KR20210016445A - 화장용 보존제 시스템 - Google Patents

Abstract

본 발명에 따르면, 화장용으로 허용되는 담체 및 보존제 시스템을 포함하는 화장 조성물이 제공되며, 상기 보존제 시스템은,
(i) 항미생물제;
(ii) 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA) 또는 이의 유도체를 포함하는 킬레이트화제; 및
(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제를 포함하고,
상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%의 양으로 존재한다.

Description

화장용 보존제 시스템

본 발명은, 신규한 보존제 시스템 및 화장품에서의 상기 시스템의 용도에 관한 것이다.

화장품(cosmetic product)의 미생물 오염은 문제가 되며, 제품 리콜 및 산업 경제 손실의 주요 원인이다. 화장품은, 물, 및 성장을 촉진하는 많은 영양소를 가지고 있기 때문에, 매우 다양한 미생물의 생존과 발달에 이상적인 기질이다¹.

화장품 내의 특정 미생물의 존재는 특히 눈, 입 또는 상처에서 예를 들면 피부 자극, 알레르기성 접촉 피부염 및 감염의 형태로 소비자에게 건강 위험을 초래할 수 있다. 또한, 미생물의 존재는 화장품의 관능 성질, 예를 들면, 냄새, 점도 및 색상에 부정적인 영향을 미칠 수 있다.

미생물 로드(microbial load)를 허용되는 수준으로 감소시킬 수 있는 보존제의 사용은 화장품의 미생물학적 품질을 개선시켰다. EU 및 기타 국가의 규정은 최대 화장품 사용 농도의 허용되는 보존제 목록을 제공한다. 그러나, 보존제는 화장품에서 발견되는 가장 관련성이 높은 알레르겐 중 하나로 알려져 있으며, 일부 민감한 사용자에게는 그 자체로 접촉 피부염을 유발한다. 또한, 사용할 수 있는 보존제의 다양성에도 불구하고, 특정 박테리아에 의한 화장품의 오염 빈도가 재발된다.

특히 문제가 되며 재발하는 오염물은 여러 인간 전염성 질환과 관련된 그람-음성 박테리아인 엔테로박테르 게르고비아에(Enterobacter gergoviae)(플루랄리박테르 게르고비아에(Pluralibacter gergoviae)로도 알려짐)이다.

이. 게르고비아에는 최근에 제조되었거나 부패한 화장품에서 품질 관리 실험실에서 종종 확인된다. 이. 게르고비아에는 환경의 어디에나 존재하고 이러한 종에 의한 화장품 오염의 원인은 매우 다르므로, 제조, 저장 및 사용 동안 화장품을 오염시킬 가능성이 있다. 화장품에서 단리된 이. 게르고비아에 균주의 대부분도 관련되어 있지 않다.

이. 게르고비아에는 다양한 보존제에 대해 상당한 수준의 내성을 보이는 것으로 나타났다. 예를 들면, 이. 게르고비아에는, 효소 PrbA의 생성 및 배출 메커니즘으로 인해 파라벤에 대한 타고난 내성을 나타낸다². 배출 메커니즘은 또한 이. 게르고비아에에 대한 메틸이소티아졸리논, 메틸클로로이소티아졸리논 및 트리클로산 적응에 관여하는 경향이 있다². 또한, 나트륨 벤조에이트에 대해 허용되는 최대 보존제 농도는, 화장품 내에서 이. 게르고비아에의 증식을 제한하고 이에 대한 적응성을 제어하는데에 비효율적이다².

보존제의 오용/과용은 이. 게르고비아에와 같은 보존제-내성 박테리아의 선별로 이어지는 주요 요인이다. 이. 게르고비아에의 성장과 증식에 민감한 화장품은, 효과적인 보존제 시스템이 없으면 조만간 이에 대한 보호 기능이 거의 또는 전혀 없어져, 상기 화장품이 인간이 사용하기에 안전하지 않게 된다.

본 발명의 발명자들은 특히, 이. 게르고비아에에 대해 개선된 항미생물 성질을 갖는 화장용 보존제 시스템을 제공해야 하는 소비자의 요구를 확인했다. 본 발명의 발명자들은 본 발명에 따라 사용되는 보존제 시스템이, 화장품 내의 이. 게르고비아에 및 표준 보존력 시험 미생물(standard challenge test microorganism)(예를 들면, 슈도모나스 아에루기노사(Pseudomonas aeruginosa), 스타필로코쿠스 아우레우스(Staphylococcus aureus), 에스케리키아 콜리(Escherichia coli), 칸디다 알비칸스(Candida albicans) 및 아스페르길루스 브라실리엔시스(Aspergillus brasiliensis))에 대한 보호에서 우수하고 효과적인 이익을 제공함을 발견했다.

따라서, 본 발명의 제1 측면에서, 화장 조성물로서,

(i) 항미생물제;

(ii) 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA) 또는 이의 유도체를 포함하는 킬레이트화제;

(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, 프로판디올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제(antimicrobial booster agent); 및

(iv) 화장용으로 허용되는 담체를 포함하고,

상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%의 양으로 존재하는 화장 조성물이 제공된다.

본 발명의 또 다른 측면에서, 화장용으로 허용되는 담체 및 보존제 시스템을 포함하는 화장 조성물이 제공되며, 상기 보존제 시스템은,

(i) 항미생물제;

(ii) 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA) 또는 이의 유도체를 포함하는 킬레이트화제; 및

(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제를 포함하고,

상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%의 양으로 존재한다.

본 발명의 또 다른 측면에서, 화장 조성물 내의 엔테로박테르 게르고비아에의 성장 또는 증식을 예방 또는 감소시키기 위한 보존제 시스템의 용도가 제공되며, 상기 보존제 시스템은,

(i) 항미생물제;

(ii) 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA) 또는 이의 유도체를 포함하는 킬레이트화제; 및

(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제를 포함하고,

상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%의 양으로 존재한다.

본 발명은, 문제가 되고 보존제-내성이 높은 이. 게르고비아에에 대한 항미생물 효과를 가지며, 화장품 중의 미생물 로드를 화장품에 대한 미생물학적 국제 표준에 따른 허용 수준 미만으로 유지할 수 있는, 보존제 시스템/보존제 성분을 특징으로 한다. 상기 보존제 시스템은, 화장품에 사용되는 경우, 피부에 매우 내인성이고 화장품의 관능 성질을 변함 없이 유지하는 제품으로 추가로 이어지게 한다.

놀랍게도, 본 발명에 따른 항미생물제, 킬레이트화제 및 항미생물성 부스터제의 특정한 조합을 사용하면, 이. 게르고비아에에 대한 우수한 항미생물 효과가 발생한다는 것이 밝혀졌다. 상기 조합은 최종 화장품 내의 더 낮은 전체 수준의 항미생물제로 효과적인 보존제 시스템을 형성할 수 있게 한다. 전체 항미생물제 수준이 낮음에도 불구하고, 이. 게르고비아에 및 표준 보존력 시험 미생물에 대한 적절한 보호가 제조, 저장 및 사용 동안 달성될 수 있다. 유리하게는, 감소된 사용되는 항미생물제의 수준은 피부에서 매우 내인성이고, 화장품 중의 높은 수준의 보존제와 관련된 알레르기성 또는 자극 효과를 감소시키거나 예방할 수 있다. 또한, 이. 게르고비아에와 같은 보존제-내성 박테리아에 대한 박테리아 적응 및 내성 문제도 감소될 것이다.

본 발명은 항미생물제를 사용한다. 용어 "항미생물제"는 당업자에 의해 이해되는 바와 같이 항미생물적 이익을 제공하는 제제를 의미하고자 한다. 예를 들면, 박테리아 및 진균과 같은 미생물의 성장 또는 증식을 예방 또는 감소할 수 있고/있거나 미생물을 죽일 수 있는 제제이다.

항미생물제는 당업자에 의해 이해되는 바와 같이 화장품에 허용되는 것으로 인식되는 보존제들 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다. 예를 들면, 항미생물제는, 클로르헥시딘, 클로르헥시딘 디글루코네이트, 클로르헥시딘 디하이드로클로라이드, 클로르헥시딘 디아세테이트, 클로르헥시딘 글루코네이트, 클로르헥시딘 하이드로클로라이드, 클로르헥시딘 포스파닐레이트, 클로르펜신, 벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르(나트륨 벤조에이트), 프로피온산 또는 이의 염, 살리실산 또는 이의 염, 소르브산 또는 이의 염(예를 들면, 칼륨 소르베이트), 포름알데하이드, 파라포름알데하이드, 아연 피리티온, 무기 아황산염, 아황산수소, 클로로부탄올, 4-하이드록시벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르(예를 들면, 메틸파라벤, 에틸파라벤, 프로필파라벤), 데하이드로아세트산 및/또는 이의 염(예를 들면, 나트륨 데하이드로아세테이트), 포름산 또는 이의 염, 디브로모헥사미딘 이세티오네이트; 티메로살, 페닐머큐르산 염, 운데실렌산 또는 이의 염, 헥세티딘, 브로노폴, 5-브로모-5-니트로-1,3-디옥산, 디클로로벤질 알코올, 벤질 알코올, 트리클로카반, 클로로레졸, 트리클로산, 클로록시레놀, 이미다졸리디닐 우레아, 폴리아미노프로필 비구아니드, 페녹시에탄올, 메텐아민, 쿼터늄-15, 클림바졸, DMDM 하이단토인, 1-하이드록시-4-메틸-6-(2,4,4-트리메틸렌펜틸)-2 피리돈, 피록톤 올아민, 브로모클로로펜, O-시멘-5-올, 메틸클로로이소티아졸리논, 메틸이소티아졸리논, 메틸클로로이소티아졸리논과 메틸이소티아졸리논의 혼합물, 클로로펜, 클로로아세트아미드, 페녹시이소프로폰올, 알킬(C12-C22) 트리메틸 암모늄 브로마이드, 알킬(C12-C22) 트리메틸 암모늄 클로라이드, 디메틸 옥사졸리딘, 디아졸리디닐 우레아, 헥사미딘, 헥사미딘 디이세티오네이트, 헥사미딘 디파라벤, 헥사미딘 파라벤, 글루타랄, 7-에틸바이사이클로옥사졸리딘, 나트륨 하이드록시메틸아미노아세테이트, 염화은, 벤제토늄 클로라이드, 벤잘코늄 클로라이드, 벤잘코늄 브로마이드, 벤잘코늄 사카리네이트, 벤질헤미포르말, 요오도프로피닐 부틸카바메이트, 은 시트레이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택될 수 있다.

일 양태에서, 항미생물제는, 클로르헥시딘, 클로르헥시딘 디글루코네이트, 클로르펜신, 벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르(예를 들면, 나트륨 벤조에이트), 소르브산 또는 이의 염(예를 들면, 칼륨 소르베이트), 4-하이드록시벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르(예를 들면, 메틸파라벤, 에틸파라벤, 프로필파라벤), 데하이드로아세트산 또는 이의 염(예를 들면, 나트륨 데하이드로아세테이트), 브로노폴, 벤질 알코올, 폴리아미노프로필 비구아니드, 페녹시에탄올 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다.

일 양태에서, 항미생물제는, 클로르헥시딘 디글루코네이트, 클로르펜신, 벤조산, 나트륨 벤조에이트, 칼륨 소르베이트, 데하이드로아세트산 및/또는 이의 염(예를 들면, 나트륨 데하이드로아세테이트), 폴리아미노프로필 비구아니드, 페녹시에탄올 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다.

일 양태에서, 항미생물제는, 메틸파라벤, 에틸파라벤 및/또는 프로필파라벤과 같은 어떠한 파라벤도 포함하지 않는다.

일 양태에서, 항미생물제는, 칼륨 소르베이트, 폴리아미노프로필 비구아니드, 클로르펜신, 나트륨 벤조에이트, 클로르헥시딘 디글루코네이트 또는 이들의 조합을 포함한다.

일 양태에서, 항미생물제는 (i) 페녹시에탄올, 데하이드로아세트산, 나트륨 데하이드로아세테이트 또는 벤조산 중 하나 이상 및 (ii) 칼륨 소르베이트, 폴리아미노프로필 비구아니드, 클로르펜신, 나트륨 벤조에이트 또는 클로르헥시딘 디글루코네이트 중 하나 이상을 포함하거나 이들로 구성된다.

항미생물제는, 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 약 0.01 내지 약 1중량%, 예를 들면 조성물을 기준으로 하여 약 0.05 내지 약 1중량%, 조성물을 기준으로 하여 약 0.1 내지 약 1중량%, 조성물을 기준으로 하여 약 0.25 내지 약 1중량%, 조성물을 기준으로 하여 약 0.3 내지 약 0.95중량%, 조성물을 기준으로 하여 약 0.5 내지 약 0.9중량%, 또는 조성물을 기준으로 하여 약 0.6 내지 약 0.85중량%의 양으로 존재할 수 있다.

본 발명의 화장 조성물에 존재하는 항미생물제의 총량은, 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 약 1중량% 이하일 수 있으며, 예를 들면, 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 약 0.95중량% 이하, 약 0.9중량% 이하, 약 0.85중량% 이하 또는 약 0.8중량% 이하일 수 있다.

항미생물제가 칼륨 소르베이트를 포함하는 양태에서, 칼륨 소르베이트는, 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 약 0.001 내지 약 1중량%, 예를 들면, 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 0.5중량%, 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 0.3중량%, 조성물을 기준으로 하여 약 0.005 내지 약 0.2중량%, 조성물을 기준으로 하여 약 0.008 내지 약 0.1중량%, 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 0.1중량%, 또는 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 0.09중량%의 양으로 존재할 수 있다. 하나의 이러한 양태에서, 칼륨 소르베이트는 조성물을 기준으로 하여 약 0.007 내지 약 0.09중량%의 양으로 존재한다. 칼륨 소르베이트는, 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 약 1중량% 이하, 예를 들면 조성물을 기준으로 하여 약 0.9중량% 이하, 약 0.8중량% 이하, 약 0.75중량% 이하, 약 0.7중량% 이하, 약 0.6중량% 이하, 약 0.5중량% 이하, 약 0.4중량% 이하, 약 0.3중량% 이하, 약 0.25중량% 이하, 약 0.2중량% 이하, 약 0.1중량% 이하, 약 0.09중량% 이하, 약 0.08중량% 이하 또는 약 0.075중량% 이하의 양으로 존재할 수 있다. 당업자는 다른 항미생물제가 화장 조성물에 존재할 수 있지만, 화장 조성물 내의 항미생물제들의 총량이 (적용 가능한 경우) 어떠한 언급된 상한도 초과해서는 안된다는 것을 이해할 것이다.

일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물은 어떠한 추가의 항미생물제도 추가로 포함하지 않는다. 일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물에 존재하는 유일한 항미생물제는 보존제 시스템에 존재하는 항미생물제이다.

본 발명은 킬레이트화제를 사용한다. 용어 "킬레이트화제"는 당업자에 의해 이해되는 바와 같이 금속 이온과 착물을 형성할 수 있는 제제를 의미하고자 한다.

킬레이트화제는, 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA), 디칼륨 EDTA, 디나트륨 EDTA, 테트라나트륨 EDTA, 디암모늄 EDTA, 칼슘 디나트륨 EDTA, TEA-EDTA, 트리칼륨 EDTA, 트리나트륨 EDTA, 하이드록시에틸 에틸렌디아민 트리아세트산(HEDTA), 트리나트륨 HEDTA 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택될 수 있다. 일 양태에서, 킬레이트화제는 테트라나트륨 EDTA를 포함한다.

킬레이트화제는, 조성물의 총 중량을 기준으로 하여, 약 0.001 내지 약 2중량%, 예를 들면, 약 0.001 내지 약 1.5중량%, 약 0.005 내지 약 1중량%, 약 0.008 내지 약 0.8중량%, 약 0.01 내지 약 0.5중량%, 또는 약 0.01 내지 약 0.25중량%의 양으로 존재할 수 있다. 일 양태에서, 킬레이트화제는 약 0.02 내지 약 0.2%의 양으로 존재한다.

일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물은 어떠한 추가의 킬레이트화제도 추가로 포함하지 않는다. 일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물에 존재하는 유일한 킬레이트화제는 보존제 시스템에 존재하는 킬레이트화제이다.

보존제 시스템에서, 항미생물제는 적어도 킬레이트화제와 동일한 양으로 존재할 수 있다. 일 양태에서, 항미생물제는 킬레이트화제의 양의 약 20배 이하, 예를 들면, 약 19.5배 이하, 약 19배 이하, 약 18.5배 이하, 약 18배 이하, 약 17.5배 이하, 약 17배 이하, 약 16.5배 이하, 약 16배 이하 또는 약 15.5배 이하의 양으로 존재한다.

본 발명은 항미생물성 부스터제를 사용한다. 유리하게는, 본 발명에서 항미생물성 부스터제의 사용은 조성물의 보다 양호한 제형을 가능하게 하고, 항미생물제의 활성을 추가로 개선할 수 있다.

바람직한 양태에서, 항미생물성 부스터제는 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, 프로판디올 또는 이들의 조합을 포함한다.

항미생물성 부스터제는, 본 발명의 화장 조성물 중량의 약 0.001 내지 약 2중량%, 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%, 조성물을 기준으로 하여 약 0.005 내지 약 1중량%, 또는 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 0.8중량%의 양으로 존재할 수 있다. 일 양태에서, 항미생물성 부스터제는 임의로, 에틸헥실글리세린을 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 0.5중량%의 양으로 포함한다.

놀랍게도, 본 발명에 따른 항미생물제, 킬레이트화제 및 항미생물성 부스터제의 조합은 화장품에서 이. 게르고비아에의 성장 또는 증식을 감소시키거나 예방하는데 효과적이다. 상기 조합은 또한, 표준 보존력 시험 미생물인 슈도모나스 아에루기노사, 스타필로코쿠스 아우레우스, 에스케리키아 콜리, 칸디다 알비칸스 및 아스페르길루스 브라실리엔시스에 대해서도 효과적이다. 화장품에 통상적으로 사용되는 수준과 비교하여 감소된 항미생물제의 개별 및/또는 전체 수준에도 불구하고, 본 발명의 화장 조성물이 오염물로부터 보다 더 우수하게 보존되고 보호되지는 않을지라도 마찬가지로 효과적이라는 것은 특히 예상치 못한 점이다. 결과적으로, 화장 조성물은 피부에서 보다 더 내인성이며, 종종 화장품 내의 높은 수준의 보존제와 관련되는 알레르기성 또는 자극 효과를 감소시키거나 예방할 수 있다. 따라서, 단일 제제에 항미생물제, 킬레이트화제 및 항미생물성 부스터제의 조합의 사용에 대한 예측되지 않았을 기술적 이점이 있다.

본 발명의 화장 조성물은, EU 약전 섹션 5.1.3에 설명되었고 이하의 실시예 섹션에서도 논의되는 통과 허용 기준에 따라 박테리아, 효모 및 곰팡이(예를 들면, 이. 게르고비아에, 슈도모나스 아에루기노사, 스타필로코쿠스 아우레우스, 에스케리키아 콜리, 칸디다 알비칸스 및 아스페르길루스 브라실리엔시스)에 대한 'A 기준 통과'를 달성하는 데 효과적인 양으로 보존제 시스템을 포함할 수 있다.

예를 들면, 박테리아(예를 들면, 이. 게르고비아에)의 경우, 화장 조성물은 보존제 시스템을, 화장 조성물의 접종 2일 후 시점의 접종물의 경우 수득된 값에 대해 생존 가능한/살아있는 박테리아의 수를 적어도 2log₁₀ 감소시키는 데 효과적인 양 및/또는 화장 조성물의 접종 7일 후 시점의 접종물의 경우 수득된 값에 대해 생존 가능한/살아있는 미생물의 수를 적어도 3log₁₀ 감소시키는데 효과적인 양으로 포함할 수 있다.

추가로 또는 다르게는, 화장 조성물은 보존제 시스템을, 1mL당 약 10⁵ 내지 약 10⁶개의 상기 미생물(예를 들면, 이. 게르고비아에, 슈도모나스 아에루기노사, 스타필로코쿠스 아우레우스, 에스케리키아 콜리, 칸디다 알비칸스 및 아스페르길루스 브라실리엔시스)을 포함하는 조성물의 접종 2일 후에 플레이트 계수시 100개 미만의 생존 가능한 미생물을 생성하는 데 효과적인 양으로 포함할 수 있다. 추가로 또는 다르게는, 화장 조성물은 보존제 시스템을, 1mL당 약 10⁵ 내지 약 10⁶개의 상기 미생물을 포함하는 조성물의 접종 7일 후에 플레이트 계수시 10개 미만의 생존 가능한 미생물을 생성하기에 효과적인 양으로 포함할 수 있다. 추가로 또는 다르게는, 화장 조성물은 보존제 시스템을, 1mL 당 약 10⁵ 내지 약 10⁶개의 상기 미생물 포함하는 조성물의 접종 14일 후에 플레이트 계수시 10개 미만의 생존 가능한 미생물을 생성하기에 효과적인 양으로 포함할 수 있다. 추가로 또는 다르게는, 화장 조성물은 보존제 시스템을, 1mL 당 약 10⁵ 내지 약 10⁶개의 상기 미생물을 포함하는 조성물의 접종 28일 후에 플레이트 계수시 10개 미만의 생존 가능한 미생물을 생성하기에 효과적인 양으로 포함할 수 있다.

본 발명은 이하의 양태들을 제공한다.

일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물은 화장용으로 허용되는 담체 및 보존제 시스템을 포함하며, 상기 보존제 시스템은,

(i) 항미생물제;

(ii) 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA), 디칼륨 EDTA, 디나트륨 EDTA, 테트라나트륨 EDTA, 디암모늄 EDTA, 칼슘 디나트륨 EDTA, TEA-EDTA, 트리칼륨 EDTA, 트리나트륨 EDTA, 하이드록시에틸 에틸렌디아민 트리아세트산(HEDTA), 트리나트륨 HEDTA 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 킬레이트화제; 및

(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제를 포함하고,

상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%(예를 들면, 약 0.01 내지 약 1중량%, 또는 약 0.1 내지 약 1중량%)의 양으로 존재한다.

일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물은 화장용으로 허용되는 담체 및 보존제 시스템을 포함하며, 상기 보존제 시스템은,

(i) 항미생물제;

(ii) 디나트륨 EDTA, 트리나트륨 EDTA, 테트라나트륨 EDTA 또는 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함하는 킬레이트화제; 및

(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제를 포함하고,

상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%(예를 들면, 약 0.01 내지 약 1중량%, 또는 약 0.1 내지 약 1중량%)의 양으로 존재한다.

일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물은 화장용으로 허용되는 담체 및 보존제 시스템을 포함하며, 상기 보존제 시스템은,

(i) 칼륨 소르베이트, 클로르펜신, 나트륨 벤조에이트, 클로르헥시딘 디글루코네이트, 페녹시에탄올, 벤조산, 데하이드로아세트산, 나트륨 데하이드로아세테이트, 폴리아미노프로필 비구아니드 또는 이들의 조합을 포함하는 항미생물제;

(ii) EDTA 또는 이의 유도체를 포함하는 킬레이트화제; 및

(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제를 포함하고,

상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%(예를 들면, 약 0.01 내지 약 1중량%, 또는 약 0.1 내지 약 1중량%)의 양으로 존재한다.

일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물은 화장용으로 허용되는 담체 및 보존제 시스템을 포함하며, 상기 보존제 시스템은,

(i) (a) 페녹시에탄올, 데하이드로아세트산 또는 이의 염, 나트륨 데하이드로아세테이트 또는 벤조산 중 하나 이상 및 (b) 칼륨 소르베이트, 폴리아미노프로필 비구아니드, 클로르펜신, 나트륨 벤조에이트 또는 클로르헥시딘 디글루코네이트 중 하나 이상를 포함하거나 이들로 구성되는 항미생물제;

(ii) EDTA 또는 이의 유도체를 포함하는 킬레이트화제; 및

(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제를 포함하고,

상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%(예를 들면, 약 0.01 내지 약 1중량%, 또는 약 0.1 내지 약 1중량%)의 양으로 존재한다.

일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물은 화장용으로 허용되는 담체 및 보존제 시스템을 포함하며, 상기 보존제 시스템은,

(i) 클로르헥시딘 또는 이의 염, 클로르펜신, 벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르(나트륨 벤조에이트), 소르브산 또는 이의 염(예를 들면, 칼륨 소르베이트), 4-하이드록시벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르(예를 들면, 메틸파라벤, 프로필파라벤), 데하이드로아세트산 및/또는 이의 염(예를 들면, 나트륨 데하이드로아세테이트), 브로노폴, 폴리아미노프로필 비구아니드, 페녹시에탄올 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물제;

(ii) 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA), 디칼륨 EDTA, 디나트륨 EDTA, 테트라나트륨 EDTA, 디암모늄 EDTA, 칼슘 디나트륨 EDTA, TEA-EDTA, 트리칼륨 EDTA, 트리나트륨 EDTA, 하이드록시에틸 에틸렌디아민 트리아세트산(HEDTA), 트리나트륨 HEDTA 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 킬레이트화제; 및

(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제를 포함하고,

상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%(예를 들면, 약 0.01 내지 약 1중량%, 또는 약 0.1 내지 약 1중량%)의 양으로 존재하고/존재하거나 상기 킬레이트화제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 2중량%(예를 들면, 약 0.007 내지 약 0.7중량%, 또는 약 0.02 내지 약 0.2중량%)의 양으로 존재할 수 있다. 하나의 이러한 양태에서, 상기 화장 조성물에 존재하는 유일한 항미생물제는 보존제 시스템에 존재하는 항미생물제일 수 있다.

일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물은 화장용으로 허용되는 담체 및 보존제 시스템을 포함하며, 상기 보존제 시스템은,

(i) 클로르헥시딘 또는 이의 염, 클로르펜신, 벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르(나트륨 벤조에이트), 소르브산 또는 이의 염(예를 들면, 칼륨 소르베이트), 4-하이드록시벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르(예를 들면, 메틸파라벤, 프로필파라벤), 데하이드로아세트산 및/또는 이의 염(예를 들면, 나트륨 데하이드로아세테이트), 브로노폴, 폴리아미노프로필 비구아니드, 페녹시에탄올 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물제;

(ii) 테트라나트륨 EDTA를 포함하는 킬레이트화제; 및

(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제를 포함하고,

상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%(예를 들면, 약 0.01 내지 약 1.3중량%, 또는 약 0.1 내지 약 1중량%)의 양으로 존재하고,

임의로, 상기 킬레이트화제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 2중량%(예를 들면, 약 0.007 내지 약 0.7중량%, 또는 약 0.02 내지 약 0.2중량%)의 양으로 존재하고,

임의로, 상기 항미생물성 부스터제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 2중량%(예를 들면, 약 0.005 내지 약 0.5중량%, 또는 약 0.01 내지 약 0.5중량%)의 양으로 존재하고,

임의로, 본 발명의 화장 조성물에 존재하는 유일한 항미생물제는 보존제 시스템에 존재하는 항미생물제이다.

화장 조성물로서,

(i) 항미생물제;

(ii) 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA), 디칼륨 EDTA, 디나트륨 EDTA, 테트라나트륨 EDTA, 디암모늄 EDTA, 칼슘 디나트륨 EDTA, TEA-EDTA, 트리칼륨 EDTA, 트리나트륨 EDTA, 하이드록시에틸 에틸렌디아민 트리아세트산(HEDTA), 트리나트륨 HEDTA 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 킬레이트화제;

(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제; 및

(iv) 화장용으로 허용되는 담체를 포함하고,

상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%의 양으로 존재하고,

임의로, 상기 킬레이트화제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 2중량%(예를 들면, 약 0.007 내지 약 0.7중량%, 또는 약 0.02 내지 약 0.2중량%)의 양으로 존재하고,

임의로, 상기 항미생물성 부스터제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 2중량%(예를 들면, 약 0.005 내지 약 0.5중량%, 또는 약 0.01 내지 약 0.5중량%)의 양으로 존재하는, 화장 조성물.

화장 조성물로서,

(i) 클로르헥시딘 또는 이의 염, 클로르펜신, 벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르(예를 들면, 나트륨 벤조에이트), 소르브산 또는 이의 염(예를 들면, 칼륨 소르베이트), 4-하이드록시벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르(예를 들면, 메틸파라벤, 프로필파라벤), 데하이드로아세트산 및/또는 이의 염(예를 들면, 나트륨 데하이드로아세테이트), 브로노폴, 폴리아미노프로필 비구아니드, 페녹시에탄올, 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물제;

(ii) 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA), 디칼륨 EDTA, 디나트륨 EDTA, 테트라나트륨 EDTA, 디암모늄 EDTA, 칼슘 디나트륨 EDTA, TEA-EDTA, 트리칼륨 EDTA, 트리나트륨 EDTA, 하이드록시에틸 에틸렌디아민 트리아세트산(HEDTA), 트리나트륨 HEDTA 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 킬레이트화제;

(iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제; 및

(iv) 화장용으로 허용되는 담체를 포함하고,

상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%의 양으로 존재하고,

임의로, 상기 킬레이트화제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 2중량%(예를 들면, 약 0.007 내지 약 0.7중량%, 또는 약 0.02 내지 약 0.2중량%)의 양으로 존재하고,

임의로, 상기 항미생물성 부스터제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 2중량%(예를 들면, 약 0.005 내지 약 0.5중량%, 또는 약 0.01 내지 약 0.5중량%)의 양으로 존재하고,

임의로, 상기 화장 조성물은 어떠한 추가의 항미생물제도 추가로 포함하지 않는, 화장 조성물.

화장 조성물

본 발명은 화장용으로 허용되는 담체를 사용한다. 담체는 수계, 오일계 또는 에멀젼계일 수 있다.

담체가 에멀젼계인 양태에서, 조성물은 유중수, 수중유, 수중유중수(water-in-oil-in-water) 또는 유중수중유(oil-in-water-in-oil) 에멀젼 형태일 수 있다.

담체가 수계인 양태에서, 물은 상기 조성물을 기준으로 하여 약 40중량% 이상, 약 45중량% 이상, 약 50중량% 이상, 약 55중량% 이상 또는 약 60중량% 이상의 수준으로 존재할 수 있다.

본 발명의 화장 조성물은 피부 및/또는 모발에 국소 도포하기에 적합한 임의의 형태로 제공될 수 있다. 본 발명의 화장 조성물은 당업자에게 공지된 임의의 통상적인 제형을 통해 피부 및/또는 모발에 전달되고/전달되거나 도포될 수 있다. 본 발명의 일반적인 제형 유형은, 액체, 크림, 로션, 밀크(milk), 무스, 겔, 스프레이, 세럼, 폼(foam), 에어로졸 및 연고이다.

화장 조성물이 유중수 에멀젼 형태인 양태에서, 물은 상기 조성물을 기준으로 하여 약 20 내지 약 60중량%, 상기 조성물을 기준으로 하여 약 20 내지 약 50중량%, 또는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 35 내지 약 45중량%의 수준으로 존재할 수 있다. 화장 조성물이 유중수 에멀젼 형태인 일 양태에서, 물은 상기 조성물을 기준으로 하여 약 35 내지 약 45중량%의 수준으로 존재한다.

화장 조성물이 수중유 에멀젼 형태인 양태에서, 물은 상기 조성물을 기준으로 하여 약 40 내지 약 90중량% 또는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 60 내지 약 95중량%의 수준으로 존재할 수 있다. 화장 조성물이 수중유 에멀젼 형태인 일 양태에서, 물은 상기 조성물을 기준으로 하여 약 60 내지 약 95중량%의 수준으로 존재한다.

담체 및 보존제 시스템 이외에, 본 발명의 화장 조성물은 일반적으로 당업자에게 널리 공지된 다른 성분 또는 부형제를 추가로 포함한다.

본 발명의 화장 조성물은, 글리세린, 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 헥실렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 소르비톨, 나트륨 히알루로네이트, 우레아, 자일리톨, 락테이트, 프룩토스, 글루코스, 만노스, 자일로스, 꿀, 피롤리돈, 및 카복실산 및 이의 염을 포함하지만 이들로 제한되지는 않는 하나 이상의 보습제를 추가로 포함할 수 있다. 존재하는 경우, 상기 하나 이상의 보습제는 화장 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 20중량%, 약 0.1 내지 약 10중량%, 또는 약 0.5 내지 약 7중량%의 양으로 상기 화장 조성물에 존재할 수 있다.

본 발명의 화장 조성물은, 세틸 에스테르, 세라 알바(cera alba), PPG-15 스테아릴 에테르, 에틸헥실 스테아레이트, 세틸 디메티콘, 옥틸도데칸올, PPG-20 메틸 글루코스 에테르, 이소프로필 미리스테이트, 이소프로필 팔미테이트, 이소프로필 라우레이트, 이소데실 라우레이트, 이소데실 네오펜타노에이트, 이소헥사데칸, 펜타에리스리틸 테트라이소스테아레이트, 카프릴산/카프르산 트리글리세라이드, 카놀라유, 해바라기유(Helianthus annus), 올리브유(Olea europea), 면실유(Gossypium herbaceum), 호호바 오일(Simmondsia chinensis), 시어 버터(Butyrospermum parkii), 코코아 버터(Theobroma cacao), 쿠푸아쿠 버터(Theobroma grandiflorum), 아보카도 오일(Persea gratissima), 액상 파라핀, 디메티콘, 페닐 트리메티콘, 사이클로펜타실록산, 디메티콘올 및 페트롤라툼을 포함하지만 이들로 제한되지는 않는 하나 이상의 연화제를 추가로 포함할 수 있다. 존재하는 경우, 상기 하나 이상의 연화제는 화장 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 20중량%, 약 0.1 내지 약 10중량%, 또는 약 0.5 내지 약 7중량%의 양으로 상기 화장 조성물에 존재할 수 있다.

화장 조성물은, 스테아레스-2, 스테아레스-21, 스테아레스-10, 세테아레스-5, 세테아레스-20, 세테아릴 글루코사이드, 올레스-10, 글리세릴 스테아레이트, 폴리글리세롤-3 올레에이트, 폴리글리세릴-3 메틸글루코스 디스테아레이트, 나트륨 스테아레이트, PEG-60, PEG-12 올레에이트, PEG-2 스테아레이트, PEG-12 스테아레이트, PEG-20 스테아레이트, PEG-100 스테아레이트, 폴리소르베이트-60, 세틸 알콜, 세테아릴 알콜, 칼륨 세틸 포스페이트, 세테아릴 올리베이트, 소르비탄 올리베이트, PEG-80 소르비탄, 소르비탄 올레에이트, 소르비탄 스테아레이트 및/또는 소르비탄 팔미테이트를 포함하지만 이들로 제한되지는 않는 하나 이상의 유화제를 추가로 포함할 수 있다. 일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물은 유화제로서 설페이트를 포함하지 않는다. 하나 이상의 유화제가 화장 조성물에 존재하는 양태에서, 상기 하나 이상의 유화제는 상기 화장 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 5중량% 또는 약 0.01 내지 약 2중량%의 양으로 존재할 수 있다. 일 양태에서, 본 발명의 화장 조성물은 유화제를 함유하지 않는다.

본 발명의 화장 조성물은 음이온성 계면활성제(예를 들면, 나트륨 라우릴 설페이트, 나트륨 라우레스 설페이트, 암모늄 라우레스 설페이트, 디나트륨 라우레스 설포석시네이트 및 나트륨 C12-15 파레스-12 카복실레이트), 양쪽성/쯔비터이온성 계면활성제(예를 들면, 코크아미도프로필 베타인, 나트륨 코코암포아세테이트 및 코크아미도프로필 하이드록시설타인), 비이온성 계면활성제(예를 들면, 코크아미드 DEA, 코크아미드 MEA, 데실 글루코사이드, 라우릴 글루코사이드), 및 양이온성 계면활성제(예를 들면, 세트리모늄 클로라이드, 베헨트리모늄 클로라이드 및 벤잘코늄 클로라이드)를 포함하지만 이들로 제한되지는 않는 하나 이상의 계면활성제를 추가로 포함할 수 있다. 하나 이상의 계면활성제가 화장 조성물에 존재하는 양태에서, 상기 하나 이상의 계면활성제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.1 내지 약 10중량%, 예를 들면, 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.25 내지 약 7.5중량%, 또는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.5 내지 약 6중량%의 양으로 존재할 수 있다. 하나 이상의 계면활성제가 화장 조성물에 존재하는 일 양태에서, 상기 하나 이상의 계면활성제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.5 내지 약 5중량%의 양으로 존재한다.

본 발명의 화장 조성물은, 하나 이상의 항산화제, 예를 들면, 오디(예를 들면, Morus alba), 인삼(예를 들면, Panax ginseng), 라즈베리, 오레가노(예를 들면, Origanum vulgare), 녹차(예를 들면, Camellia sinensis의 녹색 잎), 백차(예를 들면, Camellia sinensis), 블루베리(예를 들면, Vaccinium Cyanococcus), 유칼립투스 글로불루스(Eucalyptus globulus), 카모마일(예를 들면, Anthenis nobilis), 프랑스 해송 껍질(예를 들면, Pinus pinaster, 상표명 Pycnogenol 하에 판매), 로즈마리(예를 들면, Rosemarinus officialis), 포도씨를 포함하는 포도(예를 들면, Vitis vinifera), 펜넬(예를 들면, Foeniculi fructus), 카라가나 시니카(caragana sinica), 마조람(예를 들면, Origanum majorana), 크로커스(예를 들면, Crocus sativus), 사과(예를 들면, Malus domestica), 커피, 그린 커피, 체리(예를 들면, Prunus avium), 스노우 알게(예를 들면, Chlamydomonas nivalis), 암라(예를 들면, Pyllanthus emblica), 은행(예를 들면, Ginkgo biloba), 모링가(예를 들면, Moringa oleilera), 생강, 목련(예를 들면, Magnolioideae virginiana), 프랑스 사프란, 에델바이스(예를 들면, Leontopodium alpinium), 백수련(예를 들면, nymphaea alba), 울금, 마시멜로(예를 들면, Althaea officianlis), 우엉(예를 들면, Arctium lappa), 빌베리(예를 들면, Vaccinium myrtillus), 크랜베리(예를 들면, Vaccinium oxycoccus), 석류(예를 들면, Punica granatum), 세이지(예를 들면, Salvia officianlis), 타임(예를 들면, Thymus vulgaris), 해바라기(예를 들면, Helianthus annus), 야생 당근(예를 들면, Daucus carota), 홉(예를 들면, Humulus lupulus), 위치 하젤(예를 들면, Hamamelis), 참나무(예를 들면, Quercus), 동백꽃(예를 들면, Theacea), 붉은 토끼풀(예를 들면, Tritolium pratense), 아마(예를 들면, Linium usitatissiumum), 레몬(예를 들면, Citrus limon), 자작나무(예를 들면, Betula), 수레국화(예를 들면, Centaurea cyanus), 제라늄, 마디풀, 콩(예를 들면, Glycine max), 고삼의 추출물 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 폴리페놀계 항산화제를 추가로 포함할 수 있다. 하나 이상의 항산화제가 화장 조성물에 존재하는 일 양태에서, 상기 하나 이상의 항산화제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.1 내지 약 10중량%, 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.1 내지 약 8중량%, 또는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 1 내지 약 5중량%의 양으로 존재한다. 하나 이상의 항산화제가 화장 조성물에 존재하는 일 양태에서, 상기 항산화제는 유칼립투스(예를 들면, Eucalyptus globulus), 카모마일(예를 들면, Anthenis nobilis), 로즈마리(예를 들면, Rosemarinus officialis) 및/또는 홉(예를 들면, Humulus lupulus)의 추출물을 포함한다.

본 발명의 화장 조성물은 하나 이상의 비타민을 추가로 포함할 수 있다. 예를 들면, 화장 조성물은, 비타민 B, 비타민 B1 내지 비타민 B12, 비타민 C, 비타민 D, 비타민 E, 비타민 K, 비타민 H, 이들의 유도체, 이들의 프로비타민(예를 들면, 프로비타민 B5(판테놀)), 또는 이들의 조합을 추가로 포함할 수 있다. 하나 이상의 비타민이 화장 조성물에 존재하는 양태에서, 상기 하나 이상의 비타민은 상기 화장 조성물을 기준으로 하여 약 0.0001 내지 약 50중량%, 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 10중량%, 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 8중량%, 또는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.1 내지 약 5중량%의 양으로 존재할 수 있다. 하나 이상의 비타민이 화장 조성물에 존재하는 일 양태에서, 상기 하나 이상의 비타민은 상기 화장 조성물을 기준으로 하여 약 0.1 내지 약 5중량%의 양으로 존재한다. 하나 이상의 비타민이 존재하는 일 양태에서, 상기 비타민은 비타민 C 또는 이의 유도체이다.

본 발명의 화장 조성물은, 무기 썬스크린제(예를 들면, 마이크로미세 이산화티탄, 마이크로미세 산화아연, 산화철, 운모 및/또는 질화붕소) 및 유기 썬스크린제(예를 들면, p-아미노벤조산, 이의 에스테르 및 유도체(예를 들면, 2-에틸헥실 p-디메틸-아미노벤조에이트), 메톡시신나메이트 에스테르(예를 들면, 2-에틸헥실 p-메톡시신나메이트, 2-에톡시에틸 p-메톡시신나메이트 또는 α,β-디-(p-메톡시신나모일)-α'-(2에틸헥사노일)-글리세린), 벤조페논(예를 들면, 옥시벤존), 디벤조일메탄(예를 들면, 4-(tert-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄), 2-페닐벤즈이미다졸-5 설폰산 및 이들의 염, 알킬-β,β-디페닐아크릴레이트(예를 들면, 알킬 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 예를 들면 옥토크릴렌) 트리아진(예를 들면, 2,4,6-트리아닐리노-(p-카보-2-에틸-헥실-1-옥시)-1,3,5 트리아진) 및/또는 캄포 유도체(예를 들면 메틸벤질리덴 캄포)를 포함하지만 이들로 제한되지는 않는 하나 이상의 썬스크린제를 추가로 포함할 수 있다. 하나 이상의 썬스크린제가 화장 조성물에 존재하는 양태에서, 상기 하나 이상의 썬스크린제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 10중량%의 양으로 존재할 수 있다.

본 발명의 화장 조성물은, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 아미노메틸 프로판올, 시트르산, 나트륨 시트레이트 및/또는 트리에탄올아민을 포함하지만 이들로 제한되지는 않는 하나 이상의 pH 조정제를 추가로 포함할 수 있다. 본 발명의 화장 조성물은, 약 3 내지 약 10, 예를 들면, 약 4 내지 약 8, 또는 약 5 내지 약 7의 pH를 가질 수 있다. 바람직하게는, 조성물의 pH는 약 5 내지 약 5.5이다. 하나 이상의 pH 조정제가 화장 조성물에 존재하는 양태에서, 상기 하나 이상의 pH 조정제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 10중량%의 양으로 존재할 수 있다.

본 발명의 화장 조성물은 하나 이상의 증점제 또는 겔화제를 추가로 포함할 수 있다. 일 양태에서, 증점제는, 코크아미드 MEA, 글리세릴 라우레이트, 글리세릴 올레에이트, 라우레스-3, 라우레스-4, PEG-7 글리세릴 코코에이트, PEG-18 글리세릴 올레에이트, PEG-18 글리세릴 코코에이트, PEG-120 메틸 글루코스 디올레에이트, PEG-120 메틸 글루코스 트리올레에이트, PEG-150 디스테아레이트, PEG-200 수소화 글리세릴 팔메이트, 아크릴레이트 공중합체, 아크릴레이트/C10-30 알킬 아크릴레이트 크로스중합체, 아크릴레이트 크로스중합체-4, 카보머, 하이드록시에틸 셀룰로오스, 마그네슘 알루미늄 실리케이트, 크산탄 검 또는 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 일 양태에서, 증점제는, 코크아미드 MEA, 글리세릴 라우레이트, 글리세릴 올레에이트, 라우레스-3, 라우레스-4, PEG-7 글리세릴 코코에이트, PEG-18 글리세릴 올레에이트, PEG-18 글리세릴 코코에이트, PEG-120 메틸 글루코스 디올레에이트, PEG-120 메틸 글루코스 트리올레에이트, PEG-150 디스테아레이트, PEG-200 수소화 글리세릴 팔메이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 하나 이상의 증점제/겔화제가 화장 조성물에 존재하는 양태에서, 상기 하나 이상의 증점제/겔화제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 10중량%의 양으로 존재할 수 있다.

본 발명의 화장 조성물은 하나 이상의 향료 및/또는 착색제를 추가로 포함할 수 있다.

본 발명의 적용에서, 용어 "약"은 ±10%, 예를 들면 ±5%, 예를 들면, ±2% 또는 ±1%를 포함할 수 있다.

당업자는 본 발명의 일 양태 또는 측면의 임의의 특징적인 구성(feature)들이, 적절한 경우, 본 발명의 다른 양태들에 적용될 수 있는 것을 이해할 것이다.

실시예

항미생물 보존 효능 시험 ³

화장 조성물에서의 항미생물 보존의 효능을 시험했다.

시험은, 화장 조성물(화장용으로 허용되는 담체 및 보존제 성분을 포함함)을 적절한 미생물의 접종물로 공격 접종(challenging)하고, 상기 접종된 조성물을 지정된 온도에서 저장하고, 상기 접종된 조성물로부터 지정된 시간 간격으로 샘플을 얻고, 상기 얻어진 샘플 중의 미생물을 계수하는 것으로 구성되었다.

하기 방법을 따랐다.

방법

1. 시험 유기체(예를 들면, 이. 게르고비아에, 슈도모나스 아에루기노사, 스타필로코쿠스 아우레우스, 에스케리키아 콜리, 칸디다 알비칸스 또는 아스페르길루스 브라실리엔시스)의 현탁액을 화장 조성물에 접종하여 조성물 1ml당 10⁵ 내지 10⁶개의 미생물을 접종한다. 접종물 현탁액의 용적은 조성물 용적의 1%를 초과하지 않는다.

2. 균질하게 분포되도록 철저히 혼합한다.

3. 접종된 제품을 광을 피하여 20 내지 25℃에 저장한다.

4. 0시간 및 이후, 시간 간격, 즉, 2일, 7일, 14일 및 28일에 1mL의 조성물 샘플을 얻는다.

5. 플레이트 계수로 생존 가능한 미생물의 수를 측정한다.

6. 다른 시험 유기체에 대해 반복한다.

이하의 실험에서 모든 화장 조성물은 상기 방법에 따라 시험하여 그 안에 함유된 성분들의 보존 효과를 측정했다. 모든 시험된 조성물은 보존제 성분에 대한 이하의 예외들로 동일한 수준의 동일한 성분으로 구성되었다.

실험 1

본 실험에서, 화장 조성물은 이. 게르고비아에 및 각각의 표준 보존력 시험 미생물인 피. 아에루기노사(P. aeruginosa), 에스. 아우레우스(S. aureus), 이. 콜리(E. coli), 씨. 알비칸스(C. albicans) 및 에이. 브레실리엔시스(A. brasiliensis)에 대해 시험되었다.

조성물 1a

시험된 첫 번째 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.76중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA), 데하이드로아세트산(DHA) 및 나트륨 데하이드로아세테이트(NaDH))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물성 부스터제인 에틸헥실글리세린(EHG)을 함유했다. 상기 조성물은 상기 조성물을 기준으로 하여 0.075중량% 수준으로 항미생물제인 칼륨 소르베이트(PS)를 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.05중량% 수준으로 킬레이트화제인 테트라나트륨 EDTA를 추가로 함유했다.

조성물 1b(비교)

시험된 다른 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.76중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA), 데하이드로아세트산(DHA) 및 나트륨 데하이드로아세테이트(NaDH))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물성 부스터제인 에틸헥실글리세린(EHG)을 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.075중량% 수준으로 항미생물제인 칼륨 소르베이트(PS)를 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.07중량% 수준으로 킬레이트화제인 테트라나트륨 글루타메이트 디아세테이트(테트라나트륨 GLDA)를 추가로 함유했다.

실험 2

본 실험에서, 화장 조성물은 이. 게르고비아에 및 각각의 표준 보존력 시험 미생물인 피. 아에루기노사, 에스. 아우레우스, 이. 콜리, 씨. 알비칸스 및 에이. 브레실리엔시스에 대해 시험되었다.

조성물 2a

시험된 첫 번째 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.76중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA), 데하이드로아세트산(DHA) 및 나트륨 데하이드로아세테이트(NaDH))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물성 부스터제인 에틸헥실글리세린(EHG)을 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.0075중량% 수준으로 항미생물제인 폴리아미노프로필 비구아니드(PHMB)를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.05중량% 수준으로 킬레이트화제인 테트라나트륨 EDTA를 추가로 함유했다.

조성물 2b(비교)

시험된 다른 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.76중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA), 데하이드로아세트산(DHA) 및 나트륨 데하이드로아세테이트(NaDH))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물성 부스터제인 에틸헥실글리세린(EHG)을 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.015중량% 수준으로 항미생물제인 폴리아미노프로필 비구아니드(PHMB)를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.07중량% 수준으로 킬레이트화제인 테트라나트륨 글루타메이트 디아세테이트(테트라나트륨 GLDA)를 추가로 함유했다.

실험 3

본 실험에서, 화장 조성물은 이. 게르고비아에에 대해 시험되었다.

조성물 3a

시험된 첫 번째 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.6중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA) 및 데하이드로아세트산(DHA))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.4중량%의 합쳐진 수준으로 에틸헥실글리세린(EHG)과 카프릴릴 글리콜(CG)의 항미생물성 부스터제 블렌드를 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물제인 나트륨 벤조에이트(SB)를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.05중량% 수준으로 킬레이트화제인 테트라나트륨 EDTA를 추가로 함유했다.

조성물 3b(비교)

시험된 또 다른 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.6중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA) 및 데하이드로아세트산(DHA))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.4중량%의 합쳐진 수준으로 에틸헥실글리세린(EHG)과 카프릴릴 글리콜(CG)의 항미생물성 부스터제 블렌드를 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물제인 나트륨 벤조에이트(SB)를 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.07중량% 수준으로 킬레이트화제인 테트라나트륨 글루타메이트 디아세테이트(테트라나트륨 GLDA)를 추가로 함유했다.

조성물 3c(비교)

시험된 또 다른 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.6중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA) 및 데하이드로아세트산(DHA))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.4중량%의 합쳐진 수준으로 에틸헥실글리세린(EHG)과 카프릴릴 글리콜(CG)의 항미생물성 부스터제 블렌드를 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물제인 나트륨 벤조에이트(SB)를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.12중량% 수준으로 킬레이트화제인 트리나트륨 에틸렌디아민 디석시네이트(TEDD)를 추가로 함유했다.

조성물 3d(비교)

시험된 또 다른 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.6중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA) 및 데하이드로아세트산(DHA))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.4중량%의 합쳐진 수준으로 에틸헥실글리세린(EHG)과 카프릴릴 글리콜(CG)의 항미생물성 부스터제 블렌드를 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물제인 나트륨 벤조에이트(SB)를 추가로 함유했다. 킬레이트화제는 존재하지 않았다.

실험 4

본 실험에서, 화장 조성물은 이. 게르고비아에 및 각각의 표준 보존력 시험 미생물인 피. 아에루기노사, 에스. 아우레우스, 이. 콜리, 씨. 알비칸스 및 에이. 브레실리엔시스에 대해 시험되었다.

조성물 4a

시험된 첫 번째 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.76중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA), 데하이드로아세트산(DHA) 및 나트륨 데하이드로아세테이트(NaDH))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물성 부스터제인 에틸헥실글리세린(EHG)을 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.025중량% 수준으로 항미생물제인 클로르헥시딘 디글루코네이트(CHG)를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.05중량% 수준으로 킬레이트화제인 테트라나트륨 EDTA를 추가로 함유했다.

조성물 4b

시험된 또 다른 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.76%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA), 데하이드로아세트산(DHA) 및 나트륨 데하이드로아세테이트(NaDH))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물성 부스터제인 에틸헥실글리세린(EHG)을 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.015중량% 수준으로 항미생물제인 클로로헥시딘 디글루코네이트(CHG)를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.05중량% 수준으로 킬레이트화제인 테트라나트륨 EDTA를 추가로 함유했다.

조성물 4c(비교)

시험된 또 다른 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.76중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA), 데하이드로아세트산(DHA) 및 나트륨 데하이드로아세테이트(NaDH))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물성 부스터제인 에틸헥실글리세린(EHG)을 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.025중량% 수준으로 항미생물제인 클로로헥시딘 디글루코네이트(CHG)를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.07중량% 수준으로 킬레이트화제인 테트라나트륨 글루타메이트 디아세테이트(테트라나트륨 GLDA)를 추가로 함유했다.

실험 5

본 실험에서, 화장 조성물은 이. 게르고비아에 및 각각의 표준 보존력 시험 미생물인 피. 아에루기노사, 에스. 아우레우스, 이. 콜리, 씨. 알비칸스 및 에이. 브레실리엔시스에 대해 시험되었다.

조성물 5a

시험된 첫 번째 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.76중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA), 데하이드로아세트산(DHA) 및 나트륨 데하이드로아세테이트(NaDH))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.4중량%의 합쳐진 수준으로 에틸헥실글리세린(EHG)과 카프릴릴 글리콜(CG)의 항미생물성 부스터제 블렌드를 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물제인 클로르펜신(CPN)을, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.05중량% 수준으로 킬레이트화제인 테트라나트륨 EDTA를 추가로 함유했다.

조성물 5b

시험된 또 다른 화장 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.76중량%의 합쳐진 수준으로 항미생물제들(페녹시에탄올(PE), 벤조산(BA), 데하이드로아세트산(DHA) 및 나트륨 데하이드로아세테이트(NaDH))의 코어 블렌드를, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.4중량%의 합쳐진 수준으로 에틸헥실글리세린(EHG)과 카프릴릴 글리콜(CG)의 항미생물성 부스터제 블렌드를 함유했다. 상기 조성물은, 상기 조성물을 기준으로 하여 0.1중량% 수준으로 항미생물제인 클로르펜신(CPN)을, 그리고 상기 조성물을 기준으로 하여 0.07중량% 수준으로 킬레이트화제인 테트라나트륨 글루타메이트 디아세테이트(테트라나트륨 GLDA)를 추가로 함유했다.

허용 기준

항미생물 활성의 평가 기준은 접종물에 대해 얻어진 값에 대한 생존 가능한 미생물의 수의 log₁₀ 감소와 관련하여 아래 표에 나와 있다. 상기 값은 이러한 기준을 달성하는 데 필요한 최소값을 나타낸다. 상기 시험된 조성물들의 항미생물 활성은 이러한 기준을 사용하여 평가했다.

A 기준은 달성이 권장되는 효능이다.

예를 들면, 부작용의 위험이 증가되는 이유로 A 기준을 달성할 수 없는 정당한 경우, B 기준을 충족해야 한다.

NI: 이전 판독값에 비해 생존 가능한 미생물의 수가 증가되지 않았다.

결과

실험 1 및 2

EDTA 유도체를 함유하는 조성물 1a는, 이. 게르고비아에 및 모든 표준 보존력 시험 미생물에 대한 A 기준 통과를 달성했다. EDTA 유도체가 없는 조성물 1b는 이. 게르고비아에 및 모든 표준 보존력 시험 미생물에 대한 항미생물 효능 시험에 불합격했다.

실험 2와 관련하여, EDTA 유도체를 함유하는 조성물 2a는, 이. 게르고비아에 및 모든 표준 보존력 시험 미생물에 대한 A 기준 통과를 달성했다. EDTA 유도체가 없는 조성물 2b는 이. 게르고비아에에 대해서는 A 기준 통과를 달성했지만, 에이. 브레실리엔시스 및 이. 콜리에 대한 표준 보존력 시험에서는 불합격했다.

조성물 1b 및 2b에서의 EDTA 유도체의 부재는 보존 효과에 해로웠다. 그러나, 예기치 않게, EDTA 유도체가 사용되었을 때, 이. 게르고비아에 및 모든 표준 보존력 시험 미생물에 대해 허용되는 미생물 로드가 달성되었다(조성물 1a 및 2a 참조). 보다 더 놀랍게도, EDTA 유도체를 사용하면 항미생물제의 전체 수준이 실제로 절반으로 줄어들 수 있다는 사실이 발견되었지만(조성물 2a 중 0.0075%의 PHMB 대 조성물 2b 중 0.015% PHMB), A 기준 통과 등급은 모든 시험 유기물에 대해 여전히 달성할 수 있었다.

실험 3

EDTA 유도체를 함유하는 조성물 3a는 이. 게르고비아에에 대한 A 기준 통과를 달성했다. 각각 EDTA 유도체가 없는 조성물 3b 내지 3d는 모두 이. 게르고비아에에 대한 항미생물 효능 시험에 불합격했다.

다시 말하지만, 조성물 3b 내지 3d에서의 EDTA 유도체의 부재는 보존 효과에 해롭다. 그러나, 예기치 않게, EDTA 유도체가 사용되었을 때, 이. 게르고비아에에 대해 허용되는 미생물 로드가 달성되었다. 조성물 3d에서의 보다 더 높은 전체 항미생물제 수준도 EDTA 유도체의 부재 하에 통과 기준을 달성하기에는 충분하지 않았다.

실험 4

둘 다 EDTA 유도체를 포함하는 조성물 4a 및 4b는 이. 게르고비아에 및 모든 표준 보존력 시험 미생물에 대한 A 기준 통과를 달성했다. EDTA 유도체가 없는 조성물 4c는 이. 게르고비아에 및 모든 표준 보존력 시험 미생물에 대한 항미생물 효능 시험에 불합격했다.

조성물 4c에 존재하는 항미생물제의 더 높은 전체 수준에도 불구하고, 이. 게르고비아에 및 표준 보존력 시험 미생물의 양을 화장용으로 허용되는 수준 미만으로 감소/유지할 수 없었다. 조성물 4c 중 EDTA 유도체의 부재는 보존 효과에 해를 끼쳤다. 그러나, 예기치 않게, EDTA 유도체가 조성물 4a 및 4b에서 킬레이트화제로서 사용되었을 때, 이. 게르고비아에 및 모든 표준 보존력 시험 미생물에 대해 허용되는 미생물 로드가 달성되었다. 보다 더 놀랍게도, 항미생물제의 전체 수준이 감소될 수 있다는 사실(조성물 4a 중 0.025%의 CHG 대 조성물 4b 중 0.015%의 CHG)이 발견되었지만, A 기준 통과 등급은 모든 시험 미생물에 대해 여전히 달성할 수 없었다.

실험 5

EDTA 유도체를 함유하는 조성물 5a는 이. 게르고비아에 및 모든 표준 보존력 시험 미생물에 대한 A 기준 통과를 달성했다. EDTA 유도체가 없는 조성물 5b는 이. 게르고비아에 및 모든 표준 보존력 시험 미생물에 대한 항미생물 효능 시험에 불합격했다.

조성물 5b 중 EDTA 유도체의 부재는 보존 효과에 해를 끼쳤다. 그러나, 예기치 않게, EDTA 유도체가 조성물 5a에 사용되었을 때, 이. 게르고비아에 및 모든 표준 보존력 시험 미생물에 대해 허용되는 미생물 로드가 달성되었다.

아래는 본 발명의 화장 조성물의 비-결합 실시예를 나타낸다.

제형 실시예 1 - 스킨 크림

제조방법:

1. 물에 테트라나트륨 EDTA를 첨가하여 용해시킨다.

2. 균질화를 사용하여 카보머에 산재시키고 5분 동안 또는 수화될 때까지 계속 균질화한다.

3. 메틸파라벤 및 에틸파라벤을 첨가하고 70 내지 75℃로 가열한다.

4. 별도의 용기에서 오일상을 계량하고 70 내지 75℃로 가열한다. (카프릴 산/카프르산 트리글리세리드, 세테아릴 알코올, 글리세릴 스테아레이트, 세틸 알코올, PEG-100 스테아레이트, 디메티콘, PEG-20 스테아레이트 및 레티닐 팔미테이트)

5. 두 상을 모두 70 내지 75℃로 하여 수상에 오일상을 추가하고 2분 동안 균질화한다.

6. 수산화칼륨을 첨가하고 2분 동안 균질화한다.

7. 실온으로 냉각시킨다.

8. 페녹시에탄올과 클로르헥시딘 디글루코네이트에서 교반한다.

9. 아스코르빌 글루코사이드를 2% 물에 용해시키고, 수산화칼륨으로 중화하고, 벌크로 교반한다.

10. 은행 추출물을 에틸헥실글리세린에 용해시키고 벌크로 교반한다.

11. 암라 추출물을 2% 물에 용해시키고 벌크로 교반한다.

12. 디메틸메톡시 크로마놀을 변성 알코올(alcohol denat.)에 용해시키고 벌크로 교반한다.

13. 백색 루핀 펩티드, 팔미토일 올리고펩티드 및 팔미토일 테트라펩티드를 벌크로 교반한다.

14. 중량까지 물을 가하고 부드럽게 교반한다.

제형 실시예 2 - SPF를 갖는 스킨 크림

제형 실시예 3 - 겔

제형 실시예 4 - 헤어 컨디셔너

제형 실시예 5 - 바디 워시

제형 실시예 6 - SPF를 갖는 실리콘중수(water-in-silicone) 파운데이션 에멀젼

제형 실시예 7 - 아이 크림

제형 실시예 8 - 토너

제형 실시예 9 - 클렌징 워터

참조문헌

1. Orus, P. et al. Increasing antibiotic resistance in preservative-tolerant bacterial strains isolated from cosmetic products. International Micobiology, 18, 51-59 (2015).

2. Periame, M. et al. Enterobacter gergoviae adaptation to preservatives commonly used in cosmetic industry. International Journal of Cosmetic Science 36, 386-395 (2014).

3. European Pharmacopoeia 8.0, Section 5.1.3

Claims (15)

1. 화장용으로 허용되는(cosmetically acceptable) 담체 및 보존제 시스템을 포함하는 화장 조성물로서, 상기 보존제 시스템은,
   (i) 칼륨 소르베이트를 포함하는 항미생물제(antimicrobial agent);
   (ii) 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA), 디칼륨 EDTA, 디나트륨 EDTA, 테트라나트륨 EDTA, 디암모늄 EDTA, 칼슘 디나트륨 EDTA, TEA-EDTA, 트리칼륨 EDTA, 트리나트륨 EDTA, 하이드록시에틸 에틸렌디아민 트리아세트산(HEDTA), 트리나트륨 HEDTA 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 킬레이트화제; 및
   (iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제(antimicrobial booster agent)를 포함하고,
   상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%의 양으로 존재하고,
   상기 항미생물성 부스터제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.005 내지 약 1중량%의 양으로 존재하는, 화장 조성물.
2. 제1항에 있어서, 상기 킬레이트화제가, 디나트륨 EDTA, 트리나트륨 EDTA, 테트라나트륨 EDTA 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는, 화장 조성물.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 항미생물제가, 클로르헥시딘 또는 이의 염, 클로르펜신, 벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르, 소르브산 또는 이의 염, 4-하이드록시벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르, 데하이드로아세트산 또는 이의 염, 브로노폴, 벤질 알코올, 폴리아미노프로필 비구아니드, 페녹시에탄올 또는 이들의 조합을 추가로 포함하는, 화장 조성물.
4. 제3항에 있어서, 상기 항미생물제가, 페녹시에탄올, 벤조산, 데하이드로아세트산, 나트륨 데하이드로아세테이트, 나트륨 벤조에이트, 클로르펜신, 클로르헥시딘 디글루코네이트 및/또는 폴리아미노프로필 비구아니드를 추가로 포함하는, 화장 조성물.
5. 제4항에 있어서, 상기 항미생물제가 폴리아미노프로필 비구아니드를 추가로 포함하는, 화장 조성물.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 항미생물제가
   (a) 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 1중량%;
   (b) 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.1 내지 약 1중량%; 또는
   (c) 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.3 내지 약 0.9중량%의 양으로 존재하는, 화장 조성물.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화장 조성물이 어떠한 추가의 항미생물제도 추가로 포함하지 않는, 화장 조성물.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 칼륨 소르베이트가
   (a) 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%;
   (b) 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 0.5중량%;
   (c) 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.005 내지 약 0.25중량%; 또는
   (d) 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 0.1중량%의 양으로 존재하는, 화장 조성물.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 킬레이트화제가
   (a) 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 5중량%;
   (b) 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.005 내지 약 1중량%; 또는
   (c) 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 0.3중량%의 양으로 존재하는, 화장 조성물.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 항미생물성 부스터제가 에틸헥실글리세린, 프로판디올 및/또는 카프릴릴 글리콜을 포함하는, 화장 조성물.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 항미생물성 부스터제가 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 0.8중량%의 양으로 존재하는, 화장 조성물.
12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    (i) 상기 항미생물제는, 페녹시에탄올, 벤조산, 데하이드로아세트산, 나트륨 데하이드로아세테이트, 나트륨 벤조에이트, 클로르펜신, 클로르헥시딘 디글루코네이트 및/또는 폴리아미노프로필 비구아니드를 추가로 포함하고;
    (ii) 상기 킬레이트화제는 테트라나트륨 EDTA를 포함하고;
    (iii) 상기 항미생물성 부스터제는 에틸헥실글리세린 및/또는 카프릴릴 글리콜을 포함하는, 화장 조성물.
13. 제12항에 있어서, 상기 항미생물제의 총량이 상기 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 약 0.01 내지 약 0.9중량%의 수준으로 존재하는, 화장 조성물.
14. 화장 조성물 내의 엔테로박테르 게르고비아에(Enterobacter gergoviae)의 성장 또는 증식을 예방 또는 감소시키기 위한 보존제 시스템의 용도로서, 상기 보존제 시스템은,
    (i) 항미생물제;
    (ii) 에틸렌디아민 테트라아세트산(EDTA), 디칼륨 EDTA, 디나트륨 EDTA, 테트라나트륨 EDTA, 디암모늄 EDTA, 칼슘 디나트륨 EDTA, TEA-EDTA, 트리칼륨 EDTA, 트리나트륨 EDTA, 하이드록시에틸 에틸렌디아민 트리아세트산(HEDTA), 트리나트륨 HEDTA 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 킬레이트화제; 및
    (iii) 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트, 레불린산, 나트륨 레불리네이트, 프로판디올, 헥산디올, 펜틸렌 글리콜, 카프릴로일 글리신, 메틸프로판디올, 페닐프로판올, 나트륨 아니세이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 항미생물성 부스터제를 포함하고,
    상기 항미생물제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.001 내지 약 1중량%의 양으로 존재하고,
    상기 항미생물성 부스터제는 상기 조성물을 기준으로 하여 약 0.005 내지 약 1중량%의 양으로 존재하는, 용도.
15. 제14항에 있어서, 상기 항미생물제가, 클로르헥시딘 또는 이의 염, 클로르펜신, 벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르, 소르브산 또는 이의 염, 4-하이드록시벤조산 또는 이의 염 또는 에스테르, 데하이드로아세트산 또는 이의 염, 브로노폴, 벤질 알코올, 폴리아미노프로필 비구아니드, 페녹시에탄올 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되고,
    임의로, 상기 킬레이트화제는 테트라나트륨 EDTA이고,
    임의로, 상기 항미생물성 부스터제는, 에틸헥실글리세린, 카프릴릴 글리콜, 프로판디올 하이드록시 아세토페논, 카프릴하이드록삼산, 페네틸 알코올, p-아니스산, 글리세릴 카프릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는, 용도.