 식은 이하의 식 1로 주어진다. 각 계수의 예는 아래의 표 2에 도시되어 있다.
z = rh2/(1+(1-(1+k)r2h2)1/2)+Ah4+Bh6+Ch8+Dh10+Eh12+Fh14+
Gh16+Hh18+Jh20 ...(식1)
여기에서, r은 표 1에 있어서의 1/R이다.
Figure pat00001
Figure pat00002
여기에서, 도6 및 도7을 참조하여, 오목거울Ｍｏ상의 유효광속에 대해서 설명한다. 도6은, 본 실시 형태에 있어서의 오목거울Ｍｏ상의 유효광속영역을 도시하는 광학 트레이스 도다. 도6의 Y축은 도1의 Z축에 대응한다. 이 도면으로부터, 도3에 도시된 마스크면Ｍ상의 원호영역내에서, X방향에 5점, Y방향에 3점, 합계 15점으로부터 방출된 결상광속이, 오목거울Ｍｏ상에서 원의 집합을 형성하고 있는 것을 알 수 있다. 도6에 있어서, φ는, 마스크상의 1점으로부터 방출된 광속의 오목거울Ｍｏ상에서의 유효광속의 지름을 가리키고, D는 도1에 도시한 바와 같이, 유효광속군과 X축과의 최소접근 거리를 가리킨다.
도7은, 도1의 광학계에 있어서의 오목거울Ｍｏ상의 유효광속영역을 도시하는 모식도다. 보다 엄밀하게는, 도7은, 광축ｏｏ'에 수직하고, 오목거울Ｍｏ의 광축을 통과하는 면에 광속을 투영하여서 얻어진 도다. 따라서, 도7의 Y축은 도1의 Z축에 대응한다. 도1에 있어서, 제1평면거울T1로 구부려진 광속은, 오목거울Ｍｏ에 입사한다. 본 실시 형태에서는, 마스크면과 기판면 사이에서 주 광선이 개략 텔레센트릭으로 되도록 설계되어 있다. 따라서, 마스크면Ｍ상의 각 점(C1, C2, 및 R2, L2)으로부터 방출된 결상광속의 각 주광선은, 광축ｏｏ'에 개략 평행하게 진행하고, 오목거울Ｍｏ에 입사한다. 이에 따라, 오목거울Ｍｏ상에서는, 도3에 도시된 원호영역이 그대로 투영되고, 또, 여기에 결상광속의 확대 영역이 가산된다. 따라서, 광속의 유효영역이 결정된다. 도7에 있어서, 일점 쇄선으로 나타낸 원호영역이, 도3에 도시된 마스크면상의 원호영역과 다름없고, r은 각 점에서 확대된 광속의 반경을 가리킨다. 보다 구체적으로는, r은 마스크면M으로부터 오목거울Ｍｏ까지의 광학거리와 결상광속의 개구수(ＮＡ)와의 곱에 대략 같다. 도7에 있어서, 원호의 휨량Ａｎ은 다음식에 의해 정의된다.
Figure pat00003
이에 따라, 도7에 있어서 이점 쇄선으로 나타낸 오목거울Ｍｏ상에서의 유효광속영역에 관해서는, Ｙ방향으로의 확대 폭은, 지금까지 정의한 수치를 사용하여 Ｓｗ+2r+Ａｎ으로 표현된다. X방향으로의 확대 폭은, W+2r이다. 여기에서, 본 실시 형태에서는, 유효광속영역내에서, X축에 가장 가까운 점K와 H에 주목하고, 이 점K와 H의 각각과 X축과의 거리D를 규정한다. 점K와 H는, 도3에 있어서, 마스크면상의 점R2와 L2로부터 방출된 광속 중, 가장 광축에 가까운 점이다. 여기에서, 광축o에 대하여 상반원내의 원군ＥＡ1은, 마스크면으로부터 방출되어 오목거울Ｍｏ에서 1회째에 반사되는 광속군이며, 도1에 도시된 최단 거리D도 도7에 도시되어 있다. 광축o에 대하여 하반원내의 원군ＥＡ2는, 오목거울Ｍｏ에서 2회째에 반사되는 광속군이다. 본 광학계는 등배계이기 때문에, ＥＡ1과 ＥＡ2는 광축o에 대하여, 점대칭으로 배치되어 있다.
도6에 도시된 원의 집합 영역이, 도7에 도시된 이점 쇄선으로 둘러싸여진 영역에 대응하고 있다. 또한, 도6에는, 최단 거리D도 정의 수로서 도시되고, 이것은 상하의 광속이 충분히 서로 괴리한 것을 가리킨다. 본 실시 형태에 있어서, 오목거울상의 1점당의 유효광속의 지름(φ=2r)은, 645mm이며, 최단 거리D의 값은, +57mm이다.
본 실시 형태에서는, 마스크상의 한 점으로부터 방출된 광속내의 제1광선과 제2광선이 제1오목거울과 제2오목거울에서 반사할 때에, 이하의 (a) 및 (b)의 2개의 조건을 충족시키도록, 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점이 설정된다.
(a) 제1광선은, 제1오목거울(오목거울Ｍｏ의 제1반사 영역Ｍｏａ)의 보정점에 입사하고, 제2오목거울(오목거울Ｍｏ의 제2반사 영역Ｍｏｂ)의 보정점에 입사하지 않는다.
(b) 제2광선은, 제1오목거울(오목거울Ｍｏ의 제1반사 영역Ｍｏａ)의 보정점에 입사하지 않고 제2오목거울(오목거울Ｍｏ의 제2반사 영역Ｍｏｂ)의 보정점에 입사한다.
이것을 실현하기 위해서, 예를 들면, 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점이 볼록거울Ｍｔ의 광축과 직교하는 수평선(X축)에 대해 비축대칭으로 되도록, 복수의 조정부(7)가 배치된다. 이러한 작용점(조정 점)의 설정의 구체예를, 도8 및 도9를 참조하여 이하에 설명한다.
도8은, 본 실시 형태에 있어서의 유효광속영역과 보정점과의 위치 관계를 도시한 도면이며, 도2과 도7을 포개어서 얻어진 도다. 따라서, 도7의 Y축은 도1의 Z축에 대응한다. 도8은, 종래 예를 도시하는 도5에 대응한 도이지만, 도5과는 이하의 점에서 상이하다. 다시 말해, 도8에 있어서, X축에 대해서 Y좌표가 정의 영역(제1 및 제2상한이며, 이하, 북반구라고 칭한다.)과, X축에 대해서 Y좌표가 부의 영역(제3 및 제4상한이며, 이하, 남반구라고 칭한다.)에서, 보정점의 배치가 서로 어긋나 있는 것이 표시되어 있다. 북반구에 있어서는, 모든 보정점(도8에서 흑점)이, 원주방향 및 반경방향(반경 벡터가 연장되는 방향)으로 구분된 선상에 배치된다. 다시 말해, 북반구에 있어서는, 모든 보정점이, 광축o를 중심으로 하는 복수의 동심원과, 광축o를 중심으로 하는 복수의 방사상으로 연장되는 반경 벡터선과의 교점에 배치된다. 한편, 남반구에 있어서는, 모든 보정점(도8에서, 백점)이, 반경방향으로, 복수의 동심원의 간격의 절반 피치만큼 시프트된 위치에 배치되어 있다. 또한, 도8에 있어서, 6개의 광속 각각의 중심에서, 별표가 표시되어 있다. 그들은, 도3에 있어서의 마스크상 3점(C2, R2, L2)으로부터 방출된 각 광속의 주 광선의 오목거울Ｍｏ에서 2회 반사하는 위치를, 각각의 광속의 중심점으로서 나타내고 있다. 이렇게 본 실시 형태에서는, 오목거울Ｍｏ의 제2반사 영역Ｍｏｂ(즉, 제2오목거울)의 보정점이 오목거울Ｍｏ의 제1반사 영역Ｍｏａ(즉, 제1오목거울)의 보정점에 대하여 광축o를 중심으로 하는 반경방향으로 시프트된 위치에서 배치되도록, 각 조정 점이 설정된다.
도9는, 본 실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면이다. 도8에 있어서, 마스크상의 점C2로부터 방출된 광속은, 오목거울Ｍｏ상에서 2회 반사할 때에, φ2과 φ22를 형성하고, 이것들의 영역에 존재하는 보정점군의 작용을 받는다. 그러나, 도8에 도시된 구성에 의하면, 2개의 광속내에서의 보정점군은 상대적으로 반경방향으로 서로 어긋나 있다. 이 때문에, 기판 위에 도달하는 광속내에는, 도9에 도시한 바와 같이, 실질적으로 종래 예의 2배의 보정점군이 존재하고, 그 광속이 이것들의 작용을 받는다. 마스크상의 다른 점(R2, L2)으로부터 방출된 광속에 관해서도 같은 작용이 얻어질 수 있다.
(제2실시 형태)
도10은, 제2실시 형태에 있어서의 유효광속영역과 보정점과의 관계를 도시한 도면이며, 도2와 도7을 포개어서 얻어진 도다. 따라서, 도10의 Y축은 도1의 Z축에 대응한다. 도10은 제1실시 형태의 도8에 대응하는 도면이지만, 남반구에 있어서의 보정점의 배치 모드가 도8과는 상이하다. 북반구에 있어서, 모든 보정점(도10에서 흑점)이, 광축o를 중심으로 하는 복수의 동심원과, 광축o를 중심으로 하는 복수의 방사상으로 연장되는 반경 벡터선과의 교점에 각각 배치되어 있다는 점에서, 도 10은 도8과 동일하다. 한편, 도10에 도시된 남반구에 있어서는, 모든 보정점(도10에서 백점)이, 원주방향의 교점으로부터, 복수의 반경 벡터선 사이에서 절반 피치만큼 시프트된 위치에 배치되어 있다.
도11은, 본 실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면이다. 도10에 있어서, 마스크상의 점C2로부터 방출된 광속은, 오목거울Ｍｏ상에서 2회 반사할 때에, φ2와 φ22를 형성하고, 이것들의 영역에 존재하는 보정점군의 작용을 받는다. 그러나, 도10에 도시된 구성에 의하면, 2개의 광속내에서의 보정점군은 상대적으로 원주방향으로 서로 어긋나 있다. 그 때문에, 기판 위에 도달하는 광속내에는, 도11에 도시한 바와 같이, 실질적으로 종래 예의 2배의 보정점군이 존재하고, 그 광속은 그 보정점군의 작용을 받는다. 마스크상의 다른 점(R2, L2)으로부터 방출된 광속에 관해서도 같은 효과가 얻어질 수 있다.
(제3실시 형태)
도27은, 제3실시 형태에 있어서의 노광 장치의 구성을 도시한 도면이다. 도27은, 오목거울Ｍｏ가 아니고 제1평면거울T1 및 제2평면거울T2가 가변거울이다는 점에 있어서 도26과 상이하다. 따라서, 복수의 조정부(7)는, 제1평면거울T1 및 제2평면거울T2의 이면에 배치되어 있다.
본 실시 형태에서는, 제1평면거울T1에 있어서의 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점을 제1평면거울T1과 직교하는 방향으로 투영하여서 얻어진 점과, 제2평면거울T2에 있어서의 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점을 제2평면거울T2와 직교하는 방향으로 투영하여서 얻어진 점을, 보정점으로서 정의한다.
본 실시 형태에서는, 마스크상의 한 점으로부터 방출된 광속내의 제1광선과 제2광선이 제1평면거울T1과 제2평면거울T2에서 반사할 때에, 이하의 (a) 및 (b)의 2개의 조건을 충족시키도록, 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점이 설정된다.
(a) 제1광선은, 제1평면거울T1의 보정점에 입사하고, 제2평면거울T2의 보정점에 입사하지 않는다.
(b) 제2광선은, 제1평면거울T1의 보정점에 입사하지 않고, 제2평면거울T2의 보정점에 입사한다.
이것을 실현하기 위해서, 예를 들면, 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점이 볼록거울Ｍｔ의 광축과 직교하는 수평선(X축)에 대해서 비선대칭이 되도록, 복수의 조정부(7)가 배치된다. 이러한 작용점(조정 점)의 설정의 구체예를, 도12 및 도13을 참조하여 이하에 설명한다.
도12는, 제3실시 형태에 있어서의 제1 및 제2평면거울상의 유효광속영역과 보정점과의 관계를 도시한 도면이다. 제1평면거울T1을 접선방향(도12에서 p1p2의 방향)으로부터 본 면에 있어서는, 모든 보정점(도12에서 흑점)이, X방향으로 등 구분된 복수의 선 위에 배치되어 있다. 한편, 제2평면거울T2의 보정점의 작용점은, 제1평면거울T1의 보정점으로부터 병진 방향으로 시프트된 위치에 작용점이 배치되도록, 설정된다. 예를 들면, 제2평면거울T2을 접선방향(도12에서 q1q2의 방향)으로부터 본 면에 있어서는, 모든 보정점(도12에서 백점)이, X방향으로 등 구분된 선으로부터 절반 피치만큼 시프트된 위치에 배치되어 있다.
도13은, 본 실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면이다. 도12에 있어서, 마스크상의 점C2로부터 방출된 광속은, 오목거울Ｍｏ상에서 2회 반사할 때에, φ2와 φ22를 형성하고, 이것들의 영역에 존재하는 보정점군의 작용을 받는다. 그러나, 도12에 도시된 구성에 의하면, 2개의 광속내에서의 보정점군은 상대적으로 X방향으로 서로 어긋나 있다. 그 때문에, 기판 위에 도달하는 광속내에는, 도13에 도시한 바와 같이, 실질적으로 종래 예의 2배의 보정점군이 존재하고, 그 광속은 이것들의 작용을 받는다. 마스크상의 다른 점(R2, L2)에 관해서도 같은 효과가 얻어질 수 있다.
본 실시 형태는, 2회째에 반사할 때의 보정점을 병진 방향으로서 X방향으로 시프트시킨 예이지만, 이 보정점을 병진 방향으로서 Y방향으로 시프트시켜도 같은 효과를 얻을 수 있다. 또한, 그 보정점은 Ｘ와 Ｙ의 양방향으로 시프트시켜도 좋다.
(제4실시 형태)
제4실시 형태에서는, 제3실시 형태와 마찬가지로, 제1평면거울T1 및 제2평면거울T2가 가변거울이다. 도14는, 제4실시 형태에 있어서의 제1 및 제2평면거울상의 유효광속영역과 보정점과의 관계를 도시한 도면이다. 도14에 있어서, 제1평면거울T1을 접선방향(도14에서 p1p2의 방향)으로부터 본 면에 있어서는, 모든 보정점(도14에서 흑점)이, X방향으로 등 구분된 복수의 선의 1개 걸러의 선 위에 배치되어 있다. 한편, 제2평면거울T2을 접선방향(도14에서 q1q2의 방향)으로부터 본 면에 있어서는, 모든 보정점(도14에서 백점)이, X방향으로 등 구분된 복수의 선의 흑점이 배치되지 않고 있는 1개 걸러의 선 위에 배치되어 있다.
도15는, 본 실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면이다. 도14에 있어서, 마스크상의 점C2로부터 방출된 광속은, 오목거울Ｍｏ상에서 2회 반사할 때에, φ2와 φ22를 형성하고, 이것들의 영역에 존재하는 보정점군의 작용을 받는다. 그러나, 도14에 도시된 구성에 의하면, 2개의 광속내에서의 보정점군은 상대적으로 X방향으로 서로 어긋나 있다. 그 때문에, 기판 위에 도달하는 광속내에는, 도15에 도시한 바와 같이, 실질적으로 선별하기 전과 같은 수의 보정점군이 존재하고, 그 광속은 이것들의 작용을 받는다. 마스크상의 다른 점(R2, L2)으로부터 방출된 광속에 관해서도 같은 효과가 얻어질 수 있다.
이러한 구성에 의해, 각 평면거울에서의 보정점의 수를 절반으로 삭감할 수 있다. 그 결과, 보정점에서의 발열을 감소할 수 있고, 노광중의 열에 의한 공기 변동을 억제할 수 있어, 화상성능이 안정화된다. 아울러, 코스트 감소의 효과도 크다. 본 실시 형태는, X방향으로 2회째에 반사할 때의 보정점을 시프트시킨 예이지만, 이 보정점을 Y방향으로 시프트시켜서 같은 효과를 얻을 수 있다. 또한, Ｘ와 Ｙ의 양방향으로 보정점을 시프트시켜도 좋다.
(제5실시 형태)
도28은, 제5실시 형태에 있어서의 노광 장치의 구성을 도시한 도면이다. 도28은, 투영 광학계(3)가 확대계이다는 점에서 도26과 상이하다. 확대계의 경우, 오목거울Ｍｏ는 제1오목거울Ｍｏ1과 제2오목거울Ｍｏ2로 분할되고, 서로 다른 곡률을 가진다. 복수의 조정부(7)는, 제1오목거울Ｍｏ1 및 제2오목거울Ｍｏ2의 이면에 배치된다.
도16은, 제5실시 형태에 있어서의 투영 광학계(3)의 광로도이다. 상기한 대로, 확대계가 형성되어 있다. 마스크면Ｍ상에 도시된 점 C1, C2 및 R2, L2로부터 방출된 광속은, 마스크면 바로 아래의 광학부재G1, G2를 통과한다. 그 후, 제1평면거울T1의 작용으로, 그들의 광로를 직각으로 구부리고, 광속은 제1오목거울Ｍｏ1에 입사한다. 마스크면상의 점 C1, C2 및 R2, L2간의 위치 관계에 대해서는, 도3을 참조하여 설명했다. 제1오목거울Ｍｏ1에서 반사된 각 광속은, 광축ｏｏ' 근방에 있는 굴절 광학부재G3을 통과후, 볼록거울Ｍｔ에 입사한다. 볼록거울Ｍｔ는 이 결상광학계의 조리개면에 위치한다. 볼록거울Ｍｔ에서 반사한 광속은, 다시, 굴절 광학부재G3을 통과후, 제2오목거울Ｍｏ2에 입사한다. 제2오목거울Ｍｏ2에서 반사한 광속은, 제2평면거울T2에 진행하고, 이 제2평면거울T2의 작용으로, 광로를 직각으로 구부린다. 광속은, 기판P 바로 위쪽의 광학부재G4, G5를 통과하고, 기판P 위에 결상된다. 상기한, 마스크의 근방에 배치된 광학부재G1, G2와 기판의 근방에 배치된 광학부재G4, G5는, 굴절력을 갖는 광학부재이며, 예를 들면 비구면형상을 갖는 렌즈를 포함할 수 있다.
도16에 있어서, 마스크면상의 점R2, L2로부터 방출된 광속 중, 제1오목거울Ｍｏ1위에서 광축ｏｏ'에 가장 가까운 점과 광축ｏｏ'와의 사이의 거리Ｄｕ와, 제2오목거울Ｍｏ2위에서 광축ｏｏ'에 가장 가까운 점과 광축ｏｏ'와의 사이의 거리Ｄｌ이 도시되어 있다. 이 거리 Ｄｕ와 Ｄｌ의 값은, 도7에 도시된 거리 Ｄ의 값에 상당한다. 그러나, 도7의 광학계가 등배계이지만 도16에 도시된 광학계는 확대계이므로, 도7에 도시된 ＥＡ1과 ＥＡ2는 도16에서 서로 같지 않다. 따라서, Ｄｕ와 Ｄｌ도 상이한 값을 갖는다. 본 실시 형태의 결상배율은, 1.15배이며, 개구수(ＮＡ)는 0.105, 노광 폭은 750mm이다. 그들 모두는, 마스크면상에서의 값이다. 노광 파장으로서는, i선, h선 또는 g선을 사용하고, 이것들에 대하여 수차보정이 행해진다. 상술한 구성을 실현하기 위한 각 광학부재의 곡률반경R, 거리D, 유리부재의 광학굴절률N, 및 대응한 광학부재의 참조 부호가, 아래의 표 3에 요약되어 있다. 또한, 일부의 광학부재의 각각은 비구면을 갖게 형성되어 있고, 비구면형상을 정의하는 식은, 위에 설명된 식 1에 의해 주어진다. 각각의 계수의 예는 아래의 표 4에 도시되어 있다.
Figure pat00004
Figure pat00005
도17a는, 제5실시 형태에 있어서의 제1오목거울상의 유효광속영역과 보정점과의 관계를 도시하는 모식도이며, 도17b는, 제5실시 형태에 있어서의 제2오목거울상의 유효광속영역과 보정점과의 관계를 도시하는 모식도다. 도17a 및 17b 각각의 Y축은 도16의 Z축에 대응한다. 도17a와 도17b에 있어서의 보정점간의 위치 관계는, 보정점이 원주방향으로 어긋나 있는 도10에 도시된 관계와 같다. 단, 본 실시 형태에서 광학계가 확대계이므로, 제1오목거울Ｍｏ1과 제2오목거울Ｍｏ2는 곡률반경도 유효광속지름도 상이하다. 즉, 도17a에 있어서의 φ2와 도17b에 있어서의 φ22의 크기는 상이하다. 마찬가지로, φr와 φr2, φl과 φl2의 크기도 상이하다. 일반적으로, 광속지름의 사이에는, 광학계의 확대 배율, 혹은, 소정의 비례 관계가 존재하고, 대응한 광속의 형상은 같다.
도18은, 본 실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면이다. 전술한 광속간의 관계에 의하면, 기판 위에 도달하는 광속내에는, 도18에 도시한 바와 같이, 실질적으로 원주방향으로 2배의 수의 보정점군이 존재하고, 그 광속은 이것들의 작용을 받는다. 마스크상의 다른 점(R2, L2)으로부터 방출된 광속에 관해서도 같은 효과가 얻어질 수 있다.
(제6실시 형태)
도29는, 제6실시 형태에 있어서의 노광 장치의 구성을 도시한 도면이다. 도29는, 제1오목거울Ｍｏ1 및 제2오목거울Ｍｏ2이 아닌 제1평면거울T1 및 제2평면거울T2가 가변거울이다는 점에서 도28과 상이하다. 그 때문에, 복수의 조정부(7)는, 제1평면거울T1 및 제2평면거울T2의 이면에 배치되어 있다.
도19a는, 제6실시 형태에 있어서의 제1평면거울T1 위의 유효광속영역과 보정점과의 관계를 도시한 모식도이며, 도19b는, 제6실시 형태에 있어서의 제2평면거울T2 위의 유효광속영역과 보정점과의 관계를 도시한 모식도다. 도19a의 보정점과 도19b의 보정점간의 위치 관계는, X방향으로 보정점이 어긋나 있는 도12에 도시된 관계와 같다. 단, 본 실시 형태에서 상기 광학계가 확대계이므로, 제1평면거울T1 위의 유효광속(φ2)과 제2평면거울T2 위의 유효광속지름(φ22)이 상이하다. 마찬가지로, φr과 φr2의 지름과, φl과 φl2의 지름이 상이하다. 일반적으로, 광속지름 사이에는 광학계의 확대 배율, 혹은, 소정의 비례 관계가 존재하고, 대응한 광속의 형상은 같다.
도20은, 본 실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면이다. 상술한 관계에 의하면, 기판 위에 도달하는 광속내에는, 도20에 도시한 바와 같이, 실질적으로 X방향으로 2배의 수의 보정점군이 존재하고, 그 광속은 이것들의 작용을 받는다. 마스크상의 다른 점(R2, L2)으로부터 방출된 광속에 관해서도 같은 효과가 얻어질 수 있다.
본 실시 형태는, X방향으로 2회째에 반사할 때의 보정점을 시프트시킨 예이지만, 이 보정점을 Y방향으로 시프트시켜서 같은 효과를 얻을 수 있다. 또한, Ｘ와 Ｙ의 양방향으로 그 보정점을 시프트시켜도 좋다.
또한, 제5실시 형태 및 제6실시 형태의 각각에서는 확대 투영 광학계를 예시했지만, 본 발명은 축소 투영 광학계에도 마찬가지로 적용될 수 있다.
(제7실시 형태)
도30은, 제7실시 형태에 있어서의 노광 장치의 구성을 도시한 도면이다. 도30은, 오목거울Ｍｏ가 아닌 제1평면거울T1 및 볼록거울Ｍｔ가 가변거울이다는 점에서 도26과 상이하다. 이 때문에, 복수의 조정부(7)는, 제1평면거울T1 및 볼록거울Ｍｔ의 이면에 배치되어 있다.
본 실시 형태에서는, 제1평면거울T1에 있어서의 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점을 제1평면거울T1과 직교하는 방향으로 투영하여서 얻어진 점과, 볼록거울Ｍｔ에 있어서의 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점을 볼록거울Ｍｔ의 광축에 평행한 방향으로 투영하여서 얻어진 점을, 보정점으로서 정의한다.
본 실시 형태에서는, 마스크상의 한 점으로부터 방출된 광속내의 제1광선과 제2광선이 제1평면거울T1과 볼록거울Ｍｔ에서 반사할 때에, 이하의 (a) 및 (b)의 2개의 조건을 충족시키도록, 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점이 설정된다.
(a) 제1광선은, 제1평면거울T1의 보정점에 입사하고, 볼록거울Ｍｔ의 보정점에 입사하지 않는다.
(b) 제2광선은, 제1평면거울T1의 보정점에 입사하지 않고 볼록거울Ｍｔ의 보정점에 입사한다.
여기에서, 하기의 영역 및 위치의 포개기를 생각한다:
(1) 제1평면거울T1의 유효광속영역인 제1유효광속영역;
(2) 제1유효광속영역에 투영된 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점의 위치;
(3) 볼록거울Ｍｔ의 유효광속영역인 제2유효광속영역; 및
(4) 제2유효광속영역에 투영된 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점의 위치.
일례에 있어서, 이 포개기를 했을 때에, 제1유효광속영역에 투영된 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점의 위치와, 제2유효광속영역에 투영된 복수의 조정부(7)에 의한 힘의 작용점의 위치가 상이하도록, 복수의 조정부(7)가 배치된다. 이러한 작용점(조정점)의 설정의 구체예를, 도21∼도23을 참조하여 이하에 설명한다.
도21은, 제1평면거울T1 위의 유효광속영역과 보정점과의 관계를 도시한 모식도이며, 도22는, 볼록거울Ｍｔ상의 유효광속영역과 보정점과의 관계를 도시한 모식도다. 도21은 도19a와 실질적으로 동일하지만, 도22에서는, 볼록거울Ｍｔ의 거의 면 전체(최외주의 파선으로 나타낸 영역)가 유효광속영역이다. 이것은, 볼록거울Ｍｔ가 광학계 전체의 조리개면에 위치하고 있기 때문이다.
도23은, 본 실시 형태에 있어서의 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시한 도면이다. 도23에서, 볼록거울Ｍｔ 위의 보정점군이 회전 대칭으로 배열된 흑점으로 표시되고, 제1평면거울T1 위의 보정점군이 Y축방향으로 배열된 백점으로 표시되어 있다. 그 흑점과 백점이 광속내에서 상이한 위치에 위치되어 있으므로, 본 발명의 목적인 보정점수의 증가를 달성하고 있다고 간주할 수 있다. 흑점과 백점이 일부에서 겹치고 있지만, 이것은 본 발명과 모순하지 않는다.
마스크상의 다른 점(R2, L2)으로부터 방출된 광속에 관해서도 같은 효과가 얻어질 수 있다. 본 실시 형태에 있어서, 회전 대칭한 수차뿐만 아니라, 일차원형으로 변화되는 수차도 보정가능하다.
(제8실시 형태)
도24는, 제8실시 형태에 관련되고, 일본특허 제3724517호 공보에 개시되어 있는 것 같이, 중간 결상면과, 그 중간 결상면의 전후에 배치된 복수의 조리개면을 구비하는, 광학계의 조리개면에 본 발명을 적용한 예다. 도22에 도시된 보정점군을 제1의 조리개면에 배치함과 아울러, 도24에 도시된 보정점군을 제2의 조리개면에 배치한다. 도24에 도시된 보정점군은 도22에 도시된 보정점군을 원주방향으로 절반 피치만큼 회전시켜서 얻어진다. 도25는 이것들의 보정점군에 의해 형성된 일 광속내의 실효적 보정점의 배열을 도시하고 있다.
본 실시 형태에서는, 가변거울에 의해 형성된 2개의 면이 함께 조리개면이다. 따라서, 광학적으로는, 화면 전체에 공통인 수차(포커스, 비점수차, 코마 수차등)는 고정밀도로 보정될 수 있다. 또한, 본 실시 형태를 적용하는 광학계는, 일본특허 제3724517호 공보와 같이 다이손(Dyson) 광학계를 연결한 타입에 한정되지 않는다. 예를 들면, 도1에 도시된 것 같은 2개의 오목거울 및 볼록거울을 도1에서와 같이 직렬로 연결하여서 광학계를 형성하고, 볼록거울을 가변거울의 2개의 볼록거울Ｍｔ로 형성하는 경우에도 본 발명을 적용가능하다.
(요약)
이상, 여러 가지의 실시 형태를 설명하였다. 또한, 상술한 실시 형태가 적절히 조합되어도 좋다. 이것들의 실시 형태는, 다음과 같이 종합적으로 요약될 수 있다. 상술한 각 실시 형태에 있어서는, 광을 반사하는 반사면 및 해당 반사면의 반대측의 면인 이면을 각각 갖는 복수의 미러를 포함하고, 물체면으로부터 방출된 광속을 복수의 미러의 반사면을 거쳐 상면 위에 결상시키는, 결상광학계가 표시된다. 결상광학계는, 복수의 미러 중 적어도 2개의 미러의 각각의 이면에 힘을 가해서 해당 적어도 2개의 미러의 반사면의 형상을 조정하는 복수의 조정부를 구비한다. 여기에서, 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점을 해당 반사면에 대하여 규정된 광축의 방향으로 투영한 점을 보정점으로서 정의한다. 이때, 물체면의 한 점으로부터 방출된 광속내의 제1광선과 제2광선이 제1반사면과 제2반사면에서 반사할 때, 제1광선은, 제1반사면의 보정점에 입사하고, 제2반사면의 보정점에는 입사하지 않는다. 게다가, 제2광선은, 제1반사면의 보정점에 입사하지 않고, 제2반사면의 보정점에 입사한다. 이를 실현하기 위해 복수의 조정부의 작용점이 설정된다.
상술한 실시 형태에 의하면, 광속에 대하여, 보다 효과적인 면형상 보정점 배열의 배치가 실현된다. 이 배치에 의해, 반사면 위에 보정점을 점대칭으로 배치했을 경우와 같은 보정점수인 경우에도, 광학적으로는 1개의 광속을 보다 많은 보정점수로 수차보정할 수 있다. 이에 따라 수차의 보정 정밀도가 향상한다.
혹은, 보다 적은 보정점수인 경우에도, 종래의 예와 같이 점대칭으로 배치한 보정점수와 동등한 보정점수를 사용하여, 1개의 광속을 수차보정할 수 있다. 이에 따라 보정점수를 줄일 수 있으므로, 구동시에 발생된 열이 분산되어, 보정 정밀도가 향상되고 안정화된다.
또한, 각 실시 형태에 도시된 것 같이, 본 발명은 조리개면을 포함시킨 임의의 반사면에 적용 가능하다. 이 때문에, 화면내에서 균일한 수차보정뿐만 아니라, 화면내에서 달라지는 포커스나 비점수차 보정도 가능하다. 또한, 배율과 디스토션 보정도 가능하다. 더욱, 넓은 노광 영역을 일괄 노광할 때에, 높은 포커스 정밀도와 높은 위치 맞춤 정밀도를 확보할 수 있다.
이상의 효과에 의해, 노광중에 고해상도가 유지되고, 고해상 패널을 고생산성으로 노광하는 것이 가능해진다.
<물품제조방법의 실시 형태>
본 발명의 실시 형태에 따른 물품제조방법은, 예를 들면, 반도체 디바이스 등의 마이크로디바이스나, 미세구조를 갖는 소자등의 물품을 제조하는 데도 적합하다. 본 실시 형태의 물품제조방법은, 기판에 도포된 감광제에 상기한 노광 장치를 사용해서 잠상 패턴을 형성하는 공정(기판을 노광하는 공정)과, 이러한 공정에서 잠상 패턴이 형성된 기판을 현상하는 공정을 포함한다. 더욱, 이러한 제조 방법은, 다른 주지의 공정(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등)을 포함한다. 본 실시 형태의 물품제조방법은, 종래의 방법과 비교하여, 물품의 성능·품질·생산성·생산 코스트 중 적어도 1개에 있어서 유리하다.
본 발명을 실시 형태들을 참조하여 기재하였지만, 본 발명은 상기 개시된 실시 형태들에 한정되지 않는다는 것을 알 것이다. 아래의 청구항의 범위는, 모든 수정 및, 동등한 구조 및 기능을 포함하도록 폭 넓게 해석해야 한다.

Claims (15)

  1. 광을 반사하는 복수의 반사면을 포함하고 물체면으로부터 방출된 광속을 상기 복수의 반사면을 통해 상면 위에 결상시키는 결상광학계로서,
    상기 복수의 반사면의 적어도 2개의 반사면의 각각의 형상을, 상기 적어도 2개의 반사면의 각각의 이면에 힘을 가해서 조정하는 복수의 조정부를 구비하고,
    상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점을 해당 반사면에 대하여 규정된 광축 방향으로 투영하여서 얻어진 점을 보정점으로서 정의하는 경우,
    상기 물체면의 한 점으로부터 방출된 광속내의 제1광선과 제2광선이 제1반사면과 제2반사면에서 반사될 때, 상기 제1광선은, 상기 제1반사면의 보정점에 입사하지만 상기 제2반사면의 보정점에는 입사하지 않고, 상기 제2광선은, 상기 제1반사면의 보정점에 입사하지 않고 상기 제2반사면의 보정점에 입사하도록, 상기 작용점이 설정되는, 결상광학계.
  2. 마스크와 기판을 주사하면서 상기 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    광축외의 환형 양호 화상영역을 사용하여서, 상기 마스크의 패턴으로부터 방출된 광속이, 제1평면, 제1오목면, 볼록면, 제2오목면 및 제2평면의 순서대로 반사한 후, 상기 기판 위에 결상하는 투영 광학계; 및
    상기 제1오목면 및 상기 제2오목면의 각각의 이면에 힘을 가해서 상기 제1오목면 및 상기 제2오목면의 각각의 형상을 조정하는 복수의 조정부를 구비하고,
    상기 제1오목면 및 상기 제2오목면에 있어서의 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점을 상기 볼록면의 광축에 평행한 방향으로 투영하여서 얻어진 점을 보정점으로서 정의하는 경우,
    상기 마스크상의 한 점으로부터 방출된 광속내의 제1광선과 제2광선이 상기 제1오목면과 상기 제2오목면에서 반사할 때, 상기 제1광선은, 상기 제1오목면의 보정점에 입사하고 상기 제2오목면의 보정점에는 입사하지 않고, 상기 제2광선은, 상기 제1오목면의 보정점에 입사하지 않고 상기 제2오목면의 보정점에 입사하도록, 상기 작용점이 설정되는, 노광 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제2오목면의 상기 보정점이 상기 제1오목면의 상기 보정점으로부터 상기 광축을 중심으로 하는 반경방향으로 시프트된 위치에 배치되도록 상기 작용점이 설정되는, 노광 장치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 제2오목면의 상기 보정점이 상기 제1오목면의 상기 보정점으로부터 상기 광축을 중심으로 하는 원주방향으로 시프트된 위치에 배치되도록 상기 작용점이 설정되는, 노광장치.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 투영 광학계는 확대계인, 노광 장치.
  6. 제 2 항에 있어서,
    상기 투영 광학계는 축소계인, 노광 장치.
  7. 제 2 항에 있어서,
    상기 제1오목면과 상기 제2오목면은 동일한 광학부재로 형성되고, 상기 투영 광학계는 등배결상하는, 노광 장치.
  8. 제 2 항에 있어서,
    상기 투영 광학계는 상기 마스크의 근방과 상기 기판의 근방에 각각 배치된, 굴절력을 각각 갖는 광학부재를 구비하고, 상기 광학부재는, 비구면형상을 갖는 렌즈를 포함하는, 노광 장치.
  9. 마스크와 기판을 주사하면서 상기 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    광축외의 환형 양호 화상영역을 사용하여서, 상기 마스크의 패턴으로부터 방출된 광속이, 제1평면, 제1오목면, 볼록면, 제2오목면 및 제2평면의 순서대로 반사한 후, 상기 기판 위에 결상하는 투영 광학계; 및
    상기 제1평면 및 상기 제2평면의 각각의 이면에 힘을 가해서 상기 제1평면 및 상기 제2평면의 각각의 형상을 조정하는 복수의 조정부를 구비하고,
    상기 제1평면에 있어서의 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점을 상기 제1평면과 직교하는 방향으로 투영하여서 얻어진 점과, 상기 제2평면에 있어서의 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점을 상기 제2평면과 직교하는 방향으로 투영하여서 얻어진 점을, 보정점으로서 정의하는 경우,
    상기 마스크상의 한 점으로부터 방출된 광속내의 제1광선과 제2광선이 상기 제1평면과 상기 제2평면에서 반사할 때, 상기 제1광선은, 상기 제1평면의 보정점에 입사하고, 상기 제2평면의 보정점에는 입사하지 않고, 또, 상기 제2광선은, 상기 제1평면의 보정점에 입사하지 않고 상기 제2평면의 보정점에 입사하도록, 상기 작용점이 설정되는, 노광 장치.
  10. 제 3 항에 있어서,
    상기 제2평면의 상기 보정점이 상기 제1평면의 상기 보정점으로부터 병진 방향으로 시프트된 위치에 배치되도록 상기 작용점이 설정되는, 노광 장치.
  11. 마스크와 기판을 주사하면서 상기 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    광축외의 환형 양호 화상영역을 사용하여서, 상기 마스크의 패턴으로부터 방출된 광속이, 제1평면, 제1오목면, 볼록면, 제2오목면 및 제2평면의 순서대로 반사한 후, 상기 기판 위에 결상하는 투영 광학계; 및
    상기 제1평면 및 상기 볼록면의 각각의 이면에 힘을 가해서 상기 제1평면 및 상기 볼록면의 각각의 형상을 조정하는 복수의 조정부를 구비하고,
    상기 제1평면에 있어서의 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점을 상기 제1평면과 직교하는 방향으로 투영하여서 얻어진 점과, 상기 볼록면에 있어서의 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점을 상기 볼록면의 광축에 평행한 방향으로 투영하여서 얻어진 점을, 보정점으로서 정의하는 경우,
    상기 마스크상의 한 점으로부터 방출된 광속내의 제1광선과 제2광선이 상기 제1평면과 상기 볼록면에서 반사할 때, 상기 제1광선은, 상기 제1평면의 보정점에 입사하고, 상기 볼록면의 보정점에는 입사하지 않고, 또, 상기 제2광선은, 상기 제1평면의 보정점에 입사하지 않고 상기 볼록면의 보정점에 입사하도록, 상기 작용점이 설정되는, 노광 장치.
  12. 마스크 및 기판을 주사하면서 상기 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    상기 마스크의 패턴을 상기 기판에 투영하는 투영 광학계를 구비하고,
    상기 투영 광학계는, 제1오목면, 볼록면 및 제2오목면을 포함하고, 상기 마스크의 패턴을 투과한 광이 상기 제1오목면, 상기 볼록면 및 상기 제2오목면의 순서대로 반사하도록 구성되고,
    상기 투영 광학계는, 상기 제1오목면 및 상기 제2오목면의 각각의 형상을 조정하기 위해서 상기 제1오목면 및 상기 제2오목면의 각각의 이면에 힘을 가하는 복수의 조정부를 더 포함하고,
    상기 제1오목면 및 상기 제2오목면에 있어서의 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점이 상기 볼록면의 광축과 직교하는 수평선에 대해서 비선대칭이 되도록, 상기 복수의 조정부가 배치되는, 노광 장치.
  13. 마스크 및 기판을 주사하면서 상기 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    상기 마스크의 패턴을 상기 기판에 투영하는 투영 광학계를 구비하고,
    상기 투영 광학계는, 제1평면, 제1오목면, 볼록면, 제2오목면 및 제2평면을 포함하고, 상기 마스크의 패턴을 투과한 광이 상기 제1평면, 상기 제1오목면, 상기 볼록면, 상기 제2오목면 및 상기 제2평면의 순서대로 반사하도록 구성되고,
    상기 투영 광학계는, 상기 제1평면 및 상기 제2평면의 각각의 형상을 조정하기 위해서 상기 제1평면 및 상기 제2평면의 각각의 이면에 힘을 가하는 복수의 조정부를 더 포함하고,
    상기 제1평면 및 상기 제2평면에 있어서의 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점이 상기 볼록면의 광축과 직교하는 수평선에 대해서 비선대칭이 되도록, 상기 복수의 조정부가 배치되는, 노광 장치.
  14. 마스크 및 기판을 주사하면서 상기 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    상기 마스크의 패턴을 상기 기판에 투영하는 투영 광학계를 구비하고,
    상기 투영 광학계는, 제1평면, 제1오목면, 볼록면, 제2오목면 및 제2평면을 포함하고, 상기 마스크의 패턴을 투과한 광이 상기 제1평면, 상기 제1오목면, 상기 볼록면, 상기 제2오목면 및 상기 제2평면의 순서대로 반사하도록 구성되고,
    상기 투영 광학계는, 상기 제1평면 및 상기 볼록면의 각각의 형상을 조정하기 위해서 상기 제1평면 및 상기 볼록면의 각각의 이면에 힘을 가하는 복수의 조정부를 더 포함하고,
    상기 제1평면의 유효광속영역인 제1유효광속영역과, 상기 제1유효광속영역에 투영된 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점의 위치와, 상기 볼록면의 유효광속영역인 제2유효광속영역과, 상기 제2유효광속영역에 투영된 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점의 위치를, 포갰을 때에, 상기 제1유효광속영역에 투영된 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점의 위치가, 상기 제2유효광속영역에 투영된 상기 복수의 조정부에 의한 힘의 작용점의 위치와 상이하도록, 상기 복수의 조정부가 배치되는, 노광 장치.
  15. 청구항 2 내지 14 중 어느 한 항에 기재된 노광 장치를 사용해서 기판을 노광하는 공정과,
    상기 노광된 기판을 현상하는 공정을 포함하여,
    상기 현상된 기판으로부터 물품을 제조하는, 물품제조방법.
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JPS6093410A (ja) * 1983-10-27 1985-05-25 Canon Inc 反射光学系
JP3724517B2 (ja) 1995-01-18 2005-12-07 株式会社ニコン 露光装置
US7184124B2 (en) * 2004-10-28 2007-02-27 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus having an adjustable projection system and device manufacturing method
US20090042139A1 (en) * 2007-04-10 2009-02-12 Nikon Corporation Exposure method and electronic device manufacturing method
JP6748482B2 (ja) 2016-05-25 2020-09-02 キヤノン株式会社 露光装置、および、物品の製造方法
JP6598827B2 (ja) * 2017-08-01 2019-10-30 キヤノン株式会社 光学装置、これを用いた露光装置、および物品の製造方法

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