KR20210111233A - 점착제 조성물 및 표면 보호 필름 - Google Patents

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켄타로 오츠가
후미에 스즈키
아키요 히시누마
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후지모리 고교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 우수한 대전 방지 성능과 내오염성을 양립하는 것이 가능한 점착제 조성물 및 표면 보호 필름을 제공한다. 아크릴계 폴리머와, 대전 방지제와, 가교제를 함유하는 점착제 조성물로서, 상기 아크릴계 폴리머가 0℃ 이하의 유리 전이 온도를 가지며 이루어지고, 상기 가교제가 3관능 이상의 이소시아네이트 화합물이고, 상기 대전 방지제가 양이온과 음이온으로 이루어지는 융점 25℃ 이상의 이온성 화합물이고, 상기 음이온이 트리플루오로메탄술포네이트 음이온, 펜타플루오로에탄술포네이트 음이온, 헵타플루오로프로판술포네이트 음이온, 노나플루오로부탄술포네이트 음이온으로 이루어지는 군에서 선택된 1종이고, 상기 아크릴계 폴리머의 100중량부에 대해, 상기 대전 방지제를 0.01∼10중량부의 비율로 필수 성분으로서 함유하여 이루어진다.

Description

점착제 조성물 및 표면 보호 필름{ADHESIVE COMPOSITION AND SURFACE-PROTECTIVE FILM}
본 발명은 대전 방지제를 함유하는 점착제 조성물 및 표면 보호 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 대전 방지제로서 노나플루오로부탄술포네이트 등의 특정 술포네이트 음이온을 갖는 이온성 화합물을 함유하는 점착제 조성물이고, 이로써 우수한 대전 방지 성능과 내오염성을 갖는 점착제 조성물 및 이를 사용한 표면 보호 필름이다.
종래부터 전자 기기 부품, 광학 기기 부품, 화상 표시 패널 등의 정밀 부품 및 부재의 제조 가공·조립 공정에 있어서는, 이들 정밀 부품 및 부재의 표면을 일시적으로 보호하고, 작업 환경 분위기에서의 파티클·기체상의 오염 물질의 부착이나 찰상·타흔의 발생을 방지하기 위해 표면 보호 필름이 정밀 부품 및 부재의 표면에 첩착되어 있다.
예를 들면, 액정 디스플레이를 구성하는 부재인 편광판, 위상차판 등의 광학 부재를 제조하는 공정에 있어서 사용되는 표면 보호 필름은 광학적으로 투명성을 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지 필름의 한쪽 면에 점착제층이 형성되어 있지만, 광학 부재에 첩합될 때까지 그 점착제층을 보호하기 위한 박리 처리된 이형 필름이 점착제층 위에 첩합되어 있다.
또한, 편광판, 위상차판 등의 광학 부재는 표면 보호 필름을 첩합된 상태에서, 액정 표시판의 표시 능력, 색상, 콘트라스트, 이물질 혼입 등의 광학적 평가를 수반하는 제품 검사를 행한다. 이 때문에, 표면 보호 필름에 대한 요구 성능으로는, 점착제층에 기포나 이물질이 부착되어 있지 않는 것이 요구되고 있다.
또한, 근래에는 편광판, 위상차판 등의 광학 부재로부터 표면 보호 필름을 박리할 때, 점착제층을 피착체가 박리할 때 발생하는 정전기에 따라 생기는 박리 대전이 액정 디스플레이의 전기 제어 회로의 고장에 영향을 주는 것이 염려되고 있다. 이 때문에, 점착제층에 대해서는, 우수한 대전 방지 성능이 요구되고 있다.
이와 같이, 근래에 있어서는, 표면 보호 필름을 구성하는 점착제층에 대한 요구 성능으로서, 표면 보호 필름을 사용함에 있어서의 사용 용이성의 관점에서, 우수한 대전 방지 성능 및 오염 방지 성능 등이 요구되고 있다.
우수한 대전 방지 성능에 대해서는, 표면 보호 필름에 대전 방지성을 부여시키기 위한 방법으로서, 기재 필름에 대전 방지제를 혼련하는 방법 등이 나타나고, 대전 방지제로는, 예를 들면 (a) 제4급 암모늄염, 피리디늄염, 제1∼3급 아미노기 등의 양이온성기를 갖는 각종 양이온성 대전 방지제, (b) 술폰산 염기, 황산 에스테르 염기, 인산 에스테르 염기, 포스폰산 염기 등의 음이온성기를 갖는 음이온성 대전 방지제, (c) 아미노산계, 아미노황산 에스테르계 등의 양성 대전 방지제, (d) 아미노알코올계, 글리세린계, 폴리에틸렌글리콜계 등의 비이온성 대전 방지제, (e) 상기와 같은 대전 방지제를 고분자량화한 고분자형 대전 방지제 등이 개시되어 있다(특허문헌 1).
또한, 근래에는 이러한 대전 방지제를 기재 필름에 함유시키거나, 혹은 기재 필름의 표면에 도포하는 것이 아니라, 직접 점착제층에 함유시키거나 하는 것이 제안되어 있다(특허문헌 2).
일본 공개특허공보 평11-070629호 일본 공개특허공보 2000-129235호
그런데, LR(Low Reflective) 편광판이나 AG(Anti Glare)-LR 편광판 등의 광학 필름에 사용하는 표면 보호 필름에서는, 광학 필름의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등에 의한 방오 처리나, 저반사 표면 처리가 실시되어 있기 때문에, 표면 보호 필름을 피착체인 광학 필름으로부터 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다.
또한, 대전 방지 성능을 구비한 점착제 조성물 및 이를 사용한 표면 보호 필름의 대전 방지 성능과 피착체에 대한 내오염성의 관계는 트레이드 오프의 관계이고, 대전 방지 성능을 유지한 채, 내오염성을 개선하는 것은 곤란하였다.
이 때문에, LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의 광학 필름에 사용되는 표면 보호 필름용의 점착제 조성물에 있어서는, 광학 필름의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등에 의한 방오 처리나, 저반사 표면 처리가 실시되어 있는 경우에도, 표면 보호 필름을 광학 필름으로부터 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제하고, 또한 피착체의 오염이 적은 점착제 조성물이 요구되고 있다.
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 피착체가 불소 화합물을 함유하는 조성물에 의해 표면 처리가 실시된 경우에 있어서, 우수한 대전 방지 성능과 내오염성을 양립하는 것이 가능한 점착제 조성물 및 이를 사용한 표면 보호 필름을 제공한다.
본 발명자들은 점착제 조성물의 아크릴계 폴리머를 구성하는 알킬(메타)아크릴레이트의 알킬기의 탄소수를 특정 범위로 한정하고, 특정 조합의 2종 이상의 알킬(메타)아크릴레이트를 공중합시킨 공중합체와, 노나플루오로부탄술포네이트 등의 특정 술포네이트 음이온을 갖는 융점 25℃ 이상의 이온성 화합물로 이루어지는 대전 방지제를 함유한 새로운 점착제 조성물을 작성했다. 이로써, 종래의 표면 보호 필름용 점착제 조성물과 비교해서, 우수한 내오염성을 갖고, 또한 경시 열화되지 않고 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 점착제 조성물이 얻어지는 것을 알아내어, 본 발명을 완성했다.
특히, 본 발명에 따른 표면 보호 필름은 피착체가 광학 필름의 표면에 적층된 불소 화합물을 함유하는 방오층 또는 불소 화합물을 함유하는 저굴절률 형성용의 조성물을 사용하여 형성된 저굴절률층을 갖는 피착체인 경우에 있어서, 종래 기술에 비해, 우수한 내오염성을 갖고, 또한 경시 열화되지 않고 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 것이 판명되었다. 즉, 대전 방지 성능과 내오염성의 양립에 효과가 있는 표면 보호 필름이 얻어진다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은
아크릴계 폴리머와, 대전 방지제와, (D) 가교제를 함유하는 점착제 조성물로서,
상기 아크릴계 폴리머가 0℃ 이하의 유리 전이 온도를 가지며 이루어지고,
상기 (D) 가교제가 3관능 이상의 이소시아네이트 화합물이고,
상기 대전 방지제가 양이온과 음이온으로 이루어지는 융점 25℃ 이상의 이온성 화합물이고, 상기 음이온이 트리플루오로메탄술포네이트 음이온, 펜타플루오로에탄술포네이트 음이온, 헵타플루오로프로판술포네이트 음이온, 노나플루오로부탄술포네이트 음이온으로 이루어지는 군에서 선택된 1종이고,
상기 아크릴계 폴리머의 100중량부에 대해, 상기 대전 방지제를 0.01∼10중량부의 비율로 필수 성분으로서 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물을 제공한다.
또한, 상기 아크릴계 폴리머가
(a1) 알킬기의 탄소수가 C1∼C4인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 1종을 1∼50중량부와, (a2) 알킬기의 탄소수가 C5∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 1종을 50∼99중량부의 비율로 함유하여 이루어지고, 상기 (a1)와 상기 (a2)의 합계가 100중량부인 (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 2종 이상과,
(B) 수산기 및/또는 카르복실기를 함유하는 공중합성 비닐 모노머 중 적어도 1종 이상과,
(C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 1종 이상을 공중합시킨 공중합체의 아크릴계 폴리머이고,
상기 (a2) 중, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종을 50중량부 이상의 비율로 함유하여 이루어지고,
상기 점착제 조성물이 추가로, (E) 금속 킬레이트 화합물의 가교 촉진제와, (F) 케토에놀 호변이성체 화합물을 함유하여 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 양이온이 피리디늄, 이미다졸륨, 포스포늄, 술포늄, 피롤리디늄, 구아니디늄, 암모늄, 이소우로늄, 티오우로늄, 피페리디늄, 피라졸륨, 메틸륨, 리튬, 모르폴리늄으로 이루어지는 군에서 선택된 1종인 것이 바람직하다.
상기 점착제 조성물을 가교시킨 점착제층의 표면 저항률이 1.0×10＋12Ω／□ 이하이고, 불소 화합물을 함유하는 저굴절률층 형성용의 조성물을 사용하여 형성된 저굴절률층에 대한 상기 점착제층의 박리 대전압이 -0.3∼＋0.3㎸인 것이 바람직하다.
상기 (B) 수산기 및/또는 카르복실기를 함유하는 공중합성 비닐 모노머가 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머 및 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상이고,
상기 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머가 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고,
상기 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머가 (메타)아크릴산, 카르복시에틸(메타)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸말레산, 카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸테트라히드로프탈산으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.
상기 (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머가 폴리알킬렌글리콜 사슬을 구성하는 알킬렌옥사이드의 평균 반복 수가 3∼14이고,
상기 (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머 중의 디에스테르분이 0.2％ 이하이고,
상기 (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로서, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 상기 (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 2종 이상의 합계 100중량부에 대해, 1∼50중량부의 비율로 함유하는 것이 바람직하다.
상기 (E) 가교 촉진제가 알루미늄 킬레이트 화합물, 티탄 킬레이트 화합물, 철 킬레이트 화합물로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고,
상기 아크릴계 폴리머의 100중량부에 대해, 상기 (E) 가교 촉진제를 0.001∼0.5중량부와, 상기 (F) 케토에놀 호변이성체 화합물을 0.1∼300중량부의 비율로 함유하여 이루어지고, 상기 (F)／상기 (E)의 중량부 비율이 70∼1,000인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은 수지 필름의 한쪽 면에, 상기 점착제 조성물을 가교시킨 점착제층이 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 점착 필름을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 점착 필름이 사용된 표면 보호 필름을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 점착 필름이 사용된 편광판용의 표면 보호 필름을 제공한다.
또한, 본 발명은 광학 필름 중 적어도 일방의 면에, 상기 점착제 조성물을 가교시킨 점착제층이 적층되어 있는 점착제층 부착 광학 필름을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 수지 필름의 한쪽 면의 상기 점착제층이 적층된 측과는 반대면에 대전 방지 처리 및 방오 처리가 실시되어 있는 점착 필름을 제공한다.
본 발명은 우수한 대전 방지 성능과 내오염성을 양립하는 것이 가능한 점착제 조성물 및 표면 보호 필름을 제공한다.
본 발명에 따른 점착제 조성물 및 이를 사용한 표면 보호 필름은 피착체가 광학 필름의 표면에 적층된 불소 화합물을 함유하는 방오층 또는 불소 화합물을 함유하는 저굴절률층 형성용의 조성물을 사용하여 형성된 저굴절률층을 갖는 피착체인 경우에 있어서, 종래 기술에 비해, 우수한 내오염성을 갖고, 또한 경시 열화되지 않고 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는다.
즉, 본 발명에 따른 점착제 조성물 및 이를 사용한 표면 보호 필름은 우수한 대전 방지 성능과 내오염성을 구비하고 있기 때문에, 산업상의 이용 가치가 매우 크다.
이하, 바람직한 실시형태에 기초하여, 본 발명을 설명한다.
본 실시형태의 점착제 조성물은 아크릴계 폴리머와, 대전 방지제와, (D) 가교제를 함유하는 점착제 조성물로서, 상기 아크릴계 폴리머가 0℃ 이하의 유리 전이 온도를 가지며 이루어지고, 상기 (D) 가교제가 3관능 이상의 이소시아네이트 화합물이고, 상기 대전 방지제가 양이온과 음이온으로 이루어지는 융점 25℃ 이상의 이온성 화합물이고, 상기 음이온이 트리플루오로메탄술포네이트 음이온, 펜타플루오로에탄술포네이트 음이온, 헵타플루오로프로판술포네이트 음이온, 노나플루오로부탄술포네이트 음이온으로 이루어지는 군에서 선택된 1종이고, 상기 아크릴계 폴리머의 100중량부에 대해, 상기 대전 방지제를 0.01∼10중량부의 비율로 필수 성분으로서 함유하여 이루어진다.
또한, 상기 대전 방지제는 온도 25℃에 있어서 고체인 융점 25℃ 이상의 이온성 화합물인 것이 바람직하고, 또한 상기 대전 방지제의 융점이 450℃ 이하인 것이 바람직하다.
본 실시형태의 점착제 조성물에 사용되는 아크릴계 폴리머는 0℃ 이하의 유리 전이 온도를 갖는다. 또한, 아크릴계 폴리머는 (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머를 주성분으로 하는 공중합체가 바람직하다.
또한, (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 헵틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 운데실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 트리데실(메타)아크릴레이트, 테트라데실(메타)아크릴레이트, 펜타데실(메타)아크릴레이트, 헥사데실(메타)아크릴레이트, 헵타데실(메타)아크릴레이트, 옥타데실(메타)아크릴레이트, 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 알킬기는 직쇄, 분기 형상, 고리 형상 중 어느 것이어도 된다.
또한, (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 합계 100중량부에 대해, (a1) 알킬기의 탄소수가 C1∼C4인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 1종을 1∼50중량부와, (a2) 알킬기의 탄소수가 C5∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 1종을 50∼99중량부의 비율인 것이 바람직하다. 또한, (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 합계 100중량부에 대해, (a2) 알킬기의 탄소수가 C5∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종을 50중량부 이상의 비율로 함유하여 이루어지는 것이 바람직하다.
본 실시형태의 점착제 조성물에 사용되는 아크릴계 폴리머는 (B) 수산기 및/또는 카르복실기를 함유하는 공중합성 비닐 모노머 중 적어도 1종을 임의 성분으로서 공중합시킬 수 있다. (B) 수산기 및/또는 카르복실기를 함유하는 공중합성 비닐 모노머로는, 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머(히드록실기 함유 모노머) 및 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머(카르복실기 함유 모노머)로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상을 들 수 있다. 즉, 히드록실기 함유 모노머 또는 카르복실기 함유 모노머 중 어느 한쪽만을 선택하여 공중합시켜도 되고, 히드록실기 함유 모노머 및 카르복실기 함유 모노머의 양쪽 모두를 공중합시켜도 된다.
또한, 히드록실기 함유 모노머로는, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드 등으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 들 수 있다. 본 실시형태의 점착제 조성물에 함유시키는 히드록실기 함유 모노머의 비율은 (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 2종 이상의 합계 100중량부에 대해, 0.1∼20중량부의 비율인 것이 바람직하고, 4.1∼16중량부의 비율인 것이 보다 바람직하고, 5.1∼14중량부의 비율인 것이 특히 바람직하다.
또한, 카르복실기 함유 모노머로는, (메타)아크릴산, 카르복시에틸(메타)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸말레산, 카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸테트라히드로프탈산 등으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 들 수 있다. 본 실시형태에 따른 점착제 조성물에 있어서의 카르복실기 함유 모노머의 비율은 (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 2종 이상의 합계 100중량부에 대해, 0∼5.0중량부인(카르복실기 함유 모노머를 공중합시키지 않는 경우도 허용된다) 것이 바람직하고, 카르복실기 함유 모노머를 공중합시키는 경우에는, 0.01∼5.0중량부의 비율인 것이 보다 바람직하고, 0.02∼1.3중량부의 비율인 것이 특히 바람직하고, 0.02∼0.8중량부의 비율인 것이 가장 바람직하다.
본 실시형태의 점착제 조성물에 사용되는 아크릴계 폴리머는 (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 임의 성분으로서 공중합시켜도 된다. (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 폴리알킬렌글리콜이 갖는 복수의 수산기 중, 1개의 수산기가 (메타)아크릴산에스테르로서 에스테르화된 화합물이면 된다. (메타)아크릴산에스테르기가 중합성기이기 때문에, 상기 아크릴계 폴리머에 공중합할 수 있다. 본 실시형태에서는, 다른 수산기가 OH인 상태인, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트여도, (B) 수산기 및/또는 카르복실기를 함유하는 공중합성 비닐 모노머로는 분류되지 않는다. (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머는 다른 수산기가 알킬에테르로 변환된 알콕시폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트 등이어도 된다.
또한, 폴리알킬렌글리콜 사슬을 구성하는 폴리알킬렌글리콜로는, 1종 또는 2종 이상의 알킬렌기를 갖는 글리콜 화합물이면 되고, 예를 들면 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리부틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜 등을 들 수 있다.
또한, (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머가 폴리알킬렌글리콜 사슬을 구성하는 알킬렌옥사이드의 평균 반복 수가 3∼14인 것이 바람직하다. 「알킬렌옥사이드의 평균 반복 수」란, (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머의 분자 구조에 포함되는 「폴리알킬렌글리콜 사슬」의 부분에 있어서, 알킬렌옥사이드 단위가 반복되는 평균의 수이다. 또한, (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머 중의 디에스테르분은 0.2％ 이하인 것이 바람직하다. 「모노머 중의 디에스테르분」이란, (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머 중에 포함되는 폴리알킬렌글리콜디(메타)아크릴산에스테르의 함유율(중량％)이다.
또한, (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로서, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.
본 실시형태에 따른 점착제 조성물에 있어서의 (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머의 비율은 (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 2종 이상의 합계 100중량부에 대해, 1∼50중량부의 비율이 바람직하고, 1∼30중량부의 비율이 보다 바람직하고, 2∼25중량부의 비율이 특히 바람직하다.
본 실시형태에 따른 점착제 조성물에 함유시키는 아크릴계 폴리머의 제조 방법은 특별히 한정되는 것이 아니며, 용액 중합법, 유화 중합법 등 적절히 공지의 중합 방법이 사용 가능하다. 본 실시형태에 따른 점착제 조성물은 사용되는 아크릴계 폴리머의 공중합체의 중량 평균 분자량이 100∼300만인 것이 바람직하다.
본 실시형태에 따른 점착제 조성물은 대전 방지 성능을 얻기 위해, (G) 대전 방지제를 함유한다. (G) 대전 방지제는 양이온과 음이온으로 이루어지는 융점 25℃ 이상의 이온성 화합물로서, 그 음이온이 트리플루오로메탄술포네이트 음이온(CF3SO3 -), 펜타플루오로에탄술포네이트 음이온(CF3CF2SO3 -), 헵타플루오로프로판술포네이트 음이온(CF3CF2CF2SO3 -), 노나플루오로부탄술포네이트 음이온(CF3CF2CF2CF2SO3 -)으로 이루어지는 군에서 선택된 1종이다. 본 실시형태에 따른 점착제 조성물은 아크릴계 폴리머의 100중량부에 대해, (G) 대전 방지제를 0.01∼10중량부의 비율로 필수 성분으로서 함유하여 이루어지는 것이 바람직하고, 추가로 점착제층의 대전 방지 성능을 높여 표면 저항률의 하한값을 1.0×10＋10Ω／□ 이하까지 저감시키는 것이 필요한 경우에는, (G) 대전 방지제를 0.01∼15중량부의 비율로 함유하는 것이 보다 바람직하다.
또한, 이온성 화합물에 함유되는 양이온으로는, 피리디늄, 이미다졸륨, 포스포늄, 술포늄, 피롤리디늄, 구아니디늄, 암모늄, 이소우로늄, 티오우로늄, 피페리디늄, 피라졸륨, 메틸륨, 리튬, 모르폴리늄으로 이루어지는 군에서 선택된 1종을 들 수 있다.
또한, (G) 대전 방지제의 구체예로는, 트리플루오로메탄술폰산 리튬, 노나플루오로부탄술폰산 리튬, 1-메틸-3-옥틸피리디늄 트리플루오로메탄술포네이트염, 3-메틸-1-옥틸피리디늄 플루오로메탄술포네이트염, 1-메틸-4-옥틸피리디늄 노나플루오로부탄술포네이트염, 4-메틸-1-옥틸피리디늄 노나플루오로부탄술포네이트염, 디메틸디옥틸암모늄 펜타플루오로에탄술포네이트염, 1-메틸-3-옥틸피리디늄 헵타플루오로프로판술포네이트염, 3-메틸-1-옥틸피리디늄 헵타플루오로프로판술포네이트염, 1-메틸-3-옥틸피리디늄 노나플루오로부탄술포네이트염, 3-메틸-1-옥틸피리디늄 노나플루오로부탄술포네이트염, 1-옥틸-3-메틸이미다졸륨 노나플루오로부탄술포네이트염 등을 들 수 있다.
본 실시형태에 따른 점착제 조성물은 추가로, (D) 가교제로서 3관능 이상의 이소시아네이트 화합물을 함유한다.
3관능 이상의 이소시아네이트 화합물로는, 예를 들면 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트류의 뷰렛 변성체나 이소시아누레이트 변성체, 트리메틸올프로판이나 글리세린 등의 3가 이상의 폴리올과의 어덕트체 등을 들 수 있다.
(D) 가교제의 비율로는, 예를 들면 아크릴계 폴리머의 100중량부에 대해, 0.01∼5중량부의 비율을 들 수 있다.
본 실시형태에 따른 점착제 조성물은 (E) 가교 촉진제를 함유해도 된다. (E) 가교 촉진제는 폴리이소시아네이트 화합물을 가교제로 하는 경우에, 상기 아크릴계 폴리머와 가교제의 반응(가교 반응)에 대해 촉매로서 기능하는 물질이면 되고, 제3급 아민 등의 아민계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 유기 주석 화합물, 유기 납 화합물, 유기 아연 화합물 등의 유기 금속 화합물 등을 들 수 있다. 본 실시형태에서는, 가교 촉진제로서 금속 킬레이트 화합물이 바람직하다.
또한, 금속 킬레이트 화합물로는, 중심 금속 원자 M에 1 이상의 다좌 배위자 L이 결합된 화합물이다. 금속 킬레이트 화합물은 금속 원자 M에 결합되는 1 이상의 단좌 배위자 X를 가져도 되고, 갖지 않아도 된다. 예를 들면, 금속 원자 M이 1개인 금속 킬레이트 화합물의 화학식을 M(L)m(X)n로 나타낼 때, m≥1, n≥0이다. m이 2 이상인 경우, m개의 L은 동일한 배위자여도 되고, 상이한 배위자여도 된다. n이 2 이상인 경우, n개의 X는 동일한 배위자여도 되고, 상이한 배위자여도 된다.
또한, 금속 원자 M으로는, Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr, Sn 등을 들 수 있다.
다좌 배위자 L로는, 아세토초산메틸, 아세토초산에틸, 아세토초산옥틸, 아세토초산올레일, 아세토초산라우릴, 아세토초산스테아릴 등의 β-케토에스테르나 아세틸아세톤(별명 2,4-펜탄디온), 2,4-헥산디온, 벤조일아세톤 등의 β-디케톤을 들 수 있다. 이들은 케토에놀 호변이성체 화합물이고, 다좌 배위자 L에 있어서는, 에놀이 탈프로톤한 에놀레이트(예를 들면, 아세틸아세토네이트)여도 된다.
단좌 배위자 X로는, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자, 펜타노일기, 헥사노일기, 2-에틸헥사노일기, 옥타노일기, 노나노일기, 데카노일기, 도데카노일기, 옥타데카노일기 등의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기 등의 알콕시기 등을 들 수 있다.
또한, 금속 킬레이트 화합물의 구체예로는, 트리스(2,4-펜탄디오네이트)철(III), 철 트리스아세틸아세토네이트, 티타늄트리스아세틸아세토네이트, 루테늄트리스아세틸아세토네이트, 아연 비스아세틸아세토네이트, 알루미늄 트리스아세틸아세토네이트, 지르코늄 테트라키스아세틸아세토네이트, 트리스(2,4-헥산디오네이트) 철(III), 비스(2,4-헥산디오네이트) 아연, 트리스(2,4-헥산디오네이트) 티탄, 트리스(2,4-헥산디오네이트) 알루미늄, 테트라키스(2,4-헥산디오네이트) 지르코늄 등을 들 수 있다.
또한, (E) 가교 촉진제로는, 알루미늄 킬레이트 화합물, 티탄 킬레이트 화합물, 철 킬레이트 화합물로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다. 본 실시형태에 따른 점착제 조성물은 아크릴계 폴리머의 100중량부에 대해, (E) 가교 촉진제를 0.001∼0.5중량부의 비율로 함유하는 것이 바람직하다.
본 실시형태에 따른 점착제 조성물은 (F) 케토에놀 호변이성체 화합물을 함유해도 된다. (F) 케토에놀 호변이성체 화합물로는, 아세토초산메틸, 아세토초산에틸, 아세토초산옥틸, 아세토초산올레일, 아세토초산라우릴, 아세토초산스테아릴 등의 β-케토에스테르나 아세틸아세톤, 2,4-헥산디온, 벤조일아세톤 등의 β-디케톤을 들 수 있다. 이들은 폴리이소시아네이트 화합물을 가교제로 하는 점착제 조성물에 있어서, 가교제가 갖는 이소시아네이트기를 블록함으로써, 가교제의 배합 후에 있어서의 점착제 조성물의 과잉인 점도 상승이나 겔화를 억제하고, 점착제 조성물의 포트라이프를 연장시킬 수 있다.
본 실시형태에 따른 점착제 조성물은 아크릴계 폴리머의 100중량부에 대해, (F) 케토에놀 호변이성체 화합물을 0.1∼300중량부의 비율로 함유하는 것이 바람직하다.
또한, (F) 케토에놀 호변이성체 화합물은 (E) 가교 촉진제와는 반대로 가교를 억제하는 효과를 갖는 점에서, (E) 가교 촉진제에 대한 (F) 케토에놀 호변이성체 화합물의 비율을 적절히 설정하는 것이 바람직하다. 점착제 조성물의 포트라이프를 길게 하고, 저장 안정성을 향상시키려면, (F)／(E)의 중량부 비율이 70∼1,000인 것이 바람직하고, 70∼700인 것이 보다 바람직하고, 80∼600인 것이 특히 바람직하다. 여기서, (F)／(E)의 중량부 비율이란, (F)의 중량부를 (E)의 중량부로 나눗셈하여 얻어진 몫의 값이다.
본 실시형태의 점착제 조성물은 상술한 첨가제에 한정되지 않고, 산화 방지제, 계면활성제, 경화 촉진제, 가소제, 충전제, 경화 지연제, 가공 조제, 노화 방지제 등의 공지의 첨가제가 적절히 배합되어도 된다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 병합하여 사용할 수 있다.
본 실시형태의 점착제 조성물을 가교시킨 점착제층은 점착제층의 표면 저항률이 1.0×10＋12Ω／□ 이하인 것이 바람직하고, 표면 저항률이 5.0×10＋11Ω／□ 이하인 것이 보다 바람직하고, 표면 저항률이 2.0×10＋11Ω／□ 이하인 것이 특히 바람직하다. 표면 저항률이 크면, 점착제층을 피착체에서 박리할 때 대전으로 발생한 정전기를 방출하는 성능이 떨어진다. 이 때문에, 점착제층의 표면 저항률을 충분히 작게 함으로써, 점착제층을 피착체에서 박리할 때 발생하는 정전기에 수반하여 생기는 박리 대전압이 저감되어, 피착체에 영향을 주는 것을 억제할 수 있다.
본 실시형태의 점착제 조성물을 가교시킨 점착제층은 불소 화합물을 함유하는 저굴절률층 형성용의 조성물을 사용하여 형성된 저굴절률층에 대한 점착제층의 박리 대전압이 -0.3∼＋0.3㎸의 범위 내인 것이 바람직하다. 저굴절률층 형성용의 조성물에 사용되는 불소 화합물로는, 불소화 올레핀류, 불소화 비닐에테르류, 불소화 알킬(메타)아크릴레이트 등의 1종 또는 2종 이상의 중합물인 함불소 공중합체, 불소화 알킬기 함유 실란 화합물 등의 축합물을 들 수 있다. 함불소 공중합체는 불소화된 모노머에 첨가하여, 올레핀류, 비닐에테르류, (메타)아크릴레이트 등의 불소화되어 있지 않은 모노머가 공중합되어 있어도 된다. 저굴절률층은 고굴절률층 등과 조합하여 반사 방지층을 구성해도 된다.
본 실시형태의 점착 필름은 기재 필름의 한쪽 면 위에 본 실시형태의 점착제 조성물을 가교시킨 점착제층이 적층된 것이다. 본 실시형태의 점착 필름은 표면 보호 필름, 편광판용의 표면 보호 필름, 광학 필름용의 표면 보호 필름에 바람직하게 사용할 수 있다. 광학 필름 중 적어도 일방의 면에 본 실시형태의 점착제 조성물을 가교시킨 점착제층을 적층함으로써, 점착제층 부착 광학 필름을 얻을 수 있다. 광학 필름으로는, 편광 필름, 위상차 필름, 반사 방지 필름, 방현(안티글레어) 필름, 자외선 흡수 필름, 적외선 흡수 필름, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름 등을 들 수 있다. 광학 부재가 적용되는 기기로는, 액정 패널, 유기 EL 패널, 터치 패널 등을 들 수 있다.
점착제층의 기재 필름이나 점착면을 보호하는 이형 필름(세퍼레이터)으로는, 폴리에스테르 필름 등의 수지 필름 등을 사용할 수 있다.
기재 필름에는, 수지 필름의 점착제층이 형성된 측과는 반대면에 실리콘계, 불소계의 이형제나 코트제, 실리카 미립자 등에 의한 방오 처리, 대전 방지제의 도포나 혼련 등에 의한 대전 방지 처리를 실시할 수 있다.
이형 필름에는, 점착제층의 점착면과 합쳐지는 측의 면에 실리콘계, 불소계의 이형제 등에 의해 이형 처리가 실시된다.
편광판용의 표면 보호 필름 등의 광학용의 표면 보호 필름의 경우는, 기재 필름 및 점착제층은 충분한 투명성을 갖는 것이 바람직하다.
실시예
이하, 실시예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명한다.
＜아크릴계 폴리머의 제조＞
[실시예 1]
교반기, 온도계, 환류 냉각기 및 질소 도입관을 구비한 반응 장치에 질소 가스를 도입하고, 반응 장치 내의 공기를 질소 가스로 치환하였다. 그 후, 반응 장치에 메틸아크릴레이트 12중량부, 2-에틸헥실아크릴레이트 88중량부, 8-히드록시옥틸아크릴레이트 12.0중량부, 아크릴산 0.1중량부, 폴리프로필렌글리콜모노아크릴레이트(알킬렌옥사이드의 평균 반복 수 n=12) 20중량부와 함께, 용제(초산에틸)를 100중량부 첨가하였다. 그 후, 중합 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 0.1중량부를 2시간에 걸쳐 적하시키고, 65℃에서 8시간 반응시키고, 실시예 1의 아크릴계 폴리머 용액을 얻었다.
[실시예 2∼6 및 비교예 1∼3]
모노머의 조성을 각각 표 1에 기재된 바와 같이 하는 것 이외에는, 상기 실시예 1에 사용되는 아크릴계 폴리머 용액과 동일하게 하여, 실시예 2∼6 및 비교예 1∼3에 사용되는 아크릴계 폴리머 용액을 얻었다.
＜점착제 조성물 및 표면 보호 필름의 제조＞
[실시예 1]
상기와 같이 제조된 실시예 1의 아크릴계 폴리머 용액에 대해, 가교제(코로네이트 HX) 2.0중량부, 대전 방지제(노나플루오로부탄술폰산 리튬) 1.0중량부, 가교 촉진제(티타늄 트리스아세틸아세토네이트) 0.1중량부, 케토에놀 호변이성체 화합물(아세틸아세톤) 9중량부를 첨가하고, 교반 혼합하여 실시예 1의 점착제 조성물을 얻었다. 이 점착제 조성물을 실리콘 수지 코트된 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름으로 이루어지는 이형 필름의 위에 도포 후, 90℃에서 건조함으로써, 용제를 제거하여, 두께가 20㎛인 점착제층을 얻었다. 그 후, 일방의 면에 대전 방지 및 방오 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로 이루어지는 기재 필름의 대전 방지 및 방오 처리된 면과는 반대의 면에 이형 필름 부착 점착제층을 전사시키고, 기재 필름/점착제층/이형 필름의 적층 구성을 갖는 실시예 1의 표면 보호 필름을 얻었다.
[실시예 2∼6 및 비교예 1∼3]
첨가제의 조성을 각각 표 1에 기재된 바와 같이 하는 것 이외에는, 상기 실시예 1의 표면 보호 필름과 동일하게 하여, 실시예 2∼6 및 비교예 1∼3의 표면 보호 필름을 얻었다.
Figure pat00001
표 1에 있어서, 각 성분의 중량부는 (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머인 (a1)와 (a2)의 합계를 100중량부로서 구하였다.
또한, 표 1에 있어서, (D), (G), (E), (F)의 각 란에서는, 아크릴계 폴리머를 100중량부로서 각 성분의 함유 비율(중량부)을 괄호( ) 내의 수치로 나타내었다.
또한, 표 1에 사용한 각 성분의 약기호의 화합물명을 표 2에 나타낸다. (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머 중, C-1∼C-5는 모노머 중의 디에스테르분이 0.2％ 이하이고, C-6은 모노머 중의 디에스테르분이 0.8％이다. G-1∼G-6은 모두 융점이 25℃ 이상이고, 25℃에 있어서 고체인 이온성 화합물이고, G-7은 융점이 15℃이고, 25℃에 있어서 액체인 이온성 화합물이다.
Figure pat00002
또한, 코로네이트(등록상표) HX, 코로네이트 HL 및 코로네이트 L은 토소 주식회사의 상품명이고, D-127N, 타케네이트(등록상표) D-140N은 미츠이 화학 주식회사의 상품명이다. 또한, HDI는 헥사메틸렌디이소시아네이트를 의미하고, IPDI는 이소포론디이소시아네이트를 의미하고, XDI는 자일릴렌디이소시아네이트를 의미하고, TDI는 톨릴렌디이소시아네이트를 의미하고, TMP는 트리메틸올프로판을 의미한다.
＜시험 방법 및 평가＞
실시예 1∼6 및 비교예 1∼3에 있어서의 표면 보호 필름을 각각 23℃, 50％RH의 분위기하에서 7일간 에이징한 후, 이하의 시험 방법에 의해 평가하였다.
＜점착력의 시험 방법＞
이형 필름을 박리하고, 점착제층을 표출시킨 표면 보호 필름을 점착제층을 개재하여 편광판(편광자의 보호층이 TAC인 편광판을 사용)의 표면에 첩합하고, 1일 방치한 후, 50℃, 5기압, 20분간 오토클레이브 처리하고, 실온에서 추가로 12시간 방치한 것을 점착력의 측정 시료로 하였다. 피착체의 상기 편광판은 LR 편광판 또는 AG-LR 편광판이다. 상기에서 얻어진 측정 시료를 180˚방향으로 인장 시험기를 사용하여 저속도(0.3m/min) 또는 고속도(30m/min)에 있어서 박리하여 측정한 박리 강도를 점착력으로 하였다.
여기서, 상기 LR 편광판 및 AG-LR 편광판은 상기 편광판의 표면이 불소 화합물을 함유하는 조성물로 저반사 표면 처리가 실시되어 있다.
＜표면 저항률의 시험 방법＞
표면 보호 필름을 에이징한 후, 피착체에 첩합하기 전에, 이형 필름을 박리하여 점착제층을 표출하고, 저항률계 하이레스터 UP-HT450(미츠비시 화학 애널리테크 제조)를 사용하여 점착제층의 표면 저항률을 측정하였다.
＜박리 대전압의 시험 방법＞
이형 필름을 박리하고, 점착제층을 표출시킨 표면 보호 필름을 피착면에 불소 화합물을 함유하는 저굴절률층 형성용의 조성물을 사용하여 형성된 저굴절률층을 갖는 피착체에 첩합하였다. 표면 보호 필름을 30m/min의 인장 속도로 180˚ 박리했을 때, 피착체가 대전하여 발생하는 전압(대전압)을 고정밀도 정전기 센서 SK-035, SK-200(주식회사 키엔스 제조)를 사용하여 측정하고, 측정치의 최대값을 박리 대전압으로 하였다.
＜내오염성의 시험 방법＞
유리판의 한쪽 면 위에 상기 저반사 표면 처리를 실시한 LR 편광판 또는 상기 저반사 표면 처리를 실시한 AG-LR 편광판(편광자의 보호층이 TAC인 편광판을 사용)을 첩합기를 사용하고, 점착제층(양면 점착 테이프)을 개재하여 첩합하였다. 그 후, 상기 편광판의 표면에 표면 보호 필름을 첩합기를 사용하여 첩합하였다. 23℃, 50％RH의 환경하에서 3일 및 30일의 기간에 걸쳐 보관한 후에, 상기 표면 보호 필름을 박리하고, 상기 편광판의 표면의 오염 상태를 육안으로 관찰하였다. 내오염성의 판단 기준은 상기 편광판의 표면에 대해, 오염이 없는 경우를 「○」, 약간 오염이 있는 경우를 「△」, 오염이 있는 경우를 「×」라고 평가하였다.
표 3에 실시예 1∼6 및 비교예 1∼3에 있어서의 표면 보호 필름에 대한 평가 결과를 나타낸다. 「표면 저항률」은 「m×10＋n」를 「mE＋n」라고 하는 방식(단, m는 임의의 실수값, n는 양의 정수)에 의해 표기하였다. 「표면 처리」란은 점착력의 시험에서 사용한 피착체의 편광판 종류를 나타낸다.
Figure pat00003
실시예 1∼6의 표면 보호 필름은 피착체인 편광판에 대해, 저속의 박리 속도 0.3m/min에서의 점착력이 0.03∼0.05N/25㎜(예를 들면, 0.01∼0.1N/25㎜), 고속의 박리 속도 30m/min에서의 점착력이 0.4∼0.6N/25㎜(예를 들면, 1.0N/25㎜ 이하)이고, 적정한 점착력을 갖고, 점착 성능이 우수했다.
또한, 실시예 1∼6의 표면 보호 필름은 점착제층의 표면 저항률이 1.0×10＋12Ω／□ 이하이고, 불소 화합물을 함유하는 저굴절률층 형성용의 조성물을 사용하여 형성된 저굴절률층에 대한 점착제층의 박리 대전압이 -0.3∼＋0.3㎸의 범위 내이고, 대전 방지 성능이 우수했다.
또한, 실시예 1∼6의 표면 보호 필름은 3일 및 30일의 기간에 걸쳐 보관한 후에도 피착체인 편광판에 대한 오염이 없고, 내오염성에도 우수했다.
즉, 실시예 1∼6의 표면 보호 필름에 대한 표 3에 나타난 평가 결과에서는, 본 발명의 과제를 해결할 수 있었다는 것이 실증되어 있다.
비교예 1∼3의 표면 보호 필름은 (G) 대전 방지제로서 액체인 이온성 화합물이 사용되고 있기 때문에, 점착제층의 표면 저항률이 높고, 내오염성이 나빴다.
또한, 비교예 1∼2의 표면 보호 필름은 점착제층의 표면 저항률이 높기 때문에, 박리 대전압이 높았다. 비교예 3의 표면 보호 필름에 대해서는, 박리 대전압을 측정하고 있지 않지만, 점착제층의 표면 저항률이 높은 점에서, 박리 대전압은 높다고 추측된다.
또한, 비교예 2의 표면 보호 필름은 점착제 조성물에 함유되어 있는 아크릴계 폴리머의 유리 전이 온도가 0℃ 초과(계산값으로는, ＋2℃)가 되었다. 이 때문에, 점착 성능이 나쁘고, 점착력이 과대가 되었다. 또한, 비교예 2에 사용한 아크릴계 폴리머에서는, 호모폴리머의 유리 전이 온도가 높은 값(0℃ 초과)인 메틸아크릴레이트 및 아크릴산의 비율이 많게 되어 있다.
이와 같이, 비교예 1∼3의 표면 보호 필름에서는, 본 발명의 과제를 해결할 수 없었다.

Claims (6)

  1. 아크릴계 폴리머와, 대전 방지제와, (D) 가교제를 함유하는 점착제 조성물로서,
    상기 아크릴계 폴리머가 0℃ 이하의 유리 전이 온도를 가지며 이루어지고,
    상기 (D) 가교제가 3관능 이상의 이소시아네이트 화합물이고,
    상기 대전 방지제가 양이온과 음이온으로 이루어지는 융점 25℃ 이상의 이온성 화합물이고, 상기 음이온이 트리플루오로메탄술포네이트 음이온, 펜타플루오로에탄술포네이트 음이온, 헵타플루오로프로판술포네이트 음이온, 노나플루오로부탄술포네이트 음이온으로 이루어지는 군에서 선택된 1종이고,
    상기 아크릴계 폴리머가
    (a1) 알킬기의 탄소수가 C1∼C4인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 1종을 1∼50중량부와, (a2) 알킬기의 탄소수가 C5∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 1종을 50∼99중량부의 비율로 함유하여 이루어지고, 상기 (a1)과 상기 (a2)의 합계가 100중량부인 (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 2종 이상과,
    (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머 중 적어도 1종 이상과,
    (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 1종 이상을 공중합시킨 공중합체의 아크릴계 폴리머이고,
    상기 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머가 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상의 합계를, 상기 (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 2종 이상의 합계 100중량부에 대해, 4.1∼16중량부의 비율로 포함하여 이루어지고, 또한, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 포함하여 이루어지고,
    상기 아크릴계 폴리머가 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 공중합시키지 않은 공중합체이거나, 또는 (메타)아크릴산, 카르복시에틸(메타)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸말레산, 카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸테트라히드로프탈산으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상의 합계를, 상기 (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 2종 이상의 합계 100중량부에 대해, 0.02∼1.3중량부의 비율로 공중합시킨 공중합체이고,
    상기 점착제 조성물이 추가로, (E) 금속 킬레이트 화합물의 가교 촉진제와, (F) 케토에놀 호변이성체 화합물을 함유하여 이루어지고,
    상기 점착제 조성물이 상기 아크릴계 폴리머의 100중량부에 대해, 상기 대전 방지제를 0.01∼10중량부의 비율로 필수 성분으로서 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 양이온이 피리디늄, 이미다졸륨, 포스포늄, 술포늄, 피롤리디늄, 구아니디늄, 암모늄, 이소우로늄, 티오우로늄, 피페리디늄, 피라졸륨, 메틸륨, 리튬 및 모르폴리늄으로 이루어지는 군에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머 중의 디에스테르분이 0.2중량％ 이하이고,
    상기 (C) 폴리알킬렌글리콜 사슬 함유 모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로서, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을, 상기 (A) 알킬기의 탄소수 C1∼18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머 중 적어도 2종 이상의 합계 100중량부에 대해, 1∼50중량부의 비율로 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
  4. 수지 필름의 한쪽 면에, 제 1 항 또는 제 2 항의 점착제 조성물을 가교시킨 점착제층이 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 점착 필름.
  5. 제 4 항의 점착 필름이 사용된 편광판용 표면 보호 필름.
  6. 광학 필름 중 적어도 일방의 면에, 제 1 항 또는 제 2 항의 점착제 조성물을 가교시킨 점착제층이 적층되어 있는 점착제층 부착 광학 필름.
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