KR20210129554A - Method for refairing display processing parts - Google Patents

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KR20210129554A
KR20210129554A KR1020200047760A KR20200047760A KR20210129554A KR 20210129554 A KR20210129554 A KR 20210129554A KR 1020200047760 A KR1020200047760 A KR 1020200047760A KR 20200047760 A KR20200047760 A KR 20200047760A KR 20210129554 A KR20210129554 A KR 20210129554A
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Abstract

The present invention relates to a method for reproducing display manufacturing process parts, which corrects flatness while increasing the hardness of the display manufacturing process parts. To this end, the method comprises: a heat treatment and correction step of naturally cooling display manufacturing process parts while performing primary heat treatment and first correcting flatness along with the heat treatment; a hardening heat treatment step of increasing hardness by hardening heat treatment of the display manufacturing process parts after the heat treatment and correction step; a reproducing step of performing reproduction by removing a process film or process contaminants attached to the display manufacturing process parts; a step of secondarily correcting the flatness of the display manufacturing process parts without heat treatment; and a step of rinsing and drying the display manufacturing process parts.

Description

디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법{Method for refairing display processing parts}Method for refairing display processing parts

본 발명은 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 디스플레이 제조공정 부품의 경도를 향상시키면서 평탄도를 교정하는 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for reproducing display manufacturing process components, and more particularly, to a method for reproducing display manufacturing process components for correcting flatness while improving hardness of display manufacturing process components.

디퓨저는 디스플레이를 제조하는 CVD 제조공정에 사용시에 일반적으로 알루미늄 소재를 사용하여 대형 사이즈로 제작되고 수많은 내부 관통 구멍이 형성되기 때문에 오랜 시간 사용하게 되면 알루미늄의 강도가 점차 감소함에 따라 휨이 발생하거나(또는 처짐이 발생) 또는 변형하기 쉬워 글라스 기판에 불균일 증착의 공정 불량을 야기한다. When a diffuser is used in the CVD manufacturing process of manufacturing a display, it is generally manufactured in a large size using an aluminum material, and numerous internal through holes are formed. or sagging) or easily deformed, causing process failure of non-uniform deposition on the glass substrate.

디스플레이를 제작하는 CVD 제조공정에서 사용되는 디퓨저의 강도 또는 경도를 향상시키면서 오랜 사용으로 휨이 발생한 디퓨저를 교정하여 재사용하기 위한 재생 방법에 관한 기술 개발이 요구되고 있다.While improving the strength or hardness of the diffuser used in the CVD manufacturing process of manufacturing a display, there is a demand for technology development regarding a regeneration method for correcting and reusing a diffuser that has been warped due to long-term use.

대한민국 등록특허공보 10-1852937(발명의 명칭 : 급속 냉각 장치 및 이를 구비한 열처리 오븐 시스템)Republic of Korea Patent Publication No. 10-1852937 (Title of the invention: rapid cooling device and heat treatment oven system having the same) 일본국 공개특허공보 2010-236006(발명의 명칭 : 금속 부재의 재생 열처리 방법)Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-236006 (Title of Invention: Regeneration heat treatment method of metal member)

따라서, 본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 오랜 사용으로 재생이 필요한 디퓨저의 강도를 향상시키면서도 평탄도를 교정할 수 있는 발명을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention was created to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an invention capable of correcting flatness while improving the strength of a diffuser that needs to be regenerated after long-term use.

그러나, 본 발명의 목적들은 상기에 언급된 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

전술한 본 발명의 목적은, 디스플레이 제조공정 부품을 1차적으로 열처리하면서 자연 냉각시키고, 열처리와 함께 평탄도를 1차 교정하는 열처리 및 교정 단계, 열처리 및 교정 단계 후에, 디스플레이 제조공정 부품을 경화 열처리함으로써 경도를 향상시키는 경화 열처리 단계, 디스플레이 제조공정 부품에 부착된 공정피막 또는 공정 오염물을 제거하여 재생처리하는 단계, 열처리 없이 디스플레이 제조공정 부품의 평탄도를 2차 교정하는 단계, 디스플레이 제조공정 부품을 린스 및 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법을 제공함으로써 달성될 수 있다.The above-described object of the present invention is to naturally cool the display manufacturing process parts while primary heat treatment, and after the heat treatment and calibration step, heat treatment and calibration step to first correct flatness along with heat treatment, hardening heat treatment for display manufacturing process parts A curing heat treatment step to improve hardness by It can be achieved by providing a method of regenerating a display manufacturing process component, characterized in that it comprises the steps of rinsing and drying.

또한, 경화 열처리 단계는,In addition, the hardening heat treatment step,

기 설정된 온도 조건 및 시간 조건에 따라 열처리 및 냉각을 순차적으로 실시함으로써 경화 열처리한다.The hardening heat treatment is performed by sequentially performing heat treatment and cooling according to preset temperature conditions and time conditions.

또한, 경화 열처리 단계는,In addition, the hardening heat treatment step,

열처리 및 교정 단계에서의 온도 조건보다 더 높은 온도 조건 및 기 설정된 시간 조건에 따라 디스플레이 제조공정 부품을 1차 열처리 하는 단계,The first heat treatment of the display manufacturing process parts according to a higher temperature condition and a preset time condition than the temperature condition in the heat treatment and calibration step;

1차 열처리 단계 후에, 기 설정된 온도 조건 및 1차 열처리 단계에서의 시간 조건보다 더 짧은 시간 조건에 따라 디스플레이 제조공정 부품을 급속 냉각시키는 단계,After the first heat treatment step, rapidly cooling the display manufacturing process parts according to a preset temperature condition and a time condition shorter than the time condition in the first heat treatment step;

급속 냉각 단계 후에, 1차 열처리 단계에서의 온도 조건보다 더 낮은 온도 조건 및 더 긴 시간 조건에 따라 디스플레이 제조공정 부품을 2차 열처리하는 단계를 포함한다.After the rapid cooling step, a second heat treatment step of the display manufacturing process component according to a lower temperature condition and a longer time condition than the temperature condition in the first heat treatment step is included.

또한, 1차 열처리 단계 전에,In addition, before the first heat treatment step,

디스플레이 제조공정 부품의 열 충격을 완화시키기 위해 부품의 강도보다 더 강한 강도의 재질로 이루어진 열충격 완화부재의 상면에 부품을 유동 가능하도록 고정하는 단계를 더 포함한다.The method further includes fixing the component to the upper surface of the thermal shock mitigating member made of a material stronger than the strength of the component so as to be able to flow in order to alleviate the thermal shock of the component in the display manufacturing process.

또한, 열처리 및 교정 단계는 400 ~ 450도씨의 온도 조건에 따라 부품을 열처리하면서 자연 냉각시키며, In addition, the heat treatment and calibration step naturally cools the parts while heat-treating them according to the temperature condition of 400 to 450 degrees Celsius,

1차 열처리 단계는 500 ~ 550도씨의 온도 조건 및 2시간 ~ 4시간의 시간 조건에 따라 부품을 1차 열처리 하며,In the first heat treatment step, the parts are first heat treated according to the temperature condition of 500 ~ 550 degrees Celsius and the time condition of 2 ~ 4 hours,

2차 열처리 단계는 160 ~ 220도씨의 온도 조건 및 12시간 ~ 20시간의 시간 조건에 따라 부품을 2차 열처리한다.In the secondary heat treatment step, the parts are subjected to secondary heat treatment according to a temperature condition of 160 to 220 degrees Celsius and a time condition of 12 to 20 hours.

또한, 급속 냉각 단계는,In addition, the rapid cooling step,

밀폐된 공간 내에서 열충격 완화부재 위에 놓인 부품에 가스 공급 제어부의 제어에 따라 질소가스를 20분 ~ 60분간 분사함으로써 부품을 급속 냉각시킨다.The parts are rapidly cooled by spraying nitrogen gas for 20 to 60 minutes under the control of the gas supply controller to the parts placed on the thermal shock mitigating member in the enclosed space.

또한, 급속 냉각 단계는,In addition, the rapid cooling step,

밀폐된 공간 내에서 열충격 완화부재 위에 놓인 부품에 에어 공급 제어부의 제어에 따라 에어를 30분 ~ 1시간 분사함으로써 부품을 급속 냉각시킨다.The parts are rapidly cooled by spraying air for 30 minutes to 1 hour under the control of the air supply controller to the parts placed on the thermal shock mitigating member in the enclosed space.

또한, 급속 냉각 단계는,In addition, the rapid cooling step,

열충격 완화부재 위에 놓인 부품을 물에 5분 ~ 10분 담굼으로써 부품을 급속 냉각시킨다.The parts placed on the thermal shock absorbing member are immersed in water for 5 to 10 minutes to rapidly cool the parts.

한편, 본 발명의 목적은 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법에 이용되는 디스플레이 제조공정 부품의 경화 열처리 장치에 있어서, 디스플레이 제조공정 부품 및 부품의 열 충격을 완화시키는 열충격 완화부재가 밀폐된 환경 내부에 배치되는 경화 열처리 몸체부, 부품을 기 설정된 온도 조건 및 시간 조건하에서 열처리하는 열처리부, 열처리된 부품을 기 설정된 온도 조건 및 시간 조건하에서 냉각시키는 냉각부를 포함하며, 기 설정된 온도 조건 및 시간 조건에 따라 열처리 및 냉각을 순차적으로 실시함으로써 부품을 경화 열처리하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 제조공정 부품의 경화 열처리 장치를 제공함로써 달성될 수 있다.On the other hand, it is an object of the present invention, in the display manufacturing process part curing heat treatment apparatus used in the display manufacturing process part reproduction method, the display manufacturing process part and the thermal shock mitigating member for alleviating the thermal shock of the component is disposed inside a sealed environment It includes a hardening heat treatment body to be cured, a heat treatment unit for heat-treating the parts under preset temperature conditions and time conditions, and a cooling unit for cooling the heat-treated parts under preset temperature conditions and time conditions, heat treatment according to preset temperature conditions and time conditions And it can be achieved by providing a hardening heat treatment apparatus for a display manufacturing process component, characterized in that the hardening heat treatment of the component by performing the cooling sequentially.

또한, 열처리부는,In addition, the heat treatment unit,

경화 열처리 몸체부의 적어도 일면에 구비되어 열처리시에 소정 온도로 가열되는 열선부,A heating wire portion provided on at least one surface of the hardening heat treatment body portion and heated to a predetermined temperature during heat treatment;

열선부를 제어하는 열선 제어부,a heating wire controller for controlling the heating wire part;

열선부의 가열 시간을 측정하며, 측정 시간을 열선 제어부로 전송하는 열선 타이머부를 포함한다.It measures the heating time of the heating wire part, and includes a heating wire timer for transmitting the measurement time to the heating wire controller.

또한, 냉각부는,In addition, the cooling unit,

질소 가스가 분사됨으로써 부품을 냉각시키는 가스 냉각부,A gas cooling unit that cools the parts by spraying nitrogen gas,

에어가 분사됨으로써 부품을 냉각시키는 에어 냉각부, 및An air cooling unit that cools the parts by spraying air, and

물에 의해 부품을 냉각시키는 물 냉각부 중 적어도 하나의 냉각부로 구성된다.at least one cooling part of the water cooling part which cools the part by water.

또한, 가스 냉각부는,In addition, the gas cooling unit,

경화 열처리 몸체부의 둘레방향으로 구비되어 냉각시에 질소 가스가 내부로 분사되도록 하는 가스 분사 노즐부, A gas injection nozzle unit provided in the circumferential direction of the hardening heat treatment body so that nitrogen gas is injected inside when cooling;

질소 가스를 저장하는 가스 저장부,a gas storage unit for storing nitrogen gas;

가스 분사 노즐부로 분사되는 질소 가스의 분사량 또는 분사 압력을 조절하는 가스 공급 제어부,A gas supply control unit for controlling the injection amount or injection pressure of the nitrogen gas injected to the gas injection nozzle unit;

가스 저장부와 가스 분사 노즐부를 연결 접속함으로써 질소 가스를 공급하는 가스 라인부,A gas line unit for supplying nitrogen gas by connecting and connecting the gas storage unit and the gas injection nozzle unit;

질소 가스의 공급 시간을 측정하며, 측정된 시간을 가스 공급 제어부로 전송하는 가스 타이머부를 포함한다.and a gas timer for measuring the supply time of nitrogen gas and transmitting the measured time to the gas supply control unit.

또한, 에어 냉각부는,In addition, the air cooling unit,

경화 열처리 몸체부의 둘레방향으로 구비되어 냉각시에 에어가 내부로 분사되도록 하는 에어 분사 노즐부, An air spray nozzle part provided in the circumferential direction of the hardening heat treatment body so that air is sprayed inside when cooling;

에어를 저장하는 에어 저장부,Air storage for storing air,

에어 분사 노즐부로 분사되는 에어의 분사량 또는 분사 압력을 조절하는 에어 공급 제어부,an air supply control unit that adjusts the injection amount or injection pressure of the air injected into the air injection nozzle unit;

에어 저장부와 에어 분사 노즐부를 연결 접속함으로써 에어를 공급하는 에어 라인부,An air line unit for supplying air by connecting and connecting the air storage unit and the air jet nozzle unit,

에어의 공급 시간을 측정하며, 측정된 시간을 에어 공급 제어부로 전송하는 에어 타이머부를 포함한다.It measures the air supply time, and includes an air timer unit for transmitting the measured time to the air supply control unit.

또한, 물 냉각부는,In addition, the water cooling unit,

소정의 물이 저장되며, 상부가 개폐된 수조,A water tank in which a predetermined amount of water is stored and the upper part is opened and closed,

부품 및 열충격 완화부재를 수조의 상부 측에서 하부측 방향으로 견인하여 물에 담그도록 하는 견인부를 포함한다.and a towing unit for pulling the parts and the thermal shock mitigating member from the upper side of the water tank to the lower side and immersing them in water.

또한, 열선 제어부는 500 ~ 550도씨의 온도 조건 및 2시간 ~ 4시간의 시간 조건에 따라 부품을 1차 열처리하도록 열선부를 제어하며,In addition, the hot wire control unit controls the hot wire to perform the primary heat treatment of the parts according to a temperature condition of 500 to 550 degrees Celsius and a time condition of 2 hours to 4 hours,

1차 열처리 후에, 가스 공급 제어부는 가스 분사 노즐부를 통해 질소 가스를 20분 ~ 60분간 경화 열처리 몸체부의 내부에 분사함으로써 부품을 급속 냉각시키며,After the primary heat treatment, the gas supply control unit rapidly cools the parts by spraying nitrogen gas into the hardening heat treatment body for 20 to 60 minutes through the gas injection nozzle unit,

급속 냉각 후에, 열선 제어부는 160 ~ 220도씨의 온도 조건 및 12시간 ~ 20시간의 시간 조건에 따라 부품을 2차 열처리하도록 열선부를 제어한다.After rapid cooling, the hot wire control unit controls the hot wire to perform secondary heat treatment of the parts according to a temperature condition of 160 to 220 degrees Celsius and a time condition of 12 hours to 20 hours.

또한, 열선 제어부는 500 ~ 550도씨의 온도 조건 및 2시간 ~ 4시간의 시간 조건에 따라 부품을 1차 열처리하도록 열선부를 제어하며,In addition, the hot wire control unit controls the hot wire to perform the primary heat treatment of the parts according to a temperature condition of 500 to 550 degrees Celsius and a time condition of 2 hours to 4 hours,

1차 열처리 후에, 에어 공급 제어부는 에어 분사 노즐부를 통해 에어를 30분 ~ 1시간 경화 열처리 몸체부의 내부에 분사함으로써 부품을 급속 냉각시키며,After the primary heat treatment, the air supply control unit rapidly cools the parts by spraying air into the hardening heat treatment body for 30 minutes to 1 hour through the air injection nozzle unit,

급속 냉각 후에, 열선 제어부는 160 ~ 220도씨의 온도 조건 및 12시간 ~ 20시간의 시간 조건에 따라 부품을 2차 열처리하도록 열선부를 제어한다.After rapid cooling, the hot wire control unit controls the hot wire to perform secondary heat treatment of the parts according to a temperature condition of 160 to 220 degrees Celsius and a time condition of 12 hours to 20 hours.

또한, 열선 제어부는 500 ~ 550도씨의 온도 조건 및 2시간 ~ 4시간의 시간 조건에 따라 부품을 1차 열처리하도록 열선부를 제어하며,In addition, the hot wire control unit controls the hot wire to perform the primary heat treatment of the parts according to a temperature condition of 500 to 550 degrees Celsius and a time condition of 2 hours to 4 hours,

1차 열처리 후에, 부품을 수조에 5분 ~ 10분간 담금으로써 급속 냉각시키며,After the first heat treatment, the parts are rapidly cooled by immersing them in a water bath for 5 to 10 minutes,

급속 냉각 후에, 열선 제어부는 160 ~ 220도씨의 온도 조건 및 12시간 ~ 20시간의 시간 조건에 따라 부품을 2차 열처리하도록 열선부를 제어한다.After rapid cooling, the hot wire control unit controls the hot wire to perform secondary heat treatment of the parts according to a temperature condition of 160 to 220 degrees Celsius and a time condition of 12 hours to 20 hours.

또한, 부품의 열 충격을 완화시키기 위해 부품의 강도보다 더 강한 강도의 재질로 이루어진 열충격 완화부재의 상면에 부품을 유동 가능하도록 고정시킨다.In addition, in order to alleviate the thermal shock of the component, the component is fixed to the upper surface of the thermal shock mitigating member made of a material having a strength stronger than the strength of the component so as to be able to flow.

전술한 바와 같은 본 발명에 의하면 오랜 사용으로 재생이 필요한 디퓨저의 강도를 향상시키면서도 평탄도를 교정할 수 있는 발명을 제공할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention as described above, it is possible to provide an invention capable of correcting flatness while improving the strength of a diffuser that needs to be regenerated after long use.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 일실시예를 예시하는 것이며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술적 사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석 되어서는 아니 된다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 디퓨저 재생 방법에 대한 전체적인 절차를 순차적으로 나타낸 도면이고,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 경화 열처리 단계를 좀 더 자세하게 순차적으로 나타낸 도면이고,
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 열처리와 급속 냉각을 동시에 구현할 수 있는 경화 열처리부의 구성을 나타낸 구성도로서, N2 가스의 공급을 도시한 도면이고,
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 열처리와 급속 냉각을 동시에 구현할 수 있는 경화 열처리부의 구성을 나타낸 구성도로서, 에어의 공급을 도시한 도면이고,
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 급속 냉각시에 물을 사용하여 냉각시키는 것을 도시한 도면이다.
The following drawings attached to this specification illustrate a preferred embodiment of the present invention, and serve to further understand the technical spirit of the present invention together with the detailed description of the present invention, so the present invention is limited to the matters described in those drawings It should not be construed as being limited.
1 is a view sequentially showing the overall procedure for a diffuser reproduction method according to an embodiment of the present invention,
2 is a view sequentially showing the hardening heat treatment step in more detail according to an embodiment of the present invention,
3 is a block diagram showing the configuration of a hardening heat treatment unit capable of simultaneously implementing heat treatment and rapid cooling according to an embodiment of the present invention, and is a view showing the supply of N 2 gas;
4 is a block diagram showing the configuration of a hardening heat treatment unit capable of simultaneously implementing heat treatment and rapid cooling according to an embodiment of the present invention, and is a view showing the supply of air;
5 is a diagram illustrating cooling using water during rapid cooling according to an embodiment of the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예에 대해서 설명한다. 또한, 이하에 설명하는 일실시예는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 내용을 부당하게 한정하지 않으며, 본 실시 형태에서 설명되는 구성 전체가 본 발명의 해결 수단으로서 필수적이라고는 할 수 없다. 또한, 종래 기술 및 당업자에게 자명한 사항은 설명을 생략할 수도 있으며, 이러한 생략된 구성요소(방법) 및 기능의 설명은 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위내에서 충분히 참조될 수 있을 것이다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, one embodiment described below does not unreasonably limit the content of the present invention described in the claims, and it cannot be said that the entire configuration described in the present embodiment is essential as a solution for the present invention. In addition, descriptions of the prior art and matters obvious to those skilled in the art may be omitted, and the description of the omitted components (methods) and functions may be sufficiently referenced within the scope not departing from the technical spirit of the present invention.

(디퓨저 재생 방법)(How to play the diffuser)

본 발명의 일실시예에 따른 디퓨저 재생 방법은 CVD 제조공정에서 사용된 디퓨저의 강도 또는 경도를 향상시키면서 오랜 사용으로 휨이 발생한 디퓨저를 교정하여 재사용하기 위한 재생 방법에 관한 것이다. 디퓨저는 디스플레이를 제조하는 CVD 제조공정에 사용시에 일반적으로 알루미늄 소재를 사용하여 대형 사이즈로 제작되기 때문에 오랜 시간 사용하게 되면 알루미늄의 강도가 점차 감소함에 따라 휨이 발생(또는 처짐이 발생)하여 글라스 기판에 불균일 증착의 공정 불량을 야기한다. 따라서 이러한 공정 불량을 야기하는 디퓨저를 재사용하기 위한 재생 방법에 대해서 이하에서 첨부된 도면을 참고하여 상세히 설명하기로 한다. 다만, 본 발명에서는 디퓨저의 재생에 관해 일실시예로서 설명하기로 하나 디퓨저의 재생 뿐만 아니라 디스플레이 또는 반도체 제조공정에 사용되는 부품으로서 경도를 향상시키고 평탄도를 좋게 하기 위한 모든 부품에 적용될 수도 있다.A diffuser regeneration method according to an embodiment of the present invention relates to a regeneration method for correcting and reusing a diffuser that has been warped due to long-term use while improving the strength or hardness of a diffuser used in a CVD manufacturing process. When a diffuser is used in the CVD manufacturing process of manufacturing a display, it is generally manufactured in a large size using an aluminum material. Therefore, when used for a long time, as the strength of aluminum gradually decreases, bending (or sagging) occurs, resulting in a glass substrate. On the non-uniform deposition causes process defects. Therefore, a regeneration method for reusing the diffuser causing such a process defect will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. However, in the present invention, the regeneration of the diffuser will be described as an embodiment, but it may be applied to all parts for improving hardness and improving flatness as a part used for display or semiconductor manufacturing process as well as for regeneration of the diffuser.

먼저, 도 1을 참고하면 재사용하려고 하는 디퓨저(11)를 열처리하여 자연 냉각시키면서 평탄도를 1차 교정하는 열처리 및 1차 교정단계를 수행한다. 열처리시에는 400 ~ 450도씨의 온도 조건 및 기 설정된 시간 조건하에서 디퓨저의 응력을 풀어주는 응력 풀림 열처리를 하고, 열처리와 동시에 프레스를 사용하여 디퓨저의 평탄도를 1차 교정한다. 이때, 냉각방법은 자연 냉각시킨다. 다만, 열처리 후에는 디퓨저의 경도가 안좋아지기 때문에 이하의 경화 열처리 단계를 수행한다.First, referring to FIG. 1 , a heat treatment and a first calibration step of first correcting flatness are performed while naturally cooling the diffuser 11 to be reused by heat treatment. In the case of heat treatment, stress relief heat treatment is performed to relieve the stress of the diffuser under temperature conditions of 400 to 450 degrees Celsius and preset time conditions, and at the same time as heat treatment, the flatness of the diffuser is first corrected using a press. At this time, the cooling method is natural cooling. However, after the heat treatment, the hardness of the diffuser deteriorates, so the following hardening heat treatment step is performed.

다음으로, 열처리 및 1차 교정이 완료된 재사용 디퓨저를 경화 열처리하여 디퓨저의 경도를 향상시키는 경화 열처리 단계를 수행한다. 경화 열처리 단계는 크게 제1 열처리 단계(용체화 처리 단계), 급속 냉각 단계, 제2 열처리 단계(시효 처리 단계)를 순차적으로 수행한다. 도 2를 참고하여 경화 열처리 단계를 좀 더 상세하게 설명하면, Next, a curing heat treatment step of improving the hardness of the diffuser is performed by curing and heat treating the reusable diffuser that has been heat treated and the first calibration is completed. In the hardening heat treatment step, a first heat treatment step (solution heat treatment step), a rapid cooling step, and a second heat treatment step (aging treatment step) are sequentially performed. When the hardening heat treatment step is described in more detail with reference to FIG. 2,

경화 열처리 단계는, 먼저 재사용 디퓨저(11)를 받치는 디퓨저 받침대(열충격 완화부재, 12) 위에 재사용 디퓨저(11)를 유동 가능하도록 고정시키는 단계를 수행한다. 디퓨저 받침대(12)는 열처리 및 냉각 처리시에 디퓨저의 처짐을 방지하기 위해 디퓨저를 받침 지지하는 것으로서 경화 열처리시에(좀 더 상세하게는 급속 냉각시) 디퓨저(11)의 변형이나 처짐을 방지하기 위한 것이다. 이때, 디퓨저 받침대(12)는 알루미늄 소재의 디퓨저에 비해 강도가 더 좋은 열변형에 둔감한 특수강 소재 또는 스틸 소재를 사용하는 것이 바람직하고 또한 열처리 전의 평탄도가 "0"에 가까운 즉, 재사용 디퓨저(11)보다 더 평탄도가 좋은 디퓨저 받침대를 제작하여 사용하는 것이 바람직하다. 한편, 재사용 디퓨저(11)가 디퓨저 받침대(12)에 유동 가능하도록 고정되는 것이 바람직하다. 유동이 안 되도록 고정하면 열처리 및 냉각처리에 따른 열팽창에 의해 디퓨저에 휨 또는 변형이 발생하게 되는 문제점이 있다. In the curing heat treatment step, first, a step of fixing the reusable diffuser 11 so as to be movable on the diffuser pedestal (thermal shock mitigating member 12) supporting the reusable diffuser 11 is performed. The diffuser pedestal 12 supports and supports the diffuser to prevent sagging of the diffuser during heat treatment and cooling. it is for At this time, the diffuser pedestal 12 is preferably made of a special steel material or steel material that is insensitive to thermal deformation, which has better strength than an aluminum diffuser, and the flatness before heat treatment is close to "0", that is, a reusable diffuser ( It is preferable to use a diffuser stand with better flatness than 11). On the other hand, it is preferable that the reusable diffuser 11 is fixed to the diffuser pedestal 12 so as to be movable. If it is fixed so that it does not flow, there is a problem in that bending or deformation occurs in the diffuser due to thermal expansion due to heat treatment and cooling treatment.

경화 열처리 단계의 다음으로, 재사용 디퓨저(11)가 디퓨저 받침대(12)에 유동 가능하게 고정되고 난 후에 500 ~ 550도씨의 온도 조건 및 2시간 ~ 4시간의 시간 조건하에서 1차 경화 열처리를 수행한다. 이때 바람직하게는 3시간을 유지하는 것이 좋다. 1차 경화 열처리는 디퓨저를 고용시키면서 고용한계선(solrus line) 이상의 온도로 충분한 시간동안 가열하면 균일한 단상의 고용체가 얻어진다.After the curing heat treatment step, after the reuse diffuser 11 is movably fixed to the diffuser pedestal 12, the primary curing heat treatment is performed under a temperature condition of 500 to 550 degrees Celsius and a time condition of 2 hours to 4 hours. do. In this case, it is preferable to maintain it for 3 hours. In the primary hardening heat treatment, a uniform single-phase solid solution is obtained by heating the diffuser to a temperature above the solrus line for a sufficient time while dissolving the diffuser into a solid solution.

경화 열처리 단계의 다음으로, 1차 경화 열처리가 수행된 후에 재사용 디퓨저(11)를 기 설정된 온도 조건 및 시간 조건하에서 급속 냉각시키는 단계를 수행한다. 본 단계에서의 급속 냉각은 앞서 설명한 자연 냉각시키는 열처리 및 1차 교정단계보다 상대적으로 빠르게 급속 냉각시키는 것을 의미하며, 3가지 방법으로 급속 냉각시키게 된다. 제1 급속냉각 방법은 1차 경화 열 처리된 디퓨저(11)를 5분 ~ 10분간 물에 담가 냉각시키는 방법이다. 제2 급속냉각 방법은 30분 ~ 1시간 에어를 분사하여 냉각시키는 방법이다. 제3 급속냉각 방법은 20 ~ 60분 N2 가스를 분사하여 냉각시키는 방법이다. 각각의 급속냉각 방법에 대한 자세한 설명은 후술하기로 한다. 각각의 급속냉각 방법에 따라 디퓨저를 40 ~ 100도씨로 냉각 처리하며, 바람직하게는 50도씨 이하로 냉각 처리하는 것이 좋다. 급속 냉각이 완료된 재사용 디퓨저를 과포화 고용체라 한다.After the curing heat treatment step, a step of rapidly cooling the reuse diffuser 11 under a preset temperature condition and time condition is performed after the primary curing heat treatment is performed. Rapid cooling in this step means rapid cooling relatively faster than the natural cooling heat treatment and the first calibration step described above, and rapid cooling is performed in three ways. The first rapid cooling method is a method of cooling the diffuser 11, which has been subjected to primary curing heat treatment, by immersing it in water for 5 to 10 minutes. The second rapid cooling method is a method of cooling by spraying air for 30 minutes to 1 hour. The third rapid cooling method is a method of cooling by spraying N 2 gas for 20 to 60 minutes. A detailed description of each rapid cooling method will be described later. According to each rapid cooling method, the diffuser is cooled to 40 to 100°C, preferably to 50°C or less. A reusable diffuser that has completed rapid cooling is called a supersaturated solid solution.

경화 열처리 단계의 다음으로, 160 ~ 220도씨의 온도 조건 및 12시간 ~ 20시간의 시간 조건하에서 2차 경화 열처리를 수행한다. 과포화 고용체를 고용 한계선 이하의 온도로 가열하여 일정시간 유지시켜 시효하면 석출물이 형성된다. After the hardening heat treatment step, a secondary hardening heat treatment is performed under a temperature condition of 160 to 220°C and a time condition of 12 hours to 20 hours. When the supersaturated solid solution is heated to a temperature below the solid solution limit line and maintained for a certain period of time, a precipitate is formed.

상술한 바와 같이 열처리 및 1차 교정단계 후에 경도가 낮아진 디퓨저를 경화 열처리를 수행하면 200HL 수준의 경도를 최대 350HL 까지 향상시킬 수 있는 장점이 있다. As described above, there is an advantage that the hardness of 200HL level can be improved up to 350HL by hardening the diffuser with lower hardness after the heat treatment and the first calibration step.

경화 열처리 단계의 다음으로, 재사용 디퓨저(11)를 디퓨저 받침대(12)에서 탈착시키는 단계를 수행한다.Next to the curing heat treatment step, a step of detaching the reuse diffuser 11 from the diffuser pedestal 12 is performed.

도 1을 참고하여 설명을 계속하면, 경화 열처리 단계를 수행한 후에 재사용 디퓨저(11)에 부착된 공정 피막(AlF) 또는 공정 오염물을 제거하는 재생 처리 단계 또는 박리 및 세정공정 단계를 수행한다.Continuing the description with reference to FIG. 1 , after performing the curing heat treatment step, a regeneration treatment step of removing the process film (AlF) or process contaminants attached to the reuse diffuser 11 or a peeling and cleaning process step is performed.

다음으로, 열처리 없이 프레스를 이용하여 재사용 디퓨저의 휨을 펴서 평탄도를 2차 교정하는 단계를 수행한다.Next, without heat treatment, using a press to straighten the bending of the reused diffuser to perform a second correction of flatness.

다음으로, 재사용 디퓨저(11)를 린스 및 건조하는 단계를 수행한다.Next, the steps of rinsing and drying the reusable diffuser 11 are performed.

(디퓨저 재생 장치의 구성 및 기능)(Configuration and function of the diffuser playback device)

상술한 디퓨저 재생 방법 시에 설명한 경화 열처리 단계를 수행하기 위한 경화 열처리 장치에 대해 첨부된 도면 3 내지 5를 참고하여 이하에서 설명하기로 한다. A curing heat treatment apparatus for performing the curing heat treatment step described in the above-described diffuser regeneration method will be described below with reference to the accompanying drawings 3 to 5 .

도 3은 급속 냉각시에 N2 가스를 사용하는 것을 도시한 것이고, 도 4는 급속 냉각시에 에어를 사용하는 것을 도시한 것이다. 따라서 도 3의 N2 가스에 대해서만 설명하기로 하고 도 4의 에어에 대해서는 이에 갈음하기로 한다.FIG. 3 illustrates the use of N 2 gas during rapid cooling, and FIG. 4 illustrates the use of air during rapid cooling. Therefore, only the N 2 gas of FIG. 3 will be described and the air of FIG. 4 will be replaced therewith.

도 3에 도시된 바와 같이 경화 열처리 장치는 앞서 설명한 경화 열처리 방법을 구현하기 위한 장치로서, 밀폐된 경화 열처리부(100) 내에 디퓨저(11)와 디퓨저 받침대(12)가 놓이고 디퓨저(110)의 열처리와 급속 냉각이 한 공간내에서 모두 이루어지게 된다. 디퓨저(11)는 디퓨저 받침대(12) 위에 열팽창에 의해서도 변형이 방지되도록 유동 가능하게 유동 고정부(12a)에 의해 고정되는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 3 , the hardening heat treatment apparatus is a device for implementing the hardening heat treatment method described above, and the diffuser 11 and the diffuser pedestal 12 are placed in the sealed hardening heat treatment unit 100 and the diffuser 110 Heat treatment and rapid cooling are all done in one space. The diffuser 11 is preferably fixed by the flow fixing part 12a on the diffuser pedestal 12 to prevent deformation even by thermal expansion.

경화 열처리부(100)는 둘레방향으로 일정한 간격을 두고 열선부(111)가 배치되며, 열선부(111)는 열선 제어부(112)에 의해 제어되어 발열 됨으로써 경화 열처리부(100) 내의 온도가 조정된다. 열선 제어부(112)는 1차 경화 열처리시에는 경화 열처리부(100) 내의 온도가 500 ~ 550도씨의 온도가 되도록 열선부(111)를 조정하며, 2차 경화 열처리시에는 160 ~ 220도씨의 온도가 되도록 열선부(111)를 조정한다. 열선 타이머부(113)는 1차 및 2차 경화 열처리 시간을 측정하고, 기 설정된 시간이 된 경우 이를 열선 제어부(112)에 알려준다.In the hardening heat treatment unit 100, the hot wire parts 111 are arranged at regular intervals in the circumferential direction, and the hot wire part 111 is controlled by the hot wire control unit 112 to generate heat, so that the temperature in the hardening heat treatment unit 100 is adjusted. do. The hot wire control unit 112 adjusts the hot wire unit 111 so that the temperature in the hardening heat treatment unit 100 is 500 to 550 degrees Celsius during the primary hardening heat treatment, and 160 to 220 degrees Celsius during the secondary hardening heat treatment. Adjust the heating wire part 111 so that the temperature of The hot wire timer unit 113 measures the first and second hardening heat treatment times, and when a preset time has come, it notifies the hot wire control unit 112 .

경화 열처리부(100)의 둘레방향에는 급속 냉각을 위해 복수의 가스 분사 노즐부(121a,121b, 121c,121d)가 배치되며, 가스 저장부(123)에서 공급되는 N2 가스를 각 가스 분사 노즐부에 공급하는 복수의 가스 라인부(122a,122b, 122c,122d)가 각 가스 분사 노즐부와 연결 접속된다. 가스 저장부(123)는 가스 공급 제어부(124)의 제어에 따라 가스 공급량을 각 복수의 가스 라인부에 조절 공급한다. 이때, 경화 열처리부(100)내에 N2 가스가 사방에서 주입될 수 있도록 하면서 동시에 분사 노즐부에서 동일한 압력으로 동일한 양의 N2 가스가 내부로 공급되도록 하는 것이 바람직하다. 이에 따라 각각의 가스 분사 노즐부 및 가스 라인부는 서로 동일한 구성을 가지는 것이 바람직하다. 가스 타이머부(125)는 N2 가스의 공급 시간을 측정하고, 기 설정된 시간이 된 경우에 이를 가스 공급 제어부(124)로 전송하여 N2 가스의 공급이 중단된다.A plurality of gas injection nozzle units 121a, 121b, 121c, and 121d are disposed in the circumferential direction of the hardening heat treatment unit 100 for rapid cooling, and the N 2 gas supplied from the gas storage unit 123 is supplied to each gas injection nozzle. A plurality of gas line parts 122a, 122b, 122c, and 122d supplied to the part are connected and connected to each gas injection nozzle part. The gas storage unit 123 adjusts and supplies a gas supply amount to each of the plurality of gas line units according to the control of the gas supply control unit 124 . At this time, it is preferable that the N 2 gas and to be injected from all directions at the same time the same amount of N 2 gas to the same pressure from the spray nozzle unit in the hardening heat treatment section 100 is to be supplied to the interior. Accordingly, each of the gas injection nozzle unit and the gas line unit preferably has the same configuration. The gas timer unit 125 measures the supply time of the N 2 gas, and when the preset time is reached, the gas timer unit 125 transmits it to the gas supply control unit 124 to stop the supply of the N 2 gas.

한편, 필요에 따라 가스 분사 노즐부의 분사 방향 및 분사량은 가스 공급 제어부(124)에 의해 제어될 수 있다. Meanwhile, if necessary, the injection direction and the injection amount of the gas injection nozzle unit may be controlled by the gas supply control unit 124 .

상술한 경화 열처리부(100) 내에는 내부 온도를 측정할 수 있는 온도 측정부(101)가 배치될 수 있으며, 온도 측정부(101)는 열선 제어부(112) 및 가스 공급 제어부(124)와 서로 연결 접속되어 열처리 온도 및 급속 냉각 온도를 측정하여 이를 제공함으로써 좀 더 정밀한 온도 제어가 가능할 수 있다.A temperature measuring unit 101 capable of measuring an internal temperature may be disposed in the above-described hardening heat treatment unit 100 , and the temperature measuring unit 101 is configured to mutually interact with the hot wire control unit 112 and the gas supply control unit 124 . A more precise temperature control may be possible by connecting and connecting to measure the heat treatment temperature and the rapid cooling temperature and provide them.

N2 가스 또는 에어로 급속 냉각시키는 방법 이외에 도 5에 도시된 바와 같이 수조(141)의 물에 열 처리된 디퓨저(11)를 견인 와이어(142a,142b)를 이용하여 담가 냉각시킬 수도 있다. 도 5에 도시된 수조(141)에는 일정량의 물이 저장되어 있으며, 상술한 경화 열처리부(100)에서 1차 경화 열처리를 거친 후에 디퓨저(11)와 디퓨저 받침대(12)를 물에 담구어 급속 냉각시킨다. 이때, 열 충격을 완화시키기 위해 1차적으로 디퓨저 받침대(12)를 먼저 물에 담구어 열 충격을 완화시키고 2차적으로 디퓨저(11)가 물에 담구어지도록 하는 것이 바람직하다.In addition to the method of rapid cooling with N 2 gas or air, as shown in FIG. 5 , the diffuser 11 heat-treated in the water of the water tank 141 may be cooled by immersion using the traction wires 142a and 142b. A certain amount of water is stored in the water tank 141 shown in FIG. 5 , and after the first curing heat treatment is performed in the curing heat treatment unit 100 described above, the diffuser 11 and the diffuser stand 12 are immersed in water to rapidly Cool down. At this time, it is preferable to first immerse the diffuser pedestal 12 in water in order to alleviate the thermal shock to alleviate the thermal shock, and secondarily so that the diffuser 11 is immersed in water.

본 발명을 설명함에 있어 종래 기술 및 당업자에게 자명한 사항은 설명을 생략할 수도 있으며, 이러한 생략된 구성요소(방법) 및 기능의 설명은 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위내에서 충분히 참조될 수 있을 것이다. 또한, 상술한 본 발명의 구성요소는 본 발명의 설명의 편의를 위하여 설명하였을 뿐 여기에서 설명되지 아니한 구성요소가 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위내에서 추가될 수 있다. In the description of the present invention, the description may be omitted for matters obvious to those skilled in the art and those skilled in the art, and the description of these omitted components (methods) and functions will be sufficiently referenced within the scope not departing from the technical spirit of the present invention. will be able In addition, the above-described components of the present invention have been described for convenience of description of the present invention, and components not described herein may be added within a range that does not depart from the technical spirit of the present invention.

상술한 각부의 구성 및 기능에 대한 설명은 설명의 편의를 위하여 서로 분리하여 설명하였을 뿐 필요에 따라 어느 한 구성 및 기능이 다른 구성요소로 통합되어 구현되거나, 또는 더 세분화되어 구현될 수도 있다.The description of the configuration and function of each part has been described separately for convenience of description, and if necessary, any configuration and function may be implemented by being integrated into other components, or may be implemented in more subdivision.

이상, 본 발명의 일실시예를 참조하여 설명했지만, 본 발명이 이것에 한정되지는 않으며, 다양한 변형 및 응용이 가능하다. 즉, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 많은 변형이 가능한 것을 당업자는 용이하게 이해할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명과 관련된 공지 기능 및 그 구성 또는 본 발명의 각 구성에 대한 결합관계에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는, 그 구체적인 설명을 생략하였음에 유의해야 할 것이다.As mentioned above, although it has been described with reference to one embodiment of the present invention, the present invention is not limited thereto, and various modifications and applications are possible. That is, those skilled in the art will readily understand that many modifications are possible without departing from the gist of the present invention. In addition, if it is determined that the detailed description of the known functions related to the present invention and its configuration or the coupling relationship for each configuration of the present invention may unnecessarily obscure the gist of the present invention, it should be noted that the detailed description is omitted. something to do.

11 : 재사용 디퓨저
12 : 재사용 디퓨저 받침대
12a : 유동 고정부
100 : 경화 열처리부
101 : 온도 측정부
110 : 열처리부
111 : 열선부
112 : 열선 제어부
113 : 열선 타이머부
120 : 가스 냉각부
121a : 제1 가스 분사 노즐부
121b : 제2 가스 분사 노즐부
121c : 제3 가스 분사 노즐부
121d : 제4 가스 분사 노즐부
122a : 제1 가스 라인부
122b : 제2 가스 라인부
122c : 제3 가스 라인부
122d : 제4 가스 라인부
123 : 가스 저장부
124 : 가스 공급 제어부
125 : 가스 타이머부
130 : 에어 냉각부
131a : 제1 에어 분사 노즐부
131b : 제2 에어 분사 노즐부
131c : 제3 에어 분사 노즐부
131d : 제4 에어 분사 노즐부
132a : 제1 에어 라인부
132b : 제2 에어 라인부
132c : 제3 에어 라인부
132d : 제4 에어 라인부
133 : 에어 저장부
134 : 에어 공급 제어부
135 : 에어 타이머부
140 : 물 냉각부
141 : 수조
142a : 제1 견인 와이어
142b : 제2 견인 와이어
11: Reusable Diffuser
12 : Reusable Diffuser Base
12a: floating fixing part
100: hardening heat treatment unit
101: temperature measurement unit
110: heat treatment unit
111: heated wire
112: heating wire control unit
113: hot wire timer unit
120: gas cooling unit
121a: first gas injection nozzle unit
121b: second gas injection nozzle unit
121c: third gas injection nozzle unit
121d: fourth gas injection nozzle unit
122a: first gas line part
122b: second gas line part
122c: third gas line part
122d: fourth gas line part
123: gas storage unit
124: gas supply control unit
125: gas timer unit
130: air cooling unit
131a: first air injection nozzle unit
131b: second air injection nozzle unit
131c: third air injection nozzle unit
131d: fourth air injection nozzle unit
132a: first air line unit
132b: second air line unit
132c: third air line unit
132d: fourth air line unit
133: air storage unit
134: air supply control unit
135: air timer unit
140: water cooling unit
141: water tank
142a: first traction wire
142b: second traction wire

Claims (8)

디스플레이 제조공정 부품을 1차적으로 열처리하면서 자연 냉각시키고, 열처리와 함께 평탄도를 1차 교정하는 열처리 및 교정 단계,
상기 열처리 및 교정 단계 후에, 디스플레이 제조공정 부품을 경화 열처리함으로써 경도를 향상시키는 경화 열처리 단계,
상기 디스플레이 제조공정 부품에 부착된 공정피막 또는 공정 오염물을 제거하여 재생처리하는 단계,
열처리 없이 디스플레이 제조공정 부품의 평탄도를 2차 교정하는 단계,
상기 디스플레이 제조공정 부품을 린스 및 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법.
Heat treatment and calibration step of naturally cooling the display manufacturing process parts while primary heat treatment, and first correcting flatness along with heat treatment;
After the heat treatment and calibration step, a hardening heat treatment step of improving hardness by hardening heat treatment of the display manufacturing process part;
Recycling by removing the process film or process contaminants attached to the display manufacturing process parts;
Secondary calibration of flatness of display manufacturing process parts without heat treatment;
and rinsing and drying the display manufacturing process component.
제 1 항에 있어서,
상기 경화 열처리 단계는,
기 설정된 온도 조건 및 시간 조건에 따라 열처리 및 냉각을 순차적으로 실시함으로써 경화 열처리하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법.
The method of claim 1,
The curing heat treatment step,
A method of reproducing display manufacturing process components, characterized in that curing heat treatment is performed by sequentially performing heat treatment and cooling according to preset temperature conditions and time conditions.
제 2 항에 있어서,
상기 경화 열처리 단계는,
상기 열처리 및 교정 단계에서의 온도 조건보다 더 높은 온도 조건 및 기 설정된 시간 조건에 따라 디스플레이 제조공정 부품을 1차 열처리 하는 단계,
상기 1차 열처리 단계 후에, 기 설정된 온도 조건 및 상기 1차 열처리 단계에서의 시간 조건보다 더 짧은 시간 조건에 따라 상기 디스플레이 제조공정 부품을 급속 냉각시키는 단계,
상기 급속 냉각 단계 후에, 상기 1차 열처리 단계에서의 온도 조건보다 더 낮은 온도 조건 및 더 긴 시간 조건에 따라 상기 디스플레이 제조공정 부품을 2차 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법.
3. The method of claim 2,
The curing heat treatment step,
The first heat treatment of the display manufacturing process parts according to a higher temperature condition and a preset time condition than the temperature condition in the heat treatment and calibration step;
After the first heat treatment step, rapidly cooling the display manufacturing process part according to a preset temperature condition and a time condition shorter than the time condition in the first heat treatment step;
After the rapid cooling step, the display manufacturing process component comprising the step of secondary heat treatment of the display manufacturing process component according to a lower temperature condition and a longer time condition than the temperature condition in the first heat treatment step. How to play.
제 3 항에 있어서,
상기 1차 열처리 단계 전에,
디스플레이 제조공정 부품의 열 충격을 완화시키기 위해 상기 부품의 강도보다 더 강한 강도의 재질로 이루어진 열충격 완화부재의 상면에 상기 부품을 유동 가능하도록 고정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법.
4. The method of claim 3,
Before the first heat treatment step,
Display manufacturing process part characterized in that it further comprises the step of fixing the component to the upper surface of the thermal shock mitigating member made of a material stronger than the strength of the component so as to be able to flow in order to alleviate the thermal shock of the component in the display manufacturing process How to play.
제 4 항에 있어서,
상기 열처리 및 교정 단계는 400 ~ 450도씨의 온도 조건에 따라 상기 부품을 열처리하면서 자연 냉각시키며,
상기 1차 열처리 단계는 500 ~ 550도씨의 온도 조건 및 2시간 ~ 4시간의 시간 조건에 따라 상기 부품을 1차 열처리 하며,
상기 2차 열처리 단계는 160 ~ 220도씨의 온도 조건 및 12시간 ~ 20시간의 시간 조건에 따라 상기 부품을 2차 열처리하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법.
5. The method of claim 4,
The heat treatment and calibration step naturally cools the parts while heat-treating them according to a temperature condition of 400 to 450 degrees Celsius,
In the first heat treatment step, the parts are subjected to a first heat treatment according to a temperature condition of 500 to 550 degrees Celsius and a time condition of 2 hours to 4 hours,
The secondary heat treatment step is a method of reproducing display manufacturing process parts, characterized in that the secondary heat treatment of the parts according to a temperature condition of 160 ~ 220 ℃ and a time condition of 12 hours ~ 20 hours.
제 4 항에 있어서,
상기 급속 냉각 단계는,
밀폐된 공간 내에서 상기 열충격 완화부재 위에 놓인 부품에 가스 공급 제어부의 제어에 따라 질소가스를 20분 ~ 60분간 분사함으로써 상기 부품을 급속 냉각시키는 것을 특징으로 하는 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법.
5. The method of claim 4,
The rapid cooling step is
A method of reproducing a display manufacturing process component, characterized in that the component is rapidly cooled by spraying nitrogen gas for 20 to 60 minutes under the control of the gas supply control unit to the component placed on the thermal shock mitigating member in an enclosed space.
제 4 항에 있어서,
급속 냉각 단계는,
밀폐된 공간 내에서 상기 열충격 완화부재 위에 놓인 부품에 에어 공급 제어부의 제어에 따라 에어를 30분 ~ 1시간 분사함으로써 상기 부품을 급속 냉각시키는 것을 특징으로 하는 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법.
5. The method of claim 4,
The rapid cooling step is
A method for reproducing a display manufacturing process component, characterized in that the component is rapidly cooled by spraying air to the component placed on the thermal shock mitigating member in an enclosed space for 30 minutes to 1 hour under the control of the air supply control unit.
제 4 항에 있어서,
급속 냉각 단계는,
상기 열충격 완화부재 위에 놓인 부품을 물에 5분 ~ 10분 담굼으로써 상기 부품을 급속 냉각시키는 것을 특징으로 하는 디스플레이 제조공정 부품의 재생 방법.
5. The method of claim 4,
The rapid cooling step is
A method of reproducing a display manufacturing process component, characterized in that the component placed on the thermal shock mitigating member is immersed in water for 5 to 10 minutes to rapidly cool the component.
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