KR20200094547A - 비스페놀 a의 정제방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다수개의 냉매 노즐이 구비된 결정화 장치에 비스페놀 A, 페놀 및 냉매를 투입하여, 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하는 1차 결정화 공정을 수행하는 단계; 및 상기 다수개의 냉매 노즐 중 적어도 하나의 냉매 노즐에서 냉매의 투입이 중단된 상태에서 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하는 2차 결정화 공정을 수행하는 단계를 포함하고, 상기 2차 결정화 공정을 수행하는 단계는 전체 결정화 공정 수행 시간의 27 % 내지 46 %의 시간 동안 수행되는 것인 비스페놀 A의 정제방법에 관한 것으로서, 본 발명을 따르면, 결정화 장치에 청크가 생성되는 것을 저해할 수 있으며, 이미 생성된 청크의 제거를 용이하게 수행할 수 있다.

Description

비스페놀 A의 정제방법{METHOD FOR PURIFYING BISPHENOL A}
본 발명은 비스페놀 A의 정제방법에 관한 것으로서, 결정화 공정 중에 청크를 용이하게 제거하거나 청크의 생성을 저해할 수 있는 비스페놀 A의 정제방법에 관한 것이다.
비스페놀 A는 결정화 장치를 이용하여 정제된다. 페놀이 비스페놀 A에 비해 과량으로 결정화 장치에 투입되어 페놀과 비스페놀 A의 몰비가 1:1로 물리적 결합하여 비스페놀 A-페놀 부가물을 생성하는데, 비스페놀 A-페놀 부가물이 결정화 장치의 주요 생산 물질이다. 이러한 결정화 공정을 위하여 결정화 장치의 온도를 낮추는 냉각 과정이 필요한데, 현 시스템에서는 냉매를 이용하여 결정화 장치의 내부의 온도를 낮추도록 되어 있다. 하지만, 결정화 장치의 운전일수가 증가하면서 결정화 장치 내부에 청크가 발생되며, 이 청크의 제거를 위해 주기적으로 결정화 장치의 운전을 중지하고 용기 가열을 통해 세척하는 융해 과정을 진행해야 한다.
하지만 융해 과정에 2 내지 3일의 많은 시간이 소요되고, 이중에서 승온 시간(heating up time) 및 대기 시간(holding time)이 약 40 시간 정도 소요되므로 제조효율이 현저하게 저하되는 문제가 발생한다.
KR2018-0031961A
본 발명의 목적은 결정화 공정 중에 청크를 제거하거나 청크의 생성을 저해할 수 있는 비스페놀 A의 정제방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 목적은 결정화 장치의 융해 주기를 증가시킬 수 있는 비스페놀 A의 정제방법을 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 다수개의 냉매 노즐이 구비된 결정화 장치에 비스페놀 A, 페놀 및 냉매를 투입하여, 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하는 1차 결정화 공정을 수행하는 단계; 및 상기 다수개의 냉매 노즐 중 적어도 하나의 냉매 노즐에서 냉매의 투입이 중단된 상태에서 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하는 2차 결정화 공정을 수행하는 단계를 포함하고, 상기 2차 결정화 공정은 전체 결정화 공정 수행 시간의 27 % 내지 46 %의 시간 동안 수행되는 것인 비스페놀 A의 정제방법을 제공한다.
본 발명은 결정화 공정 중에 청크를 용이하게 제거하거나 청크의 생성을 저해할 수 있어 결정화 장치의 융해 주기를 현저하게 증가시킬 수 있다. 이로 인해, 결정화 장치의 유휴 기간을 현저하게 감소시킬 수 있어 제조 효율이 개선될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예를 따른 비스페놀 A의 정제방법에서 사용될 수 있는 결정화 장치를 개략적으로 도시한 것이다.
도 2는 실시예 1의 비스페놀 A의 정제방법을 수행한 결정화 장치에 구비된 냉매를 투입하지 않은 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영한 사진이다.
도 3은 실시예 2의 비스페놀 A의 정제방법을 수행한 결정화 장치에 구비된 냉매를 투입하지 않은 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영한 사진이다.
도 4는 실시예 3의 비스페놀 A의 정제방법을 수행한 결정화 장치에 구비된 냉매를 주기적으로 투입하지 않은 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영한 사진이다.
도 5는 비교예 1의 비스페놀 A의 정제방법을 수행한 결정화 장치에 구비된 냉매를 투입한 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영한 사진이다.
도 6 및 도 7은 비교예 2의 비스페놀 A의 정제방법을 수행한 결정화 장치에 구비된 냉매를 투입하지 않은 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영한 사진이다.
도 8은 비교예 3의 비스페놀 A의 정제방법을 수행한 결정화 장치에 구비된 냉매를 투입하지 않은 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영한 사진이다.
이하, 본 발명에 대한 이해를 돕기 위하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명의 일실시예에 따른 비스페놀 A의 정제방법은 다수개의 냉매 노즐이 구비된 결정화 장치에 비스페놀 A, 페놀 및 냉매를 투입하여, 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하는 1차 결정화 공정을 수행하는 단계; 및 상기 다수개의 냉매 노즐 중 적어도 하나의 냉매 노즐에서 냉매의 투입이 중단된 상태에서 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하는 2차 결정화 공정을 수행하는 단계를 포함하고, 상기 2차 결정화 공정을 수행하는 단계는 전체 결정화 공정 수행 시간의 27 % 내지 46 %의 시간 동안 수행되는 것을 특징으로 한다.
일반적으로 결정화 장치에 비스페놀 A, 페놀 및 냉매를 투입하고, 냉매를 이용하여 비스페놀 A 및 페놀로부터 열을 연속 또는 비연속적으로 제거하는 결정화 공정을 수행함으로써, 과포화를 일으켜 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조할 수 있다. 하지만, 결정화 공정이 진행될수록 부산물로 남겨진 페놀이 결정화 장치 내부, 특히 냉매 노즐 주변에서 고상의 침착물, 즉 청크(chunk)가 과도하게 생성되는 문제가 있어 왔다.
이러한 문제를 해결하기 위하여, 본 발명에 일실시예에 따른 비스페놀 A의 정제방법에서는 상기 다수개의 냉매 노즐 중 적어도 하나의 냉매 노즐에서 냉매를 일정시간 동안 투입하지 않음으로써 비스페놀 A와 페놀을 포함하는 혼합물의 과포화도를 낮출 수 있어 청크의 생성을 저해하거나 이미 생성된 청크를 용이하게 제거할 수 있게 되었다.
이하, 본 발명의 일실시예에 따른 비스페놀 A의 제조방법에 대하여 상세하게 설명한다.
1) 1차 결정화 공정을 수행하는 단계
다수개의 냉매 노즐이 구비된 결정화 장치에 비스페놀 A, 페놀 및 냉매를 투입하여, 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하는 1차 결정화 공정을 수행한다.
상기 비스페놀 A와 페놀은 1:9 내지 5:5 또는 3:7 내지 4:6의 중량비로 투입될 수 있고, 이중 3:7 내지 4:6의 중량비로 투입되는 것이 바람직하다. 상술한 조건을 만족하면, 결정화 공정을 수행할 때, 적정 온도에서 과포화가 일어나 비스페놀 A-페놀 부가물이 용이하게 생성될 수 있다.
상기 비스페놀 A와 페놀은 서로 혼합한 후, 비스페놀 A의 끓는점보다는 낮고 페놀의 끓는점 보다 높은 온도로 승온시켜 액체 상태의 혼합물로 투입될 수 있다. 구체적으로는 상기 비스페놀 A와 페놀은 서로 혼합한 후, 50 내지 150 ℃ 또는 70 내지 130 ℃로 승온시켜 액체 상태의 혼합물로 투입될 수 있고, 이중 70 내지 130 ℃로 승온시켜 액체 상태의 혼합물로 투입되는 것이 바람직하다.
상기 냉매는 펜탄, 헥산 및 물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있으며, 이 중 끓는점이 현저하게 낮은 펜탄이 바람직하다.
상기 냉매 노즐은 냉매가 분사 및 기화가 동시에 일어나는 증발성 냉매 노즐일 수 있다. 이에 따라, 상기 냉매 노즐은 50 내지 150 ℃ 또는 70 내지 130 ℃로 가열된 상태일 수 있고, 이 중 70 내지 130 ℃로 가열된 상태인 것이 바람직하다. 상술한 조건을 만족하면, 결정화 장치의 운정 중 냉매 노즐 주변에 청크가 생성되는 속도를 늦출 수 있다. 또한, 상기 냉매 노즐에 냉매가 투입되지 않을 때에 냉매 노즐 및 이의 주변에 청크가 생성되는 것을 저해할 수 있으며, 이미 생성된 청크도 용이하게 제거할 수 있다.
상기 1차 결정화 공정을 용이하게 수행하기 위하여, 상기 결정화 장치에 구비된 냉매 노즐 모두에서 냉매가 투입되는 것이 바람직하다.
상기 1차 결정화 공정은 30 내지 130 ℃ 또는 50 내지 100 ℃에서 수행될 수 있고, 이 중 50 내지 100 ℃에서 수행되는 것이 바람직하다. 상술한 조건을 만족하면, 1차 결정화 공정이 충분히 수행될 수 있어, 비스페놀 A-페놀 부가물이 용이하게 생성될 수 있다.
2) 2차 결정화 공정을 수행하는 단계
이어서, 상기 다수개의 냉매 노즐 중 적어도 하나의 냉매 노즐에서 냉매의 투입이 중단된 상태에서 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하는 2차 결정화 공정을 수행한다.
여기서, 상기 2차 결정화 공정은 전체 결정화 공정 수행 시간의 27 % 내지 46 % %의 시간 동안 수행되고, 전체 결정화 공정 수행 시간의 33 내지 43 %의 시간 동안 수행되는 것이 바람직하다.
상술한 조건 미만으로 2차 결정화 공정이 수행되면, 냉각 노즐 및 이의 주변에 생성된 청크를 제거할 수 없으며, 청크의 생성도 저해할 수 없다. 상술한 조건을 초과하여 2차 결정화 공정이 수행되면, 청크 뿐만 아니라 비스페놀 A-페놀 부가물의 제거되고, 청크 및 비스페놀 A-페놀 부가물의 생성도 저해된다.
상기 냉매의 투입이 중단된 냉매 노즐은 상기 결정화 장치에 구비된 냉매 노즐의 총 수에 대하여, 10 내지 80 %, 20 내지 60 % 또는 25 내지 50 %일 수 있고, 이 중 25 내지 50 %인 것이 바람직하다. 상술한 조건을 만족하면, 2차 결정화 공정은 용이하게 수행하면서, 냉매 노즐 및 이의 주변에서 청크의 생성을 저해하거나, 이미 생성된 청크를 용이하게 제거할 수 있다.
한편, 상기 2차 결정화 공정은 주기적으로 반복될 수 있다. 구체적으로는 상기 2차 결정화 공정이 수행된 후, 냉매 노즐 모두에서 냉매를 투입하면서 결정화 공정이 수행되고, 그 후 상기 2차 결정화 공정이 수행될 수 있다.
여기서, 상기 주기는 상기 2차 결정화 공정이 수행되고 다시 2차 결정화 공정이 수행될 때까지의 시간을 의미하며, 상기 2차 결정화 공정이 수행되는 시간의 30 내지 150 % 또는 40 내지 130 %의 시간일 수 있고, 이 중 40 내지 130 %의 시간이 바람직하다. 상술한 조건을 만족하면, 결정화 장치의 내부 온도가 상승하는 것을 최소화할 수 있으며, 냉각 노즐 및 이의 주변에 청크가 생성되는 것을 저해하거나, 이미 생성된 청크를 용이하게 제거할 수 있다.
상기 결정화 장치에 청크가 생성되는 것을 저해하거나 이미 생성된 청크를 용이하게 제거하기 위하여, 상기 결정화 공정 중에 냉매를 투입하지 않는 냉매 노즐은 교대될 수 있다. 그리고 상기 냉매 노즐의 교대 주기는 2차 결정화 공정이 수행되는 기간과 동일한 것이 바람직하다.
상기 2차 결정화 공정은 30 내지 130 ℃ 또는 50 내지 100 ℃에서 수행될 수 있고, 이 중 50 내지 100 ℃에서 수행되는 것이 바람직하다. 상술한 조건을 만족하면, 2차 결정화 공정이 충분히 수행될 수 있어, 비스페놀 A-페놀 부가물이 용이하게 생성될 수 있다.
한편, 상기 비스페놀 A의 정제방법은 상기 비스페놀 A-페놀 부가물을 용융시키는 단계; 및 상기 용융된 비스페놀 A-페놀 부가물로부터 비스페놀 A를 분리하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 용융시키는 단계는 70 내지 160 ℃에서 수행될 수 있다.
상기 비스페놀 A를 분리하는 단계는 분별 증류, 액체-액체 분리 공정을 통하여 수행될 수 있다.
한편, 본 발명의 일실시예에 따른 비스페놀 A의 정제방법은 후술하는 결정화 장치를 이용하여 수행될 수 있다. 상기 결정화 장치는 도 1을 참조로 하여 구체적으로 설명한다.
도 1은 본 발명의 일실시예를 따른 비스페놀 A의 정제방법에서 사용될 수 있는 결정화 장치를 개략적으로 도시한 것이다.
도 1을 참조하면, 결정화 장치(1)는 수직방향으로 배치된 원통형 용기(3)와 그 안에 동심적으로(concentrically) 배치된 흡출관(5)을 구비한다. 상기 흡출관(5)의 내부는 변형 보정 바람개비(straightening vanes) 세트(8b) 위에 배치된 임펠러(8a)를 갖는 순환기 조립체(7)를 포함한다. 환형 공간(9)이 흡출관(5)의 외부와 원통형 용기(3)의 내부 표면 사이로 정의된다.
상기 원통형 용기(3)는 냉매 노즐(11)들의 고리, 원료공급 노즐(15)들의 고리 및 재활용 원료 공급 노즐(19)들의 고리로 된 3 세트의 노즐들에 의해 경계가 주어진다.
여기서, 상기 냉매 노즐(11)들의 고리는 원통형 용기(3)의 중간 부근에 위치하고, 상기 냉매 노즐(11)들 각각은 가압된 냉매 소스에 연결된다. 상기 냉매 노즐(11) 각각은 환형 공간(9) 안에 배치된 분사단부(13)을 갖는다. 본 발명의 일실시예에 따른 비스페놀 A의 정제방법에 따르면, 결정화 공정 중에 상기 냉매 노즐(11) 중 다수개에서는 냉매가 투입되되, 하나 이상에서 냉매가 투입되지 않을 수 있다.
상기 원료공급 노즐(15)들의 고리는 상기 원통형 용기(3)의 바닥 근처에서 원통형 용기(3)의 둘레를 에워싼다. 상기 원료공급 노즐(15)은 상기 흡출관(5)의 내부 안에 배치된 분사단부(17)를 포함하며, 상기 순환기 조립체(7)의 임펠러(8a)가 투입된 원료가 원통형 용기(3)으로 도입되자 마자 즉시 순환시키기 시작하여 용기 내용물들과 혼합한다.
상기 냉매 노즐(11)의 고리와 원료투입 노즐(15) 고리 사이에 위치한 재활용 원료투입 노즐(19)의 고리가 위치하고, 상기 재활용 원료투입 노즐(19)은 환형 공간(9) 안에 배치된 분사단부(21)를 갖는다. 상기 재활용 원료투입 노즐(19) 각각은 가압된 재활용 원료투입원에 연결되어 있고, 상기 재활용 원료투입원은 상기 원통형 용기(3)으로부터 배출되는 액체/결정 슬러리 제품으로부터 원심력으로 분리해낸 액체로 형성된다.
상기 원통형 용기(3) 안쪽에서 생산되는 비스페놀 A-페놀 부가물을 원통형 용기(3)의 바닥 근처에 위치한 제품 배출 노즐(23a, 23b)을 이용하여 배출한다. 상기 원통형 용기(3)의 바닥에 위치한 콘형 부재는 순환적 흐름을 증진시켜 비스페놀 A-페놀 부가물이 그 슬러리 안에서 서스펜션 상태를 유지하게 하여 원치 않는 결정체 퇴적물들이 형성되지 못하도록 한다. 상기 콘형 부재(25)는 상부 섹션(40), 중간 섹션(42), 및 하부 섹션(44)을 포함한다. 상기 원통형 용기(3)의 상부에 위치하는 냉매 배출구 또는 노즐(27)은 증기화된 냉매를 냉각 코일 또는 압축기(미도시) 그리고 재액화용 냉각 코일을 배기하고 냉각 노즐(11)로 리사이클링한다.
실시예 1
먼저, 비스페놀 A(녹는점: 158 ℃) 및 페놀(녹는점: 40.5℃)을 4:6의 중량비로 혼합한 후, 100 ℃로 승온시켜 액체 상태의 혼합물을 준비하였다.
결정화 장치의 원료공급 노즐로 상기 혼합물을 연속 투입하였고, 상기 혼합물은 100 ℃로 설정된 결정화 장치의 내부에서 순환되었다.
한편, 결정화 장치의 냉매 노즐 4 개로 펜탄을 투입하였다. 이때, 상기 냉매 노즐의 표면은 100 ℃로 가열된 상태였다. 상기 펜탄이 결정화 장치의 내부에 투입됨으로써, 상기 혼합물을 1 ℃/분의 냉각속도로 냉각시켜 비스페놀 A와 페놀이 1:1의 몰비로 물리적으로 결합된 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하는 1차 결정화 공정이 수행되었다. 이때, 상기 1차 결정화 공정이 수행된 시간은 총 120 분이었다.
이후, 하나의 냉매 노즐에서 냉매를 투입하지 않고, 2차 결정화 공정을 60 분 동안 수행하였다. 이때, 상기 냉매 노즐은 100 ℃로 가열된 상태였다.
2차 결정화 공정을 종료한 후, 냉매를 투입하지 않은 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영하였고, 이를 도 2에 도시하였다.
도 2를 참조하면, 60 분 동안 냉매를 투입하지 않고 가열한 노즐 주변의 이중관에 생성되었던 청크가 대부분 제거된 것을 확인할 수 있었다.
실시예 2
2차 결정화 공정을 90 분 동안 수행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 결정화 장치를 운전하였다.
2차 결정화 공정을 종료한 후, 냉매를 투입하지 않은 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영하였고, 이를 도 3에 도시하였다.
도 3을 참조하면, 90 분 동안 냉매를 투입하지 않고 가열한 노즐 주변의 이중관에 생성되었던 청크가 대부분 제거된 것을 확인할 수 있었다. 하지만, 전체 냉매 투입량이 감소된 상태로 운전하는 시간이 길어지면서 결정화 장치의 내부 온도가 상승하는 경향이 확인되었다.
실시예 3
1차 결정화 공정을 수행한 후, 하나의 냉매 노즐에서 냉매를 30 분 동안 투입하지 않고, 다시 30 분 동안 냉매를 투입하고, 다시 30 분 동안 냉매를 투입하면서 2차 결정화 공정을 수행하였다. 이때, 상기 냉매 노즐은 100 ℃로 가열된 상태였다.
2차 결정화 공정을 종료한 후, 냉매를 주기적으로 투입하지 않고 가열한 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영하였고, 이를 도 4에 도시하였다.
도 4를 참조하면, 냉매를 주기적으로 투입하지 않은 냉매 노즐 주변의 이중관에 청크가 얇게 덮여 있지만, 생성이 많이 억제된 것을 확인할 수 있었다.
비교예 1
2차 결정화 공정을 수행하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하였다.
운전을 종료한 후, 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영하였고, 이를 도 5에 도시하였다.
도 5를 참조하면, 냉매 노즐 주변의 이중관이 청크로 덮여 있는 것을 확인할 수 있었다.
비교예 2
2차 결정화 공정을 30 분 동안 수행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 결정화 장치를 운전하였다.
2차 결정화 공정을 종료한 후, 냉매를 투입하지 않은 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영하였고, 이를 도 6 및 도 7에 도시하였다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 30 분 동안 냉매를 투입하지 않고 가열한 노즐 주변의 이중관에 생성되었던 청크가 부분적으로 제거된 것을 확인할 수 있었다.
비교예 3
2차 결정화 공정을 120 분 동안 수행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 결정화 장치를 운전하였다.
2차 결정화 공정을 종료한 후, 냉매를 투입하지 않은 냉매 노즐 주변의 이중관을 촬영하였고, 이를 도 8에 도시하였다.
도 8을 참조하면, 120 분 동안 냉매를 투입하지 않고 가열한 노즐 주변의 이중관에 생성되었던 청크가 대부분 제거된 것을 확인할 수 있었다. 하지만, 전체 냉매 투입량이 감소된 상태로 운전하는 시간이 길어지면서 결정화 장치의 내부 온도가 상승하여, 가열한 노즐 주변의 이중관에 생성되었던 비스페놀 A-페놀 부가물도 함께 융해된 것을 확인할 수 있었다.

Claims (10)

  1. 다수개의 냉매 노즐이 구비된 결정화 장치에 비스페놀 A, 페놀 및 냉매를 투입하여, 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하는 1차 결정화 공정을 수행하는 단계; 및
    상기 다수개의 냉매 노즐 중 적어도 하나의 냉매 노즐에서 냉매의 투입이 중단된 상태에서 비스페놀 A-페놀 부가물을 제조하는 2차 결정화 공정을 수행하는 단계를 포함하고,
    상기 2차 결정화 공정은 전체 결정화 공정 수행 시간의 27 % 내지 46 %의 시간 동안 수행되는 것인 비스페놀 A의 정제방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 2차 결정화 공정은 전체 결정화 공정 수행 시간의 33 내지 43 %의 시간 동안 비스페놀 A의 정제방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 냉매의 투입이 중단된 냉매 노즐은 상기 결정화 장치에 구비된 냉매 노즐의 총 수에 대하여, 10 내지 80 %인 것인 비스페놀 A의 정제방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 2차 결정화 공정은 주기적으로 반복되는 것인 비스페놀 A의 정제방법.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 주기는 상기 2차 결정화 공정이 수행되는 시간의 30 내지 150 %의 시간인 것인 비스페놀 A의 정제방법.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 냉매 노즐은 50 내지 150 ℃로 가열된 상태인 것인 비스페놀 A의 정제방법.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 냉매는 펜탄, 헥산 및 물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것인 비스페놀 A의 정제방법.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 비스페놀 A와 페놀은 1:9 내지 5:5의 중량비로 투입되는 것인 비스페놀 A의 정제방법.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 1차 결정화 공정 및 2차 결정화 공정은 각각 30 내지 130 ℃에서 수행되는 것인 비스페놀 A의 정제방법.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 비스페놀 A의 정제방법은
    상기 비스페놀 A-페놀 부가물을 용융시키는 단계; 및
    상기 용융된 비스페놀 A-페놀 부가물로부터 비스페놀 A를 분리하는 단계를 포함하는 것인 비스페놀 A의 정제방법.
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