KR102649969B1 - Liquid supply apparatus, coating apparatus, aging apparatus, and liquid supply method - Google Patents

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Abstract

[과제] 고점도의 처리액의 여과에 적용되는 필터의 수명 또는 에이징의 정도를 적절히 파악할 수 있는 기술을 제공한다.
[해결 수단] 급액 유닛(10)은, 고점도의 처리액을 공급하는 장치이다. 급액 유닛(10)은, 공급 탱크(11)와, 급액구(19)와, 제1 급액 배관(12) 및 제2 급액 배관(14)과, 가압 기구(15)와, 제2 필터(F2)와, 측정 모듈(174)을 가진다. 급액 유닛(10)은, 고점도의 처리액을 저류 가능하다. 급액구(19)는, 공급처에 처리액을 공급한다. 제1 급액 배관(12) 및 제2 급액 배관(14)은, 공급 탱크(11)와 급액구(19)를 접속한다. 가압 기구(15)는, 공급 탱크(11)로부터 급액구(19)를 향해 처리액을 보낸다. 제2 필터(F2)는, 제2 급액 배관(14)에 배치되어 있고, 처리액을 여과한다. 측정 모듈(174)은, 제2 필터(F2)보다 하류 측의 위치에서, 제2 필터(F2)를 통과한 처리액 중의 파티클량을 측정한다.
[Project] Provide a technology that can appropriately determine the lifespan or degree of aging of filters used for filtration of high-viscosity treatment liquids.
[Solution] The liquid supply unit 10 is a device that supplies a high-viscosity processing liquid. The liquid supply unit 10 includes a supply tank 11, a liquid supply port 19, a first liquid supply pipe 12 and a second liquid supply pipe 14, a pressurizing mechanism 15, and a second filter F2. ) and a measurement module 174. The liquid supply unit 10 is capable of storing a high-viscosity processing liquid. The liquid supply port 19 supplies the processing liquid to the supplier. The first liquid supply pipe 12 and the second liquid supply pipe 14 connect the supply tank 11 and the liquid supply port 19. The pressurizing mechanism 15 sends the processing liquid from the supply tank 11 toward the liquid supply port 19. The second filter F2 is disposed in the second liquid supply pipe 14 and filters the treatment liquid. The measurement module 174 measures the amount of particles in the processing liquid that passed through the second filter (F2) at a position downstream from the second filter (F2).

Description

급액 장치, 도포 장치, 에이징 장치, 및 급액 방법{LIQUID SUPPLY APPARATUS, COATING APPARATUS, AGING APPARATUS, AND LIQUID SUPPLY METHOD}Liquid supply device, applicator, aging device, and liquid supply method {LIQUID SUPPLY APPARATUS, COATING APPARATUS, AGING APPARATUS, AND LIQUID SUPPLY METHOD}

본 발명은, 급액 장치, 도포 장치, 에이징 장치, 및 급액 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid supply device, a coating device, an aging device, and a liquid supply method.

종래, 액정 표시 장치용 유리 기판, 반도체 기판, PDP용 유리 기판, 포토마스크용 유리 기판, 컬러 필터용 기판, 기록 디스크용 기판, 태양전지용 기판, 전자 페이퍼용 기판 등의 정밀 전자 장치용 기판, 직사각형 유리 기판, 필름 액정용 플렉시블 기판, 유기 EL용 기판(이하, 단순히 「기판」이라고 칭한다)의 제조 공정에서는, 기판의 표면에 포토레지스트 등의 액체를 도포하는 도포 장치가 사용되고 있다. 종래의 도포 장치에 대해서는, 예를 들면, 특허문헌 1에 기재되어 있다. 특허문헌 1의 도포 장치는, 수평 방향으로 이동 가능한 스테이지에 흡착 유지된 기판에 대해, 슬릿형상의 토출구를 가지는 슬릿 다이로부터 도포액을 토출하고 있다.Conventionally, substrates for precision electronic devices, such as glass substrates for liquid crystal displays, semiconductor substrates, glass substrates for PDPs, glass substrates for photomasks, substrates for color filters, substrates for recording disks, substrates for solar cells, and substrates for electronic paper, are rectangular. In the manufacturing process of glass substrates, flexible substrates for film liquid crystals, and substrates for organic EL (hereinafter simply referred to as “substrates”), a coating device is used to apply a liquid such as photoresist to the surface of the substrate. About the conventional coating device, it is described in patent document 1, for example. The coating device of Patent Document 1 discharges a coating liquid from a slit die having a slit-shaped discharge port to a substrate adsorbed and held on a stage movable in the horizontal direction.

일본국 특허공개 2017-23990호 공보Japanese Patent Publication No. 2017-23990

이 종류의 도포 장치에서는, 처리액을 토출 및 도포하기 전에, 도포액 중에 포함되는 이물을 제거하기 위한 필터가 이용되는 경우가 있다. 고점도의 처리액을 여과하는 필터는, 적절한 교환 시기를 특정하는 것이 곤란했기 때문에, 예를 들면, 사용 시간, 혹은, 총 유량이 일정한 값에 도달한 시점에서, 필터의 교환이 이루어지고 있다. 이 때문에, 필터의 사용 기간이, 본래의 수명보다 짧은 경우에는, 필터의 비용이 상대적으로 비싸져 버린다. 또, 필터의 사용 시간이, 본래의 수명보다 긴 경우에는, 처리액을 충분히 정화할 수 없는 것으로 인해, 도포 불량이 발생해버릴 가능성이 있었다. 따라서, 필터의 수명을 용이하게 파악할 수 있는 기술이 요구되고 있다.In this type of coating device, a filter may be used to remove foreign substances contained in the coating liquid before discharging and applying the treatment liquid. Since it has been difficult to specify the appropriate replacement time for filters that filter high-viscosity treatment liquids, replacement of the filter is performed, for example, when the usage time or the total flow rate reaches a certain value. For this reason, if the period of use of the filter is shorter than its original lifespan, the cost of the filter becomes relatively expensive. Additionally, when the usage time of the filter is longer than the original lifespan, there is a possibility that application defects may occur due to the inability to sufficiently purify the treatment liquid. Therefore, there is a need for technology that can easily determine the lifespan of a filter.

또, 신품의 필터는, 일반적으로는, 미리 세정액으로 세정되고 있다. 그러나, 세정제의 필터에 세정액보다 고점도의 처리액을 통과시키면, 필터로부터 분진(파티클)이 이탈하는 경우가 있다. 이 때문에, 필터에 고점도의 처리액을 흐르게 하는, 이른바 에이징이 행해지는 경우가 있었다. 그런데, 필터가 고점도의 처리액의 여과에 적합한 상태가 되었는지를 파악하는 것은 용이하지 않기 때문에, 에이징이 일정 시간 행해진 단계에서, 에이징을 완료하도록 되어 있다. 따라서, 에이징의 시간이 충분하지 않은 경우에는, 필터가 도포 장치에 적용됨으로써, 필터로부터 이탈한 분진이 처리액에 혼입하여, 도포 불량이 발생해버릴 가능성이 있었다. 따라서, 필터의 에이징의 정도를 용이하게 파악할 수 있는 기술이 요구되고 있다.Additionally, new filters are generally cleaned in advance with a cleaning liquid. However, when a processing liquid with a higher viscosity than the cleaning liquid is passed through the cleaning agent filter, dust (particles) may escape from the filter. For this reason, so-called aging, which involves flowing a high-viscosity treatment liquid through the filter, has sometimes been performed. However, since it is not easy to determine whether the filter is in a state suitable for filtration of a high-viscosity treatment liquid, aging is completed at the stage when aging has been performed for a certain period of time. Therefore, when the aging time is not sufficient, there is a possibility that dust released from the filter may be mixed into the treatment liquid as the filter is applied to the coating device, resulting in coating defects. Therefore, there is a demand for technology that can easily determine the degree of aging of the filter.

본 발명의 목적은, 고점도의 처리액의 여과에 적용되는 필터의 수명 또는 에이징의 정도를 적절히 파악할 수 있는 기술을 제공하는 것에 있다.The purpose of the present invention is to provide a technology that can appropriately determine the lifespan or degree of aging of a filter applied to the filtration of a high-viscosity treatment liquid.

상기 과제를 해결하기 위해서, 제1 양태는, 처리액을 공급하는 급액 장치로서, 고점도의 처리액을 저류 가능한 탱크와, 상기 처리액을 공급하는 급액구와, 상기 탱크와 상기 급액구를 접속하는 송액(送液) 배관과, 상기 송액 배관을 통해, 상기 탱크로부터 상기 급액구를 향해 상기 처리액을 보내는 송액부와, 상기 송액 배관에 배치되고, 상기 처리액을 여과하는 필터와, 상기 필터보다 하류 측의 위치에서, 상기 필터를 통과한 처리액 중의 파티클량을 측정하는 측정부를 구비한다.In order to solve the above problem, the first aspect is a liquid supply device for supplying a processing liquid, comprising a tank capable of storing a high-viscosity processing liquid, a liquid supply port for supplying the processing liquid, and a liquid supply connecting the tank and the liquid supply port. a liquid delivery pipe, a liquid delivery unit that sends the treatment liquid from the tank toward the liquid supply port through the liquid delivery pipe, a filter disposed in the liquid delivery pipe and filtering the treatment liquid, and a filter located downstream of the filter. At a position on the side, a measuring unit is provided to measure the amount of particles in the processing liquid that has passed through the filter.

제2 양태는, 제1 양태의 급액 장치로서, 상기 송액 배관에 있어서의 상기 필터보다 하류 측의 위치에서, 상기 송액 배관에 접속되어 있는 측정 배관을 추가로 구비하고, 상기 측정부는, 상기 측정 배관 내의 상기 처리액 중의 파티클량을 측정한다.The second aspect is the liquid supply device of the first aspect, further comprising a measurement pipe connected to the liquid delivery pipe at a position downstream of the filter in the liquid delivery pipe, and the measurement unit includes the measurement pipe. The amount of particles in the treatment liquid inside is measured.

제3 양태는, 제2 양태의 급액 장치로서, 상기 송액 배관으로부터 상기 측정 배관으로의 상기 처리액의 흐름을 온 오프하는 개폐 밸브를 추가로 구비한다.The third aspect is the liquid supply device of the second aspect, and further includes an on-off valve that turns on and off the flow of the processing liquid from the liquid delivery pipe to the measurement pipe.

제4 양태는, 제2 양태 또는 제3 양태의 급액 장치로서, 상기 측정 배관의 내측 면적이, 상기 송액 배관의 내측 면적보다 작다.The fourth aspect is the liquid supply device of the second or third aspect, wherein the inner area of the measurement pipe is smaller than the inner area of the liquid delivery pipe.

제5 양태는, 제2 양태 내지 제4 양태 중 어느 하나의 급액 장치로서, 상기 송액 배관에 배치되고, 처리액을 압송하는 송액 펌프를 추가로 구비한다.The fifth aspect is the liquid supply device according to any one of the second to fourth aspects, and further includes a liquid delivery pump disposed in the liquid delivery pipe and pumping the treatment liquid.

제6 양태는, 제5 양태의 급액 장치로서, 상기 측정 배관은, 상기 송액 배관에 있어서의 상기 송액 펌프보다 하류 측의 위치에서 상기 송액 배관에 접속되어 있다.A sixth aspect is the liquid supply device of the fifth aspect, wherein the measuring pipe is connected to the liquid delivery pipe at a position downstream of the liquid delivery pump in the liquid delivery pipe.

제7 양태는, 제5 양태의 급액 장치로서, 상기 측정 배관은, 상기 송액 배관에 있어서의 상기 송액 펌프보다 상류 측의 위치에서 상기 송액 배관에 접속되어 있다.A seventh aspect is the liquid supply device of the fifth aspect, wherein the measuring pipe is connected to the liquid delivery pipe at a position upstream of the liquid delivery pump in the liquid delivery pipe.

제8 양태는, 제2 양태 내지 제7 양태 중 어느 하나의 급액 장치로서, 상기 측정부보다 상류 측에 배치되고, 상기 처리액을 탈기하는 탈기 모듈을 추가로 구비한다.The eighth aspect is the liquid supply device of any one of the second to seventh aspects, and is disposed on an upstream side of the measuring unit, and further includes a degassing module for degassing the treatment liquid.

제9 양태는, 제8 양태의 급액 장치로서, 상기 탈기 모듈이 상기 측정 배관에 배치되어 있다.The ninth aspect is the liquid supply device of the eighth aspect, wherein the degassing module is disposed in the measuring pipe.

제10 양태는, 제1 양태 내지 제9 양태 중 어느 하나의 급액 장치로서, 상기 측정부가 측정한 파티클량에 의거하여, 상기 필터의 상태를 판정하는 판정부와, 상기 판정부가 출력하는 판정 결과를 외부로 출력하는 출력부를 추가로 구비한다.A tenth aspect is the liquid supply device of any one of the first to ninth aspects, comprising: a determination unit that determines the state of the filter based on the amount of particles measured by the measurement unit; and a determination result output by the determination unit. An output unit that outputs to the outside is additionally provided.

제11 양태는, 대상에 처리액을 도포하는 도포 장치로서, 제1 양태 내지 제10 양태 중 어느 하나의 공급 장치와, 상기 공급 장치의 상기 급액구로부터 공급되는 상기 처리액을 토출하는 노즐을 구비한다.An eleventh aspect is an application device for applying a processing liquid to an object, comprising the supply device of any one of the first to tenth aspects, and a nozzle for discharging the processing liquid supplied from the liquid supply port of the supply device. do.

제12 양태는, 필터를 고점도의 처리액으로 처리하는 에이징 장치로서, 처리액을 저류 가능한 제1 탱크와, 처리액을 저류 가능한 제2 탱크와, 상기 제1 탱크와 상기 제2 탱크를 병렬로 접속하는 제1 송액 배관 및 제2 송액 배관과, 상기 제1 송액 배관을 통해, 상기 제1 탱크로부터 상기 제2 탱크로 송액하는 제1 송액부와, 상기 제2 송액 배관을 통해, 상기 제2 탱크로부터 상기 제1 탱크로 송액하는 제2 송액부와, 상기 제1 송액부와 상기 제2 송액부를 번갈아 동작시키는 제어부와, 상기 제1 송액 배관을 흐르는 처리액을 여과하도록 필터를 장착시키는 필터 장착부와, 상기 필터를 통과한 상기 처리액 중의 파티클량을 측정하는 측정부를 구비한다.A twelfth aspect is an aging device for treating a filter with a high-viscosity treatment liquid, comprising: a first tank capable of storing the treatment liquid; a second tank capable of storing the treatment liquid; and the first tank and the second tank are arranged in parallel. A first liquid delivery pipe and a second liquid delivery pipe connected to each other, a first liquid delivery unit that delivers liquid from the first tank to the second tank through the first liquid delivery pipe, and a first liquid delivery section that delivers liquid to the second tank through the second liquid delivery pipe. A second liquid delivery unit that delivers liquid from the tank to the first tank, a control unit that alternately operates the first liquid delivery unit and the second liquid delivery unit, and a filter mounting unit that mounts a filter to filter the treated liquid flowing through the first liquid delivery pipe. and a measuring unit that measures the amount of particles in the processing liquid that has passed through the filter.

제13 양태는, 고점도의 처리액을 공급처에 공급하는 급액 방법으로서, a) 탱크의 처리액을 공급처에 보내는 공정과, b) 상기 공정 a)에 의해 상기 탱크로부터 공급처로 보내지는 상기 처리액을 필터로 여과하는 공정과, c) 상기 공정 b)에 의해 상기 필터를 통과한 상기 처리액 중의 파티클량을 측정하는 공정을 포함한다.The thirteenth aspect is a liquid supply method for supplying a high-viscosity treatment liquid to a supplier, comprising: a) a process of sending the treatment liquid from a tank to the supplier, and b) the process liquid sent from the tank to the supplier by the process a). It includes a step of filtering with a filter, and c) measuring the amount of particles in the treatment liquid that passed through the filter by step b).

제1 양태의 급액 장치에 의하면, 필터를 통과한 처리액에 포함되는 파티클량에 의거하여, 필터의 수명, 또는, 필터의 에이징의 정도를 용이하게 파악할 수 있다.According to the liquid supply device of the first aspect, the life of the filter or the degree of aging of the filter can be easily determined based on the amount of particles contained in the processing liquid that has passed through the filter.

제2 양태의 급액 장치에 의하면, 분기 배관에 설치되기 때문에, 공급 배관에 영향을 미치는 것을 억제할 수 있다.According to the liquid supply device of the second aspect, since it is installed in the branch pipe, influence on the supply pipe can be suppressed.

제3 양태의 급액 장치에 의하면, 송액 배관으로부터 측정 배관으로의 송액을 온 오프할 수 있다.According to the liquid supply device of the third aspect, liquid delivery from the liquid delivery pipe to the measurement pipe can be turned on and off.

제4 양태의 급액 장치에 의하면, 소량의 처리액으로 파티클량을 측정할 수 있다.According to the liquid supply device of the fourth aspect, the amount of particles can be measured with a small amount of processing liquid.

제5 양태의 급액 장치에 의하면, 송액 펌프로 처리액을 급액구에 보낼 수 있다.According to the liquid supply device of the fifth aspect, the processing liquid can be sent to the liquid supply port using the liquid delivery pump.

제6 양태의 급액 장치에 의하면, 송액 펌프에 의해 측정 배관으로 공급할 수 있다.According to the liquid supply device of the sixth aspect, the liquid can be supplied to the measuring pipe by a liquid feeding pump.

제7 양태의 급액 장치에 의하면, 공급처로 보내는 처리액의, 측정 배관에도 처리액을 보낼 수 있다.According to the liquid supply device of the seventh aspect, the treatment liquid sent to the supplier can also be sent to the measurement pipe.

제8 양태의 급액 장치에 의하면, 기포에 의해 파티클량의 측정이 저해되는 것을 억제할 수 있다.According to the liquid supply device of the eighth aspect, it is possible to prevent the measurement of the particle amount from being hindered by air bubbles.

제9 양태의 급액 장치에 의하면, 측정부에 대해, 송액 배관보다 가까운 측정 배관에서 탈기가 행해진다. 이 때문에, 송액 배관에서 탈기하는 경우보다 기포가 적은 상태에서, 파티클량을 측정할 수 있다.According to the liquid supply device of the ninth aspect, degassing is performed with respect to the measurement unit through a measurement pipe closer to the liquid delivery pipe. For this reason, the amount of particles can be measured with fewer bubbles than in the case of degassing through the liquid delivery pipe.

제10 양태의 급액 장치에 의하면, 처리액 중의 파티클량에 의거하는 필터 상태의 판정 결과가 외부로 출력된다. 이 때문에, 오퍼레이터가 필터의 상태를 용이하게 파악할 수 있다.According to the liquid supply device of the tenth aspect, a determination result of the filter state based on the amount of particles in the processing liquid is output to the outside. For this reason, the operator can easily determine the status of the filter.

제11 양태의 도포 장치에 의하면, 급액 장치의 필터로 여과된 고점도의 처리액을 대상물에 도포할 수 있다.According to the coating device of the 11th aspect, the high-viscosity treatment liquid filtered through the filter of the liquid supply device can be applied to the object.

제12 양태의 에이징 장치에 의하면, 파티클량의 측정 결과에 의거하여, 필터의 에이징을 용이하게 판단할 수 있게 된다.According to the aging device of the twelfth aspect, it is possible to easily determine the aging of the filter based on the measurement result of the particle amount.

제13 양태의 급액 방법에 의하면, 필터를 통과한 처리액에 포함되는 파티클량에 의거하여, 필터의 수명, 또는, 필터의 에이징의 정도를 용이하게 파악할 수 있다.According to the liquid supply method of the thirteenth aspect, the life of the filter or the degree of aging of the filter can be easily determined based on the amount of particles contained in the treatment liquid that has passed through the filter.

도 1은, 제1 실시 형태에 따른 도포 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는, 도 1에 나타내는 탈기 모듈의 구조를 나타내는 단면도이다.
도 3은, 도 1에 나타내는 도포 유닛의 사시도이다.
도 4는, 제1 제어부와, 도포 장치 내의 각 부의 접속을 나타낸 블록도이다.
도 5는, 제2 실시 형태에 따른 도포 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 6은, 제3 실시 형태에 따른 에이징 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 7은, 도 6에 나타내는 제1 장착부와, 제1 장착부에 장착된 제1 필터의 단면도이다.
1 is a diagram showing the configuration of an application device according to the first embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of the degassing module shown in FIG. 1.
Figure 3 is a perspective view of the application unit shown in Figure 1.
Figure 4 is a block diagram showing the connection of the first control unit and each part in the applicator.
Figure 5 is a diagram showing the configuration of an application device according to the second embodiment.
Fig. 6 is a diagram showing the configuration of an aging device according to the third embodiment.
FIG. 7 is a cross-sectional view of the first mounting portion shown in FIG. 6 and the first filter mounted on the first mounting portion.

이하, 첨부 도면을 참조하면서, 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다. 또한, 이 실시 형태에 기재되어 있는 구성 요소는 어디까지나 예시이며, 본 발명의 범위를 그들만으로 한정하는 취지의 것은 아니다. 도면에 있어서는, 이해의 용이를 위하여, 필요에 따라 각 부의 치수나 수가 과장 또는 간략화되어 도시되어 있는 경우가 있다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In addition, the components described in this embodiment are merely examples and are not intended to limit the scope of the present invention to these only. In the drawings, for ease of understanding, the dimensions or number of each part may be exaggerated or simplified as necessary.

<1. 제1 실시 형태><1. First embodiment>

도 1은, 제1 실시 형태에 따른 도포 장치(1)의 구성을 나타내는 도면이다. 도포 장치(1)는, 예를 들면, 플렉시블 디스플레이의 기재가 되는 폴리이미드 필름의 제조 공정에 적용된다. 폴리이미드 필름의 제조 공정에서는, 도포 장치(1)에 있어서, 유리제의 캐리어 기판(C)의 상면에, 폴리이미드 전구체(폴리아믹산)를 포함하는 고점도의 처리액인 바니스가 도포된다. 그 후, 다른 장치에 있어서, 바니스의 가열, 감압, 소성 등의 처리가 행해진다.FIG. 1 is a diagram showing the configuration of the coating device 1 according to the first embodiment. The coating device 1 is applied, for example, to the manufacturing process of polyimide film, which becomes the base material of a flexible display. In the polyimide film manufacturing process, varnish, which is a high-viscosity treatment liquid containing a polyimide precursor (polyamic acid), is applied to the upper surface of the glass carrier substrate C in the coating device 1. After that, the varnish is subjected to processing such as heating, reducing pressure, and firing in another device.

도 1에 나타내는 바와 같이, 본 실시 형태의 도포 장치(1)는, 급액 유닛(10)(급액 장치)과, 도포 유닛(20)과, 제1 제어부(30)를 가진다. 이하, 도포 장치(1)의 각 구성에 대해 설명한다.As shown in FIG. 1, the applicator 1 of this embodiment has a liquid supply unit 10 (liquid supply device), an application unit 20, and a first control unit 30. Hereinafter, each configuration of the coating device 1 will be described.

급액 유닛(10)은, 고점도의 처리액을, 공급처인 도포 유닛(20)에 공급하는 장치이다. 급액 유닛(10)은, 공급 탱크(11), 제1 급액 배관(12), 탈기 탱크(13), 제2 급액 배관(14), 가압 기구(15), 감압 기구(16), 및 측정 기구(17)를 가진다.The liquid supply unit 10 is a device that supplies a high-viscosity treatment liquid to the application unit 20, which is the supplier. The liquid supply unit 10 includes a supply tank 11, a first liquid supply pipe 12, a degassing tank 13, a second liquid supply pipe 14, a pressurizing mechanism 15, a pressure reducing mechanism 16, and a measuring mechanism. We have (17).

공급 탱크(11)는, 공급 전의 바니스를 저류하는 용기이다. 공급 탱크(11)에 저류되는 바니스는, 미사용의 것이어도 되고, 일단 사용된 후에 재생 처리된 것이어도 된다. 상술한 바와 같이, 바니스는, 고점도의 처리액이다. 바니스의 점도는, 예를 들면, 1000~10000cP(1~10Pa·s) 정도이다. 이하의 설명에 있어서 「고점도」란, 1000cP(1Pa·s) 이상의 점도인 것을 나타낸다. 또한, 급액 유닛(10)이 공급하는 고점도의 처리액은, 폴리이미드 전구체를 포함하는 바니스로 한정되는 것이 아니고, 바니스 이외의 고점도의 처리액이어도 된다. 이하의 설명에서는, 공급 탱크(11)에 근접한 측을 상류 측이라 칭하고, 공급 탱크(11)와는 반대측을 하류 측이라 칭한다.The supply tank 11 is a container that stores the varnish before supply. The varnish stored in the supply tank 11 may be unused or may be recycled once used. As described above, varnish is a high viscosity treatment liquid. The viscosity of varnish is, for example, about 1000 to 10000 cP (1 to 10 Pa·s). In the following description, “high viscosity” refers to a viscosity of 1000 cP (1 Pa·s) or more. In addition, the high-viscosity treatment liquid supplied by the liquid supply unit 10 is not limited to varnish containing a polyimide precursor, and may be a high-viscosity treatment liquid other than varnish. In the following description, the side close to the supply tank 11 is called the upstream side, and the side opposite to the supply tank 11 is called the downstream side.

급액 유닛(10)은, 1개의 공급 탱크(11)를 가지고 있는데, 복수의 공급 탱크(11)를 가지고 있어도 된다. 그 경우, 복수의 공급 탱크(11)는, 제1 급액 배관(12)에 대해, 전환 가능하게 접속되어 있어도 된다.The liquid supply unit 10 has one supply tank 11, but may have a plurality of supply tanks 11. In that case, the plurality of supply tanks 11 may be connected to the first liquid supply pipe 12 in a switchable manner.

제1 급액 배관(12)은, 공급 탱크(11)와 탈기 탱크(13)를 연결하는 배관이다. 제1 급액 배관(12)의 상류 측의 단부는, 공급 탱크(11)에 접속되어 있다. 제1 급액 배관(12)의 하류 측의 단부는, 탈기 탱크(13)에 접속되어 있다. 또, 제1 급액 배관(12)의 경로 상에는, 제1 급액 밸브(V11)와, 제1 필터(F1)가, 설치되어 있다. 제1 급액 밸브(V11) 및 후술하는 제1 가압 밸브(V21)를 개방하면, 가압 기구(15)로부터 공급되는 기체의 압력에 의해, 공급 탱크(11) 내의 바니스가, 제1 급액 배관(12)을 통과하여, 탈기 탱크(13)로 보내진다. 그 때, 바니스는, 제1 필터(F1)에 의해 여과된다. 이에 의해, 바니스에 포함되는 미세한 분진이, 제1 필터(F1)에 포집되어 제거된다.The first liquid supply pipe 12 is a pipe connecting the supply tank 11 and the degassing tank 13. The upstream end of the first liquid supply pipe 12 is connected to the supply tank 11. The downstream end of the first liquid supply pipe 12 is connected to the degassing tank 13. Additionally, on the path of the first liquid supply pipe 12, a first liquid supply valve V11 and a first filter F1 are installed. When the first liquid supply valve V11 and the first pressure valve V21 described later are opened, the pressure of the gas supplied from the pressurizing mechanism 15 causes the varnish in the supply tank 11 to be compressed into the first liquid supply pipe 12. ) and is sent to the degassing tank (13). At that time, the varnish is filtered by the first filter F1. Thereby, the fine dust contained in the varnish is collected and removed by the first filter F1.

또한, 도 1의 예에서는, 급액 유닛(10)은, 1개의 제1 필터(F1)를 가지고 있다. 그러나, 급액 유닛(10)은, 복수의 제1 필터(F1)를 가지고 있어도 된다. 그 경우, 제1 급액 배관(12)의 경로 상에, 복수의 제1 필터(F1)가, 병렬로 접속되어 있으면 된다.Additionally, in the example of FIG. 1, the liquid supply unit 10 has one first filter F1. However, the liquid supply unit 10 may have a plurality of first filters F1. In that case, a plurality of first filters F1 may be connected in parallel on the path of the first liquid supply pipe 12.

탈기 탱크(13)는, 바니스 중의 기체의 용존량을 저감시키기 위한 용기이다. 탈기 탱크(13)에는, 후술하는 감압 기구(16)가 접속되어 있다. 감압 기구(16)의 감압 밸브(V23)를 개방하여 감압 펌프(162)를 동작시키면, 탈기 탱크(13)의 내부 공간이 감압되고, 탈기 탱크(13) 내의 기압이, 대기압보다 낮은 부압이 된다. 이에 의해, 탈기 탱크(13) 내의 바니스에 포함되는 용존 기체가 기포가 된다. 또, 탈기 탱크(13) 내에는, 교반 기구(131)가 설치되어 있다. 교반 기구(131)를 회전시키면, 탈기 탱크(13) 내의 바니스가 교반되고, 바니스 중의 기포가, 바니스의 액면을 향해 부상한다. 부상 후의 기포는, 탈기 탱크(13)로부터 감압 기구(16)로 흡인됨으로써, 제거된다. 이에 의해, 바니스 중의 기체의 용존량이 저감된다.The degassing tank 13 is a container for reducing the amount of gas dissolved in the varnish. A pressure reducing mechanism 16 described later is connected to the degassing tank 13. When the pressure reducing valve V23 of the pressure reducing mechanism 16 is opened and the pressure reducing pump 162 is operated, the internal space of the degassing tank 13 is depressurized, and the atmospheric pressure in the degassing tank 13 becomes a negative pressure lower than atmospheric pressure. . As a result, the dissolved gas contained in the varnish in the degassing tank 13 becomes bubbles. Additionally, a stirring mechanism 131 is installed within the degassing tank 13. When the stirring mechanism 131 is rotated, the varnish in the degassing tank 13 is stirred, and air bubbles in the varnish rise toward the liquid level of the varnish. The air bubbles after levitation are removed by being sucked from the degassing tank 13 to the pressure reducing mechanism 16. As a result, the dissolved amount of gas in the varnish is reduced.

이와 같이, 본 실시 형태의 도포 장치(1)에서는, 도포 전의 바니스에 포함되는 용존 기체를, 미리 제거해 둔다. 이에 의해, 캐리어 기판(C)에 도포된 바니스를, 후공정에 있어서 가열·소성할 때에, 바니스 중에 기포가 발생하는 것을, 방지할 수 있다.In this way, in the coating device 1 of the present embodiment, the dissolved gas contained in the varnish before application is removed in advance. As a result, when the varnish applied to the carrier substrate C is heated and fired in a subsequent process, it is possible to prevent bubbles from being generated in the varnish.

또한, 도 1의 예에서는, 급액 유닛(10)은, 1개의 탈기 탱크(13)를 가지고 있다. 그러나, 급액 유닛(10)은, 복수의 탈기 탱크(13)를 가지고 있어도 된다. 그 경우, 제1 급액 배관(12)과 제2 급액 배관(14) 사이에, 복수의 탈기 탱크(13)가, 전환 가능하게 접속되어 있어도 된다.Additionally, in the example of FIG. 1, the liquid supply unit 10 has one degassing tank 13. However, the liquid supply unit 10 may have a plurality of degassing tanks 13. In that case, a plurality of degassing tanks 13 may be switchably connected between the first liquid supply pipe 12 and the second liquid supply pipe 14.

제2 급액 배관(14)은, 탈기 탱크(13)와 도포 유닛(20)을 연결하는 배관이다. 제2 급액 배관(14)의 상류 측의 단부는, 탈기 탱크(13)의 하부에 접속되어 있다. 제2 급액 배관(14)의 하류 측의 단부는, 도포 유닛(20)의 제3 급액 배관(23)에 접속되어 있다. 또, 제2 급액 배관(14)에는, 제2 급액 밸브(V12)와, 제2 필터(F2)와, 어시스트 펌프(P1)가 배치되어 있다.The second liquid supply pipe 14 is a pipe connecting the degassing tank 13 and the application unit 20. The upstream end of the second liquid supply pipe 14 is connected to the lower part of the degassing tank 13. The downstream end of the second liquid supply pipe 14 is connected to the third liquid supply pipe 23 of the application unit 20. Additionally, a second liquid supply valve V12, a second filter F2, and an assist pump P1 are disposed in the second liquid supply pipe 14.

감압 밸브(V23)를 폐쇄하고, 제2 급액 밸브(V12) 및 후술하는 제2 가압 밸브(V22)를 개방하면, 가압 기구(15)로부터 공급되는 기체의 압력에 의해, 탈기 탱크(13) 내의 바니스가, 제2 급액 배관(14)을 통과하여, 도포 유닛(20)의 슬릿 노즐(22)로 보내진다. 가압 기구(15)는, 공급 탱크(11)로부터 급액구(19)를 향해 고점도의 처리액을 보내는 송액부의 일례이다. 또, 어시스트 펌프(P1)를 구동시킴으로써, 바니스의 송액력이 보조된다. 어시스트 펌프(P1)는, 송액 펌프의 일례이다.When the pressure reducing valve V23 is closed and the second water supply valve V12 and the second pressurizing valve V22 described later are opened, the pressure of the gas supplied from the pressurizing mechanism 15 causes the gas inside the degassing tank 13 to The varnish passes through the second liquid supply pipe 14 and is sent to the slit nozzle 22 of the application unit 20. The pressurizing mechanism 15 is an example of a liquid delivery unit that sends a high-viscosity processing liquid from the supply tank 11 toward the liquid supply port 19. Additionally, by driving the assist pump P1, the liquid delivery force of the varnish is assisted. The assist pump P1 is an example of a liquid delivery pump.

어시스트 펌프(P1)는, 예를 들면, 1회당 정량의 액체를 토출하는, 정량 토출 펌프로 해도 된다. 이 경우, 어시스트 펌프(P1)가 1회당 보내는 바니스의 양은, 예를 들면, 슬릿 노즐(22)이 1장의 캐리어 기판(C)에 도포하는 바니스의 양과 같게 해도 된다. 또, 어시스트 펌프(P1)는, 수축 가능한 튜브의 외주면에 대해 유체의 압력이 가해짐으로써 튜브 내의 처리액을 토출하는, 이른바 튜브프램 펌프인 것이 바람직하다. 튜브프램 펌프를 채용함으로써, 바니스를 토출함으로써, 어시스트 펌프(P1) 내에서 파티클이 발생하는 것을 억제할 수 있다.The assist pump P1 may be, for example, a fixed-quantity discharge pump that discharges a fixed amount of liquid per time. In this case, the amount of varnish that the assist pump P1 sends per time may be, for example, the same as the amount of varnish that the slit nozzle 22 applies to one carrier substrate C. In addition, the assist pump P1 is preferably a so-called tube flammable pump that discharges the treatment liquid in the tube by applying fluid pressure to the outer peripheral surface of the shrinkable tube. By employing a tube flammable pump, it is possible to suppress the generation of particles within the assist pump (P1) by discharging varnish.

제2 필터(F2)는, 제1 필터(F1)보다 구멍 지름이 작은(촘촘한) 필터이다. 제2 급액 배관(14)을 흐르는 바니스는, 제2 필터(F2)에 의해 여과된다. 이에 의해, 바니스에 포함되는 미세한 분진이, 제2 필터(F2)에 포집되어 제거된다.The second filter F2 is a filter with a smaller (closer) pore diameter than the first filter F1. The varnish flowing through the second liquid supply pipe 14 is filtered by the second filter F2. Thereby, the fine dust contained in the varnish is collected and removed by the second filter F2.

급액 유닛(10)은, 1개의 제2 필터(F2)를 가지고 있는데, 복수의 제2 필터(F2)를 가지고 있어도 된다. 이 경우, 제2 급액 배관(14)의 경로 상에, 복수의 제2 필터(F2)가, 병렬로 접속되어 있어도 된다.The liquid supply unit 10 has one second filter F2, but may have a plurality of second filters F2. In this case, a plurality of second filters F2 may be connected in parallel on the path of the second liquid supply pipe 14.

가압 기구(15)는, 공급 탱크(11) 및 탈기 탱크(13)로, 송액을 위한 압력을 공급하는 기구이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 가압 기구(15)는, 고압 기체 공급원(151), 가압 배관(152), 레귤레이터(153), 제1 가압 밸브(V21), 및 제2 가압 밸브(V22)를 가진다. 고압 기체 공급원(151)에는, 고압의 기체(예를 들면 질소)가 충전되어 있다. 가압 배관(152)의 상류 측의 단부는, 고압 기체 공급원(151)에 접속되어 있다. 레귤레이터(153)는, 가압 배관(152)의 경로 상에 설치되어 있다. 가압 배관(152)의 하류 측의 단부는, 2개로 분기되고, 각각, 공급 탱크(11)와 탈기 탱크(13)에 접속되어 있다. 제1 가압 밸브(V21) 및 제2 가압 밸브(V22)는, 분기 후의 2개의 가압 배관(152)에, 각각 설치되어 있다.The pressurizing mechanism 15 is a mechanism that supplies pressure for liquid delivery to the supply tank 11 and the degassing tank 13. As shown in FIG. 1, the pressurization mechanism 15 has a high-pressure gas supply source 151, a pressurization pipe 152, a regulator 153, a first pressurization valve V21, and a second pressurization valve V22. . The high-pressure gas supply source 151 is filled with high-pressure gas (for example, nitrogen). The upstream end of the pressurization pipe 152 is connected to the high-pressure gas supply source 151. The regulator 153 is installed on the path of the pressurization pipe 152. The downstream end of the pressurization pipe 152 is divided into two and connected to the supply tank 11 and the degassing tank 13, respectively. The first pressurization valve V21 and the second pressurization valve V22 are respectively installed in the two pressurization pipes 152 after branching.

고압 기체 공급원(151)으로부터 공급되는 기체는, 레귤레이터(153)에 의해, 대기압보다 높은 소정의 압력으로 강압 조정된다. 제2 가압 밸브(V22)를 폐쇄하고, 제1 가압 밸브(V21)를 개방하면, 당해 소정의 압력의 기체가, 가압 배관(152)으로부터 공급 탱크(11)로 공급된다. 이에 의해, 공급 탱크(11)로부터 제1 급액 배관(12)으로, 바니스가 밀려나온다. 또, 제1 가압 밸브(V21)를 폐쇄하고, 제2 가압 밸브(V22)를 개방하면, 당해 소정의 압력의 기체가, 가압 배관(152)으로부터 탈기 탱크(13)로 공급된다. 이에 의해, 탈기 탱크(13)로부터 제2 급액 배관(14)으로, 바니스가 밀려나온다.The gas supplied from the high-pressure gas supply source 151 is pressure-adjusted by the regulator 153 to a predetermined pressure higher than atmospheric pressure. When the second pressurization valve V22 is closed and the first pressurization valve V21 is opened, the gas at the predetermined pressure is supplied from the pressurization pipe 152 to the supply tank 11. As a result, the varnish is pushed out from the supply tank 11 to the first liquid supply pipe 12. Additionally, when the first pressurization valve V21 is closed and the second pressurization valve V22 is opened, the gas at the predetermined pressure is supplied from the pressurization pipe 152 to the degassing tank 13. As a result, the varnish is pushed out from the degassing tank 13 to the second liquid supply pipe 14.

감압 기구(16)는, 탈기 탱크(13)의 내부를 감압하기 위한 기구이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 감압 기구(16)는, 감압 배관(161), 감압 펌프(162), 및 감압 밸브(V23)를 가진다. 감압 배관(161)의 일단은, 탈기 탱크(13)에 접속되어 있다. 감압 배관(161)의 타단은, 공장 내의 배기 라인에 접속되어 있다. 감압 밸브(V23) 및 감압 펌프(162)는, 감압 배관(161)의 경로 상에 설치되어 있다. 감압 밸브(V23)를 개방하고, 감압 펌프(162)를 동작시키면, 탈기 탱크(13) 내의 기체가, 감압 배관(161)을 통과하여 배기 라인으로 흡인된다. 이에 의해, 탈기 탱크(13) 내의 기압이 저하된다.The pressure reducing mechanism 16 is a mechanism for reducing the pressure inside the degassing tank 13. As shown in FIG. 1, the pressure reduction mechanism 16 has a pressure reduction pipe 161, a pressure reduction pump 162, and a pressure reduction valve V23. One end of the pressure reduction pipe 161 is connected to the degassing tank 13. The other end of the pressure reducing pipe 161 is connected to the exhaust line within the factory. The pressure reducing valve V23 and the pressure reducing pump 162 are installed on the path of the pressure reducing pipe 161. When the pressure reduction valve V23 is opened and the pressure reduction pump 162 is operated, the gas in the degassing tank 13 passes through the pressure reduction pipe 161 and is sucked into the exhaust line. As a result, the atmospheric pressure in the degassing tank 13 decreases.

<측정 기구><Measuring instrument>

측정 기구(17)는, 바니스 중의 파티클량을 측정하기 위한 기구이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 측정 기구(17)는, 측정 배관(171), 개폐 밸브(172), 탈기 모듈(173), 및 측정 모듈(174)을 구비한다.The measuring device 17 is a device for measuring the amount of particles in the varnish. As shown in FIG. 1 , the measuring instrument 17 includes a measuring pipe 171, an opening/closing valve 172, a degassing module 173, and a measuring module 174.

측정 배관(171)은, 제2 급액 배관(14) 중, 어시스트 펌프(P1)보다 하류 측의 위치에 접속되어 있다. 개폐 밸브(172)는, 측정 배관(171)에 설치되어 있다. 개폐 밸브(172)는, 측정 배관(171)을 개폐함으로써, 제2 급액 배관(14)으로부터 측정 모듈(174)로의 바니스의 송액을 온 오프한다. 제2 급액 배관(14)에는, 전환 밸브(18)가 설치되어 있다. 전환 밸브(18)는, 제2 급액 배관(14)에 있어서의 측정 배관(171)이 접속되는 위치보다 하류 측에 위치한다. 전환 밸브(18)는, 급액구(19)를 향한 송액을 온 오프한다. 개폐 밸브(172) 및 전환 밸브(18)는, 제1 제어부(30)의 제어 신호에 의거하여, 열린 상태와 닫힌 상태 사이에서 전환된다.The measurement pipe 171 is connected to a position downstream of the assist pump P1 among the second liquid supply pipes 14. The on-off valve 172 is installed in the measurement pipe 171. The open/close valve 172 turns on and off the delivery of the varnish liquid from the second liquid supply pipe 14 to the measurement module 174 by opening and closing the measurement pipe 171. A switching valve 18 is installed in the second liquid supply pipe 14. The switching valve 18 is located downstream from the position where the measuring pipe 171 in the second liquid supply pipe 14 is connected. The switching valve 18 turns on and off the liquid supply toward the liquid supply port 19. The opening/closing valve 172 and the switching valve 18 are switched between an open state and a closed state based on a control signal from the first control unit 30.

탈기 모듈(173)은, 측정 배관(171)을 흐르는 바니스 중에 존재하는 기포(마이크로 버블)를 제거하는 장치이다. 탈기 모듈(173)은, 측정 배관(171)에 설치되어 있고, 개폐 밸브(172)와 측정 모듈(174) 사이에서 위치한다.The degassing module 173 is a device that removes air bubbles (microbubbles) present in the varnish flowing through the measurement pipe 171. The degassing module 173 is installed in the measurement pipe 171 and is located between the on-off valve 172 and the measurement module 174.

측정 모듈(174)은, 탈기 모듈(173)보다 하류 측에 배치되어 있다. 측정 모듈(174)은, 바니스 중에 포함되는 미소한 파티클량을 측정한다. 측정 모듈(174)은, 파티클의 크기 및 수를 측정하는 파티클 카운터이다. 측정 모듈(174)은, 바니스에 광을 조사하고, 파티클에서 산란한 광을 센서로 검출함으로써, 파티클량을 측정하도록 구성된다. 또, 측정 모듈(174)은, 바니스에 광을 조사하고, 파티클에 의한 차광을 센서로 검출함으로써, 파티클의 크기 및 수를 측정하도록 구성되어 있어도 된다.The measurement module 174 is located downstream from the degassing module 173. The measurement module 174 measures the amount of minute particles contained in the varnish. The measurement module 174 is a particle counter that measures the size and number of particles. The measurement module 174 is configured to measure the amount of particles by irradiating light to the varnish and detecting the light scattered from the particles with a sensor. Additionally, the measurement module 174 may be configured to measure the size and number of particles by irradiating light to the varnish and detecting light blocking by the particles with a sensor.

측정 모듈(174)이 측정하는 파티클의 크기는, 예를 들면, 10μm 이하이며, 보다 바람직하게는, 5μm 이하이다. 몇개의 크기의 파티클마다, 수를 카운트할 수 있도록 구성된다.The size of the particles measured by the measurement module 174 is, for example, 10 μm or less, and more preferably, 5 μm or less. It is configured so that the number can be counted for each particle size.

측정 모듈(174)로 파티클량을 측정하는 경우, 개폐 밸브(172)가 열린 상태가 됨과 더불어, 전환 밸브(18)가 닫힌 상태가 된다. 그 후, 어시스트 펌프(P1)의 구동에 의해, 바니스가 제2 급액 배관(14)으로부터 측정 배관(171)으로 흘러들어가, 탈기 모듈(173)로 보내진다. 그리고, 탈기 모듈(173)에 의해 탈기된 바니스가 측정 모듈(174)로 보내진다.When measuring the amount of particles with the measurement module 174, the opening/closing valve 172 is opened and the switching valve 18 is closed. Afterwards, by driving the assist pump P1, the varnish flows from the second liquid supply pipe 14 to the measurement pipe 171 and is sent to the degassing module 173. Then, the varnish degassed by the degassing module 173 is sent to the measurement module 174.

도 1에 나타내는 바와 같이, 측정 배관(171)의 단부는, 배액 라인에 접속되어 있다. 측정 모듈(174)을 통과한 바니스는, 배액 라인으로 보내져, 폐기된다. 또한, 측정 모듈(174)을 통과한 바니스를, 다시 제2 급액 배관(14) 등으로 되돌리기 위한 배관이 설치되어 있어도 된다.As shown in FIG. 1, the end of the measurement pipe 171 is connected to a drainage line. The varnish that has passed the measurement module 174 is sent to the drain line and discarded. Additionally, a pipe may be provided to return the varnish that has passed through the measurement module 174 back to the second liquid supply pipe 14 or the like.

측정 배관(171)의 내측 면적은, 제2 급액 배관(14)의 내측 면적보다 작다. 이 때문에, 측정 배관(171)으로 보내지는 바니스의 양을 적게 할 수 있다. 이에 의해, 소량의 바니스로 파티클량을 측정할 수 있기 때문에, 바니스의 소비량을 줄일 수 있다. 또, 측정 모듈(174)이 소량의 바니스를 이용하여 파티클량을 측정하도록 구성되어 있는 경우에는, 측정 배관(171)의 내측 면적을 작게 함으로써, 측정 모듈(174)에 의해 파티클량을 적절히 측정할 수 있다.The inner area of the measurement pipe 171 is smaller than the inner area of the second liquid supply pipe 14. For this reason, the amount of varnish sent to the measurement pipe 171 can be reduced. As a result, the amount of particles can be measured with a small amount of varnish, so the amount of varnish consumed can be reduced. In addition, when the measurement module 174 is configured to measure the particle amount using a small amount of varnish, the particle amount can be appropriately measured by the measurement module 174 by reducing the inner area of the measurement pipe 171. You can.

도 2는, 도 1에 나타내는 탈기 모듈(173)의 구조를 나타내는 단면도이다. 탈기 모듈(173)은, 이른바 중공사막 탈기 모듈이다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 탈기 모듈(173)은, 통형상의 케이싱(41)과, 복수의 중공사막(42)과, 감압 기구(43)를 가진다.FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of the degassing module 173 shown in FIG. 1. The degassing module 173 is a so-called hollow fiber membrane degassing module. As shown in FIG. 2 , the degassing module 173 has a cylindrical casing 41, a plurality of hollow fiber membranes 42, and a pressure reducing mechanism 43.

케이싱(41)은, 유입구(411), 유출구(412), 및 2개의 배기구(413)를 가진다. 유입구(411)는, 케이싱(41)의 일단에 설치되고, 유출구(412)는, 케이싱(41)의 타단에 설치된다. 탈기 모듈(173)은, 유입구(411) 및 유출구(412)를 통해, 측정 배관(171)에 접속된다. 배기구(413)는, 케이싱(41)의 측부에 설치되고, 감압 기구(43)와 접속되어 있다.The casing 41 has an inlet 411, an outlet 412, and two exhaust ports 413. The inlet 411 is installed at one end of the casing 41, and the outlet 412 is installed at the other end of the casing 41. The degassing module 173 is connected to the measurement pipe 171 through the inlet 411 and the outlet 412. The exhaust port 413 is installed on the side of the casing 41 and is connected to the pressure reducing mechanism 43.

중공사막(42)은, 가는 통형상의 막이다. 모든 중공사막(42)의 일단은, 각각 유입구(411)에 유로 접속된다. 또, 모든 중공사막(42)의 타단은, 각각 유출구(412)에 유로 접속된다. 이에 의해, 측정 배관(171) 내에 바니스의 흐름이 생기면, 유입구(411)로부터 중공사막(42)에 바니스가 공급되고, 유출구(412)로부터 당해 바니스가 배출된다.The hollow fiber membrane 42 is a thin, cylindrical membrane. One end of all hollow fiber membranes 42 is connected to the inlet 411 in a flow path. In addition, the other ends of all hollow fiber membranes 42 are each connected to the outlet 412 as a flow path. As a result, when a flow of varnish occurs in the measuring pipe 171, the varnish is supplied to the hollow fiber membrane 42 from the inlet 411 and the varnish is discharged from the outlet 412.

이 중공사막(42)은, 탈기 처리에 이용되기 때문에, 액체를 통과시키지 않고, 또한, 기체를 투과 가능한 기체 투과막에 의해 형성된다. 탈기 모듈(173)에서 이용되는 중공사막(42)의 내경은, 0.5mm~3mm이다. 또, 탈기 모듈(173)에 이용되는 중공사막(42)의 수는, 100개~1000개 정도이다. 또한, 탈기 모듈(173)에 이용되는 중공사막(42)의 내경 및 수는, 바니스의 종류나 유량에 따라 적절히 변경될 수 있다.Since this hollow fiber membrane 42 is used for degassing, it is formed of a gas permeable membrane that does not allow liquid to pass through but also allows gas to pass through. The inner diameter of the hollow fiber membrane 42 used in the degassing module 173 is 0.5 mm to 3 mm. Additionally, the number of hollow fiber membranes 42 used in the degassing module 173 is approximately 100 to 1000. Additionally, the inner diameter and number of hollow fiber membranes 42 used in the degassing module 173 may be appropriately changed depending on the type or flow rate of the varnish.

감압 기구(43)는, 감압 배관(431) 및 감압 펌프(432)를 포함한다. 감압 배관(431)의 일단은, 2개로 분기되고, 케이싱(41)의 배기구(413)에 접속된다. 또, 감압 배관(431)의 타단은, 감압 펌프(432)에 접속된다. 감압 펌프(432)가 구동하면, 감압 배관(431) 및 2개의 배기구(413)를 통해, 케이싱(41) 내의 공간으로부터 기체가 흡인된다. 이에 의해, 케이싱(41) 내의 공간의 기압이 저하한다. 즉, 중공사막(42)의 외부의 공간의 기압이 저하한다. 또한, 도 2의 예에서는, 배기구(413)가 2개였는데, 배기구(413)는 1개여도 되고, 3개 이상이어도 된다.The pressure reduction mechanism 43 includes a pressure reduction pipe 431 and a pressure reduction pump 432. One end of the pressure reducing pipe 431 is branched into two and connected to the exhaust port 413 of the casing 41. Additionally, the other end of the pressure reduction pipe 431 is connected to the pressure reduction pump 432. When the pressure reduction pump 432 is driven, gas is sucked in from the space within the casing 41 through the pressure reduction pipe 431 and the two exhaust ports 413. As a result, the atmospheric pressure in the space within the casing 41 decreases. That is, the atmospheric pressure of the space outside the hollow fiber membrane 42 decreases. Furthermore, in the example of FIG. 2, there were two exhaust ports 413, but there may be one exhaust port 413 or three or more exhaust ports 413.

이와 같이, 중공사막(42)의 외부의 공간을 중공사막(42)의 내부보다 낮은 압력으로 함으로써, 중공사막(42)의 내부를 통과하는 액체 중의 기포나, 당해 액체에 용해하고 있는 기체를, 중공사막(42)의 외부의 공간으로 배출할 수 있다. 이에 의해, 중공사막(42) 내의 액체를 탈기할 수 있다.In this way, by making the outside space of the hollow fiber membrane 42 a lower pressure than the inside of the hollow fiber membrane 42, bubbles in the liquid passing through the inside of the hollow fiber membrane 42 or gas dissolved in the liquid are It can be discharged to the space outside the hollow fiber membrane 42. Thereby, the liquid in the hollow fiber membrane 42 can be degassed.

도 1에 나타내는 바와 같이, 제2 급액 배관(14)의 하류 측의 단부는, 급액구(19)가 되고 있다. 급액구(19)는, 도포 유닛(20)의 제3 급액 배관(23)에 접속되어 있다. 급액구(19)는, 공급처인 도포 유닛(20)에 바니스를 공급한다.As shown in FIG. 1, the downstream end of the second liquid supply pipe 14 serves as the liquid supply port 19. The liquid supply port 19 is connected to the third liquid supply pipe 23 of the application unit 20. The liquid supply port 19 supplies varnish to the application unit 20, which is the supply source.

도 3은, 도 1에 나타내는 도포 유닛(20)의 사시도이다. 도 1 및 도 3에 나타내는 바와 같이, 도포 유닛(20)은, 스테이지(21), 슬릿 노즐(22), 제3 급액 배관(23), 노즐 유지부(24), 및 주행 기구(25)를 가진다. 또한, 이하에서는, 설명의 편의상, 도포 유닛(20)에 있어서의 슬릿 노즐(22)의 이동 방향을 「전후 방향」이라 칭하고, 전후 방향에 직교하는 수평 방향을 「좌우 방향」이라 칭한다.FIG. 3 is a perspective view of the application unit 20 shown in FIG. 1. 1 and 3, the application unit 20 includes a stage 21, a slit nozzle 22, a third liquid supply pipe 23, a nozzle holding portion 24, and a travel mechanism 25. have In addition, hereinafter, for convenience of explanation, the moving direction of the slit nozzle 22 in the application unit 20 is called the "front-back direction", and the horizontal direction orthogonal to the front-back direction is called "left-right direction."

스테이지(21)는, 캐리어 기판(C)을 재치하여 유지하는 대략 직육면체형의 유지대이다. 스테이지(21)는, 예를 들면 일체의 석재에 의해 형성된다. 스테이지(21)의 상면은, 평탄한 기판 유지면(211)이 되고 있다. 기판 유지면(211)에는, 다수의 진공 흡착 구멍(도시 생략)이 설치되어 있다. 기판 유지면(211)에 캐리어 기판(C)이 재치되면, 진공 흡착 구멍의 흡인력에 의해, 캐리어 기판(C)의 하면이 기판 유지면(211)에 흡착한다. 이에 의해, 스테이지(21) 상에 캐리어 기판(C)이 수평 자세로 고정된다. 또, 스테이지(21)의 내부에는, 복수의 리프트 핀(도시 생략)이 설치되어 있다. 스테이지(21)로부터 캐리어 기판(C)을 반출할 때에는, 기판 유지면(211) 상에 복수의 리프트 핀이 돌출한다. 이에 의해, 기판 유지면(211)으로부터 캐리어 기판(C)이 떼어진다.The stage 21 is a substantially rectangular parallelepiped holding table on which the carrier substrate C is placed and held. The stage 21 is formed of, for example, a piece of stone. The upper surface of the stage 21 serves as a flat substrate holding surface 211. A plurality of vacuum suction holes (not shown) are provided on the substrate holding surface 211. When the carrier substrate C is placed on the substrate holding surface 211, the lower surface of the carrier substrate C is attracted to the substrate holding surface 211 by the suction force of the vacuum suction hole. Thereby, the carrier substrate C is fixed on the stage 21 in a horizontal position. Additionally, a plurality of lift pins (not shown) are installed inside the stage 21. When unloading the carrier substrate C from the stage 21, a plurality of lift pins protrude on the substrate holding surface 211. As a result, the carrier substrate C is separated from the substrate holding surface 211.

슬릿 노즐(22)은, 바니스를 토출하는 노즐이다. 슬릿 노즐(22)은, 좌우 방향으로 연장되는 노즐 보디(221)를 가진다. 노즐 보디(221)의 하단부에는, 좌우 방향으로 연장되는 슬릿형상의 토출구(223)가, 설치되어 있다. 토출구(223)는, 스테이지(21) 상에 재치된 캐리어 기판(C)의 상면에 대향한다.The slit nozzle 22 is a nozzle that discharges varnish. The slit nozzle 22 has a nozzle body 221 extending in the left and right directions. At the lower end of the nozzle body 221, a slit-shaped discharge port 223 extending in the left and right directions is provided. The discharge port 223 faces the upper surface of the carrier substrate C placed on the stage 21.

제3 급액 배관(23)은, 슬릿 노즐(22)에 바니스를 공급하기 위한 배관이다. 제3 급액 배관(23)의 상류 측의 단부는, 상술한 급액구(19)에 접속되어 있다. 제3 급액 배관(23)의 하류 측의 단부는, 슬릿 노즐(22)에 접속되어 있다. 또, 제3 급액 배관(23)의 경로 상에는, 메인 펌프(P2)가 설치되어 있다. 메인 펌프(P2)를 동작시키면, 제2 급액 배관(14)으로부터 공급되는 바니스가, 슬릿 노즐(22)의 내부로 도입된다. 그리고, 슬릿 노즐(22)의 토출구(223)로부터 캐리어 기판(C)의 상면을 향해, 바니스가 토출된다.The third liquid supply pipe 23 is a pipe for supplying varnish to the slit nozzle 22. The upstream end of the third liquid supply pipe 23 is connected to the liquid supply port 19 described above. The downstream end of the third liquid supply pipe 23 is connected to the slit nozzle 22. Additionally, a main pump P2 is installed on the path of the third liquid supply pipe 23. When the main pump P2 is operated, the varnish supplied from the second liquid supply pipe 14 is introduced into the slit nozzle 22. Then, the varnish is discharged from the discharge port 223 of the slit nozzle 22 toward the upper surface of the carrier substrate C.

노즐 유지부(24)는, 슬릿 노즐(22)을 기판 유지면(211)의 상방에 유지하기 위한 기구이다. 노즐 유지부(24)는, 스테이지(21)의 상방에 있어서 좌우 방향으로 연장되는 가교부(241)와, 가교부(241)의 양단을 지지하는 한 쌍의 지지부(242)를 가진다. 또, 노즐 유지부(24)는, 승강 기구(243)를 가진다. 승강 기구(243)를 동작시키면, 가교부(241)의 높이가 변화한다. 이에 의해, 슬릿 노즐(22)의 높이를 조절할 수 있다.The nozzle holding portion 24 is a mechanism for holding the slit nozzle 22 above the substrate holding surface 211 . The nozzle holding portion 24 has a bridge portion 241 extending in the left and right directions above the stage 21 and a pair of support portions 242 that support both ends of the bridge portion 241. Additionally, the nozzle holding portion 24 has a lifting mechanism 243. When the lifting mechanism 243 is operated, the height of the bridge portion 241 changes. Thereby, the height of the slit nozzle 22 can be adjusted.

주행 기구(25)는, 슬릿 노즐(22)을 전후 방향으로 이동시키기 위한 기구이다. 주행 기구(25)는, 한 쌍의 레일(251)과, 한 쌍의 리니어 모터(252)를 가진다. 한 쌍의 레일(251)은, 스테이지(21)의 좌우의 측부 부근에 있어서 전후 방향으로 연장된다. 한 쌍의 레일(251)은, 한 쌍의 지지부(242)의 이동 방향을 전후 방향으로 규제하는 리니어 가이드로서 기능한다. 한 쌍의 리니어 모터(252)는, 자기적인 동력에 의해, 한 쌍의 지지부(242)를, 레일(251)을 따라 전후 방향으로 이동시킨다. 이에 의해, 노즐 유지부(24)와 함께 슬릿 노즐(22)이, 전후 방향으로 이동한다.The traveling mechanism 25 is a mechanism for moving the slit nozzle 22 in the front-back direction. The traveling mechanism 25 has a pair of rails 251 and a pair of linear motors 252. A pair of rails 251 extends in the front-back direction near the left and right sides of the stage 21. The pair of rails 251 functions as a linear guide that regulates the moving direction of the pair of supports 242 in the front-back direction. The pair of linear motors 252 move the pair of supports 242 in the front-back direction along the rail 251 by magnetic power. As a result, the slit nozzle 22 moves in the front-back direction together with the nozzle holding portion 24.

도포 처리를 행할 때에는, 도포 유닛(20)은, 캐리어 기판(C)의 상방에 있어서, 슬릿 노즐(22)을 전후 방향으로 이동시키면서, 토출구(223)로부터 바니스를 토출한다. 이에 의해, 캐리어 기판(C)의 상면에 바니스가 도포된다.When performing the application process, the application unit 20 discharges varnish from the discharge port 223 while moving the slit nozzle 22 in the front-back direction above the carrier substrate C. As a result, varnish is applied to the upper surface of the carrier substrate C.

도 4는, 제1 제어부(30)와, 도포 장치(1) 내의 각 부의 접속을 나타낸 블록도이다. 제1 제어부(30)는, CPU 등의 프로세서(31), RAM 등의 메모리(32), 및 하드 디스크 드라이브 등의 기억부(33)를 가진다. 제1 제어부(30)는, 리프트 핀, 주행 기구(25), 메인 펌프(P2) 등의 도포 유닛(20)과, 각각 전기적으로 접속되어 있다. 또, 제1 제어부(30)는, 급액 유닛(10)에 설치된 밸브, 어시스트 펌프(P1), 감압 펌프(162), 및 이동 기구(244)와, 전기적으로 접속되어 있다. 제1 제어부(30)는, 기억부(33)에 기억된 컴퓨터 프로그램이나 데이터를, 메모리(32)에 일시적으로 독출시키고, 당해 컴퓨터 프로그램 및 데이터에 의거하여, 프로세서(31)가 연산 처리를 행함으로써, 도포 장치(1) 내의 각 부를 동작 제어한다. 이에 의해, 캐리어 기판(C)에 대한 도포 처리가 진행된다. 제1 제어부(30)는, 화상을 표시하는 디스플레이(311), 및, 입력 디바이스(312)와 전기적으로 접속되어 있다. 입력 디바이스(312)는, 마우스, 키보드 또는 터치 패널이다.FIG. 4 is a block diagram showing the connection of the first control unit 30 and each part within the applicator 1. The first control unit 30 has a processor 31 such as a CPU, a memory 32 such as RAM, and a storage unit 33 such as a hard disk drive. The first control unit 30 is electrically connected to application units 20 such as the lift pin, the traveling mechanism 25, and the main pump P2, respectively. In addition, the first control unit 30 is electrically connected to the valve, the assist pump P1, the pressure reducing pump 162, and the moving mechanism 244 installed in the liquid supply unit 10. The first control unit 30 temporarily reads the computer program or data stored in the storage unit 33 into the memory 32, and causes the processor 31 to perform calculation processing based on the computer program and data. By doing so, the operation of each part within the applicator 1 is controlled. As a result, the coating process on the carrier substrate C progresses. The first control unit 30 is electrically connected to a display 311 that displays images and an input device 312. The input device 312 is a mouse, keyboard, or touch panel.

제1 제어부(30)는, 상술한 교반 기구(131), 레귤레이터(153), 감압 펌프(162), 제1 급액 밸브(V11), 제2 급액 밸브(V12), 제1 가압 밸브(V21), 제2 가압 밸브(V22), 어시스트 펌프(P1), 측정 모듈(174) 등, 급액 유닛(10) 내의 각 부와, 전기적으로 접속되어 있다. 또, 제1 제어부(30)는, 상술한 리프트 핀, 메인 펌프(P2), 승강 기구(243), 리니어 모터(252) 등의, 도포 유닛(20) 내의 각 부와도, 전기적으로 접속되어 있다.The first control unit 30 includes the above-mentioned stirring mechanism 131, regulator 153, pressure reducing pump 162, first water supply valve (V11), second water supply valve (V12), and first pressure valve (V21). , the second pressure valve V22, the assist pump P1, the measurement module 174, etc., are electrically connected to each part in the liquid supply unit 10. In addition, the first control unit 30 is also electrically connected to each part in the application unit 20, such as the lift pin, main pump P2, lifting mechanism 243, and linear motor 252. there is.

제1 제어부(30)는, 기억부(33)에 기억된 컴퓨터 프로그램이나 데이터를, 메모리(32)에 일시적으로 독출시키고, 당해 컴퓨터 프로그램 및 데이터에 의거하여, 프로세서(31)가 연산 처리를 행함으로써, 도포 장치(1) 내의 각 부를 동작 제어한다. 이에 의해, 캐리어 기판(C)에 대한 도포 처리가 진행된다.The first control unit 30 temporarily reads the computer program or data stored in the storage unit 33 into the memory 32, and causes the processor 31 to perform calculation processing based on the computer program and data. By doing so, the operation of each part within the applicator 1 is controlled. As a result, the coating process on the carrier substrate C progresses.

예를 들면, 제1 제어부(30)는, 측정 모듈(174)이 측정한 파티클량에 의거하여, 제2 필터(F2)의 수명을 판정하는 수명 판정 처리를 행한다. 구체적으로는, 제1 제어부(30)는, 파티클량이, 미리 설정된 역치를 초과하는지를 판정한다. 그리고, 제1 제어부(30)는, 수명 판정 처리에 의해, 파티클량이 역치를 초과했다고 판정한 경우, 제2 필터(F2)가 수명에 달했다고 판정한다. 제1 제어부(30)는, 판정부의 일례이다.For example, the first control unit 30 performs life determination processing to determine the lifespan of the second filter F2 based on the particle amount measured by the measurement module 174. Specifically, the first control unit 30 determines whether the particle amount exceeds a preset threshold. Then, when the first control unit 30 determines through the lifespan determination process that the particle amount exceeds the threshold, it determines that the second filter F2 has reached its lifespan. The first control unit 30 is an example of a determination unit.

제1 제어부(30)는, 수명 판정 처리에 의해, 제2 필터(F2)가 수명에 달했다고 판정한 경우, 디스플레이(311)로 하여금 화상을 표시하게 해도 된다. 제1 제어부(30)가 디스플레이(311)로 하여금 표시하게 하는 화상은, 예를 들면, 제2 필터(F2)가 수명을 다했음을 나타내는 화상이어도 되고, 제2 필터(F2)의 교환을 재촉하는 화상이어도 된다. 이러한 표시가 행해짐으로써, 오퍼레이터는, 제2 필터(F2)가 교환해야 할 상태인 것을 파악할 수 있다. 디스플레이(311)는, 제1 제어부(30)의 판정 결과를 출력하는 출력부로서 기능한다. 또한, 출력부는, 디스플레이(311)로 한정되는 것이 아니고, 예를 들면, 경고 표시를 행하는 램프, 경고음을 발하는 스피커, 인쇄물을 출력하는 프린터 등이어도 된다.When the first control unit 30 determines that the second filter F2 has reached its lifespan through life determination processing, it may cause the display 311 to display an image. The image that the first control unit 30 causes the display 311 to display may be, for example, an image indicating that the second filter F2 has reached the end of its life, or an image urging replacement of the second filter F2. It can be a burn. By making such a display, the operator can determine that the second filter F2 is in a state that needs to be replaced. The display 311 functions as an output unit that outputs the decision result of the first control unit 30. Additionally, the output unit is not limited to the display 311, and may be, for example, a lamp that displays a warning, a speaker that emits a warning sound, or a printer that outputs printed matter.

측정 모듈(174)이, 파티클의 크기마다 수를 측정할 수 있는 경우, 파티클의 크기마다 역치가 미리 설정되어도 된다. 이 경우, 제1 제어부(30)는, 모든 파티클의 크기 중 일부의 전부에 대해, 파티클량이 역치를 초과했다고 판정한 경우에, 제2 필터(F2)가 수명에 달했다고 판정하도록 해도 된다.If the measurement module 174 can measure the number of particles for each size, a threshold may be set in advance for each particle size. In this case, when the first control unit 30 determines that the particle amount exceeds the threshold for some or all of the sizes of all particles, it may determine that the second filter F2 has reached its lifespan.

<에이징><Aging>

신품의 제2 필터(F2)는, 고점도의 바니스가 통과됨으로써, 이물이 제2 필터(F2)로부터 이탈할 우려가 있다. 이 때문에, 급액 유닛(10)에 있어서, 신품의 제2 필터(F2)에 바니스를 통과시킴으로써, 제2 필터(F2)를 에이징해도 된다. 제2 필터(F2)를 에이징하는 경우, 급액구(19)를 배액 라인에 접속함으로써, 바니스를 폐기해도 된다. 또, 급액구(19)로부터 배출되는 바니스를, 제2 필터(F2)보다 상류 측으로 되돌림으로써, 다시 제2 필터(F2)에 통과시키도록 해도 된다.As high-viscosity varnish passes through the new second filter (F2), there is a risk that foreign substances may escape from the second filter (F2). For this reason, in the liquid supply unit 10, the second filter F2 may be aged by passing varnish through the new second filter F2. When aging the second filter F2, the varnish may be discarded by connecting the liquid supply port 19 to the discharge line. Additionally, the varnish discharged from the liquid supply port 19 may be returned to the upstream side of the second filter F2 and allowed to pass through the second filter F2 again.

제2 필터(F2)를 에이징하는 동안, 제1 제어부(30)는, 측정 모듈(174)로 하여금 바니스 중의 파티클량을 측정하게 한다. 그리고, 제1 제어부(30)는, 측정 모듈(174)이 측정한 파티클량에 의거하여, 에이징 판정 처리를 행한다. 구체적으로는, 제1 제어부(30)는, 측정 모듈(174)이 측정한 파티클량이, 소정의 역치를 밑도는지 여부를 판정한다. 제1 제어부(30)는, 파티클량이 소정의 역치를 밑돌았을 경우, 에이징이 완료됐다고 판정한다. 제1 제어부(30)는, 에이징이 완료됐다고 판정한 경우, 디스플레이(311)로 하여금 제2 필터(F2)의 에이징이 완료됐음을 나타내는 화상을 표시하게 한다. 이러한 표시가 행해짐으로써, 오퍼레이터는, 제2 필터(F2)의 에이징이 완료된 것을 파악할 수 있다.While aging the second filter F2, the first control unit 30 causes the measurement module 174 to measure the amount of particles in the varnish. Then, the first control unit 30 performs aging determination processing based on the particle amount measured by the measurement module 174. Specifically, the first control unit 30 determines whether the particle amount measured by the measurement module 174 is below a predetermined threshold. The first control unit 30 determines that aging is complete when the particle amount is below a predetermined threshold. When determining that aging has been completed, the first control unit 30 causes the display 311 to display an image indicating that aging of the second filter F2 has been completed. By performing this display, the operator can determine that the aging of the second filter F2 has been completed.

<효과><Effect>

이상과 같이, 급액 유닛(10)에 있어서는, 파티클량의 측정 결과에 의거하여, 제2 필터(F2)가 수명을 다했는지를, 적절히 판단할 수 있다. 따라서, 수명을 넘긴 제2 필터(F2)의 사용에 의해, 제품에 불량이 발생하는 것을 억제할 수 있다.As described above, in the liquid supply unit 10, it can be appropriately determined whether the second filter F2 has reached the end of its life based on the particle amount measurement results. Therefore, the occurrence of defects in the product can be suppressed by using the second filter F2 whose service life has exceeded its life.

또, 급액 유닛(10)에 있어서, 제2 필터(F2)의 에이징을 행하는 경우에는, 에이징을 완료해야 하는지를, 파티클량에 의거하여, 적절히 판단할 수 있다. 따라서, 제2 필터(F2)가 과도하게 에이징되거나, 혹은, 제2 필터(F2)의 에이징이 부족하거나 하는 것을 억제할 수 있다.In addition, when aging the second filter F2 in the liquid supply unit 10, it can be appropriately determined whether aging should be completed based on the particle amount. Accordingly, excessive aging of the second filter F2 or insufficient aging of the second filter F2 can be suppressed.

또, 급액 유닛(10)에서는, 파티클량의 측정이, 측정 배관(171) 상에 배치된 측정 모듈(174)에 의해 행해진다. 이 때문에, 바니스를 외부로 취출하여 파티클량을 측정하는 경우에 비해, 파티클량의 측정에 관련된 작업 부담을 줄일 수 있다. 또, 장치로부터 바니스를 외부로 취출하는 경우, 취출 시나 측정 시에, 외부로부터의 파티클 혼입에 의한 바니스 자체가 오염될 가능성이 있어, 측정 정밀도가 저하해 버리는 리스크가 있으나, 인라인화함으로써, 그 리스크를 저감할 수 있다.Additionally, in the liquid supply unit 10, the particle amount is measured by the measurement module 174 disposed on the measurement pipe 171. For this reason, compared to the case where the particle amount is measured by taking out the varnish to the outside, the work burden related to measuring the particle amount can be reduced. Additionally, when removing the varnish from the device to the outside, there is a risk that the varnish itself may be contaminated by particles from the outside during removal or measurement, resulting in a decrease in measurement accuracy. However, by in-lining, this risk is eliminated. can be reduced.

<2. 제2 실시 형태><2. Second embodiment>

다음에, 제2 실시 형태에 대해 설명한다. 또한, 이후의 설명에 있어서, 이미 설명한 요소와 동일한 기능을 가지는 요소에 대해서는, 같은 부호 또는 알파벳 문자를 추가한 부호를 달아, 상세한 설명을 생략하는 경우가 있다.Next, the second embodiment will be described. In addition, in the following description, elements having the same function as elements already explained may be given the same symbol or a symbol with an alphabet character added thereto, and detailed description may be omitted.

도 5는, 제2 실시 형태에 따른 도포 장치(1A)의 구성을 나타내는 도면이다. 도포 장치(1A)는, 도 1에 나타내는 도포 장치(1)와 거의 동일한 구성을 구비한다. 단, 도포 장치(1A)에서는, 측정 기구(17)의 측정 배관(171)의 상류 측의 단부가, 제2 급액 배관(14)에 있어서의, 제2 필터(F2)와 어시스트 펌프(P1) 사이의 위치에 접속되어 있다. 도포 장치(1A)에서는, 파티클량을 측정하는 경우, 가압 기구(15)가 공급 탱크(11)를 가압함으로써, 제2 급액 배관(14)의 바니스가 측정 배관(171)으로 보내진다. 이 경우, 파티클량의 측정에 필요한 바니스를 측정 배관(171)으로 보내면서, 캐리어 기판(C)에 도포하기 위해서 필요한 양의 바니스를 어시스트 펌프(P1)에 의해 보낼 수 있다. 따라서, 도포 처리를 중단하지 않고, 파티클량을 측정할 수 있다. 또한, 파티클량을 측정하는 경우에는, 개폐 밸브(172) 및 전환 밸브(18)를 제어함으로써, 슬릿 노즐(22)로의 바니스의 공급이 정지되어도 된다.FIG. 5 is a diagram showing the configuration of 1A of coating devices according to the second embodiment. The applicator 1A has substantially the same structure as the applicator 1 shown in FIG. 1 . However, in the applicator 1A, the upstream end of the measurement pipe 171 of the measurement instrument 17 is connected to the second filter F2 and the assist pump P1 in the second liquid supply pipe 14. It is connected to a location in between. In the application device 1A, when measuring the amount of particles, the pressurizing mechanism 15 pressurizes the supply tank 11, so that the varnish in the second liquid supply pipe 14 is sent to the measurement pipe 171. In this case, while the varnish required for measuring the particle amount is sent to the measurement pipe 171, the amount of varnish required for application to the carrier substrate C can be sent by the assist pump P1. Therefore, the particle amount can be measured without stopping the application process. Additionally, when measuring the amount of particles, the supply of varnish to the slit nozzle 22 may be stopped by controlling the opening/closing valve 172 and the switching valve 18.

<3. 제3 실시 형태><3. Third embodiment>

도 6은, 제3 실시 형태에 따른 에이징 장치(2)의 구성을 나타내는 도면이다. 에이징 장치(2)는, 도포 장치(1)의 급액 유닛(10)에 장착되는 제2 필터(F2)를 에이징하기 위한 장치이다. 도 6에 나타내는 바와 같이, 에이징 장치(2)는, 제1 탱크(51), 제2 탱크(52), 배관부(60), 가압 기구(70), 및 제2 제어부(80)를 구비하고 있다.FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the aging device 2 according to the third embodiment. The aging device 2 is a device for aging the second filter F2 mounted on the liquid supply unit 10 of the applicator 1. As shown in FIG. 6, the aging device 2 includes a first tank 51, a second tank 52, a piping section 60, a pressurizing mechanism 70, and a second control section 80. there is.

제1 탱크(51) 및 제2 탱크(52)는, 제1 필터(F1) 및 제2 필터(F2)를 에이징하기 위한 고점도의 바니스를 저류하는 용기이다. 제1 탱크(51)와 제2 탱크(52)는, 서로 별체의 탱크이다. 또, 제1 탱크(51) 및 제2 탱크(52)는, 후술하는 가압 기구(70)에 의한 가압을 견딜 수 있는, 내압성의 밀폐 용기이다. 제1 탱크(51)는, 공급 배관(53)을 통해, 바니스 공급원(54)과 접속되어 있다. 공급 배관(53)의 경로 상에 설치된 공급 밸브(V30)를 개방하면, 바니스 공급원(54)으로부터 공급 배관(53)을 통과하여 제1 탱크(51)로, 바니스가 공급된다.The first tank 51 and the second tank 52 are containers that store high-viscosity varnish for aging the first filter F1 and the second filter F2. The first tank 51 and the second tank 52 are separate tanks. In addition, the first tank 51 and the second tank 52 are pressure-resistant sealed containers that can withstand pressurization by a pressurizing mechanism 70, which will be described later. The first tank 51 is connected to the varnish supply source 54 through a supply pipe 53. When the supply valve V30 installed on the path of the supply pipe 53 is opened, the varnish is supplied from the varnish source 54 to the first tank 51 through the supply pipe 53.

바니스 공급원(54)으로부터 공급되는 바니스는, 도포 장치(1, 1A)에서 사용되는 바니스와 동일한 처리액이다. 따라서, 바니스 공급원(54)으로부터 공급되는 바니스의 점도는, 도포 장치(1)에 있어서 사용되는 바니스의 점도와 동일하다. 또한, 바니스와는 상이한 종류의, 고점도의 처리액을 이용하여, 에이징이 행해져도 된다.The varnish supplied from the varnish supply source 54 is the same treatment liquid as the varnish used in the application devices 1 and 1A. Accordingly, the viscosity of the varnish supplied from the varnish supply source 54 is the same as the viscosity of the varnish used in the application device 1. Additionally, aging may be performed using a high viscosity treatment liquid different from that of varnish.

배관부(60)는, 제1 주배관(61), 제2 주배관(62), 제1 분기 배관(63), 및 제2 분기 배관(64)을 가진다. 제1 주배관(61)의 일단은, 제1 탱크(51)의 하부에 접속되어 있다. 제1 분기 배관(63)의 일단 및 제2 분기 배관(64)의 일단은, 제1 주배관(61)의 타단에 각각 접속되어 있다. 제1 분기 배관(63)의 타단 및 제2 분기 배관(64)의 타단은, 제2 주배관(62)의 일단에 각각 접속되어 있다. 제2 주배관(62)의 타단은, 제2 탱크(52)의 하부에 접속되어 있다. 즉, 제1 분기 배관(63) 및 제2 분기 배관(64)은, 제1 탱크(51)와 제2 탱크(52) 사이에 있어서, 병렬로 연장되어 있다. 제1 분기 배관(63)은, 본 발명에 있어서의 제1 송액 배관의 일례이다. 제2 분기 배관(64)은, 본 발명에 있어서의 제2 송액 배관의 일례이다.The piping section 60 has a first main pipe 61, a second main pipe 62, a first branch pipe 63, and a second branch pipe 64. One end of the first main pipe (61) is connected to the lower part of the first tank (51). One end of the first branch pipe 63 and one end of the second branch pipe 64 are respectively connected to the other end of the first main pipe 61. The other end of the first branch pipe 63 and the other end of the second branch pipe 64 are respectively connected to one end of the second main pipe 62. The other end of the second main pipe (62) is connected to the lower part of the second tank (52). That is, the first branch pipe 63 and the second branch pipe 64 extend in parallel between the first tank 51 and the second tank 52. The first branch pipe 63 is an example of the first liquid delivery pipe in the present invention. The second branch pipe 64 is an example of the second liquid delivery pipe in the present invention.

제1 분기 배관(63)에는, 전환 밸브(V31) 및 전환 밸브(V32)가 설치되어 있다. 제1 분기 배관(63)은, 전환 밸브(V31)와 전환 밸브(V32) 사이에, 제1 필터(F1)를 장착 가능한 제1 장착부(65)를 가진다. 제2 분기 배관(64)에는, 전환 밸브(V33) 및 전환 밸브(V34)가, 설치되어 있다. 제2 분기 배관(64)은, 전환 밸브(V33)와 전환 밸브(V34) 사이에, 제2 필터(F2)를 장착 가능한 제2 장착부(66)를 가진다.A switching valve V31 and a switching valve V32 are installed in the first branch pipe 63. The first branch pipe 63 has a first mounting portion 65 on which the first filter F1 can be mounted between the switching valve V31 and the switching valve V32. A switching valve V33 and a switching valve V34 are installed in the second branch pipe 64. The second branch pipe 64 has a second mounting portion 66 on which the second filter F2 can be mounted between the switching valve V33 and the switching valve V34.

가압 기구(70)는, 제1 탱크(51) 및 제2 탱크(52)로, 송액을 위한 압력을 공급하는 기구이다. 도 6에 나타내는 바와 같이, 가압 기구(70)는, 고압 기체 공급원(71), 가압 배관(72), 레귤레이터(73), 전환 밸브(V35), 및 전환 밸브(V36)를 가진다. 고압 기체 공급원(71)에는, 고압의 기체(예를 들면 질소)가 충전되어 있다. 가압 배관(72)의 상류 측의 단부는, 고압 기체 공급원(71)에 접속되어 있다. 레귤레이터(73)는, 가압 배관(72)의 경로 상에 설치되어 있다. 가압 배관(72)의 하류 측의 단부는, 2개로 분기되고, 각각, 제1 탱크(51)와 제2 탱크(52)에 접속되어 있다. 전환 밸브(V35) 및 전환 밸브(V36)는, 분기 후의 2개의 가압 배관(72)에, 각각 설치되어 있다.The pressurizing mechanism 70 is a mechanism that supplies pressure for liquid delivery to the first tank 51 and the second tank 52. As shown in FIG. 6, the pressurization mechanism 70 has a high-pressure gas supply source 71, a pressurization pipe 72, a regulator 73, a switching valve V35, and a switching valve V36. The high-pressure gas supply source 71 is filled with high-pressure gas (for example, nitrogen). The upstream end of the pressurization pipe 72 is connected to the high-pressure gas supply source 71. The regulator 73 is installed on the path of the pressurization pipe 72. The downstream end of the pressurizing pipe 72 is divided into two and connected to the first tank 51 and the second tank 52, respectively. The switching valve V35 and the switching valve V36 are respectively installed in the two branched pressurized pipes 72.

고압 기체 공급원(71)으로부터 공급되는 기체는, 레귤레이터(73)에 의해, 대기압보다 높은 소정의 압력으로 강압 조정된다. 전환 밸브(V36)를 폐쇄하고, 전환 밸브(V35)를 개방하면, 당해 소정의 압력의 기체가, 가압 배관(72)으로부터 제1 탱크(51)로 공급된다. 이에 의해, 제1 탱크(51)로부터 제1 주배관(61)으로, 바니스가 밀려나온다. 또, 전환 밸브(V35)를 폐쇄하고, 전환 밸브(V36)를 개방하면, 당해 소정의 압력의 기체가, 가압 배관(72)으로부터 제2 탱크(52)로 공급된다. 이에 의해, 제2 탱크(52)로부터 제2 주배관(62)으로, 바니스가 밀려나온다. 가압 기구(70)는, 제1 탱크(51)로부터 제2 탱크(52)로 바니스를 보내는 제1 송액부의 기능과, 제2 탱크(52)로부터 제1 탱크(51)로 바니스를 보내는 제2 송액부의 기능을 겸비하고 있다.The gas supplied from the high-pressure gas supply source 71 is pressure-adjusted by the regulator 73 to a predetermined pressure higher than atmospheric pressure. When the switching valve V36 is closed and the switching valve V35 is opened, the gas at the predetermined pressure is supplied from the pressurizing pipe 72 to the first tank 51. As a result, the varnish is pushed out from the first tank 51 to the first main pipe 61. Additionally, when the switching valve V35 is closed and the switching valve V36 is opened, the gas at the predetermined pressure is supplied from the pressurizing pipe 72 to the second tank 52. As a result, the varnish is pushed out from the second tank 52 to the second main pipe 62. The pressurizing mechanism 70 has the functions of a first liquid delivery unit for sending varnish from the first tank 51 to the second tank 52 and a second liquid delivery unit for sending varnish from the second tank 52 to the first tank 51. It also functions as a liquid delivery unit.

도 7은, 도 6에 나타내는 제1 장착부(65)와, 제1 장착부(65)에 장착된 제1 필터(F1)의 단면도이다. 또한, 제1 필터(F1) 및 제1 장착부(65)의 구조는, 도 7에 나타내는 것으로 한정되는 것이 아니고, 도 7과는 상이한 구조를 가지고 있어도 된다. 도 7에 나타내는 바와 같이, 제1 장착부(65)는, 제1 필터(F1)를 접속 가능한 홀더(650)를 가진다.FIG. 7 is a cross-sectional view of the first mounting portion 65 shown in FIG. 6 and the first filter F1 mounted on the first mounting portion 65. In addition, the structure of the first filter F1 and the first mounting portion 65 is not limited to that shown in FIG. 7, and may have a structure different from that of FIG. 7. As shown in Fig. 7, the first mounting portion 65 has a holder 650 to which the first filter F1 can be connected.

제1 필터(F1)는, 하우징(91)과, 필터 카트리지(92)와, 커버(93)를 가진다. 하우징(91)은, 상하 방향으로 연장되는 원통형상의 하우징이다. 필터 카트리지(92)는, 하우징(91)의 내부에 수용된다. 커버(93)는, 하우징(91)의 외표면을 덮는다. 커버(93)는, 예를 들면 금속 등의, 하우징(91)보다 강성이 높은 재료에 의해 형성된다. 이에 의해, 하우징(91)의 변형이 억제된다.The first filter F1 has a housing 91, a filter cartridge 92, and a cover 93. The housing 91 is a cylindrical housing extending in the vertical direction. The filter cartridge 92 is accommodated inside the housing 91. The cover 93 covers the outer surface of the housing 91. The cover 93 is made of a material with higher rigidity than the housing 91, such as metal. Thereby, deformation of the housing 91 is suppressed.

필터 카트리지(92)는, 필터 본체(921)에 상측 덮개(922)를 가진다. 필터 본체(921)는, 상하 방향으로 연장되는 원통형상의 외형을 가진다. 필터 본체(921)는, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 등의 수지 섬유에 의해 형성된다. 단, 필터 본체(921)는, 수지 이외의 재료에 의해 형성되는 것이어도 된다. 상측 덮개(922)는, 필터 본체(921)의 상부를 덮는다.The filter cartridge 92 has a filter body 921 and an upper cover 922. The filter body 921 has a cylindrical outer shape extending in the vertical direction. The filter body 921 is formed of resin fibers such as polypropylene, polyethylene, and polytetrafluoroethylene (PTFE). However, the filter body 921 may be formed of a material other than resin. The upper cover 922 covers the upper part of the filter body 921.

하우징(91)의 바닥부에는, 유입구(911)와 유출구(912)가 형성되어 있다. 유입구(911)는, 하우징(91)의 내부 공간 중, 필터 카트리지(92)의 외부의 공간과 연통한다. 유출구(912)는, 하우징(91)의 내부 공간 중, 필터 카트리지(92)의 내부의 공간과 연통한다.An inlet 911 and an outlet 912 are formed at the bottom of the housing 91. The inlet 911 communicates with the space inside the housing 91 and the space outside the filter cartridge 92. The outlet 912 communicates with the inner space of the filter cartridge 92 among the inner spaces of the housing 91.

홀더(650)는, 유입 접속 구멍(651)과 유출 접속 구멍(652)을 가진다. 유입 접속 구멍(651) 및 유출 접속 구멍(652)은, 각각, 홀더(650)를 상하 방향으로 관통하는 관통 구멍이다. 유입 접속 구멍(651)은, 상류 측의 제1 분기 배관(63)에 접속된다. 유출 접속 구멍(652)은, 하류 측의 제1 분기 배관(63)에 접속된다. 또, 제1 장착부(65)에 제1 필터(F1)가 장착되면, 상술한 유입구(911)가, 유입 접속 구멍(651)에 접속되고, 상술한 유출구(912)가, 유출 접속 구멍(652)에 접속된다.The holder 650 has an inlet connection hole 651 and an outflow connection hole 652. The inflow connection hole 651 and the outflow connection hole 652 are respectively through holes that penetrate the holder 650 in the vertical direction. The inlet connection hole 651 is connected to the first branch pipe 63 on the upstream side. The outflow connection hole 652 is connected to the first branch pipe 63 on the downstream side. Additionally, when the first filter F1 is mounted on the first mounting portion 65, the inlet port 911 described above is connected to the inlet connection hole 651, and the outlet port 912 described above is connected to the outlet connection hole 652. ) is connected to.

따라서, 제1 분기 배관(63)에 바니스가 흐르면, 유입 접속 구멍(651)으로부터 유입구(911)를 통해 하우징(91)의 내부로 바니스가 도입된다. 그리고, 당해 바니스가, 도 7 중의 파선 화살표와 같이, 필터 본체(921)를 통과한다. 또, 필터 본체(921)를 통과한 바니스는, 필터 본체(921)의 내측으로부터, 유출구(912) 및 유출 접속 구멍(652)을 통과하여, 하류 측의 제1 분기 배관(63)으로 유출된다.Accordingly, when varnish flows through the first branch pipe 63, the varnish is introduced into the interior of the housing 91 from the inlet connection hole 651 through the inlet 911. Then, the varnish passes through the filter main body 921 as shown by the broken line arrow in FIG. 7 . In addition, the varnish that has passed through the filter main body 921 flows from the inside of the filter main body 921 through the outlet 912 and the outlet connection hole 652 and flows out into the first branch pipe 63 on the downstream side. .

또, 도 7에 나타내는 바와 같이, 하우징(91)의 상부에는, 제1 배기 배관(94)이 접속된다. 하우징(91)의 상부에 모인 기포는, 제1 배기 배관(94)을 통과하여, 공장 내의 배기 라인으로 배출된다. 또, 필터 카트리지(92)의 상부에는, 제2 배기 배관(95)이 접속된다. 필터 카트리지(92)의 상부에 모인 기포는, 제2 배기 배관(95)을 통과하여, 공장 내의 배기 라인으로 배출된다.Additionally, as shown in FIG. 7, a first exhaust pipe 94 is connected to the upper part of the housing 91. The air bubbles collected in the upper part of the housing 91 pass through the first exhaust pipe 94 and are discharged to the exhaust line within the factory. Additionally, a second exhaust pipe 95 is connected to the upper part of the filter cartridge 92. The air bubbles collected at the top of the filter cartridge 92 pass through the second exhaust pipe 95 and are discharged to the exhaust line within the factory.

제2 장착부(66) 및 제2 필터(F2)의 구조에 대해서는, 제1 장착부(65) 및 제1 필터(F1)의 구조와 동등하기 때문에, 중복 설명을 생략한다.Since the structures of the second mounting portion 66 and the second filter F2 are equivalent to the structures of the first mounting portion 65 and the first filter F1, redundant description will be omitted.

도 6에 나타내는 바와 같이, 에이징 장치(2)는, 측정 기구(17)를 가진다. 측정 기구(17)는, 도 1에 나타내는 측정 기구(17)와 같이, 측정 배관(171), 개폐 밸브(172), 탈기 모듈(173), 측정 모듈(174)을 구비하고 있다. 측정 배관(171)은, 제1 분기 배관(63)에 있어서의, 전환 밸브(V31)와 제1 장착부(65) 사이의 위치에 접속되어 있다. 측정 모듈(174)은, 측정 배관(171) 내에 있는 바니스 중의 파티클량을 측정한다. 측정 모듈(174)은, 제2 제어부(80)와 전기적으로 접속되어 있고, 파티클량의 측정 결과를 제2 제어부(80)로 송신한다.As shown in FIG. 6 , the aging device 2 has a measuring mechanism 17 . The measuring instrument 17 is provided with a measuring pipe 171, an opening/closing valve 172, a degassing module 173, and a measuring module 174, like the measuring instrument 17 shown in FIG. 1 . The measurement pipe 171 is connected to a position between the switching valve V31 and the first mounting portion 65 in the first branch pipe 63. The measurement module 174 measures the amount of particles in the varnish within the measurement pipe 171. The measurement module 174 is electrically connected to the second control unit 80 and transmits the particle amount measurement result to the second control unit 80.

또한, 측정 배관(171)이 접속되는 위치는, 제1 분기 배관(63)에 있어서의, 제1 장착부(65)와 전환 밸브(V32) 사이여도 된다. 또, 측정 배관(171)이 접속되는 위치는, 제2 분기 배관(64)에 있어서의, 전환 밸브(V33)와 제2 장착부(66) 사이, 또는, 제2 장착부(66)와 전환 밸브(V34) 사이여도 된다. 또한, 측정 배관(171)은, 제1 주배관(61) 또는 제2 주배관(62)이어도 된다.Additionally, the position where the measurement pipe 171 is connected may be between the first mounting portion 65 and the switching valve V32 in the first branch pipe 63. In addition, the position where the measurement pipe 171 is connected is between the switching valve V33 and the second mounting portion 66 in the second branch pipe 64, or between the second mounting portion 66 and the switching valve ( V34) It can be between. Additionally, the measurement pipe 171 may be the first main pipe 61 or the second main pipe 62.

제2 제어부(80)는, 에이징 장치(2) 내의 각 부를 동작 제어하기 위한 수단이다. 제2 제어부(80)는, CPU 등의 프로세서, RAM 등의 메모리, 및 하드 디스크 드라이브 등의 기억부를 가진다. 또, 제2 제어부(80)는, 상술한 공급 밸브(V30), 전환 밸브(V31~V36), 개폐 밸브(172), 레귤레이터(73) 등의, 에이징 장치(2) 내의 각 부와, 전기적으로 접속되어 있다.The second control unit 80 is a means for controlling the operation of each part within the aging device 2. The second control unit 80 has a processor such as CPU, memory such as RAM, and a storage unit such as a hard disk drive. In addition, the second control unit 80 is electrically connected to each part in the aging device 2, such as the supply valve V30, the switching valves V31 to V36, the opening/closing valve 172, and the regulator 73. It is connected to .

제2 제어부(80)는, 기억부에 기억된 컴퓨터 프로그램이나 데이터를, 메모리에 일시적으로 독출시키고, 당해 컴퓨터 프로그램 및 데이터에 의거하여, 프로세서가 연산 처리를 행함으로써, 에이징 장치(2) 내의 각 부를 동작 제어한다. 이에 의해, 제1 필터(F1) 및 제2 필터(F2)의 에이징(세정 처리)이 진행된다.The second control unit 80 temporarily reads the computer program or data stored in the storage unit into the memory, and causes the processor to perform calculation processing based on the computer program and data, thereby Controls the operation of the unit. As a result, aging (cleaning treatment) of the first filter F1 and the second filter F2 progresses.

<에이징 장치의 동작><Operation of aging device>

에이징 장치(2)에 있어서 제1 필터(F1) 및 제2 필터(F2)의 에이징을 행하는 경우, 오퍼레이터가, 제1 장착부(65)에 신품의 제1 필터(F1)를 장착함과 더불어, 제2 장착부(66)에, 신품의 제2 필터(F2)를 장착한다.When aging the first filter F1 and the second filter F2 in the aging device 2, the operator mounts the new first filter F1 on the first mounting portion 65, A new second filter (F2) is mounted on the second mounting portion (66).

제1 필터(F1) 및 제2 필터(F2)가 장착된 상태에서, 제2 제어부(80)는, 공급 밸브(V30)를 개방함으로써, 바니스 공급원(54)으로부터 제1 탱크(51)로, 세정용의 바니스를 공급시킨다. 제1 탱크(51)에, 소정량의 바니스가 저류되면, 제2 제어부(80)는, 공급 밸브(V30)를 폐쇄한다.With the first filter (F1) and the second filter (F2) installed, the second control unit (80) opens the supply valve (V30) from the varnish source 54 to the first tank 51, Supply varnish for cleaning. When a predetermined amount of varnish is stored in the first tank 51, the second control unit 80 closes the supply valve V30.

다음에, 제2 제어부(80)가 전환 밸브(V31, V32), 전환 밸브(V35)를 개방함으로써, 가압 배관(72)으로부터 제1 탱크(51)로 고압의 기체가 공급된다. 이에 의해, 제1 탱크(51) 내의 바니스가, 제1 주배관(61)으로 밀려나온다. 그리고, 도 6 중의 파선 화살표 A1과 같이, 제1 주배관(61)으로부터, 제1 분기 배관(63) 및 제2 주배관(62)을 통과하여 제2 탱크(52)로, 바니스가 보내진다. 바니스는, 제1 필터(F1)를 통과한다. 이 때문에, 제1 필터(F1)의 하류 측의 면에 초기 분진이 존재하는 경우, 그 초기 분진은, 제1 필터(F1)의 하류 측의 면으로부터 이탈하고, 바니스와 함께 제2 탱크(52)로 흐른다.Next, the second control unit 80 opens the switching valves V31 and V32 and the switching valve V35, so that high-pressure gas is supplied from the pressurizing pipe 72 to the first tank 51. As a result, the varnish in the first tank 51 is pushed out into the first main pipe 61. Then, as shown by the broken line arrow A1 in FIG. 6, the varnish is sent from the first main pipe 61 to the second tank 52 through the first branch pipe 63 and the second main pipe 62. Varnish passes through the first filter (F1). For this reason, when initial dust is present on the downstream surface of the first filter F1, the initial dust leaves the downstream surface of the first filter F1 and is placed in the second tank 52 together with the varnish. ) flows.

계속해서, 제2 제어부(80)는, 전환 밸브(V31, V32, V35)를 폐쇄하고, 전환 밸브(V33, V34, V36)를 개방한다. 그렇게 하면, 가압 배관(72)으로부터 제2 탱크(52)로, 고압의 기체가 공급된다. 이에 의해, 제2 탱크(52) 내의 바니스가, 제2 주배관(62)으로 밀려나온다. 그리고, 도 6 중의 파선 화살표 A2와 같이, 제2 주배관(62)으로부터, 제2 분기 배관(64) 및 제1 주배관(61)을 통과하여 제1 탱크(51)로, 바니스가 보내진다. 바니스는, 제2 필터(F2)를 통과한다. 이 때문에, 제1 필터(F1)로부터 이탈한 분진은, 제2 필터(F2)의 상류 측의 면에 받아진다. 제2 필터(F2)의 구멍 지름은, 제1 필터(F1)로부터 이탈한 분진의 입경보다 충분히 작기 때문에, 분진이 제2 필터(F2)를 통과하기 어렵다. 또, 제2 필터(F2)의 하류 측의 면에, 초기 분진이 부착하고 있는 경우, 그 초기 분진은, 제2 필터(F2)의 하류 측의 면으로부터 이탈하고, 바니스와 함께 제1 탱크(51)로 흐른다.Subsequently, the second control unit 80 closes the switching valves V31, V32, and V35 and opens the switching valves V33, V34, and V36. Then, high-pressure gas is supplied from the pressurization pipe 72 to the second tank 52. As a result, the varnish in the second tank 52 is pushed out into the second main pipe 62. Then, as shown by the broken line arrow A2 in FIG. 6, the varnish is sent from the second main pipe 62 to the first tank 51 through the second branch pipe 64 and the first main pipe 61. Varnish passes through the second filter (F2). For this reason, the dust that escapes from the first filter F1 is received by the upstream surface of the second filter F2. Since the hole diameter of the second filter F2 is sufficiently smaller than the particle size of the dust leaving the first filter F1, it is difficult for the dust to pass through the second filter F2. In addition, when initial dust adheres to the downstream surface of the second filter F2, the initial dust leaves the downstream surface of the second filter F2, and together with the varnish, the first tank ( 51).

제2 제어부(80)는, 제2 탱크(52)로부터 제1 탱크(51)로의 바니스의 송액을 완료하면, 다시, 제1 탱크(51)로부터 제2 탱크(52)로의 바니스의 송액을 개시한다. 이와 같이, 제2 제어부(80)는, 제1 탱크(51)로부터 제2 탱크(52)로의 송액과, 제2 탱크(52)로부터 제1 탱크(51)로의 송액을 번갈아 반복하여 실행한다.When the second control unit 80 completes the delivery of the varnish from the second tank 52 to the first tank 51, it starts sending the varnish from the first tank 51 to the second tank 52 again. do. In this way, the second control unit 80 alternately and repeatedly performs liquid delivery from the first tank 51 to the second tank 52 and liquid delivery from the second tank 52 to the first tank 51 .

제2 필터(F2)로부터 이탈하는 분진은, 제1 필터(F1)의 상류 측의 면에 받아진다. 제1 필터(F1)의 구멍 지름은, 제2 필터(F2)로부터 이탈하는 분진의 입경보다 충분히 작으므로, 분진이 제1 필터(F1)를 통과하기 어렵다.Dust leaving the second filter F2 is received on the upstream surface of the first filter F1. Since the hole diameter of the first filter F1 is sufficiently smaller than the particle size of the dust leaving the second filter F2, it is difficult for the dust to pass through the first filter F1.

제2 제어부(80)는, 한창 에이징을 행하고 있는 중에, 정기적으로, 측정 기구(17)의 측정 모듈(174)로 하여금 파티클량을 측정하게 한다. 상세하게는, 제2 제어부(80)는, 제1 분기 배관(63)에 한창 바니스가 흐르고 있는 중에, 개폐 밸브(172)를 개방함으로써, 제1 분기 배관(63)을 흐르는 바니스의 일부를, 측정 배관(171)의 측정 모듈(174)로 보낸다. 그렇게 하면, 측정 모듈(174)이 바니스 중의 파티클량을 측정하고, 측정된 파티클량을 제2 제어부(80)로 송신한다.The second control unit 80 causes the measurement module 174 of the measurement mechanism 17 to measure the particle amount on a regular basis while aging is in progress. In detail, the second control unit 80 opens the on-off valve 172 while the varnish is flowing in the first branch pipe 63, thereby removing a portion of the varnish flowing through the first branch pipe 63. It is sent to the measurement module 174 of the measurement pipe 171. Then, the measurement module 174 measures the amount of particles in the varnish and transmits the measured amount of particles to the second control unit 80.

제2 제어부(80)는, 측정 모듈(174)이 송신한 파티클량에 의거하여, 에이징 판정 처리를 행한다. 구체적으로는, 제2 제어부(80)는, 측정 모듈(174)이 측정한 파티클량이, 에이징이 완료된 것을 나타내는 역치를 밑돌았는지를 판정한다. 제2 제어부(80)는, 파티클량이 소정의 역치를 밑돌았다고 판정한 경우, 제1 필터(F1) 및 제2 필터(F2)에 대한 에이징이 완료되었다고 판정한다.The second control unit 80 performs aging determination processing based on the particle amount transmitted by the measurement module 174. Specifically, the second control unit 80 determines whether the particle amount measured by the measurement module 174 is below the threshold indicating that aging is complete. When determining that the particle amount is below a predetermined threshold, the second control unit 80 determines that aging for the first filter F1 and the second filter F2 is complete.

제2 제어부(80)는, 에이징이 완료되었다고 판정한 경우, 에이징 장치(2)의 동작을 정지한다. 이에 의해, 오퍼레이터는, 제1 장착부(65)로부터 에이징이 완료된 제1 필터(F1)를 떼어냄과 더불어, 제2 장착부(66)로부터 에이징이 완료된 제2 필터(F2)를 떼어낼 수 있다. 또한, 제2 제어부(80)는, 에이징이 완료되었다고 판정한 경우, 디스플레이로 하여금 에이징이 완료되었음을 나타내는 화상을 표시하게 해도 된다.When the second control unit 80 determines that aging is complete, it stops the operation of the aging device 2. As a result, the operator can remove the aged first filter F1 from the first mounting part 65 and the aged second filter F2 from the second mounting part 66. Additionally, when the second control unit 80 determines that aging has been completed, the second control unit 80 may cause the display to display an image indicating that aging has been completed.

<4. 변형예><4. Modification example>

이상, 실시 형태에 대해 설명해 왔는데, 본 발명은 상기와 같은 것으로 한정되는 것이 아니고, 다양한 변형이 가능하다.Although the embodiments have been described above, the present invention is not limited to the above, and various modifications are possible.

상기 제1~제3 실시 형태에 있어서, 탈기 모듈(173)이 탈기를 행하지 않는 상태(즉, 감압 펌프(432)가 오프인 상태)에서 운용되어도 된다. 이와 같이 함으로써, 예를 들면 돌발적인 버블의 발생을 측정 모듈(174)에 의해 검출할 수 있다. 또, 상기 제1~제3 실시 형태에 있어서, 측정 기구(17)가 탈기 모듈(173)을 구비하는 것은 필수가 아니고, 탈기 모듈(173)은 생략되어 있어도 된다.In the first to third embodiments, the degassing module 173 may be operated in a state in which no degassing is performed (i.e., the pressure reduction pump 432 is off). By doing this, for example, the unexpected generation of bubbles can be detected by the measurement module 174. Additionally, in the first to third embodiments, it is not essential that the measuring device 17 includes the degassing module 173, and the degassing module 173 may be omitted.

제1 및 제2 실시 형태에 따른 도포 장치(1, 1A)에서는, 제2 필터(F2)에 대해 수명 판정 또는 에이징 판정이 행해지고 있는데, 제1 필터(F1)에 대해서도 수명 판정 또는 에이징 판정이 행해지도록 해도 된다. 이 경우, 제1 필터(F1)의 하류 측에, 측정 기구(17)가 추가로 설치되어도 된다. 구체적으로는, 제1 급액 배관(12)에 있어서의 제1 필터(F1)와 탈기 탱크(13) 사이의 위치에, 측정 기구(17)의 측정 배관(171)이 접속되어도 된다. 이에 의해, 제1 필터(F1)를 통과한 제1 급액 배관(12)의 바니스를, 측정 배관(171)을 통해 측정 모듈(174)에 보낼 수 있다. 따라서, 제1 필터(F1)를 통과한 바니스 중의 파티클량을 측정할 수 있다. 이와 같이 하여 측정되는 파티클량에 의거하여, 제1 제어부(30)가, 제1 필터(F1)의 수명 판정 또는 에이징 판정을 행하도록 해도 된다.In the application devices 1 and 1A according to the first and second embodiments, life judgment or aging judgment is performed on the second filter F2, but life judgment or aging judgment is also performed on the first filter F1. You can do it. In this case, the measuring mechanism 17 may be additionally installed on the downstream side of the first filter F1. Specifically, the measurement pipe 171 of the measurement instrument 17 may be connected to a position between the first filter F1 and the degassing tank 13 in the first liquid supply pipe 12. As a result, the varnish of the first liquid supply pipe 12 that has passed through the first filter F1 can be sent to the measurement module 174 through the measurement pipe 171. Therefore, the amount of particles in the varnish that passed through the first filter (F1) can be measured. Based on the particle amount measured in this way, the first control unit 30 may determine the lifespan or aging of the first filter F1.

이 발명은 상세하게 설명되었는데, 상기의 설명은, 모든 국면에 있어서, 예시이며, 이 발명이 그에 한정되는 것은 아니다. 예시되어 있지 않은 무수한 변형예가, 이 발명의 범위로부터 벗어나는 일 없이 상정될 수 있는 것으로 해석된다. 상기 각 실시 형태 및 각 변형예에서 설명한 각 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합하거나, 생략하거나 할 수 있다.Although this invention has been described in detail, the above description is, in all respects, illustrative and does not limit the invention thereto. It is construed that countless modifications not illustrated may be contemplated without departing from the scope of this invention. Each configuration described in each of the above-mentioned embodiments and each modification can be appropriately combined or omitted as long as they do not contradict each other.

1, 1A: 도포 장치 10: 급액 유닛
11: 공급 탱크 12: 제1 급액 배관
13: 탈기 탱크 14: 제2 급액 배관
15: 가압 기구 17: 측정 기구
171: 측정 배관 172: 개폐 밸브
173: 탈기 모듈 174: 측정 모듈
19: 급액구 2: 에이징 장치
20: 도포 유닛 22: 슬릿 노즐
223: 토출구 30: 제1 제어부
311: 디스플레이 51: 제1 탱크
52: 제2 탱크 54: 바니스 공급원
61: 제1 주배관 62: 제2 주배관
63: 제1 분기 배관 65: 제1 장착부
70: 가압 기구 F1: 제1 필터
F2: 제2 필터 P1: 어시스트 펌프
1, 1A: Applicator 10: Liquid supply unit
11: Supply tank 12: First liquid supply pipe
13: Degassing tank 14: Second liquid supply pipe
15: pressurizing device 17: measuring device
171: measuring pipe 172: open/close valve
173: Degassing module 174: Measurement module
19: Liquid supply port 2: Aging device
20: application unit 22: slit nozzle
223: discharge port 30: first control unit
311: display 51: first tank
52: second tank 54: varnish source
61: 1st main pipe 62: 2nd main pipe
63: first branch pipe 65: first mounting portion
70: Pressurizing mechanism F1: First filter
F2: Second filter P1: Assist pump

Claims (16)

처리액을 공급하는 급액 장치로서,
점도가 1000cP 이상인 고점도의 처리액을 저류 가능한 탱크와,
상기 처리액을 공급하는 급액구와,
상기 탱크와 상기 급액구를 접속하는 송액(送液) 배관과,
상기 송액 배관을 통해, 상기 탱크로부터 상기 급액구를 향해 상기 처리액을 보내는 송액부와,
상기 송액 배관에 배치되고, 상기 처리액을 여과하는 필터와,
상기 필터보다 하류 측의 위치에서, 상기 필터를 통과한 처리액 중의 파티클량을 측정하는 측정부와,
상기 측정부에 의해 측정된 상기 파티클량이 역치를 초과하는지를 판정하는 제어부
를 구비하고,
상기 측정부는, 상기 필터로부터 이탈한 분진인 10μm 이하의 파티클에 대해, 복수의 크기마다, 수를 카운트하고,
상기 파티클의 복수의 크기마다, 미리 상기 역치가 설정되어 있고,
상기 제어부는, 상기 파티클의 복수의 크기마다, 상기 역치를 초과하는지를 판정하는, 급액 장치.
A liquid supply device that supplies treatment liquid,
A tank capable of storing a high-viscosity treatment liquid with a viscosity of 1000 cP or more,
a liquid supply port for supplying the treatment liquid;
a liquid supply pipe connecting the tank and the liquid supply port;
a liquid delivery unit that sends the processing liquid from the tank toward the liquid supply port through the liquid delivery pipe;
a filter disposed in the liquid delivery pipe and filtering the treatment liquid;
a measuring unit that measures the amount of particles in the processing liquid that has passed through the filter at a position downstream from the filter;
A control unit that determines whether the particle amount measured by the measurement unit exceeds a threshold.
Equipped with
The measuring unit counts the number of particles of 10 μm or less, which are dust that escapes from the filter, for each of a plurality of sizes,
For each of the plurality of sizes of the particles, the threshold is set in advance,
The liquid supply device wherein the control unit determines whether the particle exceeds the threshold for each of the plurality of sizes.
청구항 1에 있어서,
상기 송액 배관에 있어서의 상기 필터보다 하류 측의 위치에서, 상기 송액 배관에 접속되어 있는 측정 배관을 추가로 구비하고,
상기 측정부는, 상기 측정 배관 내의 상기 처리액 중의 파티클량을 측정하는, 급액 장치.
In claim 1,
A measurement pipe connected to the liquid delivery pipe is further provided at a position downstream of the filter in the liquid delivery pipe,
The liquid supply device wherein the measuring unit measures the amount of particles in the processing liquid within the measuring pipe.
청구항 2에 있어서,
상기 송액 배관으로부터 상기 측정 배관으로의 상기 처리액의 흐름을 온 오프하는 개폐 밸브를 추가로 구비하는, 급액 장치.
In claim 2,
A liquid supply device further comprising an on/off valve that turns on and off the flow of the processing liquid from the liquid delivery pipe to the measurement pipe.
청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
상기 측정 배관의 내측 면적이, 상기 송액 배관의 내측 면적보다 작은, 급액 장치.
In claim 2 or claim 3,
A liquid supply device wherein the inner area of the measurement pipe is smaller than the inner area of the liquid delivery pipe.
청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
상기 송액 배관에 배치되고, 처리액을 압송(壓送)하는 송액 펌프를 추가로 구비하는, 급액 장치.
In claim 2 or claim 3,
A liquid supply device disposed in the liquid delivery pipe and further comprising a liquid delivery pump that pumps the treatment liquid.
청구항 5에 있어서,
상기 측정 배관은, 상기 송액 배관에 있어서의 상기 송액 펌프보다 하류 측의 위치에서 상기 송액 배관에 접속되어 있는, 급액 장치.
In claim 5,
The liquid supply device wherein the measurement pipe is connected to the liquid delivery pipe at a position downstream of the liquid delivery pump in the liquid delivery pipe.
청구항 5에 있어서,
상기 측정 배관은, 상기 송액 배관에 있어서의 상기 송액 펌프보다 상류 측의 위치에서 상기 송액 배관에 접속되어 있는, 급액 장치.
In claim 5,
The liquid supply device wherein the measurement pipe is connected to the liquid delivery pipe at a position upstream of the liquid delivery pump in the liquid delivery pipe.
청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
상기 측정부보다 상류 측에 배치되고, 상기 처리액을 탈기하는 탈기 모듈을 추가로 구비하는, 급액 장치.
In claim 2 or claim 3,
A liquid supply device disposed upstream of the measuring unit and further comprising a degassing module for degassing the treatment liquid.
청구항 8에 있어서,
상기 탈기 모듈이 상기 측정 배관에 배치되어 있는, 급액 장치.
In claim 8,
A liquid supply device wherein the degassing module is disposed in the measuring pipe.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 측정부가 측정한 파티클량에 의거하여, 상기 필터의 상태를 판정하는 판정부와,
상기 판정부가 출력하는 판정 결과를 외부로 출력하는 출력부
를 추가로 구비하는, 급액 장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
a determination unit that determines the state of the filter based on the particle amount measured by the measurement unit;
An output unit that outputs the decision result output by the decision unit to the outside.
A liquid supply device additionally provided with.
대상에 처리액을 도포하는 도포 장치로서,
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 공급 장치와,
상기 공급 장치의 상기 급액구로부터 공급되는 상기 처리액을 토출하는 노즐
을 구비하는, 도포 장치.
An application device for applying a treatment liquid to a target, comprising:
The supply device according to any one of claims 1 to 3,
A nozzle that discharges the processing liquid supplied from the liquid supply port of the supply device.
An applicator comprising:
필터를 점도가 1000cP 이상인 고점도의 처리액으로 처리하는 에이징 장치로서,
처리액을 저류 가능한 제1 탱크와,
처리액을 저류 가능한 제2 탱크와,
상기 제1 탱크와 상기 제2 탱크를 병렬로 접속하는 제1 송액 배관 및 제2 송액 배관과,
상기 제1 송액 배관을 통해, 상기 제1 탱크로부터 상기 제2 탱크로 송액하는 제1 송액부와,
상기 제2 송액 배관을 통해, 상기 제2 탱크로부터 상기 제1 탱크로 송액하는 제2 송액부와,
상기 제1 송액부와 상기 제2 송액부를 번갈아 동작시키는 제어부와,
상기 제1 송액 배관을 흐르는 처리액을 여과하도록 필터를 장착시키는 필터 장착부와,
상기 필터를 통과한 상기 처리액 중의 파티클량을 측정하는 측정부
를 구비하고,
상기 제어부는, 상기 측정부에 의해 측정된 상기 파티클량이 역치를 초과하는지를 판정하고,
상기 측정부는, 상기 필터로부터 이탈한 분진인 10μm 이하의 파티클에 대해, 복수의 크기마다, 수를 카운트하고,
상기 파티클의 복수의 크기마다, 미리 상기 역치가 설정되어 있고,
상기 제어부는, 상기 파티클의 복수의 크기마다, 상기 역치를 초과하는지를 판정하는, 에이징 장치.
An aging device that treats a filter with a high-viscosity treatment liquid with a viscosity of 1000 cP or more,
a first tank capable of storing a treatment liquid;
a second tank capable of storing the treatment liquid;
A first liquid delivery pipe and a second liquid delivery pipe connecting the first tank and the second tank in parallel,
a first liquid delivery unit that delivers liquid from the first tank to the second tank through the first liquid delivery pipe;
a second liquid delivery unit that delivers liquid from the second tank to the first tank through the second liquid delivery pipe;
a control unit that alternately operates the first liquid delivery unit and the second liquid delivery unit;
a filter mounting portion for mounting a filter to filter the treatment liquid flowing through the first liquid delivery pipe;
Measuring unit that measures the amount of particles in the processing liquid that passed through the filter
Equipped with
The control unit determines whether the particle amount measured by the measuring unit exceeds a threshold,
The measuring unit counts the number of particles of 10 μm or less, which are dust that escapes from the filter, for each of a plurality of sizes,
For each of the plurality of sizes of the particles, the threshold is set in advance,
The control unit determines whether the particle exceeds the threshold for each of the plurality of sizes.
필터를 점도가 1000cP 이상인 고점도의 처리액으로 처리하는 에이징 장치로서,
처리액을 저류 가능한 제1 탱크와,
처리액을 저류 가능한 제2 탱크와,
상기 제1 탱크와 상기 제2 탱크를 병렬로 접속하는 제1 송액 배관 및 제2 송액 배관과,
상기 제1 송액 배관을 통해, 상기 제1 탱크로부터 상기 제2 탱크로 송액하는 제1 송액부와,
상기 제2 송액 배관을 통해, 상기 제2 탱크로부터 상기 제1 탱크로 송액하는 제2 송액부와,
상기 제1 송액부와 상기 제2 송액부를 번갈아 동작시키는 제어부와,
상기 제1 송액 배관을 흐르는 처리액을 여과하도록 필터를 장착시키는 필터 장착부와,
상기 필터를 통과한 상기 처리액 중의 파티클량을 측정하는 측정부
를 구비하고,
상기 측정부는, 상기 필터로부터 이탈한 분진인 10μm 이하의 파티클에 대해, 복수의 크기마다, 수를 카운트하고,
상기 제어부는, 상기 측정부에 의해 측정된 상기 파티클량이 역치를 초과하는지를 판정하고, 상기 측정부에 의해 측정된 상기 파티클량이 상기 역치를 하회하는 경우에, 에이징이 완료하였다고 판정하고, 그 판정 결과를 디스플레이에 표시시키는, 에이징 장치.
An aging device that treats a filter with a high-viscosity treatment liquid with a viscosity of 1000 cP or more,
a first tank capable of storing a treatment liquid;
a second tank capable of storing the treatment liquid;
A first liquid delivery pipe and a second liquid delivery pipe connecting the first tank and the second tank in parallel,
a first liquid delivery unit that delivers liquid from the first tank to the second tank through the first liquid delivery pipe;
a second liquid delivery unit that delivers liquid from the second tank to the first tank through the second liquid delivery pipe;
a control unit that alternately operates the first liquid delivery unit and the second liquid delivery unit;
a filter mounting portion for mounting a filter to filter the treatment liquid flowing through the first liquid delivery pipe;
Measuring unit that measures the amount of particles in the processing liquid that passed through the filter
Equipped with
The measuring unit counts the number of particles of 10 μm or less, which are dust that escapes from the filter, for each of a plurality of sizes,
The control unit determines whether the particle amount measured by the measuring unit exceeds the threshold, and if the particle amount measured by the measuring unit falls below the threshold, determines that aging is complete, and provides the determination result. An aging device that is displayed on a display.
점도가 1000cP 이상인 고점도의 처리액을 공급처에 공급하는 급액 방법으로서,
a) 탱크의 처리액을 공급처에 보내는 공정과,
b) 상기 공정 a)에 의해 상기 탱크로부터 공급처로 보내지는 상기 처리액을 필터로 여과하는 공정과,
c) 상기 공정 b)에 의해 상기 필터를 통과한 상기 처리액 중의 파티클량을 측정하는 공정과
d) 상기 공정 c)에 의해 측정된 상기 파티클량이 역치를 초과하는지를 판정하는 공정
을 포함하고,
상기 공정 c)에 있어서, 상기 필터로부터 이탈한 분진인 10μm 이하의 파티클에 대해, 복수의 크기마다, 수를 카운트하고,
상기 공정 d)에 있어서, 상기 파티클의 복수의 크기마다, 미리 상기 역치가 설정되어 있고, 상기 파티클의 복수의 크기마다, 상기 역치를 초과하는지를 판정하는, 급액 방법.
A liquid supply method for supplying a high-viscosity treatment liquid with a viscosity of 1000 cP or more to a supplier,
a) A process of sending the treated liquid from the tank to the supplier,
b) a process of filtering the treatment liquid sent from the tank to a supplier by the process a) with a filter;
c) a step of measuring the amount of particles in the treatment liquid that passed through the filter by step b);
d) a process of determining whether the particle amount measured by process c) exceeds a threshold
Including,
In the step c), the number of particles of 10 μm or less, which is dust that has escaped from the filter, is counted for each of a plurality of sizes,
In the step d), the threshold value is set in advance for each of the plurality of sizes of the particle, and it is determined whether the threshold value is exceeded for each of the plurality of sizes of the particle.
필터를 점도가 1000cP 이상인 고점도의 처리액으로 처리하는 에이징 방법으로서,
A) 제1 탱크로부터 제2 탱크로의 상기 처리액의 송액과, 상기 제2 탱크로부터 상기 제1 탱크로의 상기 처리액의 송액을 번갈아 실행하는 공정과,
B) 상기 공정 A)에 의해, 상기 제1 탱크로부터 상기 제2 탱크로 보내지는 상기 처리액을 필터로 여과하는 공정과,
C) 상기 공정 B)에 의해, 상기 필터를 통과한 상기 처리액 중의 파티클량을 측정하는 공정과,
D) 상기 공정 C)에 의해 측정된 상기 파티클량이 역치를 초과하는지를 판정하는 공정
을 포함하고,
상기 공정 C)에 있어서, 상기 필터로부터 이탈한 분진인 10μm 이하의 파티클에 대해, 복수의 크기마다, 수를 카운트하고,
상기 공정 D)에 있어서, 상기 파티클의 복수의 크기마다, 미리 상기 역치가 설정되어 있고, 상기 파티클의 복수의 크기마다, 상기 역치를 초과하는지를 판정하는, 에이징 방법.
An aging method in which a filter is treated with a high-viscosity treatment liquid having a viscosity of 1000 cP or more,
A) a process of alternately sending the treatment liquid from the first tank to the second tank and sending the treatment liquid from the second tank to the first tank;
B) By process A), from the first tank A process of filtering the treatment liquid sent to the second tank with a filter;
C) a step of measuring the amount of particles in the treatment liquid that passed through the filter by step B),
D) a process for determining whether the particle amount measured by process C) exceeds a threshold
Including,
In the step C), the number of particles of 10 μm or less, which are dust that has escaped from the filter, is counted for each of a plurality of sizes,
In the step D), the threshold is set in advance for each of the plurality of sizes of the particle, and it is determined whether the threshold is exceeded for each of the plurality of sizes of the particle.
필터를 점도가 1000cP 이상인 고점도의 처리액으로 처리하는 에이징 방법으로서,
A) 제1 탱크로부터 제2 탱크로의 상기 처리액의 송액과, 상기 제2 탱크로부터 상기 제1 탱크로의 상기 처리액의 송액을 번갈아 실행하는 공정과,
B) 상기 공정 A)에 의해, 상기 제1 탱크로부터 상기 제2 탱크로 보내지는 상기 처리액을 필터로 여과하는 공정과,
C) 상기 공정 B)에 의해, 상기 필터를 통과한 상기 처리액 중의 파티클량을 측정하는 공정과,
D) 상기 공정 C)에 의해 측정된 상기 파티클량이 역치를 초과하는지를 판정하는 공정
을 포함하고,
상기 공정 C)에 있어서, 상기 필터로부터 이탈한 분진인 10μm 이하의 파티클에 대해, 복수의 크기마다, 수를 카운트하고,
상기 공정 D)에 있어서, 상기 공정 C)에서 측정된 상기 파티클량이 상기 역치를 하회하는 경우에, 에이징이 완료하였다고 판정하고, 그 판정 결과를 디스플레이에 표시시키는, 에이징 방법.
An aging method in which a filter is treated with a high-viscosity treatment liquid having a viscosity of 1000 cP or more,
A) a process of alternately sending the treatment liquid from the first tank to the second tank and sending the treatment liquid from the second tank to the first tank;
B) By process A), from the first tank A process of filtering the treatment liquid sent to the second tank with a filter;
C) a step of measuring the amount of particles in the treatment liquid that passed through the filter by step B),
D) a process for determining whether the particle amount measured by process C) exceeds a threshold
Including,
In the step C), the number of particles of 10 μm or less, which are dust that has escaped from the filter, is counted for each of a plurality of sizes,
An aging method in which, in the step D), when the particle amount measured in the step C) is less than the threshold, it is determined that aging is complete, and the judgment result is displayed on a display.
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