KR20200073986A - Gas laser apparatus - Google Patents

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KR20200073986A
KR20200073986A KR1020190139366A KR20190139366A KR20200073986A KR 20200073986 A KR20200073986 A KR 20200073986A KR 1020190139366 A KR1020190139366 A KR 1020190139366A KR 20190139366 A KR20190139366 A KR 20190139366A KR 20200073986 A KR20200073986 A KR 20200073986A
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KR
South Korea
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chamber
gas
laser
optical resonator
disposed
Prior art date
Application number
KR1020190139366A
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Korean (ko)
Inventor
야스히로 오카다
마사후미 요로즈
켄타 타나카
조이치 카와무라
Original Assignee
스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
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    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/034Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
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    • HELECTRICITY
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    • H01S3/036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube

Abstract

Provided is a gas laser apparatus capable of suppressing the degradation of an optical component such as a mirror or the like due to particles without having to arrange a dedicated device for removing particles in a chamber. In a chamber filled with laser gas, an optical resonator is disposed to confine laser light. With respect to a height direction, an introduction port for introducing laser gas into the chamber is provided within a range in which the optical resonator is arranged or at a position higher than the range in which the optical resonator is arranged. The laser gas is exhausted from the chamber through an exhaust port.

Description

가스레이저장치{GAS LASER APPARATUS}Gas laser system {GAS LASER APPARATUS}

본 출원은 2018년 12월 14일에 출원된 일본 특허출원 제2018-234717호에 근거하여 우선권을 주장한다. 그 출원의 전체 내용은 이 명세서 중에 참고로 원용되어 있다.This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2018-234717 filed on December 14, 2018. The entire contents of the application are incorporated herein by reference.

본 발명은, 가스레이저장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas laser device.

가스레이저장치의 챔버 내의 파티클이 광공진기의 미러의 표면에 부착되면, 타붙음(눌어붙음) 등에 의하여 미러가 열화한다. 이들 파티클은, 예를 들면 가스레이저장치의 조립이나 메인터넌스 등에 있어서 챔버가 개방되었을 때에, 챔버 내에 들어간다. 챔버에 들어간 파티클은, 챔버로부터 배출되지 않고 챔버 내에 체류한다.When particles in the chamber of the gas laser device adhere to the surface of the mirror of the optical resonator, the mirror deteriorates due to sticking (sticking) or the like. These particles enter the chamber when the chamber is opened, for example, in assembly or maintenance of a gas laser device. Particles entering the chamber do not escape from the chamber and remain in the chamber.

하기의 특허문헌 1에, 챔버 내에 먼지포획장치를 배치한 가스레이저장치가 개시되어 있다. 먼지포획장치가 챔버 내의 파티클을 포획함으로써, 미러의 열화가 억제된다.In the following Patent Document 1, a gas laser device in which a dust trapping device is disposed in a chamber is disclosed. When the dust trapping device captures particles in the chamber, deterioration of the mirror is suppressed.

특허문헌 1: 일본 공고 실용신안공보 평2-17491호Patent Literature 1: Japanese Publication Utility Model Publication No. Hei 2-17491

종래의 가스레이저장치에서는, 챔버 내에 먼지포획장치를 수용하기 위한 공간을 준비해야 한다. 이 때문에, 챔버가 대형화되어 버린다. 또, 먼지포획장치를 설치하는 장소에 따라서는, 먼지포획장치가 레이저가스의 유량저하의 원인이 되는 경우도 있다. 본 발명의 목적은, 챔버 내에 파티클제거를 위한 전용의 장치를 배치하지 않아도, 파티클에 기인하는 미러 등의 광학부품의 열화를 억제하는 것이 가능한 가스레이저장치를 제공하는 것이다.In a conventional gas laser device, a space for accommodating a dust trap device in a chamber must be prepared. For this reason, the chamber is enlarged. Further, depending on the place where the dust trapping device is installed, the dust trapping device may cause a decrease in the flow rate of the laser gas. An object of the present invention is to provide a gas ray storage value capable of suppressing deterioration of optical components such as mirrors caused by particles, even without a dedicated device for removing particles in the chamber.

본 발명의 일 관점에 의하면,According to one aspect of the invention,

레이저가스가 채워지는 챔버와,A chamber filled with laser gas,

상기 챔버 내에 배치되어 있고, 레이저광을 가두는 광공진기와,An optical resonator disposed in the chamber and trapping laser light,

높이방향에 관하여, 상기 광공진기가 배치되어 있는 범위 내, 또는 상기 광공진기가 배치되어 있는 범위보다 높은 위치에 마련되며, 상기 챔버 내에 레이저가스를 도입하는 도입포트와,With respect to the height direction, it is provided in a position higher than the range in which the optical resonator is disposed, or the range in which the optical resonator is disposed, and an introduction port for introducing laser gas into the chamber,

상기 챔버 내로부터 레이저가스를 배기하는 배기포트를 갖는 가스레이저장치가 제공된다.A gas laser apparatus having an exhaust port for exhausting laser gas from within the chamber is provided.

본 발명의 다른 관점에 의하면,According to another aspect of the invention,

레이저가스가 채워지는 챔버와,A chamber filled with laser gas,

상기 챔버 내에 배치되어 있고, 레이저광을 가두는 광공진기와,An optical resonator disposed in the chamber and trapping laser light,

상기 챔버 내에 레이저가스를 도입하는 도입포트와,An introduction port for introducing laser gas into the chamber,

상기 도입포트보다 낮은 위치에 마련되어 있으며, 상기 챔버 내로부터 레이저가스를 배기하는 배기포트를 갖는 가스레이저장치가 제공된다.A gas laser device provided at a position lower than the introduction port and having an exhaust port for exhausting laser gas from the chamber is provided.

도입포트를, 광공진기가 배치되어 있는 범위 내, 또는 광공진기가 배치되어 있는 범위보다 높은 위치에 마련하면, 챔버 내에 레이저가스를 도입할 때에, 광공진기가 배치된 공간을 통과하여 하방을 향하는 가스류가 형성된다. 이 가스류를 타고, 파티클이 챔버의 낮은 영역에 모인다.When the introduction port is provided in a position within the range where the optical resonator is disposed or higher than the range where the optical resonator is disposed, when introducing the laser gas into the chamber, the gas passes through the space where the optical resonator is disposed and goes downward. Flow is formed. Riding this gas stream, particles collect in the lower area of the chamber.

또, 배기포트를 도입포트보다 낮은 위치에 마련하면, 도입포트와 배기포트의 사이의 높이 범위에, 가스의 배기 시 및 도입 시 양방에 있어서 하방을 향하는 가스류가 형성된다. 이 때문에, 챔버 내의 파티클을 효율적으로 챔버의 낮은 영역에 모을 수 있다.Moreover, when the exhaust port is provided at a position lower than the introduction port, gas flows downward at both the time of exhaust and introduction of the gas in the height range between the introduction port and the exhaust port. For this reason, particles in the chamber can be efficiently collected in the lower region of the chamber.

파티클을 챔버의 낮은 영역에 모음으로써, 광공진기의 근방에 부유(浮遊)하는 파티클의 밀도를 저감시킬 수 있다. 그 결과, 광공진기의 미러 등의 광학부품의 열화를 억제할 수 있다.By collecting particles in the lower region of the chamber, the density of particles floating near the optical resonator can be reduced. As a result, deterioration of optical components such as a mirror of the optical resonator can be suppressed.

도 1은, 실시예에 의한 가스레이저장치의 광축을 포함하는 연직단면도이다.
도 2는, 본 실시예에 의한 가스레이저장치의 광축에 수직인 단면도이다.
도 3은, 레이저가스를 교환하는 수순을 나타내는 플로차트이다.
도 4는, 챔버 내를 배기하고 있는 기간(스텝 S2)의 가스레이저장치의 단면도이다.
도 5의 (a) 및 (b)는, 챔버 내에 레이저가스를 도입하고 있는 기간(스텝 S4)의 가스레이저장치의 단면도이다.
도 6의 (a)~(d)는, 다른 실시예에 의한 가스레이저장치의 도입포트, 배기포트, 광공진기, 및 블로어의 위치관계를 나타내는 모식도이다.
1 is a vertical cross-sectional view including an optical axis of a gas laser device according to an embodiment.
2 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis of the gas laser device according to the present embodiment.
3 is a flowchart showing the procedure for exchanging laser gas.
4 is a cross-sectional view of the gas laser device during a period in which the chamber is exhausted (step S2).
5(a) and 5(b) are cross-sectional views of a gas laser device during a period in which laser gas is introduced into the chamber (step S4).
6A to 6D are schematic diagrams showing the positional relationship of the introduction port, the exhaust port, the optical resonator, and the blower of the gas laser device according to another embodiment.

도 1~도 5를 참조하여, 실시예에 의한 가스레이저장치에 대하여 설명한다.The gas laser device according to the embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 5.

도 1은, 실시예에 의한 가스레이저장치의 광축을 포함하는 연직단면도이다. 광공진기의 광축방향을 z축방향으로 하고, 연직상방을 x축방향으로 하는 xyz직교좌표계를 정의한다. 실시예에 의한 가스레이저장치는, 예를 들면 탄산가스레이저장치이다.1 is a vertical cross-sectional view including an optical axis of a gas laser device according to an embodiment. An xyz rectangular coordinate system is defined with the optical axis direction of the optical resonator as the z-axis direction and the vertical upward direction as the x-axis direction. The gas ray storage value according to the embodiment is, for example, a carbon dioxide gas laser device.

챔버(10)에 레이저가스가 수용된다. 레이저가스에는, 예를 들면, 이산화탄소, 질소, 헬륨 등이 포함된다. 챔버(10)의 내부공간이, 상대적으로 상측에 위치하는 광학실(11)과, 상대적으로 하측에 위치하는 블로어실(12)로 구분되어 있다. 광학실(11)과 블로어실(12)은, 상하구획판(13)으로 구획되어 있다. 다만, 상하구획판(13)에는, 레이저가스를 광학실(11)과 블로어실(12)의 사이에서 유통시키는 개구가 마련되어 있다. 블로어실(12)의 측벽으로부터 광학실(11)의 바닥판(14)이 z축방향의 양측으로 뻗어 있고, 광학실(11)의 z축방향의 길이가, 블로어실(12)의 z축방향의 길이보다 길게 되어 있다. 챔버(10)는, 광학실(11)의 바닥판(14)에 있어서 챔버지지부재(16)에 의하여 광학베이스에 지지된다.The laser gas is accommodated in the chamber 10. The laser gas includes, for example, carbon dioxide, nitrogen, and helium. The interior space of the chamber 10 is divided into an optical chamber 11 positioned relatively upward and a blower chamber 12 positioned relatively lower. The optical chamber 11 and the blower chamber 12 are divided into upper and lower partition plates 13. However, the upper and lower partition plates 13 are provided with openings through which laser gas flows between the optical chamber 11 and the blower chamber 12. The bottom plate 14 of the optical chamber 11 extends from both side walls of the blower chamber 12 to both sides in the z-axis direction, and the length in the z-axis direction of the optical chamber 11 is z-axis of the blower chamber 12 It is longer than the length of the direction. The chamber 10 is supported on the optical base by the chamber support member 16 on the bottom plate 14 of the optical chamber 11.

광학실(11) 내에, 한 쌍의 방전전극(21)이 배치되어 있다. 한 쌍의 방전전극(21)은, 각각 방전전극지지부재(22, 23)를 통하여 바닥판(14)에 지지되어 있다. 한 쌍의 방전전극(21)은, x축방향으로 간격을 두고 배치되며, 양자 사이에 방전영역(24)이 획정(劃定)된다. 방전전극(21)은 방전영역(24)에 방전을 발생시킴으로써, 레이저가스를 여기시킨다. 나중에 도 2를 참조하여 설명하는 바와 같이, 방전영역(24)을 도 1의 지면에 수직인 방향으로 레이저가스가 흐른다.In the optical chamber 11, a pair of discharge electrodes 21 are arranged. The pair of discharge electrodes 21 are supported on the bottom plate 14 through discharge electrode support members 22 and 23, respectively. The pair of discharge electrodes 21 are arranged at intervals in the x-axis direction, and a discharge region 24 is defined between them. The discharge electrode 21 excites the laser gas by generating discharge in the discharge region 24. As will be described later with reference to FIG. 2, the laser gas flows in the direction perpendicular to the ground of FIG. 1.

광학실(11) 내에 배치된 공통지지부재(26)에 광공진기(25)가 지지되어 있다. 광공진기(25)는, 예를 들면 한 쌍의 미러(25M)로 구성되어 있다. 광공진기(25)의 광축이 방전영역(24) 내를 통과하고 있으며, 광공진기(25)는 레이저광을 가둔다. 공통지지부재(26)는, 광공진기지지부재(27)를 통하여 바닥판(14)에 지지되어 있다. 광공진기(25)의 광축을 일방의 미러(25M)(도 1에 있어서 좌측의 미러)측에 연신시킨 연장선과 광학실(11)의 벽면과의 교차개소에, 레이저빔을 투과시키는 광투과창(28)이 장착되어 있다. 광공진기(25) 내에서 여진된 레이저빔이 광투과창(28)을 투과하여 외부에 방사된다.The optical resonator 25 is supported by the common support member 26 disposed in the optical chamber 11. The optical resonator 25 is composed of, for example, a pair of mirrors 25M. The optical axis of the optical resonator 25 passes through the discharge region 24, and the optical resonator 25 traps the laser light. The common support member 26 is supported by the bottom plate 14 through the optical resonator support member 27. An optical transmission window that transmits a laser beam at an intersection between an extension line extending the optical axis of the optical resonator 25 on one side of the mirror 25M (the mirror on the left side in FIG. 1) and the wall surface of the optical chamber 11. 28 is mounted. The laser beam excited in the optical resonator 25 passes through the light transmitting window 28 and is radiated to the outside.

블로어실(12)에 블로어(50)가 배치되어 있다. 즉, 광공진기(25) 및 방전전극(21)은, 블로어(50)보다 높은 위치에 배치되어 있다. 블로어(50)는, 광학실(11)과 블로어실(12)의 사이에서 레이저가스를 순환시킨다.The blower 50 is disposed in the blower chamber 12. That is, the optical resonator 25 and the discharge electrode 21 are disposed at a higher position than the blower 50. The blower 50 circulates the laser gas between the optical chamber 11 and the blower chamber 12.

광학실(11)의 벽면에, 챔버(10) 내에 레이저가스를 도입하기 위한 도입포트(31)가 마련되어 있다. 도입포트(31)는, 도입밸브(32)를 통하여 레이저가스공급원(33)에 접속되어 있다. 도입밸브(32)를 개방하면, 도입포트(31)로부터 챔버(10) 내에 레이저가스가 도입된다. 도입포트(31)는, 높이방향에 관하여 광공진기(25)가 배치되어 있는 범위보다 높은 위치에 마련되어 있다.On the wall surface of the optical chamber 11, an introduction port 31 for introducing laser gas into the chamber 10 is provided. The introduction port 31 is connected to the laser gas supply source 33 through the introduction valve 32. When the introduction valve 32 is opened, laser gas is introduced into the chamber 10 from the introduction port 31. The introduction port 31 is provided at a position higher than the range in which the optical resonator 25 is disposed with respect to the height direction.

블로어실(12)의 벽면에, 챔버(10) 내로부터 레이저가스를 배기하기 위한 배기포트(35)가 마련되어 있다. 배기포트(35)는, 배기밸브(36)를 통하여 진공펌프(37)에 접속되어 있다. 배기밸브(36)를 개방하고, 진공펌프(37)을 동작시키면, 챔버(10) 내가 진공배기된다. 배기포트(35)는, 높이방향에 관하여 블로어(50)가 배치되어 있는 범위보다 낮은 위치에 마련되어 있다.On the wall surface of the blower chamber 12, an exhaust port 35 for exhausting laser gas from inside the chamber 10 is provided. The exhaust port 35 is connected to the vacuum pump 37 through the exhaust valve 36. When the exhaust valve 36 is opened and the vacuum pump 37 is operated, the chamber 10 is evacuated. The exhaust port 35 is provided at a position lower than the range in which the blower 50 is disposed with respect to the height direction.

도 1은, 도입포트(31) 및 배기포트(35)의 수평방향에 관한 위치를 구체적으로 나타내고 있는 것은 아니다. 예를 들면, 도입포트(31) 및 배기포트(35)는, 광공진기(25)의 광축을 포함하는 연직단면 상에 배치되어 있을 필요는 없다. 따라서, 도입포트(31) 및 배기포트(35)는, 도 1에 나타낸 단면에 나타나지 않는 경우도 있다. 또, 도 1에서는, 광공진기(25)의 광축에 수직인 벽면에 도입포트(31) 및 배기포트(35)가 마련되어 있는 것처럼 나타내고 있지만, 그 외의 벽면, 예를 들면 광축에 평행한 벽면에 마련해도 된다.1 does not specifically show the positions of the introduction port 31 and the exhaust port 35 in the horizontal direction. For example, the introduction port 31 and the exhaust port 35 need not be arranged on the vertical cross section including the optical axis of the optical resonator 25. Therefore, the introduction port 31 and the exhaust port 35 may not appear in the cross section shown in FIG. 1. In FIG. 1, although the introduction port 31 and the exhaust port 35 are provided on the wall surface perpendicular to the optical axis of the optical resonator 25, other wall surfaces, for example, provided on the wall surface parallel to the optical axis May be

도 2는, 본 실시예에 의한 가스레이저장치의 광축(z축)에 수직인 단면도이다. 챔버(10)의 내부공간이 상하구획판(13)에 의하여, 상방의 광학실(11)과 하방의 블로어실(12)로 구분되어 있다. 광학실(11) 내에, 한 쌍의 방전전극(21), 광공진기(25)를 지지하는 공통지지부재(26)가 배치되어 있다. 방전전극(21)의 사이에 방전영역(24)이 획정된다. 방전영역(24)과 중첩되는 위치에 광공진기(25)의 미러(25M)(도 1)가 배치되어 있다.2 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis (z-axis) of the gas laser device according to the present embodiment. The inner space of the chamber 10 is divided into an upper optical chamber 11 and a lower blower chamber 12 by the upper and lower partition plates 13. In the optical chamber 11, a common support member 26 for supporting a pair of discharge electrodes 21 and a photoresonator 25 is disposed. The discharge region 24 is defined between the discharge electrodes 21. A mirror 25M (FIG. 1) of the optical resonator 25 is disposed at a position overlapping with the discharge region 24.

광학실(11) 내에 구획판(15)이 배치되어 있다. 구획판(15)은, 상하구획판(13)에 마련된 개구(13A)로부터 방전영역(24)까지의 제1 가스유로(51), 방전영역(24)으로부터 상하구획판(13)에 마련된 다른 개구(13B)까지의 제2 가스유로(52)를 획정한다. 레이저가스는, 방전영역(24)을, 광축에 대하여 직교하는 방향(y축방향)으로 흐른다. 방전방향(x축방향)은, 레이저가스가 흐르는 방향(y축방향), 및 광축방향(z축방향) 양방에 대하여 직교한다. 블로어실(12), 제1 가스유로(51), 방전영역(24), 및 제2 가스유로(52)에 의하여, 레이저가스가 순환하는 순환로가 구성된다. 블로어(50)는, 이 순환로를 레이저가스가 순환하도록, 레이저가스의 흐름을 발생시킨다. 블로어실(12) 내의 순환로의 유로단면은, 광학실(11) 내의 순환로의 유로단면보다 크다.A partition plate 15 is disposed in the optical chamber 11. The partition plate 15 is a first gas flow path 51 from the opening 13A provided in the upper and lower partition plates 13 to the discharge region 24, and the other provided in the upper and lower partition plates 13 from the discharge region 24. The second gas flow path 52 up to the opening 13B is defined. The laser gas flows through the discharge region 24 in a direction orthogonal to the optical axis (y-axis direction). The discharge direction (x-axis direction) is orthogonal to both the direction in which the laser gas flows (y-axis direction) and the optical axis direction (z-axis direction). A circulation path through which laser gas circulates is formed by the blower chamber 12, the first gas flow path 51, the discharge region 24, and the second gas flow path 52. The blower 50 generates a flow of laser gas so that the laser gas circulates through the circulation path. The flow path cross-section of the circulation path in the blower chamber 12 is larger than the flow path cross-section of the circulation path in the optical chamber 11.

블로어실(12) 내의 순환로에, 열교환기(56)가 수용되어 있다. 방전영역(24)에서 가열된 레이저가스가, 열교환기(56)를 통과함으로써 냉각되고, 냉각된 레이저가스가 방전영역(24)에 재공급된다.The heat exchanger 56 is accommodated in the circulation path in the blower chamber 12. The laser gas heated in the discharge region 24 is cooled by passing through the heat exchanger 56, and the cooled laser gas is re-supplied to the discharge region 24.

광학실(11)의 벽면에 도입포트(31)가 마련되어 있고, 블로어실(12)의 벽면에 배기포트(35)가 마련되어 있다. 도 1을 참조하여 설명한 바와 같이, 도입포트(31)는 광공진기(25)보다 높은 위치에 배치되어 있다. 배기포트(35)는 블로어(50)보다 낮은 위치에 배치되어 있다. 다만, 도 1의 경우와 동일하게, 도 2는, 도입포트(31) 및 배기포트(35)의 수평방향의 위치를 구체적으로 나타내고 있는 것은 아니다. 도입포트(31) 및 배기포트(35)는, 수평방향에 관하여 챔버(10)의 벽면의 어느 위치에 마련해도 된다.The introduction port 31 is provided on the wall surface of the optical chamber 11, and the exhaust port 35 is provided on the wall surface of the blower chamber 12. As described with reference to FIG. 1, the introduction port 31 is disposed at a higher position than the optical resonator 25. The exhaust port 35 is disposed at a lower position than the blower 50. However, as in the case of Fig. 1, Fig. 2 does not specifically show the positions of the introduction port 31 and the exhaust port 35 in the horizontal direction. The introduction port 31 and the exhaust port 35 may be provided at any position on the wall surface of the chamber 10 with respect to the horizontal direction.

도 3은, 레이저가스를 교환하는 수순을 나타내는 플로차트이다.3 is a flowchart showing the procedure for exchanging laser gas.

가스레이저장치를 운전하고 있는 기간은, 도입밸브(32) 및 배기밸브(36)(도 1, 도 2)는 폐쇄되어 있다. 레이저가스의 교환을 행할 때에, 도입밸브(32)는 폐쇄한 채로 하고, 배기밸브(36)를 개방한다(스텝 S1). 이 상태에서 진공펌프(37)(도 1)를 동작시킴으로써, 챔버(10) 내를 배기한다(스텝 S2).During the period of operation of the gas ray storage value, the inlet valve 32 and the exhaust valve 36 (FIGS. 1 and 2) are closed. When exchanging laser gas, the introduction valve 32 remains closed, and the exhaust valve 36 is opened (step S1). By operating the vacuum pump 37 (FIG. 1) in this state, the inside of the chamber 10 is exhausted (step S2).

레이저가스의 배기가 종료되면, 배기밸브(36)를 폐쇄하고, 도입밸브(32)를 개방한다(스텝 S3). 이로써, 도입포트(31)로부터 챔버(10) 내에 레이저가스가 도입된다(스텝 S4). 필요한 양의 레이저가스가 도입되면, 도입밸브(32)를 폐쇄한다(스텝 S5).When the exhaust of the laser gas is finished, the exhaust valve 36 is closed and the introduction valve 32 is opened (step S3). Thereby, laser gas is introduced into the chamber 10 from the introduction port 31 (step S4). When the required amount of laser gas is introduced, the introduction valve 32 is closed (step S5).

도 4는, 챔버(10) 내를 배기하고 있는 기간(스텝 S2)의 가스레이저장치의 단면도이다. 도 4에 있어서, 레이저가스배기 중의 레이저가스의 흐름을 화살표로 나타내고 있다. 배기포트(35)가 블로어(50)보다 낮은 위치에 배치되어 있기 때문에, 챔버(10) 내에 상방으로부터 하방을 향하는 레이저가스의 흐름이 발생한다. 이로써, 레이저가스 중에 부유하는 파티클이 챔버(10)의 하방을 향하여 이동한다. 그 결과, 많은 파티클(58)이 챔버(10)의 바닥면에 퇴적한다.4 is a cross-sectional view of the gas laser device during a period in which the chamber 10 is exhausted (step S2). In Fig. 4, the flow of laser gas in the laser gas exhaust is indicated by arrows. Since the exhaust port 35 is disposed at a lower position than the blower 50, a flow of laser gas from the top to the bottom is generated in the chamber 10. As a result, particles floating in the laser gas move toward the lower side of the chamber 10. As a result, many particles 58 are deposited on the bottom surface of the chamber 10.

도 5A 및 도 5B는, 챔버(10) 내에 레이저가스를 도입하고 있는 기간(스텝 S4)의 가스레이저장치의 단면도이다. 도 5A 및 도 5B에 있어서, 레이저가스도입 중의 레이저가스의 흐름을 화살표로 나타내고 있다. 도입포트(31)가 광공진기(25)보다 높은 위치에 배치되어 있기 때문에, 광공진기(25)가 배치된 공간에 레이저가스가 도입되고, 광공진기(25)가 배치된 공간으로부터 하방을 향하는 레이저가스의 흐름이 발생한다. 광공진기(25)가 배치되어 있는 공간에 부유하고 있던 파티클(58)은, 레이저가스의 흐름에 의하여 하방으로 이동한다. 그 결과, 많은 파티클(58)은, 챔버(10)의 바닥면에 퇴적한다.5A and 5B are cross-sectional views of the gas laser device during a period (step S4) in which laser gas is introduced into the chamber 10. 5A and 5B, the flow of laser gas during laser gas introduction is indicated by arrows. Since the introduction port 31 is disposed at a higher position than the photoresonator 25, laser gas is introduced into the space in which the photoresonator 25 is disposed, and the laser directed downward from the space in which the photoresonator 25 is disposed. Gas flow occurs. The particles 58 floating in the space in which the optical resonator 25 is disposed move downward by the flow of laser gas. As a result, many particles 58 are deposited on the bottom surface of the chamber 10.

다음으로, 본 실시예의 우수한 효과에 대하여 설명한다.Next, the excellent effect of this embodiment will be described.

본 실시예에서는, 챔버(10)로부터 레이저가스를 배기할 때(스텝 S2), 도 4를 참조한 바와 같이, 챔버(10) 내에 부유하고 있던 파티클(58)의 대부분이 챔버(10)의 바닥면에 퇴적한다. 또한, 챔버(10)에 레이저가스를 도입할 때(스텝 S4)도, 도 5A 및 도 5B를 참조하여 설명한 바와 같이, 챔버(10)에 부유하고 있던 파티클(58)의 대부분이 챔버(10)의 바닥면에 퇴적한다.In this embodiment, when the laser gas is exhausted from the chamber 10 (step S2), as shown in Fig. 4, most of the particles 58 suspended in the chamber 10 are the bottom surface of the chamber 10. To be deposited. Also, when introducing laser gas into the chamber 10 (step S4), as described with reference to FIGS. 5A and 5B, most of the particles 58 suspended in the chamber 10 are chamber 10. Is deposited on the bottom surface.

가스레이저장치의 동작 중에 레이저가스를 순환시키고 있을 때, 챔버(10)의 바닥면 근방에 있어서의 유속은, 다른 영역에 있어서의 유속보다 느리다. 이 때문에, 챔버(10)의 바닥면에 퇴적한 파티클(58)이, 레이저가스의 순환 중에 휩쓸려 올라가 챔버(10) 내에 재부유해 버릴 가능성은 낮다. 따라서, 챔버(10) 내에 부유하는 파티클수를 저감시킬 수 있다.When the laser gas is circulated during the operation of the gas laser device, the flow velocity in the vicinity of the bottom surface of the chamber 10 is slower than the flow velocity in other regions. For this reason, there is a low possibility that the particles 58 deposited on the bottom surface of the chamber 10 are swept up during the circulation of the laser gas and resuspended in the chamber 10. Therefore, the number of particles floating in the chamber 10 can be reduced.

다음으로, 광공진기(25)와 블로어(50)(도 1, 도 2)와의 바람직한 위치관계에 대하여 설명한다. 레이저발진 중은, 광공진기(25)의 미러(25M)(도 1)가 가열되어 고온이 된다. 미러(25M)에 파티클(58)이 부착되어 있으면, 고온이 되었을 때에 파티클(58)이 미러(25M)에 타붙어 버린다. 챔버(10)의 내부공간 중, 특히 고온이 되기 쉬운 광공진기(25)가 배치된 공간의 파티클(58)의 밀도를 낮게 하는 것이 바람직하다. 파티클(58)은, 중력의 작용에 의하여 챔버(10) 내의 하방으로 이동하기 때문에, 광공진기(25)를 블로어(50)보다 높은 위치에 배치하는 것이 바람직하다.Next, a preferable positional relationship between the optical resonator 25 and the blower 50 (FIGS. 1 and 2) will be described. During laser oscillation, the mirror 25M of the optical resonator 25 (FIG. 1) is heated to a high temperature. If the particles 58 are attached to the mirror 25M, the particles 58 will stick to the mirror 25M when the temperature becomes high. In the interior space of the chamber 10, it is preferable to lower the density of the particles 58 in the space where the optical resonator 25, which is particularly prone to high temperature, is disposed. Since the particle 58 moves downward in the chamber 10 by the action of gravity, it is preferable to arrange the photoresonator 25 at a position higher than the blower 50.

다음으로, 도입포트(31) 및 배기포트(35)(도 1, 도 2)를 배치하는 바람직한 높이에 대하여 설명한다.Next, a preferable height in which the introduction port 31 and the exhaust port 35 (FIGS. 1 and 2) are arranged will be described.

레이저가스의 배기 중은, 도 4에 나타낸 바와 같이, 챔버(10) 내에, 배기포트(35)를 향하는 가스류가 형성된다. 레이저가스의 도입 중은, 도 5A 및 도 5B에 나타낸 바와 같이, 도입포트(31)로부터 챔버(10) 내에 확산되는 가스류가 형성된다. 높이방향에 관하여, 배기포트(35)와 도입포트(31)의 사이의 공간에는, 가스배기 중 및 가스도입 중의 어느 것에 있어서도, 도입포트(31)의 높이로부터 배기포트(35)의 높이까지 향하는 가스류가 형성된다. 파티클(58)을 챔버(10)의 하방을 향하여 이동시키기 위하여, 배기포트(35)와 도입포트(31)의 사이의 공간에 형성되는 가스류가 하방을 향하도록 하는 것이 바람직하다. 이와 같은 가스류를 형성하기 위하여, 도입포트(31)를 배기포트(35)보다 높은 위치에 배치하는 것이 바람직하다.As shown in Fig. 4, during the exhaust of the laser gas, a gas flow toward the exhaust port 35 is formed in the chamber 10. During the introduction of the laser gas, as shown in FIGS. 5A and 5B, a gas flow diffused into the chamber 10 from the introduction port 31 is formed. With respect to the height direction, the space between the exhaust port 35 and the introduction port 31 is directed to the height of the exhaust port 35 from the height of the introduction port 31, either during gas exhaust or gas introduction. Gas flow is formed. In order to move the particles 58 toward the lower side of the chamber 10, it is preferable that the gas flow formed in the space between the exhaust port 35 and the introduction port 31 is directed downward. In order to form such a gas stream, it is preferable to arrange the introduction port 31 at a position higher than the exhaust port 35.

레이저가스의 배기 중에 파티클(58)을 챔버(10)의 바닥면에 모으기 위하여, 챔버(10) 내의 대부분에 있어서 하방을 향하는 가스류를 형성하는 것이 바람직하다. 이와 같은 가스류를 형성하기 위하여, 배기포트(35)를 블로어(50)보다 낮은 위치에 배치하는 것이 바람직하다.In order to collect the particles 58 on the bottom surface of the chamber 10 during the exhaust of the laser gas, it is preferable to form a downward gas flow in most of the chamber 10. In order to form such a gas flow, it is preferable to arrange the exhaust port 35 at a lower position than the blower 50.

또, 광공진기(25)가 배치된 공간의 파티클(58)을 제거하기 위하여, 레이저가스의 도입 중에, 챔버(10)에 도입된 레이저가스가, 광공진기(25)가 배치된 공간을 통과한 후, 하방을 향하여 흐르도록 하는 것이 바람직하다. 이와 같은 가스류를 형성하기 위하여, 높이방향에 관하여, 도입포트(31)를 광공진기(25)가 배치된 범위보다 높은 위치에 배치하는 것이 바람직하다.Further, in order to remove the particles 58 in the space in which the optical resonator 25 is disposed, during the introduction of the laser gas, the laser gas introduced into the chamber 10 passes through the space in which the optical resonator 25 is disposed. After that, it is preferable to make it flow downward. In order to form such a gas flow, it is preferable to arrange the introduction port 31 in a position higher than the range in which the optical resonator 25 is disposed, with respect to the height direction.

진공배기된 챔버(10) 내에 도입포트(31)로부터 레이저가스를 도입하면, 도입포트(31)의 근방에 유속이 큰 가스류가 형성되고, 도입포트(31)로부터 멀어짐에 따라 유속이 저하된다. 광공진기(25)가 배치된 공간으로부터 파티클(58)을 효율적으로 제거하기 위하여, 챔버(10) 내에 도입된 레이저가스가, 광공진기(25)가 배치된 공간을 통과할 때에, 빠른 유속을 유지하고 있는 것이 바람직하다. 이와 같은 가스류를 형성하기 위하여, 도입포트(31)로부터 광공진기(25)까지의 거리를 짧게 하는 것이 바람직하다. 일례로서, 도입포트(31)로부터 광공진기(25)까지의 거리가, 배기포트(35)로부터 광공진기(25)까지의 거리보다 짧아지도록 하는 것이 바람직하다.When the laser gas is introduced from the introduction port 31 into the vacuum-exhausted chamber 10, a gas flow with a large flow rate is formed in the vicinity of the introduction port 31, and the flow rate decreases as it moves away from the introduction port 31. . In order to efficiently remove the particles 58 from the space where the optical resonator 25 is disposed, a rapid flow velocity is maintained when the laser gas introduced into the chamber 10 passes through the space where the optical resonator 25 is disposed. It is desirable to do. In order to form such a gas stream, it is desirable to shorten the distance from the introduction port 31 to the optical resonator 25. As an example, it is preferable to make the distance from the introduction port 31 to the optical resonator 25 shorter than the distance from the exhaust port 35 to the optical resonator 25.

다음으로, 도 6의 (a)~(d)를 참조하여 다른 실시예에 대하여 설명한다. 이하, 도 1~도 5의 (b)에 나타낸 실시예에 의한 가스레이저장치와 공통의 구성에 대해서는 설명을 생략한다. 도 6의 (a)~(d)는, 다른 실시예에 의한 가스레이저장치의 도입포트(31), 배기포트(35), 광공진기(25), 및 블로어(50)의 위치관계를 나타내는 모식도이다.Next, another embodiment will be described with reference to Figs. 6A to 6D. Hereinafter, description will be omitted of the configuration common to the gas laser apparatus according to the embodiment shown in FIGS. 1 to 5B. 6(a) to 6(d) are schematic diagrams showing the positional relationship between the introduction port 31, the exhaust port 35, the optical resonator 25, and the blower 50 of the gas laser device according to another embodiment. to be.

도 6의 (a)에 나타낸 실시예에서는, 높이방향에 관하여, 광공진기(25)가 배치되어 있는 범위 내에 도입포트(31)가 배치되어 있다. 이 경우에, 도입포트(31)로부터 챔버(10) 내에 도입된 레이저가스가 빠른 유속을 유지하며 광공진기(25)의 배치된 공간을 통과한다. 그 후, 레이저가스는 하방을 향하여 흐른다.In the embodiment shown in Fig. 6(a), the introduction port 31 is disposed within the range in which the optical resonator 25 is disposed with respect to the height direction. In this case, the laser gas introduced into the chamber 10 from the introduction port 31 maintains a fast flow rate and passes through the space of the optical resonator 25. Thereafter, the laser gas flows downward.

도 6의 (b)에 나타낸 실시예에서는, 배기포트(35)가 광공진기(25)보다 낮고, 블로어(50)보다 높은 위치에 배치되어 있다. 도입포트(31)는, 도 1 및 도 2에 나타낸 실시예와 동일하게, 광공진기(25)보다 높은 위치에 배치되어 있다. 이 경우에, 광공진기(25)가 배치된 공간에는, 가스배기 시 및 가스도입 시의 양방에 있어서, 하방을 향하는 가스류가 발생한다. 블로어(50)가 배치된 공간에는, 가스배기 시에, 상방을 향하는 가스류가 형성되지만, 그 후의 가스도입 시에는 하방을 향하는 가스류가 발생한다. 이 때문에, 챔버(10) 내에 부유하는 파티클은, 가스도입 시에 챔버(10)의 바닥면에 모인다.In the embodiment shown in Fig. 6B, the exhaust port 35 is disposed at a position lower than the light resonator 25 and higher than the blower 50. The introduction port 31 is disposed at a higher position than the optical resonator 25, similarly to the embodiment shown in FIGS. 1 and 2. In this case, in the space where the optical resonator 25 is disposed, gas flows downward in both the gas exhaust and gas introduction. In the space where the blower 50 is disposed, gas flows upward when gas is discharged, but gas flows downward when gas is introduced thereafter. For this reason, particles floating in the chamber 10 collect on the bottom surface of the chamber 10 when gas is introduced.

도 6의 (c)에 나타낸 실시예에서는, 도입포트(31)가 광공진기(25)보다 낮은 위치에 배치되어 있다. 배기포트(35)는, 도 1 및 도 2에 나타낸 실시예와 동일하게, 도입포트(31) 및 블로어(50)보다 낮은 위치에 배치되어 있다. 이 경우도, 가스배기 시에, 챔버(10) 내에 부유하는 파티클을 챔버(10)의 바닥면에 모으는 효과가 얻어진다.In the embodiment shown in Fig. 6(c), the introduction port 31 is disposed at a lower position than the optical resonator 25. The exhaust port 35 is arranged at a lower position than the introduction port 31 and the blower 50, similarly to the embodiment shown in FIGS. 1 and 2. Also in this case, the effect of collecting particles floating in the chamber 10 on the bottom surface of the chamber 10 during gas exhaust is obtained.

도 6의 (d)에 나타낸 실시예에서는, 배기포트(35)가 도입포트(31)와 거의 동일한 높이에 배치되어 있다. 이 경우, 가스배기 시에는 주로 상방을 향하는 가스류가 형성되지만, 가스도입 시에는, 도 1 및 도 2에 나타낸 실시예와 동일하게, 광공진기(25)가 배치된 공간을 통과하여 하방을 향하는 가스류가 형성된다. 이 때문에, 가스배기 후에 챔버(10) 내에 부유하는 파티클은, 가스도입 시에 챔버(10)의 바닥면에 모인다.In the embodiment shown in Fig. 6(d), the exhaust port 35 is disposed at the same height as the introduction port 31. In this case, mainly gas upwards is formed at the time of gas exhaust, but when gas is introduced, as in the embodiment shown in Figs. 1 and 2, through the space in which the optical resonator 25 is arranged, it is directed downwards. Gas flow is formed. For this reason, particles floating in the chamber 10 after gas exhaust are collected on the bottom surface of the chamber 10 when gas is introduced.

이상과 같이, 도 6의 (a)~(d)의 어느 것에 나타낸 실시예에 있어서도, 챔버(10) 내에 부유하는 파티클을 하방에 모아, 광공진기(25)의 근방의 공간을 부유하는 밀도를 저감시킬 수 있다. 그 결과, 광공진기(25)의 미러(25M)의 열화를 억제하는 것이 가능해진다. 또한, 챔버(10) 내에 미러 이외의 광학부품이 배치되어 있는 경우에는, 이들 광학부품의, 파티클에 기인하는 열화를 억제할 수 있다.As described above, in the embodiment shown in any one of (a) to (d) of FIG. 6, the particles floating in the chamber 10 are collected downward, and the density of floating the space in the vicinity of the optical resonator 25 is increased. Can be reduced. As a result, it becomes possible to suppress deterioration of the mirror 25M of the optical resonator 25. Moreover, when the optical components other than a mirror are arrange|positioned in the chamber 10, deterioration resulting from particles of these optical components can be suppressed.

상술한 각 실시예는 예시이며, 다른 실시예에 나타낸 구성의 부분적인 치환 또는 조합이 가능한 것은 말할 필요도 없다. 복수의 실시예의 동일한 구성에 의한 동일한 작용효과에 대해서는 실시예별로는 따로 언급하지 않는다. 또한, 본 발명은 상술한 실시예에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 다양한 변경, 개량, 조합 등이 가능한 것은 당업자에게 자명할 것이다.It is needless to say that each of the above-described embodiments is an example, and partial substitution or combination of configurations shown in other embodiments is possible. The same operation and effect by the same configuration of the plurality of embodiments are not mentioned separately for each embodiment. In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, it will be apparent to those skilled in the art that various changes, improvements, combinations, and the like are possible.

10 챔버
11 광학실
12 블로어실
13 상하구획판
13A, 13B 개구
14 바닥판
15 구획판
16 챔버지지부재
21 방전전극
22, 23 방전전극지지부재
24 방전영역
25 광공진기
25M 광공진기미러
26 공통지지부재
27 광공진기지지부재
28 광투과창
31 도입포트
32 도입밸브
33 레이저가스공급원
35 배기포트
36 배기밸브
37 진공펌프
50 블로어
51 제1 가스유로
52 제2 가스유로
56 열교환기
58 파티클
10 chamber
11 Optical room
12 Blower Room
13 Upper and lower divisions
13A, 13B opening
14 bottom plate
15 compartments
16 chamber support member
21 discharge electrode
22, 23 discharge electrode support member
24 discharge area
25 light resonator
25M Optical Resonator Mirror
26 Common support member
27 Optical resonator support member
28 Light transmission window
31 Introduction port
32 Inlet valve
33 Laser gas supply source
35 Exhaust port
36 Exhaust valve
37 Vacuum pump
50 blowers
51 1st gas flow path
52 2nd gas flow path
56 heat exchanger
58 Particles

Claims (5)

레이저가스가 채워지는 챔버와,
상기 챔버 내에 배치되어 있고, 레이저광을 가두는 광공진기와,
높이방향에 관하여, 상기 광공진기가 배치되어 있는 범위 내, 또는 상기 광공진기가 배치되어 있는 범위보다 높은 위치에 마련되며, 상기 챔버 내에 레이저가스를 도입하는 도입포트와,
상기 챔버 내로부터 레이저가스를 배기하는 배기포트를 갖는 가스레이저장치.
A chamber filled with laser gas,
An optical resonator disposed in the chamber and trapping laser light,
With respect to the height direction, it is provided in a position higher than the range in which the optical resonator is disposed, or the range in which the optical resonator is disposed, and an introduction port for introducing laser gas into the chamber,
A gas laser device having an exhaust port for exhausting laser gas from within the chamber.
레이저가스가 채워지는 챔버와,
상기 챔버 내에 배치되어 있고, 레이저광을 가두는 광공진기와,
상기 챔버 내에 레이저가스를 도입하는 도입포트와,
상기 도입포트보다 낮은 위치에 마련되어 있으며, 상기 챔버 내로부터 레이저가스를 배기하는 배기포트를 갖는 가스레이저장치.
A chamber filled with laser gas,
An optical resonator disposed in the chamber and trapping laser light,
An introduction port for introducing laser gas into the chamber,
A gas laser device provided at a position lower than the introduction port and having an exhaust port for exhausting laser gas from within the chamber.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 챔버의 내의, 상기 광공진기보다 낮은 위치에 배치된 블로어를 더 갖는 가스레이저장치.
The method according to claim 1 or 2,
A gas laser apparatus having a blower disposed in a lower position of the chamber than the optical resonator.
제3항에 있어서,
상기 배기포트는 상기 블로어보다 낮은 위치에 배치되어 있는 가스레이저장치.
According to claim 3,
The exhaust port is a gas laser device disposed at a lower position than the blower.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 도입포트로부터 상기 광공진기까지의 거리가, 상기 배기포트로부터 상기 광공진기까지의 거리보다 짧은 가스레이저장치.
The method according to claim 1 or 2,
A gas laser device in which the distance from the introduction port to the optical resonator is shorter than the distance from the exhaust port to the optical resonator.
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