KR102666022B1

KR102666022B1 - Glass plate manufacturing method and glass plate cleaning device

Info

Publication number: KR102666022B1
Application number: KR1020207029396A
Authority: KR
Inventors: 카오루 미츠기
Original assignee: 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2018-07-10
Filing date: 2019-06-13
Publication date: 2024-05-17

Abstract

유리판(G)의 상면(Ga)에 접촉시킨 제 1 세정 부재(10a)와 하면(Gb)에 접촉시킨 제 2 세정 부재(11a)에 의해, 유리판(G)을 두께 방향으로 끼운 상태에서 상하면(Ga, Gb)을 문질러서 세정하는 세정 공정을 구비한 유리판의 제조 방법에 있어서, 제 1 세정 부재(10a)의 경도를 제 2 세정 부재(10b)의 경도보다도 높게 했다.The upper and lower surfaces ( In the method of manufacturing a glass plate including a cleaning step of rubbing and cleaning Ga, Gb), the hardness of the first cleaning member 10a was made higher than that of the second cleaning member 10b.

Description

Glass plate manufacturing method and glass plate cleaning device

본 발명은 유리판의 제조 방법 및 유리판의 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a glass plate and a cleaning device for a glass plate.

액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD)는 고선명화가 추진되고 있다. 이것에 따라, FPD용의 기판으로서 사용되는 유리판에 대해서는 FPD의 제조 공정으로 치밀한 전기 회로가 형성된다. 따라서, 이 종류의 유리판에는 먼지나 오염의 부착이 없는 높은 청정성이 요구된다. Flat panel displays (FPDs) such as liquid crystal displays, plasma displays, and organic EL displays are being promoted to have higher definition. Accordingly, a dense electric circuit is formed on the glass plate used as a substrate for FPD during the FPD manufacturing process. Therefore, this type of glass plate is required to have high cleanliness without adhesion of dust or contamination.

그래서, 이 종류의 유리판의 제조 공정에서는 예를 들면, 대면적의 유리판으로부터 소면적의 제품 사이즈의 유리판을 잘라냄과 아울러, 잘라낸 유리판에 대하여 끝면 가공(연삭 및 연마 가공)을 실시한 후, 그 표리면을 세정한다. 여기서, 유리판의 표리면을 세정하는 방법의 일례가, 특허문헌 1에 개시되어 있다. 동 방법에서는 유리판의 표리면의 각각에 회전하는 디스크 형상의 세정 부재를 접촉시키고, 양 세정 부재에 의해 유리판을 두께 방향으로 끼운 상태에서 표리면을 문질러서 세정한다. 이 경우, 통상, 양 세정 부재는 모두 같은 재질로 구성되기 때문에, 경도가 같다.Therefore, in the manufacturing process of this type of glass plate, for example, a glass plate of a small area product size is cut from a large area glass plate, and the cut glass plate is subjected to end surface processing (grinding and polishing processing), and then the table is Clean the rear surface. Here, an example of a method for cleaning the front and back surfaces of a glass plate is disclosed in Patent Document 1. In this method, a rotating disk-shaped cleaning member is brought into contact with each of the front and back surfaces of a glass plate, and the front and back surfaces are cleaned by rubbing the glass plate while the glass plate is sandwiched in the thickness direction by both cleaning members. In this case, since both cleaning members are usually made of the same material, their hardness is the same.

일본특허공개 2017-14060호 공보Japanese Patent Publication No. 2017-14060

그러나, 상기의 방법에는 하기와 같은 해결해야 할 문제가 있었다.However, the above method had the following problems to be solved.

즉, 상기의 방법에서는 양 세정 부재의 경도를 높게 하면, 유리판의 표리면을 만족하게 문질러서 오염을 충분하게 제거할 수 있지만, 세정 부재와 유리판 사이에 끼인 이물(예를 들면, 유리분)에 의해 유리판의 표리면에 스크래치가 생기기 쉬워진다. 그 결과, 유리판이 파손에 달하게 될 우려도 있다. 한편, 양 세정 부재의 경도를 낮게 하면, 스크래치의 발생을 회피할 수 있지만, 유리판의 표리면을 만족스럽게 문지를 수 없어 오염을 충분하게 제거하는 것이 곤란해진다.That is, in the above method, if the hardness of both cleaning members is increased, the front and back surfaces of the glass plate can be satisfactorily rubbed to sufficiently remove contamination, but foreign matter (e.g., glass powder) caught between the cleaning member and the glass plate can Scratches are more likely to occur on the front and back surfaces of the glass plate. As a result, there is a risk that the glass plate may be damaged. On the other hand, if the hardness of both cleaning members is lowered, scratches can be avoided, but the front and back surfaces of the glass plate cannot be rubbed satisfactorily, making it difficult to sufficiently remove contamination.

상기의 사정을 감안하여 이루어진 본 발명은 유리판을 제조하는 과정에서 유리판의 표리면을 세정하는데 있어서, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 회피하면서 오염의 충분한 제거를 가능하게 하는 것을 기술적인 과제로 한다.The present invention, made in consideration of the above circumstances, has a technical task of enabling sufficient removal of contamination while avoiding the occurrence of scratches on the front and back surfaces of the glass plate in cleaning the front and back surfaces of the glass plate in the process of manufacturing the glass plate. .

상기의 과제를 해결하기 위해서 창안된 본 발명은 유리판의 표면에 접촉시킨 제 1 세정 부재와 이면에 접촉시킨 제 2 세정 부재에 의해, 유리판을 두께 방향으로 끼운 상태에서 표리면을 문질러서 세정하는 세정 공정을 구비한 유리판의 제조 방법으로서, 제 1 세정 부재의 경도를 제 2 세정 부재의 경도보다도 높게 한 것을 특징으로 한다.The present invention, which was created to solve the above problems, is a cleaning process in which the front and back surfaces of a glass plate are rubbed and cleaned with a first cleaning member in contact with the surface of the glass plate and a second cleaning member in contact with the back side while the glass plate is sandwiched in the thickness direction. A method for manufacturing a glass plate including, characterized in that the hardness of the first cleaning member is made higher than the hardness of the second cleaning member.

본 방법에서는 제 1 세정 부재의 경도를 제 2 세정 부재의 경도보다도 높게 하고 있다. 이와 같이, 양 세정 부재의 경도에 차가 있음으로써 상대적으로 경도가 낮은 제 2 세정 부재가, 유리판을 끼워서 대향하는 상대적으로 경도가 높은 제 1 세정 부재에 대하여, 쿠션의 역할을 하게 된다. 이것에 의해, 제 1 세정 부재와 유리판, 및/또는 제 2 세정 부재와 유리판 사이에 이물이 끼인 경우라도, 제 2 세정 부재의 쿠션성에 의해 유리판의 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 회피할 수 있고, 유리판의 파손도 방지할 수 있다. 또한, 본 방법에서는 제 2 세정 부재 에 대한 제 1 세정 부재의 경도의 높이를 이용하여 양 세정 부재를 유리판의 표리면에 대하여 충분하게 압박할 수 있고, 표리면을 바람직하게 문지르는 것이 가능해 진다. 따라서, 유리판의 표리면의 오염을 충분하게 제거할 수 있다. 이상의 것으로부터, 본 방법에 의하면, 유리판을 제조하는 과정에서 유리판의 표리면을 세정함에 있어서, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 회피하면서 오염의 충분한 제거가 가능해진다.In this method, the hardness of the first cleaning member is made higher than that of the second cleaning member. In this way, because there is a difference in hardness between the two cleaning members, the second cleaning member with relatively low hardness acts as a cushion for the first cleaning member with relatively high hardness that opposes the glass plate. As a result, even if a foreign matter is caught between the first cleaning member and the glass plate, and/or the second cleaning member and the glass plate, scratches on the front and back surfaces of the glass plate can be avoided due to the cushioning properties of the second cleaning member. It can also prevent damage to the glass plate. In addition, in this method, by utilizing the height of hardness of the first cleaning member relative to the second cleaning member, both cleaning members can be sufficiently pressed against the front and back surfaces of the glass plate, making it possible to preferably rub the front and back surfaces. Therefore, contamination on the front and back surfaces of the glass plate can be sufficiently removed. From the above, according to this method, when cleaning the front and back surfaces of a glass plate in the process of manufacturing the glass plate, it becomes possible to sufficiently remove contamination while avoiding the occurrence of scratches on the front and back surfaces.

상기의 방법에 있어서, 제 1 세정 부재 및 제 2 세정 부재로서, 각각 유리판의 두께 방향으로 연장되는 회전축을 중심으로 하여 회전하는 디스크 형상 부재를 사용하는 것이 바람직하다.In the above method, it is preferable to use disk-shaped members that rotate around a rotation axis extending in the thickness direction of the glass plate as the first cleaning member and the second cleaning member, respectively.

이렇게 하면, 양 세정 부재에 의해 유리판의 표리면을 한층 바람직하게 문지를 수 있기 때문에, 표리면의 오염을 제거하는 점에서 한층 유리하게 된다.In this way, since the front and back surfaces of the glass plate can be more preferably rubbed by both cleaning members, it is more advantageous in terms of removing contamination from the front and back surfaces.

상기의 방법에 있어서, 제 1 세정 부재를 부직포로 구성함과 아울러, 제 2 세정 부재를 스펀지로 구성하는 것이 바람직하다.In the above method, it is preferable that the first cleaning member is made of non-woven fabric and the second cleaning member is made of a sponge.

이렇게 하면, 제 1 세정 부재에 의한 세정 능력이 양호하게 됨과 아울러, 제 2 세정 부재에 의한 쿠션성이 양호하게 된다. 이 때문에, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 확실하게 회피하면서 오염을 충분하게 또한 효율적으로 제거하는 것이 가능해진다.In this way, the cleaning ability by the first cleaning member becomes good, and the cushioning property by the second cleaning member becomes good. For this reason, it becomes possible to sufficiently and efficiently remove dirt while reliably avoiding scratches on the front and back surfaces.

상기의 방법에 있어서, 제 1 세정 부재의 경도가 아스커 A 경도로 10∼90임과 아울러, 제 2 세정 부재의 경도가 아스커 C 경도로 8∼100인 것이 바람직하다.In the above method, it is preferable that the first cleaning member has a hardness of 10 to 90 in Asker A hardness, and that the second cleaning member preferably has a hardness of 8 to 100 in Asker C hardness.

이렇게 하면, 제 1 세정 부재에 의한 세정 능력이 양호해짐과 아울러, 제 2 세정 부재에 의한 쿠션성이 양호해진다. 이 때문에, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 확실하게 회피하면서 오염을 충분하게 또한 효율적으로 제거하는 것이 가능해진다.In this way, the cleaning ability by the first cleaning member becomes good and the cushioning property by the second cleaning member becomes good. For this reason, it becomes possible to sufficiently and efficiently remove dirt while reliably avoiding scratches on the front and back surfaces.

상기의 방법에 있어서, 세정 공정에서는 표면을 상면으로 하는 가로 자세의 유리판을 세정하고, 표면이 보증면인 것이 바람직하다.In the above method, in the cleaning step, a glass plate in a horizontal position with the surface as the upper surface is cleaned, and it is preferable that the surface is a protective surface.

이렇게 하면, 제 1 세정 부재와 제 2 세정 부재의 비교에 있어서, 상대적으로 경도가 높아서 세정 능력이 높은 제 1 세정 부재에 의해, 보증면을 세정하는 것이 가능해진다. 그 때문에 본 방법에 의해 제조되는 유리판의 품질을 향상시키는 점에서 유리하게 된다. 또한, 본 발명에 있어서, 가로 자세는 수평 자세와 경사 자세를 포함하는 것으로 한다. 수평 자세란 유리판의 표면이 수평한 자세이며, 경사 자세란 유리판의 표면이 수평면에 대하여 경사하는 자세이다.In this way, when comparing the first cleaning member and the second cleaning member, it becomes possible to clean the certified surface with the first cleaning member having a relatively high hardness and thus a high cleaning ability. Therefore, it is advantageous in terms of improving the quality of the glass plate manufactured by this method. Additionally, in the present invention, the horizontal posture includes a horizontal posture and an inclined posture. The horizontal posture is an attitude in which the surface of the glass plate is horizontal, and the inclined posture is an attitude in which the surface of the glass plate is inclined with respect to the horizontal plane.

또한, 상기의 과제를 해결하기 위해서 창안된 본 발명은 유리판의 표면에 접촉하는 제 1 세정 부재와 이면에 접촉하는 제 2 세정 부재를 구비하고, 양 세정 부재에 의해 유리판을 두께 방향으로 끼운 상태에서 표리면을 문질러서 세정하는 유리판의 세정 장치로서, 제 1 세정 부재의 경도가 제 2 세정 부재의 경도보다도 높은 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention, created to solve the above problems, is provided with a first cleaning member in contact with the surface of the glass plate and a second cleaning member in contact with the back surface, and the glass plate is sandwiched in the thickness direction by both cleaning members. A cleaning device for a glass plate that is cleaned by rubbing the front and back surfaces, characterized in that the hardness of the first cleaning member is higher than the hardness of the second cleaning member.

본 장치에 의하면, 상기의 유리판의 제조 방법에 따른 설명에서 이미 설명한 작용·효과와 동일한 작용·효과가 얻어진다.According to this device, the same actions and effects as those already described in the description of the method for manufacturing the glass plate above are obtained.

본 발명에 의하면, 유리판을 제조하는 과정에서 유리판의 표리면을 세정함에 있어서, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 회피하면서 오염의 충분한 제거가 가능해진다.According to the present invention, when cleaning the front and back surfaces of a glass plate in the process of manufacturing the glass plate, it becomes possible to sufficiently remove contamination while avoiding the occurrence of scratches on the front and back surfaces.

도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치를 나타내는 측면도이다.
도 2는 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치에 구비된 세정열에 포함되는 세정구의 배열 상태를 나타내는 평면도이다.
도 3은 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치에 구비된 세정 기구를 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치에 구비된 스핀들 케이스의 하단부(선단부)측을 확대해서 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치에 구비된 스핀들 케이스의 상단부(기단부)측을 확대해서 나타내는 단면도이다.1 is a side view showing a cleaning device for a glass plate according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a plan view showing the arrangement of cleaning tools included in the cleaning column provided in the glass plate cleaning device according to the embodiment of the present invention.
Figure 3 is a cross-sectional view showing a cleaning mechanism provided in the glass plate cleaning device according to the embodiment of the present invention.
Figure 4 is an enlarged cross-sectional view showing the lower end (tip end) side of the spindle case provided in the glass plate cleaning device according to the embodiment of the present invention.
Fig. 5 is an enlarged cross-sectional view showing the upper end (proximal end) side of the spindle case provided in the glass plate cleaning device according to the embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치 및 상기 장치를 사용한 유리판의 제조 방법에 대해서, 첨부의 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 도면 중의 XYZ는 직교 좌표계이다. X방향 및 Y방향은 수평 방향이며, Z방향은 연직 방향이다. Y방향은 유리판의 반송 방향이고, X방향 및 Z방향을 포함하는 XZ평면은 유리판의 반송 방향과 직교하는 평면이다.Hereinafter, a cleaning device for a glass plate according to an embodiment of the present invention and a method for manufacturing a glass plate using the device will be described with reference to the attached drawings. In addition, XYZ in the drawing is a rectangular coordinate system. The X and Y directions are horizontal directions, and the Z direction is a vertical direction. The Y direction is the transport direction of the glass plate, and the XZ plane including the X direction and Z direction is a plane orthogonal to the transport direction of the glass plate.

도 1에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 따른 유리판의 세정 장치(1)(이하, 세정 장치(1)이라 표기)는 유리판(G)을 세정하기 위한 세정 에리어(W)와, 세정후의 유리판(G)을 건조시키기 위한 건조 에리어(D)를 구비하고 있다. 이 세정 장치(1)는 유리판(G)을 Y방향으로 가로 자세(본 실시형태에서는 X방향을 따라서는 경사 자세)로 반송하면서, 보증면(표면)인 상면(Ga) 및 비보증면(이면)인 하면(Gb)을 동시에 세정하는 것이다. 여기서 말하는 「보증면」이란 유리판(G)의 표리면 중, FPD의 제조 공정에서 투명 도전막 등의 성막 처리가 실시되는 측의 면을 의미한다.As shown in FIG. 1, the glass plate cleaning device 1 (hereinafter referred to as the cleaning device 1) according to the present embodiment includes a cleaning area W for cleaning the glass plate G, and a glass plate after cleaning ( A drying area (D) for drying G) is provided. This cleaning device 1 transports the glass plate G in a horizontal posture in the Y direction (in this embodiment, an inclined posture along the The lower surface (Gb) is cleaned at the same time. The "guarantee surface" here means the side of the front and back surfaces of the glass plate G on which film formation treatment such as a transparent conductive film is performed in the FPD manufacturing process.

세정 에리어(W) 및 건조 에리어(D)에서는 유리판(G)은 반송 방향(Y)과 직교하는 유리판(G)의 폭 방향(도 3에서 X방향과 각도(θ)를 이루는 방향)에 있어서, 일단측이 타단측보다도 낮은 위치에 위치하도록, 경사진 자세로 반송된다. 이것에 의해, 유리판(G)의 상면(Ga)에 부착된 여분의 액체가 자중으로 유리판(G)의 상면(Ga)으로부터 흘러 내려 유리판(G)의 상면(Ga)에 오염의 원인이 되는 액체 고임이 형성되는 것을 방지하고 있다. 또한, 세정 에리어(W) 및/또는 건조 에리어(D)에 있어서, 유리판(G)을 수평 자세로 반송해도 된다.In the cleaning area W and the drying area D, the glass plate G is in the width direction of the glass plate G perpendicular to the conveyance direction Y (the direction forming an angle θ with the X direction in FIG. 3), It is conveyed in an inclined posture so that one end is located at a lower position than the other end. As a result, the excess liquid attached to the upper surface Ga of the glass plate G flows down from the upper surface Ga of the glass plate G under its own weight, causing contamination on the upper surface Ga of the glass plate G. It prevents ponds from forming. Moreover, in the washing area W and/or the drying area D, the glass plate G may be conveyed in a horizontal position.

세정 장치(1)는 세정 에리어(W)에 있어서, 유리판(G)의 상면(Ga) 및 하면(Gb)에 부착된 액체를 제거하는 스로틀 롤러(2, 3)와, 유리판(G)의 상면(Ga)을 세정하는 상측 세정 기구(4)와, 유리판(G)의 하면(Gb)을 세정하는 하측 세정 기구(5)를 구비하고 있다. 세정 에리어(W)에는 그 상류측에 배치된 반송 롤러 등의 임의의 기구에 의해 유리판(G)이 공급된다.The cleaning device 1 includes throttle rollers 2 and 3 for removing liquid adhering to the upper surface Ga and the lower surface Gb of the glass plate G in the cleaning area W, and the upper surface of the glass plate G. It is provided with an upper cleaning mechanism 4 for cleaning (Ga) and a lower cleaning mechanism 5 for cleaning the lower surface Gb of the glass plate G. The glass plate G is supplied to the washing area W by an arbitrary mechanism such as a conveyance roller disposed upstream thereof.

스로틀 롤러(2, 3)는 유리판(G)을 상하에 끼워서 반송하는, 상측 롤러(2a, 3a)와 하측 롤러(2b, 3b)를 구비한 상하 롤러쌍에 의해 구성되어 있다. 즉, 스로틀 롤러(2, 3)는 반송 기구로서도 기능한다. 본 실시형태에서는 스로틀 롤러(2, 3)는 세정 기구(4, 5)의 상류측 및 하류측에 각각 배치되어 있다.The throttle rollers 2 and 3 are comprised of a pair of upper and lower rollers including upper rollers 2a and 3a and lower rollers 2b and 3b, respectively, which convey the glass plate G by sandwiching it between the upper and lower sides. That is, the throttle rollers 2 and 3 also function as a conveyance mechanism. In this embodiment, the throttle rollers 2 and 3 are arranged on the upstream and downstream sides of the cleaning mechanisms 4 and 5, respectively.

스로틀 롤러(2, 3)는 액체를 흡수 가능한 재질(예를 들면, 연질 스펀지)로 이루어지는 롤러에 의해 구성되지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.The throttle rollers 2 and 3 are composed of rollers made of a material capable of absorbing liquid (for example, soft sponge), but are not limited to this.

상측 세정 기구(4)는 반송 방향(Y)에 간격을 두고 3열 설치된 세정열(6a∼6c)과, 각 세정열(6a∼6c)에 세정액(C)을 공급하기 위해서, 내부 공간에 세정액(C)이 저류된 하우징(7)을 구비하고 있다.The upper cleaning mechanism 4 has three cleaning rows 6a to 6c arranged at intervals in the conveyance direction Y, and a cleaning liquid C in the internal space to supply cleaning liquid C to each cleaning row 6a to 6c. (C) is provided with a housing 7 in which it is stored.

하측 세정 기구(5)는 상측 세정 기구(4)의 세정열(6a∼6c)과 유리판(G)을 끼워서 대향하도록 반송 방향(Y)에 간격을 두고 3열 설치된 세정열(8a∼8c)과, 각 세정열(8a∼8c)에 세정액(C)을 공급하기 위해서, 내부 공간에 세정액(C)이 저류된 하우징(9)을 구비하고 있다.The lower cleaning mechanism 5 includes cleaning columns 8a to 8c installed in three rows at intervals in the conveyance direction Y so that the cleaning columns 6a to 6c of the upper cleaning mechanism 4 face each other with the glass plate G sandwiched between them. In order to supply the cleaning liquid C to each cleaning column 8a to 8c, a housing 9 in which the cleaning liquid C is stored in the internal space is provided.

세정액(C)으로서는 예를 들면, 세정액(예를 들면, 액체 세제)이나, 헹굼액(예를 들면, 물)으로 한 액체를 사용할 수 있다.As the cleaning liquid (C), for example, a cleaning liquid (for example, liquid detergent) or a liquid prepared as a rinsing liquid (for example, water) can be used.

여기서, 하측 세정 기구(5)는 상측 세정 기구(4)를 상하 반전시킨 것 같은 구성이고, 상측 세정 기구(4)와 대략 동일한 구성을 갖는다. 따라서, 이하의 설명에 있어서는 상측 세정 기구(4)의 구성을 예로 들어서 설명하고, 하측 세정 기구(5)의 구성에 대해서는 상세한 설명을 생략하고, 주로 상측 세정 기구(4)와의 상위점에 관하여 설명한다.Here, the lower cleaning mechanism 5 has a structure similar to the upper cleaning mechanism 4 turned upside down, and has substantially the same structure as the upper cleaning mechanism 4. Therefore, in the following description, the configuration of the upper cleaning mechanism 4 is taken as an example, a detailed description of the configuration of the lower cleaning mechanism 5 is omitted, and the differences from the upper cleaning mechanism 4 are mainly explained. do.

도 2에 나타내는 바와 같이 상측 세정 기구(4)의 각 세정열(6a∼6c)은 반송 방향(Y)와 직교하는 유리판(G)의 폭 방향에 있어서, 극간(S)을 두고 일렬로 나열된 복수의 제 1 세정구(10)를 구비하고 있다. 각 제 1 세정구(10)는 유리판(G)의 상면(Ga)을 문질러서 세정 가능한 디스크 형상의 회전체이다. 또한, 하측 세정 기구(5)의 세정열(8a∼8c)에 포함되는 각 제 2 세정구(11)는 상측 세정 기구(4)의 세정열(6a∼6c)에 포함되는 각 제 1 세정구(10)와 유리판(G)을 끼워서 쌍을 이룬다. 쌍을 이루는 제 1 세정구(10)와 제 2 세정구(11)는 서로 동방향으로 회전하도록 되어 있다.As shown in FIG. 2, each cleaning row 6a to 6c of the upper cleaning mechanism 4 is a plurality of rows arranged in a line with a gap S in the width direction of the glass plate G orthogonal to the conveyance direction Y. It is provided with a first cleaning port (10). Each first cleaning port 10 is a disk-shaped rotating body that can be cleaned by rubbing the upper surface Ga of the glass plate G. Additionally, each of the second cleaning ports 11 included in the cleaning rows 8a to 8c of the lower cleaning mechanism 5 is each of the first cleaning ports included in the cleaning rows 6a to 6c of the upper cleaning mechanism 4. Insert (10) and the glass plate (G) to form a pair. The paired first cleaning tool 10 and the second cleaning tool 11 are configured to rotate in the same direction as each other.

3열의 세정열(6a∼6c)은 극간(S)의 폭 방향에 있어서의 위치(극간(S)의 범위)가 서로 중복하지 않도록, 서로 제 1 세정구(10)가 폭 방향으로 어긋난 상태로 배치되어 있다. 즉, 3열의 세정열(6a∼6c)은 극간(S)의 폭 방향에 있어서의 위치가 서로 중복하지 않는 3종의 세정열로 구성되어 있다. 따라서, 반송 방향(Y)을 따른 방향으로부터 본 경우에, 세정열(6a∼6c) 중의 임의의 일렬에 포함되는 모든 극간(S)은 나머지 2열의 세정열에 포함되는 제 1 세정구(10)와 중복된다. 이와 같이, 본 실시형태의 상측 세정 기구(4)는 3열(3종)의 세정열(6a∼6c)을 구비하지만, 상측 세정 기구(4) 및 하측 세정 기구(5)는 2열(2종) 이상의 세정열을 구비하면 된다.In the three rows of cleaning rows 6a to 6c, the first cleaning ports 10 are offset from each other in the width direction so that the positions in the width direction of the gap S (range of the gap S) do not overlap with each other. It is placed. That is, the three cleaning rows 6a to 6c are composed of three types of washing rows whose positions in the width direction of the gap S do not overlap with each other. Therefore, when viewed from the direction along the conveyance direction Y, all gaps S included in any row among the cleaning rows 6a to 6c are the first cleaning tools 10 included in the remaining two rows of washing rows. overlaps with In this way, the upper cleaning mechanism 4 of the present embodiment has three rows (three types) of cleaning rows 6a to 6c, but the upper cleaning mechanism 4 and the lower cleaning mechanism 5 have two rows (2). It is sufficient to have a cleaning heat of at least one species.

본 실시형태와 같이 3열(3종)의 세정열을 구비하면, 유리판(G)의 상면(Ga)에 있어서, 3열의 세정열(6a∼6c) 중의 임의의 1열의 극간(S)을 통과하는 영역은 나머지 2열의 세정열에 포함되는 제 1 세정구(10)와 2회에 걸쳐서 반드시 접촉하기 때문에, 세정 시간을 충분하게 확보할 수 있다. 또한, 3열의 세정열(6a∼6c) 중의 어느 1열의 세정열(또는 어느 1열에 포함되는 제 1 세정구(10))이 고장 등에 의해 사용할 수 없더라도, 나머지 2열의 세정열로 유리판(G)의 상면(Ga)의 전폭을 극간없이 세정할 수 있다. 따라서, 폭 방향에 있어서의 유리판(G)의 세정 불균일을 확실하게 저감하는 것이 가능해진다. 따라서, 상측 세정 기구(4) 및 하측 세정 기구(5)는 3열(3종) 이상의 세정열을 구비하는 것이 바람직하다.When three rows (three types) of cleaning rows are provided as in the present embodiment, on the upper surface Ga of the glass plate G, the water passes through the gap S of any one row among the three rows of washing rows 6a to 6c. Since the area to be cleaned always comes into contact with the first cleaning tool 10 included in the remaining two cleaning rows twice, sufficient cleaning time can be secured. In addition, even if any one of the three rows of washing rows 6a to 6c (or the first washing port 10 included in one row) cannot be used due to a malfunction, the glass plate G can be cleaned using the remaining two rows of washing rows. The entire width of the upper surface (Ga) can be cleaned without gaps. Therefore, it becomes possible to reliably reduce the cleaning unevenness of the glass plate G in the width direction. Therefore, it is preferable that the upper cleaning mechanism 4 and the lower cleaning mechanism 5 have three or more cleaning rows (three types).

또한, 본 실시형태에서는 유리판(G)과 제 1 세정구(10)의 총접촉 시간이 폭 방향으로 불규칙하게 되는 것을 억제하기 위해서, 3열(3종)의 세정열(6a∼6c)의 각각의 극간(S)이 폭 방향으로 일정한 간격 ΔL을 두고 등간격으로 위치하고 있다. 이것에 의해, 폭 방향에 있어서의 유리판(G)의 세정 얼룩을 보다 확실하게 저감할 수 있다. 또한, 3열(3종)의 세정열(6a∼6c)의 각각의 극간(S)은 폭 방향에 부등간격으로 위치해도 된다.In addition, in this embodiment, in order to suppress the total contact time between the glass plate G and the first cleaning tool 10 from becoming irregular in the width direction, each of the three rows (3 types) of cleaning rows 6a to 6c The poles S are located at equal intervals in the width direction at a constant distance ΔL. Thereby, cleaning unevenness of the glass plate G in the width direction can be reduced more reliably. Additionally, the gaps S between each of the three rows (three types) of cleaning rows 6a to 6c may be positioned at unequal intervals in the width direction.

제 1 세정구(10)의 직경은 예를 들면, 50∼200mm인 것이 바람직하고, 극간(S)의 폭은 예를 들면 2∼10mm인 것이 바람직하다. 극간(S)의 상호 간의 간격(ΔL)은 제 1 세정구(10)의 직경이나 세정열의 종류에 따라 적당하게 설정할 수 있다.The diameter of the first cleaning port 10 is preferably, for example, 50 to 200 mm, and the width of the gap S is preferably, for example, 2 to 10 mm. The distance ΔL between the gaps S can be appropriately set depending on the diameter of the first cleaning port 10 or the type of cleaning heat.

도 3에 나타내는 바와 같이, 상측 세정 기구(4)는 3열의 세정열(6a∼6c)의 각 제 1 세정구(10)에, 하우징(7)에 저류된 세정액(C)을 공급하기 위한 구성을 구비하고 있다. 본 실시형태에서는 3열의 세정열(6a∼6c)의 각 제 1 세정구(10)에 대하여, 하나의 하우징(7)으로부터 세정액(C)을 공급하도록 되어 있다(도 1을 참조). 또한, 예를 들면 3열의 세정열(6a∼6c)마다 전용의 하우징을 설치하는 등하여 복수의 하우징으로부터 세정액(C)을 공급하도록 하여도 된다.As shown in Fig. 3, the upper cleaning mechanism 4 is configured to supply the cleaning liquid C stored in the housing 7 to each of the first cleaning ports 10 in the three cleaning rows 6a to 6c. It is equipped with In this embodiment, the cleaning liquid C is supplied from one housing 7 to each of the first cleaning ports 10 in the three cleaning rows 6a to 6c (see Fig. 1). Additionally, the cleaning liquid C may be supplied from a plurality of housings, for example by providing a dedicated housing for each of the three cleaning rows 6a to 6c.

상측 세정 기구(4)는 유리판(G)의 상면(Ga)의 경사를 따라 하우징(7)이 경사하고 있다. 이 하우징(7)의 경사에 의해, 각 세정열(6a∼6c)의 각 제 1 세정구(10)가 유리판(G)의 상면(Ga)을 따라 경사하고 있다. 유리판(G)의 상면(Ga)의 수평면 에 대한 경사 각도(θ)는 예를 들면, 2∼10°인 것이 바람직하다.In the upper cleaning mechanism 4, the housing 7 is inclined along the slope of the upper surface Ga of the glass plate G. Due to the inclination of this housing 7, each first cleaning port 10 of each cleaning row 6a to 6c is inclined along the upper surface Ga of the glass plate G. The inclination angle θ of the upper surface Ga of the glass plate G with respect to the horizontal plane is preferably, for example, 2 to 10 degrees.

상측 세정 기구(4)는 각 제 1 세정구(10)에 대응하는 위치에 있어서, 하우징(7)에 고정된 통형상의 스핀들 케이스(12)와, 스핀들 케이스(12)의 내측에 회전 가능하게 유지된 스핀들(13)을 구비하고 있다. 제 1 세정구(10)는 하우징(7) 및 스핀들 케이스(12)의 외측에 스핀들(13)의 하단부에 장착되어 있다.The upper cleaning mechanism 4 is located at a position corresponding to each first cleaning tool 10, and is rotatably positioned inside the cylindrical spindle case 12 fixed to the housing 7 and the spindle case 12. It is provided with a maintained spindle (13). The first cleaning tool 10 is mounted on the lower end of the spindle 13 outside the housing 7 and the spindle case 12.

스핀들 케이스(12)의 하단부에는 통형상의 미끄럼 베어링(부싱(bushing))(14)이 압입 고정되어 있고, 스핀들 케이스(12)의 상단부에는 통형상의 미끄럼 베어링(부싱)(15)이 압입 고정되어 있다. 스핀들(13)의 외주면은 미끄럼 베어링(14, 15)의 베어링면(내주면)에 의해 회전 가능하게 유지되어 있다. 미끄럼 베어링(14, 15)은 예를 들면, 금속제이어도 되지만, 본 실시형태에서는 수지제(예를 들면, 엔지니어링 플라스틱제)이다.A cylindrical sliding bearing (bushing) 14 is press-fitted into the lower part of the spindle case 12, and a cylindrical sliding bearing (bushing) 15 is press-fitted into the upper part of the spindle case 12. It is done. The outer peripheral surface of the spindle 13 is rotatably maintained by the bearing surfaces (inner peripheral surfaces) of the sliding bearings 14 and 15. The sliding bearings 14 and 15 may be made of metal, for example, but in this embodiment, they are made of resin (for example, engineering plastic).

제 1 세정구(10)는 스핀들(13)에 대하여 스페이서(16)를 통해서 부착되어 있다. 제 1 세정구(10) 및 스페이서(16)는 스핀들(13)에 대하여 착탈 가능하다.The first cleaning tool 10 is attached to the spindle 13 through a spacer 16. The first cleaning port 10 and the spacer 16 are removable from the spindle 13.

제 1 세정구(10)는 유리판(G)의 상면(Ga)에 접촉한 상태에서 상면(Ga)을 문질러서 세정하는 제 1 세정 부재(10a)와, 제 1 세정 부재(10a)가 부착된 지지부(10b)를 구비하고 있다. 제 1 세정 부재(10a)는 유리판(G)의 두께 방향으로 연장되는 회전축(여기에서는 스핀들(13)의 회전축과 동일하다)을 중심으로 해서 회전하는 디스크 형상 부재이다.The first cleaning tool 10 includes a first cleaning member 10a that is cleaned by rubbing the upper surface Ga while in contact with the upper surface Ga of the glass plate G, and a support portion to which the first cleaning member 10a is attached. (10b) is provided. The first cleaning member 10a is a disk-shaped member that rotates around a rotation axis extending in the thickness direction of the glass plate G (here, it is the same as the rotation axis of the spindle 13).

여기서, 제 1 세정 부재(10a)는 제 2 세정구(11)에 구비된 제 2 세정 부재(11a)와 유리판(G)을 두께 방향으로 끼워서 쌍이 되고 있다. 이 제 2 세정 부재(11a)는 유리판(G)의 하면(Gb)을 문질러서 세정함과 아울러, 제 1 세정 부재(10a)와 같은 디스크 형상 부재이다.Here, the first cleaning member 10a is paired with the second cleaning member 11a provided in the second cleaning tool 11 by sandwiching the glass plate G in the thickness direction. This second cleaning member 11a scrubs and cleans the lower surface Gb of the glass plate G, and is a disk-shaped member similar to the first cleaning member 10a.

양 세정 부재(10a, 11a)는 유리판(G)의 비세정 시(유리판(G)의 공급 전)에는 양자가 서로 접촉하도록 위치하고 있다. 즉, 유리판(G)의 세정 시(유리판(G)의 공급 시)에는 양 세정 부재(10a, 11a)를 밀어 나아가도록 하여 양 세정 부재(10a, 11a)의 상호 간에 유리판(G)이 진입해 간다. 또한, 본 실시형태와는 달리, 유리판(G)의 비세정 시에, 양 세정 부재(10a, 11a)의 상호 간에 극간이 형성되도록 양 세정 부재(10a, 11a)를 위치시켜도 된다.Both cleaning members 10a and 11a are positioned so that they contact each other during non-cleaning of the glass plate G (before supply of the glass plate G). That is, when cleaning the glass plate G (when supplying the glass plate G), both cleaning members 10a and 11a are pushed forward so that the glass plate G enters between the two cleaning members 10a and 11a. Goes. In addition, unlike this embodiment, at the time of non-cleaning of the glass plate G, both cleaning members 10a and 11a may be positioned so that a gap is formed between the two cleaning members 10a and 11a.

제 1 세정 부재(10a)의 경도는 제 2 세정 부재(11a)의 경도보다도 높게 되고 있다. 또한, 본 실시형태와는 달리, 유리판(G)의 상면(Ga)이 아니라 하면(Gb)이 보증면인 경우에는, 유리판(G)의 하면(Gb)측에 경도가 높은 제 1 세정 부재(10a)를 배치하고, 상면(Ga)측에 경도가 낮은 제 2 세정 부재(11a)를 배치하는 것이 바람직하다.The hardness of the first cleaning member 10a is higher than that of the second cleaning member 11a. In addition, unlike this embodiment, when the lower surface Gb rather than the upper surface Ga of the glass plate G is the protective surface, a first cleaning member with high hardness is placed on the lower surface Gb side of the glass plate G ( 10a), it is desirable to arrange the second cleaning member 11a with low hardness on the upper surface Ga side.

제 1 세정 부재(10a)는 부직포로 구성되어 있고, 그 경도는 아스커 A 경도로 10∼90의 범위 내로 되어 있다. 여기서, 부직포로서는 예를 들면, 니들 펀치법에 의해 섬유를 서로 얽히게 한 부직포를 사용할 수 있다. 부직포의 섬유에는 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌텔레프탈레이트, 폴리에스테르 엘라스토머 등의 폴리에스테르계, 나일론 6이나 나일론 66, 폴리아미드 엘라스토머 등의 폴리아미드계, 폴리우레탄계, 폴리올레핀계, 아크릴니트릴계, 레이온 등의 셀룰로오스계의 섬유를 사용할 수 있다.The first cleaning member 10a is made of non-woven fabric, and its hardness is within the range of 10 to 90 on Asker A hardness. Here, as the nonwoven fabric, for example, a nonwoven fabric in which fibers are entangled by a needle punch method can be used. Nonwoven fibers include, for example, polyester-based such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyester elastomer, polyamide-based such as nylon 6, nylon 66, and polyamide elastomer, polyurethane-based, polyolefin-based, and acrylonitrile. Cellulose-based fibers such as rayon and rayon can be used.

제 2 세정 부재(11a)는 스펀지로 구성되어 있고, 그 경도는 아스커 C 경도로 8∼100의 범위 내로 되어 있다. 여기서, 스펀지로서는 예를 들면, 폴리비닐알콜(PVA)이나 폴리우레탄, 불소 고무, 니트릴 고무, 클로로프렌 고무, 에틸렌 고무, 실리콘 고무 등으로 이루어지는 스펀지를 사용할 수 있다.The second cleaning member 11a is made of a sponge, and its hardness is within the range of 8 to 100 on Asker C hardness. Here, as the sponge, for example, a sponge made of polyvinyl alcohol (PVA), polyurethane, fluororubber, nitrile rubber, chloroprene rubber, ethylene rubber, silicone rubber, etc. can be used.

여기서, 본 실시형태에서는 제 1 세정 부재(10a) 및 제 2 세정 부재(11a)로서 디스크 형상 부재를 사용하고 있지만, 이 대신에 롤러 형상 부재를 사용해도 된다. 또한, 제 1 세정 부재(10a)는 제 2 세정 부재(11a)보다도 경도가 높은 브러시로 구성되어 있어도 된다. 또한, 제 2 세정 부재(11a)는 제 1 세정 부재(10a)보다도 경도가 낮은 브러시로 구성되어 있어도 된다. 또한, 「브러시의 경도」란 브러시에 구비된 모의 경도를 의미한다.Here, in this embodiment, a disk-shaped member is used as the first cleaning member 10a and the second cleaning member 11a, but a roller-shaped member may be used instead. Additionally, the first cleaning member 10a may be comprised of a brush whose hardness is higher than that of the second cleaning member 11a. Additionally, the second cleaning member 11a may be comprised of a brush whose hardness is lower than that of the first cleaning member 10a. Additionally, “hardness of the brush” refers to the hardness of the bristles provided on the brush.

유리판(G)에 대한 제 1 세정 부재(10a)의 접촉압은 유리판(G)에 대한 상측 롤러(2a, 3a)의 접촉압보다도 작게 설정되는 것이 바람직하다. 이것에 의해 유리판(G)의 반송 방향(Y)에 있어서의 직진 안정성이 향상한다. 또한, 유리판(G)에 대한 제 1 세정 부재(10a)의 접촉압은 예를 들면, 유리판(G)에 대하여 상측 세정 기구(4)의 위치를 조정하는 것, 스페이서(16)의 두께를 변경하는 것(스페이서(16)를 부착하지 않는 경우도 포함한다) 등에 의해 조정할 수 있다.The contact pressure of the first cleaning member 10a with respect to the glass plate G is preferably set to be smaller than the contact pressure of the upper rollers 2a and 3a with respect to the glass plate G. Thereby, the straight-line stability of the glass plate G in the conveyance direction Y improves. In addition, the contact pressure of the first cleaning member 10a with respect to the glass plate G can be adjusted, for example, by adjusting the position of the upper cleaning mechanism 4 with respect to the glass plate G and changing the thickness of the spacer 16. It can be adjusted by (including the case of not attaching the spacer 16), etc.

하우징(7)에는 하우징(7)의 내부 공간에 외부로부터 세정액(C)을 공급하기 위한 공급로(R1)가 형성되어 있다. 이것에 의해, 하우징(7)의 외부에 배치된 탱크(도면에 나타내지 않는다)에 저장된 세정액(C)이 화살표(a)로 나타내는 바와 같이 공급로(R1)를 통해서 하우징(7)의 내부 공간에 펌프(도면에 나타내지 않는다) 등에 의해 압송되도록 되어 있다. 이 세정액(C)의 압송에 의해, 하우징(7)의 내부 공간에 공급된 세정액(C)의 압력이 높은 상태로 유지된다. 또한, 공급로(R1)는 하우징(7)에 하나 또는 복수 형성되어 있다.The housing 7 is formed with a supply path R1 for supplying the cleaning liquid C from the outside to the internal space of the housing 7. As a result, the cleaning liquid C stored in a tank (not shown in the drawing) disposed outside the housing 7 flows into the internal space of the housing 7 through the supply path R1, as indicated by the arrow a. It is designed to be pressure-fed by a pump (not shown in the drawing), etc. By pressurizing the cleaning liquid C, the pressure of the cleaning liquid C supplied to the inner space of the housing 7 is maintained in a high state. Additionally, one or more supply passages R1 are formed in the housing 7.

스핀들 케이스(12)에는 하우징(7)의 내부 공간과 스핀들 케이스(12)의 내부 공간을 연통하는 연통로(R2)가 형성되어 있다. 이것에 의해, 하우징(7)의 내부 공간의 세정액(C)이 화살표(b)로 나타내는 바와 같이 연통로(R2)를 통해서 스핀들 케이스(12)의 내부 공간에 공급되도록 되어 있다.The spindle case 12 is formed with a communication passage R2 that communicates the inner space of the housing 7 with the inner space of the spindle case 12. As a result, the cleaning liquid C in the inner space of the housing 7 is supplied to the inner space of the spindle case 12 through the communication path R2, as indicated by the arrow b.

스핀들(13) 및 스페이서(16)에는 스핀들 케이스(12)의 내부 공간과 제 1 세정구(10)를 연통하는 연통로(R3)가 형성되어 있다. 이것에 의해, 스핀들 케이스(12)의 내부 공간의 세정액(C)이 화살표(c)로 나타내는 바와 같이, 연통로(R3)를 통해서 제 1 세정구(10)에 공급되도록 되어 있다. 또한, 연통로(R3)는 스핀들(13)에 형성된 관통 구멍과, 스페이서(16)에 형성된 관통 구멍으로 구성되어 있다.The spindle 13 and the spacer 16 are formed with a communication path R3 that communicates the internal space of the spindle case 12 and the first cleaning port 10. As a result, the cleaning liquid C in the internal space of the spindle case 12 is supplied to the first cleaning port 10 through the communication path R3, as indicated by the arrow c. Additionally, the communication path R3 is composed of a through hole formed in the spindle 13 and a through hole formed in the spacer 16.

제 1 세정구(10)에는 연통로(R3)에 연통하는 관통 구멍(R4)이 형성되어 있다. 이것에 의해, 연통로(R3)에 의해 공급된 세정액(C)이 화살표(d)로 나타내는 바와 같이, 관통 구멍(R4)을 통해서 유리판(G)에 공급되도록 되어 있다. 관통 구멍(R4)은 제 1 세정구(10)가 세정액(C)을 투과 가능한 재질(예를 들면 다공질체 등)로 형성되는 경우에는 생략해도 된다.The first cleaning port 10 is formed with a through hole R4 communicating with the communication path R3. As a result, the cleaning liquid C supplied through the communication path R3 is supplied to the glass plate G through the through hole R4, as indicated by the arrow d. The through hole R4 may be omitted if the first cleaning hole 10 is made of a material that allows the cleaning liquid C to pass through (for example, a porous material, etc.).

이렇게 하면, 공급로(R1), 연통로(R2), 연통로(R3) 및 관통 구멍(R4)에 의해, 세정액(C)이 하우징(7)의 내부 공간→스핀들 케이스(12)의 내부 공간→제 1 세정구(10)→유리판(G)의 순서로 공급된다. 따라서, 하우징(7)의 내부 공간에 공급된 세정액(C)이 연통로(R2)와 연통로(R3)를 통해서 각 제 1 세정구(10)에 직접 공급되기 때문에, 세정액 공급용의 복잡한 배관이 필요 없어짐과 아울러, 세정액(C)의 낭비도 적어진다.In this way, the cleaning liquid C is transferred from the inner space of the housing 7 to the inner space of the spindle case 12 through the supply path R1, communication path R2, communication path R3, and through hole R4. It is supplied in the following order: → first cleaning port (10) → glass plate (G). Therefore, since the cleaning liquid (C) supplied to the internal space of the housing (7) is directly supplied to each first cleaning port (10) through the communication path (R2) and the communication path (R3), complicated piping for supplying the cleaning fluid is required. In addition to eliminating the need for this, waste of the cleaning liquid C also decreases.

또한, 스핀들 케이스(12) 및 스핀들(13)의 대부분은 하우징(7)의 내부 공간에 저류된 세정액(C)에 침지된 상태가 되기 때문에, 스핀들 케이스(12) 및 스핀들(13)이 세정액(C)에 의해 냉각된다고 하는 효과도 기대할 수 있다. 따라서, 스핀들(13)을 회전시켜서 유리판(G)을 세정하고 있는 사이도, 스핀들 케이스(12) 및 스핀들(13)의 열팽창을 저감하고, 스핀들(13)의 회전 동작을 양호하게 유지할 수 있다고 생각된다. 또한, 본 실시형태에서는 각 세정열(6a∼6c)의 각 제 1 세정구(10)에 대응하는, 복수의 스핀들 케이스(12) 및 복수의 스핀들(13)이 하나의 하우징(7) 내의 세정액(C)에 침지되어 있다.In addition, since most of the spindle case 12 and the spindle 13 are immersed in the cleaning liquid C stored in the internal space of the housing 7, the spindle case 12 and the spindle 13 are immersed in the cleaning liquid (C). A cooling effect can also be expected due to C). Therefore, it is thought that even while the spindle 13 is rotated and the glass plate G is cleaned, the thermal expansion of the spindle case 12 and the spindle 13 can be reduced and the rotational motion of the spindle 13 can be maintained satisfactorily. do. Additionally, in this embodiment, a plurality of spindle cases 12 and a plurality of spindles 13 corresponding to each first cleaning port 10 in each cleaning row 6a to 6c are provided with the cleaning liquid in one housing 7. It is immersed in (C).

여기서, 본 실시형태에서는 하우징(7)의 경사에 의해, 하우징(7) 내에 있어서 각 세정열(6a∼6c)에 포함되는 각 제 1 세정구(10)에 대응하는 위치에서 고저차가 생기고 있다. 이 때문에, 이 고저차에 의한 압력차에 의해, 각 세정열(6a∼6c)에 포함되는 각 제 1 세정구(10)에 공급되는 세정액(C)의 양에 불균일이 발생하는 경우가 있다. 따라서, 도시는 생략하지만, 고저차에 의한 세정액(C)의 공급량의 불균일을 저감하는 관점으로부터는 각 세정열(6a∼6c)에 있어서, 저위(低位)에 위치하는 연통로(R3)가 고위(高位)에 위치하는 연통로(R3)보다도 개구 면적이 작은 부분을 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면 저위에 위치하는 스페이서(16)의 관통 구멍의 개구 면적을 고위에 위치하는 스페이서(16)의 관통 구멍의 개구 면적보다도 작게 하거나, 저위에 위치하는 스핀들(13)의 관통 구멍의 개구 면적을 고위에 위치하는 스핀들(13)의 관통 구멍의 개구 면적보다도 작게 하는 것이 바람직하다. 또는 스핀들(13)의 관통 구멍의 일부에 오리피스를 설치하고, 개구 면적을 변화시켜도 된다.Here, in the present embodiment, due to the inclination of the housing 7, a height difference occurs at a position corresponding to each first cleaning port 10 included in each cleaning row 6a to 6c within the housing 7. For this reason, the pressure difference due to the elevation difference may cause unevenness in the amount of the cleaning liquid C supplied to each first cleaning port 10 included in each cleaning row 6a to 6c. Therefore, although not shown, from the viewpoint of reducing unevenness in the supply amount of the cleaning liquid C due to differences in elevation, the communication path R3 located at a low level in each cleaning row 6a to 6c is positioned at a high level ( It is preferable to have a portion with a smaller opening area than the communication path R3 located at a higher position. Specifically, for example, the opening area of the through hole of the spacer 16 located at the low level is made smaller than the opening area of the through hole of the spacer 16 located at the high level, or the through hole of the spindle 13 located at the low level is made smaller. It is desirable to make the opening area smaller than the opening area of the through hole of the spindle 13 located at a high level. Alternatively, an orifice may be provided in a part of the through hole of the spindle 13 and the opening area may be changed.

상측 세정 기구(4)는 세정열(6a∼6c)마다, 스핀들(13)을 회전 구동하는 회전 구동 기구(17)를 구비하고 있다. 회전 구동 기구(17)는 하우징(7) 및 스핀들 케이스(12)의 외측에 스핀들(13)의 상단부에 회전 구동력을 부여하도록 되어 있다.The upper cleaning mechanism 4 is provided with a rotation drive mechanism 17 for rotating the spindle 13 in each of the cleaning rows 6a to 6c. The rotation drive mechanism 17 is designed to apply a rotation drive force to the upper end of the spindle 13 outside the housing 7 and the spindle case 12.

회전 구동 기구(17)는 기어 기구(18)과, 구동부(19)를 구비하고 있다. 기어 기구(18)는 각 스핀들(13)의 상단부에 부착된 복수의 기어(18a)를 구비하고, X방향에 인접하는 기어(18a)끼리가 맞물리고 있다. 구동부(19)는 모터(19a)와, 모터(19a)에 부착된 기어(19b)를 구비하고, 기어(19b)가 기어 기구(18)의 X방향의 일단측에서 기어(18a)와 맞물리고 있다. 따라서, 모터(19a)의 구동에 의해 기어(19b)를 회전시키면, 그 동력이 기어 기구(18)에 전달되어 각 스핀들(13)이 회전하도록 되어 있다.The rotation drive mechanism 17 includes a gear mechanism 18 and a drive unit 19. The gear mechanism 18 includes a plurality of gears 18a attached to the upper end of each spindle 13, and the gears 18a adjacent to the X direction are meshed with each other. The drive unit 19 includes a motor 19a and a gear 19b attached to the motor 19a, and the gear 19b meshes with the gear 18a at one end of the gear mechanism 18 in the X direction. there is. Therefore, when the gear 19b is rotated by driving the motor 19a, the power is transmitted to the gear mechanism 18 and each spindle 13 rotates.

기어(18a, 19b)는, 예를 들면 금속제(예를 들면, 스테인레스제)이어도 되지만, 본 실시형태에서는 수지제(예를 들면, 엔지니어링 플라스틱제)이다. 또한, 기어(18a, 19b)에는 금속제의 것과 수지제의 것을 조합시켜서 사용해도 된다.The gears 18a and 19b may be made of metal (for example, stainless steel), but in this embodiment, they are made of resin (for example, engineering plastic). Additionally, a combination of metal and resin gears may be used for the gears 18a and 19b.

또한, 각 세정열(6a∼6c)에 있어서, X방향에 인접하는 기어(18a)끼리가 직접 맞물려있다. 그 때문에 X방향에 인접하는 스핀들(13) 및 제 1 세정구(10)는 서로 반대 방향으로 회전하도록 되어 있지만(도 2를 참조), 기어를 증가시키는 등 하여 서로 같은 방향으로 회전하도록 해도 된다. 또한, 동력 전달부는 기어 기구(18)에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 벨트 등의 다른 수단이어도 된다. 또한, 각 스핀들(13)에 대하여 개별적으로 구동부를 부착해도 된다.Additionally, in each cleaning row 6a to 6c, gears 18a adjacent to each other in the X direction are directly meshed with each other. Therefore, the spindle 13 and the first cleaning tool 10 adjacent to the In addition, the power transmission part is not limited to the gear mechanism 18, and may be other means such as a belt, for example. Additionally, a drive unit may be attached individually to each spindle 13.

도 4 및 도 5에 나타내는 바와 같이, 미끄럼 베어링(14)의 베어링면과 스핀들(13)의 하단부의 외주면 사이 및 미끄럼 베어링(15)의 베어링면과 스핀들(13)의 상단부의 외주면 사이에는 각각 액층(C1, C2)이 형성되어 있다. 액층(C1, C2)은 스핀들 케이스(12)의 내부 공간에 공급된 세정액(C)이 액층(C1, C2)에 대응하는 부분으로부터 스며나옴으로써 형성된다. 따라서, 액층(C1, C2)은 세정액(C)에서 유래하는 윤활 기능을 갖기 때문에, 미끄럼 베어링(14, 15) 및/또는 스핀들(13)의 마모를 방지할 수 있다.4 and 5, a liquid layer is formed between the bearing surface of the sliding bearing 14 and the outer peripheral surface of the lower end of the spindle 13, and between the bearing surface of the sliding bearing 15 and the outer peripheral surface of the upper end of the spindle 13, respectively. (C1, C2) are formed. The liquid layers C1 and C2 are formed when the cleaning liquid C supplied to the internal space of the spindle case 12 oozes out from the portion corresponding to the liquid layers C1 and C2. Accordingly, since the liquid layers C1 and C2 have a lubricating function derived from the cleaning liquid C, wear of the sliding bearings 14 and 15 and/or the spindle 13 can be prevented.

액층(C1, C2)을 형성하는 세정액(C)의 스며나옴은 하우징(7)의 내부 공간의 세정액(C)의 압력을 높임으로써 발생되기 쉬워진다. 하우징(7)의 내부 공간의 세정액(C)의 압력은 예를 들면, 하우징(7)의 내부 공간으로의 세정액(C)의 단위 시간당의 공급량을 변경함으로써 조정할 수 있다.Seepage of the cleaning liquid C forming the liquid layers C1 and C2 becomes more likely to occur by increasing the pressure of the cleaning liquid C in the internal space of the housing 7. The pressure of the cleaning liquid C in the internal space of the housing 7 can be adjusted, for example, by changing the amount of cleaning liquid C supplied per unit time to the internal space of the housing 7.

도 1에 나타내는 바와 같이, 세정 장치(1)는 건조 에리어(D)에 있어서, 에어 나이프(20a, 20b)와 반송 롤러(21)를 구비하고 있다. 에어 나이프(20a)는 반송 롤러(21)보다도 상방에 배치되고, 에어 나이프(20b)는 반송 롤러(21)보다도 하방에 배치된다.As shown in Fig. 1, the cleaning device 1 is provided with air knives 20a and 20b and a conveyance roller 21 in the drying area D. The air knife 20a is disposed above the conveyance roller 21, and the air knife 20b is disposed below the conveyance roller 21.

건조 에리어(D)에서는 반송 롤러(21)에 의해 유리판(G)을 반송하면서, 에어 나이프(20a, 20b)로부터 고압의 기체를 유리판(G)의 상면(Ga) 및 하면(Gb)에 분사함으로써 이들의 양면(Ga, Gb)에 부착되어 있는 수분을 제거한다. 또한, 건조 에리어(D)에서는 에어 나이프(20a, 20b)이외의 다른 공지의 건조 수단에 의해 유리판(G)을 건조시켜도 된다. 또한, 건조 에리어(D)는 생략해도 된다.In the drying area D, while conveying the glass plate G by the conveyance roller 21, high-pressure gas is sprayed from the air knives 20a and 20b on the upper surface Ga and the lower surface Gb of the glass plate G. Moisture attached to both surfaces (Ga, Gb) is removed. In addition, in the drying area D, the glass plate G may be dried using a known drying means other than the air knives 20a and 20b. Additionally, the drying area D may be omitted.

다음에 본 실시형태에 따른 유리판의 제조 방법을 설명한다. 본 제조 방법은 상술의 세정 장치(1)를 사용한 세정 공정을 포함한다.Next, the manufacturing method of the glass plate according to this embodiment will be described. This manufacturing method includes a cleaning process using the cleaning device 1 described above.

상세하게는 유리판의 제조 방법은 예를 들면, 성형 공정과, 서랭 공정과, 채판(採板) 공정과, 절단 공정과, 세정 공정(건조 공정을 포함한다)과, 검사 공정과, 곤포(梱包) 공정을 구비하고 있다. 또한, 채판 공정 후에 열처리 공정을 구비해도 된다. 또한 절단 공정 후에 끝면 가공 공정을 구비해도 된다.In detail, the manufacturing method of the glass plate includes, for example, a molding process, an annealing process, a cutting process, a cutting process, a washing process (including a drying process), an inspection process, and a packing process. ) process is in place. Additionally, a heat treatment process may be provided after the cutting process. Additionally, an end surface processing process may be provided after the cutting process.

성형 공정에서는 오버플로우 다운 드로우법이나 플로트법 등의 공지의 성형 방법에 의해, 용융 유리로부터 유리 리본을 성형한다.In the forming process, a glass ribbon is formed from molten glass using a known forming method such as the overflow down draw method or the float method.

서랭 공정에서는 성형된 유리 리본의 휘어짐 및 내부 변형을 저감하기 위해서, 성형된 유리 리본을 서랭한다.In the slow cooling process, the formed glass ribbon is slowly cooled in order to reduce bending and internal strain of the formed glass ribbon.

채판 공정에서는 서랭된 유리 리본을 소정의 길이마다로 절단하고, 복수매의 원 유리판을 얻는다.In the cutting process, the annealed glass ribbon is cut at predetermined lengths to obtain a plurality of original glass plates.

열처리 공정에서는 예를 들면, 열처리로에 있어서, 원 유리판에 대하여 열처리를 행한다.In the heat treatment process, for example, heat treatment is performed on the original glass plate in a heat treatment furnace.

절단 공정에서는 원 유리판을 소정 사이즈로 절단하고, 1매 또는 복수매의 유리판(G)을 얻는다. 원 유리판의 절단 방법으로서는 예를 들면, 절단 예정선을 따라 형성된 스크라이브선을 굽힘 응력에 의해 두께 방향으로 진전시키는 굽힘 응력 할단이나, 절단 예정선의 일부에 형성된 초기 크랙을 레이저 조사와 급랭에 의해 발생한 열응력으로 절단 예정선을 따라 진전시키는 레이저 할단이나, 레이저 조사에 의해 유리를 용융시키면서 절단 예정선을 따라 절단하는 레이저 용단 등을 이용할 수 있다. 또한, 유리판(G)은 직사각형 형상인 것이 바람직하다. 유리판(G)의 한변의 크기는 1000mm∼3000mm인 것이 바람직하고, 판두께는 0.05mm∼10mm인 것이 바람직하고, 0.2mm∼0.7mm인 것이 보다 바람직하다.In the cutting process, the original glass plate is cut into predetermined sizes to obtain one or multiple glass plates G. Methods for cutting an original glass plate include, for example, bending stress cutting in which a scribe line formed along a line to be cut is advanced in the thickness direction by bending stress, or heat generated by laser irradiation and quenching of an initial crack formed in a part of the line to be cut. Laser cutting, in which the glass is advanced along the intended cutting line by stress, or laser melting, in which the glass is cut along the intended cutting line while melting the glass by laser irradiation, can be used. Moreover, it is preferable that the glass plate G has a rectangular shape. The size of one side of the glass plate G is preferably 1000 mm to 3000 mm, and the plate thickness is preferably 0.05 mm to 10 mm, and more preferably 0.2 mm to 0.7 mm.

끝면 가공 공정에서는 유리판(G)에 대하여 끝면의 연삭·연마 가공 및 코너컷을 포함하는 끝면 가공을 행한다.In the end surface processing process, end surface processing including grinding/polishing processing and corner cutting is performed on the glass plate G.

세정 공정에서는 상술의 세정 장치(1)를 사용하고, 유리판(G)을 경사 자세로 반송하면서 세정한 후에 건조시킨다.In the cleaning process, the above-described cleaning device 1 is used, and the glass plate G is washed while conveyed in an inclined position and then dried.

검사 공정에서는 세정된 유리판(G)에 대하여 표면에 스크래치, 먼지, 오염 등이 없는지 및/또는 기포, 이물 등의 내부 결함이 없는지를 검사한다. 검사는 카메라 등의 광학 검사 장치를 이용하여 행한다.In the inspection process, the cleaned glass plate (G) is inspected to see whether there are any scratches, dust, contamination, etc. on the surface and/or whether there are any internal defects such as bubbles or foreign substances. Inspection is performed using an optical inspection device such as a camera.

곤포 공정에서는 검사의 결과, 소망의 품질을 충족하는 유리판(G)을 곤포한다. 곤포는 소정의 팰릿에 대하여, 복수매의 유리판(G)을 가로로 적층하거나, 세로로 적층함으로써 행한다. 이 경우, 유리판(G)의 적층 방향의 상호 간에는 합지나 발포 수지 등으로 이루어지는 보호 시트를 개재시키는 것이 바람직하다.In the packaging process, the glass plate G that meets the desired quality as a result of the inspection is packed. Packing is performed by stacking a plurality of glass plates G horizontally or vertically on a predetermined pallet. In this case, it is preferable to interpose a protective sheet made of laminated paper or foamed resin between the glass plates G in the stacking direction.

이하, 상기의 제조 방법에 의한 주된 작용·효과에 관하여 설명한다.Hereinafter, the main actions and effects of the above production method will be described.

상기의 제조 방법에 있어서는 제 1 세정 부재(10a)와 제 2 세정 부재(11a)의 경도의 차에 의해, 경도가 낮은 제 2 세정 부재(11a)가, 유리판(G)을 끼워서 대향하는 경도가 높은 제 1 세정 부재(10a)에 대하여, 쿠션의 역할을 한다. 이것에 의해, 제 1 세정 부재(10a)와 유리판(G) 및/또는 제 2 세정 부재(11a)와 유리판(G)사이에 이물이 끼인 경우에도, 제 2 세정 부재(11a)의 쿠션성에 의해 유리판(G)의 상하면(Ga, Gb)에 있어서의 스크래치의 발생을 회피할 수 있고, 유리판(G)의 파손도 방지할 수 있다. 또한, 본 방법에서는 제 2 세정 부재(11a)에 대한 제 1 세정 부재(10a)의 경도의 높이에 의해, 양 세정 부재(10a, 11a)를 유리판(G)의 상하면(Ga, Gb)에 대하여 충분하게 압박할 수 있고, 상하면(Ga, Gb)을 바람직하게 문지르는 것이 가능해진다. 따라서, 유리판(G)의 상하면(Ga, Gb)의 오염을 충분하게 제거할 수 있다.In the above manufacturing method, due to the difference in hardness between the first cleaning member 10a and the second cleaning member 11a, the hardness of the lower hardness second cleaning member 11a opposite the glass plate G is For the tall first cleaning member 10a, it serves as a cushion. As a result, even when foreign matter is caught between the first cleaning member 10a and the glass plate G and/or the second cleaning member 11a and the glass plate G, the cushioning properties of the second cleaning member 11a The occurrence of scratches on the upper and lower surfaces Ga and Gb of the glass plate G can be avoided, and damage to the glass plate G can also be prevented. In addition, in this method, both cleaning members 10a and 11a are aligned with the upper and lower surfaces Ga and Gb of the glass plate G depending on the height of the hardness of the first cleaning member 10a with respect to the second cleaning member 11a. Sufficient pressure can be applied, and the upper and lower surfaces (Ga, Gb) can be preferably rubbed. Therefore, contamination on the upper and lower surfaces Ga and Gb of the glass plate G can be sufficiently removed.

여기서, 본 발명은 상기의 실시형태에서 설명한 형태나 구성에 한정되는 것은 아니고, 상기의 작용·효과에 한정되는 것도 아니다. 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위 내에서 여러가지 변경이 가능하다.Here, the present invention is not limited to the form or structure described in the above embodiments, nor is it limited to the above actions and effects. Various changes are possible without departing from the gist of the present invention.

상기의 실시형태에서는 세정액이 저류된 하우징을 이용하여 세정액을 공급하는 경우를 설명했지만, 세정액의 공급 방법은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 샤워 노즐 등을 이용하여 세정액을 세정 부재 및/또는 유리판에 대하여 분사 공급해도 된다.In the above embodiment, the case of supplying the cleaning liquid using the housing in which the cleaning liquid is stored has been described, but the method of supplying the cleaning liquid is not limited to this. For example, the cleaning liquid may be sprayed and supplied to the cleaning member and/or the glass plate using a shower nozzle or the like.

상기의 실시형태에 있어서, 스로틀 롤러를 생략해도 된다. 또한, 스로틀 롤러를, 액체를 흡착하지 않는 상하 롤러쌍으로 이루어지는 반송 롤러로 대신하여도 된다. 이 경우, 반송 롤러는 유리판의 폭 방향의 양 단부만을 끼워서 반송하는 구성, 즉, 유리판의 폭 방향의 중앙부에는 접촉하지 않는 구성으로 해도 된다.In the above embodiment, the throttle roller may be omitted. Additionally, the throttle roller may be replaced with a conveyance roller consisting of a pair of upper and lower rollers that does not adsorb liquid. In this case, the conveyance roller may have a configuration in which only both ends in the width direction of the glass plate are sandwiched and conveyed, that is, a configuration that does not contact the central portion in the width direction of the glass plate.

상기의 실시형태에서는 세정 장치에 있어서, 하나의 세정 에리어를 형성하는 경우를 설명했지만, 복수의 세정 에리어를 형성해도 된다. 이 경우, 각 세정 에리어의 하류측에 건조 에리어를 형성해도 되고, 최하류의 세정 에리어의 하류측에만 건조 에리어를 형성해도 된다.In the above embodiment, the case where one cleaning area is formed in the cleaning device has been described, but a plurality of cleaning areas may be formed. In this case, a drying area may be formed on the downstream side of each washing area, or a drying area may be formed only on the downstream side of the most downstream washing area.

상기의 실시형태의 세정 공정에서는 제 1 세정 부재를 유리판의 상면(표면)에 접촉시킴과 아울러, 제 2 세정 부재를 유리판의 하면(이면)에 접촉시키지만, 이 세정 공정(제 1 세정 공정)에 더해서 제 2 세정 공정을 실시하고, 제 2 세정 공정에서는 제 2 세정 부재를 유리판의 상면(표면)에 접촉시킴과 아울러, 제 1 세정 부재를 유리판의 하면(이면)에 접촉시켜도 된다. 이것에 의해, 표리면에 있어서의 스크래치의 발생을 회피하면서, 표면뿐만 아니라 이면의 품질을 향상시킬 수 있다.In the cleaning process of the above embodiment, the first cleaning member is brought into contact with the upper surface (surface) of the glass plate, and the second cleaning member is brought into contact with the lower surface (back surface) of the glass plate. However, in this cleaning process (first cleaning process) Additionally, a second cleaning step is performed. In the second cleaning step, the second cleaning member may be brought into contact with the upper surface (surface) of the glass plate, and the first cleaning member may be brought into contact with the lower surface (back surface) of the glass plate. As a result, the quality of not only the front and back surfaces can be improved while avoiding scratches on the front and back surfaces.

상기의 실시형태에서는 가로 자세의 유리판을 세정하지만, 세로 자세의 유리판을 세정해도 된다.In the above embodiment, the glass plate in the horizontal position is cleaned, but the glass plate in the vertical position may be cleaned.

1 세정 장치
10a 제 1 세정 부재
11a 제 2 세정 부재
G 유리판
Ga 상면
Gb 저면1 Cleaning device
10a first cleaning member
11a second cleaning member
G glass plate
Ga top surface
Gb bottom

Claims

A method of manufacturing a glass plate including a cleaning step of rubbing and cleaning the front and back surfaces of the glass plate with a first cleaning member in contact with the surface of the glass plate and a second cleaning member in contact with the back side while the glass plate is sandwiched in the thickness direction, comprising:
A method of manufacturing a glass plate, characterized in that the hardness of the first cleaning member is made higher than that of the second cleaning member.

According to claim 1,
A method of manufacturing a glass plate, characterized in that each of the first cleaning member and the second cleaning member uses a disk-shaped member that rotates around a rotation axis extending in the thickness direction of the glass plate.

According to claim 1,
A method of manufacturing a glass plate, characterized in that the first cleaning member is made of non-woven fabric, and the second cleaning member is made of a sponge.

According to claim 2,
A method of manufacturing a glass plate, characterized in that the first cleaning member is made of non-woven fabric, and the second cleaning member is made of a sponge.

The method according to any one of claims 1 to 4,
In addition, the hardness of the first cleaning member is 10 to 90 in Asker A hardness,
A method of manufacturing a glass plate, wherein the second cleaning member has a hardness of 8 to 100 in Asker C hardness.

The method according to any one of claims 1 to 4,
In the cleaning process, the glass plate in a horizontal position with the surface as the upper surface is cleaned,
A method of manufacturing a glass plate, characterized in that the surface is a proof surface.

According to claim 5,
In the cleaning process, the glass plate in a horizontal position with the surface as the upper surface is cleaned,
A method of manufacturing a glass plate, characterized in that the surface is a proof surface.

A glass plate cleaning device comprising a first cleaning member in contact with the surface of a glass plate and a second cleaning member in contact with the rear surface, and cleaning the glass plate by rubbing its front and back surfaces while the glass plate is held between the two cleaning members in the thickness direction, comprising:
A glass plate cleaning device, wherein the hardness of the first cleaning member is higher than that of the second cleaning member.