KR20200122728A - Apparatus for processing film - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a film processing device which comprises: a controller; a transfer unit transferring a multilayer film connector formed by connecting a first multilayer film and a second multilayer film using a connecting member fixed over one end of the first multilayer film and one end of the second multilayer film facing one end of the first multilayer film along a predetermined transfer direction; and a bubble removing unit configured to form a bubble removing pattern for guiding bubbles penetrating inside the multilayer film connector to the outside by emitting a laser beam to a predetermined bubble removing area of the multilayer film connector. Accordingly, the quality of products manufactured using multilayer films and multilayer films can be improved.

Description

필름 가공 장치{APPARATUS FOR PROCESSING FILM}Film processing equipment {APPARATUS FOR PROCESSING FILM}

본 발명은 필름 가공 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a film processing apparatus.

일반적으로, 광학 필름, 편광 필름, 기타 다양한 필름들은, 공급롤로부터 권출시켜 공급한 필름에 대해 각종의 가공 공정을 진행한 후 회수롤에 권취시켜 회수하는 롤 투 롤(ROLL-to-ROLL) 방식을 통해 연속적으로 가공할 수 있다.In general, optical films, polarizing films, and other various films are roll-to-roll in which various processing processes are performed on the supplied film by unwinding it from a supply roll, and then wound on a recovery roll for recovery. Can be processed continuously through.

이러한 롤 투 롤 방식을 통해 필름을 연속적으로 가공하기 위해서는, 공급롤과 회수롤 사이에서 필름의 연결 상태가 유지되어야 한다. 이를 위하여, 현재 필름을 공급 계속 중인 어느 하나의 공급롤에 미리 권취된 필름(이하, '사용 필름'이라고 함)이 모두 소진되면, 사용 필름의 후단과 현재 공급 대기 중인 다른 하나의 공급롤에 미리 권취된 필름(이하, '대기 필름'이라고 함)의 선단에 걸쳐 테이프를 부착함으로써, 사용 필름과 대기 필름을 테이프로 연결할 수 있다. 이를 통해, 공급 대상인 필름을 사용 필름에서 대기 필름으로 교체함으로써, 공급롤과 회수롤 사이에서 필름의 연결 상태를 유지시킬 수 있다.In order to continuously process the film through such a roll-to-roll method, the connection state of the film must be maintained between the supply roll and the recovery roll. To this end, when the film (hereinafter referred to as'used film') that has been previously wound on any one supply roll that is currently being supplied with the film is exhausted, By attaching the tape over the tip of the wound film (hereinafter referred to as “atmospheric film”), the used film and the atmospheric film can be connected with a tape. Through this, it is possible to maintain the connection state of the film between the supply roll and the recovery roll by replacing the supply target film with the standby film from the used film.

그런데, 전술한 사용 필름과 대기 필름이 다수의 필름층들을 포함하는 다층 필름인 경우에, 사용 필름의 후단과 대기 필름의 선단에 걸쳐 테이프를 부착하는 과정에서, 사용 필름의 후단과 대기 필름의 선단을 통해 노출된 필름층들 사이의 계면에 기포가 침투될 수 있다. 이처럼 침투된 기포는, 필름층들 사이의 계면을 통해 사용 필름의 후단과 대기 필름의 선단으로부터 멀리 이격된 지점을 향해 점진적으로 이동된다. 따라서, 종래에는 테이프의 부착 과정에서 필름층들 사이의 계면에 침투된 기포에 의해 불량이 빈번하게 야기됨으로써, 롤 투 롤 방식을 통해 가공한 다층 필름 및 이러한 다층 필름을 이용해 제조한 제품의 품질이 악화되는 문제점이 있었다.However, in the case where the use film and the atmosphere film described above are multilayer films including a plurality of film layers, in the process of attaching the tape across the rear end of the use film and the front end of the atmosphere film, Bubbles may penetrate into the interface between the film layers exposed through the film. The air bubbles thus penetrated are gradually moved toward a point separated from the rear end of the used film and the front end of the atmosphere film through the interface between the film layers. Therefore, conventionally, defects are frequently caused by air bubbles penetrating the interface between the film layers in the process of attaching the tape, so that the multilayer film processed through the roll-to-roll method and the quality of the product manufactured using the multilayer film are poor. There was an aggravating problem.

본 발명은, 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 다층 필름들을 연결하는 과정에서 필름층들 사이의 계면에 침투된 기포를 외부로 배출시켜 제거할 수 있도록 구조를 개선한 필름 가공 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the problems of the prior art described above, in the process of connecting multilayer films, a film processing apparatus having an improved structure to discharge and remove air bubbles penetrating the interface between the film layers to the outside. It has its purpose to provide.

나아가, 본 발명은, 기포의 제거 과정에서 발생하는 다층 필름의 스크랩을 최소화할 수 있도록 구조를 개선한 필름 가공 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.Further, an object of the present invention is to provide a film processing apparatus having an improved structure so as to minimize scrap of a multilayer film generated in the process of removing air bubbles.

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치는, 제어기; 제1 다층 필름의 일단 및 상기 제1 다층 필름의 일단과 대향하는 제2 다층 필름의 일단에 걸쳐 고정된 연결 부재에 의해 상기 제1 다층 필름과 상기 제2 다층 필름이 연결되어 형성된 다층 필름 연결체를 미리 정해진 이송 방향을 따라 이송하는 이송 유닛; 및 상기 다층 필름 연결체의 미리 정해진 기포 제거 영역에 레이저빔을 조사하여, 상기 다층 필름 연결체의 내부에 침투된 기포를 외부로 안내하는 기포 제거 패턴을 형성하는 기포 제거 유닛;을 포함한다.Film processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention, the controller; A multilayer film connector formed by connecting the first multilayer film and the second multilayer film by a connecting member fixed over one end of the first multilayer film and one end of the second multilayer film opposite to one end of the first multilayer film A transfer unit that transfers the material along a predetermined transfer direction; And a bubble removing unit that irradiates a laser beam to a predetermined bubble removing area of the multilayer film connector to form a bubble removing pattern for guiding bubbles penetrating into the interior of the multilayer film connector to the outside.

바람직하게, 상기 기포 제거 유닛은, 상기 레이저빔의 광경로를 상기 이송 방향 및 상기 이송 방향의 수직 방향으로 변경 가능한 레이저 스캐너를 구비하고, 상기 제어기는, 상기 레이저빔의 광경로가 상기 다층 필름 연결체의 이송 상태에 맞춰 선택적으로 조절되도록 상기 레이저 스캐너를 제어하여, 상기 기포 제거 패턴을 상기 수직 방향으로 연장 형성시킨다.Preferably, the bubble removing unit includes a laser scanner capable of changing the optical path of the laser beam in the transport direction and in a direction perpendicular to the transport direction, and the controller, wherein the optical path of the laser beam is connected to the multilayer film By controlling the laser scanner so as to be selectively adjusted according to the conveying state of the sieve, the bubble removing pattern is formed to extend in the vertical direction.

바람직하게, 상기 연결 부재는, 상기 제1 다층 필름의 후단 및 상기 제2 다층 필름의 선에 걸쳐 부착된 테이프이다.Preferably, the connecting member is a tape attached over the rear end of the first multilayer film and the line of the second multilayer film.

바람직하게, 상기 테이프를 감지하는 감지 유닛을 더 포함하고, 상기 제어기는, 상기 감지 유닛으로부터 전달된 테이프 감지 신호를 기준으로 상기 테이프의 부착 위치를 특정한다.Preferably, it further comprises a detection unit for detecting the tape, the controller, based on the tape detection signal transmitted from the detection unit specifies the attachment position of the tape.

바람직하게, 상기 제1 다층 필름의 후단으로부터 상기 이송 방향으로 미리 정해진 제1 기준 거리만큼 이격된 제1 기포 제거 영역; 및 상기 제2 다층 필름의 선단으로부터 상기 이송 방향의 반대 방향으로 미리 정해진 제2 기준 거리만큼 이격된 제2 기포 제거 영역을 갖고, 상기 제어기는 상기 테이프의 부착 위치를 기준으로 상기 제1 기포 제거 영역의 위치 및 상기 제2 기포 제거 영역의 위치를 특정한다.Preferably, a first bubble removing region spaced apart from the rear end of the first multilayer film by a first reference distance predetermined in the transport direction; And a second bubble removing area spaced apart from the front end of the second multilayer film by a predetermined second reference distance in a direction opposite to the conveying direction, wherein the controller comprises the first bubble removing area based on the attachment position of the tape. The position of and the position of the second bubble removal region are specified.

바람직하게, 상기 기포 제거 패턴은, 상기 다층 필름 연결체가 포함하는 다수의 필름층들 중 일부의 필름층의 상기 기포 제거 영역이 상기 레이저빔에 의해 선택적으로 레이저 절단되어 요입 형성된 기포 제거 그루브를 구비한다.Preferably, the bubble removing pattern includes a bubble removing groove formed by selectively laser cutting the bubble removing region of some of the film layers among the plurality of film layers included in the multilayer film connector by the laser beam. .

바람직하게, 상기 제1 다층 필름 및 상기 제2 다층 필름은 각각, 베이스 필름층과, 베이스 필름층에 적층된 점착 필름층과, 점착 필름층에 적층된 보호 필름층을 적어도 포함하며, 상기 기포 제거 그루브는 상기 보호 필름층이 선택적으로 레이저 절단되어 요입 형성된다.Preferably, the first multilayer film and the second multilayer film each include at least a base film layer, an adhesive film layer laminated on the base film layer, and a protective film layer laminated on the adhesive film layer, wherein the air bubbles are removed The groove is formed by selectively laser cutting the protective film layer.

바람직하게, 상기 기포 제거 패턴은, 상기 기포 제거 영역이 상기 레이저빔에 의해 미리 정해진 기준 길이만큼씩 레이저 절단되어 각각 천공된 적어도 하나의 기포 제거 슬릿들을 구비한다.Preferably, the bubble removal pattern includes at least one bubble removal slit each of which the bubble removal region is laser cut by a predetermined reference length by the laser beam, and is respectively perforated.

바람직하게, 상기 기포 제거 슬릿들은 점선 형태를 이루도록 미리 정해진 제1 기준 간격을 두고 천공된다.Preferably, the bubble removing slits are perforated at a predetermined first reference interval to form a dotted line.

바람직하게, 상기 기포 제거 슬릿들은, 미리 정해진 제1 절단 예정선을 따라 천공되는 제1 기포 제거 슬릿들; 및 상기 제1 절단 예정선에 비해 상기 이송 방향 또는 상기 이송 방향의 반대 방향으로 이격되도록 미리 정해진 제2 절단 예정선을 따라 천공되는 제2 기포 제거 슬릿들을 구비한다.Preferably, the bubble removing slits include: first bubble removing slits perforated along a predetermined first cutting line; And second bubble removing slits that are perforated along a second predetermined cutting line so as to be spaced apart from the first cutting line in a direction opposite to the transfer direction or the transfer direction.

바람직하게, 상기 제1 기포 제거 슬릿들과 상기 제2 기포 제거 슬릿들은 상기 이송 방향의 수직 방향으로 미리 정해진 제2 기준 간격만큼 서로 엇갈리게 배치되도록 천공된다.Preferably, the first bubble removal slits and the second bubble removal slits are perforated so as to be staggered with each other by a predetermined second reference interval in a direction perpendicular to the transport direction.

바람직하게, 상기 제1 기준 간격은 상기 기준 길이에 비해 작고, 상기 제2 기준 간격은 상기 기준 길이에 비해 작고 상기 제1 기준 간격에 비해 크다.Preferably, the first reference interval is smaller than the reference length, and the second reference interval is smaller than the reference length and larger than the first reference interval.

상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 다른 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치는, 제어기; 베이스 필름에 적층된 점착 필름층에 보호 필름층이 적층되어 형성된 다층 필름을 미리 정해진 이송 방향을 따라 이송하는 이송 유닛; 및 상기 다층 필름의 미리 정해진 기포 제거 영역에 레이저빔을 조사하여, 상기 다층 필름의 내부에 침투된 기포를 외부로 안내하는 기포 제거 패턴을 형성하는 기포 제거 유닛;을 포함한다.Film processing apparatus according to another preferred embodiment of the present invention for solving the above-described problem, the controller; A transport unit for transporting the multilayer film formed by stacking the protective film layer on the adhesive film layer laminated on the base film along a predetermined transport direction; And a bubble removing unit configured to form a bubble removing pattern for guiding bubbles penetrating into the interior of the multilayer film to the outside by irradiating a laser beam to a predetermined bubble removing area of the multilayer film.

바람직하게, 상기 기포 제거 영역은 상기 보호 필름층의 적층 시작점으로부터 미리 정해진 제1 기준 거리만큼 이격되도록 정해진다.Preferably, the bubble removal region is determined to be spaced apart from a starting point of the protective film layer by a predetermined first reference distance.

바람직하게, 상기 기포 제거 유닛은, 레이저빔의 조사 경로를 상기 이송 방향 및 상기 이송 방향의 수직 방향으로 변경 가능한 레이저 스캐너를 구비하고, 상기 제어기는, 상기 레이저빔의 조사 경로가 상기 다층 필름의 이송 상태에 맞춰 선택적으로 조절되도록 상기 레이저 스캐너를 제어하여, 상기 기포 제거 패턴을 상기 수직 방향으로 연장 형성시킨다.Preferably, the bubble removing unit includes a laser scanner capable of changing an irradiation path of a laser beam in a direction perpendicular to the transfer direction and the transfer direction, and the controller, wherein the irradiation path of the laser beam transfers the multilayer film By controlling the laser scanner to be selectively adjusted according to a state, the bubble removing pattern is formed to extend in the vertical direction.

바람직하게, 상기 기포 제거 패턴은, 상기 기포 제거 영역이 상기 레이저빔에 의해 미리 정해진 기준 길이만큼씩 레이저 절단되어 각각 천공된 적어도 하나의 기포 제거 슬릿들을 구비한다.Preferably, the bubble removal pattern includes at least one bubble removal slit each of which the bubble removal region is laser cut by a predetermined reference length by the laser beam, and is respectively perforated.

바람직하게, 상기 기포 제거 슬릿들은 점선 형태를 이루도록 미리 정해진 제1 기준 간격을 두고 천공된다.Preferably, the bubble removing slits are perforated at a predetermined first reference interval to form a dotted line.

바람직하게, 상기 기포 제거 슬릿들은, 상기 보호 필름층의 적층 시작점으로부터 미리 정해진 제2 기준 거리만큼 이격된 제1 절단 예정선을 따라 천공되는 제1 기포 제거 슬릿들; 및 상기 제1 절단 예정선에 비해 미리 정해진 제3 기준 거리만큼 이격된 미리 정해진 제2 절단 예정선을 따라 천공되는 제2 기포 제거 슬릿들을 구비한다.Preferably, the bubble removing slits include: first bubble removing slits which are perforated along a first cutting plan line spaced apart from a stacking start point of the protective film layer by a predetermined second reference distance; And second bubble removing slits that are perforated along a second predetermined cutting line that is spaced apart from the first predetermined cutting line by a predetermined third reference distance.

바람직하게, 상기 제1 기포 제거 슬릿들과 상기 제2 기포 제거 슬릿들은 상기 이송 방향의 수직 방향으로 미리 정해진 제2 기준 간격만큼 서로 엇갈리게 배치되도록 천공된다.Preferably, the first bubble removal slits and the second bubble removal slits are perforated so as to be staggered with each other by a predetermined second reference interval in a direction perpendicular to the transport direction.

바람직하게, 상기 제1 기준 간격은 상기 기준 길이에 비해 작고, 상기 제2 기준 간격은 상기 기준 길이에 비해 작고 상기 제1 기준 간격에 비해 크다.Preferably, the first reference interval is smaller than the reference length, and the second reference interval is smaller than the reference length and larger than the first reference interval.

바람직하게, 보호 필름층을 상기 점착 필름층에 상기 보호 필름층의 적층 시작점에서 적층 종료점까지 상기 이송 방향을 따라 순차적으로 점착시켜 적층하는 적층 유닛을 더 포함하고, 상기 제1 절단 예정선은, 상기 적층 시작점으로부터 상기 이송 방향의 반대 방향으로 상기 제2 기준 거리만큼 이격되도록 정해지고, 상기 제2 절단 예정선은, 상기 제1 절단 예정선으로부터 상기 이송 방향의 반대 방향으로 상기 제3 기준 거리만큼 이격되도록 정해진다.Preferably, the protective film layer further comprises a lamination unit that sequentially adheres and laminates the protective film layer from the lamination start point to the lamination end point of the protective film layer along the transport direction, and the first cut line is, It is determined to be spaced apart from the stacking start point by the second reference distance in a direction opposite to the transfer direction, and the second cutting scheduled line is spaced apart from the first cutting scheduled line by the third reference distance in a direction opposite to the transfer direction It is decided as much as possible.

본 발명은, 필름 가공 장치에 관한 것으로서, 다음과 같은 효과를 갖는다.The present invention relates to a film processing apparatus, and has the following effects.

첫째, 본 발명은, 레이저빔을 이용해 다층 필름의 미리 정해진 기포 제거 영역을 선택적으로 레이저 절단하여 다층 필름의 내부에 침투된 기포를 외부로 안내하여 제거 가능한 기포 제거 패턴을 형성하므로, 기포에 의해 다층 필름에 불량이 야기되는 것을 방지하여 다층 필름 및 다층 필름을 이용해 제조한 제품의 품질을 향상시킬 수 있다.First, the present invention forms a bubble removal pattern that can be removed by selectively laser cutting a predetermined bubble removal area of a multilayer film using a laser beam to guide bubbles that have penetrated into the interior of the multilayer film to the outside. It is possible to improve the quality of a multilayer film and a product manufactured using the multilayer film by preventing defects in the film.

둘째, 본 발명은, 레이저빔을 이용해 다층 필름의 미리 정해진 기포 제거 영역에 기포 제거 슬릿들을 점선 형태로 천공하여 보호 필름층과 점착 필름층 사이의 계면에 침투된 기포뿐만 아니라 다른 필름층들 사이의 계면에 침투된 기포를 외부로 안내하여 제거할 수 있으므로, 기포에 의해 다층 필름에 불량이 야기되는 것을 더욱 효과를 적으로 방지하여 다층 필름 및 다층 필름을 이용해 제조한 제품의 품질을 더욱 향상시킬 수 있다.Second, the present invention uses a laser beam to perforate the bubble removal slits in a dotted line shape in a predetermined bubble removal area of the multilayer film, so that not only bubbles penetrated into the interface between the protective film layer and the adhesive film layer, but also between other film layers. Since air bubbles that have penetrated the interface can be guided to the outside and removed, it is possible to further improve the quality of products manufactured using multi-layer films and multi-layer films by preventing the occurrence of defects in the multi-layer film by air bubbles. have.

셋째, 본 발명은, 기포 제거 슬릿들을 2행을 이루도록 천공하되 서로 다른 행의 기포 제거 슬릿들이 다층 필름들의 이송 방향의 수직 방향으로 서로 엇갈리게 배치되도록 천공함으로써, 기포 제거 슬릿들 사이의 간격을 통해 기포가 확산되는 것을 효과적으로 방지하여 다층 필름 및 다층 필름을 이용해 제조한 제품의 품질을 더욱 향상시킬 수 있다.Third, in the present invention, the bubble removal slits are perforated to form two rows, but the bubble removal slits of different rows are perforated to be staggered with each other in the direction perpendicular to the transport direction of the multilayer films, thereby allowing air bubbles through the gap between the bubble removal slits. It can effectively prevent the diffusion of the multilayer film and further improve the quality of the product manufactured using the multilayer film.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치의 개략적인 구성을 나타내는 개념도.
도 2는 다층 필름들의 다층 구조를 나타내는 단면도.
도 3은 다층 필름들이 테이프에 의해 연결된 상태를 나타내는 다층 필름 연결체의 평면도.
도 4는 기포 제거 유닛을 나타내는 평면도.
도 5는 기포 제거 유닛의 갈바노미러를 나타내는 사시도.
도 6은 기포 제거 그루브가 요입 형성된 상태를 나타내는 다층 필름 연결체의 평면도.
도 7은 기포 제거 그루브가 요입 형성된 상태를 나타내는 다층 필름 연결체의 단면도.
도 8은 기포 제거 슬릿이 천공된 상태를 나타내는 다층 필름 연결체의 평면도.
도 9는 기포 제거 슬릿이 천공된 상태를 나타내는 다층 필름 연결체의 단면도.
도 10은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치를 이용한 필름 가공 방법을 설명하기 위한 순서도.
도 11은 본 발명의 다른 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치의 개략적인 구성을 나타내는 개념도.
도 12는 다층 필름들의 다층 구조를 나타내는 단면도.
도 13은 기포 제거 슬릿이 형성된 상태를 나타내는 다층 필름의 평면도.
도 14는 기포 제거 슬릿이 형성된 상태를 나타내는 다층 필름의 단면도.
도 15는 본 발명은 다른 바림직한 실시예에 따른 필름 가공 장치를 이용한 필름 가공 방법을 설명하기 위한 순서도.
1 is a conceptual diagram showing a schematic configuration of a film processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing a multilayer structure of multilayer films.
3 is a plan view of a multilayer film connector showing a state in which the multilayer films are connected by a tape.
4 is a plan view showing a bubble removing unit.
5 is a perspective view showing a galvano mirror of the bubble removing unit.
6 is a plan view of a multilayer film connector showing a state in which a bubble removing groove is concave formed.
7 is a cross-sectional view of a multilayer film connector showing a state in which a bubble removing groove is concave formed.
8 is a plan view of a multilayer film connector showing a state in which a bubble removing slit is perforated.
9 is a cross-sectional view of a multilayer film connector showing a state in which a bubble removing slit is perforated.
10 is a flow chart for explaining a film processing method using a film processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
11 is a conceptual diagram showing a schematic configuration of a film processing apparatus according to another preferred embodiment of the present invention.
12 is a cross-sectional view showing a multilayer structure of multilayer films.
13 is a plan view of a multilayer film showing a state in which a bubble removing slit is formed.
14 is a cross-sectional view of a multilayer film showing a state in which a bubble removing slit is formed.
15 is a flow chart for explaining a film processing method using a film processing apparatus according to another preferred embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명의 실시예를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 실시예에 대한 이해를 방해한다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail through exemplary drawings. In adding reference numerals to elements of each drawing, it should be noted that the same elements are assigned the same numerals as possible even if they are indicated on different drawings. In addition, in describing an embodiment of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function obstructs an understanding of the embodiment of the present invention, a detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 실시예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 또한, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가진 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.In describing the constituent elements of the embodiments of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used. These terms are only used to distinguish the component from other components, and the nature, order, or order of the component is not limited by the term. In addition, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms such as those defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted as an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in this application. Does not.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치의 개략적인 구성을 나타내는 개념도이고, 도 2는 다층 필름의 다층 구조를 나타내는 단면도이다.1 is a conceptual diagram showing a schematic configuration of a film processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a multilayer structure of a multilayer film.

도 1을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치(1)는, 필름 가공 장치(1)에 포함된 각종 구성요소들을 제어하는 제어기(미도시)와, 제1 다층 필름(10)을 공급하는 제1 공급롤(110)과, 제2 다층 필름(20)을 공급하는 제2 공급롤(120)과, 제1 다층 필름(10) 및 제2 다층 필름(20)을 이송하는 이송 유닛(130)과, 연결 부재(미도시)를 이용해 제1 다층 필름(10) 및 제2 다층 필름(20)을 연결하여 다층 필름 연결체(30)를 형성하는 연결 유닛(140)과, 다층 필름들(10, 20)과 다층 필름 연결체(30)를 회수하는 회수롤(150)과, 연결 부재를 감지하는 감지 유닛(160)과, 다층 필름 연결체(30)에 침투된 기포(B)를 제거하는 기포 제거 유닛(170) 등을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, a film processing apparatus 1 according to a preferred embodiment of the present invention includes a controller (not shown) that controls various components included in the film processing apparatus 1, and a first multilayer film 10 ) Supplying the first supply roll 110, the second supply roll 120 supplying the second multilayer film 20, and the first multilayer film 10 and the second multilayer film 20 A connection unit 140 for forming a multilayer film connector 30 by connecting the transfer unit 130 and the first multilayer film 10 and the second multilayer film 20 using a connection member (not shown), A recovery roll 150 for recovering the multilayer films 10 and 20 and the multilayer film connector 30, a detection unit 160 for detecting a connection member, and air bubbles penetrated into the multilayer film connector 30 ( It may include a bubble removing unit 170 to remove B).

이러한 필름 가공 장치(1)를 이용해 가공 가능한 다층 필름(10, 20)의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 제1 다층 필름(10)과 제2 다층 필름(20)은 각각, 베이스 필름층(12, 22)과, 베이스 필름층(12, 22)의 일면에 적층된 제1 점착 필름층(14, 24)과, 베이스 필름층(12, 22)의 타면에 적층된 제2 점착 필름층(16, 26)과, 제1 점착 필름층(14, 24)에 적층된 보호 필름층(18, 28)을 구비하는 광학 필름일 수 있다.The kind of the multilayer films 10 and 20 that can be processed using such a film processing apparatus 1 is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 2, the first multilayer film 10 and the second multilayer film 20 are each of the base film layers 12 and 22 and one surface of the base film layers 12 and 22. A first adhesive film layer (14, 24) laminated on, a second adhesive film layer (16, 26) laminated on the other surface of the base film layer (12, 22), and a first adhesive film layer (14, 24) It may be an optical film including the protective film layers 18 and 28 laminated on the.

이 경우에, 베이스 필름층(12, 22)은 트리아세틸 셀룰로우즈(Triacetyl Cellulose, TAC)을 포함하여 구성된 TAC 필름층일 수 있다. 또한, 제1 점착 필름층(14, 24)과 제2 점착 필름층(16, 26)은 감압 점착제(Pressure sensitive adhesive, PSA)로 구성될 수 있다. 이러한 제1 점착 필름층(14, 24)과 제2 점착 필름층(16, 26)은 베이스 필름층(12, 22)의 양면에 각각 감압 점착제를 도포하여 적층할 수 있다. 또한, 보호 필름층(18, 28)은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)와 폴리에틸렌(PE) 중 적어도 하나를 포함하여 구성될 수 있다. 이러한 보호 필름층(18, 28)은 제1 점착 필름층(14, 24)에 점착하여 적층할 수 있다.In this case, the base film layers 12 and 22 may be a TAC film layer composed of triacetyl cellulose (TAC). In addition, the first adhesive film layers 14 and 24 and the second adhesive film layers 16 and 26 may be formed of a pressure sensitive adhesive (PSA). These first adhesive film layers 14 and 24 and the second adhesive film layers 16 and 26 may be laminated by applying a pressure-sensitive adhesive to both surfaces of the base film layers 12 and 22, respectively. In addition, the protective film layers 18 and 28 may include at least one of polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene (PE). These protective film layers 18 and 28 may be laminated by adhering to the first adhesive film layers 14 and 24.

이하에서는, 위와 같이 다층 필름들(10, 20)이 각각, 베이스 필름층(12, 22)과, 제1 점착 필름층(14, 24) 및 제2 점착 필름층(16, 26)과, 보호 필름층(18, 28)을 포함하는 다층 구조를 갖는 경우를 예로 들어 본 발명을 설명하기로 한다.In the following, as above, the multilayer films 10 and 20 are each of the base film layers 12 and 22, the first adhesive film layers 14 and 24 and the second adhesive film layers 16 and 26, respectively, and the protection The present invention will be described by taking a case of having a multilayer structure including the film layers 18 and 28 as an example.

먼저, 제1 공급롤(110)은 제1 다층 필름(10)을 공급하기 위한 부재이다. 제1 공급롤(110)에는 필름층들(12, 14, 16,18)이 미리 적층되어 형성된 제1 다층 필름(10)이 롤 상태로 미리 권취되며, 제1 공급롤(110)은 이러한 제1 다층 필름(10)을 권출하여 공급할 수 있다.First, the first supply roll 110 is a member for supplying the first multilayer film 10. The first multilayer film 10 formed by stacking the film layers 12, 14, 16, 18 in advance on the first supply roll 110 is pre-wound in a roll state, and the first supply roll 110 1 The multilayer film 10 can be unwound and supplied.

다음으로, 제2 공급롤(120)은 제2 다층 필름(20)을 공급하기 위한 부재이다. 제2 공급롤(120)에는 필름층들(22, 24, 26, 28)이 미리 적층되어 형성된 제2 다층 필름(20)이 롤 상태로 미리 권취되며, 제2 공급롤(120)은 이러한 제2 다층 필름(20)을 권출하여 공급할 수 있다.Next, the second supply roll 120 is a member for supplying the second multilayer film 20. A second multilayer film 20 formed by pre-stacking film layers 22, 24, 26, 28 on the second supply roll 120 is pre-wound in a roll state, and the second supply roll 120 2 The multilayer film 20 can be unwound and supplied.

다음으로, 이송 유닛(130)은 다층 필름들(10, 20) 또는 후술한 다층 필름 연결체(30)를 미리 정해진 이송 방향을 따라 이송하기 위한 부재이다. 이송 유닛(130)은, 제1 공급롤(110)과 연결 유닛(140) 사이 구간, 제2 공급롤(120)과 연결 유닛(140) 사이 구간, 연결 유닛(140)과 회수롤(150) 사이 구간에 각각 순차적으로 설치되는 복수의 이송 롤러들(132)을 구비할 수 있다. 이러한 이송 롤러들(132)은, 구동 모터와 축 결합된 구동 롤러와, 자유 회전 가능하게 마련되는 종동 롤러와, 다층 필름들(10, 20)과 다층 필름 연결체(30)에 장력을 인가 가능한 댄싱 롤러 등일 수 있다. 이러한 이송 롤러들(132)은 다층 필름들(10, 20) 또는 다층 필름 연결체(30)를 팽팽하게 긴장된 상태로 미리 정해진 이송 방향을 따라 회수롤(150)에 전달할 수 있다. 다층 필름들(10, 20) 또는 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향은 다층 필름들(10, 20) 또는 다층 필름 연결체(30)의 길이 방향인 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.Next, the transfer unit 130 is a member for transferring the multilayer films 10 and 20 or the multilayer film connector 30 to be described later along a predetermined transfer direction. The transfer unit 130 includes a section between the first supply roll 110 and the connection unit 140, a section between the second supply roll 120 and the connection unit 140, the connection unit 140 and the recovery roll 150 It may be provided with a plurality of transfer rollers 132 that are respectively sequentially installed in the interval. These transfer rollers 132, a drive roller axially coupled to a drive motor, a driven roller provided to be freely rotatable, and a tension can be applied to the multilayer films 10, 20 and the multilayer film connector 30 It may be a dancing roller or the like. These transfer rollers 132 may transfer the multilayer films 10 and 20 or the multilayer film connector 30 to the recovery roll 150 along a predetermined transfer direction in a taut state. The transport direction of the multilayer films 10 and 20 or the multilayer film connector 30 is preferably a longitudinal direction of the multilayer films 10 and 20 or the multilayer film connector 30, but is not limited thereto.

도 3은 다층 필름들이 테이프에 의해 연결된 상태를 나타내는 다층 필름 연결체의 평면도이다.3 is a plan view of a multilayer film connector showing a state in which the multilayer films are connected by a tape.

다음으로, 연결 유닛(140)은, 제1 다층 필름(10)의 일단 및 제1 다층 필름(10)의 일단과 대향하는 제2 다층 필름(20)의 일단에 걸쳐 연결 부재를 고정하여, 다층 필름들(10, 20)을 서로 연결하기 위한 부재이다.Next, the connection unit 140 fixes the connection member over one end of the first multilayer film 10 and one end of the second multilayer film 20 opposite to the one end of the first multilayer film 10, It is a member for connecting the films 10 and 20 to each other.

예를 들어, 연결 유닛(140)은, 현재 공급 계속 중인 제1 다층 필름(10)의 후단(10a) 및 현재 공급 대기 중인 제2 다층 필름(20)의 선단에 걸쳐 연결 부재를 고정하여, 제1 다층 필름(10)과 제2 다층 필름(20)을 연결 가능하게 마련될 수 있다.For example, the connection unit 140 fixes the connection member over the rear end 10a of the first multilayer film 10 currently being supplied and the front end of the second multilayer film 20 currently waiting to be supplied, The 1 multilayer film 10 and the second multilayer film 20 may be provided to be connected.

연결 부재의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이, 연결 부재는 테이프(40)일 수 있다. 이 경우에, 연결 유닛(140)은, 제1 다층 필름(10)의 후단(10a) 및 제2 다층 필름(20)의 선단(20a)을 연결에 적절한 상태로 트리밍하는 트리밍 부재(미도시)와, 제1 다층 필름(10)의 후단(10a) 및 제2 다층 필름(20)의 선단(20a)에 걸쳐 테이프(40)를 부착하는 테이프 부착 부재(미도시) 등을 구비할 수 있다. 특히, 도 3에 도시된 바와 같이, 테이프 부착 부재는, 제1 다층 필름(10)이 포함하는 보호 필름층(18)의 후단의 외면 및 제2 다층 필름(20)이 포함하는 보호 필름층(28)의 선단의 외면에 걸쳐 테이프(40)를 부착하여 제1 다층 필름(10)과 제2 다층 필름(20)을 연결할 수 있다. 연결 유닛(140)은 필름들을 연결하기 위해 사용되는 통상적인 연결 유닛(140)과 동일한 구조를 가지므로 이에 대한 더욱 자세한 설명은 설명하기로 한다.The type of the connecting member is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 3, the connection member may be a tape 40. In this case, the connection unit 140 is a trimming member (not shown) that trims the rear end 10a of the first multilayer film 10 and the front end 20a of the second multilayer film 20 in a state suitable for connection Wow, a tape attachment member (not shown) for attaching the tape 40 over the rear end 10a of the first multilayer film 10 and the front end 20a of the second multilayer film 20 may be provided. In particular, as shown in FIG. 3, the tape attachment member includes an outer surface of the rear end of the protective film layer 18 included in the first multilayer film 10 and a protective film layer included in the second multilayer film 20 ( The first multilayer film 10 and the second multilayer film 20 may be connected by attaching the tape 40 over the outer surface of the tip of 28). Since the connection unit 140 has the same structure as the conventional connection unit 140 used to connect the films, a more detailed description thereof will be described.

이러한 연결 유닛(140)은, 잔여 제1 다층 필름(10)과 제2 다층 필름(20)이 일체로 연결된 다층 필름 연결체(30)를 형성함으로써, 공급 대상 필름을 제1 다층 필름(10)에서 제2 다층 필름(20)으로 교체할 수 있다.The connection unit 140 forms a multilayer film connector 30 in which the remaining first multilayer film 10 and the second multilayer film 20 are integrally connected, so that the supply target film is transferred to the first multilayer film 10. It can be replaced with the second multilayer film 20 in.

연결 유닛(140)에 의하면, 다음과 순서에 따라 제1 다층 필름(10)과 제2 다층 필름(20)에 대한 가공 공정을 진행할 수 있다. 다층 필름 연결체(30)의 형성 이전에는 제1 공급롤(110)과 회수롤(150) 사이에서 제1 다층 필름(10)에 의해 연결 상태가 유지됨으로써, 롤 투 롤 방식을 통해 제1 다층 필름(10)을 가공할 수 있다. 다층 필름 연결체(30)를 형성한 후에는 제2 공급롤(120)과 회수롤(150) 사이에서 다층 필름 연결체(30)에 의해 연결 상태가 유지됨으로써, 롤 투 롤 방식을 통해 잔여 제1 다층 필름(10)과 제2 다층 필름(20)을 가공할 수 있다. 다층 필름 연결체(30)에 포함된 잔여 제1 다층 필름(10)이 모두 소진된 후에는 제2 공급롤(120)과 회수롤(150) 사이에서 제2 다층 필름(20)에 의해 연결 상태가 유지됨으로써, 롤 투 롤 방식을 통해 제2 다층 필름(20)을 가공할 수 있다According to the connection unit 140, a processing process for the first multilayer film 10 and the second multilayer film 20 may be performed in the following order. Prior to the formation of the multilayer film connector 30, the connection state is maintained between the first supply roll 110 and the recovery roll 150 by the first multilayer film 10, so that the first multilayer film is formed through a roll-to-roll method. The film 10 can be processed. After the multilayer film connector 30 is formed, the connection state is maintained between the second supply roll 120 and the recovery roll 150 by the multilayer film connector 30, thereby The 1 multilayer film 10 and the second multilayer film 20 can be processed. After the remaining first multilayer film 10 included in the multilayer film connector 30 is exhausted, the second multilayer film 20 is connected between the second supply roll 120 and the recovery roll 150 by the second multilayer film 20 Is maintained, it is possible to process the second multilayer film 20 through a roll-to-roll method.

다음으로, 회수롤(150)은 다층 필름들(10, 20) 및 다층 필름 연결체(30)를 회수하기 위한 부재이다. 이를 위하여, 회수롤(150)은 다층 필름들(10, 20) 및 다층 필름 연결체(30)를 귄취하여 롤 상태로 회수할 수 있다. 예를 들어, 회수롤(150)은, 제1 다층 필름(10)에 의해 제1 공급롤(110)과 회수롤(150)이 연결된 경우에는 제1 다층 필름(10)을 권취하여 회수할 수 있고, 다층 필름 연결체(30)에 의해 제2 공급롤(120)과 회수롤(150)이 연결된 경우에는 다층 필름 연결체(30)를 권취하여 회수할 수 있고, 제2 다층 필름(20)에 의해 제2 공급롤(120)과 회수롤(150)이 연결된 경우에는 제2 다층 필름(20)을 권취하여 회수할 수 있다.Next, the recovery roll 150 is a member for recovering the multilayer films 10 and 20 and the multilayer film connector 30. To this end, the recovery roll 150 may roll up the multilayer films 10 and 20 and the multilayer film connector 30 and collect them in a roll state. For example, the recovery roll 150 can be recovered by winding the first multilayer film 10 when the first supply roll 110 and the recovery roll 150 are connected by the first multilayer film 10. In the case where the second supply roll 120 and the recovery roll 150 are connected by the multilayer film connector 30, the multilayer film connector 30 can be wound and recovered, and the second multilayer film 20 When the second supply roll 120 and the recovery roll 150 are connected to each other, the second multilayer film 20 may be wound and recovered.

다음으로, 감지 유닛(160)은 연결 부재를 감지하기 위한 부재이다. 예를 들어, 연결 부재가 테이프(40)인 경우에, 감지 유닛(160)은 테이프(40)를 감지 가능하게 마련될 수 있다. 이 경우에, 감지 유닛(160)은 적외선 신호를 이용해 테이프(40)를 감지 가능하게 마련되는 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다. 감지 유닛(160)은 테이프(40)를 감지하기 위해 통상적으로 사용하는 감지 유닛(160)과 동일한 구조를 가지므로 이에 대한 더욱 자세한 설명은 생략하기로 한다.Next, the sensing unit 160 is a member for sensing the connection member. For example, when the connecting member is the tape 40, the detection unit 160 may be provided to detect the tape 40. In this case, the sensing unit 160 is preferably provided to detect the tape 40 using an infrared signal, but is not limited thereto. Since the sensing unit 160 has the same structure as the sensing unit 160 that is commonly used to detect the tape 40, a more detailed description thereof will be omitted.

제어기는, 이러한 감지 유닛(160)으로부터 전달된 테이프 감지 신호를 기준으로 테이프(40)의 부착 위치 즉, 제1 다층 필름(10)의 후단(10a)의 위치 및 제2 다층 필름(20)의 선단(20a)의 위치를 특정할 수 있다.The controller, based on the tape detection signal transmitted from the detection unit 160, the attachment position of the tape 40, that is, the position of the rear end 10a of the first multilayer film 10 and the position of the second multilayer film 20. The position of the tip 20a can be specified.

도 4는 기포 제거 유닛을 나타내는 평면도이고, 도 5는 기포 제거 유닛의 갈바노미러를 나타내는 사시도이며, 도 6은 기포 제거 그루브가 요입 형성된 상태를 나타내는 다층 필름 연결체의 평면도이고, 도 7은 기포 제거 그루브가 요입 형성된 상태를 나타내는 다층 필름 연결체의 단면도이다.4 is a plan view showing a bubble removing unit, FIG. 5 is a perspective view showing a galvanomirror of the bubble removing unit, FIG. 6 is a plan view of a multilayer film connector showing a state in which the bubble removing groove is concave formed, and FIG. 7 is a bubble It is a cross-sectional view of a multilayer film connector showing a state in which a removal groove is concave formed.

다음으로 기포 제거 유닛(170)은, 테이프(40)의 부착 과정에서 제1 다층 필름(10)과 후단(10a)과 제2 다층 필름(20)의 선단(20a)을 통해 노출된 필름층들(12, 14, 16, 18, 22, 24, 26, 28) 사이의 계면을 통해 다층 필름 연결체(30)의 내부에 침투된 기포(B)를 제거하기 위한 부재이다.Next, the bubble removing unit 170, the film layers exposed through the front end 20a of the first multilayer film 10 and the rear end 10a and the second multilayer film 20 in the process of attaching the tape 40 (12, 14, 16, 18, 22, 24, 26, 28) is a member for removing the air bubbles (B) penetrated into the interior of the multilayer film connector 30 through the interface.

이러한 기포 제거 유닛(170)은, 다층 필름 연결체(30)의 미리 정해진 기포 제거 영역(A)을 레이저빔(LB)을 이용해 레이저 절단함으로써, 다층 필름 연결체(30)의 내부에 침투된 기포(B)를 외부로 안내하는 기포 제거 패턴(50)을 형성 가능하게 마련될 수 있다.Such a bubble removing unit 170, by laser cutting a predetermined bubble removing area (A) of the multilayer film connector 30 using a laser beam (LB), bubbles penetrated into the interior of the multilayer film connector 30 It may be provided to form a bubble removing pattern 50 to guide (B) to the outside.

기포 제거 영역(A)의 위치는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 기포 제거 영역(A)은, 제1 다층 필름(10)의 후단(10a)으로부터 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향으로 미리 정해진 제1 기준 거리(D1)만큼 이격되도록 제1 다층 필름(10) 상에 정해진 제1 기포 제거 영역(A1)과, 제2 다층 필름(20)의 선단(20a)으로부터 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향의 반대 방향으로 미리 정해진 제2 기준 거리(D2)만큼 이격되도록 제2 다층 필름(20) 상에 정해진 제2 기포 제거 영역(A2)을 포함할 수 있다. 제1 기준 거리(D1) 및 제2 기준 거리(D2)는 특별히 한정되지 않으며, 다층 필름 연결체(30)의 내부에 침투된 기포(B)의 이동 속도 등의 환경 조건을 고려해 결정되는 것이 바람직하다.The position of the bubble removal region A is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 4, the bubble removal region A is a first reference distance predetermined in the transport direction of the multilayer film connector 30 from the rear end 10a of the first multilayer film 10 The first bubble removal region A1 determined on the first multilayer film 10 so as to be spaced apart by (D1), and the transport direction of the multilayer film connector 30 from the tip 20a of the second multilayer film 20 A second bubble removal region A2 determined on the second multilayer film 20 may be included to be spaced apart by a predetermined second reference distance D2 in the opposite direction. The first reference distance (D1) and the second reference distance (D2) are not particularly limited, and are preferably determined in consideration of environmental conditions such as the moving speed of the air bubbles (B) penetrating the interior of the multilayer film connector 30 Do.

기포 제거 유닛(170)의 구조는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 기포 제거 유닛(170)은, 레이저빔(LB)을 생성하여 발진하는 레이저 발진기(171)와, 레이저 발진기로부터 발진된 레이저빔(LB)을 기포 제거 영역(A)에 조사하는 레이저 스캐너(173)와, 레이저 스캐너(173)를 다층 필름 연결체(30)의 폭 방향으로 왕복 이송하는 드라이버(175) 등을 구비할 수 있다.The structure of the bubble removing unit 170 is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 4, the bubble removal unit 170 removes bubbles from a laser oscillator 171 that generates and oscillates a laser beam LB, and a laser beam LB oscillated from the laser oscillator. A laser scanner 173 that irradiates the region A, and a driver 175 for reciprocating the laser scanner 173 in the width direction of the multilayer film connector 30 may be provided.

레이저 발진기(171)는 다층 필름 연결체(30)를 레이저 절단 가능하도록 미리 정해진 파장을 갖는 레이저빔(LB)을 생성하여 발진 가능하게 마련된다. 이처럼 레이저 발진기(171)에서 발진된 레이저빔(LB)은 레이저 발진기(171)와 레이저 스캐너(173) 사이에 설치된 적어도 하나의 반사 미러(R)에 의해 광경로가 전환되어 레이저 스캐너(173)에 전달될 수 있다.The laser oscillator 171 is provided to generate a laser beam LB having a predetermined wavelength to enable laser cutting of the multilayer film connector 30 to enable oscillation. In this way, the laser beam LB oscillated from the laser oscillator 171 is switched to the laser scanner 173 by at least one reflective mirror R installed between the laser oscillator 171 and the laser scanner 173. Can be delivered.

레이저 스캐너(173)는 드라이버(175)에 의해 다층 필름 연결체(30)의 폭 방향으로 왕복 이송될 수 있도록 드라이버(175)에 결합된다.The laser scanner 173 is coupled to the driver 175 so that it can be reciprocated in the width direction of the multilayer film connector 30 by the driver 175.

이러한 레이저 스캐너(173)는 다층 필름 연결체(30)의 이송 속도, 기타 다층 필름 연결체(30)의 이송 상태에 따라 레이저빔(LB)의 광경로를 변경 가능하게 마련된다. 이를 위하여, 도 5에 도시된 바와 같이, 레이저 스캐너(173)는, X축 서보 모터(177b)에 의해 구동되며, 레이저빔(LB)의 광경로를 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향의 수직 방향 즉, 다층 필름 연결체(30)의 폭 방향으로 변경 가능한 X축 미러(177a)와, Y축 서보 모터(177c)에 의해 구동되며, 레이저빔(LB)의 광경로를 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향 즉, 다층 필름 연결체(30)의 길이 방향으로 변경 가능한 Y축 미러(177d) 등을 갖는 갈바노미러(177)를 구비할 수 있다.The laser scanner 173 is provided to be able to change the optical path of the laser beam LB according to the transport speed of the multilayer film connector 30 and other transport states of the multilayer film connector 30. To this end, as shown in FIG. 5, the laser scanner 173 is driven by an X-axis servo motor 177b, and the optical path of the laser beam LB is in the transport direction of the multilayer film connector 30. It is driven by the X-axis mirror 177a, which can be changed in the vertical direction, that is, the width direction of the multilayer film connector 30, and the Y-axis servo motor 177c, and connects the optical path of the laser beam LB to the multilayer film connector. A galvano mirror 177 having a Y-axis mirror 177d that can be changed in the transport direction of 30, that is, in the longitudinal direction of the multilayer film connector 30, may be provided.

또한, 레이저 스캐너(173)는 갈바노미러(177)에 의해 광경로가 변경된 레이저빔(LB)을 집광하여 기포 제거 영역(A)에 조사 가능한 렌즈(179)를 더 구비할 수 있다. 이러한 렌즈(179)는 에프-세타(f-θ) 렌즈인 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.In addition, the laser scanner 173 may further include a lens 179 capable of condensing the laser beam LB whose optical path is changed by the galvano mirror 177 and irradiating the bubble removal region A. The lens 179 is preferably an f-theta (f-θ) lens, but is not limited thereto.

이러한 레이저 스캐너(173)는, 레이저 발진기(171)로부터 전달된 레이저빔(LB)을 기포 제거 영역들(A)에 조사하여 기포 제거 영역들(A)을 레이저 전달함으로써, 테이프(40)의 부착 과정 및 다층 필름들(10, 20)의 적층 과정에서 다층 필름 연결체(30)의 내부에 침투된 기포(B)를 외부로 안내하여 제거하기 위한 기포 제거 패턴(50)을 형성할 수 있다.Such a laser scanner 173 irradiates the laser beam LB transmitted from the laser oscillator 171 to the bubble removal regions A to laser transmit the bubble removal regions A, thereby attaching the tape 40 In the process and in the process of laminating the multilayer films 10 and 20, a bubble removing pattern 50 for guiding and removing the bubbles B penetrated into the interior of the multilayer film connector 30 may be formed.

그런데, 기포 제거 영역(A)은 제품의 제조에 사용하기 어려운 스크랩으로서 폐기되어야 한다. 따라서, 기포 제거 영역(A)의 면적을 최소화시키기 위하여, 기포 제거 패턴(50)은 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향의 수직 방향 즉, 다층 필름 연결체(30)의 폭 방향으로 형성되는 것이 바람직하다.By the way, the bubble removing area (A) should be discarded as scrap that is difficult to use in manufacturing a product. Therefore, in order to minimize the area of the bubble removing area (A), the bubble removing pattern 50 is formed in the vertical direction of the transport direction of the multilayer film connector 30, that is, in the width direction of the multilayer film connector 30 It is desirable.

이를 위하여, 도 6에 도시된 바와 같이, 제어기는, 기포 제거 영역들(A)에 대한 레이저빔(LB)의 광경로가 다층 필름 연결체(30)의 이송 상태에 맞춰 선택적으로 조절되도록 레이저 스캐너(173)를 제어하여, 기포 제거 패턴(50)을 다층 필름 연결체(30)의 폭 방향으로 연장 형성시킬 수 있다. 즉, 제어기는, 레이저빔(LB)의 광경로가 다층 필름 연결체(30)의 이송 속도에 맞춰 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향으로 조절되도록 갈바노미러(177)를 제어하여 레이저빔(LB)을 기포 제거 영역들(A)에 다층 필름 연결체(30)의 폭 방향으로 조사시킴으로써, 기포 제거 패턴(50)을 다층 필름 연결체(30)의 폭 방향으로 연장 형성시킬 수 있다. 이를 통해, 기포 제거 패턴(50)의 형성으로 인한 스크랩의 발생량을 최소화시킴으로써, 필름 가공 장치(1)의 생산성을 향상시킬 수 있다.To this end, as shown in Figure 6, the controller, the laser scanner so that the optical path of the laser beam (LB) to the bubble removal regions (A) is selectively adjusted according to the transport state of the multilayer film connector 30 By controlling 173, the bubble removing pattern 50 can be formed to extend in the width direction of the multilayer film connector 30. That is, the controller controls the galvanomirror 177 so that the optical path of the laser beam LB is adjusted in the transport direction of the multilayer film connector 30 in accordance with the transfer speed of the multilayer film connector 30 to control the laser beam. By irradiating (LB) to the bubble removing regions (A) in the width direction of the multilayer film connector 30, the bubble removing pattern 50 can be formed to extend in the width direction of the multilayer film connector 30. Through this, by minimizing the amount of scrap generated due to the formation of the bubble removing pattern 50, it is possible to improve the productivity of the film processing apparatus 1.

또한, 제어기는, 전술한 감지 유닛(160)을 이용해 특정한 테이프(40)의 부착 위치를 기준으로 제1 기포 제거 영역(A1)의 위치 및 제2 기포 제거 영역(A2)의 위치를 정확히 특정한 상태에서, 기포 제거 유닛(170)을 제어하여 기포 제거 영역(A)을 형성시킬 수 있다.In addition, the controller accurately identifies the position of the first bubble removal area A1 and the position of the second bubble removal area A2 based on the attachment position of the specific tape 40 using the above-described detection unit 160. In, the bubble removing region A may be formed by controlling the bubble removing unit 170.

기포 제거 패턴(50)의 형상은 특별히 한정되지 않는다.The shape of the bubble removing pattern 50 is not particularly limited.

예를 들어, 기포 제거 패턴(50)은, 다층 필름 연결체(30)가 포함하는 다수의 필름층들 중 일부의 필름층의 기포 제거 영역(A)이 레이저빔(LB)에 의해 선택적으로 레이저 절단되어 요입 형성된 기포 제거 그루브(52)와, 다층 필름 연결체(30)의 기포 제거 영역(A)이 미리 정해진 기준 길이(L)만큼씩 레이저 절단되어 각각 천공된 적어도 하나의 기포 제거 슬릿(54) 등을 구비할 수 있다.For example, in the bubble removing pattern 50, the bubble removing region A of some of the film layers included in the multilayer film connector 30 is selectively laser beamed by a laser beam LB. At least one bubble removal slit 54 which is cut and concave formed, and at least one bubble removal slit 54 that is respectively perforated by laser cutting the bubble removal region A of the multilayer film connector 30 by a predetermined reference length L ), etc. may be provided.

도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 기포 제거 그루브(52)는, 제1 기포 제거 영역(A1) 및 제2 기포 제거 영역(A2)에 각각 다층 필름 연결체(30)의 폭 방향으로 연장 형성되되, 보호 필름층(18, 28)이 선택적으로 레이저 절단되어 요입 형성될 수 있다. 즉, 기포 제거 그루브(52)는, 보호 필름층(18, 28)만 선택적으로 레이저 절단되도록, 제1 기포 제거 영역(A1)과 제2 기포 제거 영역(A2)을 각각 다층 필름 연결체(30)의 폭 방향으로 하프 커팅하여 요입 형성하는 것이다.As shown in FIGS. 6 and 7, the bubble removing groove 52 extends in the width direction of the multilayer film connector 30 to the first bubble removing region A1 and the second bubble removing region A2, respectively. Doedoe, the protective film layers 18 and 28 may be selectively laser cut to form concave. In other words, the bubble removing groove 52 includes the first bubble removing region A1 and the second bubble removing region A2 so that only the protective film layers 18 and 28 are selectively laser cut. ) By half-cutting in the width direction to form a concave.

기포 제거 그루브(52)의 길이는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 도 6에 도시된 바와 같이, 기포 제거 그루브(52)는 다층 필름 연결체(30)의 폭과 동일한 길이를 가질 수 있다. 이 경우에, 다층 필름 연결체(30)는, 보호 필름층(18, 28) 외에 다른 필름층들(12, 14, 16, 22, 24, 26)에 의해 연결 상태가 유지될 수 있다.The length of the bubble removing groove 52 is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 6, the bubble removing groove 52 may have the same length as the width of the multilayer film connector 30. In this case, the multilayer film connector 30 may be maintained in a connected state by other film layers 12, 14, 16, 22, 24, 26 in addition to the protective film layers 18 and 28.

테이프(40)의 부착 과정에 있어서, 기포(B)는 제1 다층 필름(10)의 후단(10a)과 제2 다층 필름(20)의 선단(20a)을 통해 노출된 보호 필름층(18, 28)과 제1 점착 필름층(14, 24) 사이의 계면을 통해 다층 필름 연결체(30)의 내부로 주로 침투한다. 따라서, 다층 필름 연결체(30)의 내부로 침투된 기포(B)는, 보호 필름층(18, 28)과 제1 점착 필름층(14, 24) 사이의 계면에 주로 위치하게 된다. 따라서, 기포 제거 그루브(52)를 형성하면, 보호 필름층(18, 28)과 제1 점착 필름층(14, 24) 사이의 계면을 따라 이동하는 기포(B)를 기포 제거 그루브(52)를 통해 다층 필름 연결체(30)의 외부로 안내하여 제거할 수 있다. 따라서, 기포 제거 그루브(52)는, 기포(B)에 의해 다층 필름들(10, 20)의 불량이 야기되는 것을 방지함으로써, 다층 필름들(10, 20) 및 다층 필름들(10, 20)을 이용해 제조한 제품의 품질을 향상시킬 수 있다.In the process of attaching the tape 40, the air bubbles (B) are the protective film layer 18 exposed through the rear end 10a of the first multilayer film 10 and the front end 20a of the second multilayer film 20, 28) mainly penetrates into the interior of the multilayer film connector 30 through the interface between the first adhesive film layers 14 and 24. Accordingly, the air bubbles (B) penetrating into the interior of the multilayer film connector 30 are mainly located at the interface between the protective film layers 18 and 28 and the first adhesive film layers 14 and 24. Therefore, when the bubble removing groove 52 is formed, the bubble B moving along the interface between the protective film layers 18 and 28 and the first adhesive film layers 14 and 24 is removed from the bubble removing groove 52. Through the guide to the outside of the multi-layer film connector 30 can be removed. Accordingly, the bubble removing groove 52 prevents defects of the multilayer films 10 and 20 from being caused by the bubbles B, and thus the multilayer films 10 and 20 and the multilayer films 10 and 20 You can improve the quality of products manufactured by using.

또한, 도 8은 기포 제거 슬릿이 천공된 상태를 나타내는 다층 필름 연결체의 평면도이고, 도 9는 기포 제거 슬릿이 천공된 상태를 나타내는 다층 필름 연결체의 단면도이다.In addition, FIG. 8 is a plan view of the multilayer film connector showing a state in which the bubble removing slit is perforated, and FIG. 9 is a cross-sectional view of the multilayer film connector showing a state in which the bubble removing slit is perforated.

도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 기포 제거 슬릿들(54)은, 제1 기포 제거 영역(A1) 및 제2 기포 제거 영역(A2)에 점선 형태를 이루도록 미리 정해진 제1 기준 간격(G1)을 두고 천공될 수 있다. 즉, 기포 제거 슬릿들(54)은, 제1 기포 제거 영역(A1) 및 제2 기포 제거 영역(A2)이 두께 방향으로 관통되도록 전체 필름층들(12, 14, 16, 18, 22, 24, 26, 28)을 레이저 절단하여 천공하되, 다층 필름 연결체(30)의 연결 상태가 유지되도록 제1 기준 간격(G1)을 두고 점선 형태로 천공하는 것이다.As shown in FIGS. 8 and 9, the bubble removing slits 54 have a predetermined first reference interval G1 so as to form a dotted line in the first bubble removing area A1 and the second bubble removing area A2. ) Can be drilled. That is, the bubble removal slits 54 are formed of the entire film layers 12, 14, 16, 18, 22, 24 so that the first bubble removal region A1 and the second bubble removal region A2 penetrate in the thickness direction. , 26, 28) are laser-cut to perforate, but the multilayer film connector 30 is perforated in a dotted line with a first reference interval G1 to maintain the connected state.

기포 제거 슬릿들(54)의 길이는 특별히 한정되지 않으며, 기포 제거 슬릿들(54)은 미리 정해진 기준 길이(L)를 가질 수 있다. 도 8에 도시된 바와 같이, 기준 길이(L)는 제1 기준 간격(G1)에 비해 큰 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.The length of the bubble removing slits 54 is not particularly limited, and the bubble removing slits 54 may have a predetermined reference length L. As shown in FIG. 8, the reference length L is preferably larger than the first reference interval G1, but is not limited thereto.

테이프(40)의 부착 과정에 있어서, 기포(B)는 주로 보호 필름층(18, 28)과 제1 점착 필름층(14, 24) 사이의 계면을 통해 다층 필름 연결체(30)의 내부로 주로 침투하지만, 제1 다층 필름(10)의 후단(10a)의 하면과 제2 다층 필름(20)의 선단(20a)의 하면에 걸쳐서도 테이프(40)를 추가로 부착하는 경우와 같은 공정 조건에서는 다른 필릉층들(12, 14, 16, 22, 24, 26) 사이의 계면을 통해서도 기포(B)가 침투될 수 있다. 이 경우에, 하프 커팅을 통해 일부의 필름층만 레이저 절단하여 기포 제거 그루브(52)를 요입 형성하면, 일부의 기포(B)가 다층 필름 연결체(30)의 내부에 여전히 잔류되어 다층 필름들(10, 20) 및 다층 필름들(10, 20)을 이용해 제조한 제품의 품질을 악화시킬 수 있다.In the process of attaching the tape 40, the air bubbles (B) are mainly formed into the interior of the multilayer film connector 30 through the interface between the protective film layers 18 and 28 and the first adhesive film layers 14 and 24. Mainly penetrates, but the same process conditions as in the case of additionally attaching the tape 40 even across the lower surface of the rear end 10a of the first multilayer film 10 and the lower surface of the front end 20a of the second multilayer film 20 In E, air bubbles (B) may penetrate through the interface between the other piling layers (12, 14, 16, 22, 24, 26). In this case, when only a portion of the film layer is laser cut through half-cutting to form the bubble removing groove 52, a portion of the bubble B is still remaining inside the multilayer film connector 30 and the multilayer films (10, 20) and multilayer films (10, 20) may deteriorate the quality of a product manufactured.

그런데, 기포 제거 슬릿들(54)은, 다층 필름 연결체(30)가 두께 방향으로 관통되도록 천공되는 바, 보호 필름층(18, 28)과 제1 점착 필름층(14, 24) 사이의 계면 외에 다른 필름층들(12, 14, 16, 22, 24, 26) 사이의 계면에 침투된 기포(B)도 다층 필름 연결체(30)의 외부로 효과적으로 안내하여 제거할 수 있다. 따라서, 이러한 기포 제거 슬릿들(54)에 의하면, 기포(B)에 의해 다층 필름들(10, 20)의 불량이 야기되는 것을 더욱 효과적으로 방지함으로써, 다층 필름들(10, 20) 및 다층 필름들(10, 20)을 이용해 제조한 제품의 품질을 더욱 향상시킬 수 있다.By the way, the bubble removal slits 54 are perforated so that the multilayer film connector 30 penetrates in the thickness direction, and the interface between the protective film layers 18 and 28 and the first adhesive film layers 14 and 24 In addition, air bubbles (B) penetrating into the interface between the other film layers 12, 14, 16, 22, 24, 26 can also be effectively guided to the outside of the multilayer film connector 30 and removed. Therefore, according to these bubble removing slits 54, by more effectively preventing defects of the multilayer films 10 and 20 caused by the bubbles B, the multilayer films 10 and 20 and the multilayer films The quality of products manufactured using (10, 20) can be further improved.

한편, 도 8에 도시된 바와 같이, 기포 제거 슬릿들(54)은, 미리 정해진 제1 절단 예정선(E1)을 따라 제1 기준 간격(G1)을 두고 천공되는 제1 기포 제거 슬릿들(54a)과, 제1 절단 예정선(E1)에 비해 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향 또는 이송 방향의 반대 방향으로 이격되도록 미리 정해진 정해진 제2 절단 예정선(E2)을 따라 제1 기준 간격(G1)을 두고 천공되는 제2 기포 제거 슬릿들(54b)을 구비할 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 8, the bubble removing slits 54 are first bubble removing slits 54a that are perforated along a predetermined first cutting line E1 at a first reference interval G1. ), and a first reference interval along the second predetermined cutting line E2 so as to be spaced apart from the first line E1 in the transfer direction of the multilayer film connector 30 or in the opposite direction to the transfer direction. The second bubble removing slits 54b which are perforated with G1) may be provided.

또한, 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 기포 제거 영역(A1)에서, 제1 절단 예정선(E1)은 제1 다층 필름(10)의 후단(10a)으로부터 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향으로 미리 정해진 제3 기준 거리(D3)만큼 이격되도록 정해지고, 제2 절단 예정선(E2)은 제1 절단 예정선(E1)에 비해 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향으로 미리 정해진 제4 기준 거리(D4)만큼 이격되도록 정해지는 것이 바람직하다. 이에 대응하여, 제2 기포 제거 영역(A2)에서, 제2 절단 예정선(E2)은 제2 다층 필름(20)의 선단(20a)으로부터 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향의 반대 방향으로 제3 기준 거리(D3)만큼 이격되도록 정해지고, 제2 절단 예정선(E2)은 제1 절단 예정선(E1)에 비해 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향의 반대 방향으로 제4 기준 거리(D4)만큼 이격되도록 정해지는 것이 바람직하다.In addition, as shown in FIG. 8, in the first bubble removal region A1, the first cut line E1 is from the rear end 10a of the first multilayer film 10 to the multilayer film connector 30. It is determined to be spaced apart by a predetermined third reference distance D3 in the transfer direction, and the second scheduled cutting line E2 is predetermined in the transfer direction of the multilayer film connector 30 compared to the first scheduled cutting line E1. It is preferable that it is determined to be separated by the fourth reference distance D4. Correspondingly, in the second bubble removal region A2, the second intended cutting line E2 is in a direction opposite to the transfer direction of the multilayer film connector 30 from the tip 20a of the second multilayer film 20. It is determined to be separated by a third reference distance D3, and the second scheduled cutting line E2 is a fourth reference distance in a direction opposite to the transport direction of the multilayer film connector 30 compared to the first scheduled cutting line E1. It is preferable that it is determined to be spaced apart by (D4).

또한, 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 기포 제거 슬릿들(54a)과 제2 기포 제거 슬릿들(54b)은 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향의 수직 방향 즉, 다층 필름 연결체(30)의 폭 방향으로 미리 정해진 제2 기준 간격(G2)만큼 서로 엇갈리게 배치되도록 천공될 수 있다. 제1 기준 간격(G1)이 기준 길이(L)에 비해 작은 경우에, 제2 기준 간격(G2)은 기준 길이(L)에 비해 작고 제1 기준 간격(G1)에 비해 큰 것이 바람직하다. 그러면, 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 기포 제거 슬릿들(54a)의 양측 단부와 제2 기포 제거 슬릿들(54b)의 양측 단부는 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향으로 서로 중첩될 수 있다.In addition, as shown in FIG. 8, the first bubble removal slits 54a and the second bubble removal slits 54b are in the vertical direction of the transport direction of the multilayer film connector 30, that is, the multilayer film connector ( It may be perforated so as to be staggered with each other by a predetermined second reference interval G2 in the width direction of 30). When the first reference distance G1 is smaller than the reference length L, it is preferable that the second reference distance G2 is smaller than the reference length L and larger than the first reference distance G1. Then, as shown in FIG. 8, both ends of the first bubble removal slits 54a and both ends of the second bubble removal slits 54b overlap each other in the transport direction of the multilayer film connector 30. I can.

기포 제거 슬릿(54)은 점선 형태를 이루도록 천공되는바, 기포 제거 슬릿들(54)을 1행만 형성하면 기포(B)가 기포 제거 슬릿들(54) 사이의 간격을 통해 제1 다층 필름(10)의 후단(10a) 및 제2 다층 필름(20)의 선단(20a)으로부터 멀리 이격된 위치까지 이동될 우려가 있다. 그런데, 제1 기포 제거 슬릿들(54a)의 양측 단부와 제2 기포 제거 슬릿(54b)의 양측 단부가 다층 필름 연결체(30)의 이송 방향으로 서로 중첩되도록 제1 기포 제거 슬릿들(54a)과 제2 기포 제거 슬릿들(54b)을 천공하면, 제1 기포 제거 슬릿들(54a)에 의해 미처 제거되지 못한 잔여 기포(B)가 제2 기포 제거 슬릿들(54b)에 의해 제거될 수 있다. 따라서, 제1 기포 제거 슬릿들(54a)과 제2 기포 제거 슬릿들(54b)에 의하면, 기포(B)에 의해 다층 필름들(10, 20)의 불량이 야기되는 것을 더욱 효과적으로 방지함으로써, 다층 필름들(10, 20) 및 다층 필름들(10, 20)을 이용해 제고한 제품의 품질을 더욱 향상시킬 수 있다.The bubble removing slit 54 is perforated to form a dotted line. If only one row of the bubble removing slits 54 is formed, the bubble B is formed through the gap between the bubble removing slits 54 to form the first multilayer film 10. ), there is a concern that it may be moved to a position far away from the rear end 10a of the second multilayer film 20 and the front end 20a of the second multilayer film 20. However, the first bubble removal slits 54a so that both ends of the first bubble removal slits 54a and both ends of the second bubble removal slit 54b overlap each other in the transport direction of the multilayer film connector 30 And the second bubble removing slits 54b, residual bubbles B that have not yet been removed by the first bubble removing slits 54a may be removed by the second bubble removing slits 54b. . Therefore, according to the first bubble removing slits 54a and the second bubble removing slits 54b, by more effectively preventing defects of the multilayer films 10 and 20 caused by the bubbles B, the multilayer The quality of a product manufactured by using the films 10 and 20 and the multilayer films 10 and 20 may be further improved.

한편, 기포 제거 슬릿들(50)은 2행을 이루도록 천공되는 것으로 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 서로 다른 행에 위치한 기포 제거 슬릿들(50)끼리 다층 필름 연결체(30)의 수직 방향으로 서로 엇갈리게 배치되도록, 3행 이상의 기포 제거 슬릿들(50)이 천공될 수도 있다.Meanwhile, although it has been described that the bubble removing slits 50 are perforated to form two rows, it is not limited thereto. That is, three or more rows of bubble removing slits 50 may be perforated so that the bubble removing slits 50 located in different rows are alternately disposed in the vertical direction of the multilayer film connector 30.

도 10은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치를 이용한 필름 가공 방법을 설명하기 위한 순서도이다.10 is a flowchart illustrating a film processing method using a film processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

이하에서는, 도 10을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치(1)를 이용한 필름 가공 방법을 설명하기로 한다.Hereinafter, a film processing method using the film processing apparatus 1 according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 10.

먼저, 현재 공급 계속 중인 제1 다층 필름(10)이 소진되면, 연결 유닛(140)은 제1 다층 필름(10)의 후단(10a)과 현재 공급 대기 중인 제2 다층 필름(20)의 선단(20a)을 테이프(40)로 연결하여 다층 필름 연결체(30)를 형성한다(S 110). 이 때, 이송 유닛(130)은 다층 필름들(10, 20)을 이송을 정지한다.First, when the first multilayer film 10 that is currently being supplied is exhausted, the connection unit 140 includes the rear end 10a of the first multilayer film 10 and the front end of the second multilayer film 20 currently waiting for supply ( 20a) is connected with a tape 40 to form a multilayer film connector 30 (S 110). At this time, the transfer unit 130 stops transferring the multilayer films 10 and 20.

다음으로, 이송 유닛(130)은 다층 필름 연결체(30)를 미리 정해진 이송 방향으로 이송하기 시작한다(S 120).Next, the transfer unit 130 starts to transfer the multilayer film connector 30 in a predetermined transfer direction (S 120 ).

이후에, 감지 유닛(160)은 테이프(40)를 감지하여 테이프 감지 신호를 제어기에 전달한다. 제어기는, 테이프(40)의 감지 신호를 기준으로 테이프(40)의 부착 위치, 제1 기포 제거 영역(A1)의 위치 및 제2 기포 제거 영역(A2)의 위치를 각각 특정한다(S 130).Thereafter, the detection unit 160 detects the tape 40 and transmits the tape detection signal to the controller. The controller specifies the attachment position of the tape 40, the position of the first bubble removal area A1, and the position of the second bubble removal area A2, respectively, based on the detection signal of the tape 40 (S130) .

다음으로, 기포 제거 유닛(170)은 감지 유닛(160)에 의해 특정된 위치를 기준으로 제1 기포 제거 영역(A1)과 제2 기포 제거 영역(A2)에 기포 제거 그루브(52), 기포 제거 슬릿(54) 등의 기포 제거 패턴(50)을 형성하여, 테이프(40)의 부착 과정에서 다층 필름 연결체(30)의 내부에 침투된 기포(B)를 제거한다(S 140).Next, the bubble removal unit 170 is a bubble removal groove 52 in the first bubble removal area A1 and the second bubble removal area A2 based on the position specified by the detection unit 160, and bubble removal. By forming a bubble removing pattern 50 such as a slit 54, bubbles B penetrated into the inside of the multilayer film connector 30 are removed during the attaching process of the tape 40 (S 140).

이후에, 회수롤(150)은 기포(B)가 제거된 다층 필름 연결체(30)를 권취하여 회수한다(S 150).Thereafter, the recovery roll 150 is recovered by winding the multilayer film connector 30 from which the air bubbles (B) have been removed (S 150).

한편, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치(1)는 다층 필름들(10, 20)을 가공하기 위한 가공 유닛(미도시)을 더 포함할 수 있다. 가공 유닛은 기포 제거 유닛(170)과 회수롤(150) 사이 구간에 설치되는 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다. 가공 유닛의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 가공 유닛은, 다층 필름들(10, 20)을 미리 정해진 폭을 갖도록 슬리팅하는 슬리팅기를 구비할 수 있다.Meanwhile, the film processing apparatus 1 according to a preferred embodiment of the present invention may further include a processing unit (not shown) for processing the multilayer films 10 and 20. The processing unit is preferably installed in the section between the bubble removing unit 170 and the recovery roll 150, but is not limited thereto. The type of processing unit is not particularly limited. For example, the processing unit may include a slitting machine for slitting the multilayer films 10 and 20 to have a predetermined width.

또한, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치(10)는 별도의 장소에서 필름층들(12, 14, 16, 18, 22, 24, 26, 28)을 미리 적층하여 다층 필름들(10, 20)을 형성한 경우를 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치(10)는 다수의 필름층들(12, 14, 16, 18, 22, 24, 26, 28)을 적층하여 다층 필름들(10, 20)을 형성하는 필름 적층 장치(미도시)와 일체로 형성될 수도 있다. 이 경우에, 필름층들(12, 14, 16, 18, 22, 24, 26, 28)을 적층하여 제1 다층 필름(10)과 제2 다층 필름(20)을 형성하는 필름 적층 유닛들(미도시)이 전술한 공급롤들(110, 210) 대신에 설치되거나 공급롤들(110, 210)의 상류측에 설치될 수 있다.In addition, the film processing apparatus 10 according to a preferred embodiment of the present invention pre-laminates the film layers 12, 14, 16, 18, 22, 24, 26, 28 in a separate place to form multilayer films 10. , 20) has been described as an example, but is not limited thereto. That is, the film processing apparatus 10 according to a preferred embodiment of the present invention stacks a plurality of film layers 12, 14, 16, 18, 22, 24, 26, 28 to form multilayer films 10 and 20. It may be formed integrally with a film laminating device (not shown) to form. In this case, film stacking units (12, 14, 16, 18, 22, 24, 26, 28) are stacked to form the first multilayer film 10 and the second multilayer film 20 ( Not shown) may be installed instead of the aforementioned supply rolls 110 and 210 or may be installed upstream of the supply rolls 110 and 210.

도 11은 본 발명의 다른 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치의 개략적인 구성을 나타내는 개념도이고, 도 12는 다층 필름들의 다층 구조를 나타내는 단면도이다.11 is a conceptual diagram showing a schematic configuration of a film processing apparatus according to another preferred embodiment of the present invention, and FIG. 12 is a cross-sectional view showing a multilayer structure of multilayer films.

본 발명의 다른 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치(2)는, 제1 다층 필름(60)을 공급하는 제1 공급롤(210)과, 보호 필름(68')을 공급하는 제2 공급롤(220)과, 제1 다층 필름(60)에 보호 필름(68')을 적층하여 제1 다층 필름(60)에 비해 보호 필름층(68)이 추가된 제2 다층 필름(60')을 형성하는 적층 유닛(240)과, 제1 다층 필름(60) 및 제2 다층 필름(60')을 이송하는 이송 유닛(230)과, 제2 다층 필름(60')을 회수하는 회수롤(250)과, 제2 다층 필름(60')의 보호 필름층(68)을 감지하는 감지 유닛(260)과, 제2 다층 필름(60')의 내부에 침투된 기포(B)를 제거하는 기포 제거 유닛(270) 등을 포함할 수 있다.The film processing apparatus 2 according to another preferred embodiment of the present invention includes a first supply roll 210 for supplying the first multilayer film 60, and a second supply roll for supplying the protective film 68' ( 220), and a second multilayer film 60' to which a protective film layer 68 is added compared to the first multilayer film 60 by laminating the protective film 68' on the first multilayer film 60. The stacking unit 240, the transfer unit 230 for transferring the first multilayer film 60 and the second multilayer film 60', the recovery roll 250 for recovering the second multilayer film 60', and , A detection unit 260 that detects the protective film layer 68 of the second multilayer film 60 ′, and a bubble removal unit that removes air bubbles (B) penetrating into the inside of the second multilayer film 60 ′ ( 270) and the like.

이러한 필름 가공 장치(2)를 이용해 가공 가능한 다층 필름의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 도 12(a)에 도시된 바와 같이, 제1 다층 필름(60)은, 베이스 필름층(62)과, 베이스 필름층(62)의 일면에 적층된 제1 점착 필름층(64)과, 베이스 필름층(62)의 타면에 적층된 제2 점착 필름층(66)을 구비하는 광학 필름일 수 있다. 예를 들어, 도 12(b)에 도시된 바와 같이, 제2 다층 필름(60')은 제1 점착 필름층(64)에 적층된 보호 필름층(68)을 제1 다층 필름(60)에 비해 더 구비하는 광학 필름일 수 있다.The kind of the multilayer film which can be processed using such a film processing device 2 is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 12(a), the first multilayer film 60 includes a base film layer 62 and a first adhesive film layer 64 laminated on one surface of the base film layer 62. ), and a second adhesive film layer 66 laminated on the other surface of the base film layer 62. For example, as shown in FIG. 12(b), the second multilayer film 60 ′ includes the protective film layer 68 laminated on the first adhesive film layer 64 on the first multilayer film 60. It may be an optical film having more than that.

먼저, 제1 공급롤(210)은 제1 다층 필름(60)을 공급하기 위한 부재이다. 제1 공급롤(210)에는 필름층들(62, 64, 66)이 적층되어 형성된 제1 다층 필름(60)이 롤 상태로 미리 권취되며, 제1 공급롤(210)은 이러한 제1 다층 필름(60)을 권출하여 공급할 수 있다.First, the first supply roll 210 is a member for supplying the first multilayer film 60. A first multilayer film 60 formed by stacking film layers 62, 64, 66 on the first supply roll 210 is pre-wound in a roll state, and the first supply roll 210 is a first multilayer film. (60) can be unwound and supplied.

다음으로, 제2 공급롤(220)은 보호 필름(68')을 공급하기 위한 부재이다. 제2 공급롤(220)에는 보호 필름(68')이 롤 상태로 미리 권취되며, 제2 공급롤(220)은 이러한 보호 필름(68')을 권출하여 공급할 수 있다.Next, the second supply roll 220 is a member for supplying the protective film 68'. The protective film 68 ′ is pre-wound on the second supply roll 220 in a roll state, and the second supply roll 220 may unwind and supply the protective film 68 ′.

다음으로, 이송 유닛(230)은 다층 필름들(60, 60')을 미리 정해진 이송 방향을 따라 이송하기 위한 부재이다. 이송 유닛(230)은, 제1 공급롤(210)과 적층 유닛(240) 사이 구간, 제2 공급롤(220)과 적층 유닛(240) 사이 구간, 적층 유닛(240)과 회수롤(250) 사이 구간에 각각 순차적으로 설치되는 복수의 이송 롤러들(232)을 구비할 수 있다. 이러한 이송 롤러들(232)은, 구동 모터와 축 결합된 구동 롤러와, 자유 회전 가능하게 마련되는 종동 롤러와, 다층 필름들(60, 60')에 장력을 인가 가능한 댄싱 롤러 등일 수 있다. 이러한 이송 롤러들(232)은 다층 필름들(60, 60')을 미리 정해진 이송 방향을 따라 이송할 수 있다. 다층 필름들(60, 60')의 이송 방향은 다층 필름들(60, 60')의 길이 방향인 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.Next, the transfer unit 230 is a member for transferring the multilayer films 60 and 60' along a predetermined transfer direction. The transfer unit 230 includes a section between the first supply roll 210 and the stacking unit 240, a section between the second supply roll 220 and the stacking unit 240, the stacking unit 240 and the collecting roll 250 A plurality of transfer rollers 232 which are sequentially installed in each section may be provided. The transfer rollers 232 may be a drive roller axially coupled to a drive motor, a driven roller provided to be freely rotatable, a dancing roller capable of applying tension to the multilayer films 60 and 60'. These transfer rollers 232 may transfer the multilayer films 60 and 60' along a predetermined transfer direction. The transport direction of the multilayer films 60 and 60 ′ is preferably a longitudinal direction of the multilayer films 60 and 60 ′, but is not limited thereto.

다음으로, 적층 유닛(240)은, 보호 필름(68')을 제1 다층 필름(60)에 적층하기 위한 부재이다. 적층 유닛(240)은 보호 필름(68')을 제1 다층 필름(60)의 제1 점착 필름층(64)에 점착시켜 적층 가능한 한 쌍의 적층 롤러들(242, 244)을 가질 수 있다. 도 11에 도시된 바와 같이, 적층 롤러들(242, 244)은 적층 롤러들(242, 244) 사이 공간을 통과하는 제1 다층 필름(60)과 보호 필름(68')을 상하로 가압하여 보호 필름(68')을 제1 점착 필름층(64)에 점착시킬 수 있도록 설치된다. 이러한 적층 유닛(240)에 의하면, 보호 필름(68')은 제1 점착 필름층(64)에 보호 필름(68')의 적층 시작점(S)에서 적층 종료점까지 이송 방향을 따라 순차적으로 적층될 수 있다. 이 경우에, 적층 시작점(S)은 보호 필름(68')의 선단일 수 있고, 적층 종료점은 보호 필름(68')의 후단일 수 있다. 이를 통해, 도 12에 도시된 바와 같이, 적층 유닛(240)은 보호 필름(68')으로 구성된 보호 필름층(68)을 제1 다층 필름(60)에 비해 더 구비하는 제2 다층 필름(60')을 형성할 수 있다.Next, the lamination unit 240 is a member for laminating the protective film 68 ′ on the first multilayer film 60. The lamination unit 240 may have a pair of lamination rollers 242 and 244 that can be laminated by adhering the protective film 68 ′ to the first adhesive film layer 64 of the first multilayer film 60. 11, the lamination rollers 242, 244 are protected by pressing the first multilayer film 60 and the protective film 68' vertically passing through the space between the lamination rollers 242, 244 It is installed so that the film 68 ′ can be adhered to the first adhesive film layer 64. According to such a lamination unit 240, the protective film 68 ′ may be sequentially stacked on the first adhesive film layer 64 along the transport direction from the lamination start point S of the protective film 68 ′ to the lamination end point. have. In this case, the lamination start point S may be the front end of the protective film 68 ′, and the lamination end point may be the rear end of the protective film 68 ′. Through this, as shown in FIG. 12, the stacking unit 240 further includes a protective film layer 68 composed of a protective film 68 ′ compared to the first multilayer film 60. ') can be formed.

다음으로, 감지 유닛(260)은 보호 필름(68')의 적층 시작점(S)을 감지하기 위한 부재이다. 감지 유닛(260)의 구조는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 감지 유닛(260)은 제2 다층 필름(60')을 촬영 가능한 카메라 센서(미도시)를 구비할 수 있다.Next, the sensing unit 260 is a member for sensing the starting point S of the protective film 68'. The structure of the sensing unit 260 is not particularly limited. For example, the sensing unit 260 may include a camera sensor (not shown) capable of photographing the second multilayer film 60 ′.

제어기는, 이러한 감지 유닛(260)으로부터 전달된 영상 신호를 기준으로 보호 필름(68')의 적층 시작점(S)의 위치 즉, 보호 필름(68')의 선단의 위치를 특정할 수 있다.The controller may specify the position of the starting point S of the protective film 68 ′, that is, the position of the front end of the protective film 68 ′, based on the image signal transmitted from the sensing unit 260.

도 13은 기포 제거 슬릿이 형성된 상태를 나타내는 다층 필름의 평면도이고, 도 14는 기포 제거 슬릿이 형성된 상태를 나타내는 다층 필름의 단면도이다.13 is a plan view of a multilayer film showing a state in which a bubble removing slit is formed, and FIG. 14 is a cross-sectional view of a multilayer film showing a state in which the bubble removing slit is formed.

다음으로 기포 제거 유닛(270)은, 보호 필름(68')의 점착 과정에서 보호 필름층(68)과 제1 점착 필름층(64) 사이의 계면을 통해 제2 다층 필름(60')의 내부에 침투된 기포(B)를 제거하기 위한 부재이다.Next, the bubble removing unit 270 is inside of the second multilayer film 60 ′ through the interface between the protective film layer 68 and the first adhesive film layer 64 in the adhesion process of the protective film 68 ′. It is a member for removing air bubbles (B) that have penetrated into.

이러한 기포 제거 유닛(270)은, 제2 다층 필름(60')의 미리 정해진 기포 제거 영역(A)을 레이저빔을 이용해 레이저 절단함으로써, 제2 다층 필름(60')의 내부에 침투된 기포(B)를 외부로 안내하여 제거하는 기포 제거 패턴(50)을 형성 가능하게 마련될 수 있다.Such a bubble removing unit 270, by laser cutting a predetermined bubble removing region A of the second multilayer film 60 ′ using a laser beam, the bubbles penetrated into the inside of the second multilayer film 60 ′ ( It may be provided so as to be able to form a bubble removing pattern 50 to guide and remove B) to the outside.

기포 제거 영역(A)의 위치는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 도 13에 도시된 바와 같이, 기포 제거 영역(A)은, 보호 필름층(68)의 적층 시작점(S)으로부터 제2 다층 필름(60')의 이송 방향의 반대 방향으로 미리 정해진 제1 기준 거리(D1)만큼 이격되도록 정해질 수 있다. 보호 필름층(68)의 과정에서 기포(B)는 보호 필름층(68)의 적층 시작점(S)을 통해 노출된 보호 필름층(68)과 제1 점착 필름층(64) 사이의 계면을 통해 주로 침투하므로, 기포 제거 영역(A)은 보호 필름층(68)의 적층 시작점(S)으로부터 제2 다층 필름(60')의 이송 방향의 반대 방향에 위치하게 정해지는 것이다. 제1 기준 거리(D1)는 특별히 한정되지 않으며, 제2 다층 필름(60')의 내부에 침투된 기포(B)의 이동 속도 등의 환경 조건을 고려해 결정되는 것이 바람직하다.The position of the bubble removal region A is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 13, the bubble removal region A is predetermined in a direction opposite to the transfer direction of the second multilayer film 60 ′ from the lamination start point S of the protective film layer 68 It may be determined to be spaced apart by the first reference distance D1. In the process of the protective film layer 68, air bubbles (B) are formed through the interface between the protective film layer 68 and the first adhesive film layer 64 exposed through the starting point S of the protective film layer 68. Since it mainly penetrates, the bubble removal region A is determined to be located in a direction opposite to the transfer direction of the second multilayer film 60 ′ from the lamination start point S of the protective film layer 68. The first reference distance D1 is not particularly limited, and is preferably determined in consideration of environmental conditions such as a moving speed of the air bubbles B penetrating the inside of the second multilayer film 60'.

기포 제거 유닛(270)의 구조는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 기포 제거 유닛(270)은, 레이저빔을 생성하여 발진하는 레이저 발진기(미도시)와, 레이저 발진기로부터 발진된 레이저빔을 기포 제거 영역(A)에 조사하는 레이저 스캐너(273)와, 레이저 스캐너(273)를 제2 다층 필름(60')의 폭 방향으로 왕복 이송하는 드라이버(미도시) 등을 구비할 수 있다. 또한, 레이저 스캐너(273)는 레이저빔의 광경로를 제2 다층 필름(60')의 이송 방향(길이 방향) 및 제2 다층 필름(60')의 이송 방향의 수직 방향(폭 방향)으로 변경 가능한 갈바노미러(미도시)와, 갈바노미러에 의해 광경로가 변경된 레이저빔을 집광하여 기포 제거 영역(A)에 조사하는 렌즈(미도시) 등을 구비할 수 있다. 이러한 기포 제거 유닛(270)의 구조는 전술한 필름 가공 장치(1)의 기포 제거 유닛(170)과 동일한 구조를 가지므로, 이에 대한 더욱 자세한 설명은 생략하기로 한다.The structure of the bubble removing unit 270 is not particularly limited. For example, the bubble removal unit 270 includes a laser oscillator (not shown) that generates and oscillates a laser beam, and a laser scanner 273 that irradiates a laser beam oscillated from the laser oscillator to the bubble removal region A. , A driver (not shown) for reciprocating the laser scanner 273 in the width direction of the second multilayer film 60' may be provided. In addition, the laser scanner 273 changes the optical path of the laser beam to the vertical direction (width direction) of the transport direction (length direction) of the second multilayer film 60' and the transport direction of the second multilayer film 60'. A possible galvanomirror (not shown) and a lens (not shown) for condensing a laser beam whose optical path is changed by the galvanomirror and irradiating it to the bubble removal region A may be provided. Since the structure of the bubble removing unit 270 has the same structure as the bubble removing unit 170 of the film processing apparatus 1 described above, a more detailed description thereof will be omitted.

한편, 제어기는, 레이저빔의 광경로가 제2 다층 필름(60')의 이송 상태에 맞춰 선택적으로 조절되도록 레이저 스캐너(273)를 제어하여, 기포 제거 패턴(50)을 제2 다층 필름(60')의 폭 방향으로 연장 형성시킬 수 있다. 즉, 제어기는, 레이저빔의 광경로가 제2 다층 필름(60')의 이송 속도에 맞춰 제2 다층 필름(60')의 이송 방향으로 조절되도록 갈바노미러를 제어하여 레이저빔을 기포 제거 영역(A)에 제2 다층 필름(60')의 폭 방향으로 조사시킴으로써, 기포 제거 패턴(50)을 제2 다층 필름(60')의 폭 방향으로 연장 형성시킬 수 있다. 이를 통해, 기포 제거 패턴(50)의 형성에 따른 스크랩의 발생량을 최소화시킴으로써, 필름 가공 장치(2)의 생산성을 향상시킬 수 있다.On the other hand, the controller controls the laser scanner 273 so that the optical path of the laser beam is selectively adjusted according to the transport state of the second multilayer film 60 ′, so that the bubble removing pattern 50 is applied to the second multilayer film 60. ') can be formed extending in the width direction. That is, the controller controls the galvanomirror so that the optical path of the laser beam is adjusted in the transport direction of the second multilayer film 60 ′ in accordance with the transport speed of the second multilayer film 60 ′ to remove the laser beam from the bubble removal region. By irradiating (A) in the width direction of the second multilayer film 60 ′, the bubble removing pattern 50 can be formed to extend in the width direction of the second multilayer film 60 ′. Through this, it is possible to improve the productivity of the film processing apparatus 2 by minimizing the amount of scrap generated by the formation of the bubble removing pattern 50.

또한, 제어기는, 전술한 감지 유닛(260)을 이용해 특정한 보호 필름층(68)의 적층 시작점(S)의 위치를 기준으로 기포 제거 영역(A)의 위치를 정확히 특정한 상태에서, 기포 제거 유닛(270)을 제어하여 기포 제거 영역(A)을 형성시킬 수 있다.In addition, the controller uses the above-described detection unit 260 to accurately determine the position of the bubble removal region A based on the position of the lamination start point S of the specific protective film layer 68, and the bubble removal unit ( The bubble removing region A may be formed by controlling 270.

기포 제거 패턴(50)의 형상은 특별히 한정되지 않는다.The shape of the bubble removing pattern 50 is not particularly limited.

예를 들어, 기포 제거 패턴(50)은, 제2 다층 필름(60')이 포함하는 전체 필름층들(62, 64, 66, 68) 중 보호 필름층(68), 기타 일부 필름층의 기포 제거 영역(A)이 레이저빔에 의해 선택적으로 레이저 절단되어 요입 형성된 기포 제거 그루브(미도시)와, 제2 다층 필름(60')의 기포 제거 영역(A)이 미리 정해진 기준 길이(L)만큼씩 레이저 절단되어 각각 천공된 적어도 하나의 기포 제거 슬릿(54) 등을 구비할 수 있다. 이러한 기포 제거 패턴(50)은, 전술한 필름 가공 장치(1)에서 설명한 기포 제거 패턴(50)의 형성 방법과 동일한 방법을 이용해 형성할 수 있다. 이에, 기포 제거 슬릿(54)의 형상 방법을 기준으로 기포 제거 패턴(50)의 형상 방법에 대해 간략하게 설명하기로 한다.For example, the bubble removing pattern 50 is a protective film layer 68 among all the film layers 62, 64, 66, 68 included in the second multilayer film 60', and bubbles of some other film layers. The removal area (A) is selectively laser cut by a laser beam to form a concave bubble removal groove (not shown), and the bubble removal area (A) of the second multilayer film 60' is a predetermined reference length (L). It may be provided with at least one bubble removing slit 54 or the like, each of which is laser cut and perforated. Such a bubble removing pattern 50 can be formed using the same method as the method of forming the bubble removing pattern 50 described in the film processing apparatus 1 described above. Accordingly, the method of forming the bubble removing pattern 50 based on the method of forming the bubble removing slit 54 will be briefly described.

도 13 및 도 14에 도시된 바와 같이, 기포 제거 슬릿들(54)은, 기포 제거 영역(A)에 점선 형태를 이루도록 미리 정해진 제1 기준 간격(G1)을 두고 천공될 수 있다. 즉, 기포 제거 슬릿들(54)은, 기포 제거 영역(A)이 두께 방향으로 관통되도록 전체 필름층들(62, 64, 66, 68)을 레이저 절단하여 천공하되, 제2 다층 필름(60')의 연결 상태가 유지되도록 제1 기준 간격(G1)을 두고 점선 형태로 천공하는 것이다.As shown in FIGS. 13 and 14, the bubble removal slits 54 may be perforated at a predetermined first reference interval G1 so as to form a dotted line in the bubble removal region A. That is, the bubble removal slits 54 are punched by laser cutting the entire film layers 62, 64, 66, 68 so that the bubble removal region A penetrates in the thickness direction, and the second multilayer film 60' ) To maintain the connection state of the first reference interval (G1) is to perforate in a dotted line shape.

기포 제거 슬릿들(54)의 길이는 특별히 한정되지 않는며, 기포 제거 슬릿들(54)은 미리 정해진 기준 길이(L)를 가질 수 있다. 도 13에 도시된 바와 같이, 기준 길이(L)는 제1 기준 간격(G1)에 비해 큰 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.The length of the bubble removing slits 54 is not particularly limited, and the bubble removing slits 54 may have a predetermined reference length L. As shown in FIG. 13, the reference length L is preferably larger than the first reference interval G1, but is not limited thereto.

이러한 기포 제거 슬릿들(54)은, 보호 필름층(68)의 적층 시작점(S)으로부터 제2 다층 필름(60')의 이송 방향의 반대 방향으로 미리 정해진 제2 기준 거리(D2)만큼 이격되도록 기포 제거 영역(A) 상에 정해진 제1 절단 예정선(E1)을 따라 천공되는 제1 기포 제거 슬릿들(54a)과, 제1 절단 예정선(E1)에 비해 제2 다층 필름(60')의 이송 방향의 반대 방향으로 미리 정해진 제3 기준 거리(D3)만큼 이격되도록 기포 제거 영역(A) 상에 정해진 제2 절단 예정선(E2)을 따라 천공되는 제2 기포 제거 슬릿들(54b)을 구비할 수 있다.These bubble removing slits 54 are spaced apart from the starting point S of the protective film layer 68 by a predetermined second reference distance D2 in a direction opposite to the transport direction of the second multilayer film 60 ′. The first bubble removing slits 54a perforated along the first scheduled cutting line E1 on the bubble removing area A, and the second multilayer film 60 ′ compared to the first scheduled cutting line E1 The second bubble removing slits 54b perforated along the second predetermined cutting line E2 on the bubble removing area A so as to be spaced apart by a predetermined third reference distance D3 in the opposite direction of the transport direction of Can be equipped.

제1 기포 제거 슬릿들(54a)과 제2 기포 제거 슬릿들(54b)은 제2 다층 필름(60')의 이송 방향의 수직 방향 즉, 제2 다층 필름(60')의 폭 방향으로 미리 정해진 제2 기준 간격(G2)만큼 서로 엇갈리게 배치되도록 천공될 수 있다. 제1 기준 간격(G1)이 기준 길이(L)에 비해 작은 경우에, 제2 기준 간격(G2)은 기준 길이(L)에 비해 작고 제1 기준 간격(G1)에 비해 큰 것이 바람직하다. 그러면, 도 13에 도시된 바와 같이, 제1 기포 제거 슬릿들(54a)의 양측 단부와 제2 기포 제거 슬릿들(54b)의 양측 단부는 제2 다층 필름(60')의 이송 방향으로 서로 중첩될 수 있다.The first bubble removal slits 54a and the second bubble removal slits 54b are predetermined in the vertical direction of the transport direction of the second multilayer film 60', that is, the width direction of the second multilayer film 60'. It may be perforated so as to be staggered with each other by the second reference interval G2. When the first reference distance G1 is smaller than the reference length L, it is preferable that the second reference distance G2 is smaller than the reference length L and larger than the first reference distance G1. Then, as shown in FIG. 13, both ends of the first bubble removal slits 54a and both ends of the second bubble removal slits 54b overlap each other in the transport direction of the second multilayer film 60'. Can be.

이러한 기포 제거 슬릿들(54)은, 보호 필름층(68)의 적층 과정 기타, 제2 다층 필름(60')의 제조 과정에서 제2 다층 필름(60')의 내부에 침투된 기포(B)를 제2 다층 필름(60')의 외부로 안내하여 제거할 수 있다. 따라서, 이러한 기포 제거 슬릿들(54)에 의하면, 기포(B)에 의해 제2 다층 필름(60')의 불량이 야기되는 것을 방지함으로써, 제2 다층 필름(60') 및 제2 다층 필름(60')을 이용해 제조한 제품의 품질을 향상시킬 수 있다.These air bubble removal slits 54 are air bubbles (B) penetrating into the inside of the second multilayer film 60' during the process of laminating the protective film layer 68 and other, the manufacturing process of the second multilayer film 60'. May be removed by guiding it to the outside of the second multilayer film 60 ′. Therefore, according to the bubble removing slits 54, by preventing defects of the second multilayer film 60 ′ from being caused by the bubbles B, the second multilayer film 60 ′ and the second multilayer film ( 60') can improve the quality of manufactured products.

도 15는 본 발명은 다른 바림직한 실시예에 따른 필름 가공 장치(2)를 이용한 필름 가공 방법을 설명하기 위한 순서도이다.15 is a flowchart illustrating a film processing method using the film processing apparatus 2 according to another preferred embodiment of the present invention.

이하에서는, 도 15를 참조하여, 본 발명의 다른 바람직한 실시예에 따른 필름 가공 장치(2)를 이용한 필름 가공 방법을 설명하기로 한다.Hereinafter, a film processing method using the film processing apparatus 2 according to another preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 15.

먼저, 이송 유닛(230)에 의해 제1 다층 필름(60)과 보호 필름(68')이 미리 정해진 이송 방향으로 계속적으로 이송되는 상태에서, 적층 유닛(240)은 보호 필름(68')을 제1 다층 필름(60)의 제1 점착 필름층(64)에 적층하여 제2 다층 필름(60')을 형성한다(S 210).First, in a state in which the first multilayer film 60 and the protective film 68 ′ are continuously conveyed in a predetermined conveying direction by the conveying unit 230, the lamination unit 240 provides the protective film 68 ′. 1 A second multilayer film 60 ′ is formed by laminating on the first adhesive film layer 64 of the multilayer film 60 (S210).

이후에, 감지 유닛(260)은 보호 필름층(68)의 적층 시작점(S)을 감지하여 보호 필름층 감지 신호를 제어기에 전달한다. 제어기는, 보호 필름층 감지 신호를 기준으로 보호 필름층(68)의 적층 시작점(S)의 위치, 기포 제거 영역(A)의 위치를 각각 특정한다(S 220).Thereafter, the sensing unit 260 detects the starting point S of the protective film layer 68 and transmits a protective film layer detection signal to the controller. The controller specifies the position of the starting point S of the protective film layer 68 and the position of the bubble removing region A, respectively, based on the protective film layer detection signal (S220).

다음으로, 기포 제거 유닛(270)은 감지 유닛(260)에 의해 특정된 위치를 기준으로 기포 제거 영역(A)에 기포 제거 그루브, 기포 제거 슬릿(54) 등의 기포 제거 패턴(50)을 형성하여, 보호 필름층(68)의 적층 과정에서 제2 다층 필름(60')의 내부에 침투된 기포(B)를 제거한다(S 230).Next, the bubble removal unit 270 forms a bubble removal pattern 50 such as a bubble removal groove and a bubble removal slit 54 in the bubble removal region A based on the position specified by the detection unit 260 Thus, in the process of laminating the protective film layer 68, air bubbles B that have penetrated into the inside of the second multilayer film 60' are removed (S230).

이후에, 회수롤(250)은 기포(B)가 제거된 제2 다층 필름(60')을 권취하여 회수한다(S 240).Thereafter, the recovery roll 250 winds and recovers the second multilayer film 60' from which the air bubbles B have been removed (S 240).

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various modifications and variations without departing from the essential characteristics of the present invention.

따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

1, 2 : 필름 가공 장치
10 : 제1 다층 필름
20 : 제2 다층 필름
30 : 다층 필름 연결체
40 : 테이프
50 : 기포 제거 패턴
52 : 기포 제거 그루브
54 : 기포 제거 슬릿
60 : 제1 다층 필름
60' : 제2 다층 필름
110 : 제1 공급롤
120 : 제2 공급롤
130 : 이송 유닛
132 : 이송 롤러
140 : 연결 유닛
150 : 회수롤
160 : 감지 유닛
170 : 기포 제거 유닛
210 : 제1 공급롤
220 : 제2 공급롤
230 : 이송 유닛
240 : 적층 유닛
250 : 회수롤
260 : 감지 유닛
270 : 기포 제거 유닛
1, 2: film processing equipment
10: first multilayer film
20: second multilayer film
30: multilayer film connector
40: tape
50: bubble removal pattern
52: bubble removing groove
54: bubble removal slit
60: first multilayer film
60': second multilayer film
110: first supply roll
120: second supply roll
130: transfer unit
132: transfer roller
140: connection unit
150: recovery roll
160: detection unit
170: bubble removal unit
210: first supply roll
220: second supply roll
230: transfer unit
240: stacking unit
250: recovery roll
260: detection unit
270: bubble removal unit

Claims (21)

제어기;
제1 다층 필름의 일단 및 상기 제1 다층 필름의 일단과 대향하는 제2 다층 필름의 일단에 걸쳐 고정된 연결 부재에 의해 상기 제1 다층 필름과 상기 제2 다층 필름이 연결되어 형성된 다층 필름 연결체를 미리 정해진 이송 방향을 따라 이송하는 이송 유닛; 및
상기 다층 필름 연결체의 미리 정해진 기포 제거 영역에 레이저빔을 조사하여, 상기 다층 필름 연결체의 내부에 침투된 기포를 외부로 안내하는 기포 제거 패턴을 형성하는 기포 제거 유닛;을 포함하는 필름 가공 장치.
Controller;
A multilayer film connector formed by connecting the first multilayer film and the second multilayer film by a connecting member fixed over one end of the first multilayer film and one end of the second multilayer film opposite to one end of the first multilayer film A transfer unit that transfers the material along a predetermined transfer direction; And
A film processing apparatus comprising: a bubble removing unit configured to form a bubble removing pattern for guiding the air bubbles penetrating into the inside of the multilayer film connector to the outside by irradiating a laser beam to a predetermined bubble removing area of the multilayer film connector. .
제1항에 있어서,
상기 기포 제거 유닛은, 상기 레이저빔의 광경로를 상기 이송 방향 및 상기 이송 방향의 수직 방향으로 변경 가능한 레이저 스캐너를 구비하고,
상기 제어기는, 상기 레이저빔의 광경로가 상기 다층 필름 연결체의 이송 상태에 맞춰 선택적으로 조절되도록 상기 레이저 스캐너를 제어하여, 상기 기포 제거 패턴을 상기 수직 방향으로 연장 형성시키는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 1,
The bubble removing unit includes a laser scanner capable of changing the optical path of the laser beam in a direction perpendicular to the transport direction and the transport direction,
The controller controls the laser scanner so that the optical path of the laser beam is selectively adjusted according to the transport state of the multilayer film connector, and the bubble removing pattern is extended in the vertical direction. Device.
제1항에 있어서,
상기 연결 부재는, 상기 제1 다층 필름의 후단 및 상기 제2 다층 필름의 선에 걸쳐 부착된 테이프인 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 1,
The connecting member is a film processing apparatus, characterized in that the tape attached across the rear end of the first multilayer film and the line of the second multilayer film.
제3항에 있어서,
상기 테이프를 감지하는 감지 유닛을 더 포함하고,
상기 제어기는, 상기 감지 유닛으로부터 전달된 테이프 감지 신호를 기준으로 상기 테이프의 부착 위치를 특정하는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 3,
Further comprising a sensing unit for sensing the tape,
The controller, a film processing apparatus, characterized in that for specifying the attachment position of the tape based on the tape detection signal transmitted from the detection unit.
제4항에 있어서,
상기 기포 제거 영역은,
상기 제1 다층 필름의 후단으로부터 상기 이송 방향으로 미리 정해진 제1 기준 거리만큼 이격된 제1 기포 제거 영역; 및
상기 제2 다층 필름의 선단으로부터 상기 이송 방향의 반대 방향으로 미리 정해진 제2 기준 거리만큼 이격된 제2 기포 제거 영역을 갖고,
상기 제어기는 상기 테이프의 부착 위치를 기준으로 상기 제1 기포 제거 영역의 위치 및 상기 제2 기포 제거 영역의 위치를 특정하는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 4,
The bubble removal region,
A first bubble removal region spaced apart from a rear end of the first multilayer film by a first reference distance in the transfer direction; And
It has a second bubble removal region spaced apart from the front end of the second multilayer film by a predetermined second reference distance in a direction opposite to the transfer direction,
Wherein the controller specifies a position of the first bubble removing area and a position of the second bubble removing area based on a position where the tape is attached.
제1항에 있어서,
상기 기포 제거 패턴은, 상기 다층 필름 연결체가 포함하는 다수의 필름층들 중 일부의 필름층의 상기 기포 제거 영역이 상기 레이저빔에 의해 선택적으로 레이저 절단되어 요입 형성된 기포 제거 그루브를 구비하는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 1,
The bubble removing pattern includes a bubble removing groove formed by selectively laser cutting the bubble removing region of some of the film layers among the plurality of film layers included in the multilayer film connector. Film processing device.
제6항에 있어서,
상기 제1 다층 필름 및 상기 제2 다층 필름은 각각, 베이스 필름층과, 베이스 필름층에 적층된 점착 필름층과, 점착 필름층에 적층된 보호 필름층을 적어도 포함하며,
상기 기포 제거 그루브는 상기 보호 필름층이 선택적으로 레이저 절단되어 요입 형성되는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 6,
Each of the first multilayer film and the second multilayer film includes at least a base film layer, an adhesive film layer laminated on the base film layer, and a protective film layer laminated on the adhesive film layer,
The bubble removing groove is a film processing apparatus, characterized in that the concave formed by selectively laser cutting the protective film layer.
제1항에 있어서,
상기 기포 제거 패턴은, 상기 기포 제거 영역이 상기 레이저빔에 의해 미리 정해진 기준 길이만큼씩 레이저 절단되어 각각 천공된 적어도 하나의 기포 제거 슬릿들을 구비하는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 1,
The bubble removal pattern, wherein the bubble removal region is laser cut by a predetermined reference length by the laser beam, and includes at least one bubble removal slit, each perforated.
제8항에 있어서,
상기 기포 제거 슬릿들은 점선 형태를 이루도록 미리 정해진 제1 기준 간격을 두고 천공되는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 8,
The bubble removing slits are perforated at a predetermined first reference interval to form a dotted line.
제9항에 있어서,
상기 기포 제거 슬릿들은,
미리 정해진 제1 절단 예정선을 따라 천공되는 제1 기포 제거 슬릿들; 및
상기 제1 절단 예정선에 비해 상기 이송 방향 또는 상기 이송 방향의 반대 방향으로 이격되도록 미리 정해진 제2 절단 예정선을 따라 천공되는 제2 기포 제거 슬릿들을 구비하는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 9,
The bubble removing slits,
First bubble removing slits perforated along a predetermined first cutting line; And
A film processing apparatus comprising: second bubble removing slits perforated along a second predetermined cutting line so as to be spaced apart from the first cutting line in a direction opposite to the transfer direction or the transfer direction.
제10항에 있어서,
상기 제1 기포 제거 슬릿들과 상기 제2 기포 제거 슬릿들은 상기 이송 방향의 수직 방향으로 미리 정해진 제2 기준 간격만큼 서로 엇갈리게 배치되도록 천공되는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 10,
The film processing apparatus, characterized in that the first bubble removing slits and the second bubble removing slits are perforated so as to be staggered with each other by a predetermined second reference interval in a direction perpendicular to the transport direction.
제11항에 있어서,
상기 제1 기준 간격은 상기 기준 길이에 비해 작고,
상기 제2 기준 간격은 상기 기준 길이에 비해 작고 상기 제1 기준 간격에 비해 큰 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 11,
The first reference interval is smaller than the reference length,
The second reference distance is smaller than the reference length and larger than the first reference distance.
제어기;
베이스 필름에 적층된 점착 필름층에 보호 필름층이 적층되어 형성된 다층 필름을 미리 정해진 이송 방향을 따라 이송하는 이송 유닛; 및
상기 다층 필름의 미리 정해진 기포 제거 영역에 레이저빔을 조사하여, 상기 다층 필름의 내부에 침투된 기포를 외부로 안내하는 기포 제거 패턴을 형성하는 기포 제거 유닛;을 포함하는 필름 가공 장치.
Controller;
A transport unit for transporting the multilayer film formed by stacking the protective film layer on the adhesive film layer laminated on the base film along a predetermined transport direction; And
A film processing apparatus comprising: a bubble removing unit configured to form a bubble removing pattern for guiding the bubbles penetrating inside the multilayer film to the outside by irradiating a laser beam to a predetermined bubble removing area of the multilayer film.
제13항에 있어서,
상기 기포 제거 영역은 상기 보호 필름층의 적층 시작점으로부터 미리 정해진 제1 기준 거리만큼 이격되도록 정해지는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 13,
The film processing apparatus, wherein the bubble removal region is determined to be spaced apart by a predetermined first reference distance from a lamination start point of the protective film layer.
제13항에 있어서,
상기 기포 제거 유닛은, 레이저빔의 조사 경로를 상기 이송 방향 및 상기 이송 방향의 수직 방향으로 변경 가능한 레이저 스캐너를 구비하고,
상기 제어기는, 상기 레이저빔의 조사 경로가 상기 다층 필름의 이송 상태에 맞춰 선택적으로 조절되도록 상기 레이저 스캐너를 제어하여, 상기 기포 제거 패턴을 상기 수직 방향으로 연장 형성시키는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 13,
The bubble removing unit includes a laser scanner capable of changing an irradiation path of a laser beam in a direction perpendicular to the transfer direction and the transfer direction,
The controller, by controlling the laser scanner so that the irradiation path of the laser beam is selectively adjusted according to the transport state of the multilayer film, and forming the bubble removing pattern extending in the vertical direction.
제13항에 있어서,
상기 기포 제거 패턴은, 상기 기포 제거 영역이 상기 레이저빔에 의해 미리 정해진 기준 길이만큼씩 레이저 절단되어 각각 천공된 적어도 하나의 기포 제거 슬릿들을 구비하는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 13,
The bubble removal pattern, wherein the bubble removal region is laser cut by a predetermined reference length by the laser beam, and includes at least one bubble removal slit, each perforated.
제16항에 있어서,
상기 기포 제거 슬릿들은 점선 형태를 이루도록 미리 정해진 제1 기준 간격을 두고 천공되는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 16,
The bubble removing slits are perforated at a predetermined first reference interval to form a dotted line.
제17항에 있어서,
상기 기포 제거 슬릿들은,
상기 보호 필름층의 적층 시작점으로부터 미리 정해진 제2 기준 거리만큼 이격된 제1 절단 예정선을 따라 천공되는 제1 기포 제거 슬릿들; 및
상기 제1 절단 예정선에 비해 미리 정해진 제3 기준 거리만큼 이격된 미리 정해진 제2 절단 예정선을 따라 천공되는 제2 기포 제거 슬릿들을 구비하는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 17,
The bubble removing slits,
First bubble removing slits perforated along a first line to be cut spaced apart from a starting point of the protective film layer by a predetermined second reference distance; And
A film processing apparatus comprising: second bubble removing slits perforated along a second predetermined cutting line separated by a predetermined third reference distance compared to the first predetermined cutting line.
제18항에 있어서,
상기 제1 기포 제거 슬릿들과 상기 제2 기포 제거 슬릿들은 상기 이송 방향의 수직 방향으로 미리 정해진 제2 기준 간격만큼 서로 엇갈리게 배치되도록 천공되는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 18,
The film processing apparatus, characterized in that the first bubble removing slits and the second bubble removing slits are perforated so as to be staggered with each other by a predetermined second reference interval in a direction perpendicular to the transport direction.
제19항에 있어서,
상기 제1 기준 간격은 상기 기준 길이에 비해 작고,
상기 제2 기준 간격은 상기 기준 길이에 비해 작고 상기 제1 기준 간격에 비해 큰 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 19,
The first reference interval is smaller than the reference length,
The second reference distance is smaller than the reference length and larger than the first reference distance.
제18항에 있어서,
보호 필름층을 상기 점착 필름층에 상기 보호 필름층의 적층 시작점에서 적층 종료점까지 상기 이송 방향을 따라 순차적으로 점착시켜 적층하는 적층 유닛을 더 포함하고,
상기 제1 절단 예정선은, 상기 적층 시작점으로부터 상기 이송 방향의 반대 방향으로 상기 제2 기준 거리만큼 이격되도록 정해지고,
상기 제2 절단 예정선은, 상기 제1 절단 예정선으로부터 상기 이송 방향의 반대 방향으로 상기 제3 기준 거리만큼 이격되도록 정해지는 것을 특징으로 하는 필름 가공 장치.
The method of claim 18,
The protective film layer further comprises a lamination unit for laminating by sequentially adhering the protective film layer to the adhesive film layer from a lamination start point to a lamination end point along the transport direction,
The first cutting scheduled line is determined to be spaced apart from the stacking start point by the second reference distance in a direction opposite to the transfer direction,
The second scheduled cutting line is determined to be spaced apart from the first scheduled cutting line by the third reference distance in a direction opposite to the conveying direction.
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