KR20210006679A - 사이드 스토리지용 배기 유닛 - Google Patents

사이드 스토리지용 배기 유닛 Download PDF

Info

Publication number
KR20210006679A
KR20210006679A KR1020190082588A KR20190082588A KR20210006679A KR 20210006679 A KR20210006679 A KR 20210006679A KR 1020190082588 A KR1020190082588 A KR 1020190082588A KR 20190082588 A KR20190082588 A KR 20190082588A KR 20210006679 A KR20210006679 A KR 20210006679A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
exhaust
wafer
target gas
flow guide
exhaust target
Prior art date
Application number
KR1020190082588A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102217711B1 (ko
Inventor
김용주
장병훈
Original Assignee
주식회사 에이케이테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에이케이테크 filed Critical 주식회사 에이케이테크
Priority to KR1020190082588A priority Critical patent/KR102217711B1/ko
Publication of KR20210006679A publication Critical patent/KR20210006679A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102217711B1 publication Critical patent/KR102217711B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67346—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders characterized by being specially adapted for supporting a single substrate or by comprising a stack of such individual supports
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67772—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving removal of lid, door, cover

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

개시되는 사이드 스토리지용 배기 유닛이 웨이퍼 수용 카세트 부재 중 상기 웨이퍼가 출입되는 방향인 전면부에 배치되고, 그 상면에 복수 개의 배기 대상 가스 유입 홀이 형성되어 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재로부터 상기 배기 대상 가스가 유입되는 배기용 패널 부재 및 상기 배기용 패널 부재와 연통되어 상기 배기용 패널 부재로 유입된 상기 배기 대상 가스를 외부로 배기시키는 배기용 덕트 부재를 포함하고, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재의 내부에서 형성된 상기 배기 대상 가스는 상기 배기 대상 가스 유입 홀을 통해 상기 배기용 패널 부재로 유입되고, 상기 배기용 패널 부재로 유입된 상기 배기 대상 가스는 상기 배기용 덕트 부재를 통해 외부로 배기되고, 상기와 같이 상기 배기 대상 가스의 비산을 방지하면서 효율적으로 배기시킴으로써 사이드 스토리지 내부에 상기 배기 대상 가스가 잔존하는 것이 방지될 수 있게 되는 장점이 있다.

Description

사이드 스토리지용 배기 유닛{Exhaust unit for side storage}
본 발명은 사이드 스토리지용 배기 유닛에 관한 것이다.
웨이퍼 가공 설비는 반도체 등의 제조를 위한 웨이퍼를 증착, 노광, 식각, 세정 등 가공하기 위한 것으로, 이러한 웨이퍼 가공 설비에는 로드락 챔버 유닛(load lock chamber unit), 트랜스퍼 챔버 유닛(transfer chamber unit), 프로세스 챔버 유닛(process chamber unit), 이에프이엠(EFEM, Equipment front end module) 등과 함께 사이드 스토리지(side storage)가 적용된다.
상기 이에프이엠은 로드 포트가 설치되어, 상기 로드 포트를 통해 웨이퍼를 상기 웨이퍼 가공 설비 내로 투입하거나 공정이 끝난 웨이퍼를 회수하여 외부로 반출할 수 있는 것이고, 상기 로드락 챔버 유닛은 상기 이에프이엠과 상기 트랜스퍼 챔버 유닛 사이에서 웨이퍼가 통과되는 것이고, 상기 트랜스퍼 챔버 유닛은 로봇 팔 등이 내장되어 있어서 상기 로드락 챔버 유닛을 통해 투입된 웨이퍼를 상기 프로세스 챔버 유닛으로 투입하거나 공정이 끝난 웨이퍼를 다시 상기 로드락 챔버 유닛을 통해 상기 이에프이엠으로 되돌려주는 것이고, 상기 프로세스 챔버 유닛은 상기 트랜스퍼 챔버 유닛을 통해 들어온 웨이퍼에 대한 에칭 공정 등의 가공을 수행하는 것이다.
상기 사이드 스토리지는 상기 이에프이엠에 연결되어, 상기 로드락 챔버 유닛과 상기 이에프이엠에 연결되어 있는 로드 포트 사이를 오가는 웨이퍼가 잠시 머물고 그 웨이퍼에 대한 독소 제거 등을 수행하여, 상기 로드락 챔버 유닛과 상기 이에프이엠 사이에서 완충 역할 등을 수행하는 것이다.
이러한 사이드 스토리지의 예로 제시될 수 있는 것이 아래 제시된 특허문헌의 그 것이다.
상기 이에프이엠의 상부에는 팬 유닛이 설치되어 있어서, 상기 팬 유닛에 의해 상기 이에프이엠의 상부에서 하강되는 질소 가스 등의 퍼지 가스가 상기 이에프이엠의 내부에 분사되고, 이러한 분사된 상기 퍼지 가스에 의해 상기 이에프이엠의 내부에 있는 웨이퍼에 묻은 퓸(fume) 등의 이물질이 웨이퍼로부터 이탈되고, 상기 웨이퍼에서 이탈된 상기 이물질은 상기 웨이퍼를 경유한 상기 퍼지 가스와 혼합된 다음 사이드 스토리지의 전면부에 배치된 배기 유닛을 통해 외부로 배기된다.
상기 배기 유닛의 상단에는 복수 개의 배기 대상 가스 유입 홀이 형성된 상태로 진공 펌프 등과 연결되어 그 내부에 부압(negative pressure)이 형성되고, 이러한 부압에 의해 상기 이물질과 상기 웨이퍼를 경유한 상기 퍼지 가스가 혼합되면서 형성되는 배기 대상 가스가 상기 배기 대상 가스 유입 홀을 통해 상기 배기 유닛 내부로 유입된 다음 외부로 배기될 수 있다.
그러나, 종래에는 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀 중 상기 사이드 스토리지에 상대적으로 근접된 것으로는 상기 부압에 의한 상기 배기 대상 가스의 유입이 용이하였으나, 상기 사이드 스토리지에 상대적으로 멀리 있는 것은 상기 배기 대상 가스에 대한 상기 부압의 영향이 상대적으로 작아지면서 상기 배기 대상 가스가 유입되지 못하고, 그에 따라 상기 배기 대상 가스가 상기 배기 유닛 주변에 잔존하게 될 뿐만 아니라, 그러한 잔존된 상기 배기 대상 가스가 비산되면서 웨이퍼를 재오염시키는 문제가 있었다.
등록특허 제 10-1758213호, 등록일자: 2017.07.10., 발명의 명칭: 가스 노즐플레이트를 구비한 사이드 스토리지 공개특허 제 10-2015-0091230호, 공개일자: 2015.08.10., 발명의 명칭: 로드 포트 및 ＥＦＥＭ
본 발명은 웨이퍼에서 제거된 이물질과 상기 웨이퍼를 경유한 퍼지 가스가 혼합된 배기 대상 가스의 비산을 방지하면서 효율적으로 배기시킴으로써, 사이드 스토리지 내부에 상기 배기 대상 가스가 잔존하는 것이 방지될 수 사이드 스토리지용 배기 유닛을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛은 이에프이엠(EFEM)에 연결되면서, 상기 이에프이엠의 내부에서 이동되는 웨이퍼가 일정 시간동안 수용될 수 있는 웨이퍼 수용 카세트 부재와, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재의 하부에서 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재를 지지하는 하부 케이스 부재를 포함하는 사이드 스토리지에 적용되고, 상기 웨이퍼가 수용된 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재 내부에 퍼지 가스가 분사되어 상기 웨이퍼의 퓸(fume)이 제거됨으로써 상기 웨이퍼를 경유한 상기 퍼지 가스와 상기 퓸이 혼합되고, 상기 웨이퍼를 경유한 상기 퍼지 가스와 상기 퓸이 혼합되어 형성되는 배기 대상 가스를 외부로 배출시키기 위한 것으로서, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재 중 상기 웨이퍼가 출입되는 방향인 전면부에 배치되고, 그 상면에 복수 개의 배기 대상 가스 유입 홀이 형성되어 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재로부터 상기 배기 대상 가스가 유입되는 배기용 패널 부재; 및 상기 배기용 패널 부재와 연통되어 상기 배기용 패널 부재로 유입된 상기 배기 대상 가스를 외부로 배기시키는 배기용 덕트 부재;를 포함하고, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재의 내부에서 형성된 상기 배기 대상 가스는 상기 배기 대상 가스 유입 홀을 통해 상기 배기용 패널 부재로 유입되고, 상기 배기용 패널 부재로 유입된 상기 배기 대상 가스는 상기 배기용 덕트 부재를 통해 외부로 배기되고, 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀의 길이는 상기 웨이퍼의 직경과 대응되는 길이로 서로 동일하게 형성되되, 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀의 각 폭은 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재에 가까운 것에 비해 상기 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재에서 먼 것이 상대적으로 더 크게 형성된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛에 의하면, 상기 사이드 스토리지용 배기 유닛이 웨이퍼 수용 카세트 부재 중 상기 웨이퍼가 출입되는 방향인 전면부에 배치되고, 그 상면에 복수 개의 배기 대상 가스 유입 홀이 형성되어 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재로부터 상기 배기 대상 가스가 유입되는 배기용 패널 부재 및 상기 배기용 패널 부재와 연통되어 상기 배기용 패널 부재로 유입된 상기 배기 대상 가스를 외부로 배기시키는 배기용 덕트 부재를 포함하고, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재의 내부에서 형성된 상기 배기 대상 가스는 상기 배기 대상 가스 유입 홀을 통해 상기 배기용 패널 부재로 유입되고, 상기 배기용 패널 부재로 유입된 상기 배기 대상 가스는 상기 배기용 덕트 부재를 통해 외부로 배기되고, 상기와 같이 상기 배기 대상 가스의 비산을 방지하면서 효율적으로 배기시킴으로써 사이드 스토리지 내부에 상기 배기 대상 가스가 잔존하는 것이 방지될 수 있게 되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛이 적용된 웨이퍼 가공 설비의 구성을 보이는 도면.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛이 적용된 사이드 스트로지의 모습을 위에서 내려다본 사시도.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛의 모습을 보이는 정면도.
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛을 구성하는 배기용 패널 부재에 형성된 배기 대상 가스 유입 홀의 일부를 확대한 확대도.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛을 구성하는 유동 안내부를 보이는 도면.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛을 구성하는 유동 안내부에 적용된 제 1 유동 안내체에 형성된 제 1 상측 연통관과 제 1 하측 연통관의 모습을 보이는 단면도.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛이 적용된 웨이퍼 가공 설비의 구성을 보이는 도면이고, 도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛이 적용된 사이드 스트로지의 모습을 위에서 내려다본 사시도이고, 도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛의 모습을 보이는 정면도이고, 도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛을 구성하는 배기용 패널 부재에 형성된 배기 대상 가스 유입 홀의 일부를 확대한 확대도이고, 도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛을 구성하는 유동 안내부를 보이는 도면이다.
도 1 내지 도 5를 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛(110)은 이에프이엠(EFEM)(20)에 연결되면서, 상기 이에프이엠(20)의 내부에서 이동되는 웨이퍼가(W) 일정 시간동안 수용될 수 있는 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)와, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)의 하부에서 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)를 지지하는 하부 케이스 부재(102)를 포함하는 사이드 스토리지(100)에 적용되고, 상기 웨이퍼가(W) 수용된 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101) 내부에 퍼지 가스가 분사되어 상기 웨이퍼의 퓸(fume)이 제거됨으로써 상기 웨이퍼를 경유한 상기 퍼지 가스와 상기 퓸이 혼합되고, 상기 웨이퍼를 경유한 상기 퍼지 가스와 상기 퓸이 혼합되어 형성되는 배기 대상 가스를 외부로 배출시키기 위한 것으로서, 배기용 패널 부재(120) 및 배기용 덕트 부재(130)를 포함한다.
본 실시예에서 상기 사이드 스토리지용 배기 유닛(110)은 유동 안내부(150)를 더 포함한다.
여기서, 상기 사이드 스토리지(100)는 상기 이에프이엠(20)에 연결되어 있는 로드 포트(50)와 로드락 챔버 유닛(60) 사이의 버퍼가 되는 것이다.
상기 로드 포트(50)는 상기 이에프이엠(20)에 형성되어, 웨이퍼(W)를 수용하여 이동시킬 수 있는 웨이퍼 캐리어가 얹히는 것이다.
상기 이에프이엠(20)은 상기 웨이퍼 캐리어가 상기 로드 포트(50)에 착탈 가능하게 결합되어, 상기 웨이퍼 캐리어 내의 웨이퍼를 상기 로드 포트(50)를 통해 웨이퍼 가공 설비(10) 내로 투입하거나 공정이 끝난 웨이퍼를 회수하여 상기 웨이퍼 캐리어로 다시 넣어줌으로써 외부로 반출할 수 있도록 하는 것이다.
도면 번호 30은 트랜스퍼 챔버 유닛으로, 상기 트랜스퍼 챔버 유닛(30)은 로봇 팔 등이 내장되어 있어서 상기 이에프이엠(20) 및 상기 로드락 챔버 유닛(60)을 순차적으로 통해 투입된 웨이퍼를 프로세스 챔버 유닛(40)으로 투입하거나 공정이 끝난 웨이퍼를 다시 상기 이에프이엠(20)으로 되돌려주는 것이다.
상기 로드락 챔버 유닛(60)은 상기 이에프이엠(20)과 상기 트랜스퍼 챔버 유닛(30) 사이에서 웨이퍼가 통과되는 것이다.
상기 프로세스 챔버 유닛(40)은 상기 트랜스퍼 챔버 유닛(30)에 연결되어, 상기 트랜스퍼 챔버 유닛(30)을 통해 들어온 웨이퍼에 대한 가공 공정을 수행하는 것이다.
상기 이에프이엠(20)에 연결된 상기 웨이퍼 캐리어에 수용된 웨이퍼는 가공공정을 거치기 위해 상기 이에프이엠(20), 상기 로드락 챔버 유닛(60) 및 상기 트랜스퍼 챔버 유닛(30)을 순차적으로 거치면서 상기 프로세스 챔버 유닛(40)으로 이동되고, 상기 프로세스 챔버 유닛(40)에 이동된 웨이퍼에 대한 가공 공정이 완료된 다음, 상기 웨이퍼가 외부 반출을 위해, 다시 상기 트랜스퍼 챔버 유닛(30), 상기 로드락 챔버 유닛(60) 및 상기 이에프이엠(20)을 순차적으로 거치게 된다.
이 때, 상기 프로세스 챔버 유닛(40)에서 상기 트랜스퍼 챔버 유닛(30)을 통해 상기 이에프이엠(20)으로 이동된 상기 웨이퍼가 상기 웨이퍼 캐리어에 수용되기 전에 상기 사이드 스토리지(100)를 경유하면서, 퓸 등의 이물질이 제거될 수 있다.
상세히, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)는 상기 이에프이엠(20)의 내부에서 이동되는 상기 웨이퍼가 일정 시간 동안 수용될 수 있는 것으로, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)의 상세 구조는 등록특허 제 10-1075171호, 등록특허 제 10-1682473호 등에서 이미 개시되고 있는 등 일반적인 것이므로, 여기서는 그 구체적인 설명 및 도시를 생략한다.
도면 번호 103은 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(110)의 내부에 형성되어 상기 웨이퍼가 수용될 수 있는 공간인 웨이퍼 수용 홀이다.
상기 배기용 패널 부재(120)는 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101) 중 상기 웨이퍼가(W) 출입되는 방향인 전면부에 배치되고, 그 상면에 복수 개의 배기 대상 가스 유입 홀(121)이 형성되어 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)로부터 상기 배기 대상 가스가 유입되는 것이다.
본 실시예에서, 상기 배기용 패널 부재(120)는 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)이 형성되는 상부 하우징(122)과, 상기 상부 하우징(122)의 하부에 배치되면서 상기 배기용 덕트 부재(130)가 수용되는 하부 하우징(123)을 포함한다.
상기 하부 하우징(123)은 일정 크기의 박스 형태로 형성되면서 상기 사이드 스토리지용 배기 유닛(110)이 설치되는 설치면에 배치된다.
상기 상부 하우징(122)은 상기 하부 하우징(123)의 상부에 적층되고, 일정 크기의 박스 형태로 형성되되, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)로부터 상기 배기 대상 가스가 용이하게 배기 가능하도록 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)의 높이에 14비해 상대적으로 낮게 형성된다.
상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)은 관통 형태로 형성되어 상기 배기용 패널 부재(120), 더 정확하게는 상기 상부 하우징(122)의 내외부를 연통시키는 것이다.
상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)은 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101) 중 상기 웨이퍼가(W) 출입되는 전면 개구부에서 일렬로 복수 개가 서로 이격되어 배치된다.
상세히, 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)의 길이는 상기 웨이퍼의 직경과 대응되는 길이로 서로 동일하게 형성되되, 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)의 각 폭은 서로 이웃하는 것 중 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)에 가까운 것에 비해 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)에서 먼 것이 상대적으로 더 크게 형성된다.
복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121) 중 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)에 상대적으로 근접된 것은 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)와의 이격 거리가 상대적으로 짧아서 상대적으로 좁은 범위에 퍼진 상기 배기 대상 가스를 유입하게 된다.
그러나, 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121) 중 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)에서 상대적으로 멀리 배치된 것은 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)와의 이격 거리가 상대적으로 멀어서 상대적으로 넓은 범위에 퍼진 상기 배기 대상 가스를 유입해야 하기에, 그 폭을 상대적으로 크게 형성한다.
또한, 상기 각 배기 대상 가스 유입 홀(121)은 그 상면은 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)와 상대적으로 근접되고, 그 저면은 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)에서 상대적으로 멀어지도록 기울어진 형태로 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)와 대면되되, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)에서 멀어질수록 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)와 대면되는 기울기가 상대적으로 작아지게 형성된다.
상세히, 도 4에 도시된 바와 같이 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121) 중 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)와 최근접된 것과 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101) 사이의 각도는 Φ1이 되고, 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121) 중 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)와 두 번째로 근접된 것과 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101) 사이의 각도는 Φ2가 되고, 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121) 중 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)와 세 번째로 근접된 것과 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101) 사이의 각도는 Φ3가 되고, 이러한 세 개의 각도 중 상기 Φ1이 최대 각이 되고, 상기 Φ2가 가운데 각이 되고, 상기 Φ3가 최소 각으로 이루어진다.
그러면, 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121) 중 상기 하부 케이스 부재(102)에서 상대적으로 멀리 위치된 것은 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)의 내부와 상대적으로 선형 형태를 가지게 됨으로써, 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)에 대한 상기 배기 대상 가스의 유입 경로가 상대적으로 짧아지게 되고, 그에 따라 상기 배기 대상 가스의 유입이 신속하게 진행될 수 있게 된다.
상기 배기용 덕트 부재(130)는 상기 배기용 패널 부재(120)와 연통되어 상기 배기용 패널 부재(120)로 유입된 상기 배기 대상 가스를 외부로 배기시키는 것이다.
상세히, 상기 배기용 덕트 부재(130)는 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)의 하부에 일정 간격 이격되어 위치되고, 내부가 빈 원통형의 관 형태로 형성된다.
더 상세히, 상기 배기용 덕트 부재(130)는 일측 말단은 상기 배기용 패널 부재(120), 더 정확하게는 상기 상부 하우징(122)의 저면과 연결되고, 타측 말단은 진공 펌프(135)와 연결되고, 외부 전원에 상기 진공 펌프(135)가 작동되면, 상기 배기용 덕트 부재(130)에 부압(negative pressure)이 걸리게 되어 상기 배기용 패널 부재(120)로 유입된 상기 배기 대상 가스가 외부로 이동하게 된다.
그러면, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)의 내부에서 형성된 상기 배기 대상 가스는 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)을 통해 상기 배기용 패널 부재(120)로 유입되고, 상기 배기용 패널 부재(120)로 유입된 상기 배기 대상 가스는 상기 진공 펌프(135)의 작동으로 형성된 부압에 의해 상기 배기용 덕트 부재(130)를 통해 외부로 배기된다.
도면 번호 124는 상기 사이드 스토리지용 배기 유닛(110)을 통한 상기 배기 대상 가스의 유입을 확인하기 위한 디스플레이 창이고, 도면 번호 125는 상기 진공 펌프(135)를 제어하기 위한 제어부로, 본 실시예에서는 상기 제어부(125)가 상기 하부 하우징(123)에 내장되는 것으로 설명한다.
상기 유동 안내부(150)는 상기 배기용 덕트 부재(130)의 내측면에 배치되어 상기 배기용 덕트 부재(130)로 유입된 상기 배기 대상 가스가 일정한 방향으로 유동되면서 외부로 배기되도록 상기 배기 대상 가스의 유동을 안내하는 것이다.
상세히, 상기 유동 안내부(150)는 제 1 유동 안내체(151)와, 제 2 유동 안내체(154)를 포함한다.
상기 제 1 유동 안내체(151)는 그 내측면이 일정 곡률로 형성되고, 상기 배기용 덕트 부재(130)의 내측면에서 복수 개가 서로 다른 높이로 이격되어 배치되는 것이다.
상세히, 상기 제 1 유동 안내체(151)는 상기 배기용 덕트 부재(130)의 내측면에 장착되면서 상기 배기용 덕트 부재(130)의 내주면을 따라 일정 길이 길게 형성되는 제 1 유동 안내 몸체(153)와, 상기 제 1 유동 안내 몸체(153)의 내측면에서 일정 곡률을 가지면서 형성된 제 1 유동 안내 곡면(152)을 포함한다.
상기 제 1 유동 안내 곡면(152)의 곡률 중심은 상기 배기용 덕트 부재(130)의 중심과 동일하게 형성된다.
상기 제 2 유동 안내체(154)는 그 내측면이 일정 곡률로 형성되고, 상기 배기용 덕트 부재(130)의 내측면 중 상기 제 1 유동 안내체(151)와 대면되는 위치에서 복수 개가 서로 다른 높이로 이격되어 배치되는 것이다.
상세히, 상기 제 2 유동 안내체(154)는 상기 배기용 덕트 부재(130)의 내측면에 장착되되, 상기 제 1 유동 안내 몸체(153)와 대면되도록 상기 제 1 유동 안내 몸체(153)와 일정 간격 이격되면서 상기 배기용 덕트 부재(130)의 내주면을 따라 일정 길이 길게 형성되는 제 2 유동 안내 몸체(156)와, 상기 제 2 유동 안내 몸체(156)의 내측면에서 일정 곡률을 가지면서 형성된 제 2 유동 안내 곡면(155)을 포함한다.
상기 제 2 유동 안내 곡면(155)의 곡률 중심은 상기 배기용 덕트 부재(130)의 중심과 동일하게 형성된다.
그러면, 상기 제 1 유동 안내 곡면(152) 및 상기 제 2 유동 안내 곡면(155)의 곡률 중심과 상기 배기용 덕트 부재(130)의 중심 위치가 모두 동일해짐으로써, 상기 배기용 덕트 부재(130)의 내측면 중 일부는 상기 제 1 유동 안내 곡면(152) 및 상기 제 2 유동 안내 곡면(155)이 둘러싸게 되고, 상기 배기용 덕트 부재(130)의 중심부는 빈 형태가 된다.
상기 제 1 유동 안내체(151)와 상기 제 2 유동 안내체(154)는 도 5에 도시된 바와 같이 각각 서로 어긋나도록 배치됨으로써, 상기 배기 대상 가스가 와류 형태로 유동되면서 하강된다.
상세히, 상기 배기 대상 가스는 부압에 의해 상기 배기용 덕트 부재(130)의 내부로 유입된 후 상기 제 1 유동 안내체(151) 중 최상측에 있는 것의 내측면을 따라 유동되다가 상기 제 1 유동 안내체(151) 중 최상측에 있는 것에 비해 상대적으로 낮은 위치에 형성된 상기 제 2 유동 안내체(154) 중 최상측에 있는 것으로 이동되고, 상기 제 2 유동 안내체(154) 중 최상측에 있는 것으로 이동된 상기 배기 대상 가스는 상기 제 2 유동 안내체(154) 중 최상측에 있는 것의 내측면을 따라 유동되다가, 상기 제 2 유동 안내체(154) 중 최상측에 있는 것에 비해 상대적으로 낮은 위치에 형성된 상기 제 1 유동 안내체(151) 중 최상측에서 이격된 아래에 있는 것으로 이동되고, 상기 제 1 유동 안내체(151) 중 최상측에서 이격된 아래에 있는 것으로 이동된 상기 배기 대상 가스는 상기 제 1 유동 안내체(151) 중 최상측에서 이격된 아래에 있는 것으로 이동되고, 상기와 같이, 상기 배기 대상 가스가 상기 제 1 유동 안내체(151)와 상기 제 2 유동 안내체(154)를 지그재그로 번갈아 가며 회전 유동됨으로써 와류 형태로 하부로 이동하게 된다.
상기와 같이 형성됨으로써, 상기 배기용 덕트 부재(130) 내부에서 선형 유동되면서 이동되는 것에 비해 상기 배기 대상 가스가 상대적으로 빠른 속도로 외부로 배기됨으로써 상기 배기 대상 가스의 배기가 효율적으로 이루어질 수 있게 된다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛(110)의 작동에 대하여 설명한다.
먼저, 상기 제어부(125)를 이용하여 상기 진동 펌프를 작동한다. 그러면, 상기 배기용 패널 부재(120)를 구성하는 상기 상부 하우징(122) 및 상기 배기용 덕트 부재(130) 내부에 부압이 형성된다.
그런 다음, 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)에 부압이 형성된 것을 확인한다.
그런 다음, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)의 전면부를 개구하여 상기 배기 대상 가스가 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)을 통해 유입되도록 한다.
상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)을 통한 상기 배기 대상 가스 유입은 상기 디스플레이 창(124)을 통해 확인한다.
상기와 같이, 상기 사이드 스토리지용 배기 유닛(110)이 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101) 중 상기 웨이퍼가(W) 출입되는 방향인 전면부에 배치되고, 그 상면에 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)이 형성되어 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)로부터 상기 배기 대상 가스가 유입되는 상기 배기용 패널 부재(120) 및 상기 배기용 패널 부재(120)와 연통되어 상기 배기용 패널 부재(120)로 유입된 상기 배기 대상 가스를 외부로 배기시키는 상기 배기용 덕트 부재(130)를 포함하고, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재(101)의 내부에서 형성된 상기 배기 대상 가스는 상기 배기 대상 가스 유입 홀(121)을 통해 상기 배기용 패널 부재(120)로 유입되고, 상기 배기용 패널 부재(120)로 유입된 상기 배기 대상 가스는 상기 배기용 덕트 부재(130)를 통해 외부로 배기되고, 상기와 같이 상기 배기 대상 가스의 비산을 방지하면서 효율적으로 배기시킴으로써 상기 사이드 스토리지(100)의 내부에 상기 배기 대상 가스가 잔존하는 것이 방지될 수 있게 된다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛에 대하여 설명한다.
이러한 설명을 수행함에 있어서, 상기된 본 발명의 제 1 실시예에서 이미 기재된 내용과 중복되는 설명은 그에 갈음하고, 여기서는 생략하기로 한다.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛을 구성하는 유동 안내부에 적용된 제 1 유동 안내체에 형성된 제 1 상측 연통관과 제 1 하측 연통관의 모습을 보이는 단면도이다.
도 6을 함께 참조하면, 본 실시예에서 사이드 스토리지용 배기 유닛은 배기용 패널 부재와, 배기용 덕트 부재(230)와, 유동 안내부를 포함하고, 상기 유동 안내부는 제 1 유동 안내체(251)와 제 2 유동 안내체를 포함한다.
상기 제 1 유동 안내체(251)에는 서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체(251) 중 최상측의 것과 가운데 것을 서로 연통시키는 제 1 상측 연통관(257)과, 서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체(251) 중 가운데 것과 최하측의 것을 서로 연통시키는 제 1 하측 연통관(258)이 형성된다.
상세히, 상기 제 1 상측 연통관(257) 및 상기 제 1 하측 연통관(258)은 상기 배기용 덕트 부재(230)의 중심을 향해 일정 곡률을 가지면서 형성된다.
상기 제 1 유동 안내체(251)가 상기와 같이 형성되면, 서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체(251) 중 최상측의 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스 중의 일부가 상기 제 1 상측 연통관(257)을 통해 이동되어 서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체(251) 중 가운데 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스를 밀어 주어 세 개의 상기 제 1 유동 안내체(251) 중 가운데 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스의 속도를 상대적으로 상승시키게 된다.
또한, 서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체(251) 중 가운데 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스 중의 일부가 상기 제 1 하측 연통관(258)을 통해 이동되어 서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체(251) 중 최하측의 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스를 밀어 주어 세 개의 상기 제 1 유동 안내체(251) 중 최하측의 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스의 속도를 상대적으로 상승시키게 된다.
그러면, 서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체(251) 중 최상측의 것에서 가운데 것을 경유하여 최하측의 것으로 갈수록 상기 배기 대상 가스의 속도가 상대적으로 증가될 수 있게 된다.
상기 제 1 상측 연통관(257) 및 상기 제 1 하측 연통관(258)은 상기 제 1 유동 안내체(251)의 길이 방향으로 일정 거리 이격되면서 복수 개가 나란히 배치될 수도 있으나, 그럴 경우, 상기 제 1 유동 안내체(251)에서 유동되는 상기 배기 대상 가스의 양이 상대적으로 작아지면서 와류 형성이 작아질 수도 있으므로, 사익 제 1 유동 안내체(251)의 양측 말단부에 한 쌍으로 형성되는 것이 바람직하다.
본 실시예에서는 상기 제 1 상측 연통관(257) 및 상기 제 1 하측 연통관(258)이 상기 제 1 유동 안내체(251)에 형성된 것을 설명하였으나, 이는 단지 하나의 예시일 뿐, 상기 제 1 상측 연통관(257) 및 상기 제 1 하측 연통관(258)이 상기 제 2 유동 안내체에 형성되거나, 또는 상기 제 1 유동 안내체(251) 및 상기 제 2 유동 안내체에 모두 형성될 수도 있음은 물론이다.
상기에서 본 발명은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 발명의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 사이드 스토리지용 배기 유닛에 의하면, 상기 사이드 스토리지용 배기 유닛이 웨이퍼 수용 카세트 부재 중 상기 웨이퍼가 출입되는 방향인 전면부에 배치되고, 그 상면에 복수 개의 배기 대상 가스 유입 홀이 형성되어 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재로부터 상기 배기 대상 가스가 유입되는 배기용 패널 부재 및 상기 배기용 패널 부재와 연통되어 상기 배기용 패널 부재로 유입된 상기 배기 대상 가스를 외부로 배기시키는 배기용 덕트 부재를 포함하고, 상기 배기 대상 가스의 비산을 방지하면서 효율적으로 배기시킴으로써 사이드 스토리지 내부에 상기 배기 대상 가스가 잔존하는 것이 방지될 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.
W : 웨이퍼 10 : 웨이퍼 가공 설비
20 : 이에프이엠 30 : 트랜스퍼 챔버 유닛
40 : 프로세스 챔버 유닛 50 : 로드 포트
60 : 로드락 챔버 유닛 100 : 사이드 스토리지
101 : 웨이퍼 수용 카세트 부재 102 : 하부 케이스 부재
110 : 사이드 스토리지용 배기 유닛 120 : 배기용 패널 부재
121 : 배기 대상 가스 유입 홀 130 : 배기용 덕트 부재
150 : 유동 안내부 151 : 제 1 유동 안내체
154 : 제 2 유동 안내체

Claims (4)

  1. 이에프이엠(EFEM)에 연결되면서, 상기 이에프이엠의 내부에서 이동되는 웨이퍼가 일정 시간동안 수용될 수 있는 웨이퍼 수용 카세트 부재와, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재의 하부에서 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재를 지지하는 하부 케이스 부재를 포함하는 사이드 스토리지에 적용되고,
    상기 웨이퍼가 수용된 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재 내부에 퍼지 가스가 분사되어 상기 웨이퍼의 퓸(fume)이 제거됨으로써 상기 웨이퍼를 경유한 상기 퍼지 가스와 상기 퓸이 혼합되고, 상기 웨이퍼를 경유한 상기 퍼지 가스와 상기 퓸이 혼합되어 형성되는 배기 대상 가스를 외부로 배출시키기 위한 것으로서,
    상기 웨이퍼 수용 카세트 부재 중 상기 웨이퍼가 출입되는 방향인 전면부에 배치되고, 그 상면에 복수 개의 배기 대상 가스 유입 홀이 형성되어 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재로부터 상기 배기 대상 가스가 유입되는 배기용 패널 부재; 및
    상기 배기용 패널 부재와 연통되어 상기 배기용 패널 부재로 유입된 상기 배기 대상 가스를 외부로 배기시키는 배기용 덕트 부재;를 포함하고,
    상기 웨이퍼 수용 카세트 부재의 내부에서 형성된 상기 배기 대상 가스는 상기 배기 대상 가스 유입 홀을 통해 상기 배기용 패널 부재로 유입되고, 상기 배기용 패널 부재로 유입된 상기 배기 대상 가스는 상기 배기용 덕트 부재를 통해 외부로 배기되고,
    복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀의 길이는 상기 웨이퍼의 직경과 대응되는 길이로 서로 동일하게 형성되되, 복수 개의 상기 배기 대상 가스 유입 홀의 각 폭은 서로 이웃하는 것 중 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재에 가까운 것에 비해 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재에서 먼 것이 상대적으로 더 크게 형성된 것을 특징으로 하는 사이드 스토리지용 배기 유닛.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 각 배기 대상 가스 유입 홀은
    그 상면은 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재와 상대적으로 근접되고, 그 저면은 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재에서 상대적으로 멀어지도록 기울어진 형태로 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재와 대면되되, 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재에서 멀어질수록 상기 웨이퍼 수용 카세트 부재와 대면되는 기울기가 상대적으로 작아지게 형성되는 것을 특징으로 하는 사이드 스토리지용 배기 유닛.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 사이드 스토리지용 배기 유닛은
    상기 배기용 덕트 부재의 내측면에 배치되어 상기 배기용 덕트 부재로 유입된 상기 배기 대상 가스가 일정한 방향으로 유동되면서 외부로 배기되도록 상기 배기 대상 가스의 유동을 안내하는 유동 안내부;를 포함하고,
    상기 유동 안내부는
    그 내측면이 일정 곡률로 형성되고, 상기 배기용 덕트 부재의 내측면에서 복수 개가 서로 다른 높이로 이격되어 배치되는 제 1 유동 안내체와,
    그 내측면이 일정 곡률로 형성되고, 상기 배기용 덕트 부재의 내측면 중 상기 제 1 유동 안내체와 대면되는 위치에서 복수 개가 서로 다른 높이로 이격되어 배치되는 제 2 유동 안내체를 포함하고,
    상기 제 1 유동 안내체와 상기 제 2 유동 안내체는 각각 서로 어긋나도록 배치됨으로써, 상기 배기 대상 가스가 와류 형태로 유동되면서 하강되는 것을 특징으로 하는 사이드 스토리지용 배기 유닛.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 유동 안내체에는
    서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체 중 최상측의 것과 가운데 것을 서로 연통시키는 제 1 상측 연통관과,
    서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체 중 가운데 것과 최하측의 것을 서로 연통시키는 제 1 하측 연통관이 형성되고,
    서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체 중 최상측의 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스 중의 일부가 상기 제 1 상측 연통관을 통해 이동되어 서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체 중 가운데 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스를 밀어 주어 세 개의 상기 제 1 유동 안내체 중 가운데 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스의 속도를 상대적으로 상승시키고,
    서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체 중 가운데 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스 중의 일부가 상기 제 1 하측 연통관을 통해 이동되어 서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체 중 최하측의 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스를 밀어 주어 세 개의 상기 제 1 유동 안내체 중 최하측의 것에 의해 안내되면서 유동되는 상기 배기 대상 가스의 속도를 상대적으로 상승시키고,
    그에 따라, 서로 이웃하는 세 개의 상기 제 1 유동 안내체 중 최상측의 것에서 가운데 것을 경유하여 최하측의 것으로 갈수록 상기 배기 대상 가스의 속도가 상대적으로 증가되는 것을 특징으로 하는 스토리지의 배기 유닛.
KR1020190082588A 2019-07-09 2019-07-09 사이드 스토리지용 배기 유닛 KR102217711B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190082588A KR102217711B1 (ko) 2019-07-09 2019-07-09 사이드 스토리지용 배기 유닛

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190082588A KR102217711B1 (ko) 2019-07-09 2019-07-09 사이드 스토리지용 배기 유닛

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210006679A true KR20210006679A (ko) 2021-01-19
KR102217711B1 KR102217711B1 (ko) 2021-02-22

Family

ID=74237337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190082588A KR102217711B1 (ko) 2019-07-09 2019-07-09 사이드 스토리지용 배기 유닛

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102217711B1 (ko)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101444241B1 (ko) * 2013-01-14 2014-09-26 우범제 웨이퍼 처리장치의 배기시스템
KR20150091230A (ko) 2014-01-31 2015-08-10 신포니아 테크놀로지 가부시끼가이샤 로드 포트 및 ｅｆｅｍ
KR20160048655A (ko) * 2014-10-24 2016-05-04 램 리써치 코포레이션 단일 출구-플로우 방향을 갖는 버퍼 스테이션
KR20170037294A (ko) * 2015-09-25 2017-04-04 주식회사 싸이맥스 웨이퍼 처리장치의 배기장치
KR101758213B1 (ko) 2015-09-25 2017-07-14 주식회사 싸이맥스 가스 노즐플레이트를 구비한 사이드 스토리지
KR101962752B1 (ko) * 2018-10-08 2019-07-31 주식회사 싸이맥스 양방향 배기구조 사이드 스토리지
KR20190122040A (ko) * 2018-04-19 2019-10-29 주식회사 저스템 버퍼 챔버용 웨이퍼 퍼지 장치

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101444241B1 (ko) * 2013-01-14 2014-09-26 우범제 웨이퍼 처리장치의 배기시스템
KR20150091230A (ko) 2014-01-31 2015-08-10 신포니아 테크놀로지 가부시끼가이샤 로드 포트 및 ｅｆｅｍ
KR20160048655A (ko) * 2014-10-24 2016-05-04 램 리써치 코포레이션 단일 출구-플로우 방향을 갖는 버퍼 스테이션
KR20170037294A (ko) * 2015-09-25 2017-04-04 주식회사 싸이맥스 웨이퍼 처리장치의 배기장치
KR101758213B1 (ko) 2015-09-25 2017-07-14 주식회사 싸이맥스 가스 노즐플레이트를 구비한 사이드 스토리지
KR20190122040A (ko) * 2018-04-19 2019-10-29 주식회사 저스템 버퍼 챔버용 웨이퍼 퍼지 장치
KR101962752B1 (ko) * 2018-10-08 2019-07-31 주식회사 싸이맥스 양방향 배기구조 사이드 스토리지

Also Published As

Publication number Publication date
KR102217711B1 (ko) 2021-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2019216258A (ja) ウェハー収納容器
KR101030884B1 (ko) 닫힘 용기용 덮개 개폐 시스템 및 이를 이용한 기재 처리방법
KR100236412B1 (ko) 반도체처리시스템의세정장치
JP5842628B2 (ja) ガスパージ装置及び該ガスパージ装置を有するロードポート装置
KR20200045071A (ko) 액 공급 노즐 및 기판 처리 장치
KR102113275B1 (ko) 버퍼 챔버용 웨이퍼 퍼지 장치
KR102217711B1 (ko) 사이드 스토리지용 배기 유닛
KR20240041902A (ko) 이에프이엠
JP3071320B2 (ja) 真空装置
KR102089464B1 (ko) 사이드 스토리지 퍼지 장치
KR102212856B1 (ko) 사이드 스토리지의 웨이퍼 수용 카세트용 내부 후면 가스 분사 유닛
JP6048770B2 (ja) パージノズル
KR102143914B1 (ko) 세정 지그 및 기판 처리 장치
KR20200056084A (ko) 웨이퍼 용기로의 외기 유입을 차단하는 외기 차단 장치 및 이를 포함하는 반도체 장치
KR102100775B1 (ko) 이에프이엠
JP6888159B2 (ja) チャンバ内部の流れを拡散させることによる低い粒子数及びより良好なウエハ品質のための効果的で新しい設計
KR102119685B1 (ko) 기판 처리 장치
KR101684431B1 (ko) 웨이퍼 수납용기
KR102099108B1 (ko) 기판 처리 장치
US20030061991A1 (en) Protective shield and system for gas distribution
KR102000025B1 (ko) 기판 처리 장치
US11872516B2 (en) Apparatus for trapping of reaction by-product with extended available collection area
KR20180137458A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
WO2024102155A1 (en) Gas curtain device for front opening unified pod
KR100683114B1 (ko) 반도체 제조 설비의 배기 라인

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant