KR20210055862A - Reservoir and substrate processing apparatus having the same - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a reservoir or the like for minimizing the fluctuation of a treatment liquid. The reservoir includes: a reservoir body having a liquid storage space therein for storing a treatment liquid supplied to a liquid discharge head and having a circular cross section of the liquid storage space; and at least one flow limiting member erected in the liquid storage space to reduce the fluctuation of the treatment liquid stored in the liquid storage space.

Description

리저버 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 {RESERVOIR AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME}Reservoir and substrate processing apparatus including the same {RESERVOIR AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME}

본 발명의 실시예는, 처리액을 저장하는 리저버, 그리고 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.An embodiment of the present invention relates to a reservoir for storing a processing liquid, and a substrate processing apparatus including the same.

일반적으로, 반도체, 평판 디스플레이(flat panel display, FPD) 등을 제조하는 데에는 기판에 대하여 처리액을 이용하여 소정의 처리 공정을 수행하는 기판 처리 장치가 사용되고, 기판 처리 장치는 기판으로 처리액을 토출하는 헤드(head) 및 헤드에 공급되는 처리액을 저장하는 리저버를 포함한다.In general, to manufacture semiconductors and flat panel displays (FPD), a substrate processing device that performs a predetermined processing process using a processing liquid on a substrate is used, and the substrate processing device discharges the processing liquid to the substrate. It includes a head (head) and a reservoir for storing the processing liquid supplied to the head.

여기에서, 기판 처리 장치는, 헤드가 수평 방향으로 이동하면서 기판으로 처리액을 토출할 수 있게 구성되고, 리저버가 헤드와 함께 동일 방향으로 이동하도록 구성된다.Here, the substrate processing apparatus is configured to be capable of discharging the processing liquid to the substrate while the head moves in the horizontal direction, and the reservoir is configured to move in the same direction together with the head.

리저버가 헤드와 함께 이동되는 타입은, 처리액을 리저버로부터 헤드로 공급하는 액 공급 라인의 길이를 단축함으로써, 액 공급 라인의 관로가 처리액 내 입자들의 응집 또는 침전 현상 등으로 인하여 전체 또는 부분적으로 막히는 문제 및 이로 인한 공정 불량을 최소화할 수 있다.In the type in which the reservoir is moved together with the head, the length of the liquid supply line that supplies the treatment liquid from the reservoir to the head is shortened, so that the conduit of the liquid supply line is entirely or partially due to aggregation or precipitation of particles in the treatment liquid. It is possible to minimize the clogging problem and the resulting process defects.

그러나, 리저버가 이동됨에 따라 리저버의 내부에 저장된 처리액이 크게 출렁일 수밖에 없고, 처리액의 출렁임으로 인하여 처리액 공급 압력이 변동될 수 있는바, 이에 대한 개선책 마련이 시급히 요구되고 있다.However, as the reservoir is moved, the treatment liquid stored in the reservoir is inevitably fluctuated, and the supply pressure of the treatment liquid may fluctuate due to the fluctuation of the treatment liquid.

대한민국 공개특허공보 제10-2011-0058566호(2011.06.01.)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2011-0058566 (2011.06.01.) 대한민국 등록특허공보 제10-1170778호(2012.08.10.)Republic of Korea Patent Publication No. 10-1170778 (2012.08.10.)

본 발명의 실시예는, 내부에 저장된 처리액의 출렁임을 최소화할 수 있는 리저버, 그리고 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 데 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a reservoir capable of minimizing the fluctuation of a processing liquid stored therein, and a substrate processing apparatus including the same.

해결하고자 하는 과제는 이에 제한되지 않고, 언급되지 않은 기타 과제는 통상의 기술자라면 이하의 기재로부터 명확히 이해할 수 있을 것이다.The problem to be solved is not limited thereto, and other problems that are not mentioned will be clearly understood by those of ordinary skill in the art from the following description.

본 발명의 실시예에 따르면, 본 발명의 실시예에 따르면, 내부에 액 토출 헤드에 공급되는 처리액을 저장하는 액 저장 공간이 마련된 리저버 본체와; 상기 액 저장 공간에 세워져 상기 액 저장 공간에 저장된 상기 처리액의 출렁임을 감소시키는 적어도 하나 이상의 유동 제한 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는, 리저버가 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, according to an embodiment of the present invention, a reservoir body having a liquid storage space for storing the processing liquid supplied to the liquid discharge head therein is provided; A reservoir may be provided, characterized in that it includes at least one flow limiting member that is erected in the liquid storage space and reduces the fluctuation of the processing liquid stored in the liquid storage space.

상기 유동 제한 부재에 의하면, 상기 액 저장 공간을 구성하는 벽(도면 부호 111W 참조)과 상기 액 저장 공간에 침지된 상기 유동 제한 부재 사이의 처리액은 상기 액 저장 공간의 전체 폭에 비하여 작은 폭(상기 벽과 상기 유동 제한 부재 사이의 폭)으로 이동되기 때문에, 상기 액 저장 공간에서의 상기 처리액의 출렁임이 크게 감소된다. 상기 유동 제한 부재가 복수로 구비된 경우, 상기 유동 제한 부재들 사이의 처리액도 출렁임이 크게 감소되도록 상대적으로 작은 폭으로 이동될 수 있다.According to the flow limiting member, the processing liquid between the wall constituting the liquid storage space (refer to 111W) and the flow limiting member immersed in the liquid storage space is smaller than the total width of the liquid storage space ( Since it is moved to the width between the wall and the flow limiting member), the sloshing of the treatment liquid in the liquid storage space is greatly reduced. When a plurality of the flow restricting members are provided, the treatment liquid between the flow restricting members may also be moved to a relatively small width so that the fluctuation is greatly reduced.

상기 유동 제한 부재는 기포 제거 구멍들이 관통된 타공판일 수 있다.The flow limiting member may be a perforated plate through which bubbles removing holes are passed.

상기 유동 제한 부재는 복수로 구비되고 상기 액 저장 공간의 중앙 쪽을 중심으로 균등하게 배열될 수 있다.The flow limiting member may be provided in plural, and may be evenly arranged around the center of the liquid storage space.

상기 리저버 본체는 상부가 개방된 용기 및 상기 용기의 개방된 상부를 개폐하는 용기 커버를 포함하고, 상기 액 저장 공간은 상기 용기 및 상기 용기 커버에 의하여 한정된 내부 공간이며, 상기 유동 제한 부재는 상기 용기 커버에 장착될 수 있다.The reservoir body includes a container with an open top and a container cover for opening and closing the open top of the container, the liquid storage space is an inner space defined by the container and the container cover, and the flow limiting member is the container Can be mounted on the cover.

상기 액 저장 공간은 횡단면이 정원 형상일 수 있다. 상기 리저버 본체의 하부에는 상기 처리액을 상기 액 저장 공간의 외부로 배출하는 액 배출구들이 형성되고, 상기 액 배출구들은 상기 액 저장 공간과 연통하는 입구가 서로 동일 높이에 위치하도록 마련되며, 상기 액 배출구들의 출구에는 각각 액 공급 포트가 연결될 수 있다.The liquid storage space may have a circular cross section. Liquid discharge ports for discharging the treatment liquid to the outside of the liquid storage space are formed at a lower portion of the reservoir body, and the liquid discharge ports are provided such that inlets communicating with the liquid storage space are positioned at the same height, and the liquid discharge ports Each liquid supply port may be connected to the outlet.

여기에서, 상기 액 저장 공간은 바닥과 벽 사이의 연결부가 상기 처리액을 중앙 쪽으로 유도하는 경사면 또는 곡면으로 형성되고, 상기 액 배출구들은 상기 입구가 상기 연결부에 배치될 수 있다.Here, the liquid storage space may have an inclined or curved surface in which a connection part between a floor and a wall guides the treatment liquid toward the center, and the liquid discharge ports may have the inlet disposed at the connection part.

본 발명의 실시예에 따르면, 내부에 액 토출 헤드에 공급되는 처리액을 저장하는 액 저장 공간이 마련되고 상기 액 저장 공간의 횡단면이 정원 형상인 것을 특징으로 하는, 리저버가 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a liquid storage space for storing the processing liquid supplied to the liquid discharge head is provided therein, and a reservoir may be provided, wherein a cross section of the liquid storage space has a circular shape.

본 발명의 실시예에 따르면, 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과; 상기 기판 지지 유닛에 의하여 지지된 상기 기판으로 처리액을 토출하는 적어도 하나 이상의 헤드 및 상기 헤드에 공급되는 상기 처리액을 저장하는 리저버를 가진 헤드 유닛과; 상기 헤드 유닛을 수평 방향으로 이동시키는 헤드 이동 유닛을 포함하고, 상기 리저버는, 내부에 상기 처리액을 저장하는 액 저장 공간이 마련된 리저버 본체와; 상기 액 저장 공간에 세워져 상기 액 저장 공간에 저장된 상기 처리액의 출렁임을 감소시키는 적어도 하나 이상의 유동 제한 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a substrate support unit for supporting a substrate; A head unit having at least one head for discharging a processing liquid to the substrate supported by the substrate support unit and a reservoir for storing the processing liquid supplied to the head; And a head moving unit for moving the head unit in a horizontal direction, wherein the reservoir includes: a reservoir body having a liquid storage space for storing the processing liquid therein; A substrate processing apparatus may be provided, characterized in that it includes at least one flow limiting member that is erected in the liquid storage space and reduces the fluctuation of the processing liquid stored in the liquid storage space.

본 발명의 실시예에 따르면, 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과; 상기 기판 지지 유닛에 의하여 지지된 상기 기판으로 처리액을 토출하는 적어도 하나 이상의 헤드 및 상기 헤드에 공급되는 상기 처리액을 저장하는 리저버를 가진 헤드 유닛과; 상기 헤드 유닛을 수평 방향으로 이동시키는 헤드 이동 유닛을 포함하고, 상기 리저버는 내부에 상기 처리액을 저장하는 액 저장 공간이 마련되고 상기 액 저장 공간의 횡단면이 정원 형상인 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a substrate support unit for supporting a substrate; A head unit having at least one head for discharging a processing liquid to the substrate supported by the substrate support unit and a reservoir for storing the processing liquid supplied to the head; And a head moving unit that moves the head unit in a horizontal direction, wherein the reservoir has a liquid storage space for storing the treatment liquid therein, and a cross section of the liquid storage space has a circular shape. An apparatus may be provided.

본 발명의 실시예에 따르면, 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과; 상기 기판 지지 유닛에 의하여 지지된 상기 기판으로 처리액을 토출하는 적어도 하나 이상의 헤드 및 상기 헤드에 공급되는 상기 처리액을 저장하는 리저버를 가진 헤드 유닛과; 상기 헤드 유닛을 수평 방향으로 이동시키는 헤드 이동 유닛과; 상기 리저버에 저장된 상기 처리액을 교반하는 교반 유닛을 포함하고, 상기 리저버는, 내부에 상기 처리액을 저장하는 액 저장 공간이 마련된 리저버 본체와; 상기 액 저장 공간에 세워져 상기 액 저장 공간에 저장된 상기 처리액의 출렁임을 감소시키는 적어도 하나 이상의 유동 제한 부재를 포함하며, 상기 유동 제한 부재는 기포 제거 구멍들이 관통된 타공판인 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a substrate support unit for supporting a substrate; A head unit having at least one head for discharging a processing liquid to the substrate supported by the substrate support unit and a reservoir for storing the processing liquid supplied to the head; A head moving unit for moving the head unit in a horizontal direction; And a stirring unit for stirring the treatment liquid stored in the reservoir, wherein the reservoir includes: a reservoir body having a liquid storage space for storing the treatment liquid therein; And at least one flow limiting member that is erected in the liquid storage space and reduces a fluctuation of the processing liquid stored in the liquid storage space, wherein the flow limiting member is a perforated plate through which bubbles removing holes are passed. An apparatus may be provided.

과제의 해결 수단은 이하에서 설명하는 실시예, 도면 등을 통하여 보다 구체적이고 명확하게 될 것이다. 또한, 이하에서는 언급한 해결 수단 이외의 다양한 해결 수단이 추가로 제시될 수 있다.The means for solving the problem will be more specific and clear through examples, drawings, and the like described below. In addition, in the following, various solutions other than the aforementioned solutions may be additionally presented.

본 발명의 실시예에 의하면, 리저버 본체의 액 저장 공간에 처리액의 유동을 제한하기 위한 유동 제한 부재가 배치되기 때문에, 기판을 처리하는 과정에서 발생될 수 있는 처리액의 출렁임을 큰 폭으로 감소시킬 수 있고, 나아가 출렁인 처리액을 보다 단시간에 안정화시켜 액 토출 헤드에 균일한 압력으로 공급할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, since the flow limiting member for restricting the flow of the processing liquid is disposed in the liquid storage space of the reservoir body, the fluctuation of the processing liquid that may occur during the processing of the substrate is greatly reduced. In addition, it is possible to stabilize the fluctuating treatment liquid in a shorter time and supply it to the liquid discharge head at a uniform pressure.

또, 본 발명의 실시예에 의하면, 액 저장 공간의 횡단면이 정원 형상으로 형성되기 때문에, 리저버가 어느 수평 방향으로 이동되더라도 처리액의 출렁임이 균일하게 발생되도록 유도할 수 있고, 이로써 출렁인 처리액을 안정화시키는 데 소요되는 시간을 더욱 단축할 수 있다.In addition, according to the embodiment of the present invention, since the cross section of the liquid storage space is formed in a circular shape, it is possible to induce a fluctuation of the treatment liquid to be uniformly generated even if the reservoir is moved in any horizontal direction. It is possible to further shorten the time required to stabilize the.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 헤드 유닛의 일부분을 나타내는 확대도이다.
도 3은 도 2에 도시된 리저버를 나타내는 사시도이다.
도 4는 도 2에 도시된 리저버를 나타내는 분해사시도이다.
도 5는 도 3 및 도 4에 도시된 리저버를 나타내는 정면도이다.
도 6은 도 3 및 도 4에 도시된 리저버의 용기를 나타내는 평면도이다.
도 7은 도 3 및 도 4에 도시된 리저버를 나타내는 횡단면도이다.1 is a perspective view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged view showing a part of the head unit shown in FIG. 1.
3 is a perspective view showing the reservoir shown in FIG. 2.
4 is an exploded perspective view showing the reservoir shown in FIG. 2.
5 is a front view showing the reservoir shown in FIGS. 3 and 4.
6 is a plan view showing the container of the reservoir shown in FIGS. 3 and 4.
7 is a cross-sectional view showing the reservoir shown in FIGS. 3 and 4.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다. 참고로, 본 발명의 실시예를 설명하기 위하여 참조하는 도면에서 구성 요소의 크기, 선의 두께 등은 이해의 편의상 다소 과장되게 표현되어 있을 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예를 설명하는 데 사용되는 용어는 주로 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의한 것이므로 사용자, 운용자의 의도, 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로, 용어에 대해서는 본 명세서의 전반에 걸친 내용을 토대로 하여 해석하는 것이 마땅하겠다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. For reference, in the drawings referenced to describe the embodiments of the present invention, the size of the component, the thickness of the line, etc. may be somewhat exaggerated for convenience of understanding. In addition, terms used to describe the embodiments of the present invention are mainly defined in consideration of functions in the present invention, and thus may vary according to the intentions and customs of users and operators. Therefore, the term should be interpreted based on the contents of the entire specification.

본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 처리하기 위하여 처리액으로서 액정(liquid crystal), PI(polyimide), CF(color filter) 등의 액적(liquid drop)을 기판에 잉크젯(inkjet) 방식으로 토출하는 공정을 수행하는 데 사용될 수 있다.In the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, liquid drops such as liquid crystal, PI (polyimide), and CF (color filter) are applied to the substrate as a processing liquid in an inkjet method to process a substrate. It can be used to perform the process of discharging.

도 1에는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 구성이 도시되어 있다.1 shows a configuration of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 베이스(base, 10), 기판 지지 유닛(20), 헤드 유닛(30) 및 헤드 이동 유닛(40)을 포함한다.Referring to FIG. 1, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a base 10, a substrate support unit 20, a head unit 30, and a head moving unit 40.

도 1에 도시된 바와 같이, 기판 지지 유닛(20), 헤드 유닛(30) 및 헤드 이동 유닛(40)은 베이스(10) 상에 설치된다.As shown in FIG. 1, the substrate support unit 20, the head unit 30, and the head moving unit 40 are installed on the base 10.

기판 지지 유닛(20)은 기판(S)을 하측에서 지지하여 상면에 기판(S)이 놓이는 스테이지(stage, 21)를 포함한다. 스테이지(21)의 하측에는 스테이지(21)를 Z축 방향(수직 방향)의 축을 중심으로 회전시키는 스테이지 회전 모듈(22)이 연결되고, 스테이지 회전 모듈(22)의 하측에는 스테이지 회전 모듈(22)을 X축 방향을 따라 수평으로 이동시키는 스테이지 이동 모듈(23)이 연결된다.The substrate support unit 20 includes a stage 21 on which the substrate S is placed on the upper surface by supporting the substrate S from the lower side. A stage rotation module 22 that rotates the stage 21 around an axis in the Z-axis direction (vertical direction) is connected to the lower side of the stage 21, and a stage rotation module 22 is connected to the lower side of the stage rotation module 22. The stage moving module 23 is connected to move the horizontally along the X-axis direction.

스테이지 회전 모듈(22)은 구동원으로서 회전 모터를 포함할 수 있다. 스테이지 이동 모듈(23)은, 스테이지 회전 모듈(22)이 장착된 슬라이더(slider, 231), 그리고 슬라이더(231)의 X축 방향 이동을 안내하는 가이드(guide, 233)를 포함할 수 있다. 스테이지 이동 모듈(23)은 슬라이더(231)가 구동원인 리니어 모터에 의하여 이동될 수 있다. 가이드(233)는 베이스(10)의 상면에 배치되고 X축 방향으로 연장될 수 있다.The stage rotation module 22 may include a rotation motor as a driving source. The stage movement module 23 may include a slider 231 on which the stage rotation module 22 is mounted, and a guide 233 for guiding movement of the slider 231 in the X-axis direction. The stage moving module 23 may be moved by a linear motor in which the slider 231 is a driving source. The guide 233 may be disposed on the upper surface of the base 10 and may extend in the X-axis direction.

스테이지(21)에 의하여 지지된 기판(S)은, 스테이지 회전 모듈(22)에 의하여 Z축 방향의 축을 중심으로 회전되어 배치 방향(자세)이 변경될 수 있고, 스테이지 이동 모듈(23)에 의하여 X축 방향으로 이동되어 X축 방향 위치가 변경될 수 있다.The substrate S supported by the stage 21 may be rotated about an axis in the Z-axis direction by the stage rotation module 22 to change the arrangement direction (posture), and the stage moving module 23 It is moved in the X-axis direction and the position in the X-axis direction can be changed.

헤드 유닛(30)은 스테이지(21)에 의하여 지지된 기판(S)으로 처리액을 토출하는 잉크젯 헤드(액 토출 헤드, 31)를 포함한다. 헤드 이동 유닛(40)은 헤드 유닛(30)을 X축 방향 및 Y축 방향을 따라 수평으로 이동시키는 역할을 수행한다.The head unit 30 includes an ink jet head (liquid discharge head) 31 for discharging a processing liquid to the substrate S supported by the stage 21. The head moving unit 40 serves to horizontally move the head unit 30 along the X-axis and Y-axis directions.

헤드 이동 유닛(40)은 X축 이동 부재(41), X축 구동 모듈(42), Y축 이동 부재(43) 및 Y축 구동 모듈(44)을 포함한다.The head moving unit 40 includes an X-axis moving member 41, an X-axis driving module 42, a Y-axis moving member 43, and a Y-axis driving module 44.

X축 이동 부재(41)는 갠트리(gantry)일 수 있다. X축 이동 부재(41)는 스테이지 이동 모듈(23)에 의한 스테이지(21)의 이동 경로의 상측에 제공되어 베이스(10)의 상면으로부터 상측으로 이격된다. X축 이동 부재(41)는, X축 방향으로 연장되고, X축 구동 모듈(42)에 의하여 X축 방향을 따라 수평으로 이동된다. X축 구동 모듈(42)은 베이스(10)와 X축 이동 부재(41) 사이에 제공되는 복수의 리니어 모터를 포함할 수 있다.The X-axis moving member 41 may be a gantry. The X-axis moving member 41 is provided above the moving path of the stage 21 by the stage moving module 23 and is spaced upward from the upper surface of the base 10. The X-axis moving member 41 extends in the X-axis direction and is horizontally moved along the X-axis direction by the X-axis drive module 42. The X-axis driving module 42 may include a plurality of linear motors provided between the base 10 and the X-axis moving member 41.

Y축 이동 부재(44)는 X축 이동 부재(41)에 Y축 방향을 따라 수평으로 이동 가능하게 장착되고, Y축 구동 모듈(44)은 Y축 이동 부재(43)를 Y축 방향으로 이동시킨다. Y축 구동 모듈(44)은 리니어 모터를 포함할 수 있다.The Y-axis moving member 44 is mounted to the X-axis moving member 41 so as to be movable horizontally along the Y-axis direction, and the Y-axis driving module 44 moves the Y-axis moving member 43 in the Y-axis direction. Let it. The Y-axis driving module 44 may include a linear motor.

도 2에는 헤드 유닛(30)의 일부분이 확대되어 도시되어 있다.In FIG. 2, a part of the head unit 30 is shown enlarged.

도 1 및 도 2를 참조하면, 헤드 유닛(30)은, 잉크젯 헤드(31)에 공급되는 처리액을 저장하는 액 저장 공간(도 4, 도 6 및 도 7의 도면 부호 111 참조)이 내부에 형성된 리저버(100), 그리고 헤드 이동 유닛(40)에 의하여 이동되는 마운팅 프레임(mounting frame, 33)을 더 포함한다.1 and 2, the head unit 30 has a liquid storage space (refer to 111 in FIGS. 4, 6 and 7) for storing the processing liquid supplied to the inkjet head 31. It further includes a formed reservoir 100 and a mounting frame 33 that is moved by the head moving unit 40.

마운팅 프레임(33)은 Y축 이동 부재(43)에 장착되어 Y축 이동 부재(43)와 함께 Y축 방향으로 이동된다. 마운팅 프레임(33)은 메인 프레임(331)이 Y축 이동 부재(43)에 장착된다.The mounting frame 33 is mounted on the Y-axis moving member 43 and moves in the Y-axis direction together with the Y-axis moving member 43. In the mounting frame 33, the main frame 331 is mounted on the Y-axis moving member 43.

잉크젯 헤드(31)와 리저버(100)는 마운팅 프레임(33)에 장착되어 Y축 이동 부재(43)가 Y축 구동 모듈(44)에 의하여 이동되면 마운팅 프레임(33)과 함께 Y축 방향으로 이동된다. 물론, 잉크젯 헤드(31)와 리저버(100)는, X축 이동 부재(41)가 X축 구동 모듈(42)에 의하여 이동되면 Y축 이동 부재(43)와 함께 X축 방향으로 이동된다.The inkjet head 31 and the reservoir 100 are mounted on the mounting frame 33 and move in the Y-axis direction together with the mounting frame 33 when the Y-axis moving member 43 is moved by the Y-axis drive module 44. do. Of course, when the X-axis moving member 41 is moved by the X-axis driving module 42, the inkjet head 31 and the reservoir 100 are moved together with the Y-axis moving member 43 in the X-axis direction.

잉크젯 헤드(31)는 마운팅 프레임(33)의 메인 프레임(331)에 Z축 구동 모듈에 의하여 Z축 방향을 따라 수직으로 이동 가능하게 장착될 수 있다. Z축 구동 모듈은 구동원인 리니어 모터를 포함할 수 있다. 잉크젯 헤드(31)는 Z축 구동 모듈에 의하여 Z축 방향으로 이동되어 높이가 변경될 수 있다. 리저버(100)는 마운팅 프레임(33)의 서브 프레임(332)에 장착될 수 있다. 서브 프레임(332)은 메인 프레임(331)에 연결된다.The inkjet head 31 may be mounted to the main frame 331 of the mounting frame 33 so as to be movable vertically along the Z-axis direction by a Z-axis driving module. The Z-axis driving module may include a linear motor as a driving source. The inkjet head 31 may be moved in the Z-axis direction by the Z-axis driving module to change its height. The reservoir 100 may be mounted on the sub-frame 332 of the mounting frame 33. The sub frame 332 is connected to the main frame 331.

잉크젯 헤드(31)는 복수로 구비된다. 예를 들어, 도 2에서와 같이, 3개의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)가 제공될 수 있다. 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)는 X축 방향 또는 Y축 방향을 따라 일렬로 배치될 수 있다. 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)는 각각 Z축 구동 모듈에 의하여 Z축 방향으로 이동될 수 있다.The inkjet head 31 is provided in plural. For example, as shown in FIG. 2, three inkjet heads 311, 312, and 313 may be provided. The plurality of inkjet heads 311, 312, and 313 may be arranged in a line along the X-axis direction or the Y-axis direction. Each of the plurality of inkjet heads 311, 312, and 313 may be moved in the Z-axis direction by the Z-axis driving module.

도 3 내지 도 7에는 리저버(100)가 도시되어 있다. 이들 도면을 참조하면, 리저버(100)는, 내부에 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)에 공급되는 처리액을 저장하는 액 저장 공간(111)이 마련된 리저버 본체(110, 120), 그리고 리저버 본체(110, 120) 내의 액 저장 공간(111)에 세워진 상태로 배치되어 적어도 일부분이 액 저장 공간(111)에 저장된 처리액에 침지되는 적어도 하나 이상의 유동 제한 부재(130)를 포함한다.The reservoir 100 is shown in FIGS. 3 to 7. Referring to these drawings, the reservoir 100, a reservoir body (110, 120) provided with a liquid storage space 111 for storing the processing liquid supplied to the plurality of inkjet heads (311, 312, 313) therein, and It includes at least one or more flow limiting members 130 disposed in the liquid storage space 111 in the reservoir body 110 and 120 to be erected and at least partially immersed in the treatment liquid stored in the liquid storage space 111.

유동 제한 부재(130)는 일정한 면적을 가진 판 형상으로 형성된다. 유동 제한 부재(130)는 리저버(100)가 헤드 이동 유닛(40)에 의하여 수평 방향으로 이동되는 때 발생되는 액 저장 공간(111)에서의 처리액의 유동을 제한하여 처리액의 출렁임을 감소시킨다.The flow limiting member 130 is formed in a plate shape having a certain area. The flow limiting member 130 restricts the flow of the treatment liquid in the liquid storage space 111 generated when the reservoir 100 is moved in the horizontal direction by the head moving unit 40 to reduce the fluctuation of the treatment liquid. .

즉, 액 저장 공간(111)에서 유동 제한 부재(130)와 벽(111W) 사이에서는 처리액이 상대적으로 작은 폭으로 이동되므로 처리액의 출렁임을 감소시킬 수 있는 것이다. 물론, 처리액의 출렁임이 적으므로 출렁인 처리액이 안정화되는 데까지 소요되는 시간을 크게 단축할 수 있다.That is, since the treatment liquid moves in a relatively small width between the flow limiting member 130 and the wall 111W in the liquid storage space 111, it is possible to reduce the fluctuation of the treatment liquid. Of course, since there is little fluctuation of the treatment liquid, it is possible to greatly shorten the time required for the fluctuation of the treatment liquid to be stabilized.

유동 제한 부재(130)로는 미세한 기포 제거 구멍(131)들이 관통된 타공판이 적용될 수 있다. 유동 제한 부재(130)로서 타공판을 적용하면, 처리액이 기포 제거 구멍(131)들을 통과하는 때 처리액 내의 기포가 제거되어 기포가 처리액과 함께 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)로 공급되는 것을 방지할 수 있다.As the flow limiting member 130, a perforated plate through which the fine bubble removing holes 131 are passed may be applied. When a perforated plate is applied as the flow limiting member 130, bubbles in the treatment liquid are removed when the treatment liquid passes through the bubble removal holes 131, so that the air bubbles are transferred to the plurality of inkjet heads 311, 312, 313 together with the treatment liquid. It can be prevented from being supplied.

유동 제한 부재(130)는 복수로 구비되고 액 저장 공간(111)의 중앙 쪽을 중심으로 균등하게 배열된 것이 바람직하다. 이렇게 배열하면, 리저버(100)가 X축 방향으로 이동되거나 Y축 방향으로 이동되거나 X축 방향과 Y축 방향으로 동시에 이동(즉, X축 방향과 Y축 방향에 대하여 경사진 수평의 사선 방향)되는 등 어느 수평 방향으로 이동되더라도 액 저장 공간(111)에서 발생되는 처리액의 출렁임을 적절히 효과적으로 감소시킬 수 있다.It is preferable that the flow limiting member 130 is provided in plural and evenly arranged around the center of the liquid storage space 111. When arranged in this way, the reservoir 100 is moved in the X-axis direction, the Y-axis direction, or simultaneously moves in the X-axis and Y-axis directions (that is, the horizontal oblique direction inclined with respect to the X-axis and Y-axis directions). Even if it is moved in any horizontal direction, such as, it is possible to appropriately and effectively reduce the fluctuation of the treatment liquid generated in the liquid storage space 111.

리저버 본체(110, 120)는, 상부가 개방된 용기(110), 그리고 용기(110)의 개방된 상부를 개폐하는 용기 커버(120)를 포함한다. 액 저장 공간(111)은 용기(110)와 용기 커버(120)에 의하여 한정된 내부 공간으로 구성된다.The reservoir bodies 110 and 120 include a container 110 with an open top, and a container cover 120 for opening and closing the open top of the container 110. The liquid storage space 111 is composed of an inner space defined by the container 110 and the container cover 120.

용기 커버(120)에는 유동 제한 부재(130)들의 상부가 각각 장착된다. 이렇게 구성하면, 용기 커버(120)가 용기(110)로부터 분리된 때, 유동 제한 부재(130)들이 액 저장 공간(111)으로부터 인출되므로, 작업자가 유동 제한 부재(130)들을 편리하게 유지하고 보수할 수 있다.The upper portions of the flow limiting members 130 are mounted on the container cover 120, respectively. In this configuration, when the container cover 120 is separated from the container 110, the flow limiting members 130 are withdrawn from the liquid storage space 111, so that the operator conveniently maintains and repairs the flow limiting members 130. can do.

액 저장 공간(111)은 횡단면이 정원 형상으로 형성된다. 정원 형상의 횡단면을 가진 액 저장 공간(111)에 의하면, 리저버(100)가 X축 방향으로 이동되거나 Y축 방향으로 이동되거나 X축 방향과 Y축 방향으로 동시에 이동되는 등 어느 수평 방향으로 이동되더라도 처리액의 출렁임이 균일하게 발생되도록 유도함으로써, 출렁인 처리액을 신속하게 안정화시켜 처리액을 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)로 보다 일정한 압력으로 공급할 수 있다.The liquid storage space 111 is formed in a circular cross section. According to the liquid storage space 111 having a circular cross section, the reservoir 100 is moved in any horizontal direction, such as moving in the X-axis direction, the Y-axis direction, or simultaneously moving in the X-axis and Y-axis directions. By inducing the fluctuation of the treatment liquid to occur uniformly, the treatment liquid that is fluctuated can be quickly stabilized and the treatment liquid can be supplied to the plurality of inkjet heads 311, 312, and 313 at a more constant pressure.

리저버 본체(110)의 하부에는 처리액을 액 저장 공간(111)의 외부로 배출하는 액 배출구(112)들이 형성되고, 액 배출구(112)들은 액 저장 공간(111)과 연통하는 입구가 서로 동일 높이에 위치하도록 마련되며, 액 배출구(112)들의 출구에는 각각 액 공급 포트(140)가 연결된다. 액 배출구(112)들은 액 저장 공간(111)의 원주 방향을 따라 서로 이격되도록 일정한 간격을 두고 마련될 수 있다.Liquid discharge ports 112 for discharging the treatment liquid to the outside of the liquid storage space 111 are formed under the reservoir body 110, and the liquid discharge ports 112 have the same inlet communicating with the liquid storage space 111 It is provided to be located at a height, and the liquid supply ports 140 are connected to the outlets of the liquid discharge ports 112, respectively. The liquid discharge ports 112 may be provided at regular intervals to be spaced apart from each other along the circumferential direction of the liquid storage space 111.

여기에서, 액 배출구(112)들의 입구가 서로 동일한 높이에 위치된 구조에 의하면, 액 배출구(112)들을 통한 처리액의 농도 및 배출 압력을 보다 균일하게 유지하여 일정한 농도의 처리액을 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)로 보다 균일하게 공급할 수 있다.Here, according to the structure in which the inlets of the liquid discharge ports 112 are located at the same height, the concentration of the treatment liquid through the liquid discharge ports 112 and the discharge pressure are more uniformly maintained, so that a plurality of inkjet treatment liquids of a certain concentration are maintained. It can be supplied more uniformly to the heads 311, 312, 313.

액 저장 공간(111)은 바닥(111B)과 벽(111W) 사이의 연결부(111C)가 처리액을 중앙 쪽으로 유도하는 경사면 또는 곡면으로 형성되고, 액 배출구(112)들은 입구가 연결부(111C)에 배치된다.The liquid storage space 111 is formed as an inclined or curved surface in which the connection part 111C between the floor 111B and the wall 111W guides the treatment liquid toward the center, and the liquid discharge ports 112 have an inlet at the connection part 111C. Is placed.

한편, 도 2에서 설명되지 않은 도면 부호 36은 액 공급 라인이다. 액 공급 포트(140)들은 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)와 동일 개수 및 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)에 비하여 많은 개수로 구비된다. 액 공급 라인(36)은 복수로 구비되고 각각의 양쪽 단부가 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)와 복수의 액 공급 포트(140)에 각각 연결되어 처리액을 리저버(32)로부터 복수의 잉크젯 헤드(311, 312, 313)로 공급한다.Meanwhile, reference numeral 36, which is not described in FIG. 2, is a liquid supply line. The liquid supply ports 140 are provided in the same number as the plurality of inkjet heads 311, 312, and 313 and a larger number than the plurality of inkjet heads 311, 312, and 313. A plurality of liquid supply lines 36 are provided, and both ends of each are connected to a plurality of inkjet heads 311, 312, 313 and a plurality of liquid supply ports 140, respectively, so that the treatment liquid is transferred from the reservoir 32 to the plurality of liquid supply lines. It is supplied to the inkjet heads 311, 312, 313.

또한, 도면부호 113은 투명창으로, 투명창(113)은 용기(110)에 액 저장 공간(111)의 처리액 잔량을 확인할 수 있게 마련된다.Further, reference numeral 113 denotes a transparent window, and the transparent window 113 is provided in the container 110 to check the remaining amount of the processing liquid in the liquid storage space 111.

도면에 도시된 바는 없으나, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 리저버(100) 내의 액 저장 공간(111)에 저장된 처리액을 교반하여 처리액 내 입자들의 응집, 침전 현상 등을 방지하는 교반 유닛을 더 포함한다.Although not shown in the drawings, the substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention stirs the processing liquid stored in the liquid storage space 111 in the reservoir 100 to prevent aggregation and precipitation of particles in the processing liquid. It further includes a stirring unit.

교반 유닛으로는 마그네틱 교반기가 적용될 수 있다. 마그네틱 교반기는, 자력을 발생시키는 마그네틱 부재 및 마그네틱 부재에 의하여 발생된 자력으로 회전되는 교반 부재를 포함할 수 있다. 교반 부재는 액 저장 공간(111)의 바닥(111B) 쪽에 배치된 교반 날개를 포함할 수 있다.A magnetic stirrer may be applied as the stirring unit. The magnetic stirrer may include a magnetic member that generates a magnetic force and a stirring member that is rotated by a magnetic force generated by the magnetic member. The stirring member may include a stirring blade disposed on the bottom 111B side of the liquid storage space 111.

또는, 교반 유닛으로는 액 저장 공간(111)으로 기체를 주입하여 처리액을 교반하는 타입이 적용될 수도 있다.Alternatively, a type of stirring the processing liquid by injecting gas into the liquid storage space 111 may be applied as the stirring unit.

교반 유닛은 공정 중단 시에 작동되어 액 저장 공간(111)에 저장된 처리액을 교반할 수 있다. 이때, 처리액은 액 저장 공간(111)에서 유동 제한 부재(130)에 충돌되고 기포 제거 구멍(131)들을 관통하여 복잡하고 불규칙적인 흐름을 가지도록 유동되므로 보다 효과적으로 교반된다.The stirring unit is operated when the process is stopped to agitate the treatment liquid stored in the liquid storage space 111. At this time, since the treatment liquid collides with the flow limiting member 130 in the liquid storage space 111 and flows through the bubble removing holes 131 to have a complex and irregular flow, it is more effectively agitated.

이상에서는 본 발명을 설명하였으나, 본 발명은 개시된 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 한정되지 않으며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 이내에서 통상의 기술자에 의하여 다양하게 변형될 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예에서 설명한 기술적 사상은, 각각 독립적으로 실시될 수도 있고, 둘 이상이 서로 조합되어 실시될 수도 있다.Although the present invention has been described above, the present invention is not limited by the disclosed embodiments and the accompanying drawings, and may be variously modified by a person skilled in the art within the scope not departing from the technical spirit of the present invention. In addition, the technical idea described in the embodiment of the present invention may be implemented independently, or two or more may be implemented in combination with each other.

10: 베이스
20: 기판 지지 유닛
30: 헤드 유닛
31: 잉크젯 헤드(액 토출 헤드)
40: 헤드 이동 유닛
100: 리저버
110: 용기
111: 액 저장 공간
112: 액 배출구
120: 용기 커버
130: 유동 제한 부재
131: 기포 제거 구멍
140: 액 공급 포트10: base
20: substrate support unit
30: head unit
31: inkjet head (liquid discharge head)
40: head moving unit
100: reservoir
110: Courage
111: liquid storage space
112: liquid outlet
120: container cover
130: flow restriction member
131: bubble removal hole
140: liquid supply port

Claims (10)

내부에 액 토출 헤드에 공급되는 처리액을 저장하는 액 저장 공간이 마련된 리저버 본체와;
상기 액 저장 공간에 세워져 상기 액 저장 공간에 저장된 상기 처리액의 출렁임을 감소시키는 적어도 하나 이상의 유동 제한 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는,
리저버.A reservoir body having a liquid storage space for storing the processing liquid supplied to the liquid discharge head therein;
It characterized in that it comprises at least one or more flow limiting member that is erected in the liquid storage space to reduce the sludge of the treatment liquid stored in the liquid storage space,
Reservoir. 청구항 1에 있어서,
상기 유동 제한 부재는 기포 제거 구멍들이 관통된 타공판인 것을 특징으로 하는,
리저버.The method according to claim 1,
The flow limiting member is characterized in that the perforated plate through which the bubble removing holes are passed,
Reservoir. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 유동 제한 부재는 복수로 구비되고 상기 액 저장 공간의 중앙 쪽을 중심으로 균등하게 배열된 것을 특징으로 하는,
리저버.The method according to claim 1 or 2,
The flow limiting member is provided in plural and is evenly arranged around the center of the liquid storage space,
Reservoir. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 리저버 본체는 상부가 개방된 용기 및 상기 용기의 개방된 상부를 개폐하는 용기 커버를 포함하고,
상기 액 저장 공간은 상기 용기 및 상기 용기 커버에 의하여 한정된 내부 공간이며,
상기 유동 제한 부재는 상기 용기 커버에 장착된 것을 특징으로 하는,
리저버.The method according to claim 1 or 2,
The reservoir body includes a container with an open top and a container cover for opening and closing the open top of the container,
The liquid storage space is an internal space defined by the container and the container cover,
The flow limiting member is characterized in that mounted on the container cover,
Reservoir. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 액 저장 공간은 횡단면이 정원 형상인 것을 특징으로 하는,
리저버.The method according to claim 1 or 2,
The liquid storage space is characterized in that the cross-section has a garden shape,
Reservoir. 청구항 4에 있어서,
상기 리저버 본체의 하부에는 상기 처리액을 상기 액 저장 공간의 외부로 배출하는 액 배출구들이 형성되고,
상기 액 배출구들은 상기 액 저장 공간과 연통하는 입구가 서로 동일 높이에 위치하도록 마련되며,
상기 액 배출구들의 출구에는 각각 액 공급 포트가 연결된 것을 특징으로 하는,
리저버.The method of claim 4,
Liquid discharge ports for discharging the treatment liquid to the outside of the liquid storage space are formed at a lower portion of the reservoir body,
The liquid outlets are provided so that inlets communicating with the liquid storage space are located at the same height with each other,
A liquid supply port is connected to the outlets of the liquid outlets, respectively,
Reservoir. 청구항 6에 있어서,
상기 액 저장 공간은 바닥과 벽 사이의 연결부가 상기 처리액을 중앙 쪽으로 유도하는 경사면 또는 곡면으로 형성되고,
상기 액 배출구들은 상기 입구가 상기 연결부에 배치된 것을 특징으로 하는,
리저버.The method of claim 6,
The liquid storage space is formed as an inclined or curved surface in which a connection part between the floor and the wall guides the treatment liquid toward the center,
The liquid outlets, characterized in that the inlet is disposed in the connection part,
Reservoir. 내부에 액 토출 헤드에 공급되는 처리액을 저장하는 액 저장 공간이 마련되고,
상기 액 저장 공간의 횡단면이 정원 형상인 것을 특징으로 하는,
리저버.A liquid storage space for storing the treatment liquid supplied to the liquid discharge head is provided inside,
Characterized in that the cross-section of the liquid storage space is a garden shape,
Reservoir. 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
상기 기판 지지 유닛에 의하여 지지된 상기 기판으로 처리액을 토출하는 적어도 하나 이상의 헤드 및 상기 헤드에 공급되는 상기 처리액을 저장하는 것으로서 청구항 1 또는 청구항 8에 기재된 리저버를 포함하는 헤드 유닛과;
상기 헤드 유닛을 수평 방향으로 이동시키는 헤드 이동 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는,
기판 처리 장치.A substrate support unit supporting a substrate;
A head unit including at least one head for discharging a processing liquid to the substrate supported by the substrate support unit and a reservoir according to claim 1 or 8 for storing the processing liquid supplied to the head;
It characterized in that it comprises a head moving unit for moving the head unit in the horizontal direction,
Substrate processing apparatus. 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
상기 기판 지지 유닛에 의하여 지지된 상기 기판으로 처리액을 토출하는 적어도 하나 이상의 헤드 및 상기 헤드에 공급되는 상기 처리액을 저장하는 것으로서 청구항 2에 기재된 리저버를 포함하는 헤드 유닛과;
상기 헤드 유닛을 수평 방향으로 이동시키는 헤드 이동 유닛과;
상기 리저버에 저장된 상기 처리액을 교반하는 교반 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는,
기판 처리 장치.A substrate support unit supporting a substrate;
A head unit including at least one head for discharging a processing liquid to the substrate supported by the substrate support unit and a reservoir according to claim 2 for storing the processing liquid supplied to the head;
A head moving unit for moving the head unit in a horizontal direction;
It characterized in that it comprises a stirring unit for stirring the treatment liquid stored in the reservoir,
Substrate processing apparatus.
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