KR20210052173A - Vacuum Chamber And Gate Structure Using Linear Stage - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 36
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
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- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
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- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E06—DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
- E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
- E06B5/00—Doors, windows, or like closures for special purposes; Border constructions therefor
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- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E06—DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
- E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
- E06B7/00—Special arrangements or measures in connection with doors or windows
- E06B7/16—Sealing arrangements on wings or parts co-operating with the wings
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67126—Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67772—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving removal of lid, door, cover
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Civil Engineering (AREA)
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Abstract
Description
본 발명은 진공 챔버 및 리니어스테이지를 이용한 게이트구조에 관한 것이다.The present invention relates to a gate structure using a vacuum chamber and a linear stage.
진공 챔버란 진공 상태로 유지되는 공간을 포함하는 장치를 일컬으며 그 예로는 반도체 제조장치, 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope(SEM)), 질량분석기 등과 같은 장치가 있다.The vacuum chamber refers to a device including a space maintained in a vacuum state, and examples thereof include devices such as a semiconductor manufacturing device, a scanning electron microscope (SEM), and a mass spectrometer.
일반적으로 이러한 진공 챔버는 제조, 가공, 검사, 분석 등을 위하여 진공 환경이 조성되는 프로세스 챔버와 상기 프로세스 챔버 내로 시료를 반입 또는 반출 시 프로세스 챔버의 진공 환경을 유지하기 위하여 로드락 챔버와 게이트 밸브 등을 포함한다.In general, such a vacuum chamber is a process chamber in which a vacuum environment is created for manufacturing, processing, inspection, analysis, etc., and a load lock chamber and a gate valve to maintain the vacuum environment of the process chamber when a sample is brought into or out of the process chamber. Includes.
이에 대한 종래 기술로는 대한민국 등록특허공보 제10-1531632호에 개시되어 있는 진공 챔버가 있다.As a prior art for this, there is a vacuum chamber disclosed in Korean Patent Publication No. 10-1531632.
도 1은 종래의 진공 챔버를 나타낸 사시도이고, 도 2는 종래의 진공 챔버의 게이트 밸브 구조를 나타낸 분리 사시도이다.1 is a perspective view illustrating a conventional vacuum chamber, and FIG. 2 is an exploded perspective view illustrating a gate valve structure of a conventional vacuum chamber.
도 1과 2를 참조하면, 종래의 진공 챔버는 프로세스 챔버(10)와 상기 프로세스 챔버(10) 내에 시료가 반입 또는 반출되는 개구부(31) 측에 로드락 챔버(20)가 설치되며, 수직 실린더(330) 및 회전매개체(340) 등의 구동수단을 포함하고 상기 프로세스 챔버(10)와 로드락 챔버(20) 사이에 설치되어 상기 개구부를 개폐하는 게이트 밸브(300)를 포함한다.1 and 2, in a conventional vacuum chamber, a
보다 구체적으로 종래의 진공 챔버는 시료를 프로세스 챔버(10) 내로 반입 또는 반출하기 위한 이송수단과 게이트 밸브(300)를 개폐하기 위한 구동수단이 각각 상기 프로세스 챔버(10) 외부에 설치된다.More specifically, in the conventional vacuum chamber, a transfer means for carrying in or out of the sample into or out of the
이로 인하여, 종래의 진공 챔버는 로드락 챔버(20), 게이트 밸브(300) 등의 구성과 이들 구성에 포함되는 이송 또는 구동 수단으로 인하여 제조비용이 상승되며 타 부품의 실장 공간이 제한되는 문제점이 있다.Due to this, the conventional vacuum chamber has a problem in that manufacturing costs are increased due to the configuration of the
또한, 종래의 진공 챔버는 비교적 복잡한 구조로 인하여 소형화에 적합하지 않으며 세척 등의 유지보수가 용이하지 않은 문제점이 있다.In addition, the conventional vacuum chamber is not suitable for miniaturization due to its relatively complex structure, and there is a problem in that maintenance such as cleaning is not easy.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로 로드락 챔버나 게이트 밸브를 사용하지 않고 프로세스 챔버 내에 설치되는 이송유닛에 의하여 프로세스 챔버의 진공 상태가 유지되도록 하는 진공 챔버를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been conceived to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a vacuum chamber in which the vacuum state of the process chamber is maintained by a transfer unit installed in the process chamber without using a load lock chamber or a gate valve. .
또한, 본 발명은 소형화에 적합하고 세척 등의 유지보수를 위하여 비교적 간단한 구조와 분해 및 결합이 용이한 진공 챔버를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a vacuum chamber that is suitable for miniaturization and is easy to disassemble and combine with a relatively simple structure for maintenance such as cleaning.
상술한 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 이송유닛과 홀더유닛을 통하여 게이트 밸브의 역할을 수행하는 진공 챔버를 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention provides a vacuum chamber that serves as a gate valve through a transfer unit and a holder unit.
보다 구체적으로 본 발명에 따른 진공 챔버는 전방 상부에 시료의 출입이 이루어지는 하우징개구부가 형성되어 하우징 내부에 진공 환경을 조성하는 프로세스 챔버를 포함한다.More specifically, the vacuum chamber according to the present invention includes a process chamber in which a housing opening through which a sample can enter and exit is formed in an upper front portion to create a vacuum environment inside the housing.
또한, 상기 진공 챔버는 상기 하우징개구부 내측에 삽입되는 도어플랜지와 상기 하우징개구부에 대응되는 도어개구부를 포함하여 상기 하우징개구부 외측에 결합하는 도어베이스 및 상기 도어베이스 외측에 결합하여 상기 도어개구부를 개폐하는 도어를 포함하는 도어유닛을 포함한다.In addition, the vacuum chamber includes a door flange inserted into the housing opening and a door opening corresponding to the housing opening, a door base coupled to the outside of the housing opening, and a door base coupled to the outside of the door base to open and close the door opening. It includes a door unit including a door.
또한, 상기 진공 챔버는 상면에 시료가 적재되는 홀더와 상기 홀더 외주면에 상기 도어플랜지와 대응되는 홀더플랜지가 형성되어 상기 하우징 내부에 구비되는 홀더유닛 및 상기 홀더유닛이 상하로 이동 가능하도록 결합되는 제 1축 슬라이더와 상기 홀더플랜지가 상기 도어플랜지에 접촉 또는 분리되도록 상기 제 1축 슬라이더를 제 1축으로 이송시키는 이송유닛을 포함한다.In addition, the vacuum chamber includes a holder on which a sample is loaded on an upper surface and a holder flange corresponding to the door flange on an outer circumferential surface of the holder, so that the holder unit provided in the housing and the holder unit are movable vertically. And a transfer unit for transferring the first shaft slider to the first shaft so that the one shaft slider and the holder flange contact or separate from the door flange.
또한, 상기 제 1축 슬라이더에 의한 직선 왕복 운동에 따라 상기 홀더유닛이 양측에 형성되는 캠가이드와 상기 하우징개구부 하부 양측에 형성되는 캠부재에 의하여 상, 하측으로 이동한다.In addition, in accordance with the linear reciprocating motion by the first shaft slider, the holder unit moves upward and downward by cam guides formed on both sides and cam members formed on both sides of the lower housing opening.
또한, 상기 도어플랜지와 상기 홀더플랜지는 각각 전방으로 하향 경사지는 면으로 형성되고, 상기 제 1축 슬라이더의 직선 운동에 의하여 상기 홀더플랜지가 상기 도어플랜지를 가압할 수 있다.In addition, the door flange and the holder flange are each formed as a surface inclined downwardly forward, and the holder flange may press the door flange by linear motion of the first shaft slider.
또한, 상기 도어플랜지와 상기 홀더플랜지는 각각 제 1축 슬라이더의 운동 방향에 수평인 면으로 형성되고, 상기 홀더유닛이 상측으로 이동하여 상기 홀더플랜지가 상기 도어플랜지를 가압할 수 있다.In addition, the door flange and the holder flange are each formed in a plane horizontal to the movement direction of the first shaft slider, and the holder unit is moved upward so that the holder flange can press the door flange.
또한, 상기 캠가이드는 이동방지부가 형성되어 상기 홀더유닛의 제 1축 직선 이동을 제한할 수 있다.In addition, the cam guide may be provided with a movement preventing portion to limit the linear movement of the first axis of the holder unit.
또한, 상기 홀더플랜지와 도어플랜지가 접촉되는 면 중 어느 일측에 실링부재가 구비될 수 있다.In addition, a sealing member may be provided on any one of the surfaces in which the holder flange and the door flange are in contact.
또한, 상기 제 1축 슬라이더는 상부에 각각 적어도 1개 이상의 영구자석과 부시가 형성되고, 상기 홀더유닛 저면은 자력에 반응하는 금속으로 형성되고, 상기 부시가 삽입되는 부시홀을 포함할 수 있다.In addition, the first shaft slider may have at least one permanent magnet and a bush formed thereon, respectively, the bottom of the holder unit may be formed of a metal reacting to magnetic force, and may include a bush hole into which the bush is inserted.
또한, 상기 이송유닛은 제 1축과 수직으로 교차하는 제 2축 방향으로 상기 홀더유닛을 이송시킬 수 있다.In addition, the transfer unit may transfer the holder unit in a direction of a second axis perpendicularly crossing the first axis.
보다 구체적으로 상기 이송유닛은 일측에 형성되는 제 2축 엔코더와 제 2축 방향으로 연장되어 각각 설치되는 제 2축 고정자와 제 2축 리니어가이드를 포함하여 상기 하우징 내측 저면에 결합하는 슬라이더 베이스를 포함한다.More specifically, the transfer unit includes a second shaft encoder formed on one side, a second shaft stator extending in the second shaft direction and respectively installed, and a second shaft linear guide, and a slider base coupled to the inner bottom surface of the housing. do.
또한, 상기 이송유닛은 상부에 제 1축 방향으로 연장되어 각각 설치되는 제 1축 고정자와 제 1축 리니어가이드 및 제 1축 스케일과 하부 일측에 형성되는 제 2축 이동자와 제 2축 방향으로 연장되어 설치되는 제 2축 스케일과 상기 제 2축 리니어가이드에 이동 가능하도록 결합되는 제 2축 리니어블럭을 포함하여 상기 슬라이더 베이스에 대하여 상대적으로 제 2축 방향으로 직선 운동하는 제 2축 슬라이더를 포함한다.In addition, the transfer unit extends in the direction of the first axis and the first axis linear guide and the first axis scale and the second axis mover formed at one side of the lower side and the second axis direction respectively installed by extending in the direction of the first axis on the upper side. And a second axis slider configured to move linearly in a second axis direction relative to the slider base, including a second axis scale installed and installed, and a second axis linear block movably coupled to the second axis linear guide. .
또한, 상기 이송유닛은 일측에 각각 형성되는 제 1축 이동자와 제 1축 엔코더와 하부에 상기 제 1축 리니어가이드에 이동 가능하도록 결합되는 제 1축 리니어블럭을 포함하여 상기 제 2축 슬라이더에 대하여 상대적으로 제 1축 방향으로 직선 운동하는 제 1축 슬라이더를 포함한다.In addition, the transfer unit includes a first axis mover and a first axis encoder respectively formed on one side, and a first axis linear block movably coupled to the first axis linear guide at a lower side of the second axis slider. It includes a first axis slider relatively linearly moving in the first axis direction.
또한, 상기 제 2축 엔코더와 제 2축 고정자는 각각 상기 하우징의 저면을 관통하여 상기 슬라이더 베이스에 결합할 수 있다.In addition, the second shaft encoder and the second shaft stator may each pass through a bottom surface of the housing and are coupled to the slider base.
본 발명에 따른 진공 챔버는 시료의 반입 또는 반출 시 프로세스 챔버 내에 진공 상태를 유지하기 위하여 로드락 챔버나 게이트 벨브를 사용하지 않음으로써, 비교적 저가의 비용으로 구현이 가능하며, 프로세스 챔버 내의 공간 활용도를 향상시킬 수 있다.The vacuum chamber according to the present invention can be implemented at a relatively low cost by not using a load lock chamber or a gate valve to maintain a vacuum state in the process chamber when a sample is brought in or taken out, and space utilization in the process chamber is improved. Can be improved.
또한, 본 발명에 따른 진공 챔버는 비교적 간단한 구조로 소형화에 적합하며, 세척 등의 유지보수성을 향상시킬 수 있다.In addition, the vacuum chamber according to the present invention is suitable for miniaturization with a relatively simple structure, and it is possible to improve maintenance such as cleaning.
상술한 효과와 더불어 본 발명의 구체적인 효과는 이하 발명을 실시하기 위한 구체적인 사항을 설명하면서 함께 기술한다.In addition to the above-described effects, specific effects of the present invention will be described together with explanation of specific details for carrying out the present invention.
도 1은 종래의 진공 챔버를 나타내 사시도.
도 2는 종래의 진공 챔버의 게이트 밸브 구조를 나타낸 분해 사시도.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 진공 챔버의 분해 사시도.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 프로세스 챔버를 나타낸 사시도.
도 5의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 도어유닛의 폐쇄 및 개방 상태를 나타낸 사시도.
도 6의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀더유닛을 나타낸 사시도.
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀더유닛의 저면도.
도 8은 본 발명의 일 실시 예에 따른 이송유닛의 사시도.
도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 이송유닛의 분해 사시도.
도 10의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 제 1슬라이더의 정면도 및 저면도.
도 11의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 제 2슬라이더의 정면도 및 저면도
도 12의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 진공 챔버에 있어서, 홀더유닛의 이송상태를 나타낸 도면.
도 13의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 진공 챔버에 있어서, 홀더유닛의 이송상태를 나타낸 도면.1 is a perspective view showing a conventional vacuum chamber.
2 is an exploded perspective view showing the structure of a gate valve in a conventional vacuum chamber.
3 is an exploded perspective view of a vacuum chamber according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view showing a process chamber according to an embodiment of the present invention.
5A and 5B are perspective views each showing a closed and opened state of a door unit according to an embodiment of the present invention.
6A and 6B are perspective views each showing a holder unit according to an embodiment of the present invention.
7 is a bottom view of a holder unit according to an embodiment of the present invention.
8 is a perspective view of a transfer unit according to an embodiment of the present invention.
9 is an exploded perspective view of a transfer unit according to an embodiment of the present invention.
10A and 10B are front and bottom views, respectively, of a first slider according to an embodiment of the present invention.
11A and 11B are a front view and a bottom view of a second slider according to an embodiment of the present invention, respectively
12A and 12B are views each showing a transfer state of a holder unit in a vacuum chamber according to an embodiment of the present invention.
13A and 13B are views each showing a transfer state of a holder unit in a vacuum chamber according to an embodiment of the present invention.
이하, 본 발명의 일부 실시 예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명의 실시 예를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 실시 예에 대한 이해를 방해한다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail through exemplary drawings. In adding reference numerals to elements of each drawing, it should be noted that the same elements are assigned the same numerals as possible, even if they are indicated on different drawings. In addition, in describing an embodiment of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function interferes with the understanding of the embodiment of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.
또한, 본 발명의 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In addition, in describing the constituent elements of an embodiment of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are for distinguishing the constituent element from other constituent elements, and the nature, order, or order of the constituent element is not limited by the term. When a component is described as being "connected", "coupled" or "connected" to another component, that component may be directly connected or connected to that other component, but another component between each component It should be understood that may be “connected”, “coupled” or “connected”.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 진공 챔버의 분해 사시도이다.3 is an exploded perspective view of a vacuum chamber according to an embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 진공 챔버는 프로세스 챔버(100)와 도어유닛(200)과 홀더유닛(300) 및 이송유닛(400)을 포함한다.3, the vacuum chamber according to the present invention includes a
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 프로세스 챔버를 나타낸 사시도이다.4 is a perspective view showing a process chamber according to an embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 상기 프로세스 챔버(100)는 전방 상측에 시료의 반입 또는 반출이 이루어지는 하우징개구부(111)가 형성되는 하우징(110)과 상기 하우징(110) 외측에 결합되어 상기 하우징(110) 내부 공간에 진공 환경을 조성하는 진공펌프(120)와 진공 환경을 제어하기 위한 진공밸브(130)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the
보다 구체적으로 진공펌프(120)와 진공밸브(130)는 각각 하우징(110)의 측면에 형성되는 것이 바람직하며, 상기 진공밸브(130)는 비교적 진공 환경 유지를 위하여 밀폐가 요구되는 하우징개구부(111) 주변에 설치될 수 있다.More specifically, the
이에 따라, 하우징개구부(111)를 통하여 시료가 반입 또는 반출되는 경우 발생할 수 있는 누설 등으로 인하여 진공 환경이 변화되는 것을 비교적 신속하게 감지하고 제어할 수 있다.Accordingly, it is possible to relatively quickly detect and control changes in the vacuum environment due to leakage, etc. that may occur when a sample is carried in or taken out through the
또한, 상기 하우징(110)은 하우징 바디(110a)와 하우징 커버(110b)로 분리될 수 있으며, 상기 하우징 바디(110a)와 하우징 커버(110b) 사이에는 실링부재에 의하여 외부 환경과 밀폐가 이루어지도록 한다.In addition, the
또한, 상기 프로세스 챔버(100)는 후방 측과 상기 진공펌프(120)가 설치되는 반대측에 하우징(110) 내부를 관찰할 수 있는 창을 더 포함할 수 있다.In addition, the
또한, 상기 프로세스 챔버(100)는 하우징개구부(111) 하부에 캠부재(140)를 포함한다.In addition, the
상기 캠부재(140)는 적어도 1개 이상의 캠팔로워(141)가 결합되는 2개의 캠블록(142)을 포함하여 상기 캠팔로워(141)가 마주보도록 상기 하우징개구부(111) 양측에 대칭되어 설치된다.The
도 5의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 도어유닛의 폐쇄 및 개방 상태를 나타낸 사시도이다.5A and 5B are perspective views each showing a closed and opened state of a door unit according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 5를 참조하면, 상기 도어유닛(200)은 상기 하우징개구부(111)의 삽입되는 도어플랜지(211)와 시료의 반입 또는 반출이 이루어지는 도어개구부(212)를 포함하여 상기 하우징개구부(111) 외측에 결합하는 도어베이스(210)와 상기 도어베이스(210)에 힌지 결합되어 상기 도어개구부(212)를 상측으로 개폐되는 도어(220)를 포함한다.Referring to FIG. 5, the
이에 따라, 본 발명에 따른 진공 챔버는 도어유닛(200)이 하우징(110)에 상측으로 결합되는 구조로서 하우징(110) 내부의 세척 등과 같은 유지보수를 용이하게 할 수 있다.Accordingly, the vacuum chamber according to the present invention has a structure in which the
또한, 상기 도어베이스(210)가 결합되는 하우징개구부(111)의 외측에는 실링부재를 구비하여 도어베이스(210)와 하우징(110) 간에 결합으로 인한 누설을 방지할 수 있다.In addition, a sealing member is provided outside the
또한, 상기 도어(220)가 도어개구부(212)를 폐쇄하기 위하여 도어베이스(210)에 밀착되는 면에는 실링부재를 구비하여 도어(220)와 도어베이스(210) 간에 누설을 방지할 수 있다.In addition, a sealing member may be provided on a surface of the
또한, 상기 도어베이스(210)의 상면과 이에 대응하는 도어(210)의 저면 사이에는 실링부재를 구비하여 도어(220)가 폐쇄 시 도어(220)와 도어베이스(210) 간에 누설을 방지할 수 있다.In addition, a sealing member is provided between the upper surface of the
또한, 상기 도어(220)는 하우징(110) 내부를 관찰할 수 있는 창을 더 포함할 수도 있다.In addition, the
도 6의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀더유닛을 나타낸 사시도이다.6A and 6B are perspective views each showing a holder unit according to an embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 홀더유닛의 저면도이다.7 is a bottom view of a holder unit according to an embodiment of the present invention.
도 6과 7을 참조하면, 상기 홀더유닛(300)은 상면에 시료가 적재되는 홀더(310)와 상기 홀더(310) 외주면에 상기 도어플랜지(211)와 대응되는 홀더플랜지(311)가 형성되어 상기 하우징(110) 내부에 구비된다.6 and 7, the
또한, 상기 홀더유닛(300)은 양 측면에 상기 캠부재(140)와 대응되는 캠가이드(312)와 저면에 2개의 부시홀(313)을 더 포함할 수 있으며, 저면 전체 또는 일부가 자석에 붙을 수 있는 금속으로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the
상기 홀더플랜지(311)는 도 6의 a에 도시되어 있는 바와 같이 전면으로 하향 경사지는 테이퍼면이 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 도어플랜지(211) 역시 상기 테이퍼면이 형성된 홀더플랜지(311)와 대응되도록 전면으로 하향 경사지는 테이퍼면이 형성된다.The
또한, 상기 홀더플랜지(311)는 도 6의 b에 도시되어 있는 바와 같이 편평한 면으로 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 도어플랜지(211) 역시 상기 편평한 면이 형성된 홀더플랜지(311)와 대응되도록 편평한 면으로 형성된다.Further, the
도 8과 9는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 이송유닛의 사시도와 분해 사시도이다.8 and 9 are perspective and exploded perspective views, respectively, of a transfer unit according to an embodiment of the present invention.
도 10의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 제 1슬라이더의 정면도 및 저면도이다.10A and 10B are front and bottom views, respectively, of a first slider according to an embodiment of the present invention.
도 11의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 제 2슬라이더의 정면도 및 저면도이다.11A and 11B are front and bottom views, respectively, of a second slider according to an embodiment of the present invention.
도 8 내지 11을 참조하면, 상기 이송유닛(400)은 상기 하우징(110) 내에 설치되는 제 1축 슬라이더(410)와 제 2축 슬라이더(420) 및 베이스(430)를 포함한다.8 to 11, the
상기 이송유닛(400)은 일측에 형성되는 제 2축 엔코더(433)와 제 2축 방향으로 연장되어 각각 설치되는 제 2축 고정자(431)와 제 2축 리니어가이드(432)를 포함하여 상기 하우징(110) 내측 저면에 결합하는 슬라이더 베이스(430)와 상부에 제 1축 방향으로 연장되어 각각 설치되는 제 1축 고정자(421)와 제 1축 리니어가이드(422) 및 제 1축 스케일(423)과 하부 일측에 형성되는 제 2축 이동자(424)와 제 2축 방향으로 연장되어 설치되는 제 2축 스케일(425)와 상기 제 2축 리니어가이드(432)에 이동 가능하도록 결합되는 제 2축 리니어블럭(426)을 포함하여 상기 슬라이더 베이스(430)에 대하여 상대적으로 제 2축 방향으로 직선 운동하는 제 2축 슬라이더(420) 및 일측에 각각 형성되는 제 1축 이동자(413)와 제 1축 엔코더(414)와 하부에 상기 제 1축 리니어가이드(422)에 이동 가능하도록 결합되는 제 1축 리니어블럭(415)을 포함하여 상기 제 2축 슬라이더(420)에 대하여 상대적으로 제 1축 방향으로 직선 운동하는 제 1축 슬라이더(410)를 포함한다.The
보다 구체적으로 상기 슬라이더 베이스(430)에 형성되는 제 2축 엔코더(433)와 제 2축 고정자(431)는 각각 상기 하우징(110)의 저면을 관통하여 상기 슬라이더 베이스(430)에 결합되는 것이 바람직하다. 또한, 상기 제 2축 리니어가이드(432)는 적어도 2개 이상으로 형성되는 것이 바람직하다.More specifically, the
또한, 상기 제 2축 슬라이더(420)는 제 2축 고정자(431)와 제 2축 이동자(424) 간의 전류 흐름에 의하여 제 2축 리니어가이드(432)를 따라 제 2축 방향으로 직선 운동을 한다.In addition, the
또한, 상기 제 2축 슬라이더(420)는 하부에 결합되는 제 2축 스케일(425)과 슬라이더 베이스(430)에 고정 설치된 제 2축 엔코더(433)에 의하여 제어될 수 있다.In addition, the
또한, 상기 제 1축 리니어가이드(422)는 적어도 2개 이상으로 형성되는 것이 바람직하며, 제 1축 스케일(423)과 제 2축 스케일(425)은 각각 제 1축 엔코더(414)와 제 2축 엔코더(433)에 대응되는 위치에 형성된다.In addition, it is preferable that the first axis
또한, 상기 제 1축 슬라이더(410)는 제 1축 고정자(421)과 제 1축 이동자(413) 간의 전류 흐름에 의하여 제 1축 리니어가이드(422)를 따라 제 1축 방향으로 직선 운동을 한다.In addition, the
또한, 상기 제 1축 슬라이더(410)는 측면에 결합되는 제 1축 엔코더(414)와 제 2축 슬라이더(420)에 고정 설치된 제 1축 스케일(423)에 의하여 제어될 수 있다.In addition, the
또한, 상기 제 1축 슬라이더(410)는 상부에 적어도 1개 이상의 영구자석(411)과 상기 부시홀(313)에 각각 삽입되는 2개의 부시(412)를 포함하여 상기 홀더유닛(300)이 제 1축 슬라이더(410)를 기준으로 상, 하측으로 이동될 수 있도록 안정적으로 결합된다.In addition, the
도 12의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 진공 챔버에 있어서, 도어플랜지(211)와 홀더플랜지(311)가 각각 전방으로 하향 경사지도록 형성되는 경우 홀더유닛의 이송상태를 나타낸 도면이다.12A and 12B are diagrams illustrating a transfer state of the holder unit when the
도 12를 참조하여 본 발명에 따른 진공 챔버에 있어서, 도어플랜지(211)와 홀더플랜지(311)가 각각 전방으로 하향 경사진 테이퍼면으로 형성되는 경우에 작동 방법을 설명하면 하기와 같다.In the vacuum chamber according to the present invention with reference to FIG. 12, when the
프로세스 챔버(100)는 진공펌프(120)와 진공밸브(130)에 의하여 하우징(110) 내부에 진공 환경이 조성된다. 이때, 홀더유닛(300)은 도 12의 a에 도시되어 있는 바와 같이 도어유닛(200)을 기준으로 상기 하우징(110) 내부 후방 측에 위치하며 이를 중립상태로 정의한다.In the
한편, 분석 또는 제조 등을 위하여 시료를 상기 프로세스 챔버(100)에 투입하기 위하여 홀더유닛(300)은 이송유닛(400)에 의하여 도어유닛(200) 측으로 이송된다.Meanwhile, the
보다 구체적으로는 상기 홀더유닛(300)은 홀더플랜지(311)가 도어플랜지(211)에 접촉할 수 있도록 제 1축 슬라이더(410)에 의하여 제 1축으로 직선운동이 이루어진다.More specifically, the
이에 따라, 상기 홀더플랜지(311)의 테이퍼면과 도어플랜지(211)의 테이퍼면이 밀착되며, 상기 홀더플랜지(311)와 도어플랜지(211)의 접촉면 사이에 구비되는 도어플랜지 실링부재(211a)에 의하여 밀폐가 이루어진다.Accordingly, the tapered surface of the
이때, 상기 홀더유닛(300)은 홀더플랜지(311)와 도어플랜지(211)의 밀폐가 이루어진 상태에서 캠팔로워(141)와 캠가이드(312)에 형성된 이동방지부(312a)에 의하여 고정된다.At this time, the
즉, 본 발명에 따른 진공 챔버는 상기한 바와 같이 제 1축 슬라이더(410)인 리니어스테이지를 이용하여 종래의 게이트 밸브의 역할을 수행할 수 있다.That is, the vacuum chamber according to the present invention may perform the role of a conventional gate valve by using the linear stage, which is the
보다 구체적으로 상기 홀더유닛(300)은 제 1축으로 이동하면서 캠가이드(312)에 캠팔로워(141)가 밀착되며, 캠가이드(312)에 형상에 의하여 제 1축 슬라이더(410)를 기준으로 상측으로 제 1축 슬라이더(412)의 상면과 이격되고 홀더유닛(300)의 이송이 완료되어 홀더플랜지(311)와 도어플랜지(211)의 밀폐가 이루어지면 제 1축 슬라이더(412)의 상면에 안착된다.More specifically, in the
즉, 상기 이동방지부(312a)는 '^'자 형상으로 형성되어 홀더플랜지(311)와 도어플랜지(211)의 밀폐가 완료되면 캠가이드(412)가 이동방지부(312a)의 중앙에 끼워진 상태로 유지되어 홀더유닛(300)을 고정하는 것이다.That is, the
이에 따라, 본 발명에 따른 진공 챔버는 전원 공급이 중단되는 경우에도 홀더플랜지(311)와 도어플랜지(211)의 밀폐가 유지될 수 있다.Accordingly, in the vacuum chamber according to the present invention, even when the power supply is stopped, the sealing of the
또한, 본 발명에 따른 진공 챔버는 도어(220)를 개방하여 홀더(310)에 시료를 적재하는 경우 상기한 바와 같이 홀더플랜지(311)와 도어플랜지(211)의 밀폐됨으로써 하우징(110) 내부의 진공 환경이 유지된다.In addition, in the vacuum chamber according to the present invention, when a sample is loaded in the
이에 따라, 본 발명에 따른 진공 챔버는 상기한 바와 같이 게이트 밸브의 역할을 홀더유닛(300)과 이송유닛(400)으로 대체 수행하므로 게이트 밸브와 이를 구동하기 위한 구성이 생략될 수 있으므로 프로세스 챔버(100) 내부의 공간 활용도가 향상된다.Accordingly, the vacuum chamber according to the present invention replaces the role of the gate valve with the
이후 홀더유닛(300)은 상기한 바와 같이 홀더(310)에 시료 적재가 완료되어 도어(220)가 폐쇄되면, 제 1축 슬라이더(410)에 의하여 중립상태로 복귀한다.Thereafter, the
이때, 상기 홀더유닛(300)은 프로브, 비전검사기, 제조장치 등에 의한 검사, 분석 등이 이루어질 수 있도록 제 1축 슬라이더(410)와 제 2축 슬라이더(420)에 의하여 미세한 위치 조정이 가능하므로 시료의 검사, 분석, 제조 등이 용이하게 이루어질 수 있다.At this time, the
한편, 도 13의 a, b는 각각 본 발명의 일 실시 예에 따른 진공 챔버에 있어서, 도어플랜지(211)와 홀더플랜지(311)가 각각 편평한 면으로 형성되는 경우 홀더유닛의 이송상태를 나타낸 도면이다.Meanwhile, FIGS. 13A and 13B are diagrams showing the transfer state of the holder unit when the
도 13을 참조하여 본 발명에 따른 진공 챔버에 있어서, 도어플랜지(211)와 홀더플랜지(311)가 각각 편평한 면으로 형성되는 경우에 도어플랜지(211)와 홀더플랜지(311)의 밀폐가 이루어지는 방법은 하기와 같다.In the vacuum chamber according to the present invention with reference to FIG. 13, a method of sealing the
상기 홀더유닛(300)은 중립상태에서 홀더플랜지(311)가 도어플랜지(211)에 접촉할 수 있도록 제 1축 슬라이더(410)에 의하여 제 1축으로 직선운동이 이루어진다.The
이때, 상기 홀더유닛(300)은 제 1축으로 이동하면서 캠가이드(312)에 캠팔로워(141)가 밀착되며, 캠가이드(312)에 형상에 의하여 제 1축 슬라이더(410)를 기준으로 상측으로 제 1축 슬라이더(412)의 상면과 이격되어 도어플랜지(211)와 홀더플랜지(311)의 밀폐가 이루어진다.At this time, the
보다 구체적으로 홀더유닛(300)은 캠가이드(312)에 형성되는 상측이동부(312b)에 의하여 제 1축 슬라이더(410)의 상면과 이격된 상태로 도어플랜지(211)와 홀더플랜지(311)의 밀폐가 이루어진다.More specifically, the
이때, 상기 상측이동부(312b)는 직선 운동을 상하 운동으로 변환하는 것으로 서로 다른 높이를 갖는 직선구간부 사이에 경사진 면으로 형성되는 것이 바람직하다.In this case, the upper moving
또한, 상기 홀더유닛(300)은 캠가이드(312)에 이동방지부(312a)를 더 포함하여 도어플랜지(211)와 홀더플랜지(311)의 밀폐가 이루어진 상태에서 홀더유닛(300)이 제 1축으로 이동되는 것을 방지할 수 있다.In addition, the
한편, 상기한 바와 같이 홀더유닛(300)이 중립상태로 이동하는 경우 홀더유닛(300)의 자중과 제 1축 슬라이더(410) 상면에 설치되는 영구자석(411)에 의하여 홀더유닛(300)과 제 1축 슬라이더(410) 상면의 밀착이 이루어진다.On the other hand, as described above, when the
상기한 본 발명의 바람직한 실시 예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대해 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.Preferred embodiments of the present invention described above are disclosed for the purpose of illustration, and those skilled in the art with ordinary knowledge of the present invention will be able to make various modifications, changes, additions within the spirit and scope of the present invention, such modifications, changes and The addition should be seen as falling within the scope of the following claims.
100. 프로세스 챔버
110. 하우징
110a. 하우징 바디
110b. 하우징 커버
111. 하우징개구부
120. 진공펌프
130. 진공밸브
140. 캠부재
141. 캠팔로워
142. 캠블록
200. 도어유닛
210. 도어베이스
211. 도어플랜지
212. 도어개구부
211a. 도어플랜지 실링부재
220. 도어
300. 홀더유닛
310. 홀더
311. 홀더플랜지
312. 캠가이드
312a. 이동방지부
312b. 상측이동부
313. 부시홀
400. 이송유닛
410. 제 1축 슬라이더
411. 영구자석
412. 부시
413. 제 1축 이동자
414. 제 1축 엔코더
415. 제 1축 리니어블럭
420. 제 2축 슬라이더
421. 제 1축 고정자
422. 제 1축 리니어가이드
423. 제 1축 스케일
424. 제 2축 이동자
425. 제 2축 스케일
426. 제 2축 리니어블럭
430. 슬라이더 베이스
431. 제 2축 고정자
432. 제 2축 리니어가이드
433. 제 2축 엔코더100. Process Chamber
110. Housing
110a. Housing body
110b. Housing cover
111. Housing opening
120. Vacuum pump
130. Vacuum valve
140. Cam member
141. Cam Followers
142. Cam block
200. Door unit
210. Door base
211. Door flange
212. Door opening
211a. Door flange sealing member
220. Door
300. Holder unit
310. Holder
311. Holder flange
312. Cam Guide
312a. Movement prevention part
312b. Upper moving part
313. Bush Hall
400. Transfer unit
410. 1st axis slider
411. Permanent magnet
412. Bush
413. 1st axis mover
414. 1st axis encoder
415. 1st axis linear block
420. 2nd axis slider
421. 1st axis stator
422. 1st axis linear guide
423. 1st axis scale
424. 2nd axis mover
425. 2nd axis scale
426. 2nd axis linear block
430. Slider Base
431. 2nd shaft stator
432. 2nd axis linear guide
433. 2nd axis encoder
Claims (10)
상기 하우징개구부 내측에 삽입되는 도어플랜지와 상기 하우징개구부에 대응되는 도어개구부를 포함하여 상기 하우징개구부 외측에 결합하는 도어베이스 및 상기 도어베이스 외측에 결합하여 상기 도어개구부를 개폐하는 도어를 포함하는 도어유닛;
상면에 시료가 적재되는 홀더와 상기 홀더 외주면에 상기 도어플랜지와 대응되는 홀더플랜지가 형성되고, 상기 하우징 내부에 구비되는 홀더유닛; 및
상기 홀더유닛이 상하로 이동 가능하도록 결합되는 제 1축 슬라이더와 상기 홀더플랜지가 상기 도어플랜지에 접촉 또는 분리되도록 상기 제 1축 슬라이더를 제 1축으로 이송시키는 이송유닛;을 포함하는 진공 챔버.
A process chamber in which a housing opening through which a sample can enter and exit is formed in an upper front portion to create a vacuum environment inside the housing;
A door unit including a door flange inserted into the housing opening and a door opening corresponding to the housing opening, a door base coupled to the outside of the housing opening, and a door coupled to the outside of the door base to open and close the door opening ;
A holder unit having a holder on which a sample is loaded on an upper surface and a holder flange corresponding to the door flange formed on an outer circumferential surface of the holder, and provided in the housing; And
A first shaft slider coupled to move the holder unit up and down and a transfer unit transferring the first shaft slider to a first shaft such that the holder flange contacts or separates from the door flange.
상기 제 1축 슬라이더에 의한 직선 왕복 운동에 따라 상기 홀더유닛이 양측에 형성되는 캠가이드와 상기 하우징개구부 하부 양측에 형성되는 캠부재에 의하여 상, 하측으로 이동하는 진공 챔버.
The method of claim 1,
A vacuum chamber in which the holder unit moves upward and downward by a cam guide formed on both sides of the holder unit and cam members formed on both sides of a lower portion of the housing opening according to a linear reciprocating motion by the first shaft slider.
상기 도어플랜지와 상기 홀더플랜지는 각각 전방으로 하향 경사지는 면으로 형성되고,
상기 제 1축 슬라이더의 직선 운동에 의하여 상기 홀더플랜지가 상기 도어플랜지를 가압하는 진공 챔버.
The method of claim 2,
The door flange and the holder flange are each formed as a surface inclined downwardly forward,
A vacuum chamber in which the holder flange presses the door flange by linear motion of the first shaft slider.
상기 도어플랜지와 상기 홀더플랜지는 각각 제 1축 슬라이더의 운동 방향에 수평인 면으로 형성되고,
상기 홀더유닛이 상측으로 이동하여 상기 홀더플랜지가 상기 도어플랜지를 가압하는 진공 챔버.
The method of claim 2,
The door flange and the holder flange are each formed in a plane horizontal to the movement direction of the first axis slider,
A vacuum chamber in which the holder unit moves upward so that the holder flange presses the door flange.
상기 캠가이드에는 이동방지부가 형성되어 상기 홀더유닛의 제 1축 직선 이동을 제한하는 진공 챔버.
The method according to claim 3 or 4,
The cam guide is provided with a movement preventing part to limit the linear movement of the holder unit on the first axis.
상기 홀더플랜지와 도어플랜지가 접촉되는 면 중 어느 일측에 실링부재가 구비되는 진공 챔버.
The method according to claim 3 or 4,
A vacuum chamber provided with a sealing member on any one side of a surface in which the holder flange and the door flange are in contact.
상기 제 1축 슬라이더는 상부에 각각 적어도 1개 이상의 영구자석과 부시가 형성되고,
상기 홀더유닛 저면은 자력에 반응하는 금속으로 형성되고, 상기 부시가 삽입되는 부시홀을 포함하는 진공 챔버.
The method of claim 2,
Each of the first shaft slider has at least one permanent magnet and a bush formed thereon,
The bottom of the holder unit is formed of a metal reacting to magnetic force, and a vacuum chamber including a bush hole into which the bush is inserted.
상기 이송유닛은 제 1축과 수직으로 교차하는 제 2축 방향으로 상기 홀더유닛을 이송시키는 진공 챔버.
The method of claim 2,
The transfer unit is a vacuum chamber for transferring the holder unit in a direction of a second axis perpendicularly crossing the first axis.
상기 이송유닛은
일측에 형성되는 제 2축 엔코더와 제 2축 방향으로 연장되어 각각 설치되는 제 2축 고정자와 제 2축 리니어가이드를 포함하여 상기 하우징 내측 저면에 결합하는 슬라이더 베이스;
상부에 제 1축 방향으로 연장되어 각각 설치되는 제 1축 고정자와 제 1축 리니어가이드 및 제 1축 스케일과 하부 일측에 형성되는 제 2축 이동자와 제 2축 방향으로 연장되어 설치되는 제 2축 스케일과 상기 제 2축 리니어가이드에 이동 가능하도록 결합되는 제 2축 리니어블럭을 포함하여 상기 슬라이더 베이스에 대하여 상대적으로 제 2축 방향으로 직선 운동하는 제 2축 슬라이더;
일측에 각각 형성되는 제 1축 이동자와 제 1축 엔코더와 하부에 상기 제 1축 리니어가이드에 이동 가능하도록 결합되는 제 1축 리니어블럭을 포함하여 상기 제 2축 슬라이더에 대하여 상대적으로 제 1축 방향으로 직선 운동하는 제 1축 슬라이더를 포함하는 진공 챔버.
The method of claim 8,
The transfer unit
A slider base coupled to an inner bottom surface of the housing including a second shaft encoder formed on one side and a second shaft stator and a second shaft linear guide respectively installed extending in the second shaft direction;
The first axis stator and the first axis linear guide and the first axis scale and the second axis mover formed on one side of the lower side and the second axis extending in the second axis direction and installed respectively extending in the direction of the first axis at the top A second axis slider that includes a scale and a second axis linear block that is movably coupled to the second axis linear guide and moves linearly in a second axis direction relative to the slider base;
A first axis direction relative to the second axis slider, including a first axis mover and a first axis encoder respectively formed on one side, and a first axis linear block coupled to the first axis linear guide so as to be movable at the bottom. Vacuum chamber comprising a first axis slider for linear motion.
상기 제 2축 엔코더와 제 2축 고정자는 각각 상기 하우징의 저면을 관통하여 상기 슬라이더 베이스에 결합되는 진공 챔버.
The method of claim 9,
The second shaft encoder and the second shaft stator respectively penetrate through a bottom surface of the housing and are coupled to the slider base.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020200067320A KR102655427B1 (en) | 2019-10-29 | 2020-06-03 | Vacuum Chamber And Gate Structure Using Linear Stage |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190135647A KR102133238B1 (en) | 2019-10-29 | 2019-10-29 | Vacuum Chamber And Gate Structure Using Linear Stage |
KR1020200067320A KR102655427B1 (en) | 2019-10-29 | 2020-06-03 | Vacuum Chamber And Gate Structure Using Linear Stage |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190135647A Division KR102133238B1 (en) | 2019-10-29 | 2019-10-29 | Vacuum Chamber And Gate Structure Using Linear Stage |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210052173A true KR20210052173A (en) | 2021-05-10 |
KR102655427B1 KR102655427B1 (en) | 2024-04-08 |
Family
ID=90715015
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020200067320A KR102655427B1 (en) | 2019-10-29 | 2020-06-03 | Vacuum Chamber And Gate Structure Using Linear Stage |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102655427B1 (en) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100313825B1 (en) * | 1997-02-26 | 2002-04-24 | 아끼구사 나오유끼 | Wafer Type Workpiece Handling Device |
KR101531632B1 (en) | 2014-02-24 | 2015-06-29 | 주식회사 아스타 | Gate valve structure for vacuum system |
KR101585869B1 (en) * | 2014-02-24 | 2016-01-15 | 주식회사 아스타 | Apparatus for loading and unloading sample holder |
JP5898523B2 (en) * | 2012-02-20 | 2016-04-06 | スタンレー電気株式会社 | Vacuum processing apparatus and method for manufacturing article using vacuum processing apparatus |
KR101892129B1 (en) * | 2018-05-25 | 2018-10-04 | 주식회사 디엠티 | A Transfer Equipment for a Vacuum Chamber |
-
2020
- 2020-06-03 KR KR1020200067320A patent/KR102655427B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101531632B1 (en) | 2014-02-24 | 2015-06-29 | 주식회사 아스타 | Gate valve structure for vacuum system |
KR101585869B1 (en) * | 2014-02-24 | 2016-01-15 | 주식회사 아스타 | Apparatus for loading and unloading sample holder |
KR101892129B1 (en) * | 2018-05-25 | 2018-10-04 | 주식회사 디엠티 | A Transfer Equipment for a Vacuum Chamber |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102655427B1 (en) | 2024-04-08 |
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