KR20200073986A - Gas laser apparatus - Google Patents
Gas laser apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- KR20200073986A KR20200073986A KR1020190139366A KR20190139366A KR20200073986A KR 20200073986 A KR20200073986 A KR 20200073986A KR 1020190139366 A KR1020190139366 A KR 1020190139366A KR 20190139366 A KR20190139366 A KR 20190139366A KR 20200073986 A KR20200073986 A KR 20200073986A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- chamber
- gas
- laser
- optical resonator
- disposed
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 94
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 34
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 117
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 7
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
Abstract
Description
본 출원은 2018년 12월 14일에 출원된 일본 특허출원 제2018-234717호에 근거하여 우선권을 주장한다. 그 출원의 전체 내용은 이 명세서 중에 참고로 원용되어 있다.This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2018-234717 filed on December 14, 2018. The entire contents of the application are incorporated herein by reference.
본 발명은, 가스레이저장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas laser device.
가스레이저장치의 챔버 내의 파티클이 광공진기의 미러의 표면에 부착되면, 타붙음(눌어붙음) 등에 의하여 미러가 열화한다. 이들 파티클은, 예를 들면 가스레이저장치의 조립이나 메인터넌스 등에 있어서 챔버가 개방되었을 때에, 챔버 내에 들어간다. 챔버에 들어간 파티클은, 챔버로부터 배출되지 않고 챔버 내에 체류한다.When particles in the chamber of the gas laser device adhere to the surface of the mirror of the optical resonator, the mirror deteriorates due to sticking (sticking) or the like. These particles enter the chamber when the chamber is opened, for example, in assembly or maintenance of a gas laser device. Particles entering the chamber do not escape from the chamber and remain in the chamber.
하기의 특허문헌 1에, 챔버 내에 먼지포획장치를 배치한 가스레이저장치가 개시되어 있다. 먼지포획장치가 챔버 내의 파티클을 포획함으로써, 미러의 열화가 억제된다.In the following Patent Document 1, a gas laser device in which a dust trapping device is disposed in a chamber is disclosed. When the dust trapping device captures particles in the chamber, deterioration of the mirror is suppressed.
종래의 가스레이저장치에서는, 챔버 내에 먼지포획장치를 수용하기 위한 공간을 준비해야 한다. 이 때문에, 챔버가 대형화되어 버린다. 또, 먼지포획장치를 설치하는 장소에 따라서는, 먼지포획장치가 레이저가스의 유량저하의 원인이 되는 경우도 있다. 본 발명의 목적은, 챔버 내에 파티클제거를 위한 전용의 장치를 배치하지 않아도, 파티클에 기인하는 미러 등의 광학부품의 열화를 억제하는 것이 가능한 가스레이저장치를 제공하는 것이다.In a conventional gas laser device, a space for accommodating a dust trap device in a chamber must be prepared. For this reason, the chamber is enlarged. Further, depending on the place where the dust trapping device is installed, the dust trapping device may cause a decrease in the flow rate of the laser gas. An object of the present invention is to provide a gas ray storage value capable of suppressing deterioration of optical components such as mirrors caused by particles, even without a dedicated device for removing particles in the chamber.
본 발명의 일 관점에 의하면,According to one aspect of the invention,
레이저가스가 채워지는 챔버와,A chamber filled with laser gas,
상기 챔버 내에 배치되어 있고, 레이저광을 가두는 광공진기와,An optical resonator disposed in the chamber and trapping laser light,
높이방향에 관하여, 상기 광공진기가 배치되어 있는 범위 내, 또는 상기 광공진기가 배치되어 있는 범위보다 높은 위치에 마련되며, 상기 챔버 내에 레이저가스를 도입하는 도입포트와,With respect to the height direction, it is provided in a position higher than the range in which the optical resonator is disposed, or the range in which the optical resonator is disposed, and an introduction port for introducing laser gas into the chamber,
상기 챔버 내로부터 레이저가스를 배기하는 배기포트를 갖는 가스레이저장치가 제공된다.A gas laser apparatus having an exhaust port for exhausting laser gas from within the chamber is provided.
본 발명의 다른 관점에 의하면,According to another aspect of the invention,
레이저가스가 채워지는 챔버와,A chamber filled with laser gas,
상기 챔버 내에 배치되어 있고, 레이저광을 가두는 광공진기와,An optical resonator disposed in the chamber and trapping laser light,
상기 챔버 내에 레이저가스를 도입하는 도입포트와,An introduction port for introducing laser gas into the chamber,
상기 도입포트보다 낮은 위치에 마련되어 있으며, 상기 챔버 내로부터 레이저가스를 배기하는 배기포트를 갖는 가스레이저장치가 제공된다.A gas laser device provided at a position lower than the introduction port and having an exhaust port for exhausting laser gas from the chamber is provided.
도입포트를, 광공진기가 배치되어 있는 범위 내, 또는 광공진기가 배치되어 있는 범위보다 높은 위치에 마련하면, 챔버 내에 레이저가스를 도입할 때에, 광공진기가 배치된 공간을 통과하여 하방을 향하는 가스류가 형성된다. 이 가스류를 타고, 파티클이 챔버의 낮은 영역에 모인다.When the introduction port is provided in a position within the range where the optical resonator is disposed or higher than the range where the optical resonator is disposed, when introducing the laser gas into the chamber, the gas passes through the space where the optical resonator is disposed and goes downward. Flow is formed. Riding this gas stream, particles collect in the lower area of the chamber.
또, 배기포트를 도입포트보다 낮은 위치에 마련하면, 도입포트와 배기포트의 사이의 높이 범위에, 가스의 배기 시 및 도입 시 양방에 있어서 하방을 향하는 가스류가 형성된다. 이 때문에, 챔버 내의 파티클을 효율적으로 챔버의 낮은 영역에 모을 수 있다.Moreover, when the exhaust port is provided at a position lower than the introduction port, gas flows downward at both the time of exhaust and introduction of the gas in the height range between the introduction port and the exhaust port. For this reason, particles in the chamber can be efficiently collected in the lower region of the chamber.
파티클을 챔버의 낮은 영역에 모음으로써, 광공진기의 근방에 부유(浮遊)하는 파티클의 밀도를 저감시킬 수 있다. 그 결과, 광공진기의 미러 등의 광학부품의 열화를 억제할 수 있다.By collecting particles in the lower region of the chamber, the density of particles floating near the optical resonator can be reduced. As a result, deterioration of optical components such as a mirror of the optical resonator can be suppressed.
도 1은, 실시예에 의한 가스레이저장치의 광축을 포함하는 연직단면도이다.
도 2는, 본 실시예에 의한 가스레이저장치의 광축에 수직인 단면도이다.
도 3은, 레이저가스를 교환하는 수순을 나타내는 플로차트이다.
도 4는, 챔버 내를 배기하고 있는 기간(스텝 S2)의 가스레이저장치의 단면도이다.
도 5의 (a) 및 (b)는, 챔버 내에 레이저가스를 도입하고 있는 기간(스텝 S4)의 가스레이저장치의 단면도이다.
도 6의 (a)~(d)는, 다른 실시예에 의한 가스레이저장치의 도입포트, 배기포트, 광공진기, 및 블로어의 위치관계를 나타내는 모식도이다.1 is a vertical cross-sectional view including an optical axis of a gas laser device according to an embodiment.
2 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis of the gas laser device according to the present embodiment.
3 is a flowchart showing the procedure for exchanging laser gas.
4 is a cross-sectional view of the gas laser device during a period in which the chamber is exhausted (step S2).
5(a) and 5(b) are cross-sectional views of a gas laser device during a period in which laser gas is introduced into the chamber (step S4).
6A to 6D are schematic diagrams showing the positional relationship of the introduction port, the exhaust port, the optical resonator, and the blower of the gas laser device according to another embodiment.
도 1~도 5를 참조하여, 실시예에 의한 가스레이저장치에 대하여 설명한다.The gas laser device according to the embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 5.
도 1은, 실시예에 의한 가스레이저장치의 광축을 포함하는 연직단면도이다. 광공진기의 광축방향을 z축방향으로 하고, 연직상방을 x축방향으로 하는 xyz직교좌표계를 정의한다. 실시예에 의한 가스레이저장치는, 예를 들면 탄산가스레이저장치이다.1 is a vertical cross-sectional view including an optical axis of a gas laser device according to an embodiment. An xyz rectangular coordinate system is defined with the optical axis direction of the optical resonator as the z-axis direction and the vertical upward direction as the x-axis direction. The gas ray storage value according to the embodiment is, for example, a carbon dioxide gas laser device.
챔버(10)에 레이저가스가 수용된다. 레이저가스에는, 예를 들면, 이산화탄소, 질소, 헬륨 등이 포함된다. 챔버(10)의 내부공간이, 상대적으로 상측에 위치하는 광학실(11)과, 상대적으로 하측에 위치하는 블로어실(12)로 구분되어 있다. 광학실(11)과 블로어실(12)은, 상하구획판(13)으로 구획되어 있다. 다만, 상하구획판(13)에는, 레이저가스를 광학실(11)과 블로어실(12)의 사이에서 유통시키는 개구가 마련되어 있다. 블로어실(12)의 측벽으로부터 광학실(11)의 바닥판(14)이 z축방향의 양측으로 뻗어 있고, 광학실(11)의 z축방향의 길이가, 블로어실(12)의 z축방향의 길이보다 길게 되어 있다. 챔버(10)는, 광학실(11)의 바닥판(14)에 있어서 챔버지지부재(16)에 의하여 광학베이스에 지지된다.The laser gas is accommodated in the
광학실(11) 내에, 한 쌍의 방전전극(21)이 배치되어 있다. 한 쌍의 방전전극(21)은, 각각 방전전극지지부재(22, 23)를 통하여 바닥판(14)에 지지되어 있다. 한 쌍의 방전전극(21)은, x축방향으로 간격을 두고 배치되며, 양자 사이에 방전영역(24)이 획정(劃定)된다. 방전전극(21)은 방전영역(24)에 방전을 발생시킴으로써, 레이저가스를 여기시킨다. 나중에 도 2를 참조하여 설명하는 바와 같이, 방전영역(24)을 도 1의 지면에 수직인 방향으로 레이저가스가 흐른다.In the
광학실(11) 내에 배치된 공통지지부재(26)에 광공진기(25)가 지지되어 있다. 광공진기(25)는, 예를 들면 한 쌍의 미러(25M)로 구성되어 있다. 광공진기(25)의 광축이 방전영역(24) 내를 통과하고 있으며, 광공진기(25)는 레이저광을 가둔다. 공통지지부재(26)는, 광공진기지지부재(27)를 통하여 바닥판(14)에 지지되어 있다. 광공진기(25)의 광축을 일방의 미러(25M)(도 1에 있어서 좌측의 미러)측에 연신시킨 연장선과 광학실(11)의 벽면과의 교차개소에, 레이저빔을 투과시키는 광투과창(28)이 장착되어 있다. 광공진기(25) 내에서 여진된 레이저빔이 광투과창(28)을 투과하여 외부에 방사된다.The
블로어실(12)에 블로어(50)가 배치되어 있다. 즉, 광공진기(25) 및 방전전극(21)은, 블로어(50)보다 높은 위치에 배치되어 있다. 블로어(50)는, 광학실(11)과 블로어실(12)의 사이에서 레이저가스를 순환시킨다.The
광학실(11)의 벽면에, 챔버(10) 내에 레이저가스를 도입하기 위한 도입포트(31)가 마련되어 있다. 도입포트(31)는, 도입밸브(32)를 통하여 레이저가스공급원(33)에 접속되어 있다. 도입밸브(32)를 개방하면, 도입포트(31)로부터 챔버(10) 내에 레이저가스가 도입된다. 도입포트(31)는, 높이방향에 관하여 광공진기(25)가 배치되어 있는 범위보다 높은 위치에 마련되어 있다.On the wall surface of the
블로어실(12)의 벽면에, 챔버(10) 내로부터 레이저가스를 배기하기 위한 배기포트(35)가 마련되어 있다. 배기포트(35)는, 배기밸브(36)를 통하여 진공펌프(37)에 접속되어 있다. 배기밸브(36)를 개방하고, 진공펌프(37)을 동작시키면, 챔버(10) 내가 진공배기된다. 배기포트(35)는, 높이방향에 관하여 블로어(50)가 배치되어 있는 범위보다 낮은 위치에 마련되어 있다.On the wall surface of the
도 1은, 도입포트(31) 및 배기포트(35)의 수평방향에 관한 위치를 구체적으로 나타내고 있는 것은 아니다. 예를 들면, 도입포트(31) 및 배기포트(35)는, 광공진기(25)의 광축을 포함하는 연직단면 상에 배치되어 있을 필요는 없다. 따라서, 도입포트(31) 및 배기포트(35)는, 도 1에 나타낸 단면에 나타나지 않는 경우도 있다. 또, 도 1에서는, 광공진기(25)의 광축에 수직인 벽면에 도입포트(31) 및 배기포트(35)가 마련되어 있는 것처럼 나타내고 있지만, 그 외의 벽면, 예를 들면 광축에 평행한 벽면에 마련해도 된다.1 does not specifically show the positions of the
도 2는, 본 실시예에 의한 가스레이저장치의 광축(z축)에 수직인 단면도이다. 챔버(10)의 내부공간이 상하구획판(13)에 의하여, 상방의 광학실(11)과 하방의 블로어실(12)로 구분되어 있다. 광학실(11) 내에, 한 쌍의 방전전극(21), 광공진기(25)를 지지하는 공통지지부재(26)가 배치되어 있다. 방전전극(21)의 사이에 방전영역(24)이 획정된다. 방전영역(24)과 중첩되는 위치에 광공진기(25)의 미러(25M)(도 1)가 배치되어 있다.2 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis (z-axis) of the gas laser device according to the present embodiment. The inner space of the
광학실(11) 내에 구획판(15)이 배치되어 있다. 구획판(15)은, 상하구획판(13)에 마련된 개구(13A)로부터 방전영역(24)까지의 제1 가스유로(51), 방전영역(24)으로부터 상하구획판(13)에 마련된 다른 개구(13B)까지의 제2 가스유로(52)를 획정한다. 레이저가스는, 방전영역(24)을, 광축에 대하여 직교하는 방향(y축방향)으로 흐른다. 방전방향(x축방향)은, 레이저가스가 흐르는 방향(y축방향), 및 광축방향(z축방향) 양방에 대하여 직교한다. 블로어실(12), 제1 가스유로(51), 방전영역(24), 및 제2 가스유로(52)에 의하여, 레이저가스가 순환하는 순환로가 구성된다. 블로어(50)는, 이 순환로를 레이저가스가 순환하도록, 레이저가스의 흐름을 발생시킨다. 블로어실(12) 내의 순환로의 유로단면은, 광학실(11) 내의 순환로의 유로단면보다 크다.A
블로어실(12) 내의 순환로에, 열교환기(56)가 수용되어 있다. 방전영역(24)에서 가열된 레이저가스가, 열교환기(56)를 통과함으로써 냉각되고, 냉각된 레이저가스가 방전영역(24)에 재공급된다.The
광학실(11)의 벽면에 도입포트(31)가 마련되어 있고, 블로어실(12)의 벽면에 배기포트(35)가 마련되어 있다. 도 1을 참조하여 설명한 바와 같이, 도입포트(31)는 광공진기(25)보다 높은 위치에 배치되어 있다. 배기포트(35)는 블로어(50)보다 낮은 위치에 배치되어 있다. 다만, 도 1의 경우와 동일하게, 도 2는, 도입포트(31) 및 배기포트(35)의 수평방향의 위치를 구체적으로 나타내고 있는 것은 아니다. 도입포트(31) 및 배기포트(35)는, 수평방향에 관하여 챔버(10)의 벽면의 어느 위치에 마련해도 된다.The
도 3은, 레이저가스를 교환하는 수순을 나타내는 플로차트이다.3 is a flowchart showing the procedure for exchanging laser gas.
가스레이저장치를 운전하고 있는 기간은, 도입밸브(32) 및 배기밸브(36)(도 1, 도 2)는 폐쇄되어 있다. 레이저가스의 교환을 행할 때에, 도입밸브(32)는 폐쇄한 채로 하고, 배기밸브(36)를 개방한다(스텝 S1). 이 상태에서 진공펌프(37)(도 1)를 동작시킴으로써, 챔버(10) 내를 배기한다(스텝 S2).During the period of operation of the gas ray storage value, the
레이저가스의 배기가 종료되면, 배기밸브(36)를 폐쇄하고, 도입밸브(32)를 개방한다(스텝 S3). 이로써, 도입포트(31)로부터 챔버(10) 내에 레이저가스가 도입된다(스텝 S4). 필요한 양의 레이저가스가 도입되면, 도입밸브(32)를 폐쇄한다(스텝 S5).When the exhaust of the laser gas is finished, the
도 4는, 챔버(10) 내를 배기하고 있는 기간(스텝 S2)의 가스레이저장치의 단면도이다. 도 4에 있어서, 레이저가스배기 중의 레이저가스의 흐름을 화살표로 나타내고 있다. 배기포트(35)가 블로어(50)보다 낮은 위치에 배치되어 있기 때문에, 챔버(10) 내에 상방으로부터 하방을 향하는 레이저가스의 흐름이 발생한다. 이로써, 레이저가스 중에 부유하는 파티클이 챔버(10)의 하방을 향하여 이동한다. 그 결과, 많은 파티클(58)이 챔버(10)의 바닥면에 퇴적한다.4 is a cross-sectional view of the gas laser device during a period in which the
도 5A 및 도 5B는, 챔버(10) 내에 레이저가스를 도입하고 있는 기간(스텝 S4)의 가스레이저장치의 단면도이다. 도 5A 및 도 5B에 있어서, 레이저가스도입 중의 레이저가스의 흐름을 화살표로 나타내고 있다. 도입포트(31)가 광공진기(25)보다 높은 위치에 배치되어 있기 때문에, 광공진기(25)가 배치된 공간에 레이저가스가 도입되고, 광공진기(25)가 배치된 공간으로부터 하방을 향하는 레이저가스의 흐름이 발생한다. 광공진기(25)가 배치되어 있는 공간에 부유하고 있던 파티클(58)은, 레이저가스의 흐름에 의하여 하방으로 이동한다. 그 결과, 많은 파티클(58)은, 챔버(10)의 바닥면에 퇴적한다.5A and 5B are cross-sectional views of the gas laser device during a period (step S4) in which laser gas is introduced into the
다음으로, 본 실시예의 우수한 효과에 대하여 설명한다.Next, the excellent effect of this embodiment will be described.
본 실시예에서는, 챔버(10)로부터 레이저가스를 배기할 때(스텝 S2), 도 4를 참조한 바와 같이, 챔버(10) 내에 부유하고 있던 파티클(58)의 대부분이 챔버(10)의 바닥면에 퇴적한다. 또한, 챔버(10)에 레이저가스를 도입할 때(스텝 S4)도, 도 5A 및 도 5B를 참조하여 설명한 바와 같이, 챔버(10)에 부유하고 있던 파티클(58)의 대부분이 챔버(10)의 바닥면에 퇴적한다.In this embodiment, when the laser gas is exhausted from the chamber 10 (step S2), as shown in Fig. 4, most of the
가스레이저장치의 동작 중에 레이저가스를 순환시키고 있을 때, 챔버(10)의 바닥면 근방에 있어서의 유속은, 다른 영역에 있어서의 유속보다 느리다. 이 때문에, 챔버(10)의 바닥면에 퇴적한 파티클(58)이, 레이저가스의 순환 중에 휩쓸려 올라가 챔버(10) 내에 재부유해 버릴 가능성은 낮다. 따라서, 챔버(10) 내에 부유하는 파티클수를 저감시킬 수 있다.When the laser gas is circulated during the operation of the gas laser device, the flow velocity in the vicinity of the bottom surface of the
다음으로, 광공진기(25)와 블로어(50)(도 1, 도 2)와의 바람직한 위치관계에 대하여 설명한다. 레이저발진 중은, 광공진기(25)의 미러(25M)(도 1)가 가열되어 고온이 된다. 미러(25M)에 파티클(58)이 부착되어 있으면, 고온이 되었을 때에 파티클(58)이 미러(25M)에 타붙어 버린다. 챔버(10)의 내부공간 중, 특히 고온이 되기 쉬운 광공진기(25)가 배치된 공간의 파티클(58)의 밀도를 낮게 하는 것이 바람직하다. 파티클(58)은, 중력의 작용에 의하여 챔버(10) 내의 하방으로 이동하기 때문에, 광공진기(25)를 블로어(50)보다 높은 위치에 배치하는 것이 바람직하다.Next, a preferable positional relationship between the
다음으로, 도입포트(31) 및 배기포트(35)(도 1, 도 2)를 배치하는 바람직한 높이에 대하여 설명한다.Next, a preferable height in which the
레이저가스의 배기 중은, 도 4에 나타낸 바와 같이, 챔버(10) 내에, 배기포트(35)를 향하는 가스류가 형성된다. 레이저가스의 도입 중은, 도 5A 및 도 5B에 나타낸 바와 같이, 도입포트(31)로부터 챔버(10) 내에 확산되는 가스류가 형성된다. 높이방향에 관하여, 배기포트(35)와 도입포트(31)의 사이의 공간에는, 가스배기 중 및 가스도입 중의 어느 것에 있어서도, 도입포트(31)의 높이로부터 배기포트(35)의 높이까지 향하는 가스류가 형성된다. 파티클(58)을 챔버(10)의 하방을 향하여 이동시키기 위하여, 배기포트(35)와 도입포트(31)의 사이의 공간에 형성되는 가스류가 하방을 향하도록 하는 것이 바람직하다. 이와 같은 가스류를 형성하기 위하여, 도입포트(31)를 배기포트(35)보다 높은 위치에 배치하는 것이 바람직하다.As shown in Fig. 4, during the exhaust of the laser gas, a gas flow toward the
레이저가스의 배기 중에 파티클(58)을 챔버(10)의 바닥면에 모으기 위하여, 챔버(10) 내의 대부분에 있어서 하방을 향하는 가스류를 형성하는 것이 바람직하다. 이와 같은 가스류를 형성하기 위하여, 배기포트(35)를 블로어(50)보다 낮은 위치에 배치하는 것이 바람직하다.In order to collect the
또, 광공진기(25)가 배치된 공간의 파티클(58)을 제거하기 위하여, 레이저가스의 도입 중에, 챔버(10)에 도입된 레이저가스가, 광공진기(25)가 배치된 공간을 통과한 후, 하방을 향하여 흐르도록 하는 것이 바람직하다. 이와 같은 가스류를 형성하기 위하여, 높이방향에 관하여, 도입포트(31)를 광공진기(25)가 배치된 범위보다 높은 위치에 배치하는 것이 바람직하다.Further, in order to remove the
진공배기된 챔버(10) 내에 도입포트(31)로부터 레이저가스를 도입하면, 도입포트(31)의 근방에 유속이 큰 가스류가 형성되고, 도입포트(31)로부터 멀어짐에 따라 유속이 저하된다. 광공진기(25)가 배치된 공간으로부터 파티클(58)을 효율적으로 제거하기 위하여, 챔버(10) 내에 도입된 레이저가스가, 광공진기(25)가 배치된 공간을 통과할 때에, 빠른 유속을 유지하고 있는 것이 바람직하다. 이와 같은 가스류를 형성하기 위하여, 도입포트(31)로부터 광공진기(25)까지의 거리를 짧게 하는 것이 바람직하다. 일례로서, 도입포트(31)로부터 광공진기(25)까지의 거리가, 배기포트(35)로부터 광공진기(25)까지의 거리보다 짧아지도록 하는 것이 바람직하다.When the laser gas is introduced from the
다음으로, 도 6의 (a)~(d)를 참조하여 다른 실시예에 대하여 설명한다. 이하, 도 1~도 5의 (b)에 나타낸 실시예에 의한 가스레이저장치와 공통의 구성에 대해서는 설명을 생략한다. 도 6의 (a)~(d)는, 다른 실시예에 의한 가스레이저장치의 도입포트(31), 배기포트(35), 광공진기(25), 및 블로어(50)의 위치관계를 나타내는 모식도이다.Next, another embodiment will be described with reference to Figs. 6A to 6D. Hereinafter, description will be omitted of the configuration common to the gas laser apparatus according to the embodiment shown in FIGS. 1 to 5B. 6(a) to 6(d) are schematic diagrams showing the positional relationship between the
도 6의 (a)에 나타낸 실시예에서는, 높이방향에 관하여, 광공진기(25)가 배치되어 있는 범위 내에 도입포트(31)가 배치되어 있다. 이 경우에, 도입포트(31)로부터 챔버(10) 내에 도입된 레이저가스가 빠른 유속을 유지하며 광공진기(25)의 배치된 공간을 통과한다. 그 후, 레이저가스는 하방을 향하여 흐른다.In the embodiment shown in Fig. 6(a), the
도 6의 (b)에 나타낸 실시예에서는, 배기포트(35)가 광공진기(25)보다 낮고, 블로어(50)보다 높은 위치에 배치되어 있다. 도입포트(31)는, 도 1 및 도 2에 나타낸 실시예와 동일하게, 광공진기(25)보다 높은 위치에 배치되어 있다. 이 경우에, 광공진기(25)가 배치된 공간에는, 가스배기 시 및 가스도입 시의 양방에 있어서, 하방을 향하는 가스류가 발생한다. 블로어(50)가 배치된 공간에는, 가스배기 시에, 상방을 향하는 가스류가 형성되지만, 그 후의 가스도입 시에는 하방을 향하는 가스류가 발생한다. 이 때문에, 챔버(10) 내에 부유하는 파티클은, 가스도입 시에 챔버(10)의 바닥면에 모인다.In the embodiment shown in Fig. 6B, the
도 6의 (c)에 나타낸 실시예에서는, 도입포트(31)가 광공진기(25)보다 낮은 위치에 배치되어 있다. 배기포트(35)는, 도 1 및 도 2에 나타낸 실시예와 동일하게, 도입포트(31) 및 블로어(50)보다 낮은 위치에 배치되어 있다. 이 경우도, 가스배기 시에, 챔버(10) 내에 부유하는 파티클을 챔버(10)의 바닥면에 모으는 효과가 얻어진다.In the embodiment shown in Fig. 6(c), the
도 6의 (d)에 나타낸 실시예에서는, 배기포트(35)가 도입포트(31)와 거의 동일한 높이에 배치되어 있다. 이 경우, 가스배기 시에는 주로 상방을 향하는 가스류가 형성되지만, 가스도입 시에는, 도 1 및 도 2에 나타낸 실시예와 동일하게, 광공진기(25)가 배치된 공간을 통과하여 하방을 향하는 가스류가 형성된다. 이 때문에, 가스배기 후에 챔버(10) 내에 부유하는 파티클은, 가스도입 시에 챔버(10)의 바닥면에 모인다.In the embodiment shown in Fig. 6(d), the
이상과 같이, 도 6의 (a)~(d)의 어느 것에 나타낸 실시예에 있어서도, 챔버(10) 내에 부유하는 파티클을 하방에 모아, 광공진기(25)의 근방의 공간을 부유하는 밀도를 저감시킬 수 있다. 그 결과, 광공진기(25)의 미러(25M)의 열화를 억제하는 것이 가능해진다. 또한, 챔버(10) 내에 미러 이외의 광학부품이 배치되어 있는 경우에는, 이들 광학부품의, 파티클에 기인하는 열화를 억제할 수 있다.As described above, in the embodiment shown in any one of (a) to (d) of FIG. 6, the particles floating in the
상술한 각 실시예는 예시이며, 다른 실시예에 나타낸 구성의 부분적인 치환 또는 조합이 가능한 것은 말할 필요도 없다. 복수의 실시예의 동일한 구성에 의한 동일한 작용효과에 대해서는 실시예별로는 따로 언급하지 않는다. 또한, 본 발명은 상술한 실시예에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 다양한 변경, 개량, 조합 등이 가능한 것은 당업자에게 자명할 것이다.It is needless to say that each of the above-described embodiments is an example, and partial substitution or combination of configurations shown in other embodiments is possible. The same operation and effect by the same configuration of the plurality of embodiments are not mentioned separately for each embodiment. In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, it will be apparent to those skilled in the art that various changes, improvements, combinations, and the like are possible.
10 챔버
11 광학실
12 블로어실
13 상하구획판
13A, 13B 개구
14 바닥판
15 구획판
16 챔버지지부재
21 방전전극
22, 23 방전전극지지부재
24 방전영역
25 광공진기
25M 광공진기미러
26 공통지지부재
27 광공진기지지부재
28 광투과창
31 도입포트
32 도입밸브
33 레이저가스공급원
35 배기포트
36 배기밸브
37 진공펌프
50 블로어
51 제1 가스유로
52 제2 가스유로
56 열교환기
58 파티클10 chamber
11 Optical room
12 Blower Room
13 Upper and lower divisions
13A, 13B opening
14 bottom plate
15 compartments
16 chamber support member
21 discharge electrode
22, 23 discharge electrode support member
24 discharge area
25 light resonator
25M Optical Resonator Mirror
26 Common support member
27 Optical resonator support member
28 Light transmission window
31 Introduction port
32 Inlet valve
33 Laser gas supply source
35 Exhaust port
36 Exhaust valve
37 Vacuum pump
50 blowers
51 1st gas flow path
52 2nd gas flow path
56 heat exchanger
58 Particles
Claims (5)
상기 챔버 내에 배치되어 있고, 레이저광을 가두는 광공진기와,
높이방향에 관하여, 상기 광공진기가 배치되어 있는 범위 내, 또는 상기 광공진기가 배치되어 있는 범위보다 높은 위치에 마련되며, 상기 챔버 내에 레이저가스를 도입하는 도입포트와,
상기 챔버 내로부터 레이저가스를 배기하는 배기포트를 갖는 가스레이저장치.A chamber filled with laser gas,
An optical resonator disposed in the chamber and trapping laser light,
With respect to the height direction, it is provided in a position higher than the range in which the optical resonator is disposed, or the range in which the optical resonator is disposed, and an introduction port for introducing laser gas into the chamber,
A gas laser device having an exhaust port for exhausting laser gas from within the chamber.
상기 챔버 내에 배치되어 있고, 레이저광을 가두는 광공진기와,
상기 챔버 내에 레이저가스를 도입하는 도입포트와,
상기 도입포트보다 낮은 위치에 마련되어 있으며, 상기 챔버 내로부터 레이저가스를 배기하는 배기포트를 갖는 가스레이저장치.A chamber filled with laser gas,
An optical resonator disposed in the chamber and trapping laser light,
An introduction port for introducing laser gas into the chamber,
A gas laser device provided at a position lower than the introduction port and having an exhaust port for exhausting laser gas from within the chamber.
상기 챔버의 내의, 상기 광공진기보다 낮은 위치에 배치된 블로어를 더 갖는 가스레이저장치.The method according to claim 1 or 2,
A gas laser apparatus having a blower disposed in a lower position of the chamber than the optical resonator.
상기 배기포트는 상기 블로어보다 낮은 위치에 배치되어 있는 가스레이저장치.According to claim 3,
The exhaust port is a gas laser device disposed at a lower position than the blower.
상기 도입포트로부터 상기 광공진기까지의 거리가, 상기 배기포트로부터 상기 광공진기까지의 거리보다 짧은 가스레이저장치.The method according to claim 1 or 2,
A gas laser device in which the distance from the introduction port to the optical resonator is shorter than the distance from the exhaust port to the optical resonator.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2018-234717 | 2018-12-14 | ||
JP2018234717A JP7359540B2 (en) | 2018-12-14 | 2018-12-14 | gas laser equipment |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200073986A true KR20200073986A (en) | 2020-06-24 |
Family
ID=71085669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190139366A KR20200073986A (en) | 2018-12-14 | 2019-11-04 | Gas laser apparatus |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7359540B2 (en) |
KR (1) | KR20200073986A (en) |
CN (1) | CN111326940A (en) |
TW (2) | TWM637550U (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022013224A (en) * | 2020-07-03 | 2022-01-18 | 住友重機械工業株式会社 | Laser oscillator |
JP2022014176A (en) * | 2020-07-06 | 2022-01-19 | 住友重機械工業株式会社 | Laser device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0217491A (en) | 1988-07-06 | 1990-01-22 | Kenwood Corp | Apparatus for controlling entering and leaving |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4959840A (en) | 1988-01-15 | 1990-09-25 | Cymer Laser Technologies | Compact excimer laser including an electrode mounted in insulating relationship to wall of the laser |
JPH09298330A (en) * | 1996-05-01 | 1997-11-18 | Nidek Co Ltd | Laser device |
JP3761260B2 (en) * | 1996-08-30 | 2006-03-29 | 株式会社小松製作所 | Gas laser apparatus and laser gas injection method thereof |
JPH11354861A (en) * | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Komatsu Ltd | Dust-removal device in gas laser |
JP2000340863A (en) | 1999-05-28 | 2000-12-08 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser device |
JP2003086867A (en) * | 2001-09-14 | 2003-03-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gas laser device |
JP2008016679A (en) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser equipment, laser machining device, and dust removing method |
US8223815B2 (en) | 2010-07-29 | 2012-07-17 | Dbc Technology Corp. | Multiple discharge CO2 laser with improved repetition rate |
EP2827460B1 (en) * | 2012-03-12 | 2016-10-12 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Gas laser oscillation device and laser gas replacement method |
WO2015118848A1 (en) * | 2014-02-10 | 2015-08-13 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Gas laser oscillation device |
JP6031064B2 (en) * | 2014-05-15 | 2016-11-24 | ファナック株式会社 | Gas circulation laser oscillator |
-
2018
- 2018-12-14 JP JP2018234717A patent/JP7359540B2/en active Active
-
2019
- 2019-11-04 KR KR1020190139366A patent/KR20200073986A/en not_active Application Discontinuation
- 2019-11-05 TW TW111210625U patent/TWM637550U/en unknown
- 2019-11-05 TW TW108140038A patent/TW202025580A/en unknown
- 2019-11-08 CN CN201911087507.4A patent/CN111326940A/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0217491A (en) | 1988-07-06 | 1990-01-22 | Kenwood Corp | Apparatus for controlling entering and leaving |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202025580A (en) | 2020-07-01 |
JP7359540B2 (en) | 2023-10-11 |
CN111326940A (en) | 2020-06-23 |
TWM637550U (en) | 2023-02-11 |
JP2020096139A (en) | 2020-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20200073986A (en) | Gas laser apparatus | |
KR101493807B1 (en) | Single-chamber dual-electrode discharge chamber and excimer laser | |
RU2560344C2 (en) | External unit of cooling device | |
JP5074320B2 (en) | Camera case | |
US9943006B2 (en) | Cabinet for electronic equipment | |
US9393559B2 (en) | Operating an arrangement for a laboratory room | |
JP6121856B2 (en) | Power storage device | |
JP2009225526A (en) | Cooling device | |
KR20200074851A (en) | Gas laser apparatus and method for laser oscillation | |
JP2010286157A (en) | Water heater | |
JP2008003263A (en) | Power unit for projection-type display device and the projection-type display device equipped therewith | |
JP2716833B2 (en) | Gas laser tube | |
JP2005045935A (en) | Power conversion apparatus | |
CN218611695U (en) | Metal processing is with 3D printer that has cooling device | |
US11527793B2 (en) | Air-cooled energy storage module | |
US5058125A (en) | Laser oscillator | |
JP2005093618A (en) | Rack for accommodating electronic equipment | |
JPH11152033A (en) | Vehicular controller | |
JP2007307445A (en) | Air filter unit and thermal treatment apparatus equipped with the air filter unit | |
JP5050895B2 (en) | Heating element storage device | |
US10492284B2 (en) | EUV generating device | |
KR20200074852A (en) | Optical Resonator | |
JP3139103B2 (en) | Axial laser oscillator | |
JPS5895372A (en) | Flash fixation device | |
JPH0793508B2 (en) | Forced air cooling structure of shelf |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal |