KR20210020110A - 가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스, 가요성 기판을 운송하기 위한 롤러 디바이스의 사용, 진공 프로세싱 장치, 및 가요성 기판을 프로세싱하는 방법 - Google Patents

가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스, 가요성 기판을 운송하기 위한 롤러 디바이스의 사용, 진공 프로세싱 장치, 및 가요성 기판을 프로세싱하는 방법 Download PDF

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어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
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Abstract

가요성 기판(10)을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스(100)가 설명된다. 롤러 디바이스(100)는 가요성 기판(10)과 접촉하기 위한 지지 표면(110)을 포함하며, 지지 표면(110)은 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅(120)을 갖는다. 추가로, 롤러 디바이스(100)를 포함하는, 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 진공 프로세싱 장치, 및 진공 프로세싱 장치에서 가요성 기판을 프로세싱하는 방법이 설명된다.

Description

가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스, 가요성 기판을 운송하기 위한 롤러 디바이스의 사용, 진공 프로세싱 장치, 및 가요성 기판을 프로세싱하는 방법
[1] 본 개시내용의 실시예들은 가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러들에 관한 것이다. 추가로, 본 개시내용의 실시예들은, 롤-투-롤(roll-to-roll) 프로세스를 사용하여, 가요성 기판을 프로세싱하기 위한, 특히, 얇은 층들로 가요성 기판을 코팅하기 위한 장치들 및 방법들에 관한 것이다. 특히, 본 개시내용의 실시예들은, 예컨대, 박막 솔라 셀 생산, 박막 배터리 생산, 및 가요성 디스플레이 생산을 위해, 층들의 스택(stack)으로 가요성 기판을 코팅하기 위한 장치들 및 방법들에서, 가요성 기판을 운송하기 위해 이용되는 롤러들에 관한 것이다.
[2] 가요성 기판들, 이를테면 플라스틱 막들 또는 포일(foil)들의 프로세싱은 패키징 산업, 반도체 산업들, 및 다른 산업들에서 수요가 많다. 특히, 가요성 기판들의 R2R(roll-to-roll) 프로세싱은 낮은 비용들로 높은 처리량을 발생시키기 때문에 높은 관심을 받고 있다. 특히, 박막 배터리들의 제조, 디스플레이 산업, 및 PV(photovoltaic) 산업에서, 롤-투-롤 증착 시스템들은 높은 관심을 받고 있다. 예컨대, 가요성 터치 패널 엘리먼트들, 가요성 디스플레이들, 및 가요성 PV 모듈들에 대한 수요의 증가는 R2R-코터(coater)들에서 적합한 층들을 증착하기 위한 수요를 증가시킨다.
[3] 프로세싱은, 금속, 반도체, 및 유전체 재료와 같은 재료를 이용한 가요성 기판의 코팅, 에칭, 및 각각의 애플리케이션들을 위해 기판 상에 실시되는 다른 프로세싱 동작들로 구성될 수 있다. 예컨대, 가요성 기판들 상에 얇은 층들을 증착하기 위해, 코팅 프로세스, 이를테면 CVD 프로세스 또는 PVD 프로세스, 특히 스퍼터 프로세스가 활용될 수 있다. 이러한 태스크를 수행하는 시스템들은 일반적으로, 가요성 기판을 운송하기 위한 롤러 조립체를 갖는 프로세싱 시스템에 커플링된 코팅 드럼, 예컨대 원통형 롤러를 포함한다.
[4] 가요성 기판들 상의 고 품질 코팅들을 달성하기 위해, 가요성 기판 운송에 대한 다양한 난제들이 해결되어야 한다. 예컨대, 진공 조건들 하에서 이동하는 가요성 기판을 프로세싱하는 동안, 적절한 기판 장력 뿐만 아니라 양호한 기판-롤러 접촉을 제공하는 것이 난제로 남아 있다.
[5] 따라서, 특히, 개선된 균일성, 개선된 제품 수명, 및 표면적당 더 적은 수의 결함들을 갖는 고 품질 층들 또는 층 스택들로 가요성 기판들을 코팅하기 위해, 롤-투-롤 프로세싱 시스템들에서 가요성 기판 운송을 개선하는 것이 지속적으로 요구된다.
[6] 상기된 바를 고려하여, 독립 청구항들에 따른, 가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스, 가요성 기판을 운송하기 위한 롤러 디바이스의 사용, 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 진공 프로세싱 장치, 및 진공 프로세싱 장치에서 가요성 기판을 프로세싱하는 방법이 제공된다. 추가적인 양상들, 이점들, 및 특징들은 종속 청구항들, 상세한 설명, 및 첨부 도면들로부터 명백하다.
[7] 본 개시내용의 양상에 따르면, 가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스가 제공된다. 롤러 디바이스는 가요성 기판과 접촉하기 위한 지지 표면을 포함한다. 지지 표면은 전기 음성 폴리머(electronegative polymer)를 포함하는 코팅을 갖는다.
[8] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 진공 프로세싱 장치에서 가요성 기판을 운송하기 위한 롤러 디바이스의 사용이 제공된다. 롤러 디바이스는 가요성 기판과 접촉하기 위한 지지 표면을 포함한다. 지지 표면은 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅을 갖는다.
[9] 본 개시내용의 다른 양상에 따르면, 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 진공 프로세싱 장치가 제공된다. 진공 프로세싱 장치는 가요성 기판을 제공하기 위한 저장 스풀(storage spool)을 하우징(house)하는 제1 스풀 챔버를 포함한다. 부가적으로, 진공 프로세싱 장치는 제1 스풀 챔버로부터 하류에 배열된 프로세싱 챔버를 포함한다. 프로세싱 챔버는 적어도 하나의 증착 유닛을 포함하는 복수의 프로세싱 유닛들을 포함한다. 추가로, 프로세싱 챔버는 복수의 프로세싱 유닛들을 지나게 가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스를 포함한다. 롤러 디바이스는 가요성 기판과 접촉하기 위한 지지 표면을 포함한다. 지지 표면은 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅을 갖는다. 부가적으로, 진공 프로세싱 장치는 프로세싱 챔버로부터 하류에 배열된 제2 스풀 챔버를 포함한다. 제2 스풀 챔버는 와인드-업 스풀(wind-up spool)을 하우징하며, 와인드-업 스풀은, 프로세싱 후에, 그 와인드-업 스풀 상에 가요성 기판을 와인딩(wind)한다.
[10] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 진공 프로세싱 장치에서 가요성 기판을 프로세싱하는 방법이 제공된다. 방법은 제1 스풀 챔버에 제공된 저장 스풀로부터 가요성 기판을 언와인딩(unwind)하는 단계를 포함한다. 부가적으로, 방법은, 프로세싱 챔버에 제공된 롤러 디바이스에 의해 가요성 기판을 가이딩하면서, 가요성 기판을 프로세싱하는 단계를 포함한다. 롤러 디바이스는 가요성 기판과 접촉하기 위한 지지 표면을 포함한다. 지지 표면은 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅을 갖는다. 추가로, 방법은, 프로세싱 후에, 제2 스풀 챔버에 제공된 와인드-업 스풀 상에 가요성 기판을 와인딩하는 단계를 포함한다.
[11] 실시예들은 또한, 개시되는 방법들을 수행하기 위한 장치들에 관한 것이고, 그리고 각각의 설명되는 방법 양상을 수행하기 위한 장치 파트들을 포함한다. 이들 방법 양상들은 하드웨어 컴포넌트들에 의해, 적절한 소프트웨어에 의해 프로그래밍된 컴퓨터에 의해, 이들 둘의 임의의 조합에 의해, 또는 임의의 다른 방식으로 수행될 수 있다. 게다가, 본 개시내용에 따른 실시예들은 또한, 설명되는 장치를 동작시키기 위한 방법들에 관한 것이다. 설명되는 장치를 동작시키기 위한 방법들은 장치의 모든 각각의 기능을 수행하기 위한 방법 양상들을 포함한다.
[12] 본 개시내용의 상기 열거된 특징들이 상세히 이해될 수 있는 방식으로, 앞서 간략히 요약된 본 개시내용의 보다 구체적인 설명이 실시예들을 참조로 하여 이루어질 수 있다. 첨부 도면들은 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이고, 아래에서 설명된다.
도 1은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 롤러 디바이스의 개략도를 도시한다.
도 2는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 롤러 디바이스의 개략적인 사시도를 도시한다.
도 3은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 진공 프로세싱 장치의 개략도를 도시한다.
도 4는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 진공 프로세싱 장치의 개략도를 도시한다.
도 5a는 증발 도가니들의 세트를 갖는 진공 프로세싱 장치의 개략적인 측면도를 도시한다.
도 5b는 도 5a의 진공 프로세싱 장치의 개략적인 저면도를 도시한다.
도 6a 및 도 6b는 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 가요성 기판을 프로세싱하는 방법을 예시하기 위한 흐름도들을 도시한다.
[13] 이제, 본 개시내용의 다양한 실시예들이 상세히 참조될 것이고, 그 다양한 실시예들의 하나 이상의 예들이 도면들에 예시된다. 도면들의 아래의 설명 내에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 컴포넌트들을 나타낸다. 개별 실시예들에 대한 차이들만이 설명된다. 각각의 예는 본 개시내용의 설명으로서 제공되고, 본 개시내용의 제한으로서 의도되지 않는다. 추가로, 일 실시예의 부분으로서 예시 또는 설명되는 특징들은 더 추가적인 실시예를 생성하기 위해 다른 실시예들과 함께 또는 다른 실시예들에 대해 사용될 수 있다. 본 설명이 그러한 변형들 및 변화들을 포함하는 것으로 의도된다.
[14] 도 1을 예시적으로 참조하면, 본 개시내용에 따른, 가요성 기판(10)을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스(100)가 설명된다. 본원에서 설명되는 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 롤러 디바이스(100)는 가요성 기판(10)과 접촉하기 위한 지지 표면(110)을 포함한다. 지지 표면(110)은 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅(120)을 갖는다.
[15] 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅을 롤러 디바이스에 제공하는 것은 유익하게, 가요성 기판 운송 동안 롤러 디바이스와 가요성 기판의 개선된 접촉을 제공한다. 따라서, 본원에서 설명되는 바와 같은 롤러 디바이스의 실시예들은, 특히, 롤-투-롤 진공 프로세싱 장치에서, 가요성 기판을 가이딩하기 위해 이용되는 종래의 롤러들에 비해 개선된다. 더 구체적으로, 본원에서 설명되는 바와 같은 롤러 디바이스에 의해, 가요성 기판과 롤러 디바이스 사이의 실질적으로 일정하고 균일한(homogenous) 접촉력이 달성될 수 있고, 그에 따라, 롤러 디바이스에 대한 가요성 기판의 클램핑 또는 접착이 개선될 수 있다. 접촉력은 또한 클램핑력으로 지칭될 수 있다. 추가로, 본원에서 설명되는 바와 같은 코팅을 갖는 롤러 디바이스를 이용함으로써, 가요성 기판으로부터 롤러 디바이스로의 열 전달이 최신 기술에 비해 개선될 수 있으며, 이는, 열에 민감한 가요성 기판들, 특히, 0.3 m ≤ W ≤ 8 m의 기판 폭(W)을 갖는 얇은 폴리머 가요성 기판들을 프로세싱하는 데 유익할 수 있다. 개선된 열 전달은, 본 개시내용의 롤러 디바이스로 가요성 기판을 가이딩하는 동안, 코팅된 지지 표면과 기판의 직접적인 접촉이 실질적으로 완전한 접촉 표면을 위해 제공될 수 있다는 사실, 즉, 가요성 기판과 코팅된 지지 표면 사이에 (미시적 스케일(microscopic scale)에 이르기까지의) 갭들을 갖는 영역들이 감소 또는 실질적으로 제거될 수 있다는 사실에 기인한다.
[16] 추가로, 최신 기술에서, 전형적으로, 기판과 기판 운송 롤러 사이의 접촉을 개선하기 위해 기판 장력이 증가되며, 이는, 얇은 가요성 기판들, 예컨대, 20 μm ≤ ST ≤ 1 mm의 기판 두께(ST)를 갖는 가요성 기판들이 사용될 때, 일부 문제들을 야기할 수 있다는 것이 유의되어야 한다. 이와 관련하여, 더 얇은 기판들의 감소된 유효 기판 강성을 보상하기 위해 기판 폭을 증가시킴에 따라, 가요성 기판과 롤러 사이의 유효 접촉력 또는 클램핑력이 증가될 필요가 있다는 것이 유의되어야 한다.
[17] 따라서, 본원에서 설명되는 바와 같은 롤러 디바이스의 실시예들은 유익하게, 0.3 m ≤ W ≤ 8 m의 기판 폭(W) 및 20 μm ≤ ST ≤ 1 mm의 기판 두께(ST)를 갖는 폴리머 가요성 기판을 가이딩하는 데 매우 적합하다.
[18] 더욱이, 가요성 기판과 운송 롤러 또는 가이딩 롤러 사이의 접촉을 개선하기 위한 다른 종래의 대책들, 이를테면, 기판 및/또는 운송 롤러/가이딩 롤러에 정전하를 제공하는 것이 감소될 수 있거나 또는 심지어 생략될 수 있다. 이와 관련하여, (예컨대, 스케일러블(scalable) 선형 전자 빔 소스를 사용하는 것에 의해) 기판에 정전하를 제공하는 것, 및/또는 (예컨대, 운송 롤러/가이딩 롤러에 DC 전압을 제공하는 것에 의해) 운송 롤러/가이딩 롤러에 정전하를 제공하는 것이, 예컨대 동작 동안의 아킹으로 인해, 가요성 기판 및/또는 롤러 표면을 손상시킬 수 있다는 것이 유의되어야 한다. 따라서, 유익하게, 본 개시내용의 롤러 디바이스에 의해, 가요성 기판과 운송 롤러 사이의 접촉을 개선하기 위한 종래의 대책들과 연관된 문제들이 실질적으로 감소될 수 있거나 또는 심지어 제거될 수 있다.
[19] 본 개시내용의 다양한 추가적인 실시예들이 더 상세히 설명되기 전에, 본원에서 사용되는 일부 용어들에 대한 일부 양상들이 설명된다.
[20] 본 개시내용에서, "롤러 디바이스"는 가요성 기판과 접촉하기 위한 기판 지지 표면을 갖는 드럼 또는 롤러로서 이해될 수 있다. 특히, 롤러 디바이스는 회전 축을 중심으로 회전가능할 수 있고, 기판 가이딩 구역을 포함할 수 있다. 전형적으로, 기판 가이딩 구역은 롤러 디바이스의 만곡 기판 지지 표면, 예컨대 원통형 대칭 표면이다. 롤러 디바이스의 만곡 기판 지지 표면은 가요성 기판의 가이딩 동안 가요성 기판과 (적어도 부분적으로) 접촉하도록 구성될 수 있다. 기판 가이딩 구역은, 기판의 가이딩 동안, 기판이 만곡 기판 표면과 접촉하는, 롤러 디바이스의 각도 범위로서 정의될 수 있고, 롤러 디바이스의 감기 각도(enlacement angle)에 대응할 수 있다. 일부 실시예들에서, 롤러 디바이스의 감기 각도는 120° 이상, 구체적으로는 180° 이상, 또는 심지어 270° 이상일 수 있다.
[21] 본 개시내용에서, "가요성 기판"은 휘어질 수 있는 기판으로서 이해될 수 있다. 예컨대, "가요성 기판"은 "포일" 또는 "웹(web)"일 수 있다. 본 개시내용에서, "가요성 기판"이라는 용어 및 "기판"이라는 용어는 동의어로 사용될 수 있다. 예컨대, 본원에서 설명되는 바와 같은 가요성 기판은, 재료들, 이를테면, PET, HC-PET, PE, PI, PU, TaC, OPP, BOOP, CPP, 하나 이상의 금속들, 페이퍼(paper), 이들의 조합들, 및 이미 코팅된 기판들, 이를테면, 하드 코팅 PET(Hard Coated PET)(예컨대, HC-PET, HC-TaC) 등을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 가요성 기판은 그의 양 면들 상에 인덱스 매칭(index matched; IM) 층이 제공된 COP 기판이다. 예컨대, 기판 두께는 1 μm 이상 및 200 μm 이하일 수 있다. 더 구체적으로, 기판 두께는, 예컨대 식품 패키징 애플리케이션들의 경우, 8 μm의 하한 및 25 μm의 상한을 갖는 범위로부터 선택될 수 있다.
[22] 본 개시내용에서, "가요성 기판과 접촉하기 위한 지지 표면"이라는 표현은, 가요성 기판의 가이딩 또는 운송 동안, 가요성 기판과 접촉하도록 구성된, 롤러 디바이스의 외측 표면으로서 이해될 수 있다. 전형적으로, 지지 표면은 롤러 디바이스의 만곡 외측 표면, 특히 원통형 외측 표면이다.
[23] 본 개시내용에서, "코팅을 갖는 지지 표면"이라는 표현은 롤러 디바이스의 지지 표면이 코팅을 포함하는 것, 즉 지지 표면이 코팅된 것으로 이해될 수 있다. 특히, 코팅은 전기 음성 폴리머를 포함한다. "전기 음성 폴리머"는 전기 음성 특성들을 갖는 폴리머로서 이해될 수 있다. 전형적으로, 코팅은 완전한 지지 표면 상에 제공된다. 특히, 코팅은 일정한 두께, 예컨대, 2.5 μm ≤ T ≤ 15 μm의 범위로부터 선택되는 두께(T)를 갖는다.
[24] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 코팅(120)은 마찰 전기적(triboelectric) 특성들을 갖는다. 다시 말하면, 전기 음성 폴리머는 가요성 기판과의 마찰 접촉을 통해 정전하를 생성하도록 구성될 수 있다. 특히, 전기 음성 폴리머(예컨대, 플루오로폴리머)는, 마찰 전기 효과를 통해, 가이딩 동안 가요성 기판 표면 상에 미러 전하(mirror charge)를 생성하도록 구성될 수 있다. 마찰 전기 효과(마찰 전기 충전으로 또한 알려져 있음)는 특정 재료들이 상이한 재료와 마찰 접촉한 후에 전기적으로 하전되는 하나의 타입의 접촉 대전(contact electrification)이다. 다시 말하면, 마찰 전기 효과는 마찰 또는 슬라이딩 접촉 후에 하나의 재료로부터 다른 재료로 전하(전자들)가 이동되는 것으로서 설명될 수 있다. 2개의 재료들 사이의 총 전하 이동은 접촉하는 2개의 재료 표면들 사이의 전하 친화도의 차이에 의해 정의된다.
[25] 예컨대, 본원에서 설명되는 바와 같은 기판 재료들은 -90 nC/J ≤ CA ≤ -40 nC/J의 전하 친화도(CA)를 갖는다. 예컨대, PET는 CA
Figure pct00001
-40 nC/J의 전하 친화도(CA)를 갖고, BOOP는 CA
Figure pct00002
-85 nC/J의 전하 친화도(CA)를 갖고, LDEP, HDPE, 및 PP는 CA
Figure pct00003
-90 nC/J의 전하 친화도(CA)들을 갖는다. 본원에서 설명되는 바와 같은 전기 음성 폴리머를 포함하는, 특히, 플루오로폴리머를 포함하거나 이로 구성되는, 특히, PTFE 및/또는 PFA를 포함하거나 이들로 구성되는 코팅은 CA
Figure pct00004
-190 nC/J의 전하 친화도(CA)를 갖는다.
[26] 따라서, 유익하게, 본원에서 설명되는 바와 같이 롤러 디바이스의 지지 표면 상에 제공되는 코팅은, 외부에서 인가되는 전기장이 없을 때에도, 코팅된 롤러 디바이스가 기판과 비교하여 음으로 하전되는 것을 보장한다. 따라서, 본원의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 롤러 디바이스의 지지 표면 상의 코팅은 롤러 디바이스에 의해 가이딩될 가요성 기판에 대하여 전하 친화도 차이(ΔCA)를 제공하도록 구성될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 특히, 코팅과 기판 사이의 전하 친화도 차이(ΔCA)는 50 nC/J ≤ ΔCA ≤ 200 nC/J, 구체적으로는 100 nC/J ≤ ΔCA ≤ 150 nC/J일 수 있다.
[27] 위에서 약술된 바와 같이, 본원에서 설명되는 바와 같은 롤러 디바이스의 실시예들에서, 롤러 디바이스의 지지 표면 상에 제공되는 전기 음성 폴리머들의 코팅은 가요성 기판의 가이딩 동안 가요성 기판과의 접촉 대전을 제공하도록 구성될 수 있다. 전형적으로, 가요성 기판은, 도 1의 화살표로 예시적으로 표시된 바와 같이, 롤러 디바이스의 회전 축(111)을 중심으로 롤러 디바이스(100)를 회전시킴으로써 가이딩된다. 예컨대, 롤러 디바이스는 능동적으로 구동될 수 있다. 다시 말하면, 롤러 디바이스를 회전시키기 위한 구동부가 제공될 수 있다.
[28] 따라서, 기판 가이딩 동안 롤러 디바이스와 접촉하는 가요성 기판 표면 상에 미러 전하를 생성하도록 구성된 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅을 롤러 디바이스의 지지 표면 상에 제공하는 것은 유익하게, 롤러 디바이스에 대한 가요성 기판들의 접착을 개선하는 것을 제공한다. 다시 말하면, 롤러 디바이스의 지지 표면 상에 마찰 전기적 특성들을 갖는 코팅을 제공하는 것은 유익하게, 가요성 기판과 롤러 디바이스 사이의 일정하고 균일한 접촉력(피닝력(pinning force) 또는 클램핑력으로 또한 지칭됨)이 보장될 수 있도록, 코팅과 가요성 기판 사이의 전하 이동을 제공한다. 추가로, 마찰 전기 효과를 활용하는 것은 유익하게, 롤러 디바이스의 지지 표면 상에 제공된 코팅과 가요성 기판 사이의 슬립(slip) 감소를 제공한다.
[29] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 전기 음성 폴리머는 유전체일 수 있다. 특히, 전기 음성 폴리머는 분극화될 수 있는 전기 절연 재료일 수 있다. 예컨대, 전기 음성 폴리머는 플루오로폴리머, 특히 엘라스토머 플루오로폴리머(예컨대, 퍼플루오로알콕시-폴리머(PFA) 및/또는 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)을 포함함)일 수 있다. 특히, 플루오로폴리머는 PFA 또는 PTFE로 구성될 수 있다. PFA 또는 PTFE와 같은 플루오로폴리머를 포함하거나 이로 구성되는 코팅은 유익하게, 매우 높은 절연 파괴 강도를 갖는 코팅을 제공한다. 추가로, PFA 또는 PTFE와 같은 플루오로폴리머를 포함하거나 이로 구성되는 코팅은 유익하게, 낮은 마찰 계수, 특히, 극히 낮은 마찰 계수를 제공한다. 따라서, 유익하게, 예컨대 강철들에 필적하는, 코팅의 낮은 마모 레이트들이 제공되어 긴 코팅 수명이 보장될 수 있다. 다시 말하면, 플루오르화 폴리머 코팅 표면을 제공하는 플루오로폴리머 코팅은 유익하게, 우수한 낮은 마찰 성능 레벨을 제공하여 유효 코팅 마모를 감소시킨다.
[30] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 코팅(120)은 μ ≤ 0.1의 마찰 계수(μ), 구체적으로는 μ ≤ 0.05의 마찰 계수(μ)를 가질 수 있다. 더 구체적으로, 비-윤활 플루오로폴리머 마찰 계수(μ)는 μ ≤ 0.1, 구체적으로는 μ ≤ 0.05일 수 있다. 코팅 돌기(asperity)들로부터의 부분적인 마모는, 매우 소수성이고 유체역학적인 경계 윤활을 제공하여, 유익하게, 대략 F = 10의 인자(F)만큼 마찰 계수를 추가로 감소시킬 수 있다는 것이 유의되어야 한다. 따라서, 유익하게, 강철의 고유 마모 레이트 레벨에 근접한 유효 코팅 재료 마모 레이트가 달성될 수 있다.
[31] 예컨대, 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 코팅(120)은 0.4 x 10-7 MPa-1 ≤ ka ≤ 2.0 x 10-6 MPa-1의 마모-레이트 상수(ka)를 가질 수 있다. 다시 말하면, 코팅은 0.4 x 10-7 MPa-1 ≤ ka ≤ 2.0 x 10-6 MPa-1의 범위로부터 선택되는 마모-레이트 상수(ka)를 갖도록 구성될 수 있다. 마모-레이트 상수(ka)는 경도 [MPa]로 나눈 무차원(dimensionless) 마모-레이트 상수(k)이고, 즉, ka [MPa-1] = k / 경도 [MPa]이다.
[32] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 코팅(120)은 2.5 μm ≤ T ≤ 15 μm의 두께(T)를 가질 수 있다. 2.5 μm ≤ T ≤ 15 μm의 범위로부터 선택되는 두께(T)를 갖는 코팅을 제공하는 것은 롤러 디바이스의 코팅된 지지 표면과 가요성 기판 사이의 충분한 피닝력을 보장하기 위해 충분한 커패시턴스를 보장하는 데 유익할 수 있다.
[33] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 코팅(120)은 2.0 MV/cm ≤ BFS ≤ 30 MV/cm의 BFS(breakdown field strength)를 갖는다. 예컨대, T = 5 μm의 두께(T)를 갖는 PFA의 코팅은, 300 V의 전기장이 인가될 때, 2.0 MV/cm의 BFS를 갖는다. T = 10 μm의 두께(T)를 갖는 PTFE의 코팅은, 300 V의 전기장이 인가될 때, 24 MV/cm의 BFS를 갖는다.
[34] 도 2를 예시적으로 참조하여, 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 롤러 디바이스(100)는 원통형이고, 0.5 m ≤ L ≤ 8.5 m의 길이(L)를 갖는다. 추가로, 롤러 디바이스(100)는 1.0 m ≤ D ≤ 3.0 m의 직경(D)을 가질 수 있다. 따라서, 유익하게, 롤러 디바이스는 큰 폭을 갖는 가요성 기판들을 가이딩 및 운송하도록 구성된다.
[35] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 롤러 디바이스는 하나 이상의 E-척 디바이스들(명시적으로 도시되지 않음)을 가질 수 있다. E-척 디바이스는 정전기력에 의해 기판을 홀딩하기 위해 정전하를 제공하도록 구성된 디바이스로서 이해될 수 있다. 특히, 하나 이상의 E-척 디바이스들은 가요성 기판을 홀딩할 수 있고, 그리고/또는 롤러 디바이스의 만곡 표면과 접촉하는 웹을 홀딩하기 위한 인력을 제공할 수 있다. 따라서, 가요성 기판과 롤러 디바이스 사이의 일정하고 균일한 접촉력이 추가로 개선될 수 있다.
[36] 상기된 바를 고려하여, 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 진공 프로세싱 장치, 특히, 도 3 및 도 4를 참조하여 설명되는 바와 같은 실시예들에 따른 진공 프로세싱 장치에서 가요성 기판을 운송하기 위한, 본원에서 설명되는 임의의 실시예들에 따른 롤러 디바이스의 사용이 제공된다는 것이 이해되어야 한다.
[37] 도 3을 예시적으로 참조하면, 본 개시내용에 따른 진공 프로세싱 장치(200)가 설명된다. 본원에서 설명되는 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 진공 프로세싱 장치(200)는 가요성 기판(10)을 제공하기 위한 저장 스풀(212)을 하우징하는 제1 스풀 챔버(210)를 포함한다. 부가적으로, 진공 프로세싱 장치(200)는 제1 스풀 챔버(210)로부터 하류에 배열된 프로세싱 챔버(220)를 포함한다. 프로세싱 챔버(220)는 복수의 프로세싱 유닛들(221)을 포함한다. 복수의 프로세싱 유닛들(221)은 적어도 하나의 증착 유닛을 포함한다. 예컨대, 도 3 및 도 4에 개략적으로 예시된 바와 같이, 복수의 프로세싱 유닛들은 롤러 디바이스(100) 주위에서 원주 방향으로 배열될 수 있다. 롤러 디바이스(100)가 회전함에 따라, 가요성 기판은 롤러 디바이스의 만곡 기판 지지 표면 쪽을 향하는 프로세싱 유닛들을 지나게 가이딩되고, 그에 따라, 가요성 기판의 표면은 미리 결정된 속도로 프로세싱 유닛들을 지나게 이동되면서 프로세싱될 수 있다. 예컨대, 복수의 프로세싱 유닛들은 증착 유닛, 에칭 유닛, 및 가열 유닛으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 유닛들을 포함할 수 있다. 본원에서 설명되는 바와 같은, 진공 프로세싱 장치의 증착 유닛은 스퍼터 증착 유닛, 예컨대 AC(alternating current) 스퍼터 소스 또는 DC(direct current) 스퍼터 소스, CVD 증착 유닛, PECVD 증착 유닛, 또는 PVD 증착 유닛일 수 있다.
[38] 추가로, 프로세싱 챔버(220)는 복수의 프로세싱 유닛들(221)을 지나게 가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스(100)를 포함한다. 롤러 디바이스(100)는 가요성 기판(10)과 접촉하기 위한 지지 표면(110)을 포함한다. 지지 표면(110)은 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅(120)을 갖는다. 특히, 롤러 디바이스는 본원에서 설명되는 임의의 실시예들에 따른 롤러 디바이스이다. 부가적으로, 진공 프로세싱 장치(200)는 프로세싱 챔버(220)로부터 하류에 배열된 제2 스풀 챔버(250)를 포함한다. 제2 스풀 챔버(250)는 와인드-업 스풀(252)을 하우징하며, 와인드-업 스풀(252)은, 프로세싱 후에, 와인드-업 스풀(252) 상에 가요성 기판(10)을 와인딩한다.
[39] 따라서, 본원에서 설명되는 바와 같은 진공 프로세싱 장치의 실시예들은 종래의 진공 프로세싱 장치들에 비해 개선된다. 특히, 본원에서 설명되는 바와 같은 롤러 디바이스를 갖는 진공 프로세싱 장치를 제공하는 것은 유익하게, 개선된 가요성 기판 가이딩 및 운송을 제공한다. 더 구체적으로, 본원에서 설명되는 바와 같은 롤러 디바이스가, 롤러 디바이스에 대한 가요성 기판의 클램핑 또는 접착이 개선될 수 있도록, 가요성 기판과 롤러 디바이스 사이의 실질적으로 일정하고 균일한 접촉력을 제공하기 때문에, 가요성 기판의 가이딩 및 운송이 개선될 수 있다. 따라서, 유익하게, 실질적으로 주름이 없는 가요성 기판 운송이 보장되어, 더 높은 품질의 프로세싱 결과들, 예컨대, 가요성 기판 상의 더 높은 품질의 코팅들이 생성될 수 있다.
[40] 본 개시내용에서, "진공 프로세싱 장치"는 기판, 특히, 본원에서 설명되는 바와 같은 가요성 기판을 프로세싱하도록 구성된 장치로서 이해될 수 있다. 특히, 진공 프로세싱 장치는 층들의 스택으로 가요성 기판을 코팅하도록 구성된 R2R(roll-to-roll) 프로세싱 장치일 수 있다. 전형적으로, 진공 프로세싱 장치는 적어도 하나의 진공 챔버, 특히 진공 프로세싱 챔버를 갖는다. 추가로, 프로세싱 장치는 500 m 이상, 1000 m 이상, 또는 수 킬로미터의 기판 길이를 위해 구성될 수 있다. 기판 폭은 300 mm 이상, 구체적으로는 500 mm 이상, 더 구체적으로는 1 m 이상일 수 있다. 추가로, 기판 폭은 8 m 이하, 구체적으로는 6 m 이하일 수 있다.
[41] 본 개시내용에서, "프로세싱 챔버"는 기판 상에 재료를 증착하기 위한 적어도 하나의 증착 유닛을 갖는 챔버로서 이해될 수 있다. 따라서, 프로세싱 챔버는 또한 증착 챔버로 지칭될 수 있다. 본원에서 사용되는 바와 같이, "진공"이라는 용어는, 예컨대 10 mbar 미만의 진공 압력을 갖는 기술적 진공의 의미로 이해될 수 있다. 전형적으로, 본원에서 설명되는 바와 같은 진공 챔버 내의 압력은 10-5 mbar 내지 약 10-8 mbar, 더 전형적으로는 10-5 mbar 내지 10-7 mbar, 그리고 한층 더 전형적으로는 약 10-6 mbar 내지 약 10-7 mbar일 수 있다.
[42] 본원에서 사용되는 바와 같은 "~로부터 상류" 및 "~로부터 하류"라는 용어들은, 기판 운송 경로를 따르는, 각각의 챔버 또는 각각의 컴포넌트의, 다른 챔버 또는 컴포넌트에 대한 포지션을 지칭할 수 있다. 예컨대, 동작 동안, 기판은 롤러 조립체를 통해, 기판 운송 경로를 따라, 제1 스풀 챔버(210)로부터 프로세싱 챔버(220)를 통해 가이딩된 후에, 제2 스풀 챔버(250)로 가이딩된다. 따라서, 프로세싱 챔버(220)는 제1 스풀 챔버(210)로부터 하류에 배열되며, 제1 스풀 챔버(210)는 프로세싱 챔버(220)로부터 상류에 배열된다. 동작 동안, 기판이 먼저, 제1 롤러 또는 제1 컴포넌트에 의해 가이딩되거나 또는 이를 지나게 운송된 후에 제2 롤러 또는 제2 컴포넌트에 의해 가이딩되거나 또는 이를 지나게 운송되는 경우, 제2 롤러 또는 제2 컴포넌트는 제1 롤러 또는 제1 컴포넌트로부터 하류에 배열된다.
[43] 도 3 및 도 4에 예시적으로 도시된 바와 같이, 제1 스풀 챔버(210)는 전형적으로, 저장 스풀(212)을 수용하도록 구성되며, 여기서, 저장 스풀(212)에는 저장 스풀(212) 상에 와인딩된 가요성 기판(10)이 제공될 수 있다. 동작 동안, 가요성 기판(10)은 저장 스풀(212)로부터 언와인딩될 수 있고, 제1 스풀 챔버(210)로부터 프로세싱 챔버(220)를 향해 (도 3 및 도 4의 화살표들로 표시된) 기판 운송 경로를 따라 운송될 수 있다. 본원에서 사용되는 바와 같은 "저장 스풀"이라는 용어는 코팅될 가요성 기판이 상부에 저장된 롤로서 이해될 수 있다. 따라서, 본원에서 사용되는 바와 같은 "와인드-업 스풀"이라는 용어는 코팅된 가요성 기판을 수용하도록 구성된 롤로서 이해될 수 있다. "저장 스풀"이라는 용어는 또한 "공급 롤"로 지칭될 수 있으며, "와인드-업 스풀"이라는 용어는 또한 "테이크-업(take-up) 롤"로 지칭될 수 있다.
[44] 본 개시내용에서, "프로세싱 유닛"은 본원에서 설명되는 바와 같은 가요성 기판을 프로세싱하도록 구성된 유닛 또는 디바이스로서 이해될 수 있다. 예컨대, 프로세싱 유닛은 증착 유닛일 수 있다. 특히, 증착 유닛은 스퍼터 증착 유닛, 예컨대 AC 스퍼터 소스 또는 DC 스퍼터 소스일 수 있다. 그러나, 본원에서 설명되는 프로세싱 장치는 스퍼터 증착으로 제한되지 않으며, 부가적으로 또는 대안적으로, 다른 증착 유닛들이 사용될 수 있다. 예컨대, 일부 구현들에서, CVD 증착 유닛들, 증발 증착 유닛들, PECVD 증착 유닛들, 또는 다른 증착 유닛들이 활용될 수 있다. 따라서, 증착 유닛들, 예컨대 플라즈마 증착 소스는, 예컨대, 가요성 디스플레이 디바이스, 터치-스크린 디바이스 컴포넌트, 또는 다른 전자 또는 광학 디바이스들을 형성하기 위해, 가요성 기판 상에 박막을 증착하도록 구성될 수 있다는 것이 이해되어야 한다.
[45] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 진공 프로세싱 장치의 롤러 디바이스(100)는 프로세싱 드럼이다. 본 개시내용에서, "프로세싱 드럼"은 프로세싱 동안 가요성 기판과 접촉하기 위한 기판 지지 표면을 갖는 드럼 또는 롤러로서 이해될 수 있다. 특히, 프로세싱 드럼은 회전 축(111)을 중심으로 회전가능할 수 있고, 기판 가이딩 구역을 포함할 수 있다. 전형적으로, 기판 가이딩 구역은 프로세싱 드럼의 만곡 기판 지지 표면, 예컨대 원통형 대칭 표면이다. 프로세싱 드럼의 만곡 기판 지지 표면은, 본원에서 설명되는 바와 같은, 프로세싱 장치의 동작 동안, 가요성 기판과 (적어도 부분적으로) 접촉하도록 구성될 수 있다.
[46] 특히, 도 4를 예시적으로 참조하면, 롤러 디바이스(100)는 프로세싱 드럼에 전위를 인가하기 위한 디바이스(240)에 연결될 수 있으며, 그 프로세싱 드럼은 본원에서 설명되는 임의의 실시예들에 따른 롤러 디바이스(100)이다.
[47] 본 개시내용에서, "프로세싱 드럼에 전위를 인가하기 위한 디바이스"는 프로세싱 드럼, 특히, 프로세싱 드럼의 기판 지지 표면에 전위를 인가하도록 구성된 디바이스로서 이해될 수 있다. 특히, 전위를 인가하기 위한 디바이스는 MF(middle frequency) 전위를 제공하도록 구성될 수 있다. 예컨대, MF(middle frequency) 전위는 1 kHz 내지 100 kHz일 수 있다. 본 개시내용에서, "전위를 인가하기 위한 디바이스"는 "전위 인가 디바이스"로 또한 지칭될 수 있다. 프로세싱 드럼에 MF 전위를 인가하는 것은 기판, 특히, 기판 상에 증착된 층의 충전이 실질적으로 방지될 수 있거나 또는 심지어 제거될 수 있는 이점을 갖는다. 따라서, 더 높은 품질(예컨대, 더 높은 균일성, 더 적은 결함들 등)을 갖는 층들이 기판 상에 증착될 수 있다. 따라서, 전위 인가 디바이스를 제공하는 것은, 가요성 기판과 롤러 디바이스 사이의 일정하고 균일한 접촉력을 추가로 개선하여, 기판 프로세싱 동안의 실질적으로 주름이 없는 가요성 기판 운송을 개선하는 데 유익할 수 있다.
[48] 도 3 및 도 4를 예시적으로 참조하면, 전형적으로, 진공 프로세싱 장치(200)는 가요성 기판(10)이 기판 운송 경로를 따라 제1 스풀 챔버(210)로부터 제2 스풀 챔버(250)로 가이딩될 수 있도록 구성되며, 여기서, 기판 운송 경로는 프로세싱 챔버(220)를 통해 이어질 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 예컨대, 가요성 기판은 증착 챔버에서 층들의 스택으로 코팅될 수 있다. 추가로, 도 3 및 도 4에 예시적으로 도시된 바와 같이, 복수의 롤들 또는 롤러들을 포함하는 롤러 조립체는 기판 운송 경로를 따라 기판을 운송하기 위해 제공될 수 있다. 도 3 및 도 4에서, 4개의 롤러들을 포함하는 롤러 조립체가 도시된다. 상이한 구성들에 따르면, 롤러 조립체는 저장 스풀과 와인드-업 스풀 사이에 배열된 5개 이상의 롤러들, 특히 10개 이상의 롤러들을 포함할 수 있다는 것이 이해되어야 한다.
[49] 도 3 및 도 4를 예시적으로 참조하여, 본원에서 설명되는 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 본원의 일부 실시예들에 따르면, 롤러 조립체는, 부분적으로 볼록한 그리고 부분적으로 오목한 기판 운송 경로를 따라, 제1 스풀 챔버로부터 제2 스풀 챔버로 가요성 기판을 운송하도록 구성될 수 있다. 다시 말하면, 기판 운송 경로는 부분적으로 우측으로 만곡될 수 있고, 부분적으로 좌측으로 만곡될 수 있으며, 그에 따라, 일부 가이딩 롤러들은 가요성 기판의 제1 주 표면과 접촉하고, 일부 가이딩 롤러들은 제1 주 표면 반대편에 있는 가요성 기판의 제2 주 표면과 접촉하게 된다.
[50] 예컨대, 도 4의 제1 가이딩 롤러(207)는 가요성 기판의 제2 주 표면과 접촉하고, 가요성 기판은 제1 가이딩 롤러(207)에 의해 가이딩되면서 좌측으로 휘어진다(기판 운송 경로의 "볼록한" 섹션). 도 4의 제2 가이딩 롤러(208)는 가요성 기판의 제1 주 표면과 접촉하고, 가요성 기판은 제2 가이딩 롤러(208)에 의해 가이딩되면서 우측으로 휘어진다(기판 운송 경로의 "오목한" 섹션).
[51] 일부 실시예들에서, 롤러 조립체의 하나 이상의 롤러들, 예컨대 가이딩 롤러들은 저장 스풀(212)과 프로세싱 드럼, 즉 롤러 디바이스(100) 사이에 그리고/또는 프로세싱 드럼으로부터 하류에 배열될 수 있다. 예컨대, 도 3에 도시된 실시예에서, 2개의 가이딩 롤러들이 저장 스풀(212)과 프로세싱 드럼 사이에 제공되며, 여기서, 적어도 하나의 가이딩 롤러가 제1 스풀 챔버에 배열될 수 있고, 적어도 하나의 가이딩 롤러가 프로세싱 드럼으로부터 상류에서 프로세싱 챔버에 배열될 수 있다. 일부 실시예들에서, 3개, 4개, 5개 이상, 구체적으로는 8개 이상의 가이딩 롤러들이 저장 스풀과 프로세싱 드럼 사이에 제공된다. 가이딩 롤러들은 능동 또는 수동 롤러들일 수 있다.
[52] 본원에서 사용되는 바와 같은 "능동" 롤러 또는 롤은 각각의 롤러를 능동적으로 이동 또는 회전시키기 위한 구동부 또는 모터가 제공된 롤러로서 이해될 수 있다. 예컨대, 능동 롤러는 미리 결정된 토크 또는 미리 결정된 회전 속도를 제공하도록 조정될 수 있다. 전형적으로, 저장 스풀(212) 및 와인드-업 스풀(252)은 능동 롤러들로서 제공될 수 있다. 추가로, 능동 롤러들은 동작 동안 미리 결정된 인장력으로 기판을 인장시키도록 구성된 기판 인장 롤러들로서 구성될 수 있다. "수동" 롤러는 수동 롤러를 능동적으로 이동 또는 회전시키기 위한 구동부가 제공되지 않은 롤러 또는 롤로서 이해될 수 있다. 수동 롤러는 동작 동안 외측 롤러 표면과 직접적으로 접촉할 수 있는 가요성 기판의 마찰력에 의해 회전될 수 있다.
[53] 도 4에 예시적으로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 가이딩 롤러들(213)이 프로세싱 드럼, 즉 롤러 디바이스(100)로부터 하류에 그리고 제2 스풀 챔버(250)로부터 상류에 배열될 수 있다. 예컨대, 와인드-업 스풀(252) 상으로 가요성 기판을 매끄럽게 가이딩하기 위해, 적어도 하나의 가이딩 롤러가, 프로세싱 챔버(220)로부터 하류에 배열된 제2 스풀 챔버(250)를 향해 가요성 기판(10)을 가이딩하도록, 프로세싱 드럼으로부터 하류에서 프로세싱 챔버(220)에 배열될 수 있거나, 또는 적어도 하나의 가이딩 롤러가, 프로세싱 드럼의 기판 지지 표면에 본질적으로 접하는 방향으로 가요성 기판을 가이딩하도록, 프로세싱 드럼으로부터 상류에서 제2 스풀 챔버(250)에 배열될 수 있다.
[54] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 본원에서 설명되는 임의의 실시예들에 따른 롤러 디바이스에 대해 예시적으로 설명되는 바와 같이, 롤러 조립체의 하나 이상의 가이딩 롤러들은 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅을 포함할 수 있다.
[55] 일부 실시예들에 따르면, 진공 프로세싱 장치(200)의 일부 챔버들 또는 모든 챔버들은 진공배기될 수 있는 진공 챔버들로서 구성될 수 있다. 예컨대, 진공 프로세싱 장치는, 제1 스풀 챔버(210) 및/또는 프로세싱 챔버(220) 및/또는 제2 스풀 챔버(250)에서 진공을 생성할 수 있게 하거나 또는 진공을 유지할 수 있게 하는 컴포넌트들 및 장비를 포함할 수 있다. 특히, 진공 프로세싱 장치는, 제1 스풀 챔버(210) 및/또는 프로세싱 챔버(220) 및/또는 제2 스풀 챔버(250)에서 진공을 생성 또는 유지하기 위해, 진공 펌프들, 진공배기 덕트들, 및 진공 밀봉부들 등을 포함할 수 있다.
[56] 도 4를 예시적으로 참조하여, 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 밀봉 디바이스들(205)이 인접한 챔버들 사이에, 예컨대, 제1 스풀 챔버(210)와 프로세싱 챔버(220) 사이에, 그리고/또는 프로세싱 챔버(220)와 제2 스풀 챔버(250) 사이에 제공될 수 있다. 따라서, 유익하게, 와인딩 챔버들(즉, 제1 스풀 챔버(210) 및 제2 스풀 챔버(250))은 독립적으로, 특히, 프로세싱 챔버와 독립적으로 벤팅(vent) 또는 진공배기될 수 있다. 밀봉 디바이스(205)는 평탄한 밀봉 표면에 대해 기판을 가압하도록 구성된 팽창성 밀봉부를 포함할 수 있다.
[57] 도 4에 예시적으로 도시된 바와 같이, 전형적으로, 프로세싱 드럼, 즉, 본원에서 설명되는 바와 같은 롤러 디바이스는 복수의 증착 유닛들을 지나게, 예컨대, 제1 증착 유닛(221A), 제2 증착 유닛(221B), 및 제3 증착 유닛(221C)을 지나게 가요성 기판(10)을 가이딩하도록 구성된다. 도 4에 도시된 바와 같이, 개별 증착 유닛들은 별개의 구획들에 제공될 수 있으며, 이는 여러 상이한 후속 증착 프로세스들(예컨대, CVD, PECVD, 및/또는 PVD)의 모듈식 조합을 가능하게 하고, 상이한 후속 증착 프로세스들 사이의 매우 양호한 가스 분리를 보장한다. 따라서, 증착 유닛들의 선택된 시퀀스에 따라, 다양한 상이한 스택 층들이 가요성 기판 상에 증착될 수 있다.
[58] 도 5a는 대안적인 구성에 따른 프로세싱 장치의 개략적인 측면도를 도시하며, 도 5b는 도 5a에 도시된 프로세싱 장치의 개략적인 저면도를 도시한다. 특히, 도 5a 및 도 5b를 예시적으로 참조하면, 복수의 프로세싱 유닛들은 롤러 디바이스(100)의 회전 축(111)에 평행하게 연장되는 라인(222)을 따라 정렬된 증발 도가니들의 세트(230)를 포함할 수 있거나 또는 그 증발 도가니들의 세트(230)로 구성될 수 있다. 따라서, 진공 프로세싱 장치는 기판(10) 상에 증발 재료를 증착하기 위한 증발 장치일 수 있다. 예컨대, 도 5a에 도시된 증발 도가니들의 세트(230)는 도가니들(211 내지 217)을 포함한다. 도 5b에 예시적으로 도시된 바와 같이, 증발 도가니들은 전형적으로, 가요성 기판(10) 상에 증착될 증발 재료의 클라우드(cloud)(255)를 생성하도록 구성된다. 도 5b에 도시된 바와 같이, 복수의 프로세싱 유닛들은 기판 폭(W)을 가로지르는 방향으로 배열될 수 있다.
[59] "증발 도가니"는 증발 도가니를 가열함으로써 증발될 재료를 위한 저장조로서 이해될 수 있다. 더 구체적으로, 증발 도가니에는 증발될 재료를 도가니들에 전달하기 위한 재료 공급부가 장비될 수 있다. 예컨대, 증발될 재료는 증발 도가니에 의해 용융될 수 있는 와이어(wire)의 형태로 증발 도가니에 공급될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 증발 도가니는, 특히, 증발될 재료가 와이어의 형태로 공급될 때, 증발기 보트(evaporator boat)로서 구성될 수 있다. 따라서, 본원에서 설명되는 바와 같은 증발 도가니들의 세트는 증발기 보트들의 세트일 수 있다. 증발될 재료는 금속, 예컨대, 알루미늄, 구리, 또는 임의의 다른 금속일 수 있다. 도 5a 및 도 5b를 참조하여 예시적으로 설명되는 바와 같은 프로세싱 장치는 특히, 패키징 산업, 특히 식품 패킹 산업에서 사용되는 기판들을 코팅하는 데 매우 적합하다.
[60] 도 6a에 도시된 흐름도를 예시적으로 참조하면, 본 개시내용에 따른, 진공 프로세싱 장치(200)에서 가요성 기판(10)을 프로세싱하는 방법(300)이 설명된다. 본원에서 설명되는 임의의 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 방법은 제1 스풀 챔버(210)에 제공된 저장 스풀(212)로부터 가요성 기판(10)을 언와인딩하는 단계(도 6a의 블록(310)에 의해 표현됨)를 포함한다. 부가적으로, 방법은 프로세싱 챔버(220)에 제공된 롤러 디바이스(100)에 의해 가요성 기판(10)을 가이딩하면서 가요성 기판(10)을 프로세싱하는 단계(도 6a의 블록(320)에 의해 표현됨)를 포함한다. 롤러 디바이스(100)는 가요성 기판(10)과 접촉하기 위한 지지 표면(110)을 포함한다. 지지 표면(110)은 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅(120)을 갖는다. 특히, 롤러 디바이스(100)는 본원에서 설명되는 임의의 실시예들에 따른 롤러 디바이스일 수 있다. 추가로, 방법은, 프로세싱 후에, 제2 스풀 챔버(250)에 제공된 와인드-업 스풀(252) 상에 가요성 기판을 와인딩하는 단계(도 6a의 블록(330)에 의해 표현됨)를 포함한다.
[61] 도 6b를 예시적으로 참조하여, 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 방법은 롤러 디바이스(100)에 전위를 인가하는 단계(도 6b의 블록(340)에 의해 표현됨)를 더 포함한다. 예컨대, 롤러 디바이스에 전위를 인가하는 단계(블록(340))는 1 kHz 내지 100 kHz의 주파수를 갖는 중간 주파수 전위를 인가하는 단계를 포함할 수 있다. 특히, 롤러 디바이스(100)에 전위를 인가하는 단계는 전형적으로, 예컨대 도 4를 참조하여 설명된 바와 같은, 전위를 인가하기 위한 디바이스(240)를 사용하는 단계를 포함한다.
[62] 추가로, 진공 프로세싱 장치에서 가요성 기판을 프로세싱하는 방법은, 예컨대 도 3 및 도 4를 참조하여 본원에서 설명되는 임의의 실시예들에 따른 진공 프로세싱 장치(200)를 사용함으로써 실시될 수 있다는 것이 이해되어야 한다.
[63] 상기된 바를 고려하면, 본원에서 설명되는 바와 같은 실시예들은, 최신 기술과 비교하여, 롤-투-롤 프로세싱 장치들에 개선된 가요성 기판 운송을 제공하여, 유익하게, 더 얇고 더 넓은 가요성 기판들이 프로세싱될 수 있고 프로세싱 결과가 개선될 수 있다는 것이 이해되어야 한다.
[64] 전술한 바가 실시예들에 관한 것이지만, 다른 및 추가적인 실시예들이 기본적인 범위로부터 벗어나지 않으면서 고안될 수 있고, 그 범위는 다음의 청구항들에 의해 결정된다.

Claims (15)

  1. 가요성 기판(10)을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스(100)로서,
    상기 가요성 기판(10)과 접촉하기 위한 지지 표면(110)을 포함하며,
    상기 지지 표면(110)은 전기 음성 폴리머(electronegative polymer)를 포함하는 코팅(120)을 갖는,
    가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 코팅(120)은 마찰 전기적(triboelectric) 특성들을 갖는,
    가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스.
  3. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
    상기 전기 음성 폴리머는 유전체인,
    가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스.
  4. 제1 항 내지 제3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅(120)은 μ ≤ 0.1의 마찰 계수(μ)를 갖는,
    가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스.
  5. 제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅(120)은 0.4 x 10-7 MPa-1 ≤ ka ≤ 2.0 x 10-6 MPa-1의 마모-레이트 상수(ka)를 갖는,
    가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스.
  6. 제1 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅(120)은 2.5 μm ≤ T ≤ 15 μm의 두께(T)를 갖는,
    가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스.
  7. 제1 항 내지 제6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅(120)은 2.0 MV/cm ≤ BFS ≤ 30 MV/cm의 BFS(breakdown field strength)를 갖는,
    가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스.
  8. 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전기 음성 폴리머는 플루오로폴리머, 특히 퍼플루오로알콕시-폴리머(PFA) 또는 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)인,
    가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스.
  9. 제1 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 롤러 디바이스는 0.5 m ≤ L ≤ 5.0 m의 길이(L)를 갖는 원통형인,
    가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스.
  10. 제1 항 내지 제9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 롤러 디바이스는 1.0 m ≤ D ≤ 3.0 m의 직경(D)을 갖는,
    가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스.
  11. 진공 프로세싱 장치(200)에서 가요성 기판(10)을 운송하기 위한 롤러 디바이스(100)의 사용으로서,
    상기 롤러 디바이스는 상기 가요성 기판(10)과 접촉하기 위한 지지 표면(110)을 포함하며,
    상기 지지 표면(110)은 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅(120)을 갖는,
    진공 프로세싱 장치에서 가요성 기판을 운송하기 위한 롤러 디바이스의 사용.
  12. 가요성 기판(10)을 프로세싱하기 위한 진공 프로세싱 장치(200)로서,
    상기 가요성 기판(10)을 제공하기 위한 저장 스풀(storage spool)(212)을 하우징(house)하는 제1 스풀 챔버(210);
    상기 제1 스풀 챔버(210)로부터 하류에 배열된 프로세싱 챔버(220) ― 상기 프로세싱 챔버(220)는 적어도 하나의 증착 유닛을 포함하는 복수의 프로세싱 유닛들(221), 및 상기 복수의 프로세싱 유닛들(221)을 지나게 상기 가요성 기판을 가이딩하기 위한 롤러 디바이스(100)를 포함하고, 상기 롤러 디바이스는 상기 가요성 기판(10)과 접촉하기 위한 지지 표면(110)을 포함하고, 상기 지지 표면(110)은 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅(120)을 가짐 ―; 및
    상기 프로세싱 챔버(220)로부터 하류에 배열되고, 와인드-업 스풀(wind-up spool)(252)을 하우징하는 제2 스풀 챔버(250)
    를 포함하며,
    상기 와인드-업 스풀(252)은, 프로세싱 후에, 상기 와인드-업 스풀(252) 상에 상기 가요성 기판(10)을 와인딩(wind)하는,
    가요성 기판을 프로세싱하기 위한 진공 프로세싱 장치.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 롤러 디바이스(100)는 프로세싱 드럼이며,
    상기 프로세싱 드럼은 상기 프로세싱 드럼에 전위를 인가하기 위한 디바이스(240)에 연결되는,
    가요성 기판을 프로세싱하기 위한 진공 프로세싱 장치.
  14. 진공 프로세싱 장치(200)에서 가요성 기판(10)을 프로세싱하는 방법(300)으로서,
    제1 스풀 챔버(210)에 제공된 저장 스풀(212)로부터 상기 가요성 기판(10)을 언와인딩(unwind)하는 단계;
    프로세싱 챔버(220)에 제공된 롤러 디바이스(100)에 의해 상기 가요성 기판을 가이딩하면서, 상기 가요성 기판(10)을 프로세싱하는 단계 ― 상기 롤러 디바이스(100)는 상기 가요성 기판(10)과 접촉하기 위한 지지 표면(110)을 포함하고, 상기 지지 표면(110)은 전기 음성 폴리머를 포함하는 코팅(120)을 가짐 ―; 및
    프로세싱 후에, 제2 스풀 챔버(250)에 제공된 와인드-업 스풀(252) 상에 상기 가요성 기판을 와인딩하는 단계
    를 포함하는,
    진공 프로세싱 장치에서 가요성 기판을 프로세싱하는 방법.
  15. 제14 항에 있어서,
    상기 롤러 디바이스(100)에 전위를 인가하는 단계(340)를 더 포함하는,
    진공 프로세싱 장치에서 가요성 기판을 프로세싱하는 방법.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102021207398A1 (de) * 2021-07-13 2023-01-19 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung eines Substrates

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61278030A (ja) * 1985-05-31 1986-12-08 Hitachi Maxell Ltd 磁気記録媒体の製造方法およびその装置
JP2002322558A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Konica Corp 薄膜形成方法、光学フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP2003201570A (ja) * 2001-11-01 2003-07-18 Konica Corp 大気圧プラズマ処理装置、大気圧プラズマ処理方法及びそれを用いて作製した長尺フィルム
US20080289912A1 (en) * 2005-12-28 2008-11-27 Perron William C Sheave for Use in an Elevator System
JP2013035634A (ja) * 2011-08-04 2013-02-21 Kawata Mfg Co Ltd 定量供給装置
US20140205317A1 (en) * 2012-10-30 2014-07-24 Canon Kabushiki Kaisha Sheet processing apparatus and image forming system
JP2017095758A (ja) * 2015-11-24 2017-06-01 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルムの製造方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4485125A (en) * 1982-03-19 1984-11-27 Energy Conversion Devices, Inc. Method for continuously producing tandem amorphous photovoltaic cells
JPH0778659B2 (ja) * 1987-06-26 1995-08-23 キヤノン株式会社 弾性回転体及びそれを有する定着装置
US5618388A (en) * 1988-02-08 1997-04-08 Optical Coating Laboratory, Inc. Geometries and configurations for magnetron sputtering apparatus
JPH04276061A (ja) * 1991-03-05 1992-10-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 蒸着装置
EP0669406A3 (de) * 1994-01-28 1997-03-05 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten von mindestens eine Einzelfaser aufweisendem Fasermedium sowie beschichtetes Fasermedium für faserverstärkte Bauteile.
US6119597A (en) * 1994-06-14 2000-09-19 Howard W. DeMoore Method and apparatus for handling printed sheet material
KR100296692B1 (ko) * 1996-09-10 2001-10-24 사토 도리 플라즈마cvd장치
JP3514408B2 (ja) * 1996-09-12 2004-03-31 キヤノン株式会社 透明導電膜をスパッタ形成する方法
US5812403A (en) * 1996-11-13 1998-09-22 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for cleaning surfaces in a substrate processing system
US6439245B1 (en) * 2000-06-30 2002-08-27 Lam Research Corporation Method for transferring wafers from a conveyor system to a wafer processing station
CN101406108B (zh) * 2006-03-26 2011-06-22 罗特斯应用技术公司 原子层沉积系统以及用于涂覆柔性衬底的方法
DE502007001444D1 (de) * 2007-04-04 2009-10-15 Applied Materials Inc Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung eines Kunststoffsubstrates
EP2110715B1 (en) * 2008-04-15 2012-06-06 Ten Cate Enbi International B.V. Developing roller, developing apparatus comprising such a developing roller as well a method for providing such a developing roller
US20130040420A1 (en) * 2009-03-04 2013-02-14 Nanosolar, Inc. Methods and devices for processing a precursor layer in a group via environment
EP2516694B1 (en) * 2009-12-24 2018-02-21 Posco Strip passing apparatus and apparatus for treating surface of strip with the same
CN102811853B (zh) * 2010-03-31 2015-05-20 琳得科株式会社 透明导电性膜及其制造方法以及使用透明导电性膜的电子器件
EP2590802B1 (en) * 2010-07-09 2014-07-02 Vito NV Method and device for atmospheric pressure plasma treatment
US20140014762A1 (en) * 2011-03-30 2014-01-16 Takashi Ichinomiya Process for producing roll of microporous plastic film
CN202358750U (zh) * 2011-11-15 2012-08-01 安徽铜峰电子股份有限公司 薄膜分切机
KR20160124846A (ko) * 2014-02-21 2016-10-28 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 얇은-필름 프로세싱 어플리케이션들을 위한 장치 및 방법
EP3478869A1 (en) * 2016-07-01 2019-05-08 Applied Materials, Inc. Processing system and method for processing a flexible substrate
CN109477203A (zh) * 2016-07-01 2019-03-15 应用材料公司 用于涂布柔性基板的沉积设备和涂布柔性基板的方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61278030A (ja) * 1985-05-31 1986-12-08 Hitachi Maxell Ltd 磁気記録媒体の製造方法およびその装置
JP2002322558A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Konica Corp 薄膜形成方法、光学フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP2003201570A (ja) * 2001-11-01 2003-07-18 Konica Corp 大気圧プラズマ処理装置、大気圧プラズマ処理方法及びそれを用いて作製した長尺フィルム
US20080289912A1 (en) * 2005-12-28 2008-11-27 Perron William C Sheave for Use in an Elevator System
JP2013035634A (ja) * 2011-08-04 2013-02-21 Kawata Mfg Co Ltd 定量供給装置
US20140205317A1 (en) * 2012-10-30 2014-07-24 Canon Kabushiki Kaisha Sheet processing apparatus and image forming system
JP2017095758A (ja) * 2015-11-24 2017-06-01 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルムの製造方法

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