KR20210011463A - 가중 비트를 갖는 고해상도 감쇠기 또는 위상 시프터 - Google Patents
가중 비트를 갖는 고해상도 감쇠기 또는 위상 시프터 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20210011463A KR20210011463A KR1020207038144A KR20207038144A KR20210011463A KR 20210011463 A KR20210011463 A KR 20210011463A KR 1020207038144 A KR1020207038144 A KR 1020207038144A KR 20207038144 A KR20207038144 A KR 20207038144A KR 20210011463 A KR20210011463 A KR 20210011463A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- bit position
- stage
- function
- attenuation
- series
- Prior art date
Links
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims abstract description 36
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 51
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 48
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 43
- 238000013459 approach Methods 0.000 abstract description 13
- 230000009466 transformation Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 18
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 8
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 7
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 6
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000002408 directed self-assembly Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000007620 mathematical function Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/24—Frequency- independent attenuators
- H03H7/25—Frequency- independent attenuators comprising an element controlled by an electric or magnetic variable
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H17/00—Networks using digital techniques
- H03H17/0054—Attenuators
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H11/00—Networks using active elements
- H03H11/02—Multiple-port networks
- H03H11/16—Networks for phase shifting
- H03H11/20—Two-port phase shifters providing an adjustable phase shift
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H11/00—Networks using active elements
- H03H11/02—Multiple-port networks
- H03H11/24—Frequency-independent attenuators
- H03H11/245—Frequency-independent attenuators using field-effect transistor
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H17/00—Networks using digital techniques
- H03H17/08—Networks for phase shifting
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/18—Networks for phase shifting
- H03H7/20—Two-port phase shifters providing an adjustable phase shift
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/56—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
- H03K17/687—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H11/00—Networks using active elements
- H03H11/02—Multiple-port networks
- H03H11/24—Frequency-independent attenuators
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H2210/00—Indexing scheme relating to details of tunable filters
- H03H2210/01—Tuned parameter of filter characteristics
- H03H2210/017—Amplitude, gain or attenuation
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H2210/00—Indexing scheme relating to details of tunable filters
- H03H2210/03—Type of tuning
- H03H2210/036—Stepwise
Landscapes
- Networks Using Active Elements (AREA)
- Attenuators (AREA)
- Analogue/Digital Conversion (AREA)
Abstract
Description
도 2a는 종래 기술의 브릿징된-T형 감쇠기의 개략도이다.
도 2b는 종래 기술의 파이-형 감쇠기의 개략도이다.
도 2c는 종래 기술의 션트 가능한 전송 라인 디지털 스텝 감쇠기의 개략도이다.
도 3은 종래 기술의 바이너리-가중 DPS의 개략도이다.
도 4a는 종래 기술의 인덕터-기반 위상 시프터의 개략도이다.
도 4b는 종래 기술의 커패시터-기반 위상 시프터의 개략도이다.
도 4c는 종래 기술의 션트 가능한 전송 라인 위상 시프터의 개략도이다.
도 5a는 균일한 비트 위치 가중화를 사용하는 9-비트 DSA에 대한 비트 위치별 감쇠 가중치의 그래프이다.
도 5b는 도 5a에 나타낸 비트 위치 가중화에 대한 비트 위치 상태의 다양한 조합의 함수로서 설정될 수 있는 가능한 감쇠 레벨을 나타내는 그래프이다.
도 6a는 선형 급수 비트 위치 가중화를 사용하는 9-비트 DSA에 대한 비트 위치별 감쇠 가중치의 그래프이다.
도 6b는 도 6a에 나타낸 비트 위치 가중화에 대한 비트 위치 상태의 다양한 조합의 함수로서 설정될 수 있는 가능한 감쇠 레벨을 나타내는 그래프이다.
도 6c는 A0 및 K의 상이한 값에 대해 선형 급수 비트 위치 가중화를 사용하는 9-비트 DSA에 대한 비트 위치별 감쇠 가중치의 그래프이다.
도 6d는 도 6c에 나타낸 비트 위치 가중화에 대한 비트 위치 상태의 다양한 조합의 함수로서 설정될 수 있는 가능한 감쇠 레벨을 나타내는 그래프이다.
도 7a는 A0 및 K의 상이한 값에 대해 교대 선형 급수 비트 위치 가중화를 사용하는 9-비트 DSA에 대한 비트 위치별 감쇠 가중치의 그래프이다.
도 7b는 도 7a에 나타낸 비트 위치 가중화에 대한 비트 위치 상태의 다양한 조합의 함수로서 설정될 수 있는 가능한 감쇠 레벨을 나타내는 그래프이다.
도 8a는 AO 및 K의 상이한 값에 대해 기하 급수 비트 위치 가중화를 사용하는 9-비트 DSA에 대한 비트 위치별 감쇠 가중치의 그래프이다.
도 8b는 도 8a에 나타낸 비트 위치 가중화에 대한 비트 위치 상태의 다양한 조합의 함수로서 설정될 수 있는 가능한 감쇠 레벨을 나타내는 그래프이다.
도 9a는 A0 및 K의 상이한 값에 대해 교대 기하 급수 비트 위치 가중화를 사용하는 9-비트 DSA에 대한 비트 위치별 감쇠 가중치의 그래프이다.
도 9b는 도 9a에 나타낸 비트 위치 가중화에 대한 비트 위치 상태의 다양한 조합의 함수로서 설정될 수 있는 가능한 감쇠 레벨을 나타내는 그래프이다.
도 10a는 A0 및 K의 상이한 값에 대해 조화 급수 비트 위치 가중화를 사용하는 9-비트 DSA에 대한 비트 위치별 감쇠 가중치의 그래프이다.
도 10b는 도 10a에 나타낸 비트 위치 가중화에 대한 비트 위치 상태의 다양한 조합의 함수로서 설정될 수 있는 가능한 감쇠 레벨을 나타내는 그래프이다.
도 11a는 A0 및 K의 상이한 값에 대해 교대 조화 급수 비트 위치 가중화를 사용하는 9-비트 DSA에 대한 비트 위치별 감쇠 가중치의 그래프이다.
도 11b는 도 11a에 나타낸 비트 위치 가중화에 대한 비트 위치 상태의 다양한 조합의 함수로서 설정될 수 있는 가능한 감쇠 레벨을 나타내는 그래프이다.
도 12a는 A0 및 K의 선택된 값에 대해 비트 위치 1 내지 8에 대한 교대 조화 급수 비트 위치 가중화를 사용하는 9-비트 DSA에 대한 비트 위치별 감쇠 가중치의 그래프이며, 비트 위치 9는 고정 값(본 예에서는 0.25 dB)을 할당받는다.
도 12b는 도 12a에 나타낸 비트 위치 가중화에 대한 비트 위치 상태의 다양한 조합의 함수로서 설정될 수 있는 가능한 감쇠 레벨을 나타내는 그래프이다.
도 13은 조화 급수 비트 위치 가중화 및 교대 조화 급수 비트 위치 가중화를 사용하는 9-비트 DSA에 대한 비트 위치별 소팅(sorting)된 감쇠 가중치의 그래프이다.
도 14는 복수의 신호 변경 스테이지에 대한 비트 위치 가중치를 설정하기 위한 제1 방법에 대한 프로세스 흐름도이다.
다양한 도면에서 유사한 참조 번호 및 표기는 유사한 요소를 나타낸다.
범위 (dB) | N -bits | LSB (dB) | MSB (dB) |
9 | 9 | 0.018 | 4.51 |
9 | 8 | 0.035 | 4.52 |
9 | 7 | 0.071 | 4.54 |
9 | 6 | 0.140 | 4.57 |
9 | 5 | 0.290 | 4.65 |
9 | 4 | 0.600 | 4.80 |
9 | 3 | 1.300 | 5.14 |
도면 | 유형 | FOM |
5b | 균일(통상) | ~9 |
6b | 선형 급수 | ~85 |
7b | 교대 선형 급수 | ~74 |
8b | 기하 급수 | ~97 |
9b | 교대 기하 급수 | ~184 |
10b | 조화 급수 | ~72 |
11b | 교대 조화 급수 | ~208 |
12b | 교대 조화 급수 + 작은 고정 비트 | ~107 |
가중화 | 감쇠 범위(dB) | 해상도(dB) | MSB/LSB(dB/dB) | FOM2(식 3) | |
순수 바이너리(비교용) | 9 | 0.018 | 256.0 | 2.00 | |
교대 조화 급수 1 | 9 | 0.07 | 2.1 | 62.46 | |
교대 조화 급수 2 | 9 | 0.06 | 2.4 | 62.89 |
가중화 | A 0 | K | 식 |
교대 조화 급수 1 | 0.959 | 0.5 | A0 + (-1)( n -1) × K/n |
교대 조화 급수 2 | 1.041 | 0.5 | A0 + (-1) n × K/n |
Claims (26)
- 전자 회로로서:
(a) 복수의 스테이지들을 포함하고, 각각의 스테이지는 인가된 신호의 감쇠 또는 위상을 선택적으로 변경하도록 구성되고, 각각의 스테이지는 비트 위치를 할당받고 기준 상태 또는 활성 신호 변경 상태에 있도록 관련 제어 라인에 의해 디지털로 선택 가능하고;
(b) 각각의 스테이지는 신호 변경의 관련 값을 제공하도록 구성되고;
(c) 각각의 스테이지에 대한 신호 변경의 상기 관련 값은 신호 변경의 단편적인 중간 스텝들을 생성하는 비트 위치 가중 함수를 적용함으로써 결정된 대응하는 비트 위치 가중치의 함수인, 전자 회로. - 제1항에 있어서,
신호 변경의 상기 단편적인 중간 스텝들은 최저값 스테이지의 신호 변경 값보다 더 미세한 해상도를 갖는, 전자 회로. - 제1항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 선형 급수 함수인, 전자 회로. - 제1항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 교대 선형 급수 함수인, 전자 회로. - 제1항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 기하 급수 함수인, 전자 회로. - 제1항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 교대 기하 급수 함수인, 전자 회로. - 제1항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 조화 급수 함수인, 전자 회로. - 제1항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 교대 조화 급수 함수인, 전자 회로. - 제1항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수에 의해 결정되지 않은 고정 값으로 설정된 신호 변경 값을 갖는 적어도 하나의 스테이지를 더 포함하는, 전자 회로. - 전자 디지털 스텝 감쇠기 회로로서:
(a) 복수의 직렬-접속 감쇠기 스테이지들을 포함하고, 각각의 스테이지는 비트 위치를 할당받고 기준 상태 또는 감쇠 상태에 있도록 관련 제어 라인에 의해 디지털로 선택 가능하고;
(b) 각각의 스테이지는 신호 감쇠의 관련 값을 제공하는 구성 요소들로 구성되고;
(c) 각각의 스테이지에 대한 신호 감쇠의 상기 관련 값은 교대 조화 급수 비트 위치 가중 함수를 적용하여 결정된 대응하는 비트 위치 가중치의 함수인, 전자 디지털 스텝 감쇠기 회로. - 제10항에 있어서,
상기 교대 조화 급수 비트 위치 가중 함수에 의해 결정되지 않은 고정 값으로 설정된 신호 감쇠 값을 갖는 적어도 하나의 직렬-접속 스테이지를 더 포함하는, 전자 디지털 스텝 감쇠기 회로. - 전자 전송 라인 디지털 스텝 감쇠기 회로로서:
(a) 복수의 션트(shunt) 감쇠기 스테이지들에 커플링된 전송 라인을 포함하고, 각각의 스테이지는 비트 위치를 할당받고 기준 상태 또는 감쇠 상태에 있도록 관련 제어 라인에 의해 디지털로 선택 가능하고;
(b) 각각의 스테이지는 신호 감쇠의 관련 값을 제공하는 구성 요소들로 구성되고;
(c) 각각의 스테이지에 대한 신호 감쇠의 상기 관련 값은 교대 조화 급수 비트 위치 가중 함수를 적용하여 결정된 대응하는 비트 위치 가중치의 함수인, 전자 전송 라인 디지털 스텝 감쇠기 회로. - 전자 전송 라인 디지털 위상 시프터 회로로서:
(a) 복수의 션트 위상 시프터 스테이지들에 커플링된 전송 라인을 포함하고, 각각의 스테이지는 비트 위치를 할당받고 기준 상태 또는 위상 시프트 상태에 있도록 관련 제어 라인에 의해 디지털로 선택 가능하고;
(b) 각각의 스테이지는 신호 위상 시프트의 관련 값을 제공하는 구성 요소들로 구성되고;
(c) 각각의 스테이지에 대한 신호 위상 시프트의 상기 관련 값은 교대 조화 급수 비트 위치 가중 함수를 적용하여 결정된 대응하는 비트 위치 가중치의 함수인, 전자 전송 라인 디지털 위상 시프터 회로. - 복수의 스테이지들을 포함하는 전자 회로에 대한 비트 위치 가중치들을 설정하기 위한 방법으로서, 각각의 스테이지는 인가된 신호의 감쇠 또는 위상을 선택적으로 변경하도록 구성되고, 각각의 스테이지는 비트 위치를 할당받고 기준 상태 또는 활성 신호 변경 상태에 있도록 관련 제어 라인에 의해 디지털로 선택 가능하고, 상기 방법은:
(a) 신호 변경의 관련 값을 제공하도록 각각의 스테이지를 구성하는 단계; 및
(b) 신호 변경의 단편적인 중간 스텝들을 생성하는 비트 위치 가중 함수를 적용함으로써 결정된 대응하는 비트 위치 가중치의 함수로서 각각의 스테이지에 대한 신호 변경의 상기 관련 값을 설정하는 단계를 포함하는, 방법. - 제14항에 있어서,
신호 변경의 상기 단편적인 중간 스텝들은 최저값 스테이지의 신호 변경 값보다 더 미세한 해상도를 갖는, 방법. - 제14항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 선형 급수 함수인, 방법. - 제14항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 교대 선형 급수 함수인, 방법. - 제14항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 기하 급수 함수인, 방법. - 제14항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 교대 기하 급수 함수인, 방법. - 제14항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 조화 급수 함수인, 방법. - 제14항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수는 교대 조화 급수 함수인, 방법. - 제14항에 있어서,
상기 비트 위치 가중 함수에 의해 결정되지 않은 고정 값으로 설정된 신호 변경 값을 갖는 적어도 하나의 스테이지를 제공하는 단계를 더 포함하는, 방법. - 복수의 직렬-접속 감쇠기 스테이지들을 포함하는 전자 디지털 스텝 감쇠기 회로에 대한 비트 위치 가중치들을 설정하기 위한 방법으로서, 각각의 스테이지는 비트 위치를 할당받고 기준 상태 또는 감쇠 상태에 있도록 관련 제어 라인에 의해 디지털로 선택 가능하고, 상기 방법은:
(a) 신호 감쇠의 관련 값을 제공하는 구성 요소들로 각각의 스테이지를 구성하는 단계; 및
(b) 교대 조화 급수 비트 위치 가중 함수를 적용하여 결정된 대응하는 비트 위치 가중치의 함수로서 각각의 스테이지에 대한 신호 감쇠의 상기 관련 값을 설정하는 단계를 포함하는, 방법. - 제23항에 있어서,
상기 교대 조화 급수 비트 위치 가중 함수에 의해 결정되지 않은 고정 값으로 설정된 신호 감쇠 값을 갖는 적어도 하나의 직렬-접속 스테이지를 제공하는 단계를 더 포함하는, 방법. - 복수의 션트 감쇠기 스테이지들을 포함하는 전자 전송 라인 디지털 스텝 감쇠기 회로에 대한 비트 위치 가중치들을 설정하기 위한 방법으로서, 각각의 스테이지는 비트 위치를 할당받고 기준 상태 또는 감쇠 상태에 있도록 관련 제어 라인에 의해 디지털로 선택 가능하고, 상기 방법은:
(a) 신호 감쇠의 관련 값을 제공하는 구성 요소들로 각각의 스테이지를 구성하는 단계; 및
(b) 교대 조화 급수 비트 위치 가중 함수를 적용하여 결정된 대응하는 비트 위치 가중치의 함수로서 각각의 스테이지에 대한 신호 감쇠의 상기 관련 값을 설정하는 단계를 포함하는, 방법. - 복수의 션트 위상 시프터 스테이지들을 포함하는 전자 전송 라인 디지털 위상 시프터 회로에 대한 비트 위치 가중치들을 설정하기 위한 방법으로서, 각각의 스테이지는 비트 위치를 할당받고 기준 상태 또는 위상 시프트 상태에 있도록 관련 제어 라인에 의해 디지털로 선택 가능하고, 상기 방법은:
(a) 신호 위상 시프트의 관련 값을 제공하는 구성 요소들로 각각의 스테이지를 구성하는 단계; 및
(b) 교대 조화 급수 비트 위치 가중 함수를 적용하여 결정된 대응하는 비트 위치 가중치의 함수로서 각각의 스테이지에 대한 신호 위상 시프트의 상기 관련 값을 설정하는 단계를 포함하는, 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/013,844 | 2018-06-20 | ||
US16/013,844 US10505511B1 (en) | 2018-06-20 | 2018-06-20 | High resolution attenuator or phase shifter with weighted bits |
PCT/US2019/037810 WO2019246156A1 (en) | 2018-06-20 | 2019-06-18 | High resolution attenuator or phase shifter with weighted bits |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210011463A true KR20210011463A (ko) | 2021-02-01 |
KR102692308B1 KR102692308B1 (ko) | 2024-08-07 |
Family
ID=68766257
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020207038144A KR102692308B1 (ko) | 2018-06-20 | 2019-06-18 | 가중 비트를 갖는 고해상도 감쇠기 또는 위상 시프터 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US10505511B1 (ko) |
EP (1) | EP3811517A4 (ko) |
KR (1) | KR102692308B1 (ko) |
CN (1) | CN112313877A (ko) |
WO (1) | WO2019246156A1 (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10505511B1 (en) | 2018-06-20 | 2019-12-10 | Psemi Corporation | High resolution attenuator or phase shifter with weighted bits |
CN111817689B (zh) * | 2020-07-22 | 2021-02-26 | 浙江大学 | 高线性衰减器 |
CN112653423B (zh) * | 2020-12-16 | 2023-03-24 | 电子科技大学 | 一种低相移数控衰减器 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150137913A1 (en) * | 2013-11-19 | 2015-05-21 | Peregrine Semiconductor Corporation | Segmented Attenuator with Glitch Reduction |
US20160112026A1 (en) * | 2014-10-15 | 2016-04-21 | Analog Devices Global | Apparatus and methods for controlling overshoot in digital step attenuators |
KR20180020999A (ko) * | 2015-06-26 | 2018-02-28 | 페레그린 세미컨덕터 코포레이션 | 위상 시프터/감쇠기 회로에서 상태 변경 안정화 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5394122A (en) * | 1992-09-28 | 1995-02-28 | Duly Research Incorporated | RF digital-to-analog converter |
US7675380B2 (en) * | 2005-06-14 | 2010-03-09 | National Semiconductor Corporation | Integrated digitally controlled linear-in-decibels attenuator |
US7782109B2 (en) | 2007-06-15 | 2010-08-24 | Mediatek Inc. | Delay circuit and related method |
JP4751876B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2011-08-17 | 富士通株式会社 | 可変減衰器 |
US9100046B2 (en) | 2011-08-17 | 2015-08-04 | Rf Micro Devices, Inc. | Digital step attenuator utilizing thermometer encoded multi-bit attenuator stages |
US9985601B2 (en) * | 2012-06-01 | 2018-05-29 | Qualcomm Incorporated | Step attenuator with constant input capacitance |
US9473109B2 (en) | 2014-05-09 | 2016-10-18 | Skyworks Solutions, Inc. | Apparatus and methods for digital step attenuators with small output glitch |
US9548722B2 (en) | 2014-10-22 | 2017-01-17 | Analog Devices Global | Apparatus and methods for reducing glitches in digital step attenuators |
US9531359B1 (en) | 2015-10-08 | 2016-12-27 | Peregrine Semiconductor Corporation | Multi-state attenuator |
US10082488B2 (en) * | 2015-12-02 | 2018-09-25 | Butterfly Network, Inc. | Time gain compensation circuit and related apparatus and methods |
US9602091B1 (en) | 2015-12-03 | 2017-03-21 | Peregrine Semiconductor Corporation | Low phase shift, high frequency attenuator |
US10062946B2 (en) | 2016-01-05 | 2018-08-28 | Psemi Corporation | Reflection-based RF phase shifter |
US10033349B2 (en) | 2016-02-05 | 2018-07-24 | Psemi Corporation | Low loss multi-state phase shifter |
US9742435B1 (en) | 2016-06-21 | 2017-08-22 | Vmware, Inc. | Multi-stage data compression for time-series metric data within computer systems |
US10211801B2 (en) | 2016-07-15 | 2019-02-19 | Psemi Corporation | Hybrid coupler with phase and attenuation control |
US10505511B1 (en) | 2018-06-20 | 2019-12-10 | Psemi Corporation | High resolution attenuator or phase shifter with weighted bits |
US10715123B1 (en) | 2019-06-21 | 2020-07-14 | Psemi Corporation | Error correction for stepwise signal modification circuits |
-
2018
- 2018-06-20 US US16/013,844 patent/US10505511B1/en active Active
-
2019
- 2019-06-18 EP EP19822940.3A patent/EP3811517A4/en active Pending
- 2019-06-18 KR KR1020207038144A patent/KR102692308B1/ko active IP Right Grant
- 2019-06-18 WO PCT/US2019/037810 patent/WO2019246156A1/en active Search and Examination
- 2019-06-18 CN CN201980041755.7A patent/CN112313877A/zh active Pending
-
2020
- 2020-12-08 US US17/115,368 patent/US11533037B2/en active Active
-
2022
- 2022-12-15 US US18/082,360 patent/US12040769B2/en active Active
-
2024
- 2024-07-11 US US18/770,370 patent/US20250015775A1/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20150137913A1 (en) * | 2013-11-19 | 2015-05-21 | Peregrine Semiconductor Corporation | Segmented Attenuator with Glitch Reduction |
US20160112026A1 (en) * | 2014-10-15 | 2016-04-21 | Analog Devices Global | Apparatus and methods for controlling overshoot in digital step attenuators |
KR20180020999A (ko) * | 2015-06-26 | 2018-02-28 | 페레그린 세미컨덕터 코포레이션 | 위상 시프터/감쇠기 회로에서 상태 변경 안정화 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20250015775A1 (en) | 2025-01-09 |
WO2019246156A1 (en) | 2019-12-26 |
US11533037B2 (en) | 2022-12-20 |
US20190393852A1 (en) | 2019-12-26 |
US20210159870A1 (en) | 2021-05-27 |
US10505511B1 (en) | 2019-12-10 |
CN112313877A (zh) | 2021-02-02 |
EP3811517A1 (en) | 2021-04-28 |
US12040769B2 (en) | 2024-07-16 |
KR102692308B1 (ko) | 2024-08-07 |
EP3811517A4 (en) | 2022-03-23 |
US20230198491A1 (en) | 2023-06-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11711068B2 (en) | Low loss reflective passive phase shifter using time delay element with double resolution | |
US12040769B2 (en) | High resolution attenuator or phase shifter with weighted bits | |
CN108463948B9 (zh) | 基于反射的rf移相器 | |
JP3362931B2 (ja) | アツテネータ回路 | |
US10193531B2 (en) | Digital step attenuator | |
US10340892B2 (en) | Multi-channel digital step attenuator architecture | |
US9780774B2 (en) | System and method for a switchable capacitance | |
US10069481B2 (en) | State change stabilization in a phase shifter/attenuator circuit | |
US20080224801A1 (en) | Digital Attenuation Apparatus Having Ultra Broadband and Excellent Attenuation Characteristics | |
US20190140622A1 (en) | Low Loss Reflective Passive Phase Shifter using Time Delay Element | |
JPH0681007B2 (ja) | 連続可変アナログ移相器 | |
CN114008920A (zh) | 用于步进式信号修改电路的误差校正 | |
CN110798170B (zh) | 利用具有双分辨率的时间延迟元件的低损耗反射无源移相器 | |
EP3035529B1 (en) | Integrated tunable impedance network |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0105 | International application |
Patent event date: 20201231 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20220615 Comment text: Request for Examination of Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20240102 Patent event code: PE09021S01D |
|
N231 | Notification of change of applicant | ||
PN2301 | Change of applicant |
Patent event date: 20240325 Comment text: Notification of Change of Applicant Patent event code: PN23011R01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20240604 |
|
PG1601 | Publication of registration |