KR20200142503A - 중합성 액정 조성물 - Google Patents
중합성 액정 조성물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20200142503A KR20200142503A KR1020207028075A KR20207028075A KR20200142503A KR 20200142503 A KR20200142503 A KR 20200142503A KR 1020207028075 A KR1020207028075 A KR 1020207028075A KR 20207028075 A KR20207028075 A KR 20207028075A KR 20200142503 A KR20200142503 A KR 20200142503A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- liquid crystal
- polymerizable liquid
- group
- film
- crystal compound
- Prior art date
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 275
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 148
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 200
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 claims abstract description 55
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 49
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims abstract description 34
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- -1 acryloyloxy group Chemical group 0.000 claims description 82
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 75
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 47
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 45
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 17
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 claims description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 9
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 6
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 36
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 26
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 22
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 20
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 16
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 15
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 14
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 11
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 11
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 11
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 10
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 9
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 9
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 9
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 8
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 7
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 4
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 4
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 4
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 4
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 4
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 4
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004976 Lyotropic liquid crystal Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 3
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004974 Thermotropic liquid crystal Substances 0.000 description 3
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 3
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 3
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 3
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 3
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 3
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone powder Natural products C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical class NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- 239000000999 acridine dye Substances 0.000 description 2
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 238000011899 heat drying method Methods 0.000 description 2
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 2
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001422 pyrrolinyl group Chemical group 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- RBRCCWBAMGPRSN-UHFFFAOYSA-N thieno[2,3-d][1,3]thiazole Chemical compound S1C=NC2=C1C=CS2 RBRCCWBAMGPRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrotriazine Chemical compound C1NNNC=C1 FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVXDRFYHWWPSOA-BQYQJAHWSA-N 1-methyl-4-[(e)-2-phenylethenyl]pyridin-1-ium Chemical group C1=C[N+](C)=CC=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 YVXDRFYHWWPSOA-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCNPOZMLKGDJGP-QPJJXVBHSA-N 2-[(e)-2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1\C=C\C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MCNPOZMLKGDJGP-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- BIAWAXVRXKIUQB-MDZDMXLPSA-N 2-[(e)-2-phenylethenyl]pyridine Chemical group C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=N1 BIAWAXVRXKIUQB-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound O1C(C)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=CC=2OC=CC=2)=N1 PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGZOGDWCOYSGJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenoxy]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1OC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 LYGZOGDWCOYSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacetophenone Chemical class OCC(=O)C1=CC=CC=C1 ZWVHTXAYIKBMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPWOVCCSRKCACI-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-(methylamino)imidazo[1,2-a]pyrazine-2-carbonitrile Chemical compound CNC1=NC(Br)=CN2C=C(C#N)N=C12 HPWOVCCSRKCACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical group N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000956094 Homo sapiens Protein Daple Proteins 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 102100038589 Protein Daple Human genes 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 201000003475 Spinocerebellar ataxia type 40 Diseases 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical group C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 101150059062 apln gene Proteins 0.000 description 1
- XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N azaperone Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C(=O)CCCN1CCN(C=2N=CC=CC=2)CC1 XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical group C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAUZCKBSTZFWCT-UHFFFAOYSA-N azoxybenzene Chemical group C=1C=CC=CC=1[N+]([O-])=NC1=CC=CC=C1 GAUZCKBSTZFWCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005250 beta ray Effects 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)(=O)O WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088516 cipro Drugs 0.000 description 1
- MYSWGUAQZAJSOK-UHFFFAOYSA-N ciprofloxacin Chemical compound C12=CC(N3CCNCC3)=C(F)C=C2C(=O)C(C(=O)O)=CN1C1CC1 MYSWGUAQZAJSOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical group O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- ICIDZHMCYAIUIJ-UHFFFAOYSA-N dinaphthalen-1-yldiazene Chemical group C1=CC=C2C(N=NC=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 ICIDZHMCYAIUIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl 4-[3,4-bis(tert-butylperoxycarbonyl)benzoyl]benzene-1,2-dicarboperoxoate Chemical compound C1=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=C1 KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M metanil yellow Chemical group [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC(N=NC=2C=CC(NC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=C1 NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001015 oxazone dye Substances 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002112 pyrrolidino group Chemical group [*]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000000807 solvent casting Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0083—Nucleating agents promoting the crystallisation of the polymer matrix
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/22—Compounds containing nitrogen bound to another nitrogen atom
- C08K5/23—Azo-compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
- G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
-
- H01L27/32—
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
적어도 1 개의 중합성기를 갖고, 스멕틱 액정성을 나타내는 중합성 액정 화합물, 이색성 색소 및 광 중합 개시제를 포함하여 이루어지는 중합성 액정 조성물로서, 상기 광 중합 개시제가, 상기 중합성 액정 화합물과의 관계에 있어서 식 (1) :
0 ℃ ≤ T1 - T2 ≤ 12.0 ℃ (1)
〔식 중, T1 은 상기 중합성 액정 화합물을 대기 중에서 130 ℃ 까지 승온시킨 후, 5 ℃/분으로 23 ℃ 까지 냉각하면서 상전이 온도를 측정했을 때에 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상으로의 상전이 온도이며, T2 는 100 질량부의 상기 중합성 액정 화합물과 5 질량부의 상기 광 중합 개시제로 이루어지는 혼합물을, 대기 중에서 130 ℃ 까지 승온시킨 후 5 ℃/분으로 23 ℃ 까지 냉각하면서 상전이 온도를 측정했을 때에 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상으로의 상전이 온도이다〕
을 만족하는, 중합성 액정 조성물.
0 ℃ ≤ T1 - T2 ≤ 12.0 ℃ (1)
〔식 중, T1 은 상기 중합성 액정 화합물을 대기 중에서 130 ℃ 까지 승온시킨 후, 5 ℃/분으로 23 ℃ 까지 냉각하면서 상전이 온도를 측정했을 때에 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상으로의 상전이 온도이며, T2 는 100 질량부의 상기 중합성 액정 화합물과 5 질량부의 상기 광 중합 개시제로 이루어지는 혼합물을, 대기 중에서 130 ℃ 까지 승온시킨 후 5 ℃/분으로 23 ℃ 까지 냉각하면서 상전이 온도를 측정했을 때에 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상으로의 상전이 온도이다〕
을 만족하는, 중합성 액정 조성물.
Description
본 발명은, 중합성 액정 조성물에 관한 것이며, 상기 중합성 액정 조성물로 형성되는 편광막 및 그 제조 방법, 그리고, 상기 편광막을 포함하는 편광 필름, 편광판 및 그것을 구비하는 표시 장치에도 관한 것이다.
종래, 편광판은, 액정 표시 패널이나 유기 일렉트로 루미네선스 (유기 EL) 표시 패널 등의 각종 화상 표시 패널에 있어서, 액정 셀이나 유기 EL 표시 소자 등의 화상 표시 소자에 첩합 (貼合) 되어 사용되고 있다. 이와 같은 편광판으로서, 폴리비닐알코올계 수지 필름에 요오드나 이색성 염료 등의 이색성을 나타내는 화합물을 흡착 배향시킨 편광자의 적어도 일방의 면에, 접착층을 개재하여, 트리아세틸셀룰로오스 필름 등의 보호층을 적층한 구성을 갖는 편광판이 알려져 있다.
최근, 화상 표시 패널 등의 디스플레이에 대해 박형화의 계속적인 요구가 존재하고 있고, 그 구성 요소의 하나인 편광판이나 편광자에 대해서도 추가적인 박형화가 요구되고 있다. 이와 같은 요구에 대해, 예를 들어, 중합성 액정 화합물과 이색성을 나타내는 화합물로 이루어지는 박형의 호스트 게스트형 편광자가 제안되어 있다 (특허문헌 1 ∼ 3).
그러나, 상기 특허문헌에 기재된 바와 같은 호스트 게스트형 편광자는, 일반적으로, 중합성 액정 화합물과 이색성 색소와 중합 개시제를 함유한 조성물을 경화시켜 제조되고, 그 제조 과정에 있어서 자외선 등의 활성 에너지선을 조사했을 때에, 편광자를 형성하는 조성물에 포함되는 중합 개시제로부터 발생하는 활성종에 의해 이색성 색소가 변성되기 쉬워, 편광 성능의 면에서 반드시 충분히 만족할 수 있는 것은 아니다.
그래서, 본 발명은, 편광막 (편광자) 을 형성할 때에 이색성 색소의 변성을 일으키기 어렵고, 우수한 편광 성능을 갖는 편광막을 형성하는 데에 적합한 중합성 액정 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명은, 이하의 바람직한 양태를 제공하는 것이다.
[1] 적어도 1 개의 중합성기를 갖고, 스멕틱 액정성을 나타내는 중합성 액정 화합물, 이색성 색소 및 광 중합 개시제를 포함하여 이루어지는 중합성 액정 조성물로서, 상기 광 중합 개시제가, 상기 중합성 액정 화합물과의 관계에 있어서 식 (1) :
0 ℃ ≤ T1 - T2 ≤ 12.0 ℃ (1)
〔식 중, T1 은 상기 중합성 액정 화합물을 대기 중에서 130 ℃ 까지 승온시킨 후, 5 ℃/분으로 23 ℃ 까지 냉각하면서 상전이 온도를 측정했을 때에 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상으로의 상전이 온도이며, T2 는 100 질량부의 상기 중합성 액정 화합물과 5 질량부의 상기 광 중합 개시제로 이루어지는 혼합물을, 대기 중에서 130 ℃ 까지 승온시킨 후 5 ℃/분으로 23 ℃ 까지 냉각하면서 상전이 온도를 측정했을 때에 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상으로의 상전이 온도이다〕
을 만족하는, 중합성 액정 조성물.
[2] 추가로 용제를 포함하는, 상기 [1] 에 기재된 중합성 액정 조성물.
[3] 중합성 액정 화합물이 갖는 중합성기가 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기인, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 중합성 액정 조성물.
[4] 이색성 색소가 아조 색소인, 상기 [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 중합성 액정 조성물.
[5] 광 중합 개시제의 중량 평균 분자량이 500 이상 2000 이하인, 상기 [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 중합성 액정 조성물.
[6] 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해 1 ∼ 10 질량부의 광 중합 개시제를 포함하는, 상기 [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 중합성 액정 조성물.
[7] 상기 [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 중합성 액정 조성물의 경화물인 편광막으로서, X 선 회절 측정에 있어서 브래그 피크를 나타내는 편광막.
[8] 두께가 0.1 ∼ 5 ㎛ 인, 상기 [7] 에 기재된 편광막.
[9] 상기 [7] 또는 [8] 에 기재된 편광막과 투명 필름을 구비하여 이루어지는 편광 필름.
[10] 상기 [7] 또는 [8] 에 기재된 편광막 또는 상기 [9] 에 기재된 편광 필름과 위상차 필름을 구비하여 이루어지는 편광판.
[11] 위상차 필름이 식 (X) :
100 ≤ Re(550) ≤ 180 (X)
〔식 중, Re(550) 은 파장 550 nm 에 있어서의 면내 위상차값을 나타낸다〕
를 만족하고, 상기 위상차 필름의 지상축과 상기 편광막의 흡수축이 이루는 각도가 실질적으로 45°인, 상기 [10] 에 기재된 편광판.
[12] 위상차 필름이 식 (Y) :
Re(450)/Re(550) ＜ 1 (Y)
〔식 중, Re(450) 및 Re(550) 은, 각각, 파장 450 nm 및 550 nm 에 있어서의 면내 위상차값을 나타낸다〕
를 만족하는, 상기 [10] 또는 [11] 에 기재된 편광판.
[13] 위상차 필름이, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 구성되는, 상기 [10] ∼ [12] 중 어느 하나에 기재된 편광판.
[14] 상기 [9] 에 기재된 편광 필름, 또는, 상기 [10] ∼ [13] 중 어느 하나에 기재된 편광판을 구비하여 이루어지는 표시 장치.
[15] 상기 [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 중합성 액정 조성물의 도막을 형성하는 것,
상기 도막으로부터 용제를 제거하는 것,
중합성 액정 화합물이 액체상으로 상전이하는 온도 이상까지 승온한 후 강온하여, 그 중합성 액정 화합물을 스멕틱상으로 상전이시키는 것, 및,
상기 스멕틱상을 유지한 채 중합성 액정 화합물을 중합시키는 것을 포함하는, 편광막의 제조 방법.
본 발명에 의하면, 편광막을 형성할 때에 이색성 색소의 변성을 일으키기 어렵고, 우수한 편광 성능을 갖는 편광막을 형성하는 데에 적합한 중합성 액정 조성물을 제공할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해, 상세하게 설명한다. 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시형태로 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 취지를 저해하지 않는 범위에서 여러 가지 변경을 할 수 있다.
＜중합성 액정 조성물＞
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 적어도 1 개의 중합성기를 갖고, 스멕틱 액정성을 나타내는 중합성 액정 화합물 (이하, 「중합성 액정 화합물 (A)」라고도 한다) 을 포함하여 이루어진다. 스멕틱 액정성을 나타내는 중합성 액정 화합물을 사용함으로써, 배향 질서도가 높은 편광막을 형성할 수 있다. 중합성 액정 화합물 (A) 가 나타내는 액정 상태는 스멕틱상 (스멕틱 액정 상태) 이며, 보다 높은 배향 질서도를 실현할 수 있는 관점에서, 고차 스멕틱상 (고차 스멕틱 액정 상태) 인 것이 보다 바람직하다. 여기서, 고차 스멕틱상이란, 스멕틱 B 상, 스멕틱 D 상, 스멕틱 E 상, 스멕틱 F 상, 스멕틱 G 상, 스멕틱 H 상, 스멕틱 I 상, 스멕틱 J 상, 스멕틱 K 상 및 스멕틱 L 상을 의미하고, 이들 중에서도, 스멕틱 B 상, 스멕틱 F 상 및 스멕틱 I 상이 보다 바람직하다. 액정성은 서모트로픽성 액정이어도 되고 리오트로픽성 액정이어도 되지만, 치밀한 막두께 제어가 가능한 점에서 서모트로픽성 액정이 바람직하다. 중합성 액정 화합물은 모노머여도 되지만, 중합성기가 중합한 올리고머여도 되고 폴리머여도 된다.
중합성 액정 화합물 (A) 는, 적어도 1 개의 중합성기를 갖는 액정 화합물이다. 여기서, 중합성기란, 중합 개시제로부터 발생하는 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 중합성 액정 화합물 (A) 가 갖는 중합성기로는, 예를 들어, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 라디칼 중합성기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐기, 비닐옥시기가 보다 바람직하고, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기가 바람직하다.
중합성 액정 화합물 (A) 로는, 적어도 1 개의 중합성기를 갖고, 스멕틱 액정성을 나타내는 액정 화합물이면 특별히 한정되지 않고, 공지된 중합성 액정 화합물을 사용할 수 있고, 예를 들어, 식 (A1) 로 나타내는 화합물 (이하, 「중합성 액정 화합물 (A1)」이라고도 한다) 을 들 수 있다.
U1-V1-W1-(X1-Y1-)n-X2-W2-V2-U2 (A1)
[식 (A1) 중,
X1 및 X2 는, 서로 독립적으로, 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환형 탄화수소기를 나타내고, 여기서, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환형 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환형 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가, 산소 원자 또는 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 된다. 단, X1 및 X2 중 적어도 1 개는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1,4-페닐렌기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기이다.
Y1 은, 단결합 또는 2 가의 연결기이다.
n 은 1 ∼ 3 이며, n 이 2 이상인 경우, 복수의 X1 은 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. X2 는, 복수의 X1 중의 어느 것 또는 모두와 동일해도 되고, 상이해도 된다. 또, n 이 2 이상인 경우, 복수의 Y1 은 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 액정성의 관점에서 n 은 2 이상이 바람직하다.
U1 은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타낸다.
U2 는, 중합성기를 나타낸다.
W1 및 W2 는, 서로 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기이다.
V1 및 V2 는, 서로 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 20 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기를 구성하는 -CH2- 는, -O-, -CO-, -S- 또는 NH- 로 치환되어 있어도 된다.]
중합성 액정 화합물 (A1) 에 있어서, X1 및 X2 는, 서로 독립적으로, 바람직하게는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1,4-페닐렌기, 또는, 치환기를 가지고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기이며, X1 및 X2 중의 적어도 1 개는, 치환기를 가지고 있어도 되는 1,4-페닐렌기, 또는, 치환기를 가지고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기이며, 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인 것이 바람직하다. 치환기를 가지고 있어도 되는 1,4-페닐렌기, 또는, 치환기를 가지고 있어도 되는 시클로헥산-1,4-디일기가 임의로 갖는 치환기로는, 메틸기, 에틸기 및 부틸기 등의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 시아노기 및 염소 원자, 불소 원자 등의 할로겐 원자를 들 수 있다. 바람직하게는 무치환이다.
중합성 액정 화합물 (A1) 은, 식 (A1) 중, 식 (A1-1) :
-(X1-Y1-)n-X2- (A1-1)
〔식 중, X1, Y1, X2 및 n 은 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.〕
로 나타내는 부분〔이하, 부분 구조 (A1-1) 로 칭한다.〕 이 비대칭 구조인 것이, 스멕틱 액정성을 발현하기 쉬운 점에서, 바람직하다. 부분 구조 (A1-1) 이 비대칭 구조인 중합성 액정 화합물 (A1) 로는, 예를 들어,
n 이 1 이며, 1 개의 X1 과 X2 가 서로 상이한 구조인 중합성 액정 화합물 (A1) ;
n 이 2 이며, 2 개의 Y1 이 서로 동일한 구조인 화합물로서, 2 개의 X1 이 서로 동일한 구조이며, 1 개의 X2 는 이들 2 개의 X1 과는 상이한 구조인 중합성 액정 화합물 (A1) ;
2 개의 X1 중의 W1 에 결합하는 X1 이, 타방의 X1 및 X2 와는 상이한 구조이며, 타방의 X1 과 X2 는 서로 동일한 구조인 중합성 액정 화합물 (A1) ;
n 이 3 이며, 3 개의 Y1 이 서로 동일한 구조인 화합물이고, 3 개의 X1 및 1 개의 X2 중의 어느 1 개가 다른 3 개 모두와 상이한 구조인 중합성 액정 화합물 (A1) ;
을 들 수 있다.
Y1 은, -CH2CH2-, -CH2O-, -CH2CH2O-, -COO-, -OCOO-, 단결합, -N=N-, -CRa=CRb-, -C≡C-, -CRa=N- 또는 -CO-NRa- 가 바람직하다. Ra 및 Rb 는, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다. Y1 은, -CH2CH2-, -COO- 또는 단결합인 것이 보다 바람직하고, 복수의 Y1 이 존재하는 경우, X2 와 결합하는 Y1 은, -CH2CH2- 또는 CH2O- 인 것이 보다 바람직하다. X1 및 X2 가 모두 동일 구조인 경우, 서로 상이한 결합 방식인 2 이상의 Y1 이 존재하는 것이 바람직하다. 서로 상이한 결합 방식인 복수의 Y1 이 존재하는 경우에는, 비대칭 구조가 되기 때문에, 스멕틱 액정성이 발현하기 쉬운 경향이 있다.
U2 는, 중합성기이다. U1 은, 수소 원자 또는 중합성기이며, 바람직하게는 중합성기이다. U1 및 U2 가 모두 중합성기인 것이 바람직하고, 모두 라디칼 중합성기인 것이 바람직하다. 중합성기로는, 중합성 액정 화합물 (A) 가 갖는 중합성기로서 앞서 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있다. U1 로 나타내는 중합성기와 U2 로 나타내는 중합성기는, 서로 상이해도 되지만, 동일한 종류의 기인 것이 바람직하다. 또, 중합성기는 중합되어 있는 상태여도 되고, 미중합 상태여도 되지만, 바람직하게는 미중합 상태이다.
V1 및 V2 로 나타내는 알칸디일기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 데칸-1,10-디일기, 테트라데칸-1,14-디일기 및 이코산-1,20-디일기 등을 들 수 있다. V1 및 V2 는, 바람직하게는 탄소수 2 ∼ 12 의 알칸디일기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 6 ∼ 12 의 알칸디일기이다.
그 알칸디일기가 임의로 갖는 치환기로는, 시아노기 및 할로겐 원자 등을 들 수 있지만, 그 알칸디일기는, 무치환인 것이 바람직하고, 무치환의 직사슬형 알칸디일기인 것이 보다 바람직하다.
W1 및 W2 는, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -COO- 또는 -OCOO- 가 바람직하고, 단결합 또는 -O- 가 보다 바람직하다.
중합성 액정 화합물 (A) 로는, 적어도 1 개의 중합성기를 갖고, 스멕틱 액정성을 나타내는 중합성 액정 화합물이면 특별히 한정되지 않고, 공지된 중합성 액정 화합물을 사용할 수 있지만, 스멕틱 액정성을 나타내기 쉬운 구조로는, 분자 구조 중에 비대칭성의 분자 구조를 갖는 것이 바람직하고, 구체적으로는 이하 (A-a) ∼ (A-i) 의 부분 구조를 갖는 중합성 액정 화합물이고 스멕틱 액정성을 나타내는 중합성 액정 화합물인 것이 보다 바람직하다. 고차 스멕틱 액정성을 나타내기 쉽다는 관점에서 (A-a), (A-b) 또는 (A-c) 의 부분 구조를 갖는 것이 보다 바람직하다. 또한, 하기 (A-a) ∼ (A-i) 에 있어서, * 는 결합손 (단결합) 을 나타낸다.
[화학식 1]
중합성 액정 화합물 (A) 로는, 예를 들어, 식 (A-1) ∼ 식 (A-25) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다. 중합성 액정 화합물 (A) 가 시클로헥산-1,4-디일기를 갖는 경우, 그 시클로헥산-1,4-디일기는, 트랜스체인 것이 바람직하다.
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 5]
[화학식 6]
이들 중에서도, 식 (A-2), 식 (A-3), 식 (A-4), 식 (A-5), 식 (A-6), 식 (A-7), 식 (A-8), 식 (A-13), 식 (A-14), 식 (A-15), 식 (A-16) 및 식 (A-17) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다. 중합성 액정 화합물 (A) 로서, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
중합성 액정 화합물 (A) 는, Lub 등, Recl. Trav. Chim. Pays-Bas, 115, 321-328 (1996), 또는 일본 특허 제4719156호 등에 기재된 공지된 방법으로 제조할 수 있다.
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 중합성 액정 화합물 (A) 이외의 다른 중합성 액정 화합물을 포함하고 있어도 되지만, 배향 질서도가 높은 편광막을 얻는 관점에서, 중합성 액정 조성물에 포함되는 전체 중합성 액정 화합물의 총질량에 대한 중합성 액정 화합물 (A) 의 비율은, 바람직하게는 51 질량％ 이상이며, 보다 바람직하게는 70 질량％ 이상이며, 더욱 바람직하게는 90 질량％ 이상이다.
본 발명의 중합성 액정 조성물이 2 종 이상의 중합성 액정 화합물 (A) 를 포함하는 경우, 그 중의 적어도 1 종이 중합성 액정 화합물 (A1) 이어도 되고, 그 모두가 중합성 액정 화합물 (A1) 이어도 된다. 복수의 중합성 액정 화합물을 조합함으로써, 액정-결정 상전이 온도 이하의 온도여도 일시적으로 액정성을 유지할 수 있는 경우가 있다.
본 발명의 중합성 액정 조성물에 있어서의 중합성 액정 화합물의 함유량은, 중합성 액정 조성물의 고형분에 대해, 바람직하게는 40 ∼ 99.9 질량％ 이며, 보다 바람직하게는 60 ∼ 99 질량％ 이며, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 99 질량％ 이다. 중합성 액정 화합물의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향성이 높아지는 경향이 있다. 본 명세서에 있어서, 고형분이란, 중합성 액정 조성물로부터 용제를 제거한 성분의 합계량을 말한다.
본 발명의 중합성 액정 조성물은 이색성 색소를 포함하여 이루어진다. 여기서, 이색성 색소란, 분자의 장축 방향에 있어서의 흡광도와, 단축 방향에 있어서의 흡광도가 상이한 성질을 갖는 색소를 의미한다. 본 발명에 있어서 사용할 수 있는 이색성 색소는, 상기 성질을 갖는 것이면 특별히 제한되지 않고, 염료여도 되고, 안료여도 된다. 2 종 이상의 염료 또는 안료를 각각 조합하여 사용해도 되고, 염료와 안료를 조합하여 사용해도 된다.
이색성 색소로는, 300 ∼ 700 nm 의 범위에 극대 흡수 파장 (λMAX) 을 갖는 것이 바람직하다. 이와 같은 이색성 색소로는, 예를 들어, 아크리딘 색소, 옥사진 색소, 시아닌 색소, 나프탈렌 색소, 아조 색소 및 안트라퀴논 색소 등을 들 수 있다.
아조 색소로는, 모노아조 색소, 비스아조 색소, 트리스아조 색소, 테트라키스아조 색소 및 스틸벤아조 색소 등을 들 수 있고, 비스아조 색소 및 트리스아조 색소가 바람직하고, 예를 들어, 식 (I) 로 나타내는 화합물 (이하, 「화합물 (I)」 이라고도 한다.) 을 들 수 있다.
K1(-N=N-K2)p-N=N-K3 (I)
[식 (I) 중, K1 및 K3 은, 서로 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 나프틸기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 1 가의 복소 고리기를 나타낸다. K2 는, 치환기를 가지고 있어도 되는 p-페닐렌기, 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌-1,4-디일기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 복소 고리기를 나타낸다. p 는 1 ∼ 4 의 정수를 나타낸다. p 가 2 이상의 정수인 경우, 복수의 K2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. 가시역에 흡수를 나타내는 범위에서 -N=N- 결합이 -C≡C-, -COO-, -NHCO-, -N=CH- 결합으로 치환되어 있어도 된다.]
1 가의 복소 고리기로는, 예를 들어, 퀴놀린, 티아졸, 벤조티아졸, 티에노티아졸, 이미다졸, 벤조이미다졸, 옥사졸, 벤조옥사졸 등의 복소 고리 화합물로부터 1 개의 수소 원자를 제거한 기를 들 수 있다. 2 가의 복소 고리기로는, 상기 복소 고리 화합물로부터 2 개의 수소 원자를 제거한 기를 들 수 있다.
K1 및 K3 에 있어서의 페닐기, 나프틸기 및 1 가의 복소 고리기, 그리고 K2 에 있어서의 p-페닐렌기, 나프탈렌-1,4-디일기 및 2 가의 복소 고리기가 임의로 갖는 치환기로는, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기, 부톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기 ; 트리플루오로메틸기 등의 탄소수 1 ∼ 4 의 불화알킬기 ; 시아노기 ; 니트로기 ; 할로겐 원자 ; 아미노기, 디에틸아미노기, 피롤리디노기 등의 치환 또는 무치환 아미노기 (치환 아미노기란, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 1 개 또는 2 개 갖는 아미노기, 혹은 2 개의 치환 알킬기가 서로 결합하여 탄소수 2 ∼ 8 의 알칸디일기를 형성하고 있는 아미노기를 의미한다. 무치환 아미노기는 -NH2 이다.) 등을 들 수 있다.
화합물 (I) 중에서도, 이하의 식 (I-1) ∼ 식 (I-6) 중 어느 것으로 나타내는 화합물이 바람직하다.
[화학식 7]
[식 (I-1) ∼ (I-8) 중,
B1 ∼ B30 은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 치환 또는 무치환의 아미노기 (치환 아미노기 및 무치환 아미노기의 정의는 상기와 같음), 염소 원자 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다.
n1 ∼ n4 는, 서로 독립적으로 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.
n1 이 2 이상인 경우, 복수의 B2 는 서로 동일해도 되고 상이해도 되고,
n2 가 2 이상인 경우, 복수의 B6 은 서로 동일해도 되고 상이해도 되고,
n3 이 2 이상인 경우, 복수의 B9 는 서로 동일해도 되고 상이해도 되고,
n4 가 2 이상인 경우, 복수의 B14 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.]
상기 안트라퀴논 색소로는, 식 (I-9) 로 나타내는 화합물이 바람직하다.
[화학식 8]
[식 (I-9) 중,
R1 ∼ R8 은, 서로 독립적으로, 수소 원자, -Rx, -NH2, -NHRx, -NRx 2, -SRx 또는 할로겐 원자를 나타낸다.
Rx 는, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.]
상기 옥사존 색소로는, 식 (I-10) 으로 나타내는 화합물이 바람직하다.
[화학식 9]
[식 (I-10) 중,
R9 ∼ R15 는, 서로 독립적으로, 수소 원자, -Rx, -NH2, -NHRx, -NRx 2, -SRx 또는 할로겐 원자를 나타낸다.
Rx 는, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.]
상기 아크리딘 색소로는, 식 (I-11) 로 나타내는 화합물이 바람직하다.
[화학식 10]
[식 (I-11) 중,
R16 ∼ R23 은, 서로 독립적으로, 수소 원자, -Rx, -NH2, -NHRx, -NRx 2, -SRx 또는 할로겐 원자를 나타낸다.
Rx 는, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타낸다.]
식 (I-9), 식 (I-10) 및 식 (I-11) 에 있어서, Rx 의 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기 및 헥실기 등을 들 수 있고, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로는, 페닐기, 톨루일기, 크실릴기 및 나프틸기 등을 들 수 있다.
상기 시아닌 색소로는, 식 (I-12) 로 나타내는 화합물 및 식 (I-13) 으로 나타내는 화합물이 바람직하다.
[화학식 11]
[식 (I-12) 중,
D1 및 D2 는, 서로 독립적으로, 식 (I-12a) ∼ 식 (I-12d) 중 어느 것으로 나타내는 기를 나타낸다.
[화학식 12]
n5 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.]
[화학식 13]
[식 (I-13) 중,
D3 및 D4 는, 서로 독립적으로, 식 (I-13a) ∼ 식 (1-13h) 중 어느 것으로 나타내는 기를 나타낸다.
[화학식 14]
n6 은 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.]
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 편광막을 형성했을 때에 편광막 중의 이색성 색소의 광 열화를 억제하는 효과가 우수하기 때문에, 태양광에 있어서의 자외선 등의 광에 약해, 광 열화를 일으키기 쉬운 이색성 색소를 사용하는 경우에, 본 발명의 효과를 특히 현저하게 발휘할 수 있다. 따라서, 본 발명의 중합성 액정 조성물은, 광 열화를 일으키기 쉬운 이색성 색소를 사용하는 경우에 특히 유리하고, 본 발명의 바람직한 일 실시양태에 있어서 중합성 액정 조성물에 포함되는 이색성 색소는, 바람직하게는 아조 색소이다.
본 발명의 중합성 액정 조성물에 있어서의 이색성 색소의 함유량은, 사용하는 이색성 색소의 종류 등에 따라 적절히 결정할 수 있지만, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해, 바람직하게는 0.1 ∼ 50 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 20 질량부이며, 더욱 바람직하게는 0.1 ∼ 12 질량부이다. 이색성 색소의 함유량이, 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향을 교란하기 어려워, 높은 배향 질서도를 갖는 편광막을 얻을 수 있다.
본 발명의 중합성 액정 조성물은 광 중합 개시제를 포함하여 이루어진다. 본 발명의 중합성 액정 조성물에 포함되는 광 중합 개시제는, 그 중합성 액정 조성물 중에 포함되는 중합성 액정 화합물과의 관계에 있어서, 식 (1) :
0 ℃ ≤ T1 - T2 ≤ 12.0 ℃ (1)
을 만족하는 광 중합 개시제이다.
식 (1) 중, T1 은, 상기 중합성 액정 조성물 중에 포함되는 중합성 액정 화합물을 대기 중에서 130 ℃ 까지 승온시킨 후, 5 ℃/분으로 23 ℃ 까지 냉각하면서 상전이 온도를 측정했을 때에 가장 저온도측에서 발현하는 액정상으로의 상전이 온도이다. T2 는, 100 질량부의 상기 중합성 액정 화합물과 5 질량부의 상기 광 중합 개시제로 이루어지는 혼합물을, 대기 중에서 130 ℃ 까지 승온시킨 후 5 ℃/분으로 23 ℃ 까지 냉각하면서 상전이 온도를 측정했을 때에 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상으로의 상전이 온도이다. 본 발명의 중합성 액정 조성물이 2 종 이상의 중합성 액정 화합물을 포함하는 경우, 상기 T1 및 T2 는, 그 중합성 액정 조성물을 구성하는 중합성 액정 화합물과 동일한 조성으로 이루어지는 중합성 액정 화합물 (혼합물) 을 사용하여 측정된다. T1 및 T2 의 상세한 측정 방법은, 후술하는 실시예에 기재된 바와 같다.
일반적으로, 우수한 편광 성능은, 이색성 색소가 중합성 액정 화합물에 포섭되어, 중합성 액정 화합물과 이색성 색소가 높은 질서도로 배향하고 있는 경우에 얻을 수 있다. 한편, 편광막의 형성에 광 중합 개시제를 사용하는 경우, 광 중합 개시제가 중합성 액정 화합물 및 이색성 색소와 함께 배향한 상태에서, 중합성 액정 화합물을 중합할 때에 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하고, 광 중합 개시제로부터 활성종이 발생한다. 그리고, 광 중합 개시제와 이색성 색소의 분자 간 거리가 가까우면, 광 중합 개시제의 근방에 있는 이색성 색소가 활성종에 의해 변성을 일으키므로, 얻어지는 편광막의 편광 성능의 저하를 일으킨다는 문제가 발생할 수 있다.
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 상기 식 (1) 을 만족하는 광 중합 개시제를 포함함으로써, 편광막을 형성했을 때에 편광 성능의 열화 억제에 높은 효과를 발휘할 수 있다.
식 (1) 에 있어서, T1 - T2 는, 액정 상태에 있어서의 상전이 온도에 대한 광 중합 개시제의 영향을 나타내는 지표가 된다. T1 - T2 의 값은 클수록 중합성 액정 화합물과 광 중합 개시제가 분자 구조상 유사한 관계에 있고, 액정 상태에 있어서 보다 혼합된 상태로 존재하며, 이색성 색소와의 분자 간 거리가 가까운 광 중합 개시제가 비교적 많이 존재하는 것을 의미한다. 요컨대, T1 - T2 의 값이 클수록, 중합성 액정 화합물의 중합 시에 이색성 색소의 변성이 일어나기 쉽다. 한편, T1 - T2 의 값이 작을수록, 중합성 액정 화합물에 포섭된 상태로 존재하는 이색성 색소와 광 중합 개시제의 분자 간 거리가 멀어져, 이색성 색소의 광 열화에 대한 높은 억제 효과를 얻을 수 있어, 편광 성능이 우수한 편광막을 얻을 수 있다고 추정된다.
본 발명의 중합성 액정 조성물에 포함되는 광 중합 개시제에 있어서, 상기 T1 - T2 의 값은 0 ℃ 이상 12.0 ℃ 이하이며, 바람직하게는 0.5 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 1 ℃ 이상이며, 더욱 바람직하게는 2 ℃ 이상이며, 보다 더 바람직하게는 3 ℃ 이상이며, 바람직하게는 11.8 ℃ 이하이다. T1 - T2 의 값이 0.5 ℃ 이상이면, 중합성 액정 조성물을 구성하는 중합성 액정 화합물의 분자 구조와 광 중합 개시제의 분자 구조가 크게 상위하지 않기 때문에, 광 중합 개시제를 중합성 액정 화합물과 함께 높은 질서도로 배향시키는 것이 용이하여, 이색성 색소에 대한 광 열화 억제 효과를 충분히 발휘하기 쉽다. 한편, T1 - T2 의 값이 12.0 ℃ 를 초과하면, 중합성 액정 조성물을 구성하는 중합성 액정 화합물의 분자 구조와 광 중합 개시제의 분자 구조가 유사한 경향이 있어, 이색성 색소의 보다 근방에 광 중합 개시제가 존재하기 쉬워져, 광 중합 개시제가 발생하는 활성종에 의한 이색성 색소의 변성을 일으키기 쉬워진다. T1 - T2 의 값이 상기 범위 내에 있으면, 중합성 액정 화합물에 포접된 이색성 색소의 근방에 광 중합 개시제가 존재하기 어려워져, 이색성 색소의 변성에 대한 높은 억제 효과를 기대할 수 있다.
광 중합 개시제는, 중합성 액정 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물과의 관계에 있어서 상기 식 (1) 을 만족하고, 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이면, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 광의 작용에 의해 활성 라디칼 또는 산을 발생할 수 있는 광 중합 개시제를 들 수 있고, 그 중에서도, 광의 작용에 의해 라디칼을 발생하는 광 중합 개시제가 바람직하다. 광 중합 개시제는 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
광 중합 개시제로는, 예를 들어, 활성 라디칼을 발생하는 광 중합 개시제를 들 수 있다. 당해 광 중합 개시제로는, 자기 개열형의 광 중합 개시제, 수소 인발형의 광 중합 개시제가 있다.
자기 개열형의 광 중합 개시제로서, 자기 개열형의 벤조인계 화합물, 아세토페논계 화합물, 하이드록시아세토페논계 화합물, α-아미노아세토페논계 화합물, 옥심에스테르계 화합물, 아실포스핀옥사이드계 화합물, 아조계 화합물 등을 사용할 수 있다. 또, 수소 인발형 광 중합 개시제로서, 수소 인발형의 벤조페논계 화합물, 벤조인에테르계 화합물, 벤질케탈계 화합물, 디벤조스베론계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 할로게노아세토페논계 화합물, 디알콕시아세토페논계 화합물, 할로게노비스이미다졸계 화합물, 할로게노트리아진계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 사용할 수 있다.
산을 발생하는 광 중합 개시제로는, 요오드늄염 및 술포늄염 등을 사용할 수 있다.
저온에서의 반응 효율의 관점에서 자기 개열형의 광 중합 개시제가 바람직하고, 특히 아세토페논계 화합물, 하이드록시아세토페논계 화합물, α-아미노아세토페논계 화합물, 옥심에스테르계 화합물이 바람직하다.
광 중합 개시제로는, 예를 들어, 이하의 것을 들 수 있다.
벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 및 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인계 화합물 ;
2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1,2-디페닐-2,2-디메톡시에탄-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-〔4-(2-하이드록시에톡시)페닐〕프로판-1-온, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 및 2-하이드록시-2-메틸-1-〔4-(1-메틸비닐)페닐〕프로판-1-온의 올리고머 등의 하이드록시아세토페논계 화합물 ;
2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등의 α-아미노아세토페논계 화합물 ;
1,2-옥탄디온,1-[4-(페닐티오)-,2-(O-벤조일옥심)], 에탄온, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심) 등의 옥심에스테르계 화합물 ;
2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 및 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드계 화합물 ;
벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 및 2,4,6-트리메틸벤조페논 등의 벤조페논 화합물 ;
디에톡시아세토페논 등의 디알콕시아세토페논계 화합물 ;
2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(푸란-2-일)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐〕-1,3,5-트리아진 및 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐〕-1,3,5-트리아진 등의 트리아진계 화합물.
광 중합 개시제는, 예를 들어 상기 광 중합 개시제로부터 중합성 액정 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물과의 관계에 있어서 적절히 선택하면 된다.
광 중합 개시제로서, 시판되는 광 중합 개시제를 사용해도 된다. 시판되는 광 중합 개시제로는, 이르가큐어 (Irgacure) (등록상표) 907, 184, 651, 819, 250, 및 369, 379, 127, 754, OXE01, OXE02, OXE03 (BASF 사 제조) ; Omnirad BCIM, Esacure 1001M, Esacure KIP160 (IDM Resins B. V. 사 제조) ; 세이쿠올 (등록상표) BZ, Z, 및 BEE (세이코 화학 주식회사 제조) ; 카야큐어 (kayacure) (등록상표) BP100, 및 UVI-6992 (다우·케미컬 주식회사 제조) ; 아데카 옵토머 SP-152, N-1717, N-1919, SP-170, 아데카 아클즈 NCI-831, 아데카 아클즈 NCI-930 (주식회사 ADEKA 제조) ; TAZ-A, 및 TAZ-PP (닛폰 시베르헤그너 주식회사 제조) ; 그리고, TAZ-104 (주식회사 산와 케미컬 제조) ; 등을 들 수 있다.
광 중합 개시제의 중량 평균 분자량은 500 이상 2000 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 600 이상, 더욱 바람직하게는 700 이상이며, 보다 바람직하게는 1500 이하이며, 더욱 바람직하게는 1000 이하이다. 광 중합 개시제의 중량 평균 분자량이 상기 하한값 이상이면, 중합성 액정 화합물과 함께 배향하기 어려워지고, 중합성 액정 화합물에 포섭되어 존재하는 이색성 색소에 대한 변성을 일으키기 어려운 경향이 있다. 광 중합 개시제의 중량 평균 분자량이 상기 상한값 이하이면, 광 중합 개시제에 의한 중합성 액정 화합물의 배향의 교란을 억제할 수 있어, 높은 배향 질서도를 유지하고 우수한 편광 성능을 갖는 편광막을 얻을 수 있다.
광 중합 개시제로는, 분자 구조로서 입체 장애가 크고, 직선성이 낮은 것은 중합성 액정 화합물과 함께 배향하기 어려워져, 이색성 색소의 변성을 일으키기 어려운 경향이 있다. 그러한 분자 구조를 갖는 광 중합 개시제로서, 예를 들어, 이하의 화합물을 들 수 있다.
[화학식 15]
[화학식 16]
[화학식 17]
[화학식 18]
[화학식 19]
[화학식 20]
[화학식 21]
[화학식 22]
[화학식 23]
[화학식 24]
[화학식 25]
[화학식 26]
그 중에서도, 이들로 한정되는 것은 아니지만, 분자 구조로서 입체 장애가 크고, 이색성 색소의 변성을 일으키기 어려운 경향이 있는 점에서, 광 중합 개시제로는, 하기 (B-1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 것이 바람직하다. 또, 광 중합 개시제의 반응 기구의 관점에서는, 옥심에스테르계 화합물 및 벤조페논계 화합물이 바람직하고, 옥심에스테르계 화합물이 보다 바람직하다.
[화학식 27]
식 (B-1) 중, 「*」 는 결합손 (단결합) 을 나타내고, 벤젠 고리에 있어서의 결합손의 수는 1 ∼ 5 여도 되고, 그 위치도 특별히 한정되는 것은 아니다. X 는 NR1, S 또는 C=O 를 나타내고, R1 은 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다. Y1 및 Y2 는 수소 원자, 혹은 Y1 과 Y2 의 연결기를 나타낸다.
본 발명의 중합성 액정 조성물에 있어서의 상기 광 중합 개시제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부이며, 보다 바람직하게는 1 ∼ 8 질량부, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 8 질량부, 특히 바람직하게는 4 ∼ 8 질량부이다. 광 중합 개시제의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향을 크게 교란하는 일 없이, 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 실시할 수 있다.
본 발명 중의 중합성 액정 화합물의 중합률은, 제조 시의 라인 오염이나 취급의 관점에서, 60 ％ 이상인 것이 바람직하고, 65 ％ 이상이 보다 바람직하고, 70 ％ 이상이 더욱 바람직하다.
중합성 액정 조성물은 광 증감제를 추가로 함유하고 있어도 된다. 광 증감제를 사용함으로써 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 보다 촉진시킬 수 있다. 광 증감제로는, 크산톤, 티오크산톤 등의 크산톤 화합물 (예를 들어, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤) ; 안트라센, 알콕시기 함유 안트라센 (예를 들어, 디부톡시안트라센) 등의 안트라센 화합물 ; 페노티아진 및 루브렌 등을 들 수 있다. 광 증감제는 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명의 중합성 액정 조성물이 광 증감제를 포함하는 경우, 그 함유량은, 광 중합 개시제 및 중합성 액정 화합물의 종류 및 그 양에 따라 적절히 결정하면 되지만, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해, 0.1 ∼ 30 질량부가 바람직하고, 0.5 ∼ 10 질량부가 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 8 질량부가 더욱 바람직하다.
또, 본 발명의 중합성 액정 조성물은 레벨링제를 포함하고 있어도 된다. 레벨링제는, 중합성 액정 조성물의 유동성을 조정하여, 그 중합성 액정 조성물을 도포함으로써 얻어지는 도막을 보다 평탄하게 하는 기능을 갖고, 구체적으로는, 계면 활성제를 들 수 있다. 레벨링제로는, 폴리아크릴레이트 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제 및 불소 원자 함유 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다. 레벨링제는 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
폴리아크릴레이트 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제로는, 예를 들어, "BYK-350", "BYK-352", "BYK-353", "BYK-354", "BYK-355", "BYK-358N", "BYK-361N", "BYK-380", "BYK-381" 및 "BYK-392" (BYK Chemie 사) 를 들 수 있다.
불소 원자 함유 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제로는, 예를 들어, "메가팍 (등록상표) R-08", 동 "R-30", 동 "R-90", 동 "F-410", 동 "F-411", 동 "F-443", 동 "F-445", 동 "F-470", 동 "F-471", 동 "F-477", 동 "F-479", 동 "F-482" 및 동 "F-483" (DIC (주)) ; "서플론 (등록상표) S-381", 동 "S-382", 동 "S-383", 동 "S-393", 동 "SC-101", 동 "SC-105", "KH-40" 및 "SA-100" (AGC 세이미 케미칼 (주)) ; "E1830", "E5844" ((주) 다이킨 파인 케미컬 연구소) ; "에프탑 EF301", "에프탑 EF303", "에프탑 EF351" 및 "에프탑 EF352" (미츠비시 머티리얼 전자 화성 (주)) 를 들 수 있다.
본 발명의 중합성 액정 조성물이 레벨링제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해, 0.05 ∼ 5 질량부가 바람직하고, 0.05 ∼ 3 질량부가 보다 바람직하다. 레벨링제의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물을 수평 배향시키기 쉽고, 또한, 불균일이 생기기 어려워, 보다 평활한 편광막을 얻을 수 있는 경향이 있다.
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 광 증감제 및 레벨링제 이외의 다른 첨가제를 함유해도 된다. 다른 첨가제로는, 산화 방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제 등의 착색제, 난연제 및 활제 등을 들 수 있다. 중합성 액정 조성물이 다른 첨가제를 함유하는 경우, 다른 첨가제의 함유량은, 중합성 액정 조성물의 고형분에 대해, 0 ％ 를 초과하고 20 질량％ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0 ％ 를 초과하고 10 질량％ 이하이다.
본 발명의 중합성 액정 조성물은 용제를 포함하고 있어도 된다. 일반적으로 스멕틱 액정성을 나타내는 화합물은 점도가 높기 때문에, 중합성 액정 조성물에 용제를 첨가함으로써 도포가 용이하고, 결과적으로 편광막의 형성이 용이해지는 경우가 많다. 용제는, 중합성 액정 화합물 및 이색성 색소의 용해성에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용제, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 락트산에틸 등의 에스테르 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제, 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴 용제, 테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제, 및, 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화탄화수소 용제 등을 들 수 있다. 이들 용제는, 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 용제의 함유량은, 중합성 액정 조성물을 구성하는 고형 성분 100 질량부에 대해, 바람직하게는 100 ∼ 1900 질량부이며, 보다 바람직하게는 150 ∼ 900 질량부이며, 더욱 바람직하게는 180 ∼ 600 질량부이다.
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 종래 공지된 중합성 액정 조성물의 조제 방법에 의해 제조할 수 있고, 통상, 중합성 액정 화합물, 이색성 색소 및 광 중합 개시제, 그리고 필요에 따라 상기 서술한 첨가제 및 용제 등을 혼합, 교반함으로써 조제할 수 있다.
＜편광막＞
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 활성 에너지선 조사에 의한 경화 시에 이색성 색소의 변성을 일으키기 어려운 구성을 가지므로, 편광 성능이 우수한 편광막을 얻을 수 있어, 편광막의 제조에 바람직하게 사용할 수 있다.
배향 질서도가 높은 편광막은, X 선 회절 측정에 있어서 헥사틱상이나 크리스탈상과 같은 고차 구조 유래의 브래그 피크가 얻어진다. 브래그 피크란, 분자 배향의 면주기 (面周期) 구조에서 유래하는 피크를 의미한다. 따라서, 본 발명의 중합성 액정 조성물로 형성되는 편광막에 있어서, 중합성 액정 화합물 또는 그 중합체가, X 선 회절 측정에 있어서 그 편광막이 브래그 피크를 나타내도록 배향하고 있는 것이 바람직하고, 광을 흡수하는 방향으로 중합성 액정 화합물의 분자가 배향하는 「수평 배향」인 것이 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서는 분자 배향의 면주기 간격이 3.0 ∼ 6.0 Å 인 편광막이 바람직하다. 브래그 피크를 나타내는 높은 배향 질서도는, 사용하는 중합성 액정 화합물의 종류, 광 중합 개시제의 종류나 그 양, 이색성 색소의 종류나 그 양 등을 제어함으로써 실현할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 중합성 액정 화합물과의 관계에 있어서 식 (1) 을 만족하는 광 중합 개시제를 사용함으로써, 중합성 액정 화합물의 중합 시에 광 중합 개시제로부터 발생하는 활성종에 의한 이색성 색소의 변성을 억제할 수 있고, 중합성 액정 화합물의 높은 배향 질서도를 유지한 채, 우수한 편광 성능을 갖는 편광막을 얻을 수 있다. 따라서, 본 발명은, 본 발명의 중합성 액정 조성물의 경화물인 편광막이고, X 선 회절 측정에 있어서 브래그 피크를 나타내는 편광막도 대상으로 한다.
본 발명의 편광막은, 예를 들어, 본 발명의 중합성 액정 조성물의 도막을 형성하는 것,
상기 도막으로부터 용제를 제거하는 것,
중합성 액정 화합물이 액체상으로 상전이하는 온도 이상까지 승온한 후 강온하여, 그 중합성 액정 화합물을 스멕틱상 (스멕틱 액정 상태) 으로 상전이시키는 것, 및,
상기 스멕틱상 (스멕틱 액정 상태) 을 유지한 채 중합성 액정 화합물을 중합시키는 것
을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다.
중합성 액정 조성물의 도막의 형성은, 예를 들어, 기재 상이나 후술하는 배향막 상 등에 중합성 액정 조성물, 특히, 용제를 첨가하여 점도를 조정한 중합성 액정 조성물 (이하, 「편광막 형성용 조성물」이라고도 한다) 을 도포함으로써 실시할 수 있다. 또, 본 발명의 편광판을 구성하는 위상차 필름이나 그 밖의 층 상에 편광막 형성용 조성물을 직접 도포해도 된다.
기재는 통상, 투명 기재이다. 또한, 기재가 표시 소자의 표시면에 설치되지 않을 때, 예를 들어 편광막으로부터 기재를 제거한 적층체를 표시 소자의 표시면에 설치하는 경우에는, 기재는 투명하지 않아도 된다. 투명 기재란, 광, 특히 가시광을 투과할 수 있는 투명성을 갖는 기재를 의미하고, 투명성이란, 파장 380 ∼ 780 nm 에 걸치는 광선에 대한 투과율이 80 ％ 이상이 되는 특성을 말한다. 구체적인 투명 기재로는, 투광성 수지 기재를 들 수 있다. 투광성 수지 기재를 구성하는 수지로는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀 ; 노르보르넨계 폴리머 등의 고리형 올레핀계 수지 ; 폴리비닐알코올 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트 ; 폴리메타크릴산에스테르 ; 폴리아크릴산에스테르 ; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르 ; 폴리에틸렌나프탈레이트 ; 폴리카보네이트 ; 폴리술폰 ; 폴리에테르술폰 ; 폴리에테르케톤 ; 폴리페닐렌술파이드 및 폴리페닐렌옥사이드 등을 들 수 있다. 입수의 용이함이나 투명성의 관점에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리메타크릴산에스테르, 셀룰로오스에스테르, 고리형 올레핀계 수지 또는 폴리카보네이트가 바람직하다. 셀룰로오스에스테르는, 셀룰로오스에 포함되는 수산기의 일부 또는 전부가, 에스테르화된 것이며, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 또, 셀룰로오스에스테르 기재도 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 시판되는 셀룰로오스에스테르 기재로는, 예를 들어, "후지탁 필름" (후지 사진 필름 (주)) ; "KC8UX2M", "KC8UY" 및 "KC4UY" (코니카 미놀타 옵토 (주)) 등을 들 수 있다.
기재에 요구되는 특성은, 편광막의 구성에 따라 상이하지만, 통상, 위상차성이 가능한 한 작은 기재가 바람직하다. 위상차성이 가능한 한 작은 기재로는, 제로탁 (코니카 미놀타 옵토 주식회사), Z 탁 (후지 필름 주식회사) 등의 위상차를 가지지 않는 셀룰로오스에스테르 필름 등을 들 수 있다. 또, 미연신의 고리형 올레핀계 수지 기재도 바람직하다. 편광막이 적층되어 있지 않은 기재의 면에는, 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 대전 방지 처리 등이 되어도 된다.
기재의 두께는, 지나치게 얇으면 강도가 저하하고, 가공성이 열등한 경향이 있기 때문에, 통상 5 ∼ 300 ㎛ 이며, 바람직하게는 20 ∼ 200 ㎛, 보다 바람직하게는 20 ∼ 100 ㎛ 이다.
편광막 형성용 조성물을 기재 등에 도포하는 방법으로는, 스핀 코팅법, 익스트루전법, 그라비어 코팅법, 다이 코팅법, 바 코팅법, 애플리케이터법 등의 도포법, 플렉소법 등의 인쇄법 등의 공지된 방법을 들 수 있다.
이어서, 편광막 형성용 조성물로부터 얻어진 도막 중에 포함되는 중합성 액정 화합물이 중합하지 않는 조건으로, 용제를 건조 등에 의해 제거함으로써, 건조 도막이 형성된다. 건조 방법으로는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법 등을 들 수 있다.
또한, 중합성 액정 화합물을 액체상으로 상전이시키기 위해, 중합성 액정 화합물이 액체상으로 상전이하는 온도 이상까지 승온한 후 강온하고, 그 중합성 액정 화합물을 스멕틱상 (스멕틱 액정 상태) 으로 상전이시킨다. 이러한 상전이는, 상기 도막 중의 용제 제거 후에 실시해도 되고, 용제의 제거와 동시에 실시해도 된다.
중합성 액정 화합물의 스멕틱 액정 상태를 유지한 채, 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써, 중합성 액정 조성물의 경화층으로서 편광막이 형성된다. 중합 방법으로는 광 중합법이 바람직하다. 광 중합에 있어서, 건조 도막에 조사하는 광으로는, 당해 건조 도막에 포함되는 광 중합 개시제의 종류, 중합성 액정 화합물의 종류 (특히, 그 중합성 액정 화합물이 갖는 중합성기의 종류) 및 그 양에 따라 적절히 선택된다. 그 구체예로는, 가시광, 자외광, 적외광, X 선, α 선, β 선 및 γ 선으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 광이나 활성 전자선을 들 수 있다. 그 중에서도, 중합 반응의 진행을 제어하기 용이한 점이나, 광 중합 장치로서 당 분야에서 광범위하게 이용되고 있는 것을 사용할 수 있다는 점에서, 자외광이 바람직하고, 자외광에 의해, 광 중합 가능하도록, 중합성 액정 조성물에 함유되는 중합성 액정 화합물이나 광 중합 개시제의 종류를 선택해 두는 것이 바람직하다. 또, 중합 시에, 적절한 냉각 수단에 의해 건조 도막을 냉각하면서, 광 조사함으로써, 중합 온도를 제어할 수도 있다. 이와 같은 냉각 수단의 채용에 의해, 보다 저온에서 중합성 액정 화합물의 중합을 실시하면, 기재가 비교적 내열성이 낮은 것을 사용하였다고 해도, 적절히 편광막을 형성할 수 있다. 광 중합 시, 마스킹이나 현상을 실시하는 등에 의해, 패터닝된 편광막을 얻을 수도 있다.
상기 활성 에너지선의 광원으로는, 저압 수은 램프, 중압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 크세논 램프, 할로겐 램프, 카본 아크등, 텅스텐 램프, 갈륨 램프, 엑시머 레이저, 파장 범위 380 ∼ 440 nm 를 발광하는 LED 광원, 케미컬 램프, 블랙 라이트 램프, 마이크로웨이브 여기 수은등, 메탈 할라이드 램프 등을 들 수 있다.
자외선 조사 강도는, 통상, 10 ∼ 3,000 mW/㎠ 이다. 자외선 조사 강도는, 바람직하게는 광 중합 개시제의 활성화에 유효한 파장 영역에 있어서의 강도이다. 광을 조사하는 시간은, 통상 0.1 초 ∼ 10 분이며, 바람직하게는 1 초 ∼ 5 분, 보다 바람직하게는 5 초 ∼ 3 분, 더욱 바람직하게는 10 초 ∼ 1 분이다. 이와 같은 자외선 조사 강도로 1 회 또는 복수회 조사하면, 그 적산 광량은, 10 ∼ 3,000 mJ/㎠, 바람직하게는 50 ∼ 2,000 mJ/㎠, 보다 바람직하게는 100 ∼ 1,000 mJ/㎠ 이다.
광 중합을 실시함으로써, 중합성 액정 화합물은, 스멕틱상, 바람직하게는 고차의 스멕틱상의 액정 상태를 유지한 채 중합하여, 편광막이 형성된다. 중합성 액정 화합물이 스멕틱상의 액정 상태를 유지한 채 중합하여 얻어지는 편광막은, 상기 이색성 색소의 작용에도 수반하여, 종래의 호스트 게스트형 편광 필름, 즉, 네마틱상의 액정 상태로 이루어지는 편광막과 비교해, 편광 성능이 높다는 이점이 있다. 또한, 이색성 색소나 리오트로픽 액정만을 도포한 것과 비교해, 강도가 우수하다는 이점도 있다.
편광막의 두께는, 적용되는 표시 장치에 따라 적절히 선택할 수 있고, 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하의 막이며, 보다 바람직하게는 0.3 ㎛ 이상 4 ㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상 3 ㎛ 이하이다. 막두께가 이 범위보다 얇아지면, 필요한 광 흡수가 얻어지지 않는 경우가 있고, 또한, 막두께가 이 범위보다 두꺼워지면, 배향막에 의한 배향 규제력이 저하하여, 배향 결함을 일으키기 쉬운 경향이 있다.
편광막은 배향막 상에 형성되는 것이 바람직하다. 그 배향막은, 중합성 액정 화합물을 원하는 방향으로 액정 배향시키는, 배향 규제력을 갖는 것이다. 배향막으로는, 중합성 액정 화합물을 함유하는 조성물의 도포 등에 의해 용해되지 않는 용제 내성을 갖고, 또, 용제의 제거나 중합성 액정 화합물의 배향을 위한 가열 처리에 있어서의 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 배향막으로는, 배향성 폴리머를 포함하는 배향막, 광 배향막 및 표면에 요철 패턴이나 복수의 홈을 갖는 그루브 배향막, 배향 방향으로 연신되어 있는 연신 필름 등을 들 수 있고, 배향각의 정밀도 및 품질의 관점에서, 광 배향막이 바람직하다.
배향성 폴리머로는, 분자 내에 아미드 결합을 갖는 폴리아미드나 젤라틴류, 분자 내에 이미드 결합을 갖는 폴리이미드 및 그 가수분해물인 폴리아믹산, 폴리비닐알코올, 알킬 변성 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드, 폴리옥사졸, 폴리에틸렌이민, 폴리스티렌, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산 및 폴리아크릴산에스테르 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리비닐알코올이 바람직하다. 배향성 폴리머는 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
배향성 폴리머를 포함하는 배향막은, 통상, 배향성 폴리머가 용제에 용해된 조성물 (이하, 「배향성 폴리머 조성물」이라고 하는 경우가 있다) 을 기재에 도포하고, 용제를 제거하거나, 또는, 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하고, 러빙 (러빙법) 함으로써 얻어진다. 용제로는, 편광막을 형성할 때에 이용할 수 있는 용제로서 앞서 예시한 용제와 동일한 것을 들 수 있다.
배향성 폴리머 조성물 중의 배향성 폴리머의 농도는, 배향성 폴리머 재료가, 용제에 완용할 수 있는 범위이면 되지만, 용액에 대해 고형분 환산으로 0.1 ∼ 20 ％ 가 바람직하고, 0.1 ∼ 10 ％ 정도가 더욱 바람직하다.
배향성 폴리머 조성물로서, 시판되는 배향막 재료를 그대로 사용하여도 된다. 시판되는 배향막 재료로는, 선에버 (등록상표, 닛산 화학 공업 (주) 제조), 옵토머 (등록상표, JSR (주) 제조) 등을 들 수 있다.
배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하는 방법으로는, 편광막 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법으로서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
배향성 폴리머 조성물에 포함되는 용제를 제거하는 방법으로는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법 등을 들 수 있다.
배향막에 배향 규제력을 부여하기 위해서, 필요에 따라 러빙 처리를 실시할 수 있다 (러빙법).
러빙법에 의해 배향 규제력을 부여하는 방법으로는, 러빙포가 감기고, 회전하고 있는 러빙 롤에, 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하여 어닐함으로써 기재 표면에 형성된 배향성 폴리머의 막을, 접촉시키는 방법을 들 수 있다.
광 배향막은, 통상, 광 반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 포함하는 조성물 (이하, 「광 배향막 형성용 조성물」이라고도 한다) 을 기재에 도포하고, 편광 (바람직하게는, 편광 UV) 을 조사함으로써 얻어진다. 광 배향막은, 조사하는 편광의 편광 방향을 선택함으로써, 배향 규제력의 방향을 임의로 제어할 수 있는 점에서 보다 바람직하다.
광 반응성기란, 광 조사함으로써 액정 배향능을 생기게 하는 기를 말한다. 구체적으로는, 광 조사에 의해 생기는 분자의 배향 야기 또는 이성화 반응, 이량화 반응, 광 가교 반응 혹은 광 분해 반응 등의 액정 배향능의 기원이 되는 광 반응에 관여하는 기를 들 수 있다. 그 중에서도, 이량화 반응 또는 광 가교 반응에 관여하는 기가, 배향성이 우수한 점에서 바람직하다. 광 반응성기로서, 불포화 결합, 특히 이중 결합을 갖는 기가 바람직하고, 탄소-탄소 이중 결합 (C=C 결합), 탄소-질소 이중 결합 (C=N 결합), 질소-질소 이중 결합 (N=N 결합) 및 탄소-산소 이중 결합 (C=O 결합) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 갖는 기가 특히 바람직하다.
C=C 결합을 갖는 광 반응성기로는, 비닐기, 폴리엔기, 스틸벤기, 스틸바졸기, 스틸바졸륨기, 칼콘기 및 신나모일기 등을 들 수 있다. C=N 결합을 갖는 광 반응성기로는, 방향족 시프 염기, 방향족 하이드라존 등의 구조를 갖는 기를 들 수 있다. N=N 결합을 갖는 광 반응성기로는, 아조벤젠기, 아조나프탈렌기, 방향족 복소 고리 아조기, 비스아조기, 포르마잔기, 및, 아족시벤젠 구조를 갖는 기 등을 들 수 있다. C=O 결합을 갖는 광 반응성기로는, 벤조페논기, 쿠마린기, 안트라퀴논기 및 말레이미드기 등을 들 수 있다. 이들 기는, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 알릴옥시기, 시아노기, 알콕시카르보닐기, 하이드록실기, 술폰산기, 할로겐화알킬기 등의 치환기를 가지고 있어도 된다.
그 중에서도, 광 이량화 반응에 관여하는 광 반응성기가 바람직하고, 광 배향에 필요한 편광 조사량이 비교적 적고, 또한, 열 안정성이나 시간 경과 안정성이 우수한 광 배향막이 얻어지기 쉽다는 점에서, 신나모일기 및 칼콘기가 바람직하다. 광 반응성기를 갖는 폴리머로는, 당해 폴리머 측사슬의 말단부가 신남산 구조가 되는 신나모일기를 갖는 것이 특히 바람직하다.
광 배향막 형성용 조성물을 기재 상에 도포함으로써, 기재 상에 광 배향 야기층을 형성할 수 있다. 그 조성물에 포함되는 용제로는, 편광막을 형성할 때에 사용할 수 있는 용제로서 앞서 예시한 용제와 동일한 것을 들 수 있고, 광 반응성기를 갖는 폴리머 혹은 모노머의 용해성에 따라 적절히 선택할 수 있다.
광 배향막 형성용 조성물 중의 광 반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 함유량은, 폴리머 또는 모노머의 종류나 목적으로 하는 광 배향막의 두께에 의해 적절히 조절할 수 있지만, 광 배향막 형성용 조성물의 질량에 대해, 적어도 0.2 질량％ 로 하는 것이 바람직하고, 0.3 ∼ 10 질량％ 의 범위가 보다 바람직하다. 광 배향막의 특성이 현저하게 저해되지 않는 범위에서, 광 배향막 형성용 조성물은, 폴리비닐알코올이나 폴리이미드 등의 고분자 재료나 광 증감제를 포함하고 있어도 된다.
광 배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법으로는, 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다. 도포된 광 배향막 형성용 조성물로부터, 용제를 제거하는 방법으로는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법 등을 들 수 있다.
편광을 조사하려면, 기판 상에 도포된 광 배향막 형성용 조성물로부터, 용제를 제거한 것에 직접, 편광 UV 를 조사하는 형식이어도 되고, 기재 측으로부터 편광을 조사하고, 편광을 투과시켜 조사하는 형식이어도 된다. 또, 당해 편광은, 실질적으로 평행광이면 특히 바람직하다. 조사하는 편광의 파장은, 광 반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 광 반응성기가, 광 에너지를 흡수할 수 있는 파장 영역의 것이 좋다. 구체적으로는, 파장 250 ∼ 400 nm 의 범위의 UV (자외선) 가 특히 바람직하다. 당해 편광 조사에 사용하는 광원으로는, 크세논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, KrF, ArF 등의 자외광 레이저 등을 들 수 있고, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가 보다 바람직하다. 이들 중에서도, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가, 파장 313 nm 의 자외선의 발광 강도가 크기 때문에 바람직하다. 상기 광원으로부터의 광을, 적당한 편광자를 통과시켜 조사함으로써, 편광 UV 를 조사할 수 있다. 이러한 편광자로는, 편광 필터나 글랜 톰슨, 글랜 테일러 등의 편광 프리즘이나 와이어 그리드 타입의 편광자를 사용할 수 있다.
또한, 러빙 또는 편광 조사를 실시할 때에, 마스킹을 실시하면, 액정 배향의 방향이 상이한 복수의 영역 (패턴) 을 형성할 수도 있다.
그루브 (groove) 배향막은, 막 표면에 요철 패턴 또는 복수의 그루브 (홈) 를 갖는 막이다. 등간격으로 배열된 복수의 직선상의 그루브를 갖는 막에 중합성 액정 화합물을 도포한 경우, 그 홈을 따른 방향으로 액정 분자가 배향한다.
그루브 배향막을 얻는 방법으로는, 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 통하여 노광 후, 현상 및 린스 처리를 실시하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판상의 원반에, 경화 전의 UV 경화 수지의 층을 형성하고, 형성된 수지층을 기재에 옮기고 나서 경화하는 방법, 및, 기재에 형성한 경화 전의 UV 경화 수지의 막에, 복수의 홈을 갖는 롤상의 원반을 압박하여 요철을 형성하고, 그 후 경화하는 방법 등을 들 수 있다.
배향막 (배향성 폴리머를 포함하는 배향막 또는 광 배향막) 의 두께는, 통상 10 ∼ 10000 nm 의 범위이며, 바람직하게는 10 ∼ 1000 nm 의 범위이며, 보다 바람직하게는 500 nm 이하이며, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 200 nm, 특히 바람직하게는 50 ∼ 150 nm 의 범위이다.
＜편광 필름＞
본 발명은, 본 발명의 편광막과 투명 필름을 구비하여 이루어지는 편광 필름을 포함한다. 본 발명의 편광 필름을 구성하는 투명 필름으로는, 연속적으로 제조할 수 있는 점에서 장척의 롤상 필름이 바람직하다. 필름 기재를 구성하는 수지로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀 ; 고리형 올레핀계 수지 ; 폴리비닐알코올 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트 ; 폴리메타크릴산에스테르 ; 폴리아크릴산에스테르 ; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르 ; 폴리에틸렌나프탈레이트 ; 폴리카보네이트 ; 폴리술폰 ; 폴리에테르술폰 ; 폴리에테르케톤 ; 폴리페닐렌술파이드 및 폴리페닐렌옥사이드 ; 등의 플라스틱을 들 수 있다.
또, "후지탁 필름" (후지 사진 필름 주식회사 제조) ; "KC8UX2M", "KC8UY" 및 "KC4UY" (이상, 코니카 미놀타 옵토 주식회사 제조) 등의 시판되는 셀룰로오스에스테르 기재를 사용해도 된다. 시판되는 고리형 올레핀계 수지로는, "Topas" (등록상표) (Ticona 사 (독일) 제조), "아톤" (등록상표) (JSR 주식회사 제조), "제오노어 (ZEONOR)" (등록상표), "제오넥스 (ZEONEX)" (등록상표) (이상, 닛폰 제온 주식회사 제조) 및 "아펠" (등록상표) (미츠이 화학 주식회사 제조) 을 들 수 있다. 이와 같은 고리형 올레핀계 수지를, 용제 캐스트법, 용융 압출법 등의 공지된 수단에 의해 제막하여, 기재로 할 수 있다. 시판되고 있는 고리형 올레핀계 수지 기재를 사용할 수도 있다. 시판되는 고리형 올레핀계 수지 기재로는, "에스시나" (등록상표), "SCA40" (등록상표) (이상, 세키스이 화학 공업 주식회사 제조), "제오노어 필름" (등록상표) (옵테스 주식회사 제조) 및 "아톤 필름" (등록상표) (JSR 주식회사 제조) 을 들 수 있다.
본 발명의 편광 필름에 있어서, 투명 필름은 편광막의 편면에만 적층되어 있어도 되고, 양면에 적층되어 있어도 된다. 본 발명의 편광 필름이 복수 장의 투명 필름을 포함하는 경우, 그것들은 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 또, 편광막과 투명 필름은, 서로 접하고 있어도 되고 떨어져 있어도 된다. 통상, 투명 필름은, 접착제층이나 점착제층을 개재하여 편광막에 첩합할 수 있다.
본 발명의 편광 필름을 구성하는 투명 필름의 두께는, 실용적인 취급이 가능한 정도의 질량인 점에서는, 얇은 편이 바람직하지만, 지나치게 얇으면 강도가 저하하여, 가공성이 열등한 경향이 있다. 기재의 두께는, 통상, 5 ㎛ ∼ 300 ㎛ 이며, 바람직하게는 20 ㎛ ∼ 200 ㎛ 이며, 보다 바람직하게는 20 ∼ 100 ㎛ 이다.
＜편광판＞
본 발명은, 본 발명의 편광막 또는 본 발명의 편광 필름과, 위상차 필름을 구비하여 이루어지는 편광판 (타원 편광판) 을 포함한다. 본 발명의 편광판에 있어서 위상차 필름은, 식 (X) :
100 ≤ Re(550) ≤ 180 (X)
〔식 중, Re(550) 은 파장 550 nm 에 있어서의 면내 위상차값을 나타낸다〕
를 만족하는 것이 바람직하다. 위상차 필름이 상기 (X) 로 나타내는 면내 위상차값을 가지면, 이른바 λ/4 판으로서 기능한다. 상기 식 (X) 는, 바람직하게는 100 nm ≤ Re(550) ≤ 180 nm, 더욱 바람직하게는 120 nm ≤ Re(550) ≤ 160 nm 이다.
본 발명의 편광판에 있어서, 위상차 필름의 지상축과 편광막의 흡수축이 이루는 각도는, 바람직하게는 실질적으로 45°이다. 또한, 본 발명에 있어서 「실질적으로 45°」란, 45°± 5°를 의미한다.
또한, 위상차 필름이 식 (Y) :
Re(450)/Re(550) ＜ 1 (Y)
〔식 중, Re(450) 및 Re(550) 은 각각 파장 450 nm 및 550 nm 에 있어서의 면내 위상차값을 나타낸다〕
를 만족하는 것이 바람직하다. 상기 식 (Y) 를 만족하는 위상차 필름은, 이른바 역파장 분산성을 가져, 우수한 편광 성능을 나타낸다. Re(450)/Re(550) 의 값은, 바람직하게는 0.93 이하이며, 보다 바람직하게는 0.88 이하, 더욱 바람직하게는 0.86 이하, 바람직하게는 0.80 이상, 보다 바람직하게는 0.82 이상이다.
상기 위상차 필름은, 폴리머를 연신함으로써 위상차를 부여하는 연신 필름이어도 되지만, 편광판의 박층화의 관점에서, 중합성 액정 화합물을 포함하는 중합성 액정 조성물 (이하, 「중합성 액정 조성물 (B)」라고도 한다) 의 경화물이고, 상기 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 구성되는 것이 바람직하다. 위상차 필름을 형성하는 중합성 액정 화합물 (이하, 「중합성 액정 화합물 (B)」라고도 한다) 은, 중합성 관능기, 특히 광 중합성 관능기를 갖는 액정 화합물을 의미한다. 광 중합성 관능기란, 광 중합 개시제로부터 발생한 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 광 중합성 관능기로는, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 액정성은 서모트로픽성 액정이어도 되고 리오트로픽성 액정이어도 되고, 상질서 구조로는 네마틱 액정이어도 되고 스멕틱 액정이어도 된다. 중합성 액정 화합물로서, 1 종만을 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
중합성 액정 화합물 (B) 로는, 성막의 용이성 및 상기 식 (Y) 로 나타내는 위상차성을 부여한다는 관점에서, 하기 (가) ∼ (라) 를 모두 만족하는 화합물을 들 수 있다.
(가) 서모트로픽 액정성을 갖는 화합물이다 ;
(나) 그 중합성 액정 화합물의 장축 방향 (a) 상에 π 전자를 갖는다.
(다) 장축 방향 (a) 에 대해 교차하는 방향〔교차 방향 (b)〕상에 π 전자를 갖는다.
(라) 장축 방향 (a) 에 존재하는 π 전자의 합계를 N(πa), 장축 방향에 존재하는 분자량의 합계를 N(Aa) 로 하여 식 (i) 로 정의되는 중합성 액정 화합물의 장축 방향 (a) 의 π 전자 밀도 :
D(πa) = N(πa)/N(Aa) (i)
와, 교차 방향 (b) 에 존재하는 π 전자의 합계를 N(πb), 교차 방향 (b) 에 존재하는 분자량의 합계를 N(Ab) 로 하여 식 (ii) 로 정의되는 중합성 액정 화합물의 교차 방향 (b) 의 π 전자 밀도 :
D(πb) = N(πb)/N(Ab) (ii)
가,
0 ≤〔D(πa)/D(πb)〕≤ 1
의 관계에 있다〔즉, 교차 방향 (b) 의 π 전자 밀도가, 장축 방향 (a) 의 π 전자 밀도보다 크다〕.
또한, 상기 (가) ∼ (라) 를 모두 만족하는 중합성 액정 화합물 (B) 는, 러빙 처리에 의해 형성한 배향막 상에 도포하고, 상전이 온도 이상으로 가열함으로써, 네마틱상을 형성하는 것이 가능하다. 이 중합성 액정 화합물 (B) 가 배향하여 형성된 네마틱상에서는 통상, 중합성 액정 화합물의 장축 방향이 서로 평행이 되도록 배향하고 있고, 이 장축 방향이 네마틱상의 배향 방향이 된다.
상기 특성을 갖는 중합성 액정 화합물 (B) 는, 일반적으로 역파장 분산성을 나타내는 경우가 많다. 상기 (가) ∼ (라) 의 특성을 만족하는 화합물로서, 예를 들어, 식 (II) :
[화학식 28]
로 나타내는 화합물을 들 수 있다. 상기 식 (II) 로 나타내는 화합물은 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
식 (II) 중, Ar 은 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 방향족기를 나타낸다. 여기서 말하는 방향족기란, 평면성을 갖는 고리형 구조의 기이며, 그 고리형 구조가 갖는 π 전자수가 휘켈 규칙에 따라 [4n ＋ 2] 개인 것을 말한다. 여기서, n 은 정수를 나타낸다. -N= 나 -S- 등의 헤테로 원자를 포함하여 고리 구조를 형성하고 있는 경우, 이들 헤테로 원자 상의 비공유 결합 전자쌍을 포함하여 휘켈 규칙을 만족하고, 방향족성을 갖는 경우도 포함한다. 그 2 가의 방향족기 중에는 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 중 적어도 1 개 이상이 포함되는 것이 바람직하다.
G1 및 G2 는 각각 독립적으로, 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환형 탄화수소기를 나타낸다. 여기서, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환형 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환형 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 된다.
L1, L2, B1 및 B2 는 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기이다.
k, l 은, 각각 독립적으로 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고, 1 ≤ k ＋ l 의 관계를 만족한다. 여기서, 2 ≤ k ＋ l 인 경우, B1 및 B2, G1 및 G2 는, 각각 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.
E1 및 E2 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 여기서, 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, -O-, -S-, -Si- 로 치환되어 있어도 된다. P1 및 P2 는 서로 독립적으로, 중합성기 또는 수소 원자를 나타내고, 적어도 1 개는 중합성기이다.
G1 및 G2 는, 각각 독립적으로, 바람직하게는, 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-페닐렌디일기, 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-시클로헥산디일기이며, 보다 바람직하게는 메틸기로 치환된 1,4-페닐렌디일기, 무치환의 1,4-페닐렌디일기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥산디일기이며, 특히 바람직하게는 무치환의 1,4-페닐렌디일기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥산디일기이다. 또, 복수 존재하는 G1 및 G2 중 적어도 1 개는 2 가의 지환형 탄화수소기인 것이 바람직하고, 또, L1 또는 L2 에 결합하는 G1 및 G2 중 적어도 1 개는 2 가의 지환형 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다.
L1 및 L2 는 각각 독립적으로, 바람직하게는, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, -O-, -S-, -Ra1ORa2-, -Ra3COORa4-, -Ra5OCORa6-, Ra7OC=OORa8-, -N=N-, -CRc=CRd-, 또는 -C≡C- 이다. 여기서, Ra1 ∼ Ra8 은 각각 독립적으로 단결합, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, Rc 및 Rd 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다. L1 및 L2 는 각각 독립적으로, 보다 바람직하게는 단결합, -ORa2-1-, -CH2-, -CH2CH2-, -COORa4-1-, 또는 OCORa6-1- 이다. 여기서, Ra2-1, Ra4-1, Ra6-1 은 각각 독립적으로 단결합, -CH2-, -CH2CH2- 중 어느 것을 나타낸다. L1 및 L2 는 각각 독립적으로, 더욱 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -COO-, -COOCH2CH2-, 또는 -OCO- 이다.
본 발명의 바람직한 일 실시양태에 있어서, 식 (II) 중의 G1 및 G2 중 적어도 1 개는 2 가의 지환형 탄화수소기이며, 그 2 가의 지환형 탄화수소기가, 치환기를 가지고 있어도 되는 2 가의 방향족기 Ar 과 -COO- 인 L1 및/또는 L2 에 의해 결합하고 있는 중합성 액정 화합물이 사용된다.
B1 및 B2 는 각각 독립적으로, 바람직하게는, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, -O-, -S-, -Ra9ORa10-, -Ra11COORa12-, -Ra13OCORa14-, 또는 Ra15OC=OORa16- 이다. 여기서, Ra9 ∼ Ra16 은 각각 독립적으로 단결합, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. B1 및 B2 는 각각 독립적으로, 보다 바람직하게는 단결합, -ORa10-1-, -CH2-, -CH2CH2-, -COORa12-1-, 또는 OCORa14-1- 이다. 여기서, Ra10-1, Ra12-1, Ra14-1 은 각각 독립적으로 단결합, -CH2-, -CH2CH2- 중 어느 것을 나타낸다. B1 및 B2 는 각각 독립적으로, 더욱 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -COO-, -COOCH2CH2-, -OCO-, 또는 -OCOCH2CH2- 이다.
k 및 l 은, 역파장 분산성 발현의 관점에서 2 ≤ k＋l ≤ 6 의 범위가 바람직하고, k ＋ l = 4 인 것이 바람직하고, k = 2 또한 l = 2 인 것이 보다 바람직하다. k = 2 또한 l = 2 이면 대칭 구조가 되기 때문에 더욱 바람직하다.
E1 및 E2 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기가 바람직하고, 탄소수 4 ∼ 12 의 알칸디일기가 보다 바람직하다.
P1 또는 P2 로 나타내는 중합성기로는, 예를 들어 에폭시기, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 및 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다.
Ar 은 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 탄화수소 고리, 치환기를 가지고 있어도 되는 방향족 복소 고리, 및 전자 흡인성기에서 선택되는 적어도 하나를 갖는 것이 바람직하다. 당해 방향족 탄화수소 고리로는, 예를 들어, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리 등을 들 수 있고, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리가 바람직하다. 당해 방향족 복소 고리로는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 피롤 고리, 인돌 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리미딘 고리, 트리아졸 고리, 트리아진 고리, 피롤린 고리, 이미다졸 고리, 피라졸 고리, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 티에노티아졸 고리, 옥사졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 및 페난트롤린 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 또는 벤조푸란 고리를 갖는 것이 바람직하고, 벤조티아졸기를 갖는 것이 더욱 바람직하다. Ar 에 질소 원자가 포함되는 경우, 당해 질소 원자는 π 전자를 갖는 것이 바람직하다.
식 (II) 중, Ar 로 나타내는 2 가의 방향족기에 포함되는 π 전자의 합계수 Nπ 는 8 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 이상이며, 더욱 바람직하게는 14 이상이며, 특히 바람직하게는 16 이상이다. 또, 바람직하게는 30 이하이며, 보다 바람직하게는 26 이하이며, 더욱 바람직하게는 24 이하이다.
Ar 로 나타내는 방향족기로는, 예를 들어 이하의 식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-23) 의 기를 들 수 있다.
[화학식 29]
식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-23) 중, * 표시는 연결부를 나타내고, Z0, Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 12 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 12 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 12 의 N-알킬술파모일기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기를 나타낸다.
Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로, -CR2'R3'-, -S-, -NH-, -NR2'-, -CO- 또는 O- 를 나타내고, R2' 및 R3' 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.
J1 및 J2 는, 각각 독립적으로, 탄소 원자, 또는 질소 원자를 나타낸다.
Y1, Y2 및 Y3 은, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타낸다.
W1 및 W2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 시아노기, 메틸기 또는 할로겐 원자를 나타내고, m 은 0 ∼ 6 의 정수를 나타낸다.
Y1, Y2 및 Y3 에 있어서의 방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 비페닐기 등의 탄소수 6 ∼ 20 의 방향족 탄화수소기를 들 수 있고, 페닐기, 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다. 방향족 복소 고리기로는, 푸릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기 등의 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 적어도 1 개 포함하는 탄소수 4 ∼ 20 의 방향족 복소 고리기를 들 수 있고, 푸릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기가 바람직하다.
Y1 및 Y2 는, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기여도 된다. 다고리계 방향족 탄화수소기는, 축합 다고리계 방향족 탄화수소기, 또는 방향 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다. 다고리계 방향족 복소 고리기는, 축합 다고리계 방향족 복소 고리기, 또는 방향 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다.
Z0, Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기인 것이 바람직하고, Z0 은, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 시아노기가 더욱 바람직하고, Z1 및 Z2 는, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 메틸기, 시아노기가 더욱 바람직하다.
Q1 및 Q2 는, -NH-, -S-, -NR2'-, -O- 가 바람직하고, R2' 는 수소 원자가 바람직하다. 그 중에서도 -S-, -O-, -NH- 가 특히 바람직하다.
식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-23) 중에서도, 식 (Ar-6) 및 식 (Ar-7) 이 분자의 안정성의 관점에서 바람직하다.
식 (Ar-17) ∼ 식 (Ar-23) 에 있어서, Y1 은, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0 과 함께, 방향족 복소 고리기를 형성하고 있어도 된다. 방향족 복소 고리기로는, Ar 이 가지고 있어도 되는 방향족 복소 고리로서 상기한 것을 들 수 있지만, 예를 들어, 피롤 고리, 이미다졸 고리, 피롤린 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리미딘 고리, 인돌 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 푸린 고리, 피롤리딘 고리 등을 들 수 있다. 이 방향족 복소 고리기는, 치환기를 가지고 있어도 된다. 또, Y1 은, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0 과 함께, 전술한 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기여도 된다. 예를 들어, 벤조푸란 고리, 벤조티아졸 고리, 벤조옥사졸 고리 등을 들 수 있다. 또한, 상기 식 (II) 로 나타내는 화합물은, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2010-31223호에 기재된 방법에 준해 제조할 수 있다.
위상차 필름을 구성하는 중합성 액정 조성물 (B) 중의 중합성 액정 화합물 (B) 의 함유량은, 중합성 액정 조성물 (B) 의 고형분 100 질량부에 대해, 예를 들어 70 ∼ 99.5 질량부이며, 바람직하게는 80 ∼ 99 질량부이며, 보다 바람직하게는 90 ∼ 98 질량부이다. 함유량이 상기 범위 내이면, 위상차 필름의 배향성이 높아지는 경향이 있다. 여기서, 고형분이란, 중합성 액정 조성물 (B) 로부터 용제 등의 휘발성 성분을 제외한 성분의 합계량을 말한다.
중합성 액정 조성물 (B) 는, 중합성 액정 화합물 (B) 의 중합 반응을 개시하기 위한 중합 개시제를 포함하고 있어도 된다. 중합 개시제로는, 당해 분야에서 종래 이용되고 있는 것에서 적절히 선택하여 사용할 수 있고, 열 중합 개시제여도 되고, 광 중합 개시제여도 되지만, 보다 저온 조건하에서 중합 반응을 개시할 수 있는 점에서, 광 중합 개시제가 바람직하다. 바람직하게는, 본 발명의 중합성 액정 조성물에 있어서 사용할 수 있는 광 중합 개시제로서 앞서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다. 또, 중합성 액정 조성물 (B) 는, 필요에 따라, 광 증감제, 레벨링제, 및, 본 발명의 중합성 액정 조성물에 포함되는 첨가제로서 예시한 첨가제 등을 함유해도 된다. 광 증감제 및 레벨링제로는, 본 발명의 중합성 액정 조성물에 있어서 사용할 수 있는 것으로서 앞서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
위상차 필름은, 예를 들어, 중합성 액정 화합물 (B) 및 필요에 따라 중합 개시제, 첨가제 등을 포함하는 중합성 액정 조성물 (B) 에 용제를 첨가하여 혼합 및 교반함으로써 조제되는 조성물 (이하, 「위상차 필름 형성용 조성물」이라고도 한다) 을, 기재 또는 배향막 상에 도포하고, 건조에 의해 용제를 제거하고, 얻어진 도막 중의 중합성 액정 화합물 (B) 를 가열 및/또는 활성 에너지선에 의해 경화시켜 얻을 수 있다. 위상차 필름의 제작에 사용되는 기재 및/또는 배향막으로는, 본 발명의 편광막을 제작할 때에 사용할 수 있는 것으로서 앞서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
위상차 필름 형성용 조성물에 사용하는 용제, 위상차 필름 형성용 조성물의 도포 방법, 활성 에너지선에 의한 경화 조건 등은, 모두, 본 발명의 편광막의 제작 방법에 있어서 채용할 수 있는 것과 동일한 것을 들 수 있다.
위상차 필름의 두께는, 적용되는 표시 장치에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 박막화 및 굴곡성 등의 관점에서, 0.1 ∼ 10 ㎛ 인 것이 바람직하고, 1 ∼ 5 ㎛ 인 것이 보다 바람직하고, 1 ∼ 3 ㎛ 인 것이 더욱 바람직하다.
본 발명의 편광판은 본 발명의 편광막 또는 편광 필름과 위상차 필름을 구비하여 이루어지고, 바람직하게는 기재와, 배향막 (특히 광 배향막) 과, 본 발명의 편광막과, 위상차 필름을 구비하여 이루어진다. 또한 이들 이외의 다른 층 (보호 필름, 점접착제층 등) 을 포함하고 있어도 된다. 본 발명의 편광판에 있어서, 본 발명의 편광막 또는 편광 필름과 위상차 필름은 접착제층 또는 점착제층을 개재하여 첩합되어 있어도 되고, 위상차 필름 형성용 조성물을 본 발명의 편광막 또는 편광 필름에 직접 도포함으로써, 위상차 필름이 본 발명의 편광막 또는 편광 필름 상에 직접 형성되어 있어도 된다.
본 발명의 편광판의 두께는, 표시 장치의 굴곡성이나 시인성의 관점에서, 바람직하게는 10 ∼ 300 ㎛, 보다 바람직하게는 20 ∼ 200 ㎛, 더욱 바람직하게는 25 ∼ 100 ㎛ 이다.
＜표시 장치＞
본 발명은, 본 발명의 편광막 혹은 본 발명의 편광 필름, 또는, 본 발명의 편광판을 구비하여 이루어지는 표시 장치를 포함한다. 본 발명의 표시 장치는, 예를 들어, 점접착제층을 개재하여 본 발명의 편광막, 편광 필름 또는 편광판을 표시 장치의 표면에 첩합함으로써 얻을 수 있다. 표시 장치란, 표시 기구를 갖는 장치이며, 발광원으로서 발광 소자 또는 발광 장치를 포함한다. 표시 장치로는, 액정 표시 장치, 유기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치, 무기 일렉트로 루미네선스 (EL) 표시 장치, 터치 패널 표시 장치, 전자 방출 표시 장치 (전장 방출 표시 장치 (FED 등), 표면 전계 방출 표시 장치 (SED)), 전자 페이퍼 (전자 잉크나 전기 영동 소자를 사용한 표시 장치), 플라즈마 표시 장치, 투사형 표시 장치 (그레이팅 라이트 밸브 (GLV) 표시 장치, 디지털 마이크로 미러 디바이스 (DMD) 를 갖는 표시 장치 등) 및 압전 세라믹 디스플레이 등을 들 수 있다. 액정 표시 장치는, 투과형 액정 표시 장치, 반투과형 액정 표시 장치, 반사형 액정 표시 장치, 직시형 액정 표시 장치 및 투사형 액정 표시 장치 등의 어느 것도 포함한다. 이들 표시 장치는, 2 차원 화상을 표시하는 표시 장치여도 되고, 3 차원 화상을 표시하는 입체 표시 장치여도 된다. 특히, 본 발명의 표시 장치로는, 유기 EL 표시 장치 및 터치 패널 표시 장치가 바람직하고, 특히 유기 EL 표시 장치가 바람직하다.
실시예
＜편광막 형성용 조성물의 조제＞
하기 성분을 혼합하여, 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 편광막 형성용 조성물 (1) 을 얻었다. 이색성 색소에는, 일본 공개특허공보 2013-101328호의 실시예에 기재된 아조 색소를 사용하였다.
·중합성 액정 화합물 :
[화학식 30]
[화학식 31]
·이색성 색소 :
아조 색소 ;
[화학식 32]
[화학식 33]
[화학식 34]
·레벨링제 :
폴리아크릴레이트 화합물 (BYK-361N ; BYK-Chemie 사 제조) 1.2 부
·용제 :
o-크실렌 400 부
상기 편광막 형성용 조성물 (1) 에, 광 중합 개시제로서 표 1 에 기재된 화합물을 표 2 에 나타낸 양으로 혼합한 것 이외에는 편광막 형성용 조성물 (1) 과 동일하게 하여, 편광막 형성용 조성물 (2) ∼ (13) 을 얻었다. 표 2 중의 광 중합 개시제의 첨가량은, 편광막 형성용 조성물 (1) 중의 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대한 양을 나타낸다.
＜광 중합 개시제의 구조＞
실시예 및 비교예에 사용한 광 중합 개시제는 이하와 같다.
＜액정 상전이 온도 변화 T1 - T2 의 측정＞
(1) 배향막의 형성
유리 기재 상에, 폴리비닐알코올 (폴리비닐알코올 1000 완전 비누화형, 와코 순약 공업 주식회사 제조) 의 2 질량％ 수용액 (배향성 폴리머 조성물/배향막 형성용 조성물) 을 스핀 코트법에 의해 도포하고, 건조 후, 두께 100 nm 의 막을 형성하였다. 계속해서, 얻어진 막의 표면에 러빙 처리를 실시함으로써 배향막을 형성하였다. 러빙 처리는, 반자동 러빙 장치 (상품명 : LQ-008 형, 조요 공학 주식회사 제조) 를 사용하여, 포 (布) (상품명 : YA-20-RW, 요시카와 화공 주식회사 제조) 에 의해, 압입량 0.15 mm, 회전수 500 rpm, 16.7 mm/s 의 조건으로 실시하였다.
(2) T1 의 측정
중합성 액정 화합물로서 (A-6) 90 부, (A-7) 10 부, 및 o-크실렌 400 부를 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써 균일하게 혼합한 혼합 조성물을 얻었다. 얻어진 조성물을 상기 배향막 형성 유리 상에 스핀 코트법에 의해 도포하고, 130 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 3 분간 가열 건조하여 용제인 o-크실렌을 제거하였다. 그 후, 신속하게 실온까지 냉각하여, 중합성 액정 화합물의 건조 피막을 얻었다. 이 건조 피막을 핫 플레이트 상에서 재차 130 ℃ 까지 승온 후, 5 ℃/분의 속도로 23 ℃ 까지 강온 시에 있어서, 편광 현미경으로 관찰을 함으로써 상전이 온도를 측정하였다. 그 결과, 113.8 ℃ 에서 네마틱 액정상으로 상전이하고, 109.7 ℃ 에서 스멕틱 A 상으로 상전이하고, 92.8 ℃ 에서 스멕틱 B 상으로 상전이하고, 23 ℃ 가 될 때까지 스멕틱 B 상을 유지하는 것을 확인하였다. 상기 과정에 있어서 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상은 스멕틱 B 상이었던 점에서, T1 을 스멕틱 B 상으로의 상전이 온도인 92.8 ℃ 로 규정하였다.
(3) T2 의 측정
상기 혼합 조성물에 광 중합 개시제 A ∼ F 를, 각각, 중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해 5 질량부 첨가한 것 이외에는, 상기 (2) 에 있어서의 T1 의 측정과 완전히 동일한 방법에 의해 광 중합 개시제와 중합성 액정 화합물의 혼합물로 이루어지는 건조 피막을 얻었다. 상기 (2) 에 있어서의 T1 의 측정과 동일한 방법으로 상전이 온도를 측정한 결과, 모든 혼합물에 있어서 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상은 스멕틱 B 상이었다. 각 광 중합 개시제 함유 시의 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상으로의 상전이 온도 (T2) 를 표 3 에 기재하였다.
실시예 1
(1) 기재 상에의 광 배향막의 제작
(i) 광 배향막 형성용 조성물의 조제
일본 공개특허공보 2013-033249호에 기재된 하기 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 광 배향막 형성용 조성물을 얻었다.
·광 배향성 폴리머 :
[화학식 35]
·용제 :
o-크실렌 98 부
(ii) 광 배향막의 형성
기재로서 트리아세틸셀룰로오스 필름 (KC8UX2M, 코니카 미놀타 (주) 제조) 을 사용하고, 막 표면에 코로나 처리를 실시한 후에, 상기 광 배향막 형성용 조성물을 도포하여, 120 ℃ 에서 건조하여 건조 피막을 얻었다. 이 건조 피막 상에 편광 UV 를 조사하여 광 배향막을 형성하여, 광 배향막 형성 필름을 얻었다. 편광 UV 처리는, UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 파장 365 nm 로 측정한 강도가 100 mJ 인 조건으로 실시하였다.
(2) 편광막의 제작
상기와 같이 하여 얻은 광 배향막 형성 필름 상에, 편광막 형성용 조성물 (2) 를 바 코트법 (＃9 30 mm/s) 에 의해 도포하고, 120 ℃ 의 건조 오븐에서 1 분간 가열 건조함으로써 중합성 액정 화합물을 액체상으로 상전이시킨 후, 실온까지 냉각하여 그 중합성 액정 화합물을 스멕틱 액정 상태로 상전이시켰다. 이어서, UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7 ; 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 노광량 1000 mJ/㎠ (365 nm 기준) 의 자외선을, 편광막 형성용 조성물로 형성된 층에 조사함으로써, 그 건조 피막에 포함된 중합성 액정 화합물을, 상기 중합성 액정 화합물의 스멕틱 액정 상태를 유지한 채 중합시켜, 그 건조 피막으로부터 편광막을 형성하였다. 이때의 편광막의 막두께를 레이저 현미경 (올림푸스 주식회사 제조 OLS3000) 에 의해 측정한 바, 2.3 ㎛ 였다. 이렇게 하여 얻어진 것은, 편광막과 기재를 포함하는 편광자이다.
이 편광막에 대해, X 선 회절 장치 X' Pert PRO MPD (스펙트리스 주식회사 제조) 를 사용하여 편광막의 흡수축 방향으로부터 X 선을 조사하여 X 선 회절 측정을 실시한 결과, 2θ = 20.2°부근에 피크 반치폭 (FWHM) = 약 0.17°의 샤프한 회절 피크 (브래그 피크) 가 얻어졌다. 또, 편광막의 투과축 방향으로부터 X 선을 조사하여 동일하게 X 선 회절 측정을 실시한 바, 동일한 샤프한 회절 피크 (브래그 피크) 가 얻어지고, 그 피크 위치로부터 구한 질서 주기 (d) 는 약 4.4 Å 이며, 고차 스멕틱상을 반영한 구조를 형성하는 것을 확인하였다.
(3) 편광막 적층체의 제작
또한 상기와 동일하게 하여 얻어진 편광자의 편광막 표면에 코로나 처리를 실시한 후, 코로나 처리를 실시한 표면에, 물 100 부에 카르복실기 변성 폴리비닐알코올〔(주) 쿠라레 제조 「쿠라레 포발 KL318」〕7 부와, 열가교제로서 수용성 폴리아미드에폭시 수지〔스미카 켐텍스 (주) 로부터 입수한 「스미레즈 레진 650」(고형분 농도 30 질량％ 의 수용액)〕 3.5 부를 첨가한 수용액 (점도 : 92 cP) 을 와이어 바 코터 (＃30) 로 도포하였다. 80 ℃ 에서 5 분간 건조함으로써, 상기 수용액을 건조시켜 보호층을 형성하여, 보호층 형성 편광자를 제조하였다. 또한, 보호층 상에, 감압식 점착제 (린텍 주식회사 제조, 막두께 25 ㎛) 로 형성되는 점착층을 개재하여, 유리 (코닝사 제조, EagleXG) 를 첩합하여 실시예 1 의 편광막 적층체를 얻었다.
편광막 형성용 조성물 (2) 대신에, 표 2 에 나타낸 편광막 형성용 조성물 (3) ∼ (13) 을 각각 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로, 실시예 2 ∼ 8 및 비교예 1 ∼ 4 의 편광막 적층체를 얻었다.
＜흡수축 방향 흡광도/투과축 방향 흡광도의 측정＞
이하와 같이 하여, 자외선 조사 전의 편광막 형성용 조성물의 건조 피막 (중합 전) 및 편광막 적층체 (중합 후) 의 흡수축 방향 흡광도 (MD) 및 투과축 방향 흡광도 (TD) 를 각각 측정하고, 표 4 에 기재하였다. 파장 550 nm 의 범위에서 흡수축 방향의 흡광도 (MD) 및 투과축 방향의 흡광도 (TD) 를, 분광 광도계 (시마즈 제작소 주식회사 제조 UV-3150) 에 편광자 부착 폴더를 세트한 장치를 사용하여 더블 빔법으로 측정하였다. 그 폴더는, 레퍼런스 측은 광량을 50 ％ 컷하는 메시를 설치하였다. 이색비 DR 은 하기 (식 2) 에 근거하여 산출하였다.
DR = MD/TD (식 2)
본 발명의 중합성 액정 조성물 (편광막 형성용 조성물) 로 제작된 편광막 (실시예 1 ∼ 8) 은, 중합 전후에 있어서의 이색비 DR 의 변화가 작고, 또한 중합 후의 이색비 DR 이 우수한 것이 확인되었다.
Claims (15)
- 적어도 1 개의 중합성기를 갖고, 스멕틱 액정성을 나타내는 중합성 액정 화합물, 이색성 색소 및 광 중합 개시제를 포함하여 이루어지는 중합성 액정 조성물로서, 상기 광 중합 개시제가, 상기 중합성 액정 화합물과의 관계에 있어서 식 (1) :
0 ℃ ≤ T1 - T2 ≤ 12.0 ℃ (1)
〔식 중, T1 은 상기 중합성 액정 화합물을 대기 중에서 130 ℃ 까지 승온시킨 후, 5 ℃/분으로 23 ℃ 까지 냉각하면서 상전이 온도를 측정했을 때에 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상으로의 상전이 온도이며, T2 는 100 질량부의 상기 중합성 액정 화합물과 5 질량부의 상기 광 중합 개시제로 이루어지는 혼합물을, 대기 중에서 130 ℃ 까지 승온시킨 후 5 ℃/분으로 23 ℃ 까지 냉각하면서 상전이 온도를 측정했을 때에 가장 저온도 측에서 발현하는 액정상으로의 상전이 온도이다〕
을 만족하는, 중합성 액정 조성물. - 제 1 항에 있어서,
추가로 용제를 포함하는, 중합성 액정 조성물. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
중합성 액정 화합물이 갖는 중합성기가 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기인, 중합성 액정 조성물. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
이색성 색소가 아조 색소인, 중합성 액정 조성물. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
광 중합 개시제의 중량 평균 분자량이 500 이상 2000 이하인, 중합성 액정 조성물. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
중합성 액정 화합물 100 질량부에 대해 1 ∼ 10 질량부의 광 중합 개시제를 포함하는, 중합성 액정 조성물. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 액정 조성물의 경화물인 편광막으로서, X 선 회절 측정에 있어서 브래그 피크를 나타내는 편광막.
- 제 7 항에 있어서,
두께가 0.1 ∼ 5 ㎛ 인, 편광막. - 제 7 항 또는 제 8 항에 기재된 편광막과 투명 필름을 구비하여 이루어지는 편광 필름.
- 제 7 항 또는 제 8 항에 기재된 편광막 또는 제 9 항에 기재된 편광 필름과 위상차 필름을 구비하여 이루어지는 편광판.
- 제 10 항에 있어서,
위상차 필름이 식 (X) :
100 ≤ Re(550) ≤ 180 (X)
〔식 중, Re(550) 은 파장 550 nm 에 있어서의 면내 위상차값을 나타낸다〕
를 만족하고, 상기 위상차 필름의 지상축과 상기 편광막의 흡수축이 이루는 각도가 실질적으로 45°인, 편광판. - 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
위상차 필름이 식 (Y) :
Re(450)/Re(550) ＜ 1 (Y)
〔식 중, Re(450) 및 Re(550) 은, 각각, 파장 450 nm 및 550 nm 에 있어서의 면내 위상차값을 나타낸다〕
를 만족하는, 편광판. - 제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
위상차 필름이, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 구성되는, 편광판. - 제 9 항에 기재된 편광 필름, 또는, 제 10 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 편광판을 구비하여 이루어지는 표시 장치.
- 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 액정 조성물의 도막을 형성하는 것,
상기 도막으로부터 용제를 제거하는 것,
중합성 액정 화합물이 액체상으로 상전이하는 온도 이상까지 승온한 후 강온하여, 그 중합성 액정 화합물을 스멕틱상으로 상전이시키는 것, 및,
상기 스멕틱상을 유지한 채 중합성 액정 화합물을 중합시키는 것
을 포함하는, 편광막의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2018-077638 | 2018-04-13 | ||
| JP2018077638 | 2018-04-13 | ||
| PCT/JP2019/015408 WO2019198697A1 (ja) | 2018-04-13 | 2019-04-09 | 重合性液晶組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20200142503A true KR20200142503A (ko) | 2020-12-22 |
Family
ID=68164119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020207028075A KR20200142503A (ko) | 2018-04-13 | 2019-04-09 | 중합성 액정 조성물 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7339014B2 (ko) |
| KR (1) | KR20200142503A (ko) |
| CN (2) | CN116891753A (ko) |
| TW (1) | TWI816775B (ko) |
| WO (1) | WO2019198697A1 (ko) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007510946A (ja) | 2003-11-06 | 2007-04-26 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 配向した重合体の膜を含む二色性のゲスト−ホスト偏光子 |
| JP2013210624A (ja) | 2012-02-28 | 2013-10-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光膜、円偏光板及びそれらの製造方法 |
| JP2016186075A (ja) | 2010-09-14 | 2016-10-27 | 住友化学株式会社 | 重合性液晶組成物及び光学フィルム |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101841772B1 (ko) * | 2010-12-14 | 2018-05-04 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 편광 필름의 제조 방법 |
| KR101945053B1 (ko) * | 2011-07-07 | 2019-02-01 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 광반응성 액정 배향제, 및 액정 배향 소자 및 그의 제조 방법 |
| KR102073987B1 (ko) * | 2012-02-28 | 2020-02-05 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 화합물 및 이색성 색소, 및 편광막 |
| CN103901725B (zh) * | 2014-04-19 | 2017-07-28 | 长兴电子（苏州）有限公司 | 一种光固化树脂组合物 |
| KR102550872B1 (ko) * | 2015-07-24 | 2023-07-03 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 액정 경화막, 액정 경화막을 포함하는 광학 필름, 및 표시 장치 |
| KR102652054B1 (ko) * | 2016-07-21 | 2024-03-27 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 타원 편광판 |
-
2019
- 2019-04-08 JP JP2019073569A patent/JP7339014B2/ja active Active
- 2019-04-09 WO PCT/JP2019/015408 patent/WO2019198697A1/ja active Application Filing
- 2019-04-09 KR KR1020207028075A patent/KR20200142503A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-04-09 CN CN202310845393.5A patent/CN116891753A/zh active Pending
- 2019-04-09 CN CN201980024677.XA patent/CN111971597B/zh active Active
- 2019-04-11 TW TW108112698A patent/TWI816775B/zh active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007510946A (ja) | 2003-11-06 | 2007-04-26 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 配向した重合体の膜を含む二色性のゲスト−ホスト偏光子 |
| JP2016186075A (ja) | 2010-09-14 | 2016-10-27 | 住友化学株式会社 | 重合性液晶組成物及び光学フィルム |
| JP2013210624A (ja) | 2012-02-28 | 2013-10-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光膜、円偏光板及びそれらの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2019185044A (ja) | 2019-10-24 |
| CN111971597A (zh) | 2020-11-20 |
| WO2019198697A1 (ja) | 2019-10-17 |
| TW201945522A (zh) | 2019-12-01 |
| CN111971597B (zh) | 2023-08-01 |
| CN116891753A (zh) | 2023-10-17 |
| TWI816775B (zh) | 2023-10-01 |
| JP7339014B2 (ja) | 2023-09-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6268730B2 (ja) | 円偏光板及びその製造方法 | |
| CN113302528B (zh) | 圆偏光板及使用其的有机el显示装置 | |
| JP2023143910A (ja) | 重合性液晶組成物、偏光膜およびその製造方法、偏光板ならびに表示装置 | |
| JP2023165718A (ja) | 偏光フィルムおよびその製造方法、偏光板ならびに表示装置 | |
| JP7441005B2 (ja) | 偏光膜形成用組成物、偏光膜、偏光板およびその製造方法 | |
| JP7339014B2 (ja) | 重合性液晶組成物 | |
| WO2022163398A1 (ja) | 重合性液晶組成物、偏光膜、偏光フィルム、円偏光板ならびに表示装置 | |
| KR20210080230A (ko) | 중합성 액정 조성물, 편광막, 편광 필름 및 편광판 | |
| KR20200115544A (ko) | 편광막 형성용 조성물 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal |