KR20210043180A - Apparatus and method for treating substrate - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판의 디척킹 수행시 기판의 손상을 방지하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method, and more particularly, to a substrate processing apparatus and a substrate processing method for preventing damage to a substrate when performing dechucking of a substrate.
일반적으로, 반도체 소자를 제조하기 위하여, 기판에 증착, 도포, 현상, 식각, 세정 등과 같은 단위 공정들을 순차적 또는 반복적으로 처리한다. 이와 같은 단위 공정들을 처리하는 기판 처리 장치는 챔버 내부에 기판이 안착되는 플레이트를 구비한다. 플레이트에는 기판을 지지하는 복수 개의 리프트핀들이 일정한 간격으로 배치된다. 또한, 플레이트는 기판을 고정시키기 위해, 클램프 또는 진공을 이용하거나, 정전기력을 이용하여 기판을 고정시킨다.In general, in order to manufacture a semiconductor device, unit processes such as deposition, coating, development, etching, cleaning, etc. are sequentially or repeatedly processed on a substrate. A substrate processing apparatus for processing such unit processes includes a plate on which a substrate is mounted inside a chamber. A plurality of lift pins supporting the substrate are disposed on the plate at regular intervals. In addition, in order to fix the substrate, the plate uses a clamp or vacuum, or uses an electrostatic force to fix the substrate.
챔버 내에서 공정이 수행된 후 기판을 회수하기 위하여 기판을 지지하는 리프트핀들이 상승하는 동작이 수행된다. 또한, 기판을 고정시키기 위하여 플레이트에 가해진 정전기력을 제거한 후 리프트핀 업 동작이 수행되는데, 이를 디척킹(Dechucking)이라 한다. 다만, 디처킹 동작이 수행될 때 간헐적으로 플레이트에 인가되는 DC 전압이 차단되더라도 플레이트에 정전기력이 잔존하는 현상이 발생하며, 플레이트에 정전기력이 잔존하는 상태에서 리프트핀 업 동작이 수행되면 기판이나 리프트핀에 손상이 발생할 수 있다. After the process is performed in the chamber, the lift pins supporting the substrate are lifted in order to recover the substrate. In addition, after removing the electrostatic force applied to the plate to fix the substrate, a lift pin-up operation is performed, which is referred to as dechucking. However, even if the DC voltage applied to the plate is intermittently blocked when the dechucking operation is performed, the electrostatic force remains on the plate.If the lift pin-up operation is performed while the electrostatic force remains on the plate, the substrate or lift pin Damage may occur.
본 발명의 목적은 구동기의 토크값을 측정하여 기판의 디척킹 수행시 기판 손상을 방지하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공함에 있다.An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method for preventing damage to a substrate during dechucking of a substrate by measuring a torque value of a driver.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는, 기판을 지지하고, 상하방향으로 핀홀이 형성되는 서셉터, 상기 핀홀을 따라 승강하도록 제공되는 리프트핀, 상기 리프트핀을 상하방향으로 구동하는 구동기 및 상기 구동기의 토크값을 이용하여 상기 기판의 디척킹 동작의 실패 여부를 판단하는 제어 유닛을 포함한다.A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes a susceptor supporting a substrate and having a pinhole formed in a vertical direction, a lift pin provided to elevate along the pinhole, and the lift pin. And a control unit that determines whether a dechucking operation of the substrate fails by using a driver driving in the vertical direction and a torque value of the driver.
여기서, 상기 제어 유닛은, 상기 구동기의 토크값이 기설정된 범위를 벗어나는 경우 상기 기판의 디척킹 동작이 실패한 것으로 판단할 수 있다.Here, when the torque value of the driver is out of a preset range, the control unit may determine that the dechucking operation of the substrate has failed.
여기서, 상기 제어 유닛은, 상기 기판이 처리되는 공정 환경에 따라 상기 기설정된 범위를 상이하게 설정할 수 있다.Here, the control unit may set the preset range differently according to a process environment in which the substrate is processed.
여기서, 상기 제어 유닛은, 상기 공정 환경에 따른 상기 기판의 디척킹 동작 실패 여부를 이용하여 상기 기설정된 범위를 업데이트할 수 있다.Here, the control unit may update the preset range using whether the dechucking operation of the substrate fails according to the process environment.
또한, 본 기판 처리 장치는, 상기 기판의 디척킹 동작이 실패한 경우, 알람을 발생시키는 알람 유닛을 더 포함할 수 있다.In addition, the substrate processing apparatus may further include an alarm unit that generates an alarm when the dechucking operation of the substrate fails.
한편, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 방법은, 기판을 지지하는 서셉터의 내부에 핀홀이 형성되고, 리프트핀이 상기 핀홀을 따라 승강하도록 제공되며, 상기 리프트핀은 구동기에 의해 상하방향으로 구동하되, 상기 구동기의 토크값을 이용하여 상기 기판의 디척킹 동작의 실패 여부를 판단한다.On the other hand, in the substrate processing method according to an embodiment of the present invention, a pinhole is formed in a susceptor supporting a substrate, a lift pin is provided to move up and down along the pinhole, and the lift pin is vertically directed by a driver. However, it is determined whether the dechucking operation of the substrate fails by using the torque value of the driver.
여기서, 상기 구동기의 토크값이 기설정된 범위를 벗어나는 경우 상기 기판의 디척킹 동작이 실패한 것으로 판단할 수 있다.Here, when the torque value of the driver is out of a preset range, it may be determined that the dechucking operation of the substrate has failed.
여기서, 상기 기설정된 범위는, 상기 기판이 처리되는 공정 환경에 따라 상이하게 설정될 수 있다.Here, the preset range may be set differently according to a process environment in which the substrate is processed.
여기서, 상기 기설정된 범위는, 상기 공정 환경에 따른 상기 기판의 디척킹 동작 실패 여부를 이용하여 업데이트될 수 있다.Here, the preset range may be updated using whether the dechucking operation of the substrate fails according to the process environment.
또한, 본 기판 처리 방법은, 상기 기판의 디척킹 동작이 실패한 경우 알람을 발생시킬 수 있다.In addition, the substrate processing method may generate an alarm when the dechucking operation of the substrate fails.
이상과 같은 본 발명의 다양한 실시 예에 따르면 구동기의 토크값을 측정하여 기판의 디척킹 동작 실패 여부를 판단할 수 있다.According to various embodiments of the present disclosure as described above, it is possible to determine whether a dechucking operation of a substrate has failed by measuring a torque value of a driver.
또한, 본 발명은 구동기의 토크값을 이용하여 기판의 디척킹 수행시 기판 손상을 방지할 수 있다.In addition, the present invention can prevent damage to the substrate when dechucking the substrate by using the torque value of the driver.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 방법을 나타내는 흐름도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a substrate processing apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a flowchart illustrating a substrate processing method according to an exemplary embodiment of the present invention.
본 명세서에서 사용되는 용어와 첨부된 도면은 본 발명을 용이하게 설명하기 위한 것이므로, 본 발명이 용어와 도면에 의해 한정되는 것은 아니다. 본 발명에 이용되는 기술 중 본 발명의 사상과 밀접한 관련이 없는 공지의 기술에 관한 자세한 설명은 생략한다. 본 명세서에 기재되는 실시 예는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 명확히 설명하기 위한 것이므로, 본 발명이 본 명세서에 기재된 실시 예로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 범위는 본 발명의 사상을 벗어나지 아니하는 수정예 또는 변형예를 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The terms used in the present specification and the accompanying drawings are for easily explaining the present invention, so the present invention is not limited by the terms and drawings. Among the technologies used in the present invention, detailed descriptions of known technologies that are not closely related to the spirit of the present invention will be omitted. Since the embodiments described in this specification are intended to clearly describe the present invention to those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains, the present invention is not limited to the embodiments described herein, and the scope of the present invention is It should be construed as including modifications or variations that do not depart from the spirit of the present invention.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a substrate processing apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 챔버(100), 기판 지지 유닛(200), 가스 공급 유닛(300), 그리고 플라즈마 소스 유닛(400)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the
챔버(100)는 플라즈마 처리가 수행되는 공간을 제공하고, 기판 지지 유닛(200)은 챔버(100) 내부에서 기판(W)을 지지한다. 가스 공급 유닛(300)은 챔버 (100) 내부로 공정 가스를 공급하고, 플라즈마 소스 유닛(400)은 챔버(100) 내부에 전자기파를 제공하여 공정 가스로부터 플라즈마를 생성한다. 이하, 각 구성에 대해 상세하게 설명한다.The
챔버(100)는 챔버 바디(110)와 유전체 커버(120)를 포함한다. 챔버 바디(110)는 상면이 개방되고, 내부에 공간이 형성된다. 챔버 바디(110)의 바닥벽에는 배기홀(113)이 형성된다. 배기홀(113)은 배기 라인(117)과 연결되며, 챔버 바디(110) 내부에 머무르는 가스와 공정 과정에서 발생한 반응 부산물이 외부로 배출되는 통로를 제공한다. 배기홀(113)은 챔버 바디(110)의 바닥벽 가장자리영역에 복수 개 형성될 수 있다.The
유전체 커버(120)는 챔버 바디(110)의 개방된 상면을 밀폐한다. 유전체 커버(120)는 챔버 바디(110) 둘레에 상응하는 반경을 가진다. 유전체 커버(120)는 유전체 재질로 제공될 수 있다. 유전체 커버(120)는 알루미늄 재질로 제공될 수 있다. 유전체 커버(120)와 챔버 바디(110)에 의해 에워싸지는 공간은 플라즈마 처리 공정이 수행되는 처리 공간(130)으로 제공된다.The
배플(250)은 챔버(100) 내에서 공정가스의 흐름을 제어한다. 배플(250)은 링 형상으로 제공되며, 챔버(100)와 기판 지지 유닛(200) 사이에 위치한다. 배플(250)에는 분배홀(251)들이 형성된다. 챔버(100) 내에 머무르는 공정가스는 분배홀(251)들을 통과하여 배기홀(113)에 유입된다. 분배홀(251)들의 형상 및 배열에 따라 배기홀(113)로 유입되는 공정 가스의 흐름이 제어될 수 있다.The
가스 공급 유닛(300)은 챔버(100) 내부에 공정 가스를 공급한다. 가스 공급 유닛(300)은 노즐(310), 가스 저장부(320), 그리고 가스 공급 라인(330)을 포함한다.The
노즐(310)은 유전체 커버(120)에 장착된다. 노즐(310)은 유전체 커버(120)의 중심영역에 위치할 수 있다. 노즐(310)은 가스 공급 라인(330)을 통해 가스 저장부(330)와 연결된다. 가스 공급 라인(330)에는 밸브(340)가 설치된다. 밸브(340)는 가스 공급 라인(330)을 개폐하고, 공정 가스의 공급 유량을 조절한다. 가스 저장부(320)에 저장된 공정 가스는 가스 공급 라인(330)을 통해 노즐(310)에 공급되고, 노즐(310)로부터 챔버(100) 내부로 분사된다. 노즐(310)은 주로 처리 공간(130)의 중앙 영역으로 공정 가스를 공급한다. 이와 달리, 가스 공급 유닛(300)은 챔버 바디(110)의 측벽에 장착된 노즐(미도시)을 더 포함할 수 있다. 노즐은 처리 공간(130)의 가장 자리 영역으로 공정 가스를 공급한다.The
플라즈마 소스 유닛(400)은 공정 가스로부터 플라즈마를 생성한다. 플라즈마 소스 유닛(400)은 안테나(410), 전원(420), 그리고 상부 커버(430)를 포함한다. The
안테나(410)는 챔버(100)의 상부에 제공된다. 안테나(410)는 나선 형상의 코일로 제공될 수 있다. 전원(420)은 케이블을 통해 안테나(410)와 연결되며, 고주파 전력을 안테나(410)에 인가한다. 고주파 전력의 인가로 안테나(410)에서는 전자기파가 발생한다. 전자기파는 챔버(100) 내부에 유도 전기장을 형성한다. 공정 가스는 유도 전기장으로부터 이온화에 필요한 에너지를 얻어 플라즈마로 생성된다. 플라즈마는 기판(W)에 제공되며, 에칭 공정을 수행할 수 있다.The
기판 지지 유닛(200)은 처리 공간(130)에 위치하며, 기판(W)을 지지한다. 기판 지지 유닛(200)은 정전기력을 이용하여 기판(W)을 고정하거나, 기계적 클램핑 방식으로 기판(W)을 지지할 수 있다. 이하, 기판 지지 유닛(200)은 정전기력을 이용하여 기판(W)을 고정하는 방식을 예를 들어 설명한다.The
기판 지지 유닛(200)은 서셉터(210), 하우징(230), 그리고 리프트핀 구조체(900)를 포함한다.The
서셉터(210)는 정전기력을 이용하여 기판을 흡착한다. 서셉터(210)는 유전판(211), 전극(212), 히터(213), 포커스 링(214), 절연판(215), 그리고 접지판(216)을 포함할 수 있다.The
유전판(211)은 원판 형상으로 제공된다. 유전판(211)의 상면은 기판(W)에 상응하거나, 기판(W)보다 작은 반경을 가질 수 있다. 유전판(211)의 상면에는 돌출부(211a)들이 형성될 수 있다. 기판(W)은 돌출부(211a)들에 놓이며, 유전판(211)의 상면과 소정 간격으로 이격된다. 유전판(211)은 하부 영역이 상부 영역보다 큰 반경을 갖도록 측면이 단차질 수 있다.The
전극(212)은 유전판(211) 내부에 매설된다. 전극(212)은 두께가 얇은 전도성 재질의 원판으로, 케이블(221)을 통해 외부 전원(미도시)과 연결된다. 외부 전원에서 인가된 전력은 전극(220)과 기판(W) 사이에 정전기력을 형성하여 기판(W)을 유전판(210)의 상면에 고정시킨다. 외부 전원은 DC 전원일 수 있다.The
히터(213)는 유전판(211) 내부에 제공된다. 히터(213)는 전극(212)의 하부에 제공될 수 있다. 히터(213)는 케이블(222)을 통해 외부 전원(미도시)과 연결된다. 히터(213)는 외부 전원에서 인가된 전류에 저항함으로써 열을 발생시킨다. 발생된 열은 유전판(211)을 거쳐 기판(W)으로 전달되며, 기판(W)을 소정 온도로 가열한다. 히터(213)는 나선 형상의 코일로 제공되며, 균일한 간격으로 유전판(211) 내부에 매설될 수 있다.The
포커스 링(214)은 링 형상으로 제공되며, 유전판(211)의 상부 영역 둘레를 따라 배치된다. 포커스 링(214)의 상면은 유전판(211)에 인접한 내측부가 외측부보다 낮도록 단차질 수 있다. 포커스 링(214)의 상면 내측부는 유전판(211)의 상면과 동일 높에에 위치할 수 있다. 포커스 링(214)은 플라즈마가 형성되는 영역의 중심에 기판(W)이 위치하도록 전자기장 형성 영역을 확장시킨다. 이에 의해 기판(W) 전체 영역에 걸쳐 플라즈마가 균일하게 형성될 수 있다.The
절연판(215)은 유전판(211)의 하부에 위치하며, 유전판(211)을 지지한다. 절연판(215)은 소정 두께를 갖는 원판으로, 유전판(211)에 상응하는 반경을 가질 수 있다. 절연판(215)은 절연 재질로 제공된다. 절연판(215)은 케이블(223)을 통해 외부 전원(미도시)과 연결된다. 케이블(223)을 통해 절연판(215)에 인가된 고주파 전류는 기판 지지 유닛(200)과 유전체 커버(120) 사이에 전자기장을 형성한다. 전자기장은 플라즈마를 생성하는 에너지로 제공된다.The insulating
절연판(215)에는 냉각 유로(211b)가 형성될 수 있다. 냉각 유로(211b)는 히터(213)의 하부에 위치한다. 냉각 유로(211b)는 냉각 유체가 순환하는 통로를 제공한다. 냉각 유체의 열은 유전판(211)과 기판(W)으로 전달되며, 가열된 유전판(211)과 기판(W)을 신속하게 냉각한다. 냉각 유로(211b)는 나선 형상으로 형성될 수 있다. 이와 달리, 냉각 유로(211b)는 상이한 반경을 갖는 링 형상의 유로들이 동일한 중심을 갖도록 배치될 수 있다. 각각의 유로들은 서로 연통될 수 있다. 이와 달리, 냉각 유로(211b)는 접지판(216)에 형성될 수 있다.A
접지판(216)은 절연판(215)의 하부에 위치한다. 접지판(216)은 소정 두께를 갖는 원판으로, 절연판(215)에 상응하는 반경을 가질 수 있다. 접지판(216)은 접지된다. 접지판(216)은 절연판(215)과 챔버 바디(110)를 전기적으로 절연시킨다.The
서셉터(210) 내에는 핀 홀(226)이 형성된다. 핀 홀(226)은 서셉터(210)의 상면에 형성된다. 그리고 핀 홀(236)은 서셉터(210)를 수직으로 관통할 수 있다. 핀 홀(226)은 유전판(211)의 상면으로부터, 유전판(211), 절연판(215), 그리고 접지판(216)을 순차적으로 거쳐 접지판(216)의 하면으로 제공된다. A
핀 홀(226)은 복수 개 형성될 수 있다. 핀 홀(226)은 유전판(211)의 원주 방향으로 복수 개 배치될 수 있다. 예를 들어, 3개의 핀 홀(226)은 유전판(211)의 원주 방향으로 120도 간격으로 떨어져 배치될 수 있다. 그 밖에도 4개의 핀 홀(226)이 유전판(211)의 원주 방향으로 90도 간격으로 떨어져 배치되는 등 다양한 수의 핀 홀(226)이 형성될 수 있다. A plurality of pin holes 226 may be formed. A plurality of pin holes 226 may be disposed in the circumferential direction of the
그리고 핀 홀(226)은 유전판(211)의 돌출부(211a)에 형성될 수 있다. 예를 들어, 원형의 평면 형상을 가지는 돌출부(211a)의 중앙에 원형의 핀 홀(226)이 형성될 수 있다. 다만, 돌출부(211a)와 핀 홀(226)의 평면 형상은 다양하게 마련될 수 있다. 핀 홀(226)은 돌출부(211a)의 일부에 형성될 수 있다. 예를 들어, 6개의 돌출부(211a)가 유전판(211)의 원주 방향으로 60도 간격으로 떨어져 배치되고, 3개의 핀 홀(226)이 30도 간격으로 떨어져 배치될 수 있다.In addition, the
하우징(230)은 접지판(216)의 하부에 위치하며, 접지판(216)을 지지한다. 하우징(230)은 소정 높이를 갖는 원통으로, 내부에 공간이 형성된다. 하우징(230)은 접지판(216)에 상응하는 변경을 가질 수 있다. 하우징(230)의 내부에는 각종 케이블(221, 222, 223)들과 리프트핀 구조체(900)가 위치한다.The
리프트핀 구조체(900)는 상승 및 하강 움직임을 통해 유전판(211)에 기판(W)을 로딩하거나, 유전판(211)으로부터 기판(W)을 언로딩한다. 리프트핀 구조체(900)는 기판을 지지하는 리프트핀(910)을 포함한다.The
리프트핀(910)은 복수 개 제공되며, 핀 홀(226)들 각각의 내부에 수용된다. 여기서, 리프트핀(910)의 직경은 핀홀(226)의 직경보다 미세하게 작게 형성된다. 구체적으로, 리프트핀(910)의 직경은 리프트핀(910)과 핀홀(226)이 동일한 중심축을 가지도록 배치되었을 때 리프트핀(910)이 핀홀(226)의 내측벽에 접촉되지 않는 최소한의 직경으로 구비될 수 있다.A plurality of lift pins 910 are provided, and are accommodated in each of the pin holes 226. Here, the diameter of the
지지판(810)은 리프트핀 구조체(900)를 지지할 수 있다. 또한, 구동기(820)는 지지판(810)에 연결되어 지지판(810) 및 리프트핀 구조체(900)를 상하방향으로 구동할 수 있다. 다만, 도 1과 다르게, 지지판(810)이 제공되지 않고, 구동기(820)가 직접 리프트핀 구조체(900)를 상하방향으로 구동할 수도 있다. 리프트핀 구조체(900)는 리프트핀(910)과 지지판(810)을 연결하는 연결 부재(920)를 포함할 수 있다.The
구동기(820)는 지지판(810)을 상하방향으로 구동하여 리프트핀 구조체(900)를 상하방향으로 이동시킬 수 있다. 즉, 구동기(820)의 구동에 의해 리프트핀(910)은 핀홀(226)의 상부로 이동하여 기판의 디척킹 동작을 수행할 수 있다. 또한, 도 1에서 구동기(820)는 챔버(100)의 외부에 배치되는 것으로 도시하였으나, 구동기(820)는 챔버 내부에 제공될 수도 있다.The driver 820 may drive the
제어 유닛(830)은 구동기(820)의 토크값을 측정할 수 있다. 제어 유닛(830)은 구동기(820)의 토크값을 이용하여 기판의 디척킹 동작의 실패 여부를 판단할 수 있다. 예를 들어, 제어 유닛(830)은 구동기(820)의 토크값이 미리 설정된 허용 범위를 벗어나는 경우 기판의 동작이 실패한 것으로 판단할 수 있다. 또한, 제어 유닛(830)은 기판이 처리되는 공정 환경에 따라 미리 설정되는 토크값의 허용 범위를 상이하게 설정할 수 있다. 일 예로, 공정 온도가 섭씨 200도인 경우와 섭씨 150도인 경우에 미리 설정되는 토크값의 허용 범위를 상이하게 설정할 수 있다. 즉, 지지판에 잔존하는 정전기력에 의해 리프트핀(910)의 리프트업 동작시 기판이 손상될 수 있으며, 제어 유닛(830)은 구동기(820)의 토크값이 허용 범위를 벗어나는 경우 기판의 디척킹 동작을 중지하여 기판 손상을 방지할 수 있다. 다만, 기판이 처리되는 공정 환경에 따라 기판에 가해지는 압력에 따른 손상 정도가 달라질 수 있으므로, 기판의 공정 환경에 따라 토크값의 허용 범위를 다르게 설정하여 기판이 손상되지 않는 범위에서 기판의 디척킹 동작을 더욱 정밀하게 수행할 수 있다. 또한, 제어 유닛(830)은 공정 환경에 따른 기판의 디척킹 동작 실패 여부를 이용하여 토크값의 허용 범위를 업데이트할 수 있다. 예를 들어, 공정 온도가 200도인 환경에서 미리 설정된 토크값의 허용 범위 내에서 기판 손상이 발생하는 경우, 미리 설정된 토크값의 허용 범위를 변경할 수 있다. 또한, 제어 유닛(830)에서 기판의 디척킹 동작이 실패한 것으로 판단되는 경우, 알람을 발생시키는 알람 유닛이 더 제공될 수 있다.The
본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 제어 유닛(830)은 구동기(820)의 토크값 및 유전판(211)과 기판 사이의 압력에 기초하여 기판의 디척킹 동작의 실패 여부를 판단할 수 있다. 즉, 유전판(211)과 기판 사이에는 가스가 제공되는데, 제어 유닛(830)은 유전판(211)과 기판 사이 공간의 압력을 측정하고, 측정된 압력과 구동기(820)의 토크값에 기초하여 기판의 디척킹 동작 실패 여부를 판단할 수도 있다.According to another embodiment of the present invention, the
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 방법을 나타내는 흐름도이다.2 is a flowchart illustrating a substrate processing method according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 리프트핀이 상승할 때 구동기의 토크값을 측정하고(S210), 측정된 토크값을 이용하여 기판의 디척킹 동작 실패 여부를 판단할 수 있다(S220). 구체적으로, 구동기의 토크값이 기설정된 범위를 벗어나는 경우 기판의 디척킹 동작이 실패한 것으로 판단할 수 있다. 또한, 기설정된 범위는 기판이 처리되는 공정 환경에 따라 상이하게 설정될 수 있다. 또한, 기설정된 범위는 공정 환경에 따른 기판의 디척킹 동작 실패 여부를 이용하여 업데이트될 수 있다. 또한, 기판의 디척킹 동작이 실패한 경우 알람을 발생시킬 수 있다.Referring to FIG. 2, when the lift pin rises, the torque value of the driver is measured (S210), and it is possible to determine whether the dechucking operation of the substrate has failed by using the measured torque value (S220). Specifically, when the torque value of the driver is out of a preset range, it may be determined that the dechucking operation of the substrate has failed. In addition, the preset range may be set differently according to a process environment in which the substrate is processed. In addition, the preset range may be updated using whether the dechucking operation of the substrate fails according to the process environment. In addition, when the dechucking operation of the substrate fails, an alarm may be generated.
이상과 같은 본 발명의 다양한 실시 예에 따르면 구동기의 토크값을 측정하여 기판의 디척킹 동작 실패 여부를 판단할 수 있으며, 이에 따라 기판의 손상을 방지할 수 있다.According to various embodiments of the present disclosure as described above, it is possible to determine whether a dechucking operation of a substrate has failed by measuring a torque value of a driver, and accordingly, damage to the substrate can be prevented.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various modifications and variations without departing from the essential characteristics of the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.
10: 기판 처리 장치
210: 서셉터
820: 구동기
830: 제어 유닛
900: 리프트핀 구조체
910: 리프트핀10: substrate processing apparatus 210: susceptor
820: actuator 830: control unit
900: lift pin structure 910: lift pin
Claims (10)
상기 핀홀을 따라 승강하도록 제공되는 리프트핀;
상기 리프트핀을 상하방향으로 구동하는 구동기; 및
상기 구동기의 토크값을 이용하여 상기 기판의 디척킹 동작의 실패 여부를 판단하는 제어 유닛;을 포함하는 기판 처리 장치.A susceptor supporting the substrate and having pinholes formed in the vertical direction;
A lift pin provided to elevate along the pinhole;
A driver for driving the lift pin in an up-down direction; And
And a control unit that determines whether the dechucking operation of the substrate fails by using the torque value of the driver.
상기 제어 유닛은,
상기 구동기의 토크값이 기설정된 범위를 벗어나는 경우 상기 기판의 디척킹 동작이 실패한 것으로 판단하는 기판 처리 장치.The method of claim 1,
The control unit,
A substrate processing apparatus configured to determine that the dechucking operation of the substrate has failed when the torque value of the driver is out of a preset range.
상기 제어 유닛은,
상기 기판이 처리되는 공정 환경에 따라 상기 기설정된 범위를 상이하게 설정하는 기판 처리 장치.The method of claim 2,
The control unit,
A substrate processing apparatus configured to set the preset range differently according to a process environment in which the substrate is processed.
상기 제어 유닛은,
상기 공정 환경에 따른 상기 기판의 디척킹 동작 실패 여부를 이용하여 상기 기설정된 범위를 업데이트하는 기판 처리 장치.The method of claim 3,
The control unit,
A substrate processing apparatus that updates the preset range by using whether the dechucking operation of the substrate fails according to the process environment.
상기 기판의 디척킹 동작이 실패한 경우, 알람을 발생시키는 알람 유닛;을 더 포함하는 기판 처리 장치.The method of claim 2,
The substrate processing apparatus further comprises an alarm unit for generating an alarm when the dechucking operation of the substrate fails.
상기 구동기의 토크값을 이용하여 상기 기판의 디척킹 동작의 실패 여부를 판단하는 기판 처리 방법.A pinhole is formed inside the susceptor supporting the substrate, and a lift pin is provided to elevate along the pinhole, and the lift pin is driven vertically by a driver,
A substrate processing method for determining whether the dechucking operation of the substrate has failed by using the torque value of the driver.
상기 구동기의 토크값이 기설정된 범위를 벗어나는 경우 상기 기판의 디척킹 동작이 실패한 것으로 판단하는 기판 처리 방법.The method of claim 6,
A substrate processing method of determining that the dechucking operation of the substrate has failed when the torque value of the driver is out of a preset range.
상기 기설정된 범위는, 상기 기판이 처리되는 공정 환경에 따라 상이하게 설정되는 기판 처리 방법.The method of claim 7,
The predetermined range is set differently according to a process environment in which the substrate is processed.
상기 기설정된 범위는, 상기 공정 환경에 따른 상기 기판의 디척킹 동작 실패 여부를 이용하여 업데이트되는 기판 처리 방법.The method of claim 8,
The predetermined range is updated using whether the dechucking operation of the substrate fails according to the process environment.
상기 기판의 디척킹 동작이 실패한 경우 알람을 발생시키는 기판 처리 방법.
The method of claim 7,
A substrate processing method for generating an alarm when the dechucking operation of the substrate fails.
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