KR20210021444A - Glass plate manufacturing method and glass plate cleaning apparatus - Google Patents

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Abstract

유리판(G)의 상면(Ga)에 접촉시킨 제 1 세정 부재(10a)와 하면(Gb)에 접촉시킨 제 2 세정 부재(11a)에 의해, 유리판(G)을 두께 방향으로 끼운 상태에서 상하면(Ga, Gb)을 문질러서 세정하는 세정 공정을 구비한 유리판의 제조 방법에 있어서, 제 1 세정 부재(10a)의 경도를 제 2 세정 부재(10b)의 경도보다도 높게 했다.With the first cleaning member 10a in contact with the upper surface Ga of the glass plate G and the second cleaning member 11a in contact with the lower surface Gb, the upper and lower surfaces of the glass plate G are sandwiched in the thickness direction ( In the manufacturing method of the glass plate including the cleaning process of rubbing Ga and Gb), the hardness of the 1st cleaning member 10a was made higher than the hardness of the 2nd cleaning member 10b.

Figure P1020207029396
Figure P1020207029396

Description

유리판의 제조 방법 및 유리판의 세정 장치Glass plate manufacturing method and glass plate cleaning apparatus

본 발명은 유리판의 제조 방법 및 유리판의 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a glass plate manufacturing method and a glass plate cleaning apparatus.

액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD)는 고선명화가 추진되고 있다. 이것에 따라, FPD용의 기판으로서 사용되는 유리판에 대해서는 FPD의 제조 공정으로 치밀한 전기 회로가 형성된다. 따라서, 이 종류의 유리판에는 먼지나 오염의 부착이 없는 높은 청정성이 요구된다. Flat panel displays (FPDs) such as liquid crystal displays, plasma displays, and organic EL displays are being promoted to have higher definition. Accordingly, for a glass plate used as a substrate for an FPD, a dense electric circuit is formed in the manufacturing process of the FPD. Therefore, high cleanliness without adhesion of dust or dirt is required for this type of glass plate.

그래서, 이 종류의 유리판의 제조 공정에서는 예를 들면, 대면적의 유리판으로부터 소면적의 제품 사이즈의 유리판을 잘라냄과 아울러, 잘라낸 유리판에 대하여 끝면 가공(연삭 및 연마 가공)을 실시한 후, 그 표리면을 세정한다. 여기서, 유리판의 표리면을 세정하는 방법의 일례가, 특허문헌 1에 개시되어 있다. 동 방법에서는 유리판의 표리면의 각각에 회전하는 디스크 형상의 세정 부재를 접촉시키고, 양 세정 부재에 의해 유리판을 두께 방향으로 끼운 상태에서 표리면을 문질러서 세정한다. 이 경우, 통상, 양 세정 부재는 모두 같은 재질로 구성되기 때문에, 경도가 같다.Therefore, in the manufacturing process of this type of glass plate, for example, a glass plate having a product size of a small area is cut from a glass plate of a large area, and an end surface processing (grinding and polishing processing) is performed on the cut glass plate. Wash the back surface. Here, an example of a method of washing the front and back surfaces of a glass plate is disclosed in Patent Document 1. In the same method, a rotating disk-shaped cleaning member is brought into contact with each of the front and back surfaces of a glass plate, and the front and back surfaces are rubbed and cleaned with both cleaning members sandwiching the glass plate in the thickness direction. In this case, since both cleaning members are usually made of the same material, they have the same hardness.

일본특허공개 2017-14060호 공보Japanese Patent Publication No. 2017-14060

그러나, 상기의 방법에는 하기와 같은 해결해야 할 문제가 있었다.However, the above method has a problem to be solved as follows.

즉, 상기의 방법에서는 양 세정 부재의 경도를 높게 하면, 유리판의 표리면을 만족하게 문질러서 오염을 충분하게 제거할 수 있지만, 세정 부재와 유리판 사이에 끼인 이물(예를 들면, 유리분)에 의해 유리판의 표리면에 스크래치가 생기기 쉬워진다. 그 결과, 유리판이 파손에 달하게 될 우려도 있다. 한편, 양 세정 부재의 경도를 낮게 하면, 스크래치의 발생을 회피할 수 있지만, 유리판의 표리면을 만족스럽게 문지를 수 없어 오염을 충분하게 제거하는 것이 곤란해진다.That is, in the above method, if the hardness of both cleaning members is increased, contamination can be sufficiently removed by satisfactorily rubbing the front and back surfaces of the glass plate, but foreign matter (for example, glass powder) caught between the cleaning member and the glass plate Scratches tend to occur on the front and back surfaces of the glass plate. As a result, there is a fear that the glass plate may be damaged. On the other hand, if the hardness of both cleaning members is lowered, the occurrence of scratches can be avoided, but the front and back surfaces of the glass plate cannot be satisfactorily rubbed, making it difficult to sufficiently remove contamination.

상기의 사정을 감안하여 이루어진 본 발명은 유리판을 제조하는 과정에서 유리판의 표리면을 세정하는데 있어서, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 회피하면서 오염의 충분한 제거를 가능하게 하는 것을 기술적인 과제로 한다.The present invention, which was made in view of the above circumstances, is a technical problem to enable sufficient removal of contamination while avoiding the occurrence of scratches on the front and back surfaces in cleaning the front and back of the glass plate during the manufacturing process of the glass plate. .

상기의 과제를 해결하기 위해서 창안된 본 발명은 유리판의 표면에 접촉시킨 제 1 세정 부재와 이면에 접촉시킨 제 2 세정 부재에 의해, 유리판을 두께 방향으로 끼운 상태에서 표리면을 문질러서 세정하는 세정 공정을 구비한 유리판의 제조 방법으로서, 제 1 세정 부재의 경도를 제 2 세정 부재의 경도보다도 높게 한 것을 특징으로 한다.The present invention invented to solve the above problems is a cleaning process in which the front and back surfaces are rubbed while the glass plate is inserted in the thickness direction by the first cleaning member in contact with the surface of the glass plate and the second cleaning member in contact with the back surface. As a manufacturing method of a glass plate equipped with, it is characterized by making the hardness of a 1st cleaning member higher than the hardness of a 2nd cleaning member.

본 방법에서는 제 1 세정 부재의 경도를 제 2 세정 부재의 경도보다도 높게 하고 있다. 이와 같이, 양 세정 부재의 경도에 차가 있음으로써 상대적으로 경도가 낮은 제 2 세정 부재가, 유리판을 끼워서 대향하는 상대적으로 경도가 높은 제 1 세정 부재에 대하여, 쿠션의 역할을 하게 된다. 이것에 의해, 제 1 세정 부재와 유리판, 및/또는 제 2 세정 부재와 유리판 사이에 이물이 끼인 경우라도, 제 2 세정 부재의 쿠션성에 의해 유리판의 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 회피할 수 있고, 유리판의 파손도 방지할 수 있다. 또한, 본 방법에서는 제 2 세정 부재 에 대한 제 1 세정 부재의 경도의 높이를 이용하여 양 세정 부재를 유리판의 표리면에 대하여 충분하게 압박할 수 있고, 표리면을 바람직하게 문지르는 것이 가능해 진다. 따라서, 유리판의 표리면의 오염을 충분하게 제거할 수 있다. 이상의 것으로부터, 본 방법에 의하면, 유리판을 제조하는 과정에서 유리판의 표리면을 세정함에 있어서, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 회피하면서 오염의 충분한 제거가 가능해진다.In this method, the hardness of the first cleaning member is made higher than that of the second cleaning member. As described above, the difference in the hardness of the two cleaning members causes the second cleaning member having a relatively low hardness to act as a cushion with respect to the first cleaning member having a relatively high hardness opposite to each other by sandwiching the glass plate. Thereby, even when a foreign material is caught between the first cleaning member and the glass plate, and/or the second cleaning member and the glass plate, the occurrence of scratches on the front and back surfaces of the glass plate can be avoided due to the cushioning properties of the second cleaning member. In addition, damage to the glass plate can be prevented. In addition, in this method, by using the height of the hardness of the first cleaning member with respect to the second cleaning member, both cleaning members can be sufficiently pressed against the front and back surfaces of the glass plate, and the front and back surfaces can be preferably rubbed. Therefore, contamination of the front and back surfaces of the glass plate can be sufficiently removed. From the above, according to the present method, in cleaning the front and back surfaces of the glass plate in the process of manufacturing the glass plate, it becomes possible to sufficiently remove contamination while avoiding the occurrence of scratches on the front and back surfaces.

상기의 방법에 있어서, 제 1 세정 부재 및 제 2 세정 부재로서, 각각 유리판의 두께 방향으로 연장되는 회전축을 중심으로 하여 회전하는 디스크 형상 부재를 사용하는 것이 바람직하다.In the above method, it is preferable to use, as the first cleaning member and the second cleaning member, a disk-shaped member that rotates about a rotation axis extending in the thickness direction of the glass plate, respectively.

이렇게 하면, 양 세정 부재에 의해 유리판의 표리면을 한층 바람직하게 문지를 수 있기 때문에, 표리면의 오염을 제거하는 점에서 한층 유리하게 된다.In this way, since the front and back surfaces of the glass plate can be more preferably rubbed by both cleaning members, it is further advantageous in that contamination of the front and back surfaces is removed.

상기의 방법에 있어서, 제 1 세정 부재를 부직포로 구성함과 아울러, 제 2 세정 부재를 스펀지로 구성하는 것이 바람직하다.In the above method, it is preferable that the first cleaning member is formed of a nonwoven fabric and the second cleaning member is formed of a sponge.

이렇게 하면, 제 1 세정 부재에 의한 세정 능력이 양호하게 됨과 아울러, 제 2 세정 부재에 의한 쿠션성이 양호하게 된다. 이 때문에, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 확실하게 회피하면서 오염을 충분하게 또한 효율적으로 제거하는 것이 가능해진다.In this way, while the cleaning ability by the first cleaning member is improved, the cushioning property by the second cleaning member is improved. For this reason, it becomes possible to sufficiently and efficiently remove contamination while reliably avoiding the occurrence of scratches on the front and back surfaces.

상기의 방법에 있어서, 제 1 세정 부재의 경도가 아스커 A 경도로 10∼90임과 아울러, 제 2 세정 부재의 경도가 아스커 C 경도로 8∼100인 것이 바람직하다.In the above method, it is preferable that the hardness of the first cleaning member is 10 to 90 in terms of Asker A hardness, and the hardness of the second cleaning member is 8 to 100 in terms of Asker C hardness.

이렇게 하면, 제 1 세정 부재에 의한 세정 능력이 양호해짐과 아울러, 제 2 세정 부재에 의한 쿠션성이 양호해진다. 이 때문에, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 확실하게 회피하면서 오염을 충분하게 또한 효율적으로 제거하는 것이 가능해진다.In this way, while the cleaning ability by the first cleaning member is improved, the cushioning property by the second cleaning member is improved. For this reason, it becomes possible to sufficiently and efficiently remove contamination while reliably avoiding the occurrence of scratches on the front and back surfaces.

상기의 방법에 있어서, 세정 공정에서는 표면을 상면으로 하는 가로 자세의 유리판을 세정하고, 표면이 보증면인 것이 바람직하다.In the above method, in the cleaning step, it is preferable that the horizontally oriented glass plate is cleaned with the surface as the upper surface, and the surface is a guaranteed surface.

이렇게 하면, 제 1 세정 부재와 제 2 세정 부재의 비교에 있어서, 상대적으로 경도가 높아서 세정 능력이 높은 제 1 세정 부재에 의해, 보증면을 세정하는 것이 가능해진다. 그 때문에 본 방법에 의해 제조되는 유리판의 품질을 향상시키는 점에서 유리하게 된다. 또한, 본 발명에 있어서, 가로 자세는 수평 자세와 경사 자세를 포함하는 것으로 한다. 수평 자세란 유리판의 표면이 수평한 자세이며, 경사 자세란 유리판의 표면이 수평면에 대하여 경사하는 자세이다.In this way, in comparison between the first cleaning member and the second cleaning member, it becomes possible to clean the guarantee surface by the first cleaning member having a relatively high hardness and high cleaning ability. Therefore, it is advantageous in terms of improving the quality of the glass plate manufactured by this method. In addition, in the present invention, the horizontal posture includes a horizontal posture and an inclined posture. The horizontal posture is a posture in which the surface of the glass plate is horizontal, and the inclined posture is a posture in which the surface of the glass plate is inclined with respect to the horizontal plane.

또한, 상기의 과제를 해결하기 위해서 창안된 본 발명은 유리판의 표면에 접촉하는 제 1 세정 부재와 이면에 접촉하는 제 2 세정 부재를 구비하고, 양 세정 부재에 의해 유리판을 두께 방향으로 끼운 상태에서 표리면을 문질러서 세정하는 유리판의 세정 장치로서, 제 1 세정 부재의 경도가 제 2 세정 부재의 경도보다도 높은 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention, invented to solve the above problems, includes a first cleaning member in contact with the surface of the glass plate and a second cleaning member in contact with the back surface, and in a state where the glass plate is sandwiched in the thickness direction by both cleaning members. A cleaning apparatus for a glass plate that rubs the front and back surfaces to clean, characterized in that the hardness of the first cleaning member is higher than that of the second cleaning member.

본 장치에 의하면, 상기의 유리판의 제조 방법에 따른 설명에서 이미 설명한 작용·효과와 동일한 작용·효과가 얻어진다.According to the present apparatus, the same actions and effects as those previously described in the description according to the method for manufacturing a glass plate can be obtained.

본 발명에 의하면, 유리판을 제조하는 과정에서 유리판의 표리면을 세정함에 있어서, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 회피하면서 오염의 충분한 제거가 가능해진다.According to the present invention, in cleaning the front and back surfaces of the glass plate in the process of manufacturing the glass plate, it is possible to sufficiently remove contamination while avoiding the occurrence of scratches on the front and back surfaces.

도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치를 나타내는 측면도이다.
도 2는 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치에 구비된 세정열에 포함되는 세정구의 배열 상태를 나타내는 평면도이다.
도 3은 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치에 구비된 세정 기구를 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치에 구비된 스핀들 케이스의 하단부(선단부)측을 확대해서 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치에 구비된 스핀들 케이스의 상단부(기단부)측을 확대해서 나타내는 단면도이다.
1 is a side view showing a cleaning apparatus for a glass plate according to an embodiment of the present invention.
2 is a plan view showing an arrangement of cleaning tools included in the cleaning heat provided in the cleaning apparatus for a glass plate according to the embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing a cleaning mechanism provided in the cleaning apparatus for a glass plate according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view showing an enlarged lower end (tip) side of a spindle case provided in the cleaning apparatus for a glass plate according to an embodiment of the present invention.
5 is an enlarged cross-sectional view showing an upper end (base end) side of a spindle case provided in the glass plate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치 및 상기 장치를 사용한 유리판의 제조 방법에 대해서, 첨부의 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 도면 중의 XYZ는 직교 좌표계이다. X방향 및 Y방향은 수평 방향이며, Z방향은 연직 방향이다. Y방향은 유리판의 반송 방향이고, X방향 및 Z방향을 포함하는 XZ평면은 유리판의 반송 방향과 직교하는 평면이다.Hereinafter, an apparatus for cleaning a glass plate according to an embodiment of the present invention and a method for manufacturing a glass plate using the apparatus will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, XYZ in the drawing is a Cartesian coordinate system. The X and Y directions are horizontal, and the Z direction is a vertical direction. The Y direction is the conveyance direction of the glass plate, and the XZ plane including the X direction and the Z direction is a plane orthogonal to the conveyance direction of the glass plate.

도 1에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치(1)(이하, 세정 장치(1)이라 표기)는 유리판(G)을 세정하기 위한 세정 에리어(W)와, 세정후의 유리판(G)을 건조시키기 위한 건조 에리어(D)를 구비하고 있다. 이 세정 장치(1)는 유리판(G)을 Y방향으로 가로 자세(본 실시형태에서는 X방향을 따라서는 경사 자세)로 반송하면서, 보증면(표면)인 상면(Ga) 및 비보증면(이면)인 하면(Gb)을 동시에 세정하는 것이다. 여기서 말하는 「보증면」이란 유리판(G)의 표리면 중, FPD의 제조 공정에서 투명 도전막 등의 성막 처리가 실시되는 측의 면을 의미한다.As shown in FIG. 1, the cleaning apparatus 1 (hereinafter referred to as cleaning apparatus 1) for a glass plate according to the present embodiment includes a cleaning area W for cleaning a glass plate G, and a glass plate after cleaning ( A drying area (D) for drying G) is provided. This cleaning device 1 conveys the glass plate G in the Y direction in a horizontal orientation (in this embodiment, an oblique orientation along the X direction), while the upper surface Ga and the non-guaranteed surface (back) are The lower surface Gb is cleaned at the same time. The "guaranteed surface" here means a surface on the side to which a film forming process such as a transparent conductive film is performed in the manufacturing process of the FPD among the front and back surfaces of the glass plate G.

세정 에리어(W) 및 건조 에리어(D)에서는 유리판(G)은 반송 방향(Y)과 직교하는 유리판(G)의 폭 방향(도 3에서 X방향과 각도(θ)를 이루는 방향)에 있어서, 일단측이 타단측보다도 낮은 위치에 위치하도록, 경사진 자세로 반송된다. 이것에 의해, 유리판(G)의 상면(Ga)에 부착된 여분의 액체가 자중으로 유리판(G)의 상면(Ga)으로부터 흘러 내려 유리판(G)의 상면(Ga)에 오염의 원인이 되는 액체 고임이 형성되는 것을 방지하고 있다. 또한, 세정 에리어(W) 및/또는 건조 에리어(D)에 있어서, 유리판(G)을 수평 자세로 반송해도 된다.In the cleaning area (W) and the drying area (D), the glass plate G is in the width direction of the glass plate G orthogonal to the conveying direction Y (a direction forming an angle θ with the X direction in FIG. 3), It is conveyed in an inclined posture so that one end side may be located at a position lower than the other end side. As a result, excess liquid adhering to the upper surface Ga of the glass plate G flows from the upper surface Ga of the glass plate G with its own weight and causes contamination to the upper surface Ga of the glass plate G. It is preventing the formation of pools. In addition, in the washing area W and/or the drying area D, the glass plate G may be conveyed in a horizontal position.

세정 장치(1)는 세정 에리어(W)에 있어서, 유리판(G)의 상면(Ga) 및 하면(Gb)에 부착된 액체를 제거하는 스로틀 롤러(2, 3)와, 유리판(G)의 상면(Ga)을 세정하는 상측 세정 기구(4)와, 유리판(G)의 하면(Gb)을 세정하는 하측 세정 기구(5)를 구비하고 있다. 세정 에리어(W)에는 그 상류측에 배치된 반송 롤러 등의 임의의 기구에 의해 유리판(G)이 공급된다.The cleaning device 1 includes a throttle roller 2 and 3 for removing liquid adhering to the upper surface Ga and the lower surface Gb of the glass plate G, and the upper surface of the glass plate G in the cleaning area W. An upper cleaning mechanism 4 for cleaning (Ga) and a lower cleaning mechanism 5 for cleaning the lower surface Gb of the glass plate G are provided. The glass plate G is supplied to the cleaning area W by an arbitrary mechanism such as a conveying roller arranged on the upstream side thereof.

스로틀 롤러(2, 3)는 유리판(G)을 상하에 끼워서 반송하는, 상측 롤러(2a, 3a)와 하측 롤러(2b, 3b)를 구비한 상하 롤러쌍에 의해 구성되어 있다. 즉, 스로틀 롤러(2, 3)는 반송 기구로서도 기능한다. 본 실시형태에서는 스로틀 롤러(2, 3)는 세정 기구(4, 5)의 상류측 및 하류측에 각각 배치되어 있다.The throttle rollers 2 and 3 are constituted by a pair of upper and lower rollers provided with upper rollers 2a and 3a and lower rollers 2b and 3b for conveying by sandwiching the glass plate G up and down. That is, the throttle rollers 2 and 3 also function as a conveying mechanism. In this embodiment, the throttle rollers 2 and 3 are disposed on the upstream side and the downstream side of the cleaning mechanisms 4 and 5, respectively.

스로틀 롤러(2, 3)는 액체를 흡수 가능한 재질(예를 들면, 연질 스펀지)로 이루어지는 롤러에 의해 구성되지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.The throttle rollers 2 and 3 are constituted by rollers made of a material capable of absorbing liquid (for example, a soft sponge), but are not limited thereto.

상측 세정 기구(4)는 반송 방향(Y)에 간격을 두고 3열 설치된 세정열(6a∼6c)과, 각 세정열(6a∼6c)에 세정액(C)을 공급하기 위해서, 내부 공간에 세정액(C)이 저류된 하우징(7)을 구비하고 있다.The upper cleaning mechanism 4 is a cleaning liquid in the inner space in order to supply the cleaning liquid C to the cleaning rows 6a to 6c provided in three rows at intervals in the conveying direction Y, and the cleaning rows 6a to 6c. The housing 7 in which (C) is stored is provided.

하측 세정 기구(5)는 상측 세정 기구(4)의 세정열(6a∼6c)과 유리판(G)을 끼워서 대향하도록 반송 방향(Y)에 간격을 두고 3열 설치된 세정열(8a∼8c)과, 각 세정열(8a∼8c)에 세정액(C)을 공급하기 위해서, 내부 공간에 세정액(C)이 저류된 하우징(9)을 구비하고 있다.The lower washing mechanism 5 includes washing rows 8a to 8c provided in three rows at intervals in the conveying direction Y so as to face each other by sandwiching the washing rows 6a to 6c of the upper washing mechanism 4 and the glass plate G. , In order to supply the cleaning liquid C to each of the cleaning rows 8a to 8c, a housing 9 is provided in which the cleaning liquid C is stored in the inner space.

세정액(C)으로서는 예를 들면, 세정액(예를 들면, 액체 세제)이나, 헹굼액(예를 들면, 물)으로 한 액체를 사용할 수 있다.As the cleaning liquid (C), for example, a cleaning liquid (eg, liquid detergent) or a rinsing liquid (eg, water) may be used.

여기서, 하측 세정 기구(5)는 상측 세정 기구(4)를 상하 반전시킨 것 같은 구성이고, 상측 세정 기구(4)와 대략 동일한 구성을 갖는다. 따라서, 이하의 설명에 있어서는 상측 세정 기구(4)의 구성을 예로 들어서 설명하고, 하측 세정 기구(5)의 구성에 대해서는 상세한 설명을 생략하고, 주로 상측 세정 기구(4)와의 상위점에 관하여 설명한다.Here, the lower cleaning mechanism 5 has a configuration such that the upper cleaning mechanism 4 is inverted up and down, and has substantially the same configuration as the upper cleaning mechanism 4. Therefore, in the following description, the configuration of the upper cleaning mechanism 4 will be described as an example, and detailed descriptions of the configuration of the lower cleaning mechanism 5 will be omitted, and differences from the upper cleaning mechanism 4 will be mainly described. do.

도 2에 나타내는 바와 같이 상측 세정 기구(4)의 각 세정열(6a∼6c)은 반송 방향(Y)와 직교하는 유리판(G)의 폭 방향에 있어서, 극간(S)을 두고 일렬로 나열된 복수의 제 1 세정구(10)를 구비하고 있다. 각 제 1 세정구(10)는 유리판(G)의 상면(Ga)을 문질러서 세정 가능한 디스크 형상의 회전체이다. 또한, 하측 세정 기구(5)의 세정열(8a∼8c)에 포함되는 각 제 2 세정구(11)는 상측 세정 기구(4)의 세정열(6a∼6c)에 포함되는 각 제 1 세정구(10)와 유리판(G)을 끼워서 쌍을 이룬다. 쌍을 이루는 제 1 세정구(10)와 제 2 세정구(11)는 서로 동방향으로 회전하도록 되어 있다.As shown in Fig. 2, each of the washing rows 6a to 6c of the upper washing mechanism 4 is a plurality of rows arranged in a row with a gap S in the width direction of the glass plate G orthogonal to the conveying direction Y. It is equipped with the 1st cleaning tool 10 of the. Each of the first cleaning ports 10 is a disk-shaped rotating body that can be cleaned by rubbing the upper surface Ga of the glass plate G. In addition, each of the second cleaning ports 11 included in the cleaning rows 8a to 8c of the lower cleaning device 5 is each of the first cleaning devices included in the cleaning columns 6a to 6c of the upper cleaning device 4. Insert (10) and glass plate (G) to form a pair. The paired first cleaning tool 10 and the second cleaning tool 11 rotate in the same direction with each other.

3열의 세정열(6a∼6c)은 극간(S)의 폭 방향에 있어서의 위치(극간(S)의 범위)가 서로 중복하지 않도록, 서로 제 1 세정구(10)가 폭 방향으로 어긋난 상태로 배치되어 있다. 즉, 3열의 세정열(6a∼6c)은 극간(S)의 폭 방향에 있어서의 위치가 서로 중복하지 않는 3종의 세정열로 구성되어 있다. 따라서, 반송 방향(Y)을 따른 방향으로부터 본 경우에, 세정열(6a∼6c) 중의 임의의 일렬에 포함되는 모든 극간(S)은 나머지 2열의 세정열에 포함되는 제 1 세정구(10)와 중복된다. 이와 같이, 본 실시형태의 상측 세정 기구(4)는 3열(3종)의 세정열(6a∼6c)을 구비하지만, 상측 세정 기구(4) 및 하측 세정 기구(5)는 2열(2종) 이상의 세정열을 구비하면 된다.In the third row of cleaning rows 6a to 6c, the first cleaning ports 10 are shifted in the width direction so that the positions in the width direction of the gap S (range of the gap S) do not overlap each other. It is placed. That is, the three rows of washing rows 6a to 6c are composed of three types of washing rows in which the positions of the gaps S in the width direction do not overlap each other. Therefore, when viewed from the direction along the conveyance direction Y, all the gaps S included in any one of the cleaning rows 6a to 6c are included in the remaining 2 rows of cleaning columns. Overlaps with As described above, the upper cleaning mechanism 4 of the present embodiment has three rows (three types) of washing rows 6a to 6c, but the upper washing mechanism 4 and the lower washing mechanism 5 have two rows (2). Type) or more cleaning heat may be provided.

본 실시형태와 같이 3열(3종)의 세정열을 구비하면, 유리판(G)의 상면(Ga)에 있어서, 3열의 세정열(6a∼6c) 중의 임의의 1열의 극간(S)을 통과하는 영역은 나머지 2열의 세정열에 포함되는 제 1 세정구(10)와 2회에 걸쳐서 반드시 접촉하기 때문에, 세정 시간을 충분하게 확보할 수 있다. 또한, 3열의 세정열(6a∼6c) 중의 어느 1열의 세정열(또는 어느 1열에 포함되는 제 1 세정구(10))이 고장 등에 의해 사용할 수 없더라도, 나머지 2열의 세정열로 유리판(G)의 상면(Ga)의 전폭을 극간없이 세정할 수 있다. 따라서, 폭 방향에 있어서의 유리판(G)의 세정 불균일을 확실하게 저감하는 것이 가능해진다. 따라서, 상측 세정 기구(4) 및 하측 세정 기구(5)는 3열(3종) 이상의 세정열을 구비하는 것이 바람직하다.If three rows of cleaning rows (three types) are provided as in this embodiment, the gap S of any one row among the three rows of washing rows 6a to 6c is passed through the upper surface Ga of the glass plate G. Since the area to be in contact with the first cleaning tool 10 included in the remaining 2 rows of cleaning rows two times, it is possible to sufficiently secure a cleaning time. In addition, even if one of the three rows of washing rows 6a to 6c (or the first washing port 10 included in any one row) cannot be used due to a failure or the like, the remaining two rows of washing rows are used as the glass plate G. The entire width of the upper surface Ga of the can be cleaned without any gap. Therefore, it becomes possible to reliably reduce the cleaning unevenness of the glass plate G in the width direction. Therefore, it is preferable that the upper washing mechanism 4 and the lower washing mechanism 5 have three or more rows of washing (three types).

또한, 본 실시형태에서는 유리판(G)과 제 1 세정구(10)의 총접촉 시간이 폭 방향으로 불규칙하게 되는 것을 억제하기 위해서, 3열(3종)의 세정열(6a∼6c)의 각각의 극간(S)이 폭 방향으로 일정한 간격 ΔL을 두고 등간격으로 위치하고 있다. 이것에 의해, 폭 방향에 있어서의 유리판(G)의 세정 얼룩을 보다 확실하게 저감할 수 있다. 또한, 3열(3종)의 세정열(6a∼6c)의 각각의 극간(S)은 폭 방향에 부등간격으로 위치해도 된다.In addition, in this embodiment, in order to suppress the total contact time between the glass plate G and the first cleaning tool 10 from becoming irregular in the width direction, each of the cleaning rows 6a to 6c of three rows (three types) is The gaps (S) of are positioned at equal intervals with a constant interval ΔL in the width direction. Thereby, uneven cleaning of the glass plate G in the width direction can be more reliably reduced. In addition, the gaps S of each of the cleaning rows 6a to 6c of three rows (three types) may be located at uneven intervals in the width direction.

제 1 세정구(10)의 직경은 예를 들면, 50∼200mm인 것이 바람직하고, 극간(S)의 폭은 예를 들면 2∼10mm인 것이 바람직하다. 극간(S)의 상호 간의 간격(ΔL)은 제 1 세정구(10)의 직경이나 세정열의 종류에 따라 적당하게 설정할 수 있다.The diameter of the first cleaning tool 10 is preferably 50 to 200 mm, for example, and the width of the gap S is preferably 2 to 10 mm, for example. The inter-space (ΔL) of the spaces S can be appropriately set according to the diameter of the first cleaning tool 10 or the type of cleaning heat.

도 3에 나타내는 바와 같이, 상측 세정 기구(4)는 3열의 세정열(6a∼6c)의 각 제 1 세정구(10)에, 하우징(7)에 저류된 세정액(C)을 공급하기 위한 구성을 구비하고 있다. 본 실시형태에서는 3열의 세정열(6a∼6c)의 각 제 1 세정구(10)에 대하여, 하나의 하우징(7)으로부터 세정액(C)을 공급하도록 되어 있다(도 1을 참조). 또한, 예를 들면 3열의 세정열(6a∼6c)마다 전용의 하우징을 설치하는 등하여 복수의 하우징으로부터 세정액(C)을 공급하도록 하여도 된다.As shown in Fig. 3, the upper cleaning mechanism 4 is configured to supply the cleaning liquid C stored in the housing 7 to each of the first cleaning ports 10 in the three rows of cleaning rows 6a to 6c. It is equipped with. In the present embodiment, the cleaning liquid C is supplied from one housing 7 to each of the first cleaning ports 10 in the three rows of cleaning rows 6a to 6c (see Fig. 1). Further, for example, a dedicated housing may be provided for each of the three washing rows 6a to 6c to supply the washing liquid C from a plurality of housings.

상측 세정 기구(4)는 유리판(G)의 상면(Ga)의 경사를 따라 하우징(7)이 경사하고 있다. 이 하우징(7)의 경사에 의해, 각 세정열(6a∼6c)의 각 제 1 세정구(10)가 유리판(G)의 상면(Ga)을 따라 경사하고 있다. 유리판(G)의 상면(Ga)의 수평면 에 대한 경사 각도(θ)는 예를 들면, 2∼10°인 것이 바람직하다.In the upper cleaning mechanism 4, the housing 7 is inclined along the inclination of the upper surface Ga of the glass plate G. Due to the inclination of the housing 7, the first cleaning ports 10 of the cleaning rows 6a to 6c are inclined along the upper surface Ga of the glass plate G. It is preferable that the inclination angle θ of the upper surface Ga of the glass plate G with respect to the horizontal surface is, for example, 2 to 10°.

상측 세정 기구(4)는 각 제 1 세정구(10)에 대응하는 위치에 있어서, 하우징(7)에 고정된 통형상의 스핀들 케이스(12)와, 스핀들 케이스(12)의 내측에 회전 가능하게 유지된 스핀들(13)을 구비하고 있다. 제 1 세정구(10)는 하우징(7) 및 스핀들 케이스(12)의 외측에 스핀들(13)의 하단부에 장착되어 있다.The upper cleaning mechanism 4 is rotatable inside the spindle case 12 and the cylindrical spindle case 12 fixed to the housing 7 at a position corresponding to each of the first cleaning ports 10. It is equipped with a held spindle 13. The first cleaning tool 10 is mounted on the lower end of the spindle 13 outside the housing 7 and the spindle case 12.

스핀들 케이스(12)의 하단부에는 통형상의 미끄럼 베어링(부싱(bushing))(14)이 압입 고정되어 있고, 스핀들 케이스(12)의 상단부에는 통형상의 미끄럼 베어링(부싱)(15)이 압입 고정되어 있다. 스핀들(13)의 외주면은 미끄럼 베어링(14, 15)의 베어링면(내주면)에 의해 회전 가능하게 유지되어 있다. 미끄럼 베어링(14, 15)은 예를 들면, 금속제이어도 되지만, 본 실시형태에서는 수지제(예를 들면, 엔지니어링 플라스틱제)이다.A cylindrical slide bearing (bushing) 14 is press-fitted to the lower end of the spindle case 12, and a cylindrical slide bearing (bushing) 15 is press-fitted to the upper end of the spindle case 12. Has been. The outer circumferential surface of the spindle 13 is held rotatably by a bearing surface (inner circumferential surface) of the sliding bearings 14 and 15. The sliding bearings 14 and 15 may be made of metal, for example, but in this embodiment, they are made of resin (for example, made of engineering plastics).

제 1 세정구(10)는 스핀들(13)에 대하여 스페이서(16)를 통해서 부착되어 있다. 제 1 세정구(10) 및 스페이서(16)는 스핀들(13)에 대하여 착탈 가능하다.The first cleaning tool 10 is attached to the spindle 13 through a spacer 16. The first cleaning tool 10 and the spacer 16 are detachable from the spindle 13.

제 1 세정구(10)는 유리판(G)의 상면(Ga)에 접촉한 상태에서 상면(Ga)을 문질러서 세정하는 제 1 세정 부재(10a)와, 제 1 세정 부재(10a)가 부착된 지지부(10b)를 구비하고 있다. 제 1 세정 부재(10a)는 유리판(G)의 두께 방향으로 연장되는 회전축(여기에서는 스핀들(13)의 회전축과 동일하다)을 중심으로 해서 회전하는 디스크 형상 부재이다.The first cleaning tool 10 includes a first cleaning member 10a for cleaning by rubbing the top surface Ga while in contact with the top surface Ga of the glass plate G, and a support portion to which the first cleaning member 10a is attached. (10b) is provided. The first cleaning member 10a is a disk-shaped member that rotates about a rotation axis extending in the thickness direction of the glass plate G (here, the same as the rotation axis of the spindle 13).

여기서, 제 1 세정 부재(10a)는 제 2 세정구(11)에 구비된 제 2 세정 부재(11a)와 유리판(G)을 두께 방향으로 끼워서 쌍이 되고 있다. 이 제 2 세정 부재(11a)는 유리판(G)의 하면(Gb)을 문질러서 세정함과 아울러, 제 1 세정 부재(10a)와 같은 디스크 형상 부재이다.Here, the first cleaning member 10a is a pair by sandwiching the second cleaning member 11a and the glass plate G provided in the second cleaning port 11 in the thickness direction. This second cleaning member 11a is a disk-shaped member similar to the first cleaning member 10a, while rubbing the lower surface Gb of the glass plate G for cleaning.

양 세정 부재(10a, 11a)는 유리판(G)의 비세정 시(유리판(G)의 공급 전)에는 양자가 서로 접촉하도록 위치하고 있다. 즉, 유리판(G)의 세정 시(유리판(G)의 공급 시)에는 양 세정 부재(10a, 11a)를 밀어 나아가도록 하여 양 세정 부재(10a, 11a)의 상호 간에 유리판(G)이 진입해 간다. 또한, 본 실시형태와는 달리, 유리판(G)의 비세정 시에, 양 세정 부재(10a, 11a)의 상호 간에 극간이 형성되도록 양 세정 부재(10a, 11a)를 위치시켜도 된다.Both cleaning members 10a and 11a are positioned so that both of them are in contact with each other when the glass plate G is not cleaned (before supply of the glass plate G). That is, when the glass plate G is cleaned (when the glass plate G is supplied), the two cleaning members 10a and 11a are pushed forward so that the glass plate G enters between the two cleaning members 10a and 11a. Goes. In addition, unlike this embodiment, when the glass plate G is not cleaned, both cleaning members 10a and 11a may be positioned so that a gap is formed between the cleaning members 10a and 11a.

제 1 세정 부재(10a)의 경도는 제 2 세정 부재(11a)의 경도보다도 높게 되고 있다. 또한, 본 실시형태와는 달리, 유리판(G)의 상면(Ga)이 아니라 하면(Gb)이 보증면인 경우에는, 유리판(G)의 하면(Gb)측에 경도가 높은 제 1 세정 부재(10a)를 배치하고, 상면(Ga)측에 경도가 낮은 제 2 세정 부재(11a)를 배치하는 것이 바람직하다.The hardness of the first cleaning member 10a is higher than that of the second cleaning member 11a. In addition, unlike the present embodiment, in the case where the lower surface Gb of the glass plate G is not the upper surface Ga but the guarantee surface, the first cleaning member having high hardness on the lower surface Gb side of the glass plate G ( It is preferable to arrange 10a) and arrange|position the 2nd cleaning member 11a with low hardness on the upper surface Ga side.

제 1 세정 부재(10a)는 부직포로 구성되어 있고, 그 경도는 아스커 A 경도로 10∼90의 범위 내로 되어 있다. 여기서, 부직포로서는 예를 들면, 니들 펀치법에 의해 섬유를 서로 얽히게 한 부직포를 사용할 수 있다. 부직포의 섬유에는 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌텔레프탈레이트, 폴리에스테르 엘라스토머 등의 폴리에스테르계, 나일론 6이나 나일론 66, 폴리아미드 엘라스토머 등의 폴리아미드계, 폴리우레탄계, 폴리올레핀계, 아크릴니트릴계, 레이온 등의 셀룰로오스계의 섬유를 사용할 수 있다.The first cleaning member 10a is made of a nonwoven fabric, and its hardness is within the range of 10 to 90 in terms of Asker A hardness. Here, as the nonwoven fabric, for example, a nonwoven fabric in which fibers are entangled with each other by a needle punch method can be used. Nonwoven fibers include, for example, polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyester elastomers, polyamides such as nylon 6 or nylon 66, polyamide elastomers, polyurethanes, polyolefins, and acrylnitrile. Cellulose-based fibers such as rayon and rayon can be used.

제 2 세정 부재(11a)는 스펀지로 구성되어 있고, 그 경도는 아스커 C 경도로 8∼100의 범위 내로 되어 있다. 여기서, 스펀지로서는 예를 들면, 폴리비닐알콜(PVA)이나 폴리우레탄, 불소 고무, 니트릴 고무, 클로로프렌 고무, 에틸렌 고무, 실리콘 고무 등으로 이루어지는 스펀지를 사용할 수 있다.The second cleaning member 11a is made of a sponge, and its hardness is within the range of 8 to 100 in terms of Asker C hardness. Here, as the sponge, for example, a sponge made of polyvinyl alcohol (PVA), polyurethane, fluorine rubber, nitrile rubber, chloroprene rubber, ethylene rubber, silicone rubber, or the like can be used.

여기서, 본 실시형태에서는 제 1 세정 부재(10a) 및 제 2 세정 부재(11a)로서 디스크 형상 부재를 사용하고 있지만, 이 대신에 롤러 형상 부재를 사용해도 된다. 또한, 제 1 세정 부재(10a)는 제 2 세정 부재(11a)보다도 경도가 높은 브러시로 구성되어 있어도 된다. 또한, 제 2 세정 부재(11a)는 제 1 세정 부재(10a)보다도 경도가 낮은 브러시로 구성되어 있어도 된다. 또한, 「브러시의 경도」란 브러시에 구비된 모의 경도를 의미한다.Here, in this embodiment, a disk-shaped member is used as the first cleaning member 10a and the second cleaning member 11a, but a roller-shaped member may be used instead. Further, the first cleaning member 10a may be constituted by a brush having a higher hardness than the second cleaning member 11a. Further, the second cleaning member 11a may be constituted by a brush having a lower hardness than the first cleaning member 10a. In addition, "hardness of the brush" means the hardness of the hair provided in the brush.

유리판(G)에 대한 제 1 세정 부재(10a)의 접촉압은 유리판(G)에 대한 상측 롤러(2a, 3a)의 접촉압보다도 작게 설정되는 것이 바람직하다. 이것에 의해 유리판(G)의 반송 방향(Y)에 있어서의 직진 안정성이 향상한다. 또한, 유리판(G)에 대한 제 1 세정 부재(10a)의 접촉압은 예를 들면, 유리판(G)에 대하여 상측 세정 기구(4)의 위치를 조정하는 것, 스페이서(16)의 두께를 변경하는 것(스페이서(16)를 부착하지 않는 경우도 포함한다) 등에 의해 조정할 수 있다.It is preferable that the contact pressure of the first cleaning member 10a with respect to the glass plate G is set smaller than the contact pressure of the upper rollers 2a and 3a with respect to the glass plate G. This improves the straight-line stability in the conveyance direction Y of the glass plate G. In addition, the contact pressure of the first cleaning member 10a with respect to the glass plate G is, for example, adjusting the position of the upper cleaning mechanism 4 with respect to the glass plate G, changing the thickness of the spacer 16 It can be adjusted by doing (including the case where the spacer 16 is not attached) or the like.

하우징(7)에는 하우징(7)의 내부 공간에 외부로부터 세정액(C)을 공급하기 위한 공급로(R1)가 형성되어 있다. 이것에 의해, 하우징(7)의 외부에 배치된 탱크(도면에 나타내지 않는다)에 저장된 세정액(C)이 화살표(a)로 나타내는 바와 같이 공급로(R1)를 통해서 하우징(7)의 내부 공간에 펌프(도면에 나타내지 않는다) 등에 의해 압송되도록 되어 있다. 이 세정액(C)의 압송에 의해, 하우징(7)의 내부 공간에 공급된 세정액(C)의 압력이 높은 상태로 유지된다. 또한, 공급로(R1)는 하우징(7)에 하나 또는 복수 형성되어 있다.The housing 7 is provided with a supply path R1 for supplying the cleaning liquid C from the outside to the inner space of the housing 7. As a result, the cleaning liquid C stored in the tank (not shown in the drawing) disposed outside the housing 7 is transferred to the internal space of the housing 7 through the supply path R1 as indicated by the arrow (a). It is designed to be fed by a pump (not shown in the drawings) or the like. By the pressure feeding of the cleaning liquid C, the pressure of the cleaning liquid C supplied to the inner space of the housing 7 is maintained in a high state. In addition, one or more supply paths R1 are formed in the housing 7.

스핀들 케이스(12)에는 하우징(7)의 내부 공간과 스핀들 케이스(12)의 내부 공간을 연통하는 연통로(R2)가 형성되어 있다. 이것에 의해, 하우징(7)의 내부 공간의 세정액(C)이 화살표(b)로 나타내는 바와 같이 연통로(R2)를 통해서 스핀들 케이스(12)의 내부 공간에 공급되도록 되어 있다.The spindle case 12 has a communication path R2 that communicates the inner space of the housing 7 and the inner space of the spindle case 12. Thereby, the cleaning liquid C in the inner space of the housing 7 is supplied to the inner space of the spindle case 12 through the communication path R2 as indicated by the arrow b.

스핀들(13) 및 스페이서(16)에는 스핀들 케이스(12)의 내부 공간과 제 1 세정구(10)를 연통하는 연통로(R3)가 형성되어 있다. 이것에 의해, 스핀들 케이스(12)의 내부 공간의 세정액(C)이 화살표(c)로 나타내는 바와 같이, 연통로(R3)를 통해서 제 1 세정구(10)에 공급되도록 되어 있다. 또한, 연통로(R3)는 스핀들(13)에 형성된 관통 구멍과, 스페이서(16)에 형성된 관통 구멍으로 구성되어 있다.The spindle 13 and the spacer 16 are formed with a communication path R3 for communicating the inner space of the spindle case 12 and the first cleaning tool 10. Thereby, the cleaning liquid C in the inner space of the spindle case 12 is supplied to the first cleaning port 10 through the communication path R3 as indicated by the arrow c. Further, the communication path R3 is composed of a through hole formed in the spindle 13 and a through hole formed in the spacer 16.

제 1 세정구(10)에는 연통로(R3)에 연통하는 관통 구멍(R4)이 형성되어 있다. 이것에 의해, 연통로(R3)에 의해 공급된 세정액(C)이 화살표(d)로 나타내는 바와 같이, 관통 구멍(R4)을 통해서 유리판(G)에 공급되도록 되어 있다. 관통 구멍(R4)은 제 1 세정구(10)가 세정액(C)을 투과 가능한 재질(예를 들면 다공질체 등)로 형성되는 경우에는 생략해도 된다.A through hole R4 communicating with the communication path R3 is formed in the first cleaning port 10. Thereby, the cleaning liquid C supplied through the communication path R3 is supplied to the glass plate G through the through hole R4 as indicated by the arrow d. The through hole R4 may be omitted when the first cleaning tool 10 is formed of a material (for example, a porous material) that can penetrate the cleaning liquid C.

이렇게 하면, 공급로(R1), 연통로(R2), 연통로(R3) 및 관통 구멍(R4)에 의해, 세정액(C)이 하우징(7)의 내부 공간→스핀들 케이스(12)의 내부 공간→제 1 세정구(10)→유리판(G)의 순서로 공급된다. 따라서, 하우징(7)의 내부 공간에 공급된 세정액(C)이 연통로(R2)와 연통로(R3)를 통해서 각 제 1 세정구(10)에 직접 공급되기 때문에, 세정액 공급용의 복잡한 배관이 필요 없어짐과 아울러, 세정액(C)의 낭비도 적어진다.In this way, by the supply path R1, the communication path R2, the communication path R3, and the through hole R4, the cleaning liquid C is the internal space of the housing 7 → the internal space of the spindle case 12 → It is supplied in the order of the first cleaning port (10) → the glass plate (G). Accordingly, since the cleaning liquid C supplied to the inner space of the housing 7 is directly supplied to the first cleaning ports 10 through the communication path R2 and the communication path R3, a complicated pipe for supplying the cleaning liquid In addition to the elimination of this need, the waste of the cleaning liquid (C) is also reduced.

또한, 스핀들 케이스(12) 및 스핀들(13)의 대부분은 하우징(7)의 내부 공간에 저류된 세정액(C)에 침지된 상태가 되기 때문에, 스핀들 케이스(12) 및 스핀들(13)이 세정액(C)에 의해 냉각된다고 하는 효과도 기대할 수 있다. 따라서, 스핀들(13)을 회전시켜서 유리판(G)을 세정하고 있는 사이도, 스핀들 케이스(12) 및 스핀들(13)의 열팽창을 저감하고, 스핀들(13)의 회전 동작을 양호하게 유지할 수 있다고 생각된다. 또한, 본 실시형태에서는 각 세정열(6a∼6c)의 각 제 1 세정구(10)에 대응하는, 복수의 스핀들 케이스(12) 및 복수의 스핀들(13)이 하나의 하우징(7) 내의 세정액(C)에 침지되어 있다.Further, since most of the spindle case 12 and the spindle 13 are immersed in the cleaning liquid C stored in the inner space of the housing 7, the spindle case 12 and the spindle 13 The effect of being cooled by C) can also be expected. Therefore, even while the glass plate G is cleaned by rotating the spindle 13, it is thought that the thermal expansion of the spindle case 12 and the spindle 13 can be reduced, and the rotational operation of the spindle 13 can be maintained satisfactorily. do. In addition, in this embodiment, a plurality of spindle cases 12 and a plurality of spindles 13 corresponding to each of the first cleaning ports 10 of each of the cleaning rows 6a to 6c are provided with a cleaning solution in one housing 7. It is immersed in (C).

여기서, 본 실시형태에서는 하우징(7)의 경사에 의해, 하우징(7) 내에 있어서 각 세정열(6a∼6c)에 포함되는 각 제 1 세정구(10)에 대응하는 위치에서 고저차가 생기고 있다. 이 때문에, 이 고저차에 의한 압력차에 의해, 각 세정열(6a∼6c)에 포함되는 각 제 1 세정구(10)에 공급되는 세정액(C)의 양에 불균일이 발생하는 경우가 있다. 따라서, 도시는 생략하지만, 고저차에 의한 세정액(C)의 공급량의 불균일을 저감하는 관점으로부터는 각 세정열(6a∼6c)에 있어서, 저위(低位)에 위치하는 연통로(R3)가 고위(高位)에 위치하는 연통로(R3)보다도 개구 면적이 작은 부분을 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면 저위에 위치하는 스페이서(16)의 관통 구멍의 개구 면적을 고위에 위치하는 스페이서(16)의 관통 구멍의 개구 면적보다도 작게 하거나, 저위에 위치하는 스핀들(13)의 관통 구멍의 개구 면적을 고위에 위치하는 스핀들(13)의 관통 구멍의 개구 면적보다도 작게 하는 것이 바람직하다. 또는 스핀들(13)의 관통 구멍의 일부에 오리피스를 설치하고, 개구 면적을 변화시켜도 된다.Here, in the present embodiment, a difference in elevation occurs in the housing 7 at a position corresponding to each of the first washing ports 10 included in the washing rows 6a to 6c due to the inclination of the housing 7. For this reason, the amount of the cleaning liquid C supplied to each of the first cleaning ports 10 included in the cleaning rows 6a to 6c may be uneven due to the pressure difference due to the difference in height. Therefore, although not shown, from the viewpoint of reducing the unevenness in the supply amount of the cleaning liquid C due to the difference in elevation, in each cleaning row 6a to 6c, the communication path R3 located at the lower level is higher ( It is preferable to have a portion having an opening area smaller than that of the communication path R3 located at the high level. Specifically, for example, the opening area of the through hole of the spacer 16 located at the lower position is smaller than the opening area of the through hole of the spacer 16 located at the higher position, or the through hole of the spindle 13 located at the lower position. It is preferable to make the opening area of a smaller than the opening area of the through hole of the spindle 13 located at a high position. Alternatively, an orifice may be provided in a part of the through hole of the spindle 13 to change the opening area.

상측 세정 기구(4)는 세정열(6a∼6c)마다, 스핀들(13)을 회전 구동하는 회전 구동 기구(17)를 구비하고 있다. 회전 구동 기구(17)는 하우징(7) 및 스핀들 케이스(12)의 외측에 스핀들(13)의 상단부에 회전 구동력을 부여하도록 되어 있다.The upper cleaning mechanism 4 is provided with a rotation drive mechanism 17 that rotates the spindle 13 for each cleaning row 6a to 6c. The rotation drive mechanism 17 is adapted to impart a rotational driving force to the upper end of the spindle 13 outside the housing 7 and the spindle case 12.

회전 구동 기구(17)는 기어 기구(18)과, 구동부(19)를 구비하고 있다. 기어 기구(18)는 각 스핀들(13)의 상단부에 부착된 복수의 기어(18a)를 구비하고, X방향에 인접하는 기어(18a)끼리가 맞물리고 있다. 구동부(19)는 모터(19a)와, 모터(19a)에 부착된 기어(19b)를 구비하고, 기어(19b)가 기어 기구(18)의 X방향의 일단측에서 기어(18a)와 맞물리고 있다. 따라서, 모터(19a)의 구동에 의해 기어(19b)를 회전시키면, 그 동력이 기어 기구(18)에 전달되어 각 스핀들(13)이 회전하도록 되어 있다.The rotation drive mechanism 17 is provided with a gear mechanism 18 and a drive unit 19. The gear mechanism 18 includes a plurality of gears 18a attached to the upper end of each spindle 13, and gears 18a adjacent to the X-direction are meshed. The drive unit 19 includes a motor 19a and a gear 19b attached to the motor 19a, and the gear 19b is engaged with the gear 18a at one end of the gear mechanism 18 in the X direction. have. Therefore, when the gear 19b is rotated by the drive of the motor 19a, the power is transmitted to the gear mechanism 18 so that each spindle 13 rotates.

기어(18a, 19b)는, 예를 들면 금속제(예를 들면, 스테인레스제)이어도 되지만, 본 실시형태에서는 수지제(예를 들면, 엔지니어링 플라스틱제)이다. 또한, 기어(18a, 19b)에는 금속제의 것과 수지제의 것을 조합시켜서 사용해도 된다.The gears 18a and 19b may be made of metal (for example, made of stainless steel), for example, but in the present embodiment, they are made of resin (for example, made of engineering plastics). Further, the gears 18a and 19b may be used in combination of metal and resin.

또한, 각 세정열(6a∼6c)에 있어서, X방향에 인접하는 기어(18a)끼리가 직접 맞물려있다. 그 때문에 X방향에 인접하는 스핀들(13) 및 제 1 세정구(10)는 서로 반대 방향으로 회전하도록 되어 있지만(도 2를 참조), 기어를 증가시키는 등 하여 서로 같은 방향으로 회전하도록 해도 된다. 또한, 동력 전달부는 기어 기구(18)에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 벨트 등의 다른 수단이어도 된다. 또한, 각 스핀들(13)에 대하여 개별적으로 구동부를 부착해도 된다.Further, in each of the washing rows 6a to 6c, the gears 18a adjacent to the X direction are directly engaged with each other. Therefore, the spindle 13 and the first cleaning tool 10 adjacent to the X-direction rotate in opposite directions (see Fig. 2), but may be rotated in the same direction by increasing a gear or the like. In addition, the power transmission unit is not limited to the gear mechanism 18, and may be other means such as a belt, for example. Moreover, you may attach a drive part individually to each spindle 13.

도 4 및 도 5에 나타내는 바와 같이, 미끄럼 베어링(14)의 베어링면과 스핀들(13)의 하단부의 외주면 사이 및 미끄럼 베어링(15)의 베어링면과 스핀들(13)의 상단부의 외주면 사이에는 각각 액층(C1, C2)이 형성되어 있다. 액층(C1, C2)은 스핀들 케이스(12)의 내부 공간에 공급된 세정액(C)이 액층(C1, C2)에 대응하는 부분으로부터 스며나옴으로써 형성된다. 따라서, 액층(C1, C2)은 세정액(C)에서 유래하는 윤활 기능을 갖기 때문에, 미끄럼 베어링(14, 15) 및/또는 스핀들(13)의 마모를 방지할 수 있다.4 and 5, between the bearing surface of the sliding bearing 14 and the outer peripheral surface of the lower end of the spindle 13, and between the bearing surface of the sliding bearing 15 and the outer peripheral surface of the upper end of the spindle 13, respectively, a liquid layer (C1, C2) is formed. The liquid layers C1 and C2 are formed by seeping the cleaning liquid C supplied to the inner space of the spindle case 12 from the portions corresponding to the liquid layers C1 and C2. Therefore, since the liquid layers C1 and C2 have a lubricating function derived from the cleaning liquid C, it is possible to prevent wear of the sliding bearings 14 and 15 and/or the spindle 13.

액층(C1, C2)을 형성하는 세정액(C)의 스며나옴은 하우징(7)의 내부 공간의 세정액(C)의 압력을 높임으로써 발생되기 쉬워진다. 하우징(7)의 내부 공간의 세정액(C)의 압력은 예를 들면, 하우징(7)의 내부 공간으로의 세정액(C)의 단위 시간당의 공급량을 변경함으로써 조정할 수 있다.The bleeding out of the cleaning liquid C forming the liquid layers C1 and C2 is likely to occur by increasing the pressure of the cleaning liquid C in the inner space of the housing 7. The pressure of the cleaning liquid C in the inner space of the housing 7 can be adjusted, for example, by changing the supply amount of the cleaning liquid C to the inner space of the housing 7 per unit time.

도 1에 나타내는 바와 같이, 세정 장치(1)는 건조 에리어(D)에 있어서, 에어 나이프(20a, 20b)와 반송 롤러(21)를 구비하고 있다. 에어 나이프(20a)는 반송 롤러(21)보다도 상방에 배치되고, 에어 나이프(20b)는 반송 롤러(21)보다도 하방에 배치된다.As shown in FIG. 1, the cleaning device 1 is provided with air knives 20a and 20b and a conveying roller 21 in the drying area D. The air knife 20a is disposed above the conveying roller 21, and the air knife 20b is disposed below the conveying roller 21.

건조 에리어(D)에서는 반송 롤러(21)에 의해 유리판(G)을 반송하면서, 에어 나이프(20a, 20b)로부터 고압의 기체를 유리판(G)의 상면(Ga) 및 하면(Gb)에 분사함으로써 이들의 양면(Ga, Gb)에 부착되어 있는 수분을 제거한다. 또한, 건조 에리어(D)에서는 에어 나이프(20a, 20b)이외의 다른 공지의 건조 수단에 의해 유리판(G)을 건조시켜도 된다. 또한, 건조 에리어(D)는 생략해도 된다.In the drying area (D), while conveying the glass plate (G) by the conveying roller (21), by spraying a high-pressure gas from the air knives (20a, 20b) onto the upper surface (Ga) and the lower surface (Gb) of the glass plate (G). Moisture adhering to both surfaces (Ga, Gb) is removed. Further, in the drying area D, the glass plate G may be dried by a known drying means other than the air knives 20a and 20b. In addition, the drying area (D) may be omitted.

다음에 본 실시형태에 따른 유리판의 제조 방법을 설명한다. 본 제조 방법은 상술의 세정 장치(1)를 사용한 세정 공정을 포함한다.Next, a method of manufacturing a glass plate according to the present embodiment will be described. This manufacturing method includes a cleaning process using the cleaning device 1 described above.

상세하게는 유리판의 제조 방법은 예를 들면, 성형 공정과, 서랭 공정과, 채판(採板) 공정과, 절단 공정과, 세정 공정(건조 공정을 포함한다)과, 검사 공정과, 곤포(梱包) 공정을 구비하고 있다. 또한, 채판 공정 후에 열처리 공정을 구비해도 된다. 또한 절단 공정 후에 끝면 가공 공정을 구비해도 된다.Specifically, the manufacturing method of a glass plate is, for example, a molding process, a slow cooling process, a shelving process, a cutting process, a washing process (including a drying process), an inspection process, and a packing process. ) Process. Further, a heat treatment step may be provided after the plate plate step. Further, after the cutting step, an end surface processing step may be provided.

성형 공정에서는 오버플로우 다운 드로우법이나 플로트법 등의 공지의 성형 방법에 의해, 용융 유리로부터 유리 리본을 성형한다.In the forming step, a glass ribbon is formed from molten glass by a known forming method such as an overflow down-draw method or a float method.

서랭 공정에서는 성형된 유리 리본의 휘어짐 및 내부 변형을 저감하기 위해서, 성형된 유리 리본을 서랭한다.In the slow cooling process, the molded glass ribbon is slowly cooled in order to reduce the warpage and internal deformation of the molded glass ribbon.

채판 공정에서는 서랭된 유리 리본을 소정의 길이마다로 절단하고, 복수매의 원 유리판을 얻는다.In the plate process, the slowly cooled glass ribbon is cut for each predetermined length, and a plurality of original glass plates are obtained.

열처리 공정에서는 예를 들면, 열처리로에 있어서, 원 유리판에 대하여 열처리를 행한다.In the heat treatment step, for example, in a heat treatment furnace, heat treatment is performed on the original glass plate.

절단 공정에서는 원 유리판을 소정 사이즈로 절단하고, 1매 또는 복수매의 유리판(G)을 얻는다. 원 유리판의 절단 방법으로서는 예를 들면, 절단 예정선을 따라 형성된 스크라이브선을 굽힘 응력에 의해 두께 방향으로 진전시키는 굽힘 응력 할단이나, 절단 예정선의 일부에 형성된 초기 크랙을 레이저 조사와 급랭에 의해 발생한 열응력으로 절단 예정선을 따라 진전시키는 레이저 할단이나, 레이저 조사에 의해 유리를 용융시키면서 절단 예정선을 따라 절단하는 레이저 용단 등을 이용할 수 있다. 또한, 유리판(G)은 직사각형 형상인 것이 바람직하다. 유리판(G)의 한변의 크기는 1000mm∼3000mm인 것이 바람직하고, 판두께는 0.05mm∼10mm인 것이 바람직하고, 0.2mm∼0.7mm인 것이 보다 바람직하다.In the cutting process, the original glass plate is cut into a predetermined size, and one or a plurality of glass plates G is obtained. As a method of cutting the original glass plate, for example, bending stress cleavage in which the scribe line formed along the line to be cut is advanced in the thickness direction by bending stress, or the initial crack formed in part of the line to be cut is heat generated by laser irradiation and rapid cooling. A laser cutting that advances along the intended cutting line by stress, or a laser cutting along the intended cutting line while melting the glass by laser irradiation can be used. In addition, it is preferable that the glass plate G has a rectangular shape. The size of one side of the glass plate G is preferably 1000 mm to 3000 mm, the plate thickness is preferably 0.05 mm to 10 mm, more preferably 0.2 mm to 0.7 mm.

끝면 가공 공정에서는 유리판(G)에 대하여 끝면의 연삭·연마 가공 및 코너컷을 포함하는 끝면 가공을 행한다.In the end surface processing step, the glass plate G is subjected to end surface processing including grinding and polishing processing of the end surface and corner cutting.

세정 공정에서는 상술의 세정 장치(1)를 사용하고, 유리판(G)을 경사 자세로 반송하면서 세정한 후에 건조시킨다.In the washing step, the washing apparatus 1 described above is used, and the glass plate G is washed while being conveyed in an oblique posture, followed by drying.

검사 공정에서는 세정된 유리판(G)에 대하여 표면에 스크래치, 먼지, 오염 등이 없는지 및/또는 기포, 이물 등의 내부 결함이 없는지를 검사한다. 검사는 카메라 등의 광학 검사 장치를 이용하여 행한다.In the inspection process, the cleaned glass plate G is inspected for scratches, dust, contamination, and/or internal defects such as air bubbles and foreign substances. The inspection is performed using an optical inspection device such as a camera.

곤포 공정에서는 검사의 결과, 소망의 품질을 충족하는 유리판(G)을 곤포한다. 곤포는 소정의 팰릿에 대하여, 복수매의 유리판(G)을 가로로 적층하거나, 세로로 적층함으로써 행한다. 이 경우, 유리판(G)의 적층 방향의 상호 간에는 합지나 발포 수지 등으로 이루어지는 보호 시트를 개재시키는 것이 바람직하다.In the packing process, as a result of the inspection, the glass plate G that satisfies the desired quality is packed. Packing is performed by laminating a plurality of glass plates (G) horizontally or vertically on a predetermined pallet. In this case, it is preferable to interpose a protective sheet made of a laminate or a foamed resin between each other in the lamination direction of the glass plates G.

이하, 상기의 제조 방법에 의한 주된 작용·효과에 관하여 설명한다.Hereinafter, the main action and effect of the above manufacturing method will be described.

상기의 제조 방법에 있어서는 제 1 세정 부재(10a)와 제 2 세정 부재(11a)의 경도의 차에 의해, 경도가 낮은 제 2 세정 부재(11a)가, 유리판(G)을 끼워서 대향하는 경도가 높은 제 1 세정 부재(10a)에 대하여, 쿠션의 역할을 한다. 이것에 의해, 제 1 세정 부재(10a)와 유리판(G) 및/또는 제 2 세정 부재(11a)와 유리판(G)사이에 이물이 끼인 경우에도, 제 2 세정 부재(11a)의 쿠션성에 의해 유리판(G)의 상하면(Ga, Gb)에 있어서의 스크래치의 발생을 회피할 수 있고, 유리판(G)의 파손도 방지할 수 있다. 또한, 본 방법에서는 제 2 세정 부재(11a)에 대한 제 1 세정 부재(10a)의 경도의 높이에 의해, 양 세정 부재(10a, 11a)를 유리판(G)의 상하면(Ga, Gb)에 대하여 충분하게 압박할 수 있고, 상하면(Ga, Gb)을 바람직하게 문지르는 것이 가능해진다. 따라서, 유리판(G)의 상하면(Ga, Gb)의 오염을 충분하게 제거할 수 있다.In the above manufacturing method, due to the difference in hardness between the first cleaning member 10a and the second cleaning member 11a, the second cleaning member 11a having a low hardness has a hardness opposite to each other by sandwiching the glass plate G. For the high first cleaning member 10a, it serves as a cushion. Thus, even when a foreign object is caught between the first cleaning member 10a and the glass plate G and/or the second cleaning member 11a and the glass plate G, the cushioning property of the second cleaning member 11a The occurrence of scratches on the upper and lower surfaces Ga and Gb of the glass plate G can be avoided, and the breakage of the glass plate G can also be prevented. In addition, in this method, depending on the height of the hardness of the first cleaning member 10a with respect to the second cleaning member 11a, both cleaning members 10a and 11a are moved with respect to the upper and lower surfaces Ga and Gb of the glass plate G. The pressure can be sufficiently pressed, and the upper and lower surfaces (Ga, Gb) can be preferably rubbed. Accordingly, contamination of the upper and lower surfaces Ga and Gb of the glass plate G can be sufficiently removed.

여기서, 본 발명은 상기의 실시형태에서 설명한 형태나 구성에 한정되는 것은 아니고, 상기의 작용·효과에 한정되는 것도 아니다. 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위 내에서 여러가지 변경이 가능하다.Here, the present invention is not limited to the form or configuration described in the above embodiment, nor is it limited to the above-described actions and effects. Various changes can be made without departing from the gist of the present invention.

상기의 실시형태에서는 세정액이 저류된 하우징을 이용하여 세정액을 공급하는 경우를 설명했지만, 세정액의 공급 방법은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 샤워 노즐 등을 이용하여 세정액을 세정 부재 및/또는 유리판에 대하여 분사 공급해도 된다.In the above embodiments, the case of supplying the cleaning liquid using the housing in which the cleaning liquid is stored has been described, but the supply method of the cleaning liquid is not limited to this. For example, you may spray-supply a cleaning liquid to a cleaning member and/or a glass plate using a shower nozzle or the like.

상기의 실시형태에 있어서, 스로틀 롤러를 생략해도 된다. 또한, 스로틀 롤러를, 액체를 흡착하지 않는 상하 롤러쌍으로 이루어지는 반송 롤러로 대신하여도 된다. 이 경우, 반송 롤러는 유리판의 폭 방향의 양 단부만을 끼워서 반송하는 구성, 즉, 유리판의 폭 방향의 중앙부에는 접촉하지 않는 구성으로 해도 된다.In the above embodiment, the throttle roller may be omitted. Further, the throttle roller may be replaced by a conveying roller made of a pair of upper and lower rollers that do not adsorb liquid. In this case, the conveying roller may have a configuration in which only both ends of the glass plate in the width direction are sandwiched and conveyed, that is, a configuration not in contact with the central portion in the width direction of the glass plate.

상기의 실시형태에서는 세정 장치에 있어서, 하나의 세정 에리어를 형성하는 경우를 설명했지만, 복수의 세정 에리어를 형성해도 된다. 이 경우, 각 세정 에리어의 하류측에 건조 에리어를 형성해도 되고, 최하류의 세정 에리어의 하류측에만 건조 에리어를 형성해도 된다.In the above-described embodiment, the case where one cleaning area is formed in the cleaning device has been described, but a plurality of cleaning areas may be formed. In this case, a drying area may be formed on the downstream side of each cleaning area, or a drying area may be formed only on the downstream side of the most downstream cleaning area.

상기의 실시형태의 세정 공정에서는 제 1 세정 부재를 유리판의 상면(표면)에 접촉시킴과 아울러, 제 2 세정 부재를 유리판의 하면(이면)에 접촉시키지만, 이 세정 공정(제 1 세정 공정)에 더해서 제 2 세정 공정을 실시하고, 제 2 세정 공정에서는 제 2 세정 부재를 유리판의 상면(표면)에 접촉시킴과 아울러, 제 1 세정 부재를 유리판의 하면(이면)에 접촉시켜도 된다. 이것에 의해, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 회피하면서, 표면뿐만 아니라 이면의 품질을 향상시킬 수 있다.In the cleaning process of the above embodiment, the first cleaning member is brought into contact with the upper surface (surface) of the glass plate, and the second cleaning member is brought into contact with the lower surface (rear surface) of the glass plate, but in this cleaning process (first cleaning process) In addition, the second cleaning step may be performed, and in the second cleaning step, the second cleaning member may be brought into contact with the upper surface (surface) of the glass plate, and the first cleaning member may be brought into contact with the lower surface (rear surface) of the glass plate. Thereby, the quality of not only the surface but also the back surface can be improved while avoiding the occurrence of scratches on the front and back surfaces.

상기의 실시형태에서는 가로 자세의 유리판을 세정하지만, 세로 자세의 유리판을 세정해도 된다.In the above-described embodiment, the glass plate in the horizontal position is washed, but the glass plate in the vertical position may be washed.

1 세정 장치
10a 제 1 세정 부재
11a 제 2 세정 부재
G 유리판
Ga 상면
Gb 저면
1 cleaning device
10a first cleaning member
11a second cleaning member
G glass plate
Ga top surface
Gb bottom

Claims (6)

유리판의 표면에 접촉시킨 제 1 세정 부재와 이면에 접촉시킨 제 2 세정 부재에 의해, 상기 유리판을 두께 방향으로 끼운 상태에서 표리면을 문질러서 세정하는 세정 공정을 구비한 유리판의 제조 방법으로서,
상기 제 1 세정 부재의 경도를 상기 제 2 세정 부재의 경도보다도 높게 한 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법.
A method for producing a glass plate comprising a cleaning step of rubbing the front and back surfaces while the glass plate is sandwiched in a thickness direction by a first cleaning member in contact with the surface of the glass plate and a second cleaning member in contact with the back surface,
The method for manufacturing a glass plate, wherein the hardness of the first cleaning member is made higher than that of the second cleaning member.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 세정 부재 및 상기 제 2 세정 부재로서, 각각 상기 유리판의 두께 방향으로 연장되는 회전축을 중심으로 하여 회전하는 디스크 형상 부재를 사용하는 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법.
The method of claim 1,
As the first cleaning member and the second cleaning member, a disk-shaped member rotating about a rotation axis extending in a thickness direction of the glass plate, respectively, is used.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 세정 부재를 부직포로 구성함과 아울러, 상기 제 2 세정 부재를 스펀지로 구성하는 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 2,
A method for manufacturing a glass plate, wherein the first cleaning member is formed of a nonwoven fabric and the second cleaning member is formed of a sponge.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 세정 부재의 경도가 아스커 A 경도로 10∼90임과 아울러,
상기 제 2 세정 부재의 경도가 아스커 C 경도로 8∼100인 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
While the hardness of the first cleaning member is 10 to 90 in terms of Asker A hardness,
The method for manufacturing a glass plate, wherein the second cleaning member has an Asker C hardness of 8 to 100.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 세정 공정에서는 상기 표면을 상면으로 하는 가로 자세의 상기 유리판을 세정하고,
상기 표면이 보증면인 것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 4,
In the cleaning process, the glass plate in a horizontal position with the surface as the upper surface is cleaned,
The method of manufacturing a glass plate, characterized in that the surface is a guarantee surface.
유리판의 표면에 접촉하는 제 1 세정 부재와 이면에 접촉하는 제 2 세정 부재를 구비하고, 양 세정 부재에 의해 상기 유리판을 두께 방향으로 끼운 상태에서 표리면을 문질러서 세정하는 유리판의 세정 장치로서,
상기 제 1 세정 부재의 경도가 상기 제 2 세정 부재의 경도보다도 높은 것을 특징으로 하는 유리판의 세정 장치.
A cleaning apparatus for a glass plate comprising a first cleaning member in contact with a surface of a glass plate and a second cleaning member in contact with a back surface, and rubbing the front and back surfaces while the glass plate is sandwiched in a thickness direction by both cleaning members,
A cleaning apparatus for a glass plate, wherein the hardness of the first cleaning member is higher than that of the second cleaning member.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023214539A1 (en) * 2022-05-02 2023-11-09 日本電気硝子株式会社 Cleaning device for glass plates and method for producing glass plate

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012213748A (en) * 2011-04-01 2012-11-08 Nippon Electric Glass Co Ltd Method and equipment for manufacturing glass substrate
JP2012213746A (en) * 2011-04-01 2012-11-08 Ishiyama Seisakusho:Kk Cleaning apparatus and cleaning method
WO2015178383A1 (en) * 2014-05-19 2015-11-26 旭硝子株式会社 Cleaning device and cleaning method for cleaning slip sheet for glass plate, glass plate laminate, glass plate packaging, manufacturing method of slip sheet for glass plate, and slip sheet for glass plate
JP2017014060A (en) 2015-06-30 2017-01-19 AvanStrate株式会社 Method for producing glass substrate and glass substrate production device
JP2018030058A (en) * 2016-08-22 2018-03-01 日本電気硝子株式会社 Sheet glass washing apparatus

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001009387A (en) * 1999-06-29 2001-01-16 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate washing apparatus
JP2008062349A (en) * 2006-09-08 2008-03-21 Central Glass Co Ltd Method of washing glass sheet
CN102119069B (en) * 2008-08-08 2015-04-15 可乐丽股份有限公司 Polishing pad and method for manufacturing the polishing pad
KR102228820B1 (en) * 2013-12-11 2021-03-18 에이지씨 가부시키가이샤 Glass sheet, apparatus for producing glass sheet and method for producing glass sheet
JP6906902B2 (en) * 2016-05-25 2021-07-21 早川 篤志 How to clean the glass plate

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012213748A (en) * 2011-04-01 2012-11-08 Nippon Electric Glass Co Ltd Method and equipment for manufacturing glass substrate
JP2012213746A (en) * 2011-04-01 2012-11-08 Ishiyama Seisakusho:Kk Cleaning apparatus and cleaning method
WO2015178383A1 (en) * 2014-05-19 2015-11-26 旭硝子株式会社 Cleaning device and cleaning method for cleaning slip sheet for glass plate, glass plate laminate, glass plate packaging, manufacturing method of slip sheet for glass plate, and slip sheet for glass plate
JP2017014060A (en) 2015-06-30 2017-01-19 AvanStrate株式会社 Method for producing glass substrate and glass substrate production device
JP2018030058A (en) * 2016-08-22 2018-03-01 日本電気硝子株式会社 Sheet glass washing apparatus

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