KR20210102071A - 기판 위치 결정 장치, 기판 위치 결정 방법 및 접합 장치 - Google Patents

기판 위치 결정 장치, 기판 위치 결정 방법 및 접합 장치 Download PDF

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KR20210102071A
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rotation
holding
rotating shaft
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KR1020210014129A
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테츠야 마키
토시후미 이나마스
Original Assignee
도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

기판의 위치 결정 정밀도를 향상시키는 기술을 제공한다. 본 개시에 따른 기판 위치 결정 장치는 유지부와, 회전 기구를 구비한다. 유지부는 기판을 유지한다. 회전 기구는 유지부를 회전시킨다. 또한, 회전 기구는 회전축부와, 축받이부와, 베이스부와, 구동부와, 감쇠 기구를 구비한다. 회전축부는 유지부에 고정된다. 축받이부는 회전축부를 비접촉 상태로 지지한다. 베이스부는 축받이부를 고정한다. 구동부는 회전축부를 회전시킨다. 감쇠 기구는 베이스부에 접속되는 레일과, 회전축부에 접속되는 슬라이더를 포함하고, 레일과 슬라이더 사이에 발생하는 저항에 의해, 회전축부와 베이스부와의 상대 동작에 대한 감쇠력을 발생시킨다.

Description

기판 위치 결정 장치, 기판 위치 결정 방법 및 접합 장치 {SUBSTRATE POSITIONING APPARATUS, SUBSTRATE POSITIONING METHOD, AND BONDING APPARATUS}
본 개시는 기판 위치 결정 장치, 기판 위치 결정 방법 및 접합 장치에 관한 것이다.
종래, 반도체 웨이퍼 등의 기판끼리를 접합하는 접합 장치가 알려져 있다(특허 문헌 1 참조).
일본특허공개공보 2018-147944호
본 개시는 기판의 위치 결정 정밀도를 향상시키는 기술을 제공한다.
본 개시의 일태양에 따른 기판 위치 결정 장치는 유지부와, 회전 기구를 구비한다. 유지부는 기판을 유지한다. 회전 기구는 유지부를 회전시킨다. 또한, 회전 기구는 회전축부와, 축받이부와, 베이스부와, 구동부와, 감쇠 기구를 구비한다. 회전축부는 유지부에 고정된다. 축받이부는 회전축부를 비접촉 상태로 지지한다. 베이스부는 축받이부를 고정한다. 구동부는 회전축부를 회전시킨다. 감쇠 기구는 베이스부에 접속되는 레일과, 회전축부에 접속되는 슬라이더를 포함하고, 레일과 슬라이더 사이에 발생하는 저항에 의해, 회전축부와 베이스부와의 상대 동작에 대한 감쇠력을 발생시킨다.
본 개시에 따르면, 기판의 위치 결정 정밀도를 향상시킬 수 있다.
도 1은 실시 형태에 따른 접합 시스템의 구성을 나타내는 모식도이다.
도 2는 실시 형태에 따른 제 1 기판 및 제 2 기판의 접합 전의 상태를 나타내는 모식도이다.
도 3은 실시 형태에 따른 접합 장치의 구성을 나타내는 모식도이다.
도 4는 실시 형태에 따른 회전 기구의 평면도이다.
도 5는 실시 형태에 따른 감쇠 기구의 평면도이다.
도 6은 실시 형태에 따른 접합 시스템이 실행하는 처리의 순서를 나타내는 순서도이다.
이하에, 본 개시에 따른 기판 위치 결정 장치, 기판 위치 결정 방법 및 접합 장치를 실시하기 위한 형태(이하, '실시 형태'라 기재함)에 대하여 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 또한, 이 실시 형태에 의해 본 개시가 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 실시 형태는 처리 내용을 모순시키지 않는 범위에서 적절히 조합하는 것이 가능하다. 또한, 이하의 각 실시 형태에서 동일한 부위에는 동일한 부호를 부여하여, 중복되는 설명은 생략된다.
또한, 이하에 나타내는 실시 형태에서는 '일정', '직교', '수직' 혹은 '평행'과 같은 표현이 이용되는 경우가 있는데, 이러한 표현은, 엄밀하게 '일정', '직교', '수직' 혹은 '평행'인 것을 요하지 않는다. 즉, 상기한 각 표현은, 예를 들면 제조 정밀도, 설치 정밀도 등의 오차를 허용하는 것으로 한다.
또한, 이하 참조하는 각 도면에서는, 설명을 알기 쉽게 하기 위하여, 서로 직교하는 X축 방향, Y축 방향 및 Z축 방향을 규정하고, Z축 정방향을 연직 상향 방향으로 하는 직교 좌표계를 나타내는 경우가 있다. 또한, 연직축을 회전 중심으로 하는 회전 방향을 θ 방향이라 부르는 경우가 있다.
기판끼리를 접합하는 접합 장치에 있어서는, 기판끼리를 접합하기 전에, 기판의 회전 방향의 위치 결정이 행해진다. 이 회전 방향의 위치 결정 정밀도의 향상은, 기판의 접합 정밀도의 향상으로 연결된다. 따라서, 기판의 회전 방향의 위치 결정 정밀도의 향상이 기대된다.
또한, 기판의 회전 방향의 위치 결정 정밀도의 향상은, 접합 장치에 한정되지 않고, 기판의 검사 장치(프로버) 등 다른 장치에 있어서도 기대되고 있다. 이하에서는, 본 개시에 따른 기판 위치 결정 장치 및 기판 위치 결정 방법을 접합 장치에 적용한 경우의 실시 형태에 대하여 설명하지만, 본 개시에 따른 기판 위치 결정 장치 및 기판 위치 결정 방법은, 접합 장치 이외의 장치에도 적용 가능하다.
<접합 시스템의 구성>
먼저, 실시 형태에 따른 접합 시스템의 구성에 대하여 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한다. 도 1은 실시 형태에 따른 접합 시스템의 구성을 나타내는 모식도이다. 또한, 도 2는 실시 형태에 따른 제 1 기판 및 제 2 기판의 접합 전의 상태를 나타내는 모식도이다.
도 1에 나타내는 접합 시스템(1)은, 제 1 기판(W1)과 제 2 기판(W2)을 접합함으로써 중합 기판(T)을 형성한다(도 2 참조).
제 1 기판(W1) 및 제 2 기판(W2)은 단결정 실리콘 웨이퍼이며, 판면에는 복수의 전자 회로가 형성된다. 제 1 기판(W1) 및 제 2 기판(W2)은 대략 동일 직경이다. 또한, 제 1 기판(W1) 및 제 2 기판(W2)의 일방은, 예를 들면 전자 회로가 형성되어 있지 않은 기판이어도 된다.
이하에서는, 도 2에 나타내는 바와 같이, 제 1 기판(W1)의 판면 중, 제 2 기판(W2)과 접합되는 측의 판면을 '접합면(W1j)'이라 기재하고, 접합면(W1j)과는 반대측의 판면을 '비접합면(W1n)'이라 기재한다. 또한, 제 2 기판(W2)의 판면 중, 제 1 기판(W1)과 접합되는 측의 판면을 '접합면(W2j)'이라 기재하고, 접합면(W2j)과는 반대측의 판면을 '비접합면(W2n)'이라 기재한다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 접합 시스템(1)은 반입반출 스테이션(2)과, 처리 스테이션(3)을 구비한다. 반입반출 스테이션(2)은 처리 스테이션(3)의 X축 부방향측에 배치되고, 처리 스테이션(3)과 일체적으로 접속된다.
반입반출 스테이션(2)은 배치대(10)와, 반송 영역(20)을 구비한다. 배치대(10)는 복수의 배치판(11)을 구비한다. 각 배치판(11)에는, 복수 매(예를 들면, 25 매)의 기판을 수평 상태로 수용하는 카세트(C1 ~ C4)가 각각 배치된다. 카세트(C1)는 복수 매의 제 1 기판(W1)을 수용 가능하며, 카세트(C2)는 복수 매의 제 2 기판(W2)을 수용 가능하며, 카세트(C3)는 복수 매의 중합 기판(T)을 수용 가능하다. 카세트(C4)는, 예를 들면 문제가 생긴 기판을 회수하기 위한 카세트이다. 또한, 배치판(11)에 배치되는 카세트(C1 ~ C4)의 개수는 도시의 것에 한정되지 않는다.
반송 영역(20)은, 배치대(10)의 X축 정방향측에 인접하여 배치된다. 반송 영역(20)에는, Y축 방향으로 연장되는 반송로(21)와, 반송로(21)를 따라 이동 가능한 반송 장치(22)가 마련된다. 반송 장치(22)는, Y축 방향뿐 아니라, X축 방향으로도 이동 가능하고 또한 Z축 둘레로 선회 가능하다. 반송 장치(22)는, 배치판(11)에 배치된 카세트(C1 ~ C4)와, 후술하는 처리 스테이션(3)의 제 3 처리 블록(G3)과의 사이에서, 제 1 기판(W1), 제 2 기판(W2) 및 중합 기판(T)의 반송을 행한다.
처리 스테이션(3)에는, 예를 들면 3 개의 처리 블록(G1, G2, G3)이 마련된다. 제 1 처리 블록(G1)은 처리 스테이션(3)의 배면측(도 1의 Y축 정방향측)에 배치된다. 또한, 제 2 처리 블록(G2)은 처리 스테이션(3)의 정면측(도 1의 Y축 부방향측)에 배치되고, 제 3 처리 블록(G3)은 처리 스테이션(3)의 반입반출 스테이션(2)측(도 1의 X축 부방향측)에 배치된다.
제 1 처리 블록(G1)에는, 제 1 기판(W1) 및 제 2 기판(W2)의 접합면(W1j, W2j)을 개질하는 표면 개질 장치(30)가 배치된다. 표면 개질 장치(30)는 제 1 기판(W1) 및 제 2 기판(W2)의 접합면(W1j, W2j)에 있어서의 SiO2의 결합을 절단하여 단결합의 SiO로 함으로써, 이 후 친수화되기 쉽게 하도록 접합면(W1j, W2j)을 개질한다.
구체적으로, 표면 개질 장치(30)에서는, 예를 들면 감압 분위기 하에 있어서 처리 가스인 산소 가스 또는 질소 가스가 여기되어 플라즈마화되고, 이온화된다. 그리고, 이러한 산소 이온 또는 질소 이온이, 제 1 기판(W1) 및 제 2 기판(W2)의 접합면(W1j, W2j)에 조사됨으로써, 접합면(W1j, W2j)이 플라즈마 처리되어 개질된다.
또한, 제 1 처리 블록(G1)에는 표면 친수화 장치(40)가 배치된다. 표면 친수화 장치(40)는, 예를 들면 순수에 의해 제 1 기판(W1) 및 제 2 기판(W2)의 접합면(W1j, W2j)을 친수화하고, 또한 접합면(W1j, W2j)을 세정한다. 구체적으로, 표면 친수화 장치(40)는, 예를 들면 스핀 척에 유지된 제 1 기판(W1) 또는 제 2 기판(W2)을 회전시키면서, 당해 제 1 기판(W1) 또는 제 2 기판(W2) 상에 순수를 공급한다. 이에 의해, 제 1 기판(W1) 또는 제 2 기판(W2) 상에 공급된 순수가 제 1 기판(W1) 또는 제 2 기판(W2)의 접합면(W1j, W2j) 상을 확산되어, 접합면(W1j, W2j)이 친수화된다.
여기서는, 표면 개질 장치(30)와 표면 친수화 장치(40)가 옆으로 나란히 배치되는 경우의 예를 나타냈지만, 표면 친수화 장치(40)는 표면 개질 장치(30)의 상방 또는 하방에 적층되어도 된다.
제 2 처리 블록(G2)에는 접합 장치(41)가 배치된다. 접합 장치(41)는 친수화 된 제 1 기판(W1)과 제 2 기판(W2)을 분자간력에 의해 접합한다. 접합 장치(41)의 구체적인 구성에 대해서는 후술한다.
제 1 처리 블록(G1), 제 2 처리 블록(G2) 및 제 3 처리 블록(G3)으로 둘러싸인 영역에는, 반송 영역(60)이 형성된다. 반송 영역(60)에는 반송 장치(61)가 배치된다. 반송 장치(61)는 예를 들면 연직 방향, 수평 방향 및 연직축 둘레로 이동 가능한 반송 암을 가진다. 이러한 반송 장치(61)는, 반송 영역(60) 내를 이동하여, 반송 영역(60)에 인접하는 제 1 처리 블록(G1), 제 2 처리 블록(G2) 및 제 3 처리 블록(G3) 내의 정해진 장치로 제 1 기판(W1), 제 2 기판(W2) 및 중합 기판(T)을 반송한다.
또한, 접합 시스템(1)은 제어 장치(70)를 구비한다. 제어 장치(70)는 접합 시스템(1)의 동작을 제어한다. 이러한 제어 장치(70)는 예를 들면 컴퓨터이며, 도시하지 않는 제어부 및 기억부를 구비한다. 제어부는 CPU(Central Processing Unit), ROM(Read Only Memory), RAM(Random Access Memory), 입출력 포트 등을 가지는 마이크로 컴퓨터 및 각종의 회로를 포함한다. 이러한 마이크로 컴퓨터의 CPU는, ROM에 기억되어 있는 프로그램을 읽어내 실행함으로써, 후술하는 제어를 실현한다. 또한, 기억부는 예를 들면 RAM, 플래시 메모리(Flash Memory) 등의 반도체 메모리 소자, 또는 하드 디스크, 광디스크 등의 기억 장치에 의해 실현된다.
또한, 이러한 프로그램은 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기록 매체에 기록되어 있던 것으로서, 그 기록 매체로부터 제어 장치(70)의 기억부에 인스톨된 것이어도 된다. 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기록 매체로서는, 예를 들면 하드 디스크(HD), 플렉시블 디스크(FD), 콤팩트 디스크(CD), 마그넷 옵티컬 디스크(MO), 메모리 카드 등이 있다.
<접합 장치의 구성>
이어서, 접합 장치(41)의 구성에 대하여 도 3을 참조하여 설명한다. 도 3은 실시 형태에 따른 접합 장치(41)의 구성을 나타내는 모식도이다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 접합 장치(41)는 하우징(100)과, 제 1 유지부(101)와, 제 2 유지부(102)를 구비한다. 또한, 접합 장치(41)는 상부 촬상부(103)와, 하부 촬상부(104)를 구비한다. 또한, 접합 장치(41)는 승강 기구(105)(이동 기구의 일례)와, 제 1 수평 이동부(106)와, 제 2 수평 이동부(107)와, 회전 기구(108)를 구비한다.
하우징(100)은 예를 들면 토대(100a)와, 토대(100a)에 세워 마련된 복수의 지주(100b)와, 복수의 지주(100b)에 걸쳐진 빔부(100c)를 구비한다.
제 1 유지부(101)는 예를 들면 진공 척이며, 도시하지 않는 진공 펌프 등의 흡인 장치에 접속된다. 제 1 유지부(101)는 흡착면(제 1 유지부(101)의 하면)에 위치하는 제 1 기판(W1)을 흡인 장치가 발생시키는 흡인력을 이용하여 진공 배기함으로써, 제 1 기판(W1)을 상방으로부터 흡착 유지한다.
제 2 유지부(102)는 예를 들면 진공 척이며, 도시하지 않는 진공 펌프 등의 흡인 장치에 접속된다. 제 2 유지부(102)는 흡착면(제 2 유지부(102)의 상면)에 위치하는 제 2 기판(W2)을 흡인 장치가 발생시키는 흡인력을 이용하여 제 2 기판(W2)을 진공 배기함으로써, 제 2 기판(W2)을 하방으로부터 흡착 유지한다.
상부 촬상부(103)는, 제 2 유지부(102)에 유지된 제 2 기판(W2)의 상면(접합면(W2j))을 촬상한다. 상부 촬상부(103)는 예를 들면 하우징(100)의 빔부(100c)에 장착된다. 상부 촬상부(103)로서는, 예를 들면 CCD(Charge Coupled Device) 카메라 등이 이용될 수 있다.
하부 촬상부(104)는, 제 1 유지부(101)에 유지된 제 1 기판(W1)의 하면(접합면(W1j))을 촬상한다. 하부 촬상부(104)는 예를 들면 승강 기구(105)의 측방에 장착된다. 하부 촬상부(104)로서는, 예를 들면 CCD 카메라 등이 이용될 수 있다.
제 2 유지부(102)는 제 2 유지부(102)의 하방에 마련된 승강 기구(105)에 고정된다. 승강 기구(105)는 제 2 유지부(102)를 연직 방향(Z축 방향)을 따라 이동시킨다.
승강 기구(105)는, 승강 기구(105)의 하방에 마련된 제 1 수평 이동부(106)에 고정된다. 제 1 수평 이동부(106)는 승강 기구(105)를 수평 방향을 따라 이동시킨다. 구체적으로, 제 1 수평 이동부(106)의 하방에는, Y축 방향을 따라 연장되는 한 쌍의 레일(161)이 마련되어 있고, 제 1 수평 이동부(106)는, 한 쌍의 레일(161)을 따라 이동함으로써, 승강 기구(105)를 Y축 방향을 따라 이동시킨다.
한 쌍의 레일(161)은 제 2 수평 이동부(107)에 고정된다. 제 2 수평 이동부(107)는, 한 쌍의 레일(161)을 개재하여 제 1 수평 이동부(106)를 수평 방향을 따라 이동시킨다. 구체적으로, 제 2 수평 이동부(107)의 하방에는, X축 방향을 따라 연장되는 한 쌍의 레일(171)이 마련되어 있다. 제 2 수평 이동부(107)는, 한 쌍의 레일(171)을 따라 이동함으로써, 한 쌍의 레일(161)을 개재하여 제 1 수평 이동부(106)를 X축 방향을 따라 이동시킨다. 한 쌍의 레일(171)은 하우징(100)의 토대(100a)에 고정된다.
제 1 유지부(101)는, 제 1 유지부(101)의 상방에 마련된 회전 기구(108)에 고정된다. 회전 기구(108)는, 제 1 유지부(101)를 연직축(Z축) 둘레로 회전시킨다. 이에 의해, 제 1 유지부(101)에 유지된 제 1 기판(W1)의 θ 방향의 위치가 조정된다.
회전 기구(108)는, 제 1 유지부(101)에 고정되는 회전축부(181), 회전축부(181)를 비접촉 상태로 지지하는 복수의 에어 베어링(182), 복수의 에어 베어링(182)을 고정하는 베이스부(183)를 구비한다.
회전축부(181)는, 예를 들면 연직 방향으로 연장되는 원주부(圓柱部)(181a)와, 원주부(181a)의 하부에 마련된 제 1 플랜지부(181b)와 원주부(181a)의 상부에 마련된 제 2 플랜지부(181c)를 구비한다. 제 1 유지부(101)는 제 1 플랜지부(181b)의 하면에 고정된다.
복수의 에어 베어링(182)은, 회전축부(181)의 제 2 플랜지부(181c)의 외주에 배치된다. 실시 형태에 있어서, 회전 기구(108)는 4 개의 에어 베어링(182)을 구비한다(후술하는 도 4 참조). 4 개의 에어 베어링(182)은, 제 2 플랜지부(181c)의 둘레 방향에 대하여 균등하게, 즉 90도 간격으로 배치된다. 이 때문에, 4 개의 에어 베어링(182) 중 2 개는, 제 2 플랜지부(181c)의 중심(즉, 회전축부(181)의 중심)을 사이에 두고 대향 배치되고, 나머지 2개도, 제 2 플랜지부(181c)의 중심을 사이에 두고 대향 배치된다.
또한 여기서는, 회전 기구(108)는 복수의 에어 베어링(182) 대신에, 원환 형상으로 형성된 1 개의 에어 베어링을 구비하고 있어도 된다.
복수의 에어 베어링(182)은, 제 2 플랜지부(181c)의 하방으로부터 제 2 플랜지부(181c)의 하면(축받이면의 일례)을 향해 압축 공기를 연직 상방으로 분출함으로써, 회전축부(181)를 부상시킨다. 또한, 복수의 에어 베어링(182)은, 제 2 플랜지부(181c)의 외방으로부터 제 2 플랜지부(181c)의 둘레면(축받이면의 일례)에 대하여 압축 공기를 분출한다. 구체적으로, 각 에어 베어링(182)은, 제 2 플랜지부(181c)의 직경 방향(도 4에 나타내는 일점 쇄선을 따른 방향)을 따라 압축 공기를 분출한다. 환언하면, 각 에어 베어링(182)은, 제 2 플랜지부(181c)의 중심을 사이에 두고 대향 배치되는 다른 에어 베어링(182)을 향해 압축 공기를 분출한다.
복수의 에어 베어링(182)으로부터 수평 방향으로 분출되는 압축 공기는, 회전축부(181)를 수평 방향으로 민다. 이 회전축부(181)를 수평 방향으로 미는 힘이 균형을 이루는 위치가 회전축부(181)의 회전 중심(R0)(도 4 참조)이 된다.
베이스부(183)는, 예를 들면 평판 형상의 부재이며, 하우징(100)의 빔부(100c)에 고정된다. 상술한 복수의 에어 베어링(182)은, 이러한 베이스부(183)의 상면에 고정된다.
또한 베이스부(183)에는, 베이스부(183)를 연직 방향으로 관통하는 관통구(183a)가 형성되어 있다. 관통구(183a)는, 상술한 회전축부(181)의 원주부(181a)보다 대경(大徑)이다. 이러한 관통구(183a)에는, 회전축부(181)의 원주부(181a)가 삽입 관통된다. 회전축부(181)의 제 1 플랜지부(181b)는 베이스부(183)보다 하방에 배치되고, 제 2 플랜지부(181c)는 베이스부(183)보다 상방에 배치된다. 이와 같이, 회전축부(181)는 베이스부(183)에 대하여 비접촉이다.
이상과 같이, 실시 형태에 따른 회전 기구(108)는, 복수의 에어 베어링(182)을 이용하여 회전축부(181)를 비접촉 상태로 지지한다. 이에 의해, 실시 형태에 따른 회전 기구(108)는, 예를 들면 볼 베어링 등의 접촉식의 축받이 부재를 이용하여 회전축부(181)를 지지하는 경우와 비교하여, 매우 적은 힘으로 회전축부(181)를 회전시킬 수 있다. 따라서, 실시 형태에 따른 회전 기구(108)는, 예를 들면 회전축부(181)를 nm레벨로 회전시키는 경우라도 높은 응답성을 얻을 수 있다.
그러나, 회전축부(181)를 비접촉 상태로 지지하는 방법은, 회전축부(181)의 정적 균형(정정성(靜定性))의 면에서 문제가 될 우려가 있다. 즉, 상술한 바와 같이, 회전축부(181)의 회전 중심(R0)은, 복수의 에어 베어링(182)으로부터 수평 방향으로 분출되는 압축 공기의 힘의 균형에 의해 형성된다. 그러나, 이 균형의 위치는, 예를 들면 진동 등의 약간의 외력에 의해 미소하게 어긋날 우려가 있다. 이 때문에, 회전축부(181)를 비접촉 상태로 지지하는 방법은, 회전축부(181)의 회전 중심(R0)을 정밀도 좋게 유지하는 것이 곤란하다. 이러한 정적 균형의 문제는, 특히, 회전축부(181)를 nm 레벨로 회전시키는 경우에 있어서 현저해진다.
회전축부(181)의 회전 중심(R0)의 어긋남은, 제 1 기판(W1)과 제 2 기판(W2)과의 접합 정밀도의 저하로 이어진다. 이 때문에, 회전축부(181)의 회전 중심(R0)의 어긋남은 최대한 발생시키지 않는 것이 바람직하다.
따라서 실시 형태에 따른 회전 기구(108)에서는, 회전축부(181)의 구동에 저항을 주는 감쇠 기구를 마련함으로써, 회전축부(181)의 정적 균형을 향상시키는 것으로 했다. 이에 의해, 회전축부(181)의 정적 균형이 향상됨으로써, 실시 형태에 따른 회전 기구(108)는, 제 1 기판(W1)의 회전 방향의 위치 결정 정밀도를 향상시킬 수 있다. 이하, 회전 기구(108)의 구체적인 구성에 대하여 설명한다.
또한 여기서는 도시를 생략하지만, 접합 장치(41)는, 도 4에 나타내는 제 1 유지부(101) 및 제 2 유지부(102) 등의 전단에 트랜지션, 위치 조절 기구, 반전 기구 등을 구비한다. 트랜지션은 제 1 기판(W1), 제 2 기판(W2) 및 중합 기판(T)을 일시적으로 배치한다. 위치 조절 기구는 제 1 기판(W1) 및 제 2 기판(W2)의 수평 방향의 방향을 조절한다. 반전 기구는 제 1 기판(W1)의 표리를 반전시킨다.
<회전 기구의 구성>
이어서, 회전 기구(108)의 구성에 대하여 도 4를 참조하여 설명한다. 도 4는 실시 형태에 따른 회전 기구(108)의 평면도이다.
도 4에 나타내는 바와 같이, 회전 기구(108)는 구동부(184)와, 위치 센서(185)와, 감쇠 기구(186)를 더 구비한다.
구동부(184)는 예를 들면 직동 액츄에이터이며, 슬라이더(184a)와, 나사축(184b)과, 구동원(184c)을 구비한다. 슬라이더(184a)는 회전축부(181) 및 나사축(184b)에 고정된다. 나사축(184b)은 수평 방향(여기서는, X축 방향)으로 연장된다. 나사축(184b)은 베이스부(183)에 고정된다. 구동원(184c)은 예를 들면 모터이며, 베이스부(183)에 고정되어, 나사축(184b)을 회전시킨다.
구동부(184)는 구동원(184c)을 이용하여 나사축(184b)을 회전시킴으로써, 나사축(184b)에 고정된 슬라이더(184a)를 X축 방향을 따라 이동시킨다. 이에 의해, 구동부(184)는 슬라이더(184a)에 고정된 회전축부(181)를 회전시킬 수 있다. 구동부(184)가 회전축부(181)를 회전시키는 범위는, 예를 들면 ±1도 정도이다.
위치 센서(185)는 예를 들면 리니어 스케일이다. 위치 센서(185)는 베이스부(183)에 고정되고, 회전축부(181)의 수평 방향에 있어서의 위치를 검출한다. 여기서는 도시를 생략하고 있지만, 위치 센서(185)는, 회전축부(181)에 있어서의 제 2 플랜지부(181c)의 외주에 복수 마련되어 있다. 예를 들면, 회전 기구(108)는, 도 4에 나타내는 위치 이외에, 예를 들면 구동부(184)가 마련되는 위치 및 감쇠 기구(186)가 마련되는 위치에도 위치 센서(185)를 구비하고 있다. 접합 장치(41)는 이들 복수의 위치 센서(185)를 이용하여, 회전축부(181)의 회전량(회전 각도) 및 편심량을 측정할 수 있다.
감쇠 기구(186)는 회전축부(181)와 베이스부(183)와의 상대 동작에 대한 감쇠력을 발생시킨다.
<감쇠 기구의 구성>
이어서, 감쇠 기구(186)의 구성에 대하여 도 5를 참조하여 설명한다. 도 5는 실시 형태에 따른 감쇠 기구(186)의 평면도이다.
도 5에 나타내는 바와 같이, 실시 형태에 따른 감쇠 기구(186)는 레일(201)과, 레일(201)에 대하여 직선 운동 가능한 슬라이더(202)를 포함한다. 실시 형태에 따른 감쇠 기구(186)는, 레일(201)과 슬라이더(202)와의 사이에 발생하는 저항에 의해, 회전축부(181)와 베이스부(183)와의 상대 동작에 대한 감쇠력을 발생시킨다.
여기서, 회전축부(181)와 베이스부(183)와의 상대 동작이란, 베이스부(183)를 기준으로 하는(복수의 위치 센서(185)에 의해 검출되는) 회전축부(181)의 변위를 의미한다. 회전축부(181)와 베이스부(183)와의 상대 동작은, 예를 들면 회전축부(181)가 회전 중심(R0) 둘레로 회전하는 회전 동작 외에, 회전축부(181)의 수평 이동을 포함한다.
회전축부(181)의 수평 이동이란, 회전 중심(R0)의 수평 방향의 어긋남(편심)을 의미한다. 회전축부(181)의 수평 이동은, 예를 들면 진동 등의 외란에 의해 발생할 수 있다. 외란에 의해 베이스부(183)가 진동하면, 베이스부(183)에 고정된 복수의 에어 베어링(182)이 진동한다. 그 결과, 복수의 에어 베어링(182)으로부터 분사되는 압축 공기의 힘이 균형을 이루는 위치가 변화하고, 이에 수반하여 회전축부(181)가 수평 이동한다. 구체적으로, 회전축부(181)(환언하면, 회전 중심(R0))는 nm 레인지로 진동한다.
레일(201)은, 제 1 장착 부재(203)를 개재하여 베이스부(183)에 고정된다. 제 1 장착 부재(203)는, 베이스부(183)에 고정된 복수(여기서는 2 개)의 지주(231)를 가지고 있고, 회전축부(181)보다 높은 위치에 있어서 레일(201)을 지지한다. 레일(201)은 직선 형상이며, 수평 방향(여기서는, X축 방향)으로 연장된다.
슬라이더(202)는 베어링(221)을 개재하여 레일(201)에 접속되고, 레일(201)을 따라 이동한다. 슬라이더(202)는, 후술하는 제 1 회전 부재(204) 및 제 2 회전 부재(205)를 개재하여 회전축부(181)에 접속되고, 회전축부(181)의 이동에 추종하여 레일(201) 상을 이동한다.
감쇠 기구(186)는 또한 제 1 회전 부재(204)와, 제 2 회전 부재(205)와, 부세(付勢) 부재(206)를 구비한다.
제 1 회전 부재(204)는, 회전축부(181)에 고정된 제 2 장착 부재(207)에 고정된다. 제 2 회전 부재(205)는 슬라이더(202)에 고정되어, 슬라이더(202)와 함께 레일(201) 상을 이동한다. 이 때문에, 슬라이더(202)는, 회전축부(181)의 이동에 추종하여 레일(201) 상을 이동하게 된다. 또한, 제 2 장착 부재(207)에는, 전술한 위치 센서(185)(리니어 스케일)가 마련되어도 된다.
제 1 회전 부재(204)는 예를 들면 캠 팔로워이며, 제 1 회전축(241)과, 제 1 회전체(242)를 구비한다. 제 1 회전축(241)은 연직 방향으로 연장된다. 제 1 회전축(241)은 기단부가 제 2 장착 부재(207)에 고정되어 있고, 선단부에 있어서 제 1 회전체(242)를 회전 가능하게 지지한다. 제 1 회전체(242)는 예를 들면 원통 형상의 롤러이며, 연직 방향으로 연장되는 회전축(R1) 둘레로 회전한다.
제 2 회전 부재(205)는 예를 들면 캠 팔로워이며, 제 2 회전축(251)과, 제 2 회전체(252)를 구비한다. 제 2 회전축(251)은 수평 방향으로 연장된다. 제 2 회전축(251)은 기단부가 슬라이더(202)에 고정되어 있고, 선단부에 있어서 제 2 회전체(252)를 회전 가능하게 지지한다. 제 2 회전체(252)는 예를 들면 원통 형상의 롤러이며, 수평 방향으로 연장되는 회전축(R2) 둘레로 회전한다. 제 2 회전 부재(205)는 제 1 회전 부재(204)의 X축 정방향측에 배치된다.
도 5에는, 회전축부(181)에 구동부(184)에 의한 구동력이 작용하고 있지 않은 초기 상태의 회전 기구(108)를 나타내고 있다. 이 초기 상태에 있어서, 제 1 회전 부재(204)의 제 1 회전체(242)와 제 2 회전 부재(205)의 제 2 회전체(252)는 접촉하고 있다. 또한, 제 1 회전체(242)와 제 2 회전체(252)가 접촉한 상태는, 후술하는 부세 부재(206)에 의해 유지된다.
또한 초기 상태에 있어서, 제 2 회전 부재(205)의 회전축(R2)은, 회전축부(181)의 회전 중심(R0)(도 4 참조)과 제 1 회전 부재(204)의 회전축(R1)을 연결하는 직선(L1)에 대하여 기울어 있다. 회전축(R2)과 직선(L1)과의 이루는 각은, 회전축부(181)의 회동 범위(예를 들면 ±1도)보다 크게 되도록 설정된다. 예를 들면, 회전축(R2)과 직선(L1)과의 이루는 각은 1 도보다 크고 10도보다 작다.
부세 부재(206)는, 제 1 회전 부재(204)의 제 1 회전체(242)와 제 2 회전 부재(205)의 제 2 회전체(252)에 서로 접촉하는 방향으로 힘을 가한다. 부세 부재(206)는, 예를 들면 인장 코일 스프링이며, 레일(201)과 평행하게 배치된다. 구체적으로, 부세 부재(206)의 가상적인 스프링축(L2)은 X축 방향으로 연장되어 있다. 부세 부재(206)의 일단은, 슬라이더(202)에 고정된 제 1 지주(261)에 장착된다. 또한 부세 부재(206)의 타단은, 제 2 장착 부재(207)에 고정된 제 2 지주(262)에 장착된다.
또한, 초기 상태에 있어서, 상술한 직선(L1)은 Y축 방향으로 연장되어 있고, 부세 부재(206)의 스프링축(L2)과 직교한다.
부세 부재(206)는 X축 부방향으로 슬라이더(202)에 힘을 가한다. 그 결과, 슬라이더(202)에 고정된 제 2 회전 부재(205)는, X축 부방향으로, 즉 제 1 회전 부재(204)에 접촉하는 방향으로 힘이 가해진다. 이에 의해, 제 1 회전 부재(204)의 제 1 회전체(242)와 제 2 회전 부재(205)의 제 2 회전체(252)가 접촉된 상태가 유지된다.
예를 들면 외란에 의해 회전축부(181)에 미세한 진동이 인가되면, 회전축부(181)의 진동이 슬라이더(202)를 개재하여 레일(201)에 전달된다. 상술한 바와 같이, 레일(201)과 슬라이더(202)와의 사이에는 슬라이드 이동 저항, 구체적으로 베어링(221)의 구름 저항이 존재하고 있다. 이 저항은, 회전축부(181)와 베이스부(183)와의 상대 동작에 대한 감쇠력이 되어, 회전축부(181)의 진동을 억제할 수 있다. 즉, 회전축부(181)의 정적 균형을 향상시킬 수 있다.
이와 같이, 실시 형태에 따른 감쇠 기구(186)는, 회전축부(181)와 베이스부(183)와의 상대 동작에 대한 감쇠력을 발생시킴으로써, 회전축부(181)를 비접촉 상태로 지지하는 경우라도, 회전 중심(R0)의 정적 균형을 향상시킬 수 있다. 따라서, 실시 형태에 따른 접합 장치(41)에 의하면, 제 1 기판(W1)의 위치 결정 정밀도를 향상시킬 수 있고, 나아가서는, 제 1 기판(W1)과 제 2 기판(W2)과의 접합 정밀도를 향상시킬 수 있다.
베어링(221)은 구체적으로는 볼 베어링이지만, 롤러 베어링이어도 된다. 롤러 베어링은 면 접촉형이기 때문에, 볼 베어링과 같이 점 접촉형의 베어링과 비교하여, 제진성이 높다. 따라서, 롤러 베어링을 이용함으로써, 회전축부(181)와 베이스부(183)와의 상대 동작에 대하여 보다 정적 균형을 향상시킬 수 있다. 또한, 단, 슬라이더(202)의 축받이는 베어링(221)에 한정되는 것이 아니며, 볼 베어링이 이용되어도 된다.
또한, 실시 형태에 따른 감쇠 기구(186)는, 제 1 회전 부재(204) 및 제 2 회전 부재(205)에 의한 링크 기구를 가진다. 이에 의해, 실시 형태에 따른 감쇠 기구(186)는, 회전축부(181)의 회전 운동과 슬라이더(202)의 직선 운동과의 오차를, 제 1 회전체(242) 및 제 2 회전체(252)의 회전 운동에 의해 흡수하면서, 베이스부(183)와 회전축부(181)를 기계적으로 접속할 수 있다.
또한, 제 1 회전 부재(204)와 제 2 회전 부재(205)는, 부세 부재(206)의 부세력에 의해 서로 접촉된 상태가 유지된다. 이 부세 부재(206)의 부세력의 대부분은, 제 2 회전 부재(205)를 제 1 회전 부재(204)에 누르는 힘이 된다. 그러나 상술한 바와 같이, 제 2 회전 부재(205)의 회전축(R2)은, 회전축부(181)의 회전 중심(R0)(도 4 참조)과 제 1 회전 부재(204)의 회전축(R1)을 연결하는 직선(L1)에 대하여 기울어 있다. 환언하면, 제 2 회전 부재(205)의 회전축(R2)과 부세 부재(206)의 스프링축(L2)은 직각에 대하여 기울어 있다. 이 때문에, 부세 부재(206)의 부세력의 일부는, 회전축(R2)의 기울기를 없애는 방향으로, 즉, 여기서는 반시계 방향으로 회전축부(181)를 회전시키는 힘이 된다. 이 힘은, 회전축부(181)에 대한 예압으로서 기능한다.
이와 같이, 회전축부(181)에 대하여 예압을 가함으로써, 레일(201) 및 슬라이더(202)로 이루어지는 리니어 시스템의 강성을 높일 수 있다. 리니어 시스템의 강성을 높임으로써, 실시 형태에 따른 감쇠 기구(186)는, 진동 등의 외란에 대하여 보다 강해져, 보다 정밀한 위치 결정이 가능해진다.
또한, 실시 형태에 따른 감쇠 기구(186)는, 회전축부(181)의 회전 구동 범위에 있어서, 회전 위치의 변화에 관계없이 부세 부재(206)의 변형량(신장량)의 변화는 대부분 발생하지 않는다. 이 때문에 회전 위치 결정의 어느 위치에 있어서도 대략 일정한 예압을 가하는 것이 가능해진다. 따라서, 실시 형태에 따른 감쇠 기구(186)에 의하면, 가하는 예압이 변화함에 따른 위치 결정 정밀도의 변동을 피하고 또한 정적 균형을 향상시킬 수 있다.
도 5에 나타내는 초기 상태에 있어서 회전 기구(108)를 연직 방향에서 봤을 때, 제 1 회전 부재(204)의 회전축(R1)은, 부세 부재(206)의 가상적인 스프링축(L2)보다 회전축부(181)의 외방에 배치된다. 이러한 배치로 함으로써, 예를 들면 스프링축(L2)을 회전축(R1)의 외측에 배치한 경우와 비교하여, 회전 방향의 힘 이외의 불필요한 힘, 예를 들면 회전 중심(R0)을 이동시키는 힘이 회전축부(181)에 가해지는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 실시 형태에 따른 감쇠 기구(186)에 의하면, 제 1 기판(W1)의 위치 결정 정밀도를 더 향상시킬 수 있다.
감쇠 기구(186)의 슬라이더(202)는, 회전축부(181)의 중심을 사이에 두고 구동부(184)의 슬라이더(184a)와 반대측에 배치된다(도 4 및 도 5 참조). 이러한 위치에 감쇠 기구(186)를 배치함으로써, 감쇠력을 효과적으로 발생시킬 수 있다.
<접합 시스템의 구체적 동작>
이어서, 접합 시스템(1)의 구체적인 동작에 대하여 도 6을 참조하여 설명한다. 도 6은 실시 형태에 따른 접합 시스템(1)이 실행하는 처리의 순서를 나타내는 순서도이다. 도 6에 나타내는 각종의 처리는, 제어 장치(70)에 의한 제어에 기초하여 실행된다.
먼저, 복수 매의 제 1 기판(W1)을 수용한 카세트(C1), 복수 매의 제 2 기판(W2)을 수용한 카세트(C2) 및 빈 카세트(C3)가, 반입반출 스테이션(2)의 정해진 배치판(11)에 배치된다. 이 후, 반송 장치(22)에 의해 카세트(C1) 내의 제 1 기판(W1)이 취출되어, 제 3 처리 블록(G3)에 배치된 트랜지션 장치로 반송된다.
이어서, 제 1 기판(W1)은, 반송 장치(61)에 의해 제 1 처리 블록(G1)의 표면 개질 장치(30)로 반송된다. 표면 개질 장치(30)에서는, 정해진 감압 분위기 하에 있어서, 처리 가스인 산소 가스가 여기되어 플라즈마화되고, 이온화된다. 이 산소 이온이 제 1 기판(W1)의 접합면에 조사되어, 당해 접합면이 플라즈마 처리된다. 이에 의해, 제 1 기판(W1)의 접합면이 개질된다(단계(S101)).
이어서, 제 1 기판(W1)은, 반송 장치(61)에 의해 제 1 처리 블록(G1)의 표면 친수화 장치(40)로 반송된다. 표면 친수화 장치(40)에서는, 스핀 척에 유지된 제 1 기판(W1)을 회전시키면서, 제 1 기판(W1) 상에 순수를 공급한다. 이에 의해, 제 1 기판(W1)의 접합면이 친수화된다. 또한, 당해 순수에 의해, 제 1 기판(W1)의 접합면이 세정된다(단계(S102)).
이어서, 제 1 기판(W1)은, 반송 장치(61)에 의해 제 2 처리 블록(G2)의 접합 장치(41)로 반송된다. 접합 장치(41)로 반입된 제 1 기판(W1)은, 트랜지션을 개재하여 위치 조절 기구로 반송되고, 위치 조절 기구에 의해 수평 방향의 방향이 조절된다(단계(S103)).
이 후, 위치 조절 기구로부터 반전 기구로 제 1 기판(W1)이 전달되고, 반전 기구에 의해 제 1 기판(W1)의 표리면이 반전된다(단계(S104)). 구체적으로, 제 1 기판(W1)의 접합면(W1j)이 하방을 향해진다. 이어서, 반전 기구로부터 제 1 유지부(101)로 제 1 기판(W1)이 전달되고, 제 1 유지부(101)에 의해 제 1 기판(W1)이 흡착 유지된다(단계(S105)).
이 후, 회전 기구(108)를 이용한 제 1 기판(W1)의 회전 방향의 위치 조정이 행해진다(단계(S106)). 이 후, 복수의 에어 베어링(182)에 의한 회전축부(181)의 부상을 해제하고, 또한 도시하지 않는 배기 장치를 이용하여 회전축부(181)를 복수의 에어 베어링(182)에 흡착시킨다. 이에 의해, 회전축부(181)는 회전 방향의 위치가 조정된 상태로 고정된다.
제 1 기판(W1)에 대한 단계(S101 ~ S106)의 처리와 중복하여, 제 2 기판(W2)의 처리가 행해진다. 먼저, 반송 장치(22)에 의해 카세트(C2) 내의 제 2 기판(W2)이 취출되고, 제 3 처리 블록(G3)에 배치된 트랜지션 장치로 반송된다.
이어서, 제 2 기판(W2)은, 반송 장치(61)에 의해 표면 개질 장치(30)로 반송되어, 제 2 기판(W2)의 접합면(W2j)이 개질된다(단계(S107)). 이 후, 제 2 기판(W2)은, 반송 장치(61)에 의해 표면 친수화 장치(40)로 반송되어, 제 2 기판(W2)의 접합면(W2j)이 친수화되고 또한 당해 접합면이 세정된다(단계(S108)).
이 후, 제 2 기판(W2)은, 반송 장치(61)에 의해 접합 장치(41)로 반송된다. 접합 장치(41)로 반입된 제 2 기판(W2)은, 트랜지션을 개재하여 위치 조절 기구로 반송된다. 그리고, 위치 조절 기구에 의해, 제 2 기판(W2)의 수평 방향의 방향이 조절된다(단계(S109)).
이 후, 제 2 기판(W2)은 제 2 유지부(102)로 반송되어, 노치부를 미리 정해진 방향을 향한 상태로 제 2 유지부(102)에 흡착 유지된다(단계(S110)).
이어서, 제 1 유지부(101)에 유지된 제 1 기판(W1)과 제 2 유지부(102)에 유지된 제 2 기판(W2)과의 수평 방향의 위치 조절이 행해진다(단계(S111)). 이 후, 승강 기구(105)를 이용하여 제 2 기판(W2)을 상승시켜, 제 1 기판(W1)과 제 2 기판(W2)을 접합한다(단계(S112)). 또한, 단계(S112)에 있어서, 제 2 기판(W2)을 상승시킨 후, 제 1 유지부(101)에 마련된 도시하지 않는 누름 부재를 이용하여, 제 1 기판(W1)의 중심부를 상방으로부터 하방으로 눌러 제 2 기판(W2)의 중심부에 접촉시켜도 된다.
상술한 바와 같이, 실시 형태에 따른 기판 위치 결정 장치(일례로서, 접합 장치(41))는 유지부(일례로서, 제 1 유지부(101))와, 회전 기구(일례로서, 회전 기구(108))를 구비한다. 유지부는 기판(일례로서, 제 1 기판(W1))을 유지한다. 회전 기구는 유지부를 회전시킨다. 또한, 회전 기구는 회전축부(일례로서, 회전축부(181))와, 축받이부(일례로서, 에어 베어링(182))와, 베이스부(일례로서, 베이스부(183))와, 구동부(일례로서, 구동부(184))와, 감쇠 기구(일례로서, 감쇠 기구(186))를 구비한다. 회전축부는 유지부에 고정된다. 축받이부는 회전축부를 비접촉 상태로 지지한다. 베이스부는 축받이부를 고정한다. 구동부는 회전축부를 회전시킨다. 감쇠 기구는 베이스부에 접속되는 레일(일례로서, 레일(201))과, 회전축부에 접속되는 슬라이더(일례로서, 슬라이더(202))를 포함하고, 레일과 슬라이더 사이에 발생하는 저항에 의해, 회전축부와 베이스부와의 상대 동작에 대한 감쇠력을 발생시킨다. 따라서, 실시 형태에 따른 기판 위치 결정 장치에 의하면, 기판의 위치 결정 정밀도를 향상시킬 수 있다.
감쇠 기구는 제 1 회전 부재(일례로서, 제 1 회전 부재(204))와, 제 2 회전 부재(일례로서, 제 2 회전 부재(205))와, 부세 부재(일례로서, 부세 부재(206))를 구비한다. 제 1 회전 부재는 회전축부에 고정된다. 제 2 회전 부재는 슬라이더에 고정된다. 부세 부재는 제 1 회전 부재와 제 2 회전 부재에 서로 접촉하는 방향으로 힘을 가한다.
이에 의해, 회전축부의 회전 운동과 슬라이더의 직선 운동과의 오차를, 제 1 회전 부재 및 제 2 회전 부재의 회전 운동에 의해 흡수하면서, 베이스부와 회전축부를 기계적으로 접속할 수 있다.
제 1 회전 부재는 연직축(일례로서, 회전축(R1)) 둘레로 회전 가능하며, 제 2 회전 부재는 수평축(일례로서, 회전축(R2)) 둘레로 회전 가능하다. 또한, 회전축부에 구동부에 의한 구동력이 작용하고 있지 않은 초기 상태에 있어서 회전 기구를 연직 방향에서 봤을 때, 제 2 회전 부재의 수평축은, 회전축부의 회전 중심과 제 1 회전 부재의 연직축을 연결하는 직선(일례로서, 직선(L1))에 대하여 기울어 있다.
이에 의해, 회전축부에 대하여 예압을 가할 수 있다. 따라서, 레일 및 슬라이더로 이루어지는 리니어 시스템의 강성을 높일 수 있고, 리니어 시스템의 강성을 높임으로써, 진동 등의 외란에 대하여 보다 강해져, 보다 정밀한 위치 결정이 가능해진다.
부세 부재는 스프링이다. 또한, 회전축부에 구동부에 의한 구동력이 작용하고 있지 않은 초기 상태에 있어서 회전 기구를 연직 방향에서 봤을 때, 제 1 회전 부재의 연직축은, 부세 부재의 가상적인 스프링축(일례로서, 스프링축(L2))보다 회전축부의 외방에 배치된다. 이러한 배치로 함으로써, 기판의 위치 결정 정밀도를 더 향상시킬 수 있다.
감쇠 기구는, 회전축부의 중심을 사이에 두고 구동부와 반대측에 배치된다. 이러한 위치에 감쇠 기구를 배치함으로써, 감쇠력을 효과적으로 발생시킬 수 있다.
금회 개시된 실시 형태는 모든 점에서 예시로 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 실로, 상기한 실시 형태는 다양한 형태로 구현될 수 있다. 또한, 상기의 실시 형태는 첨부한 청구의 범위 및 그 취지를 일탈하지 않고, 다양한 형태로 생략, 치환, 변경되어도 된다.

Claims (9)

  1. 기판을 유지하는 유지부와,
    상기 유지부를 회전시키는 회전 기구
    를 구비하고,
    상기 회전 기구는,
    상기 유지부에 고정되는 회전축부와,
    상기 회전축부를 비접촉 상태로 지지하는 축받이부와,
    상기 축받이부를 고정하는 베이스부와,
    상기 회전축부를 회전시키는 구동부와,
    상기 베이스부에 접속되는 레일과, 상기 회전축부에 접속되는 슬라이더를 포함하고, 상기 레일과 상기 슬라이더 사이에 발생하는 저항에 의해, 상기 회전축부와 상기 베이스부와의 상대 동작에 대한 감쇠력을 발생시키는 감쇠 기구
    를 구비하는, 기판 위치 결정 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 축받이부는 에어 베어링이며, 상기 회전축부의 축받이면에 대하여 압축 공기를 분출하여 상기 회전축부를 부상시킴으로써 상기 회전축부를 비접촉 상태로 지지하는, 기판 위치 결정 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 레일은 직선 형상인, 기판 위치 결정 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 감쇠 기구는,
    상기 회전축부에 고정된 제 1 회전 부재와,
    상기 슬라이더에 고정된 제 2 회전 부재와,
    상기 제 1 회전 부재와 상기 제 2 회전 부재에 서로 접촉하는 방향으로 힘을 가하는 부세 부재를 구비하는, 기판 위치 결정 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 1 회전 부재는 연직축 둘레로 회전 가능하며,
    상기 제 2 회전 부재는 수평축 둘레로 회전 가능하며,
    상기 회전축부에 상기 구동부에 의한 구동력이 작용하고 있지 않은 초기 상태에 있어서 상기 회전 기구를 연직 방향에서 봤을 때, 상기 제 2 회전 부재의 상기 수평축은, 상기 회전축부의 회전 중심과 상기 제 1 회전 부재의 상기 연직축을 연결하는 직선에 대하여 기울어 있는, 기판 위치 결정 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 부세 부재는 스프링이며,
    상기 회전축부에 상기 구동부에 의한 구동력이 작용하고 있지 않은 초기 상태에 있어서 상기 회전 기구를 연직 방향에서 봤을 때, 상기 제 1 회전 부재의 상기 연직축은, 상기 부세 부재의 가상적인 스프링축보다 상기 회전축부의 외방에 배치되는, 기판 위치 결정 장치.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 감쇠 기구는, 상기 회전축부의 중심을 사이에 두고 상기 구동부와 반대측에 배치되는, 기판 위치 결정 장치.
  8. 기판을 유지하는 유지부를 이용하여 상기 기판을 유지하는 공정과,
    상기 유지부를 회전시키는 회전 기구로서, 상기 유지부에 고정되는 회전축부와, 상기 회전축부를 비접촉 상태로 지지하는 축받이부와, 상기 축받이부를 고정하는 베이스부와, 상기 회전축부를 회전시키는 구동부와, 상기 베이스부에 접속되는 레일과, 상기 회전축부에 접속되는 슬라이더를 포함하고, 상기 레일과 상기 슬라이더 사이에 발생하는 저항에 의해, 상기 회전축부와 상기 베이스부와의 상대 동작에 대한 감쇠력을 발생시키는 감쇠 기구를 구비하는 상기 회전 기구를 이용하여 상기 기판의 회전 방향에 있어서의 위치 결정을 행하는 공정
    을 포함하는 기판 위치 결정 방법.
  9. 제 1 기판을 상방으로부터 흡착 유지하는 제 1 유지부와,
    상기 제 1 유지부보다 하방에 배치되고, 제 2 기판을 하방으로부터 흡착 유지하는 제 2 유지부와,
    상기 제 1 유지부 및 상기 제 2 유지부 중 일방을 타방에 대하여 접근시키는 이동 기구와,
    상기 제 1 유지부를 회전시키는 회전 기구
    를 구비하고,
    상기 회전 기구는,
    상기 제 1 유지부에 고정되는 회전축부와,
    상기 회전축부를 비접촉 상태로 지지하는 축받이부와,
    상기 축받이부를 고정하는 베이스부와,
    상기 회전축부를 회전시키는 구동부와,
    상기 베이스부에 접속되는 레일과, 상기 회전축부에 접속되는 슬라이더를 포함하고, 상기 레일과 상기 슬라이더 사이에 발생하는 저항에 의해, 상기 회전축부와 상기 베이스부와의 상대 동작에 대한 감쇠력을 발생시키는 감쇠 기구
    를 구비하는, 접합 장치.
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