KR20200079049A - 휘스커 저항성이 우수한 전기전자부품용 아연 도금 방법 및 아연 도금 강판 - Google Patents

휘스커 저항성이 우수한 전기전자부품용 아연 도금 방법 및 아연 도금 강판 Download PDF

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Abstract

본 발명은 휘스커 저항성이 우수한 아연 도금 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 탈지 및 산세의 전처리 과정을 거친 도금하고자 하는 강판 모재를 전기 아연 도금하여 1차 도금층을 형성하는 1차 도금 단계, 1차 도금층이 형성된 강판 모재를 일정 온도에서 소정의 시간 동안 유지하고 수증기 처리하여 1차 도금층을 산화시켜 화합물층을 형성하는 화합물화 단계, 1차 도금층이 형성된 강판 모재를 일정 온도에서 소정의 시간 동안 유지하고, 수증기를 처리하여 1차 도금층을 산화시켜 화합물을 형성하는 단계, 1차 도금층에 화합물이 형성된 금속 모재를 전기 아연 도금하여 2차 도금층을 형성하는 2차 도금 단계를 포함하는 아연 도금 방법을 수행함으로써, 아연 도금층에서 화합물이 생성됨을 방지됨에 따라 도금층 압축응력을 생성하게 되는 요소가 없어져 휘스커 생성이 방지되는 아연 도금 방법을 제공한다.

Description

휘스커 저항성이 우수한 전기전자부품용 아연 도금 방법 및 아연 도금 강판{EXCELLENT ACTIVATION WHISKER RESISTANT ZINC COATING METHOD FOR ELECTRICAL AND ELECTRONIC COMPONENTS}
본 발명은 강판에 적용되는 아연 도금 기술에 관한 것으로, 보다 상세하기는 자동차 전기전자부품의 커버에 들어가는 강판에 이중의 아연 도금 공정을 통해 아연 도금막의 내식성을 향상시킬 수 있는 휘스커 저항성이 우수한 아연 도금 방법 및 아연 도금 강판에 관한 것이다.
최근 자동차에 전기전자부품이 증가함에 따라 각 전기전자부품들의 물리적 보호 및 전기적인 차폐를 도와주는 철(Fe)을 이용한 금속 케이스의 사용이 증가하고 있다. 이와 같이 일반적인 강판 제품으로 자동차 제어기의 전기 차폐 특성 및 기계적 물성이 필요한 경우 강판의 표면은 내식성 및 내구성 향상을 위해 전기도금이나 용융도금 방식으로 아연 도금을 한다.
구체적으로 종래 강판에 아연 도금 방법은 도 1에 도시된 바와 같이, 강판 모재에 대하여 아연도금을 실시하여 하나의 아연 도금층을 형성하게 된다. 그러나 이와 같은 종래의 아연도금은 강판 모재와 접촉하는 아연 도금층의 기저층에서 Fe-Zn 화합물층이 발생하게 되고 이로 인해 아연 도금 표면에 산화아연(ZnO)의 산화물층이 발생된다.
그러나 이와 같은 종래의 아연 도금의 경우, 고온 및 고습의 조건에서 장시간 노출되면 아연 도금층에서 화합물층과 산화물층의 부피가 증가되어 아연 도금층의 내부의 압축응력이 발생되어 외부로 아연 도금을 밀어내어 도 2에 도시된 바와 같은 형상의 아연 휘스커(Zn whisker)가 발생된다.
휘스커는 주석 및 아연 등의 금속에서 내부응력에 의하여 도금 표면 밖으로 돌출되어 나오는 긴 금속의 선형 결정이며, 아연 휘스커의 경우 길게는 수 mm까지 자랄 수 있다. 이러한 휘스커가 금속 프레임의 표면에 형성되면, 각 전기전자부품에 간섭이 회로 내에서 전기적 단락(shot circuit)이 발생되어 전기전자부품의 수명을 단축시키는 문제가 발생되므로, 아연 도금에서 휘스커의 발생을 억제할 필요성이 요구되고 있다.
일본등록특허공보 제3337134호
상기와 같은 점을 감안한 본 발명의 목적은, 아연 도금의 내식성능을 향상시키기 위한 것으로, 1차 도금층을 형성한 후, 1차 도금층을 화합물화 산화시켜 화합물층을 형성하고, 이 위에 2차 도금층을 형성한 이중 코팅층을 형성하는 이중의 아연도금 방법을 통해 휘스커 저항성이 우수한 전기전자부품용 아연 도금 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 기술한 과제로만 제한되지 않으며, 기술되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명의 아연 도금 방법은, 도금하고자 하는 강판 모재를 도금용액이 담긴 도금욕에서 전기 아연 도금하여 1차 도금층을 형성하는 1차 도금 단계, 상기 1차 도금층은 산화처리를 통해 화합물층으로 형성되거나 일부 화합물층으로 형성되는 화합물화 단계, 및 상기 화합물화 단계를 거친 강판 모재를 상기 도금용액이 담긴 도금욕에서 전기 아연 도금하여 2차 도금층을 형성하는 2차 도금 단계를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 화합물화 단계는, 상기 1차 도금층은 수증기를 이용한 산화처리를 통해 화합물층을 전체 또는 일부 형성시켜주는 것으로 일 구체예에 따르면, 상기 1차 도금 단계를 거친 강판 모재를 80 내지 170℃ 온도에서 1000시간 유지한 후, 30분 동안 수증기 처리를 하여 1차 도금층을 산화시켜 화합물을 형성할 수 있다.
상기 화합물화 단계에서 상기 1차 도금층에 형성되는 화합물은 바람직하게 Zn-O, Zn-Fe, Zn-Fe-O 및 Fe-O 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 것일 수 있다.
상기 1차 도금 단계는, 상기 강판 모재를 상기 도금용액이 담긴 도금욕에 넣고 3분 정도 전기 아연 도금하여 1차 도금층을 형성할 수 있다.
상기 2차 도금 단계는, 상기 화합물화 단계를 거친 강판 모재를 상기 도금용액이 담긴 도금욕에서 15분 내지 50분 동안 전기 아연 도금하여 2차 도금층을 형성할 수 있다.
상기 1차 도금 단계 또는 2차 도금 단계는 전류밀도 1 내지 5 A/dm2, 온도 20 내지 30℃, pH 10 내지 13의 조건에서 전기 아연 도금하는 것이 바람직하다.
상기 1차 도금 단계를 통해 형성된 상기 1차 도금층의 두께는 0.5㎛ 내지 3㎛ 일 수 있다.
상기 2차 도금 단계를 통해 형성된 상기 2차 도금층의 두께는 3 내지 20㎛일 수 있다.
상기 1차 도금 단계 및 2차 도금 단계는 동일하거나 다른 물질이 포함된 도금용액을 사용하여 각각 1차 도금층 및 2차 도금층을 형성시킬 수 있으나, 바람직하게는 동일한 도금용액을 사용하여 동일 소재로 이루어지는 1차 도금층 및 2차 도금층을 형성시킬 수 있다.
상기 1차 도금 단계 및 2차 도금 단계에서 사용되는 상기 도금용액은 산화아연(ZnO) 14g/L, 수산화나트륨(NaOH) 100g/L 및 탄산나트륨(Na2CO3) 10g/L의 비율로 혼합된 것을 사용할 수 있다.
또한, 상기 도금용액에는 광택제 및 조정제과 같은 추가 첨가제를 더 포함할 수도 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 2차 도금단계 이후에, 2차 도금층 표면에 크로메이트 처리(chromate treatment) 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 1차 도금 단계 이전에, 70℃의 온도로 유지되는 계면활성제가 첨가된 알칼리 탈지액에 도금하고자 하는 강판 모재를 3분 동안 초음파 처리하여 탈지하는 탈지 단계, 및 상기 탈지 단계를 거친 강판 모재를 15중량% 정도의 염산용액에 침지하는 1차 산세 단계를 포함할 수 있다.
상기 탈지 단계에서 사용되는 상기 알칼리 탈지액으로는 수산화나트륨(NaOH) 30g/L, 탄산나트륨(Na2CO3) 10g/L 및 계면활성제 성분으로는 소듐라우릴설페이트(sodium lauryl sulfate, SLS) 5g/L가 포함된 알칼리 탈지액을 바람직하게 사용할 수 있다.
또한, 상기 화합물화 단계를 거친 강판 모재를 15중량% 정도의 염산용액에 침지하는 2차 산세 단계를 포함할 수 있다.
또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 휘스커 저항성이 우수한 아연 도금 강판은, 강판 모재, 상기 강판 모재 위에 형성되어 산화처리를 통해 화합물층으로 형성되거나 일부 화합물층으로 형성된 1차 도금층 및 상기 1차 도금층 위에 형성되는 2차 도금층을 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 1차 도금층은, 앞서 설명한 아연 도금 방법으로 수증기를 이용한 산화처리를 통해 화합물층이 전체 또는 일부 형성된 것으로, 상기 1차 도금층에 형성되는 화합물층에 포함되는 화합물은 바람직하게 Zn-O, Zn-Fe, Zn-Fe-O 및 Fe-O 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 것일 수 있다.
상기 아연 도금 강판에서 1차 도금층 및 2차 도금층은 동일 소재인 것이 바람직하다.
상기 아연 도금 강판에서 1차 도금층은 두께가 0.5㎛ 내지 3㎛일 수 있으며, 상기 2차 도금층은 두께가 3 내지 20㎛일 수 있다.
상기 2차 도금층 상부에는 두께 1㎛ 이하의 크로메이트층이 더 형성될 수 있다.
본 발명에 따른 아연 도금 방법은, 강판 모재를 1차 도금 후에 화합물화 단계를 통해 만들어진 화합물이 철이온(Fe) 결합의 장벽(barrier)가 되어 1차 도금층 상부에 형성된 2차 도금층 쪽의 화합물 생성이 불가능하고 균질한 상태의 도금이 유지되므로 아연 도금층의 압축응력 발생이 저지되어 휘스커 발생을 억제되는 효과를 갖는다.
도 1은 종래의 아연 도금 방법을 나타낸 모식도이다.
도 2는 종래 아연 도금층에서 형성된 아연 휘스커를 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 아연 도금 방법의 순서도이다.
도 4는 본 발명의 아연 도금 방법을 나타낸 모식도이다.
이하, 본원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 들어 상세히 설명한다. 그러나 본원은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
본원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 단계, 숫자, 구성요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 단계. 숫자, 구성요소 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
도 3은 본 발명의 아연 도금 방법의 순서도를 나타낸 것으로, 도시된 바와 같이, 탈지 단계(S110), 1차 산세 단계(S120), 1차 도금 단계(S130), 화합물화 단계(S140), 2차 산세 단계(S150), 2차 도금 단계(S160) 및 크로메이트 처리 단계(S170)를 포함하여 이루어 진다.
상기 탈지 단계(S110) 및 1차 산세 단계(S120)는 도금하고자 하는 강판 모재의 표면에 도금을 방해할 수 있는 기름 등과 같은 이물질을 제거하는 아연 도금 과정 전에 전처리 단계로서 수행된다.
구체적으로 탈지 단계(S110)는 60 내지 80℃의 온도로 유지되는 계면활성제가 첨가된 알칼리 탈지액에 도금하고자 하는 강판 모재를 3분동안 초음파 처리하여 탈지한다. 이때, 탈지 단계가 상기 제시된 온도를 범위를 벗어나 80℃를 초과하는 온도로 수행될 경우 도금 대상이 되는 강판 표면에 열적 부담을 줄 수 있고, 반대로 60℃ 미만의 온도에서는 탈지가 충분하게 이루어지지 않는 문제가 발생되므로, 상기 제시된 온도 범위를 만족하는 것이 바람직하며, 70℃ 온도로 유지하여 탈지 단계를 수행하는 것이 더 바람직하다.
상기 강판 모재로는 바람직하게 냉간 압연 강판(steel plate cold commercial, SPCC), 자동차 구조용 열간 압연 강판(제품명 SAPH 강판)을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않고, 도금을 수행하고자 하는 철(Fe)을 함유하는 금속 소재의 판재를 제한 없이 사용할 수 있다.
1차 산세 단계(S120)는 상기 탈지 단계(S120)을 거친 강판 모재의 표면에 있을 불필요한 스케일 또는 녹 등의 이물질을 제거하기 위한 과정으로서, 15중량% 염산용액에 강판 모재를 30초간 침지한다. 이때, 제시된 염산용액의 농도보다 진한 용액을 사용하면 되면 지나치게 산세 과정이 진행되어 강판 모재의 표면에 손상을 줄 수 있는 문제가 생길 수 있으며, 반대로 제시된 염산용액의 농도보다 옅은 염산용약은 이물질 제거가 제대로 이루어질 수 없다.
1차 도금 단계(S130)는 앞서 탈지 단계(S110) 및 1차 산세 단계(S120)를 거친 강판 모재에 1차 도금층을 형성하는 단계이다.
구체적으로 상기 1차 산세 단계(S120)를 거친 강판 모재를 물로 세척한 후, 산화아연(ZnO) 14g/L, 수산화나트륨(NaOH) 100g/L 및 탄산나트륨(Na2CO3) 10g/L의 비율로 혼합된 도금 용액이 담긴 도금욕에서 전류밀도 1 내지 5 A/dm2, 온도 20 내지 30℃, pH 10 내지 13의 조건에서 전기 아연 도금하며, 보다 더 바람직하게는 전류밀도 2 A/dm2, 온도 28℃, pH 12.4의 조건에서 3분 동안 전가 아연 도금하여 1차 도금층을 형성한다.
형성된 1차 도금층의 두께는 0.5㎛ 내지 3㎛이며, 만약 1차 도금층의 두께가 0.5㎛ 미만이면, 일반적으로 냉연강판에서 요구되는 표면조도를 만족하지 못하여 이후 진행될 화합물화 단계(S140)에서 화합물층을 안정적으로 형성시키기 어렵고, 1차 도금층의 두께가 3㎛를 초과하면 화합물화 단계(S140)에서 형성되는 화합물층의 두께가 아연 도금층 보다 두껍게 형성되는 것이므로 3㎛이하가 되어야 한다.
한편, 본 발명의 1차 도금 단계 또는 2차 도금 단계에서 사용되는 도금욕으로는 산성아연욕, 시안아연욕, 징케이트 아연욕 등을 일반적으로 아연 도금에 사용되는 도금욕을 사용할 수 있다.
상기 도금 용액의 구성은 아연(Zn)의 공급원으로 산화아연(ZnO)을 포함하고, 착화제로 수산화나트륨(NaOH)을 포함할 수 있으며, 여기에 추가 첨가제로서 광택제로 NZ-87S 6 ml/L, 조정제로 F-0529 4 ml/L를 더 포함할 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
화합물화 단계(S140)는 앞서 1차 도금 단계(S130)를 통해 1차 도금층이 형성된 강판 모재를 일정 온도에서 일정 시간 동안 유지하고, 수증기 처리하여 1차 도금층을 산화처리공정을 통해 화합물층을 전체 또는 일부 형성시켜주는 단계이다.
구체적으로 화합물화 단계(S140)는 상기 1차 도금 단계를 거친 강판 모재를 80 내지 170℃ 온도에서 1000시간 유지한 후, 30분 동안 수증기 처리를 하여 1차 도금층을 산화시켜 화합물을 형성하는 과정을 통해 1차 도금층에 화합물층이 형성된다.
이때 1차 도금층에 형성되는 화합물층을 구성하는 화합물로는 Zn-O, Zn-Fe, Zn-Fe-O 및 Fe-O 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 것일 수 있다.
이렇게 1차 도금층에서 형성된 화합물층은 1차 도금층에서 원자의 이동을 막아주는 장벽(barrier)의 역할을 하게 되어 이후 과정에서 1차 도금층 위에 형성될 2차 도금층에서의 화합물이 생성되는 것을 방지하는 역할을 하게 된다. 즉, 화합물 생성이 방지됨에 따라서 2차 도금층에서의 압축응력을 생성하는 요소가 없어지므로 휘스커 생성이 방지되는 효과를 갖는다.
2차 산세 단계(S150)는 상기 화합물화 단계(S140)를 거친 강판 모재에 다시 아연 도금이 용이하게 이루어질 수 있도록 하기 위한 전처리 단계로서 2차 도금을 진행하기 위해 상기 1차 산세 단계(S120)와 동일한 방법으로 15중량% 염산용액에 30초간 침지한다.
이렇게 2차 산세 단계(S150)을 거진 강판 모재를 물로 세척한 후, 2차 도금 단계(S160)을 수행한다.
구체적으로 2차 도금 단계(S160)는 상기 1차 도금 단계에서와 동일한 도금용액으로 산화아연(ZnO) 14g/L, 수산화나트륨(NaOH) 100g/L 및 탄산나트륨(Na2CO3) 10g/L의 비율로 혼합된 도금용액이 담긴 도금욕에 세척된 강판 모재를 침지하고 전류밀도 1 내지 5 A/dm2, 온도 20 내지 30℃, pH 10 내지 13의 조건에서 전기 아연 도금하며, 보다 더 바람직하게는 전류밀도 2 A/dm2, 온도 28℃, pH 12.4의 조건에서 15분 내지 50분 동안 2차 도금층을 형성한다.
여기서 형성된 2차 도금층의 두께는 바람직하게 두께는 3 내지 20㎛일 수 있다.
상기 1차 도금 단계(S130) 및 2차 도금 단계(S160)에서는 동일한 도금용액을 사용하여 동일 소재의 1차 도금층 및 2차 도금층을 형성하는 것이 바람직하다.
1차 도금층 상부에 동일 소재로 이루어지는 아연 도금층인 2차 도금층을 형성하게 되면, 일반적으로 이종 금속 간의 접합부위에서 각 금속 간의 활성 전위 차이에 의한 갈바닉 부식(Galvanic corrosion) 현상이 발생되지 않으며, 또한 열적 특성이 동일하여 열팽창계수(Coefficient of Thermal Expansion)도 같으므로 외부 열에 대한 변형 값이 동일하여 1차 도금층과 2차 도금층의 적층 구조에서 박리 현상을 방지할 수 있는 피로특성이 우수한 아연 도금층을 형성할 수 있다.
상기 2차 도금 단계 이후에, 2차 도금층 표면에 크로메이트 처리(chromate treatment) 단계(S170)를 선택적으로 실시할 수 있다.
상기 크로메이트 처리(S170)는 크롬산 또는 중크롬산을 주성분으로 하는 크로메이트 용액 속에 2차 도금층이 형성된 금속 모재를 넣어 방청 피막을 형성하는 단계로서, 구체적으로 2차 아연 도금이 완료된 강판을 pH 0.8 내지 2.2, 온도범위 20℃ 내지 30℃에서 20초 내지 40초 동안 크로메이트 용액이 구비된 크로메이트처리조 중에 침지하여 1㎛ 두께로 도금하며, 이와 같이 크로메이트 처리를 수행하는 경우 1차 도금층에서 형성된 화합물층의 안정화로 인해 강판에 기존 아연 도금 대비 우수한 내식성을 부여할 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 아연 도금 방법의 순서를 나타낸 모식도이다. 도 4에 나타낸 것처럼 1차 도금 단계(S130)로 강판 모재(10) 상부에 1차 도금층(20)을 형성하고, 화합물화 단계(S140)를 통해 상기 1차 도금층(20) 전체 또는 일부에 화합물층(25)을 형성시키며, 상기 화합물층(25)이 형성된 1차 도금층 상부에 2차 도금 단계(S160)를 거쳐 2차 도금층(30)을 형성하게 된다.
본 발명에 따른 아연 도금 방법은 앞서 살펴본 바와 같이 도금 대상인 강판 모재에 아연 도금을 이중으로 실시한 것으로서, 1차 도금층을 형성한 후 화합물화 단계를 통해 1차 도금층을 산화처리공정을 통해 화합물층을 형성시킨 후, 다시 2차 도금층을 실시한다. 이렇게 이중으로 아연 도금을 수행한 본 발명의 아연 도금은 화합물 및 화합물층이 형성된 1차 도금층이 화학적으로 안정성을 가지게 되어 철이온(Fe) 결합의 장벽(barrier)과 같은 역할을 함으로써, 2차 아연 도금된 2차 도금층에서 화합물 형성 및 산화물의 형성이 억제되어, 결과적으로 아연 도금층의 압축응력 생성이 억제되어 휘스커 발생을 억제하며, 또한 종래 아연 도금 대비 내식성이 우수한 효과를 갖는다. 그러므로 다양한 전기전자부품에 휘스커 저항 및 내식성이 우수한 아연 도금을 제공할 수 있다.
앞서 살펴본 실시예는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시하도록 하는 바람직한 실시예일뿐 전술한 실시예 및 첨부한 도면에 한정되는 것은 아니다. 따라서 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변경 및 변경이 가능하다.
10: 강판 모재
20 : 1차 도금층
25 : 화합물층
30 : 2차 도금층

Claims (20)

  1. 강판 모재를 도금용액이 담긴 도금욕에서 전기 아연 도금하여 1차 도금층을 형성하는 1차 도금 단계;
    상기 1차 도금층은 산화처리를 통해 화합물층으로 형성되거나 일부 화합물층으로 형성되는 화합물화 단계; 및
    상기 화합물화 단계를 거친 강판 모재를 상기 도금용액이 담긴 도금욕에서 전기 아연 도금하여 2차 도금층을 형성하는 2차 도금 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연 도금 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 화합물화 단계는,
    상기 1차 도금층은 수증기를 이용한 산화처리를 통해 화합물층을 전체 또는 일부 형성시켜주는 것을 특징으로 하는 아연 도금 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 화합물화 단계는,
    상기 1차 도금 단계를 거친 강판 모재를 80 내지 170℃ 온도에서 1000시간 유지하여 화합물을 형성하고, 30분 동안 수증기를 불어 넣는 산화처리공정을 통해 1차 도금층은 표면에 화합물층이 형성되는 것을 특징으로 하는 아연 도금 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 화합물화 단계에서 상기 1차 도금층에 형성되는 화합물은 Zn-O, Zn-Fe, Zn-Fe-O 및 Fe-O 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 아연 도금 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 1차 도금 단계는,
    상기 강판 모재를 상기 도금용액이 담긴 도금욕에 넣고 3분동안 전기 아연 도금하여 1차 도금층을 형성하는 것을 특징으로 하는 아연 도금 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 2차 도금 단계는,
    상기 화합물화 단계를 거친 강판 모재를 상기 도금용액이 담긴 도금욕에서 15분 내지 50분 동안 전기 아연 도금하여 2차 도금층을 형성하는 것을 특징으로 하는 아연 도금 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 1차 도금 단계 또는 상기 2차 도금 단계는 전류밀도 1 내지 5 A/dm2, 온도 20 내지 30℃, pH 10 내지 13에서 전기 아연 도금을 수행하는 것을 특징으로 하는 아연 도금 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 1차 도금 단계 및 상기 2차 도금 단계는 동일한 도금용액을 사용하여 각각 1차 도금층 및 2차 도금층을 형성하는 것을 특징으로 하는 아연 도금 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 도금용액은 산화아연(ZnO) 14g/L, 수산화나트륨(NaOH) 100g/L 및 탄산나트륨(Na2CO3) 10g/L의 비율로 혼합된 것을 특징으로 하는 아연 도금 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 도금용액은 광택제 및 조정제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 아연도금 방법.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 2차 도금단계 이후에, 표면에 크로메이트 처리(chromate treatment) 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 아연 도금 방법.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 1차 도금 단계 이전에,
    70℃의 온도로 유지되는 계면활성제가 첨가된 알칼리 탈지액에 도금하고자 하는 강판 모재를 3분동안 초음파 처리하여 탈지하는 탈지 단계; 및
    상기 탈지 단계를 거친 강판 모재를 염산용액에 침지하는 1차 산세 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연 도금 방법.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 화합물화 단계를 거친 강판 모재를 염산용액에 침지하는 2차 산세 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연 도금 방법.
  14. 강판 모재;
    상기 강판 모재 위에 형성되어 산화처리를 통해 화합물층으로 형성되거나 일부 화합물층으로 형성된 1차 도금층; 및
    상기 1차 도금층 위에 형성되는 2차 도금층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 아연 도금 강판.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 1차 도금층은,
    수증기를 이용한 산화처리를 통해 화합물층이 전체 또는 일부 형성된 것을 특징으로 하는 아연 도금 강판.
  16. 제14항에 있어서,
    상기 화합물층에 포함되는 화합물은 Zn-O, Zn-Fe, Zn-Fe-O 및 Fe-O 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 아연 도금 강판.
  17. 제14항에 있어서,
    상기 1차 도금층과 상기 2차 도금층은 동일 소재인 것을 특징으로 하는 아연 도금 강판.
  18. 제14항에 있어서,
    상기 1차 도금층은 두께가 0.5㎛ 내지 3㎛인 것을 특징으로 하는 아연 도금 강판.
  19. 제14항에 있어서,
    상기 2차 도금층은 두께가 3 내지 20㎛인 것을 특징으로 하는 아연 도금 강판.
  20. 제14항에 있어서,
    상기 2차 도금층 상부에는 1㎛ 이하의 크로메이트층이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 아연 도금 강판.
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