KR20210013191A - Holder, carrier comprising at least two holders, devices and methods - Google Patents
Holder, carrier comprising at least two holders, devices and methods Download PDFInfo
- Publication number
- KR20210013191A KR20210013191A KR1020207037190A KR20207037190A KR20210013191A KR 20210013191 A KR20210013191 A KR 20210013191A KR 1020207037190 A KR1020207037190 A KR 1020207037190A KR 20207037190 A KR20207037190 A KR 20207037190A KR 20210013191 A KR20210013191 A KR 20210013191A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- carrier
- holder
- attached
- carrier body
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
- C23C16/4582—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
- C23C16/4587—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially vertically
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6734—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders specially adapted for supporting large square shaped substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
기판(101)을 홀딩하기 위해 캐리어의 캐리어 바디(160)에 부착되도록 구성된 홀더(120)가 제공된다. 홀더(120)는, 캐리어 바디(160)에 부착되도록 구성된 고정된 부분(fixed portion)(122), 및 하나의 방향을 따라, 고정된 부분(122)에 대해 이동가능하도록 구성되고 그리고 기판(101)의 적어도 일부를 수용하도록 구성된 홈(groove)(126)을 포함하는 플로팅 부분(123)을 포함한다.A holder 120 is provided that is configured to be attached to the carrier body 160 of the carrier for holding the substrate 101. The holder 120 is configured to be movable relative to the fixed portion 122, along one direction, and a fixed portion 122 configured to be attached to the carrier body 160 and the substrate 101 A floating portion 123 comprising a groove 126 configured to receive at least a portion of the ).
Description
[0001] 본 개시내용의 실시예들은, 기판을 홀딩하기 위해 캐리어의 캐리어 바디에 부착되도록 구성된 홀더(holder)들, 적어도 2개의 홀더들을 포함하는 2개의 캐리어들, 및 캐리어에 홀딩되는 기판을 프로세싱하는, 특히 예컨대 층 증착을 위한 기판 프로세싱을 위한 2개의 방법들뿐만 아니라 캐리어로부터 기판을 언로딩하는 2개의 방법들, 및 대면적 유리 기판 상에 층을 증착하기 위한 2개의 장치들에 관한 것이다. 본 개시내용의 실시예들은 특히, 기판 프로세싱 머신에서 얇은 두께를 갖는 대면적 기판을 지지하기 위한 캐리어들 및 홀더들, 및 대면적 기판을 프로세싱하기 위한 장치들에 관한 것이다.[0001] Embodiments of the present disclosure include holders configured to be attached to a carrier body of a carrier for holding a substrate, two carriers comprising at least two holders, and processing a substrate held in the carrier, in particular For example, it relates to two methods for substrate processing for layer deposition, as well as two methods of unloading a substrate from a carrier, and two apparatuses for depositing a layer on a large area glass substrate. Embodiments of the present disclosure particularly relate to carriers and holders for supporting a large area substrate having a thin thickness in a substrate processing machine, and apparatuses for processing a large area substrate.
[0002] 기판 상에 재료를 증착하기 위한 몇몇 방법들이 알려져 있다. 예컨대, 기판들은 PVD(physical vapor deposition) 프로세스, CVD(chemical vapor deposition) 프로세스, PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition) 프로세스 등에 의해 코팅될 수 있다. 전형적으로, 프로세스는, 코팅될 기판이 로케이팅되는, 프로세스 장치 또는 프로세스 챔버 내에서 수행된다. 장치 내에 증착 재료가 제공된다. 복수의 재료들(그 복수의 재료들의 산화물들, 질화물들 또는 탄화물들을 또한 포함함)이 기판 상의 증착을 위해 사용될 수 있다. 또한, 에칭, 구조화, 어닐링 등과 같은 다른 프로세싱 동작들이 프로세싱 챔버들에서 실시될 수 있다.[0002] Several methods are known for depositing material on a substrate. For example, the substrates may be coated by a physical vapor deposition (PVD) process, a chemical vapor deposition (CVD) process, a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process, or the like. Typically, the process is performed within a process apparatus or process chamber, in which the substrate to be coated is located. A deposition material is provided in the device. A plurality of materials (also including oxides, nitrides or carbides of the plurality of materials) may be used for deposition on a substrate. In addition, other processing operations such as etching, structuring, annealing, etc. may be performed in the processing chambers.
[0003] 코팅된 재료들은 몇몇 애플리케이션들 및 몇몇 기술 분야들에서 사용될 수 있다. 예컨대, 애플리케이션은 반도체 디바이스들을 생성하는 것과 같은 마이크로일렉트로닉스 분야에 있다. 또한, 디스플레이들을 위한 기판들은 대개 PVD 프로세스에 의해 코팅된다. 추가의 애플리케이션들은 절연 패널들, OLED(organic light emitting diode) 패널들, TFT를 갖는 기판들, 컬러 필터들 등을 포함한다.[0003] The coated materials can be used in some applications and in some fields of technology. For example, the application is in the field of microelectronics, such as creating semiconductor devices. Also, substrates for displays are usually coated by a PVD process. Additional applications include insulating panels, organic light emitting diode (OLED) panels, substrates with TFTs, color filters, and the like.
[0004] 특히, 디스플레이 생산, 박막 태양 전지들의 제조, 및 이와 유사한 애플리케이션들과 같은 분야들의 경우, 대면적 유리 기판들이 프로세싱된다. 과거에, 기판 사이즈들이 계속해서 증가되었으며, 이러한 증가는 여전히 계속되고 있다. 유리 기판들의 사이즈 증가는 유리 파손에 의해 처리량을 희생시키지 않으면서 유리 기판들을 핸들링, 지지 및 프로세싱하는 것을 점점 더 어렵게 만든다.[0004] In particular, for fields such as display production, manufacturing of thin-film solar cells, and similar applications, large area glass substrates are processed. In the past, substrate sizes have continued to increase, and this increase still continues. Increasing the size of glass substrates makes it increasingly difficult to handle, support and process glass substrates without sacrificing throughput by glass breakage.
[0005] 통상적으로, 유리 기판들은 유리 기판들의 프로세싱 동안에 캐리어들 상에 지지될 수 있다. 캐리어는 프로세싱 머신을 통해 유리 또는 기판을 구동시킨다. 캐리어들은 전형적으로 프레임 또는 플레이트를 형성하며, 프레임 또는 플레이트는 기판의 주변을 따라 기판의 표면을 지지하거나, 플레이트의 경우에도 마찬가지로 표면을 지지한다. 특히, 프레임 형상 캐리어는 또한, 유리 기판을 마스킹하는 데 사용될 수 있으며, 프레임에 의해 둘러싸이는 캐리어의 애퍼처(aperture)는, 노출된 기판 부분 상에 증착될 재료를 코팅하기 위한 애퍼처 또는 애퍼처에 의해 노출되는 기판 부분에 작용하는 다른 프로세싱 동작들을 위한 애퍼처를 제공한다.[0005] Typically, glass substrates can be supported on carriers during processing of the glass substrates. The carrier drives the glass or substrate through the processing machine. The carriers typically form a frame or plate, the frame or plate supporting the surface of the substrate along the periphery of the substrate, or in the case of a plate as well. In particular, the frame-shaped carrier can also be used to mask the glass substrate, and the aperture of the carrier surrounded by the frame is an aperture or aperture for coating the material to be deposited on the exposed substrate portion. It provides an aperture for other processing operations acting on the portion of the substrate exposed by it.
[0006] 기판들이 더 커지고 또한 더 얇아지는 경향은, 특히 층들의 증착 동안에 기판에 가해지는 응력으로 인해 기판들의 벌징(bulging)을 초래할 수 있으며, 벌징은 결국 파손의 가능성 증가로 인해 문제들을 야기할 수 있다. 더욱이, 벌징은 증착된 재료 층들의 품질, 예컨대 균일성을 감소시킬 수 있다. 따라서, 벌징을 감소시키고, 캐리어가 파손 없이 더 크고 더 얇은 기판들을 이송하는 것을 가능하게 하고, 그리고 코팅된 재료 층들의 품질을 개선할 필요가 있다.[0006] The tendency of the substrates to become larger and thinner can lead to bulging of the substrates, particularly due to the stress applied to the substrate during the deposition of the layers, which in turn can cause problems due to an increased likelihood of breakage. Moreover, bulging can reduce the quality, such as uniformity, of the deposited material layers. Accordingly, there is a need to reduce bulging, enable the carrier to transport larger and thinner substrates without breakage, and improve the quality of the coated material layers.
[0007] 상기 내용을 고려하면, 당해 기술분야의 문제들 중 적어도 일부를 극복하는 캐리어, 특히 적어도 2개의 홀더들을 갖는 캐리어, 및 캐리어를 위한 홀더가 유익하게 제공된다.[0007] In view of the above, a carrier is advantageously provided which overcomes at least some of the problems in the art, in particular a carrier with at least two holders, and a holder for the carrier.
[0008] 상기 내용을 고려하면, 독립항 제1 항에 따른, 기판을 홀딩(holding)하기 위해 캐리어의 캐리어 바디에 부착되도록 구성된 홀더가 제공된다. 다른 실시예에 따르면, 제8 항에 따른 캐리어가 제공된다. 다른 실시예에 따르면, 독립항 제11 항에 따른, 캐리어에 홀딩되는 기판을 프로세싱하는 방법이 제공된다. 다른 실시예에 따르면, 독립항 제12 항에 따른, 캐리어로부터 기판을 언로딩하는 방법이 제공된다. 다른 실시예에 따르면, 제15 항에 따른, 대면적 유리 기판 상에 층을 증착하기 위한 장치가 제공된다. 추가적인 양상들, 장점들, 및 특징들은 종속항들, 상세한 설명, 및 첨부 도면들로부터 명백하다.[0008] In view of the above, there is provided a holder according to claim 1, configured to be attached to a carrier body of a carrier for holding a substrate. According to another embodiment, a carrier according to claim 8 is provided. According to another embodiment, a method of processing a substrate held in a carrier according to claim 11 is provided. According to another embodiment, a method of unloading a substrate from a carrier according to claim 12 is provided. According to another embodiment, an apparatus for depositing a layer on a large area glass substrate according to claim 15 is provided. Additional aspects, advantages, and features are apparent from the dependent claims, the detailed description, and the accompanying drawings.
[0009] 일 양상에 따르면, 기판을 홀딩하기 위해 캐리어의 캐리어 바디에 부착되도록 구성된 홀더가 제공된다. 홀더는, 캐리어 바디에 부착되도록 구성된 고정된 부분(fixed portion), 및 하나의 방향을 따라, 고정된 부분에 대해 이동가능하도록 구성되고 그리고 기판의 적어도 일부를 수용하도록 구성된 홈(groove)을 포함하는 플로팅 부분(floating portion)을 포함한다.[0009] According to an aspect, a holder configured to be attached to a carrier body of a carrier for holding a substrate is provided. The holder includes a fixed portion configured to be attached to the carrier body, and a groove configured to be movable relative to the fixed portion, along one direction, and configured to receive at least a portion of the substrate. It includes a floating portion.
[0010] 일 양상에 따르면, 적어도 2개의 홀더들을 포함하는 캐리어가 제공된다. 적어도 2개의 홀더들 각각은, 캐리어 바디에 부착되도록 구성된 고정된 부분, 및 하나의 방향을 따라, 고정된 부분에 대해 이동가능하도록 구성되고 그리고 기판의 적어도 일부를 수용하도록 구성된 홈을 포함하는 플로팅 부분을 포함한다.[0010] According to one aspect, a carrier is provided comprising at least two holders. Each of the at least two holders comprises a fixed portion configured to be attached to the carrier body and a groove configured to be movable relative to the fixed portion along one direction and configured to receive at least a portion of the substrate. Includes.
[0011] 일 양상에 따르면, 적어도 하나의 홀더가 부착된 캐리어 바디를 갖는 캐리어에 홀딩된 기판을 프로세싱하는 방법이 제공된다. 방법은, 캐리어 상에 기판을 로딩하는 단계, 기판을 상승된 온도에서 프로세싱하는 단계, 및 상승된 온도에서의 프로세싱으로 인한 열팽창에 의해 적어도 하나의 홀더의 플로팅 부분을 이동시키는 단계를 포함한다.[0011] According to one aspect, a method of processing a substrate held in a carrier having a carrier body to which at least one holder is attached is provided. The method includes loading a substrate on a carrier, processing the substrate at an elevated temperature, and moving a floating portion of at least one holder by thermal expansion due to processing at the elevated temperature.
[0012] 일 양상에 따르면, 적어도 하나의 홀더가 부착된 캐리어 바디를 갖는 캐리어로부터 기판을 언로딩하는 방법이 제공된다. 방법은, 캐리어를 실질적 수직 배향으로부터 실질적 수평 배향으로 이동시키는 단계, 캐리어로부터 기판을 언로딩하는 단계, 및 적어도 하나의 홀더의 플로팅 부분을 중앙 포지션으로 이동시키는 단계를 포함한다.[0012] According to one aspect, a method of unloading a substrate from a carrier having a carrier body to which at least one holder is attached is provided. The method includes moving the carrier from a substantially vertical orientation to a substantially horizontal orientation, unloading the substrate from the carrier, and moving the floating portion of the at least one holder to a central position.
[0013] 일 양상에 따르면, 대면적 유리 기판 상에 층을 증착하기 위한 장치가 제공된다. 장치는, 진공 챔버 ― 진공 챔버는 진공 챔버 내에서의 층 증착을 위해 구성됨 ―, 캐리어의 이송을 위해 구성된 이송 시스템을 포함한다. 캐리어는 적어도 2개의 홀더들을 포함한다. 적어도 2개의 홀더들 각각은, 캐리어 바디에 부착되도록 구성된 고정된 부분, 및 하나의 방향을 따라, 고정된 부분에 대해 이동가능하도록 구성되고 그리고 기판의 적어도 일부를 수용하도록 구성된 홈을 포함하는 플로팅 부분을 포함한다. 장치는, 층을 형성하는 재료를 증착하기 위한 증착 소스를 더 포함한다.[0013] In accordance with one aspect, an apparatus for depositing a layer on a large area glass substrate is provided. The apparatus includes a vacuum chamber, wherein the vacuum chamber is configured for layer deposition in the vacuum chamber, and a transfer system configured for transport of carriers. The carrier includes at least two holders. Each of the at least two holders comprises a fixed portion configured to be attached to the carrier body and a groove configured to be movable relative to the fixed portion along one direction and configured to receive at least a portion of the substrate. Includes. The apparatus further includes a deposition source for depositing a material forming the layer.
[0014]
본 개시내용의 실시예들의 상기 열거된 특징들이 상세히 이해될 수 있는 방식으로, 위에서 간략히 요약된 보다 구체적인 설명이 실시예들을 참조로 하여 이루어질 수 있다. 첨부 도면들은 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이고, 하기에서 설명된다:
도 1a, 도 1b, 도 1c, 및 도 1d는, 각각이 홀더들을 갖고 그리고 캐리어의 기판 영역에 제공된 기판을 각각 갖는, 본원에서 설명된 실시예들에 따른 캐리어들을 예시하고;
도 2a 내지 도 2e는, 캐리어에 부착가능하고 그리고 본원에서 설명된 실시예들에 따른 홀더의 예를 도시하고;
도 3은, 본원에서 설명된 실시예들에 따른 캐리어를 활용하여 기판 상에 재료의 층을 증착하기 위한 장치의 도면을 도시하고;
도 4는 본원에서 설명된 실시예들에 따라 캐리어에 홀딩된 기판을 프로세싱하는 방법의 흐름도를 도시하고; 그리고
도 5는 본원에서 설명된 실시예들에 따라 캐리어로부터 기판을 언로딩하는 방법의 흐름도를 도시한다.[0014] In such a way that the above-listed features of the embodiments of the present disclosure can be understood in detail, the more detailed description briefly summarized above may be made with reference to the embodiments. The accompanying drawings relate to embodiments of the present disclosure and are described below:
1A, 1B, 1C, and 1D illustrate carriers according to embodiments described herein, each having holders and each having a substrate provided in the substrate area of the carrier;
2A-2E show an example of a holder attachable to a carrier and according to embodiments described herein;
3 shows a diagram of an apparatus for depositing a layer of material on a substrate utilizing a carrier according to embodiments described herein;
4 depicts a flow diagram of a method of processing a substrate held in a carrier according to embodiments described herein; And
5 shows a flow diagram of a method of unloading a substrate from a carrier according to embodiments described herein.
[0015] 이제 본 개시내용의 다양한 실시예들이 상세하게 참조될 것이며, 다양한 실시예들의 하나 이상의 예들이 도면들에서 예시된다. 도면들의 다음의 설명 내에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 컴포넌트들을 지칭한다. 개별적인 실시예들에 대한 차이들이 설명된다. 각각의 예는 본 개시내용의 설명으로 제공되며, 본 개시내용의 제한으로서 의도되지 않는다. 또한, 일 실시예의 부분으로서 예시되거나 또는 설명되는 특징들은, 또 다른 추가적인 실시예를 산출하기 위해, 다른 실시예들에 대해 또는 다른 실시예들과 함께 사용될 수 있다. 설명이 그러한 수정들 및 변형들을 포함하는 것이 의도된다.[0015] Reference will now be made in detail to various embodiments of the present disclosure, and one or more examples of various embodiments are illustrated in the drawings. Within the following description of the drawings, like reference numbers refer to like components. The differences for individual embodiments are described. Each example is provided as a description of the disclosure and is not intended as a limitation of the disclosure. In addition, features illustrated or described as part of an embodiment may be used with respect to or in conjunction with other embodiments, to yield another additional embodiment. It is intended that the description include such modifications and variations.
[0016] 본원에서 설명된 실시예들에 따르면, 적어도 2개의 홀더들을 포함하는 캐리어가 제공될 수 있다. 적어도 2개의 홀더들은, 응력, 특히 기판 상에 층들을 증착함으로써 도입되는 응력, 또는 기판 또는 캐리어의 열팽창들에 의해 도입되는 응력; 또는 기판의 중량에 의해 도입되는 응력으로 인한, 기판의 벤딩(bending) 또는 벌징을 감소시키도록 구성될 수 있다. 홀더는, 고정된 부분 및 이동가능 또는 플로팅 부분을 갖는 2-파트 바디를 제공할 수 있다.[0016] According to the embodiments described herein, a carrier comprising at least two holders may be provided. The at least two holders may comprise a stress, in particular a stress introduced by depositing layers on the substrate, or a stress introduced by thermal expansions of the substrate or carrier; Alternatively, it may be configured to reduce bending or bulging of the substrate due to stress introduced by the weight of the substrate. The holder can provide a two-part body having a fixed portion and a movable or floating portion.
[0017] 게다가, 다음의 설명에서, 캐리어 또는 기판 캐리어는 기판을 지지할 수 있는 캐리어로서 이해될 수 있다. 특히, 본원에서 언급되는 바와 같은 캐리어는, 프레임 형상을 갖는 또는 프레임을 포함하는 캐리어로서 이해될 수 있다. 일부 예들에서, 캐리어는 또한, 캐리어 프레임으로 지칭될 수 있다. 일부 예들에 따르면, 기판 캐리어는 기판을 홀딩하기 위한 고정 엘리먼트(fixation element)들을 포함할 수 있다. 본원에서 언급되는 바와 같은 고정 엘리먼트는, 기판에 대한 접촉을 제공하기 위한 고정 엘리먼트로서 이해될 수 있다. 특히, 본원에서 언급되는 바와 같은 고정 엘리먼트는, 기판의 하나보다 많은 표면에 대한 접촉을 제공하기 위한 고정 엘리먼트로서 이해될 수 있다. 일부 예들에서, 기판 캐리어는, 이를테면, 기판 캐리어가 프로세싱 챔버를 통해 이송될 수 있게 하는 이동 디바이스들, 이를테면, 안내 레일들, 기판 캐리어를 프로세싱 챔버 내의 이송 시스템에 연결하기 위한 연결 디바이스들, 슬라이딩 표면, 롤(roll)들 등을 포함함으로써, 프로세싱 챔버 또는 프로세싱 장치를 통해 이동되도록 구성된다.[0017] In addition, in the following description, a carrier or a substrate carrier may be understood as a carrier capable of supporting a substrate. In particular, a carrier as referred to herein may be understood as a carrier having a frame shape or comprising a frame. In some examples, a carrier may also be referred to as a carrier frame. According to some examples, the substrate carrier may include fixation elements for holding the substrate. A fixing element as referred to herein may be understood as a fixing element for providing contact to a substrate. In particular, a fixing element as referred to herein may be understood as a fixing element for providing contact to more than one surface of a substrate. In some examples, the substrate carrier may include moving devices, such as guide rails, connecting devices for connecting the substrate carrier to a transfer system in the processing chamber, sliding surfaces, such as moving devices that allow the substrate carrier to be transferred through the processing chamber. , Rolls, and the like, and are configured to be moved through the processing chamber or processing apparatus.
[0018] 본원에서 설명된 실시예들에 따르면, 캐리어는 적어도 2개의 홀더들을 포함할 수 있다. 적어도 2개의 홀더들은, 기판의 벤딩 또는 벌징을 효과적으로 방지하거나 또는 감소시키기 위해, 기판의 둘레 주위에 분배될 수 있다. 각각의 홀더는, 특히 캐리어 바디에 대해 고정된 포지션을 갖는, 캐리어 바디에 부착되도록 구성될 수 있는 고정된 부분, 및 적어도 하나의 방향을 따라, 고정된 부분에 대해 이동가능할 수 있는 플로팅 부분을 포함할 수 있다. 플로팅 부분은 기판의 적어도 일부를 수용하도록 구성된 홈을 포함할 수 있다. 고정된 부분에 대한 플로팅 부분의 상대적인 이동은, 기판의 벤딩을 감소시키기 위한 것으로 고려될 하나의 양상을 제공할 수 있다. 또한, 포스 어레인지먼트, 예컨대 적어도 하나의 스프링 또는 적어도 하나의 공압 실린더 등이 제공될 수 있고, 이 포스 어레인지먼트는 캐리어에서 적어도 하나의 방향으로 기판을 당기거나 밀도록 구성될 수 있다. 기판은 프로세싱 동안 열팽창을 겪을 수 있다. 플로팅 부분은 열팽창에 의해 발생된 길이 증가에 의해 이동될 수 있다. 따라서, 기판의 응력이 감소될 수 있다.[0018] According to the embodiments described herein, the carrier may comprise at least two holders. At least two holders can be dispensed around the perimeter of the substrate to effectively prevent or reduce bending or bulging of the substrate. Each holder comprises a fixed portion that can be configured to be attached to the carrier body, in particular having a fixed position relative to the carrier body, and a floating portion that can be movable relative to the fixed portion along at least one direction. can do. The floating portion may include a groove configured to receive at least a portion of the substrate. The relative movement of the floating portion relative to the fixed portion can provide one aspect that would be considered to reduce the bending of the substrate. Further, a force arrangement may be provided, such as at least one spring or at least one pneumatic cylinder, and the like, which force arrangement may be configured to pull or push the substrate in at least one direction in the carrier. The substrate can undergo thermal expansion during processing. The floating part can be moved by increasing the length caused by thermal expansion. Thus, the stress of the substrate can be reduced.
[0019] 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 기판 두께는 0.1 내지 1.8 mm일 수 있고, 홀더들은 그러한 기판 두께들을 위해 구성될 수 있다. 특히, 기판 두께가 약 0.9 mm 이하, 이를테면, 0.7 mm, 0.5 mm, 또는 0.3 mm인 경우에 유익할 수 있고, 홀더들은 그러한 기판 두께들을 위해 구성된다.[0019] According to embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the substrate thickness may be 0.1 to 1.8 mm, and holders may be configured for such substrate thicknesses. In particular, it may be beneficial if the substrate thickness is about 0.9 mm or less, such as 0.7 mm, 0.5 mm, or 0.3 mm, and holders are configured for such substrate thicknesses.
[0020] 일부 실시예들에 따르면, 대면적 기판들은 적어도 0.174 ㎡의 사이즈를 가질 수 있다. 전형적으로, 사이즈는, 약 1.4 ㎡ 내지 약 8 ㎡, 더 전형적으로는 약 2 ㎡ 내지 약 9 ㎡, 또는 심지어 최대 12 ㎡일 수 있다. 전형적으로, 본원에서 설명된 실시예들에 따른 마스크 구조들, 장치들, 및 방법들이 제공되는 직사각형 기판들은, 본원에서 설명된 바와 같이, 대면적 기판들이다. 예컨대, 대면적 기판은, 약 1.4 ㎡의 기판(1.1 m × 1.3 m)에 대응하는 GEN 5, 약 4.39 ㎡의 기판(1.95 m × 2.25 m)에 대응하는 GEN 7.5, 약 5.5 ㎡의 기판(2.2 m × 2.5 m)에 대응하는 GEN 8.5, 또는 심지어 약 8.7 ㎡의 기판(2.85 m × 3.05 m)에 대응하는 GEN 10일 수 있다. GEN 11 및 GEN 12와 같은 훨씬 더 큰 세대(generation)들 및 대응하는 기판 면적들이 유사하게 구현될 수 있다. 본 개시내용의 실시예들은 특히, 약 0.3 mm의 기판 두께 및 대면적 기판 GEN 8.5에 유익하다.[0020] According to some embodiments, the large area substrates may have a size of at least 0.174 m 2. Typically, the size can be from about 1.4 m 2 to about 8 m 2, more typically from about 2 m 2 to about 9 m 2, or even up to 12 m 2. Typically, rectangular substrates provided with mask structures, devices, and methods according to embodiments described herein are large area substrates, as described herein. For example, the large-area substrate is GEN 5 corresponding to a substrate of about 1.4 m2 (1.1 m × 1.3 m), GEN 7.5 corresponding to a substrate of about 4.39 m2 (1.95 m × 2.25 m), and a substrate of about 5.5 m2 (2.2 m x 2.5 m), or even a GEN 10 corresponding to a substrate of about 8.7 m 2 (2.85 m x 3.05 m). Even larger generations such as GEN 11 and GEN 12 and corresponding substrate areas can similarly be implemented. Embodiments of the present disclosure are particularly beneficial for a large area substrate GEN 8.5 and a substrate thickness of about 0.3 mm.
[0021]
도 1a는 캐리어(100)를 도시한다. 캐리어(100)는 얇은 대면적 기판(101)을 지지하도록 구성될 수 있다. 도 1a에 도시된 바와 같이, 기판(101)은, 특히 프로세싱 챔버에서 프로세싱되는 경우에, 캐리어(100) 내의 포지션에 제공될 수 있다. 캐리어(100)는, 윈도우 또는 애퍼처를 정의하는 프레임 또는 캐리어 바디(160)를 포함할 수 있다. 구현들에 따르면, 프레임은 기판 수용 표면을 제공할 수 있다. 특히, 기판 수용 표면은, 동작 동안에, 즉, 기판이 로딩된 경우에, 기판의 둘레 부분과 접촉하도록 구성될 수 있다.[0021]
1A shows a
[0022]
기판(101)은 재료 증착에 적합한 임의의 재료로 제조될 수 있다. 예컨대, 기판은, 유리(예컨대, 소다-석회 유리, 보로실리케이트 유리 등), 금속, 폴리머, 세라믹, 화합물 재료들, 또는 증착 프로세스에 의해 코팅될 수 있는 임의의 다른 재료 또는 재료들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 재료로 제조될 수 있다. 기판의 프로세싱에 또한 영향을 미칠 수 있는 벌징은, 본원에서 설명된 실시예들에 따른 캐리어들에 의해 감소될 수 있다. 특히, 파손이 더 우려되는 유리 기판들 또는 세라믹 기판들의 경우, 캐리어들은 또한, 손실 증가로 인해 생산 프로세스의 생산성을 감소시키는 기판 파손을 상당히 감소시킬 수 있다.[0022]
The
[0023]
일부 실시예들에 따르면, 프레임(160)은 알루미늄, 알루미늄 합금들, 티타늄, 이들의 합금들, 스테인리스 강 등으로 제조될 수 있다. 비교적 작은 대면적 기판들(예컨대, 예컨대, GEN 5 이하)의 경우, 프레임(160)은 단일 피스(piece)로부터 제조될 수 있는데, 즉, 프레임은 일체로(integrally) 형성될 수 있다. 또한, 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 프레임(160)은 2개 이상의 엘리먼트들, 이를테면, 최상부 바(bar), 사이드바(sidebar)들, 및/또는 최하부 바를 포함할 수 있다. 특히, 아주 큰 대면적 기판들의 경우, 캐리어 또는 캐리어 바디는 몇몇 부분들을 갖게 제조될 수 있다. 캐리어 바디의 이러한 부분들은 기판(101)을 지지하기 위한 프레임(160)을 제공하도록 조립될 수 있다. 프레임(160)은 특히, 기판 영역에 기판(101)을 수용하도록 구성될 수 있다.[0023]
According to some embodiments, the
[0024]
도 1a에 도시된 캐리어(100)는 홀더들을 더 포함할 수 있다. 도 1a에 도시된 예에서, 2개의 홀더들(120)이 프레임 또는 캐리어 바디(160)의 최하부 측에 제공된다. 일부 실시예들에 따르면, 프레임(160)의 최하부 측에서의 상기 2개의 홀더들(120)의 플로팅 부분들은, 하나의 방향에서 고정된 포지션에 대해 이동가능할 수 있고, 상기 방향은, 화살표들로 표시된 바와 같이, 기판의 에지에 대해 평행할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 2개의 홀더들은 또한, 캐리어의 좌측 측부 및 우측 측부의 중간에 제공될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 고정된 부분(122)에 대한 플로팅 부분(123)의 이동 방향은 대안적으로 또는 추가적으로, 또한, 기판의 에지에 대해 수직일 수 있고 그리고/또는 기판(101)에 대해 본질적으로 평행한 평면에 있을 수 있다.[0024]
The
[0025]
예컨대, 최하부 측의 좌측 측부에 하나의 홀더(120)가 제공될 수 있고, 최하부 측의 우측 측부에 하나의 홀더(120)가 제공될 수 있다. 또한, 도 1a에서 프레임(160)의 최하부 측에 2개의 홀더들(120)이 도시되어 있지만, 본 출원은 이에 제한되지 않는다. 2개보다 많은 홀더들(120)이 프레임(160)의 최하부 측에 제공될 수 있다. 게다가, 도 1b와 관련하여 더 상세히 설명되는 바와 같이, 하나보다 많은 홀더(120)가 기판(101)의 하나 이상의 측부들에 제공될 수 있다. 더욱이, 적어도 2개의 홀더들에 추가하여, 이를테면, 적어도 2개의 홀더들(120) 사이에 추가의 홀딩 어레인지먼트들이 제공될 수 있다.[0025]
For example, one
[0026]
도 1a에 도시된 캐리어(100)는 상기 제1 방향을 따라 이동가능한, 2개의 홀더들의 플로팅 부분들을 제공한다. 기판의 팽창 또는 다른 이동들은, 예컨대 캐리어 바디 및/또는 기판의 표면에 대해 실질적으로 평행한 평면에서, 고정된 부분에 대해 이동가능한 플로팅 부분을 갖는 홀더들 중 하나 이상에 의해 보상될 수 있다. 프레임(160)에 의해 정의된 기판 영역 내에서 기판(101)의 포지션이 정밀하게 조정되고 센터링될(centered) 수 있다. 게다가, 플로팅 부분은 기판의 열팽창으로 인한 치수 변화를 따를 수 있다. 따라서, 기판의 응력 또는 홀더에 대한 기판의 이동이 감소될 수 있다. 본원에서 설명된 실시예들에 따른 홀더들은 개개의 측부들에서의 그리고/또는 최하부로의 기판의 팽창을 가능하게 한다. 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 본원에서 설명된 캐리어들, 및 본원에서 설명된 캐리어들을 활용하기 위한 장치들은 수직 기판 프로세싱을 위한 것이다. 본원에서 설명된 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 홀더(120)는 실질적 수직 배향으로 기판에 부착되도록 구성될 수 있다.[0026]
The
[0027] "수직 방향" 또는 "수직 배향"이라는 용어는 "수평 방향" 또는 "수평 배향"과 구별하기 위한 것으로 이해될 수 있다. 즉, "수직 방향" 또는 "수직 배향"은, 예컨대 캐리어 및 기판의 실질적 수직 배향과 관련될 수 있으며, 정확한 수직 방향 또는 수직 배향으로부터 예컨대 최대 +/- 10° 또는 심지어 최대 +/- 15°와 같은 몇 도의 편차는 여전히 "실질적 수직 방향"또는 "실질적 수직 배향"으로 간주될 수 있다. 수직 방향은 중력에 대해 실질적으로 평행할 수 있다.[0027] The terms “vertical direction” or “vertical orientation” may be understood to be used to distinguish between “horizontal direction” or “horizontal orientation”. That is, "vertical direction" or "vertical orientation" may, for example, relate to the substantially vertical orientation of the carrier and the substrate, and from the exact vertical direction or vertical orientation, for example with a maximum of +/- 10° or even a maximum of +/- 15°. A deviation of the same few degrees can still be considered a "substantially vertical orientation" or "substantially vertical orientation". The vertical direction can be substantially parallel to gravity.
[0028] 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는, 본원에서 설명된 실시예들에 따르면, 실질적으로 수직으로는, 특히 기판 배향을 나타내는 경우에, 수직 방향으로부터 +/-20° 이하, 예컨대 +/-10° 이하의 편차를 허용하는 것으로 이해될 수 있다. 이러한 편차는, 예컨대 수직 배향으로부터 약간의 편차를 갖는 기판 지지부가 더 안정적인 기판 포지션을 유발할 수 있기 때문에, 제공될 수 있다. 또한, 재료, 특히 금속 및/또는 산화물의 증착 동안의 기판 배향은 실질적으로 수직인 것으로 간주될 수 있으며, 이는 수평 기판 배향과 상이한 것으로 간주될 수 있다.[0028] According to the embodiments described herein, which can be combined with other embodiments described herein, substantially vertically, in particular, in the case of indicating the substrate orientation, no more than +/-20° from the vertical direction, such as + It can be understood to allow a deviation of less than /-10°. Such deviations can be provided, for example, because substrate supports with slight deviations from the vertical orientation can lead to more stable substrate positions. Further, the substrate orientation during deposition of a material, in particular a metal and/or oxide, can be considered to be substantially vertical, which can be considered to be different from the horizontal substrate orientation.
[0029] "실질적 수직"이라는 용어는, 예컨대 회전 축 및 지지 표면 또는 기판 표면의 실질적 수직 배향과 관련될 수 있으며, 정확한 수직 배향으로부터 예컨대 최대 +/- 10° 또는 심지어 최대 +/- 15°와 같은 몇 도의 편차는 여전히 "실질적 수직"으로 간주될 수 있다.[0029] The term "substantially perpendicular" may, for example, relate to the axis of rotation and the substantially vertical orientation of the support surface or substrate surface, from a precise vertical orientation of several degrees, such as up to +/- 10° or even up to +/- 15°. The deviation can still be considered "substantially perpendicular".
[0030] 본원에서 설명된 실시예들에 따르면, 그리고 도 2a 내지 도 2c와 관련하여 더 상세히 설명되는 바와 같이, 홀더는, 기판의 둘레 구역에서의 기판의 벤딩을 감소시키기 위해, 적어도 하나의 방향으로 상대적 이동을 허용할 수 있다. 추가적으로, 홀더는 캐리어에서 기판을 안정적으로 지지하기 위한 홀딩 또는 지지 힘들을 제공할 수 있다. 홀더의 상대적 이동은 고정된 부분에 대한 플로팅 부분의 상대적 이동에 의해 제공될 수 있다. 실시예들을 실시할 때, 기판의 벤딩 또는 벌징의 관점들에서 유익한 응력 감소가 제공될 수 있다.[0030] According to the embodiments described herein, and as described in more detail in connection with FIGS. 2A-2C, the holder moves relative to at least one direction, to reduce bending of the substrate in the circumferential region of the substrate. Can be allowed. Additionally, the holder may provide holding or holding forces to stably support the substrate in the carrier. The relative movement of the holder can be provided by the relative movement of the floating part relative to the fixed part. When practicing embodiments, beneficial stress reduction may be provided in terms of bending or bulging of the substrate.
[0031]
도 1b는, 일부 실시예들에 따른 캐리어(100)의 다른 예를 도시한다. 도 1b에 도시된 실시예는 도 1a에 도시된 실시예와 유사하다. 도 1b의 캐리어(100)는 2개의 홀더들(120)을 포함할 수 있으며, 각각의 홀더는 캐리어 또는 캐리어 바디의 최하부 측의 코너에 포지셔닝될 수 있다. 대안적으로, 2개의 홀더들 또는 추가적인 홀더들이 또한, 캐리어 또는 캐리어 바디의 각각의 측부의 중간에 제공될 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 홀더들은 단지 캐리어 또는 캐리어 바디의 특정 측부들, 이를테면, 최하부 측 및/또는 좌측 측부에만 제공될 수 있다.[0031]
1B shows another example of a
[0032]
도 1b는 추가의 홀딩 어레인지먼트들(140, 145, 170)을 도시한다. 홀딩 어레인지먼트들(140, 145, 170)은 홀더(120)와 유사할 수 있지만, 플로팅 부분(123)을 포함하지 않을 수 있다. 예컨대, 홀딩 어레인지먼트들(140)은 캐리어 또는 캐리어 바디의 우측 측부에 제공될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트들(140)은 캐리어 또는 캐리어 바디의 우측 측부에 대해 수직인 방향으로 이동가능할 수 있다. 즉, 홀딩 어레인지먼트들(140)은 캐리어 또는 캐리어 바디의 우측 측부로부터 멀어지게 그리고/또는 우측 측부로 이동가능할 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 홀딩 어레인지먼트들(145)은 캐리어 또는 캐리어 바디의 좌측 측부에 제공될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트들(145)은 캐리어 또는 캐리어 바디의 좌측 측부에 대해 고정될 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 홀딩 어레인지먼트들(170)은 캐리어 또는 캐리어 바디의 최상부 측 또는 상부에 제공될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트들(170)은 캐리어 또는 캐리어 바디의 최상부 측에 대해 수직인 방향으로 이동가능할 수 있다. 즉, 홀딩 어레인지먼트들(170)은 캐리어 또는 캐리어 바디의 최상부 측으로부터 멀어지게 그리고/또는 최상부 측으로 이동가능할 수 있다.[0032]
1B shows additional holding
[0033]
본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 적어도 하나의 홀더가 프레임(160)의 적어도 2개의 측부들, 이를테면, 최하부 측 및 좌측 측부에, 그리고 선택적으로는 심지어 프레임(160)의 각각의 측부에 제공된다. 또한, 홀딩 어레인지먼트들(140, 145, 170)이 프레임의 적어도 하나의 측부에 있을 수 있다.[0033]
According to embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the at least one holder is provided on at least two sides of the
[0034] 추가적으로 또는 대안적으로 구현될 수 있는 추가의 실시예들에 따르면, 홀더들이 기판에 고정될 수 있는 포지션들은 기판의 둘레 주위에 분배되는데, 예컨대 하나 이상의 측부들에 균일하게 분배된다. 예컨대, 홀더는 기판의 하나 이상의 측부들에서 기판의 에지 주위에 200 mm 마다 내지 1000 mm 마다, 이를테면, 300 내지 800 mm 마다 제공될 수 있다. 또한, 홀더들은 또한, 포지션들의 쌍들에 제공될 수 있다.[0034] According to further embodiments, which may additionally or alternatively be implemented, the positions in which the holders can be fixed to the substrate are distributed around the circumference of the substrate, eg evenly distributed on one or more sides. For example, the holder may be provided every 200 mm to 1000 mm, such as every 300 to 800 mm around the edge of the substrate on one or more sides of the substrate. In addition, holders may also be provided in pairs of positions.
[0035]
도 1c는 캐리어(100)의 다른 예를 도시한다. 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 캐리어(100)는, 기판 영역에 기판(101)을 홀딩하기 위한, 제1 홀딩 어레인지먼트들(151) 및/또는 제2 홀딩 어레인지먼트들(152)을 포함할 수 있다. 제1 홀딩 어레인지먼트들(151)은 프레임(160)에 고정적으로 부착될 수 있다. 대안적으로, 제1 홀딩 어레인지먼트들(151)은 이동가능할 수 있다. 하나 이상의 제1 홀딩 어레인지먼트들(151)이 제공될 수 있다. 제2 홀딩 어레인지먼트들(152)은 이동가능할 수 있다. 특히, 제1 홀딩 어레인지먼트들(151) 및/또는 제2 홀딩 어레인지먼트들(152)은 화살표들로 표시된 바와 같이 기판(101)의 개개의 에지에 대해 직각으로 이동가능할 수 있다. 본원에서 설명된 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 적어도 하나의 홀딩 어레인지먼트, 이를테면, 제1 홀딩 어레인지먼트(151) 및/또는 제2 홀딩 어레인지먼트(152)는 캐리어 바디(160)의 측부에 연결될 수 있다. 적어도 하나의 홀딩 어레인지먼트는, 홀딩 어레인지먼트가 연결되는, 캐리어 바디의 측부의 길이방향 연장에 대해 실질적으로 수직인 방향으로 이동가능할 수 있다.[0035]
1C shows another example of the
[0036]
예컨대, 제1 및 제2 홀딩 어레인지먼트들(151, 152)은 클램프들 또는 안내 엘리먼트들을 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 도 1c 상에서, 예컨대 측부 또는 최상부에 예시적으로 도시된 바와 같은 홀딩 어레인지먼트들(151, 152)은, 포지셔닝 엘리먼트들이 기판의 벤딩 또는 벌징으로부터 초래되는 힘들의 보상에 기여할 수 있도록, 설계될 수 있다. 또한, 포지셔닝 엘리먼트들은 기판(101)의 자유 이동을 방지하도록 구성될 수 있고, 그리고/또는 프레임(160)의 기판 수용 표면에서 기판의 중량의 50% 초과를 홀딩하기 위해 그리고/또는 열팽창을 보상하기 위해 제공된다. 예컨대, 제1 및 제2 홀딩 어레인지먼트들(151, 152)은, 예컨대 적어도 하나의, 특히 2개의 방향들을 따라 캐리어 또는 캐리어 바디에 대해 이동가능할 수 있다. 본 출원의 문맥에서, 포지셔닝 엘리먼트들 및/또는 홀더의 플로팅 부분과 같이 적어도 하나의 방향을 따라 이동가능하다는 것은, 예컨대 좌측으로부터 우측으로의 그리고 우측으로부터 좌측으로의 방향을 따르는 양방향 이동으로 이해될 수 있다.[0036]
For example, the first and
[0037]
캐리어(100)는, 예컨대 프레임(160)의 최하부 측에 적어도 2개의 홀더들(120)을 더 포함한다. 기판의 벤딩을 감소시키기 위한 2개의 홀더들(120)이 도 1c에 예시된다. 홀더들 및 대응하는 고정 포지션들의 수는 본원에서 설명된 실시예들에 따라 적응될 수 있다. 실시예들에 따르면, 2개 이상의 홀더들(120)이 제공될 수 있다.[0037]
The
[0038]
도 1d는 추가의 캐리어(100)를 도시한다. 캐리어(100)는 대면적 기판을 지지하도록 구성될 수 있다. 도 1d의 캐리어는 기판 영역에서 기판(101)을 홀딩하기 위한 제1 홀딩 어레인지먼트들(151)을 포함할 수 있고, 그리고/또는 미리 결정된 기판 포지션을 제공하도록 구성될 수 있다. 제1 홀딩 어레인지먼트들(151)은 프레임(160)에 대해 이동가능하게 부착될 수 있다. 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 하나 이상의 제1 홀딩 어레인지먼트들(151)이 제공된다. 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 3개의 제1 홀딩 어레인지먼트들(151)이 제공될 수 있다. 예컨대, 2개의 제1 홀딩 어레인지먼트들은 프레임의 최상부 부분에 제공될 수 있고, 그리고/또는 하나의 제1 홀딩 어레인지먼트들(151)은 프레임의 하나의 측부 부분에 제공될 수 있다. 제1 홀딩 어레인지먼트들은 기판 삽입을 위한 갭 또는 제1 홀딩 어레인지먼트들 상에 기판을 배열하기 위한 다른 엘리먼트들을 가질 수 있다. 접촉 포지션은 캐리어의 미리 결정된 기판 포지션을 정의할 수 있다. 제1 홀딩 어레인지먼트들(151)은 이동가능할 수 있다. 특히, 제1 홀딩 어레인지먼트들(151)은 화살표들로 표시된 바와 같이 기판(101)의 개개의 에지에 대해 직각으로 이동가능할 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 제2 홀딩 어레인지먼트들(145)은 캐리어 또는 캐리어 바디의 좌측 측부에 제공될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트들(145)은 캐리어 또는 캐리어 바디의 좌측 측부에 대해 고정될 수 있다.[0038]
1D shows an
[0039]
본원에서 설명된 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트들(140, 145, 151, 152, 170)은 기판(101)이 프레임(160)으로부터 떨어지는 것을 방지할 수 있고 그리고/또는 기판 및/또는 캐리어의 열팽창 동안 기판 에지를 따를 수 있다.[0039]
According to the embodiments described herein, the holding
[0040]
도 1d에 도시된 캐리어(100)는 홀더들(120)을 더 포함할 수 있으며, 그 홀더들(120)의 부분들은 캐리어 프레임 또는 캐리어 바디의 둘레에 대해, 즉, 캐리어에 수용된 기판의 표면에 대해 평행하게 이동가능하다. 이러한 홀더들은 도 2a 내지 도 2c와 관련하여 더 상세하게 설명된다. 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 홀더들은 프레임(160)의 측부들을 따라, 특히 프레임(160)의 최하부 측에 제공되고 그리고/또는 분배될 수 있다.[0040]
The
[0041]
도 2a, 도 2b 및 도 2c에 도시된 바와 같이, 본원에서 설명된 실시예들에 따르면, 홀더(120)는 고정된 부분(122) 및/또는 플로팅 부분(123)을 포함할 수 있다. 고정된 부분은 캐리어 바디(160)에 대해 고정된 포지션을 가질 수 있다. 플로팅 부분(123)은, 하나의 방향을 따라, 고정된 부분(122)에 대해 이동가능할 수 있다. 플로팅 부분(123)은 기판(101)의 제1 표면(102)과 접촉하기 위한 실질적으로 평탄한 또는 평면형의 제1 표면을 가질 수 있다.[0041]
As shown in FIGS. 2A, 2B and 2C, according to embodiments described herein, the
[0042]
본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 플로팅 부분(123)은, 기판(101), 특히 기판의 에지(104)를 틸팅(tilt)하도록 구성된 틸팅 부재(127)를 포함할 수 있다. 특히, 틸팅 부재(127)는 고정된 부분에 대해 틸팅되도록 구성될 수 있고 그리고/또는 기판(101)의 메인 표면, 예컨대 제1 표면(102)을 지지하도록 구성될 수 있다. 예컨대, 틸팅 부재(127)는, 기판(101), 특히 기판(101)의 제1 표면(102)과 접촉하기 위해 플로팅 부분(123)의 제1 표면 상에 배열될 수 있다. 예컨대, 틸팅 부재(127)는 볼 베어링 또는 임의의 다른 종류의 적절한 베어링일 수 있다. 실시예들을 실시할 때, 기판의 경사(tilt)들 및/또는 기판 및/또는 캐리어의 기하학적 허용오차들이 보상될 수 있다.[0042]
According to embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the floating
[0043]
본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 플로팅 부분(123)은 제1 단부 포지션으로부터 제2 단부 포지션으로의 방향을 따라 이동가능할 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 플로팅 부분(123)은 포스 어레인지먼트(130)를 더 포함할 수 있다. 포스 어레인지먼트(130)는 적어도 하나의 방향에서 고정된 부분(122)에 대해 플로팅 부분(123)을 센터링하도록 구성될 수 있다.[0043]
According to embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the floating
[0044]
포스 어레인지먼트(130)는, 기판의 유형(재료, 두께, 면적 사이즈 등), 기판(101) 상에 증착될 층들의 수, 증착될 재료(들)의 종류, 증착될 층(들)의 두께, 프로세스 챔버의 종류, 프로세스 시간 등 중 적어도 하나에 따라 상이하게 선택될 수 있다. 본원에서 설명된 실시예들에 따르면, 포스 어레인지먼트(130)는, 적어도 하나의 스프링 또는 적어도 하나의 공압 실린더로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다.[0044]
The
[0045]
또한, 플로팅 부분(123)은 홈(126)을 포함할 수 있다. 홈(126)은 기판(101)의 적어도 일부를 수용하도록 구성될 수 있다. 특히, 홈(126)은, 기판(101)의 제1 표면(102), 제1 표면(102) 반대편의, 기판(101)의 제2 표면(103) 및/또는 제1 표면(102)으로부터 제2 표면(103)까지 걸쳐 있는, 기판(101)의 에지(104)와 접촉하도록 구성될 수 있다.[0045]
In addition, the floating
[0046]
도 2d에 도시된 바와 같이, 홈(126)은 제1 표면(126a) 및/또는 제2 표면(126b)을 포함할 수 있다. 기판(101)이 홈(126) 내로 로딩될 때, 홈(126)의 제1 표면(126a)은 기판(101)의 제1 표면(102)을 향할 수 있고 그리고/또는 홈(126)의 제2 표면(126b)은 기판(101)의 제2 표면(103)을 향할 수 있다. 즉, 홈(126)의 제1 표면(126a)은 기판(101)의 제1 표면(102)을 향하도록 구성될 수 있고 그리고/또는 홈(126)의 제2 표면(126b)은 기판(101)의 제2 표면(103)을 향하도록 구성될 수 있다. 또한, 홈(126)은 홈(126)의 제1 표면(126a)으로부터 홈(126)의 제2 표면(126b)까지 연장되는 제3 표면(126c)을 가질 수 있다. 기판(101)이 홈(126) 내로 로딩될 때, 홈(126)의 제3 표면(126c)은 기판(101)의 에지(104)를 향할 수 있다. 즉, 홈(126)의 제3 표면(126c)은 기판(101)의 에지(104)를 향하도록 구성될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 홈(126)의 제1 표면 및 제2 표면은 본질적으로 서로 평행할 수 있다.[0046]
As shown in FIG. 2D, the
[0047]
동작 동안, 즉, 기판이 캐리어에 의해 운반될 때, 기판(101)은 홈(126)의 제1 표면(126a)과 제2 표면(126b) 사이에 배열될 수 있다. 동작 동안, 기판(101)은 홈(126)의 제1 표면(126a) 및/또는 제2 표면(126b)과 접촉하지 않을 수 있다. 기판(101)의 에지(104), 예컨대 기판(101)의 측방향 측부(lateral side)는 홈(126), 특히 홈(126)의 제3 표면(126c)에 접촉할 수 있다.[0047]
During operation, ie when the substrate is carried by the carrier, the
[0048]
특히, 기판(101)의 수직 이송 동안, 기판(101)은 홀더(120) 상에, 특히 홈(126)에, 더욱 특히 홈(126)의 제3 표면(126c) 상에 서(stand) 있을 수 있다. 프로세스 동안, 기판(101)은 가열되어 열팽창으로 이어질 수 있다. 기판(101)과 홀더(120) 사이의 마찰에 따라, 기판(101)이 홀더(120) 위로 슬라이딩할 수 있거나, 또는 홀더(120)의 플로팅 부분(123)이 기판(101)과 함께 슬라이딩할 수 있다. 기판(101)이 언로딩될 때, 포스 어레인지먼트(130)는 플로팅 부분(123)을 플로팅 부분(123)의 초기 포지션으로 복귀시킬 수 있다. 실시예들을 실시할 때, 기판의 파손 또는 열화가 방지될 수 있다.[0048]
In particular, during the vertical transfer of the
[0049]
본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 플로팅 부분(123)의 이동 방향은 상기 제1 방향에 대해 평행할 수 있다. 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 플로팅 부분(123)의 이동 방향은, 기판에 대해 실질적으로 평행한, 특히 기판(101)의 제1 표면(102) 및/또는 제2 표면(103)에 대해 실질적으로 평행한 평면 내에 있을 수 있다.[0049]
According to embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the moving direction of the floating
[0050]
예컨대 도 2a 내지 도 2c에 도시된 바와 같이, 홀더(120)가, 하나의 방향을 따라, 고정된 부분에 대해 이동가능한 플로팅 부분을 포함하고 있지만, 본 출원은 이에 제한되지 않는다. 홀더(120)는 또한, 적어도 2개의 방향들을 따라, 고정된 부분에 대해 이동가능한 플로팅 부분을 포함할 수 있다.[0050]
For example, as shown in FIGS. 2A to 2C, the
[0051]
도 2e는 최하부 측에 2개의 홀더들(120)이 장착된 프레임(160)을 도시한다. 도 2e에 도시된 캐리어는, 우측 측부의 홀딩 어레인지먼트들(140), 좌측 측부의 홀딩 어레인지먼트들(145), 및/또는 상부 측의 홀딩 어레인지먼트들(170)을 더 포함한다. 도 2e는 추가로, 상부 안내 엘리먼트(162) 및/또는 하부 안내 엘리먼트(164)를 도시한다. 상부 안내 엘리먼트(162) 및/또는 하부 안내 엘리먼트(164)는 프레임(160)을 안내하도록 구성될 수 있다. 예컨대, 상부 안내 엘리먼트(162)는 자기 안내 엘리먼트일 수 있고 그리고/또는 하부 안내 엘리먼트(164)는 기계적 안내 엘리먼트, 이를테면, 로드(rod)일 수 있다.[0051]
2E shows a
[0052]
홀딩 어레인지먼트들(140)은 로딩 애퍼처를 개방하도록 구성될 수 있다. 즉, 홀딩 어레인지먼트들(140)은 프레임(160)의 우측 측부에 대해 이동가능할 수 있다. 또한, 홀딩 어레인지먼트들(140)은 기판(101) 및/또는 캐리어의 열팽창을 보상하도록 구성될 수 있다. 또한, 홀딩 어레인지먼트들(140, 145, 170)은 본원에서 설명된 개개의 홀딩 어레인지먼트들(140, 145, 170)과 동일하거나 유사할 수 있다.[0052]
The holding
[0053]
도 3은 실시예들에 따른 증착 챔버(600)의 개략도를 도시한다. 증착 챔버(600)는 증착 프로세스, 이를테면, PVD 또는 CVD 프로세스를 위해 구성된다. 기판(101)은 기판 이송 디바이스(620) 상의 캐리어 내에 또는 캐리어에 로케이팅된 것으로 도시된다. 증착 재료 소스(630)가, 코팅될 기판의 면을 향하게 챔버(612)에 제공될 수 있다. 증착 재료 소스(630)는 기판 상에 증착될 증착 재료(635)를 제공할 수 있다.[0053]
3 shows a schematic diagram of a
[0054]
도 3에서, 재료 소스(630)는 상부에 증착 재료를 갖는 타겟일 수 있거나, 또는 기판(101) 상의 증착을 위해 재료가 방출될 수 있게 하는 임의의 다른 어레인지먼트일 수 있다. 전형적으로, 재료 소스(630)는 회전가능한 타겟일 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 재료 소스(630)는 소스를 포지셔닝하기 위해 그리고/또는 교체하기 위해 이동가능할 수 있다. 다른 실시예들에 따르면, 재료 소스는 평면형 타겟일 수 있다.[0054]
In FIG. 3, the
[0055]
실시예들에 따르면, 증착 재료(635)는, 증착 프로세스에 따라, 그리고 코팅된 기판의 추후의 애플리케이션에 따라 선택될 수 있다. 예컨대, 소스의 증착 재료는, 금속, 이를테면, 알루미늄, 몰리브덴, 티타늄, 구리 등, 실리콘, 인듐 주석 산화물, 및 다른 투명한 전도성 산화물들로 이루어진 그룹으로부터 선택된 재료일 수 있다. 전형적으로, 그러한 재료들을 포함할 수 있는 산화물-, 질화물-, 또는 탄화물-층들은, 반응성 증착, 즉, 소스로부터의 재료가 프로세싱 가스로부터의 산소, 질화물, 또는 탄소와 같은 엘리먼트들과 반응하는 것에 의해, 또는 소스로부터 재료를 제공하는 것에 의해, 증착될 수 있다.[0055]
According to embodiments, the
[0056]
전형적으로, 특히 비-정지 증착 프로세스들에 대해, 에지 배제 마스크의 역할을 또한 할 수 있는 캐리어(100) 내에 또는 캐리어(100)에 기판(101)이 제공될 수 있다. 파선들(665)은 챔버(600)의 동작 동안의 증착 재료(635)의 경로를 예시적으로 도시한다. 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 다른 실시예들에 따르면, 챔버(612)에 제공되는 별개의 에지 배제 마스크에 의해 마스킹이 제공될 수 있다. 본원에서 설명된 실시예들에 따른 캐리어는, 정지 프로세스들, 그리고 또한, 비-정지 프로세스들에 유익할 수 있다.[0056]
Typically, a
[0057] 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 고정 조립체가, 특히 증착 프로세스 동안에, 기판의 에지들을 견고하게 홀딩할 수 있다. 실시예들은, 특히 기판들이 길이 및 높이가 점점 더 커지게 되지만 기판들의 두께들은 감소될 수 있다는 사실을 고려하면, 기판 파손의 감소를 제공할 수 있다. 기판의 프로세싱에 또한 영향을 미칠 수 있는 벌징은, 본원에서 설명된 실시예들에 따른 캐리어들에 의해 감소될 수 있다.[0057] According to embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the fixing assembly can rigidly hold the edges of the substrate, particularly during the deposition process. Embodiments may provide a reduction in substrate breakage, particularly taking into account the fact that the substrates become increasingly larger in length and height but the thicknesses of the substrates may be reduced. Bulging, which may also affect the processing of the substrate, may be reduced by carriers according to embodiments described herein.
[0058] 도 4는 본원에서 설명된 실시예들에 따라 캐리어에 홀딩된 기판을 프로세싱하는 방법의 흐름도를 도시한다.[0058] 4 shows a flow diagram of a method of processing a substrate held in a carrier according to embodiments described herein.
[0059]
캐리어에 홀딩된 기판(101)을 프로세싱하는 방법(200)은 본원에서 설명된 홀더들(120)을 사용하여 수행될 수 있다. 블록(210)에서, 기판(101)이 캐리어 상에 또는 캐리어에 로딩될 수 있다. 기판(101)은 로딩 동안 수평 방향으로 있을 수 있다. 그런 다음, 기판(101)은 이송 및/또는 프로세싱을 위해 수직 또는 실질적 수직 배향으로 회전될 수 있다. 블록(220)에서, 기판(101)은 상승된 온도에서 프로세싱될 수 있다. 온도는, 몇몇 이유들로, 이를테면, 프로세싱 전의 가열 프로세스 및/또는 프로세스 동안의, 예컨대 스퍼터링 동안의 프로세스 에너지로 인해 상승될 수 있다. 상승된 온도는 주변 온도를 초과하는 온도로서 이해될 수 있다. 온도 상승은 열팽창으로 인한 기판의 신장을 유발할 수 있다. 블록(230)에서, 적어도 하나의 홀더(120)의 플로팅 부분(123)은 상승된 온도에서의 프로세싱으로 인한 열팽창에 의해 이동될 수 있다.[0059]
The
[0060] 도 5는 본원에서 설명된 실시예들에 따라 캐리어로부터 기판을 언로딩하는 방법의 흐름도를 도시한다.[0060] 5 shows a flow diagram of a method of unloading a substrate from a carrier according to embodiments described herein.
[0061]
캐리어로부터 기판(101)을 언로딩하는 방법(300)은 본원에서 설명된 홀더들(120)을 사용하여 수행될 수 있다. 또한, 방법(300)은 방법(200) 후에 수행될 수 있다. 블록(310)에서, 캐리어는 실질적 수직 배향으로부터 실질적 수평 배향으로 이동될 수 있다. 블록(320)에서, 기판(101)은 캐리어로부터 언로딩될 수 있다. 블록(330)에서, 적어도 하나의 홀더(120)의 플로팅 부분(123)은 중앙 포지션으로 이동될 수 있다. 예컨대, 플로팅 부분(123)은 상승된 온도에서 프로세싱하는 동안 중앙 포지션 밖으로 이동될 수 있고, 아직 중앙 포지션으로 복귀되지 않았을 수 있다. 따라서, 홀더들(120)로부터 기판(101)을 언로딩한 후에, 플로팅 부분(123)은 중앙 포지션으로 복귀될 수 있다. 본원에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 실시예들에 따르면, 포스 어레인지먼트(130)는 적어도 하나의 홀더를 중앙 포지션으로 당기거나 밀 수 있다.[0061]
The
[0062]
선택적으로, 기판(101)을 언로딩하는 것은, 기판(101)이 적어도 홀더(120) 상에 로딩되어 유지되는 동안 적어도 하나의 홀딩 어레인지먼트를 기판(101)으로부터 멀어지게 이동시키는 것을 포함할 수 있다. 예컨대, 홀더(120)는 캐리어의 최하부 측에 배열될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트들, 이를테면, 제1 홀딩 어레인지먼트들(151) 및 제2 홀딩 어레인지먼트들(152)은 캐리어의 최상부 측 및 다른 측방향 측부, 예컨대 우측 측부에 배열될 수 있다. 기판(101)을 언로딩하기 위해, 홀딩 어레인지먼트들이 먼저 기판(101)으로부터 멀어지게 이동될 수 있고, 그런 다음, 기판(101)이 홀더들(120)로부터 제거될 수 있다. 기판(101)을 캐리어에 로딩하기 위해, 이 동작은 반전될 수 있다.[0062]
Optionally, unloading the
[0063] 전술한 바가 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이지만, 본 개시내용의 다른 그리고 추가적인 실시예들이, 본 개시내용의 기본적인 범위를 벗어나지 않으면서 구상될 수 있고, 본 개시내용의 범위는 다음의 청구항들에 의해 결정된다.[0063] While the foregoing relates to embodiments of the present disclosure, other and additional embodiments of the present disclosure may be envisioned without departing from the basic scope of the present disclosure, and the scope of the present disclosure is governed by the following claims. Is determined by
Claims (15)
상기 캐리어 바디(160)에 부착되도록 구성된 고정된 부분(fixed portion)(122); 및
하나의 방향을 따라 상기 고정된 부분(122)에 대해 이동가능하도록 구성되고, 그리고 상기 기판(101)의 적어도 일부를 수용하도록 구성된 홈(groove)(126)을 포함하는 플로팅 부분(floating portion)(123)을 포함하는,
기판(101)을 홀딩하기 위해 캐리어의 캐리어 바디(160)에 부착되도록 구성된 홀더(120).As a holder 120 configured to be attached to the carrier body 160 of the carrier to hold the substrate 101,
A fixed portion 122 configured to be attached to the carrier body 160; And
A floating portion comprising a groove 126 configured to be movable relative to the fixed portion 122 along one direction and configured to receive at least a portion of the substrate 101 ( 123) containing,
A holder 120 configured to be attached to the carrier body 160 of the carrier to hold the substrate 101.
상기 홀더(120)는 실질적 수직 배향으로 상기 기판(101)에 부착되도록 구성되는,
기판(101)을 홀딩하기 위해 캐리어의 캐리어 바디(160)에 부착되도록 구성된 홀더(120).The method of claim 1,
The holder 120 is configured to be attached to the substrate 101 in a substantially vertical orientation,
A holder 120 configured to be attached to the carrier body 160 of the carrier to hold the substrate 101.
상기 플로팅 부분(123)은 상기 기판(101)의 제1 표면과 접촉하도록 구성된 틸팅 부재(tilting member)(127)를 포함하고, 특히 상기 틸팅 부재(127)는 상기 고정된 부분에 대해 틸팅되도록 구성되고 그리고/또는 상기 기판의 메인 표면을 지지하도록 구성되는,
기판(101)을 홀딩하기 위해 캐리어의 캐리어 바디(160)에 부착되도록 구성된 홀더(120).The method according to claim 1 or 2,
The floating portion 123 includes a tilting member 127 configured to contact the first surface of the substrate 101, and in particular, the tilting member 127 is configured to be tilted with respect to the fixed portion. And/or configured to support the main surface of the substrate,
A holder 120 configured to be attached to the carrier body 160 of the carrier to hold the substrate 101.
상기 홈(126)은, 상기 기판(101)의 제1 표면(102), 상기 제1 표면(102) 반대편의, 상기 기판(101)의 제2 표면(103) 및/또는 상기 제1 표면(102)으로부터 상기 제2 표면(103)까지 걸쳐 있는, 상기 기판(101)의 에지(104)와 접촉하도록 구성되는,
기판(101)을 홀딩하기 위해 캐리어의 캐리어 바디(160)에 부착되도록 구성된 홀더(120).The method according to any one of claims 1 to 3,
The groove 126 is a first surface 102 of the substrate 101, opposite the first surface 102, a second surface 103 of the substrate 101 and/or the first surface ( Configured to contact the edge 104 of the substrate 101, spanning from 102 to the second surface 103,
A holder 120 configured to be attached to the carrier body 160 of the carrier to hold the substrate 101.
상기 플로팅 부분(123)은 제1 단부 포지션으로부터 제2 단부 포지션으로의 방향을 따라 이동가능하고, 그리고 상기 플로팅 부분은 적어도 하나의 방향에서 상기 고정된 부분(122)에 대해 상기 플로팅 부분(123)을 센터링(center)하도록 구성된 포스 어레인지먼트(force arrangement)(130)를 더 포함하는,
기판(101)을 홀딩하기 위해 캐리어의 캐리어 바디(160)에 부착되도록 구성된 홀더(120).The method according to any one of claims 1 to 4,
The floating portion 123 is movable along a direction from a first end position to a second end position, and the floating portion is the floating portion 123 with respect to the fixed portion 122 in at least one direction. Further comprising a force arrangement 130 configured to center the,
A holder 120 configured to be attached to the carrier body 160 of the carrier to hold the substrate 101.
상기 포스 어레인지먼트(130)는, 적어도 하나의 스프링 또는 적어도 하나의 공압 실린더로 이루어진 그룹으로부터 선택되는,
기판(101)을 홀딩하기 위해 캐리어의 캐리어 바디(160)에 부착되도록 구성된 홀더(120).The method of claim 5,
The force arrangement 130 is selected from the group consisting of at least one spring or at least one pneumatic cylinder,
A holder 120 configured to be attached to the carrier body 160 of the carrier to hold the substrate 101.
상기 방향은, 상기 기판(101)에 대해 실질적으로 평행한, 특히 상기 기판(101)의 제1 표면(102) 및/또는 제2 표면(103)에 대해 실질적으로 평행한 평면 내에 있는,
기판(101)을 홀딩하기 위해 캐리어의 캐리어 바디(160)에 부착되도록 구성된 홀더(120).The method according to any one of claims 1 to 6,
The direction is in a plane substantially parallel to the substrate 101, in particular substantially parallel to the first surface 102 and/or the second surface 103 of the substrate 101,
A holder 120 configured to be attached to the carrier body 160 of the carrier to hold the substrate 101.
상기 캐리어는 실질적 수직 배향으로 기판(101)을 운반하도록 구성되고, 그리고 상기 적어도 2개의 홀더들(120)은 상기 캐리어의 최하부 측 및/또는 제1 측방향 측부(lateral side)에 포지셔닝되는,
캐리어.The method of claim 8,
The carrier is configured to carry the substrate 101 in a substantially vertical orientation, and the at least two holders 120 are positioned on a lowermost side and/or a first lateral side of the carrier.
carrier.
상기 캐리어 바디의 측부에 연결된 적어도 하나의 홀딩 어레인지먼트를 포함하고, 상기 적어도 하나의 홀딩 어레인지먼트는 상기 홀딩 어레인지먼트가 연결되는, 상기 캐리어 바디의 측부의 길이방향 연장에 대해 실질적으로 수직인 방향으로 이동가능한,
캐리어.The method of claim 8 or 9,
At least one holding arrangement connected to a side of the carrier body, wherein the at least one holding arrangement is movable in a direction substantially perpendicular to a longitudinal extension of the side of the carrier body to which the holding arrangement is connected,
carrier.
상기 캐리어에 기판을 로딩하는 단계;
상기 기판을 상승된 온도에서 프로세싱하는 단계; 및
상기 상승된 온도에서의 프로세싱으로 인한 열팽창에 의해 상기 적어도 하나의 홀더의 플로팅 부분을 이동시키는 단계를 포함하는,
적어도 하나의 홀더가 부착된 캐리어 바디를 갖는 캐리어에 홀딩된 기판을 프로세싱하는 방법.A method of processing a substrate held in a carrier having a carrier body to which at least one holder is attached,
Loading a substrate onto the carrier;
Processing the substrate at an elevated temperature; And
Moving the floating portion of the at least one holder by thermal expansion due to processing at the elevated temperature,
A method of processing a substrate held in a carrier having a carrier body to which at least one holder is attached.
상기 캐리어를 실질적 수직 배향으로부터 실질적 수평 배향으로 이동시키는 단계;
상기 캐리어로부터 상기 기판을 언로딩하는 단계; 및
상기 적어도 하나의 홀더의 플로팅 부분을 중앙 포지션으로 이동시키는 단계를 포함하는,
적어도 하나의 홀더가 부착된 캐리어 바디를 갖는 캐리어로부터 기판을 언로딩하는 방법.A method of unloading a substrate from a carrier having a carrier body to which at least one holder is attached,
Moving the carrier from a substantially vertical orientation to a substantially horizontal orientation;
Unloading the substrate from the carrier; And
Moving the floating portion of the at least one holder to a central position,
A method of unloading a substrate from a carrier having a carrier body to which at least one holder is attached.
포스 어레인지먼트가 상기 적어도 하나의 홀더를 상기 중앙 포지션으로 당기거나 또는 미는,
적어도 하나의 홀더가 부착된 캐리어 바디를 갖는 캐리어로부터 기판을 언로딩하는 방법.The method of claim 12,
Force arrangement pulls or pushes the at least one holder to the central position,
A method of unloading a substrate from a carrier having a carrier body to which at least one holder is attached.
상기 기판을 언로딩하는 단계는, 상기 기판이 상기 적어도 하나의 홀더에 로딩되어 유지되는 동안 적어도 하나의 홀딩 어레인지먼트를 상기 기판으로부터 멀어지게 이동시키는 단계를 포함하는,
적어도 하나의 홀더가 부착된 캐리어 바디를 갖는 캐리어로부터 기판을 언로딩하는 방법.The method of claim 12 or 13,
The step of unloading the substrate includes moving at least one holding arrangement away from the substrate while the substrate is loaded and maintained in the at least one holder,
A method of unloading a substrate from a carrier having a carrier body to which at least one holder is attached.
진공 챔버 ― 상기 진공 챔버는 상기 진공 챔버 내에서의 층 증착을 위해 구성됨 ―;
제8 항 내지 제10 항 중 어느 한 항에 따른 캐리어의 이송을 위해 구성된 이송 시스템; 및
상기 층을 형성하는 재료를 증착하기 위한 증착 소스를 포함하는,
대면적 유리 기판 상에 층을 증착하기 위한 장치.An apparatus for depositing a layer on a large area glass substrate, comprising:
A vacuum chamber, the vacuum chamber configured for layer deposition within the vacuum chamber;
A conveying system configured for conveying a carrier according to claim 8; And
Comprising a deposition source for depositing a material forming the layer,
An apparatus for depositing a layer on a large area glass substrate.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2018/064054 WO2019228610A1 (en) | 2018-05-29 | 2018-05-29 | Holder, carrier comprising at least two holders, apparatuses and methods |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210013191A true KR20210013191A (en) | 2021-02-03 |
KR102595812B1 KR102595812B1 (en) | 2023-10-27 |
Family
ID=62530201
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020207037190A KR102595812B1 (en) | 2018-05-29 | 2018-05-29 | Holder, carrier comprising at least two holders, devices and methods |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102595812B1 (en) |
CN (1) | CN112204723A (en) |
WO (1) | WO2019228610A1 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003137427A (en) * | 2001-10-31 | 2003-05-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Board carrying cart and board carrying system |
JP2004296672A (en) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Carrier device and vacuum-treatment device having the same |
KR20090133118A (en) * | 2007-04-23 | 2009-12-31 | 가부시키가이샤 아루박 | Supporting member, carrier and supporting method |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5028837B2 (en) * | 2006-03-29 | 2012-09-19 | 大日本印刷株式会社 | Substrate holder and film forming apparatus |
JP2011108822A (en) * | 2009-11-17 | 2011-06-02 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Substrate folder |
US8517364B1 (en) * | 2010-10-07 | 2013-08-27 | WD Media, LLC | Disk holder with replaceable inserts to retain springs |
JP5682910B2 (en) * | 2010-10-15 | 2015-03-11 | 株式会社アルバック | Substrate holder and substrate transfer device |
CN106165056B (en) * | 2014-04-17 | 2018-12-11 | 应用材料公司 | Retaining piece, the carrier with the retaining piece and the method for fixed substrate |
KR200493207Y1 (en) * | 2016-04-07 | 2021-02-17 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Carrier for supporting a substrate and apparatus therefor |
-
2018
- 2018-05-29 CN CN201880093907.3A patent/CN112204723A/en active Pending
- 2018-05-29 WO PCT/EP2018/064054 patent/WO2019228610A1/en active Application Filing
- 2018-05-29 KR KR1020207037190A patent/KR102595812B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003137427A (en) * | 2001-10-31 | 2003-05-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Board carrying cart and board carrying system |
JP2004296672A (en) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Carrier device and vacuum-treatment device having the same |
KR20090133118A (en) * | 2007-04-23 | 2009-12-31 | 가부시키가이샤 아루박 | Supporting member, carrier and supporting method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112204723A (en) | 2021-01-08 |
KR102595812B1 (en) | 2023-10-27 |
WO2019228610A1 (en) | 2019-12-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2761051B1 (en) | Carrier for thin glass substrates and use thereof | |
KR102245762B1 (en) | Holder, carrier having the same, and method for fixing a substrate | |
TWI609450B (en) | Carrier for substrates and apparatus therefor | |
KR200489874Y1 (en) | Substrate edge masking system | |
EP3294921B1 (en) | Methods and supports for holding substrates | |
KR200493207Y1 (en) | Carrier for supporting a substrate and apparatus therefor | |
KR102595812B1 (en) | Holder, carrier comprising at least two holders, devices and methods | |
JP6591570B2 (en) | Self-locking holder for substrates | |
WO2013083196A1 (en) | Substrate holder for full area processing, carrier and method of processing substrates | |
TWI657532B (en) | Holder for substrates | |
JP2018085523A (en) | Carrier for substrates | |
WO2019121289A1 (en) | Surface treatment chamber transport system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |